JP6357913B2 - Method for producing surface modified film, method for modifying resin layer, laminate, flexible printed circuit board, and method for producing laminate - Google Patents
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Description
本発明は、エキシマランプを用いて光を照射することにより表面が改質された、表面改質フィルムの製造方法、エキシマランプを用いて光を照射する樹脂層の改質方法、前記製造方法により得られた表面改質フィルムを用いて得られた積層体、この積層体を使用したフレキシブルプリント基板、及び前記積層体の製造方法、に関する。 The present invention provides a method for producing a surface-modified film whose surface has been modified by irradiating light using an excimer lamp, a method for modifying a resin layer irradiating light using an excimer lamp, and the production method described above. The present invention relates to a laminate obtained by using the obtained surface modified film, a flexible printed board using the laminate, and a method for producing the laminate.
近年、電気絶縁材料として、環状オレフィン樹脂が検討されている。
例えば、特許文献1には、環状オレフィン樹脂の一種であるノルボルネン系開環重合体水素化物が、低吸水性、低誘電率などに優れ、回路基板等を形成する際の電気絶縁材料として好適であることが開示されている。
しかしながら、特許文献1に開示されるようなノルボルネン系開環重合体水素化物は、金属との接着性や耐熱性に劣る傾向があり、回路基板の形成材料としては更なる改良が必要であった。
In recent years, cyclic olefin resins have been studied as electrical insulating materials.
For example, in Patent Literature 1, a norbornene-based ring-opening polymer hydride that is a kind of cyclic olefin resin is excellent in low water absorption, low dielectric constant, and the like, and is suitable as an electrical insulating material when forming a circuit board or the like. It is disclosed that there is.
However, the norbornene-based ring-opening polymer hydride as disclosed in Patent Document 1 tends to be inferior in adhesion to metal and heat resistance, and further improvement is required as a circuit board forming material. .
特許文献2には、特定の開環重合触媒を用いることにより、融点を有する(すなわち、結晶性を有する)ノルボルネン系開環重合体水素化物が得られること、及びこの結晶性を有するノルボルネン系開環重合体水素化物が、機械的強度や耐熱性に優れることが開示されている。
しかしながら、この結晶性を有するノルボルネン系開環重合体水素化物もまた、金属との接着性は十分ではなかった。
In Patent Document 2, by using a specific ring-opening polymerization catalyst, a norbornene-based ring-opening polymer hydride having a melting point (that is, having crystallinity) can be obtained, and the norbornene-based opening having this crystallinity can be obtained. It is disclosed that the hydride of a cyclic polymer is excellent in mechanical strength and heat resistance.
However, the norbornene-based ring-opening polymer hydride having crystallinity also has insufficient adhesion to metal.
特許文献3〜6には、ノルボルネン系開環重合体水素化物などの環状オレフィン樹脂の金属に対する接着性を改良する手法として、変性や、官能基を有するモノマーを用いる共重合などの手法によって、環状オレフィン樹脂に官能基を導入する方法が開示されている。
しかしながら、一般に、環状オレフィン樹脂に官能基を導入すると、環状オレフィン樹脂の特徴である低吸水性や電気特性が損なわれるという問題があった。
In Patent Documents 3 to 6, as a technique for improving the adhesion of cyclic olefin resins such as norbornene-based ring-opening polymer hydrides to metals, modification or copolymerization using a monomer having a functional group can be used. A method for introducing a functional group into an olefin resin is disclosed.
However, in general, when a functional group is introduced into a cyclic olefin resin, there is a problem that the low water absorption and electrical characteristics that are characteristic of the cyclic olefin resin are impaired.
本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、耐熱性、低吸水性及び電気特性の全てに優れる樹脂フィルムと、金属箔とが強固に接着されてなる積層体、この積層体を使用したフレキシブルプリント基板、及び前記積層体の製造方法、前記積層体の製造材料として有用な表面改質フィルムの製造方法、並びに、樹脂層の改質方法、を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described prior art, and is a laminate in which a resin film excellent in all of heat resistance, low water absorption, and electrical characteristics and a metal foil are firmly bonded, and this laminate It is an object of the present invention to provide a flexible printed circuit board using the above, a method for producing the laminate, a method for producing a surface modified film useful as a material for producing the laminate, and a method for modifying a resin layer.
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする結晶性樹脂フィルムを、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより改質して得られた表面改質フィルムと、金属箔とを接着して得られた積層体は、表面改質フィルムと金属箔とが強固に接着されたものであって、熱履歴を受けた後であっても、黄変や剥離強度の低下を起こしにくいものであることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention irradiate a crystalline resin film mainly composed of a crystalline cyclic olefin resin with light having a central wavelength of less than 180 nm using an excimer lamp. The laminate obtained by adhering the surface-modified film obtained by the modification and the metal foil is obtained by firmly bonding the surface-modified film and the metal foil and receiving a thermal history. Even after this, it was found that it was difficult to cause yellowing and a decrease in peel strength, and the present invention was completed.
かくして本発明によれば、下記〔1〕の表面改質フィルムの製造方法、〔2〕の樹脂層の改質方法、〔3〕〜〔7〕の積層体、〔8〕〜〔12〕の積層体の製造方法、〔13〕のフレキシブルプリント基板が提供される。
〔1〕結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする結晶性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより、前記結晶性樹脂フィルムを改質することを特徴とする、表面改質フィルムの製造方法。
〔2〕結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする樹脂層の表面に、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより、前記樹脂層を改質することを特徴とする、樹脂層の改質方法。
〔3〕樹脂フィルムと、金属箔とが、接着剤層を介して接着されてなる積層体であって、前記樹脂フィルムが、〔1〕に記載の方法により得られた、片側又は両側に改質面を有する表面改質フィルムであり、
前記接着剤層が、前記表面改質フィルムの改質面に隣接していることを特徴とする、積層体。
〔4〕前記金属箔が、銅箔であることを特徴とする〔3〕に記載の積層体。
〔5〕前記接着剤層が、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点よりも低いガラス転移温度を有し、かつ、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びオキシシリル基からなる群から選択される官能基を有する脂環構造含有樹脂を主成分とするものである、〔3〕又は〔4〕に記載の積層体。
〔6〕前記脂環構造含有樹脂中の前記官能基の含有割合(官能基の数:脂環構造含有樹脂の繰り返し単位の数)が、0.1:100〜20:100である、〔5〕に記載の積層体。
〔7〕前記表面改質フィルムが、両側に改質面を有するフィルムであって、前記積層体が、金属箔/接着剤層/表面改質フィルム/接着剤層/金属箔、の層構造を有するものである、〔3〕〜〔6〕のいずれかに記載の積層体。
〔8〕前記〔3〕〜〔7〕のいずれかに記載の積層体を使用したフレキシブルプリント基板。
〔9〕下記工程(a−I)〜(a−II)を有する、〔3〕〜〔7〕のいずれかに記載の積層体の製造方法。
工程(a−I):前記表面改質フィルムの改質面に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(a−II):工程(a−I)で形成された接着剤層上に金属箔を重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程
〔10〕下記工程(b−I)〜(b−II)を有する、〔3〕〜〔7〕のいずれかに記載の積層体の製造方法。
工程(b−I):金属箔上に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(b−II):工程(b−I)で形成された接着剤層上に、前記表面改質フィルムを、その改質面が前記接着剤層に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程
〔11〕下記工程(c−I)を有する、〔3〕〜〔7〕のいずれかに記載の積層体の製造方法。
工程(c−I):前記表面改質フィルム、シート状接着剤、及び金属箔を、この順で、かつ、前記表面改質フィルムの改質面が、前記シート状接着剤に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる工程
〔12〕前記接着剤層又はシート状接着剤が、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点よりも低いガラス転移温度を有し、かつ、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びオキシシリル基からなる群から選択される官能基を有する脂環構造含有樹脂を主成分とするものであり、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層又はシート状接着剤を介して接着させる操作が、表面改質フィルム/接着剤層又はシート状接着剤/金属箔の層構造を有する、接着処理前の積層体を、前記脂環構造含有樹脂のガラス転移温度以上、かつ、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点以下の温度に加熱するものである、〔9〕〜〔11〕のいずれかに記載の積層体の製造方法。
〔13〕前記脂環構造含有樹脂中の前記官能基の含有割合(官能基の数:脂環構造含有樹脂の繰り返し単位の数)が、0.1:100〜20:100である、〔12〕に記載の積層体の製造方法。
Thus, according to the present invention, the following [1] method for producing a surface-modified film, [2] a method for modifying a resin layer, [3] to [7] laminates, [8] to [12] A method for producing a laminate, the flexible printed board of [13], is provided.
[1] At least one surface of a crystalline resin film containing a crystalline cyclic olefin resin as a main component is irradiated with light having a center wavelength of less than 180 nm using an excimer lamp, thereby modifying the crystalline resin film. A method for producing a surface-modified film, characterized by comprising:
[2] The resin layer is modified by irradiating the surface of the resin layer mainly composed of a crystalline cyclic olefin resin with light having a center wavelength of less than 180 nm using an excimer lamp. A method for modifying a resin layer.
[3] A laminate in which a resin film and a metal foil are bonded via an adhesive layer, and the resin film is modified on one side or both sides obtained by the method described in [1]. A surface-modified film having a textured surface,
The laminate is characterized in that the adhesive layer is adjacent to the modified surface of the surface-modified film.
[4] The laminate according to [3], wherein the metal foil is a copper foil.
[5] The adhesive layer has a glass transition temperature lower than the melting point of the crystalline cyclic olefin resin, and is selected from the group consisting of an epoxy group, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and an oxysilyl group. The laminate according to [3] or [4], which is mainly composed of an alicyclic structure-containing resin having a functional group.
[6] The content ratio of the functional group in the alicyclic structure-containing resin (number of functional groups: number of repeating units of the alicyclic structure-containing resin) is 0.1: 100 to 20: 100, [5 ] The laminated body as described in above.
[7] The surface modified film is a film having modified surfaces on both sides, and the laminate has a layer structure of metal foil / adhesive layer / surface modified film / adhesive layer / metal foil. The laminate according to any one of [3] to [6], which is provided.
[8] A flexible printed board using the laminate according to any one of [3] to [7].
[9] The method for producing a laminate according to any one of [3] to [7], comprising the following steps (aI) to (a-II).
Step (a-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the modified surface of the surface modified film and drying the resulting coating film (a -II): Step of adhering the surface-modified film and the metal foil through the adhesive layer after the metal foil is overlaid on the adhesive layer formed in the step (a-I) [10] The manufacturing method of the laminated body in any one of [3]-[7] which has (b-I)-(b-II).
Step (b-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the metal foil and drying the obtained coating film (b-II): Step ( After the surface modified film is stacked on the adhesive layer formed in b-I) so that the modified surface faces the adhesive layer, the surface modified film and the metal foil are bonded. [11] The method for producing a laminate according to any one of [3] to [7], which includes a step [11] of bonding via an agent layer.
Step (c-I): The surface-modified film, the sheet-like adhesive, and the metal foil are arranged in this order, and the modified surface of the surface-modified film faces the sheet-like adhesive. The step of adhering the surface-modified film and the metal foil through a sheet-like adhesive after being stacked [12] A glass in which the adhesive layer or the sheet-like adhesive is lower than the melting point of the crystalline cyclic olefin resin The main component is an alicyclic structure-containing resin having a transition temperature and having a functional group selected from the group consisting of an epoxy group, a carboxyl group, a carboxylic anhydride group, and an oxysilyl group. The operation of adhering the quality film and the metal foil through the adhesive layer or the sheet-like adhesive has a layer structure of a surface modified film / adhesive layer or a sheet-like adhesive / metal foil, before the adhesion treatment The laminate Or above the glass transition temperature of the structure-containing resin, and is for heating to the temperature below the melting point of the crystalline cyclic olefin resins, (9) - The method for producing a laminate according to any one of [11].
[13] The content ratio of the functional group in the alicyclic structure-containing resin (the number of functional groups: the number of repeating units of the alicyclic structure-containing resin) is 0.1: 100 to 20: 100, [12 ] The manufacturing method of the laminated body as described in above.
本発明によれば、耐熱性、低吸水性及び電気特性の全てに優れる樹脂フィルムと、金属箔とが強固に接着されてなる積層体、この積層体を使用したフレキシブルプリント基板、及び前記積層体の製造方法、前記積層体の製造材料として有用な表面改質フィルムの製造方法、並びに、樹脂層の改質方法、が提供される。 According to the present invention, a laminate in which a resin film excellent in all of heat resistance, low water absorption, and electrical properties and a metal foil are firmly bonded, a flexible printed board using the laminate, and the laminate , A method for producing a surface-modified film useful as a material for producing the laminate, and a method for modifying a resin layer are provided.
以下、本発明を、1)表面改質フィルムの製造方法及び樹脂層の改質方法、2)積層体及びフレキシブルプリント基板、並びに、3)積層体の製造方法、に項分けして詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing into 1) a method for producing a surface modified film and a method for modifying a resin layer, 2) a laminate and a flexible printed circuit board, and 3) a method for producing a laminate. To do.
1)表面改質フィルムの製造方法及び樹脂層の改質方法
本発明の表面改質フィルムの製造方法は、結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする結晶性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより、前記結晶性樹脂フィルムを改質することを特徴とする。
1) Method for producing surface modified film and method for modifying resin layer The method for producing a surface modified film of the present invention comprises an excimer formed on at least one surface of a crystalline resin film containing a crystalline cyclic olefin resin as a main component. The crystalline resin film is modified by irradiating light having a central wavelength of less than 180 nm using a lamp.
〔結晶性環状オレフィン樹脂〕
本発明に用いる結晶性環状オレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合して得られる重合体であって、融点を有する重合体(以下、「重合体(α)」ということがある。)である。
「融点を有する」とは、示差走査熱量計(DSC)で融点を観測することができることをいう。一般に、環状オレフィン樹脂は、低吸水性及び電気特性に優れた樹脂であるが、本発明においては、結晶性の環状オレフィン樹脂を用いるため、これらの特性に加えて、耐熱性にも優れる。
[Crystalline cyclic olefin resin]
The crystalline cyclic olefin resin used in the present invention is a polymer obtained by polymerizing a cyclic olefin, and is a polymer having a melting point (hereinafter sometimes referred to as “polymer (α)”).
“Having a melting point” means that the melting point can be observed with a differential scanning calorimeter (DSC). In general, the cyclic olefin resin is a resin excellent in low water absorption and electrical characteristics, but in the present invention, since a crystalline cyclic olefin resin is used, in addition to these characteristics, it is excellent in heat resistance.
重合体(α)としては、国際公開第2012/033076号に記載のシンジオタクチック立体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合体水素化物、特開2002−249553号に記載のアイソタクチック立体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合体水素化物、特開2007−16102号に記載のノルボルネン開環重合体水素化物等の公知のものを用いることができる。 Examples of the polymer (α) include dicyclopentadiene ring-opened polymer hydride having syndiotactic stereoregularity described in International Publication No. 2012/033076, and isotactic stereoregulation described in JP-A-2002-249553. Well known ones such as dicyclopentadiene ring-opening polymer hydride having the property, and norbornene ring-opening polymer hydride described in JP-A-2007-16102 can be used.
重合体(α)の融点は、積層体を製造する際に、表面改質フィルムと金属箔とを効率よく接着させることができることから、後述する脂環構造含有樹脂のガラス転移温度よりも高いことが好ましい。重合体(α)の融点は、好ましくは、180〜350℃、より好ましくは200〜320℃、特に好ましくは220〜300℃である。
重合体(α)の融点が、この範囲にあることにより、結晶性環状オレフィン樹脂は、成形性と耐熱性とのバランスが良好なものとなる。また、上記のように、表面改質フィルムと金属箔とを効率よく接着させることができる。
The melting point of the polymer (α) is higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing resin described later because the surface-modified film and the metal foil can be efficiently bonded when the laminate is produced. Is preferred. The melting point of the polymer (α) is preferably 180 to 350 ° C, more preferably 200 to 320 ° C, and particularly preferably 220 to 300 ° C.
When the melting point of the polymer (α) is within this range, the crystalline cyclic olefin resin has a good balance between moldability and heat resistance. In addition, as described above, the surface-modified film and the metal foil can be efficiently bonded.
重合体(α)としては、目的の表面改質フィルムを効率よく製造し得ることから、シンジオタクチック立体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合体水素化物(以下、「重合体(α1)」ということがある。)が好ましい。 As the polymer (α), a target surface-modified film can be efficiently produced, and therefore a dicyclopentadiene ring-opened polymer hydride having syndiotactic stereoregularity (hereinafter referred to as “polymer (α1)”). Is preferred).
重合体(α1)の立体規則性の程度は特に限定されないが、耐熱性に優れる表面改質フィルムを効率よく得ることができることから、立体規則性の程度がより高いものが好ましい。
具体的には、ジシクロペンタジエンを開環重合して、次いで水素化して得られる繰り返し単位についてのラセモ・ダイアッドの割合が、51%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、70%以上であることが特に好ましい。
ラセモ・ダイアッドの割合が高いものほど、すなわち、シンジオタクチック立体規則性の高いものほど、高い融点を有するジシクロペンタジエン開環重合体水素化物となる。
ラセモ・ダイアッドの割合は、13C−NMRスペクトル分析で測定し、定量することができる。具体的には、オルトジクロロベンゼン−d4を溶媒として、150℃でinverse−gated decoupling法を適用して13C−NMR測定を行い、オルトジクロロベンゼン−d4の127.5ppmのピークを基準シフトとして、メソ・ダイアッド由来の43.35ppmのシグナルと、ラセモ・ダイアッド由来の43.43ppmのシグナルの強度比からラセモ・ダイアッドの割合を決定することができる。
Although the degree of stereoregularity of a polymer ((alpha) 1) is not specifically limited, Since the surface-modified film excellent in heat resistance can be obtained efficiently, a thing with a higher degree of stereoregularity is preferable.
Specifically, the ratio of racemo dyad to the repeating unit obtained by ring-opening polymerization of dicyclopentadiene and then hydrogenating is preferably 51% or more, and more preferably 60% or more. 70% or more is particularly preferable.
The higher the ratio of racemo dyad, that is, the higher the syndiotactic stereoregularity, the more dicyclopentadiene ring-opening polymer hydride having a higher melting point.
The ratio of racemo dyad can be measured and quantified by 13 C-NMR spectrum analysis. Specifically, 13 C-NMR measurement was performed using ortho-dichlorobenzene-d 4 as a solvent and applying an inverse-gate decoupling method at 150 ° C., and the 127.5 ppm peak of ortho-dichlorobenzene-d 4 was shifted to the standard. As a result, the ratio of the racemo dyad can be determined from the intensity ratio of the 43.35 ppm signal derived from the meso dyad and the 43.43 ppm signal derived from the racemo dyad.
重合体(α1)は、ジシクロペンタジエンを主たる単量体として開環重合を行い、得られる開環重合体中に存在する炭素−炭素二重結合の少なくとも一部を水素化(水素添加)することにより得ることができる。 The polymer (α1) undergoes ring-opening polymerization using dicyclopentadiene as a main monomer, and hydrogenates (hydrogenates) at least part of the carbon-carbon double bonds present in the resulting ring-opened polymer. Can be obtained.
ジシクロペンタジエンには、エンド体及びエキソ体の立体異性体が存在するが、本発明においては、そのどちらも単量体として用いることができる。また、一方の異性体のみを単独で用いてもよいし、エンド体及びエキソ体が任意の割合で存在する異性体混合物を用いてもよい。本発明においては、重合体(α1)の結晶性が高まり、耐熱性により優れる表面改質フィルムが得られ易くなることから、一方の立体異性体の割合を高くすることが好ましい。例えば、エンド体又はエキソ体の割合が、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。なお、合成が容易であることから、エンド体の割合が高いことが好ましい。 In dicyclopentadiene, there are stereoisomers of endo and exo, both of which can be used as monomers in the present invention. Moreover, only one isomer may be used alone, or an isomer mixture in which an endo isomer and an exo isomer are present in an arbitrary ratio may be used. In the present invention, the crystallinity of the polymer (α1) is increased, and a surface-modified film that is superior in heat resistance is easily obtained. Therefore, it is preferable to increase the ratio of one stereoisomer. For example, the ratio of endo-form or exo-form is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more. In addition, since the synthesis | combination is easy, it is preferable that the ratio of an end body is high.
重合体(α1)を合成する際、単量体として、ジシクロペンタジエンのみを用いてもよいし、ジシクロペンタジエンと共重合可能な他の単量体を用いてもよい。他の単量体としては、ジシクロペンタジエン以外のノルボルネン類や、環状オレフィン類、ジエン類等が挙げられる。
他の単量体を用いる場合、その使用量は、単量体全量中、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下である。
When synthesizing the polymer (α1), only dicyclopentadiene may be used as the monomer, or another monomer copolymerizable with dicyclopentadiene may be used. Examples of other monomers include norbornenes other than dicyclopentadiene, cyclic olefins, and dienes.
When other monomers are used, the amount used is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, based on the total amount of monomers.
重合体(α1)を合成する際に用いる開環重合触媒は、ジシクロペンタジエンを開環重合させ、シンジオタクチック立体規則性を有する開環重合体が得られるものであれば、特に限定されない。好ましい開環重合触媒としては、下記式(1)で示される金属化合物を含有するものが挙げられる。 The ring-opening polymerization catalyst used for synthesizing the polymer (α1) is not particularly limited as long as it allows ring-opening polymerization of dicyclopentadiene to obtain a ring-opening polymer having syndiotactic stereoregularity. Preferred examples of the ring-opening polymerization catalyst include those containing a metal compound represented by the following formula (1).
式(1)中、Mは周期律表第6族の遷移金属原子から選択される金属原子であり、R1は3,4,5位の少なくとも1つの位置に置換基を有していてもよいフェニル基、又は−CH2R3(R3は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよいアリール基から選択される基である。)で表される基であり、R2は置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよいアリール基から選択される基であり、Xはハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基及びアルキルシリル基から選択される基であり、Lは電子供与性の中性配位子である。aは0又は1であり、bは0〜2の整数である。 In formula (1), M is a metal atom selected from group 6 transition metal atoms in the periodic table, and R 1 may have a substituent at at least one of the 3, 4, and 5 positions. A good phenyl group or —CH 2 R 3 (R 3 is a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent). R 2 is a group selected from an alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent, and X has a halogen atom and a substituent. L is a group selected from an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group and an alkylsilyl group, and L is an electron-donating neutral ligand. a is 0 or 1, and b is an integer of 0-2.
Mは、周期律表第6族の遷移金属原子(クロム、モリブデン、タングステン)であり、モリブデン又はタングステンが好ましく、タングステンがより好ましい。 M is a transition metal atom (chromium, molybdenum, tungsten) belonging to Group 6 of the periodic table, preferably molybdenum or tungsten, and more preferably tungsten.
R1の、3,4,5位の少なくとも1つの位置に置換基を有していてもよいフェニル基の炭素数は、特に限定されないが、通常、6〜20、好ましくは6〜15である。
前記置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基;等が挙げられる。
また、3,4,5位の少なくとも2つの位置に存在する置換基が互いに結合し、環構造を形成していてもよい。
3,4,5位の少なくとも1つの位置に置換基を有していてもよいフェニル基としては、無置換フェニル基;4−メチルフェニル基、4−クロロフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−メトキシフェニル基等の一置換フェニル基;3,5−ジメチルフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基等の二置換フェニル基;3,4,5−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基等の三置換フェニル基;2−ナフチル基、3−メチル−2−ナフチル基、4−メチル−2−ナフチル基等の置換基を有していてもよい2−ナフチル基;等が挙げられる。
The number of carbon atoms of the phenyl group which may have a substituent at at least one of the 3, 4, and 5 positions of R 1 is not particularly limited, but is usually 6 to 20, preferably 6 to 15. .
Examples of the substituent include alkyl groups such as methyl group and ethyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and isopropoxy group;
In addition, substituents present in at least two positions of the 3, 4, and 5 positions may be bonded to each other to form a ring structure.
Examples of the phenyl group which may have a substituent at at least one of the 3, 4, and 5 positions include an unsubstituted phenyl group; a 4-methylphenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 3-methoxyphenyl group, 4- Monosubstituted phenyl groups such as cyclohexylphenyl group and 4-methoxyphenyl group; disubstituted groups such as 3,5-dimethylphenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 3,4-dimethylphenyl group and 3,5-dimethoxyphenyl group Phenyl group; trisubstituted phenyl group such as 3,4,5-trimethylphenyl group, 3,4,5-trichlorophenyl group; 2-naphthyl group, 3-methyl-2-naphthyl group, 4-methyl-2-naphthyl 2-naphthyl group which may have a substituent such as a group;
R1の、−CH2R3で表される基において、R3は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基及び置換基を有していてもよいアリール基から選択される基を表す。
R3の、置換基を有していてもよいアルキル基の炭素数は、特に限定されないが、通常1〜20、好ましくは1〜10である。このアルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。
前記置換基としては、フェニル基、4−メチルフェニル基等の置換基を有していてもよいフェニル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシル基;等が挙げられる。
R3の、置換基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ベンジル基、ネオフィル基等が挙げられる。
In the group represented by —CH 2 R 3 in R 1 , R 3 is a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent. Represents.
Although carbon number of the alkyl group which may have a substituent of R < 3 > is not specifically limited, Usually, 1-20, Preferably it is 1-10. This alkyl group may be linear or branched.
Examples of the substituent include a phenyl group optionally having a substituent such as a phenyl group and a 4-methylphenyl group; an alkoxyl group such as a methoxy group and an ethoxy group; and the like.
Examples of the alkyl group which may have a substituent for R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, a benzyl group, And neophyll groups.
R3の、置換基を有していてもよいアリール基の炭素数は、特に限定されないが、通常、6〜20、好ましくは6〜15である。
前記置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基;等が挙げられる。
R3の、置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、4−メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基等が挙げられる。
Of R 3, the carbon number of the aryl group which may have a substituent is not particularly limited, usually, 6 to 20, preferably 6 to 15.
Examples of the substituent include alkyl groups such as methyl group and ethyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and isopropoxy group;
Examples of the aryl group of R 3 which may have a substituent include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 4-methylphenyl group, and a 2,6-dimethylphenyl group.
これらの中でも、R3で表される基としては、炭素数が1〜20のアルキル基が好ましい。 Among these, the group represented by R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
Xのハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Xの、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基としては、それぞれ、R3の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基として示したものと同様のものが挙げられる。
Xのアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
また、式(1)で示される金属化合物が、2以上のXを有するとき、これらは互いに結合し、環構造を形成していてもよい。
Examples of the halogen atom for X include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
As the alkyl group which may have a substituent of X and the aryl group which may have a substituent, the alkyl group which may have a substituent and the substituent of R 3 respectively. The thing similar to what was shown as an aryl group which may have is mentioned.
Examples of the alkylsilyl group of X include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and the like.
Moreover, when the metal compound shown by Formula (1) has two or more X, these may couple | bond together and may form the ring structure.
R2の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基としては、それぞれ、R3の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基として示したものと同様のものが挙げられる。 As the alkyl group which may have a substituent of R 2 and the aryl group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent and a substituent of R 3 respectively. The thing similar to what was shown as an aryl group which may have this is mentioned.
Lの電子供与性の中性配位子としては、周期律表第14族又は第15族の原子を含有する電子供与性化合物が挙げられる。その具体例としては、トリメチルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ルチジン等のアミン類;等が挙げられる。これらの中でも、エーテル類が好ましい。 Examples of the electron donating neutral ligand of L include an electron donating compound containing an atom of Group 14 or Group 15 of the periodic table. Specific examples thereof include phosphines such as trimethylphosphine, triisopropylphosphine, tricyclohexylphosphine, and triphenylphosphine; ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and tetrahydrofuran; trimethylamine, triethylamine, pyridine, Amines such as lutidine; and the like. Among these, ethers are preferable.
式(1)で示される金属化合物としては、フェニルイミド基を有するタングステン化合物(式(1)中のMがタングステン原子で、R1がフェニル基である化合物)が好ましく、テトラクロロタングステンフェニルイミド(テトラヒドロフラン)錯体がより好ましい。 As the metal compound represented by the formula (1), a tungsten compound having a phenylimide group (a compound in which M in the formula (1) is a tungsten atom and R 1 is a phenyl group) is preferable, and tetrachlorotungsten phenylimide ( Tetrahydrofuran) complexes are more preferred.
式(1)で表される金属化合物の合成方法は特に限定されない。例えば、特開平5−345817号公報に記載されるように、第6族遷移金属のオキシハロゲン化物と、3,4,5位の少なくとも1つの位置に置換基を有していてもよいフェニルイソシアナート類、又は一置換メチルイソシアナート類と、電子供与性の中性配位子(L)、及び必要に応じてアルコール類、金属アルコキシド、金属アリールオキシドを混合することにより、目的の金属化合物を合成することができる。
金属化合物の合成後、反応液をそのまま開環重合反応の触媒液として用いてもよいし、結晶化等の公知の精製処理により、金属化合物を単離、精製した後、得られた金属化合物を開環重合反応に供してもよい。
The method for synthesizing the metal compound represented by the formula (1) is not particularly limited. For example, as described in JP-A-5-345817, an oxyhalide of a Group 6 transition metal and phenyl isocyanate that may have a substituent at at least one of the 3, 4, and 5 positions A target metal compound is obtained by mixing a naphthate or monosubstituted methyl isocyanate with an electron-donating neutral ligand (L) and, if necessary, an alcohol, a metal alkoxide, or a metal aryloxide. Can be synthesized.
After the synthesis of the metal compound, the reaction solution may be used as it is as a catalyst solution for the ring-opening polymerization reaction, or after isolation and purification of the metal compound by a known purification treatment such as crystallization, You may use for ring-opening polymerization reaction.
開環重合触媒は、式(1)で示される金属化合物のみからなるものであってもよいし、式(1)で示される金属化合物と有機金属還元剤を組み合わせたものであってもよい。式(1)で示される金属化合物と有機金属還元剤を組み合わせて用いることで、重合活性が向上する。
有機金属還元剤としては、炭素数1〜20の炭化水素基を有する周期律表第1、2、12、13、14族の有機金属化合物が挙げられる。
前記有機金属化合物としては、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の有機リチウム;ブチルエチルマグネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、n−ブチルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウムブロミド等の有機マグネシウム;ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジフェニル亜鉛等の有機亜鉛;トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムイソブトキシド、エチルアルミニウムジエトキシド、イソブチルアルミニウムジイソブトキシド等の有機アルミニウム;テトラメチルスズ、テトラ(n−ブチル)スズ、テトラフェニルスズ等の有機スズ;等が挙げられる。
これらの中でも、有機アルミニウム又は有機スズが好ましい。
The ring-opening polymerization catalyst may be composed only of the metal compound represented by the formula (1), or may be a combination of the metal compound represented by the formula (1) and an organometallic reducing agent. By using a combination of the metal compound represented by the formula (1) and the organometallic reducing agent, the polymerization activity is improved.
Examples of the organometallic reducing agent include organometallic compounds belonging to Groups 1, 2, 12, 13 and 14 of the periodic table having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
Examples of the organometallic compound include organic lithium such as methyl lithium, n-butyl lithium, and phenyl lithium; organic magnesium such as butyl ethyl magnesium, butyl octyl magnesium, dihexyl magnesium, ethyl magnesium chloride, n-butyl magnesium chloride, and allyl magnesium bromide. Organic zinc such as dimethyl zinc, diethyl zinc and diphenyl zinc; trimethyl aluminum, triethyl aluminum, triisobutyl aluminum, diethyl aluminum chloride, ethyl aluminum sesquichloride, ethyl aluminum dichloride, diethyl aluminum ethoxide, diisobutyl aluminum isobutoxide, ethyl aluminum di Organic aluminum such as ethoxide, isobutylaluminum diisobutoxide Um; tetramethyl tin, tetra (n- butyl) tin, organic tin such as tetraphenyl tin; and the like.
Among these, organoaluminum or organotin is preferable.
開環重合反応は、通常、有機溶媒中で行われる。用いる有機溶媒は、開環重合体やその水素化物を、所定の条件で溶解もしくは分散させることが可能であり、かつ、開環重合反応や水素化反応を阻害しないものであれば、特に限定されない。
有機溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ビシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデン、シクロオクタン等の脂環族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系脂肪族炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系芳香族炭化水素類;ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリル等の含窒素炭化水素類;ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン等のエ−テル類;これらを組み合わせた混合溶媒;等が挙げられる。
これらの中でも、有機溶媒としては、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、脂環族炭化水素類、エーテル類が好ましい。
The ring-opening polymerization reaction is usually performed in an organic solvent. The organic solvent used is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the ring-opening polymer or its hydride under predetermined conditions and does not inhibit the ring-opening polymerization reaction or the hydrogenation reaction. .
Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, and heptane; cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane, ethylcyclohexane, diethylcyclohexane, decahydronaphthalene, bicycloheptane, tricyclodecane, hexa Alicyclic hydrocarbons such as hydroindene and cyclooctane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Halogenated aliphatic hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane; Chlorobenzene and dichlorobenzene Halogen-containing aromatic hydrocarbons such as: nitrogen-containing hydrocarbons such as nitromethane, nitrobenzene and acetonitrile; ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; Solvent mixture; and the like.
Among these, as the organic solvent, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and ethers are preferable.
開環重合反応は、単量体と、式(1)で示される金属化合物と、必要に応じて有機金属還元剤とを混合することにより開始することができる。これらの成分を添加する順序は、特に限定されない。例えば、単量体を含む溶液に、式(1)で示される金属化合物と有機金属還元剤を含む溶液を添加して混合してもよいし、有機金属還元剤を含む溶液に、単量体と式(1)で示される金属化合物を含む溶液を添加して混合してもよいし、単量体と有機金属還元剤を含む溶液に、式(1)で示される金属化合物の溶液を添加して混合してもよい。
各成分を添加する際は、それぞれの成分の全量を一度に添加してもよいし、複数回に分けて添加してもよい。また、比較的に長い時間(例えば1分間以上)にわたって連続的に添加してもよい。
The ring-opening polymerization reaction can be started by mixing the monomer, the metal compound represented by the formula (1), and, if necessary, an organometallic reducing agent. The order in which these components are added is not particularly limited. For example, a solution containing the metal compound represented by the formula (1) and the organometallic reducing agent may be added to and mixed with the solution containing the monomer, or the monomer containing the organometallic reducing agent may be added to the solution containing the organometallic reducing agent. And a solution containing the metal compound represented by the formula (1) may be added and mixed, or a solution containing the metal compound represented by the formula (1) may be added to the solution containing the monomer and the organometallic reducing agent. And may be mixed.
When adding each component, the whole quantity of each component may be added at once, and may be added in multiple times. Moreover, you may add continuously over a comparatively long time (for example, 1 minute or more).
開環重合反応開始時の単量体の濃度は、特に限定されないが、通常、1〜50重量%、好ましくは2〜45重量%、より好ましくは3〜40重量%である。単量体の濃度が低すぎると、生産性が低下するおそれがあり、高すぎると、開環重合反応後の溶液粘度が高すぎて、その後の水素化反応が困難になる場合がある。 The concentration of the monomer at the start of the ring-opening polymerization reaction is not particularly limited, but is usually 1 to 50% by weight, preferably 2 to 45% by weight, and more preferably 3 to 40% by weight. If the concentration of the monomer is too low, the productivity may decrease. If it is too high, the solution viscosity after the ring-opening polymerization reaction is too high, and the subsequent hydrogenation reaction may be difficult.
開環重合反応に用いる式(1)で示される金属化合物の量は、(金属化合物:単量体)のモル比が、通常1:100〜1:2,000,000、好ましくは1:500〜1,000,000、より好ましくは1:1,000〜1:500,000となる量である。前記金属化合物の量が多すぎると、反応後に金属化合物を除去するのが困難になるおそれがあり、少なすぎると十分な重合活性が得られない場合がある。 The amount of the metal compound represented by the formula (1) used in the ring-opening polymerization reaction is such that the molar ratio of (metal compound: monomer) is usually from 1: 100 to 1: 2,000,000, preferably 1: 500. ˜1,000,000, more preferably in an amount of 1: 1,000 to 1: 500,000. If the amount of the metal compound is too large, it may be difficult to remove the metal compound after the reaction. If the amount is too small, sufficient polymerization activity may not be obtained.
有機金属還元剤を用いる場合、その使用量は、式(1)で示される金属化合物1モルに対して、0.1〜100モルが好ましく、0.2〜50モルがより好ましく、0.5〜20モルが特に好ましい。有機金属還元剤の使用量が少なすぎると重合活性が十分に向上しない場合があり、多すぎると副反応が起こりやすくなるおそれがある。 When using an organometallic reducing agent, the amount used is preferably 0.1 to 100 mol, more preferably 0.2 to 50 mol, relative to 1 mol of the metal compound represented by formula (1), 0.5 ˜20 mol is particularly preferred. If the amount of the organometallic reducing agent used is too small, the polymerization activity may not be sufficiently improved, and if it is too much, side reactions may easily occur.
重合反応系には、活性調整剤を添加してもよい。活性調整剤を用いることで、開環重合触媒を安定化したり、開環重合反応の反応速度や重合体の分子量分布を調整することができる。
活性調整剤は、官能基を有する有機化合物であれば特に制限されない。活性調整剤としては、含酸素化合物、含窒素化合物、含リン有機化合物等が挙げられる。
含酸素化合物としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フラン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;アセトン、ベンゾフェノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エチルアセテート等のエステル類;等が挙げられる。
含窒素化合物としては、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、キヌクリジン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類;ピリジン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、2−t−ブチルピリジン等のピリジン類;等が挙げられる。
含リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフェ−ト、トリメチルホスフェート等のホスフィン類;トリフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド類;等が挙げられる。
活性調整剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。添加する活性調整剤の量は、特に限定されないが、通常、式(1)で示される金属化合物に対して0.01〜100モル%の間で選択すればよい。
An activity regulator may be added to the polymerization reaction system. By using the activity regulator, the ring-opening polymerization catalyst can be stabilized, the reaction rate of the ring-opening polymerization reaction and the molecular weight distribution of the polymer can be adjusted.
The activity regulator is not particularly limited as long as it is an organic compound having a functional group. Examples of the activity regulator include oxygen-containing compounds, nitrogen-containing compounds, and phosphorus-containing organic compounds.
Examples of the oxygen-containing compound include ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, anisole, furan and tetrahydrofuran; ketones such as acetone, benzophenone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate;
Nitrogen-containing compounds include nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; amines such as triethylamine, triisopropylamine, quinuclidine and N, N-diethylaniline; pyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 2- pyridines such as t-butylpyridine; and the like.
Examples of the phosphorus-containing compound include phosphines such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphate, and trimethylphosphate; phosphine oxides such as triphenylphosphine oxide; and the like.
An activity regulator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The amount of the activity regulator to be added is not particularly limited, but is usually selected from 0.01 to 100 mol% with respect to the metal compound represented by the formula (1).
重合反応系には、開環重合体の分子量を調整するために分子量調整剤を添加してもよい。分子量調整剤としては、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン等のα−オレフィン類;スチレン、ビニルトルエン等の芳香族ビニル化合物;エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル、酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレート等の酸素含有ビニル化合物;アリルクロライド等のハロゲン含有ビニル化合物;アクリルアミド等の窒素含有ビニル化合物;1,4−ペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、2−メチル−1,4−ペンタジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエン等の非共役ジエン;1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等の共役ジエン;等が挙げられる。
分子量調整剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。添加する分子量調整剤の量は目的とする分子量に応じて適宜決定すればよいが、通常、ジシクロペンタジエンに対して、0.1〜50モル%の範囲で選択すればよい。
A molecular weight modifier may be added to the polymerization reaction system in order to adjust the molecular weight of the ring-opening polymer. Examples of molecular weight modifiers include α-olefins such as 1-butene, 1-pentene, 1-hexene and 1-octene; aromatic vinyl compounds such as styrene and vinyltoluene; ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, allyl glycidyl ether, acetic acid Oxygen-containing vinyl compounds such as allyl, allyl alcohol and glycidyl methacrylate; halogen-containing vinyl compounds such as allyl chloride; nitrogen-containing vinyl compounds such as acrylamide; 1,4-pentadiene, 1,4-hexadiene, 1,5-hexadiene, 1 , 6-heptadiene, 2-methyl-1,4-pentadiene, 2,5-dimethyl-1,5-hexadiene and other nonconjugated dienes; 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2, 3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-penta Ene, conjugated dienes such as 1,3-hexadiene; and the like.
A molecular weight regulator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The amount of the molecular weight modifier to be added may be appropriately determined according to the target molecular weight, but is usually selected in the range of 0.1 to 50 mol% with respect to dicyclopentadiene.
重合温度は特に制限はないが、通常、−78〜+200℃の範囲であり、好ましくは−30〜+180℃の範囲である。重合時間は、特に制限はなく、反応規模にも依存するが、通常1分間から1000時間の範囲である。 Although there is no restriction | limiting in particular in superposition | polymerization temperature, Usually, it is the range of -78- + 200 degreeC, Preferably it is the range of -30- + 180 degreeC. The polymerization time is not particularly limited and depends on the reaction scale, but is usually in the range of 1 minute to 1000 hours.
ジシクロペンタジエン開環重合体の重量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、通常1,000〜1,000,000、好ましくは、2,000〜500,000である。このような重量平均分子量を有する開環重合体を水素化反応に供することによって、成形加工性と耐熱性とのバランスに優れた重合体(α1)を得ることができる。開環重合体の重量平均分子量は、重合時に用いる分子量調整剤の添加量などを調節することにより、調節することができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the dicyclopentadiene ring-opening polymer is not particularly limited, but is usually 1,000 to 1,000,000, preferably 2,000 to 500,000. By subjecting the ring-opening polymer having such a weight average molecular weight to a hydrogenation reaction, a polymer (α1) having an excellent balance between molding processability and heat resistance can be obtained. The weight average molecular weight of the ring-opening polymer can be adjusted by adjusting the amount of the molecular weight modifier used during polymerization.
ジシクロペンタジエン開環重合体の分子量分布(Mw/Mn)は、特に限定されないが、通常1.0〜4.0であり、好ましくは1.5〜3.5である。このような分子量分布を有する開環重合体を水素化反応に供することによって、成形加工性に優れた重合体(α1)を得ることができる。開環重合体の分子量分布は、重合反応時における単量体の添加方法や単量体の濃度により、調節することができる。
ジシクロペンタジエン開環重合体の重量平均分子量(Mw)や分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算値である。
The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the dicyclopentadiene ring-opening polymer is not particularly limited, but is usually 1.0 to 4.0, preferably 1.5 to 3.5. By subjecting the ring-opening polymer having such a molecular weight distribution to a hydrogenation reaction, a polymer (α1) excellent in molding processability can be obtained. The molecular weight distribution of the ring-opening polymer can be adjusted by the monomer addition method and the monomer concentration during the polymerization reaction.
The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the dicyclopentadiene ring-opened polymer are polystyrene-converted values measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.
前記開環重合反応により、シンジオタクチック立体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合体を得ることができる。開環重合反応の後に行う水素化反応において、反応条件を適切に設定すれば、通常、水素化反応により開環重合体のタクチシチーが変化することはないため、このシンジオタクチック立体規則性を有するジシクロペンタジエン開環重合体を水素化反応に供することにより、目的の重合体(α1)を得ることができる。なお、開環重合体のシンジオタクチック立体規則性の度合いは、開環重合触媒の種類を選択することなどにより、調節することができる。 By the ring-opening polymerization reaction, a dicyclopentadiene ring-opening polymer having syndiotactic stereoregularity can be obtained. In the hydrogenation reaction performed after the ring-opening polymerization reaction, if the reaction conditions are set appropriately, the tacticity of the ring-opening polymer does not usually change due to the hydrogenation reaction, and thus has this syndiotactic stereoregularity. The target polymer (α1) can be obtained by subjecting the dicyclopentadiene ring-opened polymer to a hydrogenation reaction. The degree of syndiotactic stereoregularity of the ring-opening polymer can be adjusted by selecting the type of ring-opening polymerization catalyst.
開環重合体の水素化反応は、水素化触媒の存在下で、反応系内に水素を供給することにより行うことができる。水素化触媒としては、オレフィン化合物の水素化触媒として公知の均一系触媒や不均一触媒を用いることができる。 The hydrogenation reaction of the ring-opening polymer can be performed by supplying hydrogen into the reaction system in the presence of a hydrogenation catalyst. As a hydrogenation catalyst, a well-known homogeneous catalyst and a heterogeneous catalyst can be used as a hydrogenation catalyst of an olefin compound.
均一系触媒としては、酢酸コバルト/トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート/トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド/n−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド/sec−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート/ジメチルマグネシウム等の、遷移金属化合物とアルカリ金属化合物の組み合わせからなる触媒;ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、クロロヒドリドカルボニルビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウム、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリジンルテニウム(IV)ジクロリド、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム等の貴金属錯体触媒;等が挙げられる。 Homogeneous catalysts include transition metal compounds such as cobalt acetate / triethylaluminum, nickel acetylacetonate / triisobutylaluminum, titanocene dichloride / n-butyllithium, zirconocene dichloride / sec-butyllithium, tetrabutoxytitanate / dimethylmagnesium, etc. Catalyst comprising a combination of alkali metal compounds; dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium, chlorohydridocarbonylbis (tricyclohexylphosphine) ruthenium, bis (tricyclohexylphosphine) benzilidineruthenium (IV ) Noble metal complex catalysts such as dichloride and chlorotris (triphenylphosphine) rhodium;
不均一触媒としては、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム等の金属触媒;ニッケル/シリカ、ニッケル/ケイソウ土、ニッケル/アルミナ、パラジウム/カーボン、パラジウム/シリカ、パラジウム/ケイソウ土、パラジウム/アルミナ等の、前記金属をカーボン、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チタンなどの担体に担持させてなる固体触媒が挙げられる。 As heterogeneous catalysts, metal catalysts such as nickel, palladium, platinum, rhodium, ruthenium; nickel / silica, nickel / diatomaceous earth, nickel / alumina, palladium / carbon, palladium / silica, palladium / diatomaceous earth, palladium / alumina, etc. And a solid catalyst in which the metal is supported on a carrier such as carbon, silica, diatomaceous earth, alumina, titanium oxide or the like.
水素化反応は、通常、不活性有機溶媒中で行われる。不活性有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、デカヒドロナフタレンなどの脂環族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;等が挙げられる。
不活性有機溶媒は、開環重合反応に用いた溶媒と同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。また、開環重合反応液にそのまま水素化触媒を添加して、水素化反応を行ってもよい。
The hydrogenation reaction is usually performed in an inert organic solvent. Examples of the inert organic solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and decahydronaphthalene; tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and the like. Ethers; and the like.
The inert organic solvent may be the same as or different from the solvent used in the ring-opening polymerization reaction. Alternatively, the hydrogenation catalyst may be added as it is to the ring-opening polymerization reaction solution to carry out the hydrogenation reaction.
水素化反応の反応条件は、用いる水素化触媒によっても異なるが、反応温度は通常−20〜+250℃、好ましくは−10〜+220℃、より好ましくは0〜+200℃である。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が高すぎると副反応が起こる場合がある。
水素圧力は、通常0.01〜20MPa、好ましくは0.05〜15MPa、より好ましくは0.1〜10MPaである。水素圧力が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、水素圧力が高すぎると高耐圧反応装置等の特別な装置が必要になる。
反応時間は、所望の水素化率が達成されるのであれば特に限定されないが、通常0.1〜10時間である。
水素化反応後は、常法に従って、目的の重合体(α1)を回収すればよい。
The reaction conditions for the hydrogenation reaction vary depending on the hydrogenation catalyst used, but the reaction temperature is usually -20 to + 250 ° C, preferably -10 to + 220 ° C, more preferably 0 to + 200 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction rate may be too slow, and if the reaction temperature is too high, side reactions may occur.
The hydrogen pressure is usually 0.01 to 20 MPa, preferably 0.05 to 15 MPa, and more preferably 0.1 to 10 MPa. If the hydrogen pressure is too low, the reaction rate may be too slow. If the hydrogen pressure is too high, a special device such as a high pressure reactor is required.
Although reaction time will not be specifically limited if a desired hydrogenation rate is achieved, Usually, it is 0.1 to 10 hours.
After the hydrogenation reaction, the target polymer (α1) may be recovered according to a conventional method.
水素化反応における水素化率(水素化された主鎖二重結合の割合)は、特に限定されないが、好ましくは98%以上、より好ましくは99%以上である。水素化率が高くなるほど、得られる結晶性環状オレフィン樹脂の耐熱性が良好なものとなる。 The hydrogenation rate in the hydrogenation reaction (the ratio of hydrogenated main chain double bonds) is not particularly limited, but is preferably 98% or more, more preferably 99% or more. The higher the hydrogenation rate, the better the heat resistance of the obtained crystalline cyclic olefin resin.
〔結晶性樹脂フィルム〕
本発明に用いる結晶性樹脂フィルムは、前記結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする。
「結晶性樹脂フィルム」とは、そのフィルムを試料として示差走査熱量計(DSC)を測定したときに、融点を観測することができるフィルムをいう。
「主成分」とは、その含有量が、全体の50重量%以上のものをいう(以下にて同じ)。
[Crystalline resin film]
The crystalline resin film used for this invention has the said crystalline cyclic olefin resin as a main component.
“Crystalline resin film” refers to a film whose melting point can be observed when a differential scanning calorimeter (DSC) is measured using the film as a sample.
The “main component” means that the content is 50% by weight or more of the whole (the same applies hereinafter).
用いる結晶性樹脂フィルムは、結晶性環状オレフィン樹脂の他に、添加剤等の他の成分を含有していてもよい。
他の成分としては、酸化防止剤、結晶核剤、充填剤、難燃剤、難燃助剤、着色剤、帯電防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、滑剤等が挙げられる。
これらの含有量は、目的に合わせて適宜決定することができるが、結晶性樹脂フィルムに対して、50重量%未満、好ましくは40重量%以下である。
The crystalline resin film to be used may contain other components such as additives in addition to the crystalline cyclic olefin resin.
Other components include antioxidants, crystal nucleating agents, fillers, flame retardants, flame retardant aids, colorants, antistatic agents, plasticizers, ultraviolet absorbers, light stabilizers, near infrared absorbers, lubricants, etc. Is mentioned.
Although these content can be suitably determined according to the objective, it is less than 50 weight% with respect to a crystalline resin film, Preferably it is 40 weight% or less.
表面改質フィルムをプリント配線板等の製造材料として用いる場合、結晶性樹脂フィルムは酸化防止剤を含有することが好ましい。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。
When the surface-modified film is used as a production material for a printed wiring board or the like, the crystalline resin film preferably contains an antioxidant.
Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant, a phosphorus antioxidant, and a sulfur antioxidant.
フェノール系酸化防止剤としては、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン、ジブチルヒドロキシトルエン、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−t−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、α−トコフェノール、2,2,4−トリメチル−6−ヒドロキシ−7−t−ブチルクロマン、テトラキス〔メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン等が挙げられる。 Examples of phenolic antioxidants include 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene, dibutylhydroxytoluene, 2,2′-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 4,4 ′. -Butylidenebis (3-t-butyl-3-methylphenol), 4,4'-thiobis (6-t-butyl-3-methylphenol), α-tocophenol, 2,2,4-trimethyl-6-hydroxy -7-t-butylchroman, tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, and the like.
リン系酸化防止剤としては、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジターシャリーブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジターシャリーブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジターシャリーブチルフェニル)4,4’−ビフェニルジホスファイト、トリノニルフェニルホスファイト等が挙げられる。 Examples of phosphorus antioxidants include distearyl pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-ditertiarybutylphenyl) pentaerythritol diphosphite, tris (2,4-ditertiarybutylphenyl) phosphite, tetrakis (2 , 4-ditertiary butylphenyl) 4,4′-biphenyl diphosphite, trinonylphenyl phosphite and the like.
硫黄系酸化防止剤としては、ジステアリルチオジプロピオネート、ジラウリルチオジプロピオネート等が挙げられる。
酸化防止剤の含有量は、結晶性樹脂フィルムに対して、通常、0.001〜5重量%、好ましくは0.01〜4重量%、より好ましくは0.1〜3重量%である。
Examples of sulfur-based antioxidants include distearyl thiodipropionate and dilauryl thiodipropionate.
Content of antioxidant is 0.001 to 5 weight% normally with respect to a crystalline resin film, Preferably it is 0.01 to 4 weight%, More preferably, it is 0.1 to 3 weight%.
結晶性樹脂フィルムの製造方法は特に限定されない。例えば、射出成形、押出成形、プレス成形、インフレーション成形、ブロー成形、カレンダー成形、注型成形、圧縮成形、キャスト成形等の公知の方法を適宜採用することができる。
結晶性樹脂フィルムは、その結晶性を高めるために、延伸処理や結晶化アニール処理が施されたものが好ましい。
結晶性樹脂フィルムの厚みは特に限定されないが、通常、10〜150μm、好ましくは15〜100μmである。
The manufacturing method of a crystalline resin film is not specifically limited. For example, known methods such as injection molding, extrusion molding, press molding, inflation molding, blow molding, calendar molding, cast molding, compression molding, and cast molding can be appropriately employed.
The crystalline resin film is preferably subjected to stretching treatment or crystallization annealing treatment in order to increase its crystallinity.
Although the thickness of a crystalline resin film is not specifically limited, Usually, it is 10-150 micrometers, Preferably it is 15-100 micrometers.
〔表面改質フィルムの製造方法〕
本発明の方法においては、前記樹脂フィルム(以下、樹脂フィルム(1)ということがある。)の少なくとも一方の面に、エキシマランプを用いて、中心波長が180nm未満の光を照射することにより、目的の表面改質フィルムを得る。
[Method for producing surface-modified film]
In the method of the present invention, at least one surface of the resin film (hereinafter sometimes referred to as the resin film (1)) is irradiated with light having a central wavelength of less than 180 nm using an excimer lamp. The desired surface modified film is obtained.
照射する光の中心波長は、180nm未満である。光の中心波長が180nm未満であることで、目的の改質処理を効率よく行うことができる。光の中心波長の下限値は特にないが、通常は100nm以上である。
本発明において、「光の中心波長」とは、発光スペクトルにおいて、最大の発光強度をもたらす波長をいう。
The central wavelength of the irradiated light is less than 180 nm. When the center wavelength of light is less than 180 nm, the target modification treatment can be performed efficiently. There is no particular lower limit value for the center wavelength of light, but it is usually 100 nm or more.
In the present invention, the “center wavelength of light” refers to a wavelength that provides the maximum emission intensity in the emission spectrum.
改質処理を行う際は、エキシマランプの種類を適宜選択することにより、目的の中心波長の光を照射することができる。例えば、Arエキシマランプから照射される光の中心波長は、126nmであり、Krエキシマランプから照射される光の中心波長は、146nmであり、ArBrエキシマランプから照射される光の中心波長は、165nmであり、Xeエキシマランプから照射される光の中心波長は、172nmであり、ArClエキシマランプから照射される光の中心波長は、175nmである。 When performing the modification treatment, light of the target center wavelength can be irradiated by appropriately selecting the type of excimer lamp. For example, the central wavelength of light emitted from an Ar excimer lamp is 126 nm, the central wavelength of light emitted from a Kr excimer lamp is 146 nm, and the central wavelength of light emitted from an ArBr excimer lamp is 165 nm. The central wavelength of light emitted from the Xe excimer lamp is 172 nm, and the central wavelength of light emitted from the ArCl excimer lamp is 175 nm.
光の照射時間は、通常、0.1〜150秒、好ましくは1〜120秒、より好ましくは5〜90秒である。 The light irradiation time is usually 0.1 to 150 seconds, preferably 1 to 120 seconds, more preferably 5 to 90 seconds.
本発明の方法においては、エキシマランプを、樹脂フィルム(1)に接近させて設置することが好ましい。エキシマランプと樹脂フィルム(1)の距離は、10mm以下が好ましい。
光の照射は、樹脂フィルム(1)の一方の面のみに行ってもよいし、両方の面に行ってもよい。
表面改質フィルムを連続的に製造する場合、長尺の樹脂フィルム(1)をロールtoロール方式で一定方向に搬送しながら、搬送されている長尺の樹脂フィルムに対して、搬送路に沿って設置したエキシマランプから光を照射することが好ましい。
In the method of the present invention, it is preferable to install the excimer lamp close to the resin film (1). The distance between the excimer lamp and the resin film (1) is preferably 10 mm or less.
The light irradiation may be performed on only one surface of the resin film (1) or on both surfaces.
When the surface-modified film is continuously produced, the long resin film (1) is conveyed along a conveyance path with respect to the long resin film being conveyed while being conveyed in a certain direction by a roll-to-roll method. It is preferable to irradiate light from an excimer lamp installed.
樹脂フィルム(1)に対して、エキシマランプを用いて改質処理を行うことにより、樹脂フィルム(1)の表面に、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基等の親水性を示す官能基が生成する。このため、得られた表面改質フィルムを、接着剤層を介して金属箔と接着した時に、表面改質フィルムと金属箔とが強固に接着された積層体を得ることができる。
また、エキシマランプを用いて樹脂フィルム(1)の改質処理を行った場合、紫外線照射等の改質処理を施した場合に比べて、柔軟性が低下し難く、また、熱履歴がかかった後においても、黄変し難くなる。
上記のように、本発明の方法によれば、プリント配線板などに用いられる樹脂基板の材料として有用な表面改質フィルムを効率よく製造することができる。
By performing a modification treatment on the resin film (1) using an excimer lamp, hydrophilic functional groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and a carbonyl group are generated on the surface of the resin film (1). For this reason, when the obtained surface modification film is adhere | attached with metal foil through an adhesive bond layer, the laminated body by which the surface modification film and metal foil were adhere | attached firmly can be obtained.
In addition, when the resin film (1) is modified using an excimer lamp, the flexibility is less likely to be lower than that when a modification process such as ultraviolet irradiation is performed, and a heat history is applied. Even later, it becomes difficult to yellow.
As described above, according to the method of the present invention, a surface-modified film useful as a material for a resin substrate used for a printed wiring board or the like can be efficiently produced.
〔樹脂層の改質方法〕
本発明の樹脂層の改質方法は、結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする樹脂層の表面に、エキシマランプを用いて、波長が180nm未満の光を照射することにより、前記樹脂層を改質することを特徴とする。
[Reforming method of resin layer]
In the method for modifying a resin layer according to the present invention, the surface of a resin layer mainly composed of a crystalline cyclic olefin resin is irradiated with light having a wavelength of less than 180 nm using an excimer lamp. It is characterized by quality.
本発明の改質方法は、本発明の表面改質フィルムの製造方法において、結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする結晶性樹脂フィルムの代わりに、結晶性環状オレフィン樹脂を主成分とする樹脂層に光を照射すること以外は、本発明の表面改質フィルムの製造方法と同様のものである。
本発明の樹脂層の改質方法によれば、上記表面改質フィルムと同様の性質を有する改質樹脂層を効率よく形成することができる。
The modification method of the present invention is a resin layer mainly composed of a crystalline cyclic olefin resin instead of the crystalline resin film mainly composed of a crystalline cyclic olefin resin in the method for producing a surface modified film of the present invention. The method is the same as the method for producing a surface-modified film of the present invention except that light is irradiated on the surface.
According to the method for modifying a resin layer of the present invention, a modified resin layer having properties similar to those of the surface modified film can be efficiently formed.
2)積層体及びフレキシブルプリント基板
本発明の積層体は、樹脂フィルムと、金属箔とが、接着剤層を介して接着されてなる積層体であって、前記樹脂フィルムが、本発明の方法により得られた、片側又は両側に改質面を有する表面改質フィルムであり、前記接着剤層が、前記表面改質フィルムの改質面に隣接していることを特徴とする。
2) Laminate and flexible printed circuit board The laminate of the present invention is a laminate in which a resin film and a metal foil are bonded via an adhesive layer, and the resin film is formed by the method of the present invention. The obtained surface-modified film having a modified surface on one side or both sides, wherein the adhesive layer is adjacent to the modified surface of the surface-modified film.
本発明の方法により得られた表面改質フィルムを有することで、得られる積層体は、熱履歴を受けた後であっても、黄変や剥離強度の低下を起こしにくいものとなる。 By having the surface-modified film obtained by the method of the present invention, the obtained laminate is less likely to cause yellowing or a decrease in peel strength even after receiving a thermal history.
本発明の積層体を構成する金属箔の種類は、特に限定されない。
金属箔としては、銅箔、金箔、銀箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、クロム箔等が挙げられる。これらの中でも、プリント配線基板等の製造材料として有用な積層体が得られることから、銅箔が好ましい。
金属箔の厚みや粗化状態は、使用目的に応じて適宜選定すればよい。また、金属箔には、より接着力を強固なものとする目的で、必要に応じて、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤等で表面処理を行ってもよい。なお、後述する脂環構造含有樹脂として、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基を含むものを用いる場合には、アミノシランカップリング剤を用いて金属箔の表面を処理することにより、金属箔と表面改質フィルムとをより強固に接着することができる。
The kind of metal foil which comprises the laminated body of this invention is not specifically limited.
Examples of the metal foil include copper foil, gold foil, silver foil, stainless steel foil, aluminum foil, nickel foil, and chromium foil. Among these, a copper foil is preferable because a laminate useful as a production material for a printed wiring board or the like can be obtained.
What is necessary is just to select suitably the thickness and roughening state of metal foil according to the intended purpose. Further, the metal foil may be subjected to a surface treatment with a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like as necessary for the purpose of further strengthening the adhesive force. In addition, when using what contains a carboxyl group or a carboxylic anhydride group as alicyclic structure containing resin mentioned later, the surface modification of metal foil is carried out by processing the surface of metal foil using an aminosilane coupling agent. The quality film can be bonded more firmly.
本発明の積層体を構成する接着剤層は、表面改質フィルムと金属箔とを接着する層である。接着剤層の形成に用いる接着剤は、特に限定されない。例えば、ウレタン樹脂系、ポリビニルブチラール系、メラミン樹脂系、ユリア樹脂系、エポキシ樹脂系、及び脂環構造含有樹脂系の接着剤が挙げられる。
これらの中でも、前記表面改質フィルムと金属箔とを強固に接着することができることから、エポキシ樹脂系接着剤又は脂環構造含有樹脂系接着剤が好ましい。
The adhesive layer which comprises the laminated body of this invention is a layer which adhere | attaches a surface modification film and metal foil. The adhesive used for forming the adhesive layer is not particularly limited. Examples thereof include urethane resin-based, polyvinyl butyral-based, melamine resin-based, urea resin-based, epoxy resin-based, and alicyclic structure-containing resin-based adhesives.
Among these, an epoxy resin-based adhesive or an alicyclic structure-containing resin-based adhesive is preferable because the surface-modified film and the metal foil can be firmly bonded.
ウレタン樹脂系接着剤としては、ウレタンプレポリマー等の主剤とポリオール等の硬化剤との組み合わせからなる接着剤等が挙げられる。
ポリビニルブチラール系接着剤としては、ポリビニルアルコール等の主剤とブチルアルデヒド等の硬化剤との組み合わせからなる接着剤等が挙げられる。
メラミン樹脂系接着剤としては、シアヌリル酸アミド等の主剤とホルムアルデヒド等の硬化剤との組み合わせからなる接着剤等が挙げられる。
ユリア樹脂系接着剤としては、尿素等の主剤と塩化アンモニウム等の硬化剤との組み合わせからなる接着剤等が挙げられる。
Examples of the urethane resin adhesive include an adhesive made of a combination of a main agent such as a urethane prepolymer and a curing agent such as a polyol.
Examples of the polyvinyl butyral adhesive include an adhesive made of a combination of a main agent such as polyvinyl alcohol and a curing agent such as butyraldehyde.
Examples of the melamine resin-based adhesive include an adhesive composed of a combination of a main agent such as cyanuric amide and a curing agent such as formaldehyde.
Examples of the urea resin adhesive include an adhesive made of a combination of a main agent such as urea and a curing agent such as ammonium chloride.
エポキシ樹脂系接着剤としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、高分子型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等の主剤と、アミン、ポリアミド樹脂、イミダゾール系、ポリメルカプタン、三フッ化ホウ素、ジシアンジアミド等の硬化剤との組み合わせからなる接着剤等が挙げられる。 Epoxy resin adhesives include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, flexible epoxy resin, brominated epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, high Examples thereof include an adhesive composed of a combination of a main component such as a molecular type epoxy resin and a biphenyl type epoxy resin and a curing agent such as amine, polyamide resin, imidazole, polymercaptan, boron trifluoride, and dicyandiamide.
脂環構造含有樹脂系接着剤は、脂環構造含有樹脂(主鎖及び/又は側鎖に脂環構造を有する樹脂)を主成分とする接着剤である。
脂環構造含有樹脂としては、前記結晶性環状オレフィン樹脂〔重合体(α)〕の融点よりも低いガラス転移温度を有し、かつ、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びオキシシリル基からなる群から選択される官能基を有するもの〔以下、重合体(β)ということがある。〕が好ましい。
The alicyclic structure-containing resin adhesive is an adhesive mainly composed of an alicyclic structure-containing resin (a resin having an alicyclic structure in the main chain and / or side chain).
The alicyclic structure-containing resin has a glass transition temperature lower than the melting point of the crystalline cyclic olefin resin [polymer (α)], and has an epoxy group, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and an oxysilyl group. Having a functional group selected from the group consisting of [hereinafter sometimes referred to as polymer (β). ] Is preferable.
重合体(β)は、前記重合体(α)の融点よりも低いガラス転移温度を有する。重合体(β)のガラス転移温度が重合体(α)の融点よりも低いことで、接着剤層が、他の層と均一に密着した、厚みが均一の積層体を得ることができる。
重合体(β)のガラス転移温度は、好ましくは80〜250℃、より好ましくは90〜220℃、特に好ましくは100〜200℃である。
The polymer (β) has a glass transition temperature lower than the melting point of the polymer (α). When the glass transition temperature of the polymer (β) is lower than the melting point of the polymer (α), it is possible to obtain a laminate having a uniform thickness in which the adhesive layer is in close contact with other layers.
The glass transition temperature of the polymer (β) is preferably 80 to 250 ° C, more preferably 90 to 220 ° C, and particularly preferably 100 to 200 ° C.
重合体(β)は、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びオキシシリル基からなる群から選択される官能基を有するものである。
オキシシリル基とは、ケイ素−酸素結合を有する基をいう。例えば、アルキルシリルオキシ基、アルコキシシリル基、アルキルアルコキシシリル基、アリールシリルオキシ基、アルキルアリールシリルオキシ基、アリーロキシシリル基、アリールアルコキシシリル基、シラノール基、シロキサン基等が挙げられる。
The polymer (β) has a functional group selected from the group consisting of an epoxy group, a carboxyl group, a carboxylic anhydride group, and an oxysilyl group.
An oxysilyl group refers to a group having a silicon-oxygen bond. Examples thereof include an alkylsilyloxy group, an alkoxysilyl group, an alkylalkoxysilyl group, an arylsilyloxy group, an alkylarylsilyloxy group, an aryloxysilyl group, an arylalkoxysilyl group, a silanol group, and a siloxane group.
重合体(β)中の前記官能基の含有割合(官能基の数:脂環構造含有樹脂の繰り返し単位の数)は、好ましくは0.1:100〜20:100、より好ましくは0.2:100〜15:100、さらに好ましくは0.5:100〜5:100である。 The content ratio of the functional group in the polymer (β) (number of functional groups: number of repeating units of the alicyclic structure-containing resin) is preferably 0.1: 100 to 20: 100, more preferably 0.2. : 100 to 15: 100, more preferably 0.5: 100 to 5: 100.
重合体(β)に含まれる官能基の含有量が少なすぎると、表面改質フィルムと金属箔との接着力が不足するおそれがある。一方、官能基の量が多すぎると、脂環構造含有樹脂の吸水性が高くなったり、電気特性が悪化したりするために、得られる積層体の低吸水性や優れた電気特性が損なわれるおそれがある。
なお、重合体(β)がオキシシリル基を有するものである場合に、そのオキシシリル基の含有量を求めるにあたっては、オキシシリル基中のケイ素原子の数を基準に求めるものとする。
When there is too little content of the functional group contained in a polymer ((beta)), there exists a possibility that the adhesive force of a surface modification film and metal foil may be insufficient. On the other hand, if the amount of the functional group is too large, the water absorption of the alicyclic structure-containing resin is increased or the electrical properties are deteriorated, so that the low water absorption and excellent electrical properties of the obtained laminate are impaired. There is a fear.
When the polymer (β) has an oxysilyl group, the content of the oxysilyl group is determined on the basis of the number of silicon atoms in the oxysilyl group.
重合体(β)の重量平均分子量(Mw)は、通常30,000〜200,000、好ましくは40,000〜100,000、より好ましくは45,000〜60,000である。
重合体(β)の分子量分布(Mw/Mn)は、通常3以下、好ましくは2以下、より好ましくは1.5以下である。
重合体(β)の重量平均分子量(Mw)や分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定されるポリスチレン換算値である。
The weight average molecular weight (Mw) of a polymer ((beta)) is 30,000-200,000 normally, Preferably it is 40,000-100,000, More preferably, it is 45,000-60,000.
The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer (β) is usually 3 or less, preferably 2 or less, more preferably 1.5 or less.
The weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer (β) are polystyrene conversion values measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a developing solvent.
重合体(β)は、官能基及び脂環構造を有する単量体を用いて重合反応を行ったり、官能基を有する単量体と脂環構造を有する単量体とを用いて共重合反応を行ったりする方法により得ることができる。また、主鎖及び/又は側鎖に脂環構造を有し、官能基を有しない重合体〔以下、重合体(β1)ということがある。〕を得た後、これに変性処理等を施す方法によって得ることもできる。これらの方法の中でも、所望の置換基を有する重合体(β)が効率よく得られることから、重合体(β1)に変性処理等を施す方法が好ましい。 Polymer (β) undergoes a polymerization reaction using a monomer having a functional group and an alicyclic structure, or a copolymerization reaction using a monomer having a functional group and a monomer having an alicyclic structure Or the like. In addition, a polymer having an alicyclic structure in the main chain and / or side chain and not having a functional group [hereinafter sometimes referred to as a polymer (β1). ] Can be obtained by a method of subjecting it to a modification treatment or the like. Among these methods, a method of subjecting the polymer (β1) to modification treatment and the like is preferable because a polymer (β) having a desired substituent can be obtained efficiently.
重合体(β1)としては、ノルボルネン環を有する単量体の開環重合体及びその水素化物、芳香環含有重合体の芳香環水素化物、ノルボルネン環を有する単量体とα−オレフィン類との付加重合体、環状オレフィンや環状ジエンの付加重合体及びその水素化物等が挙げられる。
重合体(β1)としては、日本ゼオン社製のZEONEX(登録商標)、ZEONOR(ゼオノア:登録商標);三井化学社製のAPEL(登録商標)、APO(登録商標);ポリプラスチック社の製TOPAS(登録商標);等の市販品を用いることもできる。
Examples of the polymer (β1) include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene ring and a hydride thereof, an aromatic ring hydride of an aromatic ring-containing polymer, a monomer having a norbornene ring and an α-olefin. Examples include addition polymers, addition polymers of cyclic olefins and cyclic dienes, and hydrides thereof.
As the polymer (β1), ZEONEX (registered trademark), ZEONOR (registered trademark) manufactured by ZEON CORPORATION; APEL (registered trademark), APO (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals; TOPAS manufactured by Polyplastics Co., Ltd. (Registered Trademark); and other commercially available products can also be used.
重合体(β1)としては、柔軟性に優れる積層体が得られ易いことから、芳香族ビニル単量体と共役ジエン単量体との共重合体(以下の記載において、「共重合体(β2)」と称する場合がある)の水素化物(共重合体(β2)の芳香環及び共役ジエン単量体単位中の不飽和結合を水素化して得られる重合体:以下、単に「共重合体水素化物」と称する場合がある)が好ましい。 As the polymer (β1), it is easy to obtain a laminate having excellent flexibility. Therefore, a copolymer of an aromatic vinyl monomer and a conjugated diene monomer (in the following description, “copolymer (β2) The polymer obtained by hydrogenating the aromatic ring and the unsaturated bond in the conjugated diene monomer unit of the copolymer (β2) may be referred to simply as “copolymer hydrogen”. Are sometimes referred to as “compounds”).
共重合体(β2)の合成に用いる芳香族ビニル単量体としては、スチレン;α−メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2−エチルスチレン、3−エチルスチレン、4−エチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレン等のアルキル基置換スチレン;2−クロロスチレン、3−クロロスチレン、4−クロロスチレン、4−ブロモスチレン、2,4−ジブロモスチレン等のハロゲン置換スチレン;2−メチル−4,6−ジクロロスチレン等のアルキル基及びハロゲン置換スチレン;ビニルナフタレン;等が挙げられる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
芳香族ビニル単量体は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The aromatic vinyl monomer used for the synthesis of the copolymer (β2) is styrene; α-methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2-ethylstyrene, 3-ethylstyrene. Alkyl group-substituted styrene such as 4-ethylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene; 2-chlorostyrene, 3 -Halogen-substituted styrene such as chlorostyrene, 4-chlorostyrene, 4-bromostyrene, 2,4-dibromostyrene; alkyl groups such as 2-methyl-4,6-dichlorostyrene and halogen-substituted styrene; vinylnaphthalene; Can be mentioned. Among these, styrene is preferable.
An aromatic vinyl monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
共重合体(β2)の合成に用いる共役ジエン単量体としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−クロロ−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられる。これらの中でも、1,3−ブタジエン、イソプレンが好ましい。
共役ジエン単量体は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the conjugated diene monomer used for the synthesis of the copolymer (β2) include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 2-chloro-1,3-butadiene, 1, Examples include 3-pentadiene and 1,3-hexadiene. Among these, 1,3-butadiene and isoprene are preferable.
Conjugated diene monomers can be used singly or in combination of two or more.
共重合体(β2)中の、芳香族ビニル単量体単位と共役ジエン単量体単位との含有比率は特に限定されないが、芳香族ビニル単量体単位:共役ジエン単量体単位の重量比で、好ましくは20:80〜65:35、より好ましくは30:70〜60:40である。 The content ratio of the aromatic vinyl monomer unit and the conjugated diene monomer unit in the copolymer (β2) is not particularly limited, but the weight ratio of the aromatic vinyl monomer unit to the conjugated diene monomer unit is not limited. And preferably 20:80 to 65:35, more preferably 30:70 to 60:40.
共重合体(β2)を合成する際に、芳香族ビニル単量体及び共役ジエン単量体以外の他の単量体を用いて共重合させてもよい。他の単量体としては、α,β−不飽和ニトリル単量体、不飽和エポキシ単量体、不飽和カルボン酸または酸無水物単量体、不飽和アルコキシシラン単量体、不飽和カルボン酸エステル単量体、非共役ジエン単量体等が挙げられる。
共重合体(β2)における、芳香族ビニル単量体単位及び共役ジエン単量体単位以外の他の単量体単位の含有量は、特に限定されないが、全単量体単位に対して、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは1重量%以下である。
When the copolymer (β2) is synthesized, the copolymer (β2) may be copolymerized using a monomer other than the aromatic vinyl monomer and the conjugated diene monomer. Other monomers include α, β-unsaturated nitrile monomer, unsaturated epoxy monomer, unsaturated carboxylic acid or acid anhydride monomer, unsaturated alkoxysilane monomer, unsaturated carboxylic acid Examples thereof include ester monomers and non-conjugated diene monomers.
The content of the monomer unit other than the aromatic vinyl monomer unit and the conjugated diene monomer unit in the copolymer (β2) is not particularly limited, but is preferably the total monomer unit. Is 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and still more preferably 1% by weight or less.
共重合体(β2)の共重合様式は、特に限定されず、ランダム共重合、テーパー共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などのいずれであってもよい。得られる共重合体水素化物の柔軟性と強度とのバランスを良好なものとする観点からは、少なくとも1つの芳香族ビニル重合体ブロック(芳香族ビニル単量体単位を主たる構成単位とする重合体ブロック)と少なくとも1つの共役ジエン重合体ブロック(共役ジエン単量体単位を主たる構成単位とする重合体ブロック)とを有してなる、芳香族ビニル−共役ジエンブロック共重合体であることが好ましく、少なくとも2つの芳香族ビニル重合体ブロックと少なくとも1つの共役ジエン重合体ブロックとを含有してなり、芳香族ビニル重合体ブロックが重合体鎖の両端部を占める芳香族ビニル−共役ジエンブロック共重合体であることがより好ましく、共役ジエン重合体ブロックの両端に芳香族ビニル重合体ブロックが結合してなる芳香族ビニル−共役ジエントリブロック共重合体であることが特に好ましい。 The copolymerization mode of the copolymer (β2) is not particularly limited and may be any of random copolymerization, taper copolymerization, block copolymerization, graft copolymerization, and the like. From the viewpoint of improving the balance between flexibility and strength of the resulting copolymer hydride, at least one aromatic vinyl polymer block (a polymer having an aromatic vinyl monomer unit as a main constituent unit). Block) and at least one conjugated diene polymer block (a polymer block having a conjugated diene monomer unit as a main constituent unit) and preferably an aromatic vinyl-conjugated diene block copolymer. And an aromatic vinyl-conjugated diene block copolymer comprising at least two aromatic vinyl polymer blocks and at least one conjugated diene polymer block, wherein the aromatic vinyl polymer block occupies both ends of the polymer chain. More preferably, the aromatic vinyl polymer block is formed by bonding an aromatic vinyl polymer block to both ends of the conjugated diene polymer block. - particularly preferably conjugated di-entry block copolymer.
共重合体(β2)が、芳香族ビニル重合体ブロックと共役ジエン重合体ブロックとを有してなるブロック共重合体である場合において、芳香族ビニル重合体ブロックにおける芳香族ビニル単量体単位以外の他の単量体単位の含有量、および共役ジエン重合体ブロックにおける共役ジエン単量体単位以外の他の単量体単位の含有量は、特に限定されないが、それぞれ、10重量%以下であることが好ましく、5重量%以下であることがより好ましく、1重量%以下であることが特に好ましい。 When the copolymer (β2) is a block copolymer having an aromatic vinyl polymer block and a conjugated diene polymer block, other than the aromatic vinyl monomer unit in the aromatic vinyl polymer block The content of other monomer units and the content of other monomer units other than the conjugated diene monomer unit in the conjugated diene polymer block are not particularly limited, but are each 10% by weight or less. It is preferably 5% by weight or less, more preferably 1% by weight or less.
共重合体(β2)を得るための重合方法は、特に限定されず、例えば、ラジカル重合、アニオン重合法、カチオン重合法、配位アニオン重合法、配位カチオン重合法などのいずれを用いてもよい。共重合体(β2)をブロック共重合体とする場合には、アニオン重合法が好適であり、なかでもリビングアニオン重合法が特に好適である。 The polymerization method for obtaining the copolymer (β2) is not particularly limited. For example, any of radical polymerization, anion polymerization method, cation polymerization method, coordination anion polymerization method, coordination cation polymerization method and the like can be used. Good. When the copolymer (β2) is a block copolymer, an anionic polymerization method is preferable, and a living anionic polymerization method is particularly preferable.
リビングアニオン重合法を用いる場合は、開始剤として、例えば、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、フェニルリチウム等のモノ有機リチウム;ジリチオメタン、1,4−ジリチオブタン、1,4−ジリチオ−2−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物;等が使用でき、モノ有機リチウムが好適である。また、重合反応温度は特に限定ないが、通常0〜100℃、好ましくは10〜80℃、特に好ましくは20〜70℃の範囲で選択される。 When the living anion polymerization method is used, examples of the initiator include monoorganolithium such as n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, hexyllithium, and phenyllithium; dilithiomethane, 1,4-dilithiobutane, 1 , 4-dilithio-2-ethylcyclohexane, etc., can be used; monoorganolithium is preferred. The polymerization reaction temperature is not particularly limited, but is usually selected in the range of 0 to 100 ° C, preferably 10 to 80 ° C, particularly preferably 20 to 70 ° C.
共重合体(β2)を得るための重合反応形態も、特に限定されず、溶液重合、スラリー重合などのいずれを用いてもよいが、溶液重合を用いると、反応熱の除去が容易で好適である。
用いる溶媒としては、n−ブタン、n−ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、イソオクタンなどの脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、デカリンなどの脂環式炭化水素類;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。なかでも脂環式炭化水素類を用いると、後述する水素化反応にも不活性な溶媒としてそのまま使用でき、共重合体(β2)の溶解性も良好であるため好ましい。これらの溶媒は、1種単独で、あるいは2種類以上を組み合わせて用いることができる。
The polymerization reaction form for obtaining the copolymer (β2) is not particularly limited, and any of solution polymerization, slurry polymerization, and the like may be used. However, using solution polymerization is preferable because it is easy to remove reaction heat. is there.
Solvents used include aliphatic hydrocarbons such as n-butane, n-pentane, isopentane, n-hexane, n-heptane, and isooctane; alicyclics such as cyclopentane, cyclohexane, methylcyclopentane, methylcyclohexane, and decalin Hydrocarbons; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. Among these, alicyclic hydrocarbons are preferable because they can be used as they are as an inert solvent for the hydrogenation reaction described later and the solubility of the copolymer (β2) is good. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
共重合体(β2)を得るための重合方法としてアニオン重合法を用いる場合には、反応の進行速度向上や共重合体(β2)のミクロ構造を制御するなどの目的で、重合反応系にルイス塩基化合物を添加することができる。用いるルイス塩基化合物としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルフェニルエーテルなどのエーテル化合物;テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジンなどの第3級アミン化合物;カリウム−t−アミルオキシド、カリウム−t−ブチルオキシドなどのアルカリ金属アルコキシド化合物;トリフェニルホスフィンなどのホスフィン化合物;などが挙げられる。これらのルイス塩基化合物は、1種単独で、あるいは2種類以上を組み合わせて用いることができる。 When an anionic polymerization method is used as a polymerization method for obtaining the copolymer (β2), Lewis polymer is used in the polymerization reaction system for the purpose of improving the reaction progress rate or controlling the microstructure of the copolymer (β2). A base compound can be added. Examples of Lewis base compounds to be used include ether compounds such as dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, diphenyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and ethylene glycol methyl phenyl ether; third compounds such as tetramethylethylenediamine, trimethylamine, triethylamine, and pyridine. And the like, and the like, and the like, and the like, and the like, and the like. These Lewis base compounds can be used alone or in combination of two or more.
共重合体(β2)を水素化する方法は、特に限定されず、公知の水素化方法に従って行えばよい。
水素化触媒としては、不均一系触媒、均一系触媒のいずれも使用可能である。これらの具体例としては、先に、開環重合体の水素化反応の触媒として示したものと同様のものが挙げられる。
なかでも、芳香環を含む不飽和結合の水素化率を高くでき、かつ、重合体鎖切断反応を抑制し得ることから、ニッケル、コバルト、ロジウム、パラジウム、白金等から選ばれる少なくとも1種の金属を含む触媒を用いることが好ましい。
水素化触媒は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。水素化触媒の使用量は、共重合体(β2)100重量部に対して、通常0.01〜100重量部、好ましくは0.05〜50重量部、より好ましくは0.1〜30重量部である。
The method for hydrogenating the copolymer (β2) is not particularly limited, and may be performed according to a known hydrogenation method.
As the hydrogenation catalyst, either a heterogeneous catalyst or a homogeneous catalyst can be used. Specific examples thereof are the same as those shown above as catalysts for the hydrogenation reaction of the ring-opening polymer.
Among them, at least one metal selected from nickel, cobalt, rhodium, palladium, platinum and the like can be obtained because the hydrogenation rate of the unsaturated bond containing an aromatic ring can be increased and the polymer chain scission reaction can be suppressed. It is preferable to use a catalyst containing
A hydrogenation catalyst can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The amount of the hydrogenation catalyst used is usually 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.05 to 50 parts by weight, more preferably 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer (β2). It is.
水素化反応は、通常、不活性有機溶媒中で行われる。不活性有機溶媒としては、先に、開環重合体の水素化反応の不活性有機溶媒として示したものと同様のものが挙げられる。 The hydrogenation reaction is usually performed in an inert organic solvent. Examples of the inert organic solvent are the same as those previously shown as the inert organic solvent for the hydrogenation reaction of the ring-opening polymer.
水素化反応温度は、特に限定されないが、通常10〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは80〜180℃である。また、水素圧も、特に限定されないが、通常0.1〜30MPa、好ましくは1〜20MPa、より好ましくは2〜10MPaである。
水素化反応後は、常法に従って、目的の共重合体水素化物を回収すればよい。
Although hydrogenation reaction temperature is not specifically limited, Usually, 10-250 degreeC, Preferably it is 50-200 degreeC, More preferably, it is 80-180 degreeC. Also, the hydrogen pressure is not particularly limited, but is usually 0.1 to 30 MPa, preferably 1 to 20 MPa, and more preferably 2 to 10 MPa.
After the hydrogenation reaction, the desired copolymer hydride may be recovered according to a conventional method.
上記水素化反応における水素化率は、共重合体(β2)の芳香環および共役ジエン単量体単位の両方について、それぞれの少なくとも一部の不飽和結合が水素化される限りにおいて特に限定されないが、共重合体(β2)中の全不飽和結合のうちの水素化された不飽和結合の割合として、好ましくは90%以上、より好ましくは97%以上、特に好ましくは99%以上である。なお、共重合体水素化物を得るにあたっての共重合体(β2)の水素化率は、1H−NMR測定に基づいて求めることができる。 The hydrogenation rate in the hydrogenation reaction is not particularly limited as long as at least a part of the unsaturated bonds of both the aromatic ring and the conjugated diene monomer unit of the copolymer (β2) are hydrogenated. The ratio of hydrogenated unsaturated bonds among all unsaturated bonds in the copolymer (β2) is preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and particularly preferably 99% or more. In addition, the hydrogenation rate of the copolymer (β2) for obtaining the copolymer hydride can be determined based on 1 H-NMR measurement.
重合体(β1)に官能基を導入し、重合体(β)を合成する方法は特に限定されない。例えば、分子内に目的の官能基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物(以下、「官能基含有不飽和化合物」ということがある。)を、過酸化物の存在下で、重合体(β1)と反応させることにより、重合体(β)を合成することができる。 A method for synthesizing the polymer (β) by introducing a functional group into the polymer (β1) is not particularly limited. For example, a compound having a target functional group and an ethylenically unsaturated bond in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “functional group-containing unsaturated compound”) is polymerized in the presence of a peroxide (β1). The polymer (β) can be synthesized by reacting with.
用いる官能基含有不飽和化合物としては、アリルグリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエチレン性不飽和基含有エポキシ化合物;マレイン酸、マレイン酸モノメチル、アクリル酸、メタクリル酸、4−ペンテン酸等のエチレン性不飽和基含有カルボン酸;無水マレイン酸、無水イタコン酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.1]−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸無水物等のエチレン性不飽和ジカルボン酸無水物;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシラン等のエチレン性不飽和シラン化合物;等を挙げることができる。
官能基含有不飽和化合物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
官能基含有不飽和化合物の使用量は、重合体(β1)100重量部に対して、通常0.1〜20重量部、好ましくは0.2〜10重量部、より好ましくは0.5〜5重量部である。
Functional group-containing unsaturated compounds used include ethylenically unsaturated group-containing epoxy compounds such as allyl glycidyl ether, glycidyl acrylate, and glycidyl methacrylate; ethylene such as maleic acid, monomethyl maleate, acrylic acid, methacrylic acid, and 4-pentenoic acid. -Containing unsaturated group-containing carboxylic acid; maleic anhydride, itaconic anhydride, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.1] -5-heptene-2,3-dicarboxylic anhydride Ethylenically unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as: vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryl Triet Ethylenically unsaturated silane compounds such Shishiran; and the like.
A functional group containing unsaturated compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The usage-amount of a functional group containing unsaturated compound is 0.1-20 weight part normally with respect to 100 weight part of polymers ((beta) 1), Preferably it is 0.2-10 weight part, More preferably, it is 0.5-5. Parts by weight.
用いる過酸化物としては、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン、n−ブチル−4,4−ジ(t−ブチルパーオキシ)バレレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキシド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ラウロイルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、p−メンタンハイドロパーオキサイド等の有機過酸化物が挙げられる。
過酸化物は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
過酸化物の使用量は、特に限定されないが、重合体(β1)100重量部に対して、通常0.01〜2重量部、好ましくは0.05〜1重量部、より好ましくは0.1〜0.5重量部である。
As the peroxide to be used, 1,1-di (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1 -Di (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 2,2-di (t-butylperoxy) butane, n-butyl-4,4 -Di (t-butylperoxy) valerate, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di ( t-butylperoxy) hexane, di-t-butylperoxide, t-butylperoxyisobutyrate, lauroyl peroxide, dipropionyl peroxide Organic peroxides such as p- menthane hydroperoxide and the like.
Peroxides can be used singly or in combination of two or more.
The amount of the peroxide used is not particularly limited, but is usually 0.01 to 2 parts by weight, preferably 0.05 to 1 part by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight of the polymer (β1). -0.5 parts by weight.
官能基含有不飽和化合物を、過酸化物の存在下で、重合体(β1)に反応させる際は、加熱混練機や反応器を利用することができる。例えば、重合体(β1)、官能基含有不飽和化合物、過酸化物を含む混合物を、二軸混練機にて、重合体(β1)の溶融温度以上で加熱溶融させて、所望の時間混練することにより反応を行うことができる。
このときの反応温度(重合体(β1)の温度)は、特に限定されないが、通常180〜240℃、好ましくは190〜230℃、より好ましくは200〜220℃である。
反応時間(加熱混練時間)は、通常0.2〜10分、好ましくは0.3〜5分、より好ましくは0.5〜2分程度である。二軸混練機、短軸押出し機などの連続混練設備を使用する場合は、滞留時間が上記範囲になるようにして、連続的に混練、押し出しをすればよい。
When the functional group-containing unsaturated compound is reacted with the polymer (β1) in the presence of a peroxide, a heating kneader or a reactor can be used. For example, a mixture containing the polymer (β1), the functional group-containing unsaturated compound, and the peroxide is heated and melted at a temperature equal to or higher than the melting temperature of the polymer (β1) in a biaxial kneader and kneaded for a desired time. The reaction can be carried out.
The reaction temperature (the temperature of the polymer (β1)) at this time is not particularly limited, but is usually 180 to 240 ° C, preferably 190 to 230 ° C, and more preferably 200 to 220 ° C.
The reaction time (heat kneading time) is usually about 0.2 to 10 minutes, preferably about 0.3 to 5 minutes, and more preferably about 0.5 to 2 minutes. When using continuous kneading equipment such as a twin-screw kneader or a short-screw extruder, kneading and extrusion may be performed continuously so that the residence time is within the above range.
接着剤層が、前記脂環構造含有樹脂を主成分とするものであるとき、接着剤層は、前記脂環構造含有樹脂の他に、添加剤等の他の成分を含有していてもよい。
他の成分としては、酸化防止剤、架橋剤、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、着色剤、帯電防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、滑剤等が挙げられる。
これらの含有量は、目的に合わせて適宜決定することができるが、接着剤層に対して、通常、50重量%未満、好ましくは40重量%以下である。
When the adhesive layer is mainly composed of the alicyclic structure-containing resin, the adhesive layer may contain other components such as additives in addition to the alicyclic structure-containing resin. .
Other components include antioxidants, crosslinking agents, antioxidants, flame retardants, flame retardant aids, colorants, antistatic agents, plasticizers, ultraviolet absorbers, light stabilizers, near infrared absorbers, lubricants, etc. Is mentioned.
These contents can be appropriately determined according to the purpose, but are usually less than 50% by weight, preferably 40% by weight or less based on the adhesive layer.
本発明の積層体は、表面改質フィルムと、金属箔とが、接着剤層を介して接着されてなり、前記接着剤層が、前記表面改質フィルムの改質面に隣接している。このため、本発明の積層体は、接着剤層と表面改質フィルムとの密着性に優れたものとなる。 In the laminate of the present invention, a surface modified film and a metal foil are bonded via an adhesive layer, and the adhesive layer is adjacent to the modified surface of the surface modified film. For this reason, the laminated body of this invention becomes the thing excellent in the adhesiveness of an adhesive bond layer and a surface modification film.
本発明の積層体は、前記表面改質フィルムとして、片側のみに改質面を有する改質フィルムを用いて得られた、金属箔/接着剤層/表面改質フィルム、の層構造を有するものであってもよいし、両側に改質面を有する改質フィルムを用いて得られた、金属箔/接着剤層/表面改質フィルム/接着剤層/金属箔、の層構造を有するものであってもよい。 The laminate of the present invention has a layer structure of metal foil / adhesive layer / surface modified film obtained by using a modified film having a modified surface only on one side as the surface modified film. Or having a layer structure of metal foil / adhesive layer / surface modified film / adhesive layer / metal foil obtained by using a modified film having modified surfaces on both sides. There may be.
本発明の積層体は、耐熱性、低吸水性及び電気特性に優れる表面改質フィルムと金属箔とが強固に接着されてなるものである。従って、熱履歴を受けた後であっても、黄変や剥離強度の低下を起こしにくい積層体である。 The laminate of the present invention is obtained by firmly bonding a surface-modified film excellent in heat resistance, low water absorption and electrical characteristics and a metal foil. Therefore, even after receiving a heat history, it is a laminate that hardly causes yellowing or a decrease in peel strength.
本発明のフレキシブルプリント基板は、本発明の積層体を使用したものである。
このため、本発明のフレキシブルプリント基板は、耐熱性、低吸水性及び電気特性に優れ、かつ、熱履歴を受けた後であっても、黄変や剥離強度の低下を起こしにくいものである。
The flexible printed circuit board of the present invention uses the laminate of the present invention.
For this reason, the flexible printed circuit board of the present invention is excellent in heat resistance, low water absorption, and electrical characteristics, and is less likely to cause yellowing or a decrease in peel strength even after receiving a thermal history.
3.積層体の製造方法
本発明の積層体の製造方法は、下記工程(a−I)〜(a−II)を有する製造方法(A)、下記工程(b−I)〜(b−II)を有する製造方法(B)、又は下記工程(c−I)を有する製造方法(C)である。
3. The manufacturing method of a laminated body The manufacturing method of the laminated body of this invention is the manufacturing method (A) which has the following process (aI)-(a-II), and the following process (bI)-(b-II). The manufacturing method (B) which has, or the manufacturing method (C) which has the following process (cI).
〔製造方法(A)〕
製造方法(A)は、下記工程(a−I)〜(a−II)を有する。
工程(a−I):前記表面改質フィルムの改質面に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(a−II):工程(a−I)で形成された接着剤層上に金属箔を重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程
[Production method (A)]
The production method (A) includes the following steps (a-I) to (a-II).
Step (a-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the modified surface of the surface modified film and drying the resulting coating film (a -II): A step of bonding the surface-modified film and the metal foil through the adhesive layer after the metal foil is overlaid on the adhesive layer formed in the step (a-I).
工程(a−I)においては、前記表面改質フィルムの改質面に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する。
接着剤層形成用液は、前記接着剤層に関して示した接着剤の溶液又は分散液を用いることができる。
接着剤層形成用液の調製に用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、デカヒドロナフタレン等の脂環族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;シクロメタン等のハロゲン化炭化水素類;等が挙げられる。
接着剤層形成用液の塗工方法は特に限定されない。例えば、ロールコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、グラビアコート法、ディッピング法、カーテンコート法等が挙げられる。
In the step (a-I), an adhesive layer is formed by applying an adhesive layer forming solution to the modified surface of the surface modified film and drying the obtained coating film.
As the adhesive layer forming liquid, the adhesive solution or dispersion shown for the adhesive layer can be used.
Solvents used for the preparation of the adhesive layer forming liquid include aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and decahydronaphthalene; And ethers such as tetrahydrofuran and ethylene glycol dimethyl ether; halogenated hydrocarbons such as cyclomethane; and the like.
The method for applying the adhesive layer forming liquid is not particularly limited. Examples thereof include a roll coating method, a reverse coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, a gravure coating method, a dipping method, and a curtain coating method.
接着剤層形成用液の塗工量は、特に限定されず、目的の接着剤層の厚みに合わせて適宜決定することができる。
接着剤層の厚みは、乾燥後において、好ましくは1〜50μm、より好ましくは2〜20μmである。
The coating amount of the adhesive layer forming liquid is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the thickness of the target adhesive layer.
The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 20 μm after drying.
接着剤層形成用液を塗工して得られた塗膜を乾燥する際は、常法に従って行うことができる。
乾燥温度は、特に限定されないが、通常、50〜180℃、好ましくは80〜160℃である。
乾燥時間は、特に限定されないが、通常、10秒から数時間である。
When drying the coating film obtained by applying the adhesive layer forming liquid, it can be performed according to a conventional method.
Although a drying temperature is not specifically limited, Usually, it is 50-180 degreeC, Preferably it is 80-160 degreeC.
The drying time is not particularly limited, but is usually 10 seconds to several hours.
工程(a−II)においては、工程(a−I)で形成された接着剤層上に金属箔を重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる。
接着方法は特に限定されず、用いる接着剤に合わせて適宜決定することができる。
例えば、紫外線硬化型の接着剤であれば、紫外線を接着剤層に照射することにより、表面改質フィルムと金属箔とを接着させることができる。
また、加熱を要する接着剤であれば、所定の条件で熱プレスを行うことにより、表面改質フィルムと金属箔とを接着させることができる。
In the step (a-II), the metal foil is overlaid on the adhesive layer formed in the step (a-I), and then the surface-modified film and the metal foil are bonded via the adhesive layer.
The bonding method is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the adhesive to be used.
For example, in the case of an ultraviolet curable adhesive, the surface-modified film and the metal foil can be bonded by irradiating the adhesive layer with ultraviolet rays.
Moreover, if it is an adhesive agent which requires a heating, a surface modification film and metal foil can be adhere | attached by performing hot press on predetermined conditions.
〔製造方法(B)〕
製造方法(B)は、下記工程(b−I)〜(b−II)を有する。
工程(b−I):金属箔上に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(b−II):工程(b−I)で形成された接着剤層上に、前記表面改質フィルムを、その改質面が前記接着剤層に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程
[Production method (B)]
The production method (B) has the following steps (b-I) to (b-II).
Step (b-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the metal foil and drying the obtained coating film (b-II): Step ( After the surface modified film is stacked on the adhesive layer formed in b-I) so that the modified surface faces the adhesive layer, the surface modified film and the metal foil are bonded. The process of bonding through the agent layer
工程(b−I)においては、金属箔上に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する。
工程(b−I)は、前記工程(a−I)において、表面改質フィルムの代わりに、金属箔を用いることを除き、工程(a−I)と同様の作業を行うものである。
In the step (b-I), an adhesive layer is formed by applying a liquid for forming an adhesive layer on a metal foil and drying the obtained coating film.
Step (b-I) is the same as step (a-I) except that in the step (a-I), a metal foil is used instead of the surface-modified film.
工程(b−II)においては、工程(b−I)で形成された接着剤層上に、前記表面改質フィルムを、その改質面が前記接着剤層に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる。
工程(b−II)は、前記工程(a−II)において、接着剤層付表面改質フィルムと金属箔とを重ねる代わりに、接着剤層付金属箔と表面改質フィルムを重ねることを除き、工程(a−II)と同様の作業を行うものである。
In the step (b-II), the surface-modified film is stacked on the adhesive layer formed in the step (b-I) so that the modified surface faces the adhesive layer. The surface modified film and the metal foil are bonded via an adhesive layer.
The step (b-II) is different from the step (a-II) except that the metal foil with an adhesive layer and the surface modified film are stacked instead of the surface modified film with the adhesive layer and the metal foil. The same operation as in step (a-II) is performed.
〔製造方法(C)〕
製造方法(C)は、下記工程(c−I)を有する。
工程(c−I):前記表面改質フィルム、シート状接着剤、及び金属箔を、この順で、かつ、前記表面改質フィルムの改質面が、前記シート状接着剤に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる工程
[Production method (C)]
The production method (C) includes the following step (c-I).
Step (c-I): The surface-modified film, the sheet-like adhesive, and the metal foil are arranged in this order, and the modified surface of the surface-modified film faces the sheet-like adhesive. The process of adhering the surface-modified film and the metal foil through the sheet adhesive after being stacked
工程(c−I)においては、前記表面改質フィルム、シート状接着剤、及び金属箔を、この順で、かつ、前記表面改質フィルムの改質面が、前記シート状接着剤に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる。 In the step (c-I), the surface modified film, the sheet adhesive, and the metal foil are arranged in this order, and the modified surface of the surface modified film faces the sheet adhesive. After superimposing, the surface-modified film and the metal foil are bonded via a sheet-like adhesive.
工程(c−1)で用いるシート状接着剤は、例えば、剥離シート上に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより得ることができる。また、接着性樹脂(例えば、前記脂環構造含有樹脂)を、Tダイを備えた押出機を用いて、溶融押し出し成形をすることによっても得ることができる。
シート状接着剤の厚さは、特に限定されないが、通常、5〜100μm、好ましくは10〜50μmである。
工程(c−I)において表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる際は、工程(a−II)と同様の方法を利用することができる。
The sheet-like adhesive used in the step (c-1) can be obtained, for example, by applying an adhesive layer forming liquid on a release sheet and drying the obtained coating film. Alternatively, an adhesive resin (for example, the alicyclic structure-containing resin) can be obtained by melt extrusion using an extruder equipped with a T die.
Although the thickness of a sheet-like adhesive is not specifically limited, Usually, 5-100 micrometers, Preferably it is 10-50 micrometers.
In the step (c-I), when the surface-modified film and the metal foil are bonded via a sheet-like adhesive, the same method as in the step (a-II) can be used.
製造方法(A)〜(C)において、前記接着剤層又はシート状接着剤が、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点よりも低いガラス転移温度を有し、かつ、エポキシ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びオキシシリル基からなる群から選択される官能基を有する脂環構造含有樹脂を主成分とするものである場合、表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる際は、表面改質フィルム/接着剤層又はシート状接着剤/金属箔の層構造を有する、接着処理前の積層体を、前記脂環構造含有樹脂のガラス転移温度以上、かつ、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点以下の温度に加熱することが好ましい。
上記条件で加熱することにより、より強固に各層が接着された積層体を、簡便かつ効率よく得ることができる。
この加熱を熱プレスにより行う場合、その条件は特に限定されないが、例えば、温度80〜250℃、圧着圧力1.0〜5.0MPa、圧着時間1〜180分の条件で行うことができる。
また、貼り合わせ時のボイドを低減できることから、真空ラミネータ等を用いて、減圧下で熱プレスを行うことが好ましい。
製造方法(A)〜(C)における、好ましい結晶性環状オレフィン樹脂や好ましい脂環構造含有樹脂としては、先に、表面改質フィルムや積層体の説明の中で示したものと同様のものが挙げられる。
In the production methods (A) to (C), the adhesive layer or the sheet-like adhesive has a glass transition temperature lower than the melting point of the crystalline cyclic olefin resin, and an epoxy group, a carboxyl group, or a carboxylic acid When the main component is an alicyclic structure-containing resin having a functional group selected from the group consisting of an anhydride group and an oxysilyl group, the surface-modified film and the metal foil are bonded via a sheet-like adhesive. When adhering, the laminated body before the adhesion treatment having a layer structure of a surface modified film / adhesive layer or a sheet-like adhesive / metal foil is equal to or higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing resin, and It is preferable to heat to a temperature below the melting point of the crystalline cyclic olefin resin.
By heating on the said conditions, the laminated body to which each layer was adhere | attached more firmly can be obtained simply and efficiently.
When this heating is performed by hot pressing, the conditions are not particularly limited. For example, the heating can be performed under conditions of a temperature of 80 to 250 ° C., a pressure of pressure bonding of 1.0 to 5.0 MPa, and a pressure bonding time of 1 to 180 minutes.
Moreover, since the void at the time of bonding can be reduced, it is preferable to perform a hot press under reduced pressure using a vacuum laminator etc.
In the production methods (A) to (C), preferred crystalline cyclic olefin resins and preferred alicyclic structure-containing resins are the same as those described above in the description of the surface-modified film or laminate. Can be mentioned.
本発明の方法によれば、フレキシブル基板材料として有用な積層体を効率よく製造することができる。 According to the method of the present invention, a laminate useful as a flexible substrate material can be efficiently produced.
以下、実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。また、下記の実施例及び比較例において、「部」及び「%」は特に断りのない限り、重量基準である。
各例における測定は、以下の方法により行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples. In the following examples and comparative examples, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.
The measurement in each example was performed by the following method.
〔ガラス転移温度及び融点〕
示差走査熱量計(DSC)を用いて、昇温速度が10℃/分の条件で示差走査熱量測定を行い、重合体のガラス転移温度及び融点を測定した。
[Glass transition temperature and melting point]
Using a differential scanning calorimeter (DSC), differential scanning calorimetry was carried out at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and the glass transition temperature and melting point of the polymer were measured.
〔重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)〕
テトラヒドロフランを溶媒として、40℃でゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)を行い、重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)をポリスチレン換算値として求めた。
測定装置:ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)システム「HLC−8220」(東ソー社製)
カラム:「Hタイプカラム」(東ソー社製)
[Weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn)]
Gel permeation chromatography (GPC) was performed at 40 ° C. using tetrahydrofuran as a solvent, and the weight average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) were determined as polystyrene equivalent values.
Measuring apparatus: Gel permeation chromatography (GPC) system “HLC-8220” (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: “H type column” (manufactured by Tosoh Corporation)
〔不飽和結合の水素化率〕
1H−NMR測定に基づいて、重合体中の不飽和結合の水素化率を求めた。
[Hydrogenation rate of unsaturated bond]
Based on the 1 H-NMR measurement, the hydrogenation rate of the unsaturated bond in the polymer was determined.
〔官能基の含有量〕
1H−NMR測定に基づいて、重合体中の官能基の含有割合(官能基の数:重合体の繰り返し単位の数)を求めた。
[Functional group content]
Based on 1 H-NMR measurement, the content ratio of functional groups in the polymer (number of functional groups: number of repeating units of the polymer) was determined.
〔製造例1〕〔ジシクロペンタジエン開環重合体水素化物の合成〕
内部を窒素置換した金属製耐圧反応容器に、シクロヘキサン154.5部、ジシクロペンタジエン(エンド体含有率99%以上)のシクロヘキサン溶液(濃度70%)42.8部(ジシクロペンタジエンとして30部)、1−ヘキセン1.9部を加え、全容を53℃に加熱した。
一方、テトラクロロタングステンフェニルイミド(テトラヒドロフラン)錯体0.014部を0.70部のトルエンに溶解して得られた溶液に、ジエチルアルミニウムエトキシドのn−ヘキサン溶液(濃度19%)0.061部を加えて10分間攪拌し、触媒溶液を調製した。この触媒溶液を前記反応器内に添加し、53℃で4時間、開環重合反応を行い、ジシクロペンタジエン開環重合体を含む溶液を得た。
[Production Example 1] [Synthesis of dicyclopentadiene ring-opening polymer hydride]
In a metal pressure-resistant reaction vessel purged with nitrogen inside, 154.5 parts of cyclohexane, 42.8 parts of cyclohexane solution (concentration 70%) of dicyclopentadiene (end content 99% or more) (30 parts as dicyclopentadiene) 1-hexene 1.9 parts was added and the whole was heated to 53 ° C.
On the other hand, in a solution obtained by dissolving 0.014 part of tetrachlorotungstenphenylimide (tetrahydrofuran) complex in 0.70 part of toluene, 0.061 part of n-hexane solution of diethylaluminum ethoxide (concentration 19%). And stirred for 10 minutes to prepare a catalyst solution. This catalyst solution was added to the reactor and a ring-opening polymerization reaction was performed at 53 ° C. for 4 hours to obtain a solution containing a dicyclopentadiene ring-opening polymer.
得られたジシクロペンタジエン開環重合体を含む溶液200部に、停止剤として、1,2−エタンジオール0.037部を加えて、60℃で1時間攪拌し、重合反応を停止させた。その後、ハイドロタルサイト様化合物(製品名「キョーワード(登録商標)2000」、協和化学工業社製)を1部加えて、60℃に加温し、1時間攪拌した。濾過助剤(製品名「ラヂオライト(登録商標)#1500」昭和化学工業社製)を0.4部加え、PPプリーツカートリッジフィルター(製品名「TCP−HX」、ADVANTEC東洋社製)を用いて、吸着剤を濾別し、ジシクロペンタジエン開環重合体を含む溶液を得た。
この溶液の一部を用いて、ジシクロペンタジエン開環重合体の分子量を測定したところ、重量平均分子量(Mw)は28,100、数平均分子量(Mn)は8,750、分子量分布(Mw/Mn)は3.21であった。
To 200 parts of the solution containing the obtained dicyclopentadiene ring-opened polymer, 0.037 part of 1,2-ethanediol was added as a terminator and stirred at 60 ° C. for 1 hour to stop the polymerization reaction. Thereafter, 1 part of a hydrotalcite-like compound (product name “KYOWARD (registered trademark) 2000”, manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) was added, heated to 60 ° C., and stirred for 1 hour. 0.4 parts of filter aid (product name “Radiolite (registered trademark) # 1500” manufactured by Showa Chemical Industry Co., Ltd.) is added, and PP pleated cartridge filter (product name “TCP-HX”, manufactured by ADVANTEC Toyo Co., Ltd.) is used. The adsorbent was filtered off to obtain a solution containing a dicyclopentadiene ring-opening polymer.
A part of this solution was used to measure the molecular weight of the dicyclopentadiene ring-opened polymer. The weight average molecular weight (Mw) was 28,100, the number average molecular weight (Mn) was 8,750, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3.21.
精製処理後の、ジシクロペンタジエン開環重合体を含む溶液200部(重合体含有量30部)に、シクロヘキサン100部、クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム0.0043部を添加し、水素圧6MPa、180℃で4時間水素添加反応を行なった。反応液は、固形分が析出したスラリー液であった。
反応液を遠心分離することにより、固形分と溶液とを分離し、固形分を、60℃で24時間減圧乾燥し、ジシクロペンタジエン開環重合体水素化物28.5部を得た。
ジシクロペンタジエン開環重合体水素化物の水素添加率は99%以上、ガラス転移温度は98℃、融点は262℃であった。
100 parts cyclohexane and 0.0043 parts chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium are added to 200 parts solution (polymer content 30 parts) containing dicyclopentadiene ring-opening polymer after purification treatment, and hydrogen Hydrogenation reaction was performed at 6 MPa and 180 ° C. for 4 hours. The reaction liquid was a slurry liquid in which a solid content was deposited.
The reaction solution was centrifuged to separate the solid and the solution, and the solid was dried under reduced pressure at 60 ° C. for 24 hours to obtain 28.5 parts of a dicyclopentadiene ring-opened polymer hydride.
The hydrogenation rate of the dicyclopentadiene ring-opening polymer hydride was 99% or more, the glass transition temperature was 98 ° C., and the melting point was 262 ° C.
〔製造例2〕〔結晶性環状オレフィン樹脂の延伸フィルム(樹脂フィルムA1)の製造〕
製造例1で得たジシクロペンタジエン開環重合体水素化物100部に、酸化防止剤(テトラキス〔メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、製品名「イルガノックス(登録商標)1010」、BASFジャパン社製)0.8部を混合した後、混合物を二軸押出し機(TEM−37B、東芝機械社製)に投入し、熱溶融押出し成形により、ストランド状の成形体を得た後、これをストランドカッターにて細断し、ペレットを得た。
二軸押出し機の運転条件を、以下に示す。
・バレル設定温度:270〜280℃
・ダイ設定温度:250℃
・スクリュー回転数:145rpm
・フィーダー回転数:50rpm
[Production Example 2] [Production of stretched film of crystalline cyclic olefin resin (resin film A1)]
To 100 parts of the dicyclopentadiene ring-opening polymer hydride obtained in Production Example 1, an antioxidant (tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] was added. After mixing 0.8 part of methane, product name “Irganox (registered trademark) 1010” (manufactured by BASF Japan), the mixture is put into a twin screw extruder (TEM-37B, manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) and melted by heat. After obtaining a strand-like molded body by extrusion molding, this was chopped with a strand cutter to obtain pellets.
The operating conditions of the twin screw extruder are shown below.
-Barrel set temperature: 270-280 ° C
・ Die setting temperature: 250 ℃
・ Screw speed: 145rpm
・ Feeder rotation speed: 50 rpm
得られたペレットを、Tダイを備える熱溶融押出しフィルム成形機(製品名「Measuring Extruder Type Me−20/2800V3」、Optical Control Systems社製)にて、厚み100μmのフィルム成形体を得た。
フィルム成形機の運転条件を、以下に示す。
・バレル温度設定:280〜290℃
・ダイ温度:270℃
・スクリュー回転数:30rpm
A 100 μm-thick film molded body was obtained from the obtained pellets with a hot melt extrusion film forming machine (product name “Measuring Extruder Type Me-20 / 2800V3”, manufactured by Optical Control Systems) equipped with a T-die.
The operating conditions of the film forming machine are shown below.
・ Barrel temperature setting: 280-290 ° C
-Die temperature: 270 ° C
-Screw rotation speed: 30rpm
得られたフィルム成形体の一部を切り出した後、小型延伸機(製品名「EX10―Bタイプ」、東洋精機製作所社製)に設置し、延伸処理を行うことにより延伸フィルムを得た。次いで、延伸フィルムを鉄板に固定し、200℃で20分間、オーブン内で加熱処理を実施し、厚さ50μmの結晶性環状オレフィン樹脂の延伸フィルムを得た。
小型延伸機の運転条件を、以下に示す。
・延伸速度:10000mm/min
・延伸温度:100℃
・延伸倍率:2倍
After cutting out a part of the obtained film molded body, it was placed in a small stretching machine (product name “EX10-B type”, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) and stretched to obtain a stretched film. Next, the stretched film was fixed to an iron plate, and heat treatment was performed in an oven at 200 ° C. for 20 minutes to obtain a stretched film of a crystalline cyclic olefin resin having a thickness of 50 μm.
The operating conditions of the small stretcher are shown below.
-Stretching speed: 10,000 mm / min
-Stretching temperature: 100 ° C
-Stretch ratio: 2 times
〔製造例3〕〔結晶性環状オレフィン樹脂フィルム(樹脂フィルムA2)の製造〕
製造例2と同様にして、Tダイを備える熱溶融押出しフィルム成形機を用いて、厚み50μmのフィルム成形体を得た。
次いで、得られたフィルム成形体を200℃で結晶化アニール処理して、厚さ50μmの結晶性環状オレフィン樹脂フィルムを得た。
[Production Example 3] [Production of crystalline cyclic olefin resin film (resin film A2)]
In the same manner as in Production Example 2, a 50 μm-thick film molded body was obtained using a hot melt extrusion film molding machine equipped with a T die.
Next, the obtained film molding was subjected to a crystallization annealing treatment at 200 ° C. to obtain a crystalline cyclic olefin resin film having a thickness of 50 μm.
〔製造例4〕(オキシシリル基含有重合体の合成)
内部を窒素置換した、撹拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン550部、脱水スチレン25部及びジ−n−ブチルエーテル0.475部を入れ、全容を撹拌しながら60℃でn−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液(濃度15%)0.68部を加えて重合反応を開始した。撹拌を継続しながら、60℃で60分間反応を行い、次いで脱水イソプレン50部を加えて、60℃で30分間反応を続け、さらに、脱水スチレン25部加えて、60℃で30分間反応を続けた。その後、イソプロピルアルコール0.5部を加えて反応を停止した。
得られたスチレン−イソプレン−スチレントリブロック共重合体の溶液を、撹拌装置を備えた耐圧反応器に移し、シリカ−アルミナ担持型ニッケル触媒(商品名「T−8400RL」、ズードケミー触媒社製)1.5部及び脱水シクロヘキサン50部を添加して混合した。反応器内を水素ガスで置換した後、全容を撹拌しながら水素ガスを供給し、温度170℃、圧力4.5MPaにて6時間水素化反応を行った。
反応液を多量のイソプロピルアルコール中に注ぐことにより、重合体を析出させた。重合体をろ取し、洗浄した後、60℃で24時間減圧乾燥した。
得られた重合体は、スチレン−イソプレン−スチレントリブロック共重合体の水素化物であり、重量平均分子量(Mw)は65,300、分子量分布(Mw/Mn)は1.06で、全不飽和結合の水素化率は99%以上であった。
[Production Example 4] (Synthesis of oxysilyl group-containing polymer)
550 parts of dehydrated cyclohexane, 25 parts of dehydrated styrene and 0.475 part of di-n-butyl ether were placed in a reactor equipped with a stirrer and purged with nitrogen. The whole volume of n-butyllithium was stirred at 60 ° C. with stirring. A polymerization reaction was started by adding 0.68 part of a cyclohexane solution (concentration 15%). While continuing the stirring, the reaction was conducted at 60 ° C. for 60 minutes, and then 50 parts of dehydrated isoprene was added and the reaction was continued for 30 minutes at 60 ° C. Further, 25 parts of dehydrated styrene was added and the reaction was continued for 30 minutes at 60 ° C. It was. Thereafter, 0.5 parts of isopropyl alcohol was added to stop the reaction.
The obtained styrene-isoprene-styrene triblock copolymer solution was transferred to a pressure-resistant reactor equipped with a stirrer, and a silica-alumina supported nickel catalyst (trade name “T-8400RL”, manufactured by Zude Chemie Catalysts) 1 .5 parts and 50 parts of dehydrated cyclohexane were added and mixed. After replacing the inside of the reactor with hydrogen gas, hydrogen gas was supplied while stirring the entire volume, and a hydrogenation reaction was performed at a temperature of 170 ° C. and a pressure of 4.5 MPa for 6 hours.
The polymer was precipitated by pouring the reaction solution into a large amount of isopropyl alcohol. The polymer was collected by filtration, washed, and dried under reduced pressure at 60 ° C. for 24 hours.
The obtained polymer is a hydride of styrene-isoprene-styrene triblock copolymer, the weight average molecular weight (Mw) is 65,300, the molecular weight distribution (Mw / Mn) is 1.06, and all unsaturated. The hydrogenation rate of the bond was 99% or more.
次いで、得られた共重合体水素化物100部に、ビニルトリメトキシシラン2.0部及びジ−t−ブチルパーオキサイド0.2部を添加し、混合した。この混合物を、二軸押出機(商品名「TEM37B」、東芝機械社製)を用いて、樹脂温度210℃、滞留時間80〜90秒で混練して、オキシシリル基含有重合体を得た。このオキシシリル基含有重合体について、官能基(トリメトキシシリル基)の含有割合及びガラス転移温度を測定したところ、官能基の含有割合(官能基の数:脂環構造含有樹脂の繰り返し単位の数)は、1.4:100で、ガラス転移温度は122℃であった。 Next, 2.0 parts of vinyltrimethoxysilane and 0.2 part of di-t-butyl peroxide were added to and mixed with 100 parts of the resulting copolymer hydride. This mixture was kneaded using a twin screw extruder (trade name “TEM37B” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.) at a resin temperature of 210 ° C. and a residence time of 80 to 90 seconds to obtain an oxysilyl group-containing polymer. About this oxysilyl group-containing polymer, the content ratio of functional groups (trimethoxysilyl group) and the glass transition temperature were measured, and the content ratio of functional groups (number of functional groups: number of repeating units of alicyclic structure-containing resin) Was 1.4: 100 and the glass transition temperature was 122 ° C.
〔製造例5〕(接着剤層付き銅箔の製造)
製造例4で得たオキシシリル基含重合体の30%トルエン溶液を、ギャップ25μmのドクターブレードを用いて、厚さ18μmの電解銅箔(「F2−WS」、古河電工社製 Rz=2.1μm)のマット面に塗工した。これを150℃のオーブン中で5分間加熱することによりトルエンを乾燥させて、厚みが5μmの接着剤層(オキシシリル基含有重合体層)を形成し、接着剤層付銅箔を得た。
[Production Example 5] (Production of copper foil with adhesive layer)
Using a 30% toluene solution of the oxysilyl group-containing polymer obtained in Production Example 4 with a doctor blade with a gap of 25 μm, an electrolytic copper foil with a thickness of 18 μm (“F2-WS”, manufactured by Furukawa Electric Rz = 2.1 μm) ). This was heated in an oven at 150 ° C. for 5 minutes to dry toluene, thereby forming an adhesive layer (oxysilyl group-containing polymer layer) having a thickness of 5 μm, and a copper foil with an adhesive layer was obtained.
〔実施例1〕
製造例2で得た樹脂フィルムA1の両面に、RF放電型エキシマランプ(L11751、浜松ホトニクス社製)を用いて、ランプと樹脂フィルムA1の間隔が2mmとなる位置から、空気下、エキシマ光(波長:172nm)を30秒間照射し、表面改質フィルム1を得た。
[Example 1]
Using an RF discharge excimer lamp (L11751, manufactured by Hamamatsu Photonics) on both sides of the resin film A1 obtained in Production Example 2, from the position where the distance between the lamp and the resin film A1 is 2 mm, excimer light ( The surface modified film 1 was obtained by irradiating with a wavelength of 172 nm for 30 seconds.
〔実施例2〕
樹脂フィルムA1の代わりに、製造例3で得た樹脂フィルムA2を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面改質フィルム2を得た。
[Example 2]
A surface modified film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin film A2 obtained in Production Example 3 was used instead of the resin film A1.
〔実施例3〕
実施例1で得た表面改質フィルム1上に、製造例4で得たオキシシリル基含有重合体の30%トルエン溶液を、ギャップ20μmのアプリケータを用いて塗工した後、これを150℃のオーブン中で5分間加熱することにより、表面改質フィルム1の片面に厚さ5μmの接着剤層(オキシシリル基含有重合体の層)を形成した。
次に、表面改質フィルム1の接着剤層が形成されていない面に、同様にして接着剤層を形成し、表面改質フィルム1の両面に厚さ5μmの接着剤層が形成された積層フィルムを得た。
次いで、この積層フィルムの両面に、それぞれ、厚さ18μmの電解銅箔を、そのマット面が積層フィルムの接着剤層に対向するように重ねた。次いで、この接着処理前の積層体を厚さ1mmの1対のSUS板で挟みこんだ後、手動油圧真空加熱プレス(11FA、井本製作所社製)を用いて、温度180℃、圧力1MPaで10分間プレスし、表面改質フィルム1の両面に、それぞれ、接着剤層を介して銅箔が接着されてなる積層体を得た。
Example 3
On the surface modified film 1 obtained in Example 1, a 30% toluene solution of the oxysilyl group-containing polymer obtained in Production Example 4 was applied using an applicator having a gap of 20 μm, and then this was applied at 150 ° C. By heating in an oven for 5 minutes, an adhesive layer (oxysilyl group-containing polymer layer) having a thickness of 5 μm was formed on one surface of the surface-modified film 1.
Next, an adhesive layer is formed in the same manner on the surface of the surface modified film 1 where the adhesive layer is not formed, and a laminate in which an adhesive layer having a thickness of 5 μm is formed on both surfaces of the surface modified film 1 A film was obtained.
Next, an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was laminated on both surfaces of the laminated film so that the mat surface thereof was opposed to the adhesive layer of the laminated film. Next, after sandwiching the laminated body before the bonding treatment with a pair of SUS plates having a thickness of 1 mm, a manual hydraulic vacuum heating press (11FA, manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) was used. The laminate was formed by pressing for 2 minutes, and copper foil was bonded to both surfaces of the surface-modified film 1 via an adhesive layer.
〔実施例4〕
実施例1で得た表面改質フィルム1の両面に、それぞれ、製造例5で得た接着剤層付銅箔を、接着剤層が表面改質フィルム1に対向するように重ねた。次いで、この接着処理前の積層体を厚さ1mmの1対のSUS板で挟みこんだ後、手動油圧真空加熱プレスを用いて、温度180℃、圧力1MPaで10分間プレスし、表面改質フィルム1の両面に、それぞれ、接着剤層を介して銅箔が接着されてなる積層体を得た。
Example 4
On both surfaces of the surface modified film 1 obtained in Example 1, the copper foil with an adhesive layer obtained in Production Example 5 was overlapped so that the adhesive layer opposed to the surface modified film 1. Next, after sandwiching the laminate before the bonding treatment with a pair of 1 mm thick SUS plates, it was pressed using a manual hydraulic vacuum heating press at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 1 MPa for 10 minutes to obtain a surface modified film. A laminate in which a copper foil was bonded to both sides of 1 via an adhesive layer was obtained.
〔実施例5〕
実施例3において、表面改質フィルム1に代えて、実施例2で得た表面改質フィルム2を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、積層体を得た。
Example 5
In Example 3, a laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the surface modified film 2 obtained in Example 2 was used instead of the surface modified film 1.
〔実施例6〕
実施例4において、表面改質フィルム1に代えて、実施例2で得た表面改質フィルム2を用いたこと以外は、実施例4と同様にして、積層体を得た。
Example 6
In Example 4, a laminate was obtained in the same manner as in Example 4 except that the surface modified film 2 obtained in Example 2 was used instead of the surface modified film 1.
〔実施例7〕
実施例1で得た表面改質フィルム1上に、エポキシ樹脂接着剤(EPOX AH−333、プリンテック社製)を、ギャップ15μmのアプリケータを用いて塗工した後、これを150℃のオーブン中で5分間加熱することにより、表面改質フィルム1の片面に厚さ5μmの接着剤層を形成した。
次に、表面改質フィルム1の接着剤層が形成されていない面に、同様にして接着剤層を形成し、表面改質フィルム1の両面に厚さ5μmの接着剤層が形成された積層フィルムを得た。
次いで、この積層フィルムの両面に、それぞれ、厚さ18μmの電解銅箔を、そのマット面が積層フィルムの接着剤層に対向するように重ねた。次いで、この接着処理前の積層体を厚さ1mmの1対のSUS板で挟みこんだ後、手動油圧真空加熱プレス(11FA、井本製作所社製)を用いて、温度180℃、圧力1MPaで10分間プレスし、表面改質フィルム1の両面に、それぞれ、接着剤層を介して銅箔が接着されてなる積層体を得た。
Example 7
An epoxy resin adhesive (EPOX AH-333, manufactured by Printec Co., Ltd.) was applied onto the surface modified film 1 obtained in Example 1 using an applicator with a gap of 15 μm, and then applied to an oven at 150 ° C. By heating for 5 minutes, an adhesive layer having a thickness of 5 μm was formed on one surface of the surface-modified film 1.
Next, an adhesive layer is formed in the same manner on the surface of the surface modified film 1 where the adhesive layer is not formed, and a laminate in which an adhesive layer having a thickness of 5 μm is formed on both surfaces of the surface modified film 1 A film was obtained.
Next, an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm was laminated on both surfaces of the laminated film so that the mat surface thereof was opposed to the adhesive layer of the laminated film. Next, after sandwiching the laminated body before the bonding treatment with a pair of SUS plates having a thickness of 1 mm, a manual hydraulic vacuum heating press (11FA, manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) was used. The laminate was formed by pressing for 2 minutes, and copper foil was bonded to both surfaces of the surface-modified film 1 via an adhesive layer.
〔実施例8〕
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、実施例2で得た表面改質フィルム2を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、積層体を得た。
Example 8
In Example 7, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that the surface modified film 2 obtained in Example 2 was used instead of the surface modified film 1.
〔比較例1〕
実施例1において、樹脂フィルムA1に代えて、非晶性環状オレフィン樹脂フィルム(ZF14、日本ゼオン社製、厚さ50μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面改質フィルム3を得た。
次いで、実施例3において、表面改質フィルム1に代えて、表面改質フィルム3を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、積層体を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, a surface-modified film was obtained in the same manner as in Example 1, except that an amorphous cyclic olefin resin film (ZF14, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 50 μm) was used instead of the resin film A1. 3 was obtained.
Next, in Example 3, a laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the surface modified film 3 was used instead of the surface modified film 1.
〔参考例1〕
製造例3で得た樹脂フィルムA2の両面に、小型紫外線表面処理装置(KOL1−300、江東電気社製)を用いて、照射距離10mmで、空気下、低圧水銀灯から紫外線(中心波長:254nm)を30秒間照射し、表面改質フィルム4を得た。
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、表面改質フィルム4を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、積層体を得た。
[Reference Example 1]
Using a small ultraviolet surface treatment apparatus (KOL1-300, manufactured by Koto Electric Co., Ltd.) on both surfaces of the resin film A2 obtained in Production Example 3, ultraviolet rays (center wavelength: 254 nm) from a low-pressure mercury lamp in the air at an irradiation distance of 10 mm Was irradiated for 30 seconds to obtain a surface-modified film 4.
In Example 7, it replaced with the surface modification film 1, and except having used the surface modification film 4, it carried out similarly to Example 7, and obtained the laminated body.
〔参考例2〕
製造例3で得た樹脂フィルムA2の両面に、小型紫外線表面処理装置を用いて、照射距離10mmで、空気下、低圧水銀灯から紫外線(中心波長:254nm)を120秒間照射し、表面改質フィルム5を得た。
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、表面改質フィルム5を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、積層体を得た。
[Reference Example 2]
Using a small ultraviolet surface treatment device, both surfaces of the resin film A2 obtained in Production Example 3 were irradiated with ultraviolet light (center wavelength: 254 nm) from a low-pressure mercury lamp for 120 seconds in an air at an irradiation distance of 10 mm, and the surface modified film 5 was obtained.
In Example 7, it replaced with the surface modification film 1, and except having used the surface modification film 5, it carried out similarly to Example 7, and obtained the laminated body.
〔参考例3〕
製造例3で得た樹脂フィルムA2の両面に、スイッチバック自動走行式コロナ表面処理装置(ウェッジ社製)を用いて、搬送速度1m/分で、空気下コロナ放電処理を1回行い、表面改質フィルム6を得た。
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、表面改質フィルム6を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、積層体を得た。
[Reference Example 3]
On both surfaces of the resin film A2 obtained in Production Example 3, a corona surface treatment apparatus (manufactured by Wedge Corporation) using a switchback automatic traveling type corona discharge treatment is performed once at a conveying speed of 1 m / min, and the surface modification is performed. A quality film 6 was obtained.
In Example 7, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that the surface modified film 6 was used instead of the surface modified film 1.
〔参考例4〕
製造例3で得た樹脂フィルムA2の両面に、大気圧プラズマ処理装置(イースクエア社製)を用いて、搬送速度3m/分、窒素流量400l/分で、プラズマ処理を1回行い、表面改質フィルム7を得た。
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、表面改質フィルム7を用いたこと以外は、実施例7と同様にして、積層体を得た。
[Reference Example 4]
On both surfaces of the resin film A2 obtained in Production Example 3, plasma treatment is performed once at a conveying speed of 3 m / min and a nitrogen flow rate of 400 l / min using an atmospheric pressure plasma processing apparatus (manufactured by eSquare). A quality film 7 was obtained.
In Example 7, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that the surface modified film 7 was used instead of the surface modified film 1.
〔参考例5〕
実施例7において、表面改質フィルム1に代えて、製造例3で得た樹脂フィルムA2を、改質処理を施さずにそのまま用いて積層体の製造を試みたが、エポキシ接着剤を塗工したところ、樹脂フィルムA2が接着剤をはじいてしまい、接着剤層を形成することができなかった。
[Reference Example 5]
In Example 7, instead of the surface-modified film 1, an attempt was made to produce a laminate using the resin film A2 obtained in Production Example 3 as it was without undergoing a modification treatment, but an epoxy adhesive was applied. As a result, the resin film A2 repels the adhesive, and the adhesive layer could not be formed.
各例で得られた積層体の、初期ピール強度、耐熱試験後のピール強度を以下の方法により測定した。また、得られた積層体を用いてスルーホールデイジーチェーンが形成された評価基板を作製し、冷熱衝撃試験を行った。これらの結果を第1表に示す。 The initial peel strength and the peel strength after the heat resistance test of the laminate obtained in each example were measured by the following methods. Moreover, the evaluation board | substrate with which the through-hole daisy chain was formed was produced using the obtained laminated body, and the thermal shock test was done. These results are shown in Table 1.
〔初期ピール強度〕
JIS K6471規格に準じて、下記のようにピール強度を測定した。
実施例、比較例、参考例で得られた積層体を、25mm×100mmの大きさに切り出して、これを試験片とした。カッターで試験片の中央部の銅箔に10mm×100mmの短冊状の切れ込みを入れた。切れ込みを入れた銅箔の端部を引き剥がした後、試験片を厚さ3mmのFR−4基板に両面粘着テープで貼りつけた。これを、引張試験機(オートグラフAGS−5kNG、島津製作所社製)に、専用の90°剥離試験用治具で固定した後、50mm/分の速度で銅箔のピール強度を測定した。
[Initial peel strength]
In accordance with JIS K6471 standard, peel strength was measured as follows.
The laminates obtained in Examples, Comparative Examples, and Reference Examples were cut into a size of 25 mm × 100 mm and used as test pieces. A 10 mm × 100 mm strip-shaped cut was made in the copper foil at the center of the test piece with a cutter. After peeling off the end of the cut copper foil, the test piece was attached to a 3 mm thick FR-4 substrate with a double-sided adhesive tape. This was fixed to a tensile tester (Autograph AGS-5kNG, manufactured by Shimadzu Corporation) with a dedicated 90 ° peel test jig, and then the peel strength of the copper foil was measured at a speed of 50 mm / min.
〔耐熱試験後のピール強度〕
実施例、比較例、参考例で得られた積層体を、25mm×100mmの大きさに切り出した後、150℃のオーブンで168時間加熱し、これを試験片とした。
次いで、上記と同様の方法により、ピール強度を測定した。
[Peel strength after heat test]
The laminates obtained in the examples, comparative examples, and reference examples were cut into a size of 25 mm × 100 mm, and then heated in an oven at 150 ° C. for 168 hours to obtain a test piece.
Next, peel strength was measured by the same method as described above.
〔冷熱衝撃試験〕
実施例、比較例、参考例で得られた積層体を、40mm×80mmの大きさに切り出した後、キリ径φ0.30mmのスルーホールを10個×4列設けた。次いで、これに、デスミア処理、還元処理を行った後、無電解銅めっき、電気銅めっきを行い、スルーホールの側壁に厚さ約15μmの導体層を形成し、スルーホールめっき済み基板を得た。
得られた基板の両面に、ドライフィルムレジスト(日立化成工業社製 RY3215)をロールラミネターにて熱ラミネートし、所定の導体回路パターン印刷されたフィルムマスクを基板の両面に配置した後、両面プリンターで露光を行った。さらに、露光後のレジストを1%炭酸ナトリウム水溶液で現像して、所定の部位を開口させた後、塩化第二鉄でエッチングを行い、5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬してレジストを剥離し、10のスルーホールからなるデイジーチェーン回路を4つ作製した。
4つのデイジーチェーン回路に、接続信頼性評価システム(MLR21、楠本化成社製)のケーブルを接続した後、試験片を、気槽式熱衝撃試験機(WINTECH NT1200W、楠本化成社製)中に投入し、低温槽−45℃、高温槽125℃、さらし時間15分の条件にて、冷熱衝撃試験を1000サイクルまで行った。評価は以下の基準に従って行った。
(Cool thermal shock test)
The laminates obtained in the examples, comparative examples, and reference examples were cut out to a size of 40 mm × 80 mm, and then 10 × 4 rows of through holes having a drill diameter of 0.30 mm were provided. Next, after performing desmear treatment and reduction treatment on this, electroless copper plating and electrolytic copper plating were performed to form a conductor layer having a thickness of about 15 μm on the side wall of the through hole, and a through hole plated substrate was obtained. .
A dry film resist (RY3215 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is thermally laminated on both sides of the obtained substrate with a roll laminator, and a film mask printed with a predetermined conductor circuit pattern is disposed on both sides of the substrate, and then a double-sided printer. The exposure was performed. Furthermore, after developing the exposed resist with a 1% aqueous sodium carbonate solution, opening a predetermined portion, etching with ferric chloride, and immersing in a 5% aqueous sodium hydroxide solution to remove the resist, Four daisy chain circuits consisting of 10 through holes were produced.
After connecting the cables of the connection reliability evaluation system (MLR21, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.) to the four daisy chain circuits, the test pieces are put into the air tank type thermal shock tester (WINTECH NT1200W, Enomoto Kasei Co., Ltd.). Then, the thermal shock test was conducted up to 1000 cycles under the conditions of a low temperature bath of -45 ° C, a high temperature bath of 125 ° C, and an exposure time of 15 minutes. Evaluation was performed according to the following criteria.
◎:1000サイクル迄、断線が1つも無い。
○:500サイクル迄、断線が1つも無く、501〜1000サイクルの間で断線が発生した。
△:500サイクル迄に、断線が発生した。
×:500サイクル迄に、4つのデイジーチェーン回路が全て断線した。
A: There is no disconnection up to 1000 cycles.
○: There was no disconnection up to 500 cycles, and disconnection occurred between 501 and 1000 cycles.
Δ: Disconnection occurred up to 500 cycles.
X: All four daisy chain circuits were disconnected by 500 cycles.
第1表から判るように、本発明の積層体は、初期ピール強度が高く、高温条件下に長時間さらされてもピール強度の低下が少ない。また、スルーホールデイジーチェーンを形成したテスト基板で、低温槽−45℃、高温槽125℃の冷熱衝撃試験を行ったが、断線が少ないものであった。
したがって、本発明によれば、従来のシクロオレフィンポリマーを原料としたフレキシブルプリント基板材料に比して、接続信頼性により優れたフレキシブルプリント配線板を提供することが可能であることがわかる。
As can be seen from Table 1, the laminate of the present invention has a high initial peel strength, and even when exposed to high temperature conditions for a long time, there is little decrease in peel strength. In addition, a thermal shock test in a low temperature bath of −45 ° C. and a high temperature bath of 125 ° C. was performed on a test substrate on which a through-hole daisy chain was formed, but there was little disconnection.
Therefore, it can be seen that according to the present invention, it is possible to provide a flexible printed wiring board that is superior in connection reliability compared to a conventional flexible printed circuit board material made from a cycloolefin polymer.
Claims (13)
前記樹脂フィルムが、請求項1に記載の方法により得られた、片側又は両側に改質面を有する表面改質フィルムであり、
前記接着剤層が、前記表面改質フィルムの改質面に隣接していることを特徴とする、積層体。 A resin film and a metal foil are laminated bodies formed by bonding via an adhesive layer,
The resin film is a surface modified film obtained by the method according to claim 1 and having a modified surface on one side or both sides,
The laminate is characterized in that the adhesive layer is adjacent to the modified surface of the surface-modified film.
前記積層体が、金属箔/接着剤層/表面改質フィルム/接着剤層/金属箔、の層構造を有するものである、請求項3〜6のいずれかに記載の積層体。 The surface modified film is a film having modified surfaces on both sides,
The laminate according to any one of claims 3 to 6, wherein the laminate has a layer structure of metal foil / adhesive layer / surface modified film / adhesive layer / metal foil.
工程(a−I):前記表面改質フィルムの改質面に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(a−II):工程(a−I)で形成された接着剤層上に金属箔を重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程 The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 3-7 which has the following process (aI)-(a-II).
Step (a-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the modified surface of the surface modified film and drying the resulting coating film (a -II): A step of bonding the surface-modified film and the metal foil through the adhesive layer after the metal foil is overlaid on the adhesive layer formed in the step (a-I).
工程(b−I):金属箔上に、接着剤層形成用液を塗工し、得られた塗膜を乾燥させることにより、接着剤層を形成する工程
工程(b−II):工程(b−I)で形成された接着剤層上に、前記表面改質フィルムを、その改質面が前記接着剤層に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層を介して接着させる工程 The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 3-7 which has the following process (bI)-(b-II).
Step (b-I): Step of forming an adhesive layer by applying an adhesive layer forming liquid on the metal foil and drying the obtained coating film (b-II): Step ( After the surface modified film is stacked on the adhesive layer formed in b-I) so that the modified surface faces the adhesive layer, the surface modified film and the metal foil are bonded. The process of bonding through the agent layer
工程(c−I):前記表面改質フィルム、シート状接着剤、及び金属箔を、この順で、かつ、前記表面改質フィルムの改質面が、前記シート状接着剤に対向するように重ねた後、表面改質フィルムと金属箔とを、シート状接着剤を介して接着させる工程 The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 3-7 which has the following process (c-I).
Step (c-I): The surface-modified film, the sheet-like adhesive, and the metal foil are arranged in this order, and the modified surface of the surface-modified film faces the sheet-like adhesive. The process of adhering the surface-modified film and the metal foil through the sheet adhesive after being stacked
表面改質フィルムと金属箔とを、接着剤層又はシート状接着剤を介して接着させる操作が、
表面改質フィルム/接着剤層又はシート状接着剤/金属箔の層構造を有する、接着処理前の積層体を、前記脂環構造含有樹脂のガラス転移温度以上、かつ、前記結晶性環状オレフィン樹脂の融点以下の温度に加熱するものである、請求項9〜11のいずれかに記載の積層体の製造方法。 The adhesive layer or the sheet-like adhesive has a glass transition temperature lower than the melting point of the crystalline cyclic olefin resin, and from the group consisting of an epoxy group, a carboxyl group, a carboxylic anhydride group, and an oxysilyl group The main component is an alicyclic structure-containing resin having a selected functional group,
The operation of bonding the surface-modified film and the metal foil through the adhesive layer or the sheet-like adhesive is
The laminated body before the adhesion treatment having a layer structure of surface modified film / adhesive layer or sheet-like adhesive / metal foil is equal to or higher than the glass transition temperature of the alicyclic structure-containing resin and the crystalline cyclic olefin resin. The manufacturing method of the laminated body in any one of Claims 9-11 which is what heats to the temperature below melting | fusing point.
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