JP6374294B2 - マイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法 - Google Patents
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Description
図1に、本実施形態のマイクロ波処理装置の斜視図を示す。図2に、図1のII−II方向(径方向)断面図を示す。図3に、図1のIII−III方向(軸方向)断面図を示す。
まず、本実施形態のマイクロ波処理装置の構成について説明する。図1〜図3に示すように、マイクロ波処理装置1は、アプリケータ2と、導波管3と、反応管4と、発熱体5と、を備えている。
アプリケータ2は、ハウジング20と、マイクロ波導入室21と、を備えている。ハウジング20は、筒体200と、前後一対の端板201d、201eと、を備えている。筒体200は、ステンレス鋼製であって、側周壁200aと、前後一対のフランジ部200d、200eと、を備えている。側周壁200aは、前後方向(軸方向)に延在する正五角形の筒状を呈している。図2に示すように、側周壁200aの内周面200bの径方向(詳しくは、内周面200bの径方向断面の内接円C1の、径方向)断面は、5つの辺L1〜L5からなる正五角形状を呈している。5つの辺L1〜L5は、内周面200bを構成する5つの面F1〜F5に、対応している。側周壁200aの下壁(側周壁200aの一部)には、導入口200cが開設されている。導入口200cは、下側の辺L1(下側の面F1)の左右方向全長に亘って開口している。すなわち、導入口200cは、図2に示す内接円C1の接線方向に延在している。図1、図3に示すように、前後一対のフランジ部200d、200eは、筒体200の前後方向両端から、径方向外側に張り出している。
導波管3は、ステンレス鋼製であって、左右方向に延在する角筒状を呈している。図2に示すように、導波管3の上流端には、マイクロ波発生装置90が接続されている。マイクロ波発生装置90は、図示しないマグネトロンを備えている。マグネトロンは、2.45GHzのマイクロ波M1を発生する。導波管3の下流端は、導入口200cに伏設されている。すなわち、導入口200cを介して、導波管3とマイクロ波導入室21とは連通している。
次に、本実施形態のマイクロ波導入方法について説明する。図2に示すように、導波管3の延在方向と、側周壁200aの下側の辺L1(下側の面F1)の延在方向と、は一致している。また、導波管3の断面は、辺Laを備えている。辺Laは、導波管3の左端(下流端)壁の内側の面Faに、対応している。導波管3の辺Laと、側周壁200aの辺L2と、は直線状に連なっている。言い換えると、導波管3の面Faと、側周壁200aの面F2と、は平面状に、つまり面一に連なっている。
次に、本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法を用いた過熱水蒸気の生成方法について説明する。図3に示すように、反応管4の後端(上流端)には、蒸発器91が接続されている。蒸発器91は、常温の水を加熱することにより、温度150℃程度の過熱水蒸気V1を生成する。過熱水蒸気V1は、反応管4の流路40に流れ込む。過熱水蒸気V1は、流路40を、後側(上流側)から前側(下流側)に流動する。ここで、流路40には、多数の発熱体5が充填されている。多数の発熱体5は、反応管4の側周壁を透過したマイクロ波M1〜M4(図2参照)を吸収し、発熱する。流路40を流動する過熱水蒸気V1は、発熱体5により加熱され、温度800℃程度の過熱水蒸気V2となる。反応管4の前端(下流端)には、処理炉92が接続されている。処理炉92においては、過熱水蒸気V2を用いて、セラミックスの脱脂が行われる。
次に、本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法の作用効果について説明する。図2に示すように、側周壁200aの内周面200bの径方向断面は、5つの辺L1〜L5からなる正五角形状を呈している。5つの辺L1〜L5の延在方向は、互いに異なっている。5つの辺L1〜L5のうち、任意の一対の辺(例えば、辺L2と辺L4、辺L2と辺L5など)は、互いに平行ではない。このため、マイクロ波導入室21において、局所的にマイクロ波M1〜M4が集中する領域が発生しにくい。したがって、マイクロ波導入室21におけるマイクロ波M1〜M4の分布のばらつきを、抑制することができる。また、導波管3からマイクロ波導入室21に導入されたマイクロ波M1〜M4が、マイクロ波導入室21から導波管3に逆流するのを抑制することができる。よって、逆流したマイクロ波M1〜M4による反射電力からマイクロ波発生装置90のマグネトロンを保護する機器(例えばアイソレータなど)に要するコストを、削減することができる。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、アプリケータに前後一対の導波管が接続されている点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図4に、本実施形態のマイクロ波処理装置の軸方向断面図を示す。なお、図3と対応する部位については、同じ符号で示す。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、導波管が上下方向(詳しくは、図2に示す辺L2の延在方向)に延在している点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図5に、本実施形態のマイクロ波処理装置の径方向断面図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。また、マイクロ波発生装置は省略して示す。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、アプリケータに上下一対の導波管が接続されている点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図6に、本実施形態のマイクロ波処理装置の径方向断面図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。また、マイクロ波発生装置は省略して示す。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、筒体が正七角形の筒状を呈している点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図7に、本実施形態のマイクロ波処理装置の径方向断面図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。また、マイクロ波発生装置は省略して示す。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、筒体が不等辺六角形の筒状を呈している点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図8に、本実施形態のマイクロ波処理装置の径方向断面図を示す。なお、図2と対応する部位については、同じ符号で示す。また、マイクロ波発生装置は省略して示す。
本実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法と、第一実施形態のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法との相違点は、マイクロ波導入室において、反応管が螺旋状に延在している点である。ここでは、相違点についてのみ説明する。図9に、本実施形態のマイクロ波処理装置の斜視図を示す。なお、図1と対応する部位については、同じ符号で示す。図9に透過して示すように、反応管4は、マイクロ波導入室において、螺旋状に延在している。反応管4の流路40のうち、マイクロ波導入室に収容されている部分には、多数の発熱体が充填されている。流路40においては、化学合成処理が行われる。
以上、本発明のマイクロ波処理装置およびマイクロ波導入方法の実施の形態について説明した。しかしながら、実施の形態は上記形態に特に限定されるものではない。当業者が行いうる種々の変形的形態、改良的形態で実施することも可能である。
2:アプリケータ、20:ハウジング、200:筒体、200a:側周壁、200b:内周面、200c:導入口、200cb:導入口、200cc:導入口、200d:フランジ部、200e:フランジ部、201d:端板、201e:端板、21:マイクロ波導入室
3:導波管、3b:導波管、3c:導波管
4:反応管、40:流路
5:発熱体
90:マイクロ波発生装置、91:蒸発器、92:処理炉
C1:内接円、F1〜F7:面、Fa〜Fc:面、G1:重心、L1〜L7:辺、La:辺、Lc:辺、M1〜M4:マイクロ波、V1:過熱水蒸気、V2:過熱水蒸気
Claims (10)
- 筒状であって導入口が開設された側周壁を有するハウジングと、該ハウジングの内部に区画され該導入口に連通するマイクロ波導入室と、を有するアプリケータと、
該導入口を介してマイクロ波を該マイクロ波導入室に導入する導波管と、
を備えるマイクロ波処理装置であって、
前記ハウジングの前記側周壁の軸方向に直交する方向を径方向として、
該側周壁の内周面の該径方向断面は、延在方向が互いに異なる複数の辺からなる多角形状を呈しており、
前記マイクロ波導入室に対して、前記マイクロ波は、該内周面に沿って導入されることを特徴とするマイクロ波処理装置。 - 前記マイクロ波導入室に対して、前記マイクロ波は、前記内周面の前記径方向断面の内接円の接線方向に沿って導入される請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 前記内周面の前記径方向断面は、3以上の奇数の前記辺からなる正多角形状を呈している請求項1または請求項2に記載のマイクロ波処理装置。
- さらに、前記マイクロ波導入室に配置され、前記マイクロ波が透過する反応容器を備える請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のマイクロ波処理装置。
- さらに、前記反応容器に収容され、前記マイクロ波を吸収し発熱する発熱体を備える請求項4に記載のマイクロ波処理装置。
- 前記反応容器は、前記ハウジングを貫通する反応管である請求項4または請求項5に記載のマイクロ波処理装置。
- 過熱水蒸気の生成、化学合成、化学分解、オイルの改質、水の改質、還元反応のうち、いずれかの用途に用いられる請求項1ないし請求項6のいずれかに記載のマイクロ波処理装置。
- 前記マイクロ波導入室には、マイクロ波散乱用のプロペラが配置されていない請求項1ないし請求項7のいずれかに記載のマイクロ波処理装置。
- 筒状の側周壁を有するハウジングと、該ハウジングの内部に区画されるマイクロ波導入室と、を有するアプリケータの、該マイクロ波導入室に対するマイクロ波導入方法であって、
前記ハウジングの前記側周壁の軸方向に直交する方向を径方向として、
該側周壁の内周面の該径方向断面は、延在方向が互いに異なる複数の辺からなる多角形状を呈しており、
前記マイクロ波導入室に対して、マイクロ波を、該内周面に沿って導入することを特徴とするマイクロ波導入方法。 - 前記マイクロ波導入室には、マイクロ波散乱用のプロペラが配置されていない請求項9に記載のマイクロ波導入方法。
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