JP6322997B2 - Reactor - Google Patents

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Description

本発明は、コアにコイルが巻き回されているリアクトルに関する。   The present invention relates to a reactor in which a coil is wound around a core.

リアクトルの一例として、特許文献1および2に記載の発明が挙げられる。特許文献1に記載のインダクタは、磁気飽和し易いコイル近傍の透磁率を他と比べて小さくして、磁束がコイル近傍に集中しないようにしている。また、特許文献2に記載のリアクトルは、透磁率の異なる磁路形成部材を多角形環状に配置して、コア全周にわたって磁束を磁路と平行に保持しようとしている。これにより、特許文献2に記載のリアクトルは、磁束が内周側に集中しないようにして、局所的に磁束密度が不均一になることを解消しようとしている。   Examples of the reactor include the inventions described in Patent Documents 1 and 2. In the inductor described in Patent Document 1, the magnetic permeability in the vicinity of the coil that is likely to be magnetically saturated is made smaller than the others so that the magnetic flux is not concentrated in the vicinity of the coil. Moreover, the reactor of patent document 2 is arrange | positioning the magnetic path formation member from which magnetic permeability differs in polygonal cyclic | annular form, and is going to hold | maintain a magnetic flux in parallel with a magnetic path over the perimeter of a core. As a result, the reactor described in Patent Document 2 tries to eliminate the locally uneven magnetic flux density by preventing the magnetic flux from concentrating on the inner peripheral side.

特開2010−192890号公報JP 2010-192890 A 特開2011−108981号公報JP 2011-108981 A

しかしながら、特許文献1に記載の発明は、コイル近傍の透磁率を他と比べて小さくしても、コア外周部に磁束密度の不均一な箇所が生じ、コア内周部に磁束が集中して直流重畳特性が劣化する。また、特許文献2に記載の発明は、磁路形成部材を多角形環状に配置しているので、磁路形成部材を有しない空芯の場合と比べて、リアクトルの体格が増大する。   However, in the invention described in Patent Document 1, even if the magnetic permeability in the vicinity of the coil is made smaller than the others, a non-uniform portion of the magnetic flux density is generated on the outer periphery of the core, and the magnetic flux is concentrated on the inner periphery of the core. DC superimposition characteristics deteriorate. Moreover, since the magnetic path formation member is arrange | positioned at polygonal cyclic | annular form in the invention of patent document 2, the physique of a reactor increases compared with the case of the air core which does not have a magnetic path formation member.

本発明は、このような事情に鑑みて為されたものであり、直流重畳特性を向上させると共に、小型化可能なリアクトルを提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a reactor that can improve direct current superposition characteristics and can be miniaturized.

請求項1に記載のリアクトルは、第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、前記コアに巻き回されるコイルと、を備えるリアクトルであって、前記コアは、軸方向視において軸からの距離が同じ領域に、周方向に離間する複数の前記第二コア部が設けられる第二コア部離間領域を含み、前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において前記軸からの距離がそれぞれ異なる複数の位置部位を有し、前記第二コア部離間領域の複数の前記位置部位を含む前記軸からの距離がそれぞれ異な互いに隣り合う複数の前記位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されている。 The reactor of Claim 1 has the 1st core part which has 1st magnetic permeability, and the 2nd core part which has 2nd magnetic permeability larger compared with said 1st magnetic permeability, Said 1st core part And a reactor including a core in which a closed magnetic path is formed by the second core portion, and a coil wound around the core , wherein the core is in a region where the distance from the axis is the same in an axial view. A second core portion separation region in which a plurality of second core portions spaced apart in the circumferential direction are provided, wherein the second core portion is a plurality of position portions each having a different distance from the axis in the axial direction of the core; It has the plurality of plurality of main section of the closed magnetic path through said location site distance adjacent that different each from the axis including the location site of the second core portion separating region is formed .

請求項1に記載のリアクトルによれば、コアは、第一コア部と第二コア部とを有している。第二コア部は、第一コア部と比べて透磁率が大きいので、主に、第二コア部を通って閉磁路が形成される。また、請求項1に記載のリアクトルは、軸からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う複数の位置部位を通って閉磁路の主部が形成されている。そのため、請求項1に記載のリアクトルは、磁路形成部材を有しない空芯の場合と比べて、磁束のコア内方への集中を防ぎ、磁束を均一化することができる。   According to the reactor of the first aspect, the core has the first core portion and the second core portion. Since the second core portion has a larger magnetic permeability than the first core portion, a closed magnetic path is mainly formed through the second core portion. Further, the reactor according to claim 1 is different in distance from the shaft, and the main part of the closed magnetic circuit is formed through a plurality of adjacent position parts. Therefore, compared with the case of the air core which does not have a magnetic path formation member, the reactor of Claim 1 can prevent concentration of magnetic flux inside a core, and can make magnetic flux uniform.

また、請求項1に記載のリアクトルは、上記位置部位により、空芯の場合と比べて、磁路長を増大することができる。そのため、請求項1に記載のリアクトルは、インダクタンスの低下を抑制することができ、直流重畳特性を向上させることができる。さらに、請求項1に記載のリアクトルは、上記位置部位により、直流重畳特性を向上させることができるので、例えば、磁路形成部材を多角形にするなどコアを局所的に変形する必要がなく、リアクトルを小型化することができる。   Moreover, the reactor of Claim 1 can increase magnetic path length by the said position site | part compared with the case of an air core. Therefore, the reactor of Claim 1 can suppress the fall of an inductance and can improve a direct current | flow superimposition characteristic. Furthermore, since the reactor according to claim 1 can improve the DC superposition characteristics by the position portion, for example, there is no need to locally deform the core, such as making the magnetic path forming member polygonal, The reactor can be downsized.

請求項2に記載のリアクトルは、請求項1に記載のリアクトルにおいて、前記コアは、前記軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、隣接する前記層部位には、前記軸からの距離が異なる前記位置部位がそれぞれ設けられている。そのため、請求項2に記載のリアクトルは、コアの軸方向にも磁路を形成することができ、さらに、直流重畳特性を向上させることができる。   The reactor according to claim 2 is the reactor according to claim 1, wherein the core has a plurality of layer portions that are divided in a direction perpendicular to the axial direction, and the adjacent layer portions include the shaft. The position portions having different distances from each other are provided. Therefore, the reactor according to claim 2 can form a magnetic path also in the axial direction of the core, and can further improve the DC superposition characteristics.

請求項3に記載のリアクトルは、請求項2に記載のリアクトルにおいて、前記第一コア部は、前記コアの軸方向視において前記軸からの距離がそれぞれ異なる複数の位置部位を有し、前記閉磁路は、前記第一コア部に形成される第一閉磁路と、前記第二コア部に形成され前記閉磁路の主部となる第二閉磁路と、を有し、前記第一閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第一コア部の互いに隣り合う前記位置部位を通るように形成され、前記第二閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第二コア部の互いに隣り合う前記位置部位を通るように形成されている。
請求項に記載のリアクトルは、請求項1〜3のいずれか一項に記載のリアクトルにおいて、隣り合う前記位置部位は、面接触または線接触している。そのため、請求項に記載のリアクトルは、隣り合う位置部位が離間している場合と比べて、当該位置部位を通らない磁束を低減することができる。
A reactor according to a third aspect is the reactor according to the second aspect, wherein the first core portion has a plurality of position portions each having different distances from the axis when viewed in the axial direction of the core. The path includes a first closed magnetic circuit formed in the first core part, and a second closed magnetic circuit formed in the second core part and serving as a main part of the closed magnetic circuit, wherein the first closed magnetic circuit is The first core portions provided in the adjacent layer portions are formed so as to pass through the position portions adjacent to each other, and the second closed magnetic path is formed between the second core portions provided in the adjacent layer portions. It is formed so as to pass through the adjacent position portions.
The reactor of Claim 4 is a reactor as described in any one of Claims 1-3. WHEREIN: The said adjacent position site | part is surface contact or line contact. Therefore, the reactor of Claim 4 can reduce the magnetic flux which does not pass through the said position part compared with the case where the adjacent position part is spaced apart.

請求項に記載のリアクトルは、第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、前記コアに巻き回されるコイルと、を備えるリアクトルであって、前記コアは、前記コアの軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、前記複数の層部位のうちの少なくとも一つは、周方向に離間する複数の前記第二コア部が設けられる第二コア部離間領域を含み、前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において周方向位置がそれぞれ異なる複数の周方向位置部位を有し、隣接する前記層部位には、前記周方向位置が異なる前記周方向位置部位がそれぞれ設けられ、前記第二コア部離間領域の複数の前記周方向位置部位を含む前記周方向位置がそれぞれ異な互いに隣り合う複数の前記周方向位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されている。 The reactor of Claim 5 has a 1st core part which has 1st magnetic permeability, and the 2nd core part which has 2nd magnetic permeability larger compared with said 1st magnetic permeability, Said 1st core part And a reactor including a core in which a closed magnetic path is formed by the second core portion, and a coil wound around the core, wherein the core is divided into a plurality in a direction perpendicular to the axial direction of the core And at least one of the plurality of layer portions includes a second core portion separation region in which a plurality of the second core portions separated in the circumferential direction are provided, and the second core portion is The core includes a plurality of circumferential position portions having different circumferential positions in the axial direction view, and the adjacent layer portions are provided with the circumferential position portions having different circumferential positions, respectively . A plurality of circumferential positions of the two core part separation region The circumferential position comprising a position that the main portion of the closed magnetic path through a plurality of the circumferential positions sites adjacent that different respectively are formed.

請求項に記載のリアクトルは、上記周方向位置部位により、コアの軸方向にも磁路を形成することができるので、1つの層部位において閉磁路の主部を形成する場合と比べて、磁路長を増大することができる。よって、請求項に記載のリアクトルは、直流重畳特性を向上させることができ、リアクトルを小型化することができる。 Since the reactor according to claim 5 can form a magnetic path also in the axial direction of the core by the circumferential position portion, compared with the case where the main part of the closed magnetic path is formed in one layer portion, The magnetic path length can be increased. Therefore, the reactor of Claim 5 can improve a direct current | flow superimposition characteristic, and can reduce a reactor in size.

請求項6に記載のリアクトルは、請求項5に記載のリアクトルにおいて、前記第一コア部は、前記コアの軸方向視において周方向位置がそれぞれ異なる複数の周方向位置部位を有し、前記閉磁路は、前記第一コア部に形成される第一閉磁路と、前記第二コア部に形成され前記閉磁路の主部となる第二閉磁路と、を有し、前記第一閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第一コア部の互いに隣り合う前記周方向位置部位を通るように形成され、前記第二閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第二コア部の互いに隣り合う前記周方向位置部位を通るように形成されている。
請求項に記載のリアクトルは、請求項5または6に記載のリアクトルにおいて、隣り合う前記周方向位置部位は、面接触または線接触している。そのため、請求項に記載のリアクトルは、隣り合う周方向位置部位が離間している場合と比べて、当該周方向位置部位を通らない磁束を低減することができる。
A reactor according to a sixth aspect is the reactor according to the fifth aspect, wherein the first core portion has a plurality of circumferential position portions whose circumferential positions are different from each other when viewed in the axial direction of the core. The path includes a first closed magnetic circuit formed in the first core part, and a second closed magnetic circuit formed in the second core part and serving as a main part of the closed magnetic circuit, wherein the first closed magnetic circuit is The second core part is formed so as to pass through the circumferential position parts adjacent to each other of the first core part provided in the adjacent layer part, and the second closed magnetic path is provided in the adjacent layer part. Are formed so as to pass through the circumferential position portions adjacent to each other.
A reactor according to a seventh aspect is the reactor according to the fifth or sixth aspect, wherein the adjacent circumferential position portions are in surface contact or line contact. Therefore, the reactor of Claim 7 can reduce the magnetic flux which does not pass the said circumferential position part compared with the case where the adjacent circumferential direction position part is spaced apart.

請求項に記載のリアクトルは、請求項1〜のいずれか一項に記載のリアクトルにおいて、前記第一コア部と前記第二コア部の境界において、前記第二コア部から前記第一コア部に向かって透磁率が徐々に減少する。そのため、請求項に記載のリアクトルは、第二コア部から第一コア部に向かって徐々に磁束密度を低下させることができ、当該境界部分で透磁率が急変する場合と比べて、磁束の集中を防ぎ、第二コア部を通らない磁束を低減することができる。 Reactor according to claim 8, in a reactor according to any one of claims 1 to 7, in a boundary of the second core portion and the first core portion, the first core from the second core portion The magnetic permeability gradually decreases toward the part. Therefore, the reactor according to claim 8 can gradually decrease the magnetic flux density from the second core portion toward the first core portion, and compared with the case where the magnetic permeability suddenly changes at the boundary portion. Concentration can be prevented and magnetic flux that does not pass through the second core portion can be reduced.

請求項に記載のリアクトルは、請求項1〜のいずれか一項に記載のリアクトルにおいて、前記コアには、前記第一コア部および前記第二コア部が存在しないギャップが設けられている。そのため、請求項に記載のリアクトルは、コアの全体の透磁率をギャップ長により調整することができ、所望の透磁率を容易に得ることができる。 The reactor of Claim 9 is a reactor as described in any one of Claims 1-8 , The gap in which the said 1st core part and the said 2nd core part do not exist is provided in the said core. . Therefore, the reactor of Claim 9 can adjust the magnetic permeability of the whole core with gap length, and can obtain desired magnetic permeability easily.

第1実施形態に係り、リアクトル1を模式的に示す正面図である。1 is a front view schematically showing a reactor 1 according to a first embodiment. 図1の矢印II方向視図である。FIG. 2 is a view in the direction of arrow II in FIG. 1. 第1実施形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 1st Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L. 変形形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on a deformation | transformation form and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L. 電流とインダクタンスの関係の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the relationship between an electric current and an inductance. 図3のXI−XI断面における磁束方向を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the magnetic flux direction in the XI-XI cross section of FIG. 図4のXII−XII断面における磁束方向を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the magnetic flux direction in the XII-XII cross section of FIG. 第2実施形態に係り、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 2nd Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in the core 2. FIG. 第3実施形態に係り、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 3rd Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U and 2L. 第4実施形態に係り、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 4th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in the core 2. FIG. 第5実施形態に係り、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 5th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in the core 2. FIG. 第6実施形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 6th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L. 第7実施形態に係り、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 7th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U and 2L. 第8実施形態に係り、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 8th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U and 2L. 参考形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on a reference form and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L. 実施形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 9th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L. 10実施形態に係り、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 10th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U and 2L. 11実施形態に係り、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which concerns on 11th Embodiment and shows arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 in each layer site | part 2U, 2M, 2L.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態について、共通する箇所には共通の符号を付して対応させることにより、重複する説明を省略する。また、各図は概念図であり、細部構造の寸法まで規定するものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about each embodiment, the common code | symbol is attached | subjected to a common location, and the overlapping description is abbreviate | omitted. Each figure is a conceptual diagram and does not define the dimensions of the detailed structure.

<第1実施形態>
図1は、リアクトル1を模式的に示す正面図である。図2は、図1の矢印II方向視図である。図1および図2に示すように、本実施形態のリアクトル1は、コア2と、コア2に巻き回されるコイル3と、を備えており、コア2には、閉磁路CC1が形成される。図1に示す閉磁路CC0は、コア2を有しない空芯の場合に形成される閉磁路を示している。同図に示すように、コア2は、中空円柱状に形成されており、コア2の軸(中心軸)を軸AZ1で示している。軸AZ1は、紙面に垂直な方向に形成されている。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a front view schematically showing the reactor 1. 2 is a view in the direction of arrow II in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the reactor 1 of this embodiment includes a core 2 and a coil 3 wound around the core 2, and a closed magnetic circuit CC <b> 1 is formed in the core 2. . A closed magnetic circuit CC <b> 0 shown in FIG. 1 indicates a closed magnetic circuit formed in the case of an air core that does not have the core 2. As shown in the figure, the core 2 is formed in a hollow cylindrical shape, and the axis (center axis) of the core 2 is indicated by an axis AZ1. The axis AZ1 is formed in a direction perpendicular to the paper surface.

図2に示すように、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されており、区分されたコア2を、層部位2U、2M、2Lで表している。図3は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。図3に示すように、層部位2Uは、径方向に2層に形成されており、各層は、周方向に12区分されている。このことは、層部位2M、2Lについても同様である。   As shown in FIG. 2, the core 2 is divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction), and the divided core 2 is represented by layer portions 2U, 2M, and 2L. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in FIG. 3, the layer portion 2U is formed in two layers in the radial direction, and each layer is divided into 12 in the circumferential direction. The same applies to the layer portions 2M and 2L.

コア2は、第一コア部21および第二コア部22を有している。図3に示すように、第二コア部22が配置される箇所には、ハッチングが施されている。一方、第一コア部21が配置される箇所には、ハッチングが施されていない。他の変形形態や実施形態においても同様に、ハッチングの有無により、第一コア部21および第二コア部22の配置を表すことにする。なお、上記ハッチングは、閉磁路CC1の主部を分かり易くするために、説明の便宜上施したものである。   The core 2 has a first core part 21 and a second core part 22. As shown in FIG. 3, hatching is applied to the place where the second core portion 22 is disposed. On the other hand, the portion where the first core part 21 is arranged is not hatched. Similarly, in other modified embodiments and embodiments, the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 is represented by the presence or absence of hatching. The hatching is provided for convenience of explanation in order to make the main part of the closed magnetic circuit CC1 easy to understand.

第一コア部21の透磁率を第一透磁率(比透磁率μ1)とし、第二コア部22の透磁率を第二透磁率(比透磁率μ2)とする。第二透磁率(比透磁率μ2)は、第一透磁率(比透磁率μ1)と比べて大きく設定されている。コア2は、第一コア部21および第二コア部22により閉磁路CC1が形成されるが、第二コア部22は、第一コア部21と比べて透磁率が大きいので、主に、第二コア部22を通って閉磁路CC1が形成される。そのため、図3に示すように、位置P01〜P20および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。なお、閉磁路CC1の始点および終点は、説明の便宜上設けたものであり、他の変形形態や実施形態においても同様である。   The magnetic permeability of the first core portion 21 is defined as the first magnetic permeability (relative magnetic permeability μ1), and the magnetic permeability of the second core portion 22 is defined as the second magnetic permeability (relative magnetic permeability μ2). The second magnetic permeability (relative magnetic permeability μ2) is set larger than the first magnetic permeability (relative magnetic permeability μ1). In the core 2, a closed magnetic circuit CC <b> 1 is formed by the first core portion 21 and the second core portion 22, but the second core portion 22 has a higher magnetic permeability than the first core portion 21, A closed magnetic circuit CC1 is formed through the two core portions 22. Therefore, as shown in FIG. 3, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P20 and the position P01. Note that the start point and end point of the closed magnetic circuit CC1 are provided for convenience of explanation, and the same applies to other modified embodiments and embodiments.

第二コア部22は、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を有している。第一位置部位2A1および第二位置部位2A2は、コア2の軸AZ1方向(図2に示す矢印Z1方向。以下同じ。)視において、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なる。例えば、位置P01で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。第一位置部位2A1は、コア2の内周側であり、第二位置部位2A2は、第一位置部位2A1より外周側である。   The second core part 22 has a first position part 2A1 and a second position part 2A2. The first position part 2A1 and the second position part 2A2 have different distances from the axis AZ1 when viewed in the direction of the axis AZ1 of the core 2 (the direction of the arrow Z1 shown in FIG. 2, the same applies hereinafter). For example, the area indicated by the position P01 is the first position part 2A1, and the area indicated by the position P02 is the second position part 2A2. The first position part 2A1 is on the inner peripheral side of the core 2, and the second position part 2A2 is on the outer peripheral side of the first position part 2A1.

つまり、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。なお、「互いに隣り合う」には、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2が接する場合の他、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2が離間している場合も含まれる。以上のことは、位置P05で示す領域と位置P06で示す領域との間、位置P11で示す領域と位置P12で示す領域との間、および、位置P15で示す領域と位置P16で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。   That is, the reactor 1 of the present embodiment has different distances from the axis AZ1 when viewed in the direction of the axis AZ1 (arrow Z1 direction) of the core 2, and passes through the first position part 2A1 and the second position part 2A2 that are adjacent to each other. The main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Note that “adjacent to each other” includes not only the case where the first position part 2A1 and the second position part 2A2 are in contact, but also the case where the first position part 2A1 and the second position part 2A2 are separated. The above is the relationship between the area indicated by position P05 and the area indicated by position P06, the area indicated by position P11 and the area indicated by position P12, and the area indicated by position P15 and the area indicated by position P16. The same is true between the two, and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

そのため、本実施形態のリアクトル1は、空芯の場合と比べて、磁束のコア2内方(内周側)への集中を防ぎ、磁束を均一化することができる。また、本実施形態のリアクトル1は、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2により、空芯の場合と比べて磁路長を増大することができる。ここで、磁界(Hf)、磁路長(lm)、コイル3の巻数(Tn)およびコイル3に流れる電流をコイル電流(Ic)とすると、これらの関係は、下記数1で示される。また、磁界(Hf)は、コイル電流(Ic)に比例し、インダクタンス(Ls)は、コイル電流(Ic)が大きくなるにつれて低下する。
(数1)
Hf=Tn×Ic/lm
Therefore, the reactor 1 of this embodiment can prevent the magnetic flux from concentrating on the inner side (inner peripheral side) of the core 2 and can make the magnetic flux uniform as compared with the case of the air core. Moreover, the reactor 1 of this embodiment can increase magnetic path length by 1st position site | part 2 A1 and 2nd position site | part 2 A2 compared with the case of an air core. Here, assuming that the magnetic field (Hf), the magnetic path length (lm), the number of turns of the coil 3 (Tn), and the current flowing through the coil 3 are coil currents (Ic), these relationships are expressed by the following formula (1). The magnetic field (Hf) is proportional to the coil current (Ic), and the inductance (Ls) decreases as the coil current (Ic) increases.
(Equation 1)
Hf = Tn × Ic / lm

本実施形態のリアクトル1は、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2により、空芯の場合と比べて磁路長(lm)を増大することができるので、コア2に生じる磁界(Hf)を低下させて、コイル電流(Ic)を低減することができる。よって、本実施形態のリアクトル1は、インダクタンス(Ls)の低下を抑制することができ、直流重畳特性を向上させることができる。直流重畳特性の向上とは、直流電流に交流成分を加えた直流重畳電流をコイル3に流した場合に、コア2における磁気飽和を抑制して、インダクタンスの低下を低減することをいう。   In the reactor 1 of the present embodiment, the first position part 2A1 and the second position part 2A2 can increase the magnetic path length (lm) as compared with the case of the air core, so that the magnetic field (Hf) generated in the core 2 is increased. The coil current (Ic) can be reduced. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can suppress the fall of an inductance (Ls), and can improve a direct current | flow superimposition characteristic. The improvement of the DC superimposition characteristic means that, when a DC superimposition current obtained by adding an AC component to a DC current is passed through the coil 3, magnetic saturation in the core 2 is suppressed, and a decrease in inductance is reduced.

つまり、コイル電流(Ic)が増加するにつれてインダクタンス(Ls)は低下するが、本実施形態のリアクトル1は、磁路長(lm)を増大することができるので、大きな直流重畳電流に対してインダクタンス(Ls)の低下を抑制することができる。さらに、本実施形態のリアクトル1は、上記第一位置部位2A1および第二位置部位2A2により、直流重畳特性を向上させることができるので、例えば、磁路形成部材を多角形にするなどコア2を局所的に変形する必要がなく、リアクトル1を小型化することができる。   In other words, the inductance (Ls) decreases as the coil current (Ic) increases, but the reactor 1 of the present embodiment can increase the magnetic path length (lm), so that the inductance with respect to a large DC superimposed current is increased. A decrease in (Ls) can be suppressed. Furthermore, the reactor 1 of the present embodiment can improve the DC superimposition characteristics by the first position part 2A1 and the second position part 2A2, so that, for example, the core 2 is formed by making the magnetic path forming member polygonal. It is not necessary to deform locally, and the reactor 1 can be reduced in size.

また、本実施形態では、層部位2Mの位置P20で示す領域と、層部位2Lの位置P02で示す領域とを通って閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P20で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、層部位2Mの第一位置部位2A1と、層部位2Lの第二位置部位2A2とを通って閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P07で示す領域との間、位置P10で示す領域と位置P12で示す領域との間、および、位置P15で示す領域と位置P17で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。したがって、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)にも磁路を形成することができ、さらに、直流重畳特性を向上させることができる。   In the present embodiment, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P20 of the layer part 2M and the region indicated by the position P02 of the layer part 2L. The region indicated by the position P20 is the first position part 2A1, and the region indicated by the position P02 is the second position part 2A2. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2M and the second position part 2A2 of the layer part 2L. The same applies to the area indicated by the position P05 and the area indicated by the position P07, the area indicated by the position P10 and the area indicated by the position P12, and the area indicated by the position P15 and the area indicated by the position P17. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can form a magnetic path also in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and can further improve the DC superposition characteristics.

なお、層部位2Mの位置P20で示す領域と、層部位2Lの位置P01で示す領域との間において、閉磁路CC1の主部を形成することができる。位置P20で示す領域および位置P01で示す領域は、いずれも第一位置部位2A1である。つまり、層部位2Mの第一位置部位2A1と、層部位2Lの第一位置部位2A1とを通って閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間、位置P10で示す領域と位置P11で示す領域との間、および、位置P16で示す領域と位置P17で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。なお、第二位置部位2A2についても同様に、閉磁路CC1の主部を形成することができる。   The main part of the closed magnetic circuit CC1 can be formed between the region indicated by the position P20 of the layer part 2M and the region indicated by the position P01 of the layer part 2L. The region indicated by the position P20 and the region indicated by the position P01 are both the first position part 2A1. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2M and the first position part 2A1 of the layer part 2L. The same applies to the area indicated by the position P06 and the area indicated by the position P07, the area indicated by the position P10 and the area indicated by the position P11, and the area indicated by the position P16 and the area indicated by the position P17. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Similarly, the main part of the closed magnetic circuit CC1 can be formed for the second position portion 2A2.

図4は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。図4に示すように、本変形形態においても、層部位2Uは、径方向に2層に形成されており、各層は、周方向に12区分されている。このことは、層部位2M、2Lについても同様である。また、コア2は、第一コア部21および第二コア部22を有している。   FIG. 4 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in FIG. 4, also in this modification, the layer portion 2U is formed in two layers in the radial direction, and each layer is divided into 12 sections in the circumferential direction. The same applies to the layer portions 2M and 2L. The core 2 has a first core portion 21 and a second core portion 22.

図4に示すように、層部位2Uは、第一コア部21のみを有し、第二コア部22を有しない。層部位2M、2Lは、第一コア部21および第二コア部22をそれぞれ有しているが、これらの配置が第1実施形態と異なる。よって、図4に示すように、位置P01(位置P01M、位置P01L)〜位置P16および位置P01(位置P01M、位置P01L)の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。   As shown in FIG. 4, the layer portion 2 </ b> U has only the first core portion 21 and does not have the second core portion 22. The layer portions 2M and 2L have the first core portion 21 and the second core portion 22, respectively, but their arrangement is different from that of the first embodiment. Therefore, as shown in FIG. 4, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of position P01 (position P01M, position P01L) to position P16 and position P01 (position P01M, position P01L).

例えば、位置P16で示す領域、位置P01で示す領域および位置P02で示す領域を通る磁路として、主に、3通りの磁路が考えられる。1つ目の磁路は、位置P16で示す領域、位置P01Mで示す領域および位置P02で示す領域を通る磁路である。2つ目の磁路は、位置P16で示す領域、位置P01Mで示す領域、位置P01Lで示す領域および位置P02で示す領域を通る磁路である。3つ目の磁路は、位置P16で示す領域、位置P01Lで示す領域および位置P02で示す領域を通る磁路である。   For example, mainly three magnetic paths are conceivable as magnetic paths passing through the region indicated by the position P16, the region indicated by the position P01, and the region indicated by the position P02. The first magnetic path is a magnetic path that passes through the region indicated by position P16, the region indicated by position P01M, and the region indicated by position P02. The second magnetic path is a magnetic path that passes through the region indicated by position P16, the region indicated by position P01M, the region indicated by position P01L, and the region indicated by position P02. The third magnetic path is a magnetic path that passes through the region indicated by the position P16, the region indicated by the position P01L, and the region indicated by the position P02.

層部位2Lにおいて、位置P01Lで示す領域は、近傍に第一位置部位2A1または第二位置部位2A2を有しない。一方、層部位2Mにおいて、位置P01Mで示す領域は、近傍に第一位置部位2A1(位置P16で示す領域)および第二位置部位2A2(位置P02で示す領域)を有している。そのため、磁路は、1つ目の磁路によって形成され易くなる。このように、複数の磁路を表す場合などには、軸AZ1方向(矢印Z1方向)の複数の第一位置部位2A1または第二位置部位2A2を対にして取扱い、表記する。例えば、第1実施形態の位置P01に相当する領域は、位置P01Lで示す領域と位置P01Mで示す領域とを対にして取扱い、表記する。このことは、他の領域についても同様である。   In the layer part 2L, the region indicated by the position P01L does not have the first position part 2A1 or the second position part 2A2 in the vicinity. On the other hand, in the layer part 2M, the area indicated by the position P01M has a first position part 2A1 (area indicated by the position P16) and a second position part 2A2 (area indicated by the position P02) in the vicinity. Therefore, the magnetic path is easily formed by the first magnetic path. As described above, when a plurality of magnetic paths are represented, the plurality of first position portions 2A1 or second position portions 2A2 in the direction of the axis AZ1 (arrow Z1 direction) are handled and described as a pair. For example, the area corresponding to the position P01 in the first embodiment is handled and described by pairing the area indicated by the position P01L and the area indicated by the position P01M. The same applies to other areas.

本変形形態においても、位置P01(位置P01M、位置P01L)で示す領域と、位置P02で示す領域とを通って閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P01(位置P01M、位置P01L)で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P06(位置P06M、位置P06L)で示す領域との間、位置P09(位置P09M、位置P09L)で示す領域と位置P10で示す領域との間、および、位置P13で示す領域と位置P14(位置P14M、位置P14L)で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。よって、本変形形態のリアクトル1は、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   Also in this modification, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P01 (position P01M, position P01L) and the region indicated by the position P02. The area indicated by the position P01 (position P01M, position P01L) is the first position part 2A1, and the area indicated by the position P02 is the second position part 2A2. That is, the distance from the axis AZ1 is different, and the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2 that are adjacent to each other. Between the area indicated by position P05 and the area indicated by position P06 (position P06M, position P06L), between the area indicated by position P09 (position P09M, position P09L) and the area indicated by position P10, and indicated by position P13 The same applies to the region and the region indicated by the position P14 (position P14M, position P14L), and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this modification can obtain the same effects as those already described in the first embodiment.

また、層部位2Lの位置P01Lで示す領域と、層部位2Mの位置P02で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P01Lで示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、層部位2Lの第一位置部位2A1と、層部位2Mの第二位置部位2A2とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P06Lで示す領域との間、位置P09Lで示す領域と位置P10で示す領域との間、および、位置P13で示す領域と位置P14Lで示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。したがって、本変形形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)にも磁路を形成することができ、さらに、直流重畳特性を向上させることができる。   Further, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P01L of the layer part 2L and the region indicated by the position P02 of the layer part 2M. The region indicated by the position P01L is the first position portion 2A1, and the region indicated by the position P02 is the second position portion 2A2. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2L and the second position part 2A2 of the layer part 2M. The same applies between the area indicated by position P05 and the area indicated by position P06L, between the area indicated by position P09L and the area indicated by position P10, and between the area indicated by position P13 and the area indicated by position P14L. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this modification can form a magnetic path also in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and can further improve the DC superposition characteristics.

なお、層部位2Lの位置P01Lで示す領域と、層部位2Mの位置P01Mで示す領域との間において、閉磁路CC1の主部を形成することができる。位置P01Lで示す領域および位置P01Mで示す領域は、いずれも第一位置部位2A1である。つまり、層部位2Lの第一位置部位2A1と、層部位2Mの第一位置部位2A1とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P06Lで示す領域と位置P06Mで示す領域との間、位置P09Lで示す領域と位置P09Mで示す領域との間、および、位置P14Lで示す領域と位置P14Mで示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。   The main part of the closed magnetic circuit CC1 can be formed between the region indicated by the position P01L of the layer part 2L and the region indicated by the position P01M of the layer part 2M. The region indicated by the position P01L and the region indicated by the position P01M are both the first position part 2A1. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2L and the first position part 2A1 of the layer part 2M. The same applies between the area indicated by position P06L and the area indicated by position P06M, between the area indicated by position P09L and the area indicated by position P09M, and between the area indicated by position P14L and the area indicated by position P14M. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

なお、図3に示すように、本実施形態では、層部位2Uにおいて、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を併せた領域は、軸AZ1回りに非対称に配置されている。このことは、層部位2Lにおいても同様である。なお、層部位2Mにおいて、第一位置部位2A1は、軸AZ1回りに対称に配置されている。一方、図4に示すように、変形形態では、層部位2Mにおいて、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を併せた領域は、軸AZ1回りに対称に配置されている。また、層部位2Lにおいて、第一位置部位2A1は、軸AZ1回りに対称に配置されている。   As shown in FIG. 3, in the present embodiment, in the layer part 2U, the region including the first position part 2A1 and the second position part 2A2 is arranged asymmetrically around the axis AZ1. The same applies to the layer portion 2L. In the layer part 2M, the first position part 2A1 is arranged symmetrically around the axis AZ1. On the other hand, as shown in FIG. 4, in the modified embodiment, in the layer part 2M, the region including the first position part 2A1 and the second position part 2A2 is arranged symmetrically around the axis AZ1. In the layer part 2L, the first position part 2A1 is arranged symmetrically around the axis AZ1.

図5は、電流とインダクタンスの関係の一例を示す説明図である。曲線L1は、第1実施形態のリアクトル1の特性を示し、曲線L2は、変形形態のリアクトル1の特性を示している。曲線L2に示す変形形態のリアクトル1は、リアクトル1のコイル3に流れる電流が大きくなると、曲線L1に示す第1実施形態のリアクトル1と比べて、インダクタンスが低下している。   FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of the relationship between current and inductance. A curve L1 indicates the characteristics of the reactor 1 according to the first embodiment, and a curve L2 indicates the characteristics of the reactor 1 according to the modified embodiment. When the current flowing through the coil 3 of the reactor 1 in the modified form of the reactor 1 shown by the curve L2 becomes larger, the inductance is lower than that of the reactor 1 of the first embodiment shown by the curve L1.

電流とインダクタンスの関係は、リアクトル1のコイル3の両端に、公知の直流重畳評価装置を接続して計測することができる。例えば、直流重畳評価装置は、公知の直流電源および正弦波供給電源を有しており、直流電源から出力される直流電圧に、正弦波供給電源から出力される正弦波状電圧を重畳することができる。また、直流重畳評価装置は、公知のLCRメータを有しており、リアクトル1のコイル3の両端に直流重畳電圧を印加してコイル3に直流重畳電流を流した状態で、リアクトル1のインダクタンスを計測することができる。なお、磁界解析によっても同様の特性を得ることができる。   The relationship between the current and the inductance can be measured by connecting a known DC superposition evaluation apparatus to both ends of the coil 3 of the reactor 1. For example, the DC superposition evaluation apparatus has a known DC power supply and a sine wave power supply, and can superimpose a sine wave voltage output from the sine wave power supply on a DC voltage output from the DC power supply. . The direct current superimposition evaluation apparatus has a known LCR meter. The direct current superimposition voltage is applied to both ends of the coil 3 of the reactor 1 so that the direct current superposition current flows through the coil 3, and the inductance of the reactor 1 is measured. It can be measured. Similar characteristics can be obtained by magnetic field analysis.

図6は、図3のXI−XI断面における磁束方向を説明する説明図である。図6は、磁界解析によって第1実施形態のリアクトル1の磁束方向を算出して、磁束方向を模式的に示したものである。図7は、図4のXII−XII断面における磁束方向を説明する説明図である。図7は、同様の磁界解析によって変形形態のリアクトル1の磁束方向を算出して、磁束方向を模式的に示したものである。図6および図7では、紙面に直交する方向に磁束が形成されるときの磁束方向を黒丸で示し、紙面上(XI−XI断面またはXII−XII断面)において磁束が形成されるときの磁束方向を矢印で示している。   FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining the direction of magnetic flux in the XI-XI cross section of FIG. 3. FIG. 6 schematically shows the magnetic flux direction by calculating the magnetic flux direction of the reactor 1 of the first embodiment by magnetic field analysis. FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the magnetic flux direction in the XII-XII cross section of FIG. 4. FIG. 7 schematically shows the direction of the magnetic flux by calculating the magnetic flux direction of the modified reactor 1 by the same magnetic field analysis. 6 and 7, the magnetic flux direction when the magnetic flux is formed in the direction orthogonal to the paper surface is indicated by black circles, and the magnetic flux direction when the magnetic flux is formed on the paper surface (XI-XI cross section or XII-XII cross section). Is indicated by an arrow.

第1実施形態のリアクトル1は、例えば、層部位2Lの位置P05で示す領域(第二位置部位2A2)および位置P06で示す領域(第一位置部位2A1)、並びに、層部位2Mの位置P07で示す領域(第一位置部位2A1)により、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)に閉磁路CC1の主部が形成される。そのため、図6に示すように、位置P06で示す領域から位置P07で示す領域にかけて、紙面に直交しない方向(紙面上)に磁束が形成されている。   The reactor 1 of the first embodiment includes, for example, a region indicated by a position P05 of the layer part 2L (second position part 2A2), a region indicated by a position P06 (first position part 2A1), and a position P07 of the layer part 2M. The main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the direction of the axis AZ1 (the direction of the arrow Z1) of the core 2 by the region (first position portion 2A1) shown. Therefore, as shown in FIG. 6, a magnetic flux is formed in a direction (on the paper surface) that is not orthogonal to the paper surface from the region indicated by the position P06 to the region indicated by the position P07.

変形形態のリアクトル1は、例えば、層部位2Lにおいて、位置P06Lで示す領域(第一位置部位2A1)の近傍に、第一位置部位2A1または第二位置部位2A2を有しない。一方、層部位2Mにおいて、位置P05で示す領域(第二位置部位2A2)、位置P06Mで示す領域(第一位置部位2A1)および位置P07で示す領域(第一位置部位2A1)は、周方向に連続して配置されている。よって、変形形態のリアクトル1は、第1実施形態のリアクトル1と比べて、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)への磁路の形成が少ない。そのため、図7に示すように、位置P06Lで示す領域および位置P06Mで示す領域においては、主に、紙面に直交する方向に磁束が形成されている。つまり、層部位2Lの位置P06Lで示す領域と、層部位2Mの位置P06Mで示す領域との間では、紙面に直交しない方向(紙面上)の磁路の形成は少ない。この現象は、特に、複数の第一位置部位2A1または第二位置部位2A2が連続して配置されていない場合にみられる。   For example, the reactor 1 of the modified form does not have the first position part 2A1 or the second position part 2A2 in the vicinity of the region (first position part 2A1) indicated by the position P06L in the layer part 2L. On the other hand, in the layer part 2M, the region indicated by the position P05 (second position part 2A2), the region indicated by the position P06M (first position part 2A1), and the region indicated by the position P07 (first position part 2A1) are arranged in the circumferential direction. It is arranged continuously. Therefore, the reactor 1 of a deformation | transformation form has few formation of the magnetic path to the axis | shaft AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2 compared with the reactor 1 of 1st Embodiment. Therefore, as shown in FIG. 7, in the region indicated by the position P06L and the region indicated by the position P06M, a magnetic flux is mainly formed in a direction orthogonal to the paper surface. That is, there is little formation of a magnetic path in a direction (on the paper surface) that is not orthogonal to the paper surface between the region indicated by the position P06L of the layer part 2L and the region indicated by the position P06M of the layer part 2M. This phenomenon is particularly seen when a plurality of first position parts 2A1 or second position parts 2A2 are not continuously arranged.

また、第1実施形態のリアクトル1は、層部位2U、2M、2Lにおいて、閉磁路CC1の主部が形成されているが、変形形態のリアクトル1は、層部位2M、2Lにおいて、閉磁路CC1の主部が形成されている。そのため、変形形態のリアクトル1は、第1実施形態のリアクトル1と比べて、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)への磁路の形成が少ないので、第1実施形態のリアクトル1と比べて、磁路長が短くなる。よって、図5に示すように、曲線L2に示す変形形態のリアクトル1は、リアクトル1のコイル3に流れる電流が大きくなると、曲線L1に示す第1実施形態のリアクトル1と比べて、インダクタンスが低下している。   Moreover, although the reactor 1 of 1st Embodiment has the main part of the closed magnetic circuit CC1 formed in the layer site | parts 2U, 2M, and 2L, the reactor 1 of a deformation | transformation form is closed magnetic circuit CC1 in the layer site | parts 2M and 2L. The main part is formed. Therefore, since the reactor 1 of a deformation | transformation form has few formation of the magnetic path to the axis | shaft AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2 compared with the reactor 1 of 1st Embodiment, compared with the reactor 1 of 1st Embodiment. Thus, the magnetic path length is shortened. Therefore, as shown in FIG. 5, when the current flowing through the coil 3 of the reactor 1 is increased, the inductance of the reactor 1 of the modified form shown by the curve L2 is lower than that of the reactor 1 of the first embodiment shown by the curve L1. doing.

なお、図3に示すように、隣リ合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)は、面接触していると好適である。これにより、第1実施形態のリアクトル1は、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が離間している場合と比べて、当該位置部位を通らない磁束を低減することができる。このことは、図4に示す変形形態のリアクトル1についても同様である。   As shown in FIG. 3, it is preferable that the adjacent position parts (first position part 2A1 and second position part 2A2) are in surface contact. Thereby, the reactor 1 of 1st Embodiment reduces the magnetic flux which does not pass the said position site | part compared with the case where the adjacent position site | part (1st position site | part 2 A1 and 2nd position site | part 2 A2) is spaced apart. Can do. This is the same also about the reactor 1 of the deformation | transformation form shown in FIG.

次に、コア2およびコイル3について説明する。コア2は、例えば、純鉄粉末や鉄系粉末(例えばFe−Si系粉末)などの磁性材料を加圧成形することにより形成することができる。この場合、透磁率が小さい第一コア部21を純鉄粉末で形成し、透磁率が大きい第二コア部22をFe−Si系粉末で形成することができる。また、粉末の表面は、渦電流損失を低減するために、電気絶縁膜で覆われていると良い。なお、同じ材料組成で密度が大きい程、透磁率が大きいことから、同じ材料組成で第一コア部21を低密度にして、第二コア部22を高密度にしても良い。   Next, the core 2 and the coil 3 will be described. The core 2 can be formed, for example, by pressure molding a magnetic material such as pure iron powder or iron-based powder (for example, Fe—Si-based powder). In this case, the first core portion 21 having a low magnetic permeability can be formed from pure iron powder, and the second core portion 22 having a high magnetic permeability can be formed from Fe—Si based powder. The powder surface is preferably covered with an electrical insulating film in order to reduce eddy current loss. In addition, since the permeability is so large that the density is the same with the same material composition, the first core portion 21 may be made low density and the second core portion 22 may be made high density with the same material composition.

磁性材料は、上記の磁性材料に限定されるものではない。磁性材料は、例えば、酸化鉄を主成分とする各種フェライトを用いることもできる。また、第一コア部21は、非磁性材料を用いることもできる。例えば、非磁性材料で第一コア部21を形成し、磁性材料で第二コア部22を形成することができる。非磁性材料は限定されないが、例えば、二酸化ケイ素(SiO)、アルミナ(Al)などを用いることができる。 The magnetic material is not limited to the above magnetic material. As the magnetic material, for example, various ferrites mainly composed of iron oxide can be used. The first core portion 21 can also use a nonmagnetic material. For example, the first core portion 21 can be formed of a nonmagnetic material, and the second core portion 22 can be formed of a magnetic material. Although the nonmagnetic material is not limited, for example, silicon dioxide (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), or the like can be used.

また、コア2は、例えば、有底同心円筒に上記粉末を充填して、軸AZ1方向(矢印Z1方向)に加圧することにより、第一コア部21および第二コア部22を形成することができる。有底同心円筒は、例えば、直径の異なる2つの有底円筒を同心に配置する。2つの円筒の直径は、コア2の外径、コア2の内径にそれぞれ設定されている。そして、図3の位置P01〜P06で示す領域において、第二透磁率(比透磁率μ2)の粉末を充填し、位置P01〜P06で示す領域以外には、第一透磁率(比透磁率μ1)の粉末を充填する。そして、充填された粉末を軸AZ1方向(矢印Z1方向)に加圧することにより、層部位2Lを形成することができる。同様にして、層部位2M、2Uを形成することにより、軸AZ1方向(矢印Z1方向)に3区分されたコア2を形成することができる。   Moreover, the core 2 can form the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 by filling the said powder into the bottomed concentric cylinder, for example, and pressurizing it to the axis | shaft AZ1 direction (arrow Z1 direction). it can. In the bottomed concentric cylinder, for example, two bottomed cylinders having different diameters are arranged concentrically. The diameters of the two cylinders are set to the outer diameter of the core 2 and the inner diameter of the core 2, respectively. And in the area | region shown by the position P01-P06 of FIG. 3, it fills with the powder of 2nd magnetic permeability (relative magnetic permeability μ2), and other than the area | region shown by the position P01-P06, 1st magnetic permeability (relative magnetic permeability μ1). ). And the layer site | part 2L can be formed by pressurizing the filled powder to the axis | shaft AZ1 direction (arrow Z1 direction). Similarly, by forming the layer portions 2M and 2U, the core 2 divided into three in the direction of the axis AZ1 (arrow Z1 direction) can be formed.

なお、第一コア部21および第二コア部22の配置に合わせて、適宜、仕切りを設けることもできる。なお、コア2の形成方法は、上記方法に限定されるものではない。例えば、第一コア部21および第二コア部22を個別に形成して、接着剤などにより第一コア部21および第二コア部22を固定することもできる。また、第一コア部21は、一体に形成することもでき、第二コア部22は、一体に形成することもできる。例えば、図3の位置P01〜P06で示す領域を一体に形成することができる。一体に形成する場合であっても、位置P01、P06に相当する領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02〜P05に相当する領域は、第二位置部位2A2である。これらのことは、層部位2U、2Mについても同様である。   In addition, according to arrangement | positioning of the 1st core part 21 and the 2nd core part 22, a partition can also be provided suitably. In addition, the formation method of the core 2 is not limited to the said method. For example, the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 can be formed separately, and the 1st core part 21 and the 2nd core part 22 can also be fixed with an adhesive agent etc. Moreover, the 1st core part 21 can also be formed integrally, and the 2nd core part 22 can also be formed integrally. For example, the regions indicated by the positions P01 to P06 in FIG. 3 can be integrally formed. Even when they are formed integrally, the region corresponding to the positions P01 and P06 is the first position site 2A1, and the region corresponding to the positions P02 to P05 is the second position site 2A2. The same applies to the layer portions 2U and 2M.

また、第一コア部21と第二コア部22の境界において、第二コア部22から第一コア部21に向かって透磁率を徐々に減少させることもできる。例えば、当該境界部分で第一コア部21および第二コア部22を形成する粉末の混合割合を変更することができる。つまり、第二コア部22側は、第二透磁率(比透磁率μ2)の粉末を多くし、第一コア部21側に向かうにつれて、第一透磁率(比透磁率μ1)の粉末を多くする。これにより、第二コア部22から第一コア部21に向かって徐々に磁束密度を低下させることができ、当該境界部分で透磁率が急変する場合と比べて、磁束の集中を防ぎ、第二コア部22を通らない磁束を低減することができる。なお、第一コア部21と第二コア部22の境界は、同じ材料組成で、第一コア部21から第二コア部22に向かう程、高密度にしても良い。これらのことは、以降の実施形態においても同様である。   Further, the magnetic permeability can be gradually reduced from the second core portion 22 toward the first core portion 21 at the boundary between the first core portion 21 and the second core portion 22. For example, the mixing ratio of the powder forming the first core portion 21 and the second core portion 22 can be changed at the boundary portion. That is, the second core part 22 side increases the powder of the second magnetic permeability (relative magnetic permeability μ2), and the powder of the first magnetic permeability (relative magnetic permeability μ1) increases toward the first core part 21 side. To do. As a result, the magnetic flux density can be gradually reduced from the second core portion 22 toward the first core portion 21, and the concentration of magnetic flux can be prevented compared with the case where the magnetic permeability suddenly changes at the boundary portion. Magnetic flux that does not pass through the core portion 22 can be reduced. Note that the boundary between the first core portion 21 and the second core portion 22 may have the same material composition, and the density may be increased toward the second core portion 22 from the first core portion 21. The same applies to the following embodiments.

コア2における第二コア部22の割合(第一コア部21および第二コア部22の領域に対する第二コア部22の領域)は、必要なインダクタンスに合わせて、適宜、決定することができる。例えば、インダクタンスを増加させる場合は、第二コア部22の割合を多くし、インダクタンスを減少させる場合は、第二コア部22の割合を少なくする。なお、図3および図4に示すように、第一コア部21および第二コア部22の使用比率が同じ場合であっても、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2の配置により、直流重畳特性を向上させることができる。   The ratio of the second core portion 22 in the core 2 (the region of the second core portion 22 with respect to the regions of the first core portion 21 and the second core portion 22) can be appropriately determined according to the required inductance. For example, when the inductance is increased, the ratio of the second core portion 22 is increased, and when the inductance is decreased, the ratio of the second core portion 22 is decreased. As shown in FIGS. 3 and 4, even if the usage ratios of the first core portion 21 and the second core portion 22 are the same, the direct current depends on the arrangement of the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2. Superimposition characteristics can be improved.

また、層部位2Uは、径方向に3層以上に形成することもできる。また、各層の周方向の区分数も12区分に限定されるものではなく、均等に区分されていなくても良い。これらのことは、層部位2M、2Lについても同様である。例えば、コア2の径方向において、3つ以上の位置部位(第三位置部位、第四位置部位、...)を配置することができる。これにより、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う3つ以上の位置部位を通って、閉磁路CC1の主部が形成される。   Further, the layer portion 2U can be formed in three or more layers in the radial direction. Further, the number of sections in the circumferential direction of each layer is not limited to twelve sections, and may not be divided equally. The same applies to the layer portions 2M and 2L. For example, in the radial direction of the core 2, three or more position parts (third position part, fourth position part,...) Can be arranged. Thereby, when the core 2 is viewed in the direction of the axis AZ1 (the direction of the arrow Z1), the distance from the axis AZ1 is different, and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through three or more adjacent position portions.

コア2の形状は、円環状に限定されるものではなく、コア2において閉磁路CC1が形成される形状であれば良い。例えば、軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、四角形状などの多角形状にすることもできる。また、コア2には、第一コア部21および第二コア部22が存在しないギャップを設けることもできる。この場合、コア2の全体の透磁率をギャップ長により調整することができ、所望の透磁率を容易に得ることができる。具体的には、ギャップ長を増大するとコア2の全体の透磁率は低下し、ギャップ長を減少するとコア2の全体の透磁率は増加する。これらのことは、以降の実施形態においても同様である。   The shape of the core 2 is not limited to an annular shape, and may be any shape as long as the closed magnetic path CC1 is formed in the core 2. For example, when viewed in the direction of the axis AZ1 (the direction of the arrow Z1), a polygonal shape such as a quadrangular shape may be used. The core 2 may be provided with a gap where the first core portion 21 and the second core portion 22 do not exist. In this case, the entire magnetic permeability of the core 2 can be adjusted by the gap length, and a desired magnetic permeability can be easily obtained. Specifically, when the gap length is increased, the magnetic permeability of the entire core 2 is decreased, and when the gap length is decreased, the magnetic permeability of the entire core 2 is increased. The same applies to the following embodiments.

コイル3は、導体表面がエナメルなどの絶縁層で被覆されている。コイル3の断面形状は、限定されるものではなく、任意の断面形状とすることができる。例えば、コイル3は、断面円形状の丸線、断面多角形状の角線などの種々の断面形状の導体を用いることができる。また、図1に示すように、コイル3は、コア2の全周にわたって巻き回すことができ、コア2の周方向の一部において、巻き回すこともできる。   The coil 3 has a conductor surface covered with an insulating layer such as enamel. The cross-sectional shape of the coil 3 is not limited and can be any cross-sectional shape. For example, the coil 3 can use conductors having various cross-sectional shapes such as a circular line having a circular cross section and a square line having a cross-sectional polygonal shape. As shown in FIG. 1, the coil 3 can be wound around the entire circumference of the core 2, and can be wound around a part of the core 2 in the circumferential direction.

<第2実施形態>
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されていない点で第1実施形態と異なる。図8は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
Second Embodiment
In the present embodiment, the core 2 is different from the first embodiment in that the core 2 is not divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction). FIG. 8 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the core 2. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P16 and the position P01.

本実施形態では、位置P01で示す領域と、位置P02で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P01で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P06で示す領域との間、位置P09で示す領域と位置P10で示す領域との間、および、位置P13で示す領域と位置P14で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。   In the present embodiment, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P01 and the region indicated by the position P02. The region indicated by the position P01 is the first position portion 2A1, and the region indicated by the position P02 is the second position portion 2A2. That is, the distance from the axis AZ1 is different, and the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2 that are adjacent to each other. The same applies to the area indicated by the position P05 and the area indicated by the position P06, the area indicated by the position P09 and the area indicated by the position P10, and the area indicated by the position P13 and the area indicated by the position P14. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

よって、本実施形態のリアクトル1は、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。なお、本実施形態のリアクトル1は、コア2が軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されていないので、軸AZ1方向(矢印Z1方向)に磁路長を増大することはできない。   Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effect as the effect described above in the first embodiment. In the reactor 1 of this embodiment, since the core 2 is not divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction), the magnetic path length cannot be increased in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction).

<第3実施形態>
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第1実施形態と異なる。図9は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P20および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Third Embodiment>
In the present embodiment, the core 2 is different from the first embodiment in that the core 2 is divided into two in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction). FIG. 9 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P20 and the position P01.

本実施形態では、位置P01で示す領域と、位置P02で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P01で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P06で示す領域との間、位置P11で示す領域と位置P12で示す領域との間、および、位置P15で示す領域と位置P16で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P01 and the region indicated by the position P02. The region indicated by the position P01 is the first position portion 2A1, and the region indicated by the position P02 is the second position portion 2A2. That is, the distance from the axis AZ1 is different, and the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2 that are adjacent to each other. The same applies to the area indicated by the position P05 and the area indicated by the position P06, the area indicated by the position P11 and the area indicated by the position P12, and the area indicated by the position P15 and the area indicated by the position P16. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effect as the effect described above in the first embodiment.

また、層部位2Lの位置P20で示す領域と、層部位2Uの位置P02で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P20で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P02で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、層部位2Lの第一位置部位2A1と、層部位2Uの第二位置部位2A2とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P05で示す領域と位置P07で示す領域との間、位置P10で示す領域と位置P12で示す領域との間、および、位置P15で示す領域と位置P17で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。したがって、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)にも磁路を形成することができ、さらに、直流重畳特性を向上させることができる。   The main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P20 of the layer part 2L and the region indicated by the position P02 of the layer part 2U. The region indicated by the position P20 is the first position part 2A1, and the region indicated by the position P02 is the second position part 2A2. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2L and the second position part 2A2 of the layer part 2U. The same applies to the area indicated by the position P05 and the area indicated by the position P07, the area indicated by the position P10 and the area indicated by the position P12, and the area indicated by the position P15 and the area indicated by the position P17. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can form a magnetic path also in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and can further improve the DC superposition characteristics.

なお、層部位2Lの位置P20で示す領域と、層部位2Uの位置P01で示す領域との間において、閉磁路CC1の主部を形成することができる。位置P20で示す領域および位置P01で示す領域は、いずれも第一位置部位2A1である。つまり、層部位2Lの第一位置部位2A1と、層部位2Uの第一位置部位2A1とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間、位置P10で示す領域と位置P11で示す領域との間、および、位置P16で示す領域と位置P17で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。   In addition, the main part of the closed magnetic circuit CC1 can be formed between the region indicated by the position P20 of the layer part 2L and the region indicated by the position P01 of the layer part 2U. The region indicated by the position P20 and the region indicated by the position P01 are both the first position part 2A1. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position part 2A1 of the layer part 2L and the first position part 2A1 of the layer part 2U. The same applies to the area indicated by the position P06 and the area indicated by the position P07, the area indicated by the position P10 and the area indicated by the position P11, and the area indicated by the position P16 and the area indicated by the position P17. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されるコア2の区分数は、限定されるものでなく、4つ以上に区分することもできる。なお、本実施形態では、層部位2Uにおいて、第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を併せた領域は、コア2の軸AZ1回りに対称に配置されているが、コア2の軸AZ1回りに非対称に配置することもできる。また、層部位2Lにおいて、第一位置部位2A1は、コア2の軸AZ1回りに対称に配置されているが、コア2の軸AZ1回りに非対称に配置することもできる。これらのことは、以降の実施形態においても同様である。   The number of divisions of the core 2 divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 (arrow Z1 direction) is not limited, and can be divided into four or more. In the present embodiment, in the layer part 2U, the region including the first position part 2A1 and the second position part 2A2 is arranged symmetrically around the axis AZ1 of the core 2, but around the axis AZ1 of the core 2 Can be arranged asymmetrically. Further, in the layer part 2L, the first position part 2A1 is arranged symmetrically around the axis AZ1 of the core 2, but can also be arranged asymmetrically around the axis AZ1 of the core 2. The same applies to the following embodiments.

<第4実施形態>
本実施形態では、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が線接触している点で第2実施形態と異なる。図10は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P12および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Fourth embodiment>
This embodiment differs from the second embodiment in that adjacent position parts (first position part 2A1 and second position part 2A2) are in line contact. FIG. 10 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the core 2. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P12 and the position P01.

本実施形態では、位置P12で示す領域と、位置P01で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P12で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P01で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P04で示す領域と位置P05で示す領域との間、位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間、および、位置P10で示す領域と位置P11で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P12 and the region indicated by the position P01. The region indicated by the position P12 is the first position portion 2A1, and the region indicated by the position P01 is the second position portion 2A2. That is, the distance from the axis AZ1 is different, and the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2 that are adjacent to each other. The same applies between the area indicated by position P04 and the area indicated by position P05, between the area indicated by position P06 and the area indicated by position P07, and between the area indicated by position P10 and the area indicated by position P11. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effect as the effect described above in the first embodiment.

また、同図に示すように、位置P12で示す領域(第一位置部位2A1)と、位置P01で示す領域(第二位置部位2A2)とは線接触している。位置P04で示す領域と位置P05で示す領域との間、位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間、および、位置P10で示す領域と位置P11で示す領域との間においても同様である。そのため、本実施形態のリアクトル1は、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が離間している場合と比べて、当該位置部位を通らない磁束を低減することができる。なお、当該位置部位を通らない磁束を低減する観点からは、線接触の場合と比べて面接触が好ましい。また、第1実施形態および第3実施形態に示すように、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分することもできる。これにより、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   Further, as shown in the figure, the region indicated by the position P12 (first position portion 2A1) and the region indicated by the position P01 (second position portion 2A2) are in line contact. The same applies between the area indicated by position P04 and the area indicated by position P05, between the area indicated by position P06 and the area indicated by position P07, and between the area indicated by position P10 and the area indicated by position P11. is there. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can reduce the magnetic flux which does not pass through the said position site | part compared with the case where the adjacent position site | part (1st position site | part 2 A1 and 2nd position site | part 2 A2) is spaced apart. . In addition, from the viewpoint of reducing the magnetic flux that does not pass through the position portion, surface contact is preferable compared to the case of line contact. Further, as shown in the first embodiment and the third embodiment, the core 2 can also be divided into the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) and the vertical direction. As a result, the same effects as those already described in the first embodiment can be obtained.

<第5実施形態>
本実施形態では、隣り合う位置部位(第一位置部位2A1および第二位置部位2A2)が、離間している点で第2実施形態と異なる。図11は、コア2における第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P08および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Fifth Embodiment>
This embodiment differs from the second embodiment in that adjacent position parts (first position part 2A1 and second position part 2A2) are separated from each other. FIG. 11 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the core 2. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P08 and the position P01.

本実施形態では、位置P08で示す領域と、位置P01で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P08で示す領域は、第一位置部位2A1であり、位置P01で示す領域は、第二位置部位2A2である。つまり、軸AZ1からの距離がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一位置部位2A1および第二位置部位2A2を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。位置P02で示す領域と位置P03で示す領域との間、位置P04で示す領域と位置P05で示す領域との間、および、位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the region indicated by the position P08 and the region indicated by the position P01. The region indicated by the position P08 is the first position portion 2A1, and the region indicated by the position P01 is the second position portion 2A2. That is, the distance from the axis AZ1 is different, and the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first position portion 2A1 and the second position portion 2A2 that are adjacent to each other. The same applies between the area indicated by position P02 and the area indicated by position P03, between the area indicated by position P04 and the area indicated by position P05, and between the area indicated by position P06 and the area indicated by position P07. Yes, each of the main parts of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effect as the effect described above in the first embodiment.

また、同図に示すように、位置P08で示す領域(第一位置部位2A1)と、位置P01で示す領域(第二位置部位2A2)とは、離間している。位置P02で示す領域と位置P03で示す領域との間、位置P04で示す領域と位置P05で示す領域との間、および、位置P06で示す領域と位置P07で示す領域との間においても同様である。よって、本実施形態のリアクトル1は、上記離間距離を増減することにより、コア2の全体の透磁率を調整することができる。また、第1実施形態および第3実施形態に示すように、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分することもできる。これにより、第1実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   Further, as shown in the figure, the region indicated by the position P08 (first position portion 2A1) is separated from the region indicated by the position P01 (second position portion 2A2). The same applies between the area indicated by position P02 and the area indicated by position P03, between the area indicated by position P04 and the area indicated by position P05, and between the area indicated by position P06 and the area indicated by position P07. is there. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can adjust the magnetic permeability of the whole core 2 by increasing / decreasing the said separation distance. Further, as shown in the first embodiment and the third embodiment, the core 2 can also be divided into the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) and the vertical direction. As a result, the same effects as those already described in the first embodiment can be obtained.

<第6実施形態>
本実施形態では、各層部位2U、2M、2Lは、径方向に1層に形成されている点で第1実施形態と異なる。なお、本実施形態においても、各層部位2U、2M、2Lは、周方向に12区分されている。図12は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Sixth Embodiment>
In this embodiment, each layer site | part 2U, 2M, 2L differs from 1st Embodiment by the point currently formed in 1 layer by radial direction. Also in this embodiment, each layer part 2U, 2M, 2L is divided into 12 sections in the circumferential direction. FIG. 12 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P16 and the position P01.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を有している。第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、周方向位置がそれぞれ異なる。例えば、位置P01〜P04で示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P05〜P08で示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。また、位置P09〜P12で示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P13〜P16で示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4は、周方向位置がそれぞれ異なっている。   In the present embodiment, the second core portion 22 has a first circumferential direction position part 2B1 to a fourth circumferential direction position part 2B4. The first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 have different circumferential positions when viewed in the direction of the axis AZ1 (arrow Z1 direction) of the core 2. For example, the area indicated by the positions P01 to P04 is the first circumferential position part 2B1, and the area indicated by the positions P05 to P08 is the second circumferential position part 2B2. Moreover, the area | region shown by position P09-P12 is the 3rd circumferential direction position site | part 2B3, and the area | region shown by positions P13-P16 is the 4th circumferential direction position site | part 2B4. As shown in the drawing, the circumferential positions of the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 are different.

また、本実施形態においても、コア2は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されており、区分されたコア2を、層部位2U、2M、2Lで表している。層部位2Lには、第一周方向位置部位2B1が設けられ、層部位2Mには、第二周方向位置部位2B2および第四周方向位置部位2B4が設けられ、層部位2Uには、第三周方向位置部位2B3が設けられている。そして、層部位2Lの位置P01〜P04で示す領域と、層部位2Mの位置P05〜P08で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。つまり、層部位2Lの第一周方向位置部位2B1と、層部位2Mの第二周方向位置部位2B2とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   Also in this embodiment, the core 2 is divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and the divided core 2 is represented by layer portions 2U, 2M, and 2L. . The layer part 2L is provided with a first circumferential position part 2B1, the layer part 2M is provided with a second circumferential position part 2B2 and a fourth circumferential position part 2B4, and the layer part 2U is provided with a third part. A circumferential position portion 2B3 is provided. And the main part of closed magnetic circuit CC1 is formed through the area | region shown by the position P01-P04 of the layer site | part 2L, and the area | region shown by the position P05-P08 of the layer site | part 2M. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first circumferential position portion 2B1 of the layer portion 2L and the second circumferential position portion 2B2 of the layer portion 2M.

位置P05〜P08で示す領域と位置P09〜P12で示す領域との間、位置P09〜P12で示す領域と位置P13〜P16で示す領域との間、および、位置P13〜P16で示す領域と位置P01〜P04で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。つまり、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、周方向位置がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   Between the region indicated by positions P05 to P08 and the region indicated by positions P09 to P12, between the region indicated by positions P09 to P12 and the region indicated by positions P13 to P16, and the region indicated by positions P13 to P16 and position P01 The same applies to the region indicated by P04, and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. That is, the reactor 1 of the present embodiment is different from each other in the circumferential position in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 that are adjacent to each other. Thus, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

本実施形態のリアクトル1は、上記第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4により、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)にも磁路を形成することができるので、1つの層部位において閉磁路CC1の主部を形成する場合と比べて、磁路長を増大することができる。よって、本実施形態のリアクトル1は、直流重畳特性を向上させることができ、リアクトル1を小型化することができる。   The reactor 1 of the present embodiment can form a magnetic path also in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2 by the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4. The magnetic path length can be increased compared to the case where the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in one layer portion. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can improve a direct current | flow superimposition characteristic, and can reduce the reactor 1 in size.

<第7実施形態>
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第6実施形態と異なる。図13は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P16および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Seventh embodiment>
In the present embodiment, the core 2 is different from the sixth embodiment in that the core 2 is divided into two in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction). FIG. 13 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P16 and the position P01.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を有している。例えば、位置P01〜P04で示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P05〜P08で示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。また、位置P09〜P12で示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P13〜P16で示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4は、周方向位置がそれぞれ異なっている。   In the present embodiment, the second core portion 22 has a first circumferential direction position part 2B1 to a fourth circumferential direction position part 2B4. For example, the area indicated by the positions P01 to P04 is the first circumferential position part 2B1, and the area indicated by the positions P05 to P08 is the second circumferential position part 2B2. Moreover, the area | region shown by position P09-P12 is the 3rd circumferential direction position site | part 2B3, and the area | region shown by positions P13-P16 is the 4th circumferential direction position site | part 2B4. As shown in the drawing, the circumferential positions of the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 are different.

層部位2Uには、第一周方向位置部位2B1および第三周方向位置部位2B3が設けられ、層部位2Lには、第二周方向位置部位2B2および第四周方向位置部位2B4が設けられている。そして、層部位2Uの位置P01〜P04で示す領域と、層部位2Lの位置P05〜P08で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。つまり、層部位2Uの第一周方向位置部位2B1と、層部位2Lの第二周方向位置部位2B2とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   The layer part 2U is provided with a first circumferential position part 2B1 and a third circumferential position part 2B3, and the layer part 2L is provided with a second circumferential position part 2B2 and a fourth circumferential position part 2B4. Yes. And the main part of closed magnetic circuit CC1 is formed through the area | region shown by the position P01-P04 of the layer site | part 2U, and the area | region shown by the position P05-P08 of the layer site | part 2L. That is, the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first circumferential position portion 2B1 of the layer portion 2U and the second circumferential position portion 2B2 of the layer portion 2L.

位置P05〜P08で示す領域と位置P09〜P12で示す領域との間、位置P09〜P12で示す領域と位置P13〜P16で示す領域との間、および、位置P13〜P16で示す領域と位置P01〜P04で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。つまり、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、周方向位置がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。なお、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に区分されるコア2の区分数は、限定されるものでなく、4つ以上に区分することもできる。このことは、以降の実施形態においても同様である。   Between the region indicated by positions P05 to P08 and the region indicated by positions P09 to P12, between the region indicated by positions P09 to P12 and the region indicated by positions P13 to P16, and the region indicated by positions P13 to P16 and position P01 The same applies to the region indicated by P04, and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. That is, the reactor 1 of the present embodiment is different from each other in the circumferential position in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 that are adjacent to each other. Thus, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effects as those already described in the sixth embodiment. In addition, the number of divisions of the core 2 divided in the direction perpendicular to the axis AZ1 (arrow Z1 direction) is not limited, and can be divided into four or more. The same applies to the following embodiments.

<第8実施形態>
本実施形態では、隣り合う周方向位置部位(第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4)が線接触している点で第7実施形態と異なる。図14は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01〜P12および位置P01の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
<Eighth Embodiment>
This embodiment is different from the seventh embodiment in that adjacent circumferential position portions (first circumferential position portion 2B1 to fourth circumferential position portion 2B4) are in line contact. FIG. 14 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of the positions P01 to P12 and the position P01.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を有している。例えば、位置P01〜P04で示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P05〜P06で示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。また、位置P07〜P10で示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P11〜P12で示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4は、周方向位置がそれぞれ異なっている。   In the present embodiment, the second core portion 22 has a first circumferential direction position part 2B1 to a fourth circumferential direction position part 2B4. For example, the area indicated by the positions P01 to P04 is the first circumferential position part 2B1, and the area indicated by the positions P05 to P06 is the second circumferential position part 2B2. Moreover, the area | region shown by position P07-P10 is 3rd circumferential direction position site | part 2B3, and the area | region shown by positions P11-P12 is 4th circumferential direction position site | part 2B4. As shown in the drawing, the circumferential positions of the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 are different.

層部位2Uには、第一周方向位置部位2B1および第三周方向位置部位2B3が設けられ、層部位2Lには、第二周方向位置部位2B2および第四周方向位置部位2B4が設けられている。そして、層部位2Uの位置P01〜P04で示す領域と、層部位2Lの位置P05〜P06で示す領域とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。つまり、層部位2Uの第一周方向位置部位2B1と、層部位2Lの第二周方向位置部位2B2とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   The layer part 2U is provided with a first circumferential position part 2B1 and a third circumferential position part 2B3, and the layer part 2L is provided with a second circumferential position part 2B2 and a fourth circumferential position part 2B4. Yes. And the main part of closed magnetic circuit CC1 is formed through the area | region shown by the position P01-P04 of the layer site | part 2U, and the area | region shown by the position P05-P06 of the layer site | part 2L. That is, the main portion of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the first circumferential position portion 2B1 of the layer portion 2U and the second circumferential position portion 2B2 of the layer portion 2L.

位置P05〜P06で示す領域と位置P07〜P10で示す領域との間、位置P07〜P10で示す領域と位置P11〜P12で示す領域との間、および、位置P11〜P12で示す領域と位置P01〜P04で示す領域との間においても同様であり、閉磁路CC1の主部がそれぞれ形成されている。つまり、本実施形態のリアクトル1は、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)視において、周方向位置がそれぞれ異なり、互いに隣り合う第一周方向位置部位2B1〜第四周方向位置部位2B4を通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   Between the region indicated by positions P05 to P06 and the region indicated by positions P07 to P10, between the region indicated by positions P07 to P10 and the region indicated by positions P11 to P12, and the region indicated by positions P11 to P12 and position P01 The same applies to the region indicated by P04, and the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. That is, the reactor 1 of the present embodiment is different from each other in the circumferential position in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and the first circumferential position portion 2B1 to the fourth circumferential position portion 2B4 that are adjacent to each other. Thus, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effects as those already described in the sixth embodiment.

また、同図に示すように、位置P01〜P04で示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、位置P05〜P06で示す領域(第二周方向位置部位2B2)とは、線接触している。位置P05〜P06で示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、位置P07〜P10で示す領域(第三周方向位置部位2B3)との間、位置P07〜P10で示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、位置P11〜P12で示す領域(第四周方向位置部位2B4)との間、および、位置P11〜P12で示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、位置P01〜P04で示す領域(第一周方向位置部位2B1)との間においても同様である。   Further, as shown in the figure, the region indicated by the positions P01 to P04 (first circumferential position portion 2B1) and the region indicated by the positions P05 to P06 (second circumferential position portion 2B2) are in line contact. Yes. A region (third circumferential direction) indicated by positions P07 to P10 between a region indicated by positions P05 to P06 (second circumferential position portion 2B2) and a region indicated by positions P07 to P10 (third circumferential position portion 2B3). Between the position part 2B3) and the region indicated by the positions P11 to P12 (fourth circumferential direction position part 2B4), and the region indicated by the positions P11 to P12 (fourth circumferential direction position part 2B4), and the positions P01 to P04. The same applies to the area indicated by (first circumferential position 2B1).

そのため、本実施形態のリアクトル1は、隣り合う周方向位置部位(例えば、第一周方向位置部位2B1と第二周方向位置部位2B2)が離間している場合と比べて、当該周方向位置部位を通らない磁束を低減することができる。なお、第6実施形態および第7実施形態のリアクトル1は、隣り合う周方向位置部位(例えば、第一周方向位置部位2B1と第二周方向位置部位2B2)が面接触している。当該周方向位置部位を通らない磁束を低減する観点からは、線接触の場合と比べて面接触が好ましい。   Therefore, the reactor 1 of this embodiment has the circumferential position portion compared to the case where adjacent circumferential position portions (for example, the first circumferential position portion 2B1 and the second circumferential position portion 2B2) are separated from each other. Magnetic flux that does not pass can be reduced. In addition, in the reactor 1 of the sixth embodiment and the seventh embodiment, adjacent circumferential position portions (for example, the first circumferential position portion 2B1 and the second circumferential position portion 2B2) are in surface contact. From the viewpoint of reducing magnetic flux that does not pass through the circumferential position portion, surface contact is preferable compared to the case of line contact.

参考形態>
参考形態では、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3間の接触面積が増加している点で第6実施形態と異なる。図15は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01(位置P01M、位置P01L)〜位置P12(位置P12M、位置P12U)および位置P01(位置P01M、位置P01L)の順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
< Reference form>
This reference embodiment is different from the sixth embodiment in that the contact area between the first circumferential position portion 2B1 to the third circumferential position portion 2B3 is increased. FIG. 15 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in each of the layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of position P01 (position P01M, position P01L) to position P12 (position P12M, position P12U) and position P01 (position P01M, position P01L).

参考形態では、第6実施形態と比べて、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3間の接触面積が増加している。そのため、層部位2U、2M、2L毎に、閉磁路CC1の主部を特定することが困難である。よって、図4で示した場合と同様に、軸AZ1方向(矢印Z1方向)の複数の第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3を対にして取扱い、表記する。例えば、位置P01Lで示す領域と、位置P01Mで示す領域とを対にして取扱い、表記する。このことは、以降の実施形態においても同様である。 In this reference embodiment, as compared with the sixth embodiment, the contact area between the first circumferential location site 2B1~ third circumferential position sites 2B3 is increasing. Therefore, it is difficult to specify the main part of the closed magnetic circuit CC1 for each of the layer portions 2U, 2M, and 2L. Therefore, similarly to the case shown in FIG. 4, the plurality of first circumferential position portions 2B1 to 2B3 in the direction of the axis AZ1 (arrow Z1 direction) are handled and described as a pair. For example, the region indicated by the position P01L and the region indicated by the position P01M are handled and described as a pair. The same applies to the following embodiments.

参考形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3を有している。例えば、位置P01L〜P06Lで示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P01M〜P12Mで示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。また、位置P07U〜P12Uで示す領域は、第三周方向位置部位2B3である。同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3は、周方向位置がそれぞれ異なっている。 In the present reference embodiment, the second core portion 22 has a first circumferential position portion 2B1 to a third circumferential position portion 2B3. For example, the area indicated by the positions P01L to P06L is the first circumferential position part 2B1, and the area indicated by the positions P01M to P12M is the second circumferential position part 2B2. Moreover, the area | region shown by position P07U-P12U is the 3rd circumferential direction position site | part 2B3. As shown in the figure, the first circumferential position portion 2B1 to the third circumferential position portion 2B3 have different circumferential positions.

層部位2Lには、第一周方向位置部位2B1が設けられ、層部位2Mには、第二周方向位置部位2B2が設けられ、層部位2Uには、第三周方向位置部位2B3が設けられている。そして、層部位2Lの位置P01L〜P06Lで示す領域と、層部位2Mの位置P01M〜P12Mで示す領域と、層部位2Uの位置P07U〜P12Uで示す領域との間で、閉磁路CC1の主部が形成されている。つまり、層部位2Lの第一周方向位置部位2B1と、層部位2Mの第二周方向位置部位2B2と、層部位2Uの第三周方向位置部位2B3との間で、閉磁路CC1の主部が形成されている。   The layer part 2L is provided with a first circumferential position part 2B1, the layer part 2M is provided with a second circumferential position part 2B2, and the layer part 2U is provided with a third circumferential position part 2B3. ing. And the main part of closed magnetic circuit CC1 between the area | region shown by the position P01L-P06L of the layer site | part 2L, the area | region shown by the position P01M-P12M of the layer site | part 2M, and the area | region shown by the position P07U-P12U of the layer site | part 2U. Is formed. That is, the main part of the closed magnetic circuit CC1 between the first circumferential position portion 2B1 of the layer portion 2L, the second circumferential position portion 2B2 of the layer portion 2M, and the third circumferential position portion 2B3 of the layer portion 2U. Is formed.

よって、本参考形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。また、本参考形態では、第6実施形態と比べて、第一周方向位置部位2B1〜第三周方向位置部位2B3間の接触面積が増加している。そのため、本参考形態のリアクトル1は、第二コア部22を通らない磁束を低減することができる。 Therefore, the reactor 1 of this reference form can acquire the effect similar to the effect as stated in 6th Embodiment. Moreover, in this reference form, compared with 6th Embodiment, the contact area between 1st circumferential direction position site | part 2 B1-3rd circumferential direction position site | part 2 B3 has increased. Therefore, the reactor 1 of this reference form can reduce the magnetic flux which does not pass through the 2nd core part 22. FIG.

<第実施形態>
本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8間において、面接触する部位と線接触する部位とを有している点で第6実施形態と異なる。図16は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01M〜位置P12(位置P12U、位置P12M、位置P12L)および位置P01Mの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
< Ninth Embodiment>
This embodiment is different from the sixth embodiment in that it has a surface contact portion and a line contact portion between the first circumferential position portion 2B1 to the eighth circumferential position portion 2B8. FIG. 16 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of position P01M to position P12 (position P12U, position P12M, position P12L) and position P01M.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8を有している。例えば、位置P02L〜P03Lおよび位置P02U〜P03Uで示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P03M〜P04Mで示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。位置P05U〜P06Uおよび位置P05L〜P06Lで示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P06M〜P07Mで示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。位置P08U〜P09Uおよび位置P08L〜P09Lで示す領域は、第五周方向位置部位2B5であり、位置P09M〜P10Mで示す領域は、第六周方向位置部位2B6である。位置P11L〜P12Lおよび位置P11U〜P12Uで示す領域は、第七周方向位置部位2B7であり、位置P12M〜P01Mで示す領域は、第八周方向位置部位2B8である。   In this embodiment, the 2nd core part 22 has 1st circumferential direction position site | part 2B1-8th circumferential direction position site | part 2B8. For example, the region indicated by the positions P02L to P03L and the positions P02U to P03U is the first circumferential direction position portion 2B1, and the region indicated by the positions P03M to P04M is the second circumferential direction position portion 2B2. The region indicated by the positions P05U to P06U and the positions P05L to P06L is the third circumferential direction position portion 2B3, and the region indicated by the positions P06M to P07M is the fourth circumferential direction position portion 2B4. The region indicated by the positions P08U to P09U and the positions P08L to P09L is the fifth circumferential direction position part 2B5, and the area indicated by the positions P09M to P10M is the sixth circumferential direction position part 2B6. The areas indicated by the positions P11L to P12L and the positions P11U to P12U are the seventh circumferential direction position part 2B7, and the areas indicated by the positions P12M to P01M are the eighth circumferential direction position part 2B8.

同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8は、周方向位置がそれぞれ異なっている。層部位2L、2Uには、第一周方向位置部位2B1、第三周方向位置部位2B3、第五周方向位置部位2B5および第七周方向位置部位2B7がそれぞれ設けられている。また、層部位2Mには、第二周方向位置部位2B2、第四周方向位置部位2B4、第六周方向位置部位2B6および第八周方向位置部位2B8が設けられている。   As shown in the figure, the circumferential positions of the first circumferential position portion 2B1 to the eighth circumferential position portion 2B8 are different. The layer parts 2L and 2U are provided with a first circumferential direction position part 2B1, a third circumferential direction position part 2B3, a fifth circumferential direction position part 2B5, and a seventh circumferential direction position part 2B7, respectively. The layer part 2M is provided with a second circumferential position part 2B2, a fourth circumferential position part 2B4, a sixth circumferential position part 2B6, and an eighth circumferential position part 2B8.

例えば、層部位2Lの位置P02L〜P03Lで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、層部位2Mの位置P03M〜P04Mで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Uの位置P05U〜P06Uで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Mの位置P06M〜P07Mで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Uの位置P08U〜P09Uで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Mの位置P09M〜P10Mで示す領域(第六周方向位置部位2B6)と、層部位2Lの位置P11L〜P12Lで示す領域(第七周方向位置部位2B7)と、層部位2Mの位置P12M〜P01Mで示す領域(第八周方向位置部位2B8)とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   For example, the region indicated by the positions P02L to P03L of the layer portion 2L (first circumferential position portion 2B1), the region indicated by the positions P03M to P04M of the layer portion 2M (second circumferential position portion 2B2), and the layer portion 2U An area indicated by positions P05U to P06U (third circumferential position part 2B3), an area indicated by positions P06M to P07M of the layer part 2M (fourth circumferential position part 2B4), and a position P08U to P09U of the layer part 2U A region (fifth circumferential position portion 2B5), a region (sixth circumferential position portion 2B6) indicated by positions P09M to P10M of the layer portion 2M, and a region (seventh circumferential direction) indicated by positions P11L to P12L of the layer portion 2L The main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the position part 2B7) and the region (the eighth circumferential direction position part 2B8) indicated by the positions P12M to P01M of the layer part 2M.

また、層部位2Uの位置P02U〜P03Uで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、層部位2Mの位置P03M〜P04Mで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Lの位置P05L〜P06Lで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Mの位置P06M〜P07Mで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Lの位置P08L〜P09Lで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Mの位置P09M〜P10Mで示す領域(第六周方向位置部位2B6)と、層部位2Uの位置P11U〜P12Uで示す領域(第七周方向位置部位2B7)と、層部位2Mの位置P12M〜P01Mで示す領域(第八周方向位置部位2B8)とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   In addition, the region indicated by the positions P02U to P03U of the layer portion 2U (first circumferential position portion 2B1), the region indicated by the positions P03M to P04M of the layer portion 2M (second circumferential position portion 2B2), and the layer portion 2L An area indicated by positions P05L to P06L (third circumferential position part 2B3), an area indicated by positions P06M to P07M of the layer part 2M (fourth circumferential position part 2B4), and positions P08L to P09L of the layer part 2L A region (fifth circumferential position portion 2B5), a region indicated by positions P09M to P10M of the layer portion 2M (sixth circumferential position portion 2B6), and a region (seventh circumferential direction) indicated by the positions P11U to P12U of the layer portion 2U The main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the position part 2B7) and the region (the eighth circumferential direction position part 2B8) indicated by the positions P12M to P01M of the layer part 2M.

よって、本実施形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。また、層部位2Lの位置P02L〜P03Lで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、層部位2Uの位置P02U〜P03Uで示す領域(第一周方向位置部位2B1)とを通って、閉磁路CC1の主部を形成することができる。層部位2Lの位置P05L〜P06Lで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Uの位置P05U〜P06Uで示す領域(第三周方向位置部位2B3)との間、層部位2Lの位置P08L〜P09Lで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Uの位置P08U〜P09Uで示す領域(第五周方向位置部位2B5)との間、および、層部位2Lの位置P11L〜P12Lで示す領域(第七周方向位置部位2B7)と、層部位2Uの位置P11U〜P12Uで示す領域(第七周方向位置部位2B7)との間においても、同様に、閉磁路CC1の主部を形成することができる。   Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effects as those already described in the sixth embodiment. Further, the magnetic field passes through the region indicated by the positions P02L to P03L of the layer portion 2L (first circumferential position portion 2B1) and the region indicated by the positions P02U to P03U of the layer portion 2U (first circumferential position portion 2B1). The main part of the path CC1 can be formed. Between the region indicated by the positions P05L to P06L of the layer portion 2L (third circumferential position portion 2B3) and the region indicated by the positions P05U to P06U of the layer portion 2U (third circumferential position portion 2B3), Between a region indicated by positions P08L to P09L (fifth circumferential position portion 2B5) and a region indicated by positions P08U to P09U of the layer portion 2U (fifth circumferential position portion 2B5), and a position P11L of the layer portion 2L Similarly, between the region indicated by P12L (seventh circumferential position portion 2B7) and the region indicated by positions P11U to P12U of the layer portion 2U (seventh circumferential position portion 2B7), the main of the closed magnetic circuit CC1 The part can be formed.

また、位置P02L〜P03Lおよび位置P02U〜P03Uで示す第一周方向位置部位2B1と、位置P03M〜P04Mで示す第二周方向位置部位2B2とは、面接触している。位置P03M〜P04Mで示す第二周方向位置部位2B2と、位置P05L〜P06Lおよび位置P05U〜P06Uで示す第三周方向位置部位2B3とは、線接触している。以降、上記配置が繰り返されている。よって、本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8間において、面接触する部位と線接触する部位とを有している。   Further, the first circumferential position portion 2B1 indicated by the positions P02L to P03L and the positions P02U to P03U and the second circumferential position portion 2B2 indicated by the positions P03M to P04M are in surface contact. The second circumferential position portion 2B2 indicated by positions P03M to P04M and the third circumferential position portion 2B3 indicated by positions P05L to P06L and positions P05U to P06U are in line contact. Thereafter, the above arrangement is repeated. Therefore, in this embodiment, it has the site | part which carries out a surface contact, and the site | part which carries out line contact between 1st circumferential direction position site | part 2B1-8th circumferential direction position site | part 2B8.

<第10実施形態>
本実施形態では、コア2は、軸AZ1方向(矢印Z1方向)と垂直方向に2つに区分されている点で第実施形態と異なる。図17は、各層部位2U、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01L〜位置P12(位置P12U、位置P12L)および位置P01Lの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
< Tenth Embodiment>
In the present embodiment, the core 2 differs from the ninth embodiment in that it is divided into two in the direction perpendicular to the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction). FIG. 17 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of position P01L to position P12 (position P12U, position P12L) and position P01L.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8を有している。例えば、位置P02U〜P03Uで示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P03L〜P04Lで示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。位置P05U〜P06Uで示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P06L〜P07Lで示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。位置P08U〜P09Uで示す領域は、第五周方向位置部位2B5であり、位置P09L〜P10Lで示す領域は、第六周方向位置部位2B6である。位置P11U〜P12Uで示す領域は、第七周方向位置部位2B7であり、位置P12L〜P01Lで示す領域は、第八周方向位置部位2B8である。   In this embodiment, the 2nd core part 22 has 1st circumferential direction position site | part 2B1-8th circumferential direction position site | part 2B8. For example, the area indicated by the positions P02U to P03U is the first circumferential direction position part 2B1, and the area indicated by the positions P03L to P04L is the second circumferential direction position part 2B2. The region indicated by the positions P05U to P06U is the third circumferential position portion 2B3, and the region indicated by the positions P06L to P07L is the fourth circumferential position portion 2B4. The region indicated by the positions P08U to P09U is the fifth circumferential direction position portion 2B5, and the region indicated by the positions P09L to P10L is the sixth circumferential direction position portion 2B6. The area indicated by the positions P11U to P12U is the seventh circumferential direction position part 2B7, and the area indicated by the positions P12L to P01L is the eighth circumferential direction position part 2B8.

同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8は、周方向位置がそれぞれ異なっている。層部位2Uには、第一周方向位置部位2B1、第三周方向位置部位2B3、第五周方向位置部位2B5および第七周方向位置部位2B7が設けられている。また、層部位2Lには、第二周方向位置部位2B2、第四周方向位置部位2B4、第六周方向位置部位2B6および第八周方向位置部位2B8が設けられている。   As shown in the figure, the circumferential positions of the first circumferential position portion 2B1 to the eighth circumferential position portion 2B8 are different. The layer part 2U is provided with a first circumferential position part 2B1, a third circumferential position part 2B3, a fifth circumferential position part 2B5, and a seventh circumferential position part 2B7. The layer part 2L is provided with a second circumferential position part 2B2, a fourth circumferential position part 2B4, a sixth circumferential position part 2B6, and an eighth circumferential position part 2B8.

例えば、層部位2Uの位置P02U〜P03Uで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、層部位2Lの位置P03L〜P04Lで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Uの位置P05U〜P06Uで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Lの位置P06L〜P07Lで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Uの位置P08U〜P09Uで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Lの位置P09L〜P10Lで示す領域(第六周方向位置部位2B6)と、層部位2Uの位置P11U〜P12Uで示す領域(第七周方向位置部位2B7)と、層部位2Lの位置P12L〜P01Lで示す領域(第八周方向位置部位2B8)とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。よって、本実施形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。   For example, the region indicated by the positions P02U to P03U of the layer part 2U (first circumferential position part 2B1), the region indicated by the positions P03L to P04L of the layer part 2L (second circumferential position part 2B2), and the layer part 2U An area indicated by positions P05U to P06U (third circumferential position part 2B3), an area indicated by positions P06L to P07L of the layer part 2L (fourth circumferential position part 2B4), and a position P08U to P09U of the layer part 2U Region (fifth circumferential position portion 2B5), region indicated by positions P09L to P10L of the layer portion 2L (sixth circumferential position portion 2B6), and region indicated by the positions P11U to P12U of the layer portion 2U (seventh circumferential direction) The main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed through the position part 2B7) and the region (eighth circumferential direction position part 2B8) indicated by the positions P12L to P01L of the layer part 2L. Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effects as those already described in the sixth embodiment.

また、位置P02U〜P03Uで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、位置P03L〜P04Lで示す領域(第二周方向位置部位2B2)とは、面接触している。位置P03L〜P04Lで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、位置P05U〜P06Uで示す領域(第三周方向位置部位2B3)とは、線接触している。以降、上記配置が繰り返されている。よって、本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第八周方向位置部位2B8間において、面接触する部位と線接触する部位とを有している。   Moreover, the area | region (1st circumferential direction position site | part 2B1) shown by position P02U-P03U and the area | region (2nd circumferential direction position site | part 2B2) shown by position P03L-P04L are surface-contacting. The area indicated by the positions P03L to P04L (second circumferential position part 2B2) and the area indicated by the positions P05U to P06U (third circumferential position part 2B3) are in line contact. Thereafter, the above arrangement is repeated. Therefore, in this embodiment, it has the site | part which carries out a surface contact, and the site | part which carries out line contact between 1st circumferential direction position site | part 2B1-8th circumferential direction position site | part 2B8.

<第11実施形態>
本実施形態では、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6が、それぞれ離間して配置されている点で第6実施形態と異なる。図18は、各層部位2U、2M、2Lにおける第一コア部21および第二コア部22の配置を示す説明図である。同図に示すように、位置P01M〜位置P11(位置P11U、位置P11L)および位置P01Mの順に、閉磁路CC1の主部が形成される。
< Eleventh embodiment>
The present embodiment is different from the sixth embodiment in that the first circumferential position portion 2B1 to the sixth circumferential position portion 2B6 are spaced apart from each other. FIG. 18 is an explanatory diagram showing the arrangement of the first core portion 21 and the second core portion 22 in the respective layer portions 2U, 2M, and 2L. As shown in the figure, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed in the order of position P01M to position P11 (position P11U, position P11L) and position P01M.

本実施形態では、第二コア部22は、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6を有している。例えば、位置P01Mで示す領域は、第一周方向位置部位2B1であり、位置P03L、P03Uで示す領域は、第二周方向位置部位2B2である。位置P05Mで示す領域は、第三周方向位置部位2B3であり、位置P07L、P07Uで示す領域は、第四周方向位置部位2B4である。位置P09Mで示す領域は、第五周方向位置部位2B5であり、位置P11L、P11Uで示す領域は、第六周方向位置部位2B6である。   In the present embodiment, the second core portion 22 includes a first circumferential direction position part 2B1 to a sixth circumferential direction position part 2B6. For example, the area indicated by the position P01M is the first circumferential position part 2B1, and the areas indicated by the positions P03L and P03U are the second circumferential position part 2B2. The area indicated by the position P05M is the third circumferential position part 2B3, and the areas indicated by the positions P07L and P07U are the fourth circumferential position part 2B4. The area indicated by the position P09M is the fifth circumferential direction position part 2B5, and the areas indicated by the positions P11L and P11U are the sixth circumferential direction position part 2B6.

同図に示すように、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6は、周方向位置がそれぞれ異なっている。層部位2L、2Uには、第二周方向位置部位2B2、第四周方向位置部位2B4および第六周方向位置部位2B6がそれぞれ設けられている。また、層部位2Mには、第一周方向位置部位2B1、第三周方向位置部位2B3および第五周方向位置部位2B5が設けられている。   As shown in the figure, the first circumferential direction position part 2B1 to the sixth circumferential direction position part 2B6 have different circumferential positions. The layer parts 2L and 2U are provided with a second circumferential position part 2B2, a fourth circumferential position part 2B4, and a sixth circumferential position part 2B6, respectively. The layer part 2M is provided with a first circumferential direction position part 2B1, a third circumferential direction position part 2B3, and a fifth circumferential direction position part 2B5.

例えば、層部位2Mの位置P01Mで示す領域(第一周方向位置部位2B1)と、層部位2Lの位置P03Lで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Mの位置P05Mで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Uの位置P07Uで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Mの位置P09Mで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Lの位置P11Lで示す領域(第六周方向位置部位2B6)とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   For example, an area indicated by the position P01M of the layer part 2M (first circumferential position part 2B1), an area indicated by the position P03L of the layer part 2L (second circumferential position part 2B2), and a position P05M of the layer part 2M Region (third circumferential position portion 2B3), region indicated by position P07U of layer portion 2U (fourth circumferential position portion 2B4), and region indicated by position P09M of layer portion 2M (fifth circumferential position portion 2B5) And the region indicated by the position P11L of the layer part 2L (sixth circumferential direction position part 2B6), the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed.

また、層部位2Mの位置P01M(第一周方向位置部位2B1)で示す領域と、層部位2Uの位置P03Uで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Mの位置P05Mで示す領域(第三周方向位置部位2B3)と、層部位2Lの位置P07Lで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Mの位置P09Mで示す領域(第五周方向位置部位2B5)と、層部位2Uの位置P11Uで示す領域(第六周方向位置部位2B6)とを通って、閉磁路CC1の主部が形成されている。   In addition, the region indicated by the position P01M (first circumferential position portion 2B1) of the layer portion 2M, the region indicated by the position P03U of the layer portion 2U (second circumferential position portion 2B2), and the position P05M of the layer portion 2M. Region (third circumferential position portion 2B3), region indicated by position P07L of layer portion 2L (fourth circumferential position portion 2B4), region indicated by position P09M of layer portion 2M (fifth circumferential position portion 2B5) And the main part of closed magnetic circuit CC1 is formed through the area | region (6th circumferential direction position site | part 2B6) shown by the position P11U of the layer site | part 2U.

よって、本実施形態のリアクトル1は、第6実施形態で既述の効果と同様の効果を得ることができる。また、層部位2Lの位置P03Lで示す領域(第二周方向位置部位2B2)と、層部位2Uの位置P03Uで示す領域(第二周方向位置部位2B2)とを通って、閉磁路CC1の主部を形成することもできる。層部位2Lの位置P07Lで示す領域(第四周方向位置部位2B4)と、層部位2Uの位置P07Uで示す領域(第四周方向位置部位2B4)との間、および、層部位2Lの位置P11Lで示す領域(第六周方向位置部位2B6)と、層部位2Uの位置P11Uで示す領域(第六周方向位置部位2B6)との間においても、同様に、閉磁路CC1の主部を形成することができる。   Therefore, the reactor 1 of this embodiment can obtain the same effects as those already described in the sixth embodiment. The main part of the closed magnetic circuit CC1 passes through the region (second circumferential position portion 2B2) indicated by the position P03L of the layer portion 2L and the region (second circumferential position portion 2B2) indicated by the position P03U of the layer portion 2U. A part can also be formed. Between the region indicated by the position P07L of the layer part 2L (fourth circumferential position part 2B4) and the region indicated by the position P07U of the layer part 2U (fourth circumferential position part 2B4), and the position P11L of the layer part 2L Similarly, the main part of the closed magnetic circuit CC1 is formed between the region indicated by (sixth circumferential direction position part 2B6) and the area indicated by position P11U of the layer part 2U (sixth circumferential direction position part 2B6). be able to.

また、同図に示すように、第一周方向位置部位2B1、第三周方向位置部位2B3および第五周方向位置部位2B5は、周方向に120°間隔で配置されている。第二周方向位置部位2B2、第四周方向位置部位2B4および第六周方向位置部位2B6は、周方向に120°間隔で配置されている。このように、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6が、それぞれ離間して配置されている場合であっても、第一周方向位置部位2B1〜第六周方向位置部位2B6の配置を工夫することにより、コア2の軸AZ1方向(矢印Z1方向)に磁路を形成することができ、磁路長を増大することができる。   Further, as shown in the figure, the first circumferential position portion 2B1, the third circumferential position portion 2B3, and the fifth circumferential position portion 2B5 are arranged at 120 ° intervals in the circumferential direction. The second circumferential position part 2B2, the fourth circumferential position part 2B4, and the sixth circumferential position part 2B6 are arranged at 120 ° intervals in the circumferential direction. As described above, even when the first circumferential position portion 2B1 to the sixth circumferential position portion 2B6 are spaced apart from each other, the first circumferential position portion 2B1 to the sixth circumferential position portion 2B6. By devising the arrangement, a magnetic path can be formed in the axis AZ1 direction (arrow Z1 direction) of the core 2, and the magnetic path length can be increased.

<その他>
本発明は上記し且つ図面に示した実施形態のみに限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施することができる。
<Others>
The present invention is not limited to the embodiment described above and shown in the drawings, and can be implemented with appropriate modifications within a range not departing from the gist.

1:リアクトル、
2:コア、21:第一コア部、22:第二コア部、
2U,2M,2L:層部位、
2A1:第一位置部位、2A2:第二位置部位、
2B1〜2B8:第一周方向位置部位〜第八周方向位置部位、
3:コイル、
CC1:閉磁路、
AZ1:コア2の軸。
1: Reactor,
2: Core, 21: First core part, 22: Second core part,
2U, 2M, 2L: layer part,
2A1: first position site, 2A2: second position site,
2B1-2B8: first circumferential direction position site to eighth circumferential direction position site,
3: Coil,
CC1: closed magnetic circuit,
AZ1: Core 2 axis.

Claims (9)

第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、
前記コアに巻き回されるコイルと、
を備えるリアクトルであって、
前記コアは、軸方向視において軸からの距離が同じ領域に、周方向に離間する複数の前記第二コア部が設けられる第二コア部離間領域を含み、
前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において前記軸からの距離がそれぞれ異なる複数の位置部位を有し、前記第二コア部離間領域の複数の前記位置部位を含む前記軸からの距離がそれぞれ異な互いに隣り合う複数の前記位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されているリアクトル。
A first core portion having a first magnetic permeability and a second core portion having a second magnetic permeability greater than the first magnetic permeability, and a closed magnetic path by the first core portion and the second core portion A core formed with,
A coil wound around the core;
A reactor comprising:
The core includes a second core portion separation region in which a plurality of the second core portions separated in the circumferential direction are provided in a region having the same distance from the axis when viewed in the axial direction,
The second core portion has a plurality of position portions each having a different distance from the axis in the axial view of the core, and the distance from the shaft including the plurality of position portions of the second core portion separation region. There reactor are formed main portion of the closed magnetic path through a plurality of said position portion adjacent that different respectively.
前記コアは、前記軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、
隣接する前記層部位には、前記軸からの距離が異なる前記位置部位がそれぞれ設けられている請求項1に記載のリアクトル。
The core has a plurality of layer portions divided in a direction perpendicular to the axial direction,
The reactor according to claim 1, wherein the adjacent site portions are provided with the position portions having different distances from the axis.
前記第一コア部は、前記コアの軸方向視において前記軸からの距離がそれぞれ異なる複数の位置部位を有し、
前記閉磁路は、前記第一コア部に形成される第一閉磁路と、前記第二コア部に形成され前記閉磁路の主部となる第二閉磁路と、を有し、
前記第一閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第一コア部の互いに隣り合う前記位置部位を通るように形成され、前記第二閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第二コア部の互いに隣り合う前記位置部位を通るように形成されている請求項2に記載のリアクトル。
The first core portion has a plurality of position portions each having a different distance from the axis in the axial view of the core,
The closed magnetic circuit has a first closed magnetic circuit formed in the first core part, and a second closed magnetic circuit formed in the second core part and serving as a main part of the closed magnetic circuit,
The first closed magnetic circuit is formed so as to pass through the adjacent position parts of the first core portion provided in the adjacent layer part, and the second closed magnetic circuit is provided in the adjacent layer part. The reactor according to claim 2 , wherein the reactor is formed so as to pass through the adjacent position parts of the second core part .
隣り合う前記位置部位は、面接触または線接触している請求項1〜3のいずれか一項に記載のリアクトル。 The reactor according to any one of claims 1 to 3, wherein the adjacent position portions are in surface contact or line contact . 第一透磁率を有する第一コア部と、前記第一透磁率と比べて大きい第二透磁率を有する第二コア部とを有し、前記第一コア部および前記第二コア部により閉磁路が形成されるコアと、
前記コアに巻き回されるコイルと、
を備えるリアクトルであって、
前記コアは、前記コアの軸方向と垂直方向に区分された複数の層部位を有し、
前記複数の層部位のうちの少なくとも一つは、周方向に離間する複数の前記第二コア部が設けられる第二コア部離間領域を含み、
前記第二コア部は、前記コアの軸方向視において周方向位置がそれぞれ異なる複数の周方向位置部位を有し、
隣接する前記層部位には、前記周方向位置が異なる前記周方向位置部位がそれぞれ設けられ、前記第二コア部離間領域の複数の前記周方向位置部位を含む前記周方向位置がそれぞれ異なる互いに隣り合う複数の前記周方向位置部位を通って前記閉磁路の主部が形成されているリアクトル。
A first core portion having a first magnetic permeability and a second core portion having a second magnetic permeability greater than the first magnetic permeability, and a closed magnetic path by the first core portion and the second core portion A core formed with,
A coil wound around the core;
A reactor comprising:
The core has a plurality of layer portions divided in a direction perpendicular to the axial direction of the core,
At least one of the plurality of layer portions includes a second core portion separation region in which a plurality of the second core portions separated in the circumferential direction are provided,
The second core portion has a plurality of circumferential position portions each having different circumferential positions in the axial view of the core,
The adjacent layer portions are provided with the circumferential position portions having different circumferential positions, and the circumferential positions including the plurality of circumferential position portions of the second core portion separation region are adjacent to each other. A reactor in which a main part of the closed magnetic path is formed through a plurality of matching circumferential position portions .
前記第一コア部は、前記コアの軸方向視において周方向位置がそれぞれ異なる複数の周方向位置部位を有し、
前記閉磁路は、前記第一コア部に形成される第一閉磁路と、前記第二コア部に形成され前記閉磁路の主部となる第二閉磁路と、を有し、
前記第一閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第一コア部の互いに隣り合う前記周方向位置部位を通るように形成され、前記第二閉磁路は、隣接する前記層部位に設けられる前記第二コア部の互いに隣り合う前記周方向位置部位を通るように形成されている請求項5に記載のリアクトル。
The first core portion has a plurality of circumferential position portions having different circumferential positions in the axial view of the core,
The closed magnetic circuit has a first closed magnetic circuit formed in the first core part, and a second closed magnetic circuit formed in the second core part and serving as a main part of the closed magnetic circuit,
The first closed magnetic path is formed so as to pass through the circumferential position portions adjacent to each other of the first core portion provided in the adjacent layer portion, and the second closed magnetic path is provided in the adjacent layer portion. The reactor according to claim 5 , wherein the reactor is formed so as to pass through the circumferential position portions adjacent to each other of the second core portion .
隣り合う前記周方向位置部位は、面接触または線接触している請求項5または6に記載のリアクトル。 The reactor according to claim 5 or 6 , wherein the adjacent circumferential position portions are in surface contact or line contact . 前記第一コア部と前記第二コア部の境界において、前記第二コア部から前記第一コア部に向かって透磁率が徐々に減少する請求項1〜7のいずれか一項に記載のリアクトル。The reactor according to any one of claims 1 to 7, wherein a magnetic permeability gradually decreases from the second core portion toward the first core portion at a boundary between the first core portion and the second core portion. . 前記コアには、前記第一コア部および前記第二コア部が存在しないギャップが設けられている請求項1〜8のいずれか一項に記載のリアクトル。The reactor according to any one of claims 1 to 8, wherein the core is provided with a gap in which the first core portion and the second core portion do not exist.
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