JP6345308B1 - Resonator coupling structure and resonator stack - Google Patents

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Abstract

【課題】2体の共振器の結合窓の位置ずれが共振器スタックの周波数特性に及ぼす影響を小さくする。【解決手段】本開示の結合構造は、第一誘電体と、前記第一誘電体を挟んで互いに対向した第一導体層及び第二導体層と、前記第一誘電体を貫通するとともに前記第一導体層及び前記第二導体層に接続され、枠状に配列された複数の第一導体ポストと、を有した第一共振器と、第二誘電体と、前記第二誘電体を挟んで互いに対向した第三導体層及び第四導体層と、前記第二誘電体を貫通するともに前記第三導体層及び前記第四導体層に接続され、枠状に配列された複数の第二導体ポストと、を有した第二共振器とを、前記第二導体層と前記第三導体層を対向させた状態で結合する構造であって、前記第二導体層に形成された第一結合窓と、前記第三導体層に形成された第二結合窓と、前記第二導体層と前記第三導体層を接合して、前記第一結合窓と前記第二結合窓を囲繞する導電性接合部と、を備える。【選択図】図2An object of the present invention is to reduce the influence of the displacement of the coupling window of two resonators on the frequency characteristics of a resonator stack. A coupling structure according to the present disclosure includes a first dielectric, a first conductor layer and a second conductor layer facing each other with the first dielectric interposed therebetween, and the first dielectric and the first dielectric. A first resonator having a plurality of first conductor posts connected to one conductor layer and the second conductor layer and arranged in a frame shape, a second dielectric, and sandwiching the second dielectric A third conductor layer and a fourth conductor layer facing each other, and a plurality of second conductor posts that penetrate the second dielectric and are connected to the third conductor layer and the fourth conductor layer and arranged in a frame shape And a second resonator having a first coupling window formed in the second conductor layer, wherein the second conductor layer and the third conductor layer are opposed to each other. Joining the second coupling window formed in the third conductor layer, the second conductor layer and the third conductor layer, and Comprising a conductive joint which surrounds the window and the second coupling window, a. [Selection] Figure 2

Description

本発明は、共振器の結合構造及び共振器スタックに関する。   The present invention relates to a resonator coupling structure and a resonator stack.

従来のポスト壁導波路は、プリント回路基板の製造技術を利用して低コストで製造される。そのポスト壁導波路の誘電体基板の両面に導体層が形成され、配列された多数の導電性ポスト(ビアホール)が誘電体基板を貫通するように形成され、これら導電性ポストによって両側の導体層が導通している。導電性ポストの列が擬似的な導体壁として機能し、導電性ポストの列及び導体層によって囲われた領域が導波路として機能する。   Conventional post-wall waveguides are manufactured at low cost using printed circuit board manufacturing techniques. Conductive layers are formed on both surfaces of the dielectric substrate of the post-wall waveguide, and a large number of arranged conductive posts (via holes) are formed so as to penetrate the dielectric substrate, and the conductive layers on both sides are formed by these conductive posts. Is conducting. The row of conductive posts functions as a pseudo conductor wall, and the region surrounded by the row of conductive posts and the conductor layer functions as a waveguide.

非特許文献1には、ポスト壁導波路を用いた共振器直結フィルタが開示されている。この共振器直結フィルタは、2列の導電性ポスト列の間の導波路の両端が擬似的な短絡壁用のポスト列によって短絡されているとともに、その導波路が擬似的なアイリス壁用のポスト列によって絞られることによってアイリス壁の両側の共振器がアイリス壁の誘導性窓を介して結合されたものである。アイリス壁用のポスト列及び短絡壁用のポスト列の導電性ポストも、誘電体基板を貫通するように誘電体基板に形成されている。   Non-Patent Document 1 discloses a resonator direct-coupled filter using a post-wall waveguide. In this resonator direct-coupled filter, both ends of the waveguide between two conductive post rows are short-circuited by a post row for a pseudo short-circuit wall, and the waveguide is a post for a pseudo iris wall. By being squeezed by the row, the resonators on both sides of the iris wall are coupled through the inductive window of the iris wall. The conductive posts of the post row for the iris wall and the post row for the short-circuit wall are also formed on the dielectric substrate so as to penetrate the dielectric substrate.

非特許文献1に記載の技術は、同一の誘電体基板に形成された共振器を結合する技術である。一方、非特許文献2に記載の技術は、別々の誘電体基板に形成された共振器を結合したものである。具体的には、2枚の誘電体基板にはポスト列によって囲繞された共振器が形成されており、これら誘電体基板が積み重ねられ、一方の誘電体基板の導体層と他方の誘電体基板の導体層が接合され、これら導体層には結合窓が形成され、これら結合窓が互いに対向している。   The technique described in Non-Patent Document 1 is a technique for coupling resonators formed on the same dielectric substrate. On the other hand, the technique described in Non-Patent Document 2 combines resonators formed on separate dielectric substrates. Specifically, a resonator surrounded by a post row is formed on two dielectric substrates, and these dielectric substrates are stacked, and a conductor layer of one dielectric substrate and a dielectric layer of the other dielectric substrate are stacked. The conductor layers are joined, and coupling windows are formed in these conductor layers, and these coupling windows face each other.

Yusuke Uemichi, Osamu Nukaga, Kei Nakamura, Xu Han, Ryouhei Hosono, Ning Guan1 and Shuhei Amakawa, “Compact and low-loss bandpass filter realized in silica-based post-wall waveguide for 60-GHz applications”, IEEE MTTS-S IMS, May 2015Yusuke Uemichi, Osamu Nukaga, Kei Nakamura, Xu Han, Ryouhei Hosono, Ning Guan1 and Shuhei Amakawa, “Compact and low-loss bandpass filter realized in silica-based post-wall waveguide for 60-GHz applications”, IEEE MTTS-S IMS , May 2015 Zhang Cheng Hao, Wei Hong, Xiao Ping Chen, Ji Xin Chen, Ke Wu and Tie Jun Cui, “Multilayered Substrate Integrated Waveguide (MSIW) Elliptic Filter”, IEEE Microwave and Wireless Components Letters, VOL. 15, NO. 2, February 2005Zhang Cheng Hao, Wei Hong, Xiao Ping Chen, Ji Xin Chen, Ke Wu and Tie Jun Cui, “Multilayered Substrate Integrated Waveguide (MSIW) Elliptic Filter”, IEEE Microwave and Wireless Components Letters, VOL. 15, NO. 2, February 2005

ところで、非特許文献2には、2枚の誘電体基板がどのように積み重ねられ、一方の誘電体基板の導体層と他方の誘電体基板の導体層がどのように接合されているか開示されていない。2枚の誘電体基板を積み重ねて、両方の導体層を接合する過程において、両方の結合窓の位置がずれてしまい、結合窓の縁と結合窓の縁が一致しないことがある。その場合、両方の結合窓の位置ずれに伴って、共振器スタックの周波数特性が変化して、設計通りの特性とならない。   By the way, Non-Patent Document 2 discloses how two dielectric substrates are stacked and how a conductor layer of one dielectric substrate and a conductor layer of the other dielectric substrate are joined. Absent. In the process of stacking two dielectric substrates and joining both conductor layers, the positions of both coupling windows may be misaligned, and the edges of the coupling window and the coupling window may not coincide. In that case, the frequency characteristics of the resonator stack change with the displacement of both coupling windows, and the designed characteristics are not achieved.

そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、積み重ねて結合した2体の共振器の結合窓同士が位置ずれしても、それら共振器を結合してなるスタックの周波数特性に及ぼす影響が小さくなるようにすることである。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances. An object of the present invention is to reduce the influence on the frequency characteristics of a stack formed by coupling the resonators even if the coupling windows of the two resonators stacked and coupled are displaced. .

上記目的を達成するための主たる発明は、第一誘電体と、前記第一誘電体を挟んで互いに対向した第一導体層及び第二導体層と、前記第一誘電体を貫通するとともに前記第一導体層及び前記第二導体層に接続され、枠状に配列された複数の第一導体ポストと、を有した第一共振器と、第二誘電体と、前記第二誘電体を挟んで互いに対向した第三導体層及び第四導体層と、前記第二誘電体を貫通するとともに前記第三導体層及び前記第四導体層に接続され、枠状に配列された複数の第二導体ポストと、を有した第二共振器とを、前記第二導体層と前記第三導体層を対向させた状態で結合する構造であって、前記第二導体層に形成された第一結合窓と、前記第三導体層に形成された第二結合窓と、前記第二導体層と前記第三導体層を接合して、前記第一結合窓と前記第二結合窓を囲繞する導電性接合部と、前記第二導体層を被覆するとともに、前記第一結合窓内において前記第一誘電体を被覆する樹脂製の第一誘電体膜と、前記第三導体層を被覆するとともに、前記第二結合窓内において前記第二誘電体を被覆する樹脂製の第二誘電体膜と、を備え、前記第一誘電体膜には前記第一結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第二導体層に接合され、前記第二誘電体膜には前記第二結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第三導体層に接合されている共振器の結合構造である。
A main invention for achieving the above object includes a first dielectric, a first conductor layer and a second conductor layer facing each other across the first dielectric, the first dielectric, and the first dielectric. A first resonator having a plurality of first conductor posts connected to one conductor layer and the second conductor layer and arranged in a frame shape, a second dielectric, and sandwiching the second dielectric A third conductor layer and a fourth conductor layer facing each other, and a plurality of second conductor posts penetrating the second dielectric and connected to the third conductor layer and the fourth conductor layer and arranged in a frame shape And a second resonator having a first coupling window formed in the second conductor layer, wherein the second conductor layer and the third conductor layer are opposed to each other. A second coupling window formed in the third conductor layer, and joining the second conductor layer and the third conductor layer to each other; A conductive joint surrounding the said the first coupling window second coupling window, said with to cover the second conductive layer, first dielectric made of resin that covers the first dielectric in the first binding within the window And a resin-made second dielectric film covering the third conductor layer and covering the second dielectric in the second coupling window, the first dielectric film comprising: A frame-like groove is formed to surround the first coupling window, and the conductive joint is joined to the second conductor layer through the groove, and the second dielectric film surrounds the second coupling window. In this resonator structure, a frame-like groove is formed, and the conductive joint is joined to the third conductor layer through the groove .

本発明の他の特徴については、後述する明細書及び図面の記載により明らかにする。   Other characteristics of the present invention will be made clear by the description and drawings described later.

本発明の幾つかの実施形態によれば、第一結合窓と第二結合窓の位置ずれは、第一共振器と第二共振器を結合してなるスタックの周波数特性に大きな影響を及ぼさない。   According to some embodiments of the present invention, the displacement of the first coupling window and the second coupling window does not significantly affect the frequency characteristics of the stack formed by coupling the first resonator and the second resonator. .

図1は、第一共振器と第二共振器のスタックの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a stack of a first resonator and a second resonator. 図2は、第一共振器と第二共振器のスタックの分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of a stack of the first resonator and the second resonator. 図3は、第一共振器及び第二共振器の結合窓及びその周囲の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of the coupling window of the first resonator and the second resonator and the surroundings thereof. 図4は、入出力用のポートが設けられた共振器スタックの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of a resonator stack provided with input / output ports. 図5は、図4に示す共振器スタックの分解斜視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view of the resonator stack shown in FIG. 図6は、多段に積み重ねられた共振器からなる共振器直結フィルタの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a resonator direct connection filter including resonators stacked in multiple stages. 図7は、第一共振器と第二共振器が導電性接合部によって接合されている場合の周波数特性を示したグラフである。FIG. 7 is a graph showing frequency characteristics when the first resonator and the second resonator are joined by the conductive joint. 図8は、第一共振器と第二共振器が直接接合されている場合の周波数特性を示したグラフである。FIG. 8 is a graph showing frequency characteristics when the first resonator and the second resonator are directly joined. 図9は、導電性接合部の結合開口のサイズごとの周波数特性を示したグラフである。FIG. 9 is a graph showing frequency characteristics for each size of the coupling opening of the conductive joint. 図10は、導電性接合部の厚みごとの周波数特性を示したグラフである。FIG. 10 is a graph showing frequency characteristics for each thickness of the conductive joint. 図11は、銅の微粒子を添加したはんだ接合部のX線写真である。FIG. 11 is an X-ray photograph of a solder joint to which copper fine particles are added. 図12は、銅の微粒子を添加していないはんだ接合部のX線写真である。FIG. 12 is an X-ray photograph of a solder joint to which copper fine particles are not added. 図13は、銅の微粒子を添加していないはんだ接合部のX線写真である。FIG. 13 is an X-ray photograph of a solder joint to which copper fine particles are not added.

後述する明細書及び図面の記載から、少なくとも以下の事項が明らかとなる。   At least the following matters will be apparent from the description and drawings described below.

第一誘電体と、前記第一誘電体を挟んで互いに対向した第一導体層及び第二導体層と、前記第一誘電体を貫通するとともに前記第一導体層及び前記第二導体層に接続され、枠状に配列された複数の第一導体ポストと、を有した第一共振器と、第二誘電体と、前記第二誘電体を挟んで互いに対向した第三導体層及び第四導体層と、前記第二誘電体を貫通するとともに前記第三導体層及び前記第四導体層に接続され、枠状に配列された複数の第二導体ポストと、を有した第二共振器とを、前記第二導体層と前記第三導体層を対向させた状態で結合する構造であって、前記第二導体層に形成された第一結合窓と、前記第三導体層に形成された第二結合窓と、前記第二導体層と前記第三導体層を接合して、前記第一結合窓と前記第二結合窓を囲繞する導電性接合部と、を備える共振器の結合構造が明らかとなる。
このような結合構造であれば、第一結合窓と第二結合窓の位置ずれは、第一共振器と第二共振器を結合してなるスタックの周波数特性に大きな影響を及ぼさない。
A first dielectric, a first conductor layer and a second conductor layer facing each other with the first dielectric interposed therebetween, and penetrating the first dielectric and connected to the first conductor layer and the second conductor layer A first resonator having a plurality of first conductor posts arranged in a frame shape, a second dielectric, and a third conductor layer and a fourth conductor facing each other across the second dielectric A second resonator having a layer, and a plurality of second conductor posts that penetrate the second dielectric and are connected to the third conductor layer and the fourth conductor layer and arranged in a frame shape, The second conductor layer and the third conductor layer are coupled to face each other, the first coupling window formed in the second conductor layer, and the first conductor window formed in the third conductor layer. The two coupling windows, the second conductor layer, and the third conductor layer are joined to surround the first coupling window and the second coupling window. And conductive junction coupling structure of the resonator will be made clear with the.
With such a coupling structure, the positional deviation between the first coupling window and the second coupling window does not significantly affect the frequency characteristics of the stack formed by coupling the first resonator and the second resonator.

前記導電性接合部が、はんだを有する。
これにより、第二導体層と第三導体層を容易に接合することができるとともに、導電性接合部による接合に要するコストが低い。
The conductive joint has solder.
Thereby, while being able to join a 2nd conductor layer and a 3rd conductor layer easily, the cost required for joining by an electroconductive junction part is low.

前記導電性接合部が、前記はんだを母材として前記はんだに分散した銅の粒子を有する。
これにより、導電性接合部の形成時にはんだが第二導体層と第三導体層に濡れやすく、導電性接合部が良好に形成される。
The conductive joint has copper particles dispersed in the solder using the solder as a base material.
Thereby, the solder easily wets the second conductor layer and the third conductor layer when the conductive joint portion is formed, and the conductive joint portion is formed well.

前記銅の粒子の粒径が15〜25μmである。   The copper particles have a particle size of 15 to 25 μm.

前記結合構造が、前記第二導体層を被覆するとともに、前記第一結合窓内において前記第一誘電体を被覆する樹脂製の第一誘電体膜と、前記第三導体層を被覆するとともに、前記第二結合窓内において前記第二誘電体を被覆する樹脂製の第二誘電体膜と、を更に備え、前記第一誘電体膜には前記第一結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第二導体層に接合され、前記第二誘電体膜には前記第二結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第二導体層に接合されている。   The coupling structure covers the second conductor layer, covers the first dielectric film made of resin that covers the first dielectric in the first coupling window, and the third conductor layer, A resin-made second dielectric film covering the second dielectric in the second coupling window, and the first dielectric film has a frame-shaped groove so as to surround the first coupling window The conductive joint is joined to the second conductor layer through the groove, and a frame-like groove is formed in the second dielectric film so as to surround the second coupling window. The conductive joint is joined to the second conductor layer.

前記結合構造と、前記第一共振器と、前記第二共振器と、を備える共振器スタックであって、前記第一共振器が、前記第一導体層、前記第二導体層及び前記第一導体ポストによって囲われた領域内の電界又は磁界を外部に結合する端子を有し、前記第二共振器が、前記第三導体層、前記第四導体層及び前記第二導体ポストによって囲われた領域内の電界又は磁界を外部に結合する端子を有する。
これにより、第一共振器及び第二共振器に対して信号の入出力を行える。
A resonator stack comprising the coupling structure, the first resonator, and the second resonator, wherein the first resonator includes the first conductor layer, the second conductor layer, and the first resonator. A terminal for externally coupling an electric or magnetic field in a region surrounded by the conductor post, wherein the second resonator is surrounded by the third conductor layer, the fourth conductor layer, and the second conductor post; A terminal for externally coupling an electric or magnetic field in the region;
As a result, signals can be input and output to the first resonator and the second resonator.

===実施の形態===
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
=== Embodiment ===
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the embodiments described below are given various technically preferable limitations for carrying out the present invention, but the scope of the present invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

図1は結合構造1及びそれを用いた共振器スタック2の斜視図であり、図2は共振器スタック2の分解斜視図である。図1及び図2には、方向を表す補助線としてX軸、Y軸及びZ軸を図示する。これらX軸、Y軸及びZ軸は互いに直交する。
共振器スタック2は、第一共振器10と、それに積み重ねられる第二共振器30と、これら共振器10,30を結合する結合構造1とを備える。結合構造1は、第一共振器10に設けられた第一結合窓71と、第二共振器30に設けられた第二結合窓72とを介して、第一共振器10と第二共振器30を電界又は磁界により結合するものである。まず、第一共振器10及び第二共振器30について説明する。
FIG. 1 is a perspective view of a coupling structure 1 and a resonator stack 2 using the same, and FIG. 2 is an exploded perspective view of the resonator stack 2. 1 and 2 illustrate the X axis, the Y axis, and the Z axis as auxiliary lines representing directions. These X axis, Y axis and Z axis are orthogonal to each other.
The resonator stack 2 includes a first resonator 10, a second resonator 30 stacked on the first resonator 10, and a coupling structure 1 that couples the resonators 10 and 30. The coupling structure 1 includes a first resonator 10 and a second resonator via a first coupling window 71 provided in the first resonator 10 and a second coupling window 72 provided in the second resonator 30. 30 is coupled by an electric field or a magnetic field. First, the first resonator 10 and the second resonator 30 will be described.

第一共振器10は、第一誘電体基板11、第一導体層12、第二導体層13及びポスト列を備える。ここで、ポスト列は、複数の柱状又は筒状の第一導体ポスト21の配列をいう。   The first resonator 10 includes a first dielectric substrate 11, a first conductor layer 12, a second conductor layer 13, and a post row. Here, the post row refers to an arrangement of a plurality of columnar or cylindrical first conductor posts 21.

第一誘電体基板11は、石英ガラスからなる矩形状の平板である。第一誘電体基板11の一方の面には第一導体層12が形成され、第一誘電体基板11の他方の面には第二導体層13が形成されている。第一導体層12と第二導体層13は、これらの間に第一誘電体基板11を挟んで互いに対向するとともに、互いに平行に設けられている。なお、図1及び図2において、第一誘電体基板11の両面がX軸及びY軸に対して平行であり、第一誘電体基板11の厚み方向がZ軸に対して平行である。   The first dielectric substrate 11 is a rectangular flat plate made of quartz glass. A first conductor layer 12 is formed on one surface of the first dielectric substrate 11, and a second conductor layer 13 is formed on the other surface of the first dielectric substrate 11. The first conductor layer 12 and the second conductor layer 13 are opposed to each other with the first dielectric substrate 11 interposed therebetween, and are provided in parallel to each other. 1 and 2, both surfaces of the first dielectric substrate 11 are parallel to the X axis and the Y axis, and the thickness direction of the first dielectric substrate 11 is parallel to the Z axis.

第一誘電体基板11の一方の面から他方の面に複数の第一導体ポスト21が貫通しており、第一導体層12と第二導体層13がこれら第一導体ポスト21によって導通している。これら第一導体ポスト21はメタライズされたスルーホール又はビアホールである。   A plurality of first conductor posts 21 penetrate from one surface of the first dielectric substrate 11 to the other surface, and the first conductor layer 12 and the second conductor layer 13 are electrically connected by the first conductor posts 21. Yes. These first conductor posts 21 are metallized through holes or via holes.

これら第一導体ポスト21は正方形枠状又は長方形枠状に配列されている。具体的には、これら第一導体ポスト21のうち導体ポスト21Aが等間隔で配列され、導体ポスト21Bが導体ポスト21Aの列と平行となるように等間隔で配列され、導体ポスト21Cが導体ポスト21A,21Bの列の間において導体ポスト21A,21Bの列の直交方向に等間隔で配列され、導体ポスト21Dが導体ポスト21A,21Bの列の間において導体ポスト21Cの列と平行となるように等間隔で配列されている。ここで、導体ポスト21A,21Bの列の方向はY軸に対して平行であり、Y軸の負方向を列前方とし、Y軸の正方向を列後方とする。そうした場合、導体ポスト21Cは導体ポスト21Aの列の先頭から導体ポスト21Bの列の先頭にかけて配列され、導体ポスト21Dは導体ポスト21Aの列の末尾から導体ポスト21Bの列の末尾にかけて配列されている。そのため、導体ポスト21A,21B,21C,21Dの各列は正方形枠状又は長方形枠状の辺を成す。なお、導体ポスト21C,21Dの列の方向はX軸に対して平行であり、X軸の負方向を導体ポスト21C,21Dの列の前方とし、X軸の正方向を導体ポスト21C,21Dの列の後方とする。   These first conductor posts 21 are arranged in a square frame shape or a rectangular frame shape. Specifically, among these first conductor posts 21, the conductor posts 21A are arranged at equal intervals, the conductor posts 21B are arranged at equal intervals so as to be parallel to the row of the conductor posts 21A, and the conductor posts 21C are arranged as conductor posts. The conductor posts 21A and 21B are arranged at equal intervals in the orthogonal direction between the rows of 21A and 21B, and the conductor posts 21D are parallel to the rows of the conductor posts 21C between the rows of the conductor posts 21A and 21B. They are arranged at equal intervals. Here, the direction of the rows of the conductor posts 21A and 21B is parallel to the Y axis, the negative direction of the Y axis is the row front, and the positive direction of the Y axis is the row rear. In such a case, the conductor posts 21C are arranged from the beginning of the row of conductor posts 21A to the beginning of the row of conductor posts 21B, and the conductor posts 21D are arranged from the end of the row of conductor posts 21A to the end of the row of conductor posts 21B. . Therefore, each row | line | column of conductor post 21A, 21B, 21C, 21D comprises the side of a square frame shape or a rectangular frame shape. The direction of the rows of the conductor posts 21C, 21D is parallel to the X axis, the negative direction of the X axis is the front of the row of the conductor posts 21C, 21D, and the positive direction of the X axis is the direction of the conductor posts 21C, 21D. Be behind the column.

また、導体ポスト21Aの列の先頭の前に1つの付加導体ポスト22が配設され、導体ポスト21Aの列の末尾の後ろに2つの付加導体ポスト23が配設されている。同様に、導体ポスト21Bの列の先頭の前と末尾の後ろにもそれぞれ付加導体ポスト24,25が配設されている。また、導体ポスト21Cの列の先頭の前と末尾の後ろにそれぞれ1つずつ付加導体ポスト26,27が配設されている。これら付加導体ポスト24〜27も第一誘電体基板11を貫通して、第一導体層12及び第二導体層13に導通している。   Further, one additional conductor post 22 is disposed in front of the head of the row of conductor posts 21A, and two additional conductor posts 23 are disposed behind the end of the row of conductor posts 21A. Similarly, additional conductor posts 24 and 25 are also arranged in front of the head and behind the tail of the row of conductor posts 21B, respectively. Further, one additional conductor post 26, 27 is disposed in front of the head and behind the end of the row of conductor posts 21C, respectively. These additional conductor posts 24 to 27 also penetrate the first dielectric substrate 11 and are electrically connected to the first conductor layer 12 and the second conductor layer 13.

導体ポスト21Aの列は擬似的な導体壁として機能する。導体ポスト21Bの列、導体ポスト21Cの列及び導体ポスト21Dの列も同様である。これら4つの擬似的な導体壁と第一導体層12と第二導体層13によって囲まれた直方体型の領域に電磁波が閉じ込められ、その領域の寸法によって定まる周波数の電磁波が共振する。なお、隣り合う第一導体ポスト21の間隔は、直方体型の領域に閉じ込めようとする電磁波の波長よりも十分に短く、例えばその電磁波の波長の4分の1以下である。   The row of conductor posts 21A functions as a pseudo conductor wall. The same applies to the row of conductor posts 21B, the row of conductor posts 21C, and the row of conductor posts 21D. An electromagnetic wave is confined in a rectangular parallelepiped region surrounded by the four pseudo conductor walls, the first conductor layer 12, and the second conductor layer 13, and an electromagnetic wave having a frequency determined by the size of the region resonates. The interval between the adjacent first conductor posts 21 is sufficiently shorter than the wavelength of the electromagnetic wave to be confined in the rectangular parallelepiped region, and is, for example, equal to or less than a quarter of the wavelength of the electromagnetic wave.

第二共振器30は、第二誘電体基板31、第三導体層32、第四導体層33、ポスト列(複数の第二導体ポスト41の配列)及び付加導体ポスト42〜47を備える。第一共振器10と第二共振器30が同一に構成され、第二共振器30の第二誘電体基板31、第三導体層32、第四導体層33、ポスト列(複数の第二導体ポスト41の配列)及び付加導体ポスト42〜47は第一共振器10の第一誘電体基板11、第一導体層12、第二導体層13、ポスト列(複数の第一導体ポスト21の配列)及び付加導体ポスト22〜27にそれぞれ対応する。   The second resonator 30 includes a second dielectric substrate 31, a third conductor layer 32, a fourth conductor layer 33, a post row (arrangement of a plurality of second conductor posts 41), and additional conductor posts 42 to 47. The first resonator 10 and the second resonator 30 are configured identically, and the second dielectric substrate 31, the third conductor layer 32, the fourth conductor layer 33, the post row (a plurality of second conductors) of the second resonator 30. The arrangement of the post 41 and the additional conductor posts 42 to 47 are the first dielectric substrate 11, the first conductor layer 12, the second conductor layer 13, and the post row (arrangement of the plurality of first conductor posts 21) of the first resonator 10. ) And additional conductor posts 22 to 27 respectively.

以上のような共振器10,30が積み重ねられて、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が互いに対向している。その状態で、共振器10,30が結合構造1によって結合されている。以下、共振器10,30の導体層13,32を相対向させた状態で共振器10,30を結合する結合構造1について詳細に説明する。   The resonators 10 and 30 as described above are stacked so that the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 face each other. In this state, the resonators 10 and 30 are coupled by the coupling structure 1. Hereinafter, the coupling structure 1 that couples the resonators 10 and 30 with the conductor layers 13 and 32 of the resonators 10 and 30 facing each other will be described in detail.

結合構造1は、第一結合窓71、第二結合窓72及び導電性接合部50等を備える。
第一結合窓71は第一共振器10の第二導体層13に形成されている。第一結合窓71は長方形状の開口であり、第一結合窓71の長辺が導体ポスト21C,21Dの列に対して平行であり、第一結合窓71の短辺が導体ポスト21A,21Bの列に対して平行である。なお、第一結合窓71が正方形状の開口であってもよい。
The coupling structure 1 includes a first coupling window 71, a second coupling window 72, a conductive joint 50, and the like.
The first coupling window 71 is formed in the second conductor layer 13 of the first resonator 10. The first coupling window 71 is a rectangular opening, the long side of the first coupling window 71 is parallel to the row of the conductor posts 21C and 21D, and the short side of the first coupling window 71 is the conductor posts 21A and 21B. Parallel to the columns. The first coupling window 71 may be a square opening.

第一結合窓71は枠状に配列された複数の第一導体ポスト21の内側に配置されている。そして、第一結合窓71は導体ポスト21Dの列よりも導体ポスト21Cの列に寄って配置されている。なお、第一結合窓71の位置は第一導体ポスト21の方形配列の内側であれば、他の位置であってもよい。   The first coupling window 71 is disposed inside the plurality of first conductor posts 21 arranged in a frame shape. The first coupling window 71 is arranged closer to the row of conductor posts 21C than the row of conductor posts 21D. As long as the position of the first coupling window 71 is inside the rectangular array of the first conductor posts 21, another position may be used.

第二結合窓72は第二共振器30の第三導体層32に形成されている。第二結合窓72は第一結合窓71と同様に長方形状の開口であり、第二結合窓72の長辺が導体ポスト41C,41Dの列に対して平行であり、第二結合窓72の短辺が導体ポスト41A,41Bの列に対して平行である。なお、第二結合窓72が正方形状の開口であってもよい。   The second coupling window 72 is formed in the third conductor layer 32 of the second resonator 30. The second coupling window 72 is a rectangular opening like the first coupling window 71, and the long side of the second coupling window 72 is parallel to the row of the conductor posts 41 </ b> C and 41 </ b> D. The short side is parallel to the row of conductor posts 41A and 41B. The second coupling window 72 may be a square opening.

第二結合窓72は第二導体ポスト41の方形配列の内側に配置されている。そして、第二結合窓72は導体ポスト41Dの列よりも導体ポスト41Cの列に寄って配置されている。なお、第二結合窓72の位置は枠状に配列された複数の第二導体ポスト41の内側であれば、他の位置であってもよい。   The second coupling window 72 is disposed inside the square array of the second conductor posts 41. The second coupling window 72 is arranged closer to the row of conductor posts 41C than the row of conductor posts 41D. The position of the second coupling window 72 may be another position as long as it is inside the plurality of second conductor posts 41 arranged in a frame shape.

結合窓71,72は同一形状、同一寸法である。結合窓71,72が長方形であれば、結合窓71,72の短辺が互いに等しく、長辺も互いに等しい。   The coupling windows 71 and 72 have the same shape and the same dimensions. If the coupling windows 71 and 72 are rectangular, the short sides of the coupling windows 71 and 72 are equal to each other, and the long sides are also equal to each other.

導電性接合部50は、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32との間に挟まれている。第二導体層13と第三導体層32は、導電性接合部50により接合されることによって、互いに導通する。   The conductive junction 50 is sandwiched between the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30. The second conductor layer 13 and the third conductor layer 32 are electrically connected to each other by being joined by the conductive joint portion 50.

導電性接合部50が長方形枠状に形成されている。そのため、導電性接合部50の内側に結合開口51が形成されている。導電性接合部50は第一共振器10の第一結合窓71及び第二共振器30の第二結合窓72を囲繞し、結合窓71,72は結合開口51に内包されている。導電性接合部50の辺が結合窓71,72の辺に対してほぼ平行である。なお、結合窓71,72が結合開口51に内包されていれば、導電性接合部50が正方形枠状に形成されていてもよいし、円形枠状に形成されていてもよい。つまり、結合開口51の形状が円形状、正方形状又は長方形状の何れであっても、共振器スタック2の周波数特性が適格である。   The conductive joint 50 is formed in a rectangular frame shape. Therefore, a coupling opening 51 is formed inside the conductive joint portion 50. The conductive junction 50 surrounds the first coupling window 71 of the first resonator 10 and the second coupling window 72 of the second resonator 30, and the coupling windows 71 and 72 are included in the coupling opening 51. The sides of the conductive joint 50 are substantially parallel to the sides of the coupling windows 71 and 72. In addition, as long as the coupling windows 71 and 72 are included in the coupling opening 51, the conductive joint portion 50 may be formed in a square frame shape, or may be formed in a circular frame shape. That is, the frequency characteristics of the resonator stack 2 are appropriate regardless of whether the coupling opening 51 is circular, square, or rectangular.

結合開口51において、これら結合窓71,72が互いに対向し、結合窓71,72の長辺同士がほぼ平行であり、短辺同士もほぼ平行である。従って、第一導体ポスト21の列による擬似的な導体壁と導体層12,13によって囲まれた直方体型の領域は、第一結合窓71、結合開口51及び第二結合窓72を介して、第二導体ポスト41の列による擬似的な導体壁と導体層32,33によって囲まれた直方体型の領域に磁気的又は電界的に結合している。   In the coupling opening 51, the coupling windows 71 and 72 face each other, the long sides of the coupling windows 71 and 72 are substantially parallel to each other, and the short sides are also substantially parallel to each other. Therefore, the rectangular parallelepiped region surrounded by the pseudo conductor wall and the conductor layers 12 and 13 by the row of the first conductor posts 21 is connected via the first coupling window 71, the coupling opening 51, and the second coupling window 72. It is magnetically or electrically coupled to a rectangular parallelepiped region surrounded by the pseudo conductor walls and the conductor layers 32 and 33 by the row of the second conductor posts 41.

導電性接合部50は、はんだ(例えば、SnAgCu系、SnZnBi系、SnCu系、SnAgInBi系又はSnZnAl系の鉛フリーはんだ)からなる母材と、その母材に分散した銅の球状の微粒子とからなる。導電性接合部50の母材の組成の一例として、Sn-3.0Ag-0.5Cuを挙げるが、これに限るものではない。   The conductive joint 50 is composed of a base material made of solder (for example, SnAgCu-based, SnZnBi-based, SnCu-based, SnAgInBi-based or SnZnAl-based lead-free solder) and copper spherical fine particles dispersed in the base material. . An example of the composition of the base material of the conductive joint 50 is Sn-3.0Ag-0.5Cu, but is not limited thereto.

ここで、導電性接合部50は、はんだの微粒子(例えば直径15〜25μmの粒径)と銅の微粒子(例えば直径15〜25μmの粒径)との混合粉が加熱処理によって溶融して、それが固化して得られたものである。はんだと銅の混合粉が銅の融点よりも低い温度に加熱されると、銅の微粒子が溶融せず、はんだの微粒子が溶融するので、固化した導電性接合部50ははんだの母材に銅の微粒子が分散したものとなる。   Here, the conductive joint 50 is obtained by melting a mixed powder of solder fine particles (for example, a particle diameter of 15 to 25 μm) and copper fine particles (for example, a particle diameter of 15 to 25 μm) by heat treatment. Is obtained by solidifying. When the mixed powder of solder and copper is heated to a temperature lower than the melting point of copper, the copper fine particles are not melted and the solder fine particles are melted. The fine particles are dispersed.

図3に示すように、第一共振器10の第二導体層13は、導電性接合部50が形成されている領域を除いて誘電体膜61によって被覆されている。誘電体膜61には、第一結合窓71を囲繞するような枠状の溝61aが形成されていて、導電性接合部50がその溝61aを通じて第二導体層13に接合されている。誘電体膜61は第一結合窓71の内側にも形成されていて、第一結合窓71内において第一誘電体基板11の表面が誘電体膜61によって被覆されている。同様に、第二共振器30の第三導体層32が誘電体膜62によって被覆され、第二結合窓72の内側において第二誘電体基板31の表面が誘電体膜62によって被覆され、第二結合窓72を囲繞するとともに誘電体膜62に形成された枠状の溝62aを通じて導電性接合部50が第三導体層32に接合されている。   As shown in FIG. 3, the second conductor layer 13 of the first resonator 10 is covered with a dielectric film 61 except for a region where the conductive junction 50 is formed. The dielectric film 61 is formed with a frame-shaped groove 61a surrounding the first coupling window 71, and the conductive joint portion 50 is joined to the second conductor layer 13 through the groove 61a. The dielectric film 61 is also formed inside the first coupling window 71, and the surface of the first dielectric substrate 11 is covered with the dielectric film 61 in the first coupling window 71. Similarly, the third conductor layer 32 of the second resonator 30 is covered with the dielectric film 62, the surface of the second dielectric substrate 31 is covered with the dielectric film 62 inside the second coupling window 72, and the second The conductive joint 50 is joined to the third conductor layer 32 through a frame-like groove 62 a formed in the dielectric film 62 so as to surround the coupling window 72.

誘電体膜61,62は樹脂製のパッシベーションからなる。導電性接合部50によって第二導体層13と第三導体層32を接合する際に、溶融した導電性接合部50が誘電体膜61,62に濡れにくい。それゆえ、導電性接合部50及び結合開口51を設計通りの形状及び大きさに形成することができる。   The dielectric films 61 and 62 are made of resin passivation. When the second conductor layer 13 and the third conductor layer 32 are bonded by the conductive bonding portion 50, the molten conductive bonding portion 50 is difficult to get wet with the dielectric films 61 and 62. Therefore, the conductive joint 50 and the coupling opening 51 can be formed in the shape and size as designed.

<効果>
以上の実施の形態では、導電性接合部50内の結合開口51が結合窓71,72を内包し、導電性接合部50が結合窓71,72を囲繞しつつ、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されている。そうすると、導電性接合部50の厚みによって第二導体層13と第三導体層32が離間している。従って、結合窓71,72の縁が重なり合う位置から結合窓71,72が面方向にずれて配置されていても、第一結合窓71が第三導体層32によって部分的に塞がれるということがない。また、第二結合窓72が第二導体層13によって部分的に塞がれるということがない。それゆえ、結合窓71,72が面方向にずれて配置されていても、そのずれは共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ぼさない(後述の検証1参照)。つまり、第一結合窓71と第二結合窓72の位置合わせを精密にせずに第一共振器10と第二共振器30を導電性接合部50によって接合しても、適格な周波数特性を有した共振器スタック2を製造することができる。
<Effect>
In the above embodiment, the coupling opening 51 in the conductive junction 50 includes the coupling windows 71 and 72, and the conductive junction 50 surrounds the coupling windows 71 and 72, while the first resonator 10 has the first resonator 10. The two conductor layers 13 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50. Then, the second conductor layer 13 and the third conductor layer 32 are separated by the thickness of the conductive joint portion 50. Therefore, even if the coupling windows 71 and 72 are displaced in the plane direction from the position where the edges of the coupling windows 71 and 72 overlap, the first coupling window 71 is partially blocked by the third conductor layer 32. There is no. Further, the second coupling window 72 is not partially blocked by the second conductor layer 13. Therefore, even if the coupling windows 71 and 72 are displaced in the plane direction, the deviation does not significantly affect the frequency characteristics of the resonator stack 2 (see verification 1 described later). That is, even if the first resonator 10 and the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50 without precise alignment of the first coupling window 71 and the second coupling window 72, there is an appropriate frequency characteristic. The manufactured resonator stack 2 can be manufactured.

また、導電性接合部50内の結合開口51が結合窓71,72を内包すれば、結合開口51の寸法(長辺及び短辺の長さ)や形状は共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ぼさない(後述の検証2参照)。従って、第一共振器10と第二共振器30を導電性接合部50によって接合する際に結合開口51の寸法や形状を精密に制御せずとも、適格な周波数特性を有した共振器スタック2を製造することができる。   Further, if the coupling opening 51 in the conductive joint 50 includes the coupling windows 71 and 72, the size (long side and short side length) and shape of the coupling opening 51 are large in the frequency characteristics of the resonator stack 2. No effect (see Verification 2 below). Therefore, when the first resonator 10 and the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50, the resonator stack 2 having an appropriate frequency characteristic can be obtained without precisely controlling the size and shape of the coupling opening 51. Can be manufactured.

また、第一誘電体基板11から第二誘電体基板31までの導電性接合部50の厚みは共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ばさない(後述の検証3参照)。従って、第一共振器10と第二共振器30を導電性接合部50によって接合する際に導電性接合部50の厚みを精密に制御せずとも、適格な周波数特性を有した共振器スタック2を製造することができる。   Further, the thickness of the conductive junction 50 from the first dielectric substrate 11 to the second dielectric substrate 31 does not significantly affect the frequency characteristics of the resonator stack 2 (see verification 3 described later). Therefore, when the first resonator 10 and the second resonator 30 are joined by the conductive joint 50, the resonator stack 2 having an appropriate frequency characteristic can be obtained without precisely controlling the thickness of the conductive joint 50. Can be manufactured.

導電性接合部50ははんだの微粒子と銅の微粒子との混合粉を原料としたものであるので、その原料コストが低い。また、従来からある製造設備(はんだ印刷機、リフロー機、実装機、ボンダーなど)を用いて第一共振器10と第二共振器30を導電性接合部50によって容易に接合することができるので、そのコストが低い。   Since the conductive joint 50 is made of a mixed powder of solder fine particles and copper fine particles, the raw material cost is low. In addition, since the first resonator 10 and the second resonator 30 can be easily joined by the conductive joint portion 50 using conventional manufacturing equipment (solder printer, reflow machine, mounting machine, bonder, etc.). Its cost is low.

導電性接合部50に銅の微粒子が分散していると、導電性接合部50の形成時にはんだが第二導体層13及び第三導体層32に濡れやすい。そのため、導電性接合部50が良好に形成される(後述の検証4参照)。   When the copper fine particles are dispersed in the conductive joint portion 50, the solder tends to wet the second conductor layer 13 and the third conductor layer 32 when the conductive joint portion 50 is formed. Therefore, the conductive joint 50 is formed satisfactorily (see verification 4 described later).

パッシベージョンからなる誘電体膜61,62が結合窓71,72内に形成されているため、導電性接合部50の形成時にはんだが結合窓71,72内に濡れることがない。また、導電性接合部50を誘電体膜61,62の溝61a,62aの枠形状に正確に形成することができる。   Since the dielectric films 61 and 62 made of passivation are formed in the coupling windows 71 and 72, solder does not get wet in the coupling windows 71 and 72 when the conductive joint portion 50 is formed. In addition, the conductive joint 50 can be accurately formed in the frame shape of the grooves 61 a and 62 a of the dielectric films 61 and 62.

<変形例>
以上、本発明を実施するための形態について説明したが、上記実施形態は本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を上記実施形態に限定して解釈するものではない。また、本発明の趣旨を逸脱することなく、上記実施形態から変更或いは改良してもよく、本発明にはその等価物も含まれる。以下に、上記実施形態からの変更点について幾つか説明するが、以下に説明する幾つかの変更点を可能な限り組み合わせてもよい。
<Modification>
As mentioned above, although the form for implementing this invention was demonstrated, the said embodiment is for making an understanding of this invention easy, and does not limit this invention to the said embodiment. Further, the above embodiments may be changed or improved without departing from the spirit of the present invention, and the present invention includes equivalents thereof. Several changes from the above embodiment will be described below, but some changes described below may be combined as much as possible.

(1) 上記実施形態では、第一共振器10及び第二共振器30に信号入出力用の端子が設けられていない。それに対して、第一共振器10及び第二共振器30に端子が設けられていてもよい。例えば、図4及び図5に示すように、導体ポスト21の列の中の一体又は連続する複数の導体ポストが設けられておらず(図5に示す例では、導体ポスト21Dの列は中央の四体分の導体ポストが抜けている)、導体ポスト21の列に窓29が形成されており、その窓29が信号入出力用の端子となっている。導体ポスト41の列についても同様に、信号入出力用の端子としての窓49が形成されている。窓29は、第一導体ポスト21の列、第一導体層12及び第二導体層13によって囲われた領域内の電界又は磁界を外部に結合する端子として機能する。窓49についても同様である。 (1) In the above embodiment, the first resonator 10 and the second resonator 30 are not provided with signal input / output terminals. On the other hand, the first resonator 10 and the second resonator 30 may be provided with terminals. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, a plurality of integrated or continuous conductor posts in the row of conductor posts 21 are not provided (in the example shown in FIG. A window 29 is formed in the row of the conductor posts 21, and the windows 29 serve as signal input / output terminals. Similarly, a window 49 as a signal input / output terminal is formed in the row of conductor posts 41. The window 29 functions as a terminal for coupling an electric field or a magnetic field in a region surrounded by the row of the first conductor posts 21, the first conductor layer 12, and the second conductor layer 13 to the outside. The same applies to the window 49.

第一共振器10及び第二共振器30に入出力用の端子(窓29,49)が設けられていれば、一方の端子から他方の端子に信号が伝搬される際にその信号が濾波されるので、共振器スタック2を共振器直結フィルタ(例えば、バンドパスフィルタ)として利用することができる。   If the first resonator 10 and the second resonator 30 are provided with input / output terminals (windows 29 and 49), the signal is filtered when the signal is propagated from one terminal to the other terminal. Therefore, the resonator stack 2 can be used as a resonator direct connection filter (for example, a bandpass filter).

なお、導体ポスト21,41の列に窓29,49が形成される代わりに、第一共振器10の第一導体層12に開口が形成され、第二共振器30の第四導体層33に開口が形成され、それら開口が信号入出力用の端子となっていてもよい。   Instead of forming the windows 29 and 49 in the row of the conductor posts 21 and 41, an opening is formed in the first conductor layer 12 of the first resonator 10, and the fourth conductor layer 33 of the second resonator 30 is formed. Openings may be formed, and these openings may serve as signal input / output terminals.

(2) 上記実施形態では、2体の共振器10,30が積み重ねられていた。それに対して、図6に示すように、共振器10,30と同様に構成された3体以上の共振器110が積み重ねられていてもよい(図6では、一例として4体の共振器110が積み重ねられている)。この場合、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されるのと同様に、隣り合う共振器110の互いに対向する導体層112,113が導電性接合部150によって接合されている。また、共振器10,30が結合窓71,72及び結合開口51を介して磁気的又は電界的に結合されているのと同様に、隣り合う共振器110が結合窓115,116及び結合開口151を介して磁気的又は電界的に結合されている。ここで、結合窓115は共振器110の第一導体層112に形成されたものであり、結合窓116はその共振器110の第二導体層113に形成されたものである。 (2) In the above embodiment, the two resonators 10 and 30 are stacked. On the other hand, as shown in FIG. 6, three or more resonators 110 configured in the same manner as the resonators 10 and 30 may be stacked (in FIG. 6, four resonators 110 are shown as an example. Are stacked). In this case, similarly to the case where the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50, the adjacent resonators 110 face each other. The conductor layers 112 and 113 are joined by the conductive joint 150. Further, similarly to the case where the resonators 10 and 30 are magnetically or electrically coupled via the coupling windows 71 and 72 and the coupling opening 51, adjacent resonators 110 are coupled to the coupling windows 115 and 116 and the coupling opening 151. It is magnetically or electrically coupled via Here, the coupling window 115 is formed in the first conductor layer 112 of the resonator 110, and the coupling window 116 is formed in the second conductor layer 113 of the resonator 110.

ここで、最上段と最下段以外の1体の共振器110について着目すると、導体層112に形成された結合窓115と導体層113に形成された結合窓116が面方向(面方向とは、誘電体基板111の厚み方向に直交する方向)にずれて配置されている。そのため、複数の導電性接合部150に着目すると、これら導電性接合部150が面方向にずれて配置されるように互い違いに配置されている。   Here, focusing on one resonator 110 other than the uppermost and lowermost stages, the coupling window 115 formed in the conductor layer 112 and the coupling window 116 formed in the conductor layer 113 are in the plane direction (the plane direction is The dielectric substrate 111 is arranged so as to be shifted in a direction perpendicular to the thickness direction of the dielectric substrate 111. Therefore, when paying attention to the plurality of conductive joints 150, the conductive joints 150 are alternately arranged so as to be shifted in the surface direction.

なお、第一共振器10の第一誘電体基板11に導体ポスト21〜27が設けられているのと同様に、共振器110の誘電体基板111にも複数の導体ポスト(図示略)が設けられている。また、図4及び図5に示す第一共振器10及び第二共振器30と同様に、最上段と最下段の共振器110の導体ポストの列に入出力用の窓129が形成されていれば、これら共振器110のスタックを共振器直結フィルタ(例えば、バンドパスフィルタ)として利用することができる。   Note that a plurality of conductor posts (not shown) are provided on the dielectric substrate 111 of the resonator 110 in the same manner that the conductor posts 21 to 27 are provided on the first dielectric substrate 11 of the first resonator 10. It has been. Similarly to the first resonator 10 and the second resonator 30 shown in FIGS. 4 and 5, input / output windows 129 are formed in the row of conductor posts of the uppermost and lowermost resonators 110. For example, the stack of the resonators 110 can be used as a resonator direct connection filter (for example, a bandpass filter).

(3) 上記実施形態では、導電性接合部50ははんだの母材及び銅の微粒子を有したはんだ接合部であったが、銅の微粒子を含まないはんだ接合部であってもよい。また、導電性接合部50ははんだ以外の導電性ペースト(例えば銀ペースト)が固化したものでもよい。また、導電性接合部50と第二導体層13との間に、メッキ法により成長した枠状の導電性凸部(例えば銅メッキ)が第二導体層13と一体となるように形成されていてもよい。また、導電性接合部50と第三導体層32との間に、メッキ法により成長した枠状の導電性凸部(例えば銅メッキ)が第三導体層32と一体となるように形成されていてもよい。 (3) In the above embodiment, the conductive joint 50 is a solder joint having a solder base material and copper fine particles, but may be a solder joint that does not contain copper fine particles. The conductive joint 50 may be a solidified conductive paste (for example, silver paste) other than solder. Further, a frame-like conductive convex portion (for example, copper plating) grown by a plating method is formed between the conductive joint portion 50 and the second conductor layer 13 so as to be integrated with the second conductor layer 13. May be. Further, a frame-like conductive convex portion (for example, copper plating) grown by a plating method is formed between the conductive joint portion 50 and the third conductor layer 32 so as to be integrated with the third conductor layer 32. May be.

<検証1>
以下、シミュレーションにより導電性接合部50の有用性について検証する。以下の各シミュレーションにおける条件は、表1の通りである。
<Verification 1>
Hereinafter, the usefulness of the conductive joint 50 will be verified by simulation. The conditions in the following simulations are as shown in Table 1.

第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されている場合に、図2に示す位置αに信号を入力したときの位置βの出力信号の振幅強度をシミュレーションした。その結果を図7に示す。図7中の実線は、誘電体基板11,31の厚み方向に見て、第一結合窓71の縁と第二結合窓72の縁が一致した場合のシミュレーション結果を示す。図7中の破線は、誘電体基板11,31の厚み方向に見て、第一結合窓71の縁と第二結合窓72の縁が短辺方向及び長辺方向に50μmの距離だけ位置ずれして、第一結合窓71と第二結合窓72が部分的に重なった場合のシミュレーション結果を示す。   When the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50, when a signal is input to the position α shown in FIG. The amplitude intensity of the output signal at position β was simulated. The result is shown in FIG. The solid line in FIG. 7 shows the simulation result when the edge of the first coupling window 71 and the edge of the second coupling window 72 coincide when viewed in the thickness direction of the dielectric substrates 11 and 31. The broken line in FIG. 7 indicates that the edge of the first coupling window 71 and the edge of the second coupling window 72 are displaced by a distance of 50 μm in the short side direction and the long side direction when viewed in the thickness direction of the dielectric substrates 11 and 31. A simulation result when the first coupling window 71 and the second coupling window 72 partially overlap will be described.

一方、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が直接接合されている場合に、図2に示す位置αに信号を入力したときの位置βの信号の振幅強度をシミュレーションした。その結果を図8に示す。図8中の実線は、誘電体基板11,31の厚み方向に見て、第一結合窓71の縁と第二結合窓72の縁が一致した場合のシミュレーション結果を示す。図8中の破線は、誘電体基板11,31の厚み方向に見て、第一結合窓71の縁と第二結合窓72の縁が短辺方向及び長辺方向に50μmの距離だけ位置ずれして、第一結合窓71と第二結合窓72が部分的に重なった場合のシミュレーション結果を示す。   On the other hand, when the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are directly joined, the position β when the signal is input to the position α shown in FIG. The amplitude intensity of the signal was simulated. The result is shown in FIG. The solid line in FIG. 8 shows the simulation result when the edge of the first coupling window 71 and the edge of the second coupling window 72 coincide with each other when viewed in the thickness direction of the dielectric substrates 11 and 31. The broken line in FIG. 8 indicates that the edge of the first coupling window 71 and the edge of the second coupling window 72 are displaced by a distance of 50 μm in the short side direction and the long side direction when viewed in the thickness direction of the dielectric substrates 11 and 31. A simulation result when the first coupling window 71 and the second coupling window 72 partially overlap will be described.

図8に示すように、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が直接接合されている場合(比較例)、第一結合窓71が第二結合窓72に対して位置ずれすると、極大値をとる周波数が大きく変化する。つまり、第一結合窓71が第二結合窓72に対して位置ずれすると、第一共振器10と第二共振器30の結合強度が大きく変化する。   As shown in FIG. 8, when the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are directly joined (comparative example), the first coupling window 71 is second. When the position shifts with respect to the coupling window 72, the frequency at which the maximum value is obtained changes greatly. That is, when the first coupling window 71 is displaced with respect to the second coupling window 72, the coupling strength between the first resonator 10 and the second resonator 30 changes greatly.

一方、図7に示すように、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されている場合(実施例)、第一結合窓71が第二結合窓72に対して位置ずれすると、極大値をとる周波数の変化が小さい。つまり、第一結合窓71が第二結合窓72に対して位置ずれすると、第一共振器10と第二共振器30の結合強度の変化が小さい。   On the other hand, as shown in FIG. 7, when the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50 (Example), When the one coupling window 71 is displaced with respect to the second coupling window 72, the change in frequency at which the maximum value is obtained is small. That is, when the first coupling window 71 is displaced with respect to the second coupling window 72, the change in coupling strength between the first resonator 10 and the second resonator 30 is small.

以上のことから、第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されていると、第一結合窓71と第二結合窓72の位置ずれは、共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ぼさないことが分かる。   From the above, when the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint portion 50, the first coupling window 71 and the second coupling It can be seen that the positional deviation of the window 72 does not significantly affect the frequency characteristics of the resonator stack 2.

なお、信号の振幅強度に極大値が表れるのは、共振器10,30間の過結合によるものである。   Note that the maximum value appears in the amplitude intensity of the signal due to overcoupling between the resonators 10 and 30.

<検証2>
第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されている場合、導電性接合部50の結合開口51の大きさが共振器スタック2の周波数特性に及ぼす影響についてシミュレーションにより検証した。
<Verification 2>
When the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint 50, the size of the coupling opening 51 of the conductive joint 50 is resonant. The effect on the frequency characteristics of the stack 2 was verified by simulation.

第一誘電体基板11から第二誘電体基板31までの導電性接合部50の厚みを50μmとした場合に、図2に示す位置αに信号を入力したときの位置βの信号の強度をシミュレーションした。その結果を図9に示す。図9中の実線は、導電性接合部50の結合開口51の短辺の長さが600μmであり、長辺の長さが1600μmである場合のシミュレーション結果を示す。破線は、結合開口51の短辺の長さが800μmであり、長辺の長さが1800μmである場合のシミュレーション結果を示す。一点鎖線は、結合開口51の短辺の長さが1400μmであり、長辺の長さが2400μmである場合のシミュレーション結果を示す。   When the thickness of the conductive junction 50 from the first dielectric substrate 11 to the second dielectric substrate 31 is 50 μm, the intensity of the signal at the position β when the signal is input to the position α shown in FIG. 2 is simulated. did. The result is shown in FIG. The solid line in FIG. 9 shows the simulation result when the length of the short side of the coupling opening 51 of the conductive joint 50 is 600 μm and the length of the long side is 1600 μm. A broken line indicates a simulation result when the length of the short side of the coupling opening 51 is 800 μm and the length of the long side is 1800 μm. An alternate long and short dash line indicates a simulation result when the length of the short side of the coupling opening 51 is 1400 μm and the length of the long side is 2400 μm.

図9に示すように、導電性接合部50の結合開口51の大きさを変えても、極大値をとる周波数が殆ど変わらない。よって、結合開口51の寸法(長辺及び短辺の長さ)は共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ぼさないことが分かる。   As shown in FIG. 9, even if the size of the coupling opening 51 of the conductive joint portion 50 is changed, the frequency at which the maximum value is obtained hardly changes. Therefore, it can be seen that the dimension of the coupling opening 51 (long side and short side length) does not significantly affect the frequency characteristics of the resonator stack 2.

<検証3>
第一共振器10の第二導体層13と第二共振器30の第三導体層32が導電性接合部50によって接合されている場合、導電性接合部50の厚みが共振器スタック2の周波数特性に及ぼす影響についてシミュレーションにより検証した。
<Verification 3>
When the second conductor layer 13 of the first resonator 10 and the third conductor layer 32 of the second resonator 30 are joined by the conductive joint 50, the thickness of the conductive joint 50 is the frequency of the resonator stack 2. The effect on characteristics was verified by simulation.

導電性接合部50の結合開口51の短辺の長さを500μmとし、長辺の長さを1500μmとした場合に、図2に示す位置αに信号を入力したときの位置βの信号の振幅強度をシミュレーションした。その結果を図10に示す。図10中の実線は、導電性接合部50の厚みが100μmである場合のシミュレーション結果を示す。破線は、導電性接合部50の厚みが50μmである場合のシミュレーション結果を示す。   When the length of the short side of the coupling opening 51 of the conductive joint 50 is 500 μm and the length of the long side is 1500 μm, the amplitude of the signal at the position β when the signal is input to the position α shown in FIG. The strength was simulated. The result is shown in FIG. The solid line in FIG. 10 shows the simulation result when the thickness of the conductive joint 50 is 100 μm. A broken line shows a simulation result when the thickness of the conductive joint portion 50 is 50 μm.

図10に示すように、導電性接合部50の厚みを変えても、極大値をとる周波数が殆ど変わらない。よって、導電性接合部50の厚みは共振器スタック2の周波数特性に大きな影響を及ぼさないことが分かる。   As shown in FIG. 10, even if the thickness of the conductive joint 50 is changed, the frequency at which the maximum value is obtained hardly changes. Therefore, it can be seen that the thickness of the conductive joint 50 does not significantly affect the frequency characteristics of the resonator stack 2.

<検証4>
導電性接合部50に銅の微粒子が分散していると、導電性接合部50が良好であることについて検証した。以下、詳細に説明する。
<Verification 4>
When copper fine particles were dispersed in the conductive joint 50, it was verified that the conductive joint 50 was good. Details will be described below.

第一共振器10の第一誘電体基板11に相当するガラス布エポキシ基板(FR4からなる基板)を準備するとともに、第二共振器30の第二誘電体基板31に相当するガラス基板を準備した。ガラス布エポキシ基板は15.8mm四方の大きさであり、その厚みは約0.6mmである。ガラス基板は19.0mm四方の大きさであり、その厚みは約1.0mmである。   A glass cloth epoxy substrate (a substrate made of FR4) corresponding to the first dielectric substrate 11 of the first resonator 10 and a glass substrate corresponding to the second dielectric substrate 31 of the second resonator 30 were prepared. . The glass cloth epoxy substrate has a size of 15.8 mm square and a thickness of about 0.6 mm. The glass substrate has a size of 19.0 mm square and a thickness of about 1.0 mm.

ガラス布エポキシ基板には矩形枠状の銅メッキ層(第一共振器10の第二導体層13に相当)を形成し、ガラス基板には矩形枠状の金フラッシュメッキ層(第二共振器30の第三導体層32に相当)を形成した。三種類のはんだペーストA〜C(表2参照)を準備し、銅メッキ層及び金フラッシュメッキ層にはんだペーストをオンコンタクト方式で印刷した。そして、銅メッキ層と金フラッシュメッキ層を対向させるようにガラス布エポキシ基板とガラス基板を重ねて、印刷したはんだをリフローすることによって、銅メッキ層と金フラッシュメッキ層をはんだにより接合した。銅メッキ層と金フラッシュメッキ層との間の固化したはんだが導電性接合部50に相当する。   A rectangular frame-shaped copper plating layer (corresponding to the second conductor layer 13 of the first resonator 10) is formed on the glass cloth epoxy substrate, and a rectangular frame-shaped gold flash plating layer (second resonator 30) is formed on the glass substrate. Equivalent to the third conductor layer 32). Three types of solder pastes A to C (see Table 2) were prepared, and the solder paste was printed on the copper plating layer and the gold flash plating layer by an on-contact method. Then, the glass cloth epoxy substrate and the glass substrate were overlapped so that the copper plating layer and the gold flash plating layer were opposed to each other, and the printed solder was reflowed to join the copper plating layer and the gold flash plating layer with the solder. The solidified solder between the copper plating layer and the gold flash plating layer corresponds to the conductive joint 50.

はんだの固化後、はんだをX線により撮影して、そのはんだを観察した。はんだペーストAによって銅メッキ層と金フラッシュメッキ層を接合した場合のX線写真を図11に示す。はんだペーストBによって銅メッキ層と金フラッシュメッキ層を接合した場合のX線写真を図12に示す。はんだペーストCによって銅メッキ層と金フラッシュメッキ層を接合した場合のX線写真を図13に示す。   After solidifying the solder, the solder was photographed with X-rays and observed. An X-ray photograph in the case where the copper plating layer and the gold flash plating layer are joined with the solder paste A is shown in FIG. An X-ray photograph in the case where the copper plating layer and the gold flash plating layer are joined by the solder paste B is shown in FIG. An X-ray photograph in the case where the copper plating layer and the gold flash plating layer are joined by the solder paste C is shown in FIG.

銅の微粒子が添加されたはんだペーストAの場合、はんだは16体のサンプルの全てにおいて良好であった(図11参照)。
銅の微粒子が添加されていないはんだペーストBの場合、はんだにボイドが形成されたサンプルがあった(図12参照)。さらに、はんだが枠状に形成されなかったサンプルが1体あった。
銅の微粒子が添加されていないはんだペーストCの場合、はんだにボイドが形成されたサンプルがあった(図13参照)。さらに、はんだが枠状に形成されなかったサンプルが2体あった。
In the case of solder paste A to which copper fine particles were added, the solder was good in all 16 samples (see FIG. 11).
In the case of the solder paste B to which copper fine particles were not added, there was a sample in which a void was formed in the solder (see FIG. 12). Furthermore, there was one sample in which the solder was not formed in a frame shape.
In the case of the solder paste C to which copper fine particles were not added, there was a sample in which a void was formed in the solder (see FIG. 13). Furthermore, there were two samples in which the solder was not formed in a frame shape.

以上のことから、銅の微粒子が分散した導電性接合部50の形成時にはんだが第二導体層13及び第三導体層32に濡れやすく、導電性接合部50が良好に形成されることが分かる。   From the above, it can be seen that the solder is easily wetted by the second conductor layer 13 and the third conductor layer 32 during the formation of the conductive joint 50 in which the copper fine particles are dispersed, and the conductive joint 50 is well formed. .

10…第一共振器, 11…第一誘電体基板(第一誘電体), 12…第一導体層, 13…第二導体層, 21…第一導体ポスト, 29…窓(端子), 30…第二共振器, 31…第二誘電体基板(第二誘電体), 32…第三導体層, 33…第四導体層, 41…第二導体ポスト, 49…窓(端子), 50…導電性接合部, 61…第一誘電体膜, 62…第二誘電体膜, 71…第一結合窓, 72…第二結合窓   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 1st resonator, 11 ... 1st dielectric substrate (1st dielectric material), 12 ... 1st conductor layer, 13 ... 2nd conductor layer, 21 ... 1st conductor post, 29 ... Window (terminal), 30 ... second resonator, 31 ... second dielectric substrate (second dielectric), 32 ... third conductor layer, 33 ... fourth conductor layer, 41 ... second conductor post, 49 ... window (terminal), 50 ... Conductive junction, 61 ... first dielectric film, 62 ... second dielectric film, 71 ... first coupling window, 72 ... second coupling window

Claims (5)

第一誘電体と、前記第一誘電体を挟んで互いに対向した第一導体層及び第二導体層と、前記第一誘電体を貫通するとともに前記第一導体層及び前記第二導体層に接続され、枠状に配列された複数の第一導体ポストと、を有した第一共振器と、
第二誘電体と、前記第二誘電体を挟んで互いに対向した第三導体層及び第四導体層と、前記第二誘電体を貫通するとともに前記第三導体層及び前記第四導体層に接続され、枠状に配列された複数の第二導体ポストと、を有した第二共振器とを、前記第二導体層と前記第三導体層を対向させた状態で結合する構造であって、
前記第二導体層に形成された第一結合窓と、
前記第三導体層に形成された第二結合窓と、
前記第二導体層と前記第三導体層を接合して、前記第一結合窓と前記第二結合窓を囲繞する導電性接合部と、
前記第二導体層を被覆するとともに、前記第一結合窓内において前記第一誘電体を被覆する樹脂製の第一誘電体膜と、
前記第三導体層を被覆するとともに、前記第二結合窓内において前記第二誘電体を被覆する樹脂製の第二誘電体膜と、を備え
前記第一誘電体膜には前記第一結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第二導体層に接合され、
前記第二誘電体膜には前記第二結合窓を囲繞するよう枠状の溝が形成され、その溝を通じて前記導電性接合部が前記第三導体層に接合されている
共振器の結合構造。
A first dielectric, a first conductor layer and a second conductor layer facing each other with the first dielectric interposed therebetween, and penetrating the first dielectric and connected to the first conductor layer and the second conductor layer A first resonator having a plurality of first conductor posts arranged in a frame shape, and
A second dielectric, a third conductor layer and a fourth conductor layer facing each other across the second dielectric, and the second dielectric and penetrating the second dielectric and connected to the third conductor layer and the fourth conductor layer A plurality of second conductor posts arranged in a frame shape, and a second resonator having the second conductor layer and the third conductor layer facing each other.
A first coupling window formed in the second conductor layer;
A second coupling window formed in the third conductor layer;
Joining the second conductor layer and the third conductor layer, and surrounding the first coupling window and the second coupling window;
A first dielectric film made of resin that covers the second conductor layer and covers the first dielectric in the first coupling window;
A second dielectric film made of resin that covers the third conductor layer and covers the second dielectric in the second coupling window ;
A frame-shaped groove is formed in the first dielectric film so as to surround the first coupling window, and the conductive joint is joined to the second conductor layer through the groove,
A frame-shaped groove is formed in the second dielectric film so as to surround the second coupling window, and the conductive joint is joined to the third conductor layer through the groove . Bonding structure.
前記導電性接合部が、はんだを有する
請求項1に記載の共振器の結合構造。
The resonator coupling structure according to claim 1, wherein the conductive joint includes solder.
前記導電性接合部が、前記はんだを母材として前記はんだに分散した銅の粒子を有する請求項2に記載の共振器の結合構造。   The resonator coupling structure according to claim 2, wherein the conductive joint includes copper particles dispersed in the solder using the solder as a base material. 前記銅の粒子の粒径が15〜25μmである
請求項3に記載の共振器の結合構造。
The resonator coupling structure according to claim 3, wherein the copper particles have a particle size of 15 to 25 μm.
請求項1からの何れか一項に記載の共振器の結合構造と、前記第一共振器と、前記第二共振器と、を備える共振器スタックであって、
前記第一共振器が、前記第一導体層、前記第二導体層及び前記第一導体ポストによって囲われた領域内の電界又は磁界を外部に結合する端子を有し、
前記第二共振器が、前記第三導体層、前記第四導体層及び前記第二導体ポストによって囲われた領域内の電界又は磁界を外部に結合する端子を有する
共振器スタック。
A resonator stack comprising the resonator coupling structure according to any one of claims 1 to 4 , the first resonator, and the second resonator,
The first resonator has a terminal for externally coupling an electric field or a magnetic field in a region surrounded by the first conductor layer, the second conductor layer, and the first conductor post;
The resonator stack, wherein the second resonator has a terminal for coupling an electric field or a magnetic field in an area surrounded by the third conductor layer, the fourth conductor layer, and the second conductor post to the outside.
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