JP6316373B2 - Semiconductor device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 61
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 35
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 230000006870 function Effects 0.000 description 14
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 14
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 13
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 6
- -1 or the like) Inorganic materials 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 6
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017911 MgIn Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diphenyl-4-n,4-n-bis[4-(n-phenylanilino)phenyl]benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCMXZLNHQBBOS-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenol zinc Chemical compound [Zn].Oc1ccccc1-c1nc2ccccc2o1.Oc1ccccc1-c1nc2ccccc2o1 UOCMXZLNHQBBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC2=C1C=CC1=C(C=3C=CC=CC=3)C=CN=C21 DHDHJYNTEFLIHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFMUXPQZKOKPOF-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21,23-dihydroporphyrin platinum Chemical compound [Pt].CCc1c(CC)c2cc3[nH]c(cc4nc(cc5[nH]c(cc1n2)c(CC)c5CC)c(CC)c4CC)c(CC)c3CC VFMUXPQZKOKPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POXIZPBFFUKMEQ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethenylideneazanide Chemical group [N-]=C=[C+]C#N POXIZPBFFUKMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZLZJGZGJHZQAU-UHFFFAOYSA-N 3-(4-tert-butylphenyl)-4-(4-ethylphenyl)-5-(4-phenylphenyl)-1,2,4-triazole Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1N1C(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=NN=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 PZLZJGZGJHZQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 101100420795 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) sck1 gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N benzo[h]quinoline Chemical group C1=CN=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N butyl pbd Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)O1 XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N iridium;2-phenylpyridine Chemical compound [Ir].C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 UEEXRMUCXBPYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- GWDUZCIBPDVBJM-UHFFFAOYSA-L zinc;2-(2-hydroxyphenyl)-3h-1,3-benzothiazole-2-carboxylate Chemical compound [Zn+2].OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)SC2=CC=CC=C2N1.OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)SC2=CC=CC=C2N1 GWDUZCIBPDVBJM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QEPMORHSGFRDLW-UHFFFAOYSA-L zinc;2-(2-hydroxyphenyl)-3h-1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound [Zn+2].OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)OC2=CC=CC=C2N1.OC1=CC=CC=C1C1(C([O-])=O)OC2=CC=CC=C2N1 QEPMORHSGFRDLW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Description
本発明は、駆動回路(パルス出力回路、シフトレジスタともいう)に関する。または、画
素部と同じ基板に形成される駆動回路を有する表示装置に関する。または、当該表示装置
を具備する電子機器に関する。
The present invention relates to a driver circuit (also referred to as a pulse output circuit or a shift register). Alternatively, the present invention relates to a display device including a driver circuit formed over the same substrate as the pixel portion. Alternatively, the present invention relates to an electronic device including the display device.
表示装置は、液晶テレビなどの大型表示装置の普及に伴い、より付加価値の高い製品が求
められており、開発が進められている。特に、チャネル領域が非晶質半導体によって構成
される薄膜トランジスタ(TFT)を用いて、画素部と同じ基板に走査線駆動回路などの
駆動回路を構成する技術は、コストの低減、信頼性の向上に大きく貢献するため、活発に
開発が進められている。
With the spread of large display devices such as liquid crystal televisions, higher value-added products are required for display devices, and development is ongoing. In particular, a technique in which a driving circuit such as a scanning line driving circuit is formed on the same substrate as the pixel portion using a thin film transistor (TFT) whose channel region is formed of an amorphous semiconductor can reduce cost and improve reliability. In order to make a significant contribution, development is actively underway.
チャネル領域が非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタは、閾値電圧の上昇、
又は電界効果移動度の低下などの劣化を生じる。この薄膜トランジスタの劣化が進むと、
駆動回路が動作しづらくなくなり、画像を表示できなくなるといった問題がある。そこで
、特許文献1には、薄膜トランジスタの劣化を抑制することができるシフトレジスタにつ
いて開示がある。特許文献1では、薄膜トランジスタの特性劣化を抑制するために、二つ
の薄膜トランジスタを設け、当該薄膜トランジスタをフリップフロップの出力端子と、V
SS(以下負電源)が供給される配線との間に接続する。そして、一方の薄膜トランジス
タと、他方の薄膜トランジスタとが交互にオンになる。こうすることによって、薄膜トラ
ンジスタがオンになる時間を1フレーム期間の半分程度に短くすることができるので、あ
る程度、薄膜トランジスタの特性劣化を抑制することができる。
A thin film transistor whose channel region is formed of an amorphous semiconductor has an increased threshold voltage,
Or degradation such as a decrease in field effect mobility occurs. As this thin film transistor deteriorates,
There is a problem that it becomes difficult for the drive circuit to operate and an image cannot be displayed. Therefore, Patent Document 1 discloses a shift register that can suppress deterioration of a thin film transistor. In Patent Document 1, two thin film transistors are provided in order to suppress deterioration of characteristics of the thin film transistor, and the thin film transistor is connected to an output terminal of a flip-flop, V
It connects between the wiring which SS (henceforth a negative power supply) is supplied. Then, one thin film transistor and the other thin film transistor are alternately turned on. By doing so, the time for which the thin film transistor is turned on can be shortened to about a half of one frame period, so that the deterioration of characteristics of the thin film transistor can be suppressed to some extent.
本発明の一態様は、薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動作を低
減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路を提供することを課題の一とする。
An object of one embodiment of the present invention is to provide a driver circuit that reduces the degree of deterioration of characteristics of a thin film transistor, reduces malfunction in the circuit, and guarantees more accurate operation.
本発明の一態様は、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタと、第1の入力端子乃
至第5の入力端子及び出力端子を有し、第1の電源線乃至第6の電源線と電気的に接続さ
れ、第1のトランジスタは、第1の電極が第1の電源線に電気的に接続され、第2の電極
が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子に
電気的に接続され、第2のトランジスタは、第1の電極が第2の電源線に電気的に接続さ
れ、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第
4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第3のトランジスタは、第1の電極
が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極が出力端子に電気的に接続され、第4
のトランジスタは、第1の電極が第3の電源線に電気的に接続され、第2の電極が出力端
子に電気的に接続され、第5のトランジスタは、第1の電極が第4の電源線に電気的に接
続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート
電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子に電気的に接続され、第6のトラ
ンジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2のトラン
ジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電
極が第5の入力端子に電気的に接続され、第7のトランジスタは、第1の電極が第5の電
源線に電気的に接続され、第2の電極が第8のトランジスタの第1の電極に電気的に接続
され、ゲート電極が第3の入力端子に電気的に接続され、第8のトランジスタは、第2の
電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に
接続され、ゲート電極が第2の入力端子に電気的に接続され、第9のトランジスタは、ゲ
ート電極が第6の入力端子に電気的に接続されているパルス出力回路である。
One embodiment of the present invention includes first to ninth transistors, first to fifth input terminals, and output terminals, and is electrically connected to the first to sixth power lines. The first transistor has a first electrode electrically connected to the first power supply line, a second electrode electrically connected to the first electrode of the ninth transistor, and a gate electrode. Is electrically connected to the fourth input terminal, and the second transistor has the first electrode electrically connected to the second power supply line, and the second electrode is the first electrode of the ninth transistor. And the gate electrode is electrically connected to the gate electrode of the fourth transistor. The third transistor has the first electrode electrically connected to the first input terminal and the second transistor. The electrode is electrically connected to the output terminal, and the fourth
The first electrode is electrically connected to the third power supply line, the second electrode is electrically connected to the output terminal, and the fifth transistor has the first electrode connected to the fourth power supply. Electrically connected to the line, the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor, the gate electrode is electrically connected to the fourth input terminal, The sixth transistor has a first electrode electrically connected to the fifth power supply line, a second electrode electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor, The gate electrode is electrically connected to the fifth input terminal, the seventh transistor has the first electrode electrically connected to the fifth power supply line, and the second electrode is the first transistor of the eighth transistor. And the gate electrode is connected to the third input electrode. The eighth transistor has the second electrode electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor, and the gate electrode is connected to the second input terminal. The ninth transistor is a pulse output circuit in which the gate electrode is electrically connected to the sixth input terminal.
本発明の一態様において、第1の電源線の電位は、第2の電源線、第3の電源線、第4
の電源線、第5の電源線、及び第6の電源線の電位より高いパルス出力回路でもよい。
In one embodiment of the present invention, the potential of the first power supply line includes the second power supply line, the third power supply line, and the fourth power supply line.
The pulse output circuit may be higher than the potentials of the power supply line, the fifth power supply line, and the sixth power supply line.
本発明の一態様において、第5の電源線の電位及び第6の電源線の電位は、第1の電源
線の電位より低いパルス出力回路でもよい。
In one embodiment of the present invention, a pulse output circuit in which the potential of the fifth power supply line and the potential of the sixth power supply line are lower than the potential of the first power supply line may be used.
本発明の一態様において、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタは、酸化物半導
体を用いて形成されているパルス出力回路でもよい。
In one embodiment of the present invention, the first to ninth transistors may be pulse output circuits formed using an oxide semiconductor.
本発明の一態様において、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタは、Nチャネル
型の薄膜トランジスタであるパルス出力回路でもよい。
In one embodiment of the present invention, the first to ninth transistors may be pulse output circuits that are N-channel thin film transistors.
本発明の一態様は、第1のトランジスタ乃至第13のトランジスタと、第1の入力端子
乃至第5の入力端子及び第1の出力端子乃至第2の出力端子を有し、第1の電源線乃至第
9の電源線と電気的に接続され、第1のトランジスタは、第1の電極が第1の電源線に電
気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲ
ート電極が第4の入力端子に電気的に接続され、第2のトランジスタは、第1の電極が第
2の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的
に接続され、ゲート電極が第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第3の
トランジスタは、第1の電極が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極が第1の
出力端子に電気的に接続され、第4のトランジスタは、第1の電極が第3の電源線に電気
的に接続され、第2の電極が第1の出力端子に電気的に接続され、第5のトランジスタは
、第1の電極が第4の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲ
ート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の
入力端子に電気的に接続され、第6のトランジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気
的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタの
ゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第5の入力端子に電気的に接続され、第7
のトランジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第8の
トランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第3の入力端子に電気的に
接続され、第8のトランジスタは、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第
4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第2の入力端子に電気
的に接続され、第9のトランジスタは、ゲート電極が第6の電源線に電気的に接続され、
第10のトランジスタは、第1の電極が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極
が第2の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第3のトランジスタのゲート電極に
電気的に接続され、第11のトランジスタは、第1の電極が第8の電源線に電気的に接続
され、第2の電極が第2の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第2のトランジス
タのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第12のトラ
ンジスタは、第1の電極が第9の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端
子に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタのゲート電極に電気的に接続さ
れ、第13のトランジスタは、第1の電極が第7の電源線に電気的に接続され、第2の電
極が第1の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタのゲート電極
に電気的に接続されているパルス出力回路である。
One embodiment of the present invention includes first to thirteenth transistors, first to fifth input terminals, and first to second output terminals. The first power supply line To the ninth power supply line, the first transistor has the first electrode electrically connected to the first power supply line, and the second electrode has the first electrode of the ninth transistor. And the gate electrode is electrically connected to the fourth input terminal. The second transistor has the first electrode electrically connected to the second power supply line and the second electrode The ninth transistor is electrically connected to the first electrode, the gate electrode is electrically connected to the gate electrode of the fourth transistor, and the third transistor has the first electrode connected to the first input terminal. Electrically connected, the second electrode is electrically connected to the first output terminal, In the transistor No. 4, the first electrode is electrically connected to the third power supply line, the second electrode is electrically connected to the first output terminal, and the fifth transistor has the first electrode Electrically connected to the fourth power supply line, the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor, and the gate electrode is electrically connected to the fourth input terminal; The sixth transistor has a first electrode electrically connected to the fifth power supply line, and a second electrode electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor. The gate electrode is electrically connected to the fifth input terminal, and the seventh electrode
In the transistor, the first electrode is electrically connected to the fifth power supply line, the second electrode is electrically connected to the first electrode of the eighth transistor, and the gate electrode is the third input terminal. The eighth transistor has the second electrode electrically connected to the gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor, and the gate electrode is electrically connected to the second input terminal. The ninth transistor has a gate electrode electrically connected to the sixth power supply line,
In the tenth transistor, the first electrode is electrically connected to the first input terminal, the second electrode is electrically connected to the second output terminal, and the gate electrode is the gate electrode of the third transistor. The eleventh transistor has a first electrode electrically connected to the eighth power supply line, a second electrode electrically connected to the second output terminal, and a gate electrode The gate electrode of the second transistor and the gate electrode of the fourth transistor are electrically connected. The twelfth transistor has the first electrode electrically connected to the ninth power supply line and the second electrode Electrically connected to the second output terminal, the gate electrode is electrically connected to the gate electrode of the seventh transistor, and the thirteenth transistor has the first electrode electrically connected to the seventh power supply line; And the second electrode is electrically connected to the first output terminal. Connected, a pulse output circuit in which the gate electrode is electrically connected to the gate electrode of the seventh transistor.
本発明の一態様は、パルス出力回路は、第(m−1)のパルス出力回路、第mのパルス
出力回路、第(m+1)のパルス出力回路、及び第(m+2)のパルス出力回路(m≧2
)を少なくとも含み、クロック信号を出力する第1の信号線乃至第4の信号線を有し、第
mのパルス出力回路において、第1の入力端子乃至第3の入力端子は、第1の信号線乃至
第4の信号線のうち3本の異なった信号線と電気的に接続され、第4の入力端子は、第(
m−1)のパルス出力回路の出力端子と電気的に接続され、第5の入力端子は、第(m+
2)のパルス出力回路の出力端子と電気的に接続され、出力端子は、第(m+1)のパル
ス出力回路の第4の入力端子と電気的に接続されているシフトレジスタである。
In one embodiment of the present invention, the pulse output circuit includes an (m−1) th pulse output circuit, an mth pulse output circuit, an (m + 1) th pulse output circuit, and an (m + 2) th pulse output circuit (m + 2). ≧ 2
), And includes a first signal line to a fourth signal line for outputting a clock signal, and in the m-th pulse output circuit, the first input terminal to the third input terminal are the first signal lines. Are electrically connected to three different signal lines out of the first to fourth signal lines, and the fourth input terminal is the first (
m-1) is electrically connected to the output terminal of the pulse output circuit, and the fifth input terminal is the (m +
The shift register is electrically connected to the output terminal of the pulse output circuit 2), and the output terminal is electrically connected to the fourth input terminal of the (m + 1) th pulse output circuit.
本発明の一態様において、第1の信号線乃至第4の信号線の各々は、順に1/4周期遅
延したクロック信号を出力するシフトレジスタでもよい。
In one embodiment of the present invention, each of the first signal line to the fourth signal line may be a shift register that sequentially outputs a clock signal delayed by ¼ cycle.
本発明の一態様により、薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動
作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路を提供することができる。
According to one embodiment of the present invention, a driver circuit that reduces the degree of deterioration of characteristics of a thin film transistor, reduces malfunctions in the circuit, and ensures more accurate operation can be provided.
以下、本発明の実施の形態及び実施例について図面を参照しながら説明する。但し、本
発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸
脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解さ
れる。従って本実施の形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。な
お、以下に説明する本発明の構成において、同じ物を指し示す符号は異なる図面間におい
て共通とする。
Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of the embodiments and examples. Note that in the structures of the present invention described below, the same reference numeral is used in different drawings.
(実施の形態1)
本実施の形態では、駆動回路であるパルス出力回路、当該パルス出力回路を含むシフト
レジスタの一例に関して図面を参照して説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, an example of a pulse output circuit which is a driver circuit and a shift register including the pulse output circuit will be described with reference to drawings.
本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス
出力回路10_n(n≧2)と、クロック信号を出力する第1の信号線11〜第4の信号
線14を有している(図1(A)参照)。第1の信号線11は第1のクロック信号(CK
1)を出力し、第2の信号線12は第2のクロック信号(CK2)を出力し、第3の信号
線13は第3のクロック信号(CK3)を出力し、第4の信号線14は第4のクロック信
号(CK4)を出力する。
The shift register described in this embodiment includes a first pulse output circuit 10_1 to an nth pulse output circuit 10_n (n ≧ 2), and first signal lines 11 to 4 for outputting clock signals. It has a line 14 (see FIG. 1A). The first signal line 11 is connected to the first clock signal (CK
1), the second signal line 12 outputs the second clock signal (CK2), the third signal line 13 outputs the third clock signal (CK3), and the fourth signal line 14 Outputs a fourth clock signal (CK4).
クロック信号(CK)は、一定の間隔でH(High)信号とL(Low)信号を繰り
返す信号であり、ここでは、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK
4)は、順に1/4周期分遅延している。本実施の形態では、第1のクロック信号(CK
1)〜第4のクロック信号(CK4)を利用して、パルス出力回路の駆動の制御等を行う
。
The clock signal (CK) is a signal that repeats an H (High) signal and an L (Low) signal at regular intervals. Here, the first clock signal (CK1) to the fourth clock signal (CK)
4) are sequentially delayed by a quarter period. In this embodiment, the first clock signal (CK
1) The fourth clock signal (CK4) is used to control the drive of the pulse output circuit.
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1の入力
端子21、第2の入力端子22、第3の入力端子23、第4の入力端子24、第5の入力
端子25、出力端子26を有している(図1(B)参照)。
Each of the first pulse output circuit 10_1 to the nth pulse output circuit 10_n includes a first input terminal 21, a second input terminal 22, a third input terminal 23, a fourth input terminal 24, a 5 input terminals 25 and output terminals 26 (see FIG. 1B).
第1の入力端子21、第2の入力端子22及び第3の入力端子23は、第1の信号線1
1〜第4の信号線14のいずれかと電気的に接続されている。例えば、図1において、第
1のパルス出力回路10_1は、第1の入力端子21が第1の信号線11と電気的に接続
され、第2の入力端子22が第2の信号線12と電気的に接続され、第3の入力端子23
が第3の信号線13と電気的に接続されている。また、第2のパルス出力回路10_2は
、第1の入力端子21が第2の信号線12と電気的に接続され、第2の入力端子22が第
3の信号線13と電気的に接続され、第3の入力端子23が第4の信号線14と電気的に
接続されている。
The first input terminal 21, the second input terminal 22, and the third input terminal 23 are connected to the first signal line 1.
It is electrically connected to any one of the first to fourth signal lines 14. For example, in FIG. 1, in the first pulse output circuit 10 _ 1 , the first input terminal 21 is electrically connected to the first signal line 11, and the second input terminal 22 is connected to the second signal line 12. The third input terminal 23 is electrically connected.
Are electrically connected to the third signal line 13. In the second pulse output circuit 10_2 , the first input terminal 21 is electrically connected to the second signal line 12, and the second input terminal 22 is electrically connected to the third signal line 13. The third input terminal 23 is electrically connected to the fourth signal line 14.
また、本実施の形態で示すシフトレジスタの第mのパルス出力回路(m≧2)において
、第4の入力端子24は第(m−1)のパルス出力回路の出力端子26と電気的に接続さ
れ、第5の入力端子25は第(m+2)のパルス出力回路の出力端子26と電気的に接続
され、出力端子26は第(m+1)のパルス出力回路の第4の入力端子24と電気的に接
続され、且つOUT(m)に信号を出力する。
In the m-th pulse output circuit (m ≧ 2) of the shift register described in this embodiment, the fourth input terminal 24 is electrically connected to the output terminal 26 of the (m−1) th pulse output circuit. The fifth input terminal 25 is electrically connected to the output terminal 26 of the (m + 2) th pulse output circuit, and the output terminal 26 is electrically connected to the fourth input terminal 24 of the (m + 1) th pulse output circuit. And outputs a signal to OUT (m).
例えば、第3のパルス出力回路10_3において、第4の入力端子24は第2のパルス
出力回路10_2の出力端子26と電気的に接続され、第5の入力端子25は第5のパル
ス出力回路10_5の出力端子26と電気的に接続され、出力端子26は第4のパルス出
力回路10_4の第4の入力端子24及び第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端
子25と電気的に接続されている。
For example, in the third pulse output circuit 10_3 , the fourth input terminal 24 is electrically connected to the output terminal 26 of the second pulse output circuit 10_2 , and the fifth input terminal 25 is the fifth pulse output. connected output terminals 26 electrically in circuit 10 _5, the output terminal 26 and the fourth pulse output circuit 10 the fourth input terminal 24 and the first fifth input terminal 25 of the pulse output circuit 10 _1 _4 Electrically connected.
また、第1のパルス出力回路10_1では、第4の入力端子24に第1のスタートパル
ス(SP1)が入力される。また、第(nー1)のパルス出力回路10(nー1)では、
第5の入力端子25に第2のスタートパルス(SP2)が入力される。また、第nのパル
ス出力回路10_n)では、第5の入力端子25に第3のスタートパルス(SP3)が入
力される。なお、第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3)
は、外部より入力される信号でもよいし、別途駆動回路の内部で生成された信号であって
もよい。例えば、表示部へのパルス出力に寄与しない第(n+1)のパルス出力回路10
(n+1)、第(n+2)のパルス出力回路10(n+2)を設け(ダミー段ともいう)
、当該ダミー段より第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3
)に相当する信号を生成する構成としてもよい。
In the first pulse output circuit 10_1 , the first start pulse (SP1) is input to the fourth input terminal 24. In the (n−1) th pulse output circuit 10 (n−1) ,
The second start pulse (SP2) is input to the fifth input terminal 25. In the n-th pulse output circuit 10 — n) , the third start pulse (SP3) is input to the fifth input terminal 25. The second start pulse (SP2) and the third start pulse (SP3)
May be a signal input from the outside, or a signal generated separately inside the drive circuit. For example, the (n + 1) th pulse output circuit 10 that does not contribute to the pulse output to the display unit.
(N + 1) th and (n + 2) th pulse output circuits 10 (n + 2) are provided (also called dummy stages).
From the dummy stage, the second start pulse (SP2) and the third start pulse (SP3
It is good also as a structure which produces | generates the signal equivalent to.
次に、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの具体的な構成
に関して説明する。
Next, specific structures of the first pulse output circuit 10_1 to the n-th pulse output circuit 10_n are described.
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1のトラ
ンジスタ101〜第9のトランジスタ109を有している(図1(C)参照)。また、上
述した第1の入力端子21〜第5の入力端子25及び出力端子26に加え、第1の電源線
31〜第6の電源線36から第1のトランジスタ101〜第9のトランジスタ109に信
号が供給される。
Each of the first pulse output circuit 10_1 to the nth pulse output circuit 10_n includes a first transistor 101 to a ninth transistor 109 (see FIG. 1C). In addition to the first input terminal 21 to the fifth input terminal 25 and the output terminal 26 described above, the first transistor 101 to the ninth transistor 109 are connected from the first power supply line 31 to the sixth power supply line 36. A signal is supplied.
第1のトランジスタ101は、第1の電極(ソース電極又はドレイン電極の一方)が第
1の電源線31に電気的に接続され、第2の電極(ソース電極又はドレイン電極の他方)
が第9のトランジスタ109の第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力
端子24に電気的に接続されている。第2のトランジスタ102は、第1の電極が第2の
電源線32に電気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタ109の第1の電極に
電気的に接続され、ゲート電極が第4のトランジスタ104のゲート電極に電気的に接続
されている。第3のトランジスタ103は、第1の電極が第1の入力端子21に電気的に
接続され、第2の電極が出力端子26に電気的に接続されている。第4のトランジスタ1
04は、第1の電極が第3の電源線33に電気的に接続され、第2の電極が出力端子26
に電気的に接続されている。第5のトランジスタ105は、第1の電極が第4の電源線3
4に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4の
トランジスタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子24
に電気的に接続されている。第6のトランジスタ106は、第1の電極が第5の電源線3
5に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4の
トランジスタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第5の入力端子25
に電気的に接続されている。第7のトランジスタ107は、第1の電極が第5の電源線3
5に電気的に接続され、第2の電極が第8のトランジスタ108の第2の電極に電気的に
接続され、ゲート電極が第3の入力端子23に電気的に接続されている。第8のトランジ
スタ108は、第1の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4のトランジ
スタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第2の入力端子22に電気的
に接続されている。第9のトランジスタ109は、第1の電極が第1のトランジスタ10
1の第2の電極及び第2のトランジスタ102の第2の電極に電気的に接続され、第2の
電極が第3のトランジスタ103のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第6の
電源線36に電気的に接続されている。
The first transistor 101 has a first electrode (one of a source electrode or a drain electrode) electrically connected to the first power supply line 31 and a second electrode (the other of the source electrode or the drain electrode).
Are electrically connected to the first electrode of the ninth transistor 109, and the gate electrode is electrically connected to the fourth input terminal 24. In the second transistor 102, the first electrode is electrically connected to the second power supply line 32, the second electrode is electrically connected to the first electrode of the ninth transistor 109, and the gate electrode is The fourth transistor 104 is electrically connected to the gate electrode. The third transistor 103 has a first electrode electrically connected to the first input terminal 21 and a second electrode electrically connected to the output terminal 26. Fourth transistor 1
04, the first electrode is electrically connected to the third power supply line 33, and the second electrode is the output terminal 26.
Is electrically connected. In the fifth transistor 105, the first electrode is the fourth power line 3.
4, the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor 102 and the gate electrode of the fourth transistor 104, and the gate electrode is connected to the fourth input terminal 24.
Is electrically connected. The sixth transistor 106 has a first electrode connected to the fifth power supply line 3.
5, the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor 102 and the gate electrode of the fourth transistor 104, and the gate electrode is connected to the fifth input terminal 25.
Is electrically connected. The seventh transistor 107 has a first electrode whose fifth electrode is the fifth power line 3.
5, the second electrode is electrically connected to the second electrode of the eighth transistor 108, and the gate electrode is electrically connected to the third input terminal 23. In the eighth transistor 108, the first electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor 102 and the gate electrode of the fourth transistor 104, and the gate electrode is electrically connected to the second input terminal 22. Has been. The ninth transistor 109 has a first electrode whose first electrode is the first transistor 10.
1 second electrode and the second electrode of the second transistor 102, the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the third transistor 103, and the gate electrode is the sixth electrode The power supply line 36 is electrically connected.
図1(C)において、第3のトランジスタ103のゲート電極、第9のトランジスタ1
09の第2の電極の接続箇所をノードAとする。また、第2のトランジスタ102のゲー
ト電極、第4のトランジスタ104のゲート電極、第5のトランジスタ105の第2の電
極、第6のトランジスタ106の第2の電極、第8のトランジスタ108の第1の電極の
接続箇所をノードBとする。また、第3のトランジスタ103の第2の電極、第4のトラ
ンジスタ104の第2の電極、出力端子26の接続箇所をノードCとする。
In FIG. 1C, the gate electrode of the third transistor 103, the ninth transistor 1
A connection point of the second electrode of 09 is a node A. The gate electrode of the second transistor 102, the gate electrode of the fourth transistor 104, the second electrode of the fifth transistor 105, the second electrode of the sixth transistor 106, and the first electrode of the eighth transistor 108 A connection point of the electrodes is referred to as a node B. A connection point of the second electrode of the third transistor 103, the second electrode of the fourth transistor 104, and the output terminal 26 is a node C.
なお、ノードAとノードCとの間には、ノードAを浮遊状態とすることによりブートスト
ラップ動作を行うための、容量素子を別途設けても良い。またノードBの電位を保持する
ため、一方の電極をノードBに電気的に接続した容量素子を別途設けてもよい。
Note that a capacitor for performing a bootstrap operation by bringing the node A into a floating state may be additionally provided between the node A and the node C. Further, in order to hold the potential of the node B, a capacitor in which one electrode is electrically connected to the node B may be separately provided.
なお、第7のトランジスタ107のゲート電極に第3の入力端子によって供給されるクロ
ック信号、第8のトランジスタ108のゲート電極に第2の入力端子によって供給される
クロック信号は、第7のトランジスタのゲート電極に第2の入力端子によって供給される
クロック信号、第8のゲート電極に第3の入力端子によって供給されるクロック信号とな
るように、結線関係を入れ替えても同様の作用を奏する。なお、図3(D)の期間のよう
に、第7のトランジスタ107及び第8のトランジスタ108が共にオンの状態から、第
7のトランジスタ107がオフ、第8のトランジスタ108がオンの状態、次いで第7の
トランジスタ107がオフ、第8のトランジスタ108がオフの状態とすることによって
、第2の入力端子22及び第3の入力端子23の電位が低下することで生じる、ノードB
の電位の低下が第7のトランジスタ107のゲート電極の電位の低下、及び第8のトラン
ジスタ108のゲート電極の電位の低下に起因して2回生じることとなる。一方、図3(
D)の期間のように、第7のトランジスタ107及び第8のトランジスタ108が共にオ
ンの状態から、図4(A)の期間のように、第7のトランジスタ107がオン、第8のト
ランジスタ108がオフの状態、次いで図4(B)の期間のように、第7のトランジスタ
107がオフ、第8のトランジスタ108がオフの状態とすることによって、第2の入力
端子22及び第3の入力端子23の電位が低下することで生じるノードBの電位の低下を
、第8のトランジスタ108のゲート電極の電位の低下による一回に低減することができ
る。そのため、第7のトランジスタ107のゲート電極に第3の入力端子によって供給さ
れるクロック信号、第8のゲート電極に第2の入力端子によって供給されるクロック信号
とすることによって、ノードBの電位の変動を小さくすることで、ノイズを低減すること
が出来るため好適である。
Note that the clock signal supplied to the gate electrode of the seventh transistor 107 by the third input terminal and the clock signal supplied to the gate electrode of the eighth transistor 108 by the second input terminal are The same effect can be obtained even if the wiring relationship is changed so that the clock signal supplied to the gate electrode by the second input terminal and the clock signal supplied to the eighth gate electrode by the third input terminal are obtained. Note that as in the period of FIG. 3D, the seventh transistor 107 and the eighth transistor 108 are turned off, the seventh transistor 107 is turned off, the eighth transistor 108 is turned on, When the seventh transistor 107 is turned off and the eighth transistor 108 is turned off, the potential of the second input terminal 22 and the third input terminal 23 is decreased, so that the node B
Is caused twice due to a decrease in the potential of the gate electrode of the seventh transistor 107 and a decrease in the potential of the gate electrode of the eighth transistor 108. On the other hand, FIG.
From the state in which both the seventh transistor 107 and the eighth transistor 108 are on as in the period D), the seventh transistor 107 is on and the eighth transistor 108 is in the period of FIG. Is turned off, and then, as in the period of FIG. 4B, the seventh transistor 107 is turned off and the eighth transistor 108 is turned off, whereby the second input terminal 22 and the third input are turned on. The decrease in the potential of the node B caused by the decrease in the potential of the terminal 23 can be reduced at a time due to the decrease in the potential of the gate electrode of the eighth transistor 108. Therefore, by setting the clock signal supplied to the gate electrode of the seventh transistor 107 by the third input terminal and the clock signal supplied to the eighth gate electrode by the second input terminal, the potential of the node B can be reduced. It is preferable to reduce the fluctuation because noise can be reduced.
次に、図1に示したシフトレジスタの動作について図2〜図4を参照して説明する。具
体的には、図2のタイミングチャートにおいて、第1の期間51、第2の期間52、第3
の期間53、第4の期間54、第5の期間55に分割して説明する。なお、以下の説明に
おいて、第1のトランジスタ101〜第9のトランジスタ109は、Nチャネル型の薄膜
トランジスタとし、ゲートとソース間電圧(Vgs)がしきい値電圧(Vth)を上回っ
たとき導通状態になるものとする。
Next, the operation of the shift register shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. Specifically, in the timing chart of FIG. 2, the first period 51, the second period 52, and the third period
The period 53, the fourth period 54, and the fifth period 55 will be described separately. Note that in the following description, the first transistor 101 to the ninth transistor 109 are N-channel thin film transistors and are turned on when a gate-source voltage (Vgs) exceeds a threshold voltage (Vth). Shall be.
また、ここでは、第1のパルス出力回路10_1の出力に関して説明する。第2のパル
ス出力回路10_1は、第1の入力端子21が第1のクロック信号(CK1)を供給する
第1の信号線11と電気的に接続され、第2の入力端子22が第2のクロック信号(CK
2)を供給する第2の信号線12と電気的に接続され、第3の入力端子23が第3のクロ
ック信号(CK3)を供給する第3の信号線13と電気的に接続されている。
Here, the output of the first pulse output circuit 10_1 will be described. In the second pulse output circuit 10_1 , the first input terminal 21 is electrically connected to the first signal line 11 that supplies the first clock signal (CK1), and the second input terminal 22 is the second input terminal 22. Clock signal (CK
2) is electrically connected to the second signal line 12 for supplying, and the third input terminal 23 is electrically connected to the third signal line 13 for supplying the third clock signal (CK3). .
なお、第1の電源線31には第1の電位(VDD)が供給され、第5の電源線35及び
第6の電源線36には第2の電位(VCC)が供給され、第2の電源線32〜第4の電源
線34には第3の電位(VSS)が供給されるものとする。ここで、VDD>VCC>V
SSとする。また、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)は、
一定の間隔でHレベルとLレベルを繰り返す信号であるが、HレベルのときVDD、Lレ
ベルのときVSSであるとする。また、ここでは説明の簡略化のためVSS=0とするが
、これに限られない。なお、VDDとのVSSの差分、VCCとVSSとの差分は、トラ
ンジスタのしきい値電圧より大きくなるものとし、すなわちトランジスタをオン状態(導
通状態)にするものとする。なお第5の電源線35の電位を、第1の電源線31の電位よ
り低くすることにより、第2のトランジスタ102、第4のトランジスタ104のゲート
電極に印加される電位を低く抑えることができ、当該第2のトランジスタ102、第4の
トランジスタ104のしきい値電圧のシフトを低減し、劣化を抑制することができる。
Note that the first potential (VDD) is supplied to the first power supply line 31, the second potential (VCC) is supplied to the fifth power supply line 35 and the sixth power supply line 36, and the second potential (VCC) is supplied. A third potential (VSS) is supplied to the power supply line 32 to the fourth power supply line 34. Where VDD>VCC> V
SS. In addition, the first clock signal (CK1) to the fourth clock signal (CK4) are
The signal repeats the H level and the L level at regular intervals, and is assumed to be VDD when the level is H and VSS when the level is the L level. In addition, here, VSS is set to 0 for simplification of description, but the present invention is not limited to this. Note that the difference between VSS and VDD and the difference between VCC and VSS are larger than the threshold voltage of the transistor, that is, the transistor is turned on (conductive state). Note that the potential applied to the gate electrodes of the second transistor 102 and the fourth transistor 104 can be kept low by making the potential of the fifth power supply line 35 lower than the potential of the first power supply line 31. The shift of the threshold voltage of the second transistor 102 and the fourth transistor 104 can be reduced and deterioration can be suppressed.
第1の期間51において、第1のスタートパルス(SP1)がHレベルとなり第2のパ
ルス出力回路10_1の第4の入力端子24に電気的に接続された第1のトランジスタ1
01と第5のトランジスタ105が導通状態になる。第3のクロック信号(CK3)もH
レベルであるため第7のトランジスタ107もオンする。また、第9のトランジスタ10
9のゲートには第2の電位VCCが印加されており、第9のトランジスタもオンする(図
3(A)参照)。
In the first period 51, the first start pulse (SP1) becomes H level, and the first transistor 1 is electrically connected to the fourth input terminal 24 of the second pulse output circuit 10_1 .
01 and the fifth transistor 105 are turned on. The third clock signal (CK3) is also H
Since it is at the level, the seventh transistor 107 is also turned on. The ninth transistor 10
The second potential VCC is applied to the gate 9 and the ninth transistor is also turned on (see FIG. 3A).
このとき、第1のトランジスタ101及び第9のトランジスタがオンであるためノード
Aの電位は上昇する。また、第5のトランジスタ105がオンであるためノードBの電位
は下降する。なお、第1のトランジスタはオフしており、ノードCの電位はLレベルとな
る。
At this time, since the first transistor 101 and the ninth transistor are on, the potential of the node A is increased. Further, since the fifth transistor 105 is on, the potential of the node B drops. Note that the first transistor is off and the potential of the node C is at an L level.
このとき、第1のトランジスタ101の第2の電極の電位は、第1のトランジスタ10
1の第2の電極がソースとなって、第1の電源線31の電位から第1のトランジスタ10
1のしきい値電圧を引いた値となるためVDD−Vth101(Vth101は第1のト
ランジスタ101のしきい値電圧)となる。そしてノードAの電位は、第9のトランジス
タ109の第2の電極がソースとなって、(VDD−Vth101)から第9のトランジ
スタ109のしきい値電圧を引いた値となるためVDD−Vth101−Vth109(
Vth109は第9のトランジスタ109のしきい値電圧)となる。そして、第1のトラ
ンジスタ101及び第9のトランジスタ109がオフし、ノードAが(VDD−Vth1
01−Vth109)を維持したまま浮遊状態となる。
At this time, the potential of the second electrode of the first transistor 101 is equal to that of the first transistor 10.
The first transistor 10 is supplied from the potential of the first power supply line 31 using the first second electrode as a source.
Since the value obtained by subtracting the threshold voltage of 1 is VDD-Vth101 (Vth101 is the threshold voltage of the first transistor 101). The potential of the node A is a value obtained by subtracting the threshold voltage of the ninth transistor 109 from (VDD−Vth101) with the second electrode of the ninth transistor 109 serving as a source. Vth109 (
Vth109 is a threshold voltage of the ninth transistor 109). Then, the first transistor 101 and the ninth transistor 109 are turned off, and the node A is (VDD−Vth1).
01-Vth109) is maintained and the floating state is entered.
ここで、第3のトランジスタ103において、ゲート電極の電位が(VDD−Vth1
01−Vth109)となっている。第3のトランジスタ103のゲートとソース間の電
圧がそのしきい値電圧を上回っている場合、すなわち、VDD−Vth101−Vth1
09VSS>Vth103(Vth103は第3のトランジスタ103のしきい値電圧)
であれば、第3のトランジスタ103がオンする。
Here, in the third transistor 103, the potential of the gate electrode is (VDD−Vth1).
01-Vth109). When the voltage between the gate and the source of the third transistor 103 exceeds the threshold voltage, that is, VDD−Vth101−Vth1
09VSS> Vth103 (Vth103 is the threshold voltage of the third transistor 103)
Then, the third transistor 103 is turned on.
第2の期間52において、第1のパルス出力回路10_1の第1の入力端子21がLレ
ベルからHレベルに切り替わる。ここで、第3のトランジスタ103がオンしているため
、ソースとドレインの間に電流が生じ、ノードC(出力端子26(OUT(1)))、す
なわち第3のトランジスタ103の第2の電極(この場合、ソース電極)の電位が上昇を
始める。第3のトランジスタ103のゲートとソース間には寄生容量による容量結合が存
在し、ノードCの電位上昇に伴い、浮遊状態となっている第3のトランジスタ103のゲ
ート電極の電位が上昇する(ブートストラップ動作)。最終的には、第3のトランジスタ
103のゲート電極の電位は、VDD+Vth103より高くなり、ノードCの電位はV
DDに等しくなる(図2、図3(B)参照)。
In the second period 52, the first input terminal 21 of the first pulse output circuit 10_1 is switched from the L level to the H level. Here, since the third transistor 103 is on, a current is generated between the source and the drain, and the node C (the output terminal 26 (OUT (1))), that is, the second electrode of the third transistor 103 is generated. In this case, the potential of the source electrode starts to rise. There is a capacitive coupling due to parasitic capacitance between the gate and the source of the third transistor 103, and the potential of the gate electrode of the third transistor 103 which is in a floating state increases as the potential of the node C increases (boot) Strap action). Eventually, the potential of the gate electrode of the third transistor 103 becomes higher than VDD + Vth103, and the potential of the node C is V
It becomes equal to DD (see FIG. 2 and FIG. 3B).
また、このとき、第1のパルス出力回路10_1の第4の入力端子24が第1のスター
トパルス(SP1)によりHレベルであるため、第5のトランジスタ105がオンしてノ
ードBがLレベルに維持されている。従って、ノードCの電位がLレベルからHレベルに
立ち上がるとき、ノードBとノードCの容量結合による不具合を抑制することができる。
At this time, since the fourth input terminal 24 of the first pulse output circuit 10_1 is at the H level by the first start pulse (SP1), the fifth transistor 105 is turned on and the node B is at the L level. Is maintained. Therefore, when the potential of the node C rises from the L level to the H level, it is possible to suppress problems due to capacitive coupling between the node B and the node C.
次いで、第3の期間53において、第1のスタートパルス(SP1)がLレベルとなり
第1のトランジスタ101と第5のトランジスタ105がオフする。また、第1のクロッ
ク信号(CK1)が第2の期間52に続いてHレベルを保持し、また第2の期間52に続
いてノードAの電位も変化しないため、トランジスタ103の第1の電極にはHレベルの
信号が供給される(図3(C)参照)。なお、第3の期間53では、各トランジスタがオ
フとなることにより、ノードBが浮遊状態となるが、ノードCの電位も変化しないため、
ノードBとノードCの容量結合による不具合の影響はほとんど無視できる程度となる。
Next, in the third period 53, the first start pulse (SP1) becomes L level, and the first transistor 101 and the fifth transistor 105 are turned off. In addition, since the first clock signal (CK1) is kept at the H level following the second period 52 and the potential of the node A does not change following the second period 52, the first electrode of the transistor 103 Is supplied with an H level signal (see FIG. 3C). Note that in the third period 53, each transistor is turned off, so that the node B is in a floating state, but the potential of the node C does not change.
The influence of the malfunction due to the capacitive coupling between the node B and the node C is almost negligible.
なお、図1(C)に示すように、ゲートに第1の電位VDDが印加される第9のトランジ
スタ109を設けておくことにより、ブートストラップ動作の前後において、以下のよう
な利点がある。
Note that as shown in FIG. 1C, by providing the ninth transistor 109 to which the first potential VDD is applied to the gate, the following advantages are obtained before and after the bootstrap operation.
ゲートに第2の電位VCCが印加される第9のトランジスタ109がない場合、ブートス
トラップ動作によりノードAの電位が上昇すると、第1のトランジスタ101の第2の電
極であるソースの電位が上昇していき、第1の電位VDDより大きくなる。そして、第1
のトランジスタ101のソースが第1の電極側、即ち第1の電源線31側に切り替わる。
そのため、第1のトランジスタ101においては、図3(C)の期間にゲートとソースの
間、ゲートとドレインの間ともに、大きなバイアス電圧が印加されるために大きなストレ
スがかかり、トランジスタの劣化の要因となりうる。
When there is no ninth transistor 109 to which the second potential VCC is applied to the gate, when the potential of the node A is increased by the bootstrap operation, the potential of the source that is the second electrode of the first transistor 101 is increased. As a result, the potential becomes higher than the first potential VDD. And first
The source of the transistor 101 is switched to the first electrode side, that is, the first power supply line 31 side.
Therefore, in the first transistor 101, a large bias voltage is applied between the gate and the source and between the gate and the drain during the period of FIG. It can be.
ゲートに高電源電位VDDが印加される第9のトランジスタ109を設けておくことによ
り、ブートストラップ動作によりノードAの電位は上昇するものの、第1のトランジスタ
101の第2の電極の電位の上昇を生じないようにすることができる。つまり、第9のト
ランジスタ109を設けることにより、第1のトランジスタ101のゲートとソースの間
に印加される負のバイアス電圧の値を小さくすることができる。よって、本実施の形態の
回路構成とすることにより、第1のトランジスタ101のゲートとソースの間に印加され
る負のバイアス電圧も小さくできるため、ストレスによる第1のトランジスタ101の劣
化を抑制することができる。
By providing the ninth transistor 109 to which the high power supply potential VDD is applied to the gate, the potential of the node A is increased by the bootstrap operation, but the potential of the second electrode of the first transistor 101 is increased. It can be prevented from occurring. That is, by providing the ninth transistor 109, the value of the negative bias voltage applied between the gate and the source of the first transistor 101 can be reduced. Therefore, with the circuit configuration in this embodiment, the negative bias voltage applied between the gate and the source of the first transistor 101 can be reduced, so that deterioration of the first transistor 101 due to stress is suppressed. be able to.
なお、第9のトランジスタ109を設ける箇所については、第1のトランジスタ101の
第2の電極と第3のトランジスタ103のゲートとの間に第1の電極と第2の電極を介し
て接続されるように設ける構成であればよい。なお、本実施形態でのパルス出力回路を複
数具備するシフトレジスタを構成する場合、走査線駆動回路より段数の多い信号線駆動回
路では、第9のトランジスタ109を省略してもよい。
Note that the place where the ninth transistor 109 is provided is connected between the second electrode of the first transistor 101 and the gate of the third transistor 103 through the first electrode and the second electrode. Any configuration may be used. Note that in the case of forming a shift register including a plurality of pulse output circuits in this embodiment, the ninth transistor 109 may be omitted in a signal line driver circuit having more stages than a scan line driver circuit.
なお第1のトランジスタ101乃至第9のトランジスタの半導体層として、酸化物半導体
を用いてもよい。酸化物半導体をトランジスタの半導体層として用いることにより、薄膜
トランジスタのオフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高めることが
出来ると共に、劣化の度合いを低減することが出来るため、回路内の誤動作を低減し、よ
り確度の高い動作を保証する駆動回路とすることができる。また酸化物半導体を用いたト
ランジスタ、アモルファスシリコンを用いたトランジスタに比べ、ゲート電極に高電位が
印加されることによるトランジスタの劣化の程度が小さい。そのため、第2の電位VCC
を第1の電位VDDにしても同様の動作が得られ、且つ回路間を引き回す配線の数を低減
することができるため、回路の小型化を図ることが出来る。なお酸化物半導体としては、
例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)なども用いることができる。ZnO
を半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層をY2O3、Al2O3、TiO2、それらの積
層などを用い、ゲート電極層、ソース電極層、ドレイン電極層としては、ITO、Au、
Tiなどを用いることができる。また、ZnOにInやGaなどを添加することもできる
。
Note that an oxide semiconductor may be used for the semiconductor layers of the first transistor 101 to the ninth transistor. By using an oxide semiconductor as a semiconductor layer of a transistor, an off current of a thin film transistor can be reduced, an on current and a field effect mobility can be increased, and a degree of deterioration can be reduced. A drive circuit that reduces malfunctions and guarantees a more accurate operation can be obtained. In addition, compared with a transistor using an oxide semiconductor and a transistor using amorphous silicon, the degree of deterioration of the transistor due to application of a high potential to the gate electrode is small. Therefore, the second potential VCC
Even when the first potential VDD is used, the same operation can be obtained and the number of wirings routed between the circuits can be reduced, so that the circuit can be reduced in size. As an oxide semiconductor,
For example, zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), or the like can also be used. ZnO
Is used for the semiconductor layer, the gate insulating layer is Y 2 O 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , or a laminate thereof, and the gate electrode layer, the source electrode layer, and the drain electrode layer are ITO, Au,
Ti or the like can be used. In addition, In, Ga, or the like can be added to ZnO.
酸化物半導体としてInMO3(ZnO)x(x>0)で表記される薄膜を用いることが
できる。なお、Mは、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(M
n)及びコバルト(Co)から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えば
Mとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記
金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金
属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸
化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜を用いることができる。
As the oxide semiconductor, a thin film represented by InMO 3 (ZnO) x (x> 0) can be used. M is gallium (Ga), iron (Fe), nickel (Ni), manganese (M
n) and one or more metal elements selected from cobalt (Co). For example, M may be Ga, and may contain the above metal elements other than Ga, such as Ga and Ni or Ga and Fe. In addition to the metal element contained as M, some of the above oxide semiconductors contain Fe, Ni, other transition metal elements, or oxides of the transition metal as impurity elements. For example, an In—Ga—Zn—O-based non-single-crystal film can be used as the oxide semiconductor layer.
酸化物半導体(InMO3(ZnO)x(x>0)膜)としてIn−Ga−Zn−O系非
単結晶膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO3(ZnO)x(x>0)膜を用
いてもよい。また、酸化物半導体として上記の他にも、In−Sn−Zn−O系、In−
Al−Zn−O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−Zn−O系、Sn−Al−Z
n−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Zn−O系、In−O系、Sn
−O系、Zn−O系の酸化物半導体を適用することができる。
Instead of an In—Ga—Zn—O-based non-single-crystal film as an oxide semiconductor (InMO 3 (ZnO) x (x> 0) film), InMO 3 (ZnO) x (x > 0) A film may be used. In addition to the above, an oxide semiconductor includes In—Sn—Zn—O-based, In—
Al-Zn-O, Sn-Ga-Zn-O, Al-Ga-Zn-O, Sn-Al-Z
n-O, In-Zn-O, Sn-Zn-O, Al-Zn-O, In-O, Sn
An —O-based or Zn—O-based oxide semiconductor can be used.
その後、第3の期間53の後半に、第1のパルス出力回路10_1の第1の入力端子2
1がLレベルとなり、ノードCの電位が下降する。また、第3の期間53の後半に第2の
入力端子22及び第3の入力端子23、並びに第5の入力端子25がHレベルとなること
により、ノードBの電位を急峻にVCCに上昇となる。その結果、第2のトランジスタ1
02及び第4のトランジスタ104がオンすることとなり、ノードCの電位が急峻に下降
させることができる。
Thereafter, in the second half of the third period 53, the first input terminal 2 of the first pulse output circuit 10_1 is used.
1 becomes L level, and the potential of the node C drops. In addition, when the second input terminal 22, the third input terminal 23, and the fifth input terminal 25 become H level in the second half of the third period 53, the potential of the node B is rapidly increased to VCC. Become. As a result, the second transistor 1
02 and the fourth transistor 104 are turned on, and the potential of the node C can be sharply lowered.
なお上述した第2のスタートパルス(SP2)と第3のスタートパルス(SP3)がH(
High)信号を出力するタイミング、すなわち第5の入力端子25がHレベルとなるタ
イミングは、第2の入力端子22及び第3の入力端子23がHレベルとなるタイミングと
重なる。そのため、第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3
)を入力するための配線は、省略することが可能である。
The second start pulse (SP2) and the third start pulse (SP3) described above are H (
The timing at which the High) signal is output, that is, the timing at which the fifth input terminal 25 is at the H level overlaps with the timing at which the second input terminal 22 and the third input terminal 23 are at the H level. Therefore, the second start pulse (SP2) and the third start pulse (SP3
) Can be omitted.
第4の期間54の前半において、第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端子25が
Hレベルを保持することにより、ノードBがVCCを保持することとなる。これにより、
第2のトランジスタ102、第4のトランジスタ104がオンして、第3のトランジスタ
103がオフし、ノードCの電位、すなわち出力端子26の電位がLレベルとなる。(図
4(A)参照)。
In the first half of the fourth period 54, the fifth input terminal 25 of the first pulse output circuit 10_1 holds the H level, so that the node B holds VCC. This
The second transistor 102 and the fourth transistor 104 are turned on and the third transistor 103 is turned off, so that the potential of the node C, that is, the potential of the output terminal 26 becomes L level. (See FIG. 4A).
その後、第4の期間54の後半に、第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端子2
5がLレベルとなり、第6のトランジスタ106がオフする(図4(B)参照)。このと
き、ノードBは、VCCレベルを保持した状態から浮遊状態となる。これにより、第2の
トランジスタ102、第4のトランジスタ104がオンし続ける状態となる(図4(C)
参照)。ただし、図2に示すように、ノードBの電位は、VCCレベルからトランジスタ
のオフ電流等に起因して下降することとなる。
Thereafter, in the second half of the fourth period 54, the fifth input terminal 2 of the first pulse output circuit 10_1 .
5 becomes L level, and the sixth transistor 106 is turned off (see FIG. 4B). At this time, the node B changes from a state where the VCC level is maintained to a floating state. Accordingly, the second transistor 102 and the fourth transistor 104 are kept on (FIG. 4C).
reference). However, as shown in FIG. 2, the potential of the node B drops from the VCC level due to the off-state current of the transistor and the like.
その後、第5の期間55のある期間(第2のクロック信号(CK2)及び第3のクロッ
ク信号(CK3)が共にHレベルであるとき)において、第7のトランジスタ107と第
8のトランジスタ108がオンし、ノードBに定期的にVCCレベルの信号が供給される
(図4(D)参照)。
After that, in a certain period of the fifth period 55 (when the second clock signal (CK2) and the third clock signal (CK3) are both at the H level), the seventh transistor 107 and the eighth transistor 108 are The node is turned on, and a VCC level signal is periodically supplied to the node B (see FIG. 4D).
このように、出力端子26の電位をLレベルに保持する期間にノードBに定期的にHレ
ベルの信号が供給される構成とすることにより、パルス出力回路の誤動作を抑制すること
ができる。また、第7のトランジスタ108と、第8のトランジスタ109のオン又はオ
フを定期的に行うことによって、トランジスタのしきい値電圧のシフトを低減することが
可能となる。
In this manner, by adopting a configuration in which an H level signal is periodically supplied to the node B during a period in which the potential of the output terminal 26 is held at an L level, malfunction of the pulse output circuit can be suppressed. Further, by periodically turning on or off the seventh transistor 108 and the eighth transistor 109, a shift in threshold voltage of the transistors can be reduced.
また、第5の期間55において、ノードBに第5の電源線35からHレベルの信号が供給
されていない間に、第5のトランジスタ105及び第6のトランジスタ106のオフ電流
によって、ノードBの電位が下がることがある。そのため予めノードBに容量素子を設け
、ノードBの電位の下降を緩和する構成としてもよい。
Further, in the fifth period 55, while the H-level signal is not supplied to the node B from the fifth power supply line 35, the off-state current of the fifth transistor 105 and the sixth transistor 106 causes the node B to Potential may drop. For this reason, a capacitor may be provided in advance in the node B so that the decrease in the potential of the node B is alleviated.
また、本実施の形態で示したシフトレジスタは、図5(A)に示すように、第mのパル
ス出力回路から出力されるパルスと第(m+1)のパルス出力回路から出力されるパルス
が半分(1/4周期分)重なった駆動方法を用いている。これは、従来のシフトレジスタ
における第mのパルス出力回路から出力されるパルスと第(m+1)のパルス出力回路か
ら出力されるパルスが重ならない駆動方法(図5(B)参照)と比較して、配線に充電す
る時間を約2倍とすることができる。このように、第mのパルス出力回路から出力される
パルスと第(m+1)のパルス出力回路から出力されるパルスが半分(1/4周期分)重
なった駆動方法を用いることによって、大きな負荷をかけることができ、高い周波数で動
作するパルス出力回路を提供することができる。また、パルス出力回路の動作条件を大き
くすることができる。そのため、電気的特性が劣るアモルファスシリコンを用いた薄膜ト
ランジスタに図5(A)に示す駆動方法を用いることは非常に有効となる。
In the shift register described in this embodiment, as illustrated in FIG. 5A, the pulse output from the mth pulse output circuit and the pulse output from the (m + 1) th pulse output circuit are half. The overlapping driving method (for 1/4 period) is used. This is compared with the driving method (see FIG. 5B) in which the pulse output from the mth pulse output circuit and the pulse output from the (m + 1) th pulse output circuit in the conventional shift register do not overlap. The time for charging the wiring can be approximately doubled. In this way, by using a driving method in which the pulse output from the mth pulse output circuit and the pulse output from the (m + 1) th pulse output circuit overlap by half (for ¼ period), a large load is applied. A pulse output circuit that can be applied and operates at a high frequency can be provided. In addition, the operating conditions of the pulse output circuit can be increased. Therefore, it is very effective to use the driving method shown in FIG. 5A for a thin film transistor using amorphous silicon having poor electrical characteristics.
なお、本実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路は、本明細書中の他の
実施の形態で示すシフトレジスタ及びパルス出力回路の構成と組み合わせて実施すること
が可能である。また、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。本明細書中にお
いて半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置を意味する。
Note that the shift register and the pulse output circuit described in this embodiment can be combined with any structure of the shift register and the pulse output circuit described in other embodiments in this specification. The structure of this embodiment can also be applied to a semiconductor device. In this specification, a semiconductor device means a device that can function by utilizing semiconductor characteristics.
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路と異な
る構成に関して図面を参照して説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, different structures from the shift register and the pulse output circuit described in the above embodiments are described with reference to drawings.
本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス
出力回路10_n(n≧2)と、クロック信号を出力する第1の信号線11〜第4の信号
線14を有している(図6(A)参照)。また、第1のパルス出力回路10_1〜第nの
パルス出力回路10_nの各々は、第1の入力端子21、第2の入力端子22、第3の入
力端子23、第4の入力端子24、第5の入力端子25、第1の出力端子26、第2の出
力端子27を有している(図6(B)参照)。なお、上記実施の形態1で示したパルス出
力回路において、第2の出力端子27が新たに追加された構成となっている。
The shift register described in this embodiment includes a first pulse output circuit 10_1 to an nth pulse output circuit 10_n (n ≧ 2), and first signal lines 11 to 4 for outputting clock signals. It has a line 14 (see FIG. 6A). In addition, each of the first pulse output circuit 10_1 to the nth pulse output circuit 10_n includes a first input terminal 21, a second input terminal 22, a third input terminal 23, and a fourth input terminal 24. , A fifth input terminal 25, a first output terminal 26, and a second output terminal 27 (see FIG. 6B). Note that the second output terminal 27 is newly added to the pulse output circuit shown in the first embodiment.
第1の入力端子21、第2の入力端子22及び第3の入力端子23は、第1の信号線1
1〜第4の信号線14のいずれかと電気的に接続されている。また、本実施の形態で示す
シフトレジスタの第mのパルス出力回路(m≧2)において、第4の入力端子24は第(
m−1)のパルス出力回路の第1の出力端子26と電気的に接続され、第5の入力端子2
5は第(m+2)のパルス出力回路の第1の出力端子26と電気的に接続され、第1の出
力端子26は第(m+1)のパルス出力回路の第4の入力端子24第2の出力端子27は
OUT(m)に信号を出力する。
The first input terminal 21, the second input terminal 22, and the third input terminal 23 are connected to the first signal line 1.
It is electrically connected to any one of the first to fourth signal lines 14. In the m-th pulse output circuit (m ≧ 2) of the shift register described in this embodiment, the fourth input terminal 24 has the (
m-1) is electrically connected to the first output terminal 26 of the pulse output circuit, and the fifth input terminal 2
5 is electrically connected to the first output terminal 26 of the (m + 2) th pulse output circuit, and the first output terminal 26 is the fourth input terminal 24 of the (m + 1) th pulse output circuit and the second output. The terminal 27 outputs a signal to OUT (m).
つまり、本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1の出力端子26と第2の出力端子
27を設け、他のパルス出力回路に信号を出力するための出力端子と外部に信号を出力す
るための出力端子を別に設けた構成となっている。
In other words, the shift register described in this embodiment includes the first output terminal 26 and the second output terminal 27, and outputs an output terminal for outputting a signal to another pulse output circuit and a signal to the outside. The output terminal is provided separately.
次に、本実施の形態で示す第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10
_nの具体的な構成に関して説明する。
Next, the first pulse output circuit 10_1 to the n-th pulse output circuit 10 described in this embodiment.
A specific configuration of _n will be described.
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1のトラ
ンジスタ101〜第9のトランジスタ109、第10のトランジスタ201〜第13のト
ランジスタ204、を有している(図6(C)参照)。本実施の形態で示すパルス出力回
路は、上記実施の形態1で示したパルス出力回路に第10のトランジスタ201〜第13
のトランジスタ204を追加した構成となっている。また、上記実施の形態1で示した第
1の入力端子21〜第5の入力端子25、第1の出力端子26、第1の電源線31〜第6
の電源線36に加え、第2の出力端子27、第7の電源線37〜第9の電源線39から各
トランジスタに信号が供給される。
Each of the pulse output circuit 10 _n of the first pulse output circuit 10 - 1 to the n-th has a first transistor 101 to the ninth transistor 109, the transistor 204 of the tenth transistor 201 to 13, the (See FIG. 6C). The pulse output circuit described in this embodiment is different from the pulse output circuit described in Embodiment 1 in the tenth transistor 201 to the thirteenth.
The transistor 204 is added. In addition, the first input terminal 21 to the fifth input terminal 25, the first output terminal 26, the first power supply line 31 to the sixth power shown in the first embodiment.
In addition to the power supply line 36, signals are supplied to the respective transistors from the second output terminal 27 and the seventh power supply line 37 to the ninth power supply line 39.
第10のトランジスタ201は、第1の電極が第1の入力端子21に電気的に接続され
、第2の電極が第2の出力端子27に電気的に接続され、ゲート電極が第9のトランジス
タ109の第2の電極に電気的に接続されている。第11のトランジスタ202は、第1
の電極が第8の電源線38に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端子27に電気
的に接続され、ゲート電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4のトランジ
スタ104のゲート電極に電気的に接続されている。第12のトランジスタ203は、第
1の電極が第9の電源線39に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端子27に電
気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタ107のゲート電極に電気的に接続さ
れている。第13のトランジスタ204は、第1の電極が第7の電源線37に電気的に接
続され、第2の電極が第1の出力端子26に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトラ
ンジスタ107のゲート電極に電気的に接続されている。
In the tenth transistor 201, the first electrode is electrically connected to the first input terminal 21, the second electrode is electrically connected to the second output terminal 27, and the gate electrode is the ninth transistor. 109 is electrically connected to the second electrode. The eleventh transistor 202 is the first transistor
Are electrically connected to the eighth power supply line 38, the second electrode is electrically connected to the second output terminal 27, and the gate electrode is the gate electrode of the second transistor 102 and the fourth transistor. 104 is electrically connected to the gate electrode. In the twelfth transistor 203, the first electrode is electrically connected to the ninth power supply line 39, the second electrode is electrically connected to the second output terminal 27, and the gate electrode is the seventh transistor. The gate electrode 107 is electrically connected. In the thirteenth transistor 204, the first electrode is electrically connected to the seventh power supply line 37, the second electrode is electrically connected to the first output terminal 26, and the gate electrode is the seventh transistor. The gate electrode 107 is electrically connected.
また、第7の電源線37〜第9の電源線39には、第2の電源線32〜第4の電源線34
と同様にV2の電位(VSS)が供給される構成とすることができる。
The seventh power supply line 37 to the ninth power supply line 39 include the second power supply line 32 to the fourth power supply line 34.
Similarly to the above, a configuration in which the potential (VSS) of V2 is supplied can be employed.
第1の出力端子26と第2の出力端子27は、同一の信号が出力されるように設けられて
おり、第3のトランジスタ103に第10のトランジスタ201が対応し、第4のトラン
ジスタ104に第11のトランジスタ202が対応する構成となっている。つまり、第1
0のトランジスタ201は第3のトランジスタ103と同様にブートストラップ動作を行
う。なお、第10のトランジスタ201のブートストラップ動作は、第10のトランジス
タ201のゲート電極と第2の電極との間の寄生容量の容量結合によって行えばよい。な
お、別途容量素子を設ける構成としてもよい。
The first output terminal 26 and the second output terminal 27 are provided so that the same signal is output, the tenth transistor 201 corresponds to the third transistor 103, and the fourth transistor 104 The eleventh transistor 202 has a corresponding configuration. That is, the first
The zero transistor 201 performs a bootstrap operation in the same manner as the third transistor 103. Note that the bootstrap operation of the tenth transistor 201 may be performed by capacitive coupling of parasitic capacitance between the gate electrode and the second electrode of the tenth transistor 201. Note that a structure in which a capacitor is additionally provided may be employed.
第12のトランジスタ203と第13のトランジスタ204は、走査線の電位の立ち下が
り時間を短くするのに用いられる。第12のトランジスタ203と第13のトランジスタ
204で十分に走査線の電位の立ち下がり時間を短くできれば、第4のトランジスタ10
4,第11のトランジスタ202で走査線の電位の立ち下がり時間を短くする必要はなく
なるので第5の電源線35の電位を第1の電源線31の電源より低く設定することもでき
る。これは、第4のトランジスタ104、第11のトランジスタ202、第2のトランジ
スタ102のしきい値電圧のシフトを軽減することが可能になる。
The twelfth transistor 203 and the thirteenth transistor 204 are used to shorten the falling time of the potential of the scanning line. If the twelfth transistor 203 and the thirteenth transistor 204 can sufficiently shorten the fall time of the potential of the scanning line, the fourth transistor 10
4 and the eleventh transistor 202 need not shorten the falling time of the potential of the scanning line, so that the potential of the fifth power supply line 35 can be set lower than the power supply of the first power supply line 31. This makes it possible to reduce a shift in threshold voltage of the fourth transistor 104, the eleventh transistor 202, and the second transistor 102.
なお、本実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路は、本明細書中の他の
実施の形態で示すシフトレジスタ及びパルス出力回路の構成と組み合わせて実施すること
が可能である。また、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。
Note that the shift register and the pulse output circuit described in this embodiment can be combined with any structure of the shift register and the pulse output circuit described in other embodiments in this specification. The structure of this embodiment can also be applied to a semiconductor device.
(実施の形態3)
本実施の形態では、上記実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路と異な
る構成に関して説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, structures that are different from those of the shift register and the pulse output circuit described in the above embodiments are described.
上記実施の形態1、実施の形態2において示した構成では、回路は全てNチャネル型薄
膜トランジスタを用いて構成した例を示したが、単極性の薄膜トランジスタを用いるとい
う点で、Pチャネル型の薄膜トランジスタのみを用いて同様の構成としてもよい。特に図
示はしないが、図1(C)又は図6(C)で示した図において、トランジスタの接続は同
様とし、電源線の電位の高低を実施の形態1及び実施の形態2で説明した場合と逆にすれ
ばよい。また、入力される信号のHレベルとLレベルを全て逆として入力される構成とす
ればよい。なお、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。
In the structures described in Embodiments 1 and 2 above, an example in which all circuits are formed using N-channel thin film transistors has been described. However, only P-channel thin film transistors are used in that unipolar thin film transistors are used. A similar configuration may be used. Although not particularly illustrated, in the diagram illustrated in FIG. 1C or FIG. 6C, the connection of the transistors is the same, and the potential of the power supply line is described in Embodiment Mode 1 and Embodiment Mode 2. And reverse. Further, a configuration may be adopted in which the H level and the L level of the input signal are all reversed. Note that the structure of this embodiment can also be applied to a semiconductor device.
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
Note that the contents described in each drawing in this embodiment can be freely combined with or replaced with the contents described in any of the other embodiments as appropriate.
(実施の形態4)
上記実施の形態で示したシフトレジスタを表示装置に設ける構成に関して図面を参照し
て説明する。
(Embodiment 4)
A structure in which the shift register described in any of the above embodiments is provided in a display device is described with reference to drawings.
図7(A)において、基板1107上に、複数の画素1101がマトリクス状に配置さ
れた画素部1102を有し、画素部1102の周辺には、信号線駆動回路1103、第1
の走査線駆動回路1104及び第2の走査線駆動回路1105を有する。これらの駆動回
路は、FPC1106を介して外部より信号が供給される。
In FIG. 7A, a pixel portion 1102 in which a plurality of pixels 1101 are arranged in a matrix is provided over a substrate 1107. A signal line driver circuit 1103 and a first pixel portion 1102 are provided around the pixel portion 1102.
Scanning line driver circuit 1104 and second scanning line driver circuit 1105. These drive circuits are supplied with signals from the outside via the FPC 1106.
図7(B)には、第1の走査線駆動回路1104及び第2の走査線駆動回路1105の
構成を示す。走査線駆動回路1104、1105は、シフトレジスタ1114、バッファ
1115を有する。また、図7(C)には、信号線駆動回路1103の構成を示す。信号
線駆動回路1103はシフトレジスタ1111、第1のラッチ回路1112、第2のラッ
チ回路1113、バッファ1117を有する。
FIG. 7B illustrates a structure of the first scan line driver circuit 1104 and the second scan line driver circuit 1105. The scan line driver circuits 1104 and 1105 each include a shift register 1114 and a buffer 1115. FIG. 7C illustrates the structure of the signal line driver circuit 1103. The signal line driver circuit 1103 includes a shift register 1111, a first latch circuit 1112, a second latch circuit 1113, and a buffer 1117.
本実施の形態で示すシフトレジスタとして動作する回路は、上記シフトレジスタ111
1、及びシフトレジスタ1114の回路に適用することができる。上記実施の形態で示し
たシフトレジスタとして動作する回路を適用することによって、アモルファスシリコンを
用いた薄膜トランジスタで当該シフトレジスタとして動作する回路を設けた場合であって
も高い周波数で動作させることができる。また酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで
当該シフトレジスタとして動作する回路を設けることも可能である。酸化物半導体を用い
た薄膜トランジスタは、オフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高め
ることができ、またアモルファスシリコンと比べて劣化の度合いを低減することが出来る
ため、回路内の誤動作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路とすることがで
きる。
The circuit which operates as the shift register described in this embodiment includes the shift register 111 described above.
1 and the circuit of the shift register 1114. By applying the circuit that operates as the shift register described in the above embodiment mode, even when a circuit that operates as the shift register is provided using a thin film transistor using amorphous silicon, the circuit can be operated at a high frequency. A circuit that operates as the shift register can be provided using a thin film transistor including an oxide semiconductor. A thin film transistor using an oxide semiconductor can reduce off-state current, increase on-state current and field-effect mobility, and reduce the degree of deterioration compared to amorphous silicon. Thus, a driving circuit that guarantees a more accurate operation can be obtained.
なお、走査線駆動回路と信号線駆動回路の構成は、図7に示した構成に限定されず、例
えばサンプリング回路やレベルシフタなどを具備していてもよい。また、上記駆動回路以
外に、CPUやコントローラなどの回路を基板1107に一体形成してもよい。そうする
と、接続する外部回路(IC)の個数が減少し、軽量、薄型がさらに図れるため、携帯端
末などには特に有効である。
Note that the configurations of the scan line driver circuit and the signal line driver circuit are not limited to those shown in FIG. 7, and may include, for example, a sampling circuit or a level shifter. In addition to the driving circuit, a circuit such as a CPU or a controller may be integrally formed on the substrate 1107. Then, the number of external circuits (IC) to be connected is reduced, and the weight and thickness can be further increased.
なお、本実施の形態で示した表示装置は、本明細書中の他の実施の形態で示すシフトレ
ジスタ、パルス出力回路又は表示装置の構成と組み合わせて実施することが可能である。
Note that the display device described in this embodiment can be implemented in combination with the structure of the shift register, the pulse output circuit, or the display device described in other embodiments in this specification.
(実施の形態5)
本実施の形態では、上記実施の形態4で示した表示装置に用いる表示パネルの構成につ
いて図面を参照して説明する。
(Embodiment 5)
In this embodiment, a structure of a display panel used for the display device described in Embodiment 4 is described with reference to drawings.
まず、表示装置に適用可能な表示パネルについて図8を用いて説明する。なお、図8(
A)は、表示パネルを示す上面図、図8(B)は図8(A)をA−A’で切断した断面図
である。点線で示された信号線駆動回路3601、画素部3602、第2の走査線駆動回
路3603、第1の走査線駆動回路3606を有する。また、封止基板3604、シール
材3605を有し、シール材3605で囲まれた内側は、空間3607になっている。
First, a display panel applicable to the display device will be described with reference to FIG. In addition, FIG.
FIG. 8A is a top view showing a display panel, and FIG. 8B is a cross-sectional view of FIG. 8A cut along AA ′. A signal line driver circuit 3601, a pixel portion 3602, a second scan line driver circuit 3603, and a first scan line driver circuit 3606 indicated by dotted lines are included. Further, a sealing substrate 3604 and a sealing material 3605 are provided, and an inner side surrounded by the sealing material 3605 is a space 3607.
なお、配線3608は第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路3606
及び信号線駆動回路3601に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端
子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)3609からビデオ信号、クロック
信号、スタート信号等を受け取る。FPC3609と表示パネルとの接合部上にはICチ
ップ(メモリ回路や、バッファ回路などが形成された半導体チップ)3618及びICチ
ップ3619がCOG(Chip On Glass)等で実装されている。なお、ここ
ではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り
付けられていても良い。本明細書における表示装置とは、表示パネル本体だけでなく、そ
れにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。また、ICチップ
などが実装されたものを含むものとする。
Note that the wiring 3608 includes a second scan line driver circuit 3603 and a first scan line driver circuit 3606.
And a wiring for transmitting a signal input to the signal line driver circuit 3601, and receives a video signal, a clock signal, a start signal, and the like from an FPC (flexible printed circuit) 3609 serving as an external input terminal. An IC chip (a semiconductor chip in which a memory circuit, a buffer circuit, or the like is formed) 3618 and an IC chip 3619 are mounted on a joint portion between the FPC 3609 and the display panel by a COG (Chip On Glass) or the like. Although only the FPC is shown here, a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC. The display device in this specification includes not only a display panel body but also a state in which an FPC or a PWB is attached thereto. In addition, it is assumed that an IC chip or the like is mounted.
次に、断面構造について図8(B)を用いて説明する。基板3610上には画素部36
02とその周辺駆動回路(第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路360
6及び信号線駆動回路3601)が形成されているが、ここでは、信号線駆動回路360
1と、画素部3602が示されている。
Next, a cross-sectional structure is described with reference to FIG. A pixel portion 36 is provided on the substrate 3610.
02 and its peripheral driving circuit (second scanning line driving circuit 3603, first scanning line driving circuit 360
6 and the signal line driver circuit 3601). Here, the signal line driver circuit 360 is formed.
1 and a pixel portion 3602 are shown.
なお、信号線駆動回路3601はNチャネル型TFT3620やPチャネル型TFT3
621を用いてCMOS回路を構成している。また、本実施の形態では、基板上に周辺駆
動回路を一体形成した表示パネルを示すが、必ずしもその必要はなく、周辺駆動回路の全
部若しくは一部をICチップなどに形成し、COGなどで実装しても良い。
Note that the signal line driver circuit 3601 includes an N-channel TFT 3620 and a P-channel TFT 3.
A CMOS circuit is configured using 621. In this embodiment mode, a display panel in which a peripheral drive circuit is integrally formed on a substrate is shown; however, it is not always necessary, and all or a part of the peripheral drive circuit is formed on an IC chip or the like and mounted by COG or the like. You may do it.
また、画素部3602はスイッチング用TFT3611と、駆動用TFT3612とを
含む画素を構成する複数の回路を有している。なお、駆動用TFT3612のソース電極
は第1の電極3613と電気的に接続されている。また、第1の電極3613の端部を覆
って絶縁物3614が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用い
ることにより形成する。
The pixel portion 3602 includes a plurality of circuits that form a pixel including a switching TFT 3611 and a driving TFT 3612. Note that the source electrode of the driving TFT 3612 is electrically connected to the first electrode 3613. An insulator 3614 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 3613. Here, a positive photosensitive acrylic resin film is used.
また、カバレッジを良好なものとするため、絶縁物3614の上端部または下端部に曲
率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物3614の材料としてポジ型の
感光性アクリルを用いた場合、絶縁物3614の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3
μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物3614として、感光性の
光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解
性となるポジ型のいずれも使用することができる。
In order to improve the coverage, a curved surface having a curvature is formed at the upper end portion or the lower end portion of the insulator 3614. For example, in the case where positive photosensitive acrylic is used as a material for the insulator 3614, only the upper end portion of the insulator 3614 has a curvature radius (0.2 μm to 3 μm).
It is preferable to have a curved surface having a thickness of μm). As the insulator 3614, either a negative type that becomes insoluble in an etchant by photosensitive light or a positive type that becomes soluble in an etchant by light can be used.
第1の電極3613上には、有機化合物を含む層3616、および第2の電極3617
がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極3613に用いる材
料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウ
ムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)膜、窒化チタン膜、クロム膜、タン
グステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とす
る膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構
造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好な
オーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
A layer 3616 containing an organic compound and a second electrode 3617 are formed over the first electrode 3613.
Are formed respectively. Here, as a material used for the first electrode 3613 which functions as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, ITO (Indium Tin Oxide) film, Indium Zinc Oxide (IZO) film, Titanium nitride film, Chromium film, Tungsten film, Zn film, Pt film, etc., as well as titanium nitride and aluminum as main components And a three-layer structure of a titanium nitride film, a film containing aluminum as its main component, and a titanium nitride film can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained.
また、有機化合物を含む層3616は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェ
ット法によって形成される。有機化合物を含む層3616には、元素周期表第4族金属錯
体をその一部に用いることとし、その他、組み合わせて用いることのできる材料としては
、低分子系材料であっても高分子系材料であっても良い。また、有機化合物を含む層に用
いる材料としては、通常、有機化合物を単層もしくは積層で用いる場合が多いが、本実施
の形態においては、有機化合物からなる膜の一部に無機化合物を用いる構成も含めること
とする。さらに、公知の三重項材料を用いることも可能である。
The layer 3616 containing an organic compound is formed by an evaporation method using an evaporation mask or an inkjet method. For the layer 3616 containing an organic compound, a Group 4 metal complex of the periodic table of elements is used as a part thereof, and other materials that can be used in combination include high molecular weight materials even if they are low molecular weight materials. It may be. In addition, as a material used for a layer containing an organic compound, an organic compound is usually used in a single layer or a stacked layer. However, in this embodiment, an inorganic compound is used for part of a film made of an organic compound. Will also be included. Further, a known triplet material can be used.
さらに、有機化合物を含む層3616上に形成される第2の電極(陰極)3617に用
いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合
金MgAg、MgIn、AlLi、CaF2、または窒化カルシウム)を用いればよい。
なお、有機化合物を含む層3616で生じた光が第2の電極3617を透過させる場合に
は、第2の電極(陰極)3617として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(IT
O(インジウムスズ酸化物)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In2O3―ZnO)、酸
化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。
Further, as a material used for the second electrode (cathode) 3617 formed over the layer 3616 containing an organic compound, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or an alloy thereof MgAg, MgIn, AlLi, or the like) , CaF 2 , or calcium nitride) may be used.
Note that in the case where light generated in the layer 3616 containing an organic compound transmits the second electrode 3617, the second electrode (cathode) 3617 includes a thin metal film and a transparent conductive film (IT
A stacked layer of O (indium tin oxide), an indium zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO), zinc oxide (ZnO), or the like is preferably used.
さらにシール材3605で封止基板3604を基板3610と貼り合わせることにより
、基板3610、封止基板3604、およびシール材3605で囲まれた空間3607に
表示素子3622が備えられた構造になっている。なお、空間3607には、不活性気体
(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材3605で充填される構成も含む
ものとする。
Further, the sealing substrate 3604 is bonded to the substrate 3610 with the sealant 3605, whereby the display element 3622 is provided in the space 3607 surrounded by the substrate 3610, the seal substrate 3604, and the sealant 3605. Note that the space 3607 includes a structure filled with a sealant 3605 in addition to a case where the space 3607 is filled with an inert gas (such as nitrogen or argon).
なお、シール材3605にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材
料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板36
04に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−R
einforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエス
テルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
Note that an epoxy-based resin is preferably used for the sealant 3605. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible. Further, the sealing substrate 36
In addition to a glass substrate and a quartz substrate as materials used for 04, FRP (Fiberglass-R)
It is possible to use a plastic substrate made of einforced plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic, or the like.
以上のようにして、表示パネルを得ることができる。 A display panel can be obtained as described above.
図8に示すように、信号線駆動回路3601、画素部3602、第2の走査線駆動回路
3603及び第1の走査線駆動回路3606を一体形成することで、表示装置の低コスト
化が図れる。
As shown in FIG. 8, the signal line driver circuit 3601, the pixel portion 3602, the second scan line driver circuit 3603, and the first scan line driver circuit 3606 are integrally formed, whereby the cost of the display device can be reduced.
なお、表示パネルの構成としては、図8(A)に示したように信号線駆動回路3601
、画素部3602、第2の走査線駆動回路3603及び第1の走査線駆動回路3606を
一体形成した構成に限られず、信号線駆動回路3601に相当する図9(A)に示す信号
線駆動回路4201をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成と
しても良い。なお、図9(A)の基板4200、画素部4202、第2の走査線駆動回路
4203、第1の走査線駆動回路4204、FPC4205、ICチップ4206、IC
チップ4207、封止基板4208、シール材4209は図8(A)の基板3610、画
素部3602、第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路3606、FPC
3609、ICチップ3618、ICチップ3619、封止基板3604、シール材36
05に相当する。
Note that as the structure of the display panel, a signal line driver circuit 3601 as shown in FIG.
The signal line driver circuit shown in FIG. 9A corresponding to the signal line driver circuit 3601 is not limited to the structure in which the pixel portion 3602, the second scan line driver circuit 3603, and the first scan line driver circuit 3606 are integrally formed. 4201 may be formed over the IC chip and mounted on the display panel with COG or the like. Note that the substrate 4200, the pixel portion 4202, the second scan line driver circuit 4203, the first scan line driver circuit 4204, the FPC 4205, the IC chip 4206, and the IC in FIG.
The chip 4207, the sealing substrate 4208, and the sealant 4209 are the substrate 3610, the pixel portion 3602, the second scan line driver circuit 3603, the first scan line driver circuit 3606, and the FPC in FIG.
3609, IC chip 3618, IC chip 3619, sealing substrate 3604, sealing material 36
Corresponds to 05.
つまり、駆動回路のうちで高速動作が要求される信号線駆動回路のみを、CMOS等を
用いてICチップに形成し、低消費電力化を図る。また、ICチップはシリコンウエハ等
の半導体チップとすることで、より高速動作且つ低消費電力化を図れる。
That is, only the signal line driver circuit that requires high-speed operation among the driver circuits is formed on the IC chip using a CMOS or the like to reduce power consumption. Further, by using a semiconductor chip such as a silicon wafer as the IC chip, higher speed operation and lower power consumption can be achieved.
そして、上記実施の形態で示したシフトレジスタが設けられた第1の走査線駆動回路4
203や第2の走査線駆動回路4204を画素部4202と一体形成することで、低コス
ト化が図れる。
Then, the first scanning line driving circuit 4 provided with the shift register described in the above embodiment.
The cost can be reduced by integrally forming 203 and the second scan line driver circuit 4204 with the pixel portion 4202.
こうして、高精細な表示装置の低コスト化が図れる。また、FPC4205と基板42
00との接続部において機能回路(メモリやバッファ)が形成されたICチップを実装す
ることで基板面積を有効利用することができる。
Thus, the cost of a high-definition display device can be reduced. Also, the FPC 4205 and the substrate 42
By mounting an IC chip in which a functional circuit (memory or buffer) is formed at a connection portion with 00, the board area can be effectively used.
また、図8(A)の信号線駆動回路3601、第2の走査線駆動回路3603及び第1
の走査線駆動回路3606に相当する図9(B)の信号線駆動回路4211、第2の走査
線駆動回路4214及び第1の走査線駆動回路4213をICチップ上に形成して、CO
G等で表示パネルに実装した構成としても良い。この場合には高精細な表示装置をより低
消費電力にすることが可能である。よって、より消費電力が少ない表示装置とするため、
画素部に用いられるトランジスタの半導体層にはポリシリコンを用いることが望ましい。
なお、図9(B)の基板4210、画素部4212、FPC4215、ICチップ421
6、ICチップ4217、封止基板4218、シール材4219は図8(A)の基板36
10、画素部3602、FPC3609、ICチップ3618、ICチップ3619、封
止基板3604、シール材3605に相当する。
In addition, the signal line driver circuit 3601, the second scan line driver circuit 3603, and the first circuit in FIG.
A signal line driver circuit 4211, a second scan line driver circuit 4214, and a first scan line driver circuit 4213 in FIG. 9B corresponding to the scan line driver circuit 3606 of FIG.
A configuration may be adopted in which the display panel is mounted with G or the like. In this case, a high-definition display device can have lower power consumption. Therefore, in order to obtain a display device with lower power consumption,
Polysilicon is preferably used for a semiconductor layer of a transistor used in the pixel portion.
Note that the substrate 4210, the pixel portion 4212, the FPC 4215, and the IC chip 421 in FIG.
6, the IC chip 4217, the sealing substrate 4218, and the sealing material 4219 are the substrate 36 shown in FIG.
10 corresponds to a pixel portion 3602, an FPC 3609, an IC chip 3618, an IC chip 3619, a sealing substrate 3604, and a sealing material 3605.
また、画素部4212のトランジスタの半導体層にアモルファスシリコンを用いること
により低コスト化を図ることができる。さらに、大型の表示パネルを作製することも可能
となる。また酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで画素部のトランジスタ及びシフト
レジスタを構成するトランジスタを用いることも可能である。酸化物半導体を用いた薄膜
トランジスタは、オフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高めること
ができ、またアモルファスシリコンと比べて劣化の度合いを低減することが出来るため、
回路内の誤動作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路とすることができる。
In addition, cost can be reduced by using amorphous silicon for the semiconductor layer of the transistor in the pixel portion 4212. Further, a large display panel can be manufactured. Alternatively, a transistor in a pixel portion and a transistor included in a shift register can be used as a thin film transistor including an oxide semiconductor. A thin film transistor using an oxide semiconductor can reduce off-state current, increase on-state current and field-effect mobility, and reduce the degree of deterioration compared to amorphous silicon.
It is possible to reduce a malfunction in the circuit and to make a drive circuit that guarantees a more accurate operation.
さらに、表示素子3622に適用可能な表示素子の例を図13(A)、(B)に示す。
つまり、上記実施の形態で示した画素に適用可能な表示素子の構成について図13(A)
、(B)を用いて説明する。
Further, examples of display elements applicable to the display element 3622 are shown in FIGS.
That is, FIG. 13A illustrates a structure of a display element that can be applied to the pixel described in the above embodiment mode.
, (B) will be described.
図13(A)の表示素子は、基板4401の上に陽極4402、正孔注入材料からなる
正孔注入層4403、その上に正孔輸送材料からなる正孔輸送層4404、発光層440
5、電子輸送材料からなる電子輸送層4406、電子注入材料からなる電子注入層440
7、そして陰極4408を積層させた素子構造である。ここで、発光層4405は、一種
類の発光材料のみから形成されることもあるが、2種類以上の材料から形成されてもよい
。また素子の構造は、この構造に限定されない。
13A, an anode 4402 over a substrate 4401, a hole injection layer 4403 made of a hole injection material, a hole transport layer 4404 made of a hole transport material thereon, and a light emitting layer 440 are formed.
5. Electron transport layer 4406 made of electron transport material, electron injection layer 440 made of electron injection material
7 and a device structure in which a cathode 4408 is laminated. Here, the light emitting layer 4405 may be formed of only one kind of light emitting material, but may be formed of two or more kinds of materials. Further, the structure of the element is not limited to this structure.
また、図13(A)、15(B)で示した各機能層を積層した積層構造の他、高分子化
合物を用いた素子、発光層に三重項励起状態から発光する三重項発光材料を利用した高効
率素子など、バリエーションは多岐にわたる。ホールブロック層によってキャリヤの再結
合領域を制御し、発光領域を二つの領域にわけることによって得られる白色表示素子など
にも応用可能である。
In addition to the stacked structure in which the functional layers shown in FIGS. 13A and 13B are stacked, an element using a polymer compound and a triplet light emitting material that emits light from a triplet excited state are used in the light emitting layer. There are many variations, such as high-efficiency elements. The present invention can also be applied to a white display element obtained by controlling the carrier recombination region by the hole blocking layer and dividing the light emitting region into two regions.
図13(A)に示す素子作製方法は、まず、陽極4402(ITO)を有する基板44
01に正孔注入材料、正孔輸送材料、発光材料を順に蒸着する。次に電子輸送材料、電子
注入材料を蒸着し、最後に陰極4408を蒸着で形成する。
In the element manufacturing method shown in FIG. 13A, first, a substrate 44 having an anode 4402 (ITO).
A hole injecting material, a hole transporting material, and a light emitting material are sequentially deposited on 01. Next, an electron transport material and an electron injection material are vapor-deposited, and finally a cathode 4408 is formed by vapor deposition.
次に、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料の材料に
好適な材料を以下に列挙する。
Next, materials suitable for the hole injection material, the hole transport material, the electron transport material, the electron injection material, and the light emitting material are listed below.
正孔注入材料としては、有機化合物であればポルフィリン系の化合物や、フタロシアニ
ン(以下「H2Pc」と記す)、銅フタロシアニン(以下「CuPc」と記す)などが有
効である。また、使用する正孔輸送材料よりもイオン化ポテンシャルの値が小さく、かつ
、正孔輸送機能をもつ材料であれば、これも正孔注入材料として使用できる。導電性高分
子化合物に化学ドーピングを施した材料もあり、ポリスチレンスルホン酸(以下「PSS
」と記す)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(以下「PEDOT」と記す)
や、ポリアニリンなどが挙げられる。また、絶縁体の高分子化合物も陽極の平坦化の点で
有効であり、ポリイミド(以下「PI」と記す)がよく用いられる。さらに、無機化合物
も用いられ、金や白金などの金属薄膜の他、酸化アルミニウム(以下「アルミナ」と記す
)の超薄膜などがある。
As the hole injection material, porphyrin compounds, phthalocyanine (hereinafter referred to as “H 2 Pc”), copper phthalocyanine (hereinafter referred to as “CuPc”), and the like are effective as long as they are organic compounds. In addition, any material that has a smaller ionization potential than the hole transport material used and has a hole transport function can also be used as the hole injection material. There is also a material in which a conductive polymer compound is chemically doped, such as polystyrene sulfonic acid (hereinafter referred to as “PSS”).
) -Doped polyethylene dioxythiophene (hereinafter referred to as “PEDOT”)
And polyaniline. An insulating polymer compound is also effective in terms of planarization of the anode, and polyimide (hereinafter referred to as “PI”) is often used. In addition, inorganic compounds are also used. In addition to metal thin films such as gold and platinum, there are ultra thin films of aluminum oxide (hereinafter referred to as “alumina”).
正孔輸送材料として最も広く用いられているのは、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼ
ン環−窒素の結合を有するもの)の化合物である。広く用いられている材料として、4,
4’−ビス(ジフェニルアミノ)−ビフェニル(以下、「TAD」と記す)や、その誘導
体である4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフ
ェニル(以下、「TPD」と記す)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェ
ニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「α−NPD」と記す)がある。4,4’,4”−
トリス(N,N− ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(以下、「TDATA」
と記す)、4,4’,4”−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N− フェニル−ア
ミノ]−トリフェニルアミン(以下、「MTDATA」と記す)などのスターバースト型
芳香族アミン化合物が挙げられる。
The most widely used hole transport material is an aromatic amine-based compound (that is, a compound having a benzene ring-nitrogen bond). As widely used materials, 4,
4′-bis (diphenylamino) -biphenyl (hereinafter referred to as “TAD”) and its derivative 4,4′-bis [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl ( Hereinafter referred to as “TPD”) and 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (hereinafter referred to as “α-NPD”). 4,4 ', 4 "-
Tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine (hereinafter “TDATA”)
), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -triphenylamine (hereinafter referred to as “MTDATA”) Compounds.
電子輸送材料としては、金属錯体がよく用いられ、Alq、BAlq、トリス(4−メ
チル−8−キノリノラト)アルミニウム(以下、「Almq」と記す)、ビス(10−ヒ
ドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(以下、「BeBq」と記す)などのキ
ノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体などがある。また、ビス[2−(
2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BOX)2」と
記す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(以下、「Z
n(BTZ)2」と記す)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体
もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−
ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下、「PBD」と記す)、OXD
−7などのオキサジアゾール誘導体、TAZ、3−(4−tert−ブチルフェニル)−
4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(
以下、「p−EtTAZ」と記す)などのトリアゾール誘導体、バソフェナントロリン(
以下、「BPhen」と記す)、BCPなどのフェナントロリン誘導体が電子輸送性を有
する。
As an electron transport material, a metal complex is often used, and Alq, BAlq, tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as “Almq”), bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) There are metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton such as beryllium (hereinafter referred to as “BeBq”). Also, bis [2- (
2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (hereinafter referred to as “Zn (BOX) 2 ”), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (hereinafter referred to as “Z
There are also metal complexes having an oxazole-based or thiazole-based ligand, such as “n (BTZ) 2 ”). In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-
Butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (hereinafter referred to as “PBD”), OXD
Oxadiazole derivatives such as -7, TAZ, 3- (4-tert-butylphenyl)-
4- (4-Ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (
Hereinafter, triazole derivatives such as “p-EtTAZ”), bathophenanthroline (
Hereinafter, phenanthroline derivatives such as “BPhen” and BCP have electron transport properties.
電子注入材料としては、上で述べた電子輸送材料を用いることができる。その他に、フ
ッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウムなどの金属ハロゲン化物や、酸化リチ
ウムなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の、超薄膜がよく用いられる。また、リチ
ウムアセチルアセトネート(以下、「Li(acac)」と記す)や8−キノリノラト−
リチウム(以下、「Liq」と記す)などのアルカリ金属錯体も有効である。
The electron transport material described above can be used as the electron injection material. In addition, an ultra-thin film of an insulator such as a metal halide such as calcium fluoride, lithium fluoride, or cesium fluoride, or an alkali metal oxide such as lithium oxide is often used. Further, lithium acetylacetonate (hereinafter referred to as “Li (acac)”) or 8-quinolinolato-
An alkali metal complex such as lithium (hereinafter referred to as “Liq”) is also effective.
発光材料としては、Alq、Almq、BeBq、BAlq、Zn(BOX)2、Zn
(BTZ)2などの金属錯体の他、各種蛍光色素が有効である。蛍光色素としては、青色
の4,4’−ビス(2,2 − ジフェニル−ビニル)−ビフェニルや、赤橙色の4−(
ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン
などがある。また、三重項発光材料も可能であり、白金ないしはイリジウムを中心金属と
する錯体が主体である。三重項発光材料として、トリス(2−フェニルピリジン)イリジ
ウム、ビス(2−(4’−トリル)ピリジナト−N,C2’)アセチルアセトナトイリジ
ウム(以下「acacIr(tpy)2」と記す)、 2,3,7,8,12,13,1
7,18−オクタエチル−21H,23Hポルフィリン−白金などが知られている。
As light emitting materials, Alq, Almq, BeBq, BAlq, Zn (BOX) 2 , Zn
In addition to metal complexes such as (BTZ) 2 , various fluorescent dyes are effective. Fluorescent dyes include blue 4,4′-bis (2,2-diphenyl-vinyl) -biphenyl and red-orange 4- (
And dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran. A triplet light emitting material is also possible, and is mainly a complex having platinum or iridium as a central metal. As the triplet light emitting material, tris (2-phenylpyridine) iridium, bis (2- (4′-tolyl) pyridinato-N, C 2 ′ ) acetylacetonatoiridium (hereinafter referred to as “acacIr (tpy) 2 ”), 2, 3, 7, 8, 12, 13, 1
7,18-octaethyl-21H, 23H porphyrin-platinum and the like are known.
以上で述べたような各機能を有する材料を、各々組み合わせ、高信頼性の表示素子を作
製することができる。
A highly reliable display element can be manufactured by combining the materials having the functions described above.
また、上記実施の形態で示した画素構成の駆動トランジスタの極性を変更し、Nチャネ
ル型のトランジスタにして、表示素子の対向電極の電位と電源線に設定する電位との高低
を逆にすれば、図13(A)とは逆の順番に層を形成した表示素子を用いることができる
。つまり、図13(B)に示すように、基板4401の上に陰極4408、電子注入材料
からなる電子注入層4407、その上に電子輸送材料からなる電子輸送層4406、発光
層4405、正孔輸送材料からなる正孔輸送層4404、正孔注入材料からなる正孔注入
層4403、そして陽極4402を積層させた素子構造である。
In addition, if the polarity of the driving transistor having the pixel structure described in the above embodiment is changed to be an N-channel transistor, the potential of the counter electrode of the display element and the potential set to the power supply line are reversed. A display element in which layers are formed in the reverse order of FIG. 13A can be used. That is, as shown in FIG. 13B, a cathode 4408 over an substrate 4401, an electron injection layer 4407 made of an electron injection material, an electron transport layer 4406 made of an electron transport material, a light emitting layer 4405, and a hole transport. In this element structure, a hole transport layer 4404 made of a material, a hole injection layer 4403 made of a hole injection material, and an anode 4402 are laminated.
また、表示素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であれば
よい。そして、基板上にTFT及び表示素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り
出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側
の面から発光を取り出す両面射出構造の表示素子があり、上記実施の形態で示した画素構
成はどの射出構造の表示素子にも適用することができる。
Further, in order to extract light emission from the display element, at least one of the anode and the cathode only needs to be transparent. Then, a TFT and a display element are formed on the substrate, and a top emission that extracts light emission from a surface opposite to the substrate, a bottom emission that extracts light emission from a surface on the substrate side, and a surface opposite to the substrate side and the substrate. There is a display element having a dual emission structure in which light emission is extracted from the pixel, and the pixel structure described in the above embodiment can be applied to a display element having any emission structure.
上面射出構造の表示素子について図10(A)を用いて説明する。 A display element having a top emission structure will be described with reference to FIG.
基板4500上に下地膜4505を介して駆動用TFT4501が形成され、駆動用T
FT4501のソース電極に接して第1の電極4502が形成され、その上に有機化合物
を含む層4503と第2の電極4504が形成されている。
A driving TFT 4501 is formed on the substrate 4500 with a base film 4505 interposed therebetween.
A first electrode 4502 is formed in contact with the source electrode of the FT 4501, and a layer 4503 containing an organic compound and a second electrode 4504 are formed thereover.
また、第1の電極4502は表示素子の陽極である。そして第2の電極4504は表示
素子の陰極である。つまり、第1の電極4502と第2の電極4504とで有機化合物を
含む層4503が挟まれているところが表示素子となる。
The first electrode 4502 is an anode of the display element. The second electrode 4504 is a cathode of the display element. That is, a display element is a portion where the layer 4503 containing an organic compound is sandwiched between the first electrode 4502 and the second electrode 4504.
また、ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関
数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、窒化チタン膜、クロム膜、タングステ
ン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜と
の積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を
用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミ
ックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。光を反射する金属膜
を用いることで光を透過させない陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the first electrode 4502 functioning as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, in addition to a single layer film such as a titanium nitride film, a chromium film, a tungsten film, a Zn film, or a Pt film, a stack of titanium nitride and a film containing aluminum as a main component, a film containing a titanium nitride film and aluminum as a main component A three-layer structure of titanium nitride film and the like can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained. By using a metal film that reflects light, an anode that does not transmit light can be formed.
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF2、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウ
ムスズ酸化物)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を
用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光
を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
As a material used for the second electrode 4504 functioning as a cathode, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or alloys thereof such as MgAg, MgIn, AlLi,
It is preferable to use a stack of a metal thin film made of CaF 2 or calcium nitride and a transparent conductive film (ITO (indium tin oxide), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), or the like). Thus, a cathode capable of transmitting light can be formed by using a thin metal thin film and a transparent conductive film having transparency.
こうして、図10(A)の矢印に示すように表示素子からの光を上面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、封止基板3604側に光が
射出することになる。従って上面射出構造の表示素子を表示装置に用いる場合には封止基
板3604は光透過性を有する基板を用いる。
In this manner, light from the display element can be extracted from the top surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel in FIG. 8, light is emitted to the sealing substrate 3604 side. Therefore, when a display element having a top emission structure is used for a display device, the sealing substrate 3604 is a light-transmitting substrate.
また、光学フィルムを設ける場合には、封止基板3604に光学フィルムを設ければよ
い。
In the case where an optical film is provided, an optical film may be provided over the sealing substrate 3604.
次に、下面射出構造の表示素子について図10(B)を用いて説明する。射出構造以外
は図10(A)と同じ構造の表示素子であるため同じ符号を用いて説明する。
Next, a display element having a bottom emission structure will be described with reference to FIG. Except for the emission structure, the display element has the same structure as that in FIG.
ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関数の大
きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジ
ウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透
明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the first electrode 4502 functioning as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, a transparent conductive film such as an ITO (indium tin oxide) film or an indium zinc oxide (IZO) film can be used. By using a transparent conductive film having transparency, an anode capable of transmitting light can be formed.
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF2、または窒化カルシウム)からなる金属膜を用いることができる。こうして、光
を反射する金属膜を用いることで光が透過しない陰極を形成することができる。
As a material used for the second electrode 4504 functioning as a cathode, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or alloys thereof such as MgAg, MgIn, AlLi,
A metal film made of CaF 2 or calcium nitride can be used. Thus, by using a metal film that reflects light, a cathode that does not transmit light can be formed.
こうして、図10(B)の矢印に示すように表示素子からの光を下面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、基板3610側に光が射出
することになる。従って下面射出構造の表示素子を表示装置に用いる場合には基板361
0は光透過性を有する基板を用いる。
In this manner, light from the display element can be extracted to the lower surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel of FIG. 8, light is emitted to the substrate 3610 side. Accordingly, when a display element having a bottom emission structure is used for a display device, the substrate 361 is used.
For 0, a light-transmitting substrate is used.
また、光学フィルムを設ける場合には、基板3610に光学フィルムを設ければよい。 In the case of providing an optical film, the substrate 3610 may be provided with an optical film.
次に、両面射出構造の表示素子について図10(C)を用いて説明する。射出構造以外
は図10(A)と同じ構造の表示素子であるため同じ符号を用いて説明する。
Next, a display element having a dual emission structure will be described with reference to FIG. Except for the emission structure, the display element has the same structure as that in FIG.
ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関数の大
きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジ
ウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透
明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the first electrode 4502 functioning as an anode, a material having a high work function is preferably used. For example, a transparent conductive film such as an ITO (indium tin oxide) film or an indium zinc oxide (IZO) film can be used. By using a transparent conductive film having transparency, an anode capable of transmitting light can be formed.
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF2、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウ
ムスズ酸化物)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In2O3―ZnO)、酸化亜鉛(Zn
O)等)との積層を用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電
膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
As a material used for the second electrode 4504 functioning as a cathode, a material having a low work function (Al, Ag, Li, Ca, or alloys thereof such as MgAg, MgIn, AlLi,
Metal thin film composed of CaF 2 or calcium nitride, transparent conductive film (ITO (indium tin oxide), indium zinc oxide alloy (In 2 O 3 —ZnO), zinc oxide (Zn)
It is preferable to use a laminate with O) or the like. Thus, a cathode capable of transmitting light can be formed by using a thin metal thin film and a transparent conductive film having transparency.
こうして、図10(C)の矢印に示すように表示素子からの光を両面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、基板3610側と封止基板
3604側に光が射出することになる。従って両面射出構造の表示素子を表示装置に用い
る場合には基板3610および封止基板3604は、ともに光透過性を有する基板を用い
る。
In this manner, light from the display element can be extracted on both sides as indicated by arrows in FIG. That is, when applied to the display panel in FIG. 8, light is emitted to the substrate 3610 side and the sealing substrate 3604 side. Therefore, when a display element having a dual emission structure is used for a display device, both the substrate 3610 and the sealing substrate 3604 are light-transmitting substrates.
また、光学フィルムを設ける場合には、基板3610および封止基板3604の両方に
光学フィルムを設ければよい。
In the case where an optical film is provided, the optical film may be provided on both the substrate 3610 and the sealing substrate 3604.
また、白色の表示素子とカラーフィルターを用いてフルカラー表示を実現する表示装置
にも上記実施の形態で述べたパルス出力回路の構成を適用することが可能である。
In addition, the structure of the pulse output circuit described in the above embodiment can be applied to a display device that realizes full-color display using a white display element and a color filter.
例えば、図11に示すように、基板4600上に下地膜4602が形成され、その上に
駆動用TFT4601が形成され、駆動用TFT4601のソース電極に接して第1の電
極4603が形成され、その上に有機化合物を含む層4604と第2の電極4605が形
成された構成とすることもできる。
For example, as shown in FIG. 11, a base film 4602 is formed on a substrate 4600, a driving TFT 4601 is formed thereon, a first electrode 4603 is formed in contact with the source electrode of the driving TFT 4601, A layer 4604 containing an organic compound and a second electrode 4605 may be formed.
また、第1の電極4603は表示素子の陽極である。そして第2の電極4605は表示
素子の陰極である。つまり、第1の電極4603と第2の電極4605とで有機化合物を
含む層4604が挟まれているところが表示素子となる。図11の構成では白色光を発光
する。そして、表示素子の上部に赤色のカラーフィルター4606R、緑色のカラーフィ
ルター4606G、青色のカラーフィルター4606Bを設けられており、フルカラー表
示を行うことができる。また、これらのカラーフィルターを隔離するブラックマトリクス
(BMともいう)4607が設けられている。
The first electrode 4603 is an anode of the display element. The second electrode 4605 is a cathode of the display element. That is, a display element is a portion where the layer 4604 containing an organic compound is sandwiched between the first electrode 4603 and the second electrode 4605. In the configuration of FIG. 11, white light is emitted. A red color filter 4606R, a green color filter 4606G, and a blue color filter 4606B are provided above the display element, so that full color display can be performed. Further, a black matrix (also referred to as BM) 4607 for separating these color filters is provided.
上述した表示素子の構成は組み合わせて用いることができ、上記実施の形態で説明した
パルス出力回路、シフトレジスタにより駆動する表示装置に適宜用いることができる。ま
た、上述した表示パネルの構成や、表示素子は例示であり、もちろん他の構成を適用する
こともできる。
The structures of the display elements described above can be used in combination, and can be used as appropriate for the display device driven by the pulse output circuit and the shift register described in the above embodiments. In addition, the configuration of the display panel and the display element described above are examples, and other configurations can be applied as a matter of course.
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
Note that the contents described in each drawing in this embodiment can be freely combined with or replaced with the contents described in any of the other embodiments as appropriate.
(実施の形態6)
本実施の形態においては、電子機器の例について説明する。具体的には電子機器の表示
部の駆動に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、デジタル
カメラ等のカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(
カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モ
バイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画
像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の
記録媒体を再生し、その画像を表示しうる発光装置を備えた装置)などが挙げられる。
(Embodiment 6)
In this embodiment, examples of electronic devices are described. Specifically, it can be applied to driving of a display portion of an electronic device. Such electronic devices include cameras such as video cameras and digital cameras, goggle-type displays, navigation systems, sound playback devices (
Car audio, audio components, etc.), computers, game machines, portable information terminals (mobile computers, mobile phones, portable game machines, electronic books, etc.), and image playback devices (specifically Digital Versatile Discs) equipped with recording media DVD) and the like, and a device equipped with a light emitting device capable of displaying the image.
図12(A)は発光装置であり、筐体6001、支持台6002、表示部6003、ス
ピーカー部6004、ビデオ入力端子6005等を含む。上記実施の形態で述べたパルス
出力回路を具備する表示装置を表示部6003に用いることができる。なお、発光装置は
、パーソナルコンピュータ用、テレビジョン放送受信用、広告表示用などの全ての情報表
示用発光装置が含まれる。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部600
3を駆動することによって誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備す
る電子機器を提供することができる。
FIG. 12A illustrates a light-emitting device, which includes a housing 6001, a support base 6002, a display portion 6003, a speaker portion 6004, a video input terminal 6005, and the like. A display device including the pulse output circuit described in the above embodiment can be used for the display portion 6003. The light emitting devices include all information display light emitting devices such as for personal computers, for receiving television broadcasts, and for displaying advertisements. The display portion 600 is formed using the shift register described in the above embodiment.
Accordingly, it is possible to provide an electronic apparatus including a display device that is operated by a driving circuit in which malfunctions are reduced by driving No. 3.
図12(B)はカメラであり、本体6101、表示部6102、受像部6103、操作
キー6104、外部接続ポート6105、シャッターボタン6106等を含む。上記実施
の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6102を駆動することによって、誤動作
を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができ
る。
FIG. 12B shows a camera, which includes a main body 6101, a display portion 6102, an image receiving portion 6103, operation keys 6104, an external connection port 6105, a shutter button 6106, and the like. By driving the display portion 6102 with the use of the shift register described in the above embodiment, an electronic device including a display device that operates with a driver circuit with reduced malfunctions can be provided.
図12(C)はコンピュータであり、本体6201、筐体6202、表示部6203、
キーボード6204、外部接続ポート6205、ポインティングデバイス6206等を含
む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6203を駆動することによ
って、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供す
ることができる。
FIG. 12C illustrates a computer, which includes a main body 6201, a housing 6202, a display portion 6203,
A keyboard 6204, an external connection port 6205, a pointing device 6206, and the like are included. By driving the display portion 6203 with the use of the shift register described in the above embodiment, an electronic device including a display device that operates with a driver circuit in which malfunctions are reduced can be provided.
図12(D)はモバイルコンピュータであり、本体6301、表示部6302、スイッ
チ6303、操作キー6304、赤外線ポート6305等を含む。上記実施の形態で述べ
たのシフトレジスタを用いて表示部6302を駆動することによって、誤動作を低減した
駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
FIG. 12D illustrates a mobile computer, which includes a main body 6301, a display portion 6302, a switch 6303, operation keys 6304, an infrared port 6305, and the like. By driving the display portion 6302 with the use of the shift register described in the above embodiment, an electronic device including a display device that operates with a driver circuit in which malfunctions are reduced can be provided.
図12(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)
であり、本体6401、筐体6402、表示部A6403、表示部B6404、記録媒体
(DVD等)読み込み部6405、操作キー6406、スピーカー部6407等を含む。
表示部A6403は主として画像情報を表示し、表示部B6404は主として文字情報を
表示することができる。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部A640
3や表示部B6404を駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作
する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
FIG. 12E shows a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) provided with a recording medium.
A main body 6401, a housing 6402, a display portion A6403, a display portion B6404, a recording medium (DVD or the like) reading portion 6405, an operation key 6406, a speaker portion 6407, and the like.
The display portion A 6403 can mainly display image information, and the display portion B 6404 can mainly display character information. Using the shift register described in the above embodiment, the display portion A640.
3 and the display portion B6404 can be driven to provide an electronic device including a display device that is operated by a driving circuit with reduced malfunctions.
図12(F)はゴーグル型ディスプレイであり、本体6501、表示部6502、アー
ム部6503を含む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6502を
駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する
電子機器を提供することができる。
FIG. 12F illustrates a goggle type display, which includes a main body 6501, a display portion 6502, and an arm portion 6503. By driving the display portion 6502 with the use of the shift register described in the above embodiment, an electronic device including a display device that operates with a driver circuit in which malfunctions are reduced can be provided.
図12(G)はビデオカメラであり、本体6601、表示部6602、筐体6603、
外部接続ポート6604、リモコン受信部6605、受像部6606、バッテリー660
7、音声入力部6608、操作キー6609、接眼部6610等を含む。上記実施の形態
で述べたシフトレジスタを用いて表示部6602を駆動することによって、誤動作を低減
した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
FIG. 12G illustrates a video camera, which includes a main body 6601, a display portion 6602, a housing 6603,
External connection port 6604, remote control receiving unit 6605, image receiving unit 6606, battery 660
7, voice input unit 6608, operation key 6609, eyepiece unit 6610, and the like. By driving the display portion 6602 using the shift register described in the above embodiment, an electronic device including a display device that operates with a driver circuit with reduced malfunctions can be provided.
図12(H)は携帯電話機であり、本体6701、筐体6702、表示部6703、音
声入力部6704、音声出力部6705、操作キー6706、外部接続ポート6707、
アンテナ6708等を含む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部67
03を駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具
備する電子機器を提供することができる。
FIG. 12H illustrates a mobile phone, which includes a main body 6701, a housing 6702, a display portion 6703, an audio input portion 6704, an audio output portion 6705, operation keys 6706, an external connection port 6707,
Including an antenna 6708 and the like. Using the shift register described in the above embodiment, the display portion 67
By driving 03, it is possible to provide an electronic device including a display device that operates with a drive circuit in which malfunctions are reduced.
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
Note that the contents described in each drawing in this embodiment can be freely combined with or replaced with the contents described in any of the other embodiments as appropriate.
上記実施の形態で説明した図1(A)のシフトレジスタを有する走査線駆動回路(以下、
ゲートドライバという)、及び信号線駆動回路(ソースドライバという)を表示部が設け
られる基板上に形成し、表示素子として有機EL素子を採用した表示パネルの写真につい
て、図14に示す。図14に示す表示パネルは、矩形状の基板上において、短辺方向にソ
ースドライバを配置し、長辺方向にゲートドライバを配置し、ソースドライバが配置され
た短辺方向にFPC端子部を設ける構成としている。また各画素、ゲートドライバ、及び
ソースドライバに配置される薄膜トランジスタの半導体層として、酸化物半導体であるI
n−Ga−Zn−O系非単結晶膜を用いている。なお図14に示す表示パネルのカラー表
示方式については、薄膜トランジスタ上にカラーフィルターを設け、カラーフィルター上
の有機EL素子より白色光を発光させることで、カラー表示を実現する構成としている。
A scan line driver circuit (hereinafter, referred to as the scan line driver circuit) having the shift register of FIG.
FIG. 14 shows a photograph of a display panel in which a gate driver) and a signal line driver circuit (referred to as a source driver) are formed over a substrate provided with a display portion and an organic EL element is used as a display element. In the display panel shown in FIG. 14, a source driver is arranged in the short side direction, a gate driver is arranged in the long side direction, and an FPC terminal portion is provided in the short side direction in which the source driver is arranged on a rectangular substrate. It is configured. In addition, as a semiconductor layer of a thin film transistor disposed in each pixel, a gate driver, and a source driver, an oxide semiconductor I
An n-Ga-Zn-O-based non-single-crystal film is used. Note that the color display method of the display panel shown in FIG. 14 is configured such that a color filter is provided on a thin film transistor and white light is emitted from an organic EL element on the color filter, thereby realizing color display.
図14に示す表示パネルの具体的な仕様について、表1に示す。 Specific specifications of the display panel shown in FIG. 14 are shown in Table 1.
なお表1において、2Tr1Cとは、1画素内に2つのトランジスタと1つの容量素子を
具備する構成について略記したものである。
In Table 1, 2Tr1C is an abbreviation for a structure including two transistors and one capacitor in one pixel.
また実際に作製したシフトレジスタを具備するソースドライバにおいて観察される信号波
形の様子について図15(A)、(B)に示し説明する。なお図15(A)では、上記実
施の形態で説明した駆動回路のタイミングチャートであり、図15(B)では実際に観察
される信号波形について示したものである。なお図15(A)、(B)において、SSP
はソースドライバの第1のスタートパルス(S−SP)、SCK1はソースドライバの第
1のクロック信号、SOUT1はソースドライバの1段目のパルス出力回路の出力信号、
SOUT(dum)はソースドライバのパルス出力回路の最終段(ダミー段)の出力信号
である。
In addition, signal waveforms observed in a source driver including an actually manufactured shift register will be described with reference to FIGS. Note that FIG. 15A is a timing chart of the driver circuit described in the above embodiment, and FIG. 15B shows a signal waveform actually observed. In FIGS. 15A and 15B, the SSP
Is the first start pulse (S-SP) of the source driver, SCK1 is the first clock signal of the source driver, SOUT1 is the output signal of the first-stage pulse output circuit of the source driver,
SOUT (dum) is an output signal of the final stage (dummy stage) of the pulse output circuit of the source driver.
図15(A)、図15(B)に示すタイミングチャート通りに、実際に観察される信号波
形が得られていることがわかる。
It can be seen that the actually observed signal waveforms are obtained as shown in the timing charts of FIGS.
10 パルス出力回路
11 信号線
12 信号線
13 信号線
14 信号線
21 入力端子
22 入力端子
23 入力端子
24 入力端子
25 入力端子
26 出力端子
27 出力端子
31 電源線
32 電源線
33 電源線
34 電源線
35 電源線
36 電源線
37 電源線
38 電源線
39 電源線
51 期間
52 期間
53 期間
54 期間
55 期間
101 トランジスタ
102 トランジスタ
103 トランジスタ
104 トランジスタ
105 トランジスタ
106 トランジスタ
107 トランジスタ
108 トランジスタ
109 トランジスタ
201 トランジスタ
202 トランジスタ
203 トランジスタ
204 トランジスタ
1101 画素
1102 画素部
1103 信号線駆動回路
1104 走査線駆動回路
1105 走査線駆動回路
1106 FPC
1107 基板
1111 シフトレジスタ
1112 ラッチ回路
1113 ラッチ回路
1114 シフトレジスタ
1115 バッファ
1117 バッファ
3601 信号線駆動回路
3602 画素部
3603 走査線駆動回路
3604 封止基板
3605 シール材
3606 走査線駆動回路
3607 空間
3608 配線
3609 FPC
3610 基板
3611 スイッチング用TFT
3612 駆動用TFT
3613 電極
3614 絶縁物
3616 層
3617 電極
3618 ICチップ
3619 ICチップ
3620 Nチャネル型TFT
3621 Pチャネル型TFT
3622 表示素子
4200 基板
4201 信号線駆動回路
4202 画素部
4203 走査線駆動回路
4204 走査線駆動回路
4205 FPC
4206 ICチップ
4207 ICチップ
4208 封止基板
4209 シール材
4210 基板
4211 信号線駆動回路
4212 画素部
4213 走査線駆動回路
4214 走査線駆動回路
4215 FPC
4216 ICチップ
4217 ICチップ
4218 封止基板
4219 シール材
4401 基板
4402 陽極
4403 正孔注入層
4404 正孔輸送層
4405 発光層
4406 電子輸送層
4407 電子注入層
4408 陰極
4500 基板
4501 駆動用TFT
4502 電極
4503 層
4504 電極
4505 下地膜
4600 基板
4601 駆動用TFT
4602 下地膜
4603 電極
4604 層
4605 電極
6001 筐体
6002 支持台
6003 表示部
6004 スピーカー部
6005 ビデオ入力端子
6101 本体
6102 表示部
6103 受像部
6104 操作キー
6105 外部接続ポート
6106 シャッターボタン
6201 本体
6202 筐体
6203 表示部
6204 キーボード
6205 外部接続ポート
6206 ポインティングデバイス
6301 本体
6302 表示部
6303 スイッチ
6304 操作キー
6305 赤外線ポート
6401 本体
6402 筐体
6403 表示部A
6404 表示部B
6405 部
6406 操作キー
6407 スピーカー部
6501 本体
6502 表示部
6503 アーム部
6601 本体
6602 表示部
6603 筐体
6604 外部接続ポート
6605 リモコン受信部
6606 受像部
6607 バッテリー
6608 音声入力部
6609 操作キー
6610 接眼部
6701 本体
6702 筐体
6703 表示部
6704 音声入力部
6705 音声出力部
6706 操作キー
6707 外部接続ポート
6708 アンテナ
4606B カラーフィルター
4606G カラーフィルター
4606R カラーフィルター
10 pulse output circuit 11 signal line 12 signal line 13 signal line 14 signal line 21 input terminal 22 input terminal 23 input terminal 24 input terminal 25 input terminal 26 output terminal 27 output terminal 31 power supply line 32 power supply line 33 power supply line 34 power supply line 35 Power supply line 36 Power supply line 37 Power supply line 38 Power supply line 39 Power supply line 51 Period 52 Period 53 Period 54 Period 55 Period 101 Transistor 102 Transistor 103 Transistor 104 Transistor 105 Transistor 106 Transistor 107 Transistor 108 Transistor 109 Transistor 201 Transistor 202 Transistor 203 Transistor 204 Transistor 1101 Pixel 1102 Pixel portion 1103 Signal line driver circuit 1104 Scan line driver circuit 1105 Scan line driver circuit 1106 FPC
1107 substrate 1111 shift register 1112 latch circuit 1113 latch circuit 1114 shift register 1115 buffer 1117 buffer 3601 signal line driver circuit 3602 pixel portion 3603 scanning line driver circuit 3604 sealing substrate 3605 sealant 3606 scan line driver circuit 3607 space 3608 wiring 3609 FPC
3610 Substrate 3611 Switching TFT
3612 Driving TFT
3613 Electrode 3614 Insulator 3616 Layer 3617 Electrode 3618 IC chip 3619 IC chip 3620 N-channel TFT
3621 P-channel TFT
3622 Display element 4200 Substrate 4201 Signal line driver circuit 4202 Pixel portion 4203 Scan line driver circuit 4204 Scan line driver circuit 4205 FPC
4206 IC chip 4207 IC chip 4208 Sealing substrate 4209 Sealing material 4210 Substrate 4211 Signal line driver circuit 4212 Pixel portion 4213 Scan line driver circuit 4214 Scan line driver circuit 4215 FPC
4216 IC chip 4217 IC chip 4218 Sealing substrate 4219 Sealing material 4401 Substrate 4402 Anode 4403 Hole injection layer 4404 Hole transport layer 4405 Light emitting layer 4406 Electron transport layer 4407 Electron injection layer 4408 Cathode 4500 Substrate 4501 Driving TFT
4502 Electrode 4503 Layer 4504 Electrode 4505 Base film 4600 Substrate 4601 Driving TFT
4602 Base film 4603 Electrode 4604 Layer 4605 Electrode 6001 Case 6002 Support base 6003 Display unit 6004 Speaker unit 6005 Video input terminal 6101 Main unit 6102 Display unit 6103 Image receiving unit 6104 Operation key 6105 External connection port 6106 Shutter button 6201 Main unit 6202 Case 6203 Display Unit 6204 Keyboard 6205 External connection port 6206 Pointing device 6301 Main body 6302 Display unit 6303 Switch 6304 Operation key 6305 Infrared port 6401 Main unit 6402 Case 6403 Display unit A
6404 Display portion B
6405 section 6406 operation key 6407 speaker section 6501 body 6502 display section 6503 arm section 6601 body 6602 display section 6603 casing 6604 external connection port 6605 remote control receiver section 6606 image receiving section 6607 battery 6608 voice input section 6609 operation key 6610 eyepiece section 6701 body 6702 Housing 6703 Display unit 6704 Audio input unit 6705 Audio output unit 6706 Operation key 6707 External connection port 6708 Antenna 4606B Color filter 4606G Color filter 4606R Color filter
Claims (2)
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第1の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の配線と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第4の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタを介して前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲートは、第5の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのゲートは、前記第5の配線と電気的に接続され、
前記第1の配線は、クロック信号を供給する機能を有し、
前記第1のトランジスタは、前記クロック信号を前記第2の配線に出力する機能を有し、
前記第4のトランジスタ及び前記第5のトランジスタが共にオンの状態から、前記第4のトランジスタがオン且つ前記第5のトランジスタがオフの状態にすることを特徴とする半導体装置。 Having first to fifth transistors;
One of a source and a drain of the first transistor is electrically connected to the first wiring;
The other of the source and the drain of the first transistor is electrically connected to a second wiring;
One of a source and a drain of the second transistor is electrically connected to a third wiring;
The other of the source and the drain of the second transistor is electrically connected to the second wiring;
One of a source and a drain of the third transistor is electrically connected to a third wiring;
The other of the source and the drain of the third transistor is electrically connected to the second wiring;
One of a source and a drain of the fourth transistor is electrically connected to a fourth wiring;
The other of the source and the drain of the fourth transistor is electrically connected to the gate of the second transistor through the fifth transistor;
A gate of the third transistor is electrically connected to a fifth wiring;
A gate of the fourth transistor is electrically connected to the fifth wiring;
The first wiring has a function of supplying a clock signal;
The first transistor has a function of outputting the clock signal to the second wiring;
A semiconductor device, wherein the fourth transistor and the fifth transistor are both turned on, and the fourth transistor is turned on and the fifth transistor is turned off.
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第1の配線と電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の配線と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第4の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタを介して前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第3のトランジスタのゲートは、第5の配線と電気的に接続され、
前記第4のトランジスタのゲートは、前記第5の配線と電気的に接続され、
前記第1の配線は、クロック信号を供給する機能を有し、
前記第1のトランジスタは、前記クロック信号を前記第2の配線に出力する機能を有し、
前記第4のトランジスタ及び前記第5のトランジスタが共にオンの状態から、前記第4のトランジスタがオン且つ前記第5のトランジスタがオフの状態にすることを特徴とする半導体装置。 Having first to fifth transistors;
One of a source and a drain of the first transistor is electrically connected to the first wiring;
The other of the source and the drain of the first transistor is electrically connected to a second wiring;
One of a source and a drain of the second transistor is electrically connected to a third wiring;
The other of the source and the drain of the second transistor is electrically connected to the gate of the first transistor;
One of a source and a drain of the third transistor is electrically connected to a third wiring;
The other of the source and the drain of the third transistor is electrically connected to the second wiring;
One of a source and a drain of the fourth transistor is electrically connected to a fourth wiring;
The other of the source and the drain of the fourth transistor is electrically connected to the gate of the second transistor through the fifth transistor;
A gate of the third transistor is electrically connected to a fifth wiring;
A gate of the fourth transistor is electrically connected to the fifth wiring;
The first wiring has a function of supplying a clock signal;
The first transistor has a function of outputting the clock signal to the second wiring;
A semiconductor device, wherein the fourth transistor and the fifth transistor are both turned on, and the fourth transistor is turned on and the fifth transistor is turned off.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009155849 | 2009-06-30 | ||
JP2009155849 | 2009-06-30 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014224212A Division JP6028009B2 (en) | 2009-06-30 | 2014-11-04 | Semiconductor device and display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017011766A JP2017011766A (en) | 2017-01-12 |
JP6316373B2 true JP6316373B2 (en) | 2018-04-25 |
Family
ID=43638325
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009206918A Active JP5478165B2 (en) | 2009-06-30 | 2009-09-08 | Semiconductor device |
JP2013231650A Active JP5714079B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-11-08 | Semiconductor device and display device |
JP2014224212A Active JP6028009B2 (en) | 2009-06-30 | 2014-11-04 | Semiconductor device and display device |
JP2016203512A Active JP6316373B2 (en) | 2009-06-30 | 2016-10-17 | Semiconductor device |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009206918A Active JP5478165B2 (en) | 2009-06-30 | 2009-09-08 | Semiconductor device |
JP2013231650A Active JP5714079B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-11-08 | Semiconductor device and display device |
JP2014224212A Active JP6028009B2 (en) | 2009-06-30 | 2014-11-04 | Semiconductor device and display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (4) | JP5478165B2 (en) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI511116B (en) | 2006-10-17 | 2015-12-01 | Semiconductor Energy Lab | Pulse output circuit, shift register, and display device |
DE112011106202B4 (en) | 2010-03-02 | 2023-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Pulse signal output circuit and shift register |
US8854867B2 (en) * | 2011-04-13 | 2014-10-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory device and driving method of the memory device |
US9954110B2 (en) | 2011-05-13 | 2018-04-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | EL display device and electronic device |
US9171842B2 (en) | 2012-07-30 | 2015-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sequential circuit and semiconductor device |
US8952723B2 (en) * | 2013-02-13 | 2015-02-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Programmable logic device and semiconductor device |
JP6097653B2 (en) * | 2013-08-05 | 2017-03-15 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Thin film transistor circuit and display device using the same |
JP6618779B2 (en) * | 2014-11-28 | 2019-12-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device |
US10330993B2 (en) * | 2016-12-23 | 2019-06-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
WO2022185143A1 (en) * | 2021-03-05 | 2022-09-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device, display device, and electronic apparatus |
US20240185937A1 (en) * | 2021-05-31 | 2024-06-06 | Boe Technology Co., Ltd. | Shift register unit and driving method thereof, gate drive circuit, and display device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001273785A (en) * | 2000-03-29 | 2001-10-05 | Casio Comput Co Ltd | Shift register and electronic device |
JP4425547B2 (en) * | 2003-01-17 | 2010-03-03 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Pulse output circuit, shift register, and electronic device |
JP4560502B2 (en) * | 2005-09-06 | 2010-10-13 | キヤノン株式会社 | Field effect transistor |
TWI511116B (en) * | 2006-10-17 | 2015-12-01 | Semiconductor Energy Lab | Pulse output circuit, shift register, and display device |
JP5525685B2 (en) * | 2006-10-17 | 2014-06-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Semiconductor device and electronic equipment |
JP5197058B2 (en) * | 2007-04-09 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | Light emitting device and manufacturing method thereof |
JP5241724B2 (en) * | 2007-09-12 | 2013-07-17 | シャープ株式会社 | Shift register |
WO2009034750A1 (en) * | 2007-09-12 | 2009-03-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Shift register |
JP2009181612A (en) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | Shift register circuit and liquid crystal display unit |
-
2009
- 2009-09-08 JP JP2009206918A patent/JP5478165B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-08 JP JP2013231650A patent/JP5714079B2/en active Active
-
2014
- 2014-11-04 JP JP2014224212A patent/JP6028009B2/en active Active
-
2016
- 2016-10-17 JP JP2016203512A patent/JP6316373B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6028009B2 (en) | 2016-11-16 |
JP5478165B2 (en) | 2014-04-23 |
JP5714079B2 (en) | 2015-05-07 |
JP2015092427A (en) | 2015-05-14 |
JP2014064302A (en) | 2014-04-10 |
JP2017011766A (en) | 2017-01-12 |
JP2011030171A (en) | 2011-02-10 |
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JP5917649B2 (en) | Semiconductor device, display module, and electronic device | |
JP5808508B2 (en) | Semiconductor device and display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161018 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170711 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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