JP6355544B2 - Position measuring apparatus, data correcting apparatus, position measuring method and data correcting method - Google Patents

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Description

本発明は、対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する技術に関する。   The present invention relates to a technique for measuring the position of a region of interest included in an image obtained by capturing an object.

従来より、半導体基板やプリント基板、あるいは、プラズマ表示装置や液晶表示装置用のガラス基板等(以下、「基板」という。)に形成された感光材料に光を照射することにより、パターンの描画が行われている。近年、パターンの高精細化に伴い、感光材料上にてビーム光を走査してパターンを直接描画する描画装置が利用されている。   Conventionally, a pattern can be drawn by irradiating a photosensitive material formed on a semiconductor substrate, a printed circuit board, a glass substrate for a plasma display device or a liquid crystal display device (hereinafter referred to as “substrate”) with light. Has been done. 2. Description of the Related Art In recent years, drawing devices that directly draw a pattern by scanning a beam of light on a photosensitive material have been used with higher definition of the pattern.

また、パターンが描画された基板に対する様々な処理により、基板が歪む(変形する)ことがある。このような基板に対して上層のパターンを描画する際には、基板の変形に合わせて設計データを補正することも行われる。例えば、特許文献1では、ラスター形式の描画データが表現する描画領域を複数のメッシュ領域に仮想的に分割し、基板の撮像画像から特定される基板上のアライメントマークの位置に基づいて複数のメッシュ領域を基板の形状に応じて再配置する際の配置位置が特定される。そして、複数のメッシュ領域を当該配置位置に再配置させた状態で、複数のメッシュ領域と関連づけられている描画内容を合成することにより、描画データが生成される。   Further, the substrate may be distorted (deformed) by various processes on the substrate on which the pattern is drawn. When drawing an upper layer pattern on such a substrate, the design data is also corrected in accordance with the deformation of the substrate. For example, in Patent Document 1, a drawing area represented by raster-style drawing data is virtually divided into a plurality of mesh areas, and a plurality of meshes are determined based on the positions of alignment marks on the substrate specified from the captured image of the substrate. The arrangement position when the area is rearranged according to the shape of the substrate is specified. Then, drawing data is generated by synthesizing drawing contents associated with the plurality of mesh areas in a state where the plurality of mesh areas are rearranged at the arrangement positions.

なお、特許文献2では、光源像の形状情報を計測する手法が開示されている。当該手法では、光源像を撮像した画像中の各画素を中心とするテクスチャ解析窓内の画素データの分散を求めることにより、光源像の推定輪郭点の位置情報が抽出され、当該位置情報に基づいて、当該光源像の輪郭の近似楕円が算出される。   Patent Document 2 discloses a method of measuring shape information of a light source image. In this method, the position information of the estimated contour point of the light source image is extracted by obtaining the variance of the pixel data in the texture analysis window around each pixel in the image obtained by capturing the light source image, and based on the position information. Thus, an approximate ellipse of the contour of the light source image is calculated.

特許第5209544号公報Japanese Patent No. 5209544 特開2003−194529号公報JP 2003-194529 A

ところで、特許文献1のように、基板の変形に合わせて設計データを補正する場合、基板の変形量を計測するために、撮像画像における基板上のアライメントマークの位置をパターンマッチングにより取得することが考えられる。しかしながら、パターンマッチングでは、撮像画像の明るさや当該マーク以外のパターンの影響により、計測精度が低下したり、計測が不能となることがある。また、特許文献2の手法を利用して撮像画像において基板上のマークの位置を取得することも考えられるが、特許文献2の手法では、輪郭点の位置情報のみが利用されるため、当該マークの位置を精度よく取得することができないことがある。   By the way, when the design data is corrected in accordance with the deformation of the substrate as in Patent Document 1, in order to measure the deformation amount of the substrate, the position of the alignment mark on the substrate in the captured image can be acquired by pattern matching. Conceivable. However, in pattern matching, measurement accuracy may be reduced or measurement may be disabled due to the brightness of the captured image and the influence of patterns other than the mark. Although it is conceivable to acquire the position of the mark on the substrate in the captured image using the method of Patent Document 2, the method of Patent Document 2 uses only the position information of the contour point. In some cases, it is impossible to obtain the position of.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、撮像画像中の注目領域の位置を高精度に測定することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to measure the position of a region of interest in a captured image with high accuracy.

請求項1に記載の発明は、対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する位置測定装置であって、対象物を撮像して取得されるとともに、略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域を含む画像を記憶する画像記憶部と、前記画像において前記注目領域の断面プロファイルがトップハット形状であり、前記注目領域の画素値分布を偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定することにより取得する演算部と、前記複数の係数が取得された前記モデル関数に基づいて前記注目領域の位置を取得する位置取得部とを備える。   The invention according to claim 1 is a position measurement device that measures the position of a region of interest included in an image obtained by imaging an object, and is obtained by imaging the object, and is substantially rectangular, circular, or An image storage unit that stores an image including an elliptical region of interest, and a cross-sectional profile of the region of interest in the image is a top hat shape, and the pixel value distribution of the region of interest is modeled with a model function that can be partially differentiated A calculation unit that acquires a plurality of coefficients included in the model function by determining with an optimization method, and a position acquisition that acquires a position of the attention area based on the model function from which the plurality of coefficients are acquired A part.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の位置測定装置であって、前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法である。   A second aspect of the present invention is the position measurement apparatus according to the first aspect, wherein the optimization method is a Gauss-Newton method or a Levenberg-Marquardt method.

請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の位置測定装置であって、前記演算部において、前記注目領域の画素値分布が数1に示す円形状のモデル関数にて表現され、
前記複数の係数である数1中のa,b,c,d,e,fについて、係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定される。
The invention according to claim 3 is the position measuring apparatus according to claim 1 or 2, wherein the pixel value distribution of the region of interest is expressed by a circular model function shown in Formula 1 in the calculation unit. ,
For a, b, c, d, e, and f in Equation 1, which are the plurality of coefficients, an initial value of the coefficient f is determined based on the brightness of the background of the region of interest in the image. An initial value is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the attention area, and an initial value of the coefficient a is determined based on a difference between the brightness of the attention area and the brightness of the background. An initial value of b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the attention area, and an initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the attention area. An initial value of d is determined based on the y coordinate of the approximate center of the region of interest.

請求項4に記載の発明は、請求項1または2に記載の位置測定装置であって、前記演算部において、前記注目領域の画素値分布が数2に示す略正方形状のモデル関数(ただし、nは1よりも大きい実数)にて表現され、
前記複数の係数である数2中のa,b,c,d,e,fについて、係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定される。
The invention according to claim 4 is the position measuring device according to claim 1 or 2, wherein in the calculation unit, the pixel value distribution of the region of interest is a substantially square model function (note that n is a real number greater than 1),
For a, b, c, d, e, and f in Equation 2, which are the plurality of coefficients, an initial value of the coefficient f is determined based on the background brightness of the region of interest in the image, and the coefficient e An initial value is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the attention area, and an initial value of the coefficient a is determined based on a difference between the brightness of the attention area and the brightness of the background. An initial value of b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the attention area, and an initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the attention area. An initial value of d is determined based on the y coordinate of the approximate center of the region of interest.

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の位置測定装置であって、前記対象物がパターンが形成された基板であり、前記注目領域が、前記パターンの一部、または、前記基板に形成された孔部を示す。   The invention according to claim 5 is the position measuring device according to any one of claims 1 to 4, wherein the object is a substrate on which a pattern is formed, and the region of interest is a part of the pattern. Or a hole formed in the substrate.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の位置測定装置であって、前記注目領域が、前記画像中の前記パターンを示すパターン領域の一部であり、前記演算部が、前記注目領域が前記パターン領域の他の一部と接続する場合に前記パターン領域の前記他の一部をマスクする、または、前記注目領域に対応する前記基板上の領域が孔部を含む場合に前記孔部を示す領域の画素値を前記注目領域の他の領域の画素値に置き換える画像加工部と、前記画像加工部による加工済みの画像に基づいて、前記複数の係数を取得する係数取得部とを備える。   The invention according to claim 6 is the position measurement apparatus according to claim 5, wherein the region of interest is a part of a pattern region indicating the pattern in the image, and the arithmetic unit is configured to perform the attention. When the region is connected to another part of the pattern region, the other part of the pattern region is masked, or the region on the substrate corresponding to the region of interest includes a hole. An image processing unit that replaces a pixel value of a region indicating a region with a pixel value of another region of the region of interest, and a coefficient acquisition unit that acquires the plurality of coefficients based on an image processed by the image processing unit. Prepare.

請求項7に記載の発明は、基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正装置であって、基板を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する請求項1ないし6のいずれかに記載の位置測定装置と、前記注目領域の位置に基づいて、基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正部とを備える。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a data correction apparatus for correcting design data of a pattern drawn on a substrate, wherein the position of a region of interest included in an image obtained by imaging the substrate is measured. And a data correction unit that corrects design data of a pattern drawn on a substrate based on the position of the region of interest.

請求項8に記載の発明は、対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する位置測定方法であって、a)対象物を撮像して取得されるとともに、略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域を含む画像を準備する工程と、b)前記画像において前記注目領域の断面プロファイルがトップハット形状であり、前記注目領域の画素値分布を偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定することにより取得する工程と、c)前記複数の係数が取得された前記モデル関数に基づいて前記注目領域の位置を取得する工程とを備える。   The invention according to claim 8 is a position measuring method for measuring a position of a region of interest included in an image obtained by imaging an object, and is obtained by imaging an object, and is substantially rectangular and circular. A step of preparing an image including an attention area having a shape or an elliptical shape; and b) a model function capable of partial differentiation of a pixel value distribution of the attention area in which the cross-sectional profile of the attention area is a top hat shape in the image. Obtaining a plurality of coefficients included in the model function by determining with an optimization method; and c) obtaining the position of the region of interest based on the model function from which the plurality of coefficients are obtained. And a step of performing.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の位置測定方法であって、前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法である。   The invention according to claim 9 is the position measuring method according to claim 8, wherein the optimization method is a Gauss-Newton method or a Levenberg-Marquardt method.

請求項10に記載の発明は、請求項8または9に記載の位置測定方法であって、前記b)工程において、前記注目領域の画素値分布が数3に示す円形状のモデル関数にて表現され、
前記複数の係数である数3中のa,b,c,d,e,fについて、係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定される。
A tenth aspect of the present invention is the position measuring method according to the eighth or ninth aspect, wherein in the step b), the pixel value distribution of the region of interest is expressed by a circular model function expressed by Equation 3. And
For a, b, c, d, e, and f in Equation 3, which are the plurality of coefficients, an initial value of the coefficient f is determined based on the brightness of the background of the region of interest in the image. An initial value is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the attention area, and an initial value of the coefficient a is determined based on a difference between the brightness of the attention area and the brightness of the background. An initial value of b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the attention area, and an initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the attention area. An initial value of d is determined based on the y coordinate of the approximate center of the region of interest.

請求項11に記載の発明は、請求項8または9に記載の位置測定方法であって、前記b)工程において、前記注目領域の画素値分布が数4に示す略正方形状のモデル関数(ただし、nは1よりも大きい実数)にて表現され、
前記複数の係数である数4中のa,b,c,d,e,fについて、係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定される。
The invention according to an eleventh aspect is the position measuring method according to the eighth or ninth aspect, wherein in the step b), the pixel value distribution of the region of interest is a substantially square model function represented by Formula 4 (however, , N is a real number greater than 1),
For a, b, c, d, e, and f in Equation 4, which are the plurality of coefficients, an initial value of the coefficient f is determined based on the brightness of the background of the region of interest in the image. An initial value is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the attention area, and an initial value of the coefficient a is determined based on a difference between the brightness of the attention area and the brightness of the background. An initial value of b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the attention area, and an initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the attention area. An initial value of d is determined based on the y coordinate of the approximate center of the region of interest.

請求項12に記載の発明は、請求項8ないし11のいずれかに記載の位置測定方法であって、前記対象物がパターンが形成された基板であり、前記注目領域が、前記パターンの一部、または、前記基板に形成された孔部を示す。   The invention according to claim 12 is the position measuring method according to any one of claims 8 to 11, wherein the object is a substrate on which a pattern is formed, and the region of interest is a part of the pattern Or a hole formed in the substrate.

請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の位置測定方法であって、前記注目領域が、前記画像中の前記パターンを示すパターン領域の一部であり、前記b)工程が、b1)前記注目領域が前記パターン領域の他の一部と接続する場合に前記パターン領域の前記他の一部をマスクする、または、前記注目領域に対応する前記基板上の領域が孔部を含む場合に前記孔部を示す領域の画素値を前記注目領域の他の領域の画素値に置き換える工程と、b2)前記b1)工程による加工済みの画像に基づいて、前記複数の係数を取得する工程とを備える。   The invention according to claim 13 is the position measuring method according to claim 12, wherein the region of interest is a part of a pattern region indicating the pattern in the image, and the step b) includes b1. ) When the attention area is connected to another part of the pattern area, the other part of the pattern area is masked, or the area on the substrate corresponding to the attention area includes a hole. Replacing a pixel value of a region indicating the hole with a pixel value of another region of the region of interest; b2) acquiring the plurality of coefficients based on an image processed by the b1) step; Is provided.

請求項14に記載の発明は、基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正方法であって、基板を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する請求項8ないし13のいずれかに記載の位置測定方法と、前記注目領域の位置に基づいて、基板上に描画されるパターンの設計データを補正する工程とを備える。   The invention according to claim 14 is a data correction method for correcting design data of a pattern drawn on a substrate, and measures the position of a region of interest included in an image obtained by imaging the substrate. And a step of correcting design data of a pattern drawn on a substrate based on the position of the region of interest.

本発明によれば、画像中の注目領域の位置を高精度に測定することができる。   According to the present invention, the position of a region of interest in an image can be measured with high accuracy.

描画装置の側面図である。It is a side view of a drawing apparatus. 描画装置の平面図である。It is a top view of a drawing apparatus. データ補正装置の機能を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function of a data correction apparatus. パターンの描画に係る処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process which concerns on drawing of a pattern. 撮像画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of captured image. モデル関数における係数b,eの変化による画像の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the image by the change of the coefficients b and e in a model function. モデル関数における複数の係数を取得する処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process which acquires the some coefficient in a model function. 複数の係数が取得されたモデル関数が示す画素値分布を示す図である。It is a figure which shows pixel value distribution which the model function from which the some coefficient was acquired shows. 包含領域画像を示す図である。It is a figure which shows an inclusion area image. 二値画像を示す図である。It is a figure which shows a binary image. 収縮済み二値画像を示す図である。It is a figure which shows the shrinked binary image. 注目領域画像を示す図である。It is a figure which shows an attention area image. 加工済み包含領域画像を示す図である。It is a figure which shows the processed inclusion area image. モデル関数における係数b,eの変化による画像の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the image by the change of the coefficients b and e in a model function. 包含領域画像を示す図である。It is a figure which shows an inclusion area image. 加工済み包含領域画像を示す図である。It is a figure which shows the processed inclusion area image. 複数の係数が取得されたモデル関数が示す画素値分布を示す図である。It is a figure which shows pixel value distribution which the model function from which the some coefficient was acquired shows.

図1は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置1の側面図である。図2は、描画装置1の平面図である。描画装置1は、対象物上に光を照射してパターンの直接的な描画を行う装置である。当該対象物は、例えば、感光材料の層が設けられたプリント基板(プリント配線板であり、以下、単に「基板」という。)である。   FIG. 1 is a side view of a drawing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the drawing apparatus 1. The drawing device 1 is a device that performs direct drawing of a pattern by irradiating light onto an object. The object is, for example, a printed circuit board (a printed wiring board, hereinafter simply referred to as “substrate”) provided with a layer of a photosensitive material.

図1および図2に示すように、描画装置1は、保持部移動機構2と、基板保持部3と、描画ヘッド4とを備える。基板保持部3は、(+Z)側の主面91(以下、「上面91」という。)上に感光材料の層が形成された対象物である基板9を保持する。保持部移動機構2は、基台11上に設けられ、基板保持部3をZ方向に垂直なX方向およびY方向に移動する。描画ヘッド4は、フレーム12に取り付けられる。フレーム12は、基板保持部3および保持部移動機構2を跨ぐように基台11に固定される。描画ヘッド4は、基板9上の感光材料に変調されたビーム光を照射する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the drawing apparatus 1 includes a holding unit moving mechanism 2, a substrate holding unit 3, and a drawing head 4. The substrate holding unit 3 holds a substrate 9 that is an object on which a layer of a photosensitive material is formed on a main surface 91 (hereinafter referred to as “upper surface 91”) on the (+ Z) side. The holding unit moving mechanism 2 is provided on the base 11 and moves the substrate holding unit 3 in the X direction and the Y direction perpendicular to the Z direction. The drawing head 4 is attached to the frame 12. The frame 12 is fixed to the base 11 so as to straddle the substrate holding unit 3 and the holding unit moving mechanism 2. The drawing head 4 irradiates the modulated light beam onto the photosensitive material on the substrate 9.

描画装置1は、図1に示すように、制御部6と、データ補正装置8とをさらに備える。制御部6は、保持部移動機構2、描画ヘッド4等の各構成を制御する。データ補正装置8は、基板9上に描画される予定のパターンの設計データを補正する。データ補正装置8の詳細については後述する。   The drawing apparatus 1 further includes a control unit 6 and a data correction device 8 as shown in FIG. The control unit 6 controls each component such as the holding unit moving mechanism 2 and the drawing head 4. The data correction device 8 corrects design data of a pattern to be drawn on the substrate 9. Details of the data correction device 8 will be described later.

図1および図2に示すように、基板保持部3は、ステージ31と、ステージ回転機構32と、支持プレート33とを備える。基板9は、ステージ31上に載置される。支持プレート33は、ステージ31を回転可能に支持する。ステージ回転機構32は、支持プレート33上において、基板9の上面91に垂直な回転軸321を中心としてステージ31を回転する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate holding unit 3 includes a stage 31, a stage rotating mechanism 32, and a support plate 33. The substrate 9 is placed on the stage 31. The support plate 33 supports the stage 31 rotatably. The stage rotation mechanism 32 rotates the stage 31 about a rotation axis 321 perpendicular to the upper surface 91 of the substrate 9 on the support plate 33.

保持部移動機構2は、副走査機構23と、ベースプレート24と、主走査機構25とを備える。副走査機構23は、基板保持部3を図1および図2中のX方向(以下、「副走査方向」という。)に移動する。ベースプレート24は、副走査機構23を介して支持プレート33を支持する。主走査機構25は、基板保持部3をベースプレート24と共にX方向に垂直なY方向(以下、「主走査方向」という。)に移動する。描画装置1では、保持部移動機構2により、基板9の上面91に平行な主走査方向および副走査方向に基板保持部3が移動される。   The holding unit moving mechanism 2 includes a sub-scanning mechanism 23, a base plate 24, and a main scanning mechanism 25. The sub-scanning mechanism 23 moves the substrate holder 3 in the X direction (hereinafter referred to as “sub-scanning direction”) in FIGS. 1 and 2. The base plate 24 supports the support plate 33 via the sub scanning mechanism 23. The main scanning mechanism 25 moves the substrate holder 3 together with the base plate 24 in the Y direction perpendicular to the X direction (hereinafter referred to as “main scanning direction”). In the drawing apparatus 1, the holding unit moving mechanism 2 moves the substrate holding unit 3 in the main scanning direction and the sub-scanning direction parallel to the upper surface 91 of the substrate 9.

副走査機構23は、リニアモータ231と、1対のリニアガイド232とを備える。リニアモータ231は、支持プレート33の下側(すなわち、(−Z)側)において、ステージ31の主面に平行、かつ、主走査方向に垂直な副走査方向に伸びる。1対のリニアガイド232は、リニアモータ231の(+Y)側および(−Y)側において副走査方向に伸びる。主走査機構25は、リニアモータ251と、1対のエアスライダ252とを備える。リニアモータ251は、ベースプレート24の下側において、ステージ31の主面に平行な主走査方向に伸びる。1対のエアスライダ252は、リニアモータ251の(+X)側および(−X)側において主走査方向に伸びる。   The sub-scanning mechanism 23 includes a linear motor 231 and a pair of linear guides 232. The linear motor 231 extends in the sub-scanning direction parallel to the main surface of the stage 31 and perpendicular to the main scanning direction on the lower side (that is, the (−Z) side) of the support plate 33. The pair of linear guides 232 extends in the sub-scanning direction on the (+ Y) side and (−Y) side of the linear motor 231. The main scanning mechanism 25 includes a linear motor 251 and a pair of air sliders 252. The linear motor 251 extends in the main scanning direction parallel to the main surface of the stage 31 below the base plate 24. The pair of air sliders 252 extends in the main scanning direction on the (+ X) side and (−X) side of the linear motor 251.

図2に示すように、描画ヘッド4は、副走査方向に沿って等ピッチにて配列されてフレーム12に取り付けられる複数(本実施の形態では、8つ)の光学ヘッド41を備える。また、描画ヘッド4は、図1に示すように、各光学ヘッド41に接続される光源光学系42と、ビーム光を出射する光出射部48とを備える。光出射部48は、紫外光である当該ビーム光を出射するUV光源43と、光源駆動部44とを備える。UV光源43は、例えば固体レーザである。光源駆動部44が駆動されることにより、UV光源43から紫外光が出射され、光源光学系42を介して光学ヘッド41へと導かれる。   As shown in FIG. 2, the drawing head 4 includes a plurality (eight in the present embodiment) of optical heads 41 arranged at an equal pitch along the sub-scanning direction and attached to the frame 12. Further, as shown in FIG. 1, the drawing head 4 includes a light source optical system 42 connected to each optical head 41 and a light emitting unit 48 that emits beam light. The light emitting unit 48 includes a UV light source 43 that emits the light beam, which is ultraviolet light, and a light source driving unit 44. The UV light source 43 is, for example, a solid laser. By driving the light source driving unit 44, ultraviolet light is emitted from the UV light source 43 and guided to the optical head 41 via the light source optical system 42.

各光学ヘッド41は、導光部45と、光学系451,47と、空間光変調デバイス46とを備える。導光部45は、UV光源43からの光を下方へと導く。光学系451は、導光部45からの光を反射して空間光変調デバイス46へと導く。空間光変調デバイス46は、光学系451を介して照射された光出射部48からのビーム光を空間変調しつつ反射する。光学系47は、空間光変調デバイス46からの変調された光を、基板9の上面91に設けられた感光材料上へと導く。   Each optical head 41 includes a light guide unit 45, optical systems 451 and 47, and a spatial light modulation device 46. The light guide unit 45 guides light from the UV light source 43 downward. The optical system 451 reflects the light from the light guide 45 and guides it to the spatial light modulation device 46. The spatial light modulation device 46 reflects the beam light from the light emitting unit 48 irradiated through the optical system 451 while spatially modulating it. The optical system 47 guides the modulated light from the spatial light modulation device 46 onto the photosensitive material provided on the upper surface 91 of the substrate 9.

空間光変調デバイス46は、例えば、複数の光変調素子を備える。光変調素子としては、例えば、GLV(Grating Light Valve:グレーチング・ライト・バルブ)(シリコン・ライト・マシーンズ(サニーベール、カリフォルニア)の登録商標)が利用される。また、DMD(デジタルミラーデバイス)が光変調素子として利用されてもよい。これらの光変調素子は、制御部6からの信号に基づいて制御され、これにより、基板9の上面91上においてX方向(すなわち、副走査方向)に並ぶ複数の照射位置のそれぞれに空間変調されたビーム光が照射される。   The spatial light modulation device 46 includes, for example, a plurality of light modulation elements. For example, GLV (Grating Light Valve) (registered trademark of Silicon Light Machines (Sunnyvale, Calif.)) Is used as the light modulation element. Also, a DMD (digital mirror device) may be used as the light modulation element. These light modulation elements are controlled based on a signal from the control unit 6, and thereby spatially modulated to each of a plurality of irradiation positions arranged in the X direction (that is, the sub-scanning direction) on the upper surface 91 of the substrate 9. The light beam is irradiated.

図1および図2に示す描画装置1では、保持部移動機構2により移動される基板9に対し、描画ヘッド4の空間光変調デバイス46から変調されたビーム光が照射される。換言すれば、保持部移動機構2は、空間光変調デバイス46から基板9へと導かれたビーム光の基板9上における照射位置を、基板9に対して相対的に移動する照射位置移動機構である。なお、描画装置1の設計によっては、基板9を移動することなく、描画ヘッド4が移動することにより基板9上のビーム光の照射位置が移動されてもよい。描画装置1では、図1に示す制御部6により、描画ヘッド4および保持部移動機構2が制御されることにより、基板9上にパターンが描画される。   In the drawing apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2, the substrate 9 moved by the holding unit moving mechanism 2 is irradiated with the beam light modulated from the spatial light modulation device 46 of the drawing head 4. In other words, the holding unit moving mechanism 2 is an irradiation position moving mechanism that moves the irradiation position on the substrate 9 of the beam light guided from the spatial light modulation device 46 to the substrate 9 relative to the substrate 9. is there. Depending on the design of the drawing apparatus 1, the irradiation position of the beam light on the substrate 9 may be moved by moving the drawing head 4 without moving the substrate 9. In the drawing apparatus 1, a pattern is drawn on the substrate 9 by controlling the drawing head 4 and the holding unit moving mechanism 2 by the control unit 6 shown in FIG. 1.

図1に示すデータ補正装置8は、各種演算処理を行うCPU、基本プログラムを記憶するROM、および、各種情報を記憶するRAM等を含む一般的なコンピュータシステムである。図3は、データ補正装置8の機能を示すブロック図である。データ補正装置8は、位置測定部80と、データ補正部84と、設計データ記憶部85とを備える。位置測定装置である位置測定部80は、画像記憶部81と、演算部82と、位置取得部83とを備える。画像記憶部81は、所定の撮像装置5により取得された撮像画像(のデータ)を記憶する。撮像装置5は、描画装置1とは分離した装置であってよく、描画装置1に設けられてもよい。演算部82は、画像加工部821と、係数取得部822とを備え、撮像画像における所定の注目領域近傍の画素値分布を取得する。位置取得部83は、演算部82により取得された画素値分布に基づいて注目領域の位置を取得する。設計データ記憶部85は、基板9上に描画される予定のパターンを示す設計データを記憶する。設計データは、典型的にはベクトルデータであるが、ラスタデータであってもよい。データ補正部84は、複数の注目領域の位置に基づいて設計データを補正する。本実施の形態では、データ補正装置8の機能は、コンピュータにおけるプログラムの実行により実現されるが、当該機能は、全体的または部分的に専用の電気的回路により実現されてもよい。   A data correction apparatus 8 shown in FIG. 1 is a general computer system including a CPU that performs various arithmetic processes, a ROM that stores basic programs, a RAM that stores various information, and the like. FIG. 3 is a block diagram showing functions of the data correction device 8. The data correction device 8 includes a position measurement unit 80, a data correction unit 84, and a design data storage unit 85. The position measuring unit 80 that is a position measuring device includes an image storage unit 81, a calculation unit 82, and a position acquisition unit 83. The image storage unit 81 stores a captured image (data) acquired by a predetermined imaging device 5. The imaging device 5 may be a device separated from the drawing device 1 or may be provided in the drawing device 1. The calculation unit 82 includes an image processing unit 821 and a coefficient acquisition unit 822, and acquires a pixel value distribution near a predetermined region of interest in the captured image. The position acquisition unit 83 acquires the position of the attention area based on the pixel value distribution acquired by the calculation unit 82. The design data storage unit 85 stores design data indicating a pattern to be drawn on the substrate 9. The design data is typically vector data, but may be raster data. The data correction unit 84 corrects the design data based on the positions of the plurality of attention areas. In the present embodiment, the function of the data correction device 8 is realized by executing a program in a computer. However, the function may be realized entirely or partially by a dedicated electric circuit.

描画装置1では、データ補正装置8により設計データが補正された後、補正済みの設計データに基づいて基板9上にパターンが描画される。以下、描画装置1によるパターンの描画に係る処理について、図4を参照しつつ説明する。なお、図4中に破線の矩形にて示すステップS11aは、後述の処理例にて行われる。   In the drawing device 1, after the design data is corrected by the data correction device 8, a pattern is drawn on the substrate 9 based on the corrected design data. Hereinafter, processing related to pattern drawing by the drawing apparatus 1 will be described with reference to FIG. Note that step S11a indicated by a broken-line rectangle in FIG. 4 is performed in a processing example described later.

描画に係る処理では、まず、描画装置1によりパターン(上層のパターン)が描画される予定の基板9において、主面91上に既に形成されているパターン(下層のパターン)が撮像装置5により撮像される。基板9を撮像して取得された多階調の画像(すなわち、撮像画像)は、画像記憶部81に記憶され、データ補正装置8による後述の処理に向けて準備される(ステップS10)。以下の説明では、撮像画像は、互いに直交するx方向およびy方向に複数の画素が配列された画像であるものとする。   In the processing related to drawing, first, on the substrate 9 on which a pattern (upper layer pattern) is to be drawn by the drawing device 1, a pattern (lower layer pattern) already formed on the main surface 91 is imaged by the imaging device 5. Is done. A multi-tone image acquired by imaging the substrate 9 (that is, a captured image) is stored in the image storage unit 81 and is prepared for processing to be described later by the data correction device 8 (step S10). In the following description, it is assumed that the captured image is an image in which a plurality of pixels are arranged in the x direction and the y direction orthogonal to each other.

図5は、撮像画像の一部を示す図である。基板9では、主面91上にて設計データの補正に利用すべき複数の参照部位が予め定められており、演算部82の画像加工部821では、撮像画像において各参照部位を示す注目領域R1の全体を包含する包含領域が抽出される(ステップS11)。例えば、画像加工部821では、基板9上に既に形成されているパターン(下層のパターン)の設計データが示す各参照部位の位置が記憶されており、撮像画像において当該位置を中心とする所定の大きさの範囲を抽出することにより、包含領域が取得される。包含領域は、x方向およびy方向に平行な辺を有する矩形領域であり、図5では、包含領域を符号A1を付す破線の矩形にて示している。なお、包含領域A1の取得は、操作者の入力等に基づいて行われてよい。本実施の形態では、注目領域R1は基板9に形成された特定の孔部であるビアを示す。図5の包含領域A1における注目領域R1は、注目領域R1の周囲の領域である背景よりも暗い。すなわち、注目領域R1の画素値は、背景の画素値よりも小さい。以下、包含領域を示す画像を「包含領域画像」という。   FIG. 5 is a diagram illustrating a part of the captured image. In the substrate 9, a plurality of reference parts to be used for correction of design data on the main surface 91 are determined in advance. In the image processing unit 821 of the calculation unit 82, the attention area R <b> 1 that indicates each reference part in the captured image. Is included (step S11). For example, the image processing unit 821 stores the position of each reference portion indicated by the design data of the pattern (lower layer pattern) already formed on the substrate 9, and a predetermined center around the position in the captured image. By extracting the size range, the inclusion region is acquired. The inclusion area is a rectangular area having sides parallel to the x direction and the y direction. In FIG. 5, the inclusion area is indicated by a broken-line rectangle denoted by reference numeral A1. The acquisition of the inclusion area A1 may be performed based on an operator's input or the like. In the present embodiment, the attention area R <b> 1 indicates a via that is a specific hole formed in the substrate 9. The attention area R1 in the inclusion area A1 in FIG. 5 is darker than the background, which is the area around the attention area R1. That is, the pixel value of the attention area R1 is smaller than the background pixel value. Hereinafter, an image indicating an inclusion area is referred to as an “inclusion area image”.

複数の注目領域R1をそれぞれ示す複数の包含領域画像が取得されると、演算部82では、各包含領域画像における画素値分布(すなわち、注目領域R1および注目領域R1の周囲の画素値の二次元分布)が、偏微分可能なモデル関数にてモデル化される(ステップS12)。ここで、撮像画像の包含領域A1(包含領域画像)において、注目領域R1の略中心を含む線上における画素値のプロファイル(以下、「断面プロファイル」という。)は、中央部の画素値が外縁部の画素値よりも小さい下向きのトップハット形状である。トップハット形状は、略台形状、あるいは、(一次元)ガウス分布のピークを平坦化した形状である。また、図5に示す例では、各注目領域R1は略円形状である。したがって、演算部82では、xy平面から当該xy平面に垂直な方向(画素値を示す軸の方向)に突出する略円錐台形状、あるいは、二次元ガウス分布のピークを平坦化した形状を示すモデル関数が利用される。このようなモデル関数では、xy平面に平行な断面が円形状であるため、当該モデル関数を「円形状のモデル関数」とも呼ぶ。演算部82では、包含領域画像において座標(x,y)にて表される画素の画素値が、数5の円形状のモデル関数にて表現される。   When a plurality of inclusion region images respectively indicating the plurality of attention regions R1 are acquired, the calculation unit 82 obtains a pixel value distribution (that is, two-dimensional pixel values around the attention region R1 and the attention region R1) in each inclusion region image. Distribution) is modeled by a model function capable of partial differentiation (step S12). Here, in the inclusion area A1 (inclusion area image) of the captured image, the pixel value profile (hereinafter referred to as “cross-sectional profile”) on the line including the approximate center of the attention area R1 has a pixel value at the center as the outer edge. This is a downward-facing top hat shape smaller than the pixel value. The top hat shape is a substantially trapezoidal shape or a shape obtained by flattening a peak of a (one-dimensional) Gaussian distribution. Moreover, in the example shown in FIG. 5, each attention area | region R1 is substantially circular shape. Therefore, the calculation unit 82 has a substantially truncated cone shape protruding from the xy plane in a direction perpendicular to the xy plane (the direction of the axis indicating the pixel value), or a model indicating a shape obtained by flattening the peak of the two-dimensional Gaussian distribution. Function is used. In such a model function, since the cross section parallel to the xy plane has a circular shape, the model function is also referred to as a “circular model function”. In the calculation unit 82, the pixel value of the pixel represented by the coordinates (x, y) in the inclusion region image is expressed by a circular model function of Formula 5.

包含領域画像の画素値の分布を示す数5の円形状のモデル関数は、複数の係数a,b,c,d,e,fを含む。当該モデル関数は、未知数である係数a,b,c,d,e,fのそれぞれにより偏微分可能な関数である。複数の係数a,b,c,d,e,fのうち係数aは、ガウス関数における振幅に対応し、孔部を示す注目領域R1の中央部における明るさを示す。また、係数bは、注目領域R1に対応する画素の広がりの程度、すなわち、注目領域R1の大きさを示す。係数cおよび係数dはそれぞれ、注目領域R1の中心(重心)のx座標およびy座標、すなわち、当該中心のx方向およびy方向の位置を示す。係数eは、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きを示し、係数eが大きいほど外縁部の傾きが急峻となり、断面プロファイルが理想的なトップハット形状に近似する。係数fは、包含領域画像における注目領域R1の背景の明るさ(すなわち、背景のオフセット)を示す。   The circular model function of Formula 5 indicating the distribution of pixel values of the inclusion area image includes a plurality of coefficients a, b, c, d, e, and f. The model function is a function that can be partially differentiated by the unknown coefficients a, b, c, d, e, and f. Among the plurality of coefficients a, b, c, d, e, and f, the coefficient a corresponds to the amplitude in the Gaussian function and indicates the brightness at the center of the attention area R1 indicating the hole. The coefficient b indicates the extent of the pixel corresponding to the attention area R1, that is, the size of the attention area R1. The coefficient c and the coefficient d indicate the x coordinate and y coordinate of the center (center of gravity) of the attention area R1, that is, the positions of the center in the x direction and the y direction, respectively. The coefficient e indicates the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1, and the larger the coefficient e, the steeper the inclination of the outer edge, and the cross-sectional profile approximates an ideal top hat shape. The coefficient f indicates the brightness of the background of the attention area R1 in the inclusion area image (that is, the background offset).

図6は、数5の円形状のモデル関数における係数b,eの変化による画像の変化を示す図である。ここでは、数5のモデル関数における係数aは負の値である。図6では、12個の画像(画素値分布)が3行4列に並んでおり、最も左側の列から右側に向かうに従って係数eの値が増加し、最も下側の行から上側に向かうに従って係数bの値が増加している。図6では、係数bの値が大きくなるに従って、黒い領域が大きくなる。また、係数eの値が大きくなるに従って、黒い領域のエッジが明瞭となり、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きが大きくなることが判る。   FIG. 6 is a diagram illustrating changes in the image due to changes in the coefficients b and e in the circular model function of Formula 5. Here, the coefficient a in the model function of Equation 5 is a negative value. In FIG. 6, twelve images (pixel value distribution) are arranged in 3 rows and 4 columns, and the value of the coefficient e increases from the leftmost column to the right, and from the lowermost row to the upper side. The value of coefficient b is increasing. In FIG. 6, the black area increases as the value of the coefficient b increases. It can also be seen that as the value of the coefficient e increases, the edge of the black region becomes clear and the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1 increases.

注目領域R1のモデル化が終了すると、演算部82の係数取得部822により、上記モデル関数に含まれる複数の係数(すなわち、数5中の係数a〜f)の値が、包含領域画像の画素値を用いて最適化法にて決定される(ステップS13)。ステップS13において係数a〜fの決定に利用される最適化法は、例えば、ガウス・ニュートン法(Gauss−Newton法)またはレーベンバーグ・マルカート法(Levenberg−Marquardt法)である。以下では、まず、ガウス・ニュートン法により係数a〜fが決定される場合について説明し、その後、レーベンバーグ・マルカート法により係数a〜fが決定される場合について説明する。   When the modeling of the attention area R1 is completed, the coefficient acquisition unit 822 of the calculation unit 82 determines that the values of a plurality of coefficients included in the model function (that is, the coefficients a to f in Equation 5) are pixels of the inclusion area image. The value is determined by the optimization method (step S13). The optimization method used for determining the coefficients a to f in step S13 is, for example, the Gauss-Newton method (Gauss-Newton method) or the Levenberg-Marquardt method (Levenberg-Marquardt method). In the following, the case where the coefficients a to f are determined by the Gauss-Newton method will be described first, and then the case where the coefficients a to f are determined by the Levenberg-Marquardt method will be described.

ガウス・ニュートン法では、各包含領域画像について、数5にてモデル化された画素値分布が、当該包含領域画像における(注目領域R1の)実際の画素値分布に最も精度良くフィットする場合の係数a〜fが、反復計算により求められる。当該反復計算では、数5にて求められる画素値と包含領域画像の実際の画素値との差の二乗を包含領域画像の全ての画素について合計した値(すなわち、残差の平方和)が最小値に収束するように、係数a〜fを変更しつつ残差の平方和が繰り返し計算される。   In the Gauss-Newton method, for each inclusion area image, the coefficient when the pixel value distribution modeled in Equation 5 fits the actual pixel value distribution (of the attention area R1) in the inclusion area image most accurately. a to f are obtained by iterative calculation. In the iterative calculation, the sum of the squares of the difference between the pixel value obtained in Equation 5 and the actual pixel value of the inclusion area image for all the pixels of the inclusion area image (that is, the sum of squares of the residuals) is the minimum. The residual sum of squares is repeatedly calculated while changing the coefficients a to f so as to converge to the value.

ステップS13では、まず、図7に示すように、複数の係数a〜fの初期値a0〜f0が決定される(ステップS131)。具体的には、まず、包含領域画像を所定の閾値にて二値化することにより、注目領域R1と背景とが暫定的に(低精度にて)特定される。なお、当該閾値は、注目領域R1の明るさ(後述の画素値の代表値)と背景の明るさとの間の画素値である。そして、包含領域画像において、暫定的な注目領域R1の中央部の画素値の代表値から背景の画素値の代表値を引いて得た値が係数aの初期値a0として求められる。ここで、各領域の画素値の代表値は、当該領域における画素値のヒストグラムにおける中央近傍を示す画素値であり、例えば、平均値または最頻値である。係数c,dの初期値c0,d0は、暫定的な注目領域R1の中心、すなわち、(正確な)注目領域R1の略中心のx座標およびy座標である。係数fの初期値f0は背景の画素値の代表値である。   In step S13, first, as shown in FIG. 7, initial values a0 to f0 of a plurality of coefficients a to f are determined (step S131). Specifically, first, the region of interest R1 and the background are specified provisionally (with low accuracy) by binarizing the inclusion region image with a predetermined threshold. Note that the threshold value is a pixel value between the brightness of the attention area R1 (a representative value of a pixel value described later) and the background brightness. In the inclusion area image, a value obtained by subtracting the representative value of the background pixel value from the representative value of the central pixel value of the provisional attention area R1 is obtained as the initial value a0 of the coefficient a. Here, the representative value of the pixel value of each region is a pixel value indicating the vicinity of the center in the histogram of pixel values in the region, and is, for example, an average value or a mode value. The initial values c0 and d0 of the coefficients c and d are the x-coordinate and y-coordinate of the temporary center of the attention area R1, that is, the approximate center of the (correct) attention area R1. The initial value f0 of the coefficient f is a representative value of the background pixel value.

係数eの初期値e0の算出では、まず、包含領域画像において暫定的な注目領域R1の中心を通るとともにx方向に平行な線(すなわち、y=d0を示す線)上における断面プロファイルが求められる。また、当該断面プロファイルにおいて、暫定的な注目領域R1における画素値の最小値m1、および、背景における画素値の最頻値m2が求められる。続いて、上記断面プロファイルの各画素値からm2を引き、さらに(m1−m2)にて割ることにより、振幅が1となる(正規化された)トップハット形状のプロファイルが得られる。そして、当該プロファイルにおいて、x方向に並ぶ画素位置の間が線分にて接続され、(画素値を示す軸の)値が0.25となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められ、値が0.75となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められる。 In calculating the initial value e0 of the coefficient e, first, a cross-sectional profile on a line that passes through the center of the provisional attention area R1 and is parallel to the x direction in the inclusion area image (that is, a line indicating y = d0) is obtained. . Further, in the cross-sectional profile, the minimum value m1 of the pixel value in the provisional attention area R1 and the mode value m2 of the pixel value in the background are obtained. Subsequently, by subtracting m2 from each pixel value of the cross-sectional profile and further dividing by (m1-m2), a top-hat profile with an amplitude of 1 (normalized) is obtained. In the profile, the pixel positions arranged in the x direction are connected by a line segment, and half of the distance in the x direction between two positions where the value (of the axis indicating the pixel value) is 0.25 is w. determined as 1, half in the x direction the distance between the values 0.75 and becomes two positions is obtained as w 2.

ここで、上記プロファイルは、暫定的な注目領域R1の中心を通る(y=d0)を示す線上における断面プロファイルを正規化したものである。したがって、上記プロファイルは、数5において係数aに1、係数fに0を代入し、かつ、(y−d)を0とした関数にて表現され、当該関数において(x−c)がwである時にF(x,y)が0.25となることから数6が導かれ、(x−c)がwである時にF(x,y)が0.75となることから数7が導かれる。 Here, the profile is a normalized cross-sectional profile on a line that passes through the center of the provisional region of interest R1 (y = d0). Therefore, the profile is expressed by a function in which the coefficient a is set to 1 and the coefficient f is set to 0 and (y−d) is set to 0 in Formula 5, in which (x−c) is w 1. When F (x, y) is 0.25, Equation 6 is derived, and when (x−c) is w 2 , F (x, y) is 0.75. Is guided.

そして、数6および数7を変形してbを消去することにより、数8が得られる。   Then, Equation 8 is obtained by transforming Equation 6 and Equation 7 and deleting b.

数8に上記プロファイルから得られるwおよびwの値を代入することにより、係数eの初期値e0が求められる。このとき、数8中における(w/w)は、実質的に注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きを示すといえ、係数eの初期値e0は当該外縁部での傾きに依存する値である。また、数6を変形した数9に、係数eの初期値e0およびwの値を代入することにより、係数bの初期値b0が求められる。wは、注目領域R1における所定の明るさ以下となる領域の半径を示すため、係数bの初期値b0は、実質的に係数eの初期値e0、および、注目領域R1のおよその大きさを用いて求められる。 By substituting the values of w 1 and w 2 obtained from the profile into Equation 8, the initial value e0 of the coefficient e is obtained. At this time, it can be said that (w 2 / w 1 ) in Equation 8 substantially indicates the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1, and the initial value e0 of the coefficient e is the inclination at the outer edge. It depends on the value. Further, the number 9 which is a modification of the number 6, by substituting the value of the initial value e0 and w 1 of the coefficient e, the initial value b0 of the coefficient b is determined. Since w 1 indicates the radius of an area that is equal to or smaller than the predetermined brightness in the attention area R1, the initial value b0 of the coefficient b is substantially the initial value e0 of the coefficient e and the approximate size of the attention area R1. It is calculated using.

以上のように、係数aの初期値a0は、包含領域画像における注目領域R1の中央部の明るさと注目領域R1の背景の明るさとの差に基づいて決定される。係数cの初期値c0は、注目領域R1の略中心のx座標に基づいて決定される。係数dの初期値d0は、注目領域R1の略中心のy座標に基づいて決定される。係数fの初期値f0は、注目領域R1の背景の明るさに基づいて決定される。係数eの初期値e0は、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定される。係数bの初期値b0は、係数eの初期値e0、および、注目領域R1のおよその大きさに基づいて決定される。   As described above, the initial value a0 of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness at the center of the attention area R1 and the brightness of the background of the attention area R1 in the inclusion area image. The initial value c0 of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the attention area R1. The initial value d0 of the coefficient d is determined based on the y coordinate of the approximate center of the attention area R1. The initial value f0 of the coefficient f is determined based on the background brightness of the attention area R1. The initial value e0 of the coefficient e is determined based on the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1. The initial value b0 of the coefficient b is determined based on the initial value e0 of the coefficient e and the approximate size of the attention area R1.

続いて、数5を係数a〜fによりそれぞれ偏微分した数10ないし数15(ただし、数10ないし数14におけるZは数16にて表される。)を使用して数17を解くことにより、上記反復計算における係数a〜fの1回目の変更の際の変更量である差分値Δa〜Δfが求められる(ステップS132)。   Subsequently, by solving Formula 17 using Formula 10 to Formula 15 (where Z in Formula 10 to Formula 14 is expressed by Formula 16) obtained by partial differentiation of Formula 5 with coefficients a to f, respectively. The difference values Δa to Δf, which are the change amounts when the coefficients a to f are changed for the first time in the iterative calculation, are obtained (step S132).

数17では、数式中のxおよびyをxiおよびyiとして取り扱い、当該xiおよびyiは、「i」番目の画素のx座標およびy座標を示す。数17では「i=1〜m」であるため、ステップS13では、m個の画素についての残差の平方和が最小値となるように反復計算が行われる。数17の左辺は、数10ないし数15の6つの偏微分により構成される6次の正方行列と、6つの差分値Δa〜Δfにより構成される6行1列の行列との積を、m個の画素について合計したものである。数17の右辺は、数5を係数a〜fによりそれぞれ偏微分したものと、数5で得られる値から実際の画素値Biを減算したものとの積を示す6行1列の行列を、m個の画素について合計したものである。   In Expression 17, x and y in the mathematical expression are treated as xi and yi, and the xi and yi indicate the x coordinate and the y coordinate of the “i” th pixel. In Equation 17, since “i = 1 to m”, in step S13, iterative calculation is performed so that the sum of squares of the residuals for m pixels becomes the minimum value. The left side of Equation 17 represents the product of a 6th-order square matrix composed of six partial derivatives of Equations 10 to 15 and a 6 × 1 matrix composed of six difference values Δa to Δf, m This is the sum of the pixels. The right side of Equation 17 is a 6-by-1 matrix indicating the product of the partial differentiation of Equation 5 by coefficients a to f and the value obtained by subtracting the actual pixel value Bi from Equation 5. This is the sum of m pixels.

1回目の差分値Δa〜Δfが求められると、係数a〜fの初期値a0〜f0から差分値Δa〜Δfが減算され、次の係数a〜fの値が求められた後(ステップS133,S134)、ステップS132に戻る。そして、ステップS134にて求められた係数a〜f(の値)を使用した数17を解くことにより、次の差分値Δa〜Δfが求められ、現在の係数a〜fから当該次の差分値Δa〜Δfが減算されて新たな係数a〜fが求められる(ステップS132〜S134)。係数取得部822では、所定の終了条件が満たされるまで、ステップS132〜S134が繰り返される。当該終了条件とは、例えば、ステップS132にて求められた差分値Δa〜Δfのそれぞれの値が所定の大きさ以下となった状態である。あるいは、終了条件は、例えば、上述のステップS132〜S134の繰り返し回数が所定の回数に達した状態である。   When the first difference values Δa to Δf are obtained, the difference values Δa to Δf are subtracted from the initial values a0 to f0 of the coefficients a to f to obtain the values of the next coefficients a to f (step S133, S133). S134), the process returns to step S132. And the next difference value (DELTA) a- (DELTA) f is calculated | required by solving number 17 using the coefficient af (value) calculated | required in step S134, and the said next difference value is calculated from the present coefficient a-f. Δa to Δf are subtracted to obtain new coefficients a to f (steps S132 to S134). In the coefficient acquisition unit 822, steps S132 to S134 are repeated until a predetermined end condition is satisfied. The termination condition is, for example, a state in which each value of the difference values Δa to Δf obtained in step S132 is equal to or smaller than a predetermined magnitude. Alternatively, the termination condition is, for example, a state where the number of repetitions of steps S132 to S134 described above has reached a predetermined number.

終了条件が満たされると、現在の係数a〜f(終了条件が満たされた際の係数a〜f)が数5に代入される。このようにして、数5に示す円形状のモデル関数の複数の係数a〜fが取得される。図8は、複数の係数a〜fが取得されたモデル関数が示す包含領域A1の画素値分布を示す図であり、図8では、包含領域A1における画素値分布を撮像画像に重ねて示している。   When the end condition is satisfied, the current coefficients a to f (coefficients a to f when the end condition is satisfied) are substituted into Equation 5. In this way, a plurality of coefficients a to f of the circular model function shown in Formula 5 are acquired. FIG. 8 is a diagram illustrating the pixel value distribution in the inclusion region A1 indicated by the model function from which a plurality of coefficients a to f are obtained. In FIG. 8, the pixel value distribution in the inclusion region A1 is shown superimposed on the captured image. Yes.

ステップS13において、レーベンバーグ・マルカート法により係数a〜fが決定される場合も、ガウス・ニュートン法と同様に、複数の包含領域画像のそれぞれについて、数5のモデル関数(モデル化された包含領域画像の画素値分布)が、包含領域画像における実際の画素値分布に最も精度良くフィットする場合の係数a〜fが反復計算により求められる。レーベンバーグ・マルカート法では、ガウス・ニュートン法により適切な係数a〜fが求められない場合に、最急降下法等の勾配法により係数a〜fの粗い収束を試み、収束度が高くなるに従って徐々にガウス・ニュートン法に移行することにより適切な係数a〜fが求められる。   Even in the case where the coefficients a to f are determined by the Levenberg-Marquardt method in step S13, as in the Gauss-Newton method, for each of a plurality of inclusion region images, the model function (modeled inclusion region) The coefficients a to f in the case where the pixel value distribution of the image fits the actual pixel value distribution in the inclusion region image with the highest accuracy are obtained by iterative calculation. In the Levenberg-Marquardt method, when appropriate coefficients a to f cannot be obtained by the Gauss-Newton method, a rough convergence of the coefficients a to f is attempted by a gradient method such as the steepest descent method, and gradually as the degree of convergence increases. The appropriate coefficients a to f are obtained by shifting to the Gauss-Newton method.

具体的には、ステップS132〜S134が繰り返される際に、数17の左辺の6次正方行列のうち対角成分のみに重み係数が積算された上で差分値Δa〜Δfが求められ、求められた差分値Δa〜Δfが、1回前に求められた差分値Δa〜Δfよりも小さくなった場合は上記重み係数が小さくされ、1回前に求められた差分値Δa〜Δfよりも大きくなった場合は上記重み係数が大きくされる。これにより、ガウス・ニュートン法により係数a〜fが求められる場合に比べて、係数a〜fの収束に要する時間を短縮することができる。また、初期値a0〜f0が、最終的に求められる係数a〜fから比較的大きく離れている場合であっても、係数a〜fを適切に求めることができる。   Specifically, when steps S132 to S134 are repeated, the difference values Δa to Δf are obtained by adding the weighting coefficients only to the diagonal components of the sixth-order square matrix on the left side of Equation 17, and are obtained. When the difference values Δa to Δf are smaller than the difference values Δa to Δf obtained one time before, the weighting factor is reduced and becomes larger than the difference values Δa to Δf obtained one time ago. If this happens, the weighting factor is increased. Thereby, compared with the case where the coefficients af are calculated | required by the Gauss-Newton method, the time required for the convergence of the coefficients af can be shortened. Further, even when the initial values a0 to f0 are relatively far from the finally obtained coefficients a to f, the coefficients a to f can be obtained appropriately.

ステップS13が終了すると、位置取得部83では、複数の係数が取得された各注目領域R1に対するモデル関数(近似関数)に基づいて、撮像画像における当該注目領域R1の位置が取得される(ステップS14)。例えば、モデル関数が示す注目領域R1の中心が、注目領域R1の位置として取得される。   When step S13 ends, the position acquisition unit 83 acquires the position of the region of interest R1 in the captured image based on the model function (approximate function) for each region of interest R1 from which a plurality of coefficients have been acquired (step S14). ). For example, the center of the attention area R1 indicated by the model function is acquired as the position of the attention area R1.

データ補正部84では、複数の注目領域R1の位置、すなわち、複数の孔部の位置に基づいて基板9の変形状態が取得される。そして、設計データ記憶部85にて記憶された設計データが、基板9の変形に合わせて補正される(ステップS15)。設計データの補正では、例えば、設計データが示すパターンにおいて基板9上の参照部位(注目領域R1が示す部位)と重なるように設定された位置が、実際の基板9上の当該参照部位の近傍に配置されるように、当該パターンが変形されて補正済み設計データが取得される。補正済み設計データは、制御部6へと送られる。制御部6では、補正済み設計データに基づいて、保持部移動機構2や空間光変調デバイス46が制御され、ステージ31上に載置された基板9に対してパターンの描画が行われる(ステップS16)。なお、制御部6では、必要に応じて補正済み設計データが他の形式のデータに変換されてよい。   In the data correction unit 84, the deformation state of the substrate 9 is acquired based on the positions of the plurality of regions of interest R1, that is, the positions of the plurality of holes. And the design data memorize | stored in the design data memory | storage part 85 are correct | amended according to a deformation | transformation of the board | substrate 9 (step S15). In the correction of the design data, for example, the position set so as to overlap with the reference portion (the portion indicated by the attention area R1) on the substrate 9 in the pattern indicated by the design data is in the vicinity of the reference portion on the actual substrate 9. The pattern is deformed so as to be arranged, and corrected design data is acquired. The corrected design data is sent to the control unit 6. In the control unit 6, the holding unit moving mechanism 2 and the spatial light modulation device 46 are controlled based on the corrected design data, and a pattern is drawn on the substrate 9 placed on the stage 31 (step S16). ). In the control unit 6, the corrected design data may be converted into data of another format as necessary.

以上に説明したように、データ補正装置8の演算部82では、断面プロファイルがトップハット形状である注目領域R1の画素値分布が、偏微分可能なモデル関数にてモデル化され、当該モデル関数に含まれる複数の係数が最適化法にて決定されることにより取得される。そして、複数の係数が取得されたモデル関数に基づいて注目領域R1の位置が取得される。これにより、撮像画像中の注目領域R1の位置を高精度に測定することができる。その結果、複数の注目領域R1の位置に基づいて基板9の変形を精度よく測定することができ、基板9上に描画されるパターンの設計データを、基板9の変形に合わせて高精度に補正することが可能となる。   As described above, the calculation unit 82 of the data correction device 8 models the pixel value distribution of the attention area R1 having a top-hat cross-sectional profile with a model function that can be partially differentiated. A plurality of included coefficients are obtained by being determined by an optimization method. And the position of attention area R1 is acquired based on the model function from which a plurality of coefficients were acquired. Thereby, the position of the attention area R1 in the captured image can be measured with high accuracy. As a result, the deformation of the substrate 9 can be accurately measured based on the positions of the plurality of attention regions R1, and the design data of the pattern drawn on the substrate 9 is corrected with high accuracy in accordance with the deformation of the substrate 9. It becomes possible to do.

また、撮像画像が低解像度である場合、例えば、撮像画像を二値化して得られる暫定的な注目領域R1に対応する画素群の全体が、1辺が10画素以下の正方形領域に含まれる場合等であっても、モデル関数を利用するデータ補正装置8では、注目領域R1を示す関数を精度よく求め、注目領域R1の位置を高精度に取得することができる。   Also, when the captured image has a low resolution, for example, when the entire pixel group corresponding to the provisional attention region R1 obtained by binarizing the captured image is included in a square region with one side of 10 pixels or less Even in the case of the data correction device 8 using the model function, the function indicating the attention area R1 can be obtained with high accuracy, and the position of the attention area R1 can be obtained with high accuracy.

データ補正装置8では、演算部82においてモデル関数に含まれる複数の係数a〜fを決定する最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法である。これにより、撮像画像におけるノイズ等の影響を抑制して、モデル関数における複数の係数を高精度に求めることができる。   In the data correction device 8, the optimization method for determining the plurality of coefficients a to f included in the model function in the calculation unit 82 is the Gauss-Newton method or the Levenberg-Marquardt method. Thereby, the influence of noise or the like in the captured image can be suppressed, and a plurality of coefficients in the model function can be obtained with high accuracy.

演算部82では、係数fの初期値f0が、撮像画像における注目領域R1の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値e0が、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定される。また、係数aの初期値a0が、注目領域R1の明るさと背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値b0が、係数eの初期値e0、および、注目領域R1のおよその大きさに基づいて決定される。さらに、係数c,dの初期値c0,d0が、それぞれ注目領域R1の略中心のx座標およびy座標に基づいて決定される。これにより、係数a〜fの初期値a0〜f0を、容易かつ適切に決定することができる。その結果、係数a〜fを高精度に決定することができ、注目領域R1を示す関数を高精度に求めることができる。   In the calculation unit 82, the initial value f0 of the coefficient f is determined based on the background brightness of the attention area R1 in the captured image, and the initial value e0 of the coefficient e is the slope at the outer edge in the cross-sectional profile of the attention area R1. To be determined. The initial value a0 of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the attention area R1 and the brightness of the background, and the initial value b0 of the coefficient b is approximately equal to the initial value e0 of the coefficient e and the attention area R1. Is determined based on the size of. Furthermore, initial values c0 and d0 of the coefficients c and d are determined based on the x coordinate and the y coordinate of the approximate center of the attention area R1, respectively. Thereby, the initial values a0 to f0 of the coefficients a to f can be determined easily and appropriately. As a result, the coefficients a to f can be determined with high accuracy, and a function indicating the attention area R1 can be obtained with high accuracy.

次に、図4中に破線の矩形にて示すステップS11aが行われる他の処理例について説明する。本処理例では、基板9上のパターンの一部である円形状のパッドが参照部位であり、演算部82の画像加工部821では、特定のパッドを示す各注目領域を包含する包含領域画像が撮像画像から切り出される(ステップS11)。なお、パッドは、通常、電極として利用される。   Next, another example of processing in which step S11a indicated by a broken-line rectangle in FIG. 4 is performed will be described. In this processing example, a circular pad that is a part of the pattern on the substrate 9 is a reference part, and the image processing unit 821 of the calculation unit 82 includes an inclusion region image including each region of interest indicating a specific pad. Cut out from the captured image (step S11). The pad is usually used as an electrode.

図9は、包含領域画像を示す図である。包含領域画像において、基板9上のパターンを示すパターン領域R0は、注目領域R1および配線領域R2を含む。注目領域R1は、基板9上のパッドを示し、配線領域R2は、パッドと同じ材料にて形成される配線部を示す。注目領域R1は配線領域R2と接続している。また、注目領域R1および配線領域R2は、背景よりも明るい。すなわち、注目領域R1および配線領域R2の画素値は背景の画素値よりも大きい。さらに、背景は、比較的明るい第1背景領域H1と、比較的暗い第2背景領域H2とを含む。図9では、各領域の平行斜線の幅を変えることにより、領域間の明るさの相違を示しており、平行斜線の幅が狭いほど暗い。   FIG. 9 is a diagram illustrating an inclusion area image. In the inclusion area image, the pattern area R0 indicating the pattern on the substrate 9 includes the attention area R1 and the wiring area R2. The attention area R1 indicates a pad on the substrate 9, and the wiring area R2 indicates a wiring portion formed of the same material as the pad. The attention area R1 is connected to the wiring area R2. Further, the attention area R1 and the wiring area R2 are brighter than the background. That is, the pixel values of the attention area R1 and the wiring area R2 are larger than the background pixel value. Furthermore, the background includes a relatively light first background region H1 and a relatively dark second background region H2. FIG. 9 shows the difference in brightness between the regions by changing the width of the parallel diagonal lines in each region, and the darker the parallel diagonal lines are, the darker the width is.

画像加工部821では、包含領域画像を所定の閾値にて二値化することにより、図10に示すように、注目領域R1および配線領域R2と背景とを暫定的に(低精度にて)区別して示す二値画像が取得される。続いて、当該二値画像に対して収縮処理が施される。このとき、白い領域のエッジにおいて配線領域R2の幅(図10のy方向の幅)の半分以上の画素が収縮する程度にて収縮処理が行われ、図11に示すように、配線領域R2が除去された収縮済み二値画像が取得される。そして、収縮済み二値画像に対して、収縮処理と同じ程度の膨張処理を行うことにより、図12に示すように、暫定的な注目領域R1のみを示す二値の注目領域画像が取得される。膨張処理では、収縮処理により収縮した画素数と同じ画素数だけ白い領域が膨張する。   In the image processing unit 821, the inclusion region image is binarized with a predetermined threshold value, so that the region of interest R1, the wiring region R2, and the background are provisionally divided (with low accuracy) as shown in FIG. A binary image shown separately is acquired. Subsequently, contraction processing is performed on the binary image. At this time, the contraction process is performed to such an extent that pixels of half or more of the width of the wiring region R2 (the width in the y direction in FIG. 10) contract at the edge of the white region, and as shown in FIG. The removed contracted binary image is acquired. Then, by performing an expansion process on the contracted binary image to the same extent as the contraction process, a binary target area image indicating only the temporary target area R1 is acquired as shown in FIG. . In the expansion process, the white area is expanded by the same number of pixels as the number of pixels contracted by the contraction process.

続いて、図12の注目領域画像を用いて、図9の包含領域画像における注目領域R1をマスクしつつ、包含領域画像においてエッジが抽出される。包含領域画像におけるエッジの抽出は、包含領域画像に対する複数の閾値を用いた複数回の二値化処理、または、包含領域画像に対する微分フィルタ処理等により行われる。これにより、包含領域画像が、暫定的な注目領域R1、配線領域R2、第1背景領域H1、および、第2背景領域H2に分割される。また、暫定的な注目領域R1の画素値の代表値DR1、第1背景領域H1の画素値の代表値DH1、および、第2背景領域H2の画素値の代表値DH2が求められる。そして、第1背景領域H1に含まれる各画素の画素値Vが、数18により新たな画素値V’に変換される。 Subsequently, using the attention area image of FIG. 12, an edge is extracted from the inclusion area image while masking the attention area R1 in the inclusion area image of FIG. The extraction of the edge in the inclusion area image is performed by a plurality of binarization processes using a plurality of threshold values for the inclusion area image, a differential filter process for the inclusion area image, or the like. Thereby, the inclusion region image is divided into the provisional attention region R1, the wiring region R2, the first background region H1, and the second background region H2. The representative value D R1 of the pixel values of the provisional target region R1, the representative value D H1 of the pixel values of the first background region H1, and the representative value D H2 of the second pixel value of the background region H2 is obtained. Then, the pixel value V of each pixel included in the first background region H1 is converted into a new pixel value V ′ by Equation 18.

以上のようにして、撮像画像の包含領域を示す包含領域画像に対して画像加工部821による前処理が施され、図13に示すように、背景がおよそ均一な明るさである新たな包含領域画像(以下、「加工済み包含領域画像」という。)が生成される(ステップS11a)。加工済み包含領域画像では、配線領域R2はマスクされており、ステップS12以降の処理では利用されない(演算対象から除外される)。したがって、後述の係数の決定において、配線領域R2が誤差要因となることはない。図13では、配線領域R2にクロスハッチングを付すことにより、配線領域R2がマスクされていることを示している。   As described above, the preprocessing by the image processing unit 821 is performed on the inclusion region image indicating the inclusion region of the captured image, and a new inclusion region whose background has approximately uniform brightness as illustrated in FIG. 13. An image (hereinafter referred to as “processed inclusion region image”) is generated (step S11a). In the processed inclusion region image, the wiring region R2 is masked and is not used in the processing after step S12 (is excluded from the calculation target). Therefore, the wiring region R2 does not become an error factor in determining the coefficient described later. FIG. 13 shows that the wiring region R2 is masked by cross-hatching the wiring region R2.

複数の注目領域R1を示す複数の加工済み包含領域画像が取得されると、上記処理例と同様に、演算部82では、各加工済み包含領域画像における画素値分布が、偏微分可能なモデル関数にてモデル化される(ステップS12)。加工済み包含領域画像では、注目領域R1は略円形状であり、注目領域R1の断面プロファイルは中央部の画素値が外縁部の画素値よりも大きい上向きのトップハット形状である。したがって、上記処理例と同様に、数5の円形状のモデル関数が利用される。言い換えると、上記前処理により、数5のモデル関数を利用することが可能となる。   When a plurality of processed inclusion area images indicating a plurality of attention areas R1 are acquired, in the same manner as in the above-described processing example, the calculation unit 82 uses a model function in which the pixel value distribution in each processed inclusion area image can be partially differentiated. (Step S12). In the processed inclusion area image, the attention area R1 has a substantially circular shape, and the cross-sectional profile of the attention area R1 has an upward top hat shape in which the pixel value at the center is larger than the pixel value at the outer edge. Therefore, as in the above processing example, a circular model function of Formula 5 is used. In other words, the model function of Formula 5 can be used by the preprocessing.

図14は、モデル関数における係数b,eの変化による画像の変化を示す図である。ここでは、数5のモデル関数における係数aは正の値である。図14では、9個の画像(画素値分布)が3行3列に並んでおり、最も左側の列から右側に向かうに従って係数eの値が増加し、最も下側の行から上側に向かうに従って係数bの値が増加している。図14では、係数bの値が大きくなるに従って、白い領域が大きくなる。また、係数eの値が大きくなるに従って、白い領域のエッジが明瞭となり、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きが大きくなることが判る。   FIG. 14 is a diagram illustrating changes in the image due to changes in the coefficients b and e in the model function. Here, the coefficient a in the model function of Equation 5 is a positive value. In FIG. 14, nine images (pixel value distribution) are arranged in 3 rows and 3 columns, the value of the coefficient e increases from the leftmost column to the right side, and from the lowermost row to the upper side. The value of coefficient b is increasing. In FIG. 14, the white area increases as the value of the coefficient b increases. It can also be seen that as the value of the coefficient e increases, the edge of the white region becomes clear and the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1 increases.

演算部82の係数取得部822では、上記処理例と同様に、数5のモデル関数に含まれる複数の係数a〜fが、加工済み包含領域画像の画素値を用いて最適化法にて決定されて取得される(ステップS13)。   In the coefficient acquisition unit 822 of the calculation unit 82, as in the above processing example, a plurality of coefficients a to f included in the model function of Formula 5 are determined by the optimization method using the pixel values of the processed inclusion region image. Is acquired (step S13).

このとき、係数eの初期値e0の算出では、まず、加工済み包含領域画像において暫定的な注目領域R1の中心を通るとともにx方向に平行な線(すなわち、y=d0を示す線)上における断面プロファイルが求められる。また、当該断面プロファイルにおいて、暫定的な注目領域R1における画素値の最大値m1、および、背景における画素値の最頻値m2が求められる。続いて、上記断面プロファイルの各画素値からm2を引き、さらに(m1−m2)にて割ることにより、振幅が1となる(正規化された)トップハット形状のプロファイルが得られる。当該プロファイルにおいて、x方向に並ぶ画素位置の間が線分にて接続され、(画素値を示す軸の)値が0.25となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められ、値が0.75となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められる。そして、既述の数8にwおよびwの値を代入することにより、係数eの初期値e0が求められ、既述の数9に係数eの初期値e0およびwの値を代入することにより、係数bの初期値b0が求められる。他の係数a,c,d,fの初期値の算出手法は、上記処理例と同じである。 At this time, in the calculation of the initial value e0 of the coefficient e, first, on the processed inclusion region image, it passes through the center of the provisional attention region R1 and is parallel to the x direction (that is, a line indicating y = d0). A cross-sectional profile is determined. Further, in the cross-sectional profile, the maximum value m1 of the pixel value in the provisional attention area R1 and the mode value m2 of the pixel value in the background are obtained. Subsequently, by subtracting m2 from each pixel value of the cross-sectional profile and further dividing by (m1-m2), a top-hat profile with an amplitude of 1 (normalized) is obtained. In this profile, pixel positions arranged in the x direction are connected by line segments, and half of the distance in the x direction between two positions where the value (of the axis indicating the pixel value) is 0.25 is w 1. sought, half the value of the x-direction distance between the two positions of 0.75 is obtained as w 2. Then, the initial value e0 of the coefficient e is obtained by substituting the values of w 1 and w 2 into the above-described number 8, and the initial values e0 and w 1 of the coefficient e are substituted into the above-described number 9 By doing so, the initial value b0 of the coefficient b is obtained. The calculation method of the initial values of the other coefficients a, c, d, and f is the same as the above processing example.

ステップS13が終了すると、位置取得部83では、複数の係数が取得された各注目領域R1に対するモデル関数に基づいて、撮像画像における当該注目領域R1の位置が取得される(ステップS14)。データ補正部84では、複数の注目領域R1の位置に基づいて基板9の変形状態が取得され、設計データが、基板9の変形に合わせて補正される(ステップS15)。そして、補正された設計データ(補正済み設計データ)に基づいて、基板9上にパターンが描画される(ステップS16)。   When step S13 ends, the position acquisition unit 83 acquires the position of the region of interest R1 in the captured image based on the model function for each region of interest R1 from which a plurality of coefficients have been acquired (step S14). In the data correction unit 84, the deformation state of the substrate 9 is acquired based on the positions of the plurality of attention areas R1, and the design data is corrected in accordance with the deformation of the substrate 9 (step S15). Then, a pattern is drawn on the substrate 9 based on the corrected design data (corrected design data) (step S16).

以上に説明したように、本処理例では、注目領域R1が撮像画像中のパターン領域R0の一部であり、注目領域R1がパターン領域R0の他の一部(ここでは、配線領域R2)と接続する場合に、演算部82の画像加工部821により、パターン領域R0の当該他の一部がマスクされる。そして、画像加工部821による加工済みの画像に基づいて、係数取得部822により、注目領域R1を表すモデル関数の複数の係数が取得される。これにより、注目領域R1がパターン領域R0の他の一部と接続する場合であっても、モデル関数の係数を適切に求めることができ、撮像画像中の注目領域R1の位置を高精度に測定することができる。また、背景の明るさを均一化することにより、モデル関数を適切に利用することが可能となる。   As described above, in this processing example, the attention area R1 is a part of the pattern area R0 in the captured image, and the attention area R1 is a part of the pattern area R0 (here, the wiring area R2). In the case of connection, the other part of the pattern region R0 is masked by the image processing unit 821 of the calculation unit 82. Then, based on the image processed by the image processing unit 821, the coefficient acquisition unit 822 acquires a plurality of coefficients of the model function representing the attention area R1. Thereby, even when the attention area R1 is connected to another part of the pattern area R0, the coefficient of the model function can be obtained appropriately, and the position of the attention area R1 in the captured image is measured with high accuracy. can do. Also, by making the background brightness uniform, the model function can be used appropriately.

次に、描画装置1におけるさらに他の処理例について説明する。本処理例では、基板9上の略正方形状のパッドが参照部位であり、演算部82の画像加工部821では、特定のパッドを示す各注目領域を包含する包含領域画像が撮像画像から切り出される(ステップS11)。   Next, still another processing example in the drawing apparatus 1 will be described. In this processing example, a substantially square pad on the substrate 9 is a reference portion, and the image processing unit 821 of the calculation unit 82 cuts out an inclusion region image including each region of interest indicating a specific pad from the captured image. (Step S11).

図15は、包含領域画像を示す図である。基板9上の参照部位であるパッドには中央部に孔部(ビア)が形成されており、包含領域画像の注目領域R1内には、孔部を示す孔部領域R3が含まれる。また、注目領域R1は、注目領域R1の周囲の領域である背景、および、孔部領域R3よりも明るい。すなわち、注目領域R1の画素値は、背景および孔部領域R3の画素値よりも大きい。基板9上のパッドの直交する2つの辺は、包含領域画像においてx方向およびy方向におよそ平行である。   FIG. 15 is a diagram illustrating an inclusion area image. The pad, which is a reference site on the substrate 9, has a hole (via) formed in the center, and a hole area R 3 indicating a hole is included in the attention area R 1 of the inclusion area image. In addition, the attention area R1 is brighter than the background and the hole area R3, which are areas around the attention area R1. That is, the pixel value of the attention area R1 is larger than the pixel value of the background and the hole area R3. Two orthogonal sides of the pad on the substrate 9 are approximately parallel to the x and y directions in the inclusion region image.

画像加工部821では、包含領域画像を所定の閾値にて二値化することにより、暫定的な注目領域R1および孔部領域R3を示す二値画像が取得される。続いて、包含領域画像において暫定的な注目領域R1のうち孔部領域R3を除く領域における画素値の代表値が取得される。また、上記二値画像に対して孔部領域R3を膨張する膨張処理が施されることにより、膨張処理済みの孔部領域R3が取得される。そして、包含領域画像において膨張処理済みの孔部領域R3における画素値が、上記画素値の代表値に変換される。これにより、図16に示すように、注目領域R1のおよそ全体が明るい加工済み包含領域画像が取得される(ステップS11a)。加工済み包含領域画像では、注目領域R1の断面プロファイルが、中央部の画素値が外縁部の画素値よりも大きい上向きのトップハット形状となる。   The image processing unit 821 binarizes the inclusion region image with a predetermined threshold value, thereby obtaining a binary image indicating the temporary attention region R1 and the hole region R3. Subsequently, the representative value of the pixel value in the region excluding the hole region R3 in the provisional attention region R1 in the inclusion region image is acquired. In addition, an expansion process for expanding the hole region R3 is performed on the binary image, whereby the hole region R3 that has been subjected to the expansion process is acquired. Then, the pixel value in the hole region R3 that has been subjected to the expansion process in the inclusion region image is converted into a representative value of the pixel value. Thereby, as shown in FIG. 16, a processed inclusion region image in which the entire attention region R1 is bright is acquired (step S11a). In the processed inclusion area image, the cross-sectional profile of the attention area R1 has an upward top hat shape in which the pixel value at the center is larger than the pixel value at the outer edge.

複数の注目領域R1を示す複数の加工済み包含領域画像が取得されると、演算部82では、各加工済み包含領域画像における画素値分布が、偏微分可能なモデル関数にてモデル化される(ステップS12)。ここで、加工済み包含領域画像では、注目領域R1は略正方形状である。したがって、演算部82では、xy平面から当該xy平面に垂直な方向(画素値を示す軸の方向)に突出する略四角錐台形状を示すモデル関数が利用される。このようなモデル関数では、xy平面に平行な断面が略正方形状であるため、当該モデル関数を「略正方形状のモデル関数」とも呼ぶ。演算部82では、包含領域画像において座標(x,y)にて表される画素の画素値が、数19の略正方形状のモデル関数(ただし、nは2以上の自然数)にて表現される。本処理例では、nは2である。   When a plurality of processed inclusion region images indicating a plurality of attention regions R1 are acquired, the calculation unit 82 models the pixel value distribution in each processed inclusion region image with a model function capable of partial differentiation ( Step S12). Here, in the processed inclusion area image, the attention area R1 has a substantially square shape. Therefore, the calculation unit 82 uses a model function indicating a substantially quadrangular frustum shape protruding from the xy plane in a direction perpendicular to the xy plane (the direction of the axis indicating the pixel value). In such a model function, since the cross section parallel to the xy plane has a substantially square shape, the model function is also referred to as a “substantially square model function”. In the calculation unit 82, the pixel value of the pixel represented by the coordinates (x, y) in the inclusion region image is expressed by a substantially square model function (where n is a natural number of 2 or more). . In this processing example, n is 2.

包含領域画像の画素値の分布を示す数19の略正方形状のモデル関数は、複数の係数a,b,c,d,e,fを含む。当該モデル関数は、未知数である係数a,b,c,d,e,fのそれぞれにより偏微分可能な関数である。複数の係数a,b,c,d,e,fのうち係数aは、ガウス関数における振幅に対応し、加工済み包含領域画像における注目領域R1の中央部における明るさ(盛り上がり)を示す。また、係数bは、注目領域R1に対応する画素の広がりの程度、すなわち、注目領域R1の大きさを示す。係数cおよび係数dはそれぞれ、注目領域R1の中心のx座標およびy座標、すなわち、当該中心のx方向およびy方向の位置を示す。係数eは、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きを示し、係数eが大きいほど外縁部の傾きが急峻となり、断面プロファイルが理想的なトップハット形状に近似する。係数fは、加工済み包含領域画像における注目領域R1の背景の明るさ(すなわち、背景のオフセット)を示す。   The substantially square model function of Formula 19 indicating the distribution of pixel values of the inclusion area image includes a plurality of coefficients a, b, c, d, e, and f. The model function is a function that can be partially differentiated by the unknown coefficients a, b, c, d, e, and f. Among the plurality of coefficients a, b, c, d, e, and f, the coefficient a corresponds to the amplitude in the Gaussian function and indicates the brightness (swell) at the center of the attention area R1 in the processed inclusion area image. The coefficient b indicates the extent of the pixel corresponding to the attention area R1, that is, the size of the attention area R1. The coefficient c and the coefficient d indicate the x and y coordinates of the center of the attention area R1, that is, the positions of the center in the x direction and the y direction, respectively. The coefficient e indicates the inclination at the outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest R1, and the larger the coefficient e, the steeper the inclination of the outer edge, and the cross-sectional profile approximates an ideal top hat shape. The coefficient f indicates the brightness of the background of the attention area R1 in the processed inclusion area image (that is, the background offset).

注目領域R1のモデル化が終了すると、演算部82により、上記モデル関数に含まれる複数の係数(すなわち、数19中の係数a〜f)が、加工済み包含領域画像の画素値を用いて最適化法にて決定される(ステップS13)。ステップS13において係数a〜fの決定に利用される最適化法は、例えば、上述のガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法である。ステップS13では、上記と同様に、各加工済み包含領域画像について、数19にてモデル化された画素値分布が、当該加工済み包含領域画像における実際の画素値分布に最も精度良くフィットする場合の係数a〜fが、反復計算により求められる。   When the modeling of the attention area R1 is completed, the calculation unit 82 optimizes the plurality of coefficients included in the model function (that is, the coefficients a to f in Equation 19) using the pixel values of the processed inclusion area image. It is determined by the conversion method (step S13). The optimization method used for determining the coefficients a to f in step S13 is, for example, the Gauss-Newton method or the Levenberg-Marquardt method described above. In step S13, in the same manner as described above, for each processed inclusion area image, the pixel value distribution modeled in Equation 19 fits the actual pixel value distribution in the processed inclusion area image most accurately. The coefficients a to f are obtained by iterative calculation.

ガウス・ニュートン法によるモデル関数の係数決定、および、レーベンバーグ・マルカート法によるモデル関数の係数決定は、上述のステップS131〜S134(図7参照)とおよそ同様である。ステップS131における複数の係数a〜fの初期値a0〜f0の決定では、上記と同様に、加工済み包含領域画像(図16参照)において、暫定的な注目領域R1の中央部の画素値の代表値から背景の画素値の代表値を引いて得た値が係数aの初期値a0として求められる。係数c,dの初期値c0,d0は、暫定的な注目領域R1の中心、すなわち、(正確な)注目領域R1の略中心のx座標およびy座標である。係数fの初期値f0は背景の画素値の代表値である。   The determination of the coefficient of the model function by the Gauss-Newton method and the determination of the coefficient of the model function by the Levenberg-Marquardt method are substantially the same as the above-described steps S131 to S134 (see FIG. 7). In the determination of the initial values a0 to f0 of the plurality of coefficients a to f in step S131, as described above, in the processed inclusion region image (see FIG. 16), representative pixel values at the center of the temporary attention region R1 are represented. A value obtained by subtracting the representative value of the background pixel value from the value is obtained as the initial value a0 of the coefficient a. The initial values c0 and d0 of the coefficients c and d are the x-coordinate and y-coordinate of the temporary center of the attention area R1, that is, the approximate center of the (correct) attention area R1. The initial value f0 of the coefficient f is a representative value of the background pixel value.

係数eの初期値e0の算出では、加工済み包含領域画像において、x方向の各位置にてy方向に並ぶ複数の画素の画素値を積算することにより積算画素値プロファイルが求められる。積算画素値プロファイルにおいて、暫定的な注目領域R1に対応する位置の積算画素値の最大値m1、および、背景に対応する位置の積算画素値の最頻値m2が求められる。続いて、上記積算画素値プロファイルの各積算画素値からm2を引き、さらに(m1−m2)にて割ることにより、振幅が1となる(正規化された)トップハット形状のプロファイルが得られる。当該プロファイルにおいて、x方向に並ぶ画素位置の間が線分にて接続され、値が0.25となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められ、値が0.75となる2つの位置間のx方向の距離の半分がwとして求められる。そして、数8にwおよびwの値を代入することにより、係数eの初期値e0が求められ、数9に係数eの初期値e0およびwの値を代入することにより、係数bの初期値b0が求められる。なお、積算画素値プロファイルは、暫定的な注目領域R1の中心を通る線上の断面プロファイルとおよそ等価である。もちろん、当該断面プロファイルから、係数e,bの初期値e0,b0が求められてよい。 In the calculation of the initial value e0 of the coefficient e, an integrated pixel value profile is obtained by integrating pixel values of a plurality of pixels arranged in the y direction at each position in the x direction in the processed inclusion region image. In the integrated pixel value profile, the maximum value m1 of the integrated pixel value at the position corresponding to the provisional attention area R1 and the mode m2 of the integrated pixel value at the position corresponding to the background are obtained. Subsequently, by subtracting m2 from each integrated pixel value of the integrated pixel value profile and further dividing by (m1-m2), a top-hat profile with an amplitude of 1 (normalized) is obtained. In the profile, pixel positions arranged in the x direction are connected by line segments, and half of the distance in the x direction between two positions where the value is 0.25 is obtained as w 1 , and the value is 0.75. half the distance in the x direction between the two positions a is obtained as w 2. Then, by substituting the values of w 1 and w 2 into Equation 8, the initial value e0 of the coefficient e is obtained, and by substituting the values of the initial value e0 and w 1 of the coefficient e into Equation 9, the coefficient b The initial value b0 is obtained. The accumulated pixel value profile is approximately equivalent to a cross-sectional profile on a line passing through the center of the provisional attention area R1. Of course, the initial values e0 and b0 of the coefficients e and b may be obtained from the cross-sectional profile.

ステップS132では、数19を係数a〜fによりそれぞれ偏微分した数20ないし数25(ただし、数20ないし数24におけるZは数26にて表される。)を使用して数17を解くことにより、上記反復計算における係数a〜fの1回目の変更の際の変更量である差分値Δa〜Δfが求められる(ステップS132)。   In step S132, Equation 17 is solved by using Equation 20 to Equation 25 (where Z in Equation 20 to Equation 24 is represented by Equation 26) obtained by partial differentiation of Equation 19 with coefficients a to f. Thus, the difference values Δa to Δf, which are the change amounts when the coefficients a to f are changed for the first time in the iterative calculation, are obtained (step S132).

1回目の差分値Δa〜Δfが求められると、係数a〜fの初期値a0〜f0から差分値Δa〜Δfが減算され、次の係数a〜fが求められた後(ステップS133,S134)、ステップS132に戻る。そして、ステップS134にて求められた係数a〜fを使用した数17を解くことにより、次の差分値Δa〜Δfが求められ、現在の係数a〜fから当該次の差分値Δa〜Δfが減算されて新たな係数a〜fが求められる(ステップS132〜S134)。係数取得部822では、所定の終了条件が満たされるまで、ステップS132〜S134が繰り返される。   When the first difference values Δa to Δf are obtained, the difference values Δa to Δf are subtracted from the initial values a0 to f0 of the coefficients a to f to obtain the next coefficients a to f (steps S133 and S134). Return to step S132. Then, the next difference values Δa to Δf are obtained by solving the equation 17 using the coefficients a to f obtained in step S134, and the next difference values Δa to Δf are obtained from the current coefficients a to f. Subtraction is performed to obtain new coefficients a to f (steps S132 to S134). In the coefficient acquisition unit 822, steps S132 to S134 are repeated until a predetermined end condition is satisfied.

終了条件が満たされると、現在の係数a〜f(終了条件が満たされた際の係数a〜f)が数19に代入される。このようにして、数19に示すモデル関数(すなわち、略正方形状のモデル関数)の複数の係数a〜fが取得される。図17は、複数の係数a〜fが取得されたモデル関数が示す包含領域の画素値分布を示す図である。   When the end condition is satisfied, the current coefficients a to f (coefficients a to f when the end condition is satisfied) are substituted into Equation 19. In this manner, a plurality of coefficients a to f of the model function shown in Expression 19 (that is, a substantially square model function) are acquired. FIG. 17 is a diagram illustrating a pixel value distribution in an inclusion region indicated by a model function from which a plurality of coefficients a to f are acquired.

ステップS13が終了すると、位置取得部83では、複数の係数が取得された各注目領域R1に対するモデル関数に基づいて、撮像画像における当該注目領域R1の位置が取得される(ステップS14)。データ補正部84では、複数の注目領域R1の位置、すなわち、複数のパッドの位置に基づいて基板9の変形状態が取得され、設計データが、基板9の変形に合わせて補正される(ステップS15)。そして、補正された設計データ(補正済み設計データ)に基づいて、基板9上にパターンが描画される(ステップS16)。   When step S13 ends, the position acquisition unit 83 acquires the position of the region of interest R1 in the captured image based on the model function for each region of interest R1 from which a plurality of coefficients have been acquired (step S14). In the data correction unit 84, the deformation state of the substrate 9 is acquired based on the positions of the plurality of regions of interest R1, that is, the positions of the plurality of pads, and the design data is corrected in accordance with the deformation of the substrate 9 (step S15). ). Then, a pattern is drawn on the substrate 9 based on the corrected design data (corrected design data) (step S16).

以上に説明したように、本処理例では、注目領域R1が撮像画像中のパターン領域R0の一部であり、注目領域R1に対応する基板9上の領域が孔部を含む場合に、画像加工部821により、当該孔部を示す孔部領域R3の画素値が注目領域R1の他の領域の画素値に置き換えられる。そして、画像加工部821による加工済みの画像に基づいて、係数取得部822により、注目領域R1を表すモデル関数の複数の係数が取得される。これにより、注目領域R1が孔部領域R3を含む場合であっても、モデル関数の係数を適切に求めることができ、撮像画像中の注目領域R1の位置を高精度に測定することができる。   As described above, in this processing example, when the attention area R1 is a part of the pattern area R0 in the captured image and the area on the substrate 9 corresponding to the attention area R1 includes a hole, image processing is performed. The portion 821 replaces the pixel value of the hole region R3 indicating the hole with the pixel value of another region of the attention region R1. Then, based on the image processed by the image processing unit 821, the coefficient acquisition unit 822 acquires a plurality of coefficients of the model function representing the attention area R1. Thereby, even when the attention area R1 includes the hole area R3, the coefficient of the model function can be obtained appropriately, and the position of the attention area R1 in the captured image can be measured with high accuracy.

また、演算部82では、係数fの初期値f0が、撮像画像における注目領域R1の背景の明るさに基づいて決定され、係数eの初期値e0が、注目領域R1の断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定される。また、係数aの初期値a0が、注目領域R1の明るさと背景の明るさとの差に基づいて決定され、係数bの初期値b0が、係数eの初期値e0、および、注目領域R1のおよその大きさに基づいて決定される。さらに、係数c,dの初期値c0,d0が、それぞれ注目領域R1の略中心のx座標およびy座標に基づいて決定される。これにより、係数a〜fの初期値a0〜f0を、容易かつ適切に決定することができる。その結果、係数a〜fを高精度に決定することができ、注目領域R1を示す関数を高精度に求めることができる。   Further, in the calculation unit 82, the initial value f0 of the coefficient f is determined based on the background brightness of the attention area R1 in the captured image, and the initial value e0 of the coefficient e is the outer edge portion in the cross-sectional profile of the attention area R1. It is determined based on the inclination of. The initial value a0 of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the attention area R1 and the brightness of the background, and the initial value b0 of the coefficient b is approximately equal to the initial value e0 of the coefficient e and the attention area R1. Is determined based on the size of. Furthermore, initial values c0 and d0 of the coefficients c and d are determined based on the x coordinate and the y coordinate of the approximate center of the attention area R1, respectively. Thereby, the initial values a0 to f0 of the coefficients a to f can be determined easily and appropriately. As a result, the coefficients a to f can be determined with high accuracy, and a function indicating the attention area R1 can be obtained with high accuracy.

上記描画装置1およびデータ補正装置8では、様々な変更が可能である。   The drawing apparatus 1 and the data correction apparatus 8 can be variously changed.

略正方形状のモデル関数を表す数19は、n乗される値が正の値であるならば、偏微分可能であり、この場合、nが1よりも大きい実数であればよい。すなわち、略正方形状のモデル関数を表す数19は、nを1よりも大きい実数として、数27のように変形することが可能である。   The number 19 representing the approximately square model function can be partially differentiated if the value raised to the power of n is a positive value. In this case, n may be a real number larger than 1. That is, Equation 19 representing a substantially square model function can be modified as Equation 27, where n is a real number larger than 1.

上述の数5、数19および数27に示すモデル関数に含まれる複数の係数a〜fは、ガウス・ニュートン法およびレーベンバーグ・マルカート法以外の様々な最適化法により求められてもよい。この場合であっても、上記と同様に、注目領域R1を示す関数を高精度に求めることができる。   The plurality of coefficients a to f included in the model functions shown in the above equations 5, 19, and 27 may be obtained by various optimization methods other than the Gauss-Newton method and the Levenberg-Marquardt method. Even in this case, the function indicating the attention area R1 can be obtained with high accuracy in the same manner as described above.

円形状のモデル関数として数5以外の偏微分可能な関数が利用されてよく、略正方形状のモデル関数として数19および数27以外の偏微分可能な関数が利用されてよい。また、注目領域R1の形状は、円形状および略正方形状以外に、楕円形状や、およそ直交する2つの辺の長さが異なる略長方形状であってもよい。楕円形状のモデル関数や略長方形状のモデル関数は、円形状のモデル関数や略正方形状のモデル関数を適宜修正することにより準備される。以上のように、データ補正装置8では、略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域R1を含む撮像画像において、当該注目領域R1の画素値分布を偏微分可能なモデル関数にてモデル化することにより、撮像画像における略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域R1の位置を高精度に測定することが可能である。   A partial differentiable function other than Expression 5 may be used as the circular model function, and a partial differentiable function other than Expressions 19 and 27 may be used as the substantially square model function. In addition to the circular shape and the substantially square shape, the shape of the attention area R1 may be an elliptical shape or a substantially rectangular shape in which the lengths of two substantially orthogonal sides are different. The elliptical model function and the substantially rectangular model function are prepared by appropriately modifying the circular model function and the substantially square model function. As described above, the data correction device 8 models the pixel value distribution of the attention area R1 in the captured image including the attention area R1 having a substantially rectangular shape, a circular shape, or an elliptical shape with a model function that can be partially differentiated. This makes it possible to measure the position of the substantially rectangular, circular, or elliptical attention area R1 in the captured image with high accuracy.

演算部82では、例えば、図5の画像の全体が包含領域画像として扱われてもよい。この場合、画像加工部821では、所定の閾値にて図5の画像を二値化することにより、暫定的なパッド領域、当該パッド領域内の暫定的な孔部領域(注目領域R1)、および、当該パッド領域の周囲のパッド周囲領域が取得される。そして、パッド周囲領域の画素の画素値が、当該パッド領域において当該孔部領域を除く領域の画素値の代表値に置き換えられる。これにより、包含領域画像において、注目領域R1を除く領域の全体を背景として扱うことが可能となり、包含領域画像の全体における画素値分布を示すモデル関数の複数の係数を適切に取得することが可能となる。   In the calculation unit 82, for example, the entire image in FIG. 5 may be handled as an inclusion region image. In this case, the image processing unit 821 binarizes the image of FIG. 5 with a predetermined threshold value, so that a temporary pad region, a temporary hole region (attention region R1) in the pad region, and The pad surrounding area around the pad area is acquired. Then, the pixel value of the pixel in the pad peripheral area is replaced with the representative value of the pixel value in the area excluding the hole area in the pad area. Thereby, in the inclusion area image, the entire area excluding the attention area R1 can be handled as the background, and a plurality of coefficients of the model function indicating the pixel value distribution in the entire inclusion area image can be appropriately acquired. It becomes.

注目領域R1は、パッドや孔部(ビアまたはスルーホール)以外の基板9上の部位を示すものであってもよい。また、基板9上に描画されるパターンの設計データの補正は、異なる種類の参照部位をそれぞれ示す複数の注目領域R1の位置に基づいて行われてもよい。   The attention area R1 may indicate a portion on the substrate 9 other than the pad and the hole (via or through hole). Further, the correction of the design data of the pattern drawn on the substrate 9 may be performed based on the positions of the plurality of attention regions R1 that respectively indicate different types of reference parts.

描画装置1では、液晶表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、あるいは、半導体基板等の他の種類の基板にパターンが描画されてもよい。描画装置1におけるデータ補正装置8は、様々な種類の基板上に描画されるパターンの設計データの補正に利用可能である。   In the drawing apparatus 1, a pattern may be drawn on a glass substrate for a flat panel display device such as a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, or another type of substrate such as a semiconductor substrate. The data correction device 8 in the drawing apparatus 1 can be used for correcting design data of patterns drawn on various types of substrates.

データ補正装置8における位置測定部80は、位置測定装置として単独で使用されてもよく、位置測定装置では、基板以外の様々な対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置が測定されてよい。例えば、位置測定装置では、血液や培養液等の所定の液中の細胞を撮像した細胞画像において、細胞を示す注目領域の位置が測定されてもよい。   The position measurement unit 80 in the data correction device 8 may be used alone as a position measurement device. In the position measurement device, the position of a region of interest included in an image obtained by imaging various objects other than the substrate is measured. Good. For example, in the position measurement device, the position of a region of interest indicating a cell may be measured in a cell image obtained by imaging a cell in a predetermined liquid such as blood or a culture solution.

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。   The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.

8 データ補正装置
9 基板
80 位置測定部
81 画像記憶部
82 演算部
83 位置取得部
84 データ補正部
821 画像加工部
822 係数取得部
H1,H2 背景領域
R0 パターン領域
R1 注目領域
R2 配線領域
R3 孔部領域
S10〜S16,S11a,S131〜S134 ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 Data correction apparatus 9 Board | substrate 80 Position measurement part 81 Image storage part 82 Calculation part 83 Position acquisition part 84 Data correction part 821 Image processing part 822 Coefficient acquisition part H1, H2 Background area R0 Pattern area R1 Attention area R2 Wiring area R3 Hole Steps S10 to S16, S11a, S131 to S134

Claims (14)

対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する位置測定装置であって、
対象物を撮像して取得されるとともに、略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域を含む画像を記憶する画像記憶部と、
前記画像において前記注目領域の断面プロファイルがトップハット形状であり、前記注目領域の画素値分布を偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定することにより取得する演算部と、
前記複数の係数が取得された前記モデル関数に基づいて前記注目領域の位置を取得する位置取得部と、
を備えることを特徴とする位置測定装置。
A position measurement device that measures the position of a region of interest included in an image obtained by imaging an object,
An image storage unit that captures an image of an object and stores an image including a substantially rectangular, circular, or elliptical region of interest;
The cross-sectional profile of the region of interest in the image is a top hat shape, and the pixel value distribution of the region of interest is modeled with a model function that can be partially differentiated, and a plurality of coefficients included in the model function are optimized by the optimization method. An arithmetic unit to be acquired by determining;
A position acquisition unit that acquires the position of the region of interest based on the model function from which the plurality of coefficients are acquired;
A position measuring device comprising:
請求項1に記載の位置測定装置であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする位置測定装置。
The position measuring device according to claim 1,
A position measuring apparatus, wherein the optimization method is a Gauss-Newton method or a Levenberg-Marquardt method.
請求項1または2に記載の位置測定装置であって、
前記演算部において、前記注目領域の画素値分布が数1に示す円形状のモデル関数にて表現され、
前記複数の係数である数1中のa,b,c,d,e,fについて、
係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする位置測定装置。
The position measuring device according to claim 1 or 2,
In the calculation unit, the pixel value distribution of the region of interest is represented by a circular model function shown in Equation 1,
For a, b, c, d, e, and f in Equation 1, which are the plurality of coefficients,
An initial value of the coefficient f is determined based on the background brightness of the region of interest in the image;
An initial value of the coefficient e is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest;
An initial value of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the region of interest and the brightness of the background;
An initial value of the coefficient b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the region of interest;
An initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the region of interest;
An initial value of the coefficient d is determined based on the y-coordinate of the approximate center of the region of interest.
請求項1または2に記載の位置測定装置であって、
前記演算部において、前記注目領域の画素値分布が数2に示す略正方形状のモデル関数(ただし、nは1よりも大きい実数)にて表現され、
前記複数の係数である数2中のa,b,c,d,e,fについて、
係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする位置測定装置。
The position measuring device according to claim 1 or 2,
In the calculation unit, the pixel value distribution of the region of interest is expressed by a substantially square model function (where n is a real number greater than 1) represented by Equation 2,
Regarding a, b, c, d, e, and f in Equation 2, which are the plurality of coefficients,
An initial value of the coefficient f is determined based on the background brightness of the region of interest in the image;
An initial value of the coefficient e is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest;
An initial value of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the region of interest and the brightness of the background;
An initial value of the coefficient b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the region of interest;
An initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the region of interest;
An initial value of the coefficient d is determined based on the y-coordinate of the approximate center of the region of interest.
請求項1ないし4のいずれかに記載の位置測定装置であって、
前記対象物がパターンが形成された基板であり、
前記注目領域が、前記パターンの一部、または、前記基板に形成された孔部を示すことを特徴とする位置測定装置。
The position measuring device according to any one of claims 1 to 4,
The object is a substrate on which a pattern is formed;
The position measuring device, wherein the region of interest indicates a part of the pattern or a hole formed in the substrate.
請求項5に記載の位置測定装置であって、
前記注目領域が、前記画像中の前記パターンを示すパターン領域の一部であり、
前記演算部が、
前記注目領域が前記パターン領域の他の一部と接続する場合に前記パターン領域の前記他の一部をマスクする、または、前記注目領域に対応する前記基板上の領域が孔部を含む場合に前記孔部を示す領域の画素値を前記注目領域の他の領域の画素値に置き換える画像加工部と、
前記画像加工部による加工済みの画像に基づいて、前記複数の係数を取得する係数取得部と、
を備えることを特徴とする位置測定装置。
The position measuring device according to claim 5,
The region of interest is a part of a pattern region indicating the pattern in the image;
The computing unit is
When the attention area is connected to another part of the pattern area, the other part of the pattern area is masked, or the area on the substrate corresponding to the attention area includes a hole. An image processing unit that replaces a pixel value of a region indicating the hole with a pixel value of another region of the region of interest;
A coefficient acquisition unit that acquires the plurality of coefficients based on an image processed by the image processing unit;
A position measuring device comprising:
基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正装置であって、
基板を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する請求項1ないし6のいずれかに記載の位置測定装置と、
前記注目領域の位置に基づいて、基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正部と、
を備えることを特徴とするデータ補正装置。
A data correction apparatus for correcting design data of a pattern drawn on a substrate,
The position measuring device according to any one of claims 1 to 6, which measures a position of a region of interest included in an image obtained by imaging a substrate;
A data correction unit that corrects design data of a pattern drawn on the substrate based on the position of the region of interest;
A data correction apparatus comprising:
対象物を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する位置測定方法であって、
a)対象物を撮像して取得されるとともに、略矩形状、円形状または楕円形状の注目領域を含む画像を準備する工程と、
b)前記画像において前記注目領域の断面プロファイルがトップハット形状であり、前記注目領域の画素値分布を偏微分可能なモデル関数にてモデル化し、前記モデル関数に含まれる複数の係数を最適化法にて決定することにより取得する工程と、
c)前記複数の係数が取得された前記モデル関数に基づいて前記注目領域の位置を取得する工程と、
を備えることを特徴とする位置測定方法。
A position measurement method for measuring the position of a region of interest included in an image obtained by capturing an object,
a) obtaining an image of an object and preparing an image including a substantially rectangular, circular, or elliptical region of interest;
b) The cross-sectional profile of the region of interest in the image has a top hat shape, the pixel value distribution of the region of interest is modeled with a model function that can be partially differentiated, and a plurality of coefficients included in the model function are optimized Acquiring by deciding in
c) obtaining the position of the region of interest based on the model function from which the plurality of coefficients have been obtained;
A position measuring method comprising:
請求項8に記載の位置測定方法であって、
前記最適化法が、ガウス・ニュートン法またはレーベンバーグ・マルカート法であることを特徴とする位置測定方法。
The position measuring method according to claim 8,
The position measuring method, wherein the optimization method is a Gauss-Newton method or a Levenberg-Marquardt method.
請求項8または9に記載の位置測定方法であって、
前記b)工程において、前記注目領域の画素値分布が数3に示す円形状のモデル関数にて表現され、
前記複数の係数である数3中のa,b,c,d,e,fについて、
係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする位置測定方法。
The position measurement method according to claim 8 or 9, wherein
In the step b), the pixel value distribution of the region of interest is expressed by a circular model function shown in Equation 3,
For a, b, c, d, e, and f in Equation 3, which are the plurality of coefficients,
An initial value of the coefficient f is determined based on the background brightness of the region of interest in the image;
An initial value of the coefficient e is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest;
An initial value of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the region of interest and the brightness of the background;
An initial value of the coefficient b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the region of interest;
An initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the region of interest;
An initial value of the coefficient d is determined based on the y-coordinate of the approximate center of the region of interest.
請求項8または9に記載の位置測定方法であって、
前記b)工程において、前記注目領域の画素値分布が数4に示す略正方形状のモデル関数(ただし、nは1よりも大きい実数)にて表現され、
前記複数の係数である数4中のa,b,c,d,e,fについて、
係数fの初期値が、前記画像における前記注目領域の背景の明るさに基づいて決定され、
係数eの初期値が、前記注目領域の前記断面プロファイルにおける外縁部での傾きに基づいて決定され、
係数aの初期値が、前記注目領域の明るさと前記背景の明るさとの差に基づいて決定され、
係数bの初期値が、前記係数eの初期値、および、前記注目領域の大きさに基づいて決定され、
係数cの初期値が、前記注目領域の略中心のx座標に基づいて決定され、
係数dの初期値が、前記注目領域の前記略中心のy座標に基づいて決定されることを特徴とする位置測定方法。
The position measurement method according to claim 8 or 9, wherein
In the step b), the pixel value distribution of the region of interest is expressed by a substantially square model function (where n is a real number greater than 1) shown in Equation 4,
For a, b, c, d, e, and f in Equation 4, which are the plurality of coefficients,
An initial value of the coefficient f is determined based on the background brightness of the region of interest in the image;
An initial value of the coefficient e is determined based on an inclination at an outer edge in the cross-sectional profile of the region of interest;
An initial value of the coefficient a is determined based on the difference between the brightness of the region of interest and the brightness of the background;
An initial value of the coefficient b is determined based on the initial value of the coefficient e and the size of the region of interest;
An initial value of the coefficient c is determined based on the x coordinate of the approximate center of the region of interest;
An initial value of the coefficient d is determined based on the y-coordinate of the approximate center of the region of interest.
請求項8ないし11のいずれかに記載の位置測定方法であって、
前記対象物がパターンが形成された基板であり、
前記注目領域が、前記パターンの一部、または、前記基板に形成された孔部を示すことを特徴とする位置測定方法。
The position measuring method according to any one of claims 8 to 11,
The object is a substrate on which a pattern is formed;
The position measurement method, wherein the region of interest indicates a part of the pattern or a hole formed in the substrate.
請求項12に記載の位置測定方法であって、
前記注目領域が、前記画像中の前記パターンを示すパターン領域の一部であり、
前記b)工程が、
b1)前記注目領域が前記パターン領域の他の一部と接続する場合に前記パターン領域の前記他の一部をマスクする、または、前記注目領域に対応する前記基板上の領域が孔部を含む場合に前記孔部を示す領域の画素値を前記注目領域の他の領域の画素値に置き換える工程と、
b2)前記b1)工程による加工済みの画像に基づいて、前記複数の係数を取得する工程と、
を備えることを特徴とする位置測定方法。
The position measuring method according to claim 12, comprising:
The region of interest is a part of a pattern region indicating the pattern in the image;
Step b)
b1) Masking the other part of the pattern area when the attention area is connected to another part of the pattern area, or the area on the substrate corresponding to the attention area includes a hole Replacing the pixel value of the region indicating the hole with the pixel value of the other region of the region of interest;
b2) acquiring the plurality of coefficients based on the processed image in the step b1);
A position measuring method comprising:
基板上に描画されるパターンの設計データを補正するデータ補正方法であって、
基板を撮像した画像に含まれる注目領域の位置を測定する請求項8ないし13のいずれかに記載の位置測定方法と、
前記注目領域の位置に基づいて、基板上に描画されるパターンの設計データを補正する工程と、
を備えることを特徴とするデータ補正方法。
A data correction method for correcting design data of a pattern drawn on a substrate,
The position measurement method according to any one of claims 8 to 13, which measures the position of a region of interest included in an image obtained by imaging a substrate,
Correcting the design data of the pattern drawn on the substrate based on the position of the region of interest;
A data correction method comprising:
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