JP6364867B2 - Antireflection article and image display device - Google Patents

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本発明は、反射防止物品、及び画像表示装置に関するものである。   The present invention relates to an antireflection article and an image display device.

フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材(透明フィルム)の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている(特許文献1〜3参照)。この方法は、入射光に対する屈折率を厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。   Regarding an antireflection film which is a film-shaped antireflection article, there has been proposed a method for preventing reflection by arranging a large number of minute protrusions in close contact with the surface of a transparent substrate (transparent film) (Patent Document 1). To 3). In this method, the refractive index with respect to incident light is continuously changed in the thickness direction, thereby eliminating the discontinuous interface of the refractive index and preventing reflection.

多数の微小突起を有する上記フィルムは、高い反射防止性能を有する。しかしながら、その表面構造のため、皮脂等の汚れが付着し易く、また当該汚れは微小突起間の溝奥まで
入り込むため、除去が困難であり、表面外観が悪化し易いという問題があった。
The film having a large number of microprojections has high antireflection performance. However, due to its surface structure, dirt such as sebum is likely to adhere, and the dirt penetrates into the groove between the microprotrusions, so that it is difficult to remove and the surface appearance tends to deteriorate.

特許文献4では、汚染物の除去性に優れるとともに、耐擦傷性を兼備する微細凹凸構造体として、特定の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸構造体が記載されている。特許文献4には、上記特定の樹脂組成物の硬化物は、当該樹脂組成物が特定の組成を有することにより、架橋密度を高くして、硬化物の弾性率と硬度を高くし、耐擦傷性に優れたものとすることができること、及び、適度な親水性を有し、微細凹凸構造体の表面と、当該表面に付着する汚染物との間に水を侵入させやすくすることにより汚染物の除去性に優れること、が記載されている。
特許文献4の手法によれば、架橋密度を高くして微細凹凸構造体の硬度を上げているため当該微細凹凸構造体は変形しにくく、拭取り時に、微細凹凸構造体の隙間まで届きにくかった。そのため、汚染物を拭き取る際は、水やアルコールを含んだクリーナー等で汚れを浮かび上がらせて拭取る必要があり、乾拭きでは汚染物を除去できなかった。
Patent Document 4 describes a fine concavo-convex structure made of a cured product of a specific active energy ray-curable resin composition as a fine concavo-convex structure excellent in contaminant removal and also having scratch resistance. . In Patent Document 4, the cured product of the specific resin composition described above has a specific composition, whereby the crosslink density is increased, the elastic modulus and hardness of the cured product are increased, and the scratch resistance is increased. Contaminant by making it easy to allow water to enter between the surface of the fine concavo-convex structure and the contaminant adhering to the surface. It is described that it has excellent removability.
According to the method of Patent Document 4, since the cross-linking density is increased to increase the hardness of the fine concavo-convex structure, the fine concavo-convex structure is difficult to deform, and it is difficult to reach the gaps of the fine concavo-convex structure during wiping. . Therefore, when wiping off the contaminants, it is necessary to lift off the dirt with a cleaner or the like containing water or alcohol, and the contaminants cannot be removed by dry wiping.

また、特許文献5には、基体の表面に微細な凹凸を有する構造体を備えた反射防止機能を有する光学素子において、構造体に付着した汚れを乾拭きにより除去することができるように、当該構造体を形成する材料の弾性率と当該構造体のアスペクト比を特定の範囲内とした旨が記載されている。特許文献5には、表面を拭き取る際に構造体が変形し、構造体間にしみこんだ汚れが押し出されて、汚れの除去が可能となる旨が記載されている。   Further, in Patent Document 5, in an optical element having an antireflection function provided with a structure having fine irregularities on the surface of a substrate, the structure is arranged so that dirt attached to the structure can be removed by dry wiping. It is described that the elastic modulus of the material forming the body and the aspect ratio of the structure are within a specific range. Patent Document 5 describes that when the surface is wiped off, the structure is deformed, and dirt that has penetrated between the structures is pushed out, so that the dirt can be removed.

一方、特許文献6には、低屈折率無機微粒子を含有させて低屈折率化を行った平坦な低屈折率層に、更にポリロタキサン化合物を含有させることにより、塗布面状が良化され、塗膜の鉛筆硬度が高くなった旨が記載されている。しかしながら、当該文献の低屈折率層は、低屈折率無機微粒子を用いた平坦膜により1.5%程度の低反射を実現する技術であり、表面に微細な凹凸を有する構造体に適用する示唆はない。   On the other hand, in Patent Document 6, by adding a polyrotaxane compound to a flat low-refractive index layer that has been reduced in refractive index by containing low-refractive-index inorganic fine particles, the coated surface state is improved, and coating is improved. It is stated that the pencil hardness of the film has increased. However, the low refractive index layer in this document is a technology that realizes low reflection of about 1.5% by a flat film using low refractive index inorganic fine particles, and suggests that it is applied to a structure having fine irregularities on the surface. There is no.

特開昭50−70040号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-70040 特開2004−155083号公報JP 2004-155083 A 特開2011−33892号公報JP 2011-33892 A 国際公開第2012/096322号パンフレットInternational Publication No. 2012/096322 Pamphlet 特開2011−76072号公報JP 2011-76072 A 特開2009−204832号公報JP 2009-204832 A

従来、反射防止物品の耐擦傷性を向上させるためには、特許文献4のように、微小突起を形成する樹脂組成物の硬化物を架橋密度の高いものすることが行われていた。しかしながら、本発明者らは、樹脂組成物の硬化物を架橋密度の高いものとすると、微小突起が硬脆くなってしまうことにより、耐擦傷性が低下してしまう問題があることを知見した。
一方、特許文献5のように弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成する場合、当該微小突起形状の賦型直後に、微小突起が倒れやすく、各微小突起の先端部同士がくっつきあうスティッキングが生じやすい。そのため、フィルムに白濁感が生じ、透明性が低下することがあった。また、弾性率の低い樹脂材料を用いて形成された微細凹凸層は、実用レベルの拭取り圧力で、容易に突起が潰れたり、スティッキングが生じる等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残る場合がある。このように、除汚性と耐スティッキング性、及び耐擦傷性と耐スティッキング性との間にトレードオフの関係があり、除汚性、耐スティッキング性及び耐擦傷性の全てを兼ね備えた反射防止物品を得ることは困難であった。
Conventionally, in order to improve the scratch resistance of an antireflection article, as in Patent Document 4, a cured product of a resin composition forming fine protrusions has been made to have a high crosslinking density. However, the present inventors have found that if the cured product of the resin composition has a high cross-linking density, the microprojections become hard and brittle, resulting in a problem that the scratch resistance is lowered.
On the other hand, when forming a microprotrusion using a resin material having a low elastic modulus as in Patent Document 5, the microprotrusion easily falls down immediately after forming the microprotrusion shape, and the tips of the microprotrusions stick to each other. Sticking is likely to occur. Therefore, the film may have a cloudiness and transparency may be reduced. In addition, a fine uneven layer formed using a resin material having a low elastic modulus is easily deformed by a practical level of wiping pressure, such as protrusions being easily crushed or sticking. May remain. As described above, there is a trade-off relationship between antifouling property and anti-sticking property, and scratch resistance and anti-sticking property, and the antireflection article has all of antifouling property, anti-sticking property and anti-scratch property. It was difficult to get.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、反射防止性能の低下を抑制でき、且つ耐擦傷性に優れた反射防止物品、及び表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、反射防止性能の低下を抑制でき、且つ耐擦傷性に優れた画像表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and while being capable of wiping off dirt adhering to the surface, it is possible to suppress a decrease in antireflection performance and to provide an antireflection article excellent in scratch resistance, and a surface. An object of the present invention is to provide an image display device that can suppress the deterioration of the antireflection performance and is excellent in scratch resistance while being able to wipe off the adhered dirt.

本発明に係る反射防止物品は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有し、樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層を備えた反射防止物品であって、
前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛmin、当該微小突起の隣接突起間隔dの平均値をdAVGとしたときに、
AVG≦Λmin
なる関係を有し、
前記樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)が300MPa以下であり、
前記樹脂組成物が、ポリロタキサンを含むことを特徴とする。
The antireflection article according to the present invention has a fine concavo-convex shape provided with a group of microprotrusions in which a plurality of microprotrusions are closely arranged, and a micro concavo-convex layer made of a cured resin composition. An anti-reflective article,
When the shortest wavelength of the wavelength band of light for preventing reflection is Λ min and the average value of the adjacent protrusion intervals d of the fine protrusions is d AVG ,
d AVG ≦ Λ min
Have the relationship
The storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured product of the resin composition is 300 MPa or less,
The resin composition contains a polyrotaxane.

本発明に係る反射防止物品においては、前記ポリロタキサンが、環状分子にエチレン性不飽和結合を含有する官能基を有することが、除汚性、耐スティッキング性及び耐擦傷性を向上する点から好ましい。   In the antireflection article according to the present invention, it is preferable that the polyrotaxane has a functional group containing an ethylenically unsaturated bond in the cyclic molecule from the viewpoint of improving antifouling property, sticking resistance and scratch resistance.

本発明に係る反射防止物品においては、前記ポリロタキサンの含有量が、前記樹脂組成物に含まれる全固形分に対して、0.5〜30.0質量%であることが、除汚性、耐スティッキング性及び耐擦傷性を向上する点から好ましい。   In the antireflection article according to the present invention, the content of the polyrotaxane is 0.5 to 30.0 mass% with respect to the total solid content contained in the resin composition. This is preferable from the viewpoint of improving sticking property and scratch resistance.

本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。   The image display device according to the present invention includes the antireflection article according to the present invention on at least one side of a display panel.

本発明によれば、表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、反射防止性能の低下を抑制でき、且つ耐擦傷性に優れた反射防止物品、及び表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、反射防止性能の低下を抑制でき、且つ耐擦傷性に優れた画像表示装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to wipe off the stain | pollution | contamination adhering to the surface, while suppressing the fall of antireflection performance and being able to wipe off the stain | pollution | contamination adhering to the surface which can suppress the fall of antireflection performance and was excellent in abrasion resistance In addition, it is possible to provide an image display device that can suppress a decrease in antireflection performance and is excellent in scratch resistance.

本発明に係る反射防止物品の一例に示す模式断面図である。It is a schematic cross section shown to an example of the antireflection article concerning the present invention. ドロネー図の一例を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of a Delaunay figure. 微細凹凸層の別の一例を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows another example of a fine uneven | corrugated layer. 本発明に係る反射防止物品の製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the reflection preventing article which concerns on this invention. 本発明に係る画像表示装置の一例を模式的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an example of an image display device according to the present invention.

以下、本発明に係る反射防止物品、及び画像表示装置について、順に詳細に説明する。
なお、本明細書において「物品」は、「板」、「シート」、「フィルム」等の態様を含む概念である。
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本発明において(メタ)アクリルとは、アクリル又はメタアクリルの各々を表し、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表し、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル又はメタクリロイルの各々を表す。
また、本発明において樹脂組成物の硬化物とは、化学反応を経て固化したものをいう。
Hereinafter, the antireflection article and the image display device according to the present invention will be described in detail in order.
In this specification, “article” is a concept including aspects such as “plate”, “sheet”, and “film”.
Furthermore, as used in this specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as “parallel”, “orthogonal”, “identical”, length and angle values, etc. Without being bound by meaning, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.
In the present invention, (meth) acryl represents each of acryl or methacryl, (meth) acrylate represents each of acrylate or methacrylate, and (meth) acryloyl represents each of acryloyl or methacryloyl.
Moreover, the hardened | cured material of a resin composition in this invention means what solidified through the chemical reaction.

[反射防止物品]
本発明に係る反射防止物品は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有し、樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層を備えた反射防止物品であって、
前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛmin、当該微小突起の隣接突起間隔dの平均値をdAVGとしたときに、
AVG≦Λmin
なる関係を有し、
前記樹脂組成物が、ポリロタキサンを含むことを特徴とする。
[Anti-reflective article]
The antireflection article according to the present invention has a fine concavo-convex shape provided with a group of microprotrusions in which a plurality of microprotrusions are closely arranged, and a micro concavo-convex layer made of a cured resin composition. An anti-reflective article,
When the shortest wavelength of the wavelength band of light for preventing reflection is Λ min and the average value of the adjacent protrusion intervals d of the fine protrusions is d AVG ,
d AVG ≦ Λ min
Have the relationship
The resin composition contains a polyrotaxane.

上記本発明に係る反射防止物品について図を参照して説明する。図1は、本発明に係る反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。図1に例示される反射防止物品10は、透明基材1の一面側に、微細凹凸形状を有する微細凹凸層2を有する。
前記微細凹凸層2の表面は、微小突起3が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸面2aであり、前記微小突起3は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛmin、当該微小突起3の隣接突起間隔d(図1)の平均値をdAVGとしたときに、dAVG≦Λminなる関係を有することにより、Λmin以上の波長を有する光の反射防止を図ることができる。
The antireflection article according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of an antireflection article according to the present invention. An antireflection article 10 illustrated in FIG. 1 has a fine uneven layer 2 having a fine uneven shape on one surface side of a transparent substrate 1.
Wherein the surface of the fine uneven layer 2 is a fine uneven surface 2a having a fine projection group fine projections 3 will be set, the microprojections 3, the shortest wavelength in the wavelength band of light to improve the anti-reflection lambda min In addition, when the average value of the adjacent protrusion interval d (FIG. 1) of the minute protrusion 3 is d AVG , the relationship of d AVG ≦ Λ min is established, thereby preventing reflection of light having a wavelength of Λ min or more. be able to.

本発明者らは、微細凹凸層表面に付着した汚染物を拭取る際に、微小突起に圧力がかかることに着目した。本発明者らは、拭取る際の圧力により、微小突起及び微細凹凸層全体が変形して、突起間の溝が広がる、或いは、突起間の溝が埋まるように設計することにより、微小突起間に付着した汚染物を機械的に掻き出し易くなり、汚れを拭取ることが可能になると考えた。しかしながら、特許文献5に記載されるような弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成する場合、微小突起が倒れやすく、各微小突起の先端部同士がくっつきあうスティッキングが生じやすい。そのため、拭取り圧力で、容易に突起が潰れたり、スティッキングが生じる等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合があった。また、本発明者らは、親水性の樹脂材料を用いた場合は、水拭きで汚れを拭き取ろうとすると、水分子の極性を介して、より突起同士が引かれ合い易くなり、より一層スティッキングが生じ易いことを知見した。
本発明において、微細凹凸層は、ポリロタキサンを含む樹脂組成物の硬化物からなる。ポリロタキサンは、2つ以上の環状分子の開口部を直鎖状分子が串刺し状に貫通し、環状分子が直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端に、環状分子が遊離しないようにブロック基を配置してなる。ポリロタキサンが有する環状分子は、直鎖状分子を包接した状態で、直鎖状分子上をスライドして移動することができる。そのため、本発明における微細凹凸層は、拭き取りの際にかかる圧力等の外力によって、ポリロタキサンが有する環状分子が、直鎖状分子上をスライドして移動し、環状分子の周囲に存在する分子も、分子間力が働くことにより、環状分子に伴って移動すると考えられる。よって、本発明における微細凹凸層は、外力が一点に集中せず、これにより、外力に対して微小突起及び微細凹凸層全体が変形しやすいと考えられ、その結果、微小突起間の汚れを容易に拭き取ることができると考えられる。
また、ポリロタキサンの中で同軸上に存在する環状分子同士が近付くと、エントロピーを維持するために、当該環状分子は互いの距離を一定に保つように動くと考えられる。これにより、外力によって変形した微細凹凸層は、容易に元の形状に復元されるため、本発明に係る反射防止物品は、微小突起の変形や微小突起同士が付着するスティッキングが抑制され、微小突起の変形やスティッキングによる反射防止性能の低下も抑制することができると考えられる。更に、本発明における微細凹凸層は、内部応力を分散させ、構造の破壊を防ぐことができるため、耐擦傷性が向上したと考えられる。
このように、本発明に係る反射防止物品は、微細凹凸層がポリロタキサンを含有することにより、外力に対して容易に変形することができ且つ元の形状に復元される靭性が高いものとなることから、微小突起間の汚れを容易に拭き取ることが可能でありながら、微小突起の変形やスティッキングによる反射防止性能の低下が抑制され、耐擦傷性にも優れる。
The present inventors have paid attention to the fact that pressure is applied to the fine protrusions when wiping the contaminants attached to the surface of the fine uneven layer. The inventors of the present invention designed that the microprotrusions and the fine concavo-convex layer as a whole are deformed by the pressure at the time of wiping, so that the grooves between the protrusions are widened, or the grooves between the protrusions are filled. We thought that it would be possible to mechanically scrape off the contaminants adhering to the surface and wipe off the dirt. However, when the microprotrusions are formed using a resin material having a low elastic modulus as described in Patent Document 5, the microprotrusions easily fall down, and sticking in which the tips of the microprotrusions stick to each other easily occurs. For this reason, the wiping pressure may cause plastic deformation such as easily crushing the protrusion or causing sticking, and a wiping mark may remain at the wiped portion. In addition, when the hydrophilic resin material is used, the inventors of the present invention make it easier for the protrusions to be attracted to each other through the polarity of the water molecules when the dirt is removed with water. It was found that is likely to occur.
In this invention, a fine uneven | corrugated layer consists of the hardened | cured material of the resin composition containing a polyrotaxane. The polyrotaxane is designed so that the cyclic molecules are not released at both ends of the pseudo-polyrotaxane formed by penetrating the openings of two or more cyclic molecules in a skewered manner, and the cyclic molecules include the linear molecules. A block group is arranged. The cyclic molecule possessed by the polyrotaxane can slide and move on the linear molecule in a state where the linear molecule is included. Therefore, in the fine uneven layer in the present invention, due to an external force such as pressure applied when wiping, the cyclic molecule that the polyrotaxane has slides on the linear molecule and moves, and molecules that exist around the cyclic molecule are also included. It is considered that the intermolecular force acts to move with the cyclic molecule. Therefore, in the fine uneven layer according to the present invention, the external force is not concentrated on one point, and it is considered that the fine protrusions and the entire fine uneven layer are easily deformed by the external force, and as a result, the dirt between the fine protrusions is easy. It can be wiped off.
Further, when the cyclic molecules existing on the same axis in the polyrotaxane approach each other, it is considered that the cyclic molecules move so as to keep the mutual distance constant in order to maintain entropy. Thereby, since the fine uneven layer deformed by an external force is easily restored to the original shape, the antireflection article according to the present invention suppresses the deformation of the fine protrusions and the sticking where the fine protrusions adhere to each other. It is considered that the deterioration of the antireflection performance due to deformation and sticking can be suppressed. Furthermore, since the fine uneven layer in the present invention can disperse internal stress and prevent the destruction of the structure, it is considered that the scratch resistance is improved.
As described above, the antireflection article according to the present invention has a high toughness that can be easily deformed against an external force and restored to its original shape because the fine uneven layer contains polyrotaxane. Therefore, while it is possible to easily wipe off the dirt between the microprotrusions, the deterioration of the antireflection performance due to deformation of the microprotrusions and sticking is suppressed, and the scratch resistance is excellent.

<微細凹凸層>
本発明に係る反射防止物品が備える微細凹凸層は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有し、樹脂組成物の硬化物からなる。
[樹脂組成物]
微細凹凸層用の樹脂組成物は、少なくともポリロタキサンを含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
本発明において、ポリロタキサンに含まれる直鎖状分子は、環状分子に包接され、非共有結合的に一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば、特に限定されない。なお、本発明において、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子、及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。また、1つのポリロタキサンにおいて、複数の環状分子は、1つの直鎖状分子を包接するものであってもよいし、2つ以上の直鎖状分子が束になったものを包接するものであってもよい。
また、本発明において、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。即ち、回転子である環状分子が回転可能、もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動又は移動可能であれば、その長さに特に制限はない。
<Fine uneven layer>
The fine concavo-convex layer provided in the antireflection article according to the present invention has a fine concavo-convex shape provided with a group of fine protrusions in which a plurality of fine protrusions are closely arranged, and is formed of a cured product of the resin composition.
[Resin composition]
The resin composition for the fine uneven layer is preferably a photocurable resin composition containing at least a polyrotaxane.
In the present invention, the linear molecule contained in the polyrotaxane is a molecule or substance that is included in the cyclic molecule and can be integrated non-covalently, and is not particularly limited as long as it is linear. Not. In the present invention, the “linear molecule” refers to a molecule including a polymer and all other substances satisfying the above requirements. Further, in one polyrotaxane, the plurality of cyclic molecules may include one linear molecule, or include two or more linear molecules bundled together. May be.
In the present invention, “linear” of “linear molecule” means substantially “linear”. That is, the linear molecule may have a branched chain as long as the cyclic molecule that is a rotor is rotatable or the cyclic molecule is slidable or movable on the linear molecule. Further, the length of the “straight chain” is not particularly limited as long as the cyclic molecule can slide or move on the linear molecule.

本発明に用いられるポリロタキサンは、特に限定はされないが、反応性基を有するものであることが好ましい。ポリロタキサンが反応性基を有することにより、ポリロタキサン同士、或いはポリロタキサンと他の反応性基を有する化合物とが架橋点を形成することができる。前記架橋点は外力が加わっても架橋結合が維持されるため、微小突起及び微細凹凸層全体は復元性が向上する。一方で、前記架橋点を有していても、環状分子及びその周辺分子は外力が加わることにより移動し得るため、微小突起及び微細凹凸層全体の変形し易さは維持される。
本発明においては、中でも、ポリロタキサンが環状分子に反応性基を有するものであることがより好ましい。これにより、環状分子同士、或いは環状分子と他の反応性基を有する化合物とが、架橋点を形成することができる。ポリロタキサンの環状分子は、直鎖状分子上をスライドして移動することができるため、環状分子によって形成された架橋点は、架橋点自体が移動し得る。そのため、微細凹凸層は、復元性を向上しながら、より変形し易くもなる。これにより、本発明に係る反射防止物品は、より一層微細凹凸層間の拭き取り性及び耐擦傷性が向上し、スティッキングも抑制される。
また、本発明に用いられるポリロタキサンとしては、予め環状分子同士が架橋された架橋ポリロタキサンを用いてもよい。
The polyrotaxane used in the present invention is not particularly limited, but preferably has a reactive group. When the polyrotaxane has a reactive group, the polyrotaxanes or the polyrotaxane and a compound having another reactive group can form a crosslinking point. Since the cross-linking point maintains the cross-linking bond even when an external force is applied, the restorability of the microprojections and the fine concavo-convex layer is improved. On the other hand, even if it has the cross-linking point, the cyclic molecules and the peripheral molecules can move by applying an external force, so that the ease of deformation of the microprojections and the entire micro uneven layer is maintained.
In the present invention, it is more preferable that the polyrotaxane has a reactive group in the cyclic molecule. Thereby, a cyclic point can be formed between cyclic molecules or a compound having a cyclic molecule and another reactive group. Since the cyclic molecule of polyrotaxane can slide and move on a linear molecule, the crosslinking point itself can move at the crosslinking point formed by the cyclic molecule. Therefore, the fine concavo-convex layer is more easily deformed while improving the restoration property. Thereby, the antireflection article according to the present invention further improves the wiping property and scratch resistance between the fine uneven layers, and also suppresses sticking.
Moreover, as a polyrotaxane used in the present invention, a crosslinked polyrotaxane in which cyclic molecules are previously crosslinked may be used.

前記反応性基としては、架橋結合を形成することができるものであれば特に限定はされないが、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、ビニルエーテル基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を含有する官能基(以下、エチレン性不飽和結合含有基という場合がある)、シンナモイル基、シンナミリデン基、カルコン残基、イソクマリン残基、2,5−ジメトキシスチルベン残基、チミン残基、スチルピリジニウム残基、α−フェニルマレイミド残基、アントラセン残基及び2−ピロン残基等の不飽和結合基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基等が挙げられ、中でもエチレン性不飽和結合含有基が紫外線照射による反応性が良好であり、量産性に優れている点から好ましい。   The reactive group is not particularly limited as long as it can form a cross-linked bond. For example, an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a vinyl ether group, a styryl group, or an allyl group. Functional group containing a bond (hereinafter sometimes referred to as an ethylenically unsaturated bond-containing group), cinnamoyl group, cinnamylidene group, chalcone residue, isocoumarin residue, 2,5-dimethoxystilbene residue, thymine residue, still Examples include unsaturated bond groups such as pyridinium residues, α-phenylmaleimide residues, anthracene residues, and 2-pyrone residues, hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, thiol groups, aldehyde groups, and the like. The bond-containing group is preferable from the viewpoint of good reactivity with ultraviolet irradiation and excellent mass productivity.

前記直鎖状分子としては、例えばポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン、ポリ(メタ)アクリル酸、セルロース系樹脂(カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等)、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び/またはこれらの共重合体等の親水性ポリマー;例えばポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや(メタ)アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の疎水性ポリマー;及びこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。本発明においては、前記直鎖状分子は、好ましくは、ポリアルキレングリコール類、脂肪族ポリエステル類、ポリオレフィン類、ポリジエン類又はポリジアルキルシロキサン類;より好ましくは、ポリエチレングリコール誘導体、ポリプロピレングリコール誘導体、ポリテトラメチレングリコール誘導体、ポリブチロラクトン誘導体、ポリカプロラクトン誘導体、ポリエチレン誘導体、ポリプロピレン誘導体、ポリブテン誘導体、ポリイソプレン誘導体、ポリブタジエン誘導体、ポリジメチルシロキサン誘導体;特に好ましくは、ポリエチレングリコール誘導体、ポリプロピレングリコール誘導体、ポリエチレン誘導体、ポリプロピレン誘導体、ポリジメチルシロキサン誘導体である。   Examples of the linear molecule include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose resins (carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, etc.), polyacrylamide, polyethylene oxide, polyethylene glycol, and polyvinyl acetal. Hydrophilic polymers such as resin, polyvinyl methyl ether, polyamine, polyethyleneimine, casein, gelatin, starch and / or copolymers thereof; for example, copolymer resins with polyethylene, polypropylene, and other olefinic monomers, etc. Polyolefin resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer resin, polymethyl Hydrophobic polymers such as methacrylate, (meth) acrylic acid ester copolymers, acrylic resins such as acrylonitrile-methyl acrylate copolymer resins, polycarbonate resins, polyurethane resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, polyvinyl butyral resins; and These derivatives or modified products can be mentioned. In the present invention, the linear molecule is preferably a polyalkylene glycol, an aliphatic polyester, a polyolefin, a polydiene or a polydialkylsiloxane; more preferably a polyethylene glycol derivative, a polypropylene glycol derivative, a polytetra Methylene glycol derivatives, polybutyrolactone derivatives, polycaprolactone derivatives, polyethylene derivatives, polypropylene derivatives, polybutene derivatives, polyisoprene derivatives, polybutadiene derivatives, polydimethylsiloxane derivatives; particularly preferably polyethylene glycol derivatives, polypropylene glycol derivatives, polyethylene derivatives, polypropylene derivatives , A polydimethylsiloxane derivative.

前記直鎖状分子の重量平均分子量は、環状分子の稼動範囲を広げ、環状分子の導入数を増加させ、環状分子が動くことによる、耐スティッキング性、耐擦傷性及び除汚性を向上させる効果を効果的に発現させる点から、1,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000以上であることが更により好ましい。また、前記直鎖状分子の重量平均分子量は、樹脂材料安定性、微細凹凸形状の賦型性の点から、1,000,000以下であることが好ましく、500,000以下であることがより好ましく、300,000以下であることが更により好ましい。なお、ここでいう重量平均分子量とは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレン換算値として求めたものである。   The weight average molecular weight of the linear molecule increases the working range of the cyclic molecule, increases the number of introduction of the cyclic molecule, and improves the sticking resistance, scratch resistance and antifouling property due to the movement of the cyclic molecule. Is preferably 1,000 or more, more preferably 5,000 or more, and still more preferably 10,000 or more. In addition, the weight average molecular weight of the linear molecule is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, from the viewpoints of resin material stability and moldability of fine irregularities. Preferably, it is still more preferably 300,000 or less. In addition, the weight average molecular weight here is calculated | required as a standard polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC).

本発明の直鎖状分子は、その両末端に反応性基を有するのが好ましい。この反応性基を有することにより、ブロック基と容易に反応することができる。反応性基は、用いるブロック基に依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基などを挙げることができる。また、本発明においては、直鎖状分子に、前記反応性基を有していても良い。前記反応性基としてエチレン性不飽和結合含有基を有する直鎖状分子は、例えば、直鎖状分子が有する水酸基等の反応性基に、当該反応性基と反応可能な官能基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物を反応させることにより、得ることができる。   The linear molecule of the present invention preferably has reactive groups at both ends. By having this reactive group, it can react easily with a blocking group. Although a reactive group is dependent on the block group to be used, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group etc. can be mentioned, for example. In the present invention, the linear molecule may have the reactive group. The linear molecule having an ethylenically unsaturated bond-containing group as the reactive group includes, for example, a reactive group such as a hydroxyl group that the linear molecule has, a functional group capable of reacting with the reactive group, and an ethylenically unsaturated group. It can be obtained by reacting a compound having a saturated bond.

環状分子は、前記直鎖状分子を包接可能であり、実質的に環状構造を有するものであれば特に限定されない。ここで、実質的に環状構造であるとは、環状の一部が途切れた構造、及び、分子の一方の末端と他方の末端が結合していない螺旋構造等をも含む意味である。   The cyclic molecule is not particularly limited as long as it can include the linear molecule and has a substantially cyclic structure. Here, “substantially a cyclic structure” means that the structure includes a structure in which a part of the ring is interrupted, a helical structure in which one end of the molecule is not bonded to the other end, and the like.

環状分子として、例えば、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体等のシクロデキストリン類、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体等を挙げることができる。これらの中でも、シクロデキストリン類が好ましく、α−シクロデキストリンが特に好ましい。   Examples of the cyclic molecule include cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin, γ-cyclodextrin, dimethylcyclodextrin and glucosylcyclodextrin, derivatives or modified products thereof, crown ethers, benzocrowns, dibenzo Examples include crowns, dicyclohexano crowns, derivatives or modified products thereof, and the like. Among these, cyclodextrins are preferable, and α-cyclodextrin is particularly preferable.

直鎖状分子を包接する環状分子の個数(包接量)は、特に限定されないが、当該環状分子直鎖状分子に環状分子が最密で包接されたとき(充填率:100%)の包接量を最大包接率1.0として表したときの直鎖状分子を包接する環状分子の導入率(包接率)は、0.05〜0.80であることが好ましい。直線状分子がポリエチレングリコール誘導体であって、環状分子がシクロデキストリン類である場合は、前記包接率は、0.05〜0.65であることが好ましく、0.10〜0.60であることがより好ましく、0.15〜0.55であることが更により好ましく、0.20〜0.40であることが特に好ましい。前記包接率が前記範囲内であることにより、微細凹凸層が変形し易く、除汚性、耐擦傷性に優れる。なお、環状分子の最大包接量は、直鎖状分子の長さと環状分子の厚さとから決定することができる。例えば、直鎖状分子がポリエチレングリコール誘導体であり、環状分子がα−シクロデキストリンの場合の最大包接量は、例えば、Macromolecules,1993,Vol26,5698−5703ページに記載の方法等により算出することができる。また、包接率は、例えば、1H−NMRにより測定される環状分子の含有量と直鎖状分子の含有量から算出することができる。   The number (inclusion amount) of the cyclic molecule that includes the linear molecule is not particularly limited, but when the cyclic molecule is closely packed and included in the cyclic molecule linear molecule (filling rate: 100%). The introduction rate (inclusion rate) of cyclic molecules that include linear molecules when the inclusion amount is expressed as a maximum inclusion rate of 1.0 is preferably 0.05 to 0.80. When the linear molecule is a polyethylene glycol derivative and the cyclic molecule is a cyclodextrin, the inclusion rate is preferably 0.05 to 0.65, and preferably 0.10 to 0.60. Is more preferably 0.15 to 0.55, and particularly preferably 0.20 to 0.40. When the inclusion rate is within the above range, the fine uneven layer is easily deformed, and is excellent in antifouling property and scratch resistance. The maximum inclusion amount of the cyclic molecule can be determined from the length of the linear molecule and the thickness of the cyclic molecule. For example, the maximum inclusion amount when the linear molecule is a polyethylene glycol derivative and the cyclic molecule is α-cyclodextrin is calculated by the method described in, for example, Macromolecules, 1993, Vol 26, 5698-5703. Can do. The inclusion rate can be calculated from, for example, the content of cyclic molecules and the content of linear molecules measured by 1H-NMR.

前記環状分子は、前記エチレン性不飽和結合含有基を有することが好ましい。前記環状分子にエチレン性不飽和結合含有基を導入する方法としては、従来公知の方法を挙げることができ、例えば、シクロデキストリン等の水酸基(−OH)を有する環状分子の水酸基の少なくとも一部をエチレン性不飽和結合含有基で置換することにより行うことができる。
前記環状分子にエチレン性不飽和結合含有基を導入する方法としては、例えば、イソシアネート化合物等によるカルバメート結合形成による方法;カルボン酸化合物、酸クロリド化合物又は酸無水物等によるエステル結合形成による方法;シラン化合物等によるシリルエーテル結合形成による方法;クロロ炭酸化合物等によるカーボネート結合形成による方法等の従来公知の方法を挙げることができる。
The cyclic molecule preferably has the ethylenically unsaturated bond-containing group. Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated bond-containing group into the cyclic molecule include conventionally known methods. For example, at least a part of the hydroxyl group of a cyclic molecule having a hydroxyl group (—OH) such as cyclodextrin is used. This can be carried out by substitution with an ethylenically unsaturated bond-containing group.
Examples of a method for introducing an ethylenically unsaturated bond-containing group into the cyclic molecule include a method by carbamate bond formation with an isocyanate compound or the like; a method by ester bond formation with a carboxylic acid compound, an acid chloride compound, or an acid anhydride; A conventionally known method such as a method by silyl ether bond formation with a compound or the like; a method by carbonate bond formation with a chlorocarbonic acid compound or the like can be mentioned.

環状分子が有する水酸基等の反応性基をエチレン性不飽和結合含有基に置換する工程は、擬ポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。また、擬ポリロタキサンをブロック化してポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。置換工程において用いられる条件は、置換するエチレン性不飽和結合含有基に依存するが、特に限定されず、種々の反応方法、反応条件を用いることができる。   The step of substituting a reactive group such as a hydroxyl group in the cyclic molecule with an ethylenically unsaturated bond-containing group may be before the step of preparing the pseudopolyrotaxane, between the steps, or after the step. Further, it may be before the step of preparing the polyrotaxane by blocking the pseudopolyrotaxane, between the steps, or after the step. The conditions used in the substitution step depend on the ethylenically unsaturated bond-containing group to be substituted, but are not particularly limited, and various reaction methods and reaction conditions can be used.

前記環状分子は、エチレン性不飽和結合含有基と異なる他の反応性基を有していても良い。他の反応性基を有する場合には、これにより、環状分子が、別の環状分子又はその他の分子と結合又は必要に応じて架橋剤を用いて架橋することができる。
他の反応性基としては例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。また、ブロック基と反応しない基を用いることが好ましい。
The cyclic molecule may have another reactive group different from the ethylenically unsaturated bond-containing group. In the case of having other reactive groups, this allows the cyclic molecule to bind to another cyclic molecule or other molecule or to be cross-linked using a cross-linking agent as required.
Examples of other reactive groups include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group, and an aldehyde group. Further, it is preferable to use a group that does not react with the blocking group.

また、前記環状分子は、2つ以上の環状分子同士が互いに化学結合されているものであっても良い。また、前記環状分子は、化学修飾されたものであってもよい。具体的には例えば、シクロデキストリン類の水酸基の少なくとも一つが他の有機基(疎水基)によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンは、溶剤への溶解性が向上する点から、好ましく用いられる。   The cyclic molecule may be one in which two or more cyclic molecules are chemically bonded to each other. The cyclic molecule may be chemically modified. Specifically, for example, a hydrophobized modified polyrotaxane in which at least one of hydroxyl groups of cyclodextrins is substituted with another organic group (hydrophobic group) is preferably used from the viewpoint of improving the solubility in a solvent.

また、前記環状分子がシクロデキストリン類である場合、シクロデキストリンが有する水酸基の少なくとも一つが疎水性の基(以下、単に疎水基と称する場合がある)によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンは、溶剤への溶解性が向上する点から好ましい。
疎水基としては、例えばアルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを挙げることができる。また、上記の疎水性修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水基の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて有していてもよい。
前記疎水性修飾基によって修飾された水酸基数の全水酸基数に対する比は、シクロデキストリンが有していた全水酸基数を1とすると、0.02以上であることが好ましく、0.04以上であることがより好ましく、0.06以上であることが更に好ましい。前記下限値以上であることにより、有機溶剤への溶解性に優れる。
また、エチレン性不飽和結合含有基又は他の反応性基と、疎水基とを導入することは、溶解性が向上しつつ他の分子との反応性を向上できる点から好ましい。
When the cyclic molecule is a cyclodextrin, at least one of the hydroxyl groups of the cyclodextrin is substituted with a hydrophobic group (hereinafter sometimes referred to simply as a hydrophobic group). This is preferable from the viewpoint of improving the solubility.
Examples of hydrophobic groups include alkyl groups, benzyl groups, benzene derivative-containing groups, acyl groups, silyl groups, trityl groups, nitrate ester groups, tosyl groups, alkyl-substituted ethylenically unsaturated groups as photocuring sites, and alkyl groups as thermosetting sites. Examples thereof include a substituted epoxy group. Moreover, in said hydrophobic modification polyrotaxane, you may have 1 type of the above-mentioned hydrophobic group individually or in combination of 2 or more types.
The ratio of the number of hydroxyl groups modified by the hydrophobic modifying group to the total number of hydroxyl groups is preferably 0.02 or more, and 0.04 or more, assuming that the total number of hydroxyl groups possessed by cyclodextrin is 1. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.06 or more. By being more than the said lower limit, it is excellent in the solubility to an organic solvent.
Introducing an ethylenically unsaturated bond-containing group or other reactive group and a hydrophobic group is preferable from the viewpoint of improving the reactivity with other molecules while improving the solubility.

前記直鎖状分子の両末端に配置されるブロック基としては、環状分子の開口部を直鎖状分子が串刺し状に貫通した状態を保持する基であれば、いかなる基を用いてもよく、特に限定はされない。ここで、「基」というのは、分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。
ブロック基としては、例えば、「嵩高さ」を有する基、及び「イオン性」を有する基等を挙げることができる。なお、「イオン性」を有する基は、例えば、環状分子の有する「イオン性」と反発しあうことにより、環状分子の開口部を直鎖状分子が串刺し状に貫通した状態を保持することができる。前記ブロック基の具体例としては、例えば、2,4−ジニトロフェニル基、3,5−ジニトロフェニル基などのジニトロベンゼン類由来の基、シクロデキストリン類由来の基、アダマンチル基等のアダマンタン類由来の基、トリチル基等のトリフェニルメタン類由来の基、フルオレセイン類由来の基、ピレン類由来の基、置換ベンゼン類由来の基、置換されていてもよい多核芳香族基、ステロイド類由来の基などが挙げられる。これらの中でも、ジニトロベンゼン類由来の基、シクロデキストリン類由来の基、アダマンタン類由来の基、トリフェニルメタン類由来の基、フルオレセイン類由来の基、又はピレン類由来の基が好ましく、2,4−ジニトロフェニル基、3,5−ジニトロフェニル基、2,4−ジフェニルフェニル基、2,4−ジイソプロピルフェニル基、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、4−ジフェニルアミノフェニル基、4−ジフェニルホスフィニルフェニル基、アダマンチル基、又はトリチル基であり、特に好ましくは、2,4−ジニトロフェニル基、3,5−ジニトロフェニル基、アダマンチル基、又はトリチル基がより好ましい。なお、本発明のポリロタキサンの両分子末端に設けられるブロック基は、互いに同一であっても、又は異なっていてもよい。また、前記ブロック基は、エチレン性不飽和結合含有基を有していても良い。
As the blocking group disposed at both ends of the linear molecule, any group may be used as long as the linear molecule keeps the state in which the linear molecule penetrates through the opening of the cyclic molecule, There is no particular limitation. Here, the “group” means various groups including a molecular group and a polymer group.
Examples of the blocking group include a group having “bulkiness” and a group having “ionicity”. In addition, the group having “ionicity” can maintain a state in which a linear molecule is skewered through the opening of the cyclic molecule, for example, by repelling the “ionicity” of the cyclic molecule. it can. Specific examples of the blocking group include, for example, groups derived from dinitrobenzenes such as 2,4-dinitrophenyl group and 3,5-dinitrophenyl group, groups derived from cyclodextrins, and adamantane groups such as adamantyl group. Groups, groups derived from triphenylmethanes such as trityl groups, groups derived from fluoresceins, groups derived from pyrenes, groups derived from substituted benzenes, optionally substituted polynuclear aromatic groups, groups derived from steroids, etc. Is mentioned. Among these, a group derived from dinitrobenzenes, a group derived from cyclodextrins, a group derived from adamantanes, a group derived from triphenylmethanes, a group derived from fluoresceins, or a group derived from pyrenes is preferable. -Dinitrophenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, 2,4-diphenylphenyl group, 2,4-diisopropylphenyl group, 2,4-di-t-butylphenyl group, 4-diphenylaminophenyl group, 4- It is a diphenylphosphinylphenyl group, an adamantyl group, or a trityl group, and particularly preferably a 2,4-dinitrophenyl group, a 3,5-dinitrophenyl group, an adamantyl group, or a trityl group. The blocking groups provided at both molecular ends of the polyrotaxane of the present invention may be the same or different from each other. Further, the blocking group may have an ethylenically unsaturated bond-containing group.

前記ポリロタキサンの含有量は、前記樹脂組成物に含まれる全固形分に対して、0.5〜30質量%であることが好ましく、3〜30.0質量%であることがより好ましく、5〜20.0質量%であることが更により好ましい。前記含有量が前記下限値以上であることにより、汚れ拭き取り性及び耐擦傷性が向上し、反射防止性能の低下を抑制する効果が向上する。前記含有量が前記上限値以下であることにより、賦型性が向上し、反射防止性能が向上する。前記含有量が前記上限値を超えると、樹脂塗工性、転写性が悪くなるおそれがある。
なお、本発明において固形分とは、溶剤を除いたすべての成分を表す。
The content of the polyrotaxane is preferably 0.5 to 30% by mass, more preferably 3 to 30.0% by mass, more preferably 5 to 3% by mass with respect to the total solid content contained in the resin composition. It is still more preferable that it is 20.0 mass%. When the content is equal to or higher than the lower limit, the dirt wiping property and the scratch resistance are improved, and the effect of suppressing the decrease in the antireflection performance is improved. When the content is less than or equal to the upper limit, moldability is improved and antireflection performance is improved. If the content exceeds the upper limit, resin coatability and transferability may be deteriorated.
In addition, in this invention, solid content represents all the components except a solvent.

また、本発明に用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、硬化性樹脂成分を含有することが好ましい。硬化性樹脂成分としては、光硬化性成分が好ましく、ポリロタキサンが反応性基を有する場合は、ポリロタキサンと反応可能な反応性基を有する化合物であることがより好ましい。中でも、エチレン性不飽和結合を含有する官能基を有するポリロタキサンと組み合わせて、当該ポリロタキサンと反応可能なエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を用いることが好ましく、中でも特に(メタ)アクリレート系化合物が好ましい。
(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリロイル基を1分子中に1個有する単官能(メタ)アクリレートであっても、(メタ)アクリロイル基を1分子中に2個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを併用するものであってもよい。
中でも、柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを併用することが好ましい。
Moreover, it is preferable that the resin composition for fine uneven | corrugated layers used for this invention contains a curable resin component. As the curable resin component, a photocurable component is preferable. When the polyrotaxane has a reactive group, a compound having a reactive group capable of reacting with the polyrotaxane is more preferable. Among them, it is preferable to use a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group capable of reacting with the polyrotaxane in combination with a polyrotaxane having a functional group containing an ethylenically unsaturated bond, and in particular, a (meth) acrylate compound is used. preferable.
The (meth) acrylate is a polyfunctional acrylate having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, even if it is a monofunctional (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group in one molecule. Alternatively, monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate may be used in combination.
Especially, it is preferable to use a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate together from the point which balances a softness | flexibility and an elastic restoring property.

単官能(メタ)アクリレートの具体例としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、イソデキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールAジグリシジル(メタ)アクリレート、ビフェニリロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも、柔軟性に優れる点から、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する単官能(メタ)アクリレートが好ましく、中でも、炭素数12以上であることがより好ましく、トリデシル(メタ)アクリレート、及びドデシル(メタ)アクリレートのうち、少なくとも1種を含むことが更により好ましい。これらの単官能(メタ)アクリル酸エステルは、1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する単官能(メタ)アクリレートを用いる場合、後述する炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。
単官能(メタ)アクリレートの含有量は、前記樹脂組成物の全固形分に対して、0〜40質量%であることが好ましく、5〜40質量%であることがより好ましく、10〜30質量%であることが更により好ましい。
Specific examples of monofunctional (meth) acrylates include, for example, methyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate , Butoxyethylene glycol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isodexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate Relate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, biphenyloxyethyl acrylate, bisphenol A diglycidyl (meth) acrylate, biphenylyloxyethyl (meth) acrylate, ethylene oxide modified biphenylyloxyethyl (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, and the like. Among these, from the viewpoint of excellent flexibility, monofunctional (meth) acrylates having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms are preferable, and among these, 12 or more carbon atoms are more preferable, and tridecyl (meth) acrylate and dodecyl are preferable. It is even more preferable that at least one of (meth) acrylates is included. These monofunctional (meth) acrylic acid esters can be used alone or in combination of two or more. In addition, when using the monofunctional (meth) acrylate which has a C10 or more long-chain alkyl group, it has the characteristic of the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group mentioned later.
The content of the monofunctional (meth) acrylate is preferably 0 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the resin composition. % Is even more preferred.

また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ウレタントリ(メタ)アクリレート、エステルトリ(メタ)アクリレート、ウレタンヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。微小突起が弾性復元性を有し、柔軟性をも兼ね備える点から、アルキレンオキサイドを含む多官能(メタ)アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートより選択される1種以上を含むことが更により好ましい。
上記多官能(メタ)アクリレートの含有量は、前記樹脂組成物の全固形分に対して、10〜99質量%であることが好ましく、15〜90質量%であることがより好ましい。除汚性と耐スティッキング性の点から、アルキレンオキサイドを含む多官能(メタ)アクリレートが、用いられる(メタ)アクリレート系化合物の合計量100質量部に対して、30質量部以上であることが好ましく、更に50質量部以上であることが好ましい。
Specific examples of the polyfunctional acrylate include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate. Bisphenol A di (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol S di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate phthalate, ethylene oxide modified bisphenol A di ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tri (Acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, urethane tri (meth) acrylate, ester tri (meth) acrylate, urethane hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified tri Examples include methylolpropane tri (meth) acrylate. It is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate containing an alkylene oxide, more preferably to use an ethylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate, since the microprotrusions have elastic resilience and also have flexibility. It is even more preferable to include at least one selected from ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate.
It is preferable that content of the said polyfunctional (meth) acrylate is 10-99 mass% with respect to the total solid of the said resin composition, and it is more preferable that it is 15-90 mass%. From the viewpoint of antifouling property and anti-sticking property, the polyfunctional (meth) acrylate containing alkylene oxide is preferably 30 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total amount of the (meth) acrylate compound used. Further, it is preferably 50 parts by mass or more.

本発明に用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、微小突起の弾性復元性の点から、水酸基を有する(メタ)アクリレートと、多価イソシアネート化合物とを併用してもよい。多価イソシアネート化合物は、前記ポリロタキサンに水酸基を有する場合には、前記ポリロタキサン同士の架橋剤としても機能し得る。多価イソシアネート化合物の具体例としては、例えば、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’−ジフェニルスルホキシドジイソシアネート、4,4’−ジフェニルスルホンジイソシアネート、4,4’−ビフェニルジイソシアネートおよびこれらの誘導体等が挙げられる。
上記多価イソシアネート化合物の含有量は、前記樹脂組成物の全固形分に対して、0〜30質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましく、10〜20質量%であることがより好ましい。
The resin composition for a fine concavo-convex layer used in the present invention may use a (meth) acrylate having a hydroxyl group and a polyvalent isocyanate compound from the viewpoint of the elastic restoring property of the fine protrusions. When the polyrotaxane has a hydroxyl group, the polyvalent isocyanate compound can also function as a crosslinking agent between the polyrotaxanes. Specific examples of the polyvalent isocyanate compound include, for example, 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenyldimethylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, butane-1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4 -Diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-bis (iso Anetomechiru) cyclohexane, methylcyclohexane diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, 4,4'-diphenyl sulfoxide diisocyanate, 4,4'-diphenyl sulfone diisocyanate, 4,4'-biphenyl diisocyanate and derivatives thereof.
The content of the polyvalent isocyanate compound is preferably 0 to 30% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and more preferably 10 to 20% by mass with respect to the total solid content of the resin composition. It is more preferable that

また、本発明に用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、硬化物の柔軟性に優れる点から、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。また、前記炭素数は、12以上であることがより好ましい。
炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、(メタ)アクリロイル基を有することがより好ましい。
なお、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物が(メタ)アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記(メタ)アクリレートにも該当し得る。
炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、前記樹脂組成物の全固形分に対して、5〜30質量%であることが好ましく、7〜20質量%であることがより好ましい。
Moreover, it is preferable that the resin composition for fine uneven | corrugated layers used for this invention contains the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group from the point which is excellent in the softness | flexibility of hardened | cured material. The carbon number is more preferably 12 or more.
Specific examples of the compound having a long chain alkyl group having 10 or more carbon atoms include compounds having decane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, and the like. Moreover, unless the effect of this invention is impaired, you may have a substituent further. Specific examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, hydroxyl groups, carboxy groups, amino groups and sulfo groups, as well as ethylenically unsaturated double bonds such as vinyl groups and (meth) acryloyl groups. Groups and the like. Especially, it is preferable to have an ethylenically unsaturated double bond from a point provided with photocurability, and it is more preferable to have a (meth) acryloyl group.
In addition, when the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group has a (meth) acryloyl group, the said compound may correspond also to the said (meth) acrylate.
When using the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group, it is preferable that content of the said compound is 5-30 mass% with respect to the total solid of the said resin composition, and 7-20 mass % Is more preferable.

本発明に用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、必要に応じて、更に光重合開始剤を含有してもよい。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フォスフィンオキサイド、フェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
前記光重合開始剤の含有量は、通常、前記樹脂組成物に含まれる全固形分に対して0.8〜20質量%であり、0.9〜10質量%であることが好ましい。
The fine concavo-convex layer resin composition used in the present invention may further contain a photopolymerization initiator, if necessary. Specific examples of the photopolymerization initiator include, for example, bisacylphosphinoxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 2,2-dimethoxy-1. , 2-Diphenylethane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl -Propane-1-ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzene) Benzoyl) - phosphine oxide, phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) ethyl phosphinic acid and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
Content of the said photoinitiator is 0.8-20 mass% normally with respect to the total solid contained in the said resin composition, and it is preferable that it is 0.9-10 mass%.

前記樹脂組成物は、塗工性付与等の観点から、更に溶剤を含有してもよく、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体例としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、1種類単独で用いてもよく、2種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。   The resin composition may further contain a solvent from the viewpoint of imparting coatability, etc., and does not react with each component in the composition and is appropriately selected from solvents that can dissolve or disperse each component. It can be selected and used. Specific examples of such solvents include hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, propylene glycol monoethyl ether ( PGME) ether solvents such as chloroform and dichloromethane, halogenated alkyl solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and other amide solvents such as N, N-dimethylformamide And sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, and propanol, but are not limited thereto. Not to. Moreover, the solvent used for a resin composition may be used individually by 1 type, and the mixed solvent of two or more types of solvents may be sufficient as it.

前記樹脂組成物全量に対する固形分の割合は、20〜70質量%であることが好ましく、30〜60質量%であることがより好ましい。   The ratio of the solid content with respect to the total amount of the resin composition is preferably 20 to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass.

前記樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、帯電防止剤等が挙げられる。
前記樹脂組成物は、帯電防止剤を含有することにより、微細凹凸層表面に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。
帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、1級〜3級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、3級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、N,N−ジオクチル−1−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
帯電防止剤を用いる場合、前記帯電防止剤の含有量は、通常、前記樹脂組成物の全固形分に対して1〜20質量%であることが好ましく、2〜10質量%であることがより好ましい。
The resin composition may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include, for example, a surfactant for adjusting wettability, a silane coupling agent for improving adhesion, a stabilizer, an antifoaming agent, a repellency inhibitor, an antioxidant, an anti-aggregation agent, and a viscosity. A preparation agent, an antistatic agent, etc. are mentioned.
By containing the antistatic agent, the resin composition can suppress the adhesion of dirt on the surface of the fine concavo-convex layer, and the dirt is easily removed during wiping.
The antistatic agent can be appropriately selected from conventionally known ones. Specific examples of the antistatic agent include, for example, various cationic compounds having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and a primary to tertiary amino group, a sulfonate group, a sulfate ester base, and a phosphate ester. Bases, anionic compounds having an anionic group such as phosphonic acid bases, amphoteric compounds such as amino acid series and aminosulfate ester series, nonionic compounds such as amino alcohol series, glycerin series and polyethylene glycol series, tin and titanium alkoxides And metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof. Of these, cationic compounds are preferred, cationic compounds having a tertiary amino group are more preferred, and trialkylamines such as N, N-dioctyl-1-octaneamine are even more preferred.
When using an antistatic agent, the content of the antistatic agent is usually preferably 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 10% by mass, based on the total solid content of the resin composition. preferable.

本発明において、前記樹脂組成物の硬化物は、ポリロタキサンが有する複数の環状分子のうちの少なくとも一部が、別の環状分子、前記直鎖状分子及び前記硬化性樹脂成分から選ばれる少なくとも1種との間に架橋点を有することが好ましく、環状分子同士の架橋点及び環状分子と前記硬化性樹脂成分との架橋点を有することが更により好ましい。これにより、微細凹凸層が外力に対してより一層変形し易く且つ復元性が向上し、汚れ拭き取り性及び耐擦傷性が向上し、反射防止性能低下の抑制効果も向上する。   In the present invention, the cured product of the resin composition is at least one selected from another cyclic molecule, the linear molecule, and the curable resin component, at least a part of the plurality of cyclic molecules of the polyrotaxane. It is preferable to have a cross-linking point between the cyclic molecule and the cross-linking point between the cyclic molecule and the curable resin component. As a result, the fine uneven layer is more easily deformed with respect to external force and the resilience is improved, the dirt wiping property and the scratch resistance are improved, and the effect of suppressing the decrease in the antireflection performance is also improved.

前記樹脂組成物の硬化物は、前記ポリロタキサンがエチレン性不飽和結合を有し、且つエチレン性不飽和結合が、80〜100%の反応率で反応したものであることが好ましく、90〜99%の反応率で反応したものであることがより好ましい。これにより、微細凹凸層が外力に対してより一層変形し易く且つ復元性が向上し、汚れ拭き取り性及び耐擦傷性が向上し、反射防止性能低下の抑制効果も向上する。
前記反応率は、従来公知の方法により算出することができ、例えば、微細凹凸層の赤外スペクトル(IR)の測定結果から決定することができる。
In the cured product of the resin composition, the polyrotaxane preferably has an ethylenically unsaturated bond, and the ethylenically unsaturated bond reacts at a reaction rate of 80 to 100%, preferably 90 to 99%. It is more preferable that the reaction occurs at a reaction rate of As a result, the fine uneven layer is more easily deformed with respect to external force and the resilience is improved, the dirt wiping property and the scratch resistance are improved, and the effect of suppressing the decrease in the antireflection performance is also improved.
The said reaction rate can be calculated by a conventionally well-known method, for example, can be determined from the measurement result of the infrared spectrum (IR) of a fine uneven | corrugated layer.

前記樹脂組成物は、柔軟性に優れる点から、当該樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)が300MPa以下であることが好ましく、10〜250MPaであることがより好ましく、50〜200MPaであることが更により好ましい。
また、押圧後の復元性に優れていることから、前記樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)に対する損失弾性率(E”)の比(tanδ(=E”/E’))は、0.2以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましい。
From the viewpoint of excellent flexibility, the resin composition preferably has a storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured product of the resin composition of 300 MPa or less, more preferably 10 to 250 MPa, Even more preferably, it is 50-200 MPa.
Moreover, since it is excellent in resilience after pressing, the ratio of loss elastic modulus (E ″) to storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured product of the resin composition (tan δ (= E ″ / E ')) Is preferably 0.2 or less, and more preferably 0.1 or less.

本発明において貯蔵弾性率(E’)及び損失弾性率(E”)は、JIS K7244に準拠して、以下の方法により測定される。
まず、樹脂組成物を、2000mJ/cmのエネルギーの紫外線を1分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ1mm、幅5mm、長さ30mmの単膜とする。
次いで、25℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に10Hzで25gの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、25℃における、E’、E”が求められる。測定装置としては、例えば、UBM製 Rheogel E400を用いる。
In the present invention, the storage elastic modulus (E ′) and the loss elastic modulus (E ″) are measured by the following method in accordance with JIS K7244.
First, the resin composition is sufficiently cured by irradiating ultraviolet rays having an energy of 2000 mJ / cm 2 for 1 minute or more, and has a base material and a fine uneven shape, a thickness of 1 mm, a width of 5 mm, and a length of 30 mm. Single film.
Next, by applying a cyclic external force of 25 g at 10 Hz in the length direction of the cured product of the resin composition at 25 ° C. and measuring dynamic viscoelasticity, E ′ and E ″ at 25 ° C. are obtained. As the measuring device, for example, Rhegel E400 manufactured by UBM is used.

[微細凹凸形状]
微細凹凸層は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する。微小突起の形状は、反射防止性能に優れる点から、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有していることが、好ましい。このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物線状、釣鐘状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。微小突起が上記の形状を有することにより、微細凹凸等の深さ方向に屈折率が連続的に変化するため、反射防止性能が向上する。
[Fine uneven shape]
The fine concavo-convex layer has on the surface a fine concavo-convex shape provided with a fine protrusion group in which a plurality of fine protrusions are closely arranged. The shape of the microprotrusions is superior in antireflection performance, and the cross-sectional area occupancy rate of the material part forming the microprotrusions in the horizontal cross section when assuming that the microprotrusions are cut in a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusions However, it is preferable to have a structure that gradually increases gradually from the top of the microprotrusion toward the deepest portion. Specific examples of the shape of such minute protrusions include those having a vertical cross-sectional shape such as semicircular, semielliptical, triangular, parabolic, bell-shaped. The plurality of microprojections may have the same shape or different shapes. Since the minute protrusions have the above-described shape, the refractive index continuously changes in the depth direction of fine irregularities and the like, so that the antireflection performance is improved.

本発明において隣接突起間隔d及び微小突起の高さHは以下の方法により測定される。
(1)先ず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)又は走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)を用いて突起の面内配列(突起配列の平面視形状)を検出する。
In the present invention, the distance d between adjacent protrusions and the height H of the minute protrusions are measured by the following method.
(1) First, an in-plane arrangement of projections (planar shape of the projection arrangement) is detected using an atomic force microscope (AFM) or a scanning electron microscope (SEM).

(2)続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点(以下、単に極大点と称する。)を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。   (2) Subsequently, a maximum point of the height of each protrusion (hereinafter simply referred to as a maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. There are various methods for obtaining the maximum point, such as a method of sequentially comparing the planar view shape and the enlarged photograph of the corresponding cross-sectional shape to obtain the maximum point, and a method of obtaining the maximum point by image processing of the plan view enlarged photo. Can be applied.

(3)次に検出した極大点を母点とするドロネー図(Delaunary Diagram)を作成する。図2にドロネー図の一例を示す模式平面図を示す。図2の例に示されるようにドロネー図とは、微小突起3の各極大点31を母点としてボロノイ分割を行っ
た場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分32で結んで得られる3角形の集合体からなる網状図形である。各3角形は、ドロネー3角形と呼ばれ、各3角形の辺(隣接母点同士を結ぶ線分)は、ドロネー線と呼ばれる。
(3) Next, a Delaunay diagram with the detected maximum point as a generating point is created. FIG. 2 is a schematic plan view showing an example of a Delaunay diagram. As shown in the example of FIG. 2, the Delaunay diagram is defined by defining the mother points adjacent to each other in the Voronoi region as adjacent mother points when the Voronoi division is performed with the local maximum points 31 of the microprojections 3 as the mother points. This is a net-like figure composed of a triangular aggregate obtained by connecting adjacent base points with a line segment 32. Each triangle is called a Delaunay triangle, and a side of each triangle (a line segment connecting adjacent generating points) is called a Delaunay line.

(4)次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離(隣接突起間距離)の平面視の拡大写真から、5〜20個程度の互いに隣接する前記微細構造を有しない微小突起を選んで、その隣接突起間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値(通常、標本抽出して求められる隣接突起間距離平均値に対して、値が1/2以下のデータ)を除外して度数分布を検出する。   (4) Next, from the enlarged photograph of the frequency distribution of the line length of each Delaunay line, that is, the distance between adjacent maximum points (distance between adjacent protrusions) in a plan view, about 5 to 20 of the above-mentioned minute adjacent to each other Select a microprojection that does not have a structure, sample the value of the distance between adjacent projections, and clearly deviate from the numerical range obtained by sampling (typically the average distance between adjacent projections obtained by sampling) The frequency distribution is detected by excluding data whose value is 1/2 or less of the value.

(5)このようにして求めた隣接突起間距離dの度数分布を正規分布とみなして平均値dAVG及び標準偏差σを求める。本発明において、隣接突起間距離dの最大値dmaxはdmax=dAVG+2σと定義して算出される。 (5) The frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus determined is regarded as a normal distribution, and the average value d AVG and the standard deviation σ d are determined. In the present invention, the maximum value d max of the distance d between adjacent protrusions is calculated as d max = d AVG + 2σ d .

同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の(2)により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値HAVG、標準偏差σを求める。なお突起の頂部に凹部が存在する微細構造、或いは、頂部が複数の峰に分裂している微細構造を有する微小突起が含まれる場合は、1つの微小突起が頂点を複数有していることにより、1つの突起に対してこれら複数のデータが突起高さHのヒストグラムにおいて混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。 A similar technique is applied to define the height of the protrusion. In this case, a relative height difference of each local maximum point position from a specific reference position is acquired from the local maximum point obtained by the above (2), and is histogrammed. The average value H AVG of the projection height and the standard deviation σ H are obtained from the frequency distribution based on this histogram. In addition, in the case where a microprojection having a fine structure in which a concave portion exists on the top of the projection or a microstructure in which the top is split into a plurality of peaks is included, one microprojection has a plurality of vertices. The plurality of data are mixed in the histogram of the protrusion height H for one protrusion. Therefore, in this case, the frequency distribution is obtained by adopting the vertex having the highest height from among the plurality of vertices belonging to the same microprotrusion as the protuberance.

なお、微小突起の高さを測る際の基準位置は、突起付け根位置、すなわち隣接する微小突起の間の谷底(高さの極小点)を高さ0の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面2bが、微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でうねった凹凸形状を有する場合(図3参照)等は、(1)先ず、微細凹凸層2の微細凹凸面2aとは反対側の面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が収束するに足る面積の中で算出する。(2)次いで、該平均値の高さを有し、且つ微細凹凸層2の微細凹凸面2aとは反対側の面と平行な面を基準面として考える。(3)その後、該基準面を改めて高さ0として、該基準面からの各微小突起の高さ
を算出する。
The reference position for measuring the height of the microprojections is the base position of the projection, that is, the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent microprojections is used as the reference for the height 0. However, when the height of the valley bottom itself varies depending on the location, for example, when the envelope surface 2b connecting the valley bottoms between the microprotrusions has a concavo-convex shape with a large period compared to the distance between adjacent protrusions of the microprotrusions. (Refer to FIG. 3): (1) First, an area that is sufficient to converge the average value of the height of each valley bottom measured from the surface opposite to the fine uneven surface 2a of the fine uneven layer 2 Calculate in (2) Next, a surface having the average height and parallel to the surface opposite to the fine uneven surface 2a of the fine uneven layer 2 is considered as a reference surface. (3) Then, the height of each microprotrusion from the reference surface is calculated by setting the reference surface to a height of 0 again.

尚、係るうねりによる凹凸面の周期Dが全面に渡って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸面について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をDAVG、標準偏差をΣとしたときの、
min=DAVG―2Σ
として定義する最小隣接突起間距離Dminを以って周期Dの代わりとして設計する。即ち、微細凹凸層2の凹凸面2aの残留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
min>λMAX
である。通常、D又はDminは1〜200μm、好ましくは10〜100μmとされる。
When the period D of the uneven surface due to the undulation is not constant over the entire surface and has a distribution, the frequency distribution of the distance between the protrusions is obtained for the uneven surface, the average value is D AVG , and the standard deviation is Σ. When
D min = D AVG -2Σ
Designed as an alternative to period D with minimum inter-protrusion distance D min defined as That is, the conditions that can sufficiently exhibit the scattering effect of the residual reflected light on the uneven surface 2a of the fine uneven layer 2 are as follows:
D min > λ MAX
It is. Usually, D or D min is 1 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm.

また、反射防止物品の良好な平滑性を確保するために、前記周期Dでうねった凹凸面の高低差(図3中のh)は、10nm以下であることが好ましく、1nm〜5nmの範囲内であることがより好ましい。なお、前記凹凸面により形成される凹凸面の高低差は、例えば500nm以上離れた微小突起の谷底部の位置の高低差を測定することにより求めることができる。微小突起の谷底部の位置は、反射防止物品を、厚み方向に切断した垂直断面のTEM写真又はSEM写真を用いて観察することにより求めることができる。   Further, in order to ensure good smoothness of the antireflection article, the height difference (h in FIG. 3) of the uneven surface wavy in the period D is preferably 10 nm or less, and is in the range of 1 nm to 5 nm. It is more preferable that The height difference of the uneven surface formed by the uneven surface can be obtained by measuring the height difference of the position of the valley bottom portion of the minute protrusion separated by, for example, 500 nm or more. The position of the valley bottom of the microprojection can be obtained by observing the antireflection article using a TEM photograph or SEM photograph of a vertical section cut in the thickness direction.

前記微小突起群中の各微小突起が同一の高さHを有し、当該微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接突起間隔dは、微小突起配列の周期pと一致するため、dAVG=pとなる。よって、反射防止効果を奏し得る条件は、dAVG=p≦Λminであり、微小突起配列の周期p以上の波長を有する光に対して反射防止効果を奏することができる(例えば、特開昭50−70040号公報、特許第4632589号公報、特許第4270806号公報を参照することができる)。従って、例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を得るためには、可視光線帯域の最短波長を380nmとした場合、微小突起配列の周期を380nm以下とすればよい。また、微小突起の高さHは、反射防止効果を得ようとする波長のうち最長波長Λmaxの0.2倍以上であることが好ましい(H≧0.2×Λmax)。従って、例えば可視光線帯域の全波長に対して優れた反射防止効果を得ようとするためには、可視光線帯域の最長波長を780nmとした場合、H≧0.2×780nm=156nmであることが好ましい。 When each microprotrusion in the microprotrusion group has the same height H and the microprotrusions are regularly arranged with a constant period, the adjacent protrusion interval d matches the period p of the microprotrusion array. d AVG = p. Accordingly, the condition that the antireflection effect can be exhibited is d AVG = p ≦ Λ min , and the antireflection effect can be exhibited with respect to light having a wavelength longer than or equal to the period p of the microprojection array (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho-sho). No. 50-70040, Japanese Patent No. 4632589, and Japanese Patent No. 4270806). Therefore, for example, in order to obtain an antireflection effect for all wavelengths in the visible light band, when the shortest wavelength in the visible light band is 380 nm, the period of the microprojection array may be set to 380 nm or less. The height H of the microprojections is preferably 0.2 times or more of the longest wavelength Λ max among the wavelengths for obtaining the antireflection effect (H ≧ 0.2 × Λ max ). Therefore, for example, in order to obtain an excellent antireflection effect for all wavelengths in the visible light band, when the longest wavelength in the visible light band is 780 nm, H ≧ 0.2 × 780 nm = 156 nm. Is preferred.

突起が不規則に配置されている場合には、上述のようにして求めた隣接突起間距離dの平均値dAVGが、dAVG≦Λminを満たすことが必要であり、最大値dmax=dAVG+2σが、dmax≦Λminを満たすことが好ましい。微小突起の高さHの平均値HAVGが、HAVG≧0.2×Λmaxを満たすことが好ましい。例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためには、dAVG≦380nmとすればよく、dmax=dAVG+2σ≦380nmとすることが好ましい。可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、dAVG≦300nmであり、更に好ましい条件は、dmax≦300nmであり、より更に好ましい条件は、dAVG≦200nmであり、特に好ましい条件は、dmax≦200nmである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性(低角度依存性)の確保等の理由から、通常、dAVG≧50nmであり、好ましくは、dAVG≧100nmとされる。また突起高さHについては、十分な反射防止効果を発現する為には、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛmaxとしたときに、HAVG≧0.2×Λmaxとなることが好ましく、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためにはHAVG≧0.2×780nm=156nmであることが好ましく、HAVG≧170nmとすることがより好ましい。突起の高さHAVGは、反射防止効果の点から、通常350nm以下とされる。また、突起の高さの分布は、通常50〜350nmである。 When the protrusions are irregularly arranged, the average value d AVG of the distance d between adjacent protrusions obtained as described above needs to satisfy d AVG ≦ Λ min , and the maximum value d max = It is preferable that d AVG + 2σ d satisfies d max ≦ Λ min . Mean H AVG height H of the minute projections preferably satisfies the H AVG ≧ 0.2 × Λ max. For example, in order to exhibit an antireflection effect for all wavelengths in the visible light band, d AVG ≦ 380 nm may be set, and d max = d AVG + 2σ d ≦ 380 nm is preferable. A preferable condition that can more reliably exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is d AVG ≦ 300 nm, a more preferable condition is d max ≦ 300 nm, and a still more preferable condition is d AVG ≦ 200 nm. There is a particularly preferred condition of d max ≦ 200 nm. Moreover, d AVG ≧ 50 nm is usually satisfied and d AVG ≧ 100 nm is preferable because of the manifestation of the antireflection effect and ensuring the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. The projections for the height H, in order to exhibit a sufficient anti-reflection effect, the shortest wavelength in the wavelength band of light to improve the antireflection when a lambda max, the H AVG ≧ 0.2 × Λ max it is preferred, is preferably H AVG ≧ 0.2 × 780nm = 156nm in order to can achieve an antireflection effect for all wavelengths of visible light band, it is more preferably a H AVG ≧ 170 nm. The height HAVG of the protrusion is usually 350 nm or less from the viewpoint of the antireflection effect. Further, the height distribution of the protrusions is usually 50 to 350 nm.

微細突起のアスペクト比(平均突起高さHAVG/平均隣接突起間隔dAVG)は0.8〜5.0とすることができ、中でも、反射防止性能の観点から、0.8〜2.5であることが好ましく、更に、1.0〜2.1であることがより好ましい。 The aspect ratio (average protrusion height H AVG / average adjacent protrusion interval d AVG ) of the fine protrusions can be set to 0.8 to 5.0, and in particular, 0.8 to 2.5 from the viewpoint of antireflection performance. Preferably, it is more preferable that it is 1.0-2.1.

微細凹凸層の厚み(図1におけるT)は、適宜調整すればよいが、3μm〜30μmであることが好ましく、5μm〜10μmであることがより好ましい。なお、本発明において微細凹凸層の厚みTは、当該微細凹凸層の透明基材との界面から、最も高い微小突起の頂部までの厚みで定義される。   The thickness of the fine uneven layer (T in FIG. 1) may be adjusted as appropriate, but is preferably 3 μm to 30 μm, and more preferably 5 μm to 10 μm. In the present invention, the thickness T of the fine concavo-convex layer is defined as the thickness from the interface of the fine concavo-convex layer to the transparent base material to the top of the highest minute protrusion.

<透明基材>
本発明に係る反射防止物品は、支持体として透明基材を含むものであっても良い。本発明に用いられる透明基材は、反射防止物品に用いられる公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン(PLZT)等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。
<Transparent substrate>
The antireflection article according to the present invention may include a transparent substrate as a support. The transparent base material used for this invention can be suitably selected and used according to a use from the well-known transparent base materials used for an antireflection article. Specific examples of materials used for the transparent substrate include acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, acrylic resins, Transparent resins such as polyurethane resin, polyethersulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyetherketone, acrylonitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, glass such as soda glass, potassium glass, lead glass And transparent inorganic materials such as ceramics such as lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), quartz, and fluorite.

前記透明基材は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transparent substrate preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance | permeability of a transparent base material can be measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

前記透明基材の厚みは、本発明の反射防止物品の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常20〜5000μmであり、前記透明基材は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。   Although the thickness of the said transparent base material can be suitably set according to the use of the antireflective article of this invention, Although it does not specifically limit, Usually, it is 20-5000 micrometers, The said transparent base material is supplied with the form of a roll. However, it may be any one of those that do not bend to the extent that they can be wound, but that can be bent by applying a load, or those that do not bend completely.

本発明に用いられる透明基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
また、透明基材と前記微細凹凸層との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性(耐傷性)を向上させるためのプライマー層を透明基材上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材と、当該透明基材とプライマー層を介して隣接する微細凹凸層に密着性を有し、可視光を透過するものが好ましい。
The configuration of the transparent substrate used in the present invention is not limited to a configuration consisting of a single layer, and may have a configuration in which a plurality of layers are laminated. When it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, and the several layer which has a different composition may be laminated | stacked.
Moreover, you may form the primer layer for improving the adhesiveness of a transparent base material and the said fine uneven | corrugated layer, and, thereby improving abrasion resistance (scratch resistance) on a transparent base material. This primer layer preferably has adhesiveness to the transparent substrate and the fine uneven layer adjacent to the transparent substrate via the primer layer and transmits visible light.

<その他の層>
本発明の反射防止物品は、本発明の効果を損なわない範囲において、更にその他の層を有していてもよい。透明基材の微細凹凸層を有しない面側には、光学フィルム用途に用いられる従来公知の各種層を有していてもよい。例えば、従来公知の単層或いは多層構成の反射防止層、光拡散による防眩性(或いは反射防止)を付与する層、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層等が挙げられる。
<Other layers>
The antireflection article of the present invention may further have other layers as long as the effects of the present invention are not impaired. The surface side of the transparent substrate that does not have the fine uneven layer may have various conventionally known layers used for optical film applications. For example, a conventionally known single layer or multilayer antireflection layer, a layer imparting antiglare property (or antireflection) by light diffusion, a conventionally known hard coat layer for preventing scratches, and the like can be mentioned.

また、本発明に係る反射防止物品においては、微細凹凸層2の微細凹凸形状側の表面に、剥離可能な保護フィルムを仮接着させてもよい。これにより、微細凹凸層2の微細凹凸形状側の表面に保護フィルムを仮接着した状態で、本発明に係る反射防止物品の保管、搬送、売買、後加工又は施工を行い、適時、該保護フィルムを剥離除去する形態とすることができるため、保管、搬送等の間における微細凹凸層3の微細凹凸形状側の表面の損傷、汚染を防止することができる。   In the antireflection article according to the present invention, a peelable protective film may be temporarily bonded to the surface of the fine uneven layer 2 on the fine uneven shape side. Thus, the protective film is temporarily bonded to the surface of the fine concavo-convex shape layer 2, and the antireflection article according to the present invention is stored, transported, bought and sold, post-processed or constructed, and the protective film is used in a timely manner. Therefore, it is possible to prevent damage and contamination of the surface of the fine unevenness side of the fine unevenness layer 3 during storage, transportation, and the like.

本発明の反射防止物品は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、反射防止性物品の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   In the antireflection article of the present invention, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance of the antireflective article can be measured by JIS K7361-1 (a test method for the total light transmittance of plastic-transparent material).

<反射防止物品の用途>
本発明に係る反射防止物品は、後述する画像表示装置の他、各種物品に用いることができる。
例えば、店舗のショーウィンドウや、美術館の展示物の展示窓;時計等、各種計測機器の表示窓表面;道路標識や、ポスター等の各種印刷物;自動車、航空機等の乗り物や、各種建築物の窓等の前面又は両面に配置して、視認性を向上することができる。また、眼鏡、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の各種光学機器や、各種照明機器の窓材として用いることもできる。
<Use of anti-reflective article>
The antireflection article according to the present invention can be used for various articles in addition to the image display device described later.
For example, shop windows, exhibition windows for museum exhibits; display windows for clocks and other measuring instruments; various printed materials such as road signs and posters; vehicles such as automobiles and aircraft; and windows for various buildings Visibility can be improved by arranging it on the front surface or both surfaces. It can also be used as a window material for various optical devices such as glasses, cameras, telescopes, microscopes, and various illumination devices.

また、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域として説明したが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定してもよい。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λmin及び最長波長Λmaxを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域に於ける反射防止効果を希望する最短波長及び最長波長にそれぞれ設定すればよい。例えば、最短波長Λminが850nmの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離d(若しくは其の平均値dAVG)を850nm以下、例えば、dAVG=800nmと設計すればよい。 In the above-described embodiment, the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection has been described as the visible light band, but the present invention is not limited to this, and the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection is infrared, ultraviolet, or the like. The wavelength band other than visible light may be set. In that case, in each of the above conditional expressions, the shortest wavelength Λ min and the longest wavelength Λ max of the wavelength band of the electromagnetic wave are respectively set to the shortest wavelength and the longest wavelength for which an antireflection effect is desired in the wavelength band of infrared rays, ultraviolet rays, etc. It is sufficient to set each. For example, when it is desired to prevent reflection in the infrared band where the shortest wavelength Λ min is 850 nm, the distance d between adjacent protrusions (or its average value d AVG ) may be designed to be 850 nm or less, for example, d AVG = 800 nm.

<反射防止物品の製造方法>
本発明の反射防止物品の製造方法は、微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を形成する従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。
例えば、まず透明基材上に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物を塗布し、所望の微細凹凸形状を有する微細凹凸層形成用原版の凹凸形状を、前記樹脂組成物の塗膜に賦型した後、該樹脂組成物を硬化させることにより微細凹凸層を形成し、前記微細凹凸層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。前記樹脂組成物を硬化させる方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
<Method for producing antireflection article>
What is necessary is just to select the manufacturing method of the antireflection article of this invention suitably from the conventionally well-known method of forming the fine uneven | corrugated layer which has fine uneven | corrugated shape on the surface.
For example, first, a resin composition for forming a fine concavo-convex layer is applied onto a transparent substrate, and the concavo-convex shape of the original substrate for forming a fine concavo-convex layer having a desired fine concavo-convex shape is formed into a coating film of the resin composition. Thereafter, the resin composition is cured to form a fine concavo-convex layer, and then peeled off from the fine concavo-convex layer forming original plate. The method for curing the resin composition can be appropriately selected according to the type of the resin composition.

前記微細凹凸層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。
前記微細凹凸層形成用原版の微細凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微細凹凸層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微細凹凸層形成用原版に微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微細孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微細孔の開口部にテーパー形状を形成する第1エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第1エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微細孔の孔径を拡大する第2エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び/又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
このようにして、前記微細凹凸層形成用原版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に作製される。当該微細凹凸層形成用原版を用いて製造される微細凹凸層には、前記微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる微小突起群を備えた微細凹凸が形成され、すなわち、当該微細凹凸の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微細凹凸を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細凹凸の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微細凹凸形状が形成される。
The master for forming the fine uneven layer is not particularly limited as long as it is not deformed and worn when repeatedly used, and may be made of metal or resin, Metal is preferably used. This is because it is excellent in deformation resistance and wear resistance.
The surface having the fine concavo-convex shape of the original plate for forming the fine concavo-convex layer is not particularly limited, but is preferably made of aluminum from the viewpoint of being easily oxidized and easily processed by anodization.
Specifically, the master for forming the fine uneven layer is, for example, a high-purity aluminum by sputtering or the like directly on the surface of a metal base material such as stainless steel, copper, or aluminum, or through various intermediate layers. A layer is provided, and the aluminum layer is formed with an uneven shape. Prior to providing the aluminum layer, the surface of the base material may be made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method in which electrolytic elution action and abrasion action by abrasive grains are combined.
As a method of forming a fine uneven shape on the original plate for forming a fine uneven layer, for example, an anodic oxidation step of forming a plurality of fine holes on the surface of the aluminum layer by an anodic oxidation method, and etching the aluminum layer A first etching step for forming a tapered shape in the opening of the microhole, and a second for enlarging the hole diameter of the microhole by etching the aluminum layer at an etching rate higher than the etching rate of the first etching step. It can be formed by sequentially repeating the etching process.
When forming a fine concavo-convex shape, a desired shape can be obtained by appropriately adjusting the purity (amount of impurities), crystal grain size, anodizing treatment and / or etching conditions of the aluminum layer. . In the anodizing treatment, more specifically, by controlling the liquid temperature, the voltage to be applied, the time for the anodizing, etc., fine holes are formed into shapes corresponding to the target depth and the shape of the fine protrusions, respectively. be able to.
In this way, in the original plate for forming a fine concavo-convex layer, a large number of fine holes whose pore diameter gradually decreases in the depth direction are densely produced. In the fine concavo-convex layer manufactured using the fine concavo-convex layer forming original plate, fine concavo-convex portions having a small protrusion group that gradually decreases in diameter as it approaches the top corresponding to the fine holes are formed. The cross-sectional area occupancy rate of the material portion forming the fine unevenness in the horizontal cross section when it is assumed to be cut in a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the fine unevenness approaches the deepest portion direction from the top of the fine unevenness. As a result, a fine concavo-convex shape that gradually increases gradually is formed.

また、前記微細凹凸層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、前記微細凹凸層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型(以下、「ロール金型」と称する場合がある。)を用いることが好ましい。
本発明において用いられるロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
Further, the shape of the original plate for forming a fine uneven layer is not particularly limited as long as it can shape a desired shape. For example, it may be a flat plate shape or a roll shape. However, it is preferable to use a roll-shaped mold (hereinafter sometimes referred to as a “roll mold”) from the viewpoint of improving productivity.
As a roll mold used in the present invention, for example, as a base material, a cylindrical metal material is used, and an aluminum layer provided directly or via various intermediate layers on the peripheral side surface of the base material, As described above, there may be mentioned those in which fine irregularities are produced by repeating anodizing treatment and etching treatment.

図4に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、微細凹凸層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、透明基材上に微細凹凸層を形成する方法の一例を示す。
図4に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ11により帯状フィルム形態の透明基材1に、未硬化で液状の光硬化性樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層2’を形成する。なお光硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ11による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ13により、微細凹凸層形成用原版であるロール金型12の周側面に透明基材1を加圧押圧し、これにより透明基材1に受容層2’を密着させると共に、ロール金型12の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に、受容層2’を構成する光硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により光硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材1の表面に微細凹凸層2を作製する。続いて剥離ローラ14を介してロール金型12から、硬化した微細凹凸構造体2と一体に透明基材1を剥離する。必要に応じてこの透明基材1に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品1を作製する。これにより反射防止物品は、ロール材による長尺の透明基材1に、微細凹凸層形成用原版であるロール金型12の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
In FIG. 4, when a photocurable resin composition is used as the resin composition for forming the fine uneven layer and a roll mold is used as the original plate for forming the fine uneven layer, the fine uneven layer is formed on the transparent substrate. An example of the method is shown.
In the method shown in FIG. 4, in the resin supplying step, an uncured and liquid photocurable resin composition is applied to the transparent base material 1 in the form of a strip with a die 11 to form a microprojection-shaped receiving layer 2 ′. To do. In addition, about application | coating of a photocurable resin composition, not only the case by the die | dye 11 but various methods are applicable. Subsequently, the pressing roller 13 presses and presses the transparent base material 1 against the peripheral side surface of the roll mold 12 which is a master for forming a fine uneven layer, thereby bringing the receiving layer 2 ′ into close contact with the transparent base material 1, A fine concavo-convex recess formed on the peripheral side surface of the roll mold 12 is sufficiently filled with the photocurable resin composition constituting the receiving layer 2 ′. In this state, the photocurable resin composition is cured by irradiation with ultraviolet rays, whereby the fine uneven layer 2 is produced on the surface of the transparent substrate 1. Subsequently, the transparent substrate 1 is peeled off from the roll die 12 through the peeling roller 14 together with the hardened fine uneven structure 2. If necessary, an adhesive layer or the like is produced on the transparent substrate 1 and then cut to a desired size to produce the antireflection article 1. As a result, the anti-reflective article is formed by sequentially molding the fine concavo-convex shape produced on the peripheral side surface of the roll mold 12 which is the original plate for forming the fine concavo-convex layer on the long transparent base material 1 made of a roll material, and efficiently. Mass production.

また上述の実施形態では、ロール金型を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による微細凹凸層形成用原版を使用した賦型処理等により、枚葉状の反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、微細凹凸層形成用原版は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
また、本発明に係る反射防止物品においては、製造に使用した透明基材は必要に応じて剥離して、微細凹凸層のみとしてもよいし、微細凹凸層用の樹脂組成物として、透明基材の材料と同じものを用いることにより、微細凹凸層と透明基材が一体化したものであってもよい。
In the above-described embodiment, the case where a film-shaped antireflection article is produced by a forming process using a roll mold is described. However, the present invention is not limited to this, and the transparent substrate according to the shape of the antireflection article is used. Depending on the shape of the material, for example, when making a sheet-shaped antireflection article by a shaping process using a flat plate, a master for forming a fine uneven layer with a specific curved surface, etc. The layer forming original plate can be appropriately changed according to the shape of the transparent substrate according to the shape of the antireflection article.
Further, in the antireflection article according to the present invention, the transparent substrate used in the production may be peeled off as necessary to provide only a fine uneven layer, or a transparent substrate as a resin composition for the fine uneven layer. By using the same material as that described above, the fine uneven layer and the transparent substrate may be integrated.

[画像表示装置]
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
本発明の画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に備えられた前記本発明に係る反射防止物品において、表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、反射防止性能の低下を抑制でき、且つ耐擦傷性に優れるため、除汚性、反射防止性及び耐擦傷性に優れる。本発明に係る画像表示装置は、特に、表示装置表面に指で直接触れることが多いもの、例えばタッチパネル部材を備えた画像表示装置等として好適に用いることができる。
[Image display device]
The image display device according to the present invention includes the antireflection article according to the present invention on at least one side of a display panel.
In the antireflection article according to the present invention provided on at least one surface side of the display panel, the image display device of the present invention is capable of wiping off dirt adhering to the surface, and can suppress a decrease in antireflection performance, and Since it has excellent scratch resistance, it has excellent antifouling properties, antireflection properties, and scratch resistance. The image display apparatus according to the present invention can be suitably used particularly as an apparatus that often directly touches the surface of the display apparatus with a finger, for example, an image display apparatus provided with a touch panel member.

本発明の画像表示装置20は、図5に示すように、表示パネル4の少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品10を備えている。当該反射防止物品10は、表示パネル4と直接貼り合わされてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、反射防止物品10と、表示パネル4との間に、他の部材を有していてもよい。当該他の部材としては、例えば、公知のタッチパネル部材等が挙げられる。
なお、本発明の画像表示装置にあっては、単に表示機能のみを有する装置(例えば、LCDモニター、CRTモニター等)でも良いが、装置の機能の一部として表示機能を有する装置も該当する。例えば、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等である。
As shown in FIG. 5, the image display device 20 of the present invention includes the antireflection article 10 according to the present invention on at least one surface side of the display panel 4. The antireflection article 10 may be directly bonded to the display panel 4, and has another member between the antireflection article 10 and the display panel 4 as long as the effects of the present invention are not impaired. Also good. As said other member, a well-known touch panel member etc. are mentioned, for example.
The image display device of the present invention may be a device having only a display function (for example, an LCD monitor, a CRT monitor, etc.), but a device having a display function as a part of the function of the device is also applicable. For example, a portable information terminal, a car navigation system, or the like.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

(製造例1:微細凹凸層形成用原版1の作製)
純度99.50%の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さRz30nm、且つ周期1μmの凹凸形状となるように研磨後、0.02Mシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧60V、20℃の条件にて120秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で60秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、1.0Mリン酸水溶液で150秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計5回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微細凹凸層形成用原版を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離dAVGが150nmで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
(Production Example 1: Production of master plate 1 for forming a fine uneven layer)
A rolled aluminum plate having a purity of 99.50% is polished so that its surface has an irregular shape with a 10-point average roughness Rz of 30 nm and a period of 1 μm, and then formed in an electrolyte solution of 0.02 M oxalic acid aqueous solution. Anodization was performed for 120 seconds under conditions of a voltage of 60 V and 20 ° C. Next, as a first etching process, an etching process was performed for 60 seconds with the electrolytic solution after anodization. Subsequently, as the second etching treatment, a pore size treatment was performed with a 1.0 M phosphoric acid aqueous solution for 150 seconds. Furthermore, the said process was repeated and these were added and implemented 5 times in total. As a result, an anodized aluminum layer having fine irregularities formed on the aluminum substrate was formed. Finally, a fluorine-based mold release agent was applied and the excess mold release agent was washed to obtain an original plate for forming a fine uneven layer. The fine uneven shape formed in the aluminum layer was a shape in which an average distance between adjacent micropores dAVG was 150 nm and a large number of micropores gradually decreasing in the depth direction. .

(製造例2:微細凹凸層用樹脂組成物Aの調製)
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分45質量%の微細凹凸層用樹脂組成物Aを調製した。
<微細凹凸層用樹脂組成物Aの組成>
・エチレンオキサイド変性(EO変性)ビスフェノールAジアクリレート 55質量部
・EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート 25質量部
・ポリロタキサン(アドバンストソフトマテリアルズ株式会社製 SA3405P;環状分子にエチレン性不飽和結合を含有する官能基を有する)20質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Production Example 2: Preparation of resin composition A for fine uneven layer)
The following components were mixed, and a resin composition A for fine uneven layer having a solid content of 45% by mass was prepared using methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone as diluent solvents.
<Composition of resin composition A for fine uneven layer>
-Ethylene oxide modified (EO modified) bisphenol A diacrylate 55 parts by mass-EO modified trimethylolpropane triacrylate 25 parts by mass-Polyrotaxane (SA3405P, manufactured by Advanced Soft Materials Co., Ltd.) Functionality containing an ethylenically unsaturated bond in the cyclic molecule 20 parts by mass having a group) 1 part by mass of diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO)

(製造例3:微細凹凸層用樹脂組成物Bの調製)
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分45質量%の微細凹凸層用樹脂組成物Bを調製した。
<微細凹凸層用樹脂組成物Bの組成>
・エチレンオキサイド変性(EO変性)ビスフェノールAジアクリレート 55質量部
・EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート 25質量部
・ポリロタキサン(アドバンストソフトマテリアルズ株式会社製 SA3405P;環状分子にエチレン性不飽和結合を含有する官能基を有する)10質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Production Example 3: Preparation of resin composition B for fine uneven layer)
The following components were mixed, and a resin composition B for a fine uneven layer having a solid content of 45% by mass was prepared using methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone as diluent solvents.
<Composition of resin composition B for fine uneven layer>
-Ethylene oxide modified (EO modified) bisphenol A diacrylate 55 parts by mass-EO modified trimethylolpropane triacrylate 25 parts by mass-Polyrotaxane (SA3405P, Advanced Soft Materials Co., Ltd.); 10 parts by mass having a group) 1 part by mass of diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO)

(製造例4:微細凹凸層用樹脂組成物Cの調製)
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分45質量%の微細凹凸層用樹脂組成物Cを調製した。
<微細凹凸層用樹脂組成物Cの組成>
・エチレンオキサイド変性(EO変性)ビスフェノールAジアクリレート 55質量部
・EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート 25質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Production Example 4: Preparation of resin composition C for fine uneven layer)
The following components were mixed, and a resin composition C for a fine uneven layer having a solid content of 45% by mass was prepared using methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone as diluent solvents.
<Composition of resin composition C for fine uneven layer>
-Ethylene oxide modified (EO modified) bisphenol A diacrylate 55 parts by mass-EO modified trimethylolpropane triacrylate 25 parts by mass-Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO) 1 part by mass

(製造例5:微細凹凸層用樹脂組成物Dの調製)
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分45質量%の微細凹凸層用樹脂組成物Dを調製した。
<微細凹凸層用樹脂組成物Dの組成>
・エチレンオキサイド変性(EO変性)ビスフェノールAジアクリレート 50質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
・ポリロタキサン(アドバンストソフトマテリアルズ株式会社製 SA3405P;環状分子にエチレン性不飽和結合を含有する官能基を有する)20質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Production Example 5: Preparation of resin composition D for fine uneven layer)
The following components were mixed, and a resin composition D for a fine uneven layer having a solid content of 45% by mass was prepared using methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone as diluent solvents.
<Composition of resin composition D for fine uneven layer>
-Ethylene oxide-modified (EO-modified) bisphenol A diacrylate 50 parts by mass-Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass-Polyrotaxane (manufactured by Advanced Soft Materials, Inc. SA3405P; a functional group containing an ethylenically unsaturated bond in the cyclic molecule 20 parts by mass of diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO) 1 part by mass

(製造例6:微細凹凸層用樹脂組成物Eの調製)
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分45質量%の微細凹凸層用樹脂組成物Eを調製した。
<微細凹凸層用樹脂組成物Eの組成>
・エチレンオキサイド変性(EO変性)ビスフェノールAジアクリレート 50質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Production Example 6: Preparation of resin composition E for fine uneven layer)
The following components were mixed, and a resin composition E for fine concavo-convex layer having a solid content of 45 mass% was prepared using methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone as diluent solvents.
<Composition of resin composition E for fine uneven layer>
・ Ethylene oxide-modified (EO-modified) bisphenol A diacrylate 50 parts by mass ・ Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by mass ・ Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO) 1 part by mass

[実施例1]
微細凹凸層形成用樹脂組成物として、上記微細凹凸層形成用樹脂組成物Aを、上記で得られた微細凹凸層形成用原版1の微細凹凸面が覆われ、硬化後の微細凹凸層の厚さが20μmとなるように塗布、充填し、その上に透明基材として厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TAC)(富士フィルム社製)を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで10N/cmの加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から2000mJ/cmのエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、実施例1の反射防止物品を得た。得られた反射防止物品の微細凹凸層が備える微小突起群は、平均隣接突起間隔dAVGが150nm(標準偏差σ10nm)であり、平均高さ
AVGが240nmであり、アスペクト比(HAVG/dAVG)が1.6であった。
[Example 1]
As the resin composition for forming a fine concavo-convex layer, the resin composition A for forming a fine concavo-convex layer is coated with the fine concavo-convex surface of the fine concavo-convex layer forming original plate 1 obtained above, and the thickness of the fine concavo-convex layer after curing Is applied and filled so that the thickness becomes 20 μm, and a 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC) (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) is bonded obliquely thereon as a transparent substrate, and then the bonded body is bonded. Was pressed with a rubber roller under a load of 10 N / cm 2 . After confirming that the uniform composition was applied to the entire original plate, ultraviolet rays were irradiated from the transparent substrate side with an energy of 2000 mJ / cm 2 to cure the resin composition for forming a fine uneven layer. Then, it peeled from the original plate and obtained the antireflection article of Example 1. The resulting fine projection group provided in the fine uneven layer of the antireflective article is the average adjacent projections spacing d AVG is 150 nm (standard deviation sigma d 10 nm), an average height H AVG is 240 nm, the aspect ratio (H AVG / D AVG ) was 1.6.

[実施例2]
微細凹凸層形成用樹脂組成物として、微細凹凸層形成用樹脂組成物Aの代わりに微細凹凸層形成用樹脂組成物Bを、用いた以外は実施例1と同様の作製手順にて、実施例2の反射防止物品を得た。
[Example 2]
In the same production procedure as in Example 1, except that the resin composition B for forming a fine uneven layer was used instead of the resin composition A for forming a fine uneven layer as the resin composition for forming the fine uneven layer. Two antireflective articles were obtained.

[実施例3]
微細凹凸層形成用樹脂組成物として、微細凹凸層形成用樹脂組成物Aの代わりに微細凹凸層形成用樹脂組成物Dを、用いた以外は実施例1と同様の作製手順にて、実施例3の反射防止物品を得た。
[Example 3]
In the same production procedure as Example 1, except that the resin composition D for forming a fine uneven layer was used instead of the resin composition A for forming a fine uneven layer as the resin composition for forming the fine uneven layer. 3 antireflective articles were obtained.

[比較例1]
微細凹凸層形成用樹脂組成物として、微細凹凸層形成用樹脂組成物Aの代わりに微細凹凸層形成用樹脂組成物Cを用いた以外は実施例1と同様の作製手順にて、比較例1の反射防止物品を得た。
[Comparative Example 1]
Comparative Example 1 was carried out in the same production procedure as Example 1, except that the resin composition C for forming a fine uneven layer was used instead of the resin composition A for forming a fine uneven layer as the resin composition for forming a fine uneven layer. An antireflective article was obtained.

[比較例2]
微細凹凸層形成用樹脂組成物として、微細凹凸層形成用樹脂組成物Aの代わりに微細凹凸層形成用樹脂組成物Eを用いた以外は実施例1と同様の作製手順にて、比較例2の反射防止物品を得た。
[Comparative Example 2]
Comparative Example 2 in the same production procedure as Example 1 except that the resin composition E for forming a fine uneven layer was used instead of the resin composition A for forming a fine uneven layer as the resin composition for forming a fine uneven layer. An antireflective article was obtained.

[評価]
<貯蔵弾性率(E’)等の測定>
製造例2〜6で得られた微細凹凸層用樹脂組成物A〜Eをそれぞれ2000mJ/cmのエネルギーの紫外線を1分間照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ1mm、幅5mm、長さ30mmの試験用単膜を得た。
次いで、JIS K7244に準拠し、25℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に10Hzで25gの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、25℃における、貯蔵弾性率E’、及び損失弾性率E”を求めた。また、当該E’及びE”の結果からtanδ(E”/E’)を算出した。測定装置はUBM製 Rheogel E400を用いた。結果を表1に示す。
[Evaluation]
<Measurement of storage elastic modulus (E ')>
The resin compositions A to E for fine concavo-convex layers obtained in Production Examples 2 to 6 are each sufficiently cured by irradiating ultraviolet rays having an energy of 2000 mJ / cm 2 for 1 minute to have a substrate and fine concavo-convex shapes. A test single membrane having a thickness of 1 mm, a width of 5 mm, and a length of 30 mm was obtained.
Next, in accordance with JIS K7244, by applying a periodic external force of 25 g at 25 Hz at 10 Hz in the length direction of the cured product of the resin composition, and measuring the dynamic viscoelasticity, the storage elasticity at 25 ° C. The modulus E ′ and the loss elastic modulus E ″ were obtained. Further, tan δ (E ″ / E ′) was calculated from the results of E ′ and E ″. The measuring apparatus used was RBM Ogel made by UBM. Table 1 shows.

<耐擦傷性試験>
実施例1〜3、比較例1〜2で得られた反射防止物品に対して、耐スチールウール性評価を行うことにより、各物品の耐擦傷性について評価を行った。
すなわち、まず、先端径がφ11.3mmである耐スチールウール性評価用治具に、スチールウール#0000(ボンスターポンド製)を取り付け、次に、物品の評価面(微細凹凸面)が上側を向くようにガラス板にサンプルを置き、エアーが入らないよう注意しながら、その四辺のテープ留めを行った。重量が100gとなるように調整した上記耐スチールウール性治具を用いて、走査速度が20〜30mm/secで、同一箇所を10往復するよう横方向にスライドさせながら、サンプル表面を擦った。評価したサンプル面とは反対側に黒テープを貼り付け、三波長管を用いて、サンプル表面の擦られたキズ本数を観察し、カウントし、下記評価基準により物品の耐擦傷性を評価した。評価結果を表1に示す。
(評価基準)
A:キズなし
B:キズ1〜5本
C:キズ5本超過
<Abrasion resistance test>
The anti-reflective articles obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated for the scratch resistance of each article by evaluating steel wool resistance.
That is, first, steel wool # 0000 (manufactured by Bonster Pound) is attached to a steel wool resistance evaluation jig having a tip diameter of φ11.3 mm, and then the evaluation surface (fine uneven surface) of the article faces upward. The sample was placed on a glass plate, and the four sides were taped, taking care not to enter air. Using the steel wool resistant jig adjusted to a weight of 100 g, the sample surface was rubbed while being slid laterally so as to make 10 reciprocations at the same speed at a scanning speed of 20 to 30 mm / sec. Black tape was affixed to the side opposite to the evaluated sample surface, the number of scratches rubbed on the sample surface was observed and counted using a three-wavelength tube, and the scratch resistance of the article was evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria)
A: No scratch B: 1 to 5 scratches C: 5 scratches exceeded

<拭き取り性試験>
実施例1〜3、比較例1〜2で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス(富士ケミカル製)にて指紋を乾拭きした。乾拭きは3kg/cm程度の力で10往復行い、拭取り後の外観を評価した。評価結果を表1に示す。
(評価基準)
A:指紋汚れが視認できない。
B:指紋がほぼ拭取られない。
<Wipeability test>
The surface of the anti-reflective article obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 is attached to a black acrylic plate with an adhesive layer, with the surface on the fine uneven surface side, and then the finger is pressed to attach the fingerprint. It was. Thereafter, the fingerprint was wiped dry with Zavina Minimax (Fuji Chemical). Dry wiping was performed 10 times with a force of about 3 kg / cm 2 , and the appearance after wiping was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria)
A: Fingerprint stains are not visible.
B: Fingerprints are hardly wiped off.

<視認性(白濁化)試験>
実施例1〜3、比較例1〜2で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、ザヴィーナミニマックス(富士ケミカル製)にて3kg/cm程度の力で10往復擦った。擦過1分後の視認性の評価を下記基準で行った。評価結果を表1に示す。
(評価基準)
A:擦り痕が視認されない。
B:擦り痕が明らかに白濁あるいは色味変化する。
<Visibility (clouding) test>
The anti-reflective articles obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were attached to a black acrylic plate with an adhesive layer, with the surface of the anti-reflective article side as the upper surface. ) Was rubbed 10 times with a force of about 3 kg / cm 2 . The visibility after 1 minute of rubbing was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria)
A: Scratch marks are not visually recognized.
B: Scratch marks are clearly cloudy or change in color.

(結果のまとめ)
実施例1〜3で得られた反射防止物品は、微細凹凸層が、ポリロタキサンを含む樹脂組成物の硬化物からなるものであったため、耐擦傷性に優れ、表面に付着した汚れを拭き取り可能でありながら、擦っても擦り痕が生じず、反射防止性能の低下が抑制されたものであり、耐擦傷性、汚れ拭き取り性及び反射防止性能の全てに優れたものであった。
一方、比較例1で得られた反射防止物品は、微細凹凸層の形成に用いられた樹脂組成物がポリロタキサンを含まないものであったため、復元性に劣っていたことから、耐擦傷性に劣り、擦った後に白濁化した。
比較例2で得られた反射防止物品は、微細凹凸層の形成に用いられた樹脂組成物がポリロタキサンを含まないものであったため、硬脆く耐擦傷性に劣り、変形し難く汚れ拭き取り性に劣っていた。
(Summary of results)
Since the anti-reflective article obtained in Examples 1 to 3 was made of a cured product of a resin composition containing a polyrotaxane, the fine uneven layer was excellent in scratch resistance and could wipe off dirt adhering to the surface. However, even when rubbed, no scratch marks were produced, and the deterioration of the antireflection performance was suppressed, and all of the scratch resistance, dirt wiping property and antireflection performance were excellent.
On the other hand, the antireflective article obtained in Comparative Example 1 was inferior in scratch resistance because the resin composition used for forming the fine uneven layer did not contain polyrotaxane, and thus was poor in resilience. , It became cloudy after rubbing.
The antireflective article obtained in Comparative Example 2 was hard and brittle and inferior in scratch resistance, difficult to deform, and inferior in dirt wiping because the resin composition used for forming the fine concavo-convex layer did not contain polyrotaxane. It was.

1 透明基材
2 微細凹凸層
2a 微細凹凸面
2b 各微小突起間の谷底を連ねた包絡面
2’ 受容層
3 微小突起
4 表示パネル
10 反射防止物品
11 ダイ
12 ロール金型
13 押圧ローラ
14 剥離ローラ
20 画像表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Fine uneven | corrugated layer 2a Fine uneven | corrugated surface 2b Enveloping surface 2 'which connected the valley bottom between each microprotrusion 2' Receptive layer 3 Microprotrusion 4 Display panel 10 Antireflection article 11 Die 12 Roll die 13 Press roller 14 Peeling roller 20 Image display device

Claims (4)

複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有し、樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸層を備えた反射防止物品であって、
前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛmin、当該微小突起の隣接突起間隔dの平均値をdAVGとしたときに、
AVG≦Λmin
なる関係を有し、
前記樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)が300MPa以下であり、
前記樹脂組成物が、ポリロタキサンを含むことを特徴とする、反射防止物品。
An anti-reflective article having a fine concavo-convex shape having a micro-protrusion group having a plurality of micro-protrusions arranged in close contact with each other, and having a fine concavo-convex layer made of a cured resin composition
When the shortest wavelength of the wavelength band of light for preventing reflection is Λ min and the average value of the adjacent protrusion intervals d of the fine protrusions is d AVG ,
d AVG ≦ Λ min
Have the relationship
The storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured product of the resin composition is 300 MPa or less,
An antireflection article, wherein the resin composition contains a polyrotaxane.
前記ポリロタキサンが、環状分子にエチレン性不飽和結合を含有する官能基を有する、請求項1に記載の反射防止物品。   The antireflection article according to claim 1, wherein the polyrotaxane has a functional group containing an ethylenically unsaturated bond in a cyclic molecule. 前記ポリロタキサンの含有量が、前記樹脂組成物に含まれる全固形分に対して0.5〜30.0質量%である、請求項1又は2に記載の反射防止物品。   The antireflection article according to claim 1 or 2, wherein the content of the polyrotaxane is 0.5 to 30.0 mass% with respect to the total solid content contained in the resin composition. 表示パネルの少なくとも一面側に、請求項1〜3のいずれか一項に記載の反射防止物品を備える、画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection article according to any one of claims 1 to 3 on at least one surface side of the display panel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6723260B2 (en) * 2015-11-18 2020-07-15 株式会社ニコン・エシロール Eyeglass lens
CN106448460A (en) * 2016-11-24 2017-02-22 武汉华星光电技术有限公司 Display panel and device
EP4094934A4 (en) * 2020-01-22 2024-03-13 Toppan Inc. Decorative sheet, decorative plate, and method for producing decorative sheet
CN114002879B (en) * 2021-11-01 2023-06-30 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Optical film and display device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4911474B2 (en) * 2008-02-26 2012-04-04 富士フイルム株式会社 Hard coat film, polarizing plate, and image display device
JP2013238808A (en) * 2012-05-17 2013-11-28 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Structure having specific surface shape and method of manufacturing the same
TW201509962A (en) * 2012-06-15 2015-03-16 Mitsubishi Rayon Co Active energy ray curable resin composition and light-transmissive article active energy ray curable resin composition
JP5261596B1 (en) * 2012-07-31 2013-08-14 大日本印刷株式会社 Antireflection article, image display device, and mold for manufacturing antireflection article
KR101470465B1 (en) * 2012-08-23 2014-12-08 주식회사 엘지화학 Hard coating film

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