JP6308865B2 - Composite welding equipment - Google Patents

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Description

本発明は、複合溶接装置に関し、特に、気体の噴射による保護ガラスへのスパッタ付着防止と気体へのシールドガス巻き込み低減との両立を図ることができる複合溶接装置に関するものである。   The present invention relates to a composite welding apparatus, and more particularly, to a composite welding apparatus capable of achieving both prevention of spatter adhesion to protective glass by gas injection and reduction of entrainment of shield gas in gas.

レーザ溶接とガスシールドアーク溶接とを組み合わせて行う複合溶接装置が知られている。こうした複合溶接装置には、レーザ溶接に用いられるレーザ光を集光して溶接位置に照射する集光レンズを、溶接時に飛散するスパッタから保護するための保護ガラスに付着することを抑制するため、種々の対策が講じられている。   A composite welding apparatus that performs a combination of laser welding and gas shielded arc welding is known. In such a composite welding apparatus, in order to suppress the condensing lens for condensing the laser beam used for laser welding and irradiating the welding position from being attached to protective glass for protecting from spatter scattered during welding, Various measures have been taken.

例えば、保護ガラスと溶接位置との間に高速エアー(気体)を噴射するエアーブロー装置(ノズル装置)を設け、エアーブロー装置により噴射される高速エアーによってスパッタを弾き飛ばすことで、スパッタの保護ガラスへの付着を防止する技術が知られている(特許文献1)。   For example, an air blow device (nozzle device) for injecting high-speed air (gas) between the protective glass and the welding position is provided, and spatter is blown off by the high-speed air injected by the air blow device, thereby protecting the sputter protection glass. There is known a technique for preventing adhesion to the surface (Patent Document 1).

特開2000−263276号公報(図1(イ)など)Japanese Patent Laid-Open No. 2000-263276 (FIG. 1 (A) and the like)

ここで、上述した従来の技術では、スパッタを吹き飛ばすために高速エアーを勢いよく吹き付けると、高速エアーにシールドガスが巻き込まれ、シールドガスによるアークと大気との遮断が阻害される。その一方、高速エアーの勢いを弱めた場合には、スパッタを吹き飛ばすことができず、保護ガラスへのスパッタの付着を十分に防止できない。このように、上述した従来の技術では、保護ガラスへのスパッタの付着防止と気体へのシールドガスの巻き込み防止との両立が困難であるという問題点があった。   Here, in the above-described conventional technology, when high-speed air is blown vigorously to blow off the spatter, shield gas is caught in the high-speed air, and the shielding between the arc and the atmosphere by the shield gas is hindered. On the other hand, when the momentum of the high-speed air is weakened, the spatter cannot be blown off, and the spatter cannot be sufficiently prevented from adhering to the protective glass. Thus, in the above-described conventional technology, there is a problem that it is difficult to achieve both prevention of spatter adhesion to the protective glass and prevention of entrapment of the shielding gas into the gas.

本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものであり、気体の噴射による保護ガラスへのスパッタ付着防止と気体へのシールドガス巻き込み低減との両立を図ることができる複合溶接装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a composite welding apparatus capable of achieving both prevention of spatter adhesion to protective glass by gas injection and reduction of shield gas entrainment in gas. It is intended to provide.

問題を解決するための手段および発明の効果Means for solving the problems and effects of the invention

請求項1記載の複合溶接装置によれば、スパッタ遮蔽部は、溶接時に発生するスパッタの大部分を遮蔽板より遮蔽すると共に、第1通過孔を通過したスパッタをノズル装置から噴射される気体により吹き飛ばすことで、保護ガラスにスパッタが付着することを防止できる。
また、第1通過孔に対応する位置に形成されると共にレーザ光が通過可能な第2通過孔を有する蓋板が、一対の整流板に架設されることで遮蔽板に対向して配設されると共に、ノズル装置による気体の噴射位置から少なくとも遮蔽板の第1通過孔よりも気体の噴射方向下流側まで延設されているので、少なくともノズル装置から噴射した気体が第1通過孔および第2通過孔の間を通過するまでの間において、気体が上方へ拡散することを抑制できる。これにより、第1通過孔を通過したスパッタに吹き付ける気体の流速の低下を抑制できるので、スパッタを吹き飛ばしやすくすることができるという効果がある。
また、遮蔽板の第1通過孔から気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法が、蓋板の第2通過孔から気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法よりも大きく設定されているので、蓋板と遮蔽板との間を通過し終えた気体を上方へ拡散させることができる。即ち、遮蔽板の上方を通過し終えた気体に遮蔽板の下面側の大気が巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できるという効果がある。
また、一対の整流板の第2通過孔から気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法が、蓋板の第2通過孔から気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法よりも大きく設定されているので、蓋板と遮蔽板との間を通過し終えた気体を上方へ拡散させることができる。よって、遮蔽板の上面側を通過し終えた気体に遮蔽板の下面側の大気が巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できるという効果がある。
According to the composite welding apparatus of the first aspect, the spatter shielding portion shields most of the spatter generated during welding from the shielding plate, and the spatter that has passed through the first passage hole is generated by the gas injected from the nozzle device. By blowing off, it is possible to prevent spatter from adhering to the protective glass.
In addition, a lid plate that is formed at a position corresponding to the first passage hole and has a second passage hole through which laser light can pass is installed on the pair of rectifying plates so as to face the shielding plate. Since at least the gas injection position by the nozzle device extends to the downstream side in the gas injection direction from at least the first passage hole of the shielding plate, at least the gas injected from the nozzle device has the first passage hole and the second passage. The gas can be prevented from diffusing upward until it passes between the passage holes. Thereby, since the fall of the flow velocity of the gas sprayed on the sputter | spatter which passed the 1st passage hole can be suppressed, there exists an effect that it can make it easy to blow off a sputter | spatter.
In addition, the extending length dimension from the first passage hole of the shielding plate to the downstream side in the gas injection direction is set larger than the extending length dimension from the second passage hole of the cover plate to the downstream side in the gas injection direction. Therefore, the gas that has passed between the cover plate and the shielding plate can be diffused upward. That is, since the atmosphere on the lower surface side of the shielding plate can be suppressed from being entrained in the gas that has passed above the shielding plate, there is an effect that the shielding gas can be prevented from being entrained in the gas flow.
In addition, the extension length dimension from the second passage hole of the pair of rectifying plates to the downstream side in the gas injection direction is longer than the extension length dimension from the second passage hole of the lid plate to the downstream side in the gas injection direction. Since it is set large, the gas that has passed between the cover plate and the shielding plate can be diffused upward. Therefore, since it can suppress that the air | atmosphere on the lower surface side of a shielding board is caught in the gas which has finished passing through the upper surface side of a shielding board, there exists an effect that it can reduce that shielding gas is caught in the flow of gas.

また、遮蔽板の上面側には一対の整流板が第1通過孔を挟んだ位置に立設され、それら一対の整流板が気体の噴射方向に沿って延設されると共に、少なくとも第1通過孔よりも気体の噴射方向下流側に位置する一部分において、一対の整流板の対向間隔が気体の噴射方向上流側から下流側端部へ向けて幅広くなっている。これにより、第1通過孔の上方を通過し終えた気体の流速を低下させることができる。   In addition, a pair of rectifying plates are erected on the upper surface side of the shielding plate at a position sandwiching the first passage hole, and the pair of rectifying plates extend along the gas injection direction and at least the first passage. In a portion located downstream of the hole in the gas injection direction, the facing distance between the pair of rectifying plates is widened from the upstream side to the downstream end of the gas injection direction. Thereby, the flow velocity of the gas that has passed over the first passage hole can be reduced.

よって、ノズル装置から気体を勢いよく噴射することで、第1通過孔を通過するスパッタを吹き飛ばしやすくしつつ、第1通過孔よりも気体の噴射方向下流側では、気体の流速を低下させることで、遮蔽板の上面側を通過し終えた気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを抑制できる。従って、第1通過孔を通過したスパッタに吹き付ける気体の流速を確保することによるスパッタの保護ガラスへの付着防止と、一対の整流板の間を通過し終えた気体の流速を低下させることによる気体へのシールドガス巻き込み低減との両立を図ることができるという効果がある。   Therefore, by vigorously injecting the gas from the nozzle device, it is easy to blow away the spatter that passes through the first passage hole, and at the downstream side of the gas injection direction from the first passage hole, the gas flow velocity is reduced. The shielding gas can be prevented from being caught in the gas flow that has passed through the upper surface side of the shielding plate. Therefore, prevention of adhesion of the sputter to the protective glass by ensuring the flow rate of the gas blown to the sputter that has passed through the first passage hole, and reduction of the flow rate of the gas that has passed between the pair of rectifying plates to the gas There is an effect that it is possible to achieve both reduction in entrainment of shield gas.

請求項2記載の複合溶接装置によれば、請求項1記載の複合溶接装置の奏する効果に加え、ノズル装置による気体の噴射位置から少なくとも遮蔽板の第1通過孔を超える位置において、一対の整流板の対向間隔が均一に設定されているので、ノズル装置から噴射された気体の流速が第1通過孔の上方を通過するまでの間に低下することを抑制できる。よって、第1通過孔を通過したスパッタに気体を勢いよく吹き付けることができるので、スパッタを吹き飛ばしやすくすることができるという効果がある。   According to the composite welding apparatus of the second aspect, in addition to the effect of the composite welding apparatus of the first aspect, a pair of rectifications at a position exceeding at least the first passage hole of the shielding plate from the gas injection position by the nozzle device. Since the opposing space | interval of a board is set uniformly, it can suppress that the flow velocity of the gas injected from the nozzle apparatus falls before passing the upper direction of a 1st passage hole. Therefore, since gas can be blown vigorously to the sputter that has passed through the first passage hole, there is an effect that the spatter can be easily blown off.

請求項記載の複合溶接装置によれば、請求項1又は2に記載の複合溶接装置の奏する効果に加え、一対の整流板のうち蓋板よりも気体の噴射方向下流側に位置する部分の遮蔽板からの高さ寸法が、蓋板と遮蔽板との対向間隔よりも大きく設定されているので、蓋板と遮蔽板との間を通過し終えた気体を上方へ拡散させる際に、その気体が整流板を越えて側方へ拡散することを抑制できる。よって、遮蔽板の下面側の大気が遮蔽板の上面側を通過し終えた気体に巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できるという効果がある。 According to the composite welding apparatus of the third aspect , in addition to the effect exhibited by the composite welding apparatus according to the first or second aspect , the portion of the pair of rectifying plates that is located downstream of the cover plate in the gas injection direction. Since the height dimension from the shielding plate is set to be larger than the facing distance between the lid plate and the shielding plate, when the gas that has passed between the lid plate and the shielding plate is diffused upward, The gas can be prevented from diffusing laterally beyond the current plate. Therefore, since it can suppress that the air | atmosphere on the lower surface side of a shielding board is caught in the gas which has finished passing through the upper surface side of a shielding board, there exists an effect that it can reduce that shielding gas is caught in the flow of gas.

請求項記載の複合溶接装置によれば、請求項1からのいずれかに記載の複合溶接装置の奏する効果に加え、遮蔽板のうち第1通過孔よりも気体の噴射方向下流側であって少なくとも一対の整流板の間に位置する部分には、気体の噴射方向下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部を備えているので、遮蔽板の上面側を通過し終えた気体を傾斜底部に沿って上方へ案内することができる。これにより、遮蔽板の上面側を通過し終えた気体に遮蔽板の下面側の大気が巻き込まれることを抑制でき、その結果、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できるという効果がある。 According to the composite welding apparatus of the fourth aspect , in addition to the effect produced by the composite welding apparatus according to any one of the first to third aspects, the shielding plate is located downstream of the first passage hole in the gas injection direction. The portion located between the pair of rectifying plates is provided with an inclined bottom portion that is inclined upward with respect to the horizontal plane toward the downstream side in the gas injection direction, so that the gas that has passed through the upper surface side of the shielding plate is inclined. It can be guided upward along the bottom. Thereby, it can suppress that the air | atmosphere on the lower surface side of a shielding board is caught in the gas which has passed the upper surface side of the shielding board, As a result, there exists an effect that it can reduce that a shielding gas is caught in the flow of gas. .

本発明の第1実施の形態における複合溶接装置の要部を表した模式図である。It is a schematic diagram showing the principal part of the composite welding apparatus in 1st Embodiment of this invention. スパッタ遮蔽部の上面図である。It is a top view of a sputter | spatter shielding part. (a)は、図2のIIIa−IIIa線におけるスパッタ遮蔽部の断面図であり、(b)は、図2のIIIb−IIIb線におけるスパッタ遮蔽部の断面図である。(A) is sectional drawing of the sputter | spatter shielding part in the IIIa-IIIa line | wire of FIG. 2, (b) is sectional drawing of the sputter | spatter shielding part in the IIIb-IIIb line | wire of FIG. 第2実施の形態における複合溶接装置の要部を表した模式図である。It is the schematic diagram showing the principal part of the composite welding apparatus in 2nd Embodiment. (a)は、第3実施の形態におけるスパッタ遮蔽部の上面図であり、(b)は、第4実施の形態におけるスパッタ遮蔽部の上面図である。(A) is a top view of the sputtering shielding part in 3rd Embodiment, (b) is a top view of the sputtering shielding part in 4th Embodiment. 第5実施の形態における複合溶接装置の要部を表した模式図である。It is the schematic diagram showing the principal part of the composite welding apparatus in 5th Embodiment. スパッタ遮蔽部の上面図である。It is a top view of a sputter | spatter shielding part. 第6実施の形態における複合溶接装置のスパッタ遮蔽部の上面図である。It is a top view of the sputter | spatter shielding part of the composite welding apparatus in 6th Embodiment.

以下、本発明の好ましい実施の形態について添付図面を参照して説明する。まず、図1を参照して、本発明の第1実施の形態における複合溶接装置100の概略構成について説明する。図1は、本発明の第1実施の形態における複合溶接装置100の要部を模式的に表した模式図である。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First, with reference to FIG. 1, a schematic configuration of the composite welding apparatus 100 in the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing the main part of the composite welding apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention.

図1に示すように、複合溶接装置100は、レーザ溶接とガスシールドアーク溶接とを組み合わせた、いわゆるレーザ・アークハイブリッド溶接装置であり、母材wが配設される溶接位置の上方に配設されるレーザ照射部20と、そのレーザ照射部20よりも下方であって溶接位置の上方に配設されるトーチ部30と、そのトーチ部30及び溶接位置よりも上方であってレーザ照射部20の下方に配設されるスパッタ遮蔽部40とを主に備えている。   As shown in FIG. 1, the composite welding apparatus 100 is a so-called laser-arc hybrid welding apparatus that combines laser welding and gas shielded arc welding, and is disposed above a welding position where a base material w is disposed. A laser irradiation unit 20, a torch unit 30 disposed below the laser irradiation unit 20 and above the welding position, and a laser irradiation unit 20 disposed above the torch unit 30 and the welding position. And a sputter shield 40 disposed below the main body.

レーザ照射部20は、溶接位置に配設された母材wに対しレーザ溶接を行うものであり、レーザ光Lを発生させるレーザ発器(図示せず)と、そのレーザ発器から発生したレーザ光Lを集光して母材wに照射する集光レンズ21と、その集光レンズ21を保護する保護ガラス22とを備えている。 The laser irradiation unit 20 is for performing laser welding to the base metal w disposed to the welding position, the laser oscillation apparatus for generating laser light L (not shown), generated from the laser oscillation unit The condensing lens 21 which condenses the laser beam L and irradiates the base material w, and the protective glass 22 which protects the condensing lens 21 are provided.

保護ガラス22は、溶接位置に配設された母材wに対する溶接加工時に発生するスパッタが集光レンズ21に付着することを防止するための部材であり、集光レンズ21と溶接位置との間に配設されると共に集光レンズ21により集光されたレーザLが透過可能に構成されている。   The protective glass 22 is a member for preventing spatter generated during welding processing on the base material w disposed at the welding position from adhering to the condensing lens 21, and between the condensing lens 21 and the welding position. And the laser L condensed by the condenser lens 21 can be transmitted.

トーチ部30は、母材wに対しガスシールドアーク溶接を行うものであり、母材wとの間にアークを発生させるアーク発生手段(図示せず)と、そのアーク発生手段から発生するアークを大気から遮蔽するためのシールドガスを母材wへ向けて噴射するシールドガス噴射手段(図示せず)とを備えている。   The torch part 30 performs gas shielded arc welding on the base material w, and generates an arc between the base material w and an arc generating means (not shown) and an arc generated from the arc generating means. Shield gas injection means (not shown) for injecting a shield gas for shielding from the atmosphere toward the base material w is provided.

なお、本実施の形態における複合溶接装置100では、集光レンズ21に集光されたレーザ光Lが鉛直方向(図1上下方向)に沿って照射され、そのレーザLが照射される方向に対して30度傾斜した方向からシールドガスが母材wへ向けて噴射されている。   In composite welding apparatus 100 according to the present embodiment, laser beam L focused on condenser lens 21 is irradiated along the vertical direction (vertical direction in FIG. 1), and the direction in which laser L is irradiated is irradiated. Shield gas is injected toward the base material w from a direction inclined by 30 degrees.

スパッタ遮蔽部40は、スパッタが保護ガラス22に付着することを防止するためのものである。   The sputter shield 40 is for preventing spatter from adhering to the protective glass 22.

次に、図2及び図3を参照して、スパッタ遮蔽部40の詳細構成について説明する。図2は、スパッタ遮蔽部40の上面図である。図3(a)は、図2のIIIa−IIIa線におけるスパッタ遮蔽部40の断面図であり、図3(b)は、図2のIIIb−IIIb線におけるスパッタ遮蔽部40の断面図である。なお、図2及び図3(b)では、ノズル装置44から噴射された気体の流れを矢印で模式的に図示している。   Next, with reference to FIG.2 and FIG.3, the detailed structure of the sputter | spatter shielding part 40 is demonstrated. FIG. 2 is a top view of the sputter shield 40. FIG. 3A is a cross-sectional view of the sputter shield 40 taken along the line IIIa-IIIa in FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the sputter shield 40 taken along the line IIIb-IIIb in FIG. In FIGS. 2 and 3B, the flow of gas injected from the nozzle device 44 is schematically shown by arrows.

図2に示すように、スパッタ遮蔽部40は、板状の遮蔽板41と、その遮蔽板41の上面側(図2紙面手前側)に立設される一対の整流板42と、それら一対の整流板42に架設される蓋板43と、それら遮蔽板41、一対の整流板42及び蓋板43により包囲された空間内へ向けて気体を噴射するノズル装置44とを主に備えている。   As shown in FIG. 2, the sputter shielding unit 40 includes a plate-shaped shielding plate 41, a pair of rectifying plates 42 erected on the upper surface side (front side of FIG. 2) of the shielding plate 41, and the pair of the shielding plates 40. A lid plate 43 provided on the rectifying plate 42 and a nozzle device 44 that mainly injects gas into the space surrounded by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 42 and the lid plate 43 are mainly provided.

遮蔽板41は、レーザ光Lの通過を許容しつつ保護ガラス22(図1参照)へ向けて飛散するスパッタを遮蔽するための部位である。遮蔽板41は、レーザ光Lが通過可能に貫通形成される第1通過孔41aを備え、レーザ光Lが照射される位置と対応する位置に第1通過孔41aを配置した状態で、遮蔽板41がレーザ光Lの照射方向(図2紙面垂直方向)に直交する方向に沿って配設されている。   The shielding plate 41 is a part for shielding spatter scattered toward the protective glass 22 (see FIG. 1) while allowing the laser light L to pass therethrough. The shielding plate 41 includes a first passage hole 41a that is formed so as to allow the laser light L to pass therethrough, and the shielding plate 41 is disposed in a state where the first passage hole 41a is disposed at a position corresponding to the position irradiated with the laser light L. 41 is arranged along the direction orthogonal to the irradiation direction of the laser light L (the vertical direction in FIG. 2).

また、遮蔽板41のうち気体の噴射方向に直交する方向に位置する側端部分(図2上下方向における端部)には、遮蔽板41の上面側(図2紙面手前側)へ向けて上昇傾斜する傾斜側端部41bが形成されている。   Moreover, the side edge part (end part in the up-down direction of FIG. 2) located in the direction orthogonal to the gas injection direction among the shielding plates 41 rises toward the upper surface side (the front side of FIG. 2) of the shielding plate 41. An inclined side end portion 41b that is inclined is formed.

一対の整流板42は、ノズル装置44から噴射された気体を案内する部位であり、気体の噴射方向(図2左右方向)に沿って延設されている。   The pair of rectifying plates 42 is a portion for guiding the gas ejected from the nozzle device 44, and extends along the gas ejection direction (left-right direction in FIG. 2).

一対の整流板42は、その延設方向一側(気体の噴射方向上流側、図2右側)に形成される一対の第1整流部42aと、その第1整流部42aの延設方向他側(気体の噴射方向下流側、図2左側)の端部に延設方向一側の端部が連設される一対の第2整流部42bと、その第2整流部42bの延設方向他側の端部に延設方向一側の端部が連設される第3整流部42cとを備えている。   The pair of rectifying plates 42 includes a pair of first rectifying parts 42a formed on one side in the extending direction (upstream side of the gas injection direction, right side in FIG. 2) and the other side in the extending direction of the first rectifying part 42a. A pair of second rectifying parts 42b in which one end part in the extending direction is connected to the end part (downstream of the gas injection direction, left side in FIG. 2), and the other side in the extending direction of the second rectifying part 42b And a third rectifying unit 42c having an end on one side extending in the extending direction.

第1整流部42aは、矩形板状に形成され、第1通過孔41aを挟んだ両側に一対の整流部42aが立設されている。一対の第1整流部42aは、その対向間隔が均一となるように気体の噴射方向に沿って延設されている。   The first rectification unit 42a is formed in a rectangular plate shape, and a pair of rectification units 42a are provided upright on both sides of the first passage hole 41a. The pair of first rectification units 42a are extended along the gas injection direction so that the facing distance is uniform.

第1整流部42aは、その延設方向一側の端部が気体の噴射方向上流側における遮蔽板41の端部に位置し、第1整流部42aの延設方向他側の端部が第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側に位置している。また、第1整流部42aは、その延設方向において遮蔽板41からの高さ寸法が一定となっている。   The first rectifying unit 42a has an end on one side in the extending direction located at the end of the shielding plate 41 on the upstream side in the gas injection direction, and an end on the other side in the extending direction of the first rectifying unit 42a. It is located downstream of the first passage hole 41a in the gas injection direction. Further, the first rectifying unit 42a has a constant height from the shielding plate 41 in the extending direction.

第2整流部42bは、矩形板状に形成されている。一対の第2整流部42bは、それら一対の第2整流部42bの対向間隔が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて徐々に幅広くなるように配設されている。また、第2整流部42bは、遮蔽板41からの高さ寸法が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて徐々に大きくなるように設定されている。   The second rectifying unit 42b is formed in a rectangular plate shape. The pair of second rectification units 42b are arranged such that the facing distance between the pair of second rectification units 42b gradually increases from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction. The second rectification unit 42b is set such that the height from the shielding plate 41 gradually increases from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction.

第3整流部42cは、矩形板状に形成されている。一対の第3整流部42cは、その対向間隔が均一となるように気体の噴射方向に沿って延設され、各第3整流部42cの延設方向他側の端部が気体の噴射方向下流側における遮蔽板41の端部に位置している。また、第3整流部42cは、その延設方向において遮蔽板41からの高さ寸法が一定となっている。   The third rectifying unit 42c is formed in a rectangular plate shape. The pair of third rectification parts 42c are extended along the gas injection direction so that the interval between the pair of third rectification parts is uniform, and the end on the other side of the extension direction of each third rectification part 42c is downstream of the gas injection direction. It is located at the end of the shielding plate 41 on the side. The third rectification unit 42c has a constant height from the shielding plate 41 in the extending direction.

このように、一対の整流板42は、気体の噴射方向上流側における遮蔽板41の端部から第1通過孔41aを超える位置までは、対向間隔が均一となるように第1整流部42aが気体の噴射方向に沿って形成され、第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側では、一対の第1整流部42aよりも対向間隔が幅広くなるように一対の第2整流部42b及び第3整流部42cが形成されている。   Thus, the pair of rectifying plates 42 has the first rectifying portion 42a so that the facing distance is uniform from the end of the shielding plate 41 on the upstream side in the gas injection direction to the position beyond the first passage hole 41a. A pair of second rectifying portions 42b and a second rectifying portion 42b are formed along the gas injection direction so that the facing distance is wider than the pair of first rectification portions 42a downstream of the first passage hole 41a in the gas injection direction. Three rectification parts 42c are formed.

また、一対の整流板42は、第1整流部42aが、延設方向において遮蔽板41からの高さ寸法が一定に設定されると共に、その第1整流部42aの遮蔽板41aからの高さ寸法よりも第2整流部42b及び第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法が大きくなるように設定されている。   Further, in the pair of rectifying plates 42, the height of the first rectifying portion 42a from the shielding plate 41 is set to be constant in the extending direction, and the height of the first rectifying portion 42a from the shielding plate 41a is set. The height dimension from the shielding plate 41 of the 2nd rectification | straightening part 42b and the 3rd rectification | straightening part 42c is set so that it may become larger than a dimension.

なお、遮蔽板41のうち第3整流部42cの間に位置する部分には、気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部45が形成されている。   An inclined bottom portion 45 that is inclined upward with respect to the horizontal plane from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction is formed in a portion of the shielding plate 41 located between the third rectifying portions 42c.

蓋板43は、レーザ光Lの通過を許容しつつノズル装置44から噴射された気体が上方へ拡散することを抑制する部位であり、遮蔽板41に対向して配設されている。また、蓋板43には、遮蔽板41の第1通過孔41aと対応する位置に、レーザ光Lが通過可能な第2通過孔43aが貫通形成されている。   The cover plate 43 is a portion that suppresses the upward diffusion of the gas injected from the nozzle device 44 while allowing the laser light L to pass therethrough, and is disposed to face the shielding plate 41. The lid plate 43 is formed with a second passage hole 43a through which the laser light L can pass, at a position corresponding to the first passage hole 41a of the shielding plate 41.

なお、レーザ光Lの照射方向(図2紙面垂直方向)から視た第1通過孔41aの開口面積が第2通過孔43aの開口面積よりも小さく設定されている。遮蔽板41に形成される第1通過孔41aの開口面積を小さくすることで、第1通過孔41aを通過するスパッタを少なくすることができる。   Note that the opening area of the first passage hole 41a as viewed from the irradiation direction of the laser light L (perpendicular to the plane of FIG. 2) is set smaller than the opening area of the second passage hole 43a. By reducing the opening area of the first passage hole 41a formed in the shielding plate 41, it is possible to reduce spatter passing through the first passage hole 41a.

ここで、スパッタ遮蔽部40は、遮蔽板41の第1通過孔41aから気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法が、蓋板43の第2通過孔43aから気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法よりも大きく設定され、蓋板43が、一対の整流板42のうち第1整流部42aのみに対して架設されている。これにより、一対の整流板42の間に形成される空間のうち、一対の第1整流部42aの間に形成される空間は上方が蓋板43により閉塞されるのに対し、第2整流部42b及び第3整流部42cの間に形成される空間は上方が開放されている。   Here, the sputter shielding part 40 has a length dimension extending from the first passage hole 41a of the shielding plate 41 to the downstream side in the gas injection direction, and is downstream of the second passage hole 43a of the cover plate 43 in the gas injection direction. The cover plate 43 is installed only on the first rectifying portion 42a of the pair of rectifying plates 42. Thereby, among the spaces formed between the pair of rectifying plates 42, the space formed between the pair of first rectifying portions 42 a is closed by the lid plate 43 on the upper side, whereas the second rectifying portion The space formed between 42b and the third rectification unit 42c is open upward.

また、蓋板43が一対の整流板42のうち第1整流部42aにのみ架設されることで、第2整流部42b及び第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法が、蓋板43と遮蔽板41との対向間隔よりも大きくなっている。   In addition, since the lid plate 43 is installed only on the first rectifying unit 42a of the pair of rectifying plates 42, the height dimension of the second rectifying unit 42b and the third rectifying unit 42c from the shielding plate 41 is determined by the lid plate. 43 and the shielding plate 41 are larger than the facing distance.

図3(a)に示すように、ノズル装置44は、第1通過孔41aを通過したスパッタを吹き飛ばすための気体を噴射する装置である。ノズル装置44には、気体が噴射される噴出口44aが形成され、その噴出口44aから噴射される気体が第1通過孔41aと第2通過孔43aとの間を通過するようにノズル装置44が配置されている。   As shown to Fig.3 (a), the nozzle apparatus 44 is an apparatus which injects the gas for blowing off the sputter | spatter which passed the 1st passage hole 41a. The nozzle device 44 is formed with an ejection port 44a through which gas is ejected, and the nozzle device 44 is configured so that the gas ejected from the ejection port 44a passes between the first passage hole 41a and the second passage hole 43a. Is arranged.

なお、噴出口44aの幅寸法(図3(a)左右寸法)は、第1通過孔41aの内径よりも大きく、かつ、第2通過孔43aの内径よりも小さい寸法に設定されている。これにより、第1通過孔41aを通過したスパッタに気体を確実に吹き付けることができると共に、噴出口44aの開口面積の大型化を抑制することで、気体を噴射するためのエネルギーを抑制しつつ気体を噴出口44aから勢いよく噴射することができる。   In addition, the width dimension (FIG. 3 (a) left-right dimension) of the jet nozzle 44a is set to the dimension larger than the internal diameter of the 1st passage hole 41a, and smaller than the internal diameter of the 2nd passage hole 43a. Thereby, while being able to spray gas reliably to the sputter | spatter which passed the 1st passage hole 41a, suppressing the enlargement of the opening area of the jet nozzle 44a, it is gas, suppressing the energy for injecting gas. Can be ejected vigorously from the ejection port 44a.

図3(b)に示すように、溶接加工時において、保護ガラス22(図1参照)へ向けて飛散するスパッタの大部分は、遮蔽板41に遮蔽される。しかしながら、遮蔽板41には、レーザ光Lを通過させるための第1通過孔41aが形成されているので、スパッタの一部は第1通過孔41aを通過する。   As shown in FIG. 3B, most of the spatter that scatters toward the protective glass 22 (see FIG. 1) is shielded by the shielding plate 41 during the welding process. However, since the first passage hole 41a for allowing the laser light L to pass through is formed in the shielding plate 41, a part of the spatter passes through the first passage hole 41a.

これに対し、ノズル装置44から第1通過孔41aの上方へ向けて気体を噴射する。このノズル装置44から噴射する気体によって第1通過孔41aを通過したスパッタを吹き飛ばすことで、スパッタが保護ガラス22に付着することを回避できる。   On the other hand, gas is injected toward the upper direction of the 1st passage hole 41a from the nozzle apparatus 44. FIG. By blowing off the spatter that has passed through the first passage hole 41a by the gas injected from the nozzle device 44, it is possible to avoid the spatter from adhering to the protective glass 22.

ここで、ノズル装置44から噴射される気体の勢いを強くすることで、スパッタを確実に吹き飛ばすことができる一方、勢いよく噴射された気体が拡散すると、遮蔽板41の下面側の大気が気体に巻き込まれ、母材w(図1参照)へ向けて噴射されるシールドガスも気体に巻き込まれる。この場合、シールドガスによるアークと大気との遮断が不安定となり、却ってスパッタの飛散量を増加させる要因となる。   Here, by increasing the momentum of the gas ejected from the nozzle device 44, it is possible to reliably blow off the spatter. On the other hand, when the gas ejected vigorously diffuses, the atmosphere on the lower surface side of the shielding plate 41 is converted into a gas. The shield gas that is entrained and injected toward the base material w (see FIG. 1) is also entrained in the gas. In this case, the shielding between the arc and the atmosphere by the shielding gas becomes unstable, and on the contrary, it becomes a factor of increasing the amount of spatter scattering.

一方、ノズル装置44から噴射される気体の勢いを弱めると、スパッタを十分に吹き飛ばすことができず、保護ガラス22へのスパッタの付着が多くなる。   On the other hand, if the momentum of the gas injected from the nozzle device 44 is weakened, the spatter cannot be blown out sufficiently, and the spatter adheres to the protective glass 22 increases.

これに対し、スパッタ遮蔽部40は、遮蔽板41、一対の整流板42及び蓋板43により包囲された空間内に向けて気体を噴射する。   On the other hand, the sputter shielding unit 40 injects gas toward the space surrounded by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 42 and the lid plate 43.

一対の整流板42は、気体の噴射方向上流側における端部から第1通過孔41aを超える位置まで延設される第1整流部42aが、その対向間隔が均一となるように気体の噴射方向に沿って形成されているので、ノズル装置44から噴射された気体の流速が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に低下することを抑制できる。よって、第1通過孔41aを通過したスパッタに気体を勢いよく吹き付けることができるので、スパッタを吹き飛ばしやすくすることができる。さらに、ノズル装置44から噴射された気体が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に、気体が側方(図3(b)紙面手前方向)へ拡散することを防止できる。   The pair of rectifying plates 42 is arranged in the gas injection direction so that the first rectification portions 42a extending from the end portion on the upstream side in the gas injection direction to the position exceeding the first passage hole 41a have a uniform facing distance. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the flow rate of the gas injected from the nozzle device 44 until it passes above the first passage hole 41a. Therefore, since the gas can be blown vigorously to the spatter that has passed through the first passage hole 41a, it is possible to easily blow off the spatter. Furthermore, gas can be prevented from diffusing laterally (in the direction toward the front of the paper in FIG. 3B) until the gas jetted from the nozzle device 44 passes above the first passage hole 41a.

また、一対の整流板42は、第1整流部42aに蓋板43が架設されることで遮蔽板41に対向して配設され、一対の第1整流部42aの間に形成される空間の上方が蓋板43により閉塞されているので、ノズル装置44から噴射された気体が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に、気体が上方(図3(b)上方)へ拡散することを防止できる。   In addition, the pair of rectifying plates 42 is disposed so as to face the shielding plate 41 by laying the cover plate 43 on the first rectifying portion 42a, and is a space formed between the pair of first rectifying portions 42a. Since the upper portion is closed by the lid plate 43, the gas diffuses upward (upward in FIG. 3B) until the gas injected from the nozzle device 44 passes above the first passage hole 41a. Can be prevented.

このように、遮蔽板41、一対の整流板42及び蓋板43により包囲された空間内に向けて気体を噴射することで、ノズル装置44から噴射された気体が上方や側方へ拡散することを防止できる。これにより、ノズル装置44から噴射された気体の流速が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に低下することを抑制できるので、第1通過孔41aを通過したスパッタに対して気体を勢いよく吹き付けることができると共に、第1通過孔41aの上面側に気体を確実に通過させることで第1通過孔41aを通過したスパッタを確実に吹き飛ばすことができる。   In this way, by injecting gas into the space surrounded by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 42 and the lid plate 43, the gas injected from the nozzle device 44 diffuses upward or laterally. Can be prevented. Thereby, since it can suppress that the flow velocity of the gas injected from the nozzle apparatus 44 passes through the upper direction of the 1st passage hole 41a, it can suppress gas with respect to the sputter | spatter which passed the 1st passage hole 41a. While being able to spray vigorously, the sputter | spatter which passed the 1st passage hole 41a can be reliably blown off by allowing gas to pass through the upper surface side of the 1st passage hole 41a reliably.

また、一対の整流板42は、第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側に形成される一対の第2整流部42bの対向間隔が、気体の噴射方向上流側から下流側へ向かうにつれて幅広くなっている。これにより、第1通過孔41aの上方を通過して一対の第2整流部42bの間に進入する気体を側方へ拡散することができるので、気体の流速を低下させることができる。   In addition, in the pair of rectifying plates 42, as the facing distance of the pair of second rectifying portions 42 b formed on the downstream side in the gas injection direction from the first passage hole 41 a moves from the upstream side in the gas injection direction toward the downstream side. It has become wide. Thereby, since the gas which passes above the 1st passage hole 41a and enters between a pair of 2nd rectification | straightening parts 42b can be spread | diffused to the side, the flow velocity of gas can be reduced.

また、一対の第2整流部42bは、その対向間隔が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて徐々に幅広くなっているので、一対の第2整流部42bが気体の噴射方向下流側における第1整流部42aの端部に垂直に連設され、互いに離間する方向へ向けて延設されている場合と比べて、気体を拡散しやすくすることができ、その結果、気体の流速を低下させやすくすることができる。   In addition, since the pair of second rectification parts 42b are gradually widened from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction, the pair of second rectification parts 42b are arranged on the downstream side in the gas injection direction. Compared with the case where the first rectifying unit 42a is vertically connected to the end of the first rectifying unit 42a and extends in directions away from each other, the gas can be easily diffused, and as a result, the gas flow velocity is reduced. It can be made easy.

さらに、スパッタ遮蔽部40は、一対の整流板42のうち、一対の第1整流部42aには蓋板43が架設され、一対の第1整流部42aの間に形成された空間の上方は蓋板43により閉塞されているのに対し、一対の第2整流部42b及び一対の第3整流部42cには蓋板43が架設されておらず、一対の第2整流部42b及び一対の第3整流部42cの間に形成された空間の上方は開放されている。よって、一対の第2整流部42b及び一対の第3整流部42cの間に進入した気体を上方へ拡散させやすくすることができる。   Further, the sputter shielding unit 40 includes a pair of rectifying plates 42, a pair of first rectifying units 42 a provided with a lid plate 43, and a space formed between the pair of first rectifying units 42 a above the lid. The lid 43 is not erected on the pair of second rectification units 42b and the pair of third rectification units 42c, but is closed by the plate 43, and the pair of second rectification units 42b and the pair of third rectification units 42c. The upper part of the space formed between the rectifying parts 42c is open. Therefore, the gas that has entered between the pair of second rectification units 42b and the pair of third rectification units 42c can be easily diffused upward.

これに加え、スパッタ遮蔽部40は、第2整流部42b及び第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法が、蓋板43と遮蔽板41との対向間隔よりも大きく設定され、第2整流部42b及び第3整流部42cの上端が蓋板43よりも上方(図3(b)上側)へ突出している。   In addition to this, the height of the sputter shielding unit 40 from the shielding plate 41 of the second rectifying unit 42b and the third rectifying unit 42c is set to be larger than the facing distance between the cover plate 43 and the shielding plate 41. The upper ends of the second rectification unit 42b and the third rectification unit 42c protrude above the cover plate 43 (upper side in FIG. 3B).

これにより、第2整流部42b及び第3整流部42cに進入した気体を上方へ拡散させる際に、その気体が第2整流部42b及び第3整流部42cを越えて側方(図3(b)紙面垂直方向)へ拡散することを抑制できる。   As a result, when the gas that has entered the second rectification unit 42b and the third rectification unit 42c is diffused upward, the gas passes the second rectification unit 42b and the third rectification unit 42c, and is lateral (see FIG. ) Diffusion in the direction perpendicular to the paper surface) can be suppressed.

さらに、遮蔽板41のうち第3整流部42cの間に位置する部分には、気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部45が形成されているので、第3整流部42cの間を通過した気体を傾斜底部45により上方へ案内できる。   Furthermore, since a portion of the shielding plate 41 located between the third rectifying portions 42c is formed with an inclined bottom portion 45 that is inclined upward with respect to the horizontal plane from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction, The gas that has passed between the third rectifying portions 42 c can be guided upward by the inclined bottom portion 45.

また、一対の第3整流部42cは、その対向間隔が均一に設定されているので、側方へ流れようとする気体を上方へ案内しやすくすることができる。   In addition, since the pair of third rectifying portions 42c are set to have a uniform facing interval, it is possible to easily guide the gas that flows to the side upward.

さらに、遮蔽板41の側端部には、傾斜側端部41bが形成されているので、遮蔽板41の側方へ拡散した気体を上方へ案内できる。   Furthermore, since the inclined side end portion 41b is formed at the side end portion of the shielding plate 41, the gas diffused to the side of the shielding plate 41 can be guided upward.

このように、第1通過孔41aの上方を通過し、一対の第2整流部42b及び一対の第3整流部42cの間に進入した気体を上方へ拡散させやすくすることで、ノズル装置44から気体を勢いよく噴射したとしても、遮蔽板41の下面側の大気が遮蔽板41の上面側を通過し終えた気体の流れに巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できる。   As described above, the gas that has passed through the first passage hole 41a and has entered between the pair of second rectification units 42b and the pair of third rectification units 42c can be easily diffused upward. Even if the gas is jetted vigorously, it is possible to prevent the atmosphere on the lower surface side of the shielding plate 41 from being involved in the gas flow that has passed through the upper surface side of the shielding plate 41, so that the shielding gas is involved in the gas flow. Can be reduced.

このように、ノズル装置44から気体を勢いよく噴射すると共に、第1通過孔41aの上方を通過するまでの間における気体の流速低下を抑制することで、スパッタに対して気体を勢いよく噴射して第1通過孔41aを通過するスパッタを吹き飛ばしやすくすることができる。さらに、第1通過孔41aを通過した後の気体の流速を低下させることで、遮蔽板41の上面側を通過し終えた気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できる。   As described above, the gas is ejected vigorously from the nozzle device 44, and the gas is vigorously ejected with respect to the sputtering by suppressing the decrease in the flow velocity of the gas until it passes over the first passage hole 41a. Thus, it is possible to easily blow off the spatter passing through the first passage hole 41a. Furthermore, by reducing the flow velocity of the gas after passing through the first passage hole 41a, it is possible to reduce that the shielding gas is involved in the gas flow that has passed through the upper surface side of the shielding plate 41.

よって、第1通過孔41aを通過したスパッタに対して吹き付ける気体の流速を確保することによるスパッタの保護ガラス22(図1参照)への付着防止と、一対の整流板42の間を通過し終えた気体の流速を低下させることによる気体へのシールドガス巻き込み低減との両立を図ることができる。   Therefore, by preventing the adhesion of the sputter to the protective glass 22 (see FIG. 1) by ensuring the flow velocity of the gas blown against the sputter that has passed through the first passage hole 41a, the passage between the pair of rectifying plates 42 is completed. Furthermore, it is possible to achieve both reduction of entrainment of shield gas in the gas by reducing the flow rate of the gas.

次に、図4を参照して、第2実施の形態について説明する。第1実施の形態における複合溶接装置100では、集光レンズ21に集光されたレーザ光Lが鉛直方向に沿って照射される場合について説明したが、第2実施の形態における複合溶接装置200では、トーチ部30から噴射されるシールドガスを鉛直方向に沿って噴射している。図4は、第2実施の形態における複合溶接装置200の要部を模式的に表した模式図である。なお、第1実施の形態と同一の部分は、同じ符号を付して以下の説明を省略する。   Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. In the composite welding apparatus 100 in the first embodiment, the case where the laser beam L focused on the condenser lens 21 is irradiated along the vertical direction has been described. In the composite welding apparatus 200 in the second embodiment, The shield gas injected from the torch part 30 is injected along the vertical direction. FIG. 4 is a schematic diagram schematically showing the main part of the composite welding apparatus 200 in the second embodiment. Note that the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the following description is omitted.

図4に示すように、複合溶接装置200では、トーチ部30から噴射されるシールドガスを鉛直方向に沿って噴射し、集光レンズ21に集光されたレーザ光がシールドガスの噴射方向に対して30度傾斜した方向から照射されている。   As shown in FIG. 4, in the composite welding apparatus 200, the shield gas injected from the torch part 30 is injected along the vertical direction, and the laser beam condensed on the condenser lens 21 is in the shield gas injection direction. It is irradiated from the direction inclined 30 degrees.

これにより、レーザ光Lを鉛直方向に沿って照射する場合と比べて、飛散して遮蔽板41の第1通過孔41aを通過するスパッタの量を少なくすることができるので、保護ガラス22へのスパッタの付着を防止しやすくすることができる。   Thereby, compared with the case where the laser beam L is irradiated along the vertical direction, the amount of spatter scattered and passing through the first passage hole 41a of the shielding plate 41 can be reduced. Spatter adhesion can be easily prevented.

次に、図5(a)を参照して、第3実施の形態について説明する。第1実施の形態では、一対の第1整流部42aと一対の第2整流部42bと一対の第3整流部42cとを備える一対の整流板42のうち、一対の第2整流部42bのみが気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて対向間隔が幅広くなるように設定されていたが、第3実施の形態では、一対の整流板342が、延設方向全体に亘って噴射方向上流側から下流側へ向けて対向間隔が幅広くなるように設定されている。図5(a)は、第3実施の形態におけるスパッタ遮蔽部340の上面図であり、ノズル装置44から噴射される気体の流れを矢印で模式的に図示している。なお、上記した各実施の形態と同一の部分は、同じ符号を付して以下の説明を省略する。   Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. In the first embodiment, only the pair of second rectification units 42b out of the pair of rectification plates 42 including the pair of first rectification units 42a, the pair of second rectification units 42b, and the pair of third rectification units 42c. In the third embodiment, the pair of rectifying plates 342 are disposed upstream in the injection direction over the entire extending direction, although the opposing interval is set to increase from the upstream side in the gas injection direction toward the downstream side. Is set so that the facing interval becomes wider toward the downstream side. FIG. 5A is a top view of the sputter shield 340 in the third embodiment, and schematically shows the flow of gas injected from the nozzle device 44 with arrows. The same parts as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and the following description is omitted.

図5(a)に示すように、スパッタ遮蔽部340は、第1通過孔41aを有する遮蔽板41と、その遮蔽板41の第1通過孔41aを挟んだ両側に立設される一対の整流板342と、それら一対の整流板342に架設される蓋板343と、ノズル装置44とを備えている。   As shown in FIG. 5 (a), the sputter shield 340 includes a shield plate 41 having a first passage hole 41a and a pair of rectifiers standing on both sides of the shield plate 41 across the first passage hole 41a. A plate 342, a cover plate 343 installed on the pair of rectifying plates 342, and a nozzle device 44 are provided.

整流板342は、ノズル装置44から噴射される気体の噴射方向に沿って延設されると共に、一対の整流板342の対向間隔が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて徐々に幅広くなっている。また、遮蔽板41のうち一対の整流板342の間であって第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側に位置する部分には、気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部345が形成されている。   The rectifying plate 342 extends along the injection direction of the gas injected from the nozzle device 44, and the interval between the pair of rectifying plates 342 gradually increases from the upstream side to the downstream side of the gas injection direction. ing. Further, a portion of the shielding plate 41 between the pair of rectifying plates 342 and located downstream of the first passage hole 41a in the gas injection direction is a horizontal plane from the gas injection direction upstream to the downstream. An inclined bottom portion 345 that is inclined upward is formed.

これにより、ノズル装置44から気体を勢いよく噴射したとしても、遮蔽板41の下面側の大気が遮蔽板41の上面側を通過し終えた気体の流れに巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できる。   Thereby, even if gas is ejected vigorously from the nozzle device 44, it is possible to prevent the atmosphere on the lower surface side of the shielding plate 41 from being caught in the flow of gas that has passed through the upper surface side of the shielding plate 41. It can reduce that shield gas is caught in a flow.

次に、図5(b)を参照して、第4実施の形態について説明する。第1実施の形態では、一対の第1整流部42aと一対の第2整流部42bと一対の第3整流部42cとを備える一対の整流板42のうち、一対の第2整流部42bのみが気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて対向間隔が幅広くなるように設定されていたが、第4実施の形態では、一対の整流板442のうち第3整流部442cのみが噴射方向上流側から下流側へ向けて対向間隔が幅広くなるように設定されている。図5(b)は、第4実施の形態におけるスパッタ遮蔽部440の上面図であり、ノズル装置44から噴射される気体の流れを矢印で模式的に図示している。なお、上記した各実施の形態と同一の部分は、同じ符号を付して以下の説明を省略する。   Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the first embodiment, only the pair of second rectification units 42b out of the pair of rectification plates 42 including the pair of first rectification units 42a, the pair of second rectification units 42b, and the pair of third rectification units 42c. In the fourth embodiment, only the third rectification unit 442c of the pair of rectifying plates 442 is upstream in the injection direction, although the opposing interval is set to widen from the upstream side in the gas injection direction toward the downstream side. Is set so that the facing interval becomes wider toward the downstream side. FIG. 5B is a top view of the sputter shield 440 in the fourth embodiment, and schematically shows the flow of gas injected from the nozzle device 44 with arrows. The same parts as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and the following description is omitted.

図5(b)に示すように、スパッタ遮蔽部440は、第1通過孔41aを有する遮蔽板41と、その遮蔽板41の第1通過孔41aを挟んだ両側に立設される一対の整流板442と、蓋板43と、ノズル装置44とを備えている。   As shown in FIG. 5B, the sputter shield 440 includes a shield plate 41 having a first passage hole 41a and a pair of rectifiers standing on both sides of the shield plate 41 across the first passage hole 41a. A plate 442, a lid plate 43, and a nozzle device 44 are provided.

一対の整流板442は、一対の第1整流部42aと、その第1整流部42aの延設方向他側(気体の噴射方向下流側、図5(b)左側)の端部に延設方向一側の端部が連設される一対の第2整流部442bと、その第2整流部442bの延設方向他側の端部に延設方向一側の端部が連設される第3整流部442cとを備えている。   The pair of rectifying plates 442 extend in the direction extending to the end of the pair of first rectifying portions 42a and the other side in the extending direction of the first rectifying portions 42a (the downstream side in the gas injection direction, the left side in FIG. 5B). A pair of second rectification portions 442b provided with one end portion on one side, and a third portion provided with an end portion on one side in the extending direction on the other end portion in the extending direction of the second rectification portion 442b. And a rectifying unit 442c.

第2整流部442bは、矩形板状に形成され、一対の第2整流部442bの対向間隔が均一となるように気体の噴射方向に沿って設定されている。   The 2nd rectification | straightening part 442b is formed in a rectangular plate shape, and is set along the gas injection direction so that the opposing space | interval of a pair of 2nd rectification | straightening part 442b may become uniform.

第3整流部442cは、湾曲した板状に形成されると共に、一対の第3整流部442cの対向間隔が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて互いに離間するように配設されている。また、遮蔽板41のうち一対の第3整流部442cの間に位置する部分には、気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部445が形成されている。   The third rectification unit 442c is formed in a curved plate shape, and is disposed so that the facing distance between the pair of third rectification units 442c is separated from the upstream side toward the downstream side in the gas injection direction. . In addition, an inclined bottom portion 445 that is inclined upward with respect to the horizontal plane from the upstream side toward the downstream side in the gas injection direction is formed in a portion of the shielding plate 41 located between the pair of third rectifying portions 442c. .

スパッタ遮蔽部440は、気体が一対の第1整流部42aの間および一対の第2整流部442bの間を通過するまでの間において、気体の流速が低下することを抑制できるので、第1通過孔41aを通過したスパッタに対して気体を勢いよく吹き付けることができる。一方、一対の第3整流部442cの間に進入した気体を上方または側方(図5(b)紙面垂直方向または上下方向)へ拡散しやすくすることができるので、気体の流速を効率よく低下させることができる。   Since the sputter shielding unit 440 can suppress the gas flow rate from decreasing before the gas passes between the pair of first rectification units 42a and the pair of second rectification units 442b, the first passage is performed. Gas can be blown vigorously against the spatter that has passed through the hole 41a. On the other hand, the gas that has entered between the pair of third rectifying units 442c can be easily diffused upward or sideward (in FIG. 5B, in the vertical direction or the vertical direction on the paper surface), so that the gas flow rate is efficiently reduced. Can be made.

このように、ノズル装置44から気体を勢いよく噴射すると共に、第1通過孔41aの上方を通過するまでの間における気体の流速低下を抑制することで、スパッタに対して気体を勢いよく噴射して第1通過孔41aを通過するスパッタを吹き飛ばしやすくすることができる。さらに、第1通過孔41aを通過した後の気体の流速を低下させることで、遮蔽板41の上面側を通過し終えた気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できる。   As described above, the gas is ejected vigorously from the nozzle device 44, and the gas is vigorously ejected with respect to the sputtering by suppressing the decrease in the flow velocity of the gas until it passes over the first passage hole 41a. Thus, it is possible to easily blow off the spatter passing through the first passage hole 41a. Furthermore, by reducing the flow velocity of the gas after passing through the first passage hole 41a, it is possible to reduce that the shielding gas is involved in the gas flow that has passed through the upper surface side of the shielding plate 41.

次に、図6及び図7を参照して、第5実施の形態について説明する。第1実施の形態では、ノズル装置44から噴射された気体が一対の整流板42、蓋板43及び傾斜底部45に案内される場合について説明したが、第5実施の形態では、ノズル装置44から噴射された気体が整流部542及び排出部545に案内される。図6は、第5実施の形態における複合溶接装置500の要部を模式的に表した模式図であり、排出部545から排出された気体の流れを矢印で模式的に図示している。図7は、スパッタ遮蔽部540の上面図である。なお、上記した各実施の形態と同一の部分は、同じ符号を付して以下の説明を省略する。   Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIGS. In the first embodiment, the case where the gas jetted from the nozzle device 44 is guided to the pair of rectifying plates 42, the cover plate 43, and the inclined bottom portion 45 has been described. In the fifth embodiment, from the nozzle device 44, The injected gas is guided to the rectification unit 542 and the discharge unit 545. FIG. 6 is a schematic diagram schematically showing the main part of the composite welding apparatus 500 according to the fifth embodiment, and the flow of gas discharged from the discharge part 545 is schematically shown by arrows. FIG. 7 is a top view of the sputter shield 540. The same parts as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and the following description is omitted.

図6及び図7に示すように、スパッタ遮蔽部540は、遮蔽板41と、その遮蔽板41の上面側に配設される整流部542と、その整流部542に連設される排出部545と、ノズル装置44とを主に備えて構成されている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the sputter shielding unit 540 includes a shielding plate 41, a rectification unit 542 disposed on the upper surface side of the shielding plate 41, and a discharge unit 545 provided continuously to the rectification unit 542. And a nozzle device 44.

整流部542は、ノズル装置44から噴射された気体を案内するための部位であり、円筒状に形成されている。整流部542は、第1通過孔41aの上方に配置され、遮蔽板41に立設された板状のリブ542aによって遮蔽板41に支持されている。また、整流部542には、第1通過孔41aと対応する位置にレーザ光Lが通過可能な2つの貫通孔542bが貫通形成されている。なお、貫通孔542bは、その開口面積が第1通過孔41aの開口面積よりも大きくなるように形成されている。   The rectifying unit 542 is a part for guiding the gas ejected from the nozzle device 44 and is formed in a cylindrical shape. The rectifying unit 542 is disposed above the first passage hole 41 a and is supported by the shielding plate 41 by a plate-like rib 542 a erected on the shielding plate 41. Further, the rectifying unit 542 is formed with two through holes 542b through which the laser light L can pass at positions corresponding to the first passage holes 41a. The through hole 542b is formed so that the opening area thereof is larger than the opening area of the first passage hole 41a.

整流部542は、その一端側(図7右側)をノズル装置44の噴出口44a(図3参照)に対向させた状態で配置されている。これにより、噴出口44aから噴射される気体が整流部542の内部に吹き付けられるので、第1通過孔41a及び貫通孔542bを通過して整流部542の内部へ進入したスパッタを気体によって吹き飛ばすことができ、その結果、スパッタが保護ガラス22に付着することを防止できる。   The rectifying unit 542 is disposed in a state in which one end side (the right side in FIG. 7) is opposed to the ejection port 44 a (see FIG. 3) of the nozzle device 44. Thereby, since the gas injected from the jet outlet 44a is blown into the inside of the rectifying unit 542, the spatter that has entered the inside of the rectifying unit 542 through the first passage hole 41a and the through hole 542b can be blown off by the gas. As a result, it is possible to prevent spatter from adhering to the protective glass 22.

排出部545は、蛇腹状に構成された蛇腹部545aを有する円筒状に形成されており、排出部545の一端側が整流部542の他端側(図7右側)に連通されると共に、排出部545の他端側(図7左側)が上方へ向けられた状態で開口している。よって、整流部542を通過し終えて排出部545へ流入した気体は、排出部545の他端側から上方へ向けて排出される。   The discharge part 545 is formed in a cylindrical shape having a bellows part 545a configured in a bellows shape, and one end side of the discharge part 545 communicates with the other end side (right side in FIG. 7) of the rectification part 542, and the discharge part The other end side of 545 (the left side in FIG. 7) is opened upward. Therefore, the gas that has passed through the rectifying unit 542 and has flowed into the discharge unit 545 is discharged upward from the other end side of the discharge unit 545.

従って、複合溶接装置500は、整流部542に進入したスパッタをノズル装置44から勢いよく噴射した気体によって確実に吹き飛ばしつつ、整流部542を通過し終えた気体にシールドガスが巻き込まれることを防止でき、スパッタの保護ガラス22への付着防止と気体へのシールドガスの巻き込み防止との両立を図ることができる。   Therefore, the composite welding apparatus 500 can prevent the shielding gas from being caught in the gas that has passed through the rectifying unit 542 while reliably blowing off the sputter that has entered the rectifying unit 542 by the gas jetted from the nozzle device 44. Thus, it is possible to achieve both prevention of adhesion of sputtering to the protective glass 22 and prevention of inclusion of shield gas in the gas.

また、排出部545には蛇腹部545aが形成されているので、排出部545を変形させて開口する排出部545の他端部の向きを変更することができる。これにより、複合溶接装置500を設置するために必要とされるスペースを小さくすることができる。   Moreover, since the bellows part 545a is formed in the discharge part 545, the direction of the other end part of the discharge part 545 opened by deforming the discharge part 545 can be changed. Thereby, the space required for installing the composite welding apparatus 500 can be reduced.

ここで、排出部545の軸心に沿った寸法は、排出部545の外径の5倍以下の寸法に設定することが望ましい。即ち、排出部545の軸心に沿った寸法が排出部545の外径の5倍よりも大きい寸法である場合には、気体が排出部545の他端側まで到達せずに逆流し、その結果、貫通孔542bから排出部545の外部へ流出し、その流出した気体にシールドガスが巻き込まれる。   Here, the dimension along the axial center of the discharge part 545 is desirably set to a dimension not more than five times the outer diameter of the discharge part 545. That is, when the dimension along the axial center of the discharge part 545 is larger than five times the outer diameter of the discharge part 545, the gas flows back without reaching the other end side of the discharge part 545, As a result, the gas flows out from the through hole 542b to the outside of the discharge part 545, and the shield gas is caught in the outflowed gas.

これに対し、排出部545の軸心に沿った寸法を小さくすることで、気体を確実に上方へ向けて排出することができるので、シールドガスが気体に巻き込まれることを防止できる。   On the other hand, since the gas can be reliably discharged upward by reducing the dimension along the axial center of the discharge part 545, it is possible to prevent the shield gas from being caught in the gas.

次に、図8を参照して、第6実施の形態について説明する。第1実施の形態では、ノズル装置44から噴射された気体が一対の整流板42、蓋板43及び傾斜底部45に案内される場合について説明したが、第6実施の形態では、ノズル装置44から噴射された気体が一対の整流板642及び排出部545に案内される。図8は、第6実施の形態におけるスパッタ遮蔽部640の上面図である。なお、上記した各実施の形態と同一の部分は、同じ符号を付して以下の説明を省略する。   Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. In the first embodiment, the case where the gas jetted from the nozzle device 44 is guided to the pair of rectifying plates 42, the cover plate 43, and the inclined bottom portion 45 has been described, but in the sixth embodiment, from the nozzle device 44, The injected gas is guided to the pair of rectifying plates 642 and the discharge unit 545. FIG. 8 is a top view of the sputter shield 640 in the sixth embodiment. The same parts as those in the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and the following description is omitted.

図8に示すように、スパッタ遮蔽部640は、遮蔽板41と、その遮蔽板41の上面側(図8紙面手前側)に立設される一対の整流板642と、それら一対の整流板642に架設される蓋板43と、それら一対の整流板642及び蓋板43に連結される排出部545と、ノズル装置44とを主に備えている。   As shown in FIG. 8, the sputter shielding unit 640 includes a shielding plate 41, a pair of rectifying plates 642 erected on the upper surface side (front side in FIG. 8) of the shielding plate 41, and the pair of rectifying plates 642. A cover plate 43, a discharge plate 545 connected to the pair of rectifying plates 642 and the cover plate 43, and a nozzle device 44.

一対の整流板642は、矩形板状に形成され、第1通過孔41aを挟んだ両側に立設され、一対の第1整流板42aは、その対向間隔が均一となるように気体の噴射方向に沿って延設されているので、ノズル装置44から噴射された気体を第1通過孔41aの上方を通過するように案内しつつ、気体が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に、気体が側方(図8上下方向)へ拡散することを防止できる。   The pair of rectifying plates 642 are formed in a rectangular plate shape, and are erected on both sides of the first passage hole 41a. The pair of first rectifying plates 42a has a gas injection direction so that the opposing distance is uniform. Since the gas jetted from the nozzle device 44 is guided so as to pass above the first passage hole 41a, the gas passes until the gas passes above the first passage hole 41a. In addition, the gas can be prevented from diffusing laterally (the vertical direction in FIG. 8).

また、一対の整流板642の間に形成される空間の上方が蓋板43により閉塞されているので、ノズル装置44から噴射された気体が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に、気体が上方(図8紙面手前方向)へ拡散することを防止できる。   Moreover, since the upper part of the space formed between the pair of rectifying plates 642 is closed by the lid plate 43, the gas jetted from the nozzle device 44 is passed until it passes above the first passage hole 41a. , Gas can be prevented from diffusing upward (frontward in FIG. 8).

このように、遮蔽板41、一対の整流板642及び蓋板43により包囲された空間内に向けて気体を噴射することで、ノズル装置44から噴射された気体が上方や側方へ拡散することを防止できる。これにより、ノズル装置44から噴射された気体の流速が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に低下することを抑制できるので、第1通過孔41aを通過したスパッタに気体を勢いよく吹き付けることができると共に、第1通過孔41aの上面側に気体を確実に通過させることで第1通過孔41aを通過したスパッタを確実に吹き飛ばすことができる。   In this way, by injecting gas into the space surrounded by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 642 and the lid plate 43, the gas injected from the nozzle device 44 diffuses upward or laterally. Can be prevented. Thereby, since it can suppress that the flow velocity of the gas injected from the nozzle apparatus 44 falls before passing the upper direction of the 1st passage hole 41a, gas is vigorously pushed to the spatter which passed the 1st passage hole 41a. While being able to spray, the spatter which passed the 1st passage hole 41a can be reliably blown off by allowing gas to pass through the upper surface side of the 1st passage hole 41a reliably.

なお、一対の整流板642及び蓋板43と排出部545とが筒状のジョイント部646に介して連結されている。ジョイント部646は、その一端側が遮蔽板41、一対の整流板642及び蓋部43により形成された開口部分に対して嵌合可能な断面略矩形状に形成されると共に、ジョイント部646の他端側が排出部545の一端側に嵌合可能な断面略円形状に形成されている。   Note that the pair of rectifying plates 642 and the cover plate 43 and the discharge portion 545 are connected to each other via a cylindrical joint portion 646. The joint portion 646 is formed to have a substantially rectangular cross section that can be fitted to an opening formed by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 642 and the lid portion 43 at one end side, and the other end of the joint portion 646. The side is formed in a substantially circular cross section that can be fitted to one end of the discharge portion 545.

一対の整流板642及び蓋板43に排出部545が連結され、遮蔽板41、一対の整流板642及び蓋板43により包囲された内部空間と排出部545とが連通されているので、一対の整流板642の間を通過し終えた気体は、排出部545へ流入し、その流入した気体が排出部545の他端側から上方へ向けて排出される。   Since the discharge portion 545 is connected to the pair of rectifying plates 642 and the lid plate 43, and the internal space surrounded by the shielding plate 41, the pair of rectifying plates 642 and the lid plate 43 and the discharge portion 545 are communicated, The gas that has passed between the rectifying plates 642 flows into the discharge portion 545, and the gas that has flowed in is discharged upward from the other end side of the discharge portion 545.

これにより、ノズル装置44から勢いよく噴射した気体によって、第1通過孔41aを通過したスパッタを確実に吹き飛ばしつつ、一対の整流板642を通過し終えた気体にシールドガスが巻き込まれることを防止できるので、スパッタの保護ガラス22(図6参照)への付着防止と気体へのシールドガスの巻き込み防止との両立を図ることができる。   Thereby, it is possible to prevent the shield gas from being caught in the gas that has passed through the pair of rectifying plates 642 while reliably blowing off the sputter that has passed through the first passage hole 41a by the gas jetted from the nozzle device 44. Therefore, it is possible to achieve both prevention of adhesion of spatter to the protective glass 22 (see FIG. 6) and prevention of entrapment of the shield gas in the gas.

以上、各実施の形態に基づき、本発明を実施したが、必ずしもこれに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形が可能であることは容易に推察できるものである。   As mentioned above, although this invention was implemented based on each embodiment, it is not necessarily limited to this, It can be guessed easily that various improvement deformation | transformation are possible within the range which does not deviate from the meaning of this invention. Is.

例えば、上記各実施の形態では、遮蔽板41がレーザLの照射方向に直交する方向へ沿って配設される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、遮蔽板41が少なくともレーザLの照射方向に交わる方向に沿って配設されていればよい。   For example, in each of the above embodiments, the case where the shielding plate 41 is disposed along the direction orthogonal to the irradiation direction of the laser L has been described. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the shielding plate 41 is at least a laser. What is necessary is just to be arrange | positioned along the direction which cross | intersects the irradiation direction of L.

上記各実施の形態では、遮蔽板41に形成される第1通過孔41aの開口面積が、蓋板43,343に形成される第2通過孔43a又は整流部542に形成される貫通孔542bの開口面積よりも小さく形成される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、第1通過孔41aの開口面積が第2通過孔43a又は貫通孔542bの開口面積以上であってもよい。これにより、第1通過孔41a及び第2通過孔43a又は貫通孔542bの寸法管理を簡素化してスパッタ遮蔽部40,340,440の製造コストを抑制できる。   In each of the above embodiments, the opening area of the first passage hole 41a formed in the shielding plate 41 is equal to the second passage hole 43a formed in the cover plates 43 and 343 or the through hole 542b formed in the rectification unit 542. Although the case where it is formed smaller than the opening area has been described, the present invention is not necessarily limited to this, and the opening area of the first passage hole 41a may be equal to or larger than the opening area of the second passage hole 43a or the through hole 542b. . Thereby, the dimensional management of the 1st passage hole 41a, the 2nd passage hole 43a, or the penetration hole 542b is simplified, and the manufacturing cost of sputter shielding part 40,340,440 can be controlled.

上記第1実施から第4実施の形態では、遮蔽板41が傾斜底部45,345,445を備える場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、傾斜底部45,345,445を省略してもよい。これにより、スパッタ遮蔽部40,340,440の形状を簡素化してスパッタ遮蔽部40,340,440の製造コストを抑制できる。   In the first to fourth embodiments, the case where the shielding plate 41 includes the inclined bottom portions 45, 345, and 445 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the inclined bottom portions 45, 345, and 445 are omitted. May be. Thereby, the shape of the sputter | spatter shielding part 40,340,440 can be simplified and the manufacturing cost of the sputter | spatter shielding part 40,340,440 can be suppressed.

また、上記第1実施から第4実施の形態では、傾斜底部45,345,445が、遮蔽板41のうち一対の整流板42,342,442の間(一対の第3整流板42c,442cの間)に形成される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、遮蔽板41のうち第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側に位置する部分全体(一対の整流板42,342,442の内側および外側)を、気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜するように形成してもよい。   In the first to fourth embodiments, the inclined bottom portions 45, 345, 445 are disposed between the pair of rectifying plates 42, 342, 442 of the shielding plate 41 (the pair of third rectifying plates 42c, 442c). However, the present invention is not necessarily limited to this, and the entire portion (a pair of rectifying plates 42) of the shielding plate 41 that is located downstream of the first passage hole 41a in the gas injection direction. , 342, and 442) may be formed so as to rise and incline with respect to the horizontal plane from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction.

上記第1実施および第4実施の形態では、蓋板43が、一対の整流板42,442のうち一対の第1整流板42aにのみ架設される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、蓋板43が、一対の第1整流部42aに加えて一対の第2整流部42bの一部もしくは全体または一対の第3整流部42cの一部に架設されていてもよい。これにより、第1通過孔41aの上方を通過し終えた気体を、第1通過孔41aからより離間した位置において上方へ拡散することができるので、シールドガスが気体の流れに巻き込まれることを低減できる。   In the first embodiment and the fourth embodiment, the case where the cover plate 43 is installed only on the pair of first rectifying plates 42a out of the pair of rectifying plates 42 and 442 has been described. Instead, in addition to the pair of first rectification units 42a, the cover plate 43 may be installed on a part or the whole of the pair of second rectification units 42b or a part of the pair of third rectification units 42c. As a result, the gas that has passed above the first passage hole 41a can be diffused upward at a position further away from the first passage hole 41a, so that the shielding gas is prevented from being caught in the gas flow. it can.

上記第1実施から第4実施および第6実施の形態では、スパッタ遮蔽部40,340,440,640が蓋板43,343を備える場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、蓋板43,343を省略してもよい。これにより、スパッタ遮蔽部の部品コストを抑制できる。   In the first to fourth embodiments and the sixth embodiment described above, the case where the sputter shields 40, 340, 440, and 640 include the cover plates 43 and 343 has been described. The plates 43 and 343 may be omitted. Thereby, the component cost of a sputter | spatter shielding part can be suppressed.

上記第1実施から第4実施および第6実施の形態では、一対の整流板42,342,442,642の延設方向一側における端部が、気体の噴射方向上流側における遮蔽板41の端部に位置する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、一対の整流板42,342,442,642の延設方向一側における端部が、少なくとも気体の噴射方向におけるノズル装置44の噴出口44aと対応する位置よりも気体の噴射方向上流側に配置されていればよい。これにより、ノズル装置44から噴射された気体を一対の整流板42,342,442,642によって案内できるので、気体が側方へ拡散することを防止できる。   In the first to fourth embodiments and the sixth embodiment, the ends of the pair of rectifying plates 42, 342, 442, and 642 on one side in the extending direction are the ends of the shielding plate 41 on the upstream side in the gas injection direction. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the nozzle unit 44 in at least one end in the extending direction of the pair of rectifying plates 42, 342, 442, and 642 is in the gas injection direction. What is necessary is just to be arrange | positioned in the injection direction of gas rather than the position corresponding to the jet nozzle 44a. Thereby, since the gas injected from the nozzle apparatus 44 can be guided by a pair of baffle plates 42, 342, 442, and 642, it can prevent that gas diffuses to a side.

なお、請求項2における「ノズル装置による気体の噴射位置」は、ノズル装置44の噴出口44aの位置に相当する。   The “gas injection position by the nozzle device” in claim 2 corresponds to the position of the jet port 44 a of the nozzle device 44.

また、上記第1実施から第4実施の形態では、一対の整流板42,342,442の延設方向他側における端部が、気体の噴射方向下流側における遮蔽板41の端部に位置する場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、一対の整流板42,342,442の延設方向他側における端部が、少なくとも第1通過孔41aよりも気体の噴射方向下流側まで延設されていればよい。これにより、ノズル装置44から噴射された気体が第1通過孔41aの上方を通過するまでの間に、気体の流速が低下することを抑制できる。   In the first to fourth embodiments, the ends of the pair of rectifying plates 42, 342, and 442 on the other side in the extending direction are located at the ends of the shielding plate 41 on the downstream side in the gas injection direction. Although the case has been described, the present invention is not necessarily limited thereto, and the ends of the pair of rectifying plates 42, 342, and 442 on the other side in the extending direction are at least downstream of the first passage hole 41a in the gas injection direction. It only needs to be extended. Thereby, it can suppress that the gas flow velocity falls before the gas injected from the nozzle apparatus 44 passes above the 1st passage hole 41a.

上記第1実施の形態では、一対の整流板42の第1整流部42aの遮蔽板41からの高さ寸法が第2整流部42b及び第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法よりも小さく設定されている場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、第1整流部42aの遮蔽板41からの高さ寸法が第2整流部42bまたは第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法と同等に設定されていてもよい。第1整流部42a、第2整流部42b及び第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法をすべて一定にした場合には、一対の整流板42の形状を簡素化できるので、部品コストを抑制することができる。   In the first embodiment, the height dimension from the shielding plate 41 of the first rectifying part 42a of the pair of rectifying plates 42 is higher than the height dimension from the shielding plate 41 of the second rectifying part 42b and the third rectifying part 42c. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the height from the shielding plate 41 of the first rectifying unit 42a is not limited to this, but the shielding plate of the second rectifying unit 42b or the third rectifying unit 42c. It may be set equal to the height dimension from 41. If the heights of the first rectifying unit 42a, the second rectifying unit 42b, and the third rectifying unit 42c from the shielding plate 41 are all constant, the shape of the pair of rectifying plates 42 can be simplified, so the component cost Can be suppressed.

上記第1実施の形態では、一対の整流板42の第1整流部42aの遮蔽板41からの高さ寸法が、第1整流部42aの延設方向において一定に設定されると共に、第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法が、第3整流部42cの延設方向において一定に設定される場合について説明したが、必ずしもこれに限られるものではなく、第1整流部42aの遮蔽板41からの高さ寸法又は第3整流部42cの遮蔽板41からの高さ寸法を、気体の噴射方向上流側から下流側へ向かうにつれて徐々に大きくなるように設定してもよい。   In the first embodiment, the height of the pair of rectifying plates 42 from the shielding plate 41 of the first rectifying unit 42a is set to be constant in the extending direction of the first rectifying unit 42a, and the third rectification is performed. Although the case where the height dimension of the part 42c from the shielding plate 41 is set to be constant in the extending direction of the third rectification part 42c has been described, the present invention is not necessarily limited to this, and the first rectification part 42a is shielded. You may set so that the height dimension from the board 41 or the height dimension from the shielding board 41 of the 3rd rectification | straightening part 42c may become large gradually as it goes to the downstream from the injection direction of gas.

第1整流部42aの遮蔽板41からの高さ寸法を、気体の噴射方向上流側から下流側へ向かうにつれて徐々に大きくなるように設定した場合には、一対の第1整流部42aに架設される蓋板43が気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて上昇傾斜するように配設される。これにより、ノズル装置44から気体を勢いよく噴射したとしても、遮蔽板41の下面側の大気が遮蔽板41の上面側を通過し終えた気体の流れに巻き込まれることを抑制できるので、気体の流れにシールドガスが巻き込まれることを低減できる。   When the height dimension of the first rectification unit 42a from the shielding plate 41 is set to gradually increase from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction, the first rectification unit 42a is installed on the pair of first rectification units 42a. The lid plate 43 is disposed so as to be inclined upward from the upstream side in the gas injection direction toward the downstream side. Thereby, even if gas is ejected vigorously from the nozzle device 44, it is possible to prevent the atmosphere on the lower surface side of the shielding plate 41 from being caught in the flow of gas that has passed through the upper surface side of the shielding plate 41. It can reduce that shield gas is caught in a flow.

上記第5実施および第6実施の形態では、排出部545が蛇腹部545aを有する場合について説明したが、必ずこれに限られるものではなく、排出部が蛇腹部545aを省略した軸心方向に沿って湾曲または屈曲する筒状に形成されていてもよい。これにより、排出部545の構成を簡素化して排出部の製造コストを抑制できる。   In the fifth and sixth embodiments, the case where the discharge portion 545 has the bellows portion 545a has been described. However, the present invention is not limited to this, and the discharge portion extends along the axial direction in which the bellows portion 545a is omitted. It may be formed in a cylindrical shape that is curved or bent. Thereby, the structure of the discharge part 545 can be simplified and the manufacturing cost of a discharge part can be suppressed.

上記第5実施および第6実施の形態では、排出部545が円筒状に形成される場合について説明したが、必ずこれに限られるものではなく、排出部545が断面略多角形状に形成された筒状に形成されていてもよい。   In the fifth and sixth embodiments, the case where the discharge portion 545 is formed in a cylindrical shape has been described. However, the present invention is not limited to this, and the discharge portion 545 is formed in a substantially polygonal cross section. It may be formed in a shape.

100,200,500 複合溶接装置
20 レーザ照射部
21 集光レンズ
22 保護ガラス
30 トーチ部
40,340,440,540,640 スパッタ遮蔽部
41 遮蔽板
41a 第1通過孔
42,342,442,642 整流板
542 整流部
43,343 蓋板
43a 第2通過孔
44 ノズル装置
44a 噴出口
45 傾斜底部
545 排出部
L レーザ光
w 母材
100, 200, 500 Composite welding apparatus 20 Laser irradiation part 21 Condensing lens 22 Protective glass 30 Torch part 40, 340, 440, 540, 640 Sputter shield part 41 Shield plate 41a First passage holes 42, 342, 442, 642 Plate 542 Rectifier 43, 343 Cover plate 43a Second passage hole 44 Nozzle device 44a Spout 45 Inclined bottom 545 Discharge L Laser light w Base material

Claims (4)

レーザ光を発生させるレーザ発器、そのレーザ発器から発生した前記レーザ光を集光して母材の溶接位置へ照射する集光レンズ、及び、その集光レンズと前記溶接位置との間に位置する保護ガラスを有するレーザ照射部と、
そのレーザ照射部から前記レーザ光が照射される前記溶接位置において前記母材との間にアークを発生させるアーク発生手段、及び、そのアーク発生手段から発生するアークを大気から遮蔽するシールドガスを前記母材へ向けて噴射するシールドガス噴射手段を有するトーチ部と、を備えた複合溶接装置において、
前記レーザ照射部の保護ガラス及び前記溶接位置の間に配設されるスパッタ遮蔽部を備え、
前記スパッタ遮蔽部は、
前記レーザ光の照射方向と交わる方向に沿って配設され、前記レーザ光が通過可能な第1通過孔を有する板状の遮蔽板と、
その遮蔽板の上面側に配設され、前記第1通過孔の上方であって前記集光レンズから照射される前記レーザ光と交わる方向へ向けて気体を噴射するノズル装置と、
そのノズル装置から噴射される気体の噴射方向に沿って延設されると共に前記遮蔽板の上面側であって第1通過孔を挟んだ位置に立設される一対の整流板と、
前記レーザ光が通過可能な第2通過孔を有し、前記一対の整流板に架設されることで前記第2通過孔を前記第1通過孔と対応する位置に配置しつつ前記遮蔽板に対向して配設されると共に、前記ノズル装置による気体の噴射位置から少なくとも前記遮蔽板の第1通過孔よりも前記気体の噴射方向下流側まで延設される蓋板と、を備え、
前記遮蔽板の第1通過孔から前記気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法が、前記蓋板の第2通過孔から前記気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法よりも大きく設定され、
前記一対の整流板の前記第2通過孔から前記気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法が、前記蓋板の第2通過孔から前記気体の噴射方向下流側への延設長さ寸法よりも大きく設定され、
前記一対の整流板は、少なくとも前記第1通過孔よりも前記気体の噴射方向下流側に位置する一部分において、前記一対の整流板の対向間隔が前記気体の噴射方向上流側から下流側へ向けて幅広くなっていることを特徴とする複合溶接装置。
Laser Oscillator for generating a laser beam, a condenser lens for irradiating the said laser beam generated from the laser oscillation device condenses in the welding position of the base material, and, between the welding position and its condenser lens A laser irradiator having a protective glass positioned therebetween;
Arc generating means for generating an arc between the base metal at the welding position irradiated with the laser light from the laser irradiation section, and a shielding gas for shielding the arc generated from the arc generating means from the atmosphere In a composite welding apparatus comprising a torch portion having a shielding gas injection means for injecting toward a base material,
A sputter shielding part disposed between the protective glass of the laser irradiation part and the welding position,
The sputter shield is
A plate-shaped shielding plate disposed along a direction intersecting with the irradiation direction of the laser beam and having a first passage hole through which the laser beam can pass;
A nozzle device that is disposed on the upper surface side of the shielding plate and that injects gas in a direction above the first passage hole and intersecting the laser light emitted from the condenser lens;
A pair of rectifying plates extending along the injection direction of the gas injected from the nozzle device and standing on the upper surface side of the shielding plate and sandwiching the first passage hole;
It has a second passage hole through which the laser beam can pass, and is installed on the pair of rectifying plates so that the second passage hole is disposed at a position corresponding to the first passage hole and faces the shielding plate. And a cover plate extending from the gas injection position by the nozzle device to at least the downstream side in the gas injection direction from the first passage hole of the shielding plate ,
The extension length dimension from the first passage hole of the shielding plate to the downstream side in the gas injection direction is longer than the extension length dimension from the second passage hole of the lid plate to the downstream side in the gas injection direction. Set larger,
The length of the pair of rectifying plates extending from the second passage hole to the downstream side in the gas injection direction is the length of the cover plate extending from the second passage hole to the downstream side in the gas injection direction. Set larger than the dimensions,
The pair of rectifying plates are at least in a portion located downstream of the first passage hole in the gas injection direction, so that the interval between the pair of rectifying plates is directed from the upstream side to the downstream side in the gas injection direction. A composite welding device characterized by its wide use.
前記スパッタ遮蔽部は、前記ノズル装置による前記気体の噴射位置から少なくとも前記遮蔽板の第1通過孔を超える位置において、前記一対の整流板の対向間隔が均一に設定されていることを特徴とする請求項1記載の複合溶接装置。   In the sputter shielding unit, the facing distance between the pair of rectifying plates is set uniformly at a position exceeding at least the first passage hole of the shielding plate from the gas injection position by the nozzle device. The composite welding apparatus according to claim 1. 前記スパッタ遮蔽部は、前記一対の整流板のうち前記蓋板よりも前記気体の噴射方向下流側に位置する部分の遮蔽板からの高さ寸法が、前記蓋板と前記遮蔽板との対向間隔よりも大きく設定されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の複合溶接装置。 The sputter shielding portion has a height dimension from a shielding plate of a portion of the pair of rectifying plates located downstream of the lid plate in the gas injection direction, and an interval between the lid plate and the shielding plate. The composite welding apparatus according to claim 1, wherein the composite welding apparatus is set to be larger. 前記スパッタ遮蔽部は、前記遮蔽板のうち前記第1通過孔よりも前記気体の噴射方向下流側であって少なくとも前記一対の整流板の間に位置する部分に形成されると共に、前記気体の噴射方向下流側へ向けて水平面に対して上昇傾斜する傾斜底部を備えていることを特徴とする請求項1からのいずれかに記載の複合溶接装置。
The sputter shielding portion is formed in a portion of the shielding plate that is located downstream of the first passage hole in the gas injection direction and at least between the pair of rectifying plates, and downstream of the gas injection direction. The composite welding apparatus according to any one of claims 1 to 3 , further comprising an inclined bottom portion that is inclined upward with respect to a horizontal plane toward the side.
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