JP6365942B2 - Display device with touch panel - Google Patents

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本発明は、タッチパネル付き表示装置に関する。   The present invention relates to a display device with a touch panel.

従来から、液晶ディスプレイ等の表示パネル上にタッチパネルを配置したタッチパネル付き表示装置が知られている。このようなタッチパネル付き表示装置においては、画像表示面を指などで触れることにより情報を直接入力することができる。   Conventionally, a display device with a touch panel in which a touch panel is arranged on a display panel such as a liquid crystal display is known. In such a display device with a touch panel, information can be directly input by touching the image display surface with a finger or the like.

タッチパネルを表示パネル上に固定する際、表示パネルとタッチパネルは離間して配置されることが多い、すなわち、表示パネルとタッチパネルは、空気層(エアギャップ)を介して配置されることが多い(例えば、特許文献1参照)。   When the touch panel is fixed on the display panel, the display panel and the touch panel are often arranged apart from each other, that is, the display panel and the touch panel are often arranged via an air layer (air gap) (for example, , See Patent Document 1).

特開2010−15412号公報JP 2010-15154 A

タッチパネル付き表示装置の画像表示面は、その性質上、指などで触れる程度のみならず、指などで強く押されることがある。画像表示面が強く押された場合、タッチパネルが変形するので、タッチパネルと表示パネルの間の距離が狭くなり(空気層の厚みが薄くなり)、タッチパネルの表示パネル側の表面で反射される光と、表示パネルのタッチパネル側の表面で反射される光とが干渉して、干渉縞(ニュートンリング)が発生するおそれがある。   The image display surface of a display device with a touch panel may be strongly pressed not only by touching with a finger but also by a finger. When the image display surface is pressed strongly, the touch panel is deformed, so that the distance between the touch panel and the display panel is narrowed (the thickness of the air layer is reduced), and the light reflected from the surface of the touch panel on the display panel side There is a possibility that interference fringes (Newton rings) may occur due to interference with light reflected by the surface of the display panel on the touch panel side.

一方で、近年、タッチパネル付き表示装置の薄型化および大面積化が進んでいる。タッチパネル付き表示装置の薄型化が進むにつれて、タッチパネルと表示パネルとの間の距離がより狭くなり、またタッチパネル付き表示装置の大面積化が進むにつれて、タッチパネルが変形しやすくなっている。このため、上記した干渉縞の問題が顕著になるおそれがある。   On the other hand, in recent years, display devices with a touch panel are becoming thinner and larger in area. As the display device with a touch panel becomes thinner, the distance between the touch panel and the display panel becomes narrower, and as the display device with a touch panel becomes larger, the touch panel is easily deformed. For this reason, there exists a possibility that the problem of an above-mentioned interference fringe may become remarkable.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、画像表示面が強く押された場合に発生する干渉縞を不可視化できるタッチパネルを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a touch panel that can make interference fringes generated when an image display surface is strongly pressed invisible.

本発明の一の態様によれば、画像を表示するための表示パネルと、前記表示パネルよりも観察者側に配置されたタッチパネルとを備えるタッチパネル付き表示装置であって、前記表示パネルが、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された第1の反射防止フィルムであって、観察者側に向けて、第1の透明基材と、第1のハードコート層と、第1の反射防止層とをこの順で積層し、かつ前記第1の反射防止フィルムの表面が前記表示パネルの観察者側の表面をなす第1の反射防止フィルムとを備え、前記タッチパネルが、センサ部と、前記センサ部よりも表示パネル側に配置され、かつ前記第1の反射防止フィルムに対して離間した前記第2の反射防止フィルムであって、表示パネル側に向けて、第2の透明基材と、第2のハードコート層と、第2の反射防止層とをこの順で積層し、かつ前記第2の反射防止フィルムの表面が前記タッチパネルの表示パネル側の表面をなす第2の反射防止フィルムとを備え、前記第1の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値および前記第2の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値がそれぞれ0.3%未満である、タッチパネル付き表示装置が提供される。   According to one aspect of the present invention, there is provided a display device with a touch panel comprising a display panel for displaying an image, and a touch panel disposed closer to an observer than the display panel, wherein the display panel displays A first antireflection film disposed on the viewer side of the device and the display device, the first transparent substrate, the first hard coat layer, and the first layer facing the viewer side And a first antireflection film in which the surface of the first antireflection film forms a surface on the viewer side of the display panel, and the touch panel includes a sensor unit. And the second antireflection film disposed closer to the display panel than the sensor unit and spaced from the first antireflection film, wherein the second transparent substrate is directed toward the display panel. Material and second hard A second antireflection film, wherein the second antireflection layer is laminated in this order, and the surface of the second antireflection film forms the surface of the touch panel on the display panel side, Provided is a display device with a touch panel, wherein the reflection Y value measured from the surface side in the first antireflection film and the reflection Y value measured from the surface side in the second antireflection film are each less than 0.3%. The

本発明の一の態様のタッチパネルによれば、第1の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値および第2の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値がそれぞれ0.3%未満となっているので、画像表示面が強く押された場合に発生する干渉縞を不可視化できる。   According to the touch panel of one aspect of the present invention, the reflection Y value measured from the surface side in the first antireflection film and the reflection Y value measured from the surface side in the second antireflection film are each less than 0.3%. Therefore, interference fringes generated when the image display surface is strongly pressed can be made invisible.

実施形態に係るタッチパネル付き表示装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the display apparatus with a touch panel which concerns on embodiment. 実施形態に係る表示パネルの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the display panel which concerns on embodiment. 実施形態に係るタッチパネルの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the touchscreen which concerns on embodiment. 実施形態に係る第1の反射防止フィルムおよび第2の反射防止フィルム周辺を示す図である。It is a figure which shows the 1st antireflection film and 2nd antireflection film periphery which concern on embodiment.

以下、本発明の実施形態に係るタッチパネル付き表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」には、「シート」や「板」等と呼ばれる部材も含まれる。また、本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン(THF)等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。図1は本実施形態に係るタッチパネル付き表示装置の概略構成図であり、図2は本実施形態に係る表示パネルの概略構成図である。図3は本実施形態に係るタッチパネルの概略構成図であり、図4は本実施形態に係る第1の反射防止フィルムおよび第2の反射防止フィルム周辺を示す図である。   Hereinafter, a display device with a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this specification, “film” includes members called “sheets”, “plates” and the like. In the present specification, the “weight average molecular weight” is a value obtained by dissolving in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a display device with a touch panel according to the present embodiment, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a display panel according to the present embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the touch panel according to the present embodiment, and FIG. 4 is a view showing the periphery of the first antireflection film and the second antireflection film according to the present embodiment.

〔タッチパネル付き表示装置〕
タッチパネル付き表示装置10は、図1に示されるように、主に、画像を表示するための表示パネル20と、表示パネル20よりも観察者側に配置されたタッチパネル40と、表示パネル20の背面側に配置されたバックライトユニット80とを備えている。本実施形態においては、表示パネル20が液晶表示パネルであるので、タッチパネル付き表示装置10がバックライトユニット80を備えているが、表示パネル(表示素子)の種類によってはバックライトユニット80を備えていなくともよい。表示パネル20とタッチパネル40は、空気層(エアギャップ)11を介して配置されている。本実施形態においては、表示パネル20とタッチパネル40は、空気層11を介して配置されているが、後述する第1の反射防止フィルム29の表面29Aと第2の反射防止フィルム60の表面60Aが離間していれば、透明粘着層によって貼り付けられていてもよい。
[Display device with touch panel]
As shown in FIG. 1, the display device 10 with a touch panel mainly includes a display panel 20 for displaying an image, a touch panel 40 disposed closer to the viewer than the display panel 20, and the back surface of the display panel 20. And a backlight unit 80 disposed on the side. In the present embodiment, since the display panel 20 is a liquid crystal display panel, the display device with a touch panel 10 includes the backlight unit 80. However, depending on the type of the display panel (display element), the display unit 20 includes the backlight unit 80. Not necessary. The display panel 20 and the touch panel 40 are arranged via an air layer (air gap) 11. In the present embodiment, the display panel 20 and the touch panel 40 are arranged via the air layer 11, but a surface 29A of a first antireflection film 29 and a surface 60A of a second antireflection film 60 described later are provided. As long as it is spaced apart, it may be affixed by the transparent adhesive layer.

[表示パネル]
表示パネル20は、図2に示されるように、バックライトユニット80側から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等の保護フィルム21、偏光素子22、位相差フィルム23、透明粘着層24、表示素子25、透明粘着層26、位相差フィルム27、偏光素子28、第1の反射防止フィルム29の順に積層された構造を有している。表示パネル20は、表示素子25と、表示素子25よりも観察者側に配置された第1の反射防止フィルム29とを備えていればよく、保護フィルム21等は備えていなくともよい。
[Display panel]
As shown in FIG. 2, the display panel 20 has a protective film 21, such as a triacetyl cellulose film (TAC film), a polarizing element 22, a retardation film 23, a transparent film, from the backlight unit 80 side toward the viewer side. The adhesive layer 24, the display element 25, the transparent adhesive layer 26, the retardation film 27, the polarizing element 28, and the first antireflection film 29 are laminated in this order. The display panel 20 only needs to include the display element 25 and the first antireflection film 29 disposed closer to the viewer than the display element 25, and does not need to include the protective film 21 or the like.

位相差フィルム23、27としては、トリアセチルセルロースフィルムやシクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。位相差フィルム27は、保護フィルム21と同一であってもよい。透明粘着層24、26を構成する透明粘着剤としては、感圧接着剤(PSA)が挙げられる。   Examples of the retardation films 23 and 27 include a triacetyl cellulose film and a cycloolefin polymer film. The retardation film 27 may be the same as the protective film 21. As a transparent adhesive which comprises the transparent adhesive layers 24 and 26, a pressure sensitive adhesive (PSA) is mentioned.

表示素子25は液晶表示素子である。ただし、表示素子は液晶表示素子に限られず、例えば、有機EL表示素子であってもよい。液晶表示素子は、2枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。   The display element 25 is a liquid crystal display element. However, the display element is not limited to the liquid crystal display element, and may be, for example, an organic EL display element. In the liquid crystal display element, a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode layer, a color filter, and the like are disposed between two glass substrates.

≪第1の反射防止フィルム≫
第1の反射防止フィルム29は、観察者側に向けて、第1の透明基材30と、第1のハードコート層31と、第1の反射防止層32とをこの順で積層した構造を有している。第1の反射防止フィルム29の表面29Aは、表示パネル20の観察者側の表面20Aをなしている。
≪First antireflection film≫
The first antireflection film 29 has a structure in which the first transparent base material 30, the first hard coat layer 31, and the first antireflection layer 32 are laminated in this order toward the viewer. Have. The surface 29A of the first antireflection film 29 forms the surface 20A on the viewer side of the display panel 20.

第1の反射防止フィルム29においては、表面29A側(第1の反射防止層32側)から測定した反射Y値が0.3%未満となっている。上記反射Y値は、干渉縞をより不可視化する観点から0.15%以下であることが好ましく、0.1%以下であることが更に好ましい。   In the first antireflection film 29, the reflection Y value measured from the surface 29A side (first antireflection layer 32 side) is less than 0.3%. The reflection Y value is preferably 0.15% or less, and more preferably 0.1% or less, from the viewpoint of making the interference fringes more invisible.

反射Y値は、JIS Z8722に準拠するものである。反射Y値は、例えば、島津製作所株式会社製のMPC3100等の分光光度計を用いて、第1の反射防止フィルムにおける第1の反射防止層側から入射角度5度の光を照射し、第1の反射防止フィルムで反射された正反射方向の反射光を受光して、380nm〜780nmの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア(例えば、MPC3100に内蔵されたソフトウェア)によって算出することができる。本明細書において、「入射角度5度の光」とは、第1の反射防止フィルムのフィルム面の法線方向を0度としたとき、前記法線方向に対して5度傾いた光を意味する。「フィルム面」とは、対象となる第1の反射防止フィルムを全体的かつ大局的に見た場合におけるその平面方向と一致する面のことを言うものとする。なお、反射Y値を測定する場合、第1の反射防止フィルムの裏面反射を防止するため、予め第1の透明基材における第1のハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒テープを貼ることが好ましい。   The reflection Y value is based on JIS Z8722. The reflection Y value is obtained by irradiating light having an incident angle of 5 degrees from the first antireflection layer side of the first antireflection film using a spectrophotometer such as MPC3100 manufactured by Shimadzu Corporation. Software that receives the reflected light in the specular direction reflected by the anti-reflection film, measures the reflectance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm, and then converts it to the brightness perceived by the human eye (for example, built in MPC3100 Software). In this specification, “light having an incident angle of 5 degrees” means light inclined by 5 degrees with respect to the normal direction when the normal direction of the film surface of the first antireflection film is set to 0 degrees. To do. The “film surface” refers to a surface that coincides with the plane direction when the first antireflection film as a target is viewed as a whole and globally. In addition, when measuring a reflection Y value, in order to prevent the back surface reflection of a 1st antireflection film, the surface on the opposite side to the surface in which the 1st hard-coat layer in the 1st transparent base material is formed previously. It is preferable to stick a black tape on.

反射Y値が0.3%未満となる第1の反射防止フィルム29は、主に、第1の低屈折率層34の屈折率や膜厚および/または第1の高屈折率層33の屈折率や膜厚を調整することによって得ることができる。   The first antireflection film 29 having a reflection Y value of less than 0.3% mainly includes the refractive index and film thickness of the first low refractive index layer 34 and / or the refraction of the first high refractive index layer 33. It can be obtained by adjusting the rate and the film thickness.

第1の反射防止フィルム29の表面29Aの十点平均粗さ(Rzjis)は10nm以上100nm以下(例えば、40nm以上60nm以下)または100nmを超え500nm以下となっていてもよい。したがって、第1の反射防止フィルム29の表面29Aは必ずしも平坦となっている必要はなく、若干の防眩性が得られる程度の凹凸面となっていてもよい。Rzjisの定義は、JIS B0601−2001に従うものとする。   The ten-point average roughness (Rzjis) of the surface 29A of the first antireflection film 29 may be 10 nm or more and 100 nm or less (for example, 40 nm or more and 60 nm or less) or more than 100 nm and 500 nm or less. Therefore, the surface 29A of the first antireflection film 29 does not necessarily have to be flat, and may be an uneven surface to the extent that a slight antiglare property can be obtained. The definition of Rzjis shall conform to JIS B0601-2001.

第1の反射防止フィルムや後述する第2の反射防止フィルムの表面の十点平均粗さが大きいと、白濁感が生じるおそれがある一方で、第2の反射防止フィルムは第1の反射防止フィルムより観察者側に位置しているので、第1の反射防止フィルムに白濁感が生じている場合よりも第2の反射防止フィルムに白濁感が生じている方が観察者から視認されやすい。したがって、第1の反射防止フィルム29の表面29Aの十点平均粗さは100nmを超え500nm以下となっていてもよいが、白濁感が生じていると観察者に認識させないために、第2の反射防止フィルム60の表面60Aの十点平均粗さは10nm以上100nm以下となっていることが好ましい。これに対し、第1の反射防止フィルム29の表面29Aの十点平均粗さおよび第2の反射防止フィルム60の表面60Aの十点平均粗さがともに10nm以上100nm以下となっている場合には、第1の反射防止フィルム29および第2の反射防止フィルム60には観察者は白濁感が生じていると認識しないので、第2の反射防止フィルム60の表面60Aの十点平均粗さは、第1の反射防止フィルム29の表面29Aの十点平均粗さよりも大きくても、または小さくてもよい。本明細書において、「第1の反射防止フィルムの表面」とは、第1の反射防止フィルムの表示素子側の面とは反対側の面を意味する。「第2の反射防止フィルムの表面」とは、第2の反射防止フィルムの観察者側の面とは反対側の面を意味する。図2においては、第1の反射防止フィルム29の表面29Aは第1の反射防止層32の表面(第1の低屈折率層34の表面)となっており、図3においては、第2の反射防止フィルム60の表面60Aは第2の反射防止層63の表面(第2の低屈折率層65の表面)となっている。   When the ten-point average roughness of the surface of the first antireflection film or the second antireflection film described later is large, the cloudiness may occur. On the other hand, the second antireflection film is the first antireflection film. Since it is located closer to the viewer, it is easier for the viewer to visually recognize the cloudiness of the second antireflection film than when the cloudiness of the first antireflection film is generated. Therefore, the ten-point average roughness of the surface 29A of the first antireflection film 29 may be more than 100 nm and 500 nm or less. However, in order to prevent the observer from recognizing that the cloudiness is generated, The ten-point average roughness of the surface 60A of the antireflection film 60 is preferably 10 nm or more and 100 nm or less. On the other hand, when the 10-point average roughness of the surface 29A of the first antireflection film 29 and the 10-point average roughness of the surface 60A of the second antireflection film 60 are both 10 nm or more and 100 nm or less. Since the observer does not recognize that the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 have a cloudiness, the ten-point average roughness of the surface 60A of the second antireflection film 60 is: The ten-point average roughness of the surface 29A of the first antireflection film 29 may be larger or smaller. In the present specification, the “surface of the first antireflection film” means a surface of the first antireflection film opposite to the surface on the display element side. “The surface of the second antireflection film” means the surface of the second antireflection film opposite to the surface on the viewer side. In FIG. 2, the surface 29A of the first antireflection film 29 is the surface of the first antireflection layer 32 (the surface of the first low refractive index layer 34), and in FIG. The surface 60A of the antireflection film 60 is the surface of the second antireflection layer 63 (the surface of the second low refractive index layer 65).

第1の反射防止フィルム29と第2の反射防止フィルム60とをそれぞれ厚さ0.8mmのガラス板に貼り付けた後、第1の反射防止フィルム29の表面29Aと第2の反射防止フィルム60の表面60Aが接するように第1の反射防止フィルム付きガラス板上に第2の反射防止フィルム付きガラス板を重ね、その状態で、第2の反射防止フィルム付きガラス板における第2の反射防止フィルム60側の面とは反対側の面から2000g/cmの荷重を加え、その後荷重を取り除き、その状態で、第1の反射防止フィルム29と第2の反射防止フィルム60とが貼り付いているか否かを評価したとき、第1の反射防止フィルム29と第2の反射防止フィルム60とが貼り付いていないことが好ましい。上記「第1の反射防止フィルムと第2の反射防止フィルムとが貼り付いていない」とは、第2の反射防止フィルム付きガラス板を第1の反射防止フィルム付きガラス板に対してスライドさせたとき、第2の反射防止フィルム付きガラス板がスムーズに動く、または若干引っ掛かりがあるが動くことを意味する。第1の反射防止フィルム29と第2の反射防止フィルム60が貼り付かないことにより、タッチパネルが指等で強く押されて、タッチパネル40と表示パネル20が接触した場合であっても、直ちに剥がれ、タッチパネル40を短時間で復元させることができる。 After pasting the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 on a glass plate having a thickness of 0.8 mm, respectively, the surface 29A of the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 are attached. The second glass plate with the second antireflection film is stacked on the first glass plate with the antireflection film so that the surface 60A of the second electrode is in contact with the second antireflection film in the glass plate with the second antireflection film. Whether a load of 2000 g / cm 2 is applied from the surface opposite to the surface on the 60 side, then the load is removed, and the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 are adhered in that state. When evaluating whether or not, it is preferable that the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 are not attached. The above “the first antireflection film and the second antireflection film are not attached” means that the glass plate with the second antireflection film was slid with respect to the glass plate with the first antireflection film. Sometimes, it means that the glass plate with the second antireflection film moves smoothly, or moves with a slight catch. Since the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 are not attached, even if the touch panel is strongly pressed with a finger or the like and the touch panel 40 and the display panel 20 are in contact with each other, the first antireflection film 29 and the second antireflection film 60 are peeled off immediately. The touch panel 40 can be restored in a short time.

<第1の透明基材>
第1の透明基材30としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、セルロースアシレート基材、シクロオレフィンポリマー基材、ポリカーボネート基材、アクリル基材、ポリエステル基材、またはガラス基材が挙げられる。
<First transparent substrate>
The first transparent substrate 30 is not particularly limited as long as it has optical transparency. For example, a cellulose acylate substrate, a cycloolefin polymer substrate, a polycarbonate substrate, an acrylic substrate, a polyester substrate, or glass A base material is mentioned.

セルロースアシレート基材としては、例えば、トリアセチルセルロース基材、ジアセチルセルロース基材が挙げられる。トリアセチルセルロース基材は、可視光域380〜780nmにおいて、平均光透過率を50%以上とすることが可能な基材である。トリアセチルセルロース基材の平均光透過率は70%以上、更に85%以上であることが好ましい。   Examples of the cellulose acylate base material include a triacetyl cellulose base material and a diacetyl cellulose base material. A triacetylcellulose base material is a base material which can make an average light transmittance 50% or more in a visible light region of 380 to 780 nm. The average light transmittance of the triacetyl cellulose base material is preferably 70% or more, and more preferably 85% or more.

なお、トリアセチルセルロース基材としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。   In addition, as a triacetyl cellulose base material, in addition to pure triacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate and the like may be used in combination with components other than acetic acid as a fatty acid forming an ester with cellulose. Good. Further, these triacetylcelluloses may be added with other additives such as other cellulose lower fatty acid esters such as diacetylcellulose, or plasticizers, ultraviolet absorbers, and lubricants as necessary.

シクロオレフィンポリマー基材としては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオレフィンモノマー等の重合体からなる基材が挙げられる。 As a cycloolefin polymer base material, the base material which consists of polymers, such as a norbornene-type monomer and a monocyclic cycloolefin monomer, is mentioned, for example.

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate substrate include aromatic polycarbonate substrates based on bisphenols (bisphenol A and the like), aliphatic polycarbonate substrates such as diethylene glycol bisallyl carbonate, and the like.

アクリル基材としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル基材、ポリ(メタ)アクリル酸エチル基材、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。   Examples of the acrylic base material include a poly (meth) methyl acrylate base material, a poly (meth) ethyl acrylate base material, and a (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer base material. .

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも1種を構成成分とする基材等が挙げられる。   Examples of the polyester base material include base materials containing at least one of polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate as constituent components.

ガラス基材としては、例えば、ソーダライムシリカガラス、ホウ珪酸塩ガラス、無アルカリガラス等のガラス基材が挙げられる。   Examples of the glass substrate include glass substrates such as soda lime silica glass, borosilicate glass, and alkali-free glass.

これらの中でも、以下の観点からアクリル基材が好ましい。第1の透明基材の表示素子側の面には偏光素子が設けられているが、この偏光素子は湿気で偏光素子中のヨウ素が溶出してしまうおそれがある。したがって、偏光素子中のヨウ素の溶出を抑制するために第1の透明基材としては、水分透過性が低い基材であるアクリル基材が好ましい。   Among these, an acrylic base material is preferable from the following viewpoints. Although a polarizing element is provided on the surface of the first transparent substrate on the display element side, there is a possibility that iodine in the polarizing element elutes due to moisture. Therefore, in order to suppress elution of iodine in the polarizing element, an acrylic base material that is a base material having low moisture permeability is preferable.

第1の透明基材30の厚みは、特に限定されないが、5μm以上100μm以下とすることが可能であり、第1の透明基材30の厚みの下限はハンドリング性等の観点から15μm以上が好ましく、25μm以上がより好ましい。第1の透明基材30の厚みの上限は薄膜化の観点から80μm以下であることが好ましい。   The thickness of the first transparent substrate 30 is not particularly limited, but can be 5 μm or more and 100 μm or less, and the lower limit of the thickness of the first transparent substrate 30 is preferably 15 μm or more from the viewpoint of handling properties. 25 μm or more is more preferable. The upper limit of the thickness of the first transparent substrate 30 is preferably 80 μm or less from the viewpoint of thinning.

<第1のハードコート層>
第1のハードコート層31は、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で「H」以上の硬度を有する層である。鉛筆硬度を「H」以上とすることにより、第1のハードコート層31の硬さを第1の反射防止層32の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、第1のハードコート層31上に形成する第1の反射防止層32との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第1のハードコート層31の表面の鉛筆硬度の上限は4H程度程とすることが好ましい。
<First hard coat layer>
The first hard coat layer 31 is a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (4.9 N load) defined by JIS K5600-5-4 (1999). By setting the pencil hardness to “H” or higher, the hardness of the first hard coat layer 31 can be sufficiently reflected on the surface of the first antireflection layer 32, and the durability can be improved. From the viewpoint of adhesion to the first antireflection layer 32 formed on the first hard coat layer 31, toughness and prevention of curling, the upper limit of the pencil hardness on the surface of the first hard coat layer 31 is 4H. It is preferable to set the degree.

第1のハードコート層31の膜厚は1μm以上10μm以下であることが好ましい。第1のハードコート層31の膜厚がこの範囲であれば、所望の硬度を得ることができるとともに、第1のハードコート層の薄膜化を図ることができる。ハードコート層の膜厚は、ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することにより求めることができる。具体的には、走査型電子顕微鏡の画像を用い、1画像の中で3箇所ハードコート層の膜厚を計測し、これを5画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。   The film thickness of the first hard coat layer 31 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. If the film thickness of the first hard coat layer 31 is within this range, desired hardness can be obtained and the first hard coat layer can be made thinner. The film thickness of the hard coat layer can be determined by observing the cross section of the hard coat layer with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, using a scanning electron microscope image, the film thickness of three hard coat layers is measured in one image, and this is performed for five images, and the average value of the measured film thickness is calculated.

第1のハードコート層31の膜厚の下限は、第1のハードコート層の割れを抑制する観点から、8μm以下であることがより好ましい。また、第1のハードコート層の薄膜化を図る一方で、カールの発生を抑制する観点から、第1のハードコート層31の膜厚は0.5μm以上5.0μm以下であることがさらに好ましい。   The lower limit of the film thickness of the first hard coat layer 31 is more preferably 8 μm or less from the viewpoint of suppressing cracking of the first hard coat layer. Further, from the viewpoint of suppressing curling while reducing the thickness of the first hard coat layer, the thickness of the first hard coat layer 31 is more preferably 0.5 μm or more and 5.0 μm or less. .

第1のハードコート層31の屈折率は、1.50以上1.60以下であってもよい。第1のハードコート層31の屈折率の下限は、1.52以上であってもよく、第1のハードコート層31の屈折率の上限は、1.56以下であってもよい。第1の透明基材30と第1のハードコート層31との屈折率差は、干渉縞をより不可視化する観点から、0.10以内とすることが好ましく、0.06以内とすることがより好ましい。   The refractive index of the first hard coat layer 31 may be 1.50 or more and 1.60 or less. The lower limit of the refractive index of the first hard coat layer 31 may be 1.52 or more, and the upper limit of the refractive index of the first hard coat layer 31 may be 1.56 or less. The refractive index difference between the first transparent base material 30 and the first hard coat layer 31 is preferably within 0.10, and preferably within 0.06, from the viewpoint of making the interference fringes more invisible. More preferred.

第1のハードコート層31の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)やエリプソメータによって測定できる。また、第1の反射防止フィルム29となった後に屈折率を測定する方法としては、第1のハードコート層31をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、JIS K7142(2008)B法(粉体または粒状の透明材料用)に従ったベッケ法(屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線;ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法)を用いることができる。   The refractive index of the first hard coat layer 31 can be measured with an Abbe refractometer (NAR-4T manufactured by Atago Co., Ltd.) or an ellipsometer after forming a single layer. Moreover, as a method of measuring the refractive index after becoming the first antireflection film 29, the first hard coat layer 31 is scraped off with a cutter or the like to prepare a powder sample, and JIS K7142 (2008) B method. Becke method (for powder or granular transparent material) (using a Cargill reagent with a known refractive index, place the powdered sample on a glass slide, drop the reagent onto the sample, and sample with the reagent. A method of making the refractive index of the sample the refractive index of the reagent in which the Becke line cannot be visually observed by observing the state by microscopic observation, and the difference in refractive index between the sample and the reagent. ) Can be used.

第1のハードコート層31は、少なくとも樹脂から構成することが可能である。なお、樹脂の他に、微粒子を含んでいてもよい。   The first hard coat layer 31 can be composed of at least a resin. In addition to the resin, fine particles may be included.

〈樹脂〉
樹脂は、光重合性化合物の重合物(架橋物)を含むものである。樹脂は、光重合性化合物の重合物(架橋物)の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、本明細書における「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、X線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。
<resin>
The resin contains a polymerized product (crosslinked product) of a photopolymerizable compound. The resin may contain a solvent-drying resin or a thermosetting resin in addition to a polymer (cross-linked product) of a photopolymerizable compound. The photopolymerizable compound has at least one photopolymerizable functional group. In the present specification, the “photopolymerizable functional group” is a functional group capable of undergoing a polymerization reaction by light irradiation. Examples of the photopolymerizable functional group include ethylenic double bonds such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. In the present specification, “(meth) acryloyl group” means both “acryloyl group” and “methacryloyl group”. The light irradiated when polymerizing the photopolymerizable compound includes visible light and ionizing radiation such as ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays.

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。   Examples of the photopolymerizable compound include a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, and a photopolymerizable polymer, and these can be appropriately adjusted and used. As the photopolymerizable compound, a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer is preferable.

(光重合性モノマー)
光重合性モノマーは、重量平均分子量が1000未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。
(Photopolymerizable monomer)
The photopolymerizable monomer has a weight average molecular weight of less than 1000. The photopolymerizable monomer is preferably a polyfunctional monomer having two or more photopolymerizable functional groups (that is, bifunctional).

2官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートや、これらをPO、EO等で変性したものが挙げられる。   Examples of the bifunctional or higher monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth). Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditri Methylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, Lapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin tetra ( (Meth) acrylate, adamantyl di (meth) acrylate, isoboronyl di (meth) acrylate, dicyclopentane di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and these are PO, EO And the like modified.

これらの中でも硬度が高い第1の透明層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。   Among these, from the viewpoint of obtaining a first transparent layer having high hardness, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), etc. Is preferred.

(光重合性オリゴマー)
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が1000以上10000未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、 ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(Photopolymerizable oligomer)
The photopolymerizable oligomer has a weight average molecular weight of 1000 or more and less than 10,000. The photopolymerizable oligomer is preferably a bifunctional or higher polyfunctional oligomer. Polyfunctional oligomers include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and isocyanurate (meth). Examples include acrylate and epoxy (meth) acrylate.

(光重合性ポリマー)
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が10000以上のものであり、重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学積層体の外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(Photopolymerizable polymer)
The photopolymerizable polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more, and the weight average molecular weight is preferably from 10,000 to 80,000, more preferably from 10,000 to 40,000. When the weight average molecular weight exceeds 80,000, the viscosity is high, so that the coating suitability is lowered, and the appearance of the obtained optical laminate may be deteriorated. Examples of the polyfunctional polymer include urethane (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate.

溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、第1の透明層14を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。   The solvent-drying resin is a resin that forms a film only by drying a solvent added to adjust the solid content during coating, such as a thermoplastic resin. When the solvent-drying type resin is added, film defects on the coating surface of the coating liquid can be effectively prevented when the first transparent layer 14 is formed. It does not specifically limit as solvent dry type resin, Generally, a thermoplastic resin can be used.

熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。   Examples of thermoplastic resins include styrene resins, (meth) acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl ether resins, halogen-containing resins, alicyclic olefin resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins. , Cellulose derivatives, silicone resins and rubbers or elastomers.

熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。   The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoint of transparency and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。   The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation Examples thereof include resins, silicon resins, polysiloxane resins, and the like.

〈微粒子〉
微粒子は、無機微粒子、有機微粒子、またはこれらの混合物であってもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO)微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ(略称;ATO)微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機酸化物微粒子が挙げられる。
<Fine particles>
The fine particles may be inorganic fine particles, organic fine particles, or a mixture thereof. Examples of the inorganic fine particles include inorganic oxide fine particles such as silica (SiO 2 ) fine particles, alumina fine particles, titania fine particles, tin oxide fine particles, antimony-doped tin oxide (abbreviated as ATO) fine particles, and zinc oxide fine particles.

有機微粒子としては、例えば、プラスチック微粒子を挙げることができる。プラスチック微粒子としては、具体例としては、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子、アクリル微粒子、アクリル−スチレン共重合体微粒子、シリコーン微粒子、ベンゾグアナミン微粒子、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合微粒子、ポリカーボネート微粒子、ポリエチレン微粒子等が挙げられる。   Examples of the organic fine particles include plastic fine particles. Specific examples of the plastic fine particles include polystyrene fine particles, melamine resin fine particles, acrylic fine particles, acrylic-styrene copolymer fine particles, silicone fine particles, benzoguanamine fine particles, benzoguanamine / formaldehyde condensation fine particles, polycarbonate fine particles, polyethylene fine particles, and the like.

第1のハードコート層31を形成するためには、まず、第1の透明基材30の表面に、少なくとも光重合性化合物を含む第1のハードコート層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第1のハードコート層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第1のハードコート層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第1のハードコート層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより第1のハードコート層用組成物を硬化させて、第1のハードコート層31を形成する。   In order to form the first hard coat layer 31, first, a first hard coat layer composition containing at least a photopolymerizable compound is applied to the surface of the first transparent substrate 30. Next, the film-like first hard coat layer composition is conveyed to a heated zone for drying, and the first hard coat layer composition is dried by various known methods to evaporate the solvent. . Then, the first hard coat layer composition is cured by irradiating the coating-like first hard coat layer composition with light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound. Then, the first hard coat layer 31 is formed.

第1のハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the first hard coat layer composition include known coating methods such as spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating. Can be mentioned.

第1のハードコート層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。   When ultraviolet rays are used as the light for curing the first hard coat layer composition, ultraviolet rays emitted from ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, metal halide lamps, etc. are used. it can. Moreover, as a wavelength of an ultraviolet-ray, the wavelength range of 190-380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

第1のハードコート層用組成物には、必要に応じて、上記微粒子、上記熱可塑性樹脂、上記熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、第1の透明層用組成物には、第1の透明層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。   You may add the said microparticles | fine-particles, the said thermoplastic resin, the said thermosetting resin, a solvent, and a polymerization initiator to the 1st composition for hard-coat layers as needed. Further, the first transparent layer composition may include conventionally known dispersants and surfactants depending on purposes such as increasing the hardness of the first transparent layer, suppressing curing shrinkage, and controlling the refractive index. , Antistatic agent, silane coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment, dye), antifoaming agent, leveling agent, flame retardant, UV absorber, adhesion promoter, polymerization inhibitor, antioxidant An agent, a surface modifier, a lubricant, etc. may be added.

〈溶剤〉
溶剤としては、例えば、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME、エチレングリコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等)、エーテル類(1,4−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
<solvent>
Examples of the solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone. , Methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cycloheptanone, diethyl ketone, etc.), ethers (1,4-dioxane, dioxolane, diisopropyl ether dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic Hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, vinegar) Propyl, butyl acetate, ethyl lactate, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide etc.), etc. A mixture thereof may be used.

〈レベリング剤〉
レベリング剤としては、特に限定されないが、後述するように防汚性を高める観点から光重合性官能基を有さない非重合性フッ素含有化合物が好ましい。非重合性フッ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が30,000〜40,000の化合物が好ましい。このような非重合性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、DIC社製のF568やF477が挙げられる。
<Leveling agent>
Although it does not specifically limit as a leveling agent, The non-polymerizable fluorine-containing compound which does not have a photopolymerizable functional group from a viewpoint which improves antifouling property so that it may mention later is preferable. Among the non-polymerizable fluorine-containing compounds, compounds having a weight average molecular weight of 30,000 to 40,000 are preferable. Examples of such commercially available non-polymerizable fluorine-containing compounds include F568 and F477 manufactured by DIC.

第1のハードコート層用組成物におけるレベリング剤の含有量は、光重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部以上5質量部以下であることが好ましい。レベリング剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート層の表面の平坦性を充分に確保することができる。   The leveling agent content in the first hard coat layer composition is preferably 0.01 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound. By setting the content of the leveling agent within this range, the flatness of the surface of the hard coat layer can be sufficiently ensured.

〈重合開始剤〉
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合(架橋)を開始または進行させる成分である。
<Polymerization initiator>
The polymerization initiator is a component that is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate or advance polymerization (crosslinking) of the photopolymerizable compound.

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation. The polymerization initiator is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propiophenone. , Benzyls, benzoins, acylphosphine oxides. In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。   As the polymerization initiator, when the binder resin is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, it is preferable to use acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like alone or in combination. .

第1のハードコート層用組成物における重合開始剤の含有量は、光重合性化合物100質量部に対して、0.5質量部以上10.0質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。   The content of the polymerization initiator in the first hard coat layer composition is preferably 0.5 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound. By setting the content of the polymerization initiator within this range, the hard coat performance can be sufficiently maintained, and curing inhibition can be suppressed.

第1の透明層用組成物中における原料の含有割合(固形分)としては特に限定されないが、通常は5質量%以上70質量%以下が好ましく、25質量%以上60質量%以下とすることがより好ましい。   Although it does not specifically limit as a content rate (solid content) of the raw material in the composition for 1st transparent layers, Usually, 5 to 70 mass% is preferable, and it is set to 25 to 60 mass%. More preferred.

<第1の反射防止層>
第1の反射防止層32は、上記反射Y値が0.3%未満となれば、特に構成は限定されない。例えば、第1の反射防止層32は、第1の高屈折率層33と第1の高屈折率層33上に設けられた第1の低屈折率層34とから構成されていてもよいが、これに限定されず、第1の低屈折率層34のみから構成されていてもよい。ただし、優れた耐擦傷性や防汚性を得る観点から、第1の反射防止層32は、第1の高屈折率層33と第1の低屈折率層34とから構成されていることが好ましい。
<First antireflection layer>
The configuration of the first antireflection layer 32 is not particularly limited as long as the reflection Y value is less than 0.3%. For example, the first antireflection layer 32 may include a first high refractive index layer 33 and a first low refractive index layer 34 provided on the first high refractive index layer 33. However, the present invention is not limited to this, and the first low refractive index layer 34 may be used alone. However, from the viewpoint of obtaining excellent scratch resistance and antifouling properties, the first antireflection layer 32 may be composed of a first high refractive index layer 33 and a first low refractive index layer 34. preferable.

(第1の高屈折率層)
第1の高屈折率層33は、第1のハードコート層31の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。具体的には、第1の高屈折率層33の屈折率は、1.50以上2.00以下であってもよい。第1の高屈折率層33の屈折率の下限は、1.60以上であってもよく、第1の高屈折率層33の屈折率の上限は、1.75以下であってもよい。第1の高屈折率層33の屈折率は、上記第1のハードコート層31の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第1のハードコート層31と第1の高屈折率層34との屈折率差は、0.05以上0.25以下であってもよい。
(First high refractive index layer)
The first high refractive index layer 33 is a layer having a refractive index higher than that of the first hard coat layer 31. Specifically, the refractive index of the first high refractive index layer 33 may be 1.50 or more and 2.00 or less. The lower limit of the refractive index of the first high refractive index layer 33 may be 1.60 or more, and the upper limit of the refractive index of the first high refractive index layer 33 may be 1.75 or less. The refractive index of the first high refractive index layer 33 can be measured by the same method as the refractive index of the first hard coat layer 31. The difference in refractive index between the first hard coat layer 31 and the first high refractive index layer 34 may be 0.05 or more and 0.25 or less.

第1の高屈折率層33の膜厚は、200nm以下となっていることが好ましい。第1の高屈折率層33の膜厚の下限は、10nm以上であることが好ましく、30nm以上であることがより好ましい。第1の高屈折率層33の膜厚の上限は、170nm以下であることが好ましく、160nm以下であることがより好ましい。高屈折率層の膜厚は、高屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM、STEM)で観察(倍率は1万倍以上であることが好ましい)することにより求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡の画像を用い、1画像の中で3箇所高屈折率層の膜厚を計測し、これを5画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。   The film thickness of the first high refractive index layer 33 is preferably 200 nm or less. The lower limit of the film thickness of the first high refractive index layer 33 is preferably 10 nm or more, and more preferably 30 nm or more. The upper limit of the film thickness of the first high refractive index layer 33 is preferably 170 nm or less, and more preferably 160 nm or less. The film thickness of the high refractive index layer can be determined by observing the cross section of the high refractive index layer with a transmission electron microscope (TEM, STEM) (magnification is preferably 10,000 times or more). Specifically, using the image of the transmission electron microscope, the film thickness of the three high refractive index layers in one image is measured, this is performed for five images, and the average value of the measured film thickness is calculated. .

第1の高屈折率層33としては、第1のハードコート層31の屈折率より大きい屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第1の高屈折率層33は、例えば、高屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。   The first high refractive index layer 33 is not particularly limited as long as it has a refractive index higher than that of the first hard coat layer 31, but the first high refractive index layer 33 is, for example, a high refractive index layer 33. It can be composed of refractive index fine particles and a binder resin.

第1の高屈折率層33を構成する高屈折率微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン(TiO、屈折率:2.3〜2.7)、酸化ニオブ(Nb、屈折率:2.33)、酸化ジルコニウム(ZrO、屈折率:2.10)、酸化アンチモン(Sb、屈折率:2.04)、酸化スズ(SnO、屈折率:2.00)、スズドープ酸化インジウム(ITO、屈折率:1.95〜2.00)、酸化セリウム(CeO、屈折率:1.95)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO、屈折率:1.90〜2.00)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO、屈折率:1.90〜2.00)、アンチモン酸亜鉛(ZnSb、屈折率:1.90〜2.00)、酸化亜鉛(ZnO、屈折率:1.90)、酸化イットリウム(Y、屈折率:1.87)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO、屈折率:1.75〜1.85)、リンドープ酸化スズ(PTO、屈折率:1.75〜1.85)、等が挙げられる。これらの中でも、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。 Examples of the high refractive index fine particles constituting the first high refractive index layer 33 include metal oxide fine particles. Specific examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.3 to 2.7), niobium oxide (Nb 2 O 5 , refractive index: 2.33), and zirconium oxide. (ZrO 2 , refractive index: 2.10), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), tin oxide (SnO 2 , refractive index: 2.00), tin-doped indium oxide (ITO, refractive index) : 1.95 to 2.00), cerium oxide (CeO 2, refractive index: 1.95), aluminum-doped zinc oxide (AZO, refractive index: 1.90 to 2.00), gallium-doped zinc oxide (GZO, Refractive index: 1.90 to 2.00), zinc antimonate (ZnSb 2 O 6 , refractive index: 1.90 to 2.00), zinc oxide (ZnO, refractive index: 1.90), yttrium oxide (Y 2 O 3, the refractive index: 1 87), antimony-doped tin oxide (ATO, refractive index: 1.75 to 1.85), phosphorus-doped tin oxide (PTO, refractive index: 1.75 to 1.85), and the like. Among these, zirconium oxide is preferable from the viewpoint of refractive index.

第1の高屈折率層33を構成するバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物(架橋物)であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。   The binder resin constituting the first high refractive index layer 33 is not particularly limited, and a thermoplastic resin can also be used. From the viewpoint of increasing the surface hardness, a thermosetting resin or a photopolymerizable compound is used. Of these, a polymer (cross-linked product) is preferable, and a photopolymerizable compound is more preferable.

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。   Examples of the thermosetting resin include resins such as acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. When curing the thermosetting resin, a curing agent may be used.

光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。1官能の光重合性モノマーとしては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、2官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a photopolymerizable compound, A photopolymerizable monomer, an oligomer, and a polymer can be used. Examples of the monofunctional photopolymerizable monomer include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone. Examples of the bifunctional or higher photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tris. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) Examples include acrylates, compounds obtained by modifying these compounds with ethylene oxide, polyethylene oxide, and the like.

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合(架橋)させる際には、第1のハードコート層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。   In addition, these compounds may have a refractive index adjusted to be high by introducing an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, sulfur, nitrogen, phosphorus atoms, or the like. In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. Can also be used. When polymerizing (crosslinking) the photopolymerizable compound, the polymerization initiator described in the column of the first hard coat layer may be used.

第1の高屈折率層33は、例えば、第1のハードコート層31の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第1のハードコート層31の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と光重合性化合物と溶剤を含む第1の高屈折率層用組成物を塗布する。第1の高屈折率層用組成物には、レベリング剤が含まれていることが好ましい。   The first high refractive index layer 33 can be formed, for example, by a method similar to the method for forming the first hard coat layer 31. Specifically, first, a first composition for a high refractive index layer containing at least high refractive index fine particles, a photopolymerizable compound, and a solvent is applied to the surface of the first hard coat layer 31. The first high refractive index layer composition preferably contains a leveling agent.

〈溶剤〉
第1の高屈折率層用組成物に用いる溶剤としては、第1のハードコート層で述べた溶剤と同様のものを用いることができる。
<solvent>
As the solvent used for the first composition for a high refractive index layer, the same solvents as those described for the first hard coat layer can be used.

〈レベリング剤〉
レベリング剤としては、第1のハードコート層で述べたレベリング剤と同様のものを用いることができる。
<Leveling agent>
As the leveling agent, the same leveling agent as described in the first hard coat layer can be used.

次いで、塗膜状の第1の高屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第1の高屈折率層用組成物を乾燥させて、溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第1の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより第1の高屈折層用組成物を硬化させて、第1の高屈折率層15を形成することができる。   Next, the film-like first high refractive index layer composition is conveyed to a heated zone for drying, and the first high refractive index layer composition is dried by various known methods. Evaporate the solvent. Thereafter, the first composition for a high refractive index layer is irradiated with light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound, thereby curing the first composition for a high refractive index layer. Thus, the first high refractive index layer 15 can be formed.

(第1の低屈折率層)
第1の低屈折率層34は、第1のハードコート層31の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。具体的には、第1の低屈折率層34の屈折率は、1.20以上1.50以下であってもよい。第1の低屈折率層34の屈折率の上限は、1.49以下であってもよく、1.32以下であってもよい。第1の低屈折率層34の屈折率は、上記第1のハードコート層31の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第1の高屈折率層33と第1の低屈折率層34との屈折率差は、0.10以上0.25以下であってもよい。
(First low refractive index layer)
The first low refractive index layer 34 is a layer having a refractive index lower than that of the first hard coat layer 31. Specifically, the refractive index of the first low refractive index layer 34 may be 1.20 or more and 1.50 or less. The upper limit of the refractive index of the first low refractive index layer 34 may be 1.49 or less and may be 1.32 or less. The refractive index of the first low refractive index layer 34 can be measured by the same method as the refractive index of the first hard coat layer 31. The refractive index difference between the first high refractive index layer 33 and the first low refractive index layer 34 may be 0.10 or more and 0.25 or less.

第1の低屈折率層34の膜厚は、200nm以下となっていることが好ましい。第1の低屈折率層34の膜厚の下限は、10nm以上であることが好ましく、15nm以上であることがより好ましい。第1の低屈折率層34の膜厚の上限は、100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましい。低屈折率層の膜厚は、第1の低屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡(TEM、STEM)で観察(倍率は1万倍以上であることが好ましい)することにより求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡の画像を用い、1画像の中で3箇所低屈折率層の膜厚を計測し、これを5画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。   The film thickness of the first low refractive index layer 34 is preferably 200 nm or less. The lower limit of the film thickness of the first low refractive index layer 34 is preferably 10 nm or more, and more preferably 15 nm or more. The upper limit of the film thickness of the first low refractive index layer 34 is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less. The film thickness of the low refractive index layer can be determined by observing the cross section of the first low refractive index layer with a transmission electron microscope (TEM, STEM) (magnification is preferably 10,000 times or more). . Specifically, using the image of the transmission electron microscope, the film thickness of the low refractive index layer at three locations in one image is measured, and this is performed for five images, and the average value of the measured film thickness is calculated. .

第1の低屈折率層34としては、第1のハードコート層31の屈折率よりも低い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第1の低屈折率層34は、例えば、低屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。   The first low refractive index layer 34 is not particularly limited as long as it has a refractive index lower than the refractive index of the first hard coat layer 31, but the first low refractive index layer 34 is, for example, It can be composed of a low refractive index fine particle and a binder resin, or a low refractive index resin.

低屈折率微粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空微粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ微粒子が好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開2005−099778号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。   Examples of the low refractive index fine particles include solid or hollow fine particles made of silica or magnesium fluoride. Among these, hollow silica fine particles are preferable, and such hollow silica fine particles can be produced by, for example, a production method described in Examples of JP-A-2005-099778.

中空微粒子の中でも、平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子が好ましい。通常の中空シリカ微粒子は、60nm以下の平均一次粒径を有するものであるので、平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子は通常の中空シリカ微粒子に比べて平均一次粒径が大きいものであると言える。平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子を用いることにより、通常の中空シリカ微粒子を用いるよりも、少量添加で第1の反射防止フィルム29の反射Y値を0.1%以下に低下させることができる。また、低屈折率層中の平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子を少量とすることができるので、防汚性が良好になり、また耐擦傷性も向上させることができる。中空シリカ微粒子の平均一次粒径の下限は68nm以上であってもよく、また70nm以上であってもよい。中空シリカ微粒子の平均一次粒径の上限は82nm以下であってもよく、80nm以下であってもよい。中空シリカ微粒子の平均一次粒径は、例えば、断面電子顕微鏡(TEM、STEM等の透過型電子顕微鏡で倍率が5万倍以上のものが好ましい)の画像から、画像処理ソフトウェアを用いて求めることができる。また、断面電子顕微鏡(TEM、STEM等の透過型電子顕微鏡で倍率が5万倍以上のものが好ましい)の画像を用い、縮尺を考慮し、手動にて平均値を算出することによって中空シリカ微粒子の平均一次粒径を求めてもよい。この場合、1画像の中で中空シリカ微粒子のうち大きさが大きい方から10個の中空シリカ微粒子を選び、これを5画像分行い、合計50個の中空シリカ微粒子から平均値を算出する。また、中空シリカ微粒子が単体で存在する場合、すなわち中空シリカ微粒子が低屈折率層や低屈折率層用組成物に組み込まれる前の段階であれば、中空シリカ微粒子の平均一次粒径はレーザー散乱法によって測定することができる。レーザー散乱法による測定結果と断面電子顕微鏡の画像からの算出結果はほぼ等しくなる。   Among the hollow fine particles, hollow silica fine particles having an average primary particle size of 65 nm or more and 85 nm or less are preferable. Since ordinary hollow silica fine particles have an average primary particle size of 60 nm or less, hollow silica fine particles having an average primary particle size of 65 nm or more and 85 nm or less have a larger average primary particle size than ordinary hollow silica fine particles. It can be said that. By using hollow silica fine particles having an average primary particle size of 65 nm or more and 85 nm or less, the reflection Y value of the first antireflection film 29 is reduced to 0.1% or less by addition of a small amount, compared to the case of using normal hollow silica fine particles. Can be made. Further, since the hollow silica fine particles having an average primary particle size of 65 nm or more and 85 nm or less in the low refractive index layer can be made small, the antifouling property is improved and the scratch resistance can be improved. The lower limit of the average primary particle size of the hollow silica fine particles may be 68 nm or more, or 70 nm or more. The upper limit of the average primary particle size of the hollow silica fine particles may be 82 nm or less, or 80 nm or less. The average primary particle size of the hollow silica fine particles can be obtained from an image of a cross-sectional electron microscope (preferably a transmission electron microscope such as TEM or STEM having a magnification of 50,000 times or more) using image processing software. it can. Further, by using an image of a cross-sectional electron microscope (preferably a transmission electron microscope such as TEM, STEM and the like having a magnification of 50,000 times or more) and taking the scale into consideration, the hollow silica fine particles are manually calculated by calculating the average value. The average primary particle size may be determined. In this case, ten hollow silica fine particles are selected from the larger hollow silica fine particles in one image, and this is performed for five images, and an average value is calculated from a total of 50 hollow silica fine particles. In addition, when the hollow silica fine particles exist alone, that is, before the hollow silica fine particles are incorporated into the low refractive index layer or the composition for the low refractive index layer, the average primary particle size of the hollow silica fine particles is determined by laser scattering. It can be measured by the method. The measurement result by the laser scattering method and the calculation result from the cross-sectional electron microscope image are almost equal.

低屈折率微粒子としては、表面に光重合性官能基を有するシリカ微粒子(反応性シリカ微粒子)を用いることが好ましく、表面に光重合性官能基を有し、かつ平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子が特に好ましい。このような表面に光重合性官能基を有するシリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。   As the low refractive index fine particles, silica fine particles having a photopolymerizable functional group on the surface (reactive silica fine particles) are preferably used, and having a photopolymerizable functional group on the surface and an average primary particle size of 65 nm or more and 85 nm. The following hollow silica fine particles are particularly preferred. Such silica fine particles having a photopolymerizable functional group on the surface can be prepared by surface-treating the silica fine particles with a silane coupling agent or the like. As a method of treating the surface of the silica fine particles with a silane coupling agent, a dry method in which the silane coupling agent is sprayed on the silica fine particles, or a wet method in which the silica fine particles are dispersed in a solvent and then reacted by adding the silane coupling agent. Etc.

第1の低屈折率層34を構成するバインダ樹脂としては、第1の高屈折率層33を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。   Examples of the binder resin that constitutes the first low refractive index layer 34 include the same binder resin that constitutes the first high refractive index layer 33. However, a resin having a low refractive index such as a resin in which a fluorine atom is introduced or an organopolysiloxane may be mixed in the binder resin.

低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。   Examples of the low refractive index resin include a resin into which a fluorine atom is introduced and a resin having a low refractive index such as organopolysiloxane.

第1の低屈折率層34は、防汚剤を含んでいることが好ましい。これは、以下の理由からである。タッチパネル付き表示装置においては、第1の低屈折率層はタッチパネル付き表示装置の内部に存在するので、観察者の指等が第1の低屈折率層に触れることはないが、表示パネルの製造工程時に製造者の指等が触れるので、指紋等の汚れが付着するおそれがあるからである。また、第1の低屈折率層の表面には第1の反射防止フィルムを保護するための保護粘着層が貼り付けられることがあり、この保護粘着層は表示パネルの製造工程時に剥がされるが、第1の低屈折率層の防汚性が低いと、保護粘着層の残渣が第1の低屈折率層の表面に残存するおそれがあるからである。   The first low refractive index layer 34 preferably contains an antifouling agent. This is for the following reason. In a display device with a touch panel, the first low refractive index layer is present inside the display device with a touch panel, so that an observer's finger or the like does not touch the first low refractive index layer. This is because the manufacturer's finger or the like is touched during the process, and there is a risk that dirt such as a fingerprint may adhere. In addition, a protective adhesive layer for protecting the first antireflection film may be attached to the surface of the first low refractive index layer, and this protective adhesive layer is peeled off during the manufacturing process of the display panel. This is because if the antifouling property of the first low refractive index layer is low, the residue of the protective adhesive layer may remain on the surface of the first low refractive index layer.

〈防汚剤〉
防汚剤としては、光重合性官能基およびフッ素原子を有する重合性フッ素含有化合物が好ましい。なお、第1の低屈折率層の状態においては、このフッ素含有化合物は光重合性官能基によってバインダ樹脂と重合した状態で存在する。
<Anti-fouling agent>
As the antifouling agent, a polymerizable fluorine-containing compound having a photopolymerizable functional group and a fluorine atom is preferable. In the state of the first low refractive index layer, this fluorine-containing compound exists in a state of being polymerized with the binder resin by the photopolymerizable functional group.

重合性フッ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が2,000〜10,000の重合性フッ素含有化合物が好ましい。重量平均分子量が2,000〜10,000の重合性フッ素含有化合物を用いることにより、後述するリフトアップ効果を確実に得ることができる。   Among the polymerizable fluorine-containing compounds, polymerizable fluorine-containing compounds having a weight average molecular weight of 2,000 to 10,000 are preferable. By using a polymerizable fluorine-containing compound having a weight average molecular weight of 2,000 to 10,000, the lift-up effect described later can be reliably obtained.

重合性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、ダイキン社製のオプツールDAC、共栄社化学社製のLINC-3A-MI20(トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール)やLINC-102A(1,2−ジアクリロキシメチルパーフルオロシクロヘキサン)等のLINCシリーズや、ソルベイソレクシス社製のFluorolinkシリーズ、DIC社製のRS71等が挙げられる。   Commercially available products of polymerizable fluorine-containing compounds include, for example, OPTOOL DAC manufactured by Daikin, LINC-3A-MI20 (triacryloylheptadecafluorononenyl pentaerythritol) and LINC-102A (1,2- LINC series such as diacryloxymethylperfluorocyclohexane), Fluorolink series manufactured by Solvay Solexis, RS71 manufactured by DIC, and the like.

低屈折率微粒子として中空微粒子を用いる場合、中空微粒子とバインダ樹脂を構成する光重合性化合物との合計量と、防汚剤としての重合性フッ素含有化合物との配合割合(重量基準)は、95:5〜85:15であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、重合性フッ素含有化合物の割合が上記範囲の割合よりも少ないと、充分な防汚性が得られないおそれがあり、また重合性フッ素含有化合物の割合が上記範囲の割合よりも多いと、耐擦傷性の低下や塗工ムラを引き起こすおそれがあるからである。   When hollow fine particles are used as the low refractive index fine particles, the blending ratio (by weight) of the total amount of the hollow fine particles and the photopolymerizable compound constituting the binder resin and the polymerizable fluorine-containing compound as an antifouling agent is 95. : It is preferable that it is 5-85: 15. This range is preferred because if the proportion of the polymerizable fluorine-containing compound is less than the above range, sufficient antifouling property may not be obtained, and the proportion of the polymerizable fluorine-containing compound is within the above range. It is because there exists a possibility of causing a reduction | decrease in abrasion resistance and a coating nonuniformity when more than this ratio.

第1の低屈折率層34は、第1の低屈折率層34の耐擦傷性を向上させるために滑り剤を含んでいることが好ましい。   The first low refractive index layer 34 preferably contains a slip agent in order to improve the scratch resistance of the first low refractive index layer 34.

〈滑り剤〉
滑り剤としては、光重合性官能基およびケイ素原子を有する重合性ケイ素含有化合物が好ましい。なお、第1の低屈折率層の状態においては、このケイ素含有化合物は光重合性官能基によってバインダ樹脂と重合した状態で存在する。滑り剤の市販品としては、例えば、信越化学株式会社製のX22-164E等が挙げられる。
<Slip agent>
As the slip agent, a polymerizable silicon-containing compound having a photopolymerizable functional group and a silicon atom is preferable. In the state of the first low refractive index layer, the silicon-containing compound exists in a state of being polymerized with the binder resin by the photopolymerizable functional group. Examples of commercially available slip agents include X22-164E manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

低屈折率微粒子として中空微粒子を用いる場合、中空微粒子とバインダ樹脂を構成する光重合性化合物との合計量と、滑り剤としての重合性ケイ素含有化合物との配合割合(重量基準)は、95:5〜85:15であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、重合性ケイ素含有化合物の割合が上記範囲の割合よりも少ないと、充分な滑り性が得られず、耐擦傷性が低下するおそれがあり、また重合性ケイ素含有化合物の割合が上記範囲の割合よりも多いと、塗工ムラを引き起こすおそれがあるからである。   When hollow fine particles are used as the low refractive index fine particles, the blending ratio (by weight) of the total amount of the hollow fine particles and the photopolymerizable compound constituting the binder resin and the polymerizable silicon-containing compound as the slip agent is 95: It is preferably 5 to 85:15. This range is preferred because if the proportion of the polymerizable silicon-containing compound is less than the proportion of the above range, sufficient slipperiness may not be obtained, and the scratch resistance may be lowered. It is because there exists a possibility of causing a coating nonuniformity when there are more ratios of a compound than the ratio of the said range.

第1の低屈折率層34は、例えば、第1のハードコート層31の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第1の高屈折率層33の表面に、少なくとも低屈折率微粒子と光重合性化合物と溶剤を含む第1の低屈折率層用組成物を塗布する。   The first low refractive index layer 34 can be formed by, for example, a method similar to the method for forming the first hard coat layer 31. Specifically, first, the first low refractive index layer composition containing at least the low refractive index fine particles, the photopolymerizable compound, and the solvent is applied to the surface of the first high refractive index layer 33.

〈溶剤〉
第1の低屈折率層用組成物に用いる溶剤としては、第1のハードコート層で述べた溶剤と同様のものを用いることができる。
<solvent>
As the solvent used for the first composition for a low refractive index layer, the same solvents as those described for the first hard coat layer can be used.

次いで、塗膜状の第1の低屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第1の低屈折率層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第1の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより第1の低屈折率層用組成物を硬化させて、第1の低屈折率層34を形成することができる。   Next, the film-like first low refractive index layer composition is transported to a heated zone for drying, and the first low refractive index layer composition is dried by various known methods. Evaporate. Thereafter, the first high refractive index layer composition is irradiated with light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound, thereby curing the first low refractive index layer composition. Thus, the first low refractive index layer 34 can be formed.

第1のハードコート層31および/または第1の高屈折率層33が非重合性フッ素含有化合物を含み、かつ第1の低屈折率層用組成物が防汚剤としての上記重合性フッ素含有化合物を含む場合には、防汚性を顕著に向上させることができる。この理由は定かではないが、以下のように推測される。非重合性フッ素含有化合物が第1のハードコート層31および/または第1の高屈折率層33中に存在した状態で、第1の低屈折率層用組成物の塗膜を第1の高屈折率層33上に形成すると、第1の低屈折率層用組成物の溶剤によって、第1のハードコート層31および/または第1の高屈折率層34中の非重合性フッ素含有化合物が溶出し、第1の低屈折率層用組成物の塗膜に入り込む。そして、第1の低屈折率層用組成物の塗膜中の非重合性フッ素含有化合物によって、この塗膜中の重合性フッ素含有化合物が低屈折率層用組成物の塗膜の表面付近まで押し上げられる(リフトアップ効果)。これにより、重合性フッ素含有化合物がこの塗膜の表面付近に存在するようになるので、防汚性を顕著に向上させることができる。なお、第1の低屈折率層用組成物に多量の重合性フッ素含有化合物を加えることも考えられるが、第1の低屈折率層用組成物に多量の重合性フッ素含有化合物を加えると、第1の低屈折率層に白濁感が生じてしまうおそれがあるので、このような手法を採ることはできない。また、第1の低屈折率層用組成物に重合性フッ素含有化合物の他に、非重合性フッ素含有化合物を加えると、非重合性フッ素含有化合物が第1の低屈折率層の表面に析出してしまい、防汚性が低下してしまうので、このような手法を採ることもできない。   The first hard coat layer 31 and / or the first high refractive index layer 33 contains a non-polymerizable fluorine-containing compound, and the first low refractive index layer composition contains the polymerizable fluorine as an antifouling agent. When the compound is contained, the antifouling property can be remarkably improved. The reason for this is not clear, but is presumed as follows. In a state where the non-polymerizable fluorine-containing compound is present in the first hard coat layer 31 and / or the first high refractive index layer 33, the coating film of the first low refractive index layer composition is applied to the first high coat layer 31. When formed on the refractive index layer 33, the non-polymerizable fluorine-containing compound in the first hard coat layer 31 and / or the first high refractive index layer 34 is formed by the solvent of the first low refractive index layer composition. It elutes and enters the coating film of the first composition for low refractive index layer. And by the non-polymerizable fluorine-containing compound in the coating film of the first composition for low refractive index layer, the polymerizable fluorine-containing compound in this coating film reaches the vicinity of the surface of the coating film of the composition for low refractive index layer. Pushed up (lift-up effect). Thereby, since a polymerizable fluorine-containing compound comes to exist in the surface vicinity of this coating film, antifouling property can be improved significantly. Although adding a large amount of polymerizable fluorine-containing compound to the first low refractive index layer composition is considered, adding a large amount of polymerizable fluorine-containing compound to the first low refractive index layer composition, Since there is a possibility that a cloudiness may occur in the first low refractive index layer, such a method cannot be adopted. Further, when a non-polymerizable fluorine-containing compound is added to the first low refractive index layer composition in addition to the polymerizable fluorine-containing compound, the non-polymerizable fluorine-containing compound is deposited on the surface of the first low refractive index layer. As a result, the antifouling property is lowered, so that such a method cannot be adopted.

[タッチパネル]
タッチパネル40は、センサ部50と、センサ部50よりも表示パネル20側に配置された第2の反射防止フィルム60と、センサ部50より観察者側に配置されたカバーガラス70と、センサ部50と第2の反射防止フィルム60とを固定するための透明粘着層41と、センサ部50とカバーガラス70とを固定するための透明粘着層42と、を備えている。タッチパネル40は、センサ部50と、第2の反射防止フィルム60とを備えていればよく、カバーガラス70、透明粘着層41、42を備えていなくともよい。
[Touch panel]
The touch panel 40 includes a sensor unit 50, a second antireflection film 60 disposed closer to the display panel 20 than the sensor unit 50, a cover glass 70 disposed on the viewer side from the sensor unit 50, and the sensor unit 50. And a transparent adhesive layer 41 for fixing the second antireflection film 60, and a transparent adhesive layer 42 for fixing the sensor unit 50 and the cover glass 70. The touch panel 40 only needs to include the sensor unit 50 and the second antireflection film 60, and may not include the cover glass 70 and the transparent adhesive layers 41 and 42.

≪センサ部≫
センサ部50は、タッチパネル40のセンサとして機能する部分である。センサ部50としては、特に限定されないが、例えば、投影型静電容量方式に用いられるセンサが挙げられる。図3に示されるセンサ部50は、パターニングされた導電層52が設けられた基材フィルム51と、パターニングされた導電層53が設けられた基材フィルム51とを、透明粘着層54を介して積層した構造となっている。
≪Sensor part≫
The sensor unit 50 is a part that functions as a sensor of the touch panel 40. Although it does not specifically limit as the sensor part 50, For example, the sensor used for a projection capacitive system is mentioned. 3 includes a base film 51 provided with a patterned conductive layer 52 and a base film 51 provided with a patterned conductive layer 53 via a transparent adhesive layer 54. It has a laminated structure.

<基材フィルム>
図3に示される基材フィルム51は、透明基材55と、透明基材55の一方の面上に設けられたハードコート層56と、ハードコート層56上に設けられた高屈折率層57と、高屈折率層57上に設けられた低屈折率層58と、透明基材55の他方の面上に積層されたハードコート層59とを備えている。
<Base film>
A base film 51 shown in FIG. 3 includes a transparent base 55, a hard coat layer 56 provided on one surface of the transparent base 55, and a high refractive index layer 57 provided on the hard coat layer 56. And a low refractive index layer 58 provided on the high refractive index layer 57 and a hard coat layer 59 laminated on the other surface of the transparent substrate 55.

基材フィルム51の代わりに、透明基材と、透明基材の一方の面上に設けられたハードコート層と、ハードコート層上に設けられた高屈折率層と、高屈折率層上に設けられた低屈折率層と、透明基材の他方の面上に設けられたハードコート層と、ハードコート層上に設けられた高屈折率層と、この高屈折率層上に積層された低屈折率層とを備えた基材フィルムを用いてもよい。この場合、基材フィルムの両面に存在する低屈折率層上にそれぞれパターニングされた導電層を設ける。   Instead of the substrate film 51, on the transparent substrate, the hard coat layer provided on one surface of the transparent substrate, the high refractive index layer provided on the hard coat layer, and the high refractive index layer The low refractive index layer provided, the hard coat layer provided on the other surface of the transparent substrate, the high refractive index layer provided on the hard coat layer, and the high refractive index layer were laminated. You may use the base film provided with the low-refractive-index layer. In this case, patterned conductive layers are provided on the low refractive index layers present on both sides of the base film.

透明基材55、ハードコート層56、高屈折率層57、および低屈折率層58としては、通常のタッチパネルセンサに用いられている透明基材、ハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層を用いることができるので、ここでは説明を省略するものとする。   As the transparent base material 55, the hard coat layer 56, the high refractive index layer 57, and the low refractive index layer 58, a transparent base material, a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index that are used in a normal touch panel sensor. Since a rate layer can be used, the description is omitted here.

<導電層>
導電層52、53の形状は特に限定されないが、例えば、正方形状やストライプ状が挙げられる。導電層52、53は取出パターン(図示せず)を介して端子部(図示せず)に接続されている。導電層52、53は、透明導電材料から構成された例を示しているが、導電層はメッシュ状の導線から構成することが可能である。透明導電材料としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、酸化亜鉛、酸化インジウム(In)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物等が挙げられる。導線の材料としては、銀、銅、アルミニウム、またはこれらの合金等の遮光性のある金属材料が挙げられる。
<Conductive layer>
The shape of the conductive layers 52 and 53 is not particularly limited, and examples thereof include a square shape and a stripe shape. The conductive layers 52 and 53 are connected to a terminal portion (not shown) through an extraction pattern (not shown). Although the conductive layers 52 and 53 have shown the example comprised from the transparent conductive material, a conductive layer can be comprised from a mesh-shaped conducting wire. Transparent conductive materials include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), zinc oxide, indium oxide (In 2 O 3 ), aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), oxidation Examples thereof include metal oxides such as tin, zinc oxide-tin oxide, indium oxide-tin oxide, and zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide. Examples of the conductive wire material include light-shielding metal materials such as silver, copper, aluminum, and alloys thereof.

導電層52、53の膜厚は、電気抵抗の仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば10nm以上50nm以下であることが好ましい。   The film thicknesses of the conductive layers 52 and 53 are appropriately set according to the electrical resistance specifications, but are preferably 10 nm or more and 50 nm or less, for example.

導電層52、53の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法、塗工法、印刷法などを用いることができる。導電層をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。   The formation method of the conductive layers 52 and 53 is not particularly limited, and a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a CVD method, a coating method, a printing method, or the like can be used. Examples of the method for patterning the conductive layer include a photolithography method.

導電層がメッシュ状の導線から構成されている場合、導線の幅は1μm以上20μm以下であることが好ましく、2μm以上15μm以下であることがより好ましい。これによって、観察者が視認する画像に対して導線が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。   When the conductive layer is composed of a mesh-like conductor, the width of the conductor is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 15 μm or less. As a result, the influence of the conducting wire on the image visually recognized by the observer can be reduced to a negligible level.

導電層がメッシュ状の導線から構成されている場合、導電層は導線によって形成された例えば矩形状の開口部を有している。導電層の開口率は、表示装置からの放出される映像光の特性などに応じて適宜設定されるが、例えば、80%以上90%以下の範囲内にある。また、開口部の配置ピッチは、求められる開口率や導線の幅の値に応じて、100μm以上1000μm以下の範囲内で適宜設定される。   When the conductive layer is composed of a mesh-like conductor, the conductive layer has, for example, a rectangular opening formed by the conductor. The aperture ratio of the conductive layer is appropriately set according to the characteristics of the image light emitted from the display device, and is in the range of 80% to 90%, for example. Further, the arrangement pitch of the openings is appropriately set within a range of 100 μm or more and 1000 μm or less in accordance with the required aperture ratio and the value of the conductor width.

≪第2の反射防止フィルム≫
第2の反射防止フィルム60は、第1の反射防止フィルム29に対して離間している。図4に示される第1の反射防止フィルム29の表面29Aと第2の反射防止フィルム60の表面60Aとの間の距離dは、タッチパネル付き表示装置の薄型化の観点から50μm以上1000μm以下となっていることが好ましい。この距離dは、観察者の指等が画像表示面10Aに触れていない状態の距離である。
≪Second antireflection film≫
The second antireflection film 60 is separated from the first antireflection film 29. The distance d between the surface 29A of the first antireflection film 29 and the surface 60A of the second antireflection film 60 shown in FIG. 4 is 50 μm or more and 1000 μm or less from the viewpoint of thinning the display device with a touch panel. It is preferable. The distance d is a distance in a state where the observer's finger or the like is not touching the image display surface 10A.

第2の反射防止フィルム60は、表示パネル20側に向けて、第2の透明基材61と、第2のハードコート層62と、第2の反射防止層63とをこの順で積層した構造を有している。第2の反射防止フィルム60の表面60Aは、タッチパネル40の表示パネル20側の表面40Aをなしている。   The second antireflection film 60 has a structure in which a second transparent substrate 61, a second hard coat layer 62, and a second antireflection layer 63 are laminated in this order toward the display panel 20 side. have. A surface 60A of the second antireflection film 60 forms a surface 40A of the touch panel 40 on the display panel 20 side.

第2の反射防止フィルム60における第2の反射防止層63側から測定した反射Y値が0.3%未満となっている。反射Y値は、干渉縞をより不可視化する観点から0.15%以下であることが好ましく、0.1%以下であることが更に好ましい。第2の反射防止フィルム60における反射Y値は、第1の反射防止フィルム29と同様の方法によって測定することができる。   The reflection Y value measured from the second antireflection layer 63 side in the second antireflection film 60 is less than 0.3%. The reflection Y value is preferably 0.15% or less, and more preferably 0.1% or less, from the viewpoint of making the interference fringes more invisible. The reflection Y value in the second antireflection film 60 can be measured by the same method as in the first antireflection film 29.

反射Y値が0.3%未満となる第2の反射防止フィルム60は、主に、第2の低屈折率層64の屈折率や膜厚および/または第2の高屈折率層63の屈折率や膜厚を調整することによって得ることができる。第2の反射防止フィルム60の表面60Aの十点平均粗さ(Rzjis)は上述した白濁感の問題から10nm以上100nm以下となっていることが好ましい。   The second antireflection film 60 having a reflection Y value of less than 0.3% mainly includes the refractive index and film thickness of the second low refractive index layer 64 and / or the refraction of the second high refractive index layer 63. It can be obtained by adjusting the rate and the film thickness. The ten-point average roughness (Rzjis) of the surface 60A of the second antireflection film 60 is preferably 10 nm or more and 100 nm or less because of the above-mentioned problem of cloudiness.

<第2の透明基材>
第2の透明基材61は第1の透明基材30と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。ただし、必ずしも第2の透明基材61は第1の透明基材30と同一材料の基材でなくともよい。例えば、第1の透明基材30は偏光素子28中のヨウ素の溶出を抑制するためにアクリル基材が好ましいが、タッチパネル40には偏光素子は設けられていないので、第2の透明基材61は水分透過性が低いことよりも光透過性が高いことが望まれる。このため、このため、第2の透明基材61としては、アクリル基材よりも光透過性に優れたセルロースアシレート基材、特にトリアセチルセルロース基材が好ましい。
<Second transparent substrate>
Since the second transparent substrate 61 is the same as the first transparent substrate 30, the description thereof will be omitted here. However, the second transparent substrate 61 is not necessarily the same material as that of the first transparent substrate 30. For example, the first transparent base material 30 is preferably an acrylic base material in order to suppress elution of iodine in the polarizing element 28, but the polarizing element is not provided on the touch panel 40. It is desirable that the light transmittance is higher than the low water permeability. For this reason, as the 2nd transparent base material 61, the cellulose acylate base material which was excellent in the light transmittance rather than the acrylic base material, especially a triacetyl cellulose base material are preferable.

<第2のハードコート層>
第2のハードコート層62は第1のハードコート層31と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。ただし、第2のハードコート層62の組成は第1のハードコート層31の組成と異なっていてもよい。
<Second hard coat layer>
Since the second hard coat layer 62 is the same as the first hard coat layer 31, the description thereof is omitted here. However, the composition of the second hard coat layer 62 may be different from the composition of the first hard coat layer 31.

<第2の反射防止層>
第2の反射防止層63は、第2の反射防止フィルム60の上記反射Y値が0.3%未満となれば、特に構成や組成は限定されない。例えば、第2の反射防止層63は、第2の高屈折率層64と第2の高屈折率層64上に設けられた第2の低屈折率層65とから構成されていてもよいが、これに限定されず、第2の低屈折率層65のみから構成されていてもよい。
<Second antireflection layer>
The configuration and composition of the second antireflection layer 63 are not particularly limited as long as the reflection Y value of the second antireflection film 60 is less than 0.3%. For example, the second antireflection layer 63 may be composed of a second high refractive index layer 64 and a second low refractive index layer 65 provided on the second high refractive index layer 64. However, the present invention is not limited to this, and the second low refractive index layer 65 may be used alone.

(第2の高屈率折層)
第2の高屈折率層64は第1の高屈折率層33と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。ただし、第2の高屈折率層64の組成は第1の高屈折率層33の組成と異なっていてもよい。
(Second high refractive index layer)
Since the second high refractive index layer 64 is the same as the first high refractive index layer 33, the description thereof is omitted here. However, the composition of the second high refractive index layer 64 may be different from the composition of the first high refractive index layer 33.

(第2の低屈折率層)
第2の低屈折率層65は第1の低屈折率層34と同様のものであるので、ここでは説明を省略するものとする。ただし、第2の低屈折率層65の組成は第1の低屈折率層34の組成と異なっていてもよい。
(Second low refractive index layer)
Since the second low refractive index layer 65 is the same as the first low refractive index layer 34, the description thereof is omitted here. However, the composition of the second low refractive index layer 65 may be different from the composition of the first low refractive index layer 34.

本実施形態によれば、第2の反射防止フィルム60における表面60A側(第2の反射防止層63)側から測定した反射Y値が0.3%未満となっているので、観察者側から第2の反射防止フィルム60に入射して、第2の反射防止フィルム60の表面60Aで反射する光を低減させることができる。また、第1の反射防止フィルム29における表面29A側(第1の反射防止層32側)から測定した反射Y値が0.3%未満となっているので、第2の反射防止フィルム60を透過して、第1の反射防止フィルム29の表面29Aで反射する光を低減させることができる。これにより、指等で画像表示面10Aが強く押されて、表示パネル20とタッチパネル40との間の距離が狭くなることによって、干渉縞が発生したとしても、干渉縞が目立たなくなるので、干渉縞が不可視化される。   According to this embodiment, since the reflection Y value measured from the surface 60A side (second antireflection layer 63) side of the second antireflection film 60 is less than 0.3%, from the observer side. Light incident on the second antireflection film 60 and reflected by the surface 60A of the second antireflection film 60 can be reduced. Further, since the reflection Y value measured from the surface 29A side (first antireflection layer 32 side) of the first antireflection film 29 is less than 0.3%, the second antireflection film 60 is transmitted. Thus, the light reflected by the surface 29A of the first antireflection film 29 can be reduced. Thereby, even if an interference fringe occurs due to the image display surface 10A being strongly pressed by a finger or the like and the distance between the display panel 20 and the touch panel 40 being narrowed, the interference fringe becomes inconspicuous. Is made invisible.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分100%換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を100%としたときの値である。また、下記の「平均一次粒径」は、微粒子自体をレーザー散乱法によって測定したときの値である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited to these descriptions. In addition, the following “100% solid content conversion value” is a value when the solid content in the solvent diluted product is 100%. The following “average primary particle size” is a value obtained when the fine particles themselves are measured by a laser scattering method.

<ハードコート層用組成物の調製>
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、透明層用組成物を得た。
(ハードコート層用組成物1)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(製品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬社製):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):120質量部
<Preparation of composition for hard coat layer>
First, each component was mix | blended so that it might become a composition shown below, and the composition for transparent layers was obtained.
(Composition 1 for hard coat layer)
Dipentaerythritol hexaacrylate (product name “KAYARAD DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass • Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Leveling agent (product) Name “F568” (manufactured by DIC): 0.1 part by mass (100% solid content conversion value)
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 120 parts by mass

(ハードコート層用組成物2)
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート(製品名「ビームセット710」、荒川化学工業社製):100質量部
・スチレン−アクリル共重合体微粒子(平均一次粒径2μm):3質量部
・シリカ微粒子(平均一次粒径12nm):1質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):120質量部
(Composition 2 for hard coat layer)
Pentaerythritol tetraacrylate (product name “Beamset 710”, manufactured by Arakawa Chemical Industries): 100 parts by mass • Styrene-acrylic copolymer fine particles (average primary particle size 2 μm): 3 parts by mass • Silica fine particles (average primary particles) Diameter 12 nm): 1 part by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass / leveling agent (product name “F568”, manufactured by DIC): 0.1 part by mass (solid) (100% conversion value)
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 120 parts by mass

(ハードコート層用組成物3)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):100質量部
・シリカ微粒子(平均一次粒径3.5μm):7質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):0.1質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):120質量部
(Composition 3 for hard coat layer)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass Silica fine particles (average primary particle size 3.5 μm): 7 parts by mass Polymerization initiator (product name “Irgacure 184 ", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass-leveling agent (product name" F568 ", manufactured by DIC): 0.1 parts by mass (converted to a solid content of 100%)
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 120 parts by mass

<高屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
(高屈折率層用組成物1)
・五酸化アンチモン微粒子(平均一次粒径20nm):400質量部(固形分100%換算値)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(製品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬社製):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):15質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):16000質量部
<Preparation of composition for high refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become a composition shown below, and the composition for high refractive index layers was obtained.
(Composition 1 for high refractive index layer)
Antimony pentoxide fine particles (average primary particle size 20 nm): 400 parts by mass (converted to a solid content of 100%)
Dipentaerythritol hexaacrylate (product name “KAYARAD DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass • Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Leveling agent (product) Name “F568” (manufactured by DIC): 15 parts by mass (100% solid content conversion value)
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 16000 parts by mass

(高屈折率層用組成物2)
・五酸化アンチモン微粒子(平均一次粒径20nm):400質量部(固形分100%換算値)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(製品名「KAYARAD DPHA」、日本化薬社製):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):4質量部
・レベリング剤(製品名「F568」、DIC社製):2.5質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):16000質量部
(Composition 2 for high refractive index layer)
Antimony pentoxide fine particles (average primary particle size 20 nm): 400 parts by mass (converted to a solid content of 100%)
Dipentaerythritol hexaacrylate (product name “KAYARAD DPHA”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass • Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Leveling agent (product) Name “F568” (manufactured by DIC): 2.5 parts by mass (100% solid content conversion value)
・ Methyl isobutyl ketone (MIBK): 16000 parts by mass

<低屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
(低屈折率層用組成物1)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径75nm):150質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):20質量部
・フッ素含有ポリマー(製品名「オプスターJN35」、JSR社製):80質量部(固形分100%換算値)
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):25質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):10質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
<Preparation of composition for low refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for low refractive index layers was obtained.
(Composition 1 for low refractive index layer)
・ Hollow silica fine particles (average primary particle size 75 nm): 150 parts by mass (100% solid content conversion value)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-containing polymer (product name “OPSTAR JN35”, manufactured by JSR): 80 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
・ Polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Polymerizable fluorine-containing antifouling agent (product name “OPTOOL DAC”, manufactured by Daikin): 25 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (Product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 10 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物2)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径75nm):100質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):20質量部
・フッ素含有ポリマー(製品名「オプスターJN35」、JSR社製):80質量部(固形分100%換算値)
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):20質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):8質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 2 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 75 nm): 100 parts by mass (100% solid content conversion value)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-containing polymer (product name “OPSTAR JN35”, manufactured by JSR): 80 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
・ Polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Polymerizable fluorine-containing antifouling agent (product name “OPTOOL DAC”, manufactured by Daikin): 20 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 8 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物3)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径60nm):200質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):20質量部
・フッ素含有ポリマー(製品名「オプスターJN35」、JSR社製):80質量部(固形分100%換算値)
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):30質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):12質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 3 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 60 nm): 200 parts by mass (converted to 100% solid content)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-containing polymer (product name “OPSTAR JN35”, manufactured by JSR): 80 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
-Polymerization initiator (product name "Irgacure 127", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass-Polymerizable fluorine-containing antifouling agent (product name "OPTOOL DAC", manufactured by Daikin): 30 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 12 parts by mass • Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物4)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径75nm):200質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):20質量部
・フッ素含有ポリマー(製品名「オプスターJN35」、JSR社製):80質量部(固形分100%換算値)
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):30質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):12質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 4 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 75 nm): 200 parts by mass (converted to 100% solid content)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-containing polymer (product name “OPSTAR JN35”, manufactured by JSR): 80 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
-Polymerization initiator (product name "Irgacure 127", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass-Polymerizable fluorine-containing antifouling agent (product name "OPTOOL DAC", manufactured by Daikin): 30 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 12 parts by mass • Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物5)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径60nm):170質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):20質量部
・フッ素含有ポリマー(製品名「オプスターJN35」、JSR社製):80質量部(固形分100%換算値)
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):27質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):10.8質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 5 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 60 nm): 170 parts by mass (100% solid content conversion value)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 20 parts by mass Fluorine-containing polymer (product name “OPSTAR JN35”, manufactured by JSR): 80 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
・ Polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • Polymerizable fluorine-containing antifouling agent (product name “OPTOOL DAC”, manufactured by Daikin): 27 parts by mass (100% solid content) Conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 10.8 parts by mass • Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物6)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径60nm):81.8質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):18.2質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):7.3質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 6 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 60 nm): 81.8 parts by mass (converted to 100% solid content)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass • Polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • polymerizable fluorine Containing antifouling agent (product name “OPTOOL DAC”, manufactured by Daikin): 18.2 parts by mass (100% solid content conversion value)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 7.3 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

(低屈折率層用組成物7)
・中空シリカ微粒子(平均一次粒径60nm):55質量部(固形分100%換算値)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):100質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):4質量部
・重合性フッ素含有防汚剤(製品名「オプツールDAC」、ダイキン社製):15.5質量部(固形分100%換算値)
・重合性ケイ素含有滑り剤(製品名「X22−164E」、信越化学社製):6.2質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):8000質量部
(Composition 7 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (average primary particle size 60 nm): 55 parts by mass (converted to 100% solid content)
Pentaerythritol triacrylate (product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 100 parts by mass • Polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass • polymerizable fluorine Contained antifouling agent (product name “OPTOOL DAC”, manufactured by Daikin): 15.5 parts by mass (converted to a solid content of 100%)
Polymerizable silicon-containing slip agent (product name “X22-164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 6.2 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 8000 parts by mass

<サンプル1>
透明基材としての厚さ40μmのトリアセチルセルロース基材(製品名「KC4UAW」、コニカミノルタ社製)を準備し、トリアセチルセルロース基材の片面に、上記ハードコート用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、0.2m/sの流速で70℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が100mJ/cmになるように照射して塗膜を硬化させることにより、屈折率が1.52および膜厚が8μmのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、上記高屈折率層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、40℃で1分間乾燥させた後、窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて、積算光量100mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が1.63および膜厚が150nmの高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、低屈折率層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、40℃で1分間乾燥させた後、窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて、積算光量100mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が1.29および膜厚が100nmの低屈折率層を形成した。これにより、サンプル1に係る反射防止フィルムを作製した。
<Sample 1>
A triacetyl cellulose base material (product name “KC4UAW”, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) having a thickness of 40 μm as a transparent base material was prepared, and the hard coat composition 1 was applied to one side of the triacetyl cellulose base material, A coating film was formed. Next, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. By evaporating the solvent in the coating film and irradiating the ultraviolet light with an integrated light amount of 100 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) to cure the coating film, the refractive index is increased. A hard coat layer having a thickness of 1.52 and a thickness of 8 μm was formed. Next, the composition 1 for a high refractive index layer was applied on the hard coat layer to form a coating film. And after drying the formed coating film for 1 minute at 40 degreeC, under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 200 ppm or less), it hardens | cures by irradiating with an ultraviolet-ray with the integrated light quantity of 100 mJ / cm < 2 >, and refractive index is 1. .63 and a high refractive index layer having a thickness of 150 nm were formed. Subsequently, the composition 1 for low refractive index layers was apply | coated on the high refractive index layer, and the coating film was formed. And after drying the formed coating film for 1 minute at 40 degreeC, under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 200 ppm or less), it hardens | cures by irradiating with an ultraviolet-ray with the integrated light quantity of 100 mJ / cm < 2 >, and refractive index is 1. A low refractive index layer having a thickness of .29 and a thickness of 100 nm was formed. This produced the antireflection film concerning sample 1.

<サンプル2>
サンプル2においては、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物2を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル2に係る反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.32であった。
<Sample 2>
In Sample 2, antireflection was performed in the same manner as Sample 1, except that the low refractive index layer composition 2 was used instead of the low refractive index layer composition 1 to form the low refractive index layer of the antireflection film. A film was prepared. The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film according to Sample 2 was 1.32.

<サンプル3>
サンプル3においては、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物3を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル3に係る反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.29であった。
<Sample 3>
In Sample 3, antireflection was performed in the same manner as Sample 1 except that the low refractive index layer composition 3 was used instead of the low refractive index layer composition 1 to form the low refractive index layer of the antireflection film. A film was prepared. The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film according to Sample 3 was 1.29.

<サンプル4>
サンプル4においては、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物4を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル4に係る反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.26であった。
<Sample 4>
In Sample 4, antireflection was performed in the same manner as Sample 1 except that the low refractive index layer composition 4 was used instead of the low refractive index layer composition 1 to form the low refractive index layer of the antireflection film. A film was prepared. The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film according to Sample 4 was 1.26.

<サンプル5>
サンプル5においては、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物5を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル5に係る反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.32であった。
<Sample 5>
In Sample 5, antireflection was conducted in the same manner as Sample 1 except that the low refractive index layer composition 5 was used instead of the low refractive index layer composition 1 to form the low refractive index layer of the antireflection film. A film was prepared. The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film according to Sample 5 was 1.32.

<サンプル6>
サンプル6においては、ハードコート層用組成物1に代えてハードコート層用組成物2を用いて反射防止フィルムのハードコート層を形成し、またハードコート層の膜厚を4μmとした以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル6に係る反射防止フィルムのハードコート層の屈折率は1.52であった。
<Sample 6>
In Sample 6, the hard coat layer composition 2 was used in place of the hard coat layer composition 1 to form a hard coat layer of the antireflection film, and the thickness of the hard coat layer was 4 μm. An antireflection film was produced in the same manner as Sample 1. The refractive index of the hard coat layer of the antireflection film according to Sample 6 was 1.52.

<サンプル7>
サンプル7においては、高屈折率層用組成物1に代えて高屈折率層用組成物2を用いて反射防止フィルムの高屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル7に係る反射防止フィルムの高屈折率層の屈折率は1.63であった。
<Sample 7>
In Sample 7, antireflection was performed in the same manner as Sample 1 except that the high refractive index layer composition 2 was used instead of the high refractive index layer composition 1 to form the high refractive index layer of the antireflective film. A film was prepared. The refractive index of the high refractive index layer of the antireflection film according to Sample 7 was 1.63.

<サンプル8>
サンプル8においては、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物6を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成した以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル8に係る反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.37であった。
<Sample 8>
In sample 8, antireflection was performed in the same manner as in sample 1, except that the low refractive index layer composition 6 was used instead of the low refractive index layer composition 1 to form the low refractive index layer of the antireflection film. A film was prepared. The refractive index of the low refractive index layer of the antireflection film according to Sample 8 was 1.37.

<サンプル9>
サンプル9においては、ハードコート層用組成物1に代えてハードコート層用組成物2を用いて反射防止フィルムのハードコート層を形成し、低屈折率層用組成物1に代えて低屈折率層用組成物7を用いて反射防止フィルムの低屈折率層を形成し、かつ高屈折率層を形成しなかった以外は、サンプル1と同様にして、反射防止フィルムを作製した。サンプル9に係る反射防止フィルムのハードコート層の屈折率は1.52であり、低屈折率層の屈折率は1.42であった。
<Sample 9>
In sample 9, the hard coat layer composition 2 was used instead of the hard coat layer composition 1 to form a hard coat layer of an antireflection film, and the low refractive index layer composition 1 was replaced with a low refractive index. An antireflection film was produced in the same manner as in Sample 1, except that the low refractive index layer of the antireflection film was formed using the layer composition 7 and the high refractive index layer was not formed. The refractive index of the hard coat layer of the antireflection film according to Sample 9 was 1.52, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.42.

<サンプル10>
サンプル10においては、ハードコート層用組成物1に代えてハードコート層用組成物3を用いて、サンプル1と同様の方法で膜厚が4μmのハードコート層を形成して、防眩フィルムを作製した。なお、サンプル10の防眩フィルムは、ハードコート層上に高屈折率層低および低屈折率層が形成されていないものであった。サンプル10に係る防眩フィルムのハードコート層の屈折率は1.51であった。
<Sample 10>
In Sample 10, a hard coat layer composition 3 was used in place of hard coat layer composition 1, and a hard coat layer having a thickness of 4 μm was formed in the same manner as in sample 1, and an antiglare film was formed. Produced. In addition, the anti-glare film of Sample 10 was one in which the low refractive index layer and the low refractive index layer were not formed on the hard coat layer. The refractive index of the hard coat layer of the antiglare film according to Sample 10 was 1.51.

<サンプル11>
サンプル11においては、ハードコート層用組成物1を用いて、サンプル1と同様の方法でハードコート層を形成して、ハードコートフィルムを作製した。なお、サンプル11のハードコートフィルムは、ハードコート層上に高屈折率層低および低屈折率層が形成されていないものであった。
<Sample 11>
In sample 11, a hard coat layer was formed using composition 1 for hard coat layer in the same manner as in sample 1 to produce a hard coat film. In addition, the hard coat film of Sample 11 was one in which the low refractive index layer and the low refractive index layer were not formed on the hard coat layer.

<反射Y値測定>
サンプル1〜9の反射防止フィルム、サンプル10の防眩フィルム、およびサンプル11のハードコートフィルムについて、分光光度計(MPC3100、島津製作所株式会社製)を用いて、反射Y値を測定した。具体的には、それぞれのフィルムにおける表面側(サンプル1〜9の反射防止フィルムにおいては低屈折率層の表面側、サンプル10の防眩フィルムおよびサンプル11のハードコートフィルムにおいてはハードコート層の表面側)から入射角度5度の光を照射し、それぞれのフィルムで反射された正反射方向の反射光を受光して、380nm〜780nmの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア(例えば、MPC3100に内蔵されたソフトウェア)によって反射Y値を算出した。なお、反射Y値の測定は、トリアセチルセルロース基材におけるハードコート層が形成されている面とは反対側の面(裏面)に黒テープ(寺岡製作所製)を貼り付けた状態で行った。
<Measurement of reflection Y value>
About the antireflection film of samples 1-9, the anti-glare film of sample 10, and the hard coat film of sample 11, the reflection Y value was measured using the spectrophotometer (MPC3100, Shimadzu Corporation make). Specifically, the surface side of each film (the surface side of the low refractive index layer in the antireflection films of Samples 1 to 9, the surface of the hard coat layer in the antiglare film of Sample 10 and the hard coat film of Sample 11) Irradiate light with an incident angle of 5 degrees from the side), receive the reflected light in the specular direction reflected by each film, measure the reflectance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm, and then the human eye The reflection Y value was calculated by software (for example, software built in the MPC 3100) that converts the brightness to feel. The reflection Y value was measured in a state where a black tape (manufactured by Teraoka Seisakusho) was attached to the surface (back surface) opposite to the surface on which the hard coat layer was formed in the triacetyl cellulose base material.

<十点平均粗さ(Rzjis)の測定>
サンプル1〜9の反射防止フィルムの表面(低屈折率層の表面)、サンプル10の防眩フィルムの表面(ハードコート層の表面)、およびサンプル11のハードコートフィルムの表面(ハードコート層の表面)において、十点平均粗さ(Rzjis)を測定した。Rzjisは、具体的には、表面粗さ測定器(型番:SE−3400/(株)小坂研究所製)を用いて、下記の測定条件により測定された。
1)表面粗さ検出部の触針((株)小坂研究所製の商品名SE2555N(2μ標準))
・先端曲率半径2μm、頂角90度、材質ダイヤモンド
2)表面粗さ測定器の測定条件
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):2.5mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):12.5mm
・触針の送り速さ:0.5mm/s
・予備長さ:(カットオフ値λc)×2
・縦倍率:2000倍
・横倍率:10倍
<Measurement of ten-point average roughness (Rzjis)>
The surface of the antireflection film of Samples 1 to 9 (surface of the low refractive index layer), the surface of the antiglare film of Sample 10 (surface of the hard coat layer), and the surface of the hard coat film of Sample 11 (surface of the hard coat layer) ), Ten-point average roughness (Rzjis) was measured. Specifically, Rzjis was measured under the following measurement conditions using a surface roughness measuring instrument (model number: SE-3400 / manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.).
1) Stylus of surface roughness detector (trade name SE2555N (2 μ standard) manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.)
・ Tip radius of curvature 2μm, apex angle 90 degrees, material diamond 2) Measurement conditions of surface roughness measuring instrument ・ Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.5mm / s
・ Preliminary length: (cutoff value λc) × 2
・ Vertical magnification: 2000 times ・ Horizontal magnification: 10 times

<防汚性評価>
指紋に対する防汚性評価
サンプル1〜9の反射防止フィルムの表面(低屈折率層の表面)、サンプル10の防眩フィルムの表面(ハードコート層の表面)、およびサンプル11のハードコートフィルムの表面(ハードコート層の表面)に、それぞれ、指紋を付着させた後、旭化成株式会社製のベンコットM−3で拭取り、拭取りやすさを目視にて確認した。評価基準は以下の通りとした。
○:指紋が容易または比較的容易に拭取れた。
△:指紋を拭き取ることはできたが、容易ではなかった。
×:指紋を拭取ることができなかった。
<Anti-fouling evaluation>
Antifouling property evaluation for fingerprints The surface of the antireflection film of Samples 1 to 9 (surface of the low refractive index layer), the surface of the antiglare film of Sample 10 (surface of the hard coat layer), and the surface of the hard coat film of Sample 11 After each fingerprint was attached to (the surface of the hard coat layer), it was wiped with Bencot M-3 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., and the ease of wiping was visually confirmed. The evaluation criteria were as follows.
○: The fingerprint was easily or relatively easily wiped off.
Δ: The fingerprint could be wiped off, but it was not easy.
X: The fingerprint could not be wiped off.

<耐擦傷性評価>
サンプル1〜9の反射防止フィルムの表面(低屈折率層の表面)、サンプル10の防眩フィルムの表面(ハードコート層の表面)、およびサンプル11のハードコートフィルムの表面(ハードコート層の表面)を、スチールウール♯0000(製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製)を用い、荷重150g/cmを加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った後、それぞれのトリアセチルセルロース基材におけるハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、傷の有無を3波長蛍光ランプ下での目視により評価した。評価基準は以下の通りとした。
○:傷が無かった。
△:傷が数本あった。
×:傷が多数あった。
<Abrasion resistance evaluation>
The surface of the antireflection film of Samples 1 to 9 (surface of the low refractive index layer), the surface of the antiglare film of Sample 10 (surface of the hard coat layer), and the surface of the hard coat film of Sample 11 (surface of the hard coat layer) ) Using steel wool # 0000 (product name “Bonstar”, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), while applying a load of 150 g / cm 2 and rubbing 10 times at a speed of 100 mm / second, each triacetyl cellulose group A black tape was applied to the surface of the material opposite to the surface on which the hard coat layer was formed, and the presence or absence of scratches was evaluated by visual observation under a three-wavelength fluorescent lamp. The evaluation criteria were as follows.
○: There was no scratch.
Δ: There were several scratches.
X: There were many scratches.

以下、結果を表1に示す。

Figure 0006365942
The results are shown in Table 1.
Figure 0006365942

<実施例1〜10および比較例1〜7>
サンプル1〜11に係るフィルムの中から2枚のフィルムを取り出し、一方を第1のフィルムとし、他方を第2のフィルムとした。各実施例および比較例におけるフィルムの組み合わせは、表2に示す。なお、取り出す2枚のフィルムは同一のサンプルであってもよい。そして、第1のフィルムと第2のフィルムを用いて、以下の干渉縞評価、白濁感評価、貼り付き防止性評価を行った。
<Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 7>
Two films were taken out from the films according to Samples 1 to 11, and one was a first film and the other was a second film. The film combinations in each example and comparative example are shown in Table 2. The two films to be taken out may be the same sample. Then, using the first film and the second film, the following interference fringe evaluation, white turbidity evaluation, and sticking prevention evaluation were performed.

<干渉縞評価>
まず、第1のフィルムおよび第2のフィルムをそれぞれ厚さ0.8mmのガラス板に透明粘着剤(製品名「PD−S1」、パナック社製)を介して貼り付けた。そして、第1のフィルムの表面(サンプル1〜9においては低屈折率層の表面、サンプル10および11においてはハードコート層の表面)と第2のフィルムの表面(サンプル1〜9においては低屈折率層の表面、サンプル10および11においてはハードコート層の表面)が接触するように、第1のフィルム付きガラス板上に第2のフィルム付きガラス板を配置させた。そして、第2のフィルム付きガラス側から2000g/cmの荷重を加えた状態で、第2のフィルム付きガラス上に配置されたナトリウムランプから光を照射し、干渉縞が確認されるか否か調べた。評価基準は以下の通りとした。
○:干渉縞が確認されなかった、または若干干渉縞が観察されたが問題のないレベルであった。
×:干渉縞が明確に確認された。
<Interference fringe evaluation>
First, the 1st film and the 2nd film were affixed on the glass plate of thickness 0.8mm respectively through the transparent adhesive (product name "PD-S1", the Panac company make). Then, the surface of the first film (the surface of the low refractive index layer in samples 1 to 9, the surface of the hard coat layer in samples 10 and 11) and the surface of the second film (low refraction in samples 1 to 9). The glass plate with the second film was placed on the glass plate with the first film so that the surface of the rate layer, the surface of the hard coat layer in the samples 10 and 11, was in contact. Whether or not interference fringes are confirmed by irradiating light from a sodium lamp placed on the glass with the second film with a load of 2000 g / cm 2 applied from the glass side with the second film. Examined. The evaluation criteria were as follows.
○: No interference fringes were confirmed, or some interference fringes were observed, but there was no problem.
X: Interference fringes were clearly confirmed.

<白濁感評価>
まず、第1のフィルムおよび第2のフィルムをそれぞれ厚さ0.8mmのガラス板に透明粘着剤(製品名「PD−S1」、パナック社製)を介して貼り付けた。そして、第1のフィルムの表面と第2のフィルムの表面が接触するように、第1のフィルム付きガラス板上に第2のフィルム付きガラス板を配置させた。この状態で、暗室にて、卓上スタンド(3波長蛍光灯管)から第2のフィルム付きガラスに光を照射し、白濁感が確認されるか否か調べた。評価基準は以下の通りとした。
○:白濁感が観察されなかった。
△:若干白濁感が観察されたが、実用上問題のないレベルであった。
×:白濁感が明確に観察された。
<Evaluation of cloudiness>
First, the 1st film and the 2nd film were affixed on the glass plate of thickness 0.8mm respectively through the transparent adhesive (product name "PD-S1", the Panac company make). And the glass plate with a 2nd film was arrange | positioned on the glass plate with a 1st film so that the surface of a 1st film and the surface of a 2nd film might contact. In this state, in a dark room, light was applied to the glass with the second film from a table lamp (three-wavelength fluorescent lamp tube), and it was examined whether or not a cloudiness was confirmed. The evaluation criteria were as follows.
○: No cloudiness was observed.
Δ: Slight cloudiness was observed, but at a level with no practical problem.
X: The cloudiness was clearly observed.

<貼り付き防止性>
まず、第1のフィルムと第2のフィルムをそれぞれ厚さ0.8mmのガラス板に透明粘着剤(製品名「PD−S1」、パナック社製)を介して貼り付けた。そして、第1のフィルムの表面と第2のフィルムの表面が接するように第1のフィルム付きガラス板上に第2のフィルム付きガラス板を重ねた。その状態で、第2のフィルム付きガラス板における第2のフィルム側の面とは反対側の面から2000g/cmの荷重を加え、その後荷重を取り除き、その状態で、第2のフィルム付きガラス板を第1のフィルム付きガラス板に対してスライドさせて、第1のフィルムと第2のフィルムの貼り付き性について調べた。評価基準は以下の通りとした。
○:第2のフィルム付きガラス板が第1のフィルム付きガラス板に対してスムーズに動き、または若干引っ掛かりがあるが動いた。
×:第2のフィルム付きガラス板が第1のフィルム付きガラス板に対して動かなかった。
<Anti-sticking property>
First, the 1st film and the 2nd film were affixed on the glass plate of thickness 0.8mm respectively via the transparent adhesive (product name "PD-S1", the Panac company make). And the glass plate with a 2nd film was piled up on the glass plate with a 1st film so that the surface of a 1st film and the surface of a 2nd film might contact | connect. In that state, a load of 2000 g / cm 2 is applied from the surface opposite to the surface on the second film side in the glass plate with the second film, and then the load is removed. The board was slid with respect to the glass plate with a 1st film, and the sticking property of the 1st film and the 2nd film was investigated. The evaluation criteria were as follows.
◯: The second film-attached glass plate moved smoothly with respect to the first film-attached glass plate, or moved slightly but caught.
X: The glass plate with a 2nd film did not move with respect to the glass plate with a 1st film.

以下、結果を表2に示す。

Figure 0006365942
The results are shown in Table 2 below.
Figure 0006365942

表1および表2に示されるように、比較例1〜7においては、第1のフィルムおよび第2のフィルムの少なくともいずれかに、反射Y値が0.3%以上のフィルムを用いていたので、干渉縞が明確に確認された。これに対し、実施例1〜10においては、第1のフィルムおよび第2のフィルムとして、いずれも反射Y値が0.3%未満の反射防止フィルムを用いていたので、干渉縞が確認されなかった、または若干干渉縞が確認されたが、問題のないレベルであった。   As shown in Table 1 and Table 2, in Comparative Examples 1 to 7, a film having a reflection Y value of 0.3% or more was used for at least one of the first film and the second film. Interference fringes were clearly confirmed. On the other hand, in Examples 1 to 10, since the antireflection film having a reflection Y value of less than 0.3% was used as the first film and the second film, no interference fringes were confirmed. Although some interference fringes were confirmed, the level was satisfactory.

10…タッチパネル付き表示装置
10A…画像表示面
20…表示パネル
20A…表面
25…表示素子
29…第1の反射防止フィルム
29A…表面
30…第1の透明基材
31…第1のハードコート層
32…第1の反射防止層
33…第1の高屈折率層
34…第1の低屈折率層
40…タッチパネル
40A…表面
50…センサ部
60…第2の反射防止フィルム
60A…表面
61…第2の透明基材
62…第2のハードコート層
63…第2の反射防止層
64…第2の高屈折率層
65…第2の低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Display apparatus 10A with a touch panel ... Image display surface 20 ... Display panel 20A ... Surface 25 ... Display element 29 ... 1st antireflection film 29A ... Surface 30 ... 1st transparent base material 31 ... 1st hard-coat layer 32 ... 1st antireflection layer 33 ... 1st high refractive index layer 34 ... 1st low refractive index layer 40 ... Touch panel 40A ... Surface 50 ... Sensor part 60 ... 2nd antireflection film 60A ... Surface 61 ... 2nd Transparent substrate 62 ... second hard coat layer 63 ... second antireflection layer 64 ... second high refractive index layer 65 ... second low refractive index layer

Claims (6)

画像を表示するための表示パネルと、前記表示パネルよりも観察者側に配置されたタッチパネルとを備えるタッチパネル付き表示装置であって、
前記表示パネルが、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された第1の反射防止フィルムであって、観察者側に向けて、第1の透明基材と、第1のハードコート層と、第1の反射防止層とをこの順で積層し、かつ前記第1の反射防止フィルムの表面が前記表示パネルの観察者側の表面をなす第1の反射防止フィルムとを備え、
前記タッチパネルが、センサ部と、前記センサ部よりも表示パネル側に配置され、かつ前記第1の反射防止フィルムに対して離間した前記第2の反射防止フィルムであって、表示パネル側に向けて、第2の透明基材と、第2のハードコート層と、第2の反射防止層とをこの順で積層し、かつ前記第2の反射防止フィルムの表面が前記タッチパネルの表示パネル側の表面をなす第2の反射防止フィルムとを備え、
前記第1の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値および前記第2の反射防止フィルムにおける表面側から測定した反射Y値がそれぞれ0.3%未満である、タッチパネル付き表示装置。
A display device with a touch panel, comprising: a display panel for displaying an image; and a touch panel arranged closer to an observer than the display panel,
The display panel is a display element, and a first antireflection film disposed closer to the viewer than the display device, the first transparent substrate and the first hardware facing the viewer The coating layer and the first antireflection layer are laminated in this order, and the first antireflection film includes a first antireflection film in which the surface of the first antireflection film forms the surface on the viewer side of the display panel,
The touch panel is a sensor unit and the second antireflection film that is disposed closer to the display panel than the sensor unit and is spaced from the first antireflection film, toward the display panel side The second transparent base material, the second hard coat layer, and the second antireflection layer are laminated in this order, and the surface of the second antireflection film is the surface on the display panel side of the touch panel. A second antireflective film comprising
The display device with a touch panel, wherein the reflection Y value measured from the surface side of the first antireflection film and the reflection Y value measured from the surface side of the second antireflection film are each less than 0.3%.
前記第1の反射防止フィルムの前記表面および前記第2の反射防止フィルムの前記表面における十点平均粗さ(Rzjis)がそれぞれ10nm以上100nm以下である、請求項1に記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein a ten-point average roughness (Rzjis) on each of the surface of the first antireflection film and the surface of the second antireflection film is 10 nm or more and 100 nm or less. 前記第1の反射防止フィルムの前記表面における十点平均粗さ(Rzjis)が100nmを超え500nm以下であり、かつ前記第2の反射防止フィルムの前記表面における前記十点平均粗さが10nm以上100nm以下である、請求項1に記載のタッチパネル付き表示装置。   The ten-point average roughness (Rzjis) on the surface of the first antireflection film is more than 100 nm and not more than 500 nm, and the ten-point average roughness on the surface of the second antireflection film is 10 nm or more and 100 nm. The display device with a touch panel according to claim 1, which is the following. 前記第1の反射防止フィルムの前記表面と前記第2の反射防止フィルムの前記表面との間の距離が50μm以上1000μm以下である、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のタッチパネル付き表示装置。   The display with a touch panel according to any one of claims 1 to 3, wherein a distance between the surface of the first antireflection film and the surface of the second antireflection film is 50 µm or more and 1000 µm or less. apparatus. 前記第1の反射防止層が前記第1のハードコート層よりも屈折率が低い第1の低屈折率層を備え、前記第1の低屈折率層が、平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子と、バインダ樹脂とを含む、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のタッチパネル付き表示装置。   The first antireflection layer includes a first low refractive index layer having a refractive index lower than that of the first hard coat layer, and the first low refractive index layer has an average primary particle size of 65 nm to 85 nm. The display device with a touch panel according to any one of claims 1 to 4, comprising the hollow silica fine particles and a binder resin. 前記第2の反射防止層が前記第2のハードコート層よりも屈折率が低い第2の低屈折率層を備え、前記第2の低屈折率層が、平均一次粒径が65nm以上85nm以下の中空シリカ微粒子と、バインダ樹脂とを含む、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のタッチパネル付き表示装置。   The second antireflection layer includes a second low refractive index layer having a refractive index lower than that of the second hard coat layer, and the second low refractive index layer has an average primary particle size of 65 nm to 85 nm. The display device with a touch panel according to claim 1, comprising the hollow silica fine particles and a binder resin.
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