JP6361970B2

JP6361970B2 - Inspection method of structure for nanoimprint and manufacturing method thereof

Info

Publication number: JP6361970B2
Application number: JP2014191732A
Authority: JP
Inventors: 塚祐樹有
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2014-09-19
Filing date: 2014-09-19
Publication date: 2018-07-25
Anticipated expiration: 2034-09-19
Also published as: JP2016063152A

Description

本発明は、ナノインプリント用構造体の検査方法およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a method for inspecting a structure for nanoimprint and a method for producing the same.

従来より、半導体装置、磁気記録媒装置、光学素子等を製造するために、ナノインプリント用モールドが用いられている。 Conventionally, a mold for nanoimprinting is used to manufacture a semiconductor device, a magnetic recording medium device, an optical element, and the like.

このようなナノインプリント用モールドとしては、パターンが形成される第１面と、この第１面に対向する第２面とを有し、第２面に凹部が形成されたナノインプリント用構造体が知られている（特許文献１参照）。 As such a nanoimprint mold, there is known a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed on the second surface. (See Patent Document 1).

特許第５１３９４２１号公報Japanese Patent No. 5139421

ところでナノインプリント用モールドの第１面はパターンが形成される面であるから一般に平坦性が保たれているが、第２面に設けられた凹部の形状はバラツキが生じることがある。第２面に形成された凹部はその形状によってナノインプリント作用に影響を及ぼすことがあるが、この凹部の形状を正確に把握する技術は開発されていない。 By the way, although the 1st surface of the mold for nanoimprint is a surface where a pattern is formed, generally flatness is maintained, However, The shape of the recessed part provided in the 2nd surface may vary. Although the concave portion formed on the second surface may affect the nanoimprinting action depending on its shape, a technique for accurately grasping the shape of the concave portion has not been developed.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、第２面に形成された凹部の形状を精度良く検出することができるナノインプリント用構造体の検査方法およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points, and provides a method for inspecting a structure for nanoimprinting and a method for manufacturing the same that can accurately detect the shape of a recess formed on a second surface. With the goal.

本発明は、パターンが形成される第１面と、この第１面に対向する第２面とを有し、この第２面に凹部が形成されたナノインプリント用構造体を準備する工程と、前記ナノインプリント用構造体に対して光を照射して、前記ナノインプリント用構造体からの反射光に基づいて、前記第１面の高さ情報および前記第２面の高さ情報を取得する工程と、前記第１面の高さ情報と前記第２面の高さ情報に基づいて、前記第１面を基準面として前記凹部の形状を検出する工程と、を備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の検査方法である。 The present invention includes a step of preparing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed on the second surface; Irradiating light to the nanoimprint structure, and obtaining height information of the first surface and height information of the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure; And a step of detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface based on the height information of the first surface and the height information of the second surface. This is an inspection method.

本発明は、前記第１面の高さ情報に基づいて、前記第２面の高さ情報を補正する工程を更に備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の検査方法である。 The present invention is the nanoimprint structure inspection method further comprising the step of correcting the height information of the second surface based on the height information of the first surface.

本発明は、パターンが形成される第１面と、この第１面に対向する第２面とを有し、この第２面に凹部が形成されたナノインプリント用構造体を準備する工程と、前記ナノインプリント用構造体に対して光を照射して、前記ナノインプリント用構造体からの反射光に基づいて、前記第１面と前記第２面との間の厚み情報を取得する工程と、前記厚み情報に基づいて、前記第１面を基準面として前記凹部の形状を検出する工程と、を備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の検査方法である。 The present invention includes a step of preparing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed on the second surface; Irradiating the nanoimprint structure with light, obtaining thickness information between the first surface and the second surface based on the reflected light from the nanoimprint structure, and the thickness information And a step of detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface. A method for inspecting a structure for nanoimprinting, comprising:

本発明は、パターンが形成される第１面と、この第１面に対向する第２面とを有し、この第２面に凹部が形成されたナノインプリント用構造体を作製する工程と、前記ナノインプリント用構造体に対して光を照射して、前記ナノインプリント用構造体からの反射光に基づいて、前記第１面の高さ情報および前記第２面の高さ情報を取得する工程と、前記第１面の高さ情報と前記第２面の高さ情報に基づいて、前記第１面を基準面として前記凹部の形状を検出する工程と、を備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の製造方法である。 The present invention includes a step of producing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface facing the first surface, and a recess formed on the second surface; Irradiating light to the nanoimprint structure, and obtaining height information of the first surface and height information of the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure; And a step of detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface based on the height information of the first surface and the height information of the second surface. It is a manufacturing method.

本発明は、前記第１面の高さ情報に基づいて、前記第２面の高さ情報を補正する工程を更に備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の製造方法である。 The present invention is the method for manufacturing a nanoimprint structure, further comprising a step of correcting the height information of the second surface based on the height information of the first surface.

本発明は、パターンが形成される第１面と、この第１面に対向する第２面とを有し、この第２面に凹部が形成されたナノインプリント用構造体を作製する工程と、前記ナノインプリント用構造体に対して光を照射して、前記ナノインプリント用構造体からの反射光に基づいて、前記第１面と前記第２面との間の厚み情報を取得する工程と、前記厚み情報に基づいて、前記第１面を基準面として前記凹部の形状を検出する工程と、を備えたことを特徴とするナノインプリント用構造体の製造方法である。 The present invention includes a step of producing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface facing the first surface, and a recess formed on the second surface; Irradiating the nanoimprint structure with light, obtaining thickness information between the first surface and the second surface based on the reflected light from the nanoimprint structure, and the thickness information And a step of detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface. A method for manufacturing a nanoimprint structure, comprising:

以上のように本発明によれば、ナノインプリント用構造体の第２面に形成された凹部の形状を精度良く検出することができる。 As described above, according to the present invention, the shape of the recess formed in the second surface of the nanoimprint structure can be detected with high accuracy.

図１はナノインプリント用基板を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a nanoimprint substrate. 図２はナノインプリント用基板の凹部を示す図。FIG. 2 is a view showing a recess of the nanoimprint substrate. 図３はナノインプリント用基板の第１面と第２面を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating a first surface and a second surface of the nanoimprint substrate. 図４は第１の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査装置を示す図。FIG. 4 is a diagram showing an inspection apparatus for a nanoimprint substrate according to the first embodiment. 図５（ａ）（ｂ）は第１の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査方法を示す図。FIGS. 5A and 5B are diagrams showing a method for inspecting a nanoimprint substrate according to the first embodiment. 図６は（ａ）（ｂ）（ｃ）は第１の実施の形態によるナノインプリント用基板の補正方法を示す図。FIGS. 6A, 6B, and 6C are diagrams showing a nanoimprint substrate correcting method according to the first embodiment. 図７は（ａ）（ｂ）は第１の実施の形態によるナノインプリント用基板の補正方法を示す図。7A and 7B are diagrams showing a method for correcting a nanoimprint substrate according to the first embodiment. 図８はナノインプリント用モールドを示す図。FIG. 8 is a view showing a nanoimprint mold. 図９は第２の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査装置を示す図。FIG. 9 shows a nanoimprint substrate inspection apparatus according to the second embodiment. 図１０は第２の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査装置の変形例を示す図。FIG. 10 is a view showing a modification of the nanoimprint substrate inspection apparatus according to the second embodiment. 図１１は第２の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査方法を示す図。FIG. 11 is a diagram showing a method for inspecting a nanoimprint substrate according to the second embodiment. 図１２は第２の実施の形態によるナノインプリント用基板の検査方法を示す図。FIG. 12 is a view showing a nanoimprint substrate inspection method according to the second embodiment.

＜第１の実施の形態＞
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。 <First Embodiment>
The first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

ここで図１乃至図８は、本発明の第１の実施の形態を示す図である。 1 to 8 are diagrams showing a first embodiment of the present invention.

まず、本発明の第１の実施形態に係るナノインプリント用構造体の検査方法について説明する。本発明の第１の実施形態に係るナノインプリント用構造体は、ナノインプリント用モールドに必要とされるパターン（例えば、凹凸パターン）が形成される前のナノインプリント用基板や、当該パターンが形成された後のナノインプリント用モールドを含む。以下では、ナノインプリント用構造体として、ナノインプリント用基板を例に採り、図１により説明する。 First, the inspection method for the nanoimprint structure according to the first embodiment of the present invention will be described. The nanoimprint structure according to the first embodiment of the present invention includes a nanoimprint substrate before a pattern (for example, an uneven pattern) required for a nanoimprint mold is formed, or after the pattern is formed. Includes molds for nanoimprinting. Hereinafter, as a nanoimprint structure, a nanoimprint substrate will be taken as an example and described with reference to FIG.

ナノインプリント用基板１は、パターンが形成される第１面２ａと第１面に対向する第２面２ｂとを有する薄板２からなり、薄板２の第２面２ｂに凹部３が形成されている。この薄板２は、力が印可されると、第１面２ａ側または第２面２ｂ側に撓むように構成されている。 The substrate for nanoimprint 1 includes a thin plate 2 having a first surface 2a on which a pattern is formed and a second surface 2b opposite to the first surface, and a recess 3 is formed on the second surface 2b of the thin plate 2. The thin plate 2 is configured to bend toward the first surface 2a side or the second surface 2b side when a force is applied.

薄板２には、特に制限はなく、例えば、石英ガラス、珪酸系ガラス、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、アクリルガラス等のガラス類、シリコン、炭化シリコン等の半導体類、更にはポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル、ポリプロピレン等の樹脂等から選択される。例えば、ナノインプリント用基板１が光ナノインプリントに使用される場合、少なくとも薄板２は上記の中の透明材料から選択され、典型的には薄板２は石英ガラスより構成される。 The thin plate 2 is not particularly limited. For example, glass such as quartz glass, silicate glass, calcium fluoride, magnesium fluoride, and acrylic glass, semiconductors such as silicon and silicon carbide, polycarbonate, polystyrene, and acrylic Or a resin such as polypropylene. For example, when the nanoimprint substrate 1 is used for optical nanoimprinting, at least the thin plate 2 is selected from the above transparent materials, and the thin plate 2 is typically made of quartz glass.

薄板２の第１面２ａには、後述のように凹凸パターン４が形成され、薄板２の第１面２ａに凹凸パターン４を形成することによりナノインプリント用モールド１Ａが構成される。なお、図示しないが、ナノインプリント用基板１としての薄板２の第１面２ａには、１以上の材料層が形成されていてもよい。 An uneven pattern 4 is formed on the first surface 2 a of the thin plate 2 as described later, and the nanoimprint mold 1 </ b> A is configured by forming the uneven pattern 4 on the first surface 2 a of the thin plate 2. Although not shown, one or more material layers may be formed on the first surface 2 a of the thin plate 2 as the nanoimprint substrate 1.

またこのような構成からなるナノインプリント用基板１の第１面２ａに、エッチング等によって凹凸パターン４が形成されて、ナノインプリント用モールド１Ａが得られる。 Moreover, the uneven | corrugated pattern 4 is formed in the 1st surface 2a of the nanoimprint board | substrate 1 which consists of such a structure by an etching etc., and 1A of nanoimprint molds are obtained.

ナノインプリント用モールド１Ａは、図８に示すように例えば被転写体８の基板８ａ上に塗布されたレジスト膜（ＵＶ硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂）８ｂに接触され、レジスト膜を硬化させた後にナノインプリント用モールド１Ａを引き剥がすことにより、ナノインプリント用モールド１Ａの凹凸パターン４がレジスト膜８ｂ上に転写される。この場合、枠体３の内周側に位置する薄板２は下方（第２面２ｂ側）へ撓み、被転写体８に対して接触する。 After the nanoimprint mold 1A is brought into contact with a resist film (UV curable resin or thermosetting resin) 8b applied on the substrate 8a of the transfer target 8 as shown in FIG. 8, for example, the resist film is cured. By peeling off the nanoimprint mold 1A, the uneven pattern 4 of the nanoimprint mold 1A is transferred onto the resist film 8b. In this case, the thin plate 2 positioned on the inner peripheral side of the frame 3 is bent downward (on the second surface 2 b side) and comes into contact with the transferred object 8.

次に図２乃至図７によりナノインプリント用構造体の検査方法について述べる。 Next, a method for inspecting a nanoimprint structure will be described with reference to FIGS.

ここではナノインプリント用構造体としてナノインプリント用基板１を用いて検査する。 Here, inspection is performed using the nanoimprint substrate 1 as the nanoimprint structure.

まずナノインプリント用基板１の第１面２ａは凹凸パターン４の形成面となるため、平坦性を維持している。また第２面２ｂには凹部３が形成される。この場合、凹部３の境界から外れた領域３Ａでは、凹部３の形状を探針等を用いて検出することは可能であるが、凹部３の境界近傍の領域３Ｂでは凹部の形状を探針等を用いて検出することはむずかしい（図２参照）。 First, since the first surface 2a of the nanoimprint substrate 1 is a surface on which the concavo-convex pattern 4 is formed, the flatness is maintained. A recess 3 is formed on the second surface 2b. In this case, it is possible to detect the shape of the recess 3 by using a probe or the like in the region 3A outside the boundary of the recess 3, but the shape of the recess in the region 3B near the boundary of the recess 3 or the like. It is difficult to detect using (see FIG. 2).

また、ナノインプリント用基板１の第１面２ａは平坦性を維持しているが、第２面２ｂ側は凹部３が形成される面であり、平坦性は第１面２ａに比べると望めない（図３参照）。 Further, the first surface 2a of the nanoimprint substrate 1 maintains flatness, but the second surface 2b side is a surface on which the concave portion 3 is formed, and flatness cannot be expected compared to the first surface 2a ( (See FIG. 3).

本実施の形態は、ナノインプリント用基板１のこのような特性を利用して凹部の形状を検出する。 In the present embodiment, the shape of the recess is detected by utilizing such characteristics of the nanoimprint substrate 1.

以下、ナノインプリント用基板の検査方法について図４乃至図７（ａ）（ｂ）により説明する。 Hereinafter, a method for inspecting a nanoimprint substrate will be described with reference to FIGS. 4 to 7A and 7B.

まず図４および図５（ａ）（ｂ）によりナノインプリント用構造体の検査装置について説明する。 First, a nanoimprint structure inspection apparatus will be described with reference to FIGS. 4 and 5A and 5B.

ナノインプリント用構造体の検査装置１０は、ナノインプリント用基板１を保持するとともにＸＹ方向に移動可能なＸＹステージ１２と、ナノインプリント用基板１に対して例えばレーザ光を照射する投光部１３ａと、ナノインプリント用基板１から反射する反射光を受光する受光部１３ｂと、受光部１３ｂからの信号に基づいて第１面２ａの高さ情報および第２面の高さ情報を取得する高さ情報取得部１５ａと、高さ情報取得部１５ａで取得した第１面２ａの高さ情報および第２面２ｂの高さ情報に基づいて第１面２ａを基準面として凹部３の形状を検出する凹部形状検出部１５ｂとを備えている。 The nanoimprint structure inspection apparatus 10 includes an XY stage 12 that holds the nanoimprint substrate 1 and is movable in the XY directions, a light projecting unit 13a that irradiates the nanoimprint substrate 1 with, for example, laser light, and a nanoimprint substrate. A light receiving unit 13b that receives reflected light reflected from the substrate 1, and a height information acquisition unit 15a that acquires height information of the first surface 2a and height information of the second surface based on a signal from the light receiving unit 13b. The concave shape detection unit 15b that detects the shape of the concave portion 3 using the first surface 2a as a reference surface based on the height information of the first surface 2a and the height information of the second surface 2b acquired by the height information acquisition unit 15a. And.

このうち、高さ情報取得部１５ａと凹部形状検出部１５ｂは、制御部１５内に組込まれている。またＸＹステージ１２は制御部１５によりＸＹ方向（水平方向）に駆動制御され、ＸＹステージ１２からのＸＹ方向データは制御部１５に送られる。また投光器１３ａおよび受光器１３ｂは、制御部１５によりＺ方向（高さ方向）に駆動制御される。この場合、投光器１３ａから対物レンズを介して照射されたレーザ光がナノインプリント用基板１で反射して受光器１３ｂにより受光されるが計測表面に焦点が合うように投光器１３ａおよび受光器１３ｂが制御部１５によりＺ方向に駆動制御される。このとき投光器１３ａおよび受光器１３ｂの高さデータは制御部１５に送られる。 Among these, the height information acquisition unit 15 a and the concave shape detection unit 15 b are incorporated in the control unit 15. The XY stage 12 is driven and controlled in the XY direction (horizontal direction) by the control unit 15, and the XY direction data from the XY stage 12 is sent to the control unit 15. The light projector 13a and the light receiver 13b are driven and controlled in the Z direction (height direction) by the control unit 15. In this case, the laser light emitted from the projector 13a through the objective lens is reflected by the nanoimprint substrate 1 and received by the light receiver 13b, but the projector 13a and the light receiver 13b are controlled by the control unit so that the measurement surface is focused. 15 is driven and controlled in the Z direction. At this time, the height data of the projector 13a and the light receiver 13b is sent to the control unit 15.

次にこのようなナノインプリント用構造体の検査方法について説明する。 Next, a method for inspecting such a nanoimprint structure will be described.

まず第１面２ａと第２面２ｂとを有し、第２面２ｂに凹部３が形成されたナノインプリント用基板１を作製する。この場合、第１面２ａはパターンが形成される基準面となる。 First, the nanoimprint substrate 1 having the first surface 2a and the second surface 2b and having the recess 3 formed on the second surface 2b is manufactured. In this case, the first surface 2a is a reference surface on which a pattern is formed.

ナノインプリント用基板１をＸＹステージ１２上に載置する。 The nanoimprint substrate 1 is placed on the XY stage 12.

次に投光部１３ａから例えばレーザ光をナノインプリント用基板１に対して照射する。投光部１３ａから照射された光は薄板２の第１面２ａおよび第２面２ｂで各々で反射し、第１面２ａおよび第２面２ｂで各々反射した反射光は受光部１３ｂにより受光される。 Next, for example, laser light is irradiated to the nanoimprint substrate 1 from the light projecting unit 13a. The light emitted from the light projecting unit 13a is reflected by the first surface 2a and the second surface 2b of the thin plate 2, and the reflected lights respectively reflected by the first surface 2a and the second surface 2b are received by the light receiving unit 13b. The

次に受光部１３ｂからの信号が検出部１５に送られ、この検出部１５の高さ情報取得手段１５ａにおいてナノインプリント用基板１の第１面２ａおよび第２面２ｂの高さ位置が求められる。 Next, a signal from the light receiving unit 13b is sent to the detection unit 15, and the height information acquisition unit 15a of the detection unit 15 determines the height positions of the first surface 2a and the second surface 2b of the nanoimprint substrate 1.

具体的には投光器１３ａおよび受光器１３ｂから反射光のＸＹ方向位置データが制御部１５に送られ、同時に計測表面に焦点が合った場合の投光器１３ａおよび受光器１３ｂの高さ方向位置データが制御部１５に送られる。 Specifically, the XY direction position data of the reflected light is sent from the light projector 13a and the light receiver 13b to the control unit 15, and the height direction position data of the light projector 13a and the light receiver 13b when the measurement surface is focused at the same time is controlled. Sent to section 15.

制御部１５の高さ情報取得手段１５ａは、反射光のＸＹ方向位置データと投光器１３ａおよび受光器１３ｂの高さ方向位置データとに基づいて、当該ＸＹ方向位置における第１面２ａと第２面２ｂの高さ情報を取得する。 The height information acquisition means 15a of the control unit 15 is based on the XY direction position data of the reflected light and the height direction position data of the projector 13a and the light receiver 13b, and the first surface 2a and the second surface at the XY direction position. Get 2b height information.

次に制御部１５によりＸＹステージ１２をＸ方向およびＹ方向に移動させ、反射光のＸＹ方向位置データおよび投光器１３ａおよび受光器１３ｂの高さ方向位置データに基づいて、ナノインプリント用基板１の全域に渡って第１面２ａおよび第２面２ｂの高さ位置を求めることができる。 Next, the control unit 15 moves the XY stage 12 in the X direction and the Y direction. Based on the XY direction position data of the reflected light and the height direction position data of the light projector 13a and the light receiver 13b, the entire area of the nanoimprint substrate 1 is moved. The height positions of the first surface 2a and the second surface 2b can be obtained.

次に高さ情報取得部１５ａで取得したナノインプリント用基板１の第１面２ａおよび第２面２ｂの高さ位置に基づいて、凹部形状検出部１５ｂにより、第１面２ａを基準面として第２面２ｂの高さ位置により凹部３の形状を求める。図５（ａ）（ｂ）に示すように、ナノインプリント用基板１のうち第２面２ｂに形成された凹部３の境界近傍は、探針等を用いて測定することが困難な領域３Ｂであるが、第１面２ａを基準面として第２面２ａの高さ位置を用いることにより、容易かつ確実に凹部３の形状、とりわけ凹部３の境界近傍の領域３Ｂの形状を求めることができる。このとき高さ位置はナノインプリント用基板１を透過した光によって求めているのだから、ナノインプリント用基板１の屈折率によって光路長を求めることで、第１面２ａを基準とした時の第２面２ｂの高さを得ることができる。 Next, based on the height positions of the first surface 2a and the second surface 2b of the nanoimprint substrate 1 acquired by the height information acquisition unit 15a, the second surface 2a is used as a reference surface by the recess shape detection unit 15b. The shape of the recess 3 is obtained from the height position of the surface 2b. As shown in FIGS. 5A and 5B, the vicinity of the boundary of the concave portion 3 formed on the second surface 2b of the nanoimprint substrate 1 is a region 3B that is difficult to measure using a probe or the like. However, by using the height position of the second surface 2a with the first surface 2a as a reference surface, the shape of the recess 3, particularly the shape of the region 3B near the boundary of the recess 3, can be obtained. At this time, since the height position is obtained from the light transmitted through the nanoimprint substrate 1, the second surface 2b when the first surface 2a is used as a reference is obtained by obtaining the optical path length from the refractive index of the nanoimprint substrate 1. Can be obtained.

なお、高さ情報取得部１５ａで取得した第１面２ａと第２面２ｂの高さ位置に基づいて、第２面２ｂの高さ位置を補正部１５ｃにより補正してもよい。また投光器１３ａおよび受光器１３ｂは複数個有していても良く、一度に複数個所を同時に計測しても良い。更に高さ情報を正確にするために、計測対象物の屈折率を求める機能を有していても良い。 The height position of the second surface 2b may be corrected by the correction unit 15c based on the height positions of the first surface 2a and the second surface 2b acquired by the height information acquisition unit 15a. Further, a plurality of light projectors 13a and light receivers 13b may be provided, and a plurality of places may be simultaneously measured at a time. Furthermore, in order to make the height information accurate, it may have a function of obtaining the refractive index of the measurement object.

例えば図６（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、ＸＹステージ１２の表面が傾斜している場合、第１面２ａの高さ位置はわずかに傾斜して示される（図６（ａ）（ｂ）参照）。このとき、補正部１５ｃにおいて、基準面としての第１面２ａの高さ位置に対応してＸＹステージ１２の表面が傾斜しているものと判断し、第２面２ｂの高さ位置を第１面２ａの高さ位置に基づいて補正することができる（図６（ｃ）参照）。 For example, as shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C, when the surface of the XY stage 12 is inclined, the height position of the first surface 2a is slightly inclined (FIG. 6A). ) (B)). At this time, the correction unit 15c determines that the surface of the XY stage 12 is inclined corresponding to the height position of the first surface 2a as the reference surface, and sets the height position of the second surface 2b to the first position. It can correct | amend based on the height position of the surface 2a (refer FIG.6 (c)).

次に補正部１５ｃからの情報に基づいて、凹部形状検出部１５ｂにより、第１面２ａを基準面として第２面２ｂの高さ位置により凹部３の形状を求めることができる。 Next, based on the information from the correction unit 15c, the shape of the recess 3 can be obtained from the height position of the second surface 2b using the first surface 2a as a reference surface by the recess shape detection unit 15b.

この場合、補正部１５ｃにおいて、ナノインプリント用基板１の全域に渡って第１面２ａの高さ位置が傾斜しているものと判断して、第２面２ｂの高さ位置を第１面２ａの高さ位置に基づいて補正してもよく（図７（ａ）参照）、ナノインプリント用基板１のある領域において第１面２ａの高さ位置が傾斜しているものと判断して第２面２ｂの高さ位置を第１面２ａの高さ位置に基づいて補正してもよい（図７（ｂ）参照）。 In this case, the correction unit 15c determines that the height position of the first surface 2a is inclined over the entire area of the nanoimprint substrate 1, and determines the height position of the second surface 2b of the first surface 2a. Correction may be performed based on the height position (see FIG. 7A), and it is determined that the height position of the first surface 2a is inclined in a certain region of the nanoimprint substrate 1 and the second surface 2b. May be corrected based on the height position of the first surface 2a (see FIG. 7B).

とりわけ第１面２ａに凹凸パターン４が形成される場合、凹凸パターン４の境界の内側と外側の両方の領域において、第２面２ｂの高さ位置を第１面２ａの高さ位置に基づいて補正することができる。このことにより、第１面２ａに凹凸パターン４が形成されていても、凹凸パターン４の境界近傍において第２面２ｂの高さ位置を精度良く求めて、この第２面２ｂの高さ位置に基づいて凹部３の形状を正確に検出することができる。 In particular, when the concavo-convex pattern 4 is formed on the first surface 2a, the height position of the second surface 2b is set based on the height position of the first surface 2a in both the inner and outer regions of the boundary of the concavo-convex pattern 4. It can be corrected. As a result, even if the concave / convex pattern 4 is formed on the first surface 2a, the height position of the second surface 2b is accurately obtained in the vicinity of the boundary of the concave / convex pattern 4, and the height position of the second surface 2b is obtained. Based on this, the shape of the recess 3 can be accurately detected.

あるいはまた、凹部３の境界近傍の領域３Ｂを正確に計測するためナノインプリント用基板１をわずかに傾斜することも考えられるが、この場合は、上述のようにナノインプリント用基板１の全域に渡って第１面２ａの高さ位置が傾斜するため、補正部１５ｃにおいて第２面２ｂの高さ位置を第１面２ａの高さ位置に基づいて補正することができる。 Alternatively, it is conceivable that the nanoimprint substrate 1 is slightly tilted in order to accurately measure the region 3B in the vicinity of the boundary of the recess 3, but in this case, as described above, the nanoimprint substrate 1 extends over the entire area of the nanoimprint substrate 1. Since the height position of the first surface 2a is inclined, the correction unit 15c can correct the height position of the second surface 2b based on the height position of the first surface 2a.

以上のようにして、検査されたナノインプリント用基板１は、例えば、良品として判断された場合に、薄板２の第２面２ｂに凹凸パターン４が形成され、ナノインプリント用モールド１Ａが作製される。 As described above, when the inspected nanoimprint substrate 1 is determined as, for example, a non-defective product, the uneven pattern 4 is formed on the second surface 2b of the thin plate 2, and the nanoimprint mold 1A is manufactured.

＜第２の実施の形態＞
次に図９乃至図１２により第２の実施の形態について説明する。 <Second Embodiment>
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS.

図９乃至図１２に示す第２の実施の形態は、光の干渉を利用してナノインプリント用基板１の第１面２ａと第２面２ｂとの間の厚みを求め、この厚みに基づいて第１面２ａを基準面として凹部３の形状を検出するものである。 In the second embodiment shown in FIG. 9 to FIG. 12, the thickness between the first surface 2a and the second surface 2b of the nanoimprint substrate 1 is obtained by utilizing the interference of light, and the first embodiment is based on this thickness. The shape of the recess 3 is detected using the first surface 2a as a reference surface.

すなわち、図９に示すように、投光器１３ａからのレーザ光が、駆動部２５により駆動される可動走査手段２１により走査され、このレーザ光はコリメータレンズ２２を通ってナノインプリント用基板１に照射される。ナノインプリント用基板１に照射されたレーザ光は、第１面２ａおよび第２面２ｂで反射しスクリーン２３を透過した後、受光部１３ｂに入る。受光器１３ｂにより受光された反射光は、フリンジ２６を介して制御部３０の厚み情報取得部３０ａに送られる。 That is, as shown in FIG. 9, the laser light from the projector 13 a is scanned by the movable scanning means 21 driven by the drive unit 25, and this laser light is irradiated to the nanoimprint substrate 1 through the collimator lens 22. . The laser light applied to the nanoimprint substrate 1 is reflected by the first surface 2a and the second surface 2b, passes through the screen 23, and then enters the light receiving portion 13b. The reflected light received by the light receiver 13 b is sent to the thickness information acquisition unit 30 a of the control unit 30 via the fringe 26.

次にこの厚み情報取得部３０ａにおいて、第１面２ａからの反射光と第２面２ｂからの反射光の光が干渉して干渉稿を生じさせ、この干渉稿によって第１面２ａと第２面２ｂとの間の厚みを求める（図１１参照）。 Next, in the thickness information acquisition unit 30a, the reflected light from the first surface 2a and the reflected light from the second surface 2b interfere with each other to generate an interference document. The thickness between the surface 2b is obtained (see FIG. 11).

次に制御部３０の凹部形状検出部３０ｂにおいて、厚み情報取得部３０ａにより取得された第１面２ａと第２面２ｂとの間の厚みに基づいて、第１面２ａを基準面として凹部３の形状を求めることができる。 Next, in the recessed portion shape detecting unit 30b of the control unit 30, the recessed portion 3 using the first surface 2a as a reference surface based on the thickness between the first surface 2a and the second surface 2b acquired by the thickness information acquiring unit 30a. Can be obtained.

なお、図９において、投光器１３ａからナノインプリント用基板１に対して斜め方向からレーザ光が照射されているが、図１０に示すように、ナノインプリント用基板１に対して投光器１３ａから直交する方向にレーザ光を照射してもよい。図１０において、投光器１３ａからのレーザ光はビームスプリッタ２ａおよびコリメータ２２を経てナノインプリント用基板１に達する。ナノインプリント用基板１からの反射光はコリメータ２２およびビームスプリッタ２９を経て受光器１３ｂに送られ、さらに受光器１３ｂへ送られた反射光は制御部３０へ送られる。 In FIG. 9, laser light is irradiated from the projector 13 a to the nanoimprint substrate 1 from an oblique direction. As shown in FIG. 10, the laser is irradiated in a direction orthogonal to the nanoimprint substrate 1 from the projector 13 a. You may irradiate light. In FIG. 10, the laser light from the projector 13 a reaches the nanoimprint substrate 1 through the beam splitter 2 a and the collimator 22. The reflected light from the nanoimprint substrate 1 is sent to the light receiver 13b through the collimator 22 and the beam splitter 29, and the reflected light sent to the light receiver 13b is sent to the control unit 30.

また図９において、ナノインプリント用基板１の第１面２ａと第２面２ｂの厚みを求める前に、ナノインプリント用基板１上にプリズム３１を配置し、プリズム３１からの反射光と第１面２ａからの反射光を受光器１３ｂにより受光し、プリズム３１からの反射光と第１面１ａからの反射光の干渉を利用して厚み情報取得部３０ａにおいて、プリズム３１と第１面２ａとの間の隙間を求め、このプリズム３１と第１面２ａとの隙間に基づいて、基準面としての第１面２ａの平坦度を予め求めておいてもよい。この第２の実施の形態の場合も、屈折率による補正や、屈折率を求めるための機能を有していても良い。 In FIG. 9, before determining the thickness of the first surface 2a and the second surface 2b of the nanoimprint substrate 1, a prism 31 is arranged on the nanoimprint substrate 1, and the reflected light from the prism 31 and the first surface 2a Of the reflected light from the prism 31 and the first surface 2a by using the interference between the reflected light from the prism 31 and the reflected light from the first surface 1a. The gap may be obtained, and the flatness of the first surface 2a as the reference surface may be obtained in advance based on the gap between the prism 31 and the first surface 2a. In the case of the second embodiment, it may have a function for correcting by the refractive index and obtaining the refractive index.

１ナノインプリント用基板
１Ａナノインプリント用モールド
２薄板
２ａ第１面
２ｂ第２面
３凹部
４凹凸パターン
８被転写体
１０ナノインプリント用接合体の検査装置
１２ＸＹステージ
１３ａ投光部
１３ｂ受光部
１５制御部
１５ａ高さ情報取得部
１５ｂ凹部形状検出部
２１可動走査手段
２２コリメータレンズ
３０制御部
３０ａ厚み情報取得部
３０ｂ凹部形状検出部
３１プリズム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Nanoimprint board | substrate 1A Nanoimprint mold 2 Thin plate 2a 1st surface 2b 2nd surface 3 Concave 4 Uneven pattern 8 Transfer object 10 Inspection apparatus 12 of nanoimprint joined body XY stage 13a Light projection part 13b Light reception part 15 Control part 15a High Information acquisition unit 15b Concave shape detection unit 21 Movable scanning means 22 Collimator lens 30 Control unit 30a Thickness information acquisition unit 30b Concave shape detection unit 31 Prism

Claims

Preparing a structure for nanoimprinting having a first surface on which a pattern is formed and a second surface facing the first surface, and a recess formed on the second surface;
Irradiating the nanoimprint structure with light to obtain height information of the first surface and height information of the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure;
Detecting the shape of the concave portion using the first surface as a reference surface based on the height information of the first surface and the height information of the second surface;
A method for inspecting a structure for nanoimprinting, comprising:

The nanoimprint structure inspection method according to claim 1, further comprising a step of correcting the height information of the second surface based on the height information of the first surface.

Preparing a structure for nanoimprinting having a first surface on which a pattern is formed and a second surface facing the first surface, and a recess formed on the second surface;
Irradiating the nanoimprint structure with light, and obtaining thickness information between the first surface and the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure;
Detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface based on the thickness information;
A method for inspecting a structure for nanoimprinting, comprising:

Producing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed on the second surface;
Irradiating the nanoimprint structure with light to obtain height information of the first surface and height information of the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure;
Detecting the shape of the concave portion using the first surface as a reference surface based on the height information of the first surface and the height information of the second surface;
A method for producing a structure for nanoimprinting, comprising:

5. The method for manufacturing a nanoimprint structure according to claim 4, further comprising a step of correcting the height information of the second surface based on the height information of the first surface.

Producing a nanoimprint structure having a first surface on which a pattern is formed and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed on the second surface;
Irradiating the nanoimprint structure with light, and obtaining thickness information between the first surface and the second surface based on reflected light from the nanoimprint structure;
Detecting the shape of the recess using the first surface as a reference surface based on the thickness information;
A method for producing a structure for nanoimprinting, comprising: