JP6256523B2 - Handler and parts inspection device - Google Patents

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Description

本発明は、部品を搬送するハンドラーに関し、特に部品の温度を調節する温度調節部を有するハンドラー、及び該ハンドラーを備える部品検査装置に関する。   The present invention relates to a handler that conveys a component, and more particularly, to a handler having a temperature adjusting unit that adjusts the temperature of a component, and a component inspection apparatus including the handler.

一般に、電子部品の電気的特性を検査する部品検査装置では、基台上のトレイと検査用ソケットとの間で検査前や検査後の電子部品を搬送するハンドラーが用いられている。こうした部品検査装置の中には、電子部品を0℃以下の低温状態にしたうえで該電子部品の電気的特性を検査するものがある。   In general, a component inspection apparatus that inspects the electrical characteristics of an electronic component uses a handler that conveys the electronic component before or after the inspection between the tray on the base and the inspection socket. Some of such component inspection apparatuses inspect the electrical characteristics of an electronic component after setting the electronic component to a low temperature state of 0 ° C. or lower.

従来、電子部品を低温状態まで冷却する方法としては、例えば特許文献1に記載のような技術が知られている。特許文献1においては、複数の電子部品が収容されるトレイがステージに載置されている。このステージの内部には、内部通路が配設されている。そして、乾燥状態にある圧縮空気が冷却され、その冷却された圧縮空気がステージの内部通路に供給される。これにより、ステージを介してトレイが冷却され、そのトレイを介して電子部品が冷却される。   Conventionally, as a method for cooling an electronic component to a low temperature state, for example, a technique as described in Patent Document 1 is known. In Patent Document 1, a tray that accommodates a plurality of electronic components is placed on a stage. An internal passage is disposed inside the stage. Then, the compressed air in the dry state is cooled, and the cooled compressed air is supplied to the internal passage of the stage. Thereby, the tray is cooled through the stage, and the electronic component is cooled through the tray.

特開2004−347329号公報JP 2004-347329 A

ところで、電子部品を冷却する方法としては、特許文献1に記載された方法の他、ステージの内部通路に液体窒素を供給する方法もある。この方法においては、ステージを急速に冷却することが可能ではあるものの、ステージの内部通路にて液体窒素の一部が気化してしまうことがある。液体窒素は、大気圧下で気化するとその体積が約700倍になるため、内部通路のあるステージや該ステージから液体窒素が排出される排出路には、液体窒素の気化にともなう圧力変動に耐え得るだけの耐圧性が必要とされる。また、液体窒素の供給量はステージの温度が目標温度になるように制御されるものの、ステージの内部通路で液体窒素が気化してしまうことで、気化する際の気化熱によってステージが過度に冷却されてしまうこともあった。   Incidentally, as a method of cooling the electronic component, there is a method of supplying liquid nitrogen to the internal passage of the stage in addition to the method described in Patent Document 1. In this method, although the stage can be rapidly cooled, a part of the liquid nitrogen may be vaporized in the internal passage of the stage. When liquid nitrogen is vaporized under atmospheric pressure, its volume increases by about 700 times. Therefore, the stage with an internal passage and the discharge path through which liquid nitrogen is exhausted can withstand pressure fluctuations accompanying the vaporization of liquid nitrogen. It is necessary to have sufficient pressure resistance. In addition, although the supply amount of liquid nitrogen is controlled so that the stage temperature becomes the target temperature, the stage is excessively cooled by the heat of vaporization when the liquid nitrogen is vaporized in the internal passage of the stage. It was sometimes done.

本発明は、上記実情を鑑みてなされたものであり、その目的は、液化ガスの気化に起因する圧力変動及びステージの過度な冷却を抑えることが可能なハンドラー、及び該ハンドラーを備えた部品検査装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a handler capable of suppressing pressure fluctuations caused by vaporization of liquefied gas and excessive cooling of the stage, and component inspection including the handler. To provide an apparatus.

本発明のハンドラーは、部品を搬送するロボットと、前記部品が支持されるステージと、液化したガスである液化ガスが供給される供給部と、前記供給部と前記ステージ内の通路とを結ぶ供給路と、前記供給路を開閉するバルブと、前記ステージを加熱するヒーターと、前記ステージの温度を検出する温度センサーと、前記温度センサーの検出温度が所定温度になるように、前記ヒーターの出力及び前記バルブの開閉を制御する制御部と、前記供給路の途中に介在し、前記供給路よりも大きい流路断面積を有して液化ガスを気化させる気化容器とを備える。   The handler of the present invention includes a robot that transports a component, a stage on which the component is supported, a supply unit that is supplied with a liquefied gas that is a liquefied gas, and a supply that connects the supply unit and a passage in the stage. A path, a valve for opening and closing the supply path, a heater for heating the stage, a temperature sensor for detecting the temperature of the stage, and an output of the heater and a temperature detected by the temperature sensor so as to reach a predetermined temperature A control unit that controls opening and closing of the valve; and a vaporization container that is interposed in the middle of the supply path and that has a larger channel cross-sectional area than the supply path and vaporizes the liquefied gas.

本発明のハンドラーによれば、ステージを所定温度に調整することが可能であるとともに、液化ガスは、ステージに到達するまえに気化容器に進入する。気化容器は、供給路よりも流路断面積が大きいことから、該供給路よりも流路内面積及び容積が大きい。そのため、気化容器に進入した液化ガスは、液化ガスの沸点よりも温度が高い気化容器の内部に曝されることで気化し膨張される。このとき、気化容器の内部では液化ガスの気化にともなう圧力変動が生じることになるが、気化容器の内部は先行する液化ガスが気化したガスによって満たされているため、後続する液化ガスの気化にともなう圧力変動を緩和することができる。そして、気化容器にて気化したガスがステージ内の通路に供給されるため、該通路における液化ガスの気化が抑えられる。その結果、液化ガスの気化熱に起因したステージの過度な温度低下を抑えることができる。それゆえに、液化ガスの気化に起因した圧力変動及びステージの過度な冷却を抑えることができる。   According to the handler of the present invention, the stage can be adjusted to a predetermined temperature, and the liquefied gas enters the vaporization container before reaching the stage. Since the vaporization container has a larger channel cross-sectional area than the supply channel, the inner area and volume of the channel are larger than the supply channel. Therefore, the liquefied gas that has entered the vaporization vessel is vaporized and expanded by being exposed to the inside of the vaporization vessel having a temperature higher than the boiling point of the liquefied gas. At this time, pressure fluctuations accompanying the vaporization of the liquefied gas will occur inside the vaporization vessel, but since the inside of the vaporization vessel is filled with the vaporized gas, the subsequent vaporization of the liquefied gas will occur. The accompanying pressure fluctuation can be reduced. And since the gas vaporized by the vaporization container is supplied to the channel | path in a stage, vaporization of the liquefied gas in this channel | path is suppressed. As a result, it is possible to suppress an excessive temperature drop of the stage caused by the heat of vaporization of the liquefied gas. Therefore, pressure fluctuation and excessive cooling of the stage due to vaporization of the liquefied gas can be suppressed.

このハンドラーでは、前記バルブが、前記気化容器よりも前記供給路の上流側に配設される。
このハンドラーによれば、供給路には、気化容器よりも上流側にバルブが配設されている。ここで、バルブが気化容器よりも下流側に配設されている場合、バルブが閉状態に維持されると、供給部とバルブとの間にある気化容器は、密閉された状態となる。そのため、液化ガスの一部が気化することによって、気化容器内の圧力が高くなってしまうことが想定され、その圧力に耐え得るだけの耐圧性が気化容器に要求されることになる。この点、上述した態様によれば、バルブが閉状態に維持されても、気化容器が密閉状態になることを回避することが可能となるため、気化容器に要求される耐圧性を低くすることができる。
In this handler, the valve is disposed upstream of the supply path with respect to the vaporization container.
According to this handler, the supply path is provided with a valve upstream of the vaporization container. Here, when the valve is disposed downstream of the vaporization container, the vaporization container between the supply unit and the valve is in a sealed state when the valve is maintained in the closed state. For this reason, it is assumed that a part of the liquefied gas is vaporized to increase the pressure in the vaporization container, and the vaporization container is required to have a pressure resistance enough to withstand the pressure. In this regard, according to the above-described aspect, it is possible to avoid the vaporization container from being hermetically sealed even when the valve is maintained in the closed state, so that the pressure resistance required for the vaporization container is reduced. Can do.

このハンドラーは、前記ステージが収容される収容容器と、前記ステージ内の通路と前記収容容器内とを結ぶ排出路とを備える。
このハンドラーによれば、ステージ内の通路に供給されるガスは、水分含有量が0に近いため、ステージ内の通路から排出されるガスを収容容器内に供給することによって、該収容容器内を乾燥状態にすることが可能である。その結果、低温状態まで冷却されたステージならびに該ステージに支持されている部品に結露が発生することを抑えることができる。
The handler includes a storage container in which the stage is stored, and a discharge path that connects the passage in the stage and the storage container.
According to this handler, since the gas supplied to the passage in the stage has a moisture content close to 0, by supplying the gas discharged from the passage in the stage into the storage container, It is possible to make it dry. As a result, it is possible to suppress the occurrence of condensation on the stage cooled to a low temperature state and the parts supported on the stage.

このハンドラーにおいて、前記排出路には、前記ステージ内の通路への気体の流入を規制する逆止弁が配設されている。
このハンドラーによれば、例えばバルブが閉状態に維持される期間において、ステージ内の通路ならびに気化容器に対し、液化ガスに比べて水分含有量が多いエアが排出路を通じて流れ込むことを抑えることができる。その結果、ステージの冷却を再開したときに、ステージ内の通路ならびに気化容器において結露が発生することを抑えることができる。
In this handler, a check valve that restricts the inflow of gas into the passage in the stage is disposed in the discharge path.
According to this handler, for example, during a period in which the valve is maintained in a closed state, it is possible to suppress the air having a higher water content than the liquefied gas from flowing into the passage in the stage and the vaporization container through the discharge path. . As a result, when the cooling of the stage is resumed, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the passage in the stage and the vaporization container.

このハンドラーにおいて、前記通路は、第1内部通路及び第2内部通路を有し、前記気化容器が、第1気化室と第2気化室とを有し、前記第1内部通路が、前記第1気化室に接続され、前記第2内部通路が、前記第2気化室に接続される。   In this handler, the passage has a first internal passage and a second internal passage, the vaporization container has a first vaporization chamber and a second vaporization chamber, and the first internal passage is the first internal passage. Connected to the vaporization chamber, the second internal passage is connected to the second vaporization chamber.

このハンドラーによれば、第1内部通路には、第1気化室にて気化されたガスが供給される。また、第2内部通路には、第2気化室にて気化されたガスが供給される。その結果、第1及び第2気化室に異なる量の液化ガスを供給することにより、第1及び第2内部通路に対して異なる量のガスを供給することができる。   According to this handler, the gas vaporized in the first vaporization chamber is supplied to the first internal passage. The gas vaporized in the second vaporization chamber is supplied to the second internal passage. As a result, by supplying different amounts of liquefied gas to the first and second vaporization chambers, different amounts of gas can be supplied to the first and second internal passages.

このハンドラーにおいて、前記排出路は、第1排出路と第2排出路を有し、前記逆止弁は、第1逆止弁と第2逆止弁を有し、前記第1排出路が、前記第1内部通路に接続され、前記第1排出路には、前記第1逆止弁が配設され、前記第2排出路が、前記第2内部通路に接続され、前記第2排出路には、他方の逆止弁である第2逆止弁が配設される。   In this handler, the discharge path includes a first discharge path and a second discharge path, the check valve includes a first check valve and a second check valve, and the first discharge path includes: The first check valve is disposed in the first discharge passage, the second discharge passage is connected to the second internal passage, and is connected to the first discharge passage. Is provided with a second check valve which is the other check valve.

このハンドラーによれば、例えばステージの冷却を停止している期間において、第1内部通路ならびに第1気化室に対し、第1排出路を通じて、液化ガスよりも水分含有量の多いエアが流れ込むことを抑えることができる。同様に、第2内部通路ならびに第2気化室に対し、第2排出路を通じて、液化ガスよりも水分含有量の多いエアが流れ込むことを抑えることができる。その結果、ステージの冷却を再開したときに、第1及び第2内部通路、ならびに第1及び第2気化室において結露が発生することを抑えることができる。   According to this handler, for example, during the period when the cooling of the stage is stopped, air having a higher moisture content than the liquefied gas flows into the first internal passage and the first vaporization chamber through the first discharge passage. Can be suppressed. Similarly, it is possible to prevent air having a moisture content higher than that of the liquefied gas from flowing into the second internal passage and the second vaporization chamber through the second discharge path. As a result, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the first and second internal passages and the first and second vaporization chambers when the cooling of the stage is resumed.

このハンドラーにおいて、前記第2排出路が、前記第1排出路に接続され、前記第1排出路には、前記第2排出路との接続部分よりも上流側に前記第1逆止弁が配設される。
このハンドラーによれば、第1内部通路から排出されたガスが第2内部通路へ流入すること、第2内部通路から排出されたガスが第1内部通路に流入すること、これらを抑えることができる。
In this handler, the second discharge path is connected to the first discharge path, and the first check valve is arranged upstream of a connection portion with the second discharge path in the first discharge path. Established.
According to this handler, it is possible to suppress the gas discharged from the first internal passage from flowing into the second internal passage, the gas discharged from the second internal passage from flowing into the first internal passage, and the like. .

このハンドラーにおいて、前記第1排出路には、前記第2排出路との接続部分よりも下流側に該第1排出路を流れるガスを昇温させる昇温部が配設される。
このハンドラーによれば、昇温部によって昇温されたガスが収容容器内に導入されるため、昇温されていないガスが収容容器内に導入される場合に比べて、収容容器内の温度が高くなる。その結果、収容容器内の温度が露点よりも高い温度に維持されやすくなることから、該収容容器内において結露が発生することを抑えることができる。
In this handler, the first discharge path is provided with a temperature raising portion that raises the temperature of the gas flowing through the first discharge path on the downstream side of the connection portion with the second discharge path.
According to this handler, since the gas heated by the temperature raising unit is introduced into the storage container, the temperature in the storage container is lower than when the gas that has not been heated is introduced into the storage container. Get higher. As a result, since the temperature in the storage container is easily maintained at a temperature higher than the dew point, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the storage container.

このハンドラーにおいて、前記第1排出路には、前記昇温部よりも下流側に該昇温部への気体の流入を規制する第3逆止弁が配設される。
このハンドラーによれば、例えばステージの冷却を停止している期間において、昇温部に対し、排出路を通じて、液化ガスよりも水分含有量の多いエアが流れ込むことを抑えることができる。その結果、ステージの冷却を再開したときに、昇温部において水分が結露することを抑えることができる。
In this handler, a third check valve for restricting the inflow of gas to the temperature raising part is disposed in the first discharge path downstream of the temperature raising part.
According to this handler, for example, during the period when the cooling of the stage is stopped, it is possible to suppress the air having a higher water content than the liquefied gas from flowing into the heating unit through the discharge path. As a result, when the cooling of the stage is resumed, it is possible to prevent moisture from condensing in the temperature raising portion.

本発明の部品検査装置は、部品を搬送する搬送ロボットと、前記部品が支持されるステージと、液化したガスである液化ガスが供給される供給部と、前記供給部と前記ステージ内の通路とを結ぶ供給路と、前記供給路を開閉するバルブと、前記ステージを加熱するヒーターと、前記ステージの温度を検出する温度センサーと、前記温度センサーの検出温度が所定温度になるように、前記ヒーターの出力及び前記バルブの開閉を制御する制御部と、前記供給路の途中に介在し、前記供給路よりも大きい流路断面積を有して液化ガスを気化させる気化容器と、前記部品を検査するテスターとを備える。   The component inspection apparatus of the present invention includes a transfer robot for transferring a component, a stage on which the component is supported, a supply unit to which a liquefied gas that is a liquefied gas is supplied, the supply unit, and a passage in the stage. A supply path connecting the supply path, a valve for opening and closing the supply path, a heater for heating the stage, a temperature sensor for detecting the temperature of the stage, and the heater so that the detected temperature of the temperature sensor becomes a predetermined temperature A control unit that controls the output of the valve and the opening and closing of the valve, a vaporization container that is interposed in the middle of the supply path, has a flow passage cross-sectional area larger than the supply path, and vaporizes liquefied gas, and inspects the components And a tester to perform.

本発明の部品検査装置によれば、ステージを所定温度に調整することが可能であるとともに、液化ガスは、ステージに到達するまえに気化容器において気化される。この気化にともなう圧力変動は、気化容器内にて緩和される。そして、気化容器にて気化したガスがステージ内の通路に供給されるため、液化ガスの気化熱に起因したステージの過度な冷却を抑えられる。それゆえに、液化ガスの気化に起因した圧力変動及びステージの過度な冷却を抑えることができる。   According to the component inspection apparatus of the present invention, the stage can be adjusted to a predetermined temperature, and the liquefied gas is vaporized in the vaporization container before reaching the stage. The pressure fluctuation accompanying this vaporization is relieved in the vaporization container. And since the gas vaporized with the vaporization container is supplied to the channel | path in a stage, the excessive cooling of the stage resulting from the vaporization heat of liquefied gas is suppressed. Therefore, pressure fluctuation and excessive cooling of the stage due to vaporization of the liquefied gas can be suppressed.

本発明を具体化したハンドラー及び部品検査装置の一実施形態について、その全体構成を示す構成図。The block diagram which shows the whole structure about one Embodiment of the handler and component inspection apparatus which actualized this invention. 同実施形態の冷却ユニットの概略構成を模式的に示した概略構成図。The schematic block diagram which showed typically the schematic structure of the cooling unit of the embodiment. 同実施形態のハンドラーにおける電気的構成の一部を示すブロック図。The block diagram which shows a part of electrical structure in the handler of the embodiment. 変形例におけるステージを模式的に示した図。The figure which showed the stage in a modification typically.

以下、本発明のハンドラー及び部品検査装置を具体化した一実施形態について、図1〜図3を参照して説明する。なお、部品検査装置は、電子部品を搬送するハンドラーと、ハンドラーとは別体の装置であって電子部品の電気的特性を検査するテスターとを備えるものである。   Hereinafter, an embodiment embodying a handler and a component inspection apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. The component inspection apparatus includes a handler that conveys an electronic component, and a tester that is an apparatus separate from the handler and inspects the electrical characteristics of the electronic component.

[ハンドラー及び部品検査装置の構成]
まず、ハンドラー、及び該ハンドラーを備える部品検査装置の全体構成について図1を参照して説明する。図1に示されるように、ハンドラー10の基台11には、各種ロボットの搭載される搭載面11aが上面として設けられ、該搭載面11aの大部分が、カバー部材12によって覆われている。これらカバー部材12と搭載面11aとにより囲まれた空間である搬送空間は、外部から供給されるドライエアにより湿度と温度とが所定の値に維持されている。
[Configuration of handler and parts inspection equipment]
First, the overall configuration of a handler and a component inspection apparatus including the handler will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the base 11 of the handler 10 is provided with a mounting surface 11 a on which various robots are mounted as an upper surface, and most of the mounting surface 11 a is covered with a cover member 12. In the conveyance space, which is a space surrounded by the cover member 12 and the mounting surface 11a, humidity and temperature are maintained at predetermined values by dry air supplied from the outside.

基台11の搭載面11aには、カバー部材12の外側と内側との間で電子部品Tを搬送する4つのコンベアーC1〜C4が配列されている。このうち、コンベアーの配列方向であるX方向の一方側には、カバー部材12の外側から内側に向かって検査前の電子部品Tを搬送する供給用コンベアーC1が敷設され、X方向の他方側には、カバー部材12の内側から外側に向かって検査後の電子部品Tを搬送する回収用コンベアーC2,C3,C4が敷設されている。これらのコンベアーC1〜C4では、複数の電子部品Tが各コンベアー上のデバイストレイC1a〜C4aに収容された状態で搬送される。   On the mounting surface 11 a of the base 11, four conveyors C <b> 1 to C <b> 4 that convey the electronic component T between the outer side and the inner side of the cover member 12 are arranged. Among these, on one side of the X direction that is the arrangement direction of the conveyors, a supply conveyor C1 that conveys the electronic component T before inspection from the outside to the inside of the cover member 12 is laid, and on the other side in the X direction. Is provided with recovery conveyors C2, C3, C4 for conveying the inspected electronic component T from the inside to the outside of the cover member 12. In these conveyors C1-C4, the some electronic component T is conveyed in the state accommodated in the device trays C1a-C4a on each conveyor.

また、搭載面11aのうち、搬送空間の略中央には、搭載面11aを貫通する矩形状の開口部13が形成されている。この開口部13には、テスターのテストヘッド14が取り付けられている。テストヘッド14は、その上面に電子部品Tが嵌め込まれる検査用ソケット14aを有しており、該電子部品Tを検査するためのテスター内の検査回路に電気的に接続されている。このテスターにおいては、テストヘッド14と検査用ソケット14aとによって1つのステージが構成されている。   In addition, a rectangular opening 13 penetrating the mounting surface 11a is formed in the mounting surface 11a substantially at the center of the conveyance space. A tester test head 14 is attached to the opening 13. The test head 14 has an inspection socket 14a into which the electronic component T is fitted on its upper surface, and is electrically connected to an inspection circuit in the tester for inspecting the electronic component T. In this tester, one stage is configured by the test head 14 and the inspection socket 14a.

さらに、搭載面11aのうち、X方向と直交するY方向では、開口部13の両側に、検査前及び検査後の電子部品Tが一時的に載置される第1シャトル15と第2シャトル16とが配設されている。これらのシャトル15,16は、X方向に延びるように形成されており、その上面における上記供給用コンベアーC1側には、検査前の電子部品Tが収容される収容ポケット17,18が複数形成された供給用シャトルプレート15a,16aがそれぞれ固定されている。一方、シャトル15,16の上面における上記回収用コンベアーC2〜C4側には、検査後の電子部品Tが収容される回収用シャトルプレート15b,16bがそれぞれ固定されている。そして、これらシャトル15,16は、搭載面11aに固設されたX方向に延びるシャトルガイド15c,16cにそれぞれ連結されてX方向に沿って往動及び復動する。ハンドラー10においては、第1シャトル15と供給用シャトルプレート15aとによって1つのステージが構成されており、第2シャトル16と供給用シャトルプレート16aとによって1つのステージが構成されている。   Furthermore, in the Y direction orthogonal to the X direction on the mounting surface 11a, the first shuttle 15 and the second shuttle 16 on which the electronic parts T before and after the inspection are temporarily placed on both sides of the opening 13 are provided. Are arranged. The shuttles 15 and 16 are formed so as to extend in the X direction, and a plurality of accommodation pockets 17 and 18 for accommodating the electronic components T before inspection are formed on the supply conveyor C1 side on the upper surface thereof. The supply shuttle plates 15a and 16a are fixed. On the other hand, recovery shuttle plates 15b and 16b for storing the electronic components T after inspection are fixed to the recovery conveyors C2 to C4 on the upper surfaces of the shuttles 15 and 16, respectively. The shuttles 15 and 16 are respectively connected to shuttle guides 15c and 16c that are fixed to the mounting surface 11a and extend in the X direction, and move forward and backward along the X direction. In the handler 10, one stage is constituted by the first shuttle 15 and the supply shuttle plate 15a, and one stage is constituted by the second shuttle 16 and the supply shuttle plate 16a.

基台11の搭載面11a上には、検査用ソケット14a、供給用シャトルプレート15a,16a、及び回収用シャトルプレート15b,16bの各々に電子部品Tを搬送するロボット機構が搭載されている。そして、ロボット機構を構成する供給ロボット20、搬送ロボット30、及び回収ロボット40の動作に合わせて、上述のシャトル15,16はシャトルガイド15c,16cに沿って移動する。   On the mounting surface 11a of the base 11, a robot mechanism for carrying the electronic component T is mounted on each of the inspection socket 14a, the supply shuttle plates 15a and 16a, and the recovery shuttle plates 15b and 16b. The above-described shuttles 15 and 16 move along the shuttle guides 15c and 16c in accordance with the operations of the supply robot 20, the transport robot 30, and the collection robot 40 that constitute the robot mechanism.

供給ロボット20は、供給用コンベアーC1上のデバイストレイC1aから、シャトル15,16上の供給用シャトルプレート15a,16aに検査前の電子部品Tを搬送するロボットであり、供給用コンベアーC1のY方向に配置されている。詳しくは、供給ロボット20は、Y方向に延びる固定軸である供給側固定ガイド21と、供給側固定ガイド21に対してY方向に往動及び復動可能に連結された供給側可動ガイド22と、供給側可動ガイド22に対してX方向に往動及び復動可能に連結された供給用ハンドユニット23とを有している。また、供給用ハンドユニット23は、その下端に電子部品Tを吸着する吸着部を有し、搭載面11a対して下降及び上昇可能に供給側可動ガイド22に連結されている。そして、供給側可動ガイド22及び供給用ハンドユニット23の移動により、デバイストレイC1aに載置された電子部品Tが、供給用ハンドユニット23の吸着部に吸着されて搬送され、供給用シャトルプレート15a,16aに載置される。   The supply robot 20 is a robot that transports the electronic component T before inspection from the device tray C1a on the supply conveyor C1 to the supply shuttle plates 15a and 16a on the shuttles 15 and 16, and the Y direction of the supply conveyor C1 Is arranged. Specifically, the supply robot 20 includes a supply-side fixed guide 21 which is a fixed shaft extending in the Y direction, and a supply-side movable guide 22 connected to the supply-side fixed guide 21 so as to be able to move forward and backward in the Y direction. And a supply hand unit 23 connected to the supply side movable guide 22 so as to be movable forward and backward in the X direction. Further, the supply hand unit 23 has a suction portion that sucks the electronic component T at the lower end thereof, and is connected to the supply-side movable guide 22 so as to be lowered and raised with respect to the mounting surface 11a. As the supply-side movable guide 22 and the supply hand unit 23 move, the electronic component T placed on the device tray C1a is sucked and conveyed by the suction portion of the supply hand unit 23, and the supply shuttle plate 15a. , 16a.

回収ロボット40は、シャトル15,16上の回収用シャトルプレート15b,16bから、回収用コンベアーC2〜C4上のデバイストレイC2a〜C4aに検査後の電子部品Tを搬送するロボットであり、回収用コンベアーC2〜C4のY方向に配置されている。詳しくは、回収ロボット40は、上述の供給ロボット20と同様、Y方向に延びる固定軸である回収側固定ガイド41と、回収側固定ガイド41に対してY方向に往動及び復動可能に連結された回収側可動ガイド42と、回収側可動ガイド42に対してX方向に往動及び復動可能に連結された回収用ハンドユニット43とを有している。また、回収用ハンドユニット43は、その下端に電子部品Tを吸着する吸着部を有し、搭載面11a対して下降及び上昇可能に回収側可動ガイド42に連結されている。そして、回収側可動ガイド42及び回収用ハンドユニット43の移動により、回収用シャトルプレート15b,16bに載置された電子部品Tが、回収用ハンドユニット43の吸着部に吸着されて搬送され、デバイストレイC2a〜C4aに載置される。   The collection robot 40 is a robot that conveys the electronic components T after inspection from the collection shuttle plates 15b and 16b on the shuttles 15 and 16 to the device trays C2a to C4a on the collection conveyors C2 to C4. It arrange | positions in the Y direction of C2-C4. Specifically, the collection robot 40 is connected to the collection side fixed guide 41 that is a fixed shaft extending in the Y direction and the collection side fixed guide 41 so that the collection robot 40 can move forward and backward in the Y direction, like the supply robot 20 described above. The collection-side movable guide 42 and the collection-side hand unit 43 connected to the collection-side movable guide 42 so as to be able to move forward and backward in the X direction. The collection hand unit 43 has a suction part that sucks the electronic component T at the lower end thereof, and is connected to the collection-side movable guide 42 so as to be able to descend and rise with respect to the mounting surface 11a. Then, by the movement of the collection-side movable guide 42 and the collection hand unit 43, the electronic component T placed on the collection shuttle plates 15b and 16b is sucked and conveyed by the suction portion of the collection hand unit 43, and the device Placed on the trays C2a to C4a.

搬送ロボット30は、搬送空間の略中央に設置されたY方向に延びる固定軸である搬送ガイド31と、搬送ガイド31に対してY方向に往動及び復動可能に連結された第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33とを有している。このうち、第1搬送ユニット32は、第1シャトル15上とテストヘッド14上との間を往復し、第2搬送ユニット33は、第2シャトル16上とテストヘッド14上との間を往復する。また、第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33は、各々がその下端に電子部品Tを吸着する吸着部を有し、搭載面11a対して下降及び上昇可能に搬送ガイド31に連結されている。   The transfer robot 30 includes a transfer guide 31 that is a fixed shaft extending in the Y direction and is installed at a substantially center of the transfer space, and a first transfer unit that is connected to the transfer guide 31 so as to be able to move forward and backward in the Y direction. 32 and a second transport unit 33. Among these, the first transport unit 32 reciprocates between the first shuttle 15 and the test head 14, and the second transport unit 33 reciprocates between the second shuttle 16 and the test head 14. . Each of the first transport unit 32 and the second transport unit 33 has a suction portion that sucks the electronic component T at the lower end thereof, and is connected to the transport guide 31 so as to be able to descend and rise with respect to the mounting surface 11a. .

そして、第1搬送ユニット32は、第1シャトル15上の供給用シャトルプレート15aに載置された検査前の電子部品Tを吸着部に吸着して搬送し、テストヘッド14の検査用ソケット14aに所定の押圧力で嵌め込む。検査用ソケット14aの底面には、電子部品Tの雄端子と嵌合可能な複数の雌端子が凹設されており、電子部品Tの有する雄端子が検査用ソケット14aの雌端子に嵌め込まれることによって、電子部品Tの電気的特性がテスターにより検査可能になる。テスターは、ハンドラー10から検査開始の指令を受けて電子部品Tの検査を開始し、その検査結果とともに検査の終了を示す信号をハンドラー10に出力する。こうして電子部品Tの検査が終了すると、第1搬送ユニット32は、検査後の電子部品Tをテストヘッド14の検査用ソケット14aから第1シャトル15上の回収用シャトルプレート15bへ搬送する。   Then, the first transport unit 32 sucks and transports the electronic component T before inspection placed on the supply shuttle plate 15 a on the first shuttle 15 to the suction portion and transports it to the inspection socket 14 a of the test head 14. Fit with a predetermined pressing force. A plurality of female terminals that can be engaged with the male terminals of the electronic component T are recessed in the bottom surface of the inspection socket 14a, and the male terminals of the electronic component T are fitted into the female terminals of the inspection socket 14a. Thus, the electrical characteristics of the electronic component T can be inspected by a tester. The tester receives an inspection start command from the handler 10 and starts an inspection of the electronic component T, and outputs a signal indicating the end of the inspection to the handler 10 together with the inspection result. When the inspection of the electronic component T is thus completed, the first transport unit 32 transports the electronic component T after the inspection from the inspection socket 14a of the test head 14 to the recovery shuttle plate 15b on the first shuttle 15.

同様に、第2搬送ユニット33は、第2シャトル16上の供給用シャトルプレート16aに載置された検査前の電子部品Tを吸着部に吸着して搬送し、テストヘッド14の検査用ソケット14aに所定の押圧力で嵌め込む。そして、テスターによる電子部品Tの検査が終了すると、第2搬送ユニット33は、検査後の電子部品Tを、テストヘッド14の検査用ソケット14aから第2シャトル16上の回収用シャトルプレート16bへ搬送する。このような第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33によるテストヘッド14への電子部品Tの搬送は交互に行われ、電子部品Tがテスターによって順次検査されていく。   Similarly, the second transport unit 33 sucks and transports the electronic component T before inspection placed on the supply shuttle plate 16a on the second shuttle 16 to the suction portion, and transports the inspection socket 14a of the test head 14. Is fitted with a predetermined pressing force. When the inspection of the electronic component T by the tester is completed, the second transport unit 33 transports the electronic component T after the inspection from the inspection socket 14a of the test head 14 to the recovery shuttle plate 16b on the second shuttle 16. To do. The electronic parts T are transported alternately to the test head 14 by the first transport unit 32 and the second transport unit 33, and the electronic parts T are sequentially inspected by a tester.

なお、供給用ハンドユニット23、回収用ハンドユニット43、第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33は、複数の電子部品を同時に吸着保持するものであり、各々の吸着部は例えば真空吸着によって電子部品Tを吸着して把持することの可能なエンドエフェクターとして構成される。   The supply hand unit 23, the recovery hand unit 43, the first transport unit 32, and the second transport unit 33 simultaneously hold and hold a plurality of electronic components. It is configured as an end effector capable of sucking and gripping the component T.

ここで、本実施形態では、第1シャトル15の周囲に、搬送空間内で隔離され、第1シャトル15と供給用シャトルプレート15a及び回収用シャトルプレート15bとを収容する部屋を有する収容容器としての収容ボックス50が配設されている。同様に、開口部13及び開口部13に取り付けられたテストヘッド14の周囲には、搬送空間内で隔離され、テストヘッド14及び検査用ソケット14aを収容する部屋を有する収容容器としての検査ボックス51が配設されている。さらに、第2シャトル16の周囲には、搬送空間内で隔離され、第2シャトルと供給用シャトルプレート16a及び回収用シャトルプレート16bとを収容する部屋を有する収容容器としての収容ボックス52が配設されている。そして、これら収容ボックス50、検査ボックス51、及び収容ボックス52の各々において電子部品Tの冷却が行なわれる。   Here, in the present embodiment, as a storage container having a room for storing the first shuttle 15, the supply shuttle plate 15a, and the recovery shuttle plate 15b around the first shuttle 15 in the transfer space. A storage box 50 is provided. Similarly, an inspection box 51 as an accommodation container having a room for accommodating the test head 14 and the inspection socket 14a around the opening 13 and the test head 14 attached to the opening 13 is isolated in the transfer space. Is arranged. Further, around the second shuttle 16, a storage box 52 is disposed as a storage container that is isolated within the transfer space and has a room for storing the second shuttle, the supply shuttle plate 16 a and the recovery shuttle plate 16 b. Has been. The electronic component T is cooled in each of the storage box 50, the inspection box 51, and the storage box 52.

[冷却ユニットの構成]
電子部品Tの冷却を行う冷却ユニットの構成について、図2を参照して説明する。なお、部品検査装置には、供給用シャトルプレート15a,16aの収容ポケット17,18に収容された電子部品Tを冷却する冷却ユニット、テストヘッド14の検査用ソケット14aに収容された電子部品Tを冷却する冷却ユニットが搭載されているが、本実施形態では、供給用シャトルプレート15aの収容ポケット17に収容される電子部品Tを冷却する冷却ユニットを用いて説明する。
[Configuration of cooling unit]
The configuration of the cooling unit that cools the electronic component T will be described with reference to FIG. The component inspection apparatus includes a cooling unit for cooling the electronic components T accommodated in the accommodating pockets 17 and 18 of the supply shuttle plates 15a and 16a, and an electronic component T accommodated in the inspection socket 14a of the test head 14. Although a cooling unit for cooling is mounted, in the present embodiment, description will be made using a cooling unit for cooling the electronic component T housed in the housing pocket 17 of the supply shuttle plate 15a.

図2に示されるように、1つの冷却ユニットは、供給用シャトルプレート15aに形成された複数の収容ポケット17のうち、2つの収容ポケット17a,17bに収容される電子部品Tを冷却する。冷却ユニットは、液化ガスである液体窒素を気化させた窒素ガスを用い、供給用シャトルプレート15aにおける収容ポケット17a,17bの温度が目標温度である例えば−45℃となるように冷却する。   As shown in FIG. 2, one cooling unit cools the electronic component T housed in the two housing pockets 17a and 17b among the plurality of housing pockets 17 formed in the supply shuttle plate 15a. The cooling unit uses nitrogen gas obtained by vaporizing liquid nitrogen, which is a liquefied gas, and cools the storage pockets 17a and 17b in the supply shuttle plate 15a so that the temperature of the storage pockets 17a and 17b is, for example, -45 ° C.

冷却ユニットにおいて、液体窒素が貯蔵された供給部としての貯蔵タンク55には、共通路56を介して第1供給路61が接続されている。この第1供給路61は、略等しい流路断面積が連続する管であって、収容ポケット17aの直下を通るように第1シャトル15に形成された第1内部通路62に接続されている。第1供給路61には、第1バルブ63(以下、単にバルブ63という。)が配設されており、このバルブ63は、第1供給路61を開閉して第1気化室71に対する液体窒素の供給量を制御する。   In the cooling unit, a first supply path 61 is connected via a common path 56 to a storage tank 55 serving as a supply unit in which liquid nitrogen is stored. The first supply path 61 is a pipe having substantially the same flow-sectional cross-sectional area, and is connected to a first internal passage 62 formed in the first shuttle 15 so as to pass directly under the accommodation pocket 17a. A first valve 63 (hereinafter simply referred to as a valve 63) is disposed in the first supply path 61, and the valve 63 opens and closes the first supply path 61 to form liquid nitrogen for the first vaporization chamber 71. Control the amount of supply.

また、貯蔵タンク55には、共通路56を介して第2供給路66が接続されている。第2供給路66は、第1供給路61と略等しい流路断面積を有する管であって、収容ポケット17bの直下を通るように第1シャトル15に形成された第2内部通路67に接続されている。第2供給路66には、第2バルブ68(以下、単にバルブ68という。)が配設されており、このバルブ68は、第2供給路66を開閉して第2気化室72に対する液体窒素の供給量を制御する。   Further, a second supply path 66 is connected to the storage tank 55 via a common path 56. The second supply path 66 is a pipe having a channel cross-sectional area substantially equal to that of the first supply path 61, and is connected to a second internal passage 67 formed in the first shuttle 15 so as to pass directly under the accommodation pocket 17b. Has been. The second supply path 66 is provided with a second valve 68 (hereinafter simply referred to as a valve 68). The valve 68 opens and closes the second supply path 66 to liquid nitrogen with respect to the second vaporization chamber 72. Control the amount of supply.

これら第1及び第2供給路61,66には、熱交換器70が配設されている。熱交換器70は、いわゆるプレート式熱交換器であって、各バルブ63,68の下流側に配設されているとともに断熱材73によって覆われている。熱交換器70には、該熱交換器70における流れが並行流となるように第1及び第2供給路61,66が接続されており、第1気化室71に第1供給路61が接続され、第2気化室72に第2供給路66が接続されている。第1及び第2気化室71,72は、第1及び第2供給路61,66の流路断面積よりも大きな流路断面積に形成されているため、第1及び第2供給路61,66よりも大きな流路内面積及び容積を有している。第1及び第2気化室71,72に流入した液体窒素は、液体窒素の沸点よりも温度が高い熱交換器70の内部に曝されることによって目標温度よりも低い温度の窒素ガスとなって熱交換器70から流出する。すなわち、熱交換器70は、冷媒を膨張させて該冷媒の温度を低下させるものでもなく、また熱交換器70の周囲の熱を積極的に冷媒に吸収させるものでもなく、液体窒素を気化させる気化容器として機能する。そして、熱交換器70内で気化された低温の窒素ガスは、第1シャトル15に形成された第1及び第2内部通路62,67に流入し、供給用シャトルプレート15aにおける収容ポケット17a,17bを冷却する。   A heat exchanger 70 is disposed in the first and second supply paths 61 and 66. The heat exchanger 70 is a so-called plate heat exchanger, and is disposed on the downstream side of the valves 63 and 68 and covered with a heat insulating material 73. First and second supply paths 61 and 66 are connected to the heat exchanger 70 so that the flows in the heat exchanger 70 are parallel flows, and the first supply path 61 is connected to the first vaporization chamber 71. The second supply path 66 is connected to the second vaporization chamber 72. Since the first and second vaporization chambers 71 and 72 are formed to have a flow passage cross-sectional area larger than that of the first and second supply passages 61 and 66, the first and second supply passages 61, It has a flow passage area and volume larger than 66. The liquid nitrogen flowing into the first and second vaporization chambers 71 and 72 is exposed to the inside of the heat exchanger 70 having a temperature higher than the boiling point of the liquid nitrogen, thereby becoming nitrogen gas having a temperature lower than the target temperature. It flows out of the heat exchanger 70. That is, the heat exchanger 70 does not expand the refrigerant to lower the temperature of the refrigerant, nor does it actively absorb the heat around the heat exchanger 70 into the refrigerant, and vaporizes liquid nitrogen. Functions as a vaporization container. Then, the low-temperature nitrogen gas vaporized in the heat exchanger 70 flows into the first and second internal passages 62 and 67 formed in the first shuttle 15, and the accommodation pockets 17a and 17b in the supply shuttle plate 15a. Cool down.

また、第1シャトル15の内部には、供給用シャトルプレート15aに形成された各収容ポケット17a,17bの直下に加熱ヒーター74,75(以下、単にヒーター74,75という。)が備えられている。ヒーター74,75は、収容ポケット17a,17bを加熱する。また、各収容ポケット17a,17bには、該収容ポケット17a,17bの温度を検出する温度センサー77,78が備えられている。そして、内部通路62,67を流通する窒素ガスによる冷却とヒーター74,75による加熱との協働によって、各収容ポケット17a,17bが目標温度に制御される。   Further, inside the first shuttle 15, heaters 74 and 75 (hereinafter simply referred to as heaters 74 and 75) are provided immediately below the respective accommodation pockets 17 a and 17 b formed in the supply shuttle plate 15 a. . The heaters 74 and 75 heat the accommodation pockets 17a and 17b. Each storage pocket 17a, 17b is provided with temperature sensors 77, 78 for detecting the temperature of the storage pockets 17a, 17b. Then, the receiving pockets 17a and 17b are controlled to the target temperature by the cooperation of the cooling by the nitrogen gas flowing through the internal passages 62 and 67 and the heating by the heaters 74 and 75.

一方、第1内部通路62の排出口には、第1排出路81が接続されている。第1排出路81は、収容ボックス50に接続されており、第1内部通路62から排出された窒素ガスを収容ボックス50に導入する。また、第2内部通路67の排出口には、第2排出路82が接続されている。第2排出路82は、第1排出路81に接続されており、第2内部通路67から排出された窒素ガスを第1排出路81に排出する。すなわち、収容ボックス50には、第1及び第2内部通路62,67から排出された窒素ガスが導入される。   On the other hand, a first discharge path 81 is connected to the discharge port of the first internal passage 62. The first discharge path 81 is connected to the storage box 50, and introduces nitrogen gas discharged from the first internal passage 62 into the storage box 50. A second discharge path 82 is connected to the discharge port of the second internal passage 67. The second discharge path 82 is connected to the first discharge path 81, and discharges the nitrogen gas discharged from the second internal path 67 to the first discharge path 81. That is, nitrogen gas discharged from the first and second internal passages 62 and 67 is introduced into the storage box 50.

第1排出路81には、第2排出路82との接続部分よりも上流側に、第1内部通路62への気体の流入を規制する第1逆止弁83が配設されている。同様に、第2排出路82には、第2内部通路67への気体の流入を規制する第2逆止弁84が配設されている。   A first check valve 83 that restricts the inflow of gas into the first internal passage 62 is disposed in the first discharge passage 81 on the upstream side of the connection portion with the second discharge passage 82. Similarly, a second check valve 84 that restricts the inflow of gas into the second internal passage 67 is disposed in the second discharge path 82.

また、第1排出路81には、第2排出路82との接続部分よりも下流側に該第1排出路81を流通する窒素ガスを常温程度まで昇温させる昇温部としての熱交換器85が配設されている。熱交換器85は、いわゆるプレート式熱交換器であって、第1排出路81を流通する窒素ガスが低温流体室86に流入し、ドライエア供給源87の生成するドライエアが高温流体室88に流入する。これら窒素ガス及びドライエアは、熱交換器85内において並行流となるように流通している。ドライエア供給源87は、コンプレッサーや乾燥機で構成されており、該ドライエア供給源87からのドライエアは、エアヒーター89によって常温より高い温度まで昇温させられる。そして、ドライエアは、熱交換器85における第1排出路81の窒素ガスとの熱交換によって常温程度まで温度が低下させられたのち、収容ボックス50に導入される。また、第1排出路81には、熱交換器85よりも下流側に低温流体室86への気体の流入を規制する第3逆止弁90が配設されている。   In addition, the first exhaust path 81 has a heat exchanger as a temperature raising unit that raises the temperature of nitrogen gas flowing through the first exhaust path 81 to the downstream side of the connection portion with the second exhaust path 82. 85 is arranged. The heat exchanger 85 is a so-called plate heat exchanger, in which nitrogen gas flowing through the first discharge path 81 flows into the low temperature fluid chamber 86 and dry air generated by the dry air supply source 87 flows into the high temperature fluid chamber 88. To do. These nitrogen gas and dry air circulate in the heat exchanger 85 so as to be in parallel flow. The dry air supply source 87 is composed of a compressor and a dryer, and the dry air from the dry air supply source 87 is raised to a temperature higher than normal temperature by an air heater 89. The dry air is introduced into the storage box 50 after the temperature is lowered to about room temperature by heat exchange with the nitrogen gas in the first discharge path 81 in the heat exchanger 85. The first exhaust path 81 is provided with a third check valve 90 that restricts the inflow of gas into the cryogenic fluid chamber 86 on the downstream side of the heat exchanger 85.

[ハンドラー及び部品検査装置の電気的構成]
次に、ハンドラー及び部品検査装置の電気的構成について、ハンドラー10の電気的構成を中心に図3を参照して説明する。上記ハンドラー10に備えられた制御部を構成する制御装置95は、中央処理装置(CPU)、不揮発性メモリー(ROM)、及び揮発性メモリー(RAM)を有するマイクロコンピューターを中心に構成されている。制御装置95は、上記ROM及びRAMに格納された各種データ及びプログラムに基づいて、上述の供給ロボット20、搬送ロボット30、回収ロボット40といったロボット機構の動作をはじめとするハンドラー10にかかわる各種制御を統括的に行っている。また、制御装置95には、テスター98が電気的に接続されており、テスター98との間で電子部品Tの検査の開始や終了を示す信号の入出力を行っている。なお、ここでは、制御装置95による制御のうち、供給用シャトルプレート15aの収容ポケット17a,17bに対応する冷却ユニットにかかわる制御の態様について説明する。
[Electric configuration of handler and parts inspection equipment]
Next, the electrical configuration of the handler and the component inspection apparatus will be described with reference to FIG. 3 focusing on the electrical configuration of the handler 10. The control device 95 that constitutes the control unit provided in the handler 10 is configured mainly by a microcomputer having a central processing unit (CPU), a nonvolatile memory (ROM), and a volatile memory (RAM). Based on the various data and programs stored in the ROM and RAM, the control device 95 performs various controls related to the handler 10 including the operations of the robot mechanisms such as the supply robot 20, the transfer robot 30, and the collection robot 40 described above. It is conducted comprehensively. In addition, a tester 98 is electrically connected to the control device 95, and a signal indicating the start and end of the inspection of the electronic component T is input to and output from the tester 98. Here, a mode of control related to the cooling unit corresponding to the accommodation pockets 17a and 17b of the supply shuttle plate 15a in the control by the control device 95 will be described.

図3に示されるように、制御装置95には、バルブ駆動部96aとヒーター駆動部96bとを有する冷却ユニット駆動部96が電気的に接続されている。バルブ駆動部96aは、制御装置95から入力された目標温度と、温度センサー77,78から入力された温度とに基づいて、供給用シャトルプレート15aにおける収容ポケット17a,17bの温度が目標温度になるように、バルブ63,68の各々の開閉時間を設定するとともに、該開閉時間を示す信号を各バルブ63,68に出力する。バルブ63,68は、入力された信号に応じた開閉を行うことで第1及び第2内部通路62,67の各々に対する窒素ガスの供給量を調整する。   As shown in FIG. 3, a cooling unit drive unit 96 having a valve drive unit 96 a and a heater drive unit 96 b is electrically connected to the control device 95. Based on the target temperature input from the control device 95 and the temperature input from the temperature sensors 77 and 78, the valve drive unit 96a sets the temperature of the accommodation pockets 17a and 17b in the supply shuttle plate 15a to the target temperature. As described above, the opening / closing time of each of the valves 63 and 68 is set, and a signal indicating the opening / closing time is output to each of the valves 63 and 68. The valves 63 and 68 adjust the supply amount of nitrogen gas to each of the first and second internal passages 62 and 67 by opening and closing according to the input signal.

また、ヒーター駆動部96bは、制御装置95から入力された目標温度と、温度センサー77,78から入力された温度とに基づいて、収容ポケット17a,17bの温度が目標温度になるように、ヒーター74,75の各々に対して駆動電力を生成するとともに、該駆動電力を各ヒーター74,75に出力し、ヒーター74,75を駆動する。   Further, the heater driving unit 96b is configured so that the temperature of the accommodation pockets 17a and 17b becomes the target temperature based on the target temperature input from the control device 95 and the temperature input from the temperature sensors 77 and 78. Drive power is generated for each of 74 and 75, and the drive power is output to each heater 74 and 75 to drive the heaters 74 and 75.

なお、冷却ユニット駆動部96と同様、供給用シャトルプレート15aの他の収容ポケット17や、供給用シャトルプレート16aの収容ポケット18、テストヘッド14の検査用ソケット14aに対応する冷却ユニットに対しても、該冷却ユニットごとに冷却ユニット駆動部が設けられている。すなわち、制御装置95は、各冷却ユニットを互いに独立させた態様で制御する。   Similar to the cooling unit driving unit 96, the cooling unit corresponding to the other storage pocket 17 of the supply shuttle plate 15a, the storage pocket 18 of the supply shuttle plate 16a, and the inspection socket 14a of the test head 14 is also used. A cooling unit driving unit is provided for each cooling unit. That is, the control device 95 controls each cooling unit in an independent manner.

[作用]
次に、本実施形態のハンドラー及び部品検査装置の作用について述べる。
本実施形態のハンドラー及び部品検査装置では、冷却ユニットにおいて、貯蔵タンク55から第1供給路61に供給される液体窒素は、やがて熱交換器70の第1気化室71に流入する。この第1気化室71の流路断面積が第1供給路61の流路内面積よりも大きいことから、第1気化室71に流入した液体窒素は、液体窒素の沸点よりも温度が高い部材に対する接触面積が増大して窒素ガスへの転移が促進される。そして、その窒素ガスは、第1内部通路62に流入して収容ポケット17aを冷却したのち、第1排出路81へ排出される。
[Action]
Next, the operation of the handler and component inspection apparatus of this embodiment will be described.
In the handler and component inspection device of the present embodiment, in the cooling unit, liquid nitrogen supplied from the storage tank 55 to the first supply path 61 eventually flows into the first vaporization chamber 71 of the heat exchanger 70. Since the flow passage cross-sectional area of the first vaporization chamber 71 is larger than the flow passage area of the first supply passage 61, the liquid nitrogen flowing into the first vaporization chamber 71 has a temperature higher than the boiling point of the liquid nitrogen. The contact area with respect to is increased and the transition to nitrogen gas is promoted. Then, the nitrogen gas flows into the first internal passage 62 and cools the accommodation pocket 17 a, and then is discharged to the first discharge path 81.

同様に、貯蔵タンク55から第2供給路66に供給される液体窒素は、熱交換器70の第2気化室72に流入して窒素ガスへと転移する。そして、その窒素ガスは、第2内部通路67に流入して収容ポケット17bの周辺を冷却したのち、第2排出路82を通じて第1排出路81に排出される。   Similarly, liquid nitrogen supplied from the storage tank 55 to the second supply path 66 flows into the second vaporization chamber 72 of the heat exchanger 70 and is transferred to nitrogen gas. The nitrogen gas flows into the second internal passage 67 and cools the periphery of the accommodation pocket 17 b, and then is discharged to the first discharge passage 81 through the second discharge passage 82.

そして、制御装置95は、温度センサー77,78から入力される温度が目標温度となるように、各内部通路62,67に供給される窒素ガスの供給量とヒーター74,75に出力される駆動電力とを制御する。これにより、各収容ポケット17a,17bに収容された電子部品Tが目標温度に制御される。   Then, the controller 95 drives the amount of nitrogen gas supplied to the internal passages 62 and 67 and the heater 74 and 75 so that the temperature input from the temperature sensors 77 and 78 becomes the target temperature. Control with power. Thereby, the electronic component T accommodated in each accommodation pocket 17a, 17b is controlled to target temperature.

上述した一連の過程において、各気化室71,72は、先行する液体窒素が気化した窒素ガスで満たされており、また第1及び第2供給路61,66よりも容積が大きい。そのため、後続する液体窒素の気化にともなう圧力変動が生じたとしても、その圧力変動が各気化室71,72で緩和されることとなる。   In the series of processes described above, the vaporization chambers 71 and 72 are filled with nitrogen gas obtained by vaporizing the preceding liquid nitrogen, and have a larger volume than the first and second supply paths 61 and 66. Therefore, even if the pressure fluctuation accompanying the subsequent vaporization of liquid nitrogen occurs, the pressure fluctuation is alleviated in the vaporization chambers 71 and 72.

また、熱交換器70において液体窒素が気化されることから、内部通路62,67には液体窒素ではなく窒素ガスが流入する。そのため、内部通路62,67において液体窒素が気化することによって、収容ポケット17a,17bの一部が過度に冷却されることを抑えることもできる。   Further, since liquid nitrogen is vaporized in the heat exchanger 70, nitrogen gas flows into the internal passages 62 and 67 instead of liquid nitrogen. For this reason, it is possible to suppress excessive cooling of part of the storage pockets 17a and 17b due to vaporization of liquid nitrogen in the internal passages 62 and 67.

第1及び第2内部通路62,67から第1排出路81に排出された窒素ガスは、熱交換器85の低温流体室86に流入する。この熱交換器85の高温流体室88には、エアヒーター89によって常温よりも高い温度まで昇温されたドライエアが流入している。そして、窒素ガスは、熱交換器85におけるドライエアとの熱交換によって常温程度まで昇温されたのち、収容ボックス50に導入される。また、ドライエアは、窒素ガスとの熱交換によって常温程度まで降温されたのち、収容ボックス50に導入される。   The nitrogen gas discharged from the first and second internal passages 62 and 67 to the first discharge path 81 flows into the low temperature fluid chamber 86 of the heat exchanger 85. The dry air heated to a temperature higher than the normal temperature by the air heater 89 flows into the high temperature fluid chamber 88 of the heat exchanger 85. The nitrogen gas is heated to about room temperature by heat exchange with dry air in the heat exchanger 85 and then introduced into the storage box 50. Further, the dry air is cooled to about room temperature by heat exchange with nitrogen gas, and then introduced into the storage box 50.

上記窒素ガスは、液体窒素を気化させたものであり水分含有量が0に近く、また上記ドライエアも、ハンドラーの周辺のエアに比べれば水分含有量が少ない。そのため、これら窒素ガス及びドライエアを収容ボックス50に導入することによって、収容ボックス50内が水分含有量の少ない気体で満たされることになる。すなわち、収容ボックス50において結露が発生することを抑えることができる。その結果、供給用シャトルプレート15a及び該供給用シャトルプレート15aに収容された電子部品Tに結露が発生して電子部品Tが故障することを抑えることができる。   The nitrogen gas is vaporized liquid nitrogen, has a moisture content close to 0, and the dry air has a lower moisture content than the air around the handler. Therefore, by introducing these nitrogen gas and dry air into the storage box 50, the storage box 50 is filled with a gas having a low water content. That is, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the storage box 50. As a result, it is possible to suppress the occurrence of dew condensation on the supply shuttle plate 15a and the electronic component T accommodated in the supply shuttle plate 15a and the failure of the electronic component T.

また、熱交換器85によって常温程度に昇温された窒素ガスが収容ボックス50に導入される。そのため、各内部通路62,67から排出された窒素ガスが昇温されることなく収容ボックス50に導入される場合に比べて、収容ボックス50内の温度が露点よりも高い温度に維持されやすくなる。その結果、収容ボックス50内の供給用シャトルプレート15aのみならず、回収用シャトルプレート15b及び該回収用シャトルプレート15bに収容された電子部品Tに結露が発生して電子部品Tが故障することを抑えることができる。   Further, nitrogen gas heated to about room temperature by the heat exchanger 85 is introduced into the storage box 50. Therefore, compared with the case where the nitrogen gas discharged from the internal passages 62 and 67 is introduced into the storage box 50 without being heated, the temperature in the storage box 50 is easily maintained at a temperature higher than the dew point. . As a result, not only the supply shuttle plate 15a in the storage box 50 but also the recovery shuttle plate 15b and the electronic component T stored in the recovery shuttle plate 15b are dewed and the electronic component T fails. Can be suppressed.

そして、供給用シャトルプレート15aを冷却する窒素ガスと該窒素ガスを常温程度まで昇温させるドライエアとを収容ボックス50における結露対策用のガスとして使用している。そのため、結露対策用のガスを別に用意する場合に比べて、冷却ユニットの構成を簡素化することが可能であるとともに、使用するガスの量を削減することができる。   Then, nitrogen gas for cooling the supply shuttle plate 15a and dry air for raising the temperature of the nitrogen gas to about room temperature are used as gas for preventing condensation in the storage box 50. For this reason, it is possible to simplify the configuration of the cooling unit and to reduce the amount of gas to be used, as compared with a case where a gas for preventing condensation is separately prepared.

一方、各バルブ63,68は、液体窒素を気化させる熱交換器70よりも上流側に配設されている。仮に、第1供給路61において熱交換器70よりも下流側にバルブ63が配設されている場合に、バルブ63が閉状態に維持されると、貯蔵タンク55とバルブ63との間にある熱交換器70の第1気化室71は密閉状態となる。そのため、液体窒素の一部が気化することで第1気化室71内の圧力が高くなることが想定され、その圧力に耐え得るだけの耐圧性が熱交換器70に求められる。この点、本実施形態のバルブは、供給路における熱交換器70よりも上流側に配設されている。そのため、バルブ63が閉状態に維持されているときにバルブ63よりも下流側に残存していた液体窒素が気化しても、その気化した窒素ガスの一部が第1内部通路62及び第1排出路81を通じて収容ボックス50に導入されることになる。その結果、熱交換器70よりも下流側にバルブが配設される場合に比べて、熱交換器70に要求される耐圧性を低くすることができる。   On the other hand, each valve | bulb 63 and 68 is arrange | positioned upstream from the heat exchanger 70 which vaporizes liquid nitrogen. If the valve 63 is disposed downstream of the heat exchanger 70 in the first supply path 61 and the valve 63 is maintained in the closed state, the first supply path 61 is located between the storage tank 55 and the valve 63. The first vaporization chamber 71 of the heat exchanger 70 is in a sealed state. For this reason, it is assumed that the pressure in the first vaporization chamber 71 increases due to the vaporization of a part of the liquid nitrogen, and the heat exchanger 70 is required to have a pressure resistance enough to withstand the pressure. In this regard, the valve of the present embodiment is disposed on the upstream side of the heat exchanger 70 in the supply path. Therefore, even if the liquid nitrogen remaining on the downstream side of the valve 63 is vaporized when the valve 63 is maintained in the closed state, a part of the vaporized nitrogen gas remains in the first internal passage 62 and the first first gas. It will be introduced into the storage box 50 through the discharge path 81. As a result, the pressure resistance required for the heat exchanger 70 can be reduced as compared with the case where the valve is disposed downstream of the heat exchanger 70.

他方、第1排出路81には、第2排出路82との接続部分よりも上流側に第1逆止弁83が配設されており、第2排出路82には、第2内部通路67よりも下流側に第2逆止弁84が配設されている。そのため、第1内部通路62から排出された窒素ガスが第2排出路82を通じて第2内部通路67に流入すること、第2内部通路67から排出された窒素ガスが第1排出路81を通じて第1内部通路62に流入すること、これらを抑えることができる。すなわち、収容ポケット17a,17bの冷却が各内部通路62,67に供給された窒素ガスによってのみ行なわれるため、収容ポケット17a,17bの冷却をより高い精度の下で行なうことができる。   On the other hand, a first check valve 83 is disposed in the first discharge path 81 on the upstream side of the connection portion with the second discharge path 82, and the second internal path 67 is provided in the second discharge path 82. A second check valve 84 is disposed on the downstream side. Therefore, the nitrogen gas discharged from the first internal passage 62 flows into the second internal passage 67 through the second discharge passage 82, and the nitrogen gas discharged from the second internal passage 67 passes through the first discharge passage 81 to the first The flow into the internal passage 62 can be suppressed. That is, since the accommodation pockets 17a and 17b are cooled only by the nitrogen gas supplied to the internal passages 62 and 67, the accommodation pockets 17a and 17b can be cooled with higher accuracy.

また、第1排出路81には、熱交換器85よりも下流側に第3逆止弁90が配設されている。そのため、バルブ63,68が閉状態である期間に、第1排出路81を通じて、熱交換器85、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70に対し、収容ボックス50から窒素ガス及びドライエアよりも水分含有量の多いエアが流れ込むことを抑えることができる。その結果、バルブ63,68が再び開状態に制御されたときに、熱交換器85、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70において結露が発生することを抑えることができる。   Further, a third check valve 90 is disposed in the first discharge path 81 on the downstream side of the heat exchanger 85. Therefore, during the period in which the valves 63 and 68 are closed, the nitrogen gas is supplied from the storage box 50 to the heat exchanger 85, the first and second internal passages 62 and 67, and the heat exchanger 70 through the first discharge path 81. In addition, it is possible to suppress the flow of air having a higher moisture content than dry air. As a result, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the heat exchanger 85, the first and second internal passages 62 and 67, and the heat exchanger 70 when the valves 63 and 68 are controlled to be opened again.

上記熱交換器70においては、液体窒素が気化される他、第1気化室71の窒素ガスと第2気化室72の窒素ガスとの間での熱交換が可能である。そのため、例えば、バルブ63を開状態、且つバルブ68を閉状態としたとき、第1気化室71を流れる窒素ガスによって、第2気化室72に滞留している窒素ガスを冷却することが可能である。その結果、閉状態にあるバルブ68が再び開状態に制御されたときに、第2内部通路67に対して低い温度に維持されていた窒素ガスが直ちに供給されることになるため、収容ポケット17bが目標温度まで冷却されるまでに要する時間を短くすることができる。   In the heat exchanger 70, liquid nitrogen is vaporized and heat exchange between the nitrogen gas in the first vaporization chamber 71 and the nitrogen gas in the second vaporization chamber 72 is possible. Therefore, for example, when the valve 63 is opened and the valve 68 is closed, the nitrogen gas remaining in the second vaporization chamber 72 can be cooled by the nitrogen gas flowing through the first vaporization chamber 71. is there. As a result, when the valve 68 in the closed state is again controlled to be in the open state, the nitrogen gas maintained at a low temperature is immediately supplied to the second internal passage 67, so that the accommodation pocket 17b It is possible to shorten the time required until the battery is cooled to the target temperature.

また、この熱交換器70が断熱材73で覆われていることから、熱交換器70内の窒素ガスの温度が低い温度に維持されやすくもなる。その結果、第1及び第2内部通路62,67に対して冷却用の窒素ガスを供給するうえで熱的な損失を抑えることもできる。   In addition, since the heat exchanger 70 is covered with the heat insulating material 73, the temperature of the nitrogen gas in the heat exchanger 70 is easily maintained at a low temperature. As a result, it is possible to suppress thermal loss when supplying the cooling nitrogen gas to the first and second internal passages 62 and 67.

以上説明したように、本実施形態のハンドラー及び部品検査装置によれば、以下に列挙する効果が得られるようになる。
(1)熱交換器70の各気化室71,72は、第1及び第2供給路61,66よりも大きな流路断面積に形成されているため、第1及び第2供給路61,66よりも大きな流路内面積及び容積を有している。その結果、各気化室71,72において液体窒素を気化させることができ、またその気化にともなう圧力変動を各気化室71,72で緩和させることができる。
As described above, according to the handler and the component inspection apparatus of the present embodiment, the effects listed below can be obtained.
(1) Since each of the vaporization chambers 71 and 72 of the heat exchanger 70 is formed to have a larger flow path cross-sectional area than the first and second supply paths 61 and 66, the first and second supply paths 61 and 66. It has a larger flow passage area and volume. As a result, liquid nitrogen can be vaporized in the vaporization chambers 71 and 72, and pressure fluctuations accompanying the vaporization can be reduced in the vaporization chambers 71 and 72.

(2)また、熱交換器70の各気化室71,72において液体窒素が気化することによって、収容ポケット17a,17bが過度に冷却されることを抑えることができる。
(3)バルブ63,68が熱交換器70よりも上流側に配設されていることから、バルブ63,68が熱交換器70よりも下流側に配設されている場合に比べて、熱交換器70に要求される耐圧性を低くすることができる。
(2) Moreover, it can suppress that the storage pockets 17a and 17b are cooled too much by having liquid nitrogen vaporize in each vaporization chamber 71 and 72 of the heat exchanger 70. FIG.
(3) Since the valves 63 and 68 are disposed on the upstream side of the heat exchanger 70, heat is generated compared to the case where the valves 63 and 68 are disposed on the downstream side of the heat exchanger 70. The pressure resistance required for the exchanger 70 can be lowered.

(4)収容ポケット17a,17bの冷却に用いた窒素ガスが収容ボックス50に導入されることから、収容ボックス50を満たす気体の水分含有量を少なくすることができる。その結果、供給用シャトルプレート15a及び該供給用シャトルプレート15aに収容された電子部品Tに結露が発生して電子部品Tが故障することを抑えることができる。   (4) Since the nitrogen gas used for cooling the storage pockets 17a and 17b is introduced into the storage box 50, the moisture content of the gas that fills the storage box 50 can be reduced. As a result, it is possible to suppress the occurrence of dew condensation on the supply shuttle plate 15a and the electronic component T accommodated in the supply shuttle plate 15a and the failure of the electronic component T.

(5)第1及び第2気化室71,72の各々に対する液体窒素の供給量がバルブ63,68によって制御されることから、第1及び第2内部通路62,67に対して異なる量の窒素ガスを供給することができる。   (5) Since the supply amount of liquid nitrogen to each of the first and second vaporization chambers 71 and 72 is controlled by the valves 63 and 68, different amounts of nitrogen are supplied to the first and second internal passages 62 and 67. Gas can be supplied.

(6)第1及び第2排出路81,82に第1及び第2逆止弁83,84が配設されている。そのため、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70に対し、第1及び第2排出路81,82を通じて、窒素ガスよりも水分含有量の多いエアが流入することを抑えることができる。その結果、熱交換器85、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70において結露が発生することを抑えることができる。   (6) First and second check valves 83 and 84 are arranged in the first and second discharge passages 81 and 82. Therefore, it is possible to suppress the flow of air having a moisture content higher than that of nitrogen gas through the first and second exhaust passages 81 and 82 with respect to the first and second internal passages 62 and 67 and the heat exchanger 70. it can. As a result, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the heat exchanger 85, the first and second internal passages 62 and 67, and the heat exchanger 70.

(7)第1排出路81には、第2排出路82との接続部分よりも上流側に第1逆止弁83が配設されており、第2排出路82には、第2逆止弁84が配設されている。そのため、第1内部通路62から排出された窒素ガスが第2排出路82を通じて第2内部通路67に流入すること、第2内部通路67から排出された窒素ガスが第1排出路81を通じて第1内部通路62に流入すること、これらを抑えることができる。   (7) A first check valve 83 is disposed in the first discharge path 81 on the upstream side of the connection portion with the second discharge path 82, and the second check path 83 has a second check valve. A valve 84 is provided. Therefore, the nitrogen gas discharged from the first internal passage 62 flows into the second internal passage 67 through the second discharge passage 82, and the nitrogen gas discharged from the second internal passage 67 passes through the first discharge passage 81 to the first The flow into the internal passage 62 can be suppressed.

(8)また、第2排出路82が第1排出路81に接続されることで、第1及び第2排出路81,82を個別に収容ボックス50に接続する場合に比べて、排出路の構成を簡素化することができる。   (8) Further, since the second discharge path 82 is connected to the first discharge path 81, the first discharge path 81 and the second discharge path 82 are individually connected to the storage box 50. The configuration can be simplified.

(9)第1排出路81には、第1及び第2内部通路62,67から排出された窒素ガスを常温程度まで昇温させる熱交換器85が配設されている。その結果、収容ボックス50内の温度が露点よりも高い温度に維持されやすくなることから、回収用シャトルプレート15b及び該回収用シャトルプレート15bに収容された電子部品Tに結露が発生して電子部品Tが故障することを抑えることができる。   (9) The first exhaust path 81 is provided with a heat exchanger 85 that raises the temperature of the nitrogen gas discharged from the first and second internal paths 62 and 67 to about room temperature. As a result, the temperature in the storage box 50 is easily maintained at a temperature higher than the dew point, so that condensation occurs in the recovery shuttle plate 15b and the electronic component T stored in the recovery shuttle plate 15b. It is possible to suppress the failure of T.

(10)供給用シャトルプレート15aを冷却する窒素ガスと該窒素ガスを常温程度まで昇温させるドライエアとを収容ボックス50における結露対策用のガスとして使用している。そのため、収容ボックス50において結露が発生することを抑えるうえで使用されるガスの量を削減することができる。   (10) Nitrogen gas for cooling the supply shuttle plate 15a and dry air for raising the temperature of the nitrogen gas to about room temperature are used as dew condensation countermeasure gas in the storage box 50. Therefore, it is possible to reduce the amount of gas used for suppressing the occurrence of condensation in the storage box 50.

(11)熱交換器85の下流側に第3逆止弁90が配設されていることから、バルブ63,68が閉状態に維持されているときに、熱交換器85、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70に対し、窒素ガスよりも水分含有量の多いエアが流入することを抑えることができる。その結果、これら熱交換器85、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70において結露が発生することを抑えることができる。   (11) Since the third check valve 90 is disposed downstream of the heat exchanger 85, when the valves 63 and 68 are maintained in the closed state, the heat exchanger 85, the first and first 2 It is possible to suppress the flow of air having a moisture content higher than that of nitrogen gas into the internal passages 62 and 67 and the heat exchanger 70. As a result, the occurrence of dew condensation in the heat exchanger 85, the first and second internal passages 62 and 67, and the heat exchanger 70 can be suppressed.

(12)第1及び第2気化室71,72を有する気化容器が熱交換器70であることから、例えば、バルブ63が開状態、且つバルブ68が閉状態に維持されているとき、第2気化室72に滞留している窒素ガスは、第1気化室71を流通する窒素ガスとの熱交換によって温度の低い状態が維持される。その結果、バルブ68が開状態になったときに、収容ポケット17bが目標温度まで冷却されるまでに要する時間を短くすることができる。   (12) Since the vaporization container having the first and second vaporization chambers 71 and 72 is the heat exchanger 70, for example, when the valve 63 is maintained in the open state and the valve 68 is maintained in the closed state, the second The nitrogen gas staying in the vaporizing chamber 72 is maintained in a low temperature state by heat exchange with the nitrogen gas flowing through the first vaporizing chamber 71. As a result, when the valve 68 is opened, the time required for the accommodation pocket 17b to be cooled to the target temperature can be shortened.

(13)熱交換器70が断熱材73で覆われていることから、第1及び第2内部通路62,67に対して冷却用の窒素ガスを供給するうえで熱的な損失を抑えることができる。
(14)熱交換器85は、第1供給路61における第2排出路82との接続部分よりも下流側に配設されている。そのため、こうした熱交換器85を第1及び第2排出路81,82の双方に配設する場合に比べて、熱交換器85の設置台数を少なくすることもできる。
(13) Since the heat exchanger 70 is covered with the heat insulating material 73, it is possible to suppress thermal loss when supplying the cooling nitrogen gas to the first and second internal passages 62 and 67. it can.
(14) The heat exchanger 85 is disposed on the downstream side of the connection portion between the first supply path 61 and the second discharge path 82. Therefore, the number of installed heat exchangers 85 can be reduced as compared with the case where such heat exchangers 85 are disposed in both the first and second discharge paths 81 and 82.

(15)窒素ガスとドライエアは、熱交換器85において並行流になるように流通している。そのため、これら窒素ガスとドライエアが、熱交換器85において対向流となるように流通する場合に比べて、熱交換器85を通過した直後における窒素ガスとドライエアとの温度差を小さくすることもできる。すなわち、これら窒素ガスとドライエアとが導入される収容ボックス50における温度分布の均一化を図ることができる。   (15) Nitrogen gas and dry air circulate in the heat exchanger 85 so as to be in parallel flow. Therefore, the temperature difference between the nitrogen gas and the dry air immediately after passing through the heat exchanger 85 can be reduced as compared with the case where the nitrogen gas and the dry air circulate so as to be opposed to each other in the heat exchanger 85. . That is, the temperature distribution in the storage box 50 into which the nitrogen gas and dry air are introduced can be made uniform.

なお、上記の実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・第1排出路81において、第3逆止弁90が割愛された構成であってもよい。こうした構成であっても、第1排出路81には第1逆止弁83、第2排出路82には第2逆止弁84が配設されていることから、第1及び第2内部通路62,67、熱交換器70に対して第1排出路81を通じてエアが流入することを抑えることができる。
In addition, said embodiment can also be suitably changed and implemented as follows.
In the first discharge path 81, the third check valve 90 may be omitted. Even in such a configuration, since the first check valve 83 is disposed in the first discharge path 81 and the second check valve 84 is disposed in the second discharge path 82, the first and second internal passages are provided. It is possible to prevent air from flowing into the heat exchangers 62 and 67 and the heat exchanger 70 through the first discharge path 81.

・第1及び第2内部通路62,67から排出された窒素ガスを昇温させる熱交換器85が割愛された構成であってもよい。この際、収容ボックス50内の温度が低くなるものの、水分含有量が0に近い窒素ガスが収容ボックス50に導入されていることから、収容ボックス50において結露が発生することを抑えることができる。   A configuration in which the heat exchanger 85 that raises the temperature of the nitrogen gas discharged from the first and second internal passages 62 and 67 is omitted may be employed. At this time, although the temperature in the storage box 50 is lowered, since nitrogen gas having a moisture content close to 0 is introduced into the storage box 50, it is possible to suppress the occurrence of condensation in the storage box 50.

・第1及び第2内部通路62,67から排出された窒素ガスは、熱交換器85に限らず、例えばエアヒーター等によって昇温されてもよい。
・第1及び第2排出路81,82は、収容ボックス50に対して個別に接続されていてもよい。この場合、第1及び第2排出路81,82の各々に熱交換器85、第3逆止弁90が配設されるとよい。
-The nitrogen gas discharged | emitted from the 1st and 2nd internal channel | paths 62 and 67 may be heated not only with the heat exchanger 85 but with an air heater etc., for example.
The first and second discharge paths 81 and 82 may be individually connected to the storage box 50. In this case, the heat exchanger 85 and the third check valve 90 may be disposed in each of the first and second discharge paths 81 and 82.

・熱交換器85の高温流体室88から流出したドライエアは、カバー部材12内や大気中に排出されてもよい。
・第1排出路81における第1逆止弁83及び第2排出路82における第2逆止弁84の少なくとも一方が割愛された構成であってもよい。すなわち、第1及び第2内部通路62,67の少なくとも一方と収容ボックス50とが常に連通している構成であってもよい。
The dry air that has flowed out of the high-temperature fluid chamber 88 of the heat exchanger 85 may be discharged into the cover member 12 or the atmosphere.
The configuration may be such that at least one of the first check valve 83 in the first discharge path 81 and the second check valve 84 in the second discharge path 82 is omitted. That is, a configuration in which at least one of the first and second internal passages 62 and 67 and the storage box 50 are always in communication may be employed.

・1つの冷却ユニットにおいて、気化容器から流出した窒素ガスが1つの内部通路に流入する態様であってもよい。この際、気化容器には、1つの気化室のみを形成するだけでよい。また、1つの冷却ユニットにおいて、気化容器から流出した窒素ガスが3つ以上の内部通路に流入する態様であってもよい。すなわち、気化容器に対して3つ以上の内部通路が並列に接続されている態様であってもよい。この際、気化容器には、各内部通路に対応する気化室が形成されていればよい。   -In one cooling unit, the aspect which the nitrogen gas which flowed out from the vaporization container flows in into one internal channel | path may be sufficient. At this time, only one vaporization chamber need be formed in the vaporization container. Moreover, in one cooling unit, the aspect which the nitrogen gas which flowed out from the vaporization container flows in into three or more internal passages may be sufficient. That is, an aspect in which three or more internal passages are connected in parallel to the vaporization container may be employed. At this time, it is only necessary that vaporization chambers corresponding to the respective internal passages are formed in the vaporization container.

・また、1つの冷却ユニットにおいて、1つの供給路に対して複数の内部通路が直列に接続されていてもよい。
・第1内部通路62と第2内部通路67は、互いに異なるステージに配設された内部通路であってもよい。その際、例えば第2内部通路67が第2シャトル16に配設されているならば、該第2内部通路67から排出された窒素ガスは、収容ボックス52に導入される構成が好ましい。
Further, in one cooling unit, a plurality of internal passages may be connected in series with respect to one supply path.
The first internal passage 62 and the second internal passage 67 may be internal passages arranged on different stages. In this case, for example, if the second internal passage 67 is disposed in the second shuttle 16, the nitrogen gas discharged from the second internal passage 67 is preferably introduced into the storage box 52.

・第1及び第2内部通路62,67から排出された窒素ガスは、収容ボックス50に限らず、大気中に排出されてもよい。
・ハンドラー10は、収容ボックス50,52、検査ボックス51が割愛された構成であってもよい。この際、第1及び第2排出路81,82は、カバー部材12に接続されていてもよい。
-The nitrogen gas discharged | emitted from the 1st and 2nd internal channel | paths 62 and 67 may be discharged | emitted not only in the storage box 50 but in air | atmosphere.
The handler 10 may have a configuration in which the storage boxes 50 and 52 and the inspection box 51 are omitted. At this time, the first and second discharge paths 81 and 82 may be connected to the cover member 12.

・バルブ63,68は、熱交換器70よりも下流側に配設されていてもよい。こうした構成であっても、第1及び第2内部通路62,67への窒素ガスの供給量を調整することができる。   The valves 63 and 68 may be disposed on the downstream side of the heat exchanger 70. Even with this configuration, the amount of nitrogen gas supplied to the first and second internal passages 62 and 67 can be adjusted.

・内部通路は、ステージの内部に配設されていればよく、第1シャトル15ではなく供給用シャトルプレート15a内に配設される態様であってもよいし、第1シャトル15及び供給用シャトルプレート15a内の双方に配設される態様であってもよい。   The internal passage only needs to be arranged inside the stage, and may be arranged in the supply shuttle plate 15a instead of the first shuttle 15, or the first shuttle 15 and the supply shuttle. The aspect arrange | positioned in both in the plate 15a may be sufficient.

・貯蔵タンク55は、ハンドラー10の外部に設けられる構成であってもよい。この場合には、例えば、ハンドラー10の共通路56に設けられ、貯蔵タンク55に接続された配管が接続される接続部が供給部として機能する。   The storage tank 55 may be provided outside the handler 10. In this case, for example, a connection portion provided in the common path 56 of the handler 10 and connected to a pipe connected to the storage tank 55 functions as a supply portion.

・液化ガスは、液体窒素に限らず、液体酸素や液体水素、液体ヘリウム等であってもよい。
・上記実施形態において、基台11を貫通する開口部13に取り付けられたテストヘッド14とテストヘッド14上面の検査用ソケット14aとによりステージが構成されるものとした。これに代えて、図4に示されるように、窒素ガスの流れる内部通路100、加熱ヒーター101、及び検査用ソケット14aの収容される収容部102を備える台座103を基台11に設置し、この台座103をステージとしてもよい。この場合、検査用ソケット14aは、台座103の収容部102に収容されることによってハンドラー10に搭載される。そして、台座103が冷却されることによって、検査用ソケット14aに収容された電子部品が冷却される。
The liquefied gas is not limited to liquid nitrogen but may be liquid oxygen, liquid hydrogen, liquid helium, or the like.
In the above embodiment, the stage is configured by the test head 14 attached to the opening 13 penetrating the base 11 and the inspection socket 14 a on the upper surface of the test head 14. Instead, as shown in FIG. 4, a pedestal 103 including an internal passage 100 through which nitrogen gas flows, a heater 101, and an accommodating portion 102 in which an inspection socket 14a is accommodated is installed on the base 11, The pedestal 103 may be a stage. In this case, the inspection socket 14 a is mounted on the handler 10 by being accommodated in the accommodating portion 102 of the pedestal 103. And the electronic component accommodated in the socket 14a for an inspection is cooled by the base 103 being cooled.

部品検査装置を構成するハンドラーとテスターとは別体の装置であるため、テストヘッド14及び検査用ソケット14aをステージとする場合、ハンドラー側の構成とは別に、予めテスターのテストヘッド14に窒素ガスの流れる流路やヒーターを備えておく必要がある。この点、上述した構成によれば、内部流路やヒーターを備えたテストヘッド14を要することなく、検査用ソケット14aに収容された電子部品Tを冷却することが可能となる。   Since the handler and the tester constituting the part inspection apparatus are separate apparatuses, when the test head 14 and the inspection socket 14a are used as a stage, a nitrogen gas is previously applied to the test head 14 of the tester separately from the configuration on the handler side. It is necessary to provide a flow path and a heater. In this regard, according to the above-described configuration, it is possible to cool the electronic component T accommodated in the inspection socket 14a without requiring the test head 14 including the internal flow path and the heater.

なお、温度センサーは、ステージの温度が検出可能であれば、台座103に搭載されていてもよいし、検査用ソケット14aに搭載されていてもよい。また、図4に記載の台座103には1つの収容部102が形成されているが、台座103に形成される収容部102の数は、2以上であってもよい。また、台座103の収容部102にテストヘッド14及び検査用ソケット14aが収容される構成としてもよい。要は、電子部品を支持するステージとして、熱を伝導する部材を挟んで電子部品に間接的に触れる部材そのものが冷却される態様であればよい。   As long as the temperature of the stage can be detected, the temperature sensor may be mounted on the pedestal 103 or may be mounted on the inspection socket 14a. In addition, although one accommodation portion 102 is formed in the pedestal 103 illustrated in FIG. 4, the number of accommodation portions 102 formed in the pedestal 103 may be two or more. Further, the test head 14 and the inspection socket 14a may be accommodated in the accommodating portion 102 of the pedestal 103. In short, as long as the stage that supports the electronic component is used, any member that indirectly touches the electronic component with the heat conducting member interposed therebetween may be cooled.

・また、ステージは、基台11の搭載面11a上、もしくはカバー部材12によって覆われた搬送空間内における基台11の上方で電子部品Tを支持する部分であれば任意に設定することが可能である。例えば、供給用シャトルプレート15aと回収用シャトルプレート15bとをそれぞれ別のステージとして、これらに対して各別の冷却ユニットを設けて冷却してもよい。また、搬送ロボット30における第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33の下端の吸着部にステージを配設し、第1搬送ユニット32及び第2搬送ユニット33の各々の下端部に冷却ユニットを設けるようにしてもよい。要は、電子部品Tが支持される部分であれば、その箇所をステージとして冷却ユニットを設けることができる。なお、各冷却ユニット間において電子部品Tを搬送する際には、収容容器の一部を開閉して電子部品Tの移送を行うようにすればよい。   In addition, the stage can be arbitrarily set as long as it is a part that supports the electronic component T on the mounting surface 11a of the base 11 or above the base 11 in the transport space covered by the cover member 12. It is. For example, the supply shuttle plate 15a and the recovery shuttle plate 15b may be provided as separate stages, and cooling may be provided by providing separate cooling units for these stages. In addition, a stage is provided at the lower end suction portion of the first transfer unit 32 and the second transfer unit 33 in the transfer robot 30, and a cooling unit is provided at the lower end of each of the first transfer unit 32 and the second transfer unit 33. You may do it. In short, if it is a part where the electronic component T is supported, the cooling unit can be provided using that part as a stage. It should be noted that when the electronic component T is transported between the cooling units, the electronic component T may be transferred by opening and closing a part of the container.

T…電子部品、C1…供給用コンベアー、C2,C3,C4…回収用コンベアー、C1a,C2a,C3a,C4a…デバイストレイ、10…ハンドラー、11…基台、11a…搭載面、12…カバー部材、13…開口部、14…テストヘッド、14a…検査用ソケット、15…第1シャトル、15a…供給用シャトルプレート、15b…回収用シャトルプレート、15c…シャトルガイド、16…第2シャトル、16a…供給用シャトルプレート、16b…回収用シャトルプレート、16c…シャトルガイド、17,17a,17b,18…収容ポケット、20…供給ロボット、21…供給側固定ガイド、22…供給側可動ガイド、23…供給用ハンドユニット、30…搬送ロボット、31…搬送ガイド、32…第1搬送ユニット、33…第2搬送ユニット、40…回収ロボット、41…回収側固定ガイド、42…回収側可動ガイド、43…回収用ハンドユニット、50…収容ボックス、51…検査ボックス、52…収容ボックス、55…貯蔵タンク、56…共通路、61…第1供給路、62…第1内部通路、63…第1バルブ、66…第2供給路、67…第2内部通路、68…第2バルブ、68…バルブ、70…熱交換器、71…第1気化室、72…第2気化室、73…断熱材、74,75…加熱ヒーター、77,78…温度センサー、81…第1排出路、82…第2排出路、83…第1逆止弁、84…第2逆止弁、85…熱交換器、86…低温流体室、87…ドライエア供給源、88…高温流体室、89…エアヒーター、90…第3逆止弁、95…制御装置、96…冷却ユニット駆動部、96a…バルブ駆動部、96b…ヒーター駆動部、98…テスター、100…内部通路、101…加熱ヒーター、102…収容部、103…台座。   T ... electronic component, C1 ... conveyor for supply, C2, C3, C4 ... conveyor for collection, C1a, C2a, C3a, C4a ... device tray, 10 ... handler, 11 ... base, 11a ... mounting surface, 12 ... cover member , 13 ... opening, 14 ... test head, 14a ... inspection socket, 15 ... first shuttle, 15a ... supply shuttle plate, 15b ... recovery shuttle plate, 15c ... shuttle guide, 16 ... second shuttle, 16a ... Supply shuttle plate, 16b ... Recovery shuttle plate, 16c ... Shuttle guide, 17, 17a, 17b, 18 ... Storage pocket, 20 ... Supply robot, 21 ... Supply side fixed guide, 22 ... Supply side movable guide, 23 ... Supply Hand unit, 30 ... transport robot, 31 ... transport guide, 32 ... first transport unit, 33 ... 2 transport unit, 40 ... collection robot, 41 ... collection side fixed guide, 42 ... collection side movable guide, 43 ... collection hand unit, 50 ... storage box, 51 ... inspection box, 52 ... storage box, 55 ... storage tank, 56 ... Common path, 61 ... First supply path, 62 ... First internal path, 63 ... First valve, 66 ... Second supply path, 67 ... Second internal path, 68 ... Second valve, 68 ... Valve, 70 ... heat exchanger, 71 ... first vaporization chamber, 72 ... second vaporization chamber, 73 ... heat insulating material, 74, 75 ... heater, 77, 78 ... temperature sensor, 81 ... first discharge path, 82 ... second discharge Path 83 first check valve 84 second check valve 85 heat exchanger 86 cold fluid chamber 87 dry air supply source 88 hot fluid chamber 89 air heater 90 first 3 check valves, 95 ... control device, 96 ... cooling unit Gate drive unit, 96a ... valve drive section, 96b ... Heater driver, 98 ... tester, 100 ... inner passage, 101 ... heater, 102 ... accommodation unit, 103 ... pedestal.

Claims (10)

電子部品を搬送するシャトルと、
前記電子部品を搬送するロボット機構と、
冷媒を供給可能な冷媒供給部と、
ドライエアを供給可能なドライエア供給部と、
前記電子部品を載置可能で、前記冷媒が流通可能な通路を有するステージと、
前記ステージを収容可能な収容容器と、
前記冷媒供給部から前記通路に前記冷媒を流通可能な冷媒供給路と、
前記通路と接続されて前記収容容器に前記冷媒を満たす低温流体室と、
前記低温流体室を有し、一方の端部が前記通路と接続され、他方の端部が前記収納容器と接続される冷媒排出路と、
前記ドライエア供給部と接続されて前記収容容器に前記ドライエアを満たす高温流体室と、
前記高温流体室を有し、一方の端部が前記ドライエア供給部と接続され、他方の端部が前記収納容器と接続されるドライエア供給路と、
を備え
前記低温流体室と前記高温流体室とは、前記低温流体室の前記冷媒と前記高温流体室の前記ドライエアとが熱交換可能に配置されている
ことを特徴とする、電子部品を搬送するハンドラー。
A shuttle carrying electronic components,
A robot mechanism for conveying the electronic component;
A refrigerant supply unit capable of supplying the refrigerant;
A dry air supply unit capable of supplying dry air;
The electronic component is a can be placed, a stage in which the refrigerant has a can flow passage,
A storage container capable of storing the stage;
A refrigerant supply path through which the refrigerant can flow from the refrigerant supply section to the passage;
A cryogenic fluid chamber connected to the passage and filling the refrigerant in the container;
A refrigerant discharge passage having the cryogenic fluid chamber, having one end connected to the passage and the other end connected to the storage container;
A high-temperature fluid chamber that is connected to the dry air supply unit and fills the container with the dry air;
A dry air supply path having the high-temperature fluid chamber, one end connected to the dry air supply, and the other end connected to the storage container;
With
Wherein the low temperature fluid compartment and the hot fluid chambers, handler the said refrigerant cryogen chamber and the hot fluid chambers wherein the dry air is characterized in that it is arranged so that heat can be exchanged, transporting the electronic component.
前記低温流体室および前記高温流体室は、熱交換器に含まれ、
前記熱交換器は、プレート式熱交換機である
ことを特徴とする請求項1に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
The cold fluid chamber and the hot fluid chamber are included in a heat exchanger;
The handler for conveying an electronic component according to claim 1 , wherein the heat exchanger is a plate heat exchanger.
前記ドライエア供給部と前記高温流体室との間には、前記ドライエアを加熱可能なドライエア加熱部が配置されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
The handler for conveying an electronic component according to claim 1 or 2 , wherein a dry air heating unit capable of heating the dry air is disposed between the dry air supply unit and the high-temperature fluid chamber.
前記ステージの温度を検出可能な温度センサーと、
前記ステージを加熱可能なヒーターと、を備える
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
A temperature sensor capable of detecting the temperature of the stage;
The handler which conveys an electronic component of any one of Claims 1-3 provided with the heater which can heat the said stage.
冷媒は、窒素ガスである
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
The handler for conveying an electronic component according to any one of claims 1 to 4 , wherein the refrigerant is nitrogen gas .
前記冷媒排出路において、前記通路と前記低温流体室との間には、前記通路への流体の流入を規制可能な逆止弁を備える
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
In the refrigerant discharge path, between said passage and said cold fluid chambers, any one of the preceding claims, characterized in that it comprises a possible regulatory check valve the flow of fluid into the passageway A handler for transporting electronic components as described in 1.
前記冷媒排出路において、前記低温流体室と前記収容容器との間には、前記低温流体室への流体の流入を規制可能な逆止弁を備える
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
In the refrigerant discharge path, between the container and the cryogenic fluid chamber, one of the claims 1-6, characterized in that it comprises a possible regulatory check valve the flow of fluid to the cold fluid chamber A handler for conveying an electronic component according to claim 1 .
前記通路が複数配置され、
一方の前記通路と前記冷媒供給部との間には第1気化室が備けられ、
他方の前記通路と前記冷媒供給部との間には第2気化室が備けられ、
前記第1気化室及び前記第2気化室は熱交換可能に配置されている
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
A plurality of the passages are arranged,
A first vaporization chamber is provided between one of the passages and the refrigerant supply unit,
A second vaporization chamber is provided between the other passage and the refrigerant supply unit,
The handler for conveying an electronic component according to any one of claims 1 to 7, wherein the first vaporization chamber and the second vaporization chamber are arranged so as to be able to exchange heat.
前記第1気化室および前記第2気化室は、熱交換器に含まれ、
前記熱交換器は、プレート式熱交換機である
ことを特徴とする請求項8に記載の、電子部品を搬送するハンドラー。
The first vaporization chamber and the second vaporization chamber are included in a heat exchanger,
The handler for transporting an electronic component according to claim 8 , wherein the heat exchanger is a plate heat exchanger.
電子部品を搬送するシャトルと、
前記電子部品を搬送するロボット機構と、
前記電子部品を検査するテスターと、
冷媒を供給可能な冷媒供給部と、
ドライエアを供給可能なドライエア供給部と、
前記電子部品を載置可能で、前記冷媒が流通可能な通路を有するステージと、
前記ステージを収容可能な収容容器と、
前記冷媒供給部から前記通路に前記冷媒を流通可能な冷媒供給路と、
前記通路と接続されて前記収容容器に前記冷媒を満たす低温流体室と、
前記低温流体室を有し、一方の端部が前記通路と接続され、他方の端部が前記収納容器と接続される冷媒排出路と、
前記ドライエア供給部と接続されて前記収容容器に前記ドライエアを満たす高温流体室と、
前記高温流体室を有し、一方の端部が前記ドライエア供給部と接続され、他方の端部が前記収納容器と接続されるドライエア供給路と、
を備え
前記低温流体室と前記高温流体室とは、前記低温流体室の前記冷媒と前記高温流体室の前記ドライエアとが熱交換可能に配置されている
ことを特徴とする電子部品検査装置。
A shuttle carrying electronic components,
A robot mechanism for conveying the electronic component;
A tester for inspecting the electronic component;
A refrigerant supply unit capable of supplying the refrigerant;
A dry air supply unit capable of supplying dry air;
The electronic component is a can be placed, a stage in which the refrigerant has a can flow passage,
A storage container capable of storing the stage;
A refrigerant supply path through which the refrigerant can flow from the refrigerant supply section to the passage;
A cryogenic fluid chamber connected to the passage and filling the refrigerant in the container;
A refrigerant discharge passage having the cryogenic fluid chamber, having one end connected to the passage and the other end connected to the storage container;
A high-temperature fluid chamber that is connected to the dry air supply unit and fills the container with the dry air;
A dry air supply path having the high-temperature fluid chamber, one end connected to the dry air supply, and the other end connected to the storage container;
With
The low temperature fluid chamber and the high temperature fluid chamber are arranged so that heat exchange is possible between the refrigerant in the low temperature fluid chamber and the dry air in the high temperature fluid chamber .
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