JP2016043030A - Powder cosmetic container and tester display stand for powder cosmetics - Google Patents

Powder cosmetic container and tester display stand for powder cosmetics Download PDF

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慶一 金澤
Keiichi Kanazawa
慶一 金澤
祐一 宮崎
Yuichi Miyazaki
祐一 宮崎
洋一郎 大橋
Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a powder cosmetic container in which the adherence of powder cosmetics is suppressed.SOLUTION: A powder cosmetic container includes a container body with a storage part for storing cosmetics including powder and a lid for closing the container body. The powder cosmetic container is configured as follows: at least a portion of the internal surface of the powder cosmetic container has a microprotrusion structure with a microprotrusion group formed by closely disposing multiple microprotrusions comprising cured materials of resin composition; an average of distance between the adjacent microprotrusions is 500 nm or less; and the microprotrusions has a structure in which a cross-sectional area occupancy of a material portion forming the microprotrusions in the horizontal section at the time when assuming that it is cut with a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusions increases continuously and gradually as approaching the deepest part direction from the top part of the microprotrusions.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、粉体化粧料容器、及び粉体化粧料用テスター陳列台に関する。   The present invention relates to a powder cosmetic container and a tester display stand for powder cosmetic.

ファンデーション、アイシャドウ等の粉体化粧料は、一般的に、コンパクトと呼ばれる容器内に収容されている。当該コンパクトの典型例としては、1つ以上の粉体化粧料を収容する凹部と、必要に応じてブラシ等の化粧道具を収容する凹部とを一体に又は個別に有する容器本体と、当該容器本体を閉塞する蓋体を備えており、当該容器本体と蓋体とが蝶番を介して開閉自在に連結されている。また、蓋体の内側表面には鏡が配置されていることもある。   Powder cosmetics such as foundations and eye shadows are generally accommodated in containers called compacts. As a typical example of the compact, a container main body integrally or individually having a concave portion for accommodating one or more powder cosmetics and a concave portion for accommodating a cosmetic tool such as a brush as needed, and the container main body The container body and the lid are connected to each other via a hinge so as to be opened and closed. In addition, a mirror may be disposed on the inner surface of the lid.

粉体化粧料を収容したコンパクトの内部表面は、常時、或いは振動等により当該粉体化粧料と接触する。その結果、当該内部表面には粉体化粧料が付着することがあった。また、粉体化粧料の使用時においては、粉体化粧料が中空を舞い、最終的にコンパクトに付着することもあった。
また化粧料の店頭販売においては、粉体化粧料のテスターが陳列され、顧客がその場で粉体化粧料を試用できることがある。このような販売方法において試用された粉体化粧料の一部が陳列台に付着することがあった。
粉体化粧料が付着したコンパクトや陳列台は外観が悪化し、鏡が配置された面に粉体化粧料が付着した場合には、当該鏡の視認性が悪化するという問題があった。
The internal surface of the compact containing the powder cosmetic is in contact with the powder cosmetic at all times or by vibration or the like. As a result, powder cosmetics may adhere to the internal surface. Further, when the powder cosmetic is used, the powder cosmetic flies hollow and may eventually adhere compactly.
In addition, in the case of cosmetics over-the-counter sales, powder cosmetic testers are displayed and customers may be able to try powder cosmetics on the spot. Part of the powder cosmetics tried in such a sales method may adhere to the display stand.
The compact and display stand to which the powder cosmetic is attached deteriorates in appearance, and when the powder cosmetic is attached to the surface on which the mirror is disposed, the visibility of the mirror is deteriorated.

従来より、粉体化粧料とコンパクトの蓋体等との間に保護シートを配置することが知られている。例えば特許文献1には、容器本体の凹部と、化粧料が充填された中皿との間に保護シートの折り込み面部が挟み込まれた特定の保護シート付きコンパクト容器が開示されている。   Conventionally, it is known to arrange a protective sheet between a powder cosmetic and a compact lid or the like. For example, Patent Document 1 discloses a specific compact container with a protective sheet in which a folding surface portion of a protective sheet is sandwiched between a concave portion of a container body and an inner dish filled with cosmetics.

特許文献2では、容器内面に設けられた鏡に防曇性を付与する手法として、当該鏡の表面に、ポリビニルアルコールと架橋剤とを含むコーティング組成物の硬化物を被膜する手法が開示されている。しかしながら、特許文献2の手法は、水滴による曇りを抑制するものであり、粉体の付着を抑制するものではなかった。   In Patent Document 2, as a technique for imparting antifogging properties to a mirror provided on the inner surface of a container, a technique for coating a cured product of a coating composition containing polyvinyl alcohol and a crosslinking agent on the surface of the mirror is disclosed. Yes. However, the technique of Patent Document 2 suppresses fogging due to water droplets and does not suppress adhesion of powder.

また、特許文献3には、帯電防止性に優れ、粉体や塵埃等が静電付着し難くなる手法として、最外層に特定の脂肪族ポリアミド組成物からなる層が配置された特定のポリアミド系フィルムが開示されている。   Patent Document 3 discloses a specific polyamide system in which a layer made of a specific aliphatic polyamide composition is disposed on the outermost layer as a technique that is excellent in antistatic properties and makes it difficult to electrostatically adhere powder, dust, and the like. A film is disclosed.

特開2012−143293号公報JP 2012-143293 A 実開平5−18411号公報Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-18411 特開2012−61851号公報JP 2012-61851 A

粉体化粧料の付着が抑制された、粉体化粧料容器及び粉体化粧料テスター陳列台を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a powder cosmetic container and a powder cosmetic tester display stand in which adhesion of the powder cosmetic is suppressed.

本発明に係る粉体化粧料容器は、粉体を含む化粧料を収容する収容部を備えた容器本体と、当該容器本体を閉塞する蓋体とを備えた粉体化粧料容器であって、当該粉体化粧料容器の内部表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有することを特徴とする。   The powder cosmetic container according to the present invention is a powder cosmetic container comprising a container body provided with a container for containing cosmetic containing powder, and a lid for closing the container body, At least a part of the inner surface of the powder cosmetic container has a microprojection structure provided with a microprojection group in which a plurality of microprojections made of a cured product of a resin composition are closely arranged, and adjacent to each other. The average distance between the microprotrusions is 500 nm or less, and the material that forms the microprotrusions in a horizontal cross section when the microprotrusions are cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusions. It is characterized by having a structure in which the cross-sectional area occupancy of the portion continuously and gradually increases from the top of the microprotrusion toward the deepest portion.

本発明の粉体化粧料容器においては、前記容器の内部に鏡を備え、当該鏡の表面に、前記微小突起構造体を表面に備えた部材が貼着されてなることが、製造の容易性の点から好ましい。   In the powder cosmetic container of the present invention, it is easy to manufacture that a mirror is provided inside the container, and a member having the microprojection structure is attached to the surface of the mirror. From the point of view, it is preferable.

本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台は、粉体を含む化粧料のテスターを収容するテスター収容部を備えた粉体化粧料テスター陳列台であって、更に前記テスター収容部上面を開閉可能に設けた蓋体を備えていてもよく、前記陳列台の表面及び前記蓋体の内外表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有することを特徴とする。   The powder cosmetic tester display stand according to the present invention is a powder cosmetic tester display stand provided with a tester storage portion for storing a cosmetic tester containing powder, and further capable of opening and closing the upper surface of the tester storage portion. The surface of the display stand and at least a part of the inner and outer surfaces of the lid may be closely arranged with a plurality of minute projections made of a cured resin composition. It has a microprojection structure including a microprojection group, the average distance between adjacent microprojections is 500 nm or less, and the microprojections are cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprojections. It is characterized by having a structure in which the cross-sectional area occupancy rate of the material portion forming the microprotrusions in the horizontal cross section when assumed is gradually increased gradually from the top of the microprotrusions toward the deepest part.

本発明によれば、粉体化粧料の付着が抑制された、粉体化粧料容器及び粉体化粧料テスター陳列台を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a powder cosmetic container and a powder cosmetic tester display stand in which adhesion of the powder cosmetic is suppressed.

図1は、本発明に係る粉体化粧料容器の一例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a powder cosmetic container according to the present invention. 図2は、本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台の一例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of a powder cosmetic tester display stand according to the present invention. 図3は、微小突起構造体を表面に備えた部材の一例を示す模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a member having a microprojection structure on its surface. 図4は、微小突起構造体を表面に備えた部材の別の一例を示す模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of a member having a microprojection structure on its surface. 図5は、多峰性の微小突起の説明に供する断面図(a)、斜視図(b)、平面図(c)である。FIG. 5 is a cross-sectional view (a), a perspective view (b), and a plan view (c) for explaining multi-modal microprotrusions. 図6は、複数の微小突起によって構成される凸状突起群の斜視図(a)及び平面図(b)である。FIG. 6 is a perspective view (a) and a plan view (b) of a convex protrusion group constituted by a plurality of minute protrusions. 図7は、原子間力顕微鏡により求められた、微小突起構造体の一例を示す拡大写真である。FIG. 7 is an enlarged photograph showing an example of a microprojection structure obtained by an atomic force microscope. 図8は、図7の微小突起構造体の例における、微小突起の極大点を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the maximum points of the microprojections in the example of the microprojection structure in FIG. 図9は、図7の微小突起構造体の例における、ドロネー図を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a Delaunay diagram in the example of the microprojection structure in FIG. 7. 図10は、図9のドロネー図から作成した隣接極大点間距離の度数分布のヒストグラムである。FIG. 10 is a histogram of the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points created from the Delaunay diagram of FIG. 図11は、図7の微小突起構造体の例における、微小突起高さの度数分布のヒストグラムである。FIG. 11 is a histogram of the frequency distribution of the microprojection height in the example of the microprojection structure in FIG. 図12は、微小突起構造体の別の一例を示す模式断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing another example of the microprojection structure. 図13は、ロール金型を用いた微小突起構造の形成方法の一例を示す概略図である。FIG. 13 is a schematic view showing an example of a method for forming a microprojection structure using a roll mold.

本発明に係る粉体化粧料容器は、粉体を含む化粧料を収容する収容部を備えた容器本体と、当該容器本体を閉塞する蓋体とを備えた粉体化粧料容器であって、当該粉体化粧料容器の内部表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有することを特徴とする。   The powder cosmetic container according to the present invention is a powder cosmetic container comprising a container body provided with a container for containing cosmetic containing powder, and a lid for closing the container body, At least a part of the inner surface of the powder cosmetic container has a microprojection structure provided with a microprojection group in which a plurality of microprojections made of a cured product of a resin composition are closely arranged, and adjacent to each other. The average distance between the microprotrusions is 500 nm or less, and the material that forms the microprotrusions in a horizontal cross section when the microprotrusions are cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusions. It is characterized by having a structure in which the cross-sectional area occupancy of the portion continuously and gradually increases from the top of the microprotrusion toward the deepest portion.

本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台は、粉体を含む化粧料のテスターを収容するテスター収容部を備えた粉体化粧料テスター陳列台であって、更に前記テスター収容部上面を開閉可能に設けた蓋体を備えていてもよく、前記陳列台の表面及び前記蓋体の内外表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有することを特徴とする。   The powder cosmetic tester display stand according to the present invention is a powder cosmetic tester display stand provided with a tester storage portion for storing a cosmetic tester containing powder, and further capable of opening and closing the upper surface of the tester storage portion. The surface of the display stand and at least a part of the inner and outer surfaces of the lid may be closely arranged with a plurality of minute projections made of a cured resin composition. It has a microprojection structure including a microprojection group, the average distance between adjacent microprojections is 500 nm or less, and the microprojections are cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprojections. It is characterized by having a structure in which the cross-sectional area occupancy rate of the material portion forming the microprotrusions in the horizontal cross section when assumed is gradually increased gradually from the top of the microprotrusions toward the deepest part.

以下、本発明に係る粉体化粧料容器及び粉体化粧料テスター陳列台について、まず共通する特徴である微小突起構造体について説明し、次いで、粉体化粧料容器及び粉体化粧料テスター陳列台について順に詳細に説明する。
なお、本発明において付着とは、2つの物質が互いに接触し、分子間力によりくっついている状態をいう。
In the following, the powder cosmetic container and the powder cosmetic tester display stand according to the present invention will be described first about the microprojection structure, which is a common feature, and then the powder cosmetic container and the powder cosmetic tester display stand Will be described in detail in order.
In the present invention, the term “adhesion” refers to a state in which two substances are in contact with each other and adhered by intermolecular force.

[微小突起構造体]
本発明の粉体化粧料容器は、後述の通り、内部表面の少なくとも一部が、微小突起構造体を有している。また、本発明の粉体化粧料テスター陳列台は、後述のとおり、当該陳列台の表面及び当該陳列台が有してもよい蓋体の内外表面のうち少なくとも一部が、微小突起構造体を有している。
本発明における微小突起構造体は、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備え、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する。
[Microprojection structure]
As described later, the powder cosmetic container of the present invention has a microprojection structure on at least a part of its internal surface. Moreover, the powder cosmetic tester display stand of the present invention, as will be described later, at least a part of the surface of the display stand and the inner and outer surfaces of the lid that the display stand may have a microprojection structure. Have.
The microprojection structure in the present invention includes a microprojection group in which a plurality of microprojections made of a cured resin composition is closely arranged, and the average distance between adjacent microprojections is 500 nm or less. The cross-sectional area occupancy of the material portion forming the microprojection in the horizontal cross section when the microprojection is cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprojection is from the top of the microprojection. It has a structure that increases gradually and gradually as it approaches the deepest direction.

上記微小突起構造体について図を参照して説明する。図3及び図4はそれぞれ、本発明に用いられる微小突起構造体を表面に備えた部材の一例を模式的に示す断面図である。
微小突起構造体を表面に備えた部材10において微小突起構造体2は、樹脂組成物の硬化物からなる微小突起3が密接して配置されてなる微小突起群を備え、隣接する微小突起間の距離の平均が500nm以下である。このような微小突起構造体2を表面に有することにより粒径が小さい粉体であっても付着が抑制される。
前記微小突起構造体を表面に備えた部材10は、図3のように基材1上に当該基材1とは別の材料を用いた微小突起層として形成されていてもよく、図4のように微小突起層のみからなるものであってもよい。図4の例としては、基材1と微小突起層とが一体形成されたものであってもよく、一旦基材1上に微小突起層が形成された後、当該基材1が取り除かれたものであってもよい。
The microprojection structure will be described with reference to the drawings. 3 and 4 are cross-sectional views each schematically showing an example of a member provided on the surface with a microprojection structure used in the present invention.
In the member 10 provided with the microprojection structure on the surface, the microprojection structure 2 includes a microprojection group in which microprojections 3 made of a cured product of the resin composition are closely arranged, and between adjacent microprojections. The average distance is 500 nm or less. By having such a microprojection structure 2 on the surface, even if it is a powder with a small particle size, adhesion is suppressed.
The member 10 having the microprojection structure on the surface may be formed as a microprojection layer using a material different from the base material 1 on the base material 1 as shown in FIG. Thus, it may be composed of only a microprojection layer. As an example of FIG. 4, the base material 1 and the microprojection layer may be integrally formed. After the microprojection layer is once formed on the base material 1, the base material 1 is removed. It may be a thing.

本発明の本発明に係る粉体化粧料容器及び粉体化粧料テスター陳列台は、表面に上記特定の微小突起構造体を有することにより、粉体の付着が抑制される。
上記特定の微小突起構造体表面において粉体の付着が抑制される作用としては、未解明の部分もあるが、以下のように推測される。
従来、帯電防止性を付与することにより、埃などの比較的大きなものの付着を抑制する方法は知られていた。しかしながら、本発明者らは、帯電防止性が付与された表面であっても、粒径の小さい粉体の付着を十分に抑制することができないとの知見を得た。鋭意検討の結果、粒径の小さい粉体は分子間力として相対的にファンデルワールス力の影響が大きくなるとの知見を得た。ファンデルワールス力は、電気的に中性の原子、分子間において生じる凝集力であるため、表面に帯電防止性を付与しても、粒径の小さい粉体の付着抑制効果を得ることができなかった。
本発明において用いられる微小突起構造体は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する。上記微小突起群は複数の微小突起が密接して配置されてなるため、粉体が微小突起間に入り込みにくい。また、このような微小突起構造体2の表面に粉体が接触した場合、その接触面積が小さくなる結果、微小突起構造体2の表面と粉体との間に生じるファンデルワールス力は相対的に小さくなっている。そのため、粒径の小さい粉体であっても付着が抑制される。
Since the powder cosmetic container and the powder cosmetic tester display stand according to the present invention of the present invention have the above-mentioned specific microprojection structure on the surface, adhesion of powder is suppressed.
The action of suppressing the adhesion of powder on the surface of the specific microprojection structure is unclear, but is presumed as follows.
Conventionally, there has been known a method for suppressing adhesion of relatively large objects such as dust by imparting antistatic properties. However, the present inventors have obtained the knowledge that the adhesion of powder having a small particle size cannot be sufficiently suppressed even on a surface provided with antistatic properties. As a result of intensive studies, it was found that powders with a small particle size are relatively affected by van der Waals forces as intermolecular forces. Van der Waals force is an agglomeration force generated between electrically neutral atoms and molecules. Therefore, even if antistatic properties are imparted to the surface, it is possible to obtain the effect of suppressing the adhesion of powder with a small particle size. There wasn't.
The microprojection structure used in the present invention has a microprojection structure including a microprojection group in which a plurality of microprojections are closely arranged, and the average distance between adjacent microprojections is 500 nm or less. The cross-sectional area occupancy rate of the material portion forming the microprojection in the horizontal cross section when it is assumed that the microprojection is cut in a horizontal plane orthogonal to the depth direction of the microprojection is the deepest direction from the top of the microprojection It has a structure that gradually increases gradually as it approaches. Since the microprojection group is formed by closely arranging a plurality of microprojections, the powder hardly enters between the microprojections. Further, when the powder comes into contact with the surface of the microprojection structure 2 as described above, the contact area is reduced. As a result, the van der Waals force generated between the surface of the microprojection structure 2 and the powder is relatively It is getting smaller. Therefore, even if it is a powder with a small particle size, adhesion is suppressed.

前記微小突起構造体を構成する各微小突起は、植立するように形成され、その形状は、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造、すなわち各微小突起が先細りとなる構造を有する。このような先細り形状の微小突起を有する微小突起構造体は、粉体との接触面積を小さくすることができるため、微小突起構造体と粉体との間のファンデルワールス力を低減して粉体の付着を抑制することができる。また先細り形状である場合、仮に粉体が微小突起間に入り込んだとしても出てきやすいというメリットもある。
このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物状、釣鐘状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は、同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。
Each microprotrusion constituting the microprotrusion structure is formed so as to be planted, and the shape of the microprotrusion in the horizontal cross section when it is assumed that the microprojection is cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusion. It has a structure in which the cross-sectional area occupancy ratio of the material part forming the protrusions gradually and gradually increases as it approaches the deepest part from the top of the minute protrusions, that is, each minute protrusion is tapered. Since the microprojection structure having such a tapered microprojection can reduce the contact area with the powder, the van der Waals force between the microprojection structure and the powder is reduced to reduce the powder. Body adhesion can be suppressed. Further, in the case of the tapered shape, there is an advantage that even if the powder enters between the fine protrusions, it is easy to come out.
Specific examples of the shape of such microprojections include those having a vertical cross-sectional shape such as a semicircular shape, a semi-elliptical shape, a triangular shape, a parabolic shape, and a bell shape. The plurality of microprotrusions may have the same shape or different shapes.

更に、微小突起の頂部が曲面を有する形状であることがより好ましい。頂部に曲面を有するとは、頂部に、球型、回転楕円体型、回転放物面型、釣鐘型等の曲面形状を有するか、又は、これらの曲面形状に近似し得る曲面形状を有することをいう。なお、本発明において頂部とは、頂点及びその近傍を示す概念であり、微小突起の頂点から、後述する微小突起の高さHの10%程度の長さの範囲をいう。
微小突起が頂部に曲面を有することにより、頂部が平面であるものと比較して、粉体の接触面積をより小さくすることができ、粉体の付着抑制効果に優れている。
Furthermore, it is more preferable that the tops of the microprojections have a curved surface. Having a curved surface at the top means that the top has a curved surface shape such as a spherical shape, a spheroid shape, a rotating paraboloid shape, a bell shape, or a curved surface shape that can approximate these curved surface shapes. Say. In addition, in this invention, a top part is the concept which shows a vertex and its vicinity, and means the range of about 10% of the height H of the microprotrusion mentioned later from the vertex of a microprotrusion.
Since the microprotrusions have a curved surface at the top, the contact area of the powder can be made smaller than that having a flat top, which is excellent in the effect of suppressing the adhesion of powder.

本発明において、微小突起群は複数の微小突起が密接して配置されている。微小突起が密接して配置されていることにより、粉体が微小突起間に入り込みにくく、粉体の付着が抑制される。本発明において密接とは、隣接する微小突起の付け根位置が接しているか、接しているほど近いことをいい、具体的には、微小突起の付け根位置の断面の直径の平均値をRAVGとしたときに、RAVGがdAVGの80〜100%であることが好ましく、90〜100%であることがより好ましい。なお、上記RAVGは、微小突起の付け根位置の断面が円であればその直径をR、円以外であれば、断面の幅の最大値と最小値とを求め、その平均値をRとして、平均値を求めたものである。 In the present invention, a plurality of minute protrusions are closely arranged in the minute protrusion group. Since the minute protrusions are closely arranged, the powder hardly enters between the minute protrusions, and the adhesion of the powder is suppressed. Closely and in the present invention, or base positions of adjacent microprotrusions are in contact, means that close enough in contact, specifically, when the average value of the diameters of the section of the base position of the microprojections has a R AVG In addition, R AVG is preferably 80 to 100% of d AVG , and more preferably 90 to 100%. The above R AVG is R if the cross section at the base position of the microprojection is a circle, and if it is not a circle, the maximum and minimum values of the cross section width are obtained, and the average value is R. The average value is obtained.

本発明において微小突起構造体は、微小突起として頂点を複数有するもの(以下、「多峰性微小突起」と称する場合がある。)を更に有することが微小突起構造体表面の耐擦傷性が向上する点から好ましい。なお、多峰性微小突起との対比により、頂点が1つのみの微小突起を「単峰性微小突起」と称する場合がある。多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太く、さらに、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起を損傷し難いようにすることができると考えられる。よって、本発明においては、前記微小突起群の中に多峰性の微小突起を含むことにより、機械的強度及び耐擦傷性がさらに向上する。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷箇所の面積を低減することができ、これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。更に、多峰性の微小突起の半分程度は、最高峰高さ(麓が同じ微小突起に属する最も高い峰の高さ)が突起高さの平均値HAVG以上の微小突起に生じる為、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性の微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐ。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。
なお、本発明において、多峰性微小突起、単峰性微小突起に係る各頂部を形成する各凸部を、適宜、「峰」と称する。
In the present invention, the microprojection structure further has a plurality of apexes as microprojections (hereinafter sometimes referred to as “multimodal microprojections”), which improves the scratch resistance of the surface of the microprojection structure. This is preferable. Note that a microprojection having only one vertex may be referred to as a “unimodal microprojection” in comparison with a multimodal microprojection. Multi-peak microprojections are relatively thicker at the bottom of the apex than the single-peak microprojections, and receive external forces distributed over more vertices. It is considered that the external force applied to the apex can be reduced and the microprotrusions can be hardly damaged. Therefore, in the present invention, the mechanical strength and the scratch resistance are further improved by including multimodal microprojections in the microprojection group. Further, even if the microprojection is damaged, the area of the damaged portion can be reduced, and this can also reduce the local deterioration of the antireflection function and further reduce the appearance failure. Moreover, about half of the multimodal microprotrusions highest peak height (foot height of the highest peaks belonging to the same microprojections) is to produce the average value H AVG or more microprojections of projection height, the external force First, each peak portion receives and sacrificial damage prevents the wear of the main body portion lower than the peak of the microprojection and the microprojection lower than the multi-peak microprojection. This also reduces local deterioration of the antireflection function and further reduces the occurrence of appearance defects.
In the present invention, the convex portions forming the top portions of the multimodal microprojections and the monomodal microprojections are appropriately referred to as “peaks”.

図5は、多峰性の微小突起の説明に供する断面図(図5(a))、斜視図(図5(b))、平面図(図5(c))である。なお、この図5は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図5(a)は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。図5において、xy方向は、基材1の面内方向であり、z方向は微小突起の高さ方向である。図5(a)に示す微小突起構造体2において、単峰性の微小突起5は、例えば、基材1より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積(高さ方向に直交する面(図5においてXY平面と平行な面)で切断した場合の断面積)が小さくなって、1つの頂点が形成されている。一方、多峰性の微小突起としては、例えば、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝gが形成され、頂点が2つになったもの(3A)、頂点が3つになったもの(3B)、さらには頂点が4つ以上のもの(図示略)等が挙げられる。なお単峰性の微小突起3の形状は、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性の微小突起3A、3Bの形状は、単峰性の微小突起3の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似することができる。多峰性の微小突起3A、3Bの形状は、複数の峰を含み高さ方向(図5ではZ軸方向)を含む仮想的切断面で切断した場合の縦断面形状が、極大点を複数個含み各極大点近傍が上に凸の曲線になる代数曲線Z=a+a+・・+a2n2n+・・で近似されるような形状である。 FIG. 5 is a cross-sectional view (FIG. 5 (a)), a perspective view (FIG. 5 (b)), and a plan view (FIG. 5 (c)) for explaining the multi-modal microprotrusions. Note that FIG. 5 is a diagram schematically showing for easy understanding, and FIG. 5A is a diagram showing a cross section by a broken line connecting the vertices of continuous microprotrusions. In FIG. 5, the xy direction is the in-plane direction of the substrate 1, and the z direction is the height direction of the microprojections. In the microprojection structure 2 shown in FIG. 5A, the unimodal microprojections 5 are, for example, gradually cross-sectional area (surface perpendicular to the height direction (FIG. 5 In FIG. 1, the cross-sectional area when cut along a plane parallel to the XY plane) is reduced, and one vertex is formed. On the other hand, as the multi-peak microprotrusions, for example, a groove g is formed at the tip portion as if a plurality of microprotrusions are combined, and the apex is two (3A), and there are three apexes. (3B), and those having four or more vertices (not shown). The shape of the unimodal microprotrusions 3 can be approximated by a round shape at the top like a paraboloid of revolution or a shape with a sharp apex like a cone. On the other hand, the shape of the multimodal microprotrusions 3A and 3B can be approximated by a shape in which a groove-shaped recess is cut in the vicinity of the top of the single-peak microprotrusion 3 and the top is divided into a plurality of peaks. it can. The shape of the multi-peak microprotrusions 3A and 3B has a plurality of maximal points when the longitudinal cross-sectional shape is cut by a virtual cut surface including a plurality of peaks and including the height direction (Z-axis direction in FIG. 5). The shape is approximated by an algebraic curve Z = a 2 X 2 + a 4 X 4 +... + A 2n X 2n +.

前記微小突起構造体表面に存在する全微小突起中における多峰性の微小突起の個数の比率は、特に限定されないが、粉体の付着がより抑制される点からは、10%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上、更に好ましくは50%以上である。   The ratio of the number of multimodal microprotrusions in the total microprotrusions existing on the surface of the microprotrusion structure is not particularly limited, but is 10% or more from the viewpoint of further suppressing the adhesion of powder. Is preferable, more preferably 30% or more, still more preferably 50% or more.

また、前記微小突起構造体を構成する微小突起群は、少なくともその一部が、頂部微小突起と、該頂部微小突起の周囲に隣接して形成されており該頂部微小突起よりも高さが低い複数の周辺微小突起とからなる一群の微小突起の集合(本発明において「凸状突起群」と称する。)を構成していても良い。当該微細突起の集合を有することにより、粉体の付着がより抑制される。
図6に、複数の微小突起によって構成される凸状突起群の斜視図(図6(a))及び平面図(図6(b))を示す。図6に示す凸状突起群22は、相対的に高さの高い頂部微小突起3Cと、その周囲に隣接して配置された相対的に高さの低い複数の周辺微小突起3Dからなる。尚、図6(a)及び図6(b)は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、xy方向は、基材の面内方向であり、z方向は微小突起の高さ方向である。
なお、本発明において、前記頂部微小突起は、前記周辺微小突起よりも相対的に高さが高く、高さの差が10nm以上のものをいい、当該高さの差は、20nm以上であることが好ましい。また、前記高さの差は、微小突起構造体表面のざらつき感を抑える観点から、50nm以下であることが好ましい。
In addition, at least a part of the microprojection group constituting the microprojection structure is formed adjacent to the top microprojection and the periphery of the top microprojection, and the height is lower than the top microprojection. You may comprise the group of a group of microprotrusions (it calls a "convex-shaped protrusion group" in this invention) which consists of a some peripheral microprotrusion. By having the aggregate of the fine protrusions, the adhesion of the powder is further suppressed.
FIG. 6 shows a perspective view (FIG. 6 (a)) and a plan view (FIG. 6 (b)) of a convex projection group constituted by a plurality of minute projections. The convex projection group 22 shown in FIG. 6 includes a top microprojection 3C having a relatively high height and a plurality of peripheral microprojections 3D having a relatively low height arranged adjacent to the periphery thereof. FIGS. 6A and 6B are diagrams schematically shown for easy understanding, where the xy direction is the in-plane direction of the substrate, and the z direction is the height of the minute protrusion. Direction.
In the present invention, the top microprotrusion has a relatively higher height than the peripheral microprotrusions, and has a height difference of 10 nm or more, and the height difference is 20 nm or more. Is preferred. In addition, the difference in height is preferably 50 nm or less from the viewpoint of suppressing the feeling of roughness on the surface of the microprojection structure.

前記微小突起構造体においては、特に限定されないが、粉体の付着がより抑制される点から、凸状突起群の周辺に配置される微小突起が、頂部微小突起から離れるに連れて、順次高さが低くなっていくように配置されていることが好ましい。   The microprojection structure is not particularly limited, but in view of further suppressing the adhesion of powder, the microprojections arranged around the convex projection group gradually increase as they move away from the top microprojections. It is preferable that they are arranged so as to become lower.

前記微小突起構造体表面に存在する全微小突起中に対する前記凸状突起群を構成する微小突起の個数の比率は、特に限定されないが、前記効果を発揮する点からは、10%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上、更に好ましくは50%以上である。
なお、前記凸状突起群には、前記周辺微小突起にのみ隣接し、且つ前記頂部微小突起よりも高さが低い微小突起は含まれない。また、凸状突起群同士が隣接して形成される場合において、周辺微小突起が互いに隣接する凸状突起群に共有される場合がある。
前記凸状突起群を構成する微小突起の個数の比率は、例えば、前記微小突起構造体の表面をSEM等により観察し、画像解析により存在を確認できた微小突起の個数のうち、凸状突起群を構成する微小突起の個数の割合を算出することにより、求めることができる。
The ratio of the number of the microprojections constituting the convex projection group to the total microprojections present on the surface of the microprojection structure is not particularly limited, but is 10% or more from the viewpoint of exerting the effect. Is preferable, more preferably 30% or more, still more preferably 50% or more.
The convex protrusion group does not include a micro protrusion that is adjacent only to the peripheral micro protrusion and has a height lower than that of the top micro protrusion. Further, when the convex protrusion groups are formed adjacent to each other, the peripheral minute protrusions may be shared by the adjacent convex protrusion groups.
The ratio of the number of the microprojections constituting the convex projection group is, for example, the number of the microprojections out of the number of microprojections whose presence was confirmed by image analysis by observing the surface of the microprojection structure with an SEM or the like. This can be obtained by calculating the ratio of the number of microprojections constituting the group.

本発明において、前記微小突起構造体は、突起間への粉体の落ち込みを防止し、且つ、粉体との接触面積を減らす点から、隣接する前記微小突起間の距離d(以下、「隣接突起間距離d」と称する。)の平均dAVGが、500nm以下となるよう密接して配置される。この隣接突起間距離dに係る隣接する微小突起は、いわゆる隣り合う微小突起であり、基材側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。本発明において用いられる微小突起構造体では、微小突起が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が形成されることになる。隣接突起間距離dに係る隣接する微小突起は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。
前記微小突起の平均隣接突起間距離dAVGは、突起間への粉体の落ち込みを防止し、粉体の付着を抑制する点から、500nm以下であることが好ましく、50〜300nmであることが特に好ましい。また、微小突起構造体自体に透視性を必要とする場合には、前記微小突起の平均隣接突起間距離dAVGが、可視光線帯域の最短波長λmin以下とすることが、微小突起構造体における可視光の反射を低減できる点から好ましい。可視光線帯域の最短波長λminは、観察条件、光の強度(輝度)、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λmin=380nmとされる。反射防止性を確実とする点から、微小突起の平均隣接突起間距離dAVGは、300nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましい。
In the present invention, the microprojection structure prevents the powder from dropping between the projections and reduces the contact area with the powder. The distance d is referred to as “inter-protrusion distance d”.) The average d AVG is 500 nm or less. The adjacent minute protrusions related to the distance d between the adjacent protrusions are so-called adjacent minute protrusions, and are protrusions that are in contact with the skirt portions of the minute protrusions that are base portions on the base material side. In the microprojection structure used in the present invention, when microprojections are closely arranged, line segments are created so as to sequentially follow the valleys between the microprojections, and each microprojection is surrounded in plan view. A mesh-like pattern formed by connecting a large number of polygonal regions is formed. The adjacent minute protrusions related to the distance d between the adjacent protrusions are protrusions that share a part of the line segments constituting the mesh pattern.
The average distance between adjacent protrusions d AVG of the micro protrusions is preferably 500 nm or less, and preferably 50 to 300 nm from the viewpoint of preventing the powder from falling between the protrusions and suppressing the adhesion of the powder. Particularly preferred. When the microprojection structure itself needs to be transparent, the average distance between adjacent projections d AVG of the microprojections is set to be not more than the shortest wavelength λmin in the visible light band. It is preferable from the viewpoint that reflection of light can be reduced. The shortest wavelength λmin in the visible light band may vary somewhat depending on observation conditions, light intensity (luminance), individual differences, and the like, but is typically λmin = 380 nm. From the viewpoint of ensuring the antireflection property, the average distance d AVG between the adjacent protrusions of the minute protrusions is preferably 300 nm or less, and more preferably 200 nm or less.

微小突起構造体を構成する微小突起の高さH、及び当該高さの平均値HAVGは適宜設定すればよい。中でも、微小突起のアスペクト比(平均突起高さHAVG/平均隣接突起間隔dAVG)が0.8〜2.5となるように微小突起高さHを選択することが好ましく、更に、前記アスペクト比が0.8〜2.1となるように微小突起高さHを選択することが好ましい。
前記微小突起の高さHの平均HAVGは、1μm以下であることが好ましく、更に500nm以下であることが好ましく、より更に50〜350nmであることが好ましく、100〜250nmであることが特に好ましい。
アスペクト比が下限値以上となるように設定することにより粉体の付着がより抑制される。また、アスペクト比が上記下限値以下となるように設定することにより、微小突起の折れや倒れ込みが生じにくい。
ここで、微小突起の高さとは、微小突起の頂部に存在する最高高さを有する峰(最高峰)の高さをいう。図5(a)の微小突起3の如くの単峰性の微小突起の場合は、頂部における唯一の峰の高さが該微小突起の高さとなる。また図5(a)の微小突起3A、3Bのような多峰性の微小突起の場合は、頂部にある麓部を共有する複数の峰のうち最高峰の高さをもって該微小突起の高さとする。
What is necessary is just to set suitably the height H of the microprotrusion which comprises a microprotrusion structure, and the average value HAVG of the said height. Among these, it is preferable to select the minute protrusion height H so that the aspect ratio of the minute protrusions (average protrusion height H AVG / average adjacent protrusion interval d AVG ) is 0.8 to 2.5. It is preferable to select the microprojection height H so that the ratio is 0.8 to 2.1.
The average H AVG height H of the minute projections is preferably at 1μm or less, preferably further 500nm or less, is preferably even more 50~350Nm, particularly preferably 100~250nm .
By setting the aspect ratio to be equal to or higher than the lower limit, the adhesion of the powder is further suppressed. Further, by setting the aspect ratio to be equal to or lower than the lower limit value, it is difficult for the minute protrusions to be bent or collapsed.
Here, the height of the microprotrusions refers to the height of the peak (the highest peak) having the highest height at the top of the microprotrusions. In the case of a unimodal microprojection such as the microprojection 3 in FIG. 5A, the height of the only peak at the top is the height of the microprojection. Further, in the case of a multi-peak microprotrusion such as the microprotrusions 3A and 3B in FIG. 5A, the height of the microprotrusion has the highest peak height among a plurality of peaks sharing the ridge at the top. To do.

また、微小突起は高さにばらつきを有していてもよい。高さにばらつきがある場合には、大きさにばらつきのある粉体の付着を抑制する効果がより期待できる。微小突起の高さのばらつきは特に限定されないが、微小突起の高さHの標準偏差σが、突起高さの平均値HAVGの2〜30%であることが好ましく、5〜25%であることがより好ましく、10〜20%であることが更により好ましい。 Moreover, the microprotrusions may have variations in height. When the height varies, the effect of suppressing the adhesion of powder having a variation in size can be expected more. The variation in the height of the fine protrusion is not particularly limited, but the standard deviation σ H of the height H of the fine protrusion is preferably 2 to 30% of the average value HAVG of the protrusion height, and is 5 to 25%. More preferably, it is more preferably 10 to 20%.

微小突起構造体の各微小突起は規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。微小突起が不規則に配置されている実施形態の一例として図7を示す。図7は、原子間力顕微鏡により求められた、微小突起構造体の一例を示す拡大写真である。微小突起が規則的に配置されている場合、その微小突起間隔dは、突起の繰り返し周期Pにより規定することができる。一方、図7の例に示されるように微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間隔dはばらつきを有することになる。このような場合、微小突起間隔dは、以下のように算定される。   Each microprotrusion of the microprotrusion structure may be regularly arranged or irregularly arranged. FIG. 7 shows an example of an embodiment in which minute protrusions are irregularly arranged. FIG. 7 is an enlarged photograph showing an example of a microprojection structure obtained by an atomic force microscope. When the minute protrusions are regularly arranged, the distance d between the minute protrusions can be defined by the repetition period P of the protrusions. On the other hand, when the minute protrusions are irregularly arranged as shown in the example of FIG. 7, the distance d between adjacent minute protrusions varies. In such a case, the microprojection interval d is calculated as follows.

(1)すなわち先ず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope(以下、AFMと呼ぶ))又は走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope(以下、SEMと呼ぶ))を用いて突起の面内配列(突起配列の平面視形状)を検出する。なお、AFMのデータは微小突起構造体の高さの面内分布データを有し、図7の写真は輝度により高さの面内分布を示している。   (1) That is, first, an in-plane arrangement of projections (projection arrangement) using an atomic force microscope (hereinafter referred to as AFM) or a scanning electron microscope (hereinafter referred to as SEM). ) Is detected. Note that the AFM data has in-plane distribution data of the height of the microprojection structure, and the photograph in FIG. 7 shows the in-plane distribution of height by luminance.

(2)続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点(以下、単に極大点と呼ぶ)を検出する。極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大(極大値)となる点を意味する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図8は、図7の微小突起構造体の例における、微小突起の極大点を示す図である。図8において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。各極大点は、図7の画像データを処理することにより検出することができる。なおこの処理では4.5×4.5画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また8画素×8画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより1nm(=1画素)単位で極大点を求めた。   (2) Subsequently, the maximum point of the height of each protrusion (hereinafter simply referred to as the maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. The maximum point means a point where the height is larger (maximum value) than any point around the vicinity. There are various methods for obtaining the maximum point, such as a method of sequentially comparing the planar view shape and the enlarged photograph of the corresponding cross-sectional shape to obtain the maximum point, and a method of obtaining the maximum point by image processing of the plan view enlarged photo. Can be applied. FIG. 8 is a diagram showing the maximum points of the microprojections in the example of the microprojection structure in FIG. In FIG. 8, the portions indicated by black dots are the maximum points of the respective protrusions. Each local maximum point can be detected by processing the image data of FIG. In this process, image data is processed in advance by a low-pass filter having a Gaussian characteristic of 4.5 × 4.5 pixels, thereby preventing erroneous detection of the maximum point due to noise. Further, a maximum point was obtained in units of 1 nm (= 1 pixel) by sequentially scanning a filter for detecting a maximum value of 8 pixels × 8 pixels.

(3)次に検出した極大点を母点とするドロネー図(Delaunary Diagram)を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる3角形の集合体からなる網状図形である。各3角形は、ドロネー3角形と呼ばれ、各3角形の辺(隣接母点同士を結ぶ線分)は、ドロネー線と呼ばれる。図9は、図7の微小突起構造体の例における、ドロネー図を示す図である。ドロネー図は、ボロノイ図(Voronoi diagram)と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分(ドロネー線)の垂直2等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。   (3) Next, a Delaunay diagram with the detected maximum point as a generating point is created. Here, Delaunay diagram is obtained by dividing the Voronoi region adjacent to the Voronoi region when the Voronoi division is performed with each local maximum as the generating point, and connecting the adjacent generating points with line segments. This is a net-like figure made up of triangular aggregates. Each triangle is called a Delaunay triangle, and a side of each triangle (a line segment connecting adjacent generating points) is called a Delaunay line. FIG. 9 is a diagram showing a Delaunay diagram in the example of the microprojection structure in FIG. 7. The Delaunay diagram has a dual relationship with the Voronoi diagram. Voronoi division means that a plane is divided by a net-like figure made up of a closed polygon aggregate defined by perpendicular bisectors of line segments (Droney lines) connecting between adjacent generating points. A network figure obtained by Voronoi division is a Voronoi diagram, and each closed region is a Voronoi region.

(4)次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間距離(隣接突起間距離)の度数分布を求める。図10は、図9のドロネー図から作成した隣接極大点間距離の度数分布のヒストグラムである。なお、図8の5Bに示されるように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。   (4) Next, the frequency distribution of the line segment length of each Delaunay line, that is, the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points (distance between adjacent protrusions) is obtained. FIG. 10 is a histogram of the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points created from the Delaunay diagram of FIG. In addition, as shown in 5B of FIG. 8, when a concave portion such as a groove exists at the top of the projection or the top is divided into a plurality of peaks, such a projection is obtained from the obtained frequency distribution. The data resulting from the fine structure in which the concave portion is present at the top and the fine structure in which the top is divided into a plurality of peaks are removed, and only the data of the projection body itself is selected to create a frequency distribution.

具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない単峰性微小突起の場合の数値範囲から、隣接する極大点間の距離が明らかに大きく異なることになる。この特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図7に示すような微小突起(群)の平面視の拡大写真から、5〜20個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに小さい方向に外れる値(通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が1/2以下のデータ)を除外して度数分布を検出する。図10の例では、隣接極大点間距離が56nm以下のデータ(矢印Aにより示す左端の小山)を除外する。なお図10は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。   Specifically, in the fine structure in which there is a concave portion on the top of the protrusion, or in the fine structure related to the multi-peak microprotrusion in which the top is divided into a plurality of peaks, the single-peak property that does not have such a fine structure From the numerical range in the case of a microprotrusion, the distance between adjacent local maximum points is clearly greatly different. By removing the corresponding data using this feature, only the data of the projection body itself is selected and the frequency distribution is detected. More specifically, for example, about 5 to 20 adjacent single-peaked microprojections are selected from an enlarged photograph of the microprojections (group) as shown in FIG. A value that deviates in a direction that is clearly smaller than the numerical range obtained by sampling this value (usually the value is ½ or less of the average distance between adjacent maximum points obtained by sampling) Frequency distribution is detected. In the example of FIG. 10, data with a distance between adjacent maximal points of 56 nm or less (the leftmost small mountain indicated by arrow A) is excluded. FIG. 10 shows a frequency distribution before performing such exclusion processing. Incidentally, such exclusion processing may be executed by setting the above-described maximum inspection filter.

(5)このようにして求めた隣接突起間距離dの度数分布を正規分布とみなして平均値dAVG及び標準偏差σを求める。本発明においては、隣接突起間距離dの最大値dmaxをdmax=dAVG+2σと定義して算出する。図10の例では、平均値dAVG=158nm、標準偏差σ=38nmとなる。これにより隣接突起間距離dの最大値dmax=234nmと算出される。 (5) The frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus determined is regarded as a normal distribution, and the average value d AVG and the standard deviation σ d are determined. In the present invention, the maximum value d max of the distance d between adjacent protrusions is defined as d max = d AVG + 2σ d and is calculated. In the example of FIG. 10, the average value d AVG = 158 nm and the standard deviation σ d = 38 nm. Accordingly, the maximum value d max = 234 nm of the distance d between adjacent protrusions is calculated.

同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の(2)により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値HAVG、標準偏差σを求める。なお多峰性微小突起が含まれる場合は、1つの微小突起が頂点を複数有していることにより、1つの突起に対してこれら複数のデータが突起高さHのヒストグラムにおいて混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
図11は、図7の微小突起構造体の例における、微小突起の高さHの度数分布のヒストグラムである。図11の例では、微小突起の付け根位置を基準(高さ0)とする。図11の例では、平均値HAVG=178nm、標準偏差σ=30nmとなる。これによりこの例では、突起の高さは平均値HAVG=178nmとなる。
A similar technique is applied to define the height of the protrusion. In this case, a relative height difference of each local maximum point position from a specific reference position is acquired from the local maximum point obtained by the above (2), and is histogrammed. The average value H AVG of the projection height and the standard deviation σ H are obtained from the frequency distribution based on this histogram. If multi-peak microprojections are included, one microprojection has a plurality of vertices, and thus a plurality of data are mixed in a histogram of the projection height H for one projection. . Therefore, in this case, the frequency distribution is obtained by adopting the vertex having the highest height from among the plurality of vertices belonging to the same microprotrusion as the protuberance.
FIG. 11 is a histogram of the frequency distribution of the height H of the microprojections in the example of the microprojection structure in FIG. In the example of FIG. 11, the base position of the minute protrusion is set as a reference (height 0). In the example of FIG. 11, the average value H AVG = 178 nm and the standard deviation σ = 30 nm. Thus in this example, the height of the projections is an average value H AVG = 178 nm.

なお、微小突起の高さを測る際の基準位置は、突起付け根位置、すなわち隣接する微小突起の間の谷底(高さの極小点)を高さ0の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でうねった凹凸形状を有する場合(例えば、図12の例に示されるように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合)等は、(1)先ず、微小突起構造体30の微小突起表面31とは反対側の面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が収束するに足る面積の中で算出する。(2)次いで、該平均値の高さを有し、且つ微小突起構造体30の微小突起面31とは反対側の面と平行な面を基準面として考える。(3)その後、該基準面を改めて高さ0として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。   The reference position for measuring the height of the microprojections is the base position of the projection, that is, the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent microprojections is used as the reference for the height 0. However, when the height of the valley bottom itself varies depending on the location, for example, when the envelope surface connecting the valley bottoms between the microprojections has a concavo-convex shape with a large period compared to the distance between adjacent projections of the microprojections ( For example, as shown in the example of FIG. 12, the height of the valley bottom has undulation with a period larger than the distance between adjacent projections of the microprotrusions). The average value of the heights of the valleys measured from the surface opposite to the projection surface 31 is calculated within an area sufficient for the average value to converge. (2) Next, a surface having the average height and parallel to the surface opposite to the microprojection surface 31 of the microprojection structure 30 is considered as a reference plane. (3) Then, the height of each microprotrusion from the reference surface is calculated by setting the reference surface to a height of 0 again.

隣接する微小突起32の間の谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば図12に示すような周期的なうねりは、透明基材の表裏面に平行な平面(図12におけるXY平面)における1方向(例えばX方向)のみでこれと直交する方向(例えばY方向)には一定高さであっても良いし、或いは透明基材の表裏面に平行な平面(図12におけるXY平面)における2方向(X方向及びY方向)共にうねりを有していても良い。
微小突起構造体表面の良好な平滑性を確保するために、前記周期Dでうねった凹凸面33の高低差(図12中のh)は、10nm以下であることが好ましく、1nm〜5nmの範囲内であることがより好ましい。なお、前記凹凸面33により形成される凹凸面の高低差は、例えば500nm以上離れた微小突起32の谷底部の位置の高低差を測定することにより求めることができる。微小突起32の谷底部の位置は、微小突起構造体30を、厚み方向に切断した垂直断面のTEM写真又はSEM写真を用いて観察することにより求めることができる。
When the height of the valley between the adjacent microprotrusions 32 varies depending on the location, for example, the periodic undulation as shown in FIG. 12 occurs on a plane parallel to the front and back surfaces of the transparent substrate (XY plane in FIG. 12). The height may be constant in only one direction (for example, the X direction) and in a direction perpendicular to the direction (for example, the Y direction), or in a plane (XY plane in FIG. 12) parallel to the front and back surfaces of the transparent substrate. Both directions (X direction and Y direction) may have undulations.
In order to ensure good smoothness of the surface of the microprojection structure, the height difference (h in FIG. 12) of the concavo-convex surface 33 undulated in the period D is preferably 10 nm or less, and in the range of 1 nm to 5 nm. More preferably, it is within. In addition, the height difference of the uneven surface formed by the uneven surface 33 can be obtained by measuring the height difference of the position of the valley bottom portion of the minute protrusion 32 separated by, for example, 500 nm or more. The position of the valley bottom portion of the microprojection 32 can be obtained by observing the microprojection structure 30 using a TEM photograph or SEM photograph of a vertical section cut in the thickness direction.

微細凹凸層の厚み(図3又は図4におけるT)は、適宜調整すればよいが、3μm〜30μmであることが好ましく、5μm〜10μmであることがより好ましい。なお、図3における微細凹凸層の厚みTは、当該微細凹凸層の基材との界面から、最も高い微小突起の頂部までの厚みで定義される。   The thickness of the fine uneven layer (T in FIG. 3 or 4) may be adjusted as appropriate, but is preferably 3 μm to 30 μm, and more preferably 5 μm to 10 μm. Note that the thickness T of the fine uneven layer in FIG. 3 is defined by the thickness from the interface of the fine uneven layer to the base material to the top of the highest minute protrusion.

前記微小突起構造体の表面における純水の静的接触角は、用いられる粉体化粧料に応じて適宜変更すればよく、特に限定されない。粉体との接点の面積が小さくなり粉体の付着が抑制される点から、前記微小突起構造体の表面における純水の静的接触角が、θ/2法で60°以下であることが好ましく、3°〜40°であることがより好ましく3°〜25°であることが更により好ましい。
また、表面自由エネルギーが低下して粉体の付着がより抑制される点から、前記微小突起構造体の表面における純水の静的接触角が、θ/2法で、90°〜170°であることが好ましく100°〜165°であることがより好ましい。
また、前記微小突起構造体の表面におけるn−ヘキサデカンの静的接触角が、θ/2法で60°以下であることが、粉体の付着が抑制される点から好ましく、3°〜40°であることがより好ましく3°〜25°であることが更により好ましい。
なお、本発明において静的接触角は、測定対象物の表面に1.0μLの純水又はn−ヘキサデカンを滴下し、着滴1秒後に、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出するθ/2法に従って測定した接触角とする。測定装置としては、例えば、協和界面科学社製 接触角計DM 500を用いることができる。
前記静的接触角は、微小突起構造体を形成する樹脂の種類や、微小突起構造体の凹凸形状を変更することにより、調整することができる。
The static contact angle of pure water on the surface of the microprojection structure may be appropriately changed according to the powder cosmetic used, and is not particularly limited. The static contact angle of pure water on the surface of the microprojection structure is 60 ° or less by the θ / 2 method from the viewpoint that the contact area with the powder is reduced and the adhesion of the powder is suppressed. Preferably, it is 3 ° to 40 °, more preferably 3 ° to 25 °.
In addition, since the surface free energy is reduced and the adhesion of powder is further suppressed, the static contact angle of pure water on the surface of the microprojection structure is 90 ° to 170 ° by the θ / 2 method. It is preferably 100 ° to 165 °.
The static contact angle of n-hexadecane on the surface of the microprojection structure is preferably 60 ° or less by the θ / 2 method from the viewpoint of suppressing the adhesion of powder, and 3 ° to 40 °. Is more preferably 3 ° to 25 °.
In the present invention, the static contact angle is a straight line connecting the left and right end points of the dropped liquid and the apex 1 second after the dropping of 1.0 μL of pure water or n-hexadecane on the surface of the measurement object. The contact angle measured in accordance with the θ / 2 method for calculating the contact angle from the angle to the solid surface. As the measuring device, for example, a contact angle meter DM 500 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. can be used.
The static contact angle can be adjusted by changing the type of resin forming the microprojection structure and the uneven shape of the microprojection structure.

本発明において、樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率(E’)は、用途に応じて適宜調整すればよく、特に限定されない。指紋汚れを乾拭きで拭取り易くする点から、樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)は300MPa以下であることが好ましい。E’を300MPa以下とすることにより、拭取り時の圧力によって微小突起が変形し、微小突起間の隙間に入り込んだ汚れを、乾拭きで除去することが可能となる。中でも貯蔵弾性率(E’)が、1〜250MPaであることが好ましく、1〜100MPaであることがより好ましい。   In the present invention, the storage elastic modulus (E ′) of the cured product of the resin composition may be appropriately adjusted according to the application, and is not particularly limited. The storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured resin composition is preferably 300 MPa or less from the viewpoint of facilitating wiping off fingerprint stains by dry wiping. By setting E ′ to 300 MPa or less, the minute protrusions are deformed by the pressure during wiping, and the dirt that has entered the gap between the minute protrusions can be removed by dry wiping. Among them, the storage elastic modulus (E ′) is preferably 1 to 250 MPa, and more preferably 1 to 100 MPa.

また、本発明においては、前記樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率(E’)に対する損失弾性率(E”)の比(tanδ(=E”/E’)損失正接)が0.2以下であることが好ましい。損失正接を0.2以下とすることにより、拭取り時に変形した微小突起が、弾性復元され、元の形状に戻りやすくなる。これにより、指紋拭き取り時に突起の塑性変形やスティッキングが抑制され、粉体付着抑制効果を低下させることなく、乾拭きで汚れを拭取ることが可能になる。中でも、tanδが0.18以下であることが好ましい。   In the present invention, the ratio of the loss elastic modulus (E ″) to the storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. of the cured product of the resin composition (tan δ (= E ″ / E ′) loss tangent) is 0. .2 or less is preferable. By setting the loss tangent to 0.2 or less, the minute protrusions deformed at the time of wiping are elastically restored and easily return to the original shape. Accordingly, the plastic deformation and sticking of the protrusions are suppressed during the fingerprint wiping, and the dirt can be wiped off by dry wiping without deteriorating the powder adhesion suppressing effect. Among them, tan δ is preferably 0.18 or less.

なお、本発明において貯蔵弾性率(E’)及び損失弾性率(E”)は、JIS K7244に準拠して、以下の方法により測定される。
まず、微細凹凸層形成用の樹脂組成物を、2000mJ/cmのエネルギーの紫外線を1分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ1mm、幅5mm、長さ30mmの単膜とする。
次いで、25℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に10Hzで25gの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、25℃における、E’、E”が求められる。測定装置としては、例えば、UBM製 Rheogel E400を用いることができる。
In the present invention, the storage elastic modulus (E ′) and the loss elastic modulus (E ″) are measured by the following method according to JIS K7244.
First, a resin composition for forming a fine uneven layer is sufficiently cured by irradiating ultraviolet rays having an energy of 2000 mJ / cm 2 for 1 minute or more, and does not have a substrate and fine uneven shapes, a thickness of 1 mm, a width A single film having a length of 5 mm and a length of 30 mm is used.
Next, by applying a cyclic external force of 25 g at 10 Hz in the length direction of the cured product of the resin composition at 25 ° C. and measuring dynamic viscoelasticity, E ′ and E ″ at 25 ° C. are obtained. As a measuring device, for example, Rhegel E400 manufactured by UBM can be used.

本発明において微小突起構造体は、樹脂組成物の硬化物からなる。なお、本発明において樹脂組成物の硬化物には、樹脂組成物中の樹脂等の成分が化学反応を経て固化したもの、又は化学反応を経ないで固化したものが包含される。更に、樹脂組成物は単一の樹脂からなるものも包含する。また、本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念である。   In the present invention, the microprojection structure is made of a cured product of the resin composition. In the present invention, the cured product of the resin composition includes one obtained by solidifying a component such as a resin in the resin composition through a chemical reaction, or one obtained by solidifying without undergoing a chemical reaction. Furthermore, the resin composition includes those composed of a single resin. Moreover, in this invention, resin is the concept containing a polymer other than a monomer and an oligomer.

本発明において微小突起構造体の形成に好適に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含有し、必要に応じて重合開始剤等、その他の成分を含有する。
前記樹脂としては、特に限定されないが、例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦形用樹脂を使用することができる。また、非反応性重合体を含有してもよい。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線(UV−A、UV−B、UV−C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線等が挙げられる。
In the present invention, the resin composition suitably used for forming the microprojection structure contains at least a resin and, if necessary, other components such as a polymerization initiator.
The resin is not particularly limited, for example, ionizing radiation curable resins such as acrylate, epoxy, and polyester, acrylate, urethane, epoxy, polysiloxane, and other thermosetting resins, acrylate, Various materials such as polyester-based, polycarbonate-based, polyethylene-based, polypropylene-based thermoplastic resins, and various curing resins for shaping can be used. Moreover, you may contain a non-reactive polymer. The ionizing radiation means electromagnetic waves or charged particles having energy that can be cured by polymerizing molecules. For example, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays , X-rays, electron beams and the like.

上記樹脂としては、微小突起の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び/又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。   As the resin, an ionizing radiation curable resin is preferable from the viewpoint of excellent moldability and mechanical strength of fine protrusions. The ionizing radiation curable resin is a mixture of a monomer having radically polymerizable and / or cationically polymerizable bonds in the molecule, a polymer having a low polymerization degree, and a reactive polymer, depending on the polymerization initiator. It is to be cured. In addition, you may contain a non-reactive polymer.

本発明においては微小突起構造体形成用の樹脂組成物は、中でも、電離放射線硬化性成分として、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含むことが好ましく、(メタ)アクリレートを含むことがより好ましい。
また、上記樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れ、指紋拭き取り性が良好になる点から、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。微小突起構造体表面が親油性を有することにより乾拭きで汚れが拭取りやすくなり、また、微小突起が柔軟性に優れることにより、拭取り時に微小突起が変形して汚れを掻き出し易くなるからである。
以下、電離放射線硬化性成分として好ましく用いられる(メタ)アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
In the present invention, the resin composition for forming a microprojection structure preferably includes a compound having an ethylenically unsaturated bond as an ionizing radiation curable component, and more preferably includes (meth) acrylate.
In addition, the resin composition contains a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms from the viewpoint that the lipophilicity of the cured product surface is improved, the fine protrusions are excellent in flexibility, and the fingerprint wiping property is improved. It is preferable to do. This is because the surface of the microprojection structure is oleophilic, so that it is easy to wipe off dirt by dry wiping, and the microprotrusion is excellent in flexibility, so that the microprotrusions are deformed and easy to scrape off when wiping. .
Hereinafter, each component in the composition containing (meth) acrylate preferably used as the ionizing radiation curable component will be described in order.

(1)(メタ)アクリレート
(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリロイル基を1分子中に1個有する単官能(メタ)アクリレートであっても、(メタ)アクリロイル基を1分子中に2個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを併用するものであってもよい。
中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを併用することが好ましい。
(1) (Meth) acrylate (meth) acrylate is a monofunctional (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group in one molecule, but two or more (meth) acryloyl groups in one molecule It may be a polyfunctional acrylate having a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate.
Among these, it is preferable to use a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate in combination from the viewpoint that the cured product satisfies the above physical properties and the microprotrusions have both flexibility and elastic resilience.

単官能(メタ)アクリレートの具体例としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、イソデキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールAジグリシジル(メタ)アクリレート、ビフェニリロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する単官能(メタ)アクリレートが好ましく、中でも、炭素数12以上であることがより好ましく、トリデシル(メタ)アクリレート、及びドデシル(メタ)アクリレートの少なくとも1種を含むことが更により好ましい。これらの単官能(メタ)アクリル酸エステルは、1種単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する単官能(メタ)アクリレートを用いる場合、後述する炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。   Specific examples of monofunctional (meth) acrylates include, for example, methyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate , Butoxyethylene glycol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isodexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate Relate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, biphenyloxyethyl acrylate, bisphenol A diglycidyl (meth) acrylate, biphenylyloxyethyl (meth) acrylate, ethylene oxide modified biphenylyloxyethyl (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, and the like. Among these, a monofunctional (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms is preferable from the viewpoint that the lipophilicity of the cured product surface is improved and the microprotrusions are excellent in flexibility. It is even more preferable that it contains at least one of tridecyl (meth) acrylate and dodecyl (meth) acrylate. These monofunctional (meth) acrylic acid esters can be used alone or in combination of two or more. In addition, when using the monofunctional (meth) acrylate which has a C10 or more long-chain alkyl group, it has the characteristic of the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group mentioned later.

単官能(メタ)アクリレートの含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、5〜40質量%であることが好ましく、10〜30質量%であることがより好ましい。   The content of the monofunctional (meth) acrylate is preferably 5 to 40% by mass and more preferably 10 to 30% by mass with respect to the total solid content of the ionizing radiation curable resin composition.

また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ウレタントリ(メタ)アクリレート、エステルトリ(メタ)アクリレート、ウレタンヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。中でも、微小突起が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能(メタ)アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートの少なくとも1種を含むことが更により好ましい。   Specific examples of the polyfunctional acrylate include, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate. Bisphenol A di (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol S di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate phthalate, ethylene oxide modified bisphenol A di ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tri (Acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, urethane tri (meth) acrylate, ester tri (meth) acrylate, urethane hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified tri Examples include methylolpropane tri (meth) acrylate. Among these, from the viewpoint that the microprotrusions are excellent in flexibility and restorability, it is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate containing an alkylene oxide, more preferably an ethylene oxide modified polyfunctional (meth) acrylate, and an ethylene oxide modified Even more preferably, at least one of bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate is included.

上記多官能(メタ)アクリレートの含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、10〜95質量%であることが好ましく、15〜90質量%であることがより好ましい。   The content of the polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 95% by mass and more preferably 15 to 90% by mass with respect to the total solid content of the ionizing radiation curable resin composition.

(2)炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物
本発明において用いられる樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れ、指紋拭き取り性が良好となる点から、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数12以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、電離放射線硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、(メタ)アクリロイル基を有することがより好ましい。
なお、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物が(メタ)アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記(メタ)アクリレートにも該当し得る。
(2) Compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms The resin composition used in the present invention has improved oleophilicity on the surface of the cured product, excellent microprojections, and good fingerprint wiping properties. From the viewpoint, it is preferable to contain a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms, and it is more preferable to contain a compound having a long-chain alkyl group having 12 or more carbon atoms.
Specific examples of the compound having a long chain alkyl group having 10 or more carbon atoms include compounds having decane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, and the like. Moreover, unless the effect of this invention is impaired, you may have a substituent further. Specific examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, hydroxyl groups, carboxy groups, amino groups and sulfo groups, as well as ethylenically unsaturated double bonds such as vinyl groups and (meth) acryloyl groups. Groups and the like. Especially, it is preferable to have an ethylenically unsaturated double bond from the point provided with ionizing radiation curability, and it is more preferable to have a (meth) acryloyl group.
In addition, when the compound which has a C10 or more long-chain alkyl group has a (meth) acryloyl group, the said compound may correspond also to the said (meth) acrylate.

炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、5〜30質量%であることが好ましく、10〜20質量%であることがより好ましい。   When using a compound having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms, the content of the compound is preferably 5 to 30% by mass with respect to the total solid content of the ionizing radiation curable resin composition. More preferably, it is -20 mass%.

本発明において好ましく用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物は、硬化物の貯蔵弾性率、損失正接を上記好ましい範囲に調整しやすく、且つ親油性に調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートと、エチレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数10以上の長鎖アルキル基を有する(メタ)アクリレートの含有割合が、エチレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレート100質量部に対して、5〜30質量部であることが好ましく、10〜15質量部であることがより好ましい。   The ionizing radiation curable resin composition preferably used in the present invention can easily adjust the storage elastic modulus and loss tangent of the cured product to the above preferred ranges, and can easily be adjusted to be oleophilic, thereby obtaining excellent dry wiping properties. It is particularly preferable that at least a (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 10 or more carbon atoms and an ethylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate are contained. Especially, it is preferable that the content rate of the (meth) acrylate which has a C10 or more long-chain alkyl group is 5-30 mass parts with respect to 100 mass parts of ethylene oxide modified polyfunctional (meth) acrylate. More preferably, it is -15 mass parts.

(3)光重合開始剤
上記(メタ)アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フォスフィンオキサイド、フェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
(3) Photopolymerization initiator In order to initiate or accelerate the curing reaction of the (meth) acrylate, a photopolymerization initiator may be appropriately selected and used as necessary. Specific examples of the photopolymerization initiator include, for example, bisacylphosphinoxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 2,2-dimethoxy-1. , 2-Diphenylethane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl -Propane-1-ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, phenylbis (2,4,6-trimethylbenzene) Benzoyl) - phosphine oxide, phenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) ethyl phosphinic acid and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して0.8〜20質量%であり、0.9〜10質量%であることが好ましい。   When using a photoinitiator, content of the said photoinitiator is 0.8 to 20 mass% normally with respect to the total solid of an ionizing radiation curable resin composition, and 0.9 to 10 mass. % Is preferred.

(4)帯電防止剤
本発明においては、前記樹脂組成物中に帯電防止剤を含有することが好ましい。帯電防止剤を含有することにより、微細凹凸層表面に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。
帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、1級〜3級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、3級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、N,N−ジオクチル−1−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
(4) Antistatic agent In this invention, it is preferable to contain an antistatic agent in the said resin composition. By containing the antistatic agent, it is possible to prevent the dirt from adhering to the surface of the fine concavo-convex layer, and the dirt is easily removed during wiping.
The antistatic agent can be appropriately selected from conventionally known ones. Specific examples of the antistatic agent include, for example, various cationic compounds having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and a primary to tertiary amino group, a sulfonate group, a sulfate ester base, and a phosphate ester. Bases, anionic compounds having an anionic group such as phosphonic acid bases, amphoteric compounds such as amino acid series and aminosulfate ester series, nonionic compounds such as amino alcohol series, glycerin series and polyethylene glycol series, tin and titanium alkoxides And metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof. Of these, cationic compounds are preferred, cationic compounds having a tertiary amino group are more preferred, and trialkylamines such as N, N-dioctyl-1-octaneamine are even more preferred.

帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、電離放射線硬化性樹脂組成物の全固形分に対して1〜20質量%であり、2〜10質量%であることが好ましい。   When the antistatic agent is used, the content of the antistatic agent is usually 1 to 20% by mass, preferably 2 to 10% by mass, based on the total solid content of the ionizing radiation curable resin composition. .

(5)溶剤
本発明において樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、1種類単独で用いてもよく、2種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
(5) Solvent In the present invention, the resin composition may use a solvent from the viewpoint of imparting coatability and the like. In the case of using a solvent, the solvent does not react with each component in the composition, and can be appropriately selected from solvents that can dissolve or disperse each component. Specific examples of such solvents include hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, propylene glycol monoethyl ether ( PGME) ether solvents such as chloroform and dichloromethane, halogenated alkyl solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and other amide solvents such as N, N-dimethylformamide And sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, and propanol, but are not limited thereto. Not to. Moreover, the solvent used for a resin composition may be used individually by 1 type, and the mixed solvent of two or more types of solvents may be sufficient as it.

樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は20〜70質量%であることが好ましく、30〜60質量%であることがより好ましい。なお本発明において固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。   The ratio of the solid content with respect to the total amount of the resin composition is preferably 20 to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass. In addition, in this invention, solid content represents all components other than the solvent in a resin composition.

(6)その他の成分
本発明において用いられる微細凹凸層用の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、離型剤等が挙げられる。
(6) Other components The resin composition for fine concavo-convex layers used in the present invention may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include, for example, a surfactant for adjusting wettability, a silane coupling agent for improving adhesion, a stabilizer, an antifoaming agent, a repellency inhibitor, an antioxidant, an anti-aggregation agent, and a viscosity. A preparation agent, a mold release agent, etc. are mentioned.

(微小突起構造体の製造方法)
本発明において微小突起構造体の製造方法は特に限定されないが、成形性に優れ、且つ安定量産ができる点から、基材の少なくとも一方の面に、賦形により微小突起構造体を形成する方法が好ましい。
前記微小突起構造体は、基材上に設けた当該基材とは別の材料からなる別層の表面に賦形しても良いし、基材が樹脂組成物等の賦形可能な材料からなる場合は、当該基材表面に直接賦形しても良い。
(Manufacturing method of microprojection structure)
In the present invention, the method for producing the microprojection structure is not particularly limited, but a method for forming the microprojection structure by shaping on at least one surface of the substrate from the viewpoint of excellent moldability and stable mass production. preferable.
The microprojection structure may be shaped on the surface of another layer made of a material different from the base material provided on the base material, or the base material is made of a shapeable material such as a resin composition. When it becomes, you may shape directly on the said base-material surface.

微小突起構造体の製造方法としては、例えば以下の方法等が挙げられる。すなわち、まず基材上に前記樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、所望の凹凸形状を有する微小突起構造体形成用原版の該凹凸形状を、前記樹脂組成物の塗膜に賦形した後、前記樹脂組成物を硬化させることにより微小突起構造体を形成し、前記微小突起構造体形成用原版を剥離する方法等である。
なお、微小突起構造体形成用原版の凹凸形状とは、多数の微小孔が密に形成されたものであり、微小突起構造体が備える微小突起群の形状に対応する形状である。
また、微小突起構造体形成用原版の凹凸形状を樹脂組成物に賦形し、該樹脂組成物を硬化させる方法は、樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
Examples of the method for producing the microprojection structure include the following methods. That is, first, the resin composition is applied onto a substrate to form a coating film, and the uneven shape of the microprojection structure forming original plate having a desired uneven shape is formed into a coating film of the resin composition. Thereafter, the resin composition is cured to form a microprojection structure, and the original plate for forming the microprojection structure is peeled off.
The concave / convex shape of the original plate for forming a microprojection structure is a shape in which a large number of micropores are densely formed and corresponds to the shape of a group of microprojections provided in the microprojection structure.
Moreover, the method of shaping the concave / convex shape of the original plate for forming a microprojection structure into a resin composition and curing the resin composition can be appropriately selected according to the type of the resin composition.

前記微小突起構造体形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、耐変形性および耐摩耗性に優れている点から、金属製が好適に用いられる。
前記微小突起構造体形成用原版の凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微小突起構造体形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微小突起構造体形成用原版に凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微小孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微小孔の開口部にテーパー形状を形成する第1エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第1エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微小孔の孔径を拡大する第2エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微小突起構造体形成用原版に凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び/又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微小孔をそれぞれ目的とする深さ及び形状に作製することができる。
The original plate for forming the microprojection structure is not particularly limited as long as it is not deformed and worn when repeatedly used, and may be made of metal or resin, Usually, metal is preferably used because it is excellent in deformation resistance and wear resistance.
The surface having the concavo-convex shape of the original plate for forming a microprojection structure is not particularly limited, but is preferably made of aluminum from the viewpoint of being easily oxidized and easily processed by anodization.
Specifically, the original plate for forming the microprojection structure has high purity by sputtering or the like directly on the surface of a metal base material such as stainless steel, copper, or aluminum, or through various intermediate layers. An aluminum layer is provided, and the aluminum layer is formed with an uneven shape. Prior to providing the aluminum layer, the surface of the base material may be made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method in which electrolytic elution action and abrasion action by abrasive grains are combined.
Examples of a method for forming a concavo-convex shape on the original plate for forming a microprojection structure include, for example, an anodic oxidation step of forming a plurality of micropores on the surface of the aluminum layer by an anodic oxidation method, and etching the aluminum layer. A first etching step for forming a tapered shape in the opening of the microhole, and a second for enlarging the hole diameter of the microhole by etching the aluminum layer at an etching rate higher than the etching rate of the first etching step. It can be formed by sequentially repeating the etching process.
When forming an uneven shape on the original plate for forming a microprojection structure, the purity (impurity amount), crystal grain size, anodizing treatment and / or etching treatment conditions of the aluminum layer are appropriately adjusted to obtain a desired shape. It can be a shape. In the anodic oxidation treatment, more specifically, the micropores can be produced to the desired depth and shape by managing the liquid temperature, the applied voltage, the time for the anodic oxidation, and the like.

また、前記微小突起構造体形成用原版の形状としては、例えば、平板状、ロール状等が挙げられ、特に限定されるものではないが、生産性向上の観点からは、ロール状が好ましい。本発明においては、前記微小突起構造体形成用原版として、ロール状の金型(以下、「ロール金型」と称する場合がある。)を用いることが好ましい。
前記ロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
Moreover, examples of the shape of the original plate for forming a microprojection structure include a flat plate shape and a roll shape, and are not particularly limited, but a roll shape is preferable from the viewpoint of improving productivity. In the present invention, it is preferable to use a roll-shaped mold (hereinafter sometimes referred to as “roll mold”) as the original plate for forming the microprojection structure.
As the roll mold, for example, as described above, a cylindrical metal material is used as a base material, and the aluminum layer provided on the peripheral side surface of the base material directly or through various intermediate layers, as described above. In other words, the concavo-convex shape is produced by repeating the anodizing treatment and the etching treatment.

図13に、微小突起構造体形成用の樹脂組成物として紫外線硬化性樹脂組成物を用い、微小突起構造体形成用原版としてロール金型を用いて、本発明に用いられる微小突起構造体を製造する方法の一例を示す。この製造方法では、まず、樹脂供給工程において、ダイ31により、帯状フィルム形態の基材1に、微小突起構造体2が形成される受容層2’を構成する未硬化で液状の紫外線硬化性樹脂組成物を塗布する。尚、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ11による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ13により、賦形用金型であるロール金型12の周側面に基材1を加圧押圧し、これにより基材1に未硬化の受容層2’を密着させると共に、ロール金型12の周側面に形成された微小な凹凸形状の凹部に受容層2’を構成する紫外線硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより基材1の表面に微小突起構造体を有する微小突起層2が形成される。続いて剥離ローラ14を介してロール金型12から、硬化した微小突起層2と一体に基材1を剥離する。必要に応じてこの基材1に粘着層等を積層した後、所望の大きさに切断する。これにより、所望の形状の微小突起構造体が、効率良く大量生産される。   In FIG. 13, a microprojection structure used in the present invention is manufactured by using an ultraviolet curable resin composition as a resin composition for forming a microprojection structure and using a roll mold as an original plate for forming the microprojection structure. An example of how to do this is shown. In this manufacturing method, first, in the resin supplying step, an uncured and liquid ultraviolet curable resin that constitutes the receiving layer 2 ′ on which the microprojection structure 2 is formed on the substrate 1 in the form of a strip film by the die 31. Apply the composition. In addition, about application | coating of an ultraviolet curable resin composition, not only the case by the die | dye 11 but various methods are applicable. Subsequently, the pressing roller 13 presses and presses the base material 1 against the peripheral side surface of the roll mold 12 which is a shaping mold, thereby bringing the uncured receiving layer 2 ′ into close contact with the base material 1, The concave and convex portions formed on the peripheral side surface of the roll mold 12 are sufficiently filled with the ultraviolet curable resin composition constituting the receiving layer 2 ′. In this state, the ultraviolet curable resin composition is cured by irradiation with ultraviolet rays, whereby the microprojection layer 2 having the microprojection structure is formed on the surface of the substrate 1. Subsequently, the base material 1 is peeled from the roll mold 12 through the peeling roller 14 together with the hard microprojection layer 2. If necessary, an adhesive layer or the like is laminated on the substrate 1 and then cut into a desired size. Thereby, the microprojection structure of a desired shape is efficiently mass-produced.

なお、多峰性の微小突起と単峰性の微小突起とを混在させるには、陽極酸化処理において作製される微小突起構造体形成用原版の微小孔の間隔をばらつかせることにより実現することができる。多峰性の微小突起は、その頂部に対応する形状の凹部を備えた微小孔により作成されるものであり、このような微小孔は、極めて近接して作製された微小孔が、エッチング処理により、一体化して形成されると考えられる。
また、微小突起構造体の少なくとも一部を上述した凸状突起群とするためには、個々の微小突起について、その高さに所定範囲のばらつきがあることが必須である。個々の微小突起の高さのばらつきは、微小突起構造体形成用原版に形成される微小孔の深さのばらつきによるものであり、このような微小孔の深さのばらつきは、陽極酸化処理におけるばらつきに起因するものと言える。これにより相対的に高さの高い頂部微小突起と、相対的に高さの低い複数の周辺微小突起とを混在させるには、陽極酸化処理におけるばらつきを大きくすることにより実現することができる。
In order to mix multi-peak microprojections and monomodal micro-protrusions, it must be realized by varying the micro-hole intervals of the micro-projection structure forming original plate produced in the anodizing process. Can do. Multi-modal microprotrusions are created by micropores having a concave portion corresponding to the top of the microprotrusions, and such micropores are produced by etching processing. It is thought that they are formed integrally.
In order to make at least a part of the microprojection structure into the convex projection group described above, it is essential that the height of each microprotrusion has a predetermined range. The variation in the height of each microprojection is due to the variation in the depth of the microhole formed in the original plate for forming the microprojection structure. It can be said that it is caused by variation. In this way, a mixture of a relatively high top microprojection and a plurality of relatively low peripheral microprojections can be realized by increasing the variation in anodizing treatment.

また上述の実施形態では、ロール金型を使用した賦形処理により、フィルム形状の基材上に微小突起構造体の形成方法を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦形用金型を使用した枚葉の処理により微小突起構造体を作成する場合等、賦形処理に係る工程、金型は、基材の形状に応じて適宜変更することができる。   Further, in the above-described embodiment, the case where the forming method of the microprojection structure is produced on the film-shaped base material by the shaping process using the roll mold is described. Depending on the shape of the material, for example, when forming a microprojection structure by processing a flat plate or a single wafer using a mold for shaping with a specific curved surface shape, It can be appropriately changed according to the shape of the material.

微小突起構造体表面に疎水性を付与する場合には、得られた微小突起構造体の表面に、化学気相処理によりフッ素原子又はケイ素原子を付加してもよい。化学気相処理によりフッ素原子又はケイ素原子を付加することにより、上記微小突起構造体の形状を損ねることなく微小突起構造体表面にフッ素原子又はケイ素原子を付加することができる。前記微小突起構造体の表面にフッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を有することにより、表面の疎水性が高まり、微小突起構造体側の表面における純水の静的接触角をθ/2法で90°以上に調整しやすくなるとともに、表面自由エネルギーが低下して粉体の付着が更に抑制される。   When imparting hydrophobicity to the surface of the microprojection structure, a fluorine atom or a silicon atom may be added to the surface of the obtained microprojection structure by chemical vapor treatment. By adding fluorine atoms or silicon atoms by chemical vapor treatment, fluorine atoms or silicon atoms can be added to the surface of the microprojection structure without impairing the shape of the microprojection structure. By having one or more atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms on the surface of the microprojection structure, the hydrophobicity of the surface is increased, and the static contact angle of pure water on the surface on the microprojection structure side is θ In addition to being easily adjusted to 90 ° or more by the / 2 method, the surface free energy is reduced and the adhesion of powder is further suppressed.

本発明において用いられる化学気相処理は、樹脂組成物の硬化物からなる微小突起構造体の表面に、フッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を付加することができる従来公知の化学気相処理の中から適宜選択することができる。前記微小突起構造体の表面に化学気相処理により付加されたフッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を有する態様としては、例えば、前記微小突起構造体の表面に化学気相処理によるフッ素含有化合物又はケイ素含有化合物の堆積膜を有する態様や、前記微小突起構造体の表面に化学気相処理による化学修飾により結合したフッ素原子又はケイ素含有化合物を有する態様が挙げられる。
微小突起構造体の表面に、溶液塗布法によりフッ素含有化合物又はケイ素含有化合物を付加すると、前述の微小突起構造体表面の凹凸形状を損なうため、粉体付着抑制効果が損なわれる。それに対して、微小突起構造体の表面に、化学気相処理によりフッ素原子又はケイ素原子を付加する方法によれば、前述の微小突起構造体表面の凹凸形状を損なうことなく、純水の静的接触角を高くすることができる。すなわち、化学気相処理によれば、堆積膜であっても、表面化学修飾であっても、微小突起構造体の表面の凹凸に追従して設けることができるため、前述の微小突起構造体表面の凹凸形状を損なわない。そのため、前記微小突起構造体の表面に、化学気相処理により付加されたフッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を有する場合には、粉体付着抑制効果を高くすることができる。
The chemical vapor phase treatment used in the present invention is a conventionally known process that can add one or more atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms to the surface of a microprojection structure made of a cured product of a resin composition. It can be appropriately selected from chemical vapor processing. As an aspect which has 1 or more types of atoms selected from the fluorine atom and silicon atom which were added to the surface of the said microprotrusion structure by chemical vapor processing, for example, chemical vapor processing is carried out on the surface of the said microprotrusion structure And a mode having a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound deposited on the surface of the microprojection structure by chemical modification by chemical vapor treatment.
When a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound is added to the surface of the microprojection structure by a solution coating method, the uneven shape on the surface of the microprojection structure is impaired, and the powder adhesion suppressing effect is impaired. On the other hand, according to the method of adding fluorine atoms or silicon atoms to the surface of the microprojection structure by chemical vapor processing, the pure water is static without impairing the irregular shape of the surface of the microprojection structure. The contact angle can be increased. That is, according to the chemical vapor phase treatment, the surface of the microprojection structure can be provided by following the irregularities on the surface of the microprojection structure, whether it is a deposited film or a surface chemical modification. Does not impair the uneven shape. Therefore, when the surface of the microprojection structure has one or more atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms added by chemical vapor treatment, the powder adhesion suppressing effect can be enhanced. .

本発明において化学気相処理方法は、樹脂組成物の硬化物からなる微小突起構造体の表面に、フッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を付加することができる従来公知の方法の中から適宜選択することができる。
本発明において化学気相処理方法としては、化学気相成長(CVD)法、又は反応性イオンエッチング法が好ましい。以下、各化学気相処理方法について説明する。
In the present invention, the chemical vapor treatment method is a conventionally known method capable of adding one or more kinds of atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms to the surface of a microprojection structure made of a cured product of a resin composition. Can be selected as appropriate.
In the present invention, the chemical vapor deposition method is preferably a chemical vapor deposition (CVD) method or a reactive ion etching method. Hereinafter, each chemical vapor processing method will be described.

(化学気相成長(CVD)法)
本発明においては、CVD法は、従来公知の方法の中から適宜選択することができる。具体的には、例えば、熱CVD法、光CVD法、プラズマCVD法、エピタキシャルCVD法、アトミックレイヤーCVD法、有機金属気相成長法等が挙げられ、低温で製膜可能な点から、プラズマCVD法を用いることが好ましい。
(Chemical vapor deposition (CVD) method)
In the present invention, the CVD method can be appropriately selected from conventionally known methods. Specifically, for example, a thermal CVD method, a photo CVD method, a plasma CVD method, an epitaxial CVD method, an atomic layer CVD method, a metal organic chemical vapor deposition method, and the like can be mentioned. The method is preferably used.

具体的には、例えば、少なくとも1種のフッ素含有化合物を加熱により気化し、キャリアガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスと混合し、当該ガスをプラズマ化することにより、前記微小突起構造体の表面にフッ素含有化合物乃至ケイ素含有化合物を付加することができる。   Specifically, for example, the microprojection structure is obtained by evaporating at least one fluorine-containing compound by heating, mixing it with an inert gas such as argon gas or helium gas as a carrier gas, and converting the gas into plasma. A fluorine-containing compound or a silicon-containing compound can be added to the surface of the body.

上記フッ素含有化合物としては、CVD法に適用可能な従来公知の化合物を用いることができ、中でも、少なくとも1つの末端に炭素原子数が1〜6のパーフルオロアルキル基を含有し、酸素原子を含有しない、炭素原子数が10以下のフッ素含有化合物を用いることが好ましい。具体的には、例えば、テトラフルオロメタン、パーフルオロエタン、パーフルオロプロパン、パーフルオロブタン、パーフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン等のパーフルオロアルカン類ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ(4−メチル−2−ペンテン)、パーフルオロ(2−メチル−2−ペンテン)、パーフルオロ−1−ヘキセン等のパーフルオロアルケン類等が挙げられる。本発明においては、微小突起構造体表面を疎水性とする点から、炭素原子数が3〜6のパーフルオロアルキル基を有するフッ素含有化合物であることが好ましく、更に、炭素原子数が4〜6のパーフルオロアルキル基がより好ましい。また、フッ素含有化合物としては、イオンやラジカル等の活性種が発生しやすい、不飽和炭化水素基や、ヨード基を含有することが好ましい。
また、上記ケイ素含有化合物としては、CVD法に適用可能な従来公知のケイ素含有化合物の中から適宜選択すればよい。具体的には、例えば、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、テトラメチルジシロキサン(TMDSO)、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。
上記フッ素含有化合物及びケイ素含有化合物のガスと、不活性ガスとの混合比は、特に限定されないが、1:99〜30:70(体積比)であることが好ましく、2:98〜10:90(体積比)であることがより好ましい。
As the fluorine-containing compound, a conventionally known compound applicable to the CVD method can be used. Among them, at least one terminal contains a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms and contains an oxygen atom. It is preferable to use a fluorine-containing compound having 10 or less carbon atoms. Specifically, for example, perfluoroalkanes such as tetrafluoromethane, perfluoroethane, perfluoropropane, perfluorobutane, perfluoropentane, and perfluorohexane, hexafluoropropylene, perfluoro (4-methyl-2-pentene). ), Perfluoroalkenes such as perfluoro (2-methyl-2-pentene) and perfluoro-1-hexene. In the present invention, a fluorine-containing compound having a perfluoroalkyl group having 3 to 6 carbon atoms is preferable from the viewpoint of making the surface of the microprojection structure hydrophobic, and further, the number of carbon atoms is 4 to 6 The perfluoroalkyl group is more preferable. In addition, the fluorine-containing compound preferably contains an unsaturated hydrocarbon group or an iodo group in which active species such as ions and radicals are easily generated.
Moreover, what is necessary is just to select suitably from the conventionally well-known silicon-containing compound applicable to CVD method as said silicon-containing compound. Specific examples include hexamethyldisiloxane (HMDSO), tetramethyldisiloxane (TMDSO), hexamethyldisilazane (HMDS), and octamethylcyclotetrasiloxane.
The mixing ratio of the fluorine-containing compound and silicon-containing compound gas to the inert gas is not particularly limited, but is preferably 1:99 to 30:70 (volume ratio), and 2:98 to 10:90. (Volume ratio) is more preferable.

(反応性イオンエッチング法)
本発明においては、反応性イオンエッチング法を用いて、フッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を付加してもよい。反応性イオンエッチング法は、通常、フッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子の付加と、基材表面のエッチングを同時に行うものであるが、本発明においては、フッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子の付加を目的とするものであり、微小突起構造体の表面はエッチングされないか、エッチングされたとしても前記表面形状に影響を及ぼさない程度に条件を設定する。
(Reactive ion etching method)
In the present invention, one or more atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms may be added using a reactive ion etching method. In the reactive ion etching method, usually, addition of one or more kinds of atoms selected from fluorine atoms and silicon atoms and etching of the substrate surface are simultaneously performed. In the present invention, fluorine atoms and silicon atoms are used. The purpose is to add one or more selected atoms, and the condition is set so that the surface of the microprojection structure is not etched or does not affect the surface shape even if it is etched.

本発明において、反応性イオンエッチング法は、フッ素含有化合物及びケイ素含有化合物より選択される1種以上のガス状の化合物を用い、プラズマにより、前記微小突起構造体の表面にフッ素含有化合物を付加する。
反応性イオンエッチング法においては、上記ガス状の化合物に更に酸素を混合してもよい。フッ素含有化合物及びケイ素含有化合物より選択される1種以上のガス状の化合物と酸素との混合比は、100:0〜80:20(体積比)であることが好ましく、100:0〜85:15(体積比)であることがより好ましい。酸素の割合を増やすと前記微小突起構造体表面がエッチングされる場合がある。
In the present invention, the reactive ion etching method uses one or more gaseous compounds selected from fluorine-containing compounds and silicon-containing compounds, and adds a fluorine-containing compound to the surface of the microprojection structure by plasma. .
In the reactive ion etching method, oxygen may be further mixed with the gaseous compound. The mixing ratio of one or more gaseous compounds selected from fluorine-containing compounds and silicon-containing compounds and oxygen is preferably 100: 0 to 80:20 (volume ratio), and 100: 0 to 85: More preferably, it is 15 (volume ratio). When the proportion of oxygen is increased, the surface of the microprojection structure may be etched.

上記フッ素含有化合物としては、フッ化アルキル化合物が好適に用いられる。具体的には、テトラフルオロメタン、トリフルオロメタン、ヘキサフルオロエタン等が挙げられ、微小突起構造体の表面を疎水性とする点から、中でも、テトラフルオロメタンを用いることが好ましい。
また、上記ケイ素含有化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、テトラメチルジシロキサン(TMDSO)、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。
As the fluorine-containing compound, a fluorinated alkyl compound is preferably used. Specific examples thereof include tetrafluoromethane, trifluoromethane, hexafluoroethane, and the like. Among these, tetrafluoromethane is preferably used from the viewpoint of making the surface of the microprojection structure hydrophobic.
Examples of the silicon-containing compound include hexamethyldisiloxane (HMDSO), tetramethyldisiloxane (TMDSO), hexamethyldisilazane (HMDS), and octamethylcyclotetrasiloxane.

化学気相成長(CVD)法、又は、反応性イオンエッチング法を用いた場合、微小突起構造体表面にフッ素含有化合物が堆積する。この場合であっても、前記微小突起構造体の最表面は、微小突起構造体の凹凸形状に起因した凹凸形状を有するものであり、化学気相処理により付加されたフッ素原子及びケイ素原子より選択される1種以上の原子を含む部分の膜厚は、前記微小突起構造体の最表面が微小突起構造体の凹凸形状に起因した凹凸形状を有するように適宜選択される。例えば、化学気相成長(CVD)法、又は、反応性イオンエッチング法を用いた場合における、フッ素原子を含む部分の膜厚は、5nm〜50nmであることが好ましく、10nm〜40nmであることがより好ましい。   When a chemical vapor deposition (CVD) method or a reactive ion etching method is used, a fluorine-containing compound is deposited on the surface of the microprojection structure. Even in this case, the outermost surface of the microprojection structure has an uneven shape due to the uneven shape of the microprojection structure, and is selected from fluorine atoms and silicon atoms added by chemical vapor processing. The film thickness of the portion including one or more kinds of atoms is appropriately selected so that the outermost surface of the microprojection structure has an uneven shape due to the uneven shape of the microprojection structure. For example, when a chemical vapor deposition (CVD) method or a reactive ion etching method is used, the film thickness of the portion containing fluorine atoms is preferably 5 nm to 50 nm, and preferably 10 nm to 40 nm. More preferred.

<基材>
本発明において用いられる微小突起構造体は、図3の例に示される通り、微小突起構造を有しない面側に基材を有する積層体となっていてもよい。基材を用いる場合、当該基材は従来公知の基材の中から適宜選択して用いることができ、粉体化粧料容器や粉体化粧料テスター陳列台の形状に合わせて曲面を有するものであってもよく、任意の三次元形状を有する基材であってもよい。
前記基材に用いられる材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、PLZT等のセラミックス、石英、蛍石等の無機材料、金属、紙、木、及びこれらの複合材料等が挙げられる。
また、前記基材は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよく、用途に応じて適宜選択することができる。
<Base material>
As shown in the example of FIG. 3, the microprojection structure used in the present invention may be a laminate having a base material on the surface side not having the microprojection structure. When using a base material, the base material can be appropriately selected from conventionally known base materials, and has a curved surface according to the shape of the powder cosmetic container or the powder cosmetic tester display stand. It may be a base material having an arbitrary three-dimensional shape.
Examples of the material used for the base material include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, acrylic resins, polyurethane resins, polyethersulfone and polycarbonate, Resins such as polysulfone, polyether, polyetherketone, acrylonitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, glass such as soda glass, potassium glass, lead glass, ceramics such as PLZT, inorganic such as quartz and fluorite Examples include materials, metals, paper, wood, and composite materials thereof.
Further, the substrate may be any of those supplied in the form of a roll, those that do not bend enough to be wound, but that are curved by applying a load, and those that do not bend completely. You can choose.

本発明に用いられる基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
また、後述する微小突起構造体が基材とは別の材料からなる微小突起層に形成される場合は、層間の密着性、塗工適性、表面平滑性等の基材表面性能を向上させる点から、基材上に中間層を形成してもよい。
中間層は、従来公知のものの中から用途に応じて適宜選択すればよい。例えば、中間層の材料として、フッ素系コーティング剤及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。フッ素系コーティング剤の市販品としては、例えば、フロロテクノロジー製のフロロサーフ FG−5010Z130等が挙げられ、前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーDS−PC−3B等が挙げられる。
The structure of the base material used in the present invention is not limited to a structure composed of a single layer, and may have a structure in which a plurality of layers are laminated. When it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, and the several layer which has a different composition may be laminated | stacked.
In addition, when the microprojection structure to be described later is formed on a microprojection layer made of a material different from the substrate, the surface performance of the substrate such as adhesion between layers, coating suitability, and surface smoothness is improved. From the above, an intermediate layer may be formed on the substrate.
What is necessary is just to select an intermediate | middle layer suitably from a conventionally well-known thing according to a use. For example, the material for the intermediate layer can be appropriately selected from fluorine-based coating agents and silane coupling agents. Examples of commercially available fluorine-based coating agents include Fluorosurf FG-5010Z130 manufactured by Fluoro Technology, and examples of commercially available silane coupling agents include Durasurf Primer DS-PC-3B manufactured by Harves. Is mentioned.

本発明に用いられる基材の可視光領域における透過率は、用途に応じて適宜調節することができ、透過率が80%以上の透明基材を用いてもよく、透過率が80%未満の反透明基材、又は不透明基材を用いてもよい。微小突起構造体を鏡面に用いる場合には、鏡面反射に優れる点から透明基材を用いることが好ましい。前記透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transmittance in the visible light region of the substrate used in the present invention can be appropriately adjusted according to the use, and a transparent substrate having a transmittance of 80% or more may be used, and the transmittance is less than 80%. An anti-transparent substrate or an opaque substrate may be used. When the microprojection structure is used for a mirror surface, it is preferable to use a transparent substrate from the viewpoint of excellent specular reflection. The transmittance can be measured by JIS K7361-1 (Plastic—Testing method for total light transmittance of transparent material).

基材の厚みは、用途に応じて適宜設定すればよい。フィルム状の基材を用いる場合、例えば1μm〜5000μm程度のものとすることができる。   What is necessary is just to set the thickness of a base material suitably according to a use. When using a film-like base material, it can be set to, for example, about 1 μm to 5000 μm.

本発明において微小突起構造体は当該微小突起構造体を表面に備えた部材により設けられることが好ましい。例えば、図3や図4のような微小突起構造体を表面に備える部材の微小突起群を有しない面に更に接着剤層を設けて(図示せず)、粉体化粧料容器や、粉体化粧料テスター陳列台に当該接着剤層を介して貼着することにより、本発明に係る粉体化粧料容器、又は本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台とすることができる。上記接着剤層に用いられる接着剤としては、粘着剤(感圧接着剤)、2液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等の公知の接着形態のものが各種使用できる。   In the present invention, the microprojection structure is preferably provided by a member having the microprojection structure on the surface. For example, an adhesive layer (not shown) is further provided on the surface of the member having the microprojection structure as shown in FIGS. The powder cosmetic container according to the present invention or the powder cosmetic tester display stand according to the present invention can be obtained by sticking to the cosmetic tester display stand through the adhesive layer. Adhesives used for the adhesive layer include known adhesives such as pressure-sensitive adhesives (pressure-sensitive adhesives), two-component curable adhesives, ultraviolet curable adhesives, thermosetting adhesives, and hot melt adhesives. Various forms can be used.

[粉体化粧料容器]
本発明に係る粉体化粧料容器は、粉体を含む化粧料を収容する収容部を備えた容器本体と、当該容器本体を閉塞する蓋体とを備えた粉体化粧料容器であって、当該粉体化粧料容器の内部表面の少なくとも一部が、前記微小突起構造体を有することを特徴とする。
[Powder cosmetic container]
The powder cosmetic container according to the present invention is a powder cosmetic container comprising a container body provided with a container for containing cosmetic containing powder, and a lid for closing the container body, At least a part of the inner surface of the powder cosmetic container has the microprojection structure.

本発明の粉体化粧料容器の実施態様の一例を図1に示す。図1の例では、粉体化粧料容器100は、粉体化粧料を収容する収容部102A及び102Bを備えた容器本体101と、蓋体103とを備えている。
容器本体101において、収容部102A及び102Bのうちの一方に粉体化粧料の代わりにパウダーパフなどの化粧用具を収容してもよく、図示はしないが、容器本体101に更に化粧ブラシ、化粧チップ等の化粧用具を収容する凹部を備えていてもよい。また、容器本体101においては、前面中央部に穿設した凹部内に係合突起105Aを突設するとともに、該凹部内に押し釦105Bを揺動可能に枢着させている。
また、蓋体103は容器本体101後部に後部を回動可能に連結して容器本体上面を開閉可能に設けたもので、その裏面には鏡104を固定している。また、前部中央下面より垂設させたフック105Cを閉蓋の際に上記係合突起105Aと係合可能に構成し、閉塞状態を維持可能に構成するとともに、押し釦105Bの押し込みによりフック105Cを押し上げて係合の解除を可能に構成している。
図1は、本発明の粉体化粧料容器の一例であり、本発明に係る粉体化粧料容器の必須の構成を有していれば、その他の構成は特に限定されず、適宜公知の構成を採用することができる。
An example of the embodiment of the powder cosmetic container of the present invention is shown in FIG. In the example of FIG. 1, the powder cosmetic container 100 includes a container main body 101 including storage units 102 </ b> A and 102 </ b> B that store the powder cosmetic, and a lid 103.
In the container body 101, a cosmetic tool such as a powder puff may be housed in one of the housing portions 102A and 102B in place of the powder cosmetic material. You may provide the recessed part which accommodates cosmetic tools, such as. Further, in the container main body 101, an engaging protrusion 105A is protruded in a recess formed in the center of the front surface, and a push button 105B is pivotally mounted in the recess so as to swing.
Further, the lid 103 has a rear part rotatably connected to the rear part of the container main body 101 so that the upper surface of the container main body can be opened and closed, and a mirror 104 is fixed to the rear surface thereof. Further, the hook 105C suspended from the lower surface of the center of the front part is configured so as to be able to engage with the engaging protrusion 105A when the cover is closed, so that the closed state can be maintained, and the hook 105C is pushed by pressing the push button 105B. The engagement is released by pushing up.
FIG. 1 is an example of the powder cosmetic container according to the present invention, and any other configuration is not particularly limited as long as it has an essential configuration of the powder cosmetic container according to the present invention. Can be adopted.

本発明の粉体化粧料容器は、内部表面の少なくとも一部が、前記微小突起構造体を有するため、微小突起構造体を有する内部表面において粉体化粧料の付着が抑制され、当該内部表面を常時クリーンに保つことができる。微小突起構造体を有する内部表面としては、特に限定されないが、例えば、容器の内部に鏡を備える場合には鏡の表面、粉体化粧料収容部の周縁部表面、化粧道具収容部の表面及び化粧道具収容部の周縁部表面、蓋体の裏面、容器の内部に内蓋を更に備える場合には当該内蓋の表面及び裏面等が挙げられる。粉体化粧料容器の内部表面に前記微小突起構造体を配置する方法は特に限定されない。例えば、前記微小突起構造体の製造方法により製造された、微小突起構造体を表面に備えた部材を、接着剤等を介して、粉体化粧料容器の内部表面に貼着する方法などが挙げられる。
また、本発明の粉体化粧料容器は、容器本体の内部を構成する樹脂表面自体が、上述の方法により賦型されて微小突起構造体を有していてもよい。
In the powder cosmetic container of the present invention, since at least a part of the inner surface has the microprojection structure, the adhesion of the powder cosmetic is suppressed on the inner surface having the microprojection structure, It can be kept clean all the time. The internal surface having the microprojection structure is not particularly limited. For example, when a mirror is provided inside the container, the surface of the mirror, the peripheral surface of the powder cosmetic container, the surface of the cosmetic tool container, and In the case where an inner lid is further provided in the peripheral edge surface of the makeup tool accommodating portion, the back surface of the lid, and the inside of the container, the front surface and the back surface of the inner lid are exemplified. The method for disposing the microprojection structure on the inner surface of the powder cosmetic container is not particularly limited. For example, a method in which a member provided on the surface of the microprojection structure manufactured by the method of manufacturing the microprojection structure is attached to the inner surface of the powder cosmetic container via an adhesive or the like. It is done.
In the powder cosmetic container of the present invention, the resin surface itself constituting the inside of the container main body may be shaped by the above-described method to have a microprojection structure.

中でも、本発明の粉体化粧料容器は、容器の内部に鏡104を備え、少なくとも当該鏡の表面に、微小突起構造体を表面に備えた部材106が貼着されてなる態様が好ましい。このような粉体化粧料容器は、粉体化粧料が鏡面に付着することが抑制されるため、鏡の視認性に優れている。   Among these, the powder cosmetic container of the present invention is preferably in a mode in which a mirror 104 is provided inside the container, and a member 106 having a microprojection structure on the surface is attached to at least the surface of the mirror. Such a powder cosmetic container is excellent in the visibility of the mirror because the powder cosmetic is suppressed from adhering to the mirror surface.

粉体化粧料としては、粉体が含まれる化粧料が挙げられ、粉末状、固形粉末状であるものが好適なものとして挙げられる。例えば、ファンデーション、アイシャドウ、ほほ紅等のメイクアップ化粧料、ケア用化粧料、ボディ用化粧料等が挙げられる。
上記微小突起構造体は、粉体の粒径によらず付着を抑制する効果を有するが、中でも、0.1〜30μmの粒径を有する粉体に好適に用いることができ、0.1〜25μmの粒径を有する粉体により好適に用いることができる。
Examples of the powder cosmetic include cosmetics containing powder, and powders and solid powders are preferable. Examples thereof include makeup cosmetics such as foundations, eye shadows, and cheeks, care cosmetics, body cosmetics, and the like.
The microprojection structure has an effect of suppressing adhesion regardless of the particle size of the powder, and among these, it can be suitably used for a powder having a particle size of 0.1 to 30 μm. A powder having a particle size of 25 μm can be preferably used.

[粉体化粧料テスター陳列台]
本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台は、粉体を含む化粧料のテスターを収容するテスター収容部を備えた粉体化粧料テスター陳列台であって、更に前記テスター収容部上面を開閉可能に設けた蓋体を備えていてもよく、前記陳列台の表面及び前記蓋体の内外表面の少なくとも一部が、前記微小突起構造体を有することを特徴とする。
[Powder cosmetic tester display stand]
The powder cosmetic tester display stand according to the present invention is a powder cosmetic tester display stand provided with a tester storage portion for storing a cosmetic tester containing powder, and further capable of opening and closing the upper surface of the tester storage portion. The lid may be provided, and at least a part of the surface of the display stand and the inner and outer surfaces of the lid have the microprojection structure.

本発明の粉体化粧料テスター陳列台の実施態様の一例を図2に示す。図2のテスター陳列台200の例では、複数のテスター収容部201を備え、その手前に作業台202が配置されている。テスター収容部には、1乃至2以上のテスターを含むテスターユニット204が収容され、陳列台上部に鏡203を備えている。テスター収容部201は、テスター保管用に蓋体(図示せず)を備えていてもよく、テスターユニット204が当該蓋体を有するものであってもよい。
図2は、本発明の粉体化粧料テスター陳列台の一例であり、本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台の必須の構成を有していれば、その他の構成は特に限定されず、適宜公知の構成を採用することができる。
An example of the embodiment of the powder cosmetic tester display stand of the present invention is shown in FIG. In the example of the tester display stand 200 in FIG. 2, a plurality of tester accommodating portions 201 are provided, and a work table 202 is disposed in front of the tester display unit 200. The tester accommodating portion accommodates a tester unit 204 including one or more testers, and includes a mirror 203 at the top of the display stand. The tester accommodating part 201 may be provided with a lid (not shown) for storing the tester, and the tester unit 204 may have the lid.
FIG. 2 is an example of the powder cosmetic tester display stand of the present invention, and other configurations are not particularly limited as long as the powder cosmetic tester display stand according to the present invention has an essential configuration. A known configuration can be adopted as appropriate.

本発明のテスター陳列台は、前記陳列台の表面として、テスター収容部の周縁部や、テスターユニットの周縁部、作業台、鏡の表面又は蓋体の内外表面等、少なくとも一部に微小突起構造体を備えるため、粉体化粧料の付着が抑制され、常時クリーンに保つことができる。
テスター陳列台の表面に微小突起構造体を配置する方法としては、前記微小突起構造体の製造方法により製造された、微小突起構造体を表面に備えた部材を、接着剤等を介して、粉体化粧料テスター陳列台の前記表面に貼着する方法などが挙げられる。
また、本発明の粉体化粧料テスター陳列台は、当該陳列台の表面を構成する樹脂表面自体が、上述の方法により賦型されて微小突起構造体を有していてもよい。
図2は、本発明の粉体化粧料テスター陳列台の一例であり、本発明に係る粉体化粧料テスター陳列台の必須の構成を有していれば、その他の構成は特に限定されず、適宜公知の構成を採用することができる。
The tester display stand of the present invention has a microprojection structure on at least a part of the surface of the display stand, such as the peripheral portion of the tester housing, the peripheral portion of the tester unit, the work table, the surface of the mirror, or the inner and outer surfaces of the lid. Since the body is provided, the adhesion of the powder cosmetic can be suppressed and kept clean at all times.
As a method of arranging the microprojection structure on the surface of the tester display stand, a member provided on the surface with the microprojection structure manufactured by the method for manufacturing the microprojection structure is ground with an adhesive or the like. The method of sticking on the said surface of a body cosmetics tester display stand etc. are mentioned.
In the powder cosmetic tester display stand of the present invention, the resin surface itself constituting the surface of the display stand may be shaped by the above-described method to have a microprojection structure.
FIG. 2 is an example of the powder cosmetic tester display stand of the present invention, and other configurations are not particularly limited as long as the powder cosmetic tester display stand according to the present invention has an essential configuration. A known configuration can be adopted as appropriate.

以下、実施例を用いてより具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, it demonstrates more concretely using an Example. In addition, this invention is not limited to an Example.

(樹脂組成物Aの調製)
以下の各成分を混合し、微小突起構造体形成用の樹脂組成物Aを調製した。
・EO変性ビスフェノールAジアクリレート 70質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート 30質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Preparation of resin composition A)
The following components were mixed to prepare a resin composition A for forming a microprojection structure.
-EO-modified bisphenol A diacrylate 70 parts by mass-Polyethylene glycol diacrylate 30 parts by mass-Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucillin TPO) 1 part by mass

(樹脂組成物Bの調製)
以下の各成分を混合し、微小突起構造体形成用の樹脂組成物Bを調製した。
・EO変性ビスフェノールAジアクリレート 50質量部
・EO変性トリメチロールプロパンアクリレート 30質量部
・トリデシルアクリレート 5質量部
・ドデシルアクリレート 5質量部
・メチルメタクリレート 5質量部
・ヘキシルメタクリレート 5質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1質量部
(Preparation of resin composition B)
The following components were mixed to prepare a resin composition B for forming a microprojection structure.
-EO-modified bisphenol A diacrylate 50 parts by mass-EO-modified trimethylolpropane acrylate 30 parts by mass-tridecyl acrylate 5 parts by mass-dodecyl acrylate 5 parts by mass-methyl methacrylate 5 parts by mass-hexyl methacrylate 5 parts by mass-diphenyl (2, 4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucillin TPO) 1 part by mass

(比較樹脂組成物Cの調製)
以下の各成分を混合し、微小突起構造体形成用の比較樹脂組成物Cを調製した。
・EO変性ビスフェノールAジアクリレート 70質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート 30質量部
・ジフェニル(2,4,6−トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド(ルシリンTPO) 1重量部
・シリカゲル 5質量部
(Preparation of comparative resin composition C)
The following components were mixed to prepare a comparative resin composition C for forming a microprojection structure.
-EO-modified bisphenol A diacrylate 70 parts by mass-Polyethylene glycol diacrylate 30 parts by mass-Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide (Lucirin TPO) 1 part by weight-Silica gel 5 parts by mass

(金型1の作製)
純度99.50%の圧延されたアルミニウム板を、研磨後、0.02Mシュウ酸水溶液の電解液中で、印加電圧40V、20℃の条件にて100秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で50秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、1.0Mリン酸水溶液で120秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計5回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微小孔が密に形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微小突起構造体形成用の金型1を得た。なお、金型1のアルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微小孔間距離100nm、平均深さ160nmであった。また、頂点を複数有する微小突起となるような微小孔が一部存在しており、一部の微小孔に深さのばらつきがある形状であった。
(Production of mold 1)
The polished aluminum plate having a purity of 99.50% was polished and then anodized in an electrolyte solution of 0.02 M oxalic acid aqueous solution at an applied voltage of 40 V and 20 ° C. for 100 seconds. Next, as a first etching process, an etching process was performed for 50 seconds with the electrolytic solution after anodization. Subsequently, as the second etching treatment, a pore size treatment was performed for 120 seconds with a 1.0 M phosphoric acid aqueous solution. Furthermore, the said process was repeated and these were added and implemented 5 times in total. As a result, an anodized aluminum layer having minute holes formed densely on the aluminum substrate was formed. Finally, a mold release agent for forming a microprojection structure was obtained by applying a fluorine-based release agent and washing away the excess release agent. In addition, the fine uneven | corrugated shape formed in the aluminum layer of the metal mold | die 1 was the average distance between adjacent micropores of 100 nm, and the average depth of 160 nm. In addition, a part of the microholes which become microprotrusions having a plurality of vertices are present, and the part of the microholes has a variation in depth.

(金型2の作製)
第一エッチング処理時間を60秒、第二エッチング処理時間を130秒とし、繰り返し操作を7回追加実施したこと以外は、金型1の作製と同様にして、平均隣接微小孔間距離200nm、平均深さ160nmの微小突起構造体形成用の金型2を得た。なお、金型2のアルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、頂点を複数有する微小突起となるような微小孔が一部存在しており、一部の微小孔に深さのばらつきがある形状であった。
(Production of mold 2)
Except that the first etching treatment time was 60 seconds, the second etching treatment time was 130 seconds, and the repeating operation was additionally performed seven times, the average distance between adjacent micro-holes was 200 nm, the average A mold 2 for forming a microprojection structure having a depth of 160 nm was obtained. Note that the fine uneven shape formed on the aluminum layer of the mold 2 has a part of micro holes that become micro projections having a plurality of apexes, and some micro holes have variations in depth. It was a shape.

(金型3の作製)
第一エッチング処理時間を70秒、第二エッチング処理時間を170秒とし、繰り返し操作を5回追加実施したこと以外は、金型1の作製と同様にして、平均隣接微小孔間距離400nm、平均深さ210nmの微小突起構造体形成用の金型3を得た。なお、金型3のアルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、頂点を複数有する微小突起となるような微小孔が一部存在しており、一部の微小孔に深さのばらつきがある形状であった。
(Production of mold 3)
Except that the first etching treatment time was 70 seconds, the second etching treatment time was 170 seconds, and the repeating operation was additionally performed five times, in the same manner as in the fabrication of the mold 1, the average distance between adjacent micropores was 400 nm, the average A mold 3 for forming a microprojection structure having a depth of 210 nm was obtained. Note that the fine uneven shape formed in the aluminum layer of the mold 3 has a part of micro holes that become micro projections having a plurality of vertices, and some micro holes have variations in depth. It was a shape.

(金型4の作製)
第一エッチング処理時間を70秒、第二エッチング処理時間を170秒とし、繰り返し操作を7回追加実施したこと以外は、金型1の作製と同様にして、平均隣接微小孔間距離500nm、平均深さ230nmの微小突起構造体形成用の金型4を得た。なお、金型4のアルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、頂点を複数有する微小突起となるような微小孔が一部存在しており、一部の微小孔に深さのばらつきがある形状であった。
(Production of mold 4)
Except that the first etching treatment time was 70 seconds, the second etching treatment time was 170 seconds, and the repeating operation was additionally performed seven times, the average distance between adjacent micropores was 500 nm and the average was the same as in the manufacture of the mold 1. A mold 4 for forming a microprojection structure having a depth of 230 nm was obtained. In addition, the fine uneven shape formed in the aluminum layer of the mold 4 has a part of micro holes which become micro protrusions having a plurality of apexes, and some micro holes have variations in depth. It was a shape.

<化学気相処理方法>
微小突起構造体の表面の化学気相処理方法として、下記処理方法により化学気相処理を行った。
<Chemical vapor phase processing method>
As a chemical vapor treatment method for the surface of the microprojection structure, chemical vapor treatment was performed by the following treatment method.

(化学気相処理方法1:CVD法)
CVD法は、エネルギーコントロール装置としてRF GENERATOR PRF‐153B(ANELVA社)および処理装置DEA‐506(ANELVA社)とを組み合わせて行った。前記処理装置内の反応ステージに、後述する微小突起構造体が形成された基材を設置し、反応室内の真空度を5×10−3Pa以下とした。
ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO;東京化成工業株式会社製)をステンレス容器に投入し、アルゴン(Ar)ガスライン上に接続した。HMDSO入りのステンレス容器を50℃の温浴上で加熱し、気化させることでArガス中に混合し処理を行った。この際、気化量が全Ar流量に対して3%混合できるよう温調および絞りを調節した。当該混合ガスを流量100sccmで流し、反応室内の内圧を50mTorrとし、エネルギー100Wでプラズマ化し、3分間CVD処理を行った。
アルゴンガスは、純度99.999%(太陽日酸製)を使用した。
(Chemical vapor phase processing method 1: CVD method)
The CVD method was performed in combination with RF GENERATOR PRF-153B (ANELVA) and processing unit DEA-506 (ANEVAVA) as energy control devices. A base material on which a microprojection structure to be described later was formed was installed on the reaction stage in the processing apparatus, and the degree of vacuum in the reaction chamber was set to 5 × 10 −3 Pa or less.
Hexamethyldisiloxane (HMDSO; manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was put into a stainless steel container and connected to an argon (Ar) gas line. The stainless steel container containing HMDSO was heated on a 50 ° C. warm bath and vaporized to mix with Ar gas and perform the treatment. At this time, the temperature control and the throttle were adjusted so that the vaporization amount could be mixed by 3% with respect to the total Ar flow rate. The mixed gas was flowed at a flow rate of 100 sccm, the internal pressure in the reaction chamber was set to 50 mTorr, and plasma was generated at an energy of 100 W, followed by a CVD process for 3 minutes.
Argon gas having a purity of 99.999% (manufactured by Taiyo Nippon Sanso) was used.

(化学気相処理方法2:反応性イオンエッチング法)
反応性イオンエッチング法は、上記CVD法と同様、エネルギーコントロール装置としてRF GENERATOR PRF‐153B(ANELVA社)および処理装置DEA‐506(ANELVA社)とを組み合わせて行った。前記処理装置内の反応ステージに、後述する微小突起構造体が形成された基材を設置し、反応室内の真空度を5×10−3Pa以下とした。次いで、テトラフルオロメタンガス(昭和電工製、純度100.00%)を流量100sccmで流し、反応室内の内圧を50mTorrとし、エネルギー100Wでプラズマ化し、2分間反応性イオンエッチング処理を行った。
(Chemical vapor phase treatment method 2: reactive ion etching method)
The reactive ion etching method was performed by combining RF GENERATOR PRF-153B (ANELVA) and processing device DEA-506 (ANELVA) as an energy control device in the same manner as the CVD method. A base material on which a microprojection structure to be described later was formed was installed on the reaction stage in the processing apparatus, and the degree of vacuum in the reaction chamber was set to 5 × 10 −3 Pa or less. Next, tetrafluoromethane gas (produced by Showa Denko, purity: 100.00%) was flowed at a flow rate of 100 sccm, the internal pressure in the reaction chamber was changed to 50 mTorr, and plasma was generated at an energy of 100 W, followed by a reactive ion etching treatment for 2 minutes.

[実施例1]
樹脂組成物Aを、金型2の凹凸形状を有する面が覆われ、微小突起構造体が形成される微小突起層の硬化後の厚さが20μmとなるように塗布、充填し、その上に基材(材質:PET、厚さ:25μm、商品名:ルミラー、東レ社製)を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで10N/cmの加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、基材側から2000mJ/cmのエネルギーで紫外線を照射して樹脂を硬化させた。その後、金型より剥離し、シート状の微小突起構造体を表面に備えた部材1を得た(以下、シート状の微小突起構造体を表面に備えた部材を、単に、シート状の微小突起構造体ということがある)。
前記微小突起構造体1の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離200nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、市販の粉体化粧料容器の鏡の表面に、粘着剤を用いて前記微小突起構造体1を貼着し、実施例1の粉体化粧料容器1を得た。
[Example 1]
The resin composition A is applied and filled so that the surface of the mold 2 having the concavo-convex shape is covered, and the thickness of the microprojection layer on which the microprojection structure is formed is 20 μm after curing. After a base material (material: PET, thickness: 25 μm, trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) was bonded from an oblique direction, the bonded body was pressed with a rubber roller under a load of 10 N / cm 2 . After confirming that the uniform composition was applied to the entire mold, the resin was cured by irradiating ultraviolet rays with energy of 2000 mJ / cm 2 from the substrate side. Thereafter, it was peeled from the mold to obtain a member 1 having a sheet-like microprojection structure on its surface (hereinafter, a member having a sheet-like microprojection structure on its surface was simply referred to as a sheet-like microprojection. Sometimes called a structure.)
When the cross section of the surface of the microprojection structure 1 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 200 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the microprojection structure 1 was adhered to the surface of a mirror of a commercially available powder cosmetic container using an adhesive, whereby the powder cosmetic container 1 of Example 1 was obtained.

[実施例2]
実施例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型1を用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体2を得た。
前記微小突起構造体2の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離100nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体2を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例2の粉体化粧料容器2を得た。
[Example 2]
In Example 1, except that the resin composition B was used in place of the resin composition A and the mold 1 was used in place of the mold 2, the sheet-like microprojection structure 2 was formed in the same manner as in Example 1. Obtained.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 2 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 100 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, a powder cosmetic container 2 of Example 2 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 2 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例3]
実施例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体3を得た。
前記微小突起構造体3の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離200nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体3を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例3の粉体化粧料容器3を得た。
[Example 3]
A sheet-like microprojection structure 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin composition B was used in place of the resin composition A in Example 1.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 3 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 200 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, a powder cosmetic container 3 of Example 3 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 3 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例4]
実施例1において、金型2の代わりに金型3を用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体4を得た。
前記微小突起構造体4の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離400nm、平均微小突起高さ210nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差25nmの高低差があった。
次いで微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体4を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例4の粉体化粧料容器4を得た。
[Example 4]
A sheet-like microprojection structure 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mold 3 was used instead of the mold 2 in Example 1.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 4 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 400 nm and an average microprojection height of 210 nm was formed. Moreover, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference of standard deviation 25 nm.
Next, a powder cosmetic container 4 of Example 4 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 4 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例5]
実施例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型3を用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体5を得た。
前記微小突起構造体5の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離400nm、平均微小突起高さ210nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差25nmの高低差があった。
次いで微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体5を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例5の粉体化粧料容器5を得た。
[Example 5]
In Example 1, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A and the mold 3 was used instead of the mold 2, the sheet-like microprojection structure 5 was formed in the same manner as in Example 1. Obtained.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 5 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 400 nm and an average microprojection height of 210 nm was formed. Moreover, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference of standard deviation 25 nm.
Next, a powder cosmetic container 5 of Example 5 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 5 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例6]
実施例1において、金型2の代わりに金型4を用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体6を得た。
前記微小突起構造体6の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離500nm、平均微小突起高さ230nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差35nmの高低差があった。
次いで微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体6を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例6の粉体化粧料容器6を得た。
[Example 6]
A sheet-like microprojection structure 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mold 4 was used instead of the mold 2 in Example 1.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 6 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 500 nm and an average microprojection height of 230 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 35 nm.
Next, a powder cosmetic container 6 of Example 6 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 6 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例7]
実施例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型4を用いた以外は、実施例1と同様にしてシート状の微小突起構造体7を得た。
前記微小突起構造体7の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離500nm、平均微小突起高さ230nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差35nmの高低差があった。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体7を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例7の粉体化粧料容器7を得た。
[Example 7]
In Example 1, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A and the mold 4 was used instead of the mold 2, the sheet-like microprojection structure 7 was formed in the same manner as in Example 1. Obtained.
When the cross section of the surface of the microprojection structure 7 was observed by SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 500 nm and an average microprojection height of 230 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 35 nm.
Next, a powder cosmetic container 7 of Example 7 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 7 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例8]
樹脂組成物Aを、金型2の凹凸形状を有する面が覆われ、微小突起構造体が形成される微小突起層の硬化後の厚さが20μmとなるように塗布、充填し、その上に基材(材質:PET、厚さ:25μm、商品名:ルミラー、東レ社製)を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで10N/cmの加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、基材側から2000mJ/cmのエネルギーで紫外線を照射して樹脂を硬化させた。その後、金型より剥離し、微小突起群が形成されたシート8を得た。
得られたシート8の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離100nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、上記シート8の微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体8を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体8を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例8の粉体化粧料容器8を得た。
[Example 8]
The resin composition A is applied and filled so that the surface of the mold 2 having the concavo-convex shape is covered, and the thickness of the microprojection layer on which the microprojection structure is formed is 20 μm after curing. After a base material (material: PET, thickness: 25 μm, trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) was bonded from an oblique direction, the bonded body was pressed with a rubber roller under a load of 10 N / cm 2 . After confirming that the uniform composition was applied to the entire mold, the resin was cured by irradiating ultraviolet rays with energy of 2000 mJ / cm 2 from the substrate side. Then, it peeled from the metal mold | die and the sheet | seat 8 in which the microprotrusion group was formed was obtained.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 8 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 100 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the surface of the sheet 8 having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 8.
Next, a powder cosmetic container 8 of Example 8 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 8 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例9]
実施例8において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型1を用いた以外は、実施例8と同様にして微小突起群が形成されたシート9を得た。
得られたシート9の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離100nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体9を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体9を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例9の粉体化粧料容器9を得た。
[Example 9]
In Example 8, except that the resin composition B was used in place of the resin composition A, and the mold 1 was used in place of the mold 2, the sheet 9 on which the microprojection group was formed in the same manner as in Example 8. Got.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 9 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 100 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 9.
Next, a powder cosmetic container 9 of Example 9 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 9 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例10]
実施例8において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用いた以外は、実施例8と同様にして微小突起群が形成されたシート10を得た。
得られたシート10の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離200nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体10を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体10を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例10の粉体化粧料容器10を得た。
[Example 10]
In Example 8, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A, a sheet 10 on which microprojections were formed was obtained in the same manner as in Example 8.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 10 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 200 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 10.
Next, a powder cosmetic container 10 of Example 10 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 10 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例11]
実施例9と同様にして微小突起群が形成されたシート11を得た。
得られたシート11の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離100nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法2により処理することにより、シート状の微小突起構造体11を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体11を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例11の粉体化粧料容器11を得た。
[Example 11]
In the same manner as in Example 9, a sheet 11 on which microprojections were formed was obtained.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 11 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 100 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 2 to obtain a sheet-like microprojection structure 11.
Next, a powder cosmetic container 11 of Example 11 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 11 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例12]
実施例10と同様にして微小突起群が形成されたシート12を得た。
得られたシート12の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離200nm、平均微小突起高さ160nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差30nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法2により処理することにより、シート状の微小突起構造体12得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体12を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例12の粉体化粧料容器12を得た。
[Example 12]
In the same manner as in Example 10, a sheet 12 on which microprojections were formed was obtained.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 12 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 200 nm and an average microprojection height of 160 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 30 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 2 to obtain a sheet-like microprojection structure 12.
Next, a powder cosmetic container 12 of Example 12 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 12 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例13]
実施例8において、金型2の代わりに金型3を用いた以外は、実施例8と同様にして微小突起群が形成されたシート13を得た。
得られたシート13の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離400nm、平均微小突起高さ210nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差25nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法2により処理することにより、シート状の微小突起構造体13を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体13を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例13の粉体化粧料容器13を得た。
[Example 13]
In Example 8, except that the mold 3 was used in place of the mold 2, a sheet 13 on which microprojections were formed was obtained in the same manner as in Example 8.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 13 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 400 nm and an average microprojection height of 210 nm was formed. Moreover, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference of standard deviation 25 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 2 to obtain a sheet-like microprojection structure 13.
Next, a powder cosmetic container 13 of Example 13 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 13 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施14]
実施例8において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型3を用いた以外は、実施例8と同様にして微小突起群が形成されたシート14を得た。
得られたシート14の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離400nm、平均微小突起高さ210nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差25nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体14を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに前記微小突起構造体14を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例14の粉体化粧料容器14を得た。
[Implementation 14]
In Example 8, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A, and the mold 3 was used instead of the mold 2, the sheet 14 on which the microprojection group was formed in the same manner as in Example 8. Got.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 14 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 400 nm and an average microprojection height of 210 nm was formed. Moreover, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference of standard deviation 25 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 14.
Next, a powder cosmetic container 14 of Example 14 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 14 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例15]
実施例8において、金型2の代わりに金型4を用いた以外は、実施例1と同様にして微小突起群が形成されたシート15を得た。
得られたシート15の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離500nm、平均微小突起高さ230nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差35nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体15を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに微小突起構造体15を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例15の粉体化粧料容器15を得た。
[Example 15]
In Example 8, except that the mold 4 was used instead of the mold 2, a sheet 15 on which microprojections were formed was obtained in the same manner as in Example 1.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 15 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 500 nm and an average microprojection height of 230 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 35 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 15.
Next, a powder cosmetic container 15 of Example 15 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 15 was used instead of the microprojection structure 1.

[実施例16]
実施例8において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用い、金型2の代わりに金型4を用いた以外は、実施例1と同様にして微小突起群が形成されたシート16を得た。
得られたシート16の表面の断面をSEMにより観察したところ、平均隣接微小突起間距離500nm、平均微小突起高さ230nmの微小突起群が形成されていた。また、微小突起の一部が頂点を複数有する微小突起であり、各微小突起の高さに、標準偏差35nmの高低差があった。
次いで、上記シートの微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の微小突起構造体16を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに微小突起構造体16を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例16の粉体化粧料容器16を得た。
[Example 16]
In Example 8, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A, and the mold 4 was used instead of the mold 2, the sheet 16 on which the microprojection group was formed in the same manner as in Example 1. Got.
When the cross section of the surface of the obtained sheet 16 was observed with an SEM, a microprojection group having an average distance between adjacent microprojections of 500 nm and an average microprojection height of 230 nm was formed. Further, a part of the microprotrusions are microprotrusions having a plurality of vertices, and the height of each microprotrusion has a height difference with a standard deviation of 35 nm.
Next, the surface of the sheet having the microprojection group was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like microprojection structure 16.
Next, a powder cosmetic container 16 of Example 16 was obtained in the same manner as Example 1 except that the microprojection structure 16 was used instead of the microprojection structure 1.

[比較例1]
基材(材質:PET、厚さ:25μm、商品名:ルミラー、東レ社製)上に、樹脂組成物Aを、硬化後の厚さが20μmとなるように塗布し、基材側から2000mJ/cmのエネルギーで紫外線を照射して樹脂を硬化させることにより、微小突起構造を有しない比較構造体1を得た。
次いで微小突起構造体1の代わりに比較構造体1を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1の粉体化粧料容器17を得た。
[Comparative Example 1]
The resin composition A was applied onto a substrate (material: PET, thickness: 25 μm, trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) so that the thickness after curing was 20 μm, and 2000 mJ / from the substrate side. By irradiating ultraviolet rays with an energy of cm 2 to cure the resin, a comparative structure 1 having no microprojection structure was obtained.
Next, a powder cosmetic container 17 of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative structure 1 was used instead of the microprojection structure 1.

[比較例2]
比較例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用いた以外は、比較例1と同様にして微小突起構造を有しない比較構造体2を得た。
次いで微小突起構造体1の代わりに比較構造体2を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例2の粉体化粧料容器18を得た。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, a comparative structure 2 having no microprojection structure was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the resin composition B was used instead of the resin composition A.
Next, a powder cosmetic container 18 of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative structure 2 was used instead of the microprojection structure 1.

[比較例3]
市販の粉体化粧料容器の鏡の表面に、粘着剤を用いて三菱レイヨン社製アクリライトEX502を貼着し、微小突起構造体を有しない比較例3の粉体化粧料容器19を得た。
[Comparative Example 3]
Acrylic EX502 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. was attached to the surface of the mirror of a commercially available powder cosmetic container using an adhesive to obtain the powder cosmetic container 19 of Comparative Example 3 having no microprojection structure. .

[比較例4]
まず、比較樹脂組成物Cを厚さ25μmのフィルム上に硬化させることにより、表面に凹凸形状を有する防眩フィルムを作製した。次いで、当該防眩フィルムを、粘着層を介して基材(材質:PET、厚さ:25μm、商品名:ルミラー、東レ社製)上に貼り合わせることにより、比較例4の防眩シートを得た。
比較例4の防眩シートの表面の断面をSEMにより観察したところ、防眩フィルム側の表面は、高さ10〜800nmの範囲内で高さにバラつきのある微小突起が、隣接微小突起間距離500nm〜1μmの範囲で不規則に配置され、隣接突起間距離の平均値が740nmの不規則な凹凸形状が形成されていた。
次いで、微小突起構造体1の代わりに上記防眩シートを用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例4の粉体化粧料容器20を得た。
[Comparative Example 4]
First, the anti-glare film which has an uneven | corrugated shape on the surface was produced by hardening the comparative resin composition C on a 25-micrometer-thick film. Next, the antiglare sheet of Comparative Example 4 is obtained by pasting the antiglare film on a base material (material: PET, thickness: 25 μm, trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) via an adhesive layer. It was.
When the cross section of the surface of the anti-glare sheet of Comparative Example 4 was observed with an SEM, the surface on the anti-glare film side had a minute protrusion with a variation in height within a height range of 10 to 800 nm, and the distance between adjacent minute protrusions. Irregular uneven | corrugated shape with which the average value of the distance of adjacent protrusions is 740 nm was irregularly arrange | positioned in the range of 500 nm-1 micrometer.
Next, a powder cosmetic container 20 of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the above antiglare sheet was used instead of the microprojection structure 1.

[比較例5]
比較例1と同様にして微小突起構造を有しない構造体21を得た。
次いで、上記構造体21の微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の比較構造体21を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに比較構造体21を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例5の粉体化粧料容器21を得た。
[Comparative Example 5]
Similar to Comparative Example 1, a structure 21 having no microprojection structure was obtained.
Next, the surface having the microprojections of the structure 21 was processed by the chemical vapor processing method 1 to obtain a sheet-like comparative structure 21.
Next, a powder cosmetic container 21 of Comparative Example 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative structure 21 was used instead of the microprojection structure 1.

[比較例6]
比較例1において、樹脂組成物Aの代わりに樹脂組成物Bを用いた以外は、比較例1と同様にして微小突起構造を有しない構造体22を得た。
次いで、上記構造体22の微小突起群を有する面を上記化学気相処理方法1により処理することにより、シート状の比較構造体22を得た。
次いで、微小突起構造体1の代わりに比較構造体22を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例6の粉体化粧料容器22を得た。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 1, except that the resin composition B was used in place of the resin composition A, a structure 22 having no microprojection structure was obtained in the same manner as in Comparative Example 1.
Next, the surface having the microprojections of the structure 22 was treated by the chemical vapor treatment method 1 to obtain a sheet-like comparative structure 22.
Next, a powder cosmetic container 22 of Comparative Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative structure 22 was used instead of the microprojection structure 1.

<接触角の測定>
各実施例及び比較例で得られたシート状の微小突起構造体の基材側表面を、粘着層を介して黒アクリル板に貼り付け、該黒アクリル板とは反対側の微小突起構造体の表面に、純水(液クロマトグラフィー用蒸留水(純正化学(株)製))1.0μLの液滴を滴下し、着滴1秒後、協和界面科学社製 接触角計DM 500を用いて、θ/2法に従って静的接触角を測定した。結果を表1に示す。
<Measurement of contact angle>
The substrate-side surface of the sheet-like microprojection structure obtained in each Example and Comparative Example was attached to a black acrylic plate via an adhesive layer, and the microprojection structure on the side opposite to the black acrylic plate A drop of 1.0 μL of pure water (distilled water for liquid chromatography (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.)) was dropped on the surface. The static contact angle was measured according to the θ / 2 method. The results are shown in Table 1.

<粉体化粧料付着抑制評価>
各実施例及び比較例で得られたシート状の微小突起構造体の基材側表面を、粘着層を介して、50mm×50mmのアクリル板(アクリライトEX502)上に固定し、固定されたシートを、前記アクリル板と同様の大きさに裁断した。イオナイザー(アズワン製、SFV−3000)により得られた各シート表面の電荷を中和した。
当該各シートの微小突起構造体側表面の全面に、下記5種類の粉体化粧料(化粧料A〜E)をそれぞれ、当該各化粧品に付属しているパフ等を用いて、およそ10g/cmの圧力で塗布した。
その後、5名の被験者により粉体の付着状態を下記の基準により評価した。
<Powder cosmetic adhesion suppression evaluation>
The substrate-side surface of the sheet-like microprojection structure obtained in each example and comparative example is fixed on a 50 mm × 50 mm acrylic plate (Acrylite EX502) via an adhesive layer, and the fixed sheet Was cut into the same size as the acrylic plate. The charge on the surface of each sheet obtained by an ionizer (manufactured by ASONE, SFV-3000) was neutralized.
Each of the following five types of powder cosmetics (cosmetics A to E) is applied to the entire surface of the microprojection structure side surface of each sheet using a puff attached to each cosmetic, and the like, approximately 10 g / cm 2. It was applied at a pressure of
Thereafter, the adhesion state of the powder was evaluated according to the following criteria by five test subjects.

(粉体化粧料)
化粧料A:(株)カネボウ化粧品製ファンデーション、コフレドール プレミアムシルキィパクトUV
化粧料B:(株)資生堂製ファンデーション、マキアージュ トゥルーパウダリー UV
化粧料C:(株)カネボウ化粧品製アイシャドウ、コフレドール フルスマイルアイズ
化粧料D:花王(株)製アイシャドウ化粧料、オーブ クチュール デザイニングインプレッションアイズII
E:(株)コーセー社製チーク、エスプリーク ブレンドクリエイション アイ & チーク(ビターライン)
(Powder cosmetic)
Cosmetic A: Kanebo Cosmetics Foundation, Cofredor Premium Silky Pact UV
Cosmetic B: Shiseido Foundation, Maquillage True Powder UV
Cosmetic C: Kanebo Cosmetics Eyeshadow, Coffredoll Full Smile Eyes Cosmetic D: Kao Co., Ltd. Eyeshadow Cosmetic, Orb Couture Designing Impression Eyes II
E: Teak manufactured by Kose Co., Ltd., Esprik Blend Creation Eye & Teak (Bitter Line)

(粉体化粧料付着抑制評価基準)
◎:粉体の付着が、認識されなかった。
○:粉体の付着がわずかに認識されたが、アクリル板の視認性に影響を与えない程度であった。
×:粉体の付着が認識され、アクリル板の視認性が悪化した。
評価結果が◎、及び○であれば、粉体付着抑制効果に優れていると判断される。結果を表1に示す。
(Powder cosmetic adhesion prevention evaluation criteria)
A: Powder adhesion was not recognized.
○: Slight adhesion of the powder was recognized, but it did not affect the visibility of the acrylic plate.
X: Adherence of the powder was recognized, and the visibility of the acrylic plate was deteriorated.
If the evaluation results are ◎ and ○, it is judged that the powder adhesion suppressing effect is excellent. The results are shown in Table 1.

[結果のまとめ]
表1の結果から、微小突起間距離の平均値(ピッチ)が500nm以下の微小突起構造体を有する実施例1〜16の粉体化粧料容器は、粉体の付着が抑制されることが明らかとなった。
[Summary of results]
From the results of Table 1, it is clear that the powder cosmetic containers of Examples 1 to 16 having fine protrusion structures having an average distance (pitch) between the protrusions of 500 nm or less suppress the adhesion of powder. It became.

1 基材
2 微小突起構造体
2’ 受容層
3 微小突起
3A、3B 多峰性微小突起
3C 頂部微小突起
3D 周辺微小突起
5、5A、5B 微小突起
10 微小突起構造体を表面に備えた部材
11 ダイ
12 ロール金型(原版)
13 押圧ローラ
14 剥離ローラ
22 凸状突起群
30 微小突起構造体
31 微小突起構造体表面
32 微小突起
33 うねりによる凹凸面
100 粉体化粧料容器
101 容器本体
102A、102B 収容部
103 蓋体
104 鏡
105A 係合突起
105B 押し釦
105C フック
106 微小突起構造体を表面に備えた部材
200 粉体化粧料テスター陳列台
201 テスター収容部
202 作業台
203 鏡
204 テスターユニット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Microprotrusion structure 2 'Receptive layer 3 Microprotrusion 3A, 3B Multimodal microprotrusion 3C Top microprotrusion 3D Peripheral microprotrusion 5, 5A, 5B Microprotrusion 10 Member 11 which provided the microprotrusion structure on the surface Die 12 roll mold (original)
13 Pressing roller 14 Peeling roller 22 Convex protrusion group 30 Microprotrusion structure 31 Microprotrusion structure surface 32 Microprotrusion 33 Uneven surface due to undulation 100 Powder cosmetic container 101 Container body 102A, 102B Container 103 Lid 104 Mirror 105A Engagement projection 105B Push button 105C Hook 106 Member 200 having a microprojection structure on its surface Powder cosmetic tester display stand 201 Tester receiving portion 202 Work table 203 Mirror 204 Tester unit

Claims (3)

粉体を含む化粧料を収容する収容部を備えた容器本体と、当該容器本体を閉塞する蓋体とを備えた粉体化粧料容器であって、当該粉体化粧料容器の内部表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する、粉体化粧料容器。   A powder cosmetic container comprising a container main body having a container for containing cosmetic containing powder, and a lid for closing the container main body, wherein at least an inner surface of the powder cosmetic container A part has a microprojection structure provided with a microprojection group in which a plurality of microprojections made of a cured product of a resin composition are closely arranged, and the average distance between adjacent microprojections is 500 nm. The cross-sectional area occupancy rate of the material portion forming the microprojection in a horizontal cross section when the microprojection is cut along a horizontal plane orthogonal to the depth direction of the microprojection is The powder cosmetic container which has a structure which increases gradually gradually as it approaches the deepest part direction from the top part. 前記容器の内部に鏡を備え、当該鏡の表面に、前記微小突起構造体を表面に備えた部材が貼着されてなる、請求項1に記載の粉体化粧料容器。   The powder cosmetic container according to claim 1, wherein a mirror is provided inside the container, and a member having the microprojection structure on the surface is attached to the surface of the mirror. 粉体を含む化粧料のテスターを収容するテスター収容部を備えた粉体化粧料テスター陳列台であって、更に前記テスター収容部上面を開閉可能に設けた蓋体を備えていてもよく、前記陳列台の表面及び前記蓋体の内外表面の少なくとも一部が、樹脂組成物の硬化物からなる複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、隣接する前記微小突起間の距離の平均が500nm以下であり、前記微小突起が、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する、粉体化粧料テスター陳列台。   It is a powder cosmetic tester display stand provided with a tester storage part for storing a cosmetic tester containing powder, and may further comprise a lid provided with an openable / closable upper surface of the tester storage part, At least a part of the surface of the display stand and the inner and outer surfaces of the lid body has a microprojection structure provided with a microprojection group in which a plurality of microprojections made of a cured resin composition are closely arranged. The average distance between adjacent microprotrusions is 500 nm or less, and the microprotrusions are formed in a horizontal cross section when it is assumed that the microprotrusions are cut along a horizontal plane perpendicular to the depth direction of the microprotrusions. A powder cosmetic tester display stand having a structure in which a cross-sectional area occupancy ratio of a material portion to be continuously increased gradually from the top of the microprotrusion toward the deepest portion.
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