JP6316041B2 - スパッタ中性粒子質量分析装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態のスパッタ中性粒子質量分析装置は、質量分析の対象とする試料を保持する試料台と、試料台に保持された前記試料にイオンビームを照射して前記試料の隣接領域に中性粒子を発生させるイオンビーム照射装置と、前記隣接領域内で光ビームが第1の集光点(S1)を形成するように照射し光励起イオンとする光ビーム照射装置と、前記光励起イオンを取り込んで質量分析を行う質量分析計と、前記光ビームが前記隣接領域を通過した後の光路中に設けられ、前記光ビームの進行方向を前記隣接領域を再度通過する方向に変更し、かつ、前記第1の集光点と異なる位置に第2の集光点(S2)を形成する光学素子とを備え、前記光学素子は凹面鏡であり、前記凹面鏡は、前記試料の表面上に配置され、前記試料の表面から前記凹面鏡の上部までの高さは、前記隣接領域における前記中性粒子が前記試料の表面に平行な面方向において最大となる位置より低く設定されている。
過させるのは2回であるが、光ビームの進行方向の変更を2回以上とすることで、中性粒
子と光ビームとの作用を3回以上としてもよい。以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]質量分析の対象とする試料を保持する試料台と、試料台に保持された前記試料にイオンビームを照射して前記試料の隣接領域に中性粒子を発生させるイオンビームと、前記隣接領域に位置する中性粒子に光ビームを照射し光励起イオンとする光ビーム照射装置と、前記光励起イオンを引き出す引き出し電極と、引き出された前記光励起イオンを取り込んで質量分析を行う質量分析計と、前記光ビームが前記隣接領域を通過した後の光路中に設けられ、前記光ビームの進行方向を前記隣接領域を再度通過する方向に変更する光学素子とを備えていることを特徴とするスパッタ中性粒子質量分析装置。
[2]前記光ビームは前記試料の表面の法線方向に対して90°未満の角度を成す方向から前記光学素子に入射され、該光ビームの光路と前記イオンビームの光路とが交差することを特徴とする請求項1に記載のスパッタ中性粒子質量分析装置。
[3]前記光学素子は凹面鏡であることを特徴とする請求項1に記載のスパッタ中性粒子質量分析装置。
[4]前記凹面鏡は、前記試料の表面上に配置され、前記試料面から前記凹面鏡の上部までの高さは、前記隣接領域における前記中性粒子群が前記試料の表面に平行な面方向において最大となる位置より低く設定されていることを特徴とする請求項3に記載のスパッタ中性粒子質量分析装置。
Claims (4)
- 質量分析の対象とする試料を保持する試料台と、
試料台に保持された前記試料にイオンビームを照射して前記試料の隣接領域に中性粒子を発生させるイオンビーム照射装置と、
前記隣接領域に位置する中性粒子に光ビームを照射し光励起イオンとする光ビーム照射装置と、
前記光励起イオンを取り込んで質量分析を行う質量分析計と、
前記光ビームが前記隣接領域を通過した後の光路中に設けられ、前記光ビームの進行方向を前記隣接領域内の異なる経路を通過する方向に変更する光学素子とを備え、
前記光学素子は凹面鏡であり、前記凹面鏡は、前記試料の表面上に配置され、前記試料の表面から前記凹面鏡の上部までの高さは、前記隣接領域における前記中性粒子が前記試料の表面に平行な面方向において最大となる位置より低く設定されていることを特徴とするスパッタ中性粒子質量分析装置。 - 前記光学素子は、前記異なる経路を通過する光ビームについて、前記隣接領域内において集光点が形成されるように設けられていることを特徴とする請求項1に記載のスパッタ中性粒子質量分析装置。
- 質量分析の対象とする試料を保持する試料台と、
試料台に保持された前記試料にイオンビームを照射して前記試料の隣接領域に中性粒子を発生させるイオンビーム照射装置と、
前記隣接領域内で光ビームが第1の集光点を形成するように照射し光励起イオンとする光ビーム照射装置と、
前記光励起イオンを取り込んで質量分析を行う質量分析計と、
前記光ビームが前記隣接領域を通過した後の光路中に設けられ、前記光ビームの進行方向を前記隣接領域を再度通過する方向に変更し、かつ、前記第1の集光点と異なる位置に第2の集光点を形成する光学素子とを備え、
前記光学素子は凹面鏡であり、前記凹面鏡は、前記試料の表面上に配置され、前記試料の表面から前記凹面鏡の上部までの高さは、前記隣接領域における前記中性粒子が前記試料の表面に平行な面方向において最大となる位置より低く設定されていることを特徴とするスパッタ中性粒子質量分析装置。 - 前記光ビームは前記試料の表面の法線方向に対して90°未満の角度を成す方向から前記光学素子に入射され、該光ビームの光路と前記イオンビームの光路とが交差することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のスパッタ中性粒子質量分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014055418A JP6316041B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | スパッタ中性粒子質量分析装置 |
DE102015203848.3A DE102015203848B4 (de) | 2014-03-18 | 2015-03-04 | Sputter-Neutralteilchen-Massenspektrometrievorrichtung |
US14/643,682 US9431229B2 (en) | 2014-03-18 | 2015-03-10 | Sputter neutral particle mass spectrometry apparatus with optical element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014055418A JP6316041B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | スパッタ中性粒子質量分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015179572A JP2015179572A (ja) | 2015-10-08 |
JP6316041B2 true JP6316041B2 (ja) | 2018-04-25 |
Family
ID=54053829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014055418A Active JP6316041B2 (ja) | 2014-03-18 | 2014-03-18 | スパッタ中性粒子質量分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9431229B2 (ja) |
JP (1) | JP6316041B2 (ja) |
DE (1) | DE102015203848B4 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10068757B2 (en) * | 2015-11-16 | 2018-09-04 | Thermo Finnigan Llc | Strong field photoionization ion source for a mass spectrometer |
JP6818322B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-01-20 | 学校法人 工学院大学 | 質量分析装置および質量分析方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4320300A (en) * | 1979-09-28 | 1982-03-16 | Allied Chemical Corporation | Isotope separation by solar photoionization |
JPH0229151U (ja) * | 1988-08-12 | 1990-02-26 | ||
US5105082A (en) | 1990-04-09 | 1992-04-14 | Nippon Telegraph & Telephone Corporation | Laser ionization sputtered neutral mass spectrometer |
DD294345A5 (de) | 1990-05-10 | 1991-09-26 | Zentralinstitut Fuer Kernforschung,De | Verfahren zur ionisation der neutralteilchen in der sekundaerneutralteilchen-massenspektroskopie |
JPH05251035A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-09-28 | Sanyo Electric Co Ltd | スパッタ中性粒子質量分析装置 |
US6364490B1 (en) * | 1996-11-15 | 2002-04-02 | Vantage Lighting Incorporated | Virtual image projection device |
JPH1114571A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Hitachi Ltd | 光イオン化質量分析装置 |
GB9807915D0 (en) * | 1998-04-14 | 1998-06-10 | Shimadzu Res Lab Europe Ltd | Apparatus for production and extraction of charged particles |
US6707039B1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-16 | Agilent Technologies, Inc. | AP-MALDI target illumination device and method for using an AP-MALDI target illumination device |
JP4363526B2 (ja) | 2004-12-28 | 2009-11-11 | 株式会社Idxテクノロジーズ | ダイオキシン類の分析方法 |
JP2011233248A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Tokyo Institute Of Technology | レーザイオン化質量分析装置 |
GB2486628B (en) * | 2010-08-02 | 2016-05-25 | Kratos Analytical Ltd | Methods and apparatuses for cleaning at least one surface of an ion source |
-
2014
- 2014-03-18 JP JP2014055418A patent/JP6316041B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-04 DE DE102015203848.3A patent/DE102015203848B4/de active Active
- 2015-03-10 US US14/643,682 patent/US9431229B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9431229B2 (en) | 2016-08-30 |
JP2015179572A (ja) | 2015-10-08 |
US20150270113A1 (en) | 2015-09-24 |
DE102015203848A1 (de) | 2015-09-24 |
DE102015203848B4 (de) | 2019-12-24 |
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