JP6353028B2 - 磁気共鳴画像診断用コイルシステム - Google Patents
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Description
本願は、2013年3月14日に出願された、米国特許仮出願第61/784,787号について米国特許法119条に基づきその利益を主張するものであり、この文献の内容は、その全体を参照することにより本明細書に組み込まれる。
Imaging”という標題の発行された米国特許第7,970,452号を参照して、患者支持構造体内に組み込むことができ、この文献は、その全体を参考することにより本明細書に組み込まれ、これ以降‘452特許と呼ぶことにする。1つのセットのコイル圧迫プレートのみが示されているが、追加セットのコイル圧迫プレートを両側性撮像のために使用できることが理解される。
Claims (15)
- 患者の乳房を撮像するように構成された主磁場を有する、MRIシステムで使用するためのRFコイル圧迫システムであって、当該システムは:
前記患者の乳房に隣接するように構成された、第1の複数のRFコイル要素を含む第1の圧迫プレートであって、第1の圧迫プレートは、前記主磁場の方向に対して直交し且つ前記患者の頭尾方向に対しても直交するように向き合せされた面内に位置付けされており、前記主磁場の方向及び前記頭尾方向は、互いに一致しており、第1のRFコイル要素は、前記乳房を通る第1方向に実質的に向き合せされたB1磁場に対する受信感度を有しており、第1方向は、前記MRIシステムの前記主磁場に対して直交するように構成される、第1の圧迫プレートと;
第1の圧迫プレートの反対側であって、前記乳房の他方の側に位置付けされ且つ第1の圧迫プレートに対して平行であって、前記頭尾方向に対しても直交するように構成された第2の圧迫プレートであって、第2の圧迫プレートは、第2の複数のRFコイル要素を含み、第2の複数のRFコイル要素は、第1方向に対して実質的に直交し且つ前記患者の乳房を通る前記MRIシステムの前記主磁場に対して実質的に対して直交する方向に向き合せされたB1磁場に対する受信感度を有する、第2の圧迫プレートと;を有する、
RFコイル圧迫システム。 - 第1及び第2の圧迫プレートは、前記患者の乳房を前記頭尾方向に圧迫するように構成されており、及び/又は第1及び第2の圧迫プレートは、前記患者の乳房の周囲に部分的にフィットするように輪郭形成される、
請求項1に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1及び第2の圧迫プレートは、患者支持構造体に一体化される、
請求項1に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1の圧迫プレートは、第2の圧迫プレートに対して可動式に結合されており、第1及び第2の圧迫プレートの間に前記患者の乳房を固定するために、第1及び第2の圧迫プレートが前記頭尾方向に沿って一緒に移動するのを可能にする、
請求項1,2又は3に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1の複数のRFコイル要素及び第2の複数のRFコイル要素は、それぞれ、第2のバタフライRFコイル要素に隣接して配置された第1のバタフライRFコイル要素を含み、第1のバタフライRFコイル要素は、第1及び第2のバタフライRFコイル要素の長さに沿って第2のバタフライRFコイル要素と重なるように構成される、
請求項1に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1及び第2の複数のRFコイル要素は、それぞれ、第4のバタフライRFコイル要素に隣接して配置された第3のバタフライRFコイル要素を含み、第3のバタフライRFコイル要素は、第3及び第4のバタフライRFコイル要素の長さに沿って第4のバタフライRFコイル要素に重なるように構成される、
請求項5に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1のバタフライRFコイル要素は、第1及び第3のバタフライRFコイル要素の幅に沿って第3のバタフライRFコイル要素と重なる、
請求項6に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第2のバタフライRFコイル要素は、第2及び第4のバタフライRFコイル要素の幅に沿って第4のバタフライRFコイル要素と重なる、
請求項5,6又は7に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1のバタフライRFコイル要素、第2のバタフライRFコイル要素、第3のバタフライRFコイル要素、及び第4のバタフライRFコイル要素が、各バタフライRFコイル要素の中央領域でそれぞれ重なる、
請求項8に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1の複数のRFコイル要素及び第2の複数のRFコイル要素は、それぞれ、第2のバタフライRFコイル要素に隣接して配置された第3のバタフライRFコイル要素、及び第3のバタフライRFコイル要素に隣接して配置された第4のバタフライRFコイル要素をさらに含む、
請求項5,6又は7に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第3のバタフライRFコイル要素は、第2及び第3のバタフライRFコイル要素の長さに沿って第2のバタフライRFコイル要素に重なるように構成され、第4のバタフライRFコイル要素は、第2及び第3のバタフライRFコイル要素の長さに沿って第3のバタフライRFコイル要素と重なるように構成される、
請求項10に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1のバタフライRFコイル要素の中間部での長さに沿って配置された第1のストリップラインRFコイル要素、及び第2のバタフライRFコイル要素の中間部での長さに沿って配置された第2のストリップラインRFコイル要素をさらに含む、
請求項10に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第3のバタフライRFコイル要素の中間部での長さに沿って配置された第3のストリップラインRFコイル要素、及び第4のバタフライRFコイル要素の中間部での長さに沿って配置された第4のストリップラインRFコイル要素をさらに含む、
請求項11に記載のRFコイル圧迫システム。 - 第1のバタフライRFコイル要素及び第2のRFコイルバタフライ要素は、第1及び第2の圧迫プレートの形状に輪郭形成される、
請求項5,6又は7に記載のRFコイル圧迫システム。 - 患者の乳房を撮像する方法であって、当該方法は:
第1の複数のRFコイル要素を有する第1の圧迫プレートを患者の乳房に隣接して位置付けするステップであって、第1の圧迫プレートを位置するステップは、MRIシステムの主磁場の方向に対して直交し且つ前記患者の頭尾方向に対しても直交するように向き合せされた面内に第1の圧迫プレートを位置付けするステップを含み、前記主磁場の方向及び前記頭尾方向は、互いに一致しており、第1のRFコイル要素は、前記乳房を通る第1方向に実質的に向き合せされたB1磁場に対する受信感度を有しており、第1方向は、位置付けされたときに、前記MRIシステムの前記主磁場に対して直交するように構成される、位置付けするステップと;
第1の圧迫プレートの反対側であって、前記患者の乳房の他方に側に且つ第1の圧迫プレートに対して平行であって、前記頭尾方向に対しても直交するように第2の圧迫プレートを位置付けするステップであって、第2の圧迫プレートは、第2の複数のRFコイル要素を有しており、第2の複数のRFコイル要素は、第1方向に対して実質的に直交し且つ前記患者の乳房を通る前記MRIシステムの前記主磁場に対して実質的に直交する方向に向き合せされたB1磁場に対する受信感度を有する、位置付けするステップと;を含む、
方法。
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