JP5494884B1 - Intermediate base film and touch panel sensor - Google Patents

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Abstract

【課題】様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサを提供する。
【解決手段】パターニングされた導電層を支持するための中間基材フィルム10であって、透明基材11と、透明基材11の一方の面11A上に形成された第1の高屈折率層13と、第1の高屈折率層13上に形成され、かつ第1の高屈折率層13の屈折率よりも低い屈折率を有する第1の低屈折率層14とを備え、中間基材フィルム10の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら前記第1の低屈折率層14側から中間基材フィルム10に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内である、中間基材フィルム10が提供される。
【選択図】図1
An intermediate substrate film and a touch panel sensor are provided that can suppress variations in color when viewed from various angles.
An intermediate substrate film for supporting a patterned conductive layer, the transparent substrate and a first high refractive index layer formed on one surface of the transparent substrate. 13 and a first low refractive index layer 14 formed on the first high refractive index layer 13 and having a refractive index lower than that of the first high refractive index layer 13, The normal direction of the surface of the film 10 is set to 0 °, and the intermediate substrate film 10 is irradiated with light from the first low refractive index layer 14 side while changing the incident angle every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 °. When the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the regular reflection direction, the variation of the a * value is within 1.0, and b * An intermediate substrate film 10 having a value variation of 1.6 or less is provided.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサに関する。   The present invention relates to an intermediate substrate film and a touch panel sensor.

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびFPC(フレキシブルプリント基材)を備えている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等(例えば、券売機、ATM装置、携帯電話、ゲーム機)に対する入力手段として表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能となっている。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit that detects a contact position on the touch panel sensor, wiring, and FPC (flexible print base material). In many cases, the touch panel device is used together with the display device as an input means for various devices including a display device such as a liquid crystal display or a plasma display (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine). Yes. In such a device, the touch panel sensor is disposed on the display surface of the display device, thereby enabling extremely direct input to the display device.

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置(接近位置)を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、静電容量方式のタッチパネル装置が注目されている。静電容量方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識(多点認識)への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。   Touch panel devices are classified into various types based on the principle of detecting a contact position (approach position) on a touch panel sensor. In recent years, a capacitive touch panel device has attracted attention because it is optically bright, has a design property, has a simple structure, and has excellent functionality. There are a surface type and a projection type in the electrostatic capacity method, but the projection type is attracting attention because it is suitable for multi-touch recognition (multi-point recognition).

投影型静電容量方式のタッチパネルに用いられるタッチパネルセンサとしては、中間基材フィルムと、中間基材フィルム上に形成された透明導電層とを備えているものがある(例えば、特許文献1参照)。   A touch panel sensor used for a projected capacitive touch panel includes an intermediate base film and a transparent conductive layer formed on the intermediate base film (see, for example, Patent Document 1). .

特開2011−98563号公報JP 2011-98563 A

現在、タッチパネル装置の大面積化が進んでいるが、タッチパネル装置の大面積化が進むにつれて、画面サイズが大きくなるので、タッチパネル装置を視認する場所によって視認角度が大きく異なる傾向にある。タッチパネル装置に用いられるタッチパネルセンサの中間基材フィルムは、正面から視認することを前提として設計されているが、このような正面から視認することを前提とした設計思想では、視認する角度によって色味がばらついてしまうので、タッチパネル装置の大面積化に対応することができないおそれがある。   At present, the touch panel device is increasing in area, but as the touch panel device is increased in area, the screen size increases, so that the viewing angle tends to vary greatly depending on where the touch panel device is viewed. The intermediate substrate film of the touch panel sensor used in the touch panel device is designed on the assumption that it can be viewed from the front. Therefore, the touch panel device may not be able to cope with an increase in area.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide an intermediate substrate film and a touch panel sensor that can suppress variations in color when viewed from various angles.

本発明の一の態様によれば、パターニングされた導電層を支持するための中間基材フィルムであって、透明基材と、前記透明基材の一方の面上に積層され、屈折率が1.47以上1.57以下であり、かつ膜厚が1μm以上の第1の透明層と、前記第1の透明層上に積層され、屈折率が1.62以上1.72以下であり、かつ膜厚が20nm以上80nm以下の第1の高屈折率層と、前記第1の高屈折率層上に積層され、屈折率が1.44以上1.54以下であり、かつ膜厚が3nm以上45nm以下の第1の低屈折率層とを備え、前記中間基材フィルムの表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら前記第1の低屈折率層側から前記中間基材フィルムに光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内である、中間基材フィルムが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided an intermediate substrate film for supporting a patterned conductive layer, which is laminated on a transparent substrate and one surface of the transparent substrate, and has a refractive index of 1. A first transparent layer having a thickness of 1 μm or more and a thickness of 1 μm or more, and a refractive index of 1.62 or more and 1.72 or less; A first high refractive index layer having a thickness of 20 nm to 80 nm and a first high refractive index layer laminated on the first high refractive index layer, having a refractive index of 1.44 to 1.54 and a thickness of 3 nm or more. A first low refractive index layer of 45 nm or less, wherein the normal direction of the surface of the intermediate base film is 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within a range of 0 ° to 75 °. The intermediate base film is irradiated with light from the low refractive index layer side, and the reflected light in the respective regular reflection directions L * a * b * when seeking a * and b * values of the color system, is within the variation 1.0 of the a * value, and the variation of the b * value is within 1.6, intermediate A substrate film is provided.

上記中間基材フィルムは、前記透明基材における前記一方の面とは反対側の面上に積層され、屈折率が1.47以上1.57以下であり、かつ膜厚が1μm以上の第2の透明層と、前記第2の透明層上に積層され、屈折率が1.62以上1.72以下であり、かつ膜厚が20nm以上80nm以下の第2の高屈折率層と、前記第2の高屈折率層上に積層され、屈折率が1.44以上1.54以下であり、かつ膜厚が3nm以上45nm以下の第2の低屈折率層とをさらに備えていてもよい。   The intermediate substrate film is laminated on a surface of the transparent substrate opposite to the one surface, and has a refractive index of 1.47 or more and 1.57 or less and a film thickness of 1 μm or more. A transparent layer, a second high refractive index layer having a refractive index of 1.62 to 1.72 and a film thickness of 20 nm to 80 nm, and the second transparent layer, And a second low-refractive-index layer having a refractive index of 1.44 to 1.54 and a thickness of 3 to 45 nm.

本発明の他の態様によれば、上記中間基材フィルムと、前記中間基材フィルムの前記第1の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第1の導電層とを備える、タッチパネルセンサが提供される。   According to another aspect of the present invention, the touch panel includes the intermediate base film and a first conductive layer laminated and patterned on the first low refractive index layer of the intermediate base film. A sensor is provided.

本発明の他の態様によれば、上記中間基材フィルムと、前記中間基材フィルムの前記第1の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第1の導電層と、前記中間基材フィルムの前記第2の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第2の導電層とを備える、タッチパネルセンサが提供される。   According to another aspect of the present invention, the intermediate base film, the first conductive layer laminated and patterned on the first low refractive index layer of the intermediate base film, and the intermediate group There is provided a touch panel sensor comprising a second conductive layer laminated on the second low refractive index layer of the material film and patterned.

本発明の一の態様の中間基材フィルおよびタッチパネルセンサによれば、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。   According to the intermediate base material fill and the touch panel sensor of one aspect of the present invention, it is possible to suppress variations in color when viewed from various angles.

第1の実施形態に係る中間基材フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the intermediate | middle base film which concerns on 1st Embodiment. 分光光度計を用いて、中間基材フィルムにおけるa*およびb*を測定する様子を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed a mode that a * and b * in an intermediate base film were measured using a spectrophotometer. 第1の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a touch panel sensor according to a first embodiment. 図3に示される第1の導電層の一部の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a part of the first conductive layer shown in FIG. 3. 図3に示される第2の導電層の一部の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a part of a second conductive layer shown in FIG. 3. 第1の実施形態に係る他のタッチパネルセンサの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the other touch panel sensor which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る中間基材フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the intermediate | middle base film which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the touchscreen sensor which concerns on 2nd Embodiment.

(第1の実施形態)
以下、本発明の第1の実施形態に係る中間基材フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図1は本実施形態に係る中間基材フィルムの概略構成図であり、図2は中間基材フィルムにおける分光反射率を分光反射率測定器で測定する様子を示した模式図である。なお、本明細書において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートや板とも呼ばれ得るような部材も含む概念である。一具体例として、「中間基材フィルム」には、「中間基材シート」等と呼ばれる部材も含まれる。
(First embodiment)
Hereinafter, an intermediate substrate film and a touch panel sensor according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an intermediate substrate film according to the present embodiment, and FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which the spectral reflectance of the intermediate substrate film is measured with a spectral reflectance meter. In the present specification, terms such as “film”, “sheet”, and “plate” are not distinguished from each other only based on the difference in names. Therefore, for example, “film” is a concept including a member that can also be called a sheet or a plate. As a specific example, the “intermediate base film” includes members called “intermediate base sheet” and the like.

≪中間基材フィルム≫
中間基材フィルムは、パターニングされた導電層を支持するためのものである。「中間基材フィルム」とは、例えば、タッチパネル等の装置に組み込んで使用される場合に、タッチパネル等の装置の最表面に用いられるものではなく、タッチパネル等の装置の内部に用いられる基材フィルムを意味する。
≪Intermediate substrate film≫
The intermediate substrate film is for supporting the patterned conductive layer. “Intermediate base film” means, for example, a base film used inside a device such as a touch panel rather than being used on the outermost surface of the device such as a touch panel when used in a device such as a touch panel. Means.

図1に示される中間基材フィルム10は、透明基材11と、透明基材11の一方の面11A上に形成された第1の透明層12と、第1の透明層12上に形成された第1の高屈折率層13と、高屈折率層13上に形成された第1の低屈折率層14と、透明基材11における一方の面11Aとは反対側の面11B上に形成された第2の透明層15とを備えている。   An intermediate substrate film 10 shown in FIG. 1 is formed on a transparent substrate 11, a first transparent layer 12 formed on one surface 11A of the transparent substrate 11, and a first transparent layer 12. The first high-refractive index layer 13, the first low-refractive index layer 14 formed on the high-refractive index layer 13, and the surface 11 B of the transparent substrate 11 opposite to the one surface 11 A are formed. The second transparent layer 15 is provided.

中間基材フィルム10は、第2の透明層15を備えているが、第2の透明層15を備えていなくてもよい。また、中間基材フィルムは、第2の透明層上に第2の高屈折率層や第2の低屈折率層を備えていてもよい。具体的には、中間基材フィルムとしては、図1に示される中間基材フィルム10の他、透明基材の一方の面上に第1の透明層、第1の高屈折率層、および第1の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第2の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第1の透明層、第1の高屈折率層、および第1の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第2の透明層および第2の高屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、および透明基材の一方の面上に第1の透明層、第1の高屈折率層、および第1の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第2の透明層、第2の高屈折率層、および第2の低屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルムのいずれであってもよい。   The intermediate base film 10 includes the second transparent layer 15, but may not include the second transparent layer 15. Moreover, the intermediate base film may include a second high refractive index layer or a second low refractive index layer on the second transparent layer. Specifically, as the intermediate substrate film, in addition to the intermediate substrate film 10 shown in FIG. 1, the first transparent layer, the first high refractive index layer, and the first layer on one surface of the transparent substrate. 1 is provided in this order, and an intermediate substrate film in which the second transparent layer is not provided on the other surface of the transparent substrate, and the first substrate on one surface of the transparent substrate. The transparent layer, the first high refractive index layer, and the first low refractive index layer are provided in this order, and the second transparent layer and the second high refractive index layer are provided on the other surface of the transparent substrate. An intermediate substrate film provided in this order, and a first transparent layer, a first high refractive index layer, and a first low refractive index layer are provided in this order on one surface of the transparent substrate, And an intermediate substrate film in which a second transparent layer, a second high refractive index layer, and a second low refractive index layer are provided in this order on the other surface of the transparent substrate. It may be.

中間基材フィルム10においては、中間基材フィルム10の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第1の低屈折率層14側から中間基材フィルム10に可視光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内となり、かつb*値のばらつきが1.6以内となっている。「L***表色系」、「a*」、および「b*」は、JIS Z8729に準拠するものである。 In the intermediate base film 10, the normal direction of the surface of the intermediate base film 10 is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within a range of 0 ° to 75 °. When the intermediate substrate film 10 is irradiated with visible light and the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the respective regular reflection directions, variation in the a * value Is within 1.0, and b * value variation is within 1.6. “L * a * b * color system”, “a * ”, and “b * ” are based on JIS Z8729.

*値およびb*値は、JIS Z8722に準拠して測定されるものであり、具体的には、例えば、公知の分光光度計を用いて、求めることができる。図3に示される分光光度計100は、0°以上75°以下の範囲内で移動可能な光源101と、正反射方向の反射光を受光可能なように光源の移動と同期して移動する検出器102とを備えている。光源101の移動角度は中間基材フィルム10の法線方向Nを0°としている。光源101から中間基材フィルム10に光を照射し、正反射方向の反射光を検出器102で受光し、この検出器102によって受光された反射光からa*値およびb*値を求めることができる。分光光度計としては、日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置VAR−7010や紫外可視近赤外分光光度計V−7100等が挙げられる。光源としては、タングステンハロゲン(WI)ランプ単体、または重水素(D2)ランプとタングステンハロゲン(WI)ランプとの併用が挙げられる。また、この測定においては、入射角が大きくなるに従い、s偏光とp偏光の反射率差が大きくなるため、正確な測定を行うために透過軸が45°傾いた偏光子を用いることが好ましい。 The a * value and the b * value are measured according to JIS Z8722, and can be specifically obtained using, for example, a known spectrophotometer. The spectrophotometer 100 shown in FIG. 3 includes a light source 101 that can move within a range of 0 ° to 75 °, and a detection that moves in synchronization with the movement of the light source so that reflected light in the regular reflection direction can be received. Instrument 102. The moving angle of the light source 101 is 0 ° in the normal direction N of the intermediate base film 10. The intermediate base film 10 is irradiated with light from the light source 101, the reflected light in the regular reflection direction is received by the detector 102, and the a * value and the b * value are obtained from the reflected light received by the detector 102. it can. As a spectrophotometer, JASCO Corporation absolute reflectance measuring device VAR-7010, ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer V-7100, etc. are mentioned. Examples of the light source include a tungsten halogen (WI) lamp alone or a combination of a deuterium (D2) lamp and a tungsten halogen (WI) lamp. In this measurement, as the incident angle increases, the difference in reflectance between s-polarized light and p-polarized light increases. Therefore, it is preferable to use a polarizer whose transmission axis is inclined by 45 ° for accurate measurement.

*値およびb*値のばらつきは、上記分光光度計により、各入射角度におけるa*値およびb*値を求め、その最大値と最小値の差分の絶対値を算出することによって、求めることができる。a*値のばらつきは0.4以内となっていることが好ましく、またb*値のばらつきは1.55以内となっていることが好ましい。 variation in a * and b * values is by the spectrophotometer, determine the a * and b * values at each incident angle by calculating the absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value, determining Can do. The variation in a * value is preferably within 0.4, and the variation in b * value is preferably within 1.55.

上記a*値およびb*値を求めたある角度の反射光と、上記a*値およびb*値を求めた他の角度の反射光との色差ΔE*abは、5以下であることが好ましい。「ΔE*ab」は、JIS Z8730に準拠するものである。 And the reflected light of an angle determined the a * and b * values, the color difference Delta] E * ab between the reflected light of the other angle, determined the a * value and b * value is preferably 5 or less . “ΔE * ab” conforms to JIS Z8730.

<透明基材>
透明基材11としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、またはポリアミド基材が挙げられる。
<Transparent substrate>
The transparent substrate 11 is not particularly limited as long as it has optical transparency. For example, a polyolefin substrate, a polycarbonate substrate, a polyacrylate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyether ketone substrate, a polyether sulfone can be used. A base material or a polyamide base material is mentioned.

ポリオレフィン基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン基材等の少なくとも1種を構成成分とする基材が挙げられる。環状ポリオレフィン基材としては、例えばノルボルネン骨格を有するものが挙げられる。   As a polyolefin base material, the base material which uses at least 1 sort (s), such as polyethylene, a polypropylene, a cyclic polyolefin base material, for example is mentioned. Examples of the cyclic polyolefin base material include those having a norbornene skeleton.

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate substrate include aromatic polycarbonate substrates based on bisphenols (bisphenol A and the like), aliphatic polycarbonate substrates such as diethylene glycol bisallyl carbonate, and the like.

ポリアクリレート基材としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル基材、ポリ(メタ)アクリル酸エチル基材、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。   Examples of the polyacrylate substrate include poly (meth) methyl acrylate substrate, poly (meth) ethyl acrylate substrate, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer substrate, and the like. It is done.

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)の少なくとも1種を構成成分とする基材が挙げられる。   As a polyester base material, the base material which uses at least 1 sort (s) of a polyethylene terephthalate (PET), a polypropylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, and a polyethylene naphthalate (PEN) as an example is mentioned.

芳香族ポリエーテルケトン基材としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)基材等が挙げられる。   Examples of the aromatic polyether ketone base material include a polyether ether ketone (PEEK) base material.

透明基材11の厚みは、特に限定されないが、5μm以上300μm以下とすることが可能であり、透明基材11の厚みの下限はハンドリング性等の観点から25μm以上が好ましく、50μm以上がより好ましい。透明基材11の厚みの上限は薄膜化の観点から250m以下であることが好ましい。   The thickness of the transparent substrate 11 is not particularly limited, but can be 5 μm or more and 300 μm or less. The lower limit of the thickness of the transparent substrate 11 is preferably 25 μm or more, more preferably 50 μm or more from the viewpoint of handling properties. . The upper limit of the thickness of the transparent substrate 11 is preferably 250 m or less from the viewpoint of thinning.

透明基材11の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤やプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。アンカー剤やプライマー剤としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルまたはアクリル酸などとの共重合体、エチレンとスチレンおよび/またはブタジエンなどとの共重合体、オレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂および/またはその変性樹脂、光重合性化合物の重合体、およびエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等の少なくともいずれかを用いることが可能である。   In order to improve adhesion, the surface of the transparent substrate 11 may be preliminarily coated with a coating called an anchor agent or a primer in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment. Examples of the anchor agent and primer agent include polyurethane resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, ethylene A copolymer of ethylene and vinyl acetate or acrylic acid, a copolymer of ethylene and styrene and / or butadiene, a thermoplastic resin such as an olefin resin and / or a modified resin thereof, a polymer of a photopolymerizable compound, and It is possible to use at least one of thermosetting resins such as epoxy resins.

<第1の透明層および第2の透明層>
本実施形態における第1の透明層12および第2の透明層15は、ハードコート性をすることが好ましい。第1の透明層12および第2の透明層15がハードコート性を有する場合、第1の透明層12および第2の透明層15はJIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で「H」以上の硬度を有する。鉛筆硬度を「H」以上とすることにより、第1の透明層12の硬さを第1の低屈折率層14の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、第1の透明層12上に形成する第1の高屈折率層13との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第1の透明層12の表面の鉛筆硬度の上限は4H程度程とすることが好ましい。タッチパネルセンサは、繰り返し押圧され高度な密着性および靱性が要求されることから、第1の透明層12の鉛筆硬度の上限を4Hとすることにより、中間基材フィルム10をタッチパネルセンサに組み込んで使用する場合に顕著な効果を発揮できる。また、第1の低屈折率層14上に導電層を形成する際には中間基材フィルムへの加熱が伴い、この加熱により透明基材からオリゴマーが析出し中間基材フィルムのヘイズを上昇させる課題が生じる場合があるが、第1の透明層12および第2の透明層15がオリゴマーの析出を抑制する層として機能することができる。
<First transparent layer and second transparent layer>
The first transparent layer 12 and the second transparent layer 15 in the present embodiment preferably have a hard coat property. When the first transparent layer 12 and the second transparent layer 15 have hard coat properties, the first transparent layer 12 and the second transparent layer 15 have a pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999). It has a hardness of “H” or higher in the test (4.9 N load). By setting the pencil hardness to “H” or higher, the hardness of the first transparent layer 12 can be sufficiently reflected on the surface of the first low refractive index layer 14 and the durability can be improved. The upper limit of the pencil hardness on the surface of the first transparent layer 12 is about 4H from the viewpoint of adhesion to the first high refractive index layer 13 formed on the first transparent layer 12, toughness and prevention of curling. It is preferable that Since the touch panel sensor is repeatedly pressed and requires high adhesion and toughness, the upper limit of the pencil hardness of the first transparent layer 12 is set to 4H, so that the intermediate substrate film 10 is incorporated into the touch panel sensor and used. When it does, a remarkable effect can be demonstrated. In addition, when the conductive layer is formed on the first low refractive index layer 14, the intermediate base film is heated, and this heating causes oligomers to precipitate from the transparent base and raises the haze of the intermediate base film. Although a subject may arise, the 1st transparent layer 12 and the 2nd transparent layer 15 can function as a layer which suppresses precipitation of an oligomer.

第1の透明層12の屈折率は、1.47以上1.57以下となっている。第1の透明層12の屈折率の下限は、1.50以上であることが好ましく、第1の透明層12の屈折率の上限は、1.54以下であることが好ましい。また、第2の透明層15の屈折率も第1の透明層12と同様の範囲となっていることが好ましい。ただし、第2の透明層15の屈折率は、必ずしも第1の透明層12の屈折率と一致している必要はない。   The refractive index of the first transparent layer 12 is 1.47 or more and 1.57 or less. The lower limit of the refractive index of the first transparent layer 12 is preferably 1.50 or more, and the upper limit of the refractive index of the first transparent layer 12 is preferably 1.54 or less. The refractive index of the second transparent layer 15 is preferably in the same range as that of the first transparent layer 12. However, the refractive index of the second transparent layer 15 does not necessarily match the refractive index of the first transparent layer 12.

第1の透明層12および第2の屈折率層15の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計(アタゴ社製 NAR−4T)やエリプソメーターによって測定できる。また、中間基材フィルム10となった後に屈折率を測定する方法としては、第1の透明層12および第2の屈折率層15をそれぞれカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、JIS K7142(2008)B法(粉体または粒状の透明材料用)に従ったベッケ法(屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線;ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法)を用いることができる。   The refractive indexes of the first transparent layer 12 and the second refractive index layer 15 can be measured with an Abbe refractometer (NAR-4T manufactured by Atago Co., Ltd.) or an ellipsometer after forming a single layer. Moreover, as a method of measuring the refractive index after becoming the intermediate substrate film 10, the first transparent layer 12 and the second refractive index layer 15 are each scraped off with a cutter or the like to prepare a powder sample, and JIS Becke method according to K7142 (2008) B method (for powder or granular transparent material) (using a Cargill reagent having a known refractive index, placing the powdered sample on a glass slide, etc., and placing the reagent on the sample) Drop the sample and immerse the sample in the reagent.Observe the state of the sample by microscopic observation, and the bright line generated in the sample outline due to the difference in the refractive index between the sample and the reagent; Can be used.

第1の透明層12の膜厚は1.0μm以上となっている。第1の透明層12の厚みが1.0μm以上であれば、所望の硬度を得ることができる。第1の透明層12の膜厚は、断面顕微鏡観察により測定することができる。第1の透明層の厚みの下限は1.5μm以上であることがより好ましく、上限は7.0μm以下であることがより好ましく、第1の透明層12の厚みは2.0μm以上5.0μm以下であることがさらに好ましい。第2の透明層15の膜厚は第1の透明層12の膜厚と同様の範囲であることが好ましい。ただし、第2の透明層15の膜厚は、必ずしも第1の透明層15の膜厚と一致している必要はない。   The film thickness of the first transparent layer 12 is 1.0 μm or more. If the thickness of the 1st transparent layer 12 is 1.0 micrometer or more, desired hardness can be obtained. The film thickness of the first transparent layer 12 can be measured by cross-sectional microscope observation. The lower limit of the thickness of the first transparent layer is more preferably 1.5 μm or more, the upper limit is more preferably 7.0 μm or less, and the thickness of the first transparent layer 12 is 2.0 μm or more and 5.0 μm. More preferably, it is as follows. The film thickness of the second transparent layer 15 is preferably in the same range as the film thickness of the first transparent layer 12. However, the film thickness of the second transparent layer 15 does not necessarily need to match the film thickness of the first transparent layer 15.

第1の透明層12および第2の透明層15は、例えば、樹脂から構成することができる。樹脂は、光重合性化合物の重合物(架橋物)を含むものである。樹脂は、光重合性化合物の重合物(架橋物)の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、X線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。   The 1st transparent layer 12 and the 2nd transparent layer 15 can be constituted from resin, for example. The resin contains a polymerized product (crosslinked product) of a photopolymerizable compound. The resin may contain a solvent-drying resin or a thermosetting resin in addition to a polymer (cross-linked product) of a photopolymerizable compound. The photopolymerizable compound has at least one photopolymerizable functional group. In the present specification, the “photopolymerizable functional group” is a functional group capable of undergoing a polymerization reaction by light irradiation. Examples of the photopolymerizable functional group include ethylenic double bonds such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. The “(meth) acryloyl group” means to include both “acryloyl group” and “methacryloyl group”. The light irradiated when polymerizing the photopolymerizable compound includes visible light and ionizing radiation such as ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays.

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。   Examples of the photopolymerizable compound include a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, and a photopolymerizable polymer, and these can be appropriately adjusted and used. As the photopolymerizable compound, a combination of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable oligomer or photopolymerizable polymer is preferable.

光重合性モノマー
光重合性モノマーは、重量平均分子量が1000未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を2つ(すなわち、2官能)以上有する多官能モノマーが好ましい。本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン(THF)等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。
Photopolymerizable monomer The photopolymerizable monomer has a weight average molecular weight of less than 1000. The photopolymerizable monomer is preferably a polyfunctional monomer having two or more photopolymerizable functional groups (that is, bifunctional). In this specification, the “weight average molecular weight” is a value obtained by dissolving in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

2官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートや、これらをPO、EO等で変性したものが挙げられる。   Examples of the bifunctional or higher monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth). Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditri Methylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, Lapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin tetra ( (Meth) acrylate, adamantyl di (meth) acrylate, isoboronyl di (meth) acrylate, dicyclopentane di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and these are PO, EO And the like modified.

これらの中でも硬度が高いハードコート層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。   Among these, from the viewpoint of obtaining a hard coat layer having high hardness, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and the like are preferable. .

光重合性オリゴマー
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が1000以上10000未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、 ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
The photopolymerizable oligomer The photopolymerizable oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 10,000. The photopolymerizable oligomer is preferably a bifunctional or higher polyfunctional oligomer. Polyfunctional oligomers include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and isocyanurate (meth). Examples include acrylate and epoxy (meth) acrylate.

光重合性ポリマー
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が10000以上のものであり、重量平均分子量としては10000以上80000以下が好ましく、10000以上40000以下がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学フィルムの外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Photopolymerizable polymer The photopolymerizable polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more, and the weight average molecular weight is preferably 10,000 or more and 80,000 or less, and more preferably 10,000 or more and 40,000 or less. When the weight average molecular weight exceeds 80000, the viscosity is high, so that the coating suitability is lowered, and the appearance of the obtained optical film may be deteriorated. Examples of the polyfunctional polymer include urethane (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate.

光重合性化合物を重合(架橋)させる際には、重合開始剤等を用いてもよい。重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合(架橋)を開始または進行させる成分である。   When polymerizing (crosslinking) the photopolymerizable compound, a polymerization initiator or the like may be used. The polymerization initiator is a component that is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate or advance polymerization (crosslinking) of the photopolymerizable compound.

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation. The polymerization initiator is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propiophenone. , Benzyls, benzoins, acylphosphine oxides. In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。   As the polymerization initiator, when the binder resin is a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, it is preferable to use acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like alone or in combination. .

溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、防眩層12を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。   The solvent-drying resin is a resin that forms a film only by drying a solvent added to adjust the solid content during coating, such as a thermoplastic resin. When the solvent-drying type resin is added, film defects on the coating surface of the coating liquid can be effectively prevented when the antiglare layer 12 is formed. It does not specifically limit as solvent dry type resin, Generally, a thermoplastic resin can be used.

熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。   Examples of thermoplastic resins include styrene resins, (meth) acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl ether resins, halogen-containing resins, alicyclic olefin resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins. , Cellulose derivatives, silicone resins and rubbers or elastomers.

熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。   The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoint of transparency and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。   The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation Examples thereof include resins, silicon resins, polysiloxane resins, and the like.

第1の透明層12および第2の透明層15は、上記光重合性化合物を含む透明層用組成物を、透明基材11の表面に塗布し、乾燥させた後、塗膜状の透明層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより形成することができる。   The 1st transparent layer 12 and the 2nd transparent layer 15 apply | coat the composition for transparent layers containing the said photopolymerizable compound to the surface of the transparent base material 11, and after making it dry, a coating-form transparent layer The composition can be formed by irradiating the composition for ultraviolet rays with light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound.

透明層用組成物には、上記光重合性化合物の他、必要に応じて、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、透明層用組成物には、第1の透明層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。   In addition to the photopolymerizable compound, a solvent and a polymerization initiator may be added to the transparent layer composition as necessary. Furthermore, according to the purpose of increasing the hardness of the first transparent layer, suppressing curing shrinkage, controlling the refractive index, and the like, the transparent layer composition includes conventionally known dispersants, surfactants, and antistatic agents. Agent, silane coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment, dye), antifoaming agent, leveling agent, flame retardant, UV absorber, adhesion-imparting agent, polymerization inhibitor, antioxidant, surface A modifier, a lubricant, etc. may be added.

透明層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the transparent layer composition include known coating methods such as spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating.

透明層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。   When ultraviolet rays are used as the light for curing the transparent layer composition, ultraviolet rays emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, or the like can be used. Moreover, as a wavelength of an ultraviolet-ray, the wavelength range of 190-380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

<第1の高屈折率層>
第1の高屈折率層13は、第1の透明層12の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。具体的には、第1の高屈折率層13の屈折率は、1.62以上1.72以下となっている。第1の高屈折率層13の屈折率の下限は、1.65以上であることが好ましく、第1の高屈折率層13の屈折率の上限は、1.69以下であることが好ましい。第1の高屈折率層13の屈折率は、上記第1の透明層12の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第1の透明層12と第1の高屈折率層13との屈折率差は、色味のばらつきをより抑制する観点から、0.05以上0.15以下であることが好ましい。
<First high refractive index layer>
The first high refractive index layer 13 is a layer having a refractive index higher than that of the first transparent layer 12. Specifically, the refractive index of the first high refractive index layer 13 is 1.62 or more and 1.72 or less. The lower limit of the refractive index of the first high refractive index layer 13 is preferably 1.65 or more, and the upper limit of the refractive index of the first high refractive index layer 13 is preferably 1.69 or less. The refractive index of the first high refractive index layer 13 can be measured by the same method as the refractive index of the first transparent layer 12. The refractive index difference between the first transparent layer 12 and the first high refractive index layer 13 is preferably 0.05 or more and 0.15 or less from the viewpoint of further suppressing variation in color.

第1の高屈折率層13の膜厚は、20nm以上80nm以下となっている。第1の高屈折率層13の膜厚の下限は、40nm以上であることが好ましく、第1の高屈折率層13の屈折率の上限は、60nm以下であることが好ましい。   The film thickness of the first high refractive index layer 13 is 20 nm or more and 80 nm or less. The lower limit of the film thickness of the first high refractive index layer 13 is preferably 40 nm or more, and the upper limit of the refractive index of the first high refractive index layer 13 is preferably 60 nm or less.

第1の高屈折率層13および第1の低屈折率層14は、導電層が設けられている領域と導電層が設けられていない領域との間の光透過率および反射率の差を小さくするためのインデックスマッチング層として機能することができる。   The first high-refractive index layer 13 and the first low-refractive index layer 14 reduce the difference in light transmittance and reflectance between the region where the conductive layer is provided and the region where the conductive layer is not provided. It can function as an index matching layer.

第1の高屈折率層13としては、上記屈折率および上記膜厚を有するものであれば、特に限定されないが、第1の高屈折率層13は、例えば、高屈折率粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。   The first high refractive index layer 13 is not particularly limited as long as it has the above refractive index and the above film thickness. For example, the first high refractive index layer 13 includes, for example, high refractive index particles and a binder resin. It can consist of.

上記高屈折率粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン(TiO、屈折率:2.3〜2.7)、酸化ニオブ(Nb、屈折率:2.33)、酸化ジルコニウム(ZrO、屈折率:2.10)、酸化アンチモン(Sb、屈折率:2.04)、酸化スズ(SnO、屈折率:2.00)、スズドープ酸化インジウム(ITO、屈折率:1.95〜2.00)、酸化セリウム(CeO、屈折率:1.95)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO、屈折率:1.90〜2.00)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO、屈折率:1.90〜2.00)、アンチモン酸亜鉛(ZnSb、屈折率:1.90〜2.00)、酸化亜鉛(ZnO、屈折率:1.90)、酸化イットリウム(Y、屈折率:1.87)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO、屈折率:1.75〜1.85)、リンドープ酸化スズ(PTO、屈折率:1.75〜1.85)、等が挙げられる。これらの中でも、高屈折率化およびコストの観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。 Examples of the high refractive index particles include metal oxide fine particles. Specific examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide (TiO 2 , refractive index: 2.3 to 2.7), niobium oxide (Nb 2 O 5 , refractive index: 2.33), and zirconium oxide. (ZrO 2 , refractive index: 2.10), antimony oxide (Sb 2 O 5 , refractive index: 2.04), tin oxide (SnO 2 , refractive index: 2.00), tin-doped indium oxide (ITO, refractive index) : 1.95 to 2.00), cerium oxide (CeO 2, refractive index: 1.95), aluminum-doped zinc oxide (AZO, refractive index: 1.90 to 2.00), gallium-doped zinc oxide (GZO, Refractive index: 1.90 to 2.00), zinc antimonate (ZnSb 2 O 6 , refractive index: 1.90 to 2.00), zinc oxide (ZnO, refractive index: 1.90), yttrium oxide (Y 2 O 3, the refractive index: 1 87), antimony-doped tin oxide (ATO, refractive index: 1.75 to 1.85), phosphorus-doped tin oxide (PTO, refractive index: 1.75 to 1.85), and the like. Among these, zirconium oxide is preferable from the viewpoint of high refractive index and cost.

第1の高屈折率層13に含まれるバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物(架橋物)であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。   The binder resin contained in the first high refractive index layer 13 is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be used. From the viewpoint of increasing the surface hardness, a thermosetting resin or a photopolymerizable compound, etc. Of these, a polymer (cross-linked product) is preferable, and a photopolymerizable compound is more preferable.

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。   Examples of the thermosetting resin include resins such as acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. When curing the thermosetting resin, a curing agent may be used.

光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。1官能の光重合性モノマーとしては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、2官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a photopolymerizable compound, A photopolymerizable monomer, an oligomer, and a polymer can be used. Examples of the monofunctional photopolymerizable monomer include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone. Examples of the bifunctional or higher photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tris. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) Examples include acrylates, compounds obtained by modifying these compounds with ethylene oxide, polyethylene oxide, and the like.

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合(架橋)させる際には、第1の透明層および第2の透明層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。   In addition, these compounds may have a refractive index adjusted to be high by introducing an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, sulfur, nitrogen, phosphorus atoms, or the like. In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. Can also be used. When the photopolymerizable compound is polymerized (crosslinked), the polymerization initiator described in the columns of the first transparent layer and the second transparent layer may be used.

第1の高屈折率層13は、例えば、第1の透明層12の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第1の透明層12の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第1の高屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第1の高屈折率層用組成物を乾燥させる。その後、塗膜状の透明層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより第1の高屈折率層13を形成することができる。   The first high refractive index layer 13 can be formed by, for example, a method similar to the method for forming the first transparent layer 12. Specifically, first, the first high refractive index layer composition containing at least the high refractive index fine particles and the photopolymerizable compound is applied to the surface of the first transparent layer 12. Next, the coating film-like first composition for a high refractive index layer is dried. Thereafter, the first high refractive index layer 13 can be formed by irradiating the coating composition for transparent layer with light such as ultraviolet rays to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound.

<第1の低屈折率層>
第1の低屈折率層14は、第1の高屈折率層13の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。第1の低屈折率層は、第1の高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有すればよく、必ずしも第1の透明層の屈折率よりも低い屈折率を有さなくともよい。具体的には、第1の低屈折率層14の屈折率は、1.44以上1.54以下となっている。第1の低屈折率層14の屈折率の下限は、1.47以上であることが好ましく、第1の低屈折率層14の屈折率の上限は、1.51以下であることが好ましい。第1の低屈折率層14の屈折率は、上記第1の透明層12の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第1の高屈折率層13と第1の低屈折率層14との屈折率差は、色味のばらつきをより抑制する観点から、0.10以上0.22以下であることが好ましい。
<First low refractive index layer>
The first low refractive index layer 14 is a layer having a refractive index lower than that of the first high refractive index layer 13. The first low refractive index layer only needs to have a refractive index lower than that of the first high refractive index layer, and does not necessarily need to have a refractive index lower than that of the first transparent layer. . Specifically, the refractive index of the first low refractive index layer 14 is 1.44 or more and 1.54 or less. The lower limit of the refractive index of the first low refractive index layer 14 is preferably 1.47 or more, and the upper limit of the refractive index of the first low refractive index layer 14 is preferably 1.51 or less. The refractive index of the first low refractive index layer 14 can be measured by the same method as the refractive index of the first transparent layer 12. The refractive index difference between the first high-refractive index layer 13 and the first low-refractive index layer 14 is preferably 0.10 or more and 0.22 or less from the viewpoint of further suppressing variation in color.

第1の低屈折率層14の膜厚は、3nm以上45nm以下となっている。第1の低屈折率層14の膜厚の下限は、5nm以上であることが好ましく、第1の低屈折率層14の膜厚の上限は、25nm以下であることが好ましい。   The film thickness of the first low refractive index layer 14 is not less than 3 nm and not more than 45 nm. The lower limit of the film thickness of the first low refractive index layer 14 is preferably 5 nm or more, and the upper limit of the film thickness of the first low refractive index layer 14 is preferably 25 nm or less.

第1の低屈折率層14としては、上記屈折率および上記膜厚を有するものであれば、特に限定されないが、第1の低屈折率層14は、例えば、低屈折率粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。   The first low refractive index layer 14 is not particularly limited as long as the first low refractive index layer 14 has the above refractive index and the above film thickness, but the first low refractive index layer 14 includes, for example, low refractive index particles and a binder resin. Or a low refractive index resin.

低屈折率粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開2005−099778号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。   Examples of the low refractive index particles include solid or hollow particles made of silica or magnesium fluoride. Among these, hollow silica particles are preferable, and such hollow silica particles can be produced, for example, by the production method described in Examples of JP-A-2005-099778.

低屈折率微粒子としては、シリカ表面に反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。反応性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。このような反応性シリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。   As the low refractive index fine particles, it is preferable to use reactive silica fine particles having a reactive functional group on the silica surface. As the reactive functional group, a photopolymerizable functional group is preferable. Such reactive silica fine particles can be prepared by surface-treating silica fine particles with a silane coupling agent or the like. As a method of treating the surface of the silica fine particles with a silane coupling agent, a dry method in which the silane coupling agent is sprayed on the silica fine particles, or a wet method in which the silica fine particles are dispersed in a solvent and then reacted by adding the silane coupling agent. Etc.

第1の低屈折率層14を構成するバインダ樹脂としては、第1の高屈折率層13を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。   Examples of the binder resin that constitutes the first low refractive index layer 14 include the same binder resin that constitutes the first high refractive index layer 13. However, a resin having a low refractive index such as a resin in which a fluorine atom is introduced or an organopolysiloxane may be mixed in the binder resin.

低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。   Examples of the low refractive index resin include a resin into which a fluorine atom is introduced and a resin having a low refractive index such as organopolysiloxane.

第1の低屈折率層14は、例えば、第1の透明層12の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第1の高屈折率層13の表面に、少なくとも低屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第1の低屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第1の低屈折率層用組成物を乾燥させる。その後、塗膜状の第1の低屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合(架橋)させることにより第1の低屈折率層14を形成することができる。   The first low refractive index layer 14 can be formed by, for example, a method similar to the method for forming the first transparent layer 12. Specifically, first, the first low refractive index layer composition containing at least the low refractive index fine particles and the photopolymerizable compound is applied to the surface of the first high refractive index layer 13. Next, the coating film-like first composition for a low refractive index layer is dried. Thereafter, the first low-refractive-index layer 14 is formed by irradiating light such as ultraviolet rays to the coating-like first low-refractive-index layer composition to polymerize (crosslink) the photopolymerizable compound. Can do.

従来、中間基材フィルムの低屈折率層等の屈折率や膜厚は、主に、中間基材フィルムの反射率と中間基材フィルム上に積層される導電層の反射率との差(反射率差)を小さくする観点から決定されており、様々な角度から中間基材フィルムを視認したときの色味のばらつきに関しては何ら注目されていなかった。一方で、人の目は、上記反射率差よりも色味の変化を感じ取りやすく、また中間基材フィルムと導電層との反射率差を小さくするために高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を大きくすると、色味のばらつきは大きくなってしまう傾向がある。本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、中間基材フィルムのa*値およびb*値を調整すれば、色味のばらつきが抑えられることを見出した。具体的には、中間基材フィルムの表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第1の低屈折率層側から中間基材フィルムに光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内であれば、観察者が様々な方向から中間基材フィルムを視認した場合であっても、色味がばらついているとは認識されなかったことを実験より見出した。また、透明基材上に、屈折率が1.47以上1.57以下であり、かつ膜厚が1μm以上の第1の透明層と、屈折率が1.62以上1.72以下であり、かつ膜厚が20nm以上80nm以下の第1の高屈折率層と、屈折率が1.44以上1.54以下であり、かつ膜厚が3nm以上45nm以下の第1の低屈折率層とをこの順に積層した場合に、上記中間基材フィルムにおけるa*値のばらつきを1.0以内とし、かつb*値のばらつきを1.6以内とすることができることを見出した。本実施形態によれば、中間基材フィルム10の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第1の低屈折率層14側から中間基材フィルム10に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内となっているので、様々な角度から基材フィルム10を視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。上記屈折率および膜厚を有する第1の透明層12と、上記屈折率および膜厚を有する第1の高屈折率層13と、上記屈折率および膜厚を有する第1の低屈折率層14とを有する中間基材フィルム10においては、導電層との反射率差が許容範囲内となるものの、従来の中間基材フィルムよりも導電層との反射率差が大きくなるので、従来のように、中間基材フィルムと導電層との反射率差を小さくする観点からは、決して採用し得ないものである。したがって、第1の透明層12、第1の高屈折率層13、および第1の低屈折率層14の屈折率および膜厚を上記範囲内にして、a値およびb値を上記範囲内にすることによって奏される上記効果は、従来の中間基材フィルムの技術水準に照らして、予測され得る範囲を超えた顕著な効果であると言える。 Conventionally, the refractive index and film thickness of the low refractive index layer, etc. of the intermediate substrate film are mainly the difference between the reflectance of the intermediate substrate film and the reflectance of the conductive layer laminated on the intermediate substrate film (reflection). It has been determined from the viewpoint of reducing the (rate difference), and no attention has been paid to variations in color when the intermediate base film is viewed from various angles. On the other hand, the human eye can easily perceive the color change more than the reflectance difference, and in order to reduce the reflectance difference between the intermediate base film and the conductive layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer When the refractive index difference is increased, the color variation tends to increase. As a result of extensive research conducted by the present inventors, it has been found that variation in tint can be suppressed by adjusting the a * value and b * value of the intermediate substrate film. Specifically, the normal direction of the surface of the intermediate substrate film is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 °, while the intermediate substrate film is viewed from the first low refractive index layer side. When the a * value and b * value of the L * a * b * color system are calculated from the reflected light in each regular reflection direction, the variation of the a * value is within 1.0. If the variation in b * value is within 1.6, it was not recognized that the tint was dispersed even when the observer viewed the intermediate substrate film from various directions. I found it from the experiment. Further, on the transparent base material, the first transparent layer having a refractive index of 1.47 or more and 1.57 or less and a film thickness of 1 μm or more, and a refractive index of 1.62 or more and 1.72 or less, And a first high refractive index layer having a thickness of 20 nm to 80 nm and a first low refractive index layer having a refractive index of 1.44 to 1.54 and a thickness of 3 nm to 45 nm. When laminated in this order, it was found that the variation in the a * value in the intermediate base film can be within 1.0 and the variation in the b * value can be within 1.6. According to the present embodiment, the normal direction of the surface of the intermediate base film 10 is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 ° from the first low refractive index layer 14 side. When the intermediate substrate film 10 is irradiated with light and the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the respective regular reflection directions, the variation of the a * value is 1. Since it is within 0.0 and the variation in b * value is within 1.6, variation in color when the base film 10 is viewed from various angles can be suppressed. The first transparent layer 12 having the refractive index and the film thickness, the first high refractive index layer 13 having the refractive index and the film thickness, and the first low refractive index layer 14 having the refractive index and the film thickness. In the intermediate substrate film 10 having the above, the difference in reflectance with the conductive layer is within an allowable range, but the difference in reflectance with the conductive layer is larger than that in the conventional intermediate substrate film, so that From the viewpoint of reducing the difference in reflectance between the intermediate base film and the conductive layer, it cannot be employed. Therefore, the refractive index and film thickness of the first transparent layer 12, the first high refractive index layer 13, and the first low refractive index layer 14 are within the above range, and the a * value and the b * value are within the above range. It can be said that the above-mentioned effect produced by the inside is a remarkable effect exceeding the range that can be predicted in light of the technical level of the conventional intermediate base film.

≪タッチパネルセンサ≫
中間基材フィルム10は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図3は本実施形態に係る中間基材フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図であり、図4は図3に示される第1の導電層の一部の平面図であり、図5は図3に示される第2の導電層の一部の平面図である。図6は本実施形態に係る中間基材フィルムを組み込んだ他のタッチパネルセンサの概略構成図である。
≪Touch panel sensor≫
The intermediate base film 10 can be used by being incorporated into a touch panel sensor, for example. 3 is a schematic configuration diagram of a touch panel sensor incorporating the intermediate substrate film according to the present embodiment, FIG. 4 is a plan view of a part of the first conductive layer shown in FIG. 3, and FIG. 4 is a plan view of a part of a second conductive layer shown in FIG. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of another touch panel sensor incorporating the intermediate substrate film according to the present embodiment.

図3に示されるタッチパネルセンサ20は、第1の導電性フィルム30と、第2の導電性フィルム40とを積層した構造を有している。第1の導電性フィルム30は、中間基材フィルム10と、中間基材フィルム10に支持され、パターニングされた第1の導電層31と、中間基材フィルム10および第1の導電層31上に設けられた第1の透明粘着層32とを備えている。第2の導電性フィルム40は、中間基材フィルム10と、中間基材フィルム10に支持され、パターニングされた第2の導電層41と、中間基材フィルム10および第2の導電層41上に設けられた第2の透明粘着層42とを備えている。   The touch panel sensor 20 shown in FIG. 3 has a structure in which a first conductive film 30 and a second conductive film 40 are laminated. The first conductive film 30 is formed on the intermediate base film 10, the first conductive layer 31 that is supported and patterned by the intermediate base film 10, and the intermediate base film 10 and the first conductive layer 31. And a first transparent adhesive layer 32 provided. The second conductive film 40 is formed on the intermediate base film 10, the second conductive layer 41 supported and patterned by the intermediate base film 10, and the intermediate base film 10 and the second conductive layer 41. And a second transparent adhesive layer 42 provided.

第1の導電層31および第2の導電層41は、所望の形状にパターニングされており、また導電性を有するものであれば、特に限定されない。第1の導電層31および第2の導電層41は、取出パターン(図示せず)を介して端子部(図示せず)に接続されている。第1の導電層31および第2の導電層41の形状としては、特に限定されないが、正方形状、菱形状、またはストライプ状が挙げられる。第1の導電層31および第2の導電層41は、図4および図5に示されるように正方形状になっている。   The first conductive layer 31 and the second conductive layer 41 are not particularly limited as long as they are patterned in a desired shape and have conductivity. The first conductive layer 31 and the second conductive layer 41 are connected to a terminal portion (not shown) through an extraction pattern (not shown). Although the shape of the 1st conductive layer 31 and the 2nd conductive layer 41 is not specifically limited, A square shape, a rhombus shape, or stripe shape is mentioned. The first conductive layer 31 and the second conductive layer 41 have a square shape as shown in FIGS.

第1の導電層31は、タッチパネルセンサ20におけるX方向の電極として機能するものであるので、図4に示されるように第1の導電層31を構成するパターン形状は横方向に電気的に接続されている。第1の導電層31は、第1の導電性フィルム30を構成する中間基材フィルム10の第1の低屈折率層14上に設けられている。   Since the first conductive layer 31 functions as an electrode in the X direction in the touch panel sensor 20, the pattern shape forming the first conductive layer 31 is electrically connected in the horizontal direction as shown in FIG. Has been. The first conductive layer 31 is provided on the first low refractive index layer 14 of the intermediate base film 10 that constitutes the first conductive film 30.

第2の導電層41は、タッチパネルセンサ20におけるY方向の電極として機能するものであるので、図5に示されるように第2の導電層41を構成するパターン形状は縦方向に電気的に接続されている。第2の導電層41は、第2の導電性フィルム40を構成する中間基材フィルム10の第1の低屈折率層14上に設けられている。   Since the second conductive layer 41 functions as an electrode in the Y direction in the touch panel sensor 20, the pattern shape constituting the second conductive layer 41 is electrically connected in the vertical direction as shown in FIG. Has been. The second conductive layer 41 is provided on the first low refractive index layer 14 of the intermediate base film 10 constituting the second conductive film 40.

第1の導電層31は、第1の導電性フィルム30を構成する中間基材フィルム10よりも観察者側に配置されており、第2の導電層41は、第2の導電性フィルム40を構成する中間基材フィルム10よりも観察者側に配置されている。すなわち、第2の導電層41は、第1の導電性フィルム30を構成する中間基材フィルム10と第2の導電性フィルム40を構成する中間基材フィルム10との間に配置されている。第1の導電性フィルム30と第2の導電性フィルム40は、第2の透明粘着層42によって貼り付けられている。   The first conductive layer 31 is arranged on the viewer side with respect to the intermediate base film 10 constituting the first conductive film 30, and the second conductive layer 41 includes the second conductive film 40. It arrange | positions at the observer side rather than the intermediate | middle base film 10 to comprise. That is, the second conductive layer 41 is disposed between the intermediate base film 10 constituting the first conductive film 30 and the intermediate base film 10 constituting the second conductive film 40. The first conductive film 30 and the second conductive film 40 are attached by a second transparent adhesive layer 42.

中間基材フィルム10は、他の態様のタッチパネルセンサに組み込まれてもよい。図6に示されるタッチパネルセンサ50は、中間基材フィルム10と、中間基材フィルム10に支持され、パターニングされた第1の導電層51および第2の導電層52と、第1の導電層51と第2の導電層52とを固定する透明粘着層53とを備えている。第2の導電層51は、ガラス板54の一方の面に形成されたものであり、第2の導電層51とガラス板54とは一体化している。   The intermediate base film 10 may be incorporated in a touch panel sensor according to another aspect. The touch panel sensor 50 shown in FIG. 6 includes an intermediate base film 10, a first conductive layer 51 and a second conductive layer 52 that are supported and patterned by the intermediate base film 10, and a first conductive layer 51. And a transparent adhesive layer 53 that fixes the second conductive layer 52 to each other. The second conductive layer 51 is formed on one surface of the glass plate 54, and the second conductive layer 51 and the glass plate 54 are integrated.

第1の導電層51は、タッチパネルセンサ30におけるX方向の電極として機能するものであり、第1の導電層31と同様のパターン形状となっている。第2の導電層52は、タッチパネルセンサ30におけるY方向の電極として機能するものであり、第2の導電層41と同様のパターン形状となっている。第1の導電層51および第2の導電層52は、いずれも中間基材フィルム10の第1の低屈折率層14上に設けられている。   The first conductive layer 51 functions as an electrode in the X direction in the touch panel sensor 30, and has a pattern shape similar to that of the first conductive layer 31. The second conductive layer 52 functions as an electrode in the Y direction in the touch panel sensor 30 and has a pattern shape similar to that of the second conductive layer 41. Both the first conductive layer 51 and the second conductive layer 52 are provided on the first low refractive index layer 14 of the intermediate base film 10.

<第1の導電層および第2の導電層>
第1の導電層31、51および第2の導電層41、52は、例えば、透明導電材料から構成された透明導電層であることが好ましい。透明導電材料としては、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、酸化亜鉛、酸化インジウム(In)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物等が挙げられる。なお、第1の導電層31、51および第2の導電層41、52は、透明導電層に限らず、例えば、パターニングされた金属メッシュ層であってもよい。金属メッシュ層は、ニッケルや酸化銅によって黒色被覆されていることが好ましい。この黒色被覆によって、金属メッシュ層の金属反射を抑制できる。
<First conductive layer and second conductive layer>
The first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52 are preferably transparent conductive layers made of a transparent conductive material, for example. Transparent conductive materials include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), zinc oxide, indium oxide (In 2 O 3 ), aluminum-doped zinc oxide (AZO), gallium-doped zinc oxide (GZO), oxidation Examples thereof include metal oxides such as tin, zinc oxide-tin oxide, indium oxide-tin oxide, and zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide. The first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52 are not limited to transparent conductive layers, and may be, for example, patterned metal mesh layers. The metal mesh layer is preferably black-coated with nickel or copper oxide. This black coating can suppress metal reflection of the metal mesh layer.

第1の導電層31、51および第2の導電層41、52の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法、塗工法、印刷法などを用いることができる。第1の導電層31、51および第2の導電層41、52をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。   The formation method of the first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52 is not particularly limited, and a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, a coating method, a printing method, or the like can be used. Can be used. As a method of patterning the first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52, for example, a photolithography method can be given.

<透明粘着層>
第1の透明粘着層32、第2の透明粘着層42、および粘着層53としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。
<Transparent adhesive layer>
Examples of the first transparent adhesive layer 32, the second transparent adhesive layer 42, and the adhesive layer 53 include known pressure-sensitive adhesive layers and adhesive sheets.

(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態に係る中間基材フィルムおよびタッチパネルセンサについて、図面を参照しながら説明する。図7は本実施形態に係る中間基材フィルムの概略構成図である。なお、本実施形態において、第1の実施形態で説明した部材と同じ符号が付してある部材は、第1の実施形態で説明した部材と同じ部材であることを意味するものであり、また第1の実施形態と重複する内容については特記しない限り省略するものとする。
(Second Embodiment)
Hereinafter, an intermediate substrate film and a touch panel sensor according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an intermediate substrate film according to the present embodiment. In addition, in this embodiment, the member to which the same code | symbol as the member demonstrated in 1st Embodiment is attached | subjected means that it is the same member as the member demonstrated in 1st Embodiment, and The contents overlapping with those of the first embodiment are omitted unless otherwise specified.

図7に示される中間基材フィルム60は、透明基材11と、透明基材11の一方の面11A上に形成された第1の透明層12と、第1の透明層12上に形成された第1の高屈折率層13と、第1の高屈折率層13上に形成された第1の低屈折率層14と、透明基材11の一方の面11Aとは反対側の面11B上に形成された第2の透明層15と、第2の透明層15上に形成された第2の高屈折率層61と、第2の高屈折率層61上に形成された第2の低屈折率層62とを備えている。すなわち、中間基材フィルム60は、中間基材フィルム10の第2透明層15上に第2の高屈折率層61および第2の低屈折率層62を形成したものである。   The intermediate substrate film 60 shown in FIG. 7 is formed on the transparent substrate 11, the first transparent layer 12 formed on one surface 11A of the transparent substrate 11, and the first transparent layer 12. The first high refractive index layer 13, the first low refractive index layer 14 formed on the first high refractive index layer 13, and the surface 11 </ b> B opposite to the one surface 11 </ b> A of the transparent substrate 11. The second transparent layer 15 formed thereon, the second high refractive index layer 61 formed on the second transparent layer 15, and the second high refractive index layer 61 formed on the second high refractive index layer 61. And a low refractive index layer 62. That is, the intermediate base film 60 is obtained by forming the second high refractive index layer 61 and the second low refractive index layer 62 on the second transparent layer 15 of the intermediate base film 10.

第2の高屈折率層61は、第1の高屈折率層13と同様の屈折率および膜厚等を有していることが好ましい。すなわち、第2の高屈折率層61は、屈折率が1.62以上1.72以下であり、かつ膜厚が20nm以上80nm以下となっていることが好ましい。また、第2の高屈折率層61は、第1の高屈折率層13と同様の材料から構成することが可能である。   The second high refractive index layer 61 preferably has the same refractive index and film thickness as the first high refractive index layer 13. That is, the second high refractive index layer 61 preferably has a refractive index of 1.62 to 1.72 and a film thickness of 20 nm to 80 nm. Further, the second high refractive index layer 61 can be made of the same material as that of the first high refractive index layer 13.

第2の低屈折率層62は、第1の低屈折率層14と同様の屈折率および膜厚等を有していることが好ましい。すなわち、第2の低屈折率層62は、屈折率が1.44以上1.54以下であり、かつ膜厚が3nm以上45nm以下となっていることが好ましい。また、第2の低屈折率層62は、第1の低屈折率層13と同様の材料から構成することが可能である。   The second low refractive index layer 62 preferably has the same refractive index and film thickness as the first low refractive index layer 14. That is, the second low refractive index layer 62 preferably has a refractive index of 1.44 to 1.54 and a film thickness of 3 nm to 45 nm. The second low refractive index layer 62 can be made of the same material as the first low refractive index layer 13.

中間基材フィルム60においては、中間基材フィルム60の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第1の低屈折率層14側から中間基材フィルム60に可視光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内となり、かつb*値のばらつきが1.6以内となっている。a*値のばらつきは0.4以内となっていることが好ましく、またb*値のばらつきは1.55以内となっていることが好ましい。 In the intermediate base film 60, the normal direction of the surface of the intermediate base film 60 is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 °, and the first low refractive index layer 14 side When the intermediate substrate film 60 is irradiated with visible light and the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the respective regular reflection directions, variation in the a * value Is within 1.0, and b * value variation is within 1.6. The variation in a * value is preferably within 0.4, and the variation in b * value is preferably within 1.55.

本実施形態によれば、透明基材11上に、屈折率が1.47以上1.57以下であり、かつ膜厚が1μm以上の第1の透明層12と、屈折率が1.62以上1.72以下であり、かつ膜厚が20nm以上80nm以下の第1の高屈折率層13と、屈折率が1.44以上1.54以下であり、かつ膜厚が3nm以上45nm以下の第1の低屈折率層14とをこの順に積層しているので、中間基材フィルム60の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第1の低屈折率層14側から中間基材フィルム60に光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、中間基材フィルム60におけるa*値のばらつきを1.0以内とし、かつb*値のばらつきを1.6以内とすることができる。これにより、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。 According to this embodiment, the first transparent layer 12 having a refractive index of 1.47 or more and 1.57 or less and a film thickness of 1 μm or more on the transparent substrate 11 and a refractive index of 1.62 or more. A first high-refractive-index layer 13 having a thickness of 20 to 80 nm and a refractive index of 1.44 to 1.54 and a thickness of 3 to 45 nm; Since the low refractive index layer 14 of 1 is laminated in this order, the normal direction of the surface of the intermediate base film 60 is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 °. The intermediate base film 60 is irradiated with light from the first low refractive index layer 14 side, and the a * value and b * value of the L * a * b * color system are obtained from the reflected light in the respective regular reflection directions. when in the variation of the a * value in the intermediate base film 60 is 1.0 less and a variation in the b * value It can be within .6. Thereby, the dispersion | variation in the tint at the time of visually recognizing from various angles can be suppressed.

中間基材フィルム60においては、中間基材フィルム60の表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら第2の低屈折率層62側から中間基材フィルム60に可視光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内となり、かつb*値のばらつきが1.6以内となっていることが好ましい。a*値のばらつきは0.4以内となっていることが好ましく、またb*値のばらつきは1.55以内となっていることが好ましい。この場合、基材フィルム60の両面において、a*値のばらつきが1.0以内となり、かつb*値のばらつきが1.6以内となっているので、基材フィルム60の両面において、様々な角度から視認した場合における色味のばらつきを抑制できる。 In the intermediate base film 60, the normal direction of the surface of the intermediate base film 60 is set to 0 °, and the incident angle is changed every 5 degrees within the range of 0 ° to 75 °. When the intermediate substrate film 60 is irradiated with visible light and the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the respective regular reflection directions, variation in the a * value Is preferably within 1.0 and b * value variation is preferably within 1.6. The variation in a * value is preferably within 0.4, and the variation in b * value is preferably within 1.55. In this case, the variation in the a * value is within 1.0 and the variation in the b * value is within 1.6 on both surfaces of the base film 60. Variations in tint when viewed from an angle can be suppressed.

≪タッチパネルセンサ≫
中間基材フィルム60は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図8は本実施形態に係る中間基材フィルムを組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図である。
≪Touch panel sensor≫
The intermediate base film 60 can be used by being incorporated into a touch panel sensor, for example. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a touch panel sensor incorporating the intermediate substrate film according to the present embodiment.

図8に示されるタッチパネルセンサ70は、中間基材フィルム60と、中間基材フィルム60に支持され、パターニングされた第1の導電層71および第2の導電層72と、中間基材フィルム60および第1の導電層71上に設けられた第1の透明粘着層73と、中間基材フィルム60および第1の導電層72上に設けられた第2の透明粘着層74とを備えている。   The touch panel sensor 70 shown in FIG. 8 includes an intermediate base film 60, a first conductive layer 71 and a second conductive layer 72 which are supported and patterned by the intermediate base film 60, the intermediate base film 60 and A first transparent adhesive layer 73 provided on the first conductive layer 71 and a second transparent adhesive layer 74 provided on the intermediate base film 60 and the first conductive layer 72 are provided.

第1の導電層71は、タッチパネルセンサ70におけるX方向の電極として機能するものであり、第1の導電層31と同様のパターン形状となっている。第1の導電層71は、中間基材フィルム60の第1の低屈折率層14上に設けられている。第2の導電層72は、タッチパネルセンサ70におけるY方向の電極として機能するものであり、第2の導電層41と同様のパターン形状となっている。第2の導電層72は、中間基材フィルム60の第2の低屈折率層62上に設けられている。   The first conductive layer 71 functions as an electrode in the X direction in the touch panel sensor 70 and has a pattern shape similar to that of the first conductive layer 31. The first conductive layer 71 is provided on the first low refractive index layer 14 of the intermediate base film 60. The second conductive layer 72 functions as an electrode in the Y direction in the touch panel sensor 70 and has the same pattern shape as the second conductive layer 41. The second conductive layer 72 is provided on the second low refractive index layer 62 of the intermediate base film 60.

第1の導電層71は、中間基材フィルム10よりも観察者側に配置されており、第2の導電層72は、中間基材フィルム10よりも光源側に配置されている。   The first conductive layer 71 is disposed closer to the observer than the intermediate base film 10, and the second conductive layer 72 is disposed closer to the light source than the intermediate base film 10.

第1の導電層71および第2の導電層72は、第1の導電層31、51および第2の導電層41、52と同様の構成となっていることが好ましい。また第1の導電層71および第2の導電層72は、第1の導電層31、51および第2の導電層41、52と同様の材料から構成することが可能である。   The first conductive layer 71 and the second conductive layer 72 preferably have the same configuration as the first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52. The first conductive layer 71 and the second conductive layer 72 can be made of the same material as the first conductive layers 31 and 51 and the second conductive layers 41 and 52.

第1の導電層71および第2の導電層72は、中間基材フィルム60の両面に形成されているので、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることができ、そして、この場合には、第1の導電層71および第2の導電層72の位置精度を高めることができる。   Since the first conductive layer 71 and the second conductive layer 72 are formed on both surfaces of the intermediate base film 60, they can be patterned by photolithography, and in this case, the first conductive layer 71 The positional accuracy of the layer 71 and the second conductive layer 72 can be increased.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited to these descriptions.

<透明層用組成物の調製>
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、透明層用組成物を得た。
(透明層用組成物1)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA):30質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):1.5質量部
・メチルイソブチルケトン:70質量部
<Preparation of composition for transparent layer>
First, each component was mix | blended so that it might become a composition shown below, and the composition for transparent layers was obtained.
(Transparent layer composition 1)
Pentaerythritol triacrylate (PETA): 30 parts by mass Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 1.5 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 70 parts by mass

(透明層用組成物2)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA):18質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):12質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):1.5質量部
・メチルイソブチルケトン:70質量部
(Transparent layer composition 2)
Pentaerythritol triacrylate (PETA): 18 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 12 parts by mass Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 1.5 parts by mass Isobutyl ketone: 70 parts by mass

<高屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
(高屈折率層用組成物1)
・高屈折率微粒子分散液(ZrO微粒子のメチルエチルケトン分散液(固形分:30質量%)、製品名「MZ−230X」、住友大阪セメント社製):58.8質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):11.8質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.6質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):28.8質量部
<Preparation of composition for high refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become a composition shown below, and the composition for high refractive index layers was obtained.
(Composition 1 for high refractive index layer)
High refractive index fine particle dispersion (Methyl ethyl ketone dispersion of ZrO 2 fine particles (solid content: 30% by mass), product name “MZ-230X”, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.): 58.8 parts by mass Pentaerythritol triacrylate ( Product name “KAYARAD PET-30” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 11.8 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 0.6 parts by mass / methyl isobutyl ketone (MIBK) ): 28.8 parts by mass

(高屈折率層用組成物2)
・高屈折率微粒子分散液(ZrO微粒子のメチルエチルケトン分散液(固形分:30質量%)、製品名「MZ−230X」、住友大阪セメント社製):59.5質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):11.1質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.6質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):28.8質量部
(Composition 2 for high refractive index layer)
High refractive index fine particle dispersion (Methyl ethyl ketone dispersion of ZrO 2 fine particles (solid content: 30% by mass), product name “MZ-230X”, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.): 59.5 parts by mass Pentaerythritol triacrylate ( Product name “KAYARAD PET-30”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: 11.1 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 0.6 parts by mass / methyl isobutyl ketone (MIBK) ): 28.8 parts by mass

(高屈折率層用組成物3)
・高屈折率微粒子分散液(ZrO微粒子のメチルエチルケトン分散液(固形分:30質量%)、製品名「MZ−230X」、住友大阪セメント社製):59.9質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):10.7質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.6質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):28.8質量部
(Composition 3 for high refractive index layer)
・ High refractive index fine particle dispersion (methyl ethyl ketone dispersion of ZrO 2 fine particles (solid content: 30% by mass), product name “MZ-230X”, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.): 59.9 parts by mass. Pentaerythritol triacrylate ( Product name “KAYARAD PET-30” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 10.7 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 0.6 parts by mass / methyl isobutyl ketone (MIBK) ): 28.8 parts by mass

(高屈折率層用組成物4)
・高屈折率微粒子分散液(ZrO微粒子のメチルエチルケトン分散液(固形分:30質量%)、製品名「MZ−230X」、住友大阪セメント社製):62.0質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):8.6質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.6質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):28.8質量部
(Composition 4 for high refractive index layer)
・ High refractive index fine particle dispersion (Methyl ethyl ketone dispersion of ZrO 2 fine particles (solid content: 30% by mass), product name “MZ-230X”, manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.): 62.0 parts by mass. Pentaerythritol triacrylate ( Product name “KAYARAD PET-30” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 8.6 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan): 0.6 parts by mass / methyl isobutyl ketone (MIBK) ): 28.8 parts by mass

<低屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
(低屈折率層用組成物1)
・中空シリカ微粒子(中空シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(固形分:20質量%)、平均粒径:50nm):40質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(製品名「PETIA」、ダイセル・サイテック社製):10質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):0.35質量部
・変性シリコーンオイル(製品名「X22164E」、信越化学工業社製):0.5質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):320質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):161質量部
<Preparation of composition for low refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for low refractive index layers was obtained.
(Composition 1 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow silica fine particles (solid content: 20% by mass), average particle size: 50 nm): 40 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) (Product name “PETIA”, Daicel Cytec Co., Ltd.): 10 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 0.35 parts by mass / modified silicone oil (product name “X22164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 0 .5 parts by mass-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 320 parts by mass-Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 161 parts by mass

(低屈折率層用組成物2)
・中空シリカ微粒子(中空シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(固形分:20質量%)、平均粒径:50nm):40.5質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(製品名「PETIA」、ダイセル・サイテック社製):9.5質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):0.35質量部
・変性シリコーンオイル(製品名「X22164E」、信越化学工業社製):0.5質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):320質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):161質量部
(Composition 2 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow silica fine particles (solid content: 20% by mass), average particle size: 50 nm): 40.5 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) (product name “PETIA”, Daicel Cytec Co., Ltd.): 9.5 parts by mass Polymerization initiator (Product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 0.35 parts by mass Modified silicone oil (Product name “X22164E”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Manufactured): 0.5 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 320 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 161 parts by mass

(低屈折率層用組成物3)
・中空シリカ微粒子(中空シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(固形分:20質量%)、平均粒径:50nm):41質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(製品名「PETIA」、ダイセル・サイテック社製):9質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):0.35質量部
・変性シリコーンオイル(製品名「X22164E」、信越化学工業社製):0.5質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):320質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):161質量部
(Composition 3 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow silica fine particles (solid content: 20% by mass), average particle size: 50 nm): 41 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) (product name “PETIA”, Daicel 9 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 0.35 parts by mass / modified silicone oil (product name “X22164E”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 0 .5 parts by mass-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 320 parts by mass-Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 161 parts by mass

(低屈折率層用組成物4)
・中空シリカ微粒子(中空シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(固形分:20質量%)、平均粒径:50nm):38.4質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(製品名「PETIA」、ダイセル・サイテック社製):8.4質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):0.35質量部
・変性シリコーンオイル(製品名「X22164E」、信越化学工業社製):0.5質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):320質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):161質量部
(Composition 4 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow silica fine particles (solid content: 20% by mass), average particle size: 50 nm): 38.4 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) (product name “PETIA”, Daicel Cytec Co., Ltd.): 8.4 parts by mass, polymerization initiator (product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 0.35 parts by mass, modified silicone oil (product name “X22164E”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Manufactured): 0.5 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 320 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 161 parts by mass

(低屈折率層用組成物5)
・中空シリカ微粒子(中空シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(固形分:20質量%)、平均粒径:50nm):35.7質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(製品名「PETIA」、ダイセル・サイテック社製):5.7質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア127」、BASFジャパン社製):0.35質量部
・変性シリコーンオイル(製品名「X22164E」、信越化学工業社製):0.5質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):320質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA):161質量部
(Composition 5 for low refractive index layer)
Hollow silica fine particles (Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow silica fine particles (solid content: 20% by mass), average particle size: 50 nm): 35.7 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) (product name “PETIA”, Daicel Cytec Co., Ltd.): 5.7 parts by mass Polymerization initiator (Product name “Irgacure 127”, manufactured by BASF Japan): 0.35 parts by mass Modified silicone oil (Product name “X22164E”, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Manufactured): 0.5 parts by mass Methyl isobutyl ketone (MIBK): 320 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA): 161 parts by mass

<実施例1>
透明基材として屈折率が1.62および厚さが125μmのポリエチレンテレフタレート基材(製品名「コスモシャイン」、東洋紡績社製)を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の両面に、透明層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、0.2m/sの流速で50℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が100mJ/cmになるように照射して塗膜を硬化させることにより、屈折率が1.52および膜厚が4.5μmの透明層を形成した。次いで、各透明層上に、高屈折率層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、40℃で1分間乾燥させた後、窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて、積算光量100mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が1.67および膜厚が50nmの高屈折率層を形成した。次いで、各高屈折率層上に、低屈折率層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、40℃で1分間乾燥させた後、窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて、積算光量100mJ/cmで紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が1.49および膜厚が20nmの低屈折率層を形成し、実施例1に係る中間基材フィルムを作製した。
<Example 1>
A polyethylene terephthalate base material (product name “Cosmo Shine”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a refractive index of 1.62 and a thickness of 125 μm is prepared as a transparent base material, and a transparent layer composition is formed on both sides of the polyethylene terephthalate base material. 1 was applied to form a coating film. Next, 50 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. By evaporating the solvent in the coating film and irradiating the ultraviolet light with an integrated light amount of 100 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) to cure the coating film, the refractive index is increased. A transparent layer having a thickness of 1.52 and a thickness of 4.5 μm was formed. Subsequently, the composition 1 for high refractive index layers was apply | coated on each transparent layer, and the coating film was formed. And after drying the formed coating film for 1 minute at 40 degreeC, under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 200 ppm or less), it hardens | cures by irradiating with an ultraviolet-ray with the integrated light quantity of 100 mJ / cm < 2 >, and refractive index is 1. And a high refractive index layer having a thickness of 50 nm was formed. Subsequently, the composition 1 for low refractive index layers was apply | coated on each high refractive index layer, and the coating film was formed. And after drying the formed coating film for 1 minute at 40 degreeC, under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 200 ppm or less), it hardens | cures by irradiating with an ultraviolet-ray with the integrated light quantity of 100 mJ / cm < 2 >, and refractive index is 1. A low refractive index layer having a thickness of .49 and a thickness of 20 nm was formed, and an intermediate substrate film according to Example 1 was produced.

<実施例2>
実施例2においては、高屈折率層用組成物1、低屈折率層用組成物1の代わりに高屈折率層用組成物2、低屈折率層用組成物2を用いた以外は、実施例1と同様にして、中間基材フィルムを作製した。実施例2に係る基材フィルムの高屈折率層の屈折率は1.69であり、低屈折率層の屈折率は1.51であった。
<Example 2>
In Example 2, it was carried out except that the high refractive index layer composition 1 and the low refractive index layer composition 2 were used in place of the high refractive index layer composition 1 and the low refractive index layer composition 1. In the same manner as in Example 1, an intermediate substrate film was produced. The refractive index of the high refractive index layer of the base film according to Example 2 was 1.69, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.51.

<実施例3>
実施例3においては、透明層用組成物1、高屈折率層用組成物1、低屈折率層用組成物1の代わりに透明層用組成物2、高屈折率層用組成物3、低屈折率層用組成物3を用い、かつ高屈折率層の膜厚を60nmにした以外は、実施例1と同様にして、中間基材フィルムを作製した。実施例3に係る基材フィルムの透明層の屈折率は1.53であり、高屈折率層の屈折率は1.70であり、低屈折率層の屈折率は1.53であった。
<Example 3>
In Example 3, instead of the composition 1 for the transparent layer, the composition 1 for the high refractive index layer, the composition 1 for the low refractive index layer, the composition 2 for the transparent layer, the composition 3 for the high refractive index layer, the low An intermediate substrate film was produced in the same manner as in Example 1 except that the refractive index layer composition 3 was used and the thickness of the high refractive index layer was changed to 60 nm. The refractive index of the transparent layer of the base film according to Example 3 was 1.53, the refractive index of the high refractive index layer was 1.70, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.53.

<比較例1>
比較例1においては、透明層用組成物1、高屈折率層用組成物1、低屈折率層用組成物1の代わりに透明層用組成物2、高屈折率層用組成物4、低屈折率層用組成物3を用い、かつ高屈折率層の膜厚を60nmにした以外は、実施例1と同様にして、中間基材フィルムを作製した。比較例1に係る基材フィルムの透明層の屈折率は1.53であり、高屈折率層の屈折率は1.76であり、低屈折率層の屈折率は1.53であった。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, instead of the transparent layer composition 1, the high refractive index layer composition 1, the low refractive index layer composition 1, the transparent layer composition 2, the high refractive index layer composition 4, An intermediate substrate film was produced in the same manner as in Example 1 except that the refractive index layer composition 3 was used and the thickness of the high refractive index layer was changed to 60 nm. The refractive index of the transparent layer of the base film according to Comparative Example 1 was 1.53, the refractive index of the high refractive index layer was 1.76, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.53.

<比較例2>
比較例2においては、透明層用組成物1、高屈折率層用組成物1、低屈折率層用組成物1の代わりに透明層用組成物2、高屈折率層用組成物4、低屈折率層用組成物4を用い、高屈折率層の膜厚を65nmにし、かつ低屈折率層の膜厚を30nmにした以外は、実施例1と同様にして、中間基材フィルムを作製した。比較例2に係る基材フィルムの透明層の屈折率は1.53であり、高屈折率層の屈折率は1.76であり、低屈折率層の屈折率は1.43であった。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 2, instead of the transparent layer composition 1, the high refractive index layer composition 1, and the low refractive index layer composition 1, the transparent layer composition 2, the high refractive index layer composition 4, and the low refractive index layer composition 1. An intermediate substrate film is produced in the same manner as in Example 1 except that the refractive index layer composition 4 is used, the thickness of the high refractive index layer is 65 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 30 nm. did. The refractive index of the transparent layer of the base film according to Comparative Example 2 was 1.53, the refractive index of the high refractive index layer was 1.76, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.43.

<比較例3>
比較例3においては、高屈折率層用組成物1、低屈折率層用組成物1の代わりに高屈折率層用組成物2、低屈折率層用組成物5を用い、高屈折率層の膜厚を65nmにし、かつ低屈折率層の膜厚を30nmにした以外は、実施例1と同様にして、中間基材フィルムを作製した。比較例3に係る基材フィルムの高屈折率層の屈折率は1.76であり、低屈折率層の屈折率は1.33であった。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 3, the high refractive index layer composition 1 and the low refractive index layer composition 1 were used in place of the high refractive index layer composition 1 and the low refractive index layer composition 1, and the high refractive index layer was used. An intermediate substrate film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the film was 65 nm and the film thickness of the low refractive index layer was 30 nm. The refractive index of the high refractive index layer of the base film according to Comparative Example 3 was 1.76, and the refractive index of the low refractive index layer was 1.33.

<a*およびb*のばらつき>
実施例および比較例で得られた各中間基材フィルムにおいて、以下のようにして、a*およびb*のばらつきを求めた。具体的には、日本分光株式会社製のVAR−7010を用いて、5°〜65°の範囲内で入射角度を5°毎変えながら低屈折率層側から各中間基材フィルムに光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からa*値およびb*値を得た。測定条件は以下の通りとした。光源として、重水素(D2)ランプとタングステンハロゲン(WI)ランプを用い、また透過軸が45°傾いた偏光子を用い、測定範囲を380nm〜780nmとし、データ取込間隔を1nmとし、入射角度と検出器の位置を同期させ、正反射光を取り込むように測定を行った。そして、得られた各入射角度におけるa*値およびb*値から、その最大値と最小値の差分の絶対値を算出して、a*値のばらつきおよびb*値のばらつきを求めた。
<a * Oyobib * Nobaratsuki>
In each of the intermediate substrate films obtained in the examples and comparative examples, variations in a * and b * were determined as follows. Specifically, using VAR-7010 manufactured by JASCO Corporation, each intermediate substrate film is irradiated with light from the low refractive index layer side while changing the incident angle every 5 ° within a range of 5 ° to 65 °. Then, the a * value and the b * value were obtained from the reflected light in the respective regular reflection directions. The measurement conditions were as follows. As a light source, a deuterium (D2) lamp and a tungsten halogen (WI) lamp are used, a polarizer whose transmission axis is inclined by 45 °, a measurement range of 380 nm to 780 nm, a data acquisition interval of 1 nm, and an incident angle. And the position of the detector were synchronized, and measurement was performed so that specularly reflected light was captured. Then, from the obtained a * value and b * value at each incident angle, the absolute value of the difference between the maximum value and the minimum value was calculated, and the variation of the a * value and the variation of the b * value were obtained.

<色味のばらつき>
実施例および比較例で得られた各中間基材フィルムを様々な方向から視認したときに各中間基材フィルムの色味がばらつきているか否か評価した。評価基準は以下の通りであった。
○:色味のばらつきが確認できなかった。
×:色味のばらつきが確認できた。
<Color variation>
It was evaluated whether or not the color of each intermediate substrate film varied when the intermediate substrate films obtained in Examples and Comparative Examples were viewed from various directions. The evaluation criteria were as follows.
○: No variation in color could be confirmed.
X: Variation in color was confirmed.

以下、結果を表1〜表3に示す。

Figure 0005494884
Figure 0005494884
Figure 0005494884
The results are shown in Tables 1 to 3 below.
Figure 0005494884
Figure 0005494884
Figure 0005494884

表3に示されるように、比較例1〜3の中間基材フィルムは、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内であるという要件を満たしていないので、色味のばらつきを抑制できなかった。 As shown in Table 3, the intermediate substrate films of Comparative Examples 1 to 3 satisfy the requirement that the variation in a * value is within 1.0 and the variation in b * value is within 1.6. As a result, variation in color could not be suppressed.

これに対し、実施例1〜3の中間基材フィルムは、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内であるという要件を満たしているので、色味の変化を抑制できた。 On the other hand, since the intermediate substrate films of Examples 1 to 3 satisfy the requirement that the variation in a * value is within 1.0 and the variation in b * value is within 1.6, The change in color could be suppressed.

10、60…中間基材フィルム
11…透明基材
11A、11B…面
12…第1の透明層
13…第1の高屈折率層
14…第1の低屈折率層
15…第2の透明層
20、50、80…タッチパネルセンサ
31、51、71…第1の導電層
41、52、72…第2の導電層
61…第2の高屈折率層
62…第2の低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 60 ... Intermediate base film 11 ... Transparent base material 11A, 11B ... Surface 12 ... 1st transparent layer 13 ... 1st high refractive index layer 14 ... 1st low refractive index layer 15 ... 2nd transparent layer 20, 50, 80 ... touch panel sensors 31, 51, 71 ... first conductive layer 41, 52, 72 ... second conductive layer 61 ... second high refractive index layer 62 ... second low refractive index layer

Claims (8)

パターニングされた導電層を支持するための中間基材フィルムであって、
透明基材と、
前記透明基材の一方の面上に積層された第1の高屈折率層と、
前記第1の高屈折率層上に積層され、かつ前記第1の高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する第1の低屈折率層とを備え、
前記中間基材フィルムの表面の法線方向を0°とし、0°以上75°の範囲内で入射角度を5度毎変えながら前記第1の低屈折率層側から前記中間基材フィルムに光を照射し、それぞれの正反射方向への反射光からL***表色系のa*値およびb*値を求めたとき、a*値のばらつきが1.0以内であり、かつb*値のばらつきが1.6以内である、中間基材フィルム。
An intermediate substrate film for supporting the patterned conductive layer,
A transparent substrate;
A first high refractive index layer laminated on one surface of the transparent substrate;
A first low refractive index layer laminated on the first high refractive index layer and having a refractive index lower than the refractive index of the first high refractive index layer;
The normal direction of the surface of the intermediate substrate film is set to 0 °, and light is applied to the intermediate substrate film from the first low refractive index layer side while changing the incident angle every 5 degrees within a range of 0 ° to 75 °. When the a * value and b * value of the L * a * b * color system are determined from the reflected light in the regular reflection direction, the variation of the a * value is within 1.0, and An intermediate substrate film having a b * value variation of 1.6 or less.
前記第1の高屈折率層と前記第1の低屈折率層との屈折率差が0.10以上0.22以下である、請求項1に記載の中間基材フィルム。   The intermediate substrate film according to claim 1, wherein a refractive index difference between the first high refractive index layer and the first low refractive index layer is 0.10 or more and 0.22 or less. 前記第1の高屈折率層が、20nm以上80nm以下の膜厚および1.62以上1.72以下の屈折率を有し、かつ前記第1の低屈折率層が、3nm以上45nm以下の膜厚および1.44以上1.54以下の屈折率を有する、請求項1または2に記載の中間基材フィルム。   The first high refractive index layer has a thickness of 20 nm to 80 nm and a refractive index of 1.62 to 1.72, and the first low refractive index layer is a film of 3 nm to 45 nm. The intermediate substrate film according to claim 1 or 2, having a thickness and a refractive index of 1.44 or more and 1.54 or less. 前記透明基材と前記第1の高屈折率層との間に、屈折率が1.47以上1.57以下の第1の透明層をさらに備える、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の中間基材フィルム。   4. The apparatus according to claim 1, further comprising a first transparent layer having a refractive index of 1.47 or more and 1.57 or less between the transparent substrate and the first high refractive index layer. The intermediate substrate film described. 前記第1の透明層が、1μm以上の膜厚を有する、請求項4に記載の中間基材フィルム。   The intermediate substrate film according to claim 4, wherein the first transparent layer has a film thickness of 1 μm or more. 前記透明基材における前記一方の面とは反対側の面上に積層された第2の高屈折率層と、
前記第2の高屈折率層上に積層され、かつ前記第2の高屈折率層の屈折率よりも低い屈折率を有する第2の低屈折率層とをさらに備える、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の中間基材フィルム。
A second high refractive index layer laminated on a surface opposite to the one surface of the transparent substrate;
The second low-refractive index layer that is laminated on the second high-refractive index layer and has a lower refractive index than the refractive index of the second high-refractive index layer. The intermediate substrate film according to any one of the above.
請求項1ないし6のいずれか一項に記載の中間基材フィルムと、
前記中間基材フィルムの前記第1の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第1の導電層と
を備える、タッチパネルセンサ。
The intermediate substrate film according to any one of claims 1 to 6,
A touch panel sensor comprising: a first conductive layer laminated on the first low refractive index layer of the intermediate base film and patterned.
請求項6に記載の中間基材フィルムと、
前記中間基材フィルムの前記第1の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第1の導電層と、
前記中間基材フィルムの前記第2の低屈折率層上に積層され、かつパターニングされた第2の導電層と
を備える、タッチパネルセンサ。
The intermediate substrate film according to claim 6,
A first conductive layer laminated and patterned on the first low refractive index layer of the intermediate substrate film;
A touch panel sensor comprising: a second conductive layer laminated on the second low refractive index layer of the intermediate base film and patterned.
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