JP6245748B2 - Flexible electronic device manufacturing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、フレキシブルな基材に対して複数の機能層を印刷または塗布により積層して電子デバイスを製造するフレキシブル電子デバイス製造装置に関する。   The present invention relates to a flexible electronic device manufacturing apparatus that manufactures an electronic device by laminating a plurality of functional layers on a flexible substrate by printing or coating.

近年では、フィルムなどのフレキシブルな基材に高精細なパターンの配線等の機能層が形成されたフレキシブル電子デバイスが注目されている。フレキシブル電子デバイスとしては、例えば、薄膜トランジスタ(以下、本明細書においては、TFTと呼ぶ)などがある。これらフレキシブル電子デバイスの製造においては、従来、高精細なパターンの配線を形成することができるフォトリソ法が採用されていた。しかし、フォトリソ法による電子デバイスの製造方法は、高温・真空の環境を作るなどの手間の掛かるプロセスを要し、製造工数が多く、製造コストが掛かるものであった。よって、フォトリソ法に代わるフレキシブル電子デバイスの製造方法が求められている。   In recent years, a flexible electronic device in which a functional layer such as a wiring with a high-definition pattern is formed on a flexible substrate such as a film has attracted attention. Examples of the flexible electronic device include a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT in this specification). In the production of these flexible electronic devices, conventionally, a photolithography method capable of forming a wiring with a high-definition pattern has been employed. However, the method of manufacturing an electronic device by the photolithography method requires a laborious process such as creating a high-temperature / vacuum environment, which requires a large number of manufacturing steps and high manufacturing costs. Therefore, there is a need for a flexible electronic device manufacturing method that replaces the photolithography method.

フォトリソ法に代わる電子デバイスの製造方法としては、例えば、プリンテッド・エレクトロニクス(以下、本明細書においては、PEと呼ぶ)がある。PEを採用したフレキシブル電子デバイスの製造は、印刷法や塗布法によってフレキシブル基材に高精細なパターンの配線を形成してフレキシブル電子デバイスを製作するものであり、フォトリソ法を採用したフレキシブル電子デバイスの製造と比較して、手間の掛かるプロセスを要せず、製造工数の削減や製造コストの大幅な引き下げが可能となる。   As an electronic device manufacturing method that replaces the photolithography method, for example, there is printed electronics (hereinafter referred to as PE in the present specification). The manufacture of flexible electronic devices using PE is to produce flexible electronic devices by forming high-definition pattern wiring on a flexible substrate by printing or coating methods. Compared with manufacturing, a time-consuming process is not required, and the number of manufacturing steps can be reduced and the manufacturing cost can be greatly reduced.

特開2007−268715号公報JP 2007-268715 A

このPEを採用した薄膜トランジスタの形成方法としては、例えば、特許文献1に記載の技術がある。特許文献1に記載の薄膜トランジスタの形成方法は、基材に導電材の電極パターンを形成する際に、解像度の高い反転印刷法を用いて導電材を基材の特定の箇所へ精度良く形成するものである。   As a method for forming a thin film transistor employing this PE, for example, there is a technique described in Patent Document 1. The method of forming a thin film transistor described in Patent Document 1 is a method of accurately forming a conductive material on a specific portion of a substrate by using a high resolution reversal printing method when forming an electrode pattern of the conductive material on the substrate. It is.

しかし、TFTは、基材上にゲート層、絶縁層、ソース・ドレイン層、半導体を積層したものであり、TFTの製造においては、各層の相対位置を合わせると共に高精細に積層しなければならないが、特許文献1に開示された技術を採用して基材に多層の積層を行う場合には、各層を形成するための各装置へ基材を移動させる度に、各装置に対する基材の精密な位置合わせを行わなければならない。この精密な位置合わせに係る準備作業は、作業者の負担増加を招き、製造工数および製造コストを増大させてしまう虞がある。   However, a TFT is formed by laminating a gate layer, an insulating layer, a source / drain layer, and a semiconductor on a base material. In manufacturing a TFT, the relative positions of the respective layers must be aligned and laminated with high definition. When the technique disclosed in Patent Document 1 is used to stack multiple layers on a base material, each time the base material is moved to each device for forming each layer, the precision of the base material for each device is Alignment must be done. This preparatory work related to precise alignment may increase the burden on the operator and increase the number of manufacturing steps and the manufacturing cost.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、多層の積層を行う際に必要となる各工程における都度の位置合わせ等の準備作業を簡略化し、少ない製造工数かつ高精度でフレキシブル電子デバイスを製造することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and it simplifies preparation work such as alignment at each step required when performing multi-layer stacking, and enables a flexible electronic device with a small number of manufacturing steps and high accuracy. The purpose is to manufacture.

上記課題を解決する第一の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置は、フレキシブルな基材に対して機能層を印刷または塗布する基材処理部と、基材を前記基材処理部へ供給する基材供給部とを備えたフレキシブル電子デバイス製造装置であって、前記基材供給部に、基材を載置する載置手段と、基材を前記載置手段に吸着する吸着手段と、前記載置手段の位置を調整する位置調整手段と、前記載置手段に載置された基材の位置を検出する基材位置検出手段と、基材を所定の位置で前記基材処理部へ供給するように、前記基材位置検出手段の検出結果に基づいて前記位置調整手段を制御する制御手段とを備え、前記基材処理部に、基材を保持して回転駆動する圧胴と、前記圧胴の位相を検出する圧胴位相検出手段とを備え、前記基材供給部に、前記載置手段に載置された基材を前記基材処理部の前記圧胴へ搬送する搬送手段を備え、前記制御手段は、前記圧胴位相検出手段の検出結果に基づいて、前記搬送手段を制御することを特徴とする。 A flexible electronic device manufacturing apparatus according to a first invention for solving the above problems includes a base material processing unit that prints or applies a functional layer to a flexible base material, and a base that supplies the base material to the base material processing unit. A flexible electronic device manufacturing apparatus including a material supply unit, wherein the substrate supply unit is mounted with a mounting unit, and the suction unit is configured to suck the substrate with the mounting unit. A position adjusting means for adjusting the position of the placing means; a substrate position detecting means for detecting the position of the substrate placed on the placing means; and supplying the substrate to the substrate processing section at a predetermined position. A control unit that controls the position adjustment unit based on a detection result of the substrate position detection unit, and a pressure drum that holds and rotates the substrate in the substrate processing unit, and the pressure An impression cylinder phase detection means for detecting the phase of the cylinder, A transporting means for transporting the substrate placed on the placing means to the impression cylinder of the substrate processing unit, the control means based on the detection result of the impression cylinder phase detection means, The conveyance means is controlled .

上記課題を解決する第二の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置は、第一の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置において、前記位置調整手段は、前記載置手段を水平面内における異なる二方向への移動および回転によって位置調整することを特徴とする。   A flexible electronic device manufacturing apparatus according to a second invention that solves the above problem is the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the first invention, wherein the position adjusting means is configured to place the placing means in two different directions in a horizontal plane. The position is adjusted by movement and rotation.

上記課題を解決する第三の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置は、第一または第二の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置において、前記搬送手段は、基材の端部をくわえて保持するくわえ爪装置を備えた渡胴であり、前記載置手段は、前記くわえ爪装置における爪の軌道に対応する位置に切り欠き部を有する板状物であることを特徴とする。 A flexible electronic device manufacturing apparatus according to a third invention for solving the above-mentioned problems is the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the first or second invention, wherein the transport means holds the end of the base material. It is a transfer cylinder provided with a claw device, and the above-mentioned placing means is a plate-like object which has a notch part in the position corresponding to the track of a claw in the above-mentioned claw device.

第一の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置によれば、基材供給部に、基材を載置する載置手段と、載置手段の位置を調整する位置調整手段と、載置手段に載置された基材の位置を検出する基材位置検出手段と、基材位置検出手段の検出結果に基づいて位置調整手段を制御する制御手段とを備えたことにより、基材を所定の位置で基材処理部へ供給することができる。また、基材位置検出手段の検出結果に基づいて位置調整手段を制御することにより、作業者の負担増加の原因となり得る位置合わせに係る準備作業を無くすことができる。
また、前工程で所定の処理が施された基材に対しても、基材供給部においてアライメント調整を行うことにより、基材処理部において高精度で処理を施すことができる。さらに、フレキシブル電子デバイス製造装置の処理後においても、基材に対して施した処理の基準が求められているので、他の処理装置において当該基準に基づいてアライメント調整を行うことにより、他の処理装置による他の処理も高精度に施すことができる。
また、基材処理部に基材を保持して回転駆動する圧胴と圧胴の位相を検出する圧胴位相検出手段とを備え、基材供給部に載置手段に載置された基材を基材処理部の圧胴へ搬送する搬送手段を備え、制御手段が圧胴位相検出手段の検出結果に基づいて搬送手段を制御することにより、基材供給部から基材処理部へ基材の供給を精密に行うことができると共に、基材処理部において基材に対して高精度な各種処理を行うことができる。
According to the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the first aspect of the invention, the substrate supply unit is mounted on the mounting unit, the position adjusting unit that adjusts the position of the mounting unit, and the mounting unit. A base material position detecting means for detecting the position of the placed base material, and a control means for controlling the position adjusting means based on the detection result of the base material position detecting means. It can supply to a base-material process part. In addition, by controlling the position adjusting means based on the detection result of the base material position detecting means, it is possible to eliminate preparation work related to alignment that may cause an increase in the burden on the operator.
In addition, even a base material that has been subjected to a predetermined process in the previous step can be processed with high accuracy in the base material processing unit by performing alignment adjustment in the base material supply unit. Furthermore, even after the processing of the flexible electronic device manufacturing apparatus, since the reference for the processing performed on the base material is required, other processing can be performed by adjusting the alignment based on the reference in the other processing apparatus. Other processing by the apparatus can be performed with high accuracy.
Also, a base material that is provided with a pressure drum that holds and rotates the base material in the base material processing unit and a pressure drum phase detection unit that detects the phase of the pressure cylinder, and is placed on the mounting unit in the base material supply unit Is conveyed to the impression cylinder of the substrate processing unit, and the control unit controls the conveying unit based on the detection result of the impression cylinder phase detection unit, whereby the substrate is supplied from the substrate supply unit to the substrate processing unit. Can be precisely performed, and various high-precision processes can be performed on the substrate in the substrate processing unit.

第二の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置によれば、位置調整手段を、載置手段を水平面内における異なる二方向への移動および回転によって位置調整するものとしたことにより、精密なアライメント調整を行うことができる。よって、基材供給部に基材をセットする際、すなわち、載置手段に基材を載置する際には、基材を所定の位置に正確に載置する必要はなく、載置手段上に設置した突き当てピン等によってラフな位置出しを行うだけで良い。つまり、位置合わせに係る準備作業を簡易化することができるので、作業者の負担を低減することができる。   According to the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the second aspect of the present invention, the position adjusting means adjusts the position of the mounting means by moving and rotating in two different directions in the horizontal plane, thereby enabling precise alignment adjustment. It can be carried out. Therefore, when setting the base material on the base material supply unit, that is, when placing the base material on the mounting means, it is not necessary to accurately place the base material at a predetermined position. It is only necessary to perform rough positioning with an abutment pin or the like installed on the surface. That is, since the preparatory work related to the alignment can be simplified, the burden on the operator can be reduced.

第三の発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置によれば、搬送手段を基材の端部をくわえて保持するくわえ爪装置を備えた渡胴としたことにより、簡易な構成とすることができる。また、載置手段をくわえ爪装置における爪の軌道に対応する位置に切り欠き部を有する板状物としたことにより、載置手段と渡胴のくわえ爪装置との干渉を簡易な構造で回避することができる。 According to the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the third aspect of the present invention, a simple structure can be obtained by using the transfer means provided with a gripping claw device that holds the end of the base material. In addition, since the mounting means is a plate-like object having a notch at a position corresponding to the path of the nail in the gripper device, interference between the mounting means and the gripper device of the transfer cylinder can be avoided with a simple structure. can do.

実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置を示す概略図である。1 is a schematic diagram illustrating a flexible electronic device manufacturing apparatus according to a first embodiment. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置において行う工程を示すフローチャートである。3 is a flowchart illustrating steps performed in the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the first embodiment. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置において複数の処理が施されたフィルム基板の部分拡大断面図である。It is the elements on larger scale of the film substrate in which the some process was performed in the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置における基材供給部の供給装置を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the supply apparatus of the base material supply part in the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置における基材供給部の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the base material supply part in the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置における基材供給部の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the base material supply part in the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置における基材供給部の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the base material supply part in the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の制御系統を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a control system of a flexible electronic device manufacturing apparatus according to Embodiment 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の動作を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows operation | movement of the flexible electronic device manufacturing apparatus which concerns on Example 1. FIG.

以下に、本発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置の実施例について、添付図面を参照して詳細に説明する。もちろん、本発明は以下の実施例に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各種変更が可能であることは言うまでもない。   Embodiments of a flexible electronic device manufacturing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Needless to say, the present invention is not limited to the following examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本実施例に係るフレキシブル電子デバイス製造装置および該装置を用いて製造されるフレキシブル電子デバイスについて、図1から図3を参照して説明する。   A flexible electronic device manufacturing apparatus according to the present embodiment and a flexible electronic device manufactured using the apparatus will be described with reference to FIGS.

本実施例に係るフレキシブル電子デバイス製造装置は、基材に対して、高精度にアライメント調整を行い、電子デバイスの製造における複数の処理を行うものである。   The flexible electronic device manufacturing apparatus according to the present embodiment performs alignment adjustment with high accuracy on a base material, and performs a plurality of processes in manufacturing the electronic device.

図1に示すように、フレキシブル電子デバイス製造装置1は、基材としてのフィルム基板100を供給する供給手段としての基材供給部2と、基材供給部2によって供給されたフィルム基板100に対して後述する複数の処理を施す基材処理部3と、基材処理部3によって処理が施されたフィルム基板100を排出する排出手段としての基材排出部4とによって構成される。   As shown in FIG. 1, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 has a base material supply unit 2 as a supply unit that supplies a film substrate 100 as a base material, and a film substrate 100 supplied by the base material supply unit 2. The base material processing unit 3 that performs a plurality of processes, which will be described later, and the base material discharge unit 4 as a discharge unit that discharges the film substrate 100 processed by the base material processing unit 3.

基材供給部2によって供給されたフィルム基板100は、基材処理部3において、複数の工程(図2に示すS1〜S4)における種々の処理が施されることによって、図3に示すように、フィルム基板100上にそれぞれ機能層であるゲート層110,絶縁層120,ソース・ドレイン層130,半導体140が高精度に積層され、基材排出部4によって排出される(図1参照)。   As shown in FIG. 3, the film substrate 100 supplied by the base material supply unit 2 is subjected to various processes in a plurality of steps (S <b> 1 to S <b> 4 shown in FIG. 2) in the base material processing unit 3. The gate layer 110, the insulating layer 120, the source / drain layer 130, and the semiconductor 140, which are functional layers, are stacked on the film substrate 100 with high accuracy and discharged by the base material discharge unit 4 (see FIG. 1).

なお、図示はしないが、排出されたフィルム基板100は、フレキシブル電子デバイス製造装置1とは別体の図示しないオーブンにセットされ、当該オーブンにおいて、フィルム基板100に積層された各層110,120,130,140が焼成または架橋されることにより、フレキシブル電子デバイスが得られる。   Although not shown, the discharged film substrate 100 is set in an oven (not shown) separate from the flexible electronic device manufacturing apparatus 1, and each layer 110, 120, 130 stacked on the film substrate 100 is set in the oven. , 140 are fired or crosslinked to obtain a flexible electronic device.

本実施例で用いられるフィルム基板100としては、例えば、20〜300μm程度の厚みのポリエチレンテレフタレート(PET),ポリエチレンナフタレート(PEN),ポリカーボネート(PC),ポリイミド(PI),フレキシブルなガラス,セルロース(一種の紙)などのフィルム状物が挙げられる。   Examples of the film substrate 100 used in this embodiment include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyimide (PI), flexible glass, cellulose (with a thickness of about 20 to 300 μm ( A kind of paper).

フレキシブル電子デバイス製造装置1における基材供給部2、基材処理部3、基材排出部4について、詳細に説明する。   The substrate supply unit 2, the substrate processing unit 3, and the substrate discharge unit 4 in the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 will be described in detail.

まず、基材供給部2の構成について、図1,図4から図6を参照して説明する。   First, the structure of the base material supply unit 2 will be described with reference to FIGS. 1 and 4 to 6.

図1に示すように、基材供給部2は、フィルム基板100の供給を行う供給装置10と、供給装置10によって供給されたフィルム基板100を基材処理部3へ受け渡す搬送手段としての二倍胴の渡胴20とによって構成される。   As shown in FIG. 1, the base material supply unit 2 includes a supply device 10 that supplies the film substrate 100 and a transport unit that delivers the film substrate 100 supplied by the supply device 10 to the base material processing unit 3. It is comprised by the transfer cylinder 20 of a double cylinder.

フィルム基板100は、供給装置10によって供給位置(図1,図5Bに示す位置)に搬送され、渡胴20に備えられたくわえ爪装置21によって当該フィルム基板100の搬送方向上流側先端部100aをくわえられて保持されると共に、渡胴20の回転動作によって搬送され(図5C参照)、基材処理部3へ供給される。ここで、供給位置は、供給装置10から渡胴20へのフィルム基板100の供給が行われる位置、すなわち、くわえ爪装置21がフィルム基板100をくわえる規定の位置である。   The film substrate 100 is conveyed to a supply position (position shown in FIGS. 1 and 5B) by the supply device 10, and a gripper device 21 provided on the transfer cylinder 20 holds the leading end portion 100a on the upstream side in the conveyance direction of the film substrate 100. In addition to being held, it is transported by the rotation operation of the transfer cylinder 20 (see FIG. 5C) and supplied to the substrate processing unit 3. Here, the supply position is a position where the film substrate 100 is supplied from the supply apparatus 10 to the transfer cylinder 20, that is, a specified position where the gripper device 21 holds the film substrate 100.

渡胴20は、後述する基材処理部3における圧胴30と対接すると共に、圧胴30と図示しないギヤ機構を介して連結されている。渡胴20は、圧胴30と共に回転駆動され、渡胴20のくわえ爪装置21は、渡胴爪開閉カム駆動装置221(図6参照)によって爪の開閉、すなわち、フィルム基板100をくわえて圧胴30へ渡す動作とフィルム基板100をくわえずに圧胴30へ受け渡さない動作との切り換えが行われる。   The transfer cylinder 20 is in contact with the impression cylinder 30 in the base material processing unit 3 to be described later, and is connected to the impression cylinder 30 via a gear mechanism (not shown). The transfer cylinder 20 is rotationally driven together with the impression cylinder 30, and the gripping claw device 21 of the transfer cylinder 20 is opened and closed by the transfer cylinder claw opening / closing cam drive device 221 (see FIG. 6), that is, the pressure is applied to the film substrate 100. Switching between the operation of transferring to the cylinder 30 and the operation of not transferring the film substrate 100 to the impression cylinder 30 without switching is performed.

本発明における搬送手段は、本実施例の渡胴20に限定されない。例えば、搬送手段を、圧胴30と独立した単独駆動の渡胴としても良く、一倍胴または三倍胴以上の渡胴としても良く、渡胴を介さないスイング装置等としても良い。   The conveying means in the present invention is not limited to the transfer cylinder 20 of the present embodiment. For example, the conveying means may be a single-drive transfer cylinder independent of the impression cylinder 30, a transfer cylinder of a single cylinder or a triple cylinder, or a swing device that does not use a transfer cylinder.

図4に示すように、供給装置10は、搬送台11(図5Aから図5C参照)の上を図示しない駆動源によって移動可能な搬送テーブル12と、搬送テーブル12上に設置されてフィルム基板100を載置する載置手段としての載置ボード13とから構成される。   As shown in FIG. 4, the supply device 10 includes a transport table 12 that can be moved on a transport table 11 (see FIGS. 5A to 5C) by a driving source (not shown), and a film substrate 100 that is installed on the transport table 12. It is comprised from the mounting board 13 as a mounting means to mount.

基材供給部2には、搬送テーブル12が搬送台11上を移動しても載置ボード13上のフィルム基板100の載置位置がずれないように、フィルム基板100を載置ボード13へ吸着させる吸着手段を設けている。本実施例では、吸着手段として、載置ボード13のフィルム基板100と対接する面に開口する複数の図示しない吸着穴を設けると共に、当該吸着穴と連通して負圧を作用させるポンプ16(図6参照)を設けている。つまり、本実施例における吸着手段は、負圧を利用してフィルム基板100を載置ボード13へ真空吸着するものである。   The base material supply unit 2 attracts the film substrate 100 to the placement board 13 so that the placement position of the film substrate 100 on the placement board 13 does not shift even if the transport table 12 moves on the transport base 11. Adsorption means is provided. In the present embodiment, as a suction means, a plurality of suction holes (not shown) opened on the surface of the mounting board 13 that contacts the film substrate 100 are provided, and a pump 16 that communicates with the suction holes and applies a negative pressure (see FIG. 6). That is, the suction means in the present embodiment vacuum-sucks the film substrate 100 to the mounting board 13 using negative pressure.

このように吸着穴(図示せず)およびポンプ16を設けることにより、ポンプ16で発生させた負圧を利用してフィルム基板100を載置ボード13へ吸着させることができる。すなわち、ポンプ16で発生させた負圧は、ポンプ16と連通する吸着穴(図示せず)を介して載置ボード13上のフィルム基板100に作用し、当該フィルム基板100は、載置ボード13に吸着されるので、搬送テーブル12が搬送台11上を移動しても載置ボード13上のフィルム基板100の載置位置がずれない。また、フィルム基板100が載置ボード13に吸着されることにより、後述するアライメント調整においても、フィルム基板100の載置位置を正確かつ微細に調整することができる。   Thus, by providing the suction hole (not shown) and the pump 16, the film substrate 100 can be sucked to the mounting board 13 using the negative pressure generated by the pump 16. That is, the negative pressure generated by the pump 16 acts on the film substrate 100 on the mounting board 13 through an adsorption hole (not shown) communicating with the pump 16, and the film substrate 100 is connected to the mounting board 13. Therefore, even if the transport table 12 moves on the transport table 11, the mounting position of the film substrate 100 on the mounting board 13 does not shift. In addition, when the film substrate 100 is attracted to the placement board 13, the placement position of the film substrate 100 can be adjusted accurately and finely also in alignment adjustment described later.

載置ボード13は、フィルム基板100を載置可能な板状物であり、その搬送方向上流側先端部13aには、渡胴20のくわえ爪装置21(図1参照)の爪の軌道に対応する位置に、複数(本実施例では四つ)の切り欠き部13bが設けられている。   The mounting board 13 is a plate-like object on which the film substrate 100 can be mounted, and corresponds to the nail trajectory of the gripping claw device 21 (see FIG. 1) of the transfer cylinder 20 at the upstream end 13a in the conveying direction. A plurality of (four in the present embodiment) cutout portions 13b are provided at the positions where they are placed.

このように載置ボード13に切り欠き部13bを設けることにより、供給装置10から渡胴20へのフィルム基板100の受け渡しの際に、渡胴20のくわえ爪装置21と供給装置10の載置ボード13との干渉を回避することができる。   By providing the notch 13b on the mounting board 13 in this way, the gripper device 21 of the transfer cylinder 20 and the supply apparatus 10 are mounted when the film substrate 100 is transferred from the supply apparatus 10 to the transfer cylinder 20. Interference with the board 13 can be avoided.

また、搬送テーブル12上の載置ボード13には、位置調整手段としてのアクチュエータ14が備えられている。アクチュエータ14を作動させることにより、搬送テーブル12上において、載置ボード13を水平面内における左右方向Xおよび天地方向Yへ移動させると共に、回転方向θへ回転させることができる。つまり、アクチュエータ14による載置ボード13の左右方向X,天地方向Y,回転方向θにおける位置調整により、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置を調整することができる。   The mounting board 13 on the transfer table 12 is provided with an actuator 14 as a position adjusting means. By actuating the actuator 14, the placement board 13 can be moved in the horizontal direction X and the vertical direction Y in the horizontal plane and rotated in the rotation direction θ on the transport table 12. That is, the placement position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12 can be adjusted by adjusting the position of the placement board 13 in the left-right direction X, top-and-bottom direction Y, and rotation direction θ by the actuator 14.

更に、搬送テーブル12の移動経路には、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置を検出するための位置検出手段としてのアライメントカメラ15が設置されている。このように、アクチュエータ14およびアライメントカメラ15を設けることにより、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置について精密なアライメント調整を行うことができる。   Further, an alignment camera 15 as a position detection unit for detecting the placement position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12 is installed in the movement path of the transport table 12. Thus, by providing the actuator 14 and the alignment camera 15, precise alignment adjustment can be performed with respect to the mounting position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12.

具体的には、フィルム基板100がセットされた搬送テーブル12をアライメントカメラ15が設置されたアライメント調整位置に停止させ(図5A参照)、フィルム基板100に予め設けたアライメントマーク101(本実施例においては十字形)をアライメントカメラ15によって読み取ることにより、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置を検出し、当該検出結果に基づいてアクチュエータ14を作動させることにより、アライメントマーク101すなわちフィルム基板100を所定の位置(搬送テーブル12に対する基準位置)に位置させることができる(図4参照)。   Specifically, the conveyance table 12 on which the film substrate 100 is set is stopped at the alignment adjustment position where the alignment camera 15 is installed (see FIG. 5A), and an alignment mark 101 (in this embodiment) provided in advance on the film substrate 100. Is read by the alignment camera 15 to detect the mounting position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12, and the actuator 14 is operated based on the detection result, thereby aligning the alignment mark 101, that is, the film substrate 100. It can be located at a predetermined position (reference position with respect to the transport table 12) (see FIG. 4).

このとき、ポンプ16を作動させてフィルム基板100を載置ボード13へ吸着させているので、フィルム基板100の載置位置を正確かつ微細に調整すること、すなわち、フィルム基板100の精密なアライメント調整を行うことができる。   At this time, the pump 16 is operated to adsorb the film substrate 100 to the mounting board 13, so that the mounting position of the film substrate 100 is adjusted accurately and finely, that is, precise alignment adjustment of the film substrate 100 is performed. It can be performed.

このように、フィルム基板100の精密なアライメント調整を行うことにより、フィルム基板100を所定の供給位置で渡胴20へ供給すると共に、所定の搬送位置で基材処理部3へ搬送することができる。よって、基材処理部3においては、毎回所定の搬送位置で搬送されるフィルム基板100に対して各種処理を行うことができるので、フィルム基板100に対して高精度な各種処理を行うことができる。   Thus, by performing precise alignment adjustment of the film substrate 100, the film substrate 100 can be supplied to the transfer cylinder 20 at a predetermined supply position, and can be conveyed to the base material processing unit 3 at a predetermined conveyance position. . Therefore, since the base material processing unit 3 can perform various processes on the film substrate 100 transported at a predetermined transport position every time, the high-precision various processes can be performed on the film substrate 100. .

また、例えば、前工程で所定の処理が施された基材に対しても、本実施例に係るフレキシブル電子デバイス製造装置1において上述のアライメント調整を行い、各種処理を高精度に施すことができると共に、フレキシブル電子デバイス製造装置1における各種処理後においても、他の処理装置において既設のアライメントマーク101を基準とした本実施例と同様のアライメント調整を行うことにより、他の処理装置による他の処理も高精度に施すことができる。   In addition, for example, the above-described alignment adjustment is performed in the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment even for a base material that has been subjected to a predetermined process in the previous step, and various processes can be performed with high accuracy. In addition, after various processes in the flexible electronic device manufacturing apparatus 1, other processes by other processing apparatuses are performed by performing the same alignment adjustment in the other processing apparatuses with reference to the existing alignment marks 101. Can be applied with high accuracy.

また、上述のように、供給装置10においてフィルム基板100の精密なアライメント調整を可能としたので、供給装置10にフィルム基板100をセットする際、すなわち、供給装置10における載置ボード13上にフィルム基板100を載置する際には、フィルム基板100を所定の位置に正確に載置する必要はなく、載置ボード13上に設置した図示しない突き当てピン等によってラフな位置出しを行うだけで良い。   Further, as described above, since the supply apparatus 10 can precisely adjust the alignment of the film substrate 100, when the film substrate 100 is set in the supply apparatus 10, that is, on the mounting board 13 in the supply apparatus 10. When placing the substrate 100, it is not necessary to place the film substrate 100 accurately at a predetermined position, and only rough positioning is performed with an abutment pin (not shown) installed on the placement board 13. good.

つまり、手置き等で載置ボード13上におけるフィルム基板100のラフな位置出しを行い、フィルム基板100を載置ボード13へ吸着させ、上述のアライメント調整によって載置ボード13上におけるフィルム基板100の正確な位置出しを行う(搬送テーブル12に対する基準位置に位置させる)ことができるので、供給装置10へのフィルム基板100のセットに際して、作業者の負荷が増加することはなく、製造工数の増加を招くこともない。   That is, the film substrate 100 is roughly positioned on the placement board 13 by hand placement, the film substrate 100 is attracted to the placement board 13, and the film substrate 100 on the placement board 13 is adjusted by the alignment adjustment described above. Accurate positioning can be performed (positioned at the reference position with respect to the transport table 12), so that when the film substrate 100 is set on the supply apparatus 10, the load on the operator is not increased, and the number of manufacturing steps is increased. There is no invitation.

供給装置10における載置ボード13を駆動させるアクチュエータ14、すなわち、フィルム基板100の位置調整手段としては、載置ボード13を搬送テーブル12に対して水平面内で異なる二方向への移動および回転が可能な構成であれば良く、例えば、モータ等の駆動源によってボールネジやベアリング等を介する機構、油圧や空気圧等による機構など種々の機構を採用することができる。   As an actuator 14 for driving the mounting board 13 in the supply device 10, that is, as a position adjusting means for the film substrate 100, the mounting board 13 can be moved and rotated in two different directions within the horizontal plane with respect to the transfer table 12. For example, various mechanisms such as a mechanism using a ball screw or a bearing by a driving source such as a motor, a mechanism using hydraulic pressure, air pressure, or the like can be adopted.

なお、本実施例における搬送テーブル12は、フィルム基板100を載置ボード13上に載置するための基材セット位置(図示せず)と、フィルム基板100の載置位置の検出および調整を行うためのアライメント調整位置(図5A参照)と、渡胴20のくわえ爪装置21がフィルム基板100をくわえるための供給位置(図5B参照)とを移動可能な構成であり、その移動機構および駆動源等は特に制限されない。アライメント調整位置から供給位置まで、搬送テーブル12すなわちフィルム基板100を正確に移動させるためには、図示しないリニアモータなどによって搬送テーブル12を直動駆動とすることが好ましい。   In addition, the conveyance table 12 in a present Example performs the detection and adjustment of the base material set position (not shown) for mounting the film board | substrate 100 on the mounting board 13, and the mounting position of the film board | substrate 100. FIG. And a supply position (see FIG. 5B) for holding the film substrate 100 by the gripping claw device 21 of the transfer cylinder 20, and its moving mechanism and drive source Etc. are not particularly limited. In order to accurately move the transport table 12, that is, the film substrate 100 from the alignment adjustment position to the supply position, the transport table 12 is preferably linearly driven by a linear motor or the like (not shown).

もちろん、上述の基材セット位置とアライメント調整位置と供給位置とをそれぞれ同位置とし、搬送テーブル12を移動させずに、フィルム基板100のセット、フィルム基板100の載置位置の検出および調整、渡胴20のくわえ爪装置21への供給を行うようにしても良い。   Of course, the above-mentioned base material set position, alignment adjustment position, and supply position are set to the same position, and without moving the transport table 12, the setting of the film substrate 100, the detection and adjustment of the mounting position of the film substrate 100, and the transfer Supply to the gripper device 21 of the trunk 20 may be performed.

次に、基材処理部3の構成について、図1から図3を参照して説明する。   Next, the configuration of the substrate processing unit 3 will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

図1に示すように、基材処理部3は、基材供給部2における渡胴20からフィルム基板100を受け取る四倍胴の圧胴30と、圧胴30の周囲に隣接して設置される処理手段としての処理装置40,50,60,70とによって構成されている。フィルム基板100は、渡胴20のくわえ爪装置21から圧胴30に備えられたくわえ爪装置31にくわえ替えられることにより、基材供給部2から基材処理部3へ供給される。   As shown in FIG. 1, the base material processing unit 3 is installed adjacent to the periphery of the impression cylinder 30, and a quadruple impression cylinder 30 that receives the film substrate 100 from the transfer cylinder 20 in the base material supply unit 2. It is comprised by the processing apparatuses 40, 50, 60, and 70 as a processing means. The film substrate 100 is supplied from the base material supply unit 2 to the base material processing unit 3 by being replaced by the gripping claw device 31 provided in the impression cylinder 30 from the gripping claw device 21 of the transfer cylinder 20.

圧胴30は、圧胴駆動手段としての圧胴駆動装置230(図6参照)によって正逆回転可能に回転駆動され、圧胴30のくわえ爪装置31は、渡胴側圧胴爪開閉カム駆動装置231aおよび排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置231b(図6参照)によって爪の開閉が行われる。フィルム基板100は、圧胴30のくわえ爪装置31に搬送方向上流側先端部100a(圧胴30の正回転駆動時における搬送方向上流側の端部)をくわえられて保持される。よって、圧胴30の逆回転駆動時に、くわえ爪装置31によってくわえられていないフィルム基板100の尻側が圧胴30の表面から離れないように、圧胴30に密着手段を備えている。   The impression cylinder 30 is rotationally driven so as to be able to rotate forward and backward by an impression cylinder driving device 230 (see FIG. 6) as impression cylinder driving means, and a holding claw device 31 of the impression cylinder 30 is a transfer cylinder side impression cylinder claw opening / closing cam driving device. The claw is opened and closed by 231a and the discharge part side impression cylinder claw opening / closing cam driving device 231b (see FIG. 6). The film substrate 100 is held by the gripping claw device 31 of the impression cylinder 30 with the leading end 100a in the conveyance direction upstream (the end on the upstream side in the conveyance direction when the impression cylinder 30 is driven to rotate forward). Therefore, the pressure drum 30 is provided with a close contact means so that the bottom side of the film substrate 100 not held by the gripper claw device 31 is not separated from the surface of the pressure drum 30 when the pressure drum 30 is driven in reverse rotation.

本実施例においては、密着手段として、圧胴30の表面に高分子素材から成る密着シート(図示せず)を取付けている。くわえ爪装置31によって圧胴30に保持されるフィルム基板100は、その略全面が圧胴30の表面に密着するようになっている。このようにフィルム基板100を圧胴30の表面に密着させる密着手段を圧胴30に設けることにより、圧胴30が圧胴駆動装置230の動作によって逆回転駆動される際においても、くわえ爪装置31によって保持されていないフィルム基板100の尻側が圧胴30の表面から離れることはなく、圧胴30のくわえ爪装置31によって保持されるフィルム基板100の安定した搬送および排出等が可能となる。   In this embodiment, a contact sheet (not shown) made of a polymer material is attached to the surface of the impression cylinder 30 as the contact means. The film substrate 100 held on the impression cylinder 30 by the gripper device 31 is configured so that the substantially entire surface thereof is in close contact with the surface of the impression cylinder 30. In this way, by providing the pressure drum 30 with close contact means for bringing the film substrate 100 into close contact with the surface of the pressure drum 30, even when the pressure drum 30 is reversely driven by the operation of the pressure drum drive device 230, the gripper device. The bottom side of the film substrate 100 that is not held by 31 is not separated from the surface of the impression cylinder 30, and the film substrate 100 held by the gripper device 31 of the impression cylinder 30 can be stably conveyed and discharged.

本発明における圧胴30に備える密着手段としては、本実施例のように多孔質ポーラスやシリコンなどの密着性を備えた高分子素材を取り付けることにより、フィルム基板100を圧胴30の表面に密着させるものに限定されず、例えば、圧胴30に保持されるフィルム基板100の尻側をくわえ爪装置(図示せず)によってくわえるようにしても良い。   As an adhesion means provided in the impression cylinder 30 in the present invention, the film substrate 100 is adhered to the surface of the impression cylinder 30 by attaching a polymer material having adhesion such as porous porous or silicon as in this embodiment. For example, the bottom side of the film substrate 100 held by the impression cylinder 30 may be held by a holding claw device (not shown).

処理装置40,50,60,70は、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対して、印刷法または塗布法によって複数の機能層を設ける(積層する)ための複数の処理を施す処理手段であり、本実施例においては、反転印刷法によって機能層を形成するための機能性溶液を印刷する印刷装置としての反転印刷装置40と、コーティング法によって機能層を形成するための機能性溶液を塗布する塗布装置としてのコーティング装置50と、インクジェット印刷法によって機能層を形成するための機能性溶液を印刷する印刷装置としてのインクジェット印刷装置60と、フィルム基板100に印刷または塗布された機能性溶液を乾燥(固化)させる乾燥装置(固化装置)70である。   The processing devices 40, 50, 60, and 70 are processing means for performing a plurality of processes for providing (stacking) a plurality of functional layers on the film substrate 100 held on the impression cylinder 30 by a printing method or a coating method. In this embodiment, a reversal printing apparatus 40 as a printing apparatus for printing a functional solution for forming a functional layer by a reversal printing method and a functional solution for forming a functional layer by a coating method are provided. Coating device 50 as a coating device for coating, inkjet printing device 60 as a printing device for printing a functional solution for forming a functional layer by an inkjet printing method, and a functional solution printed or applied to film substrate 100 Is a drying device (solidifying device) 70 for drying (solidifying) the material.

もちろん、本発明における処理手段は、本実施例の反転印刷装置40、コーティング装置50、インクジェット印刷装置60、乾燥装置70に限定されない。処理手段は、フレキシブル電子デバイスを構成する複数の機能層のうち一つの機能層を印刷または塗布した後、圧胴30に保持されたままのフィルム基板100に対して、前記一つの機能層の上に別の機能層を印刷または塗布により設けるなど、電子デバイスの製造段階における複数の処理を施すものであれば良い。   Of course, the processing means in the present invention is not limited to the reverse printing apparatus 40, the coating apparatus 50, the inkjet printing apparatus 60, and the drying apparatus 70 of the present embodiment. The processing means prints or coats one of the plurality of functional layers constituting the flexible electronic device, and then applies the upper layer of the one functional layer to the film substrate 100 held on the impression cylinder 30. Any other functional layer may be used as long as it performs a plurality of processes in the manufacturing stage of the electronic device, such as providing another functional layer by printing or coating.

処理手段として、例えば、グラビア印刷法による処理を施すグラビア印刷装置、凹版印刷法による処理を施す凹版印刷装置、凸版印刷法による処理を施す凸版印刷装置などを圧胴30の周囲に隣接させて設置しても良く、印刷法による処理以外にも、種々の塗布法による処理を施す塗布装置などを圧胴30の周囲に隣接させて設置しても良い。もちろん、処理手段によって施す処理の内容および数についても、本実施例のものに限定されるものではない。   As the processing means, for example, a gravure printing device that performs processing by a gravure printing method, an intaglio printing device that performs processing by an intaglio printing method, a relief printing device that performs processing by a letterpress printing method are installed adjacent to the periphery of the impression cylinder 30. In addition to the processing by the printing method, a coating device that performs processing by various coating methods may be installed adjacent to the periphery of the impression cylinder 30. Of course, the contents and number of processes performed by the processing means are not limited to those of the present embodiment.

反転印刷装置40は、フィルム基板100に対する複数の処理のうちの一つの処理を施す手段であり、フィルム基板100に対して、反転印刷法を用いてゲート層110およびソース・ドレイン層130を形成するための導電溶液(機能性溶液)を所定のパターンで印刷するものである。図1に示すように、反転印刷装置40は、圧胴30と対接する二倍胴のゴム胴41と、ゴム胴41と対接する二倍胴の反転版胴42と、ゴム胴41の上方に近接するスリットダイ43と、図示しない導電溶液供給装置とから成る。   The reverse printing apparatus 40 is means for performing one of a plurality of processes on the film substrate 100, and forms the gate layer 110 and the source / drain layer 130 on the film substrate 100 by using the reverse printing method. The conductive solution (functional solution) for printing is printed in a predetermined pattern. As shown in FIG. 1, the reverse printing apparatus 40 includes a double cylinder rubber cylinder 41 in contact with the impression cylinder 30, a double cylinder reverse plate cylinder 42 in contact with the rubber cylinder 41, and the rubber cylinder 41. It consists of a slit die 43 adjacent to the conductive solution supply device (not shown).

ゴム胴41は、ゴム胴駆動手段およびゴム胴着脱手段としての反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241(図6参照)によって、圧胴30と独立して正逆回転可能に回転駆動されると共に、圧胴30に対して着脱可能である。また、反転版胴42は、版胴駆動手段および版胴着脱手段としての反転印刷部版胴駆動・着脱装置242(図6参照)によって、圧胴30およびゴム胴41と独立して回転駆動されると共に、ゴム胴41に対して着脱可能である。   The rubber cylinder 41 is driven to rotate forward and backward independently of the impression cylinder 30 by a reversal printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 (see FIG. 6) as a rubber cylinder driving means and a rubber cylinder attaching / detaching means. It can be attached to and detached from the impression cylinder 30. The reversing plate cylinder 42 is rotationally driven independently of the impression cylinder 30 and the rubber cylinder 41 by a reversal printing section plate cylinder driving / detaching device 242 (see FIG. 6) as plate cylinder driving means and plate cylinder attaching / detaching means. At the same time, it can be attached to and detached from the rubber cylinder 41.

また、反転印刷装置40におけるスリットダイ43は、反転印刷部スリットコータ作動装置243(図6参照)によって作動され、反転印刷法による処理を施すときには、スリットダイ43を下方へ移動してゴム胴41に近接した溶液供給位置に位置させると共に、図示しない導電溶液供給装置からスリットダイ43およびゴム胴41へ導電溶液を供給し(図7A参照)、反転印刷法による処理を施さないときには、スリットダイ43を上方へ移動してゴム胴41から離反した待機位置に位置させると共に、図示しない導電溶液供給装置からスリットダイ43およびゴム胴41への導電溶液の供給を停止させる(図7B参照)。   In addition, the slit die 43 in the reverse printing apparatus 40 is operated by a reverse printing unit slit coater operating device 243 (see FIG. 6). When processing by the reverse printing method is performed, the slit die 43 is moved downward and the rubber cylinder 41 is moved. When the conductive solution is supplied from a conductive solution supply device (not shown) to the slit die 43 and the rubber cylinder 41 (see FIG. 7A), and the processing by the reverse printing method is not performed, the slit die 43 is placed. Is moved to a standby position away from the rubber cylinder 41, and the supply of the conductive solution to the slit die 43 and the rubber cylinder 41 from the conductive solution supply device (not shown) is stopped (see FIG. 7B).

反転印刷装置40において使用される導電溶液は、ゲート層110およびソース・ドレイン層130の両方の層形成に使用できるものであり、反転印刷装置40は、反転印刷法によって、ゲート層110を形成するための印刷およびソース・ドレイン層130を形成するための印刷の両方を行う。導電溶液としては、特に限定されないが、金属ナノ粒子を溶解した機能性溶液が挙げられる。金属ナノ粒子としては、例えば、金,銀,銅,ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等があり、溶媒としては、例えば、水、アルコール等がある。   The conductive solution used in the reverse printing apparatus 40 can be used to form both the gate layer 110 and the source / drain layer 130. The reverse printing apparatus 40 forms the gate layer 110 by a reverse printing method. Printing for forming the source / drain layer 130 is performed. Although it does not specifically limit as a conductive solution, The functional solution which melt | dissolved the metal nanoparticle is mentioned. Examples of the metal nanoparticles include gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium, and rhodium, and examples of the solvent include water and alcohol.

もちろん、本発明における処理手段としては、ゲート層110およびソース・ドレイン層130の形成に異なる導電溶液を用い、ゲート層110を形成するための印刷およびソース・ドレイン層130を形成するための印刷をそれぞれ別の装置を用いて行うようにしても良い。   Of course, as the processing means in the present invention, different conductive solutions are used for forming the gate layer 110 and the source / drain layer 130, and printing for forming the gate layer 110 and printing for forming the source / drain layer 130 are performed. You may make it perform using a respectively different apparatus.

導電溶液は、図示しない導電溶液供給装置からスリットダイ43へ供給され、スリットダイ43の下方から回転駆動するゴム胴41へ供給される。ゴム胴41の周面に供給された導電溶液は、対接する反転版胴42の周面に設けられた刷版42aまたは42bによってネガパターン(非画線部)の導電溶液が除去され、ゴム胴41の周面にはポジパターン(画線部)の導電溶液のみが残される。ゴム胴41の周面に残されたポジパターンの導電溶液は、圧胴30の周面に保持されたフィルム基板100に転写される。   The conductive solution is supplied from a conductive solution supply device (not shown) to the slit die 43 and is supplied from below the slit die 43 to the rubber cylinder 41 that is rotationally driven. The conductive solution supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is removed from the negative pattern (non-imaged portion) conductive solution by the printing plate 42a or 42b provided on the peripheral surface of the inversion plate cylinder 42 that contacts the rubber cylinder 41. Only the conductive solution of the positive pattern (image portion) is left on the peripheral surface of 41. The positive pattern conductive solution left on the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is transferred to the film substrate 100 held on the peripheral surface of the impression cylinder 30.

本実施例における反転印刷装置40の反転版胴42には、異なるパターンで形成された二種類の刷版42a,42bを取り付け、一つの反転印刷装置40によって二種類のパターンの反転印刷が可能な構成としている。二種類の刷版42a,42bは、ゲート層形成用の刷版42aとソース・ドレイン層形成用の刷版42bであり、各刷版42a,42bは、それぞれ各層に対応したパターンで形成されている。   Two types of printing plates 42 a and 42 b formed in different patterns are attached to the reversal plate cylinder 42 of the reversal printing device 40 in this embodiment, and two types of pattern reversal printing can be performed by one reversal printing device 40. It is configured. The two types of printing plates 42a and 42b are a printing plate 42a for forming a gate layer and a printing plate 42b for forming a source / drain layer. Each of the printing plates 42a and 42b is formed in a pattern corresponding to each layer. Yes.

よって、ゲート層形成工程においては、一方の刷版42aを用いた反転印刷によって、フィルム基板100にゲート層パターンの導電溶液が印刷され、ソース・ドレイン層形成工程においては、他方の刷版42bを用いた反転印刷によって、フィルム基板100にソース・ドレイン層パターンの導電溶液が印刷される。   Therefore, in the gate layer forming step, the conductive solution of the gate layer pattern is printed on the film substrate 100 by reversal printing using one printing plate 42a, and in the source / drain layer forming step, the other printing plate 42b is used. The conductive solution of the source / drain layer pattern is printed on the film substrate 100 by the reversal printing used.

つまり、本実施例における反転印刷装置40は、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対して、機能層を異なるパターンで複数層(本実施例では二層)印刷することができるものであり、フィルム基板100に導電溶液を異なるパターンで印刷することにより、ゲート層110を形成するゲート層形成装置、かつ、ソース・ドレイン層130を形成するソース・ドレイン層形成装置の両方の機能を有している。ゲート層形成工程およびソース・ドレイン層形成工程における反転印刷装置40の印刷動作については後述する。   That is, the reverse printing apparatus 40 in the present embodiment can print a plurality of functional layers in different patterns (two layers in the present embodiment) on the film substrate 100 held on the impression cylinder 30. The gate electrode layer 110 has a function of both a gate layer forming device for forming the gate layer 110 and a source / drain layer forming device for forming the source / drain layer 130 by printing the conductive solution on the film substrate 100 in different patterns. ing. The printing operation of the reverse printing apparatus 40 in the gate layer forming step and the source / drain layer forming step will be described later.

本実施例においては、反転印刷装置40によって異なる層を形成するための印刷を施しているため、二種類の刷版42a,42bを取付けられるように、反転版胴42を二倍胴としているが、本発明における版胴はこれに限定されない。本発明における版胴を、例えば、二種類の刷版を取付けた三倍胴以上の版胴としても良く、三種類以上の刷版を取付けた三倍胴以上の版胴としても良い。   In this embodiment, since the printing for forming different layers is performed by the reversal printing apparatus 40, the reversal plate cylinder 42 is a double cylinder so that two types of printing plates 42a and 42b can be attached. The plate cylinder in the present invention is not limited to this. The plate cylinder in the present invention may be, for example, a plate cylinder having a triple cylinder or more to which two types of printing plates are attached, or a plate cylinder having a triple cylinder or more to which three or more types of printing plates are attached.

コーティング装置50は、フィルム基板100に対する複数の処理のうちの一つの処理を施す手段であり、フィルム基板100に対して、コーティング法を用いて絶縁層120を形成するための絶縁溶液(機能性溶液)を塗布するものである。図1に示すように、コーティング装置50は、圧胴30と対接するゴム胴51と、ゴム胴51の上方に隣接するスリットダイ52と、図示しない絶縁溶液供給装置とから成る。   The coating apparatus 50 is means for performing one of a plurality of processes on the film substrate 100, and an insulating solution (functional solution) for forming the insulating layer 120 on the film substrate 100 using a coating method. ) Is applied. As shown in FIG. 1, the coating apparatus 50 includes a rubber cylinder 51 in contact with the impression cylinder 30, a slit die 52 adjacent to the upper side of the rubber cylinder 51, and an insulating solution supply device (not shown).

ゴム胴51は、ゴム胴駆動手段およびゴム胴着脱手段としてのコーティング部ゴム胴駆動・着脱装置251(図6参照)によって、圧胴30に対して独立して正逆回転可能に回転駆動されると共に、圧胴30に対して着脱可能である。   The rubber cylinder 51 is rotationally driven so that it can rotate forward and backward independently of the impression cylinder 30 by a rubber cylinder driving means and a coating part rubber cylinder driving / detaching device 251 (see FIG. 6) as rubber cylinder attaching / detaching means. At the same time, it can be attached to and detached from the impression cylinder 30.

また、コーティング装置50におけるスリットダイ52は、コーティング部スリットコータ作動装置252(図6参照)によって作動され、コーティング法による処理を施すときには、スリットダイ52を下方へ移動してゴム胴51に近接した溶液供給位置に位置させると共に、図示しない絶縁溶液供給装置からスリットダイ52およびゴム胴51へ絶縁溶液を供給し(図7E参照)、コーティング法による処理を施さないときには、スリットダイ52を上方へ移動してゴム胴51から離反した待機位置に位置させると共に、図示しない絶縁溶液供給装置からスリットダイ52およびゴム胴51への絶縁溶液の供給を停止させる(図7F参照)。   In addition, the slit die 52 in the coating apparatus 50 is operated by a coating unit slit coater operating device 252 (see FIG. 6). When processing by the coating method is performed, the slit die 52 is moved downward to approach the rubber cylinder 51. In addition to being positioned at the solution supply position, an insulating solution is supplied from an insulating solution supply device (not shown) to the slit die 52 and the rubber cylinder 51 (see FIG. 7E), and when the coating method is not applied, the slit die 52 is moved upward. Then, it is positioned at a standby position separated from the rubber cylinder 51, and the supply of the insulating solution to the slit die 52 and the rubber cylinder 51 from an insulating solution supply device (not shown) is stopped (see FIG. 7F).

コーティング装置50において使用される絶縁溶液は、絶縁層120の層形成に使用できるものであり、コーティング装置50を用いたコーティング法によって、絶縁層120を形成するための印刷を行う。絶縁溶液としては、特に限定されないが、絶縁材料を溶解した機能性溶液が挙げられ、例えば、ポリビニルフェノールをイソプロピルアルコールに溶解させた機能性溶液等がある。   The insulating solution used in the coating apparatus 50 can be used to form the insulating layer 120, and printing for forming the insulating layer 120 is performed by a coating method using the coating apparatus 50. Although it does not specifically limit as an insulating solution, The functional solution which melt | dissolved the insulating material is mentioned, For example, there exists a functional solution etc. which melt | dissolved polyvinyl phenol in isopropyl alcohol.

絶縁溶液は、図示しない絶縁溶液供給装置からスリットダイ52に供給され、スリットダイ52の下方から回転駆動するゴム胴51へ供給される。ゴム胴51の周面に供給された絶縁溶液は、圧胴30に保持されたフィルム基板100の全面に塗布される。   The insulating solution is supplied to the slit die 52 from an insulating solution supply device (not shown), and is supplied from below the slit die 52 to the rubber cylinder 51 that is rotationally driven. The insulating solution supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 51 is applied to the entire surface of the film substrate 100 held by the impression cylinder 30.

インクジェット印刷装置60は、フィルム基板100に対する複数の処理のうちの一つの処理を施す手段であり、フィルム基板100に対して、インクジェット印刷法を用いて半導体140を形成するための半導体溶液(機能性溶液)を印刷するものである。図1に示すように、インクジェット印刷装置60は、圧胴30の上方において圧胴30に対して近接離反可能に設置されるノズルヘッド61と、図示しない半導体溶液供給装置とから構成される。   The inkjet printing apparatus 60 is a means for performing one of a plurality of processes on the film substrate 100, and a semiconductor solution (functionality) for forming the semiconductor 140 on the film substrate 100 using the inkjet printing method. Solution). As shown in FIG. 1, the ink jet printing apparatus 60 includes a nozzle head 61 that is installed on the impression cylinder 30 so as to be close to and away from the impression cylinder 30 and a semiconductor solution supply device (not shown).

インクジェット印刷装置60は、インクジェット作動装置260(図6参照)によって、インクジェット印刷法による処理を施すときには、ノズルヘッド61を下方へ移動して圧胴30に近接した印刷位置に位置させると共に、図示しない半導体溶液供給装置からノズルヘッド61およびフィルム基板100へ半導体溶液を供給し(図7J参照)、インクジェット印刷法による処理を施さないときには、ノズルヘッド61を上方へ移動して圧胴30から離反した待機位置に位置させると共に、図示しない半導体溶液供給装置からノズルヘッド61およびフィルム基板100への半導体溶液の供給を停止させる(図7A参照)。   When the inkjet printing apparatus 60 performs the process by the inkjet printing method using the inkjet actuator 260 (see FIG. 6), the nozzle head 61 is moved downward to be positioned at a printing position close to the impression cylinder 30 and is not shown. When the semiconductor solution is supplied from the semiconductor solution supply device to the nozzle head 61 and the film substrate 100 (see FIG. 7J), and the processing by the ink jet printing method is not performed, the nozzle head 61 is moved upward and the standby is separated from the impression cylinder 30. At the same time, the supply of the semiconductor solution from the semiconductor solution supply device (not shown) to the nozzle head 61 and the film substrate 100 is stopped (see FIG. 7A).

インクジェット印刷装置60において使用される半導体溶液は、半導体140の層形成に使用できるものであり、インクジェット印刷装置60を用いたインクジェット印刷法によって、半導体140を形成するための印刷を行う。半導体溶液としては、特に限定されないが、誘導体を溶解した機能性溶液が挙げられる。誘導体としては、例えば、ポリチオフェン誘導体,ポリアセチレン誘導体,ポリチエニレンビニレン誘導体,ポリアリルアミン誘導体,ポリアセチレン誘導体,アセン誘導体,オリゴチオフェン誘導体等があり、溶媒としては、例えば、水、アルコール等がある。   The semiconductor solution used in the ink jet printing apparatus 60 can be used for forming a layer of the semiconductor 140, and printing for forming the semiconductor 140 is performed by an ink jet printing method using the ink jet printing apparatus 60. Although it does not specifically limit as a semiconductor solution, The functional solution which melt | dissolved the derivative is mentioned. Examples of the derivative include a polythiophene derivative, a polyacetylene derivative, a polythienylene vinylene derivative, a polyallylamine derivative, a polyacetylene derivative, an acene derivative, and an oligothiophene derivative. Examples of the solvent include water and alcohol.

インクジェット印刷法による処理を施す場合には、半導体溶液は、図示しない半導体溶液供給装置からノズルヘッド61へ供給されると共に、印刷位置のノズルヘッド61からフィルム基板100に対して噴出される。一方、インクジェット印刷法による処理を施さない場合には、図示しない半導体溶液供給装置からノズルヘッド61への半導体溶液の供給が停止されると共に、ノズルヘッド61は待機位置へ退避する。   When processing by the ink jet printing method is performed, the semiconductor solution is supplied from a semiconductor solution supply device (not shown) to the nozzle head 61 and is ejected from the nozzle head 61 at the printing position to the film substrate 100. On the other hand, when the process by the inkjet printing method is not performed, the supply of the semiconductor solution from the semiconductor solution supply device (not shown) to the nozzle head 61 is stopped and the nozzle head 61 is retracted to the standby position.

乾燥装置70は、フィルム基板100に対する複数の処理のうちの一つの処理を施す手段であり、所定の印刷または塗布が施されたフィルム基板100に対してIRライトを照射することにより、機能性溶液における溶媒や分散剤などの不純物を飛ばすものである。ここで、機能性溶液は、導電性や絶縁性などの機能を備えたものを溶剤に溶いたものであり、本実施例においては、反転印刷装置40によって印刷された導電溶液、インクジェット印刷装置60によって印刷された半導体溶液、コーティング装置50によって印刷された絶縁溶液である。   The drying device 70 is a means for performing one of a plurality of processes on the film substrate 100, and irradiates the film substrate 100 on which a predetermined printing or coating has been performed with an IR light to thereby obtain a functional solution. In this method, impurities such as a solvent and a dispersant are removed. Here, the functional solution is a solution having a function such as conductivity and insulation dissolved in a solvent. In the present embodiment, the conductive solution printed by the reversal printing device 40, the inkjet printing device 60, and the like. The insulating solution printed by the coating apparatus 50 is a semiconductor solution printed by the above.

もちろん、本発明における固化装置は、本実施例のIRライトを照射する乾燥装置70に限定されない。固化装置としては、例えば、機能性溶液を乾燥させる乾燥装置、機能性溶液である絶縁溶液を架橋させるエネルギー照射装置、機能性溶液である導電溶液を導通させる焼成装置などが挙げられる。すなわち、固化装置による機能性溶液の固化としては、ヒータ等で塗布または印刷した機能性溶液に熱風等を吹き付けることにより乾燥させること、電子放射線(EB)やキセノン(Xe)フラッシュなどを照射してフィルム基板100が圧胴30に保持された状態で導電溶液の焼成を行うこと、絶縁溶液および半導体溶液としてそれぞれUV硬化型絶縁材料およびUV硬化型有機半導体材料を採用した場合には、UVランプを照射してフィルム基板100が圧胴30に保持された状態で絶縁溶液および半導体溶液を架橋することなどが挙げられる。   Of course, the solidification apparatus in the present invention is not limited to the drying apparatus 70 that irradiates the IR light of this embodiment. Examples of the solidification device include a drying device that dries a functional solution, an energy irradiation device that crosslinks an insulating solution that is a functional solution, and a baking device that conducts a conductive solution that is a functional solution. That is, the solidification of the functional solution by the solidification device includes drying by blowing hot air or the like on the functional solution applied or printed by a heater or the like, and irradiating with electron radiation (EB) or xenon (Xe) flash. When the conductive film is baked in a state where the film substrate 100 is held on the impression cylinder 30, and a UV curable insulating material and a UV curable organic semiconductor material are used as the insulating solution and the semiconductor solution, respectively, a UV lamp is used. For example, the insulating solution and the semiconductor solution may be cross-linked while the film substrate 100 is held by the impression cylinder 30 by irradiation.

乾燥装置70の近傍には、乾燥装置前基材有無検知センサ205(図6参照)が備えられており、乾燥装置70による乾燥工程(固化工程)の前にフィルム基板100の有無を検知することとしている。   In the vicinity of the drying device 70, a pre-drying device presence / absence detection sensor 205 (see FIG. 6) is provided to detect the presence or absence of the film substrate 100 before the drying process (solidification step) by the drying device 70. It is said.

次に、基材排出部4の構成について、図1および図6を参照して説明する。   Next, the structure of the base material discharge part 4 is demonstrated with reference to FIG. 1 and FIG.

基材排出部4は、基材処理部3における圧胴30からフィルム基板100を受け取る排出装置80と、排出装置80によって排出されるフィルム基板100が載置される排出台90とから構成される。   The base material discharge unit 4 includes a discharge device 80 that receives the film substrate 100 from the impression cylinder 30 in the base material processing unit 3 and a discharge table 90 on which the film substrate 100 discharged by the discharge device 80 is placed. .

排出装置80は、基材処理部3における圧胴30の近傍に設置される一方のスプロケット81と、圧胴30と離間した後方(図1における左方側)に設置される他方のスプロケット82と、両スプロケット81,82に吊架されるチェーン83とから構成される。チェーン83には、図示しない爪竿が設けられ、当該爪竿には、くわえ爪装置84が設けられている。   The discharge device 80 includes one sprocket 81 installed in the vicinity of the impression cylinder 30 in the base material processing unit 3, and the other sprocket 82 installed behind the impression cylinder 30 (on the left side in FIG. 1). The chain 83 is suspended from both the sprockets 81 and 82. The chain 83 is provided with a claw hook (not shown), and a claw device 84 is provided on the claw hook.

排出装置80におけるスプロケット81は、基材処理部3における圧胴30の近傍に設けられると共に、圧胴30と図示しないギヤ機構を介して連結されている。スプロケット81,82およびチェーン83は、圧胴30と共に回転駆動され、チェーン83の図示しない爪竿に設けられたくわえ爪装置84は、排出部爪開閉カム駆動装置284(図6参照)によって爪の開閉、すなわち、爪がフィルム基板100をくわえて圧胴30から受け取る動作とフィルム基板100をくわえずに圧胴30から受け取らない動作との切り換えが行われる。   The sprocket 81 in the discharge device 80 is provided in the vicinity of the impression cylinder 30 in the base material processing unit 3 and is connected to the impression cylinder 30 via a gear mechanism (not shown). The sprockets 81 and 82 and the chain 83 are rotationally driven together with the impression cylinder 30, and a holding claw device 84 provided on a claw rod (not shown) of the chain 83 is opened and closed by a discharge unit claw opening / closing cam driving device 284 (see FIG. 6). That is, switching is performed between an operation in which the nail receives the film substrate 100 from the impression cylinder 30 and an operation in which the nail does not receive the film substrate 100 from the impression cylinder 30.

本発明における排出手段は、本実施例の排出装置80を備えたものに限定されない。例えば、排出手段を、圧胴30と独立した単独駆動のスプロケットを採用した排出装置を備えたものとしても良く、単独駆動または圧胴30とのギヤ連結によって駆動する渡胴を介した機構を備えたものとしても良い。   The discharging means in the present invention is not limited to the one provided with the discharging device 80 of the present embodiment. For example, the discharge means may be provided with a discharge device that employs a single-drive sprocket independent of the impression cylinder 30, and includes a mechanism via a transfer cylinder that is driven by single drive or gear connection with the impression cylinder 30. Also good.

基材処理部3において複数の処理が施されたフィルム基板100は、圧胴30のくわえ爪装置31から排出装置80のくわえ爪装置84にくわえ替えられ、排出装置80のチェーン83の走行に伴って搬送される。くわえ爪装置84にくわえられることにより保持されたフィルム基板100がチェーン83走行によって排出台90の上方に至ると、くわえ爪装置84の爪が開き、フィルム基板100が解放されて排出台90に載置される。   The film substrate 100 that has been subjected to a plurality of processes in the base material processing unit 3 is replaced by the gripping claw device 84 of the discharge device 80 from the gripping claw device 31 of the impression cylinder 30, and as the chain 83 of the discharge device 80 travels. Are transported. When the film substrate 100 held by being held by the gripper device 84 reaches the upper side of the discharge table 90 by running of the chain 83, the nail of the gripper device 84 is opened, and the film substrate 100 is released and placed on the discharge table 90. Placed.

フレキシブル電子デバイス製造装置1において複数の処理を行う際の動作制御について、以下に説明する。   The operation control when performing a plurality of processes in the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 will be described below.

フレキシブル電子デバイス製造装置1は、図6に示すように、上述した複数の処理を行う際の動作を制御する制御手段としての制御装置200を備えている。   As shown in FIG. 6, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 includes a control device 200 as a control unit that controls operations when performing the above-described plurality of processes.

また、圧胴30と、反転印刷装置40のゴム胴41および反転版胴42と、コーティング装置50のゴム胴51とはそれぞれ独立駆動するため、それぞれの位相を検出することができるように、基材処理装置3には、圧胴30の位相を検出する圧胴位相検出手段としての圧胴位相検出器201と、反転印刷装置40のゴム胴41の位相を検出するゴム胴位相検出手段としての反転印刷部ゴム胴位相検出器202と、反転印刷装置40の反転版胴42の位相を検出する版胴位相検出手段としての反転印刷部版胴位相検出器203と、コーティング装置50のゴム胴51の位相を検出するゴム胴位相検出手段としてのコーティング部ゴム胴位相検出器204とを備えている(図1および図6参照)。   Further, the pressure cylinder 30, the rubber cylinder 41 and the reverse printing cylinder 42 of the reverse printing apparatus 40, and the rubber cylinder 51 of the coating apparatus 50 are independently driven, so that the respective phases can be detected. The material processing device 3 includes a pressure drum phase detector 201 as pressure drum phase detection means for detecting the phase of the pressure drum 30 and a rubber drum phase detection means for detecting the phase of the rubber drum 41 of the reverse printing apparatus 40. Inversion printing unit rubber cylinder phase detector 202, inversion printing unit plate cylinder phase detector 203 as plate cylinder phase detecting means for detecting the phase of the inversion plate cylinder 42 of the inversion printing apparatus 40, and rubber cylinder 51 of the coating apparatus 50 And a coating part rubber cylinder phase detector 204 as a rubber cylinder phase detection means for detecting the phase of the cylinder (see FIGS. 1 and 6).

図6に示すように、制御装置200には、各胴30,41,42,51の位相が、圧胴位相検出器201、反転印刷部ゴム胴位相検出器202、反転印刷部版胴位相検出器203、コーティング部ゴム胴位相検出器204からの信号としてそれぞれ入力され、更に、乾燥工程前におけるフィルム基板100の有無が、乾燥装置前基材有無検知センサ205からの信号として入力される。また、制御装置200には、作業者による吸着スイッチ206の操作情報および基材供給部2におけるアライメントカメラ15によって検出される搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置の情報が入力される。   As shown in FIG. 6, the control device 200 has the cylinders 30, 41, 42, 51 with phases of the impression cylinder phase detector 201, the reverse printing unit rubber cylinder phase detector 202, and the reverse printing unit plate cylinder phase detection. The presence / absence of the film substrate 100 before the drying step is input as a signal from the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus. Further, the operation information of the suction switch 206 by the operator and the information on the placement position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12 detected by the alignment camera 15 in the base material supply unit 2 are input to the control device 200.

一方、制御装置200からは、渡胴爪開閉カム駆動装置221、圧胴駆動装置230、渡胴側圧胴爪開閉カム駆動装置231a、排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置231b、反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241、反転印刷部版胴駆動・着脱装置242、反転印刷部スリットコータ作動装置243、コーティング部ゴム胴駆動・着脱装置251、コーティング部スリットコータ作動装置252、インクジェット作動装置260、乾燥装置作動装置270、排出部爪開閉カム駆動装置284に対する駆動指示が信号としてそれぞれ出力される。また、制御装置200からは、フィルム基板100の載置ボード13への吸着を開始また終了するための情報がポンプ16へ出力され、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置を調整するための情報がアクチュエータ14へ出力される。   On the other hand, the control device 200 includes a transfer cylinder claw opening / closing cam drive device 221, an impression cylinder drive device 230, a transfer cylinder side pressure drum claw opening / closing cam drive device 231a, a discharge side pressure drum claw opening / closing cam drive device 231b, and a reverse printing unit rubber cylinder. Driving / detaching device 241, reverse printing part plate cylinder driving / detaching device 242, reverse printing part slit coater operating device 243, coating unit rubber cylinder driving / detaching device 251, coating part slit coater operating device 252, inkjet operating device 260, drying Driving instructions for the device operating device 270 and the discharge portion claw opening / closing cam driving device 284 are output as signals. Further, the control device 200 outputs information for starting and ending adsorption of the film substrate 100 to the mounting board 13 to the pump 16, for adjusting the mounting position of the film substrate 100 with respect to the transport table 12. Information is output to the actuator 14.

本実施例に係るフレキシブル電子デバイス製造装置1の動作について、図1から図7を参照して説明する。   The operation of the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、基材供給部2において、フィルム基板100の供給準備を行う。
手置き等によって、フィルム基板100を供給装置10にセット、すなわち、フィルム基板100を供給装置10における載置ボード13上に載置する。このとき、載置ボード13上に設置した図示しない突き当てピン等によって、フィルム基板100のラフな位置出しが行われる。
First, the base material supply unit 2 prepares to supply the film substrate 100.
The film substrate 100 is set on the supply device 10 by hand placement or the like, that is, the film substrate 100 is placed on the placement board 13 in the supply device 10. At this time, the film substrate 100 is roughly positioned by an unillustrated butting pin or the like installed on the mounting board 13.

作業者は、吸着スイッチ206を操作し、フィルム基板100の載置ボード13への吸着を開始する。吸着スイッチ206から吸着開始の情報が制御装置200へ入力されると、制御装置200は、図示しない吸着穴を介してフィルム基板100が載置ボード13へ吸着されるように、ポンプ16の動作を制御する。具体的には、ポンプ16の内部または外部に設けた図示しないバルブを開閉することにより、フィルム基板100の載置ボード13への吸着を制御している。   The operator operates the suction switch 206 to start suction of the film substrate 100 to the placement board 13. When suction start information is input to the control device 200 from the suction switch 206, the control device 200 operates the pump 16 so that the film substrate 100 is sucked to the placement board 13 through a suction hole (not shown). Control. Specifically, the suction of the film substrate 100 to the placement board 13 is controlled by opening and closing a valve (not shown) provided inside or outside the pump 16.

つまり、吸着を開始する場合には、図示しないバルブを閉じることにより、ポンプ16による負圧が図示しない吸着穴を介してフィルム基板100に作用するようにし、吸着を終了する場合には、バルブを開けることにより、ポンプ16による負圧が図示しない吸着穴を介してフィルム基板100に作用しないようにしている。   In other words, when suction is started, a valve (not shown) is closed so that negative pressure by the pump 16 acts on the film substrate 100 through a suction hole (not shown). By opening, the negative pressure by the pump 16 is prevented from acting on the film substrate 100 through a suction hole (not shown).

本発明における吸着手段は、本実施例のように作業者が吸着スイッチ206を操作することによってフィルム基板100の載置ボード13への吸着を開始するものに限定されない。例えば、載置ボード13上のフィルム基板100を検知する検知センサ(図示せず)を設けることにより、作業者が手置き等で載置ボード13上におけるフィルム基板100のラフな位置出しを行った際に自動的に吸着が開始されるようにしても良い。   The suction means in the present invention is not limited to one that starts the suction of the film substrate 100 to the placement board 13 by the operator operating the suction switch 206 as in the present embodiment. For example, by providing a detection sensor (not shown) that detects the film substrate 100 on the mounting board 13, the operator performs rough positioning of the film substrate 100 on the mounting board 13 by hand placement or the like. At this time, the suction may be automatically started.

また、本発明における吸着手段は、本実施例のようにバルブ(図示せず)の開閉によってフィルム基板100の載置ボード13への吸着を開始および終了させるものに限定されない。例えば、ポンプ16を入り切りすることにより、フィルム基板100の載置ボード13への吸着を開始および終了させるようにしても良い。   Further, the suction means in the present invention is not limited to the one that starts and ends the suction of the film substrate 100 to the mounting board 13 by opening and closing a valve (not shown) as in this embodiment. For example, the suction of the film substrate 100 to the mounting board 13 may be started and ended by turning on and off the pump 16.

フィルム基板100が載置ボード13に吸着された供給装置10は、図示しない駆動装置によって移動され、アライメントカメラ15が設置された付近のアライメント調整位置に位置する(図5A参照)。そして、制御装置200が、フィルム基板100を所定の位置で基材処理部3へ供給するように、アライメントカメラ15の検出結果に基づいて、アクチュエータ14を制御する(図6参照)。   The supply device 10 on which the film substrate 100 is adsorbed to the mounting board 13 is moved by a driving device (not shown) and is positioned at an alignment adjustment position in the vicinity where the alignment camera 15 is installed (see FIG. 5A). Then, the control device 200 controls the actuator 14 based on the detection result of the alignment camera 15 so as to supply the film substrate 100 to the base material processing unit 3 at a predetermined position (see FIG. 6).

アライメント調整位置において、アライメントカメラ15によって、フィルム基板100に予め設けたアライメントマーク101を読み取り、搬送テーブル12に対するフィルム基板100の載置位置を検出する(図4参照)。当該検出結果に基づいてアクチュエータ14を動作させて、水平面内における異なる二方向X,Yへの移動および回転方向θへの回転によって位置調整する。すなわち、載置ボード13を水平面内における左右方向Xへの移動、天地方向Yへの移動、回転方向θへの回転を組み合わせて動作させることにより、アライメントマーク101すなわちフィルム基板100を所定の位置(搬送テーブル12に対する基準位置)に位置させる。   At the alignment adjustment position, the alignment camera 101 reads an alignment mark 101 provided in advance on the film substrate 100, and detects the placement position of the film substrate 100 on the transport table 12 (see FIG. 4). Based on the detection result, the actuator 14 is operated to adjust the position by moving in two different directions X and Y and rotating in the rotational direction θ in the horizontal plane. That is, the alignment board 101, that is, the film substrate 100 is moved to a predetermined position (by moving the mounting board 13 in a horizontal plane in a horizontal direction X, in a vertical direction Y, and in a rotational direction θ). The reference position relative to the transport table 12 is set.

搬送テーブル12に対するフィルム基板100の正確な位置出しが行われると、供給装置10は図示しない駆動装置によって更に移動され、渡胴20近傍の供給位置に位置する(図5B参照)。
以上の動作により、フィルム基板100の供給準備が完了する。
When the film substrate 100 is accurately positioned with respect to the transport table 12, the supply device 10 is further moved by a driving device (not shown) and is positioned at a supply position in the vicinity of the transfer cylinder 20 (see FIG. 5B).
With the above operation, the supply preparation of the film substrate 100 is completed.

続いて、基材処理部3において、フィルム基板100への機能層の複数層印刷を行う。
印刷前において、反転印刷装置40のゴム胴41は、反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241によって圧胴30から離れた脱位置にあり、版胴42は、反転印刷部版胴駆動・着脱装置242によってゴム胴41から離れた脱位置にあり、コーティング装置50のゴム胴51は、コーティング部ゴム胴駆動・着脱装置251によって圧胴30から離れた脱位置にある(図7A参照)。
Subsequently, the base material processing unit 3 performs a multi-layer printing of functional layers on the film substrate 100.
Before printing, the rubber cylinder 41 of the reversal printing device 40 is in a detached position away from the impression cylinder 30 by a reversal printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241, and the plate cylinder 42 is a reversing printing unit plate cylinder driving / detaching device The rubber cylinder 51 of the coating apparatus 50 is in a detached position away from the impression cylinder 30 by the coating part rubber cylinder driving / detaching device 251 (see FIG. 7A).

まず、ステップS1のゲート層形成工程において、ゲート層110を形成するための導電溶液を印刷し、当該導電溶液を乾燥させる。   First, in the gate layer forming step of Step S1, a conductive solution for forming the gate layer 110 is printed, and the conductive solution is dried.

制御装置200が、反転印刷部スリットコータ作動装置243および反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241を作動することにより(図6参照)、図示しない導電溶液供給装置によって、反転印刷装置40におけるスリットダイ43に導電溶液が供給されると共に、スリットダイ43がゴム胴41に近接するように下方へ移動し、回転駆動させたゴム胴41の周面に導電溶液が供給される(図7A参照)。ゴム胴41の周面に十分な導電溶液が供給されると、図示しない導電溶液供給装置による導電溶液の供給を停止し、スリットダイ43をゴム胴41から離反して待機位置に移動する。   When the control device 200 operates the reverse printing unit slit coater actuating device 243 and the reverse printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 (see FIG. 6), the slit die in the reverse printing device 40 by the conductive solution supply device (not shown). The conductive solution is supplied to 43, and the slit die 43 is moved downward so as to be close to the rubber cylinder 41, and the conductive solution is supplied to the circumferential surface of the rubber cylinder 41 that is rotationally driven (see FIG. 7A). When sufficient conductive solution is supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 41, supply of the conductive solution by a conductive solution supply device (not shown) is stopped, and the slit die 43 is moved away from the rubber cylinder 41 and moved to the standby position.

次に、制御装置200が、反転印刷部ゴム胴位相検出器202および反転印刷部版胴位相検出器203の検出結果に基づいて、反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241および反転印刷部版胴駆動・着脱装置242を作動することにより(図6参照)、反転印刷装置40における版胴42およびゴム胴41が一方の刷版42aの転写開始位置の位相に合わせられ、版胴42がゴム胴41に対接させられると共に、印圧を掛けた状態で版胴42とゴム胴41とが回転駆動される(図7B参照)。ゴム胴41の周面に供給された導電溶液は、版胴42の周面に取り付けられた刷版42aにおける凸部によって、ネガパターンの導電溶液が除去され、ポジパターンの導電溶液だけが残される(ポジパターン化)。   Next, based on the detection results of the reversal printing unit rubber cylinder phase detector 202 and the reversal printing unit plate cylinder phase detector 203, the control device 200 performs the reversal printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 and the reversal printing unit plate cylinder. By actuating the driving / detaching device 242 (see FIG. 6), the plate cylinder 42 and the rubber cylinder 41 in the reverse printing apparatus 40 are adjusted to the phase of the transfer start position of one printing plate 42a, and the plate cylinder 42 is a rubber cylinder. The plate cylinder 42 and the rubber cylinder 41 are rotationally driven in a state where the printing cylinder 42 is brought into contact with the printing cylinder 41 and a printing pressure is applied (see FIG. 7B). The conductive solution supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is removed by the convex portion of the printing plate 42a attached to the peripheral surface of the plate cylinder 42, leaving only the positive pattern conductive solution. (Positive patterning).

ゴム胴41の周面における導電溶液のポジパターン化が終了すると、制御装置200が、反転印刷部版胴駆動・着脱装置242を作動すると共に、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と渡胴爪開閉カム駆動装置221とを作動することにより(図6参照)、版胴42がゴム胴41から離反して待機位置に位置させられると共に、基材供給部2における渡胴20のくわえ爪装置21によって供給装置10における載置ボード13上のフィルム基板100がくわえられ(図5C参照)、圧胴30の回転駆動に伴って渡胴20が回転させられることによりフィルム基板100が搬送される(図7C参照)。   When the positive patterning of the conductive solution on the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is completed, the control device 200 operates the reverse printing part plate cylinder driving / detaching device 242 and, based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201, By operating the impression cylinder driving device 230 and the transfer cylinder claw opening / closing cam driving device 221 (see FIG. 6), the plate cylinder 42 is separated from the rubber cylinder 41 and positioned at the standby position, and the substrate supply unit 2 The gripper device 21 of the transfer cylinder 20 in FIG. 5 holds the film substrate 100 on the mounting board 13 in the supply device 10 (see FIG. 5C), and the transfer cylinder 20 is rotated as the impression cylinder 30 is driven to rotate. The film substrate 100 is conveyed (see FIG. 7C).

なお、制御装置200は、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と渡胴爪開閉カム駆動装置221とを作動すると略同時、すなわち、基材供給部2における渡胴20のくわえ爪装置21によって供給装置10における載置ボード13上のフィルム基板100がくわえられると略同時に、フィルム基板100の載置ボード13への吸着を終了させる。   The controller 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the transfer cylinder claw opening / closing cam driving device 221 based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201 at substantially the same time, that is, the transfer in the base material supply unit 2. When the film substrate 100 on the mounting board 13 in the supply device 10 is added by the holding claw device 21 of the trunk 20, the suction of the film substrate 100 to the mounting board 13 is ended almost simultaneously.

つまり、ポンプ16の内部または外部に設けた図示しないバルブを開け、ポンプ16による負圧が図示しない吸着穴を介してフィルム基板100に作用しないようにする。よって、フィルム基板100は、ポンプ16の負圧による載置ボード13への吸着から解放されて、渡胴20による搬送が可能となる。   That is, a valve (not shown) provided inside or outside the pump 16 is opened so that negative pressure by the pump 16 does not act on the film substrate 100 through a suction hole (not shown). Therefore, the film substrate 100 is released from the suction to the mounting board 13 due to the negative pressure of the pump 16 and can be conveyed by the transfer cylinder 20.

制御装置200が、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と渡胴側圧胴爪開閉カム駆動装置231aと渡胴爪開閉カム駆動装置221とを作動することにより(図6参照)、渡胴20のくわえ爪装置21にくわえられて搬送されたフィルム基板100は、基材処理部3における圧胴30のくわえ爪装置31にくわえ替えされ、圧胴30の回転によって搬送される(図7C参照)。   Based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201, the control device 200 operates the impression cylinder driving device 230, the transfer cylinder side impression claw opening / closing cam driving device 231a, and the transfer cylinder claw opening / closing cam driving device 221 ( 6), the film substrate 100 carried by the gripping claw device 21 of the transfer cylinder 20 is transferred to the gripping claw device 31 of the impression cylinder 30 in the base material processing unit 3, and is rotated by the rotation of the impression cylinder 30. It is conveyed (see FIG. 7C).

制御装置200が、圧胴位相検出器201および反転印刷部ゴム胴位相検出器202の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241を作動することにより(図6参照)、圧胴30および反転印刷装置40におけるゴム胴41が転写開始位置の位相に合わせられ、ゴム胴41が圧胴30に対接させられると共に、印圧を掛けた状態で圧胴30およびゴム胴41が回転駆動される(図7D参照)。これにより、ゴム胴41の周面に残されたポジパターンの導電溶液が、圧胴30の周面に保持されたフィルム基板100に転写される。
以上の動作により、フィルム基板100へゲート層を形成するための導電溶液の印刷が完了する。
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the inverted printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the inverted printing unit rubber cylinder phase detector 202 ( 6), the impression cylinder 30 and the rubber cylinder 41 in the reverse printing apparatus 40 are matched to the phase of the transfer start position, the rubber cylinder 41 is brought into contact with the impression cylinder 30, and the impression cylinder is applied with the printing pressure applied. 30 and the rubber cylinder 41 are rotationally driven (see FIG. 7D). Thus, the positive pattern conductive solution left on the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is transferred to the film substrate 100 held on the peripheral surface of the impression cylinder 30.
With the above operation, printing of the conductive solution for forming the gate layer on the film substrate 100 is completed.

次に、フィルム基板100上に印刷された導電溶液を乾燥させる。
制御装置200が、圧胴位相検出器201および乾燥装置前基材有無検知センサ205の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230および乾燥装置作動装置270を作動することにより(図6参照)、反転印刷装置40による印刷が施されたフィルム基板100は、圧胴30に保持されたまま乾燥装置70の近傍まで搬送され、乾燥装置70のIRライトによって導電溶液の不純物が飛ばされる。乾燥時には、正転および逆転を繰り返すように圧胴30を回転動作させることにより、フィルム基板100に万遍なくIRライトを照射することができるので、乾燥むら等を防ぐことができる。また、IRライトが照射される乾燥位置で圧胴30を一定時間停止させることにより、導電溶液を乾燥させるようにしても良い。
Next, the conductive solution printed on the film substrate 100 is dried.
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the drying device operating device 270 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying device (see FIG. 6). The film substrate 100 that has been printed by the reversal printing device 40 is conveyed to the vicinity of the drying device 70 while being held by the impression cylinder 30, and impurities of the conductive solution are blown away by the IR light of the drying device 70. At the time of drying, by rotating the impression cylinder 30 so as to repeat forward rotation and reverse rotation, the film substrate 100 can be uniformly irradiated with IR light, so that uneven drying can be prevented. Alternatively, the conductive solution may be dried by stopping the impression cylinder 30 for a certain period of time at the drying position where the IR light is irradiated.

また、乾燥装置前基材有無検知センサ205によって圧胴30上のフィルム基板100の有無を検知することにより、フィルム基板100の搬送不良を検知することができる。なお、乾燥装置前基材有無検知センサ205によってフィルム基板100が無いと判断された場合には、フレキシブル電子デバイス製造装置1を停止して対応する。   Further, by detecting the presence / absence of the film substrate 100 on the impression cylinder 30 by the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus, a conveyance failure of the film substrate 100 can be detected. In addition, when it is judged that the substrate substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus does not have the film substrate 100, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 is stopped.

本実施例においては、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対してIRライトを照射することにより、フィルム基板100上に印刷された導電溶液を乾燥させることとしたが、本発明はこれに限定されず、圧胴30に保持された状態でフィルム基板100上に印刷された導電溶液を焼成させても良い。
以上の動作により、ステップS1のゲート層形成工程が完了する。
In the present embodiment, the conductive solution printed on the film substrate 100 is dried by irradiating the film substrate 100 held on the impression cylinder 30 with IR light. Without being limited thereto, the conductive solution printed on the film substrate 100 while being held by the impression cylinder 30 may be baked.
With the above operation, the gate layer forming step of Step S1 is completed.

次に、ステップS2の絶縁層形成工程において、絶縁層120を形成するための絶縁溶液を印刷し、当該絶縁溶液を乾燥させる。   Next, in the insulating layer forming step of Step S2, an insulating solution for forming the insulating layer 120 is printed, and the insulating solution is dried.

制御装置200が、コーティング部スリットコータ作動装置252およびコーティング部ゴム胴駆動・着脱装置251を作動することにより(図6参照)、図示しない絶縁溶液供給装置によって、コーティング装置50におけるスリットダイ52に絶縁溶液が供給されると共に、スリットダイ52がゴム胴51に近接するように下方へ移動し、ゴム胴51の周面に絶縁溶液が供給される(図7E参照)。ゴム胴51の周面に十分な絶縁溶液が供給されると、図示しない絶縁溶液供給装置による絶縁溶液の供給は停止され、スリットダイ52はゴム胴51から離反して待機位置に位置する。   When the control unit 200 operates the coating unit slit coater operating device 252 and the coating unit rubber cylinder driving / detaching device 251 (see FIG. 6), the insulating die is supplied to the slit die 52 in the coating device 50 by an insulating solution supply device (not shown). While the solution is supplied, the slit die 52 moves downward so as to be close to the rubber cylinder 51, and the insulating solution is supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 51 (see FIG. 7E). When a sufficient insulating solution is supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 51, the supply of the insulating solution by an insulating solution supply device (not shown) is stopped, and the slit die 52 is separated from the rubber cylinder 51 and positioned at the standby position.

本実施例では、コーティング装置50におけるスリットダイ52およびゴム胴51への絶縁溶液供給を、導電溶液の乾燥と同時に行うことにより、複数層印刷における動作効率を向上させている。もちろん、本発明における動作順序は、これに限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各動作順序の変更が可能であることは言うまでもない。   In this embodiment, the operation efficiency in the multi-layer printing is improved by supplying the insulating solution to the slit die 52 and the rubber cylinder 51 in the coating apparatus 50 simultaneously with the drying of the conductive solution. Of course, the operation order in the present invention is not limited to this, and it is needless to say that each operation order can be changed without departing from the gist of the present invention.

制御装置200が、圧胴位相検出器201およびコーティング部ゴム胴位相検出器204の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230およびコーティング部ゴム胴駆動・着脱装置251を作動することにより(図6参照)、圧胴30およびコーティング装置50におけるゴム胴51が転写開始位置の位相に合わせられ、ゴム胴51が圧胴30に対接させられると共に、印圧を掛けた状態で圧胴30およびゴム胴51が回転駆動される(図7F参照)。これにより、ゴム胴51の周面に供給された絶縁溶液が、圧胴30の周面に保持されたフィルム基板100に転写される。
以上の動作により、フィルム基板100へ絶縁層を形成するための絶縁溶液の印刷が完了する。
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the coating portion rubber cylinder driving / detaching device 251 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the coating portion rubber cylinder phase detector 204 (FIG. 6). The pressure cylinder 30 and the rubber cylinder 51 in the coating apparatus 50 are adjusted to the phase of the transfer start position, the rubber cylinder 51 is brought into contact with the pressure cylinder 30, and the pressure cylinder 30 and the rubber are applied with a printing pressure applied thereto. The barrel 51 is driven to rotate (see FIG. 7F). As a result, the insulating solution supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 51 is transferred to the film substrate 100 held on the peripheral surface of the impression cylinder 30.
With the above operation, the printing of the insulating solution for forming the insulating layer on the film substrate 100 is completed.

次に、フィルム基板100上に印刷された絶縁溶液を乾燥させる。
制御装置200が、圧胴位相検出器201および乾燥装置前基材有無検知センサ205の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230および乾燥装置作動装置270を作動することにより(図6参照)、コーティング装置50による印刷が施されたフィルム基板100は、圧胴30に保持されたまま乾燥装置70の近傍まで搬送され、乾燥装置70のIRライトによって絶縁溶液の不純物が飛ばされる。乾燥時には、正転および逆転を繰り返すように圧胴30を回転動作させることにより、フィルム基板100に万遍なくIRライトを照射することができるので、乾燥むら等を防ぐことができる。また、IRライトが照射される乾燥位置で圧胴30を一定時間停止させることにより、絶縁溶液を乾燥させるようにしても良い。
Next, the insulating solution printed on the film substrate 100 is dried.
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the drying device operating device 270 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying device (see FIG. 6). The film substrate 100 printed by the coating apparatus 50 is conveyed to the vicinity of the drying apparatus 70 while being held by the impression cylinder 30, and impurities of the insulating solution are blown away by the IR light of the drying apparatus 70. At the time of drying, by rotating the impression cylinder 30 so as to repeat forward rotation and reverse rotation, the film substrate 100 can be uniformly irradiated with IR light, so that uneven drying can be prevented. Further, the insulating solution may be dried by stopping the impression cylinder 30 for a certain period of time at a drying position where the IR light is irradiated.

また、乾燥装置前基材有無検知センサ205によって圧胴30上のフィルム基板100の有無を検知することにより、フィルム基板100の搬送不良を検知することができる。なお、乾燥装置前基材有無検知センサ205によってフィルム基板100が無いと判断された場合には、フレキシブル電子デバイス製造装置1を停止して対応する。   Further, by detecting the presence / absence of the film substrate 100 on the impression cylinder 30 by the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus, a conveyance failure of the film substrate 100 can be detected. In addition, when it is judged that the substrate substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus does not have the film substrate 100, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 is stopped.

本実施例においては、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対してIRライトを照射することにより、フィルム基板100上に印刷された絶縁溶液を乾燥させることとしたが、本発明はこれに限定されず、圧胴30に保持された状態でフィルム基板100上に印刷された絶縁溶液を架橋させても良い。
以上の動作により、ステップS2の絶縁層形成工程が完了する。
In the present embodiment, the insulating solution printed on the film substrate 100 is dried by irradiating the film substrate 100 held on the impression cylinder 30 with IR light. Without limitation, the insulating solution printed on the film substrate 100 while being held by the impression cylinder 30 may be crosslinked.
With the above operation, the insulating layer forming step of Step S2 is completed.

次に、ステップS3のソース・ドレイン層形成工程において、ソース・ドレイン層130を形成するための導電溶液を印刷する。   Next, in the source / drain layer forming step in step S3, a conductive solution for forming the source / drain layer 130 is printed.

制御装置200が、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230を作動することにより(図6参照)、圧胴30の正回転駆動または逆回転駆動によって、絶縁層120の形成が完了したフィルム基板100は、ソース・ドレイン層形成工程の準備位置に停止させられる。なお、圧胴30を正回転駆動させることによりフィルム基板100を移動させる場合には、排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置231bを作動することによって、圧胴30から基材排出部4における排出装置80へのくわえ替えが行われないようにする。   When the control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201 (see FIG. 6), the insulating layer 120 is driven by forward rotation or reverse rotation of the impression cylinder 30. After the film formation is completed, the film substrate 100 is stopped at the preparation position for the source / drain layer formation step. When the film substrate 100 is moved by driving the impression cylinder 30 to rotate in the forward direction, the discharge device in the base material discharge section 4 from the impression cylinder 30 is operated by operating the discharge-unit-side impression cylinder claw opening / closing cam driving device 231b. Do not change to 80.

制御装置200が、反転印刷部スリットコータ作動装置243および反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241を作動することにより(図6参照)、図示しない導電溶液供給装置によって、反転印刷装置40におけるスリットダイ43に導電溶液が供給されると共に、スリットダイ43がゴム胴41に近接するように下方へ移動し、回転駆動させたゴム胴41の周面に導電溶液が供給される(図7G参照)。ゴム胴41の周面に十分な導電溶液が供給されると、図示しない導電溶液供給装置による導電溶液の供給は停止され、スリットダイ43はゴム胴41から離反して待機位置に移動される。   When the control device 200 operates the reverse printing unit slit coater actuating device 243 and the reverse printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 (see FIG. 6), the slit die in the reverse printing device 40 by the conductive solution supply device (not shown). The conductive solution is supplied to 43, and the slit die 43 is moved downward so as to be close to the rubber cylinder 41, and the conductive solution is supplied to the circumferential surface of the rubber cylinder 41 that is driven to rotate (see FIG. 7G). When a sufficient conductive solution is supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 41, the supply of the conductive solution by a conductive solution supply device (not shown) is stopped, and the slit die 43 is moved away from the rubber cylinder 41 to the standby position.

次に、制御装置200が、反転印刷部ゴム胴位相検出器202および反転印刷部版胴位相検出器203の検出結果に基づいて、反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241および反転印刷部版胴駆動・着脱装置242を作動することにより(図6参照)、反転印刷装置40における版胴42およびゴム胴41が他方の刷版42bの転写開始位置の位相に合わせられ、版胴42がゴム胴41に対接させられると共に、印圧を掛けた状態で版胴42とゴム胴41とが回転駆動される(図7H参照)。ゴム胴41の周面に供給された導電溶液は、版胴42の周面に取り付けられた刷版42bにおける凸部によって、ネガパターンの導電溶液が除去され、ポジパターンの導電溶液だけが残される(ポジパターン化)。   Next, based on the detection results of the reversal printing unit rubber cylinder phase detector 202 and the reversal printing unit plate cylinder phase detector 203, the control device 200 performs the reversal printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 and the reversal printing unit plate cylinder. By actuating the driving / detaching device 242 (see FIG. 6), the plate cylinder 42 and the rubber cylinder 41 in the reverse printing apparatus 40 are matched with the phase of the transfer start position of the other printing plate 42b, and the plate cylinder 42 is the rubber cylinder. The plate cylinder 42 and the rubber cylinder 41 are rotationally driven in a state in which the printing cylinder 42 is brought into contact with the printing cylinder 41 (see FIG. 7H). In the conductive solution supplied to the peripheral surface of the rubber cylinder 41, the negative pattern conductive solution is removed by the convex portions of the printing plate 42b attached to the peripheral surface of the plate cylinder 42, and only the positive pattern conductive solution is left. (Positive patterning).

ゴム胴41の周面における導電溶液のポジパターン化が終了すると、制御装置200が、反転印刷部版胴駆動・着脱装置242を作動すると共に、圧胴位相検出器201および反転印刷部ゴム胴位相検出器202の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置241とを作動することにより(図6参照)、版胴42がゴム胴41から離反して待機位置に位置させられると共に、圧胴30と反転印刷装置40におけるゴム胴41が転写開始位置の位相に合わせられ、ゴム胴41が圧胴30に対接させられると共に、印圧を掛けた状態で圧胴30およびゴム胴41が回転駆動される(図7I参照)。これにより、ゴム胴41の周面に残されたポジパターンの導電溶液が、圧胴30の周面に保持されたフィルム基板100に転写される。
以上の動作により、フィルム基板100へソース・ドレイン層を形成するための導電溶液の印刷が完了する。
When the positive patterning of the conductive solution on the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is completed, the control device 200 operates the reverse printing part plate cylinder driving / detaching device 242, and the impression cylinder phase detector 201 and the reverse printing part rubber cylinder phase. Based on the detection result of the detector 202, the plate cylinder 42 is separated from the rubber cylinder 41 and waits by operating the impression cylinder driving device 230 and the reverse printing unit rubber cylinder driving / detaching device 241 (see FIG. 6). In the state where the pressure cylinder 30 and the rubber cylinder 41 in the reverse printing apparatus 40 are matched to the phase of the transfer start position, the rubber cylinder 41 is brought into contact with the pressure cylinder 30 and the printing pressure is applied. The impression cylinder 30 and the rubber cylinder 41 are rotationally driven (see FIG. 7I). Thus, the positive pattern conductive solution left on the peripheral surface of the rubber cylinder 41 is transferred to the film substrate 100 held on the peripheral surface of the impression cylinder 30.
With the above operation, printing of the conductive solution for forming the source / drain layer on the film substrate 100 is completed.

次に、フィルム基板100上に印刷された導電溶液を乾燥させる。
制御装置200が、圧胴位相検出器201および乾燥装置前基材有無検知センサ205の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230および乾燥装置作動装置270を作動することにより(図6参照)、反転印刷装置40による印刷が施されたフィルム基板100は、圧胴30に保持されたまま乾燥装置70の近傍まで搬送され、乾燥装置70のIRライトによって導電溶液の不純物が飛ばされる。乾燥時には、正転および逆転を繰り返すように圧胴30を回転動作させることにより、フィルム基板100に万遍なくIRライトを照射することができるので、乾燥むら等を防ぐことができる。また、IRライトが照射される乾燥位置で圧胴30を一定時間停止させることにより、導電溶液を乾燥させるようにしても良い。
Next, the conductive solution printed on the film substrate 100 is dried.
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the drying device operating device 270 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying device (see FIG. 6). The film substrate 100 that has been printed by the reversal printing device 40 is conveyed to the vicinity of the drying device 70 while being held by the impression cylinder 30, and impurities of the conductive solution are blown away by the IR light of the drying device 70. At the time of drying, by rotating the impression cylinder 30 so as to repeat forward rotation and reverse rotation, the film substrate 100 can be uniformly irradiated with IR light, so that uneven drying can be prevented. Alternatively, the conductive solution may be dried by stopping the impression cylinder 30 for a certain period of time at the drying position where the IR light is irradiated.

また、乾燥装置前基材有無検知センサ205によって圧胴30上のフィルム基板100の有無を検知することにより、フィルム基板100の搬送不良を検知することができる。なお、乾燥装置前基材有無検知センサ205によってフィルム基板100が無いと判断された場合には、フレキシブル電子デバイス製造装置1を停止して対応する。   Further, by detecting the presence / absence of the film substrate 100 on the impression cylinder 30 by the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus, a conveyance failure of the film substrate 100 can be detected. In addition, when it is judged that the substrate substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus does not have the film substrate 100, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 is stopped.

本実施例においては、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対してIRライトを照射することにより、フィルム基板100上に印刷された導電溶液を乾燥させることとしたが、本発明はこれに限定されず、圧胴30に保持された状態でフィルム基板100上に印刷された導電溶液を焼成させても良い。
以上の動作により、ステップS3のソース・ドレイン層形成工程が完了する。
In the present embodiment, the conductive solution printed on the film substrate 100 is dried by irradiating the film substrate 100 held on the impression cylinder 30 with IR light. Without being limited thereto, the conductive solution printed on the film substrate 100 while being held by the impression cylinder 30 may be baked.
With the above operation, the source / drain layer forming step of step S3 is completed.

次に、ステップS4の半導体形成工程において、半導体140を形成するための半導体溶液を印刷する。   Next, in the semiconductor formation step of step S4, a semiconductor solution for forming the semiconductor 140 is printed.

制御装置200が、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230を作動することにより(図6参照)、圧胴30の正回転駆動または逆回転駆動によって、ソース・ドレイン層130の形成が完了したフィルム基板100は、半導体形成工程の準備位置に停止させられる。なお、圧胴30を逆回転駆動させることによりフィルム基板100を移動させる場合には、排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置231bを作動することによって、圧胴30から基材排出部4における排出装置80へのくわえ替えが行われないようにする。   The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201 (see FIG. 6), so that the source / drain is driven by forward rotation driving or reverse rotation driving of the impression cylinder 30. After the formation of the layer 130 is completed, the film substrate 100 is stopped at the preparation position for the semiconductor formation process. When the film substrate 100 is moved by driving the impression cylinder 30 in the reverse rotation, the discharge device in the base material discharge section 4 from the impression cylinder 30 is operated by operating the discharge section side impression cylinder claw opening / closing cam driving device 231b. Do not change to 80.

制御装置200が、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230およびインクジェット作動装置260を作動することにより(図6参照)、インクジェット印刷装置60におけるノズルヘッド61が圧胴30に近接するように下方へ移動すると共に、図示しない半導体溶液供給装置によってノズルヘッド61に半導体溶液が供給され、圧胴30の周面に保持されたフィルム基板100に対してインクジェット印刷法による印刷がなされる(図7J参照)。フィルム基板100に対してインクジェット印刷法による印刷がなされると、図示しない半導体溶液供給装置によるノズルヘッド61への半導体溶液の供給は停止され、ノズルヘッド61は圧胴30から離反して待機位置に移動される。
以上の動作により、フィルム基板100へ半導体140を形成するための半導体溶液の印刷が完了する。
When the control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the inkjet operation device 260 based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201 (see FIG. 6), the nozzle head 61 in the inkjet printing device 60 is moved to the impression cylinder. The semiconductor solution is moved downward so as to be close to 30, and the semiconductor solution is supplied to the nozzle head 61 by a semiconductor solution supply device (not shown), and printing is performed on the film substrate 100 held on the peripheral surface of the impression cylinder 30 by the inkjet printing method (See FIG. 7J). When the film substrate 100 is printed by the ink jet printing method, the supply of the semiconductor solution to the nozzle head 61 by the semiconductor solution supply device (not shown) is stopped, and the nozzle head 61 is separated from the impression cylinder 30 to the standby position. Moved.
With the above operation, the printing of the semiconductor solution for forming the semiconductor 140 on the film substrate 100 is completed.

次に、フィルム基板100上に印刷された半導体溶液を乾燥させる。
制御装置200が、圧胴位相検出器201および乾燥装置前基材有無検知センサ205の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230および乾燥装置作動装置270を作動することにより(図6参照)、インクジェット印刷装置60による印刷が施されたフィルム基板100は、圧胴30に保持されたまま乾燥装置70の近傍まで搬送され、乾燥装置70のIRライトによって半導体溶液の不純物が飛ばされる。乾燥時には、正転および逆転を繰り返すように圧胴30を回転動作させることにより、フィルム基板100に万遍なくIRライトを照射することができるので、乾燥むら等を防ぐことができる。また、IRライトが照射される乾燥位置で圧胴30を一定時間停止させることにより、半導体溶液を乾燥させるようにしても良い。
Next, the semiconductor solution printed on the film substrate 100 is dried.
The control device 200 operates the impression cylinder driving device 230 and the drying device operating device 270 based on the detection results of the impression cylinder phase detector 201 and the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying device (see FIG. 6). The film substrate 100 that has been printed by the inkjet printing apparatus 60 is conveyed to the vicinity of the drying apparatus 70 while being held by the impression cylinder 30, and impurities of the semiconductor solution are blown away by the IR light of the drying apparatus 70. At the time of drying, by rotating the impression cylinder 30 so as to repeat forward rotation and reverse rotation, the film substrate 100 can be uniformly irradiated with IR light, so that uneven drying can be prevented. Alternatively, the semiconductor solution may be dried by stopping the impression cylinder 30 for a certain period of time at the drying position where the IR light is irradiated.

また、乾燥装置前基材有無検知センサ205によって圧胴30上のフィルム基板100の有無を検知することにより、フィルム基板100の搬送不良を検知することができる。なお、乾燥装置前基材有無検知センサ205によってフィルム基板100が無いと判断された場合には、フレキシブル電子デバイス製造装置1を停止して対応する。   Further, by detecting the presence / absence of the film substrate 100 on the impression cylinder 30 by the substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus, a conveyance failure of the film substrate 100 can be detected. In addition, when it is judged that the substrate substrate presence / absence detection sensor 205 before the drying apparatus does not have the film substrate 100, the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 is stopped.

本実施例においては、圧胴30に保持されたフィルム基板100に対してIRライトを照射することにより、フィルム基板100上に印刷された半導体溶液を乾燥させることとしたが、本発明はこれに限定されず、圧胴30に保持された状態でフィルム基板100上に印刷された半導体溶液を架橋させても良い。
以上の動作により、ステップS4の半導体形成工程が完了する。
In the present embodiment, the semiconductor solution printed on the film substrate 100 is dried by irradiating the film substrate 100 held on the impression cylinder 30 with IR light. Without being limited thereto, the semiconductor solution printed on the film substrate 100 while being held by the impression cylinder 30 may be crosslinked.
With the above operation, the semiconductor formation process of step S4 is completed.

以上により、基材処理部3におけるフィルム基板100への機能層の複数層印刷が完了し、図2に示すように、ゲート層110、絶縁層120、ソース・ドレイン層130、半導体140が高精度に積層されたフィルム基板100を得ることができる。   As described above, the multi-layer printing of the functional layer on the film substrate 100 in the base material processing unit 3 is completed, and the gate layer 110, the insulating layer 120, the source / drain layer 130, and the semiconductor 140 are highly accurate as shown in FIG. The film substrate 100 laminated on the substrate can be obtained.

続いて、基材排出部4において、フィルム基板100の排出を行う。   Subsequently, the substrate discharge unit 4 discharges the film substrate 100.

制御装置200が、圧胴位相検出器201の検出結果に基づいて、圧胴駆動装置230と排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置231bと排出部爪開閉カム駆動装置284とを作動することにより(図6参照)、圧胴30のくわえ爪装置31にくわえられて搬送されたフィルム基板100は、基材排出部4における排出装置80のくわえ爪装置84にくわえ替えされ、圧胴30の回転駆動に伴ってスプロケット81が回転駆動させられることによりチェーン83が走行されると共にフィルム基板100が搬送される。   Based on the detection result of the impression cylinder phase detector 201, the control device 200 operates the impression cylinder driving device 230, the discharge portion side impression drum claw opening / closing cam driving device 231b, and the discharge portion claw opening / closing cam driving device 284 ( 6), the film substrate 100 carried by the gripping claw device 31 of the impression cylinder 30 is replaced by the gripping claw device 84 of the discharge device 80 in the base material discharge section 4, and the impression cylinder 30 is driven to rotate. Accordingly, the sprocket 81 is driven to rotate, whereby the chain 83 travels and the film substrate 100 is conveyed.

フィルム基板100は、排出装置80によって排出台90の上方まで搬送されると、くわえ爪装置84から解放されて排出台90上に積載され、フィルム基板100の排出が完了する。   When the film substrate 100 is conveyed to above the discharge table 90 by the discharge device 80, the film substrate 100 is released from the gripper device 84 and stacked on the discharge table 90, and the discharge of the film substrate 100 is completed.

本実施例では、フレキシブル電子デバイス製造装置1とは別体の図示しないオーブンにおいて、フィルム基板100に複数層印刷したゲート層110、絶縁層120、ソース・ドレイン層130、半導体140の焼成および架橋がなされ、フィルム基板100上にそれぞれ機能層であるゲート層110、絶縁層120、ソース・ドレイン層130、半導体140が高精度に積層された電子デバイスが得られる。   In the present embodiment, firing and crosslinking of the gate layer 110, the insulating layer 120, the source / drain layer 130, and the semiconductor 140 printed on the film substrate 100 are performed in an oven (not shown) separate from the flexible electronic device manufacturing apparatus 1. Thus, an electronic device in which the gate layer 110, the insulating layer 120, the source / drain layer 130, and the semiconductor 140, which are functional layers, are stacked on the film substrate 100 with high precision can be obtained.

もちろん、本発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置は、本実施例のように別体のオーブンにおいて焼成および架橋させるものに限定されず、フレキシブル電子デバイス製造装置1の基材処理部3にオーブンを設置し、フレキシブル電子デバイス製造装置1において機能層の焼成および架橋がなされる構成としても良い。   Of course, the flexible electronic device manufacturing apparatus according to the present invention is not limited to the one that is fired and crosslinked in a separate oven as in this embodiment, and the oven is installed in the base material processing unit 3 of the flexible electronic device manufacturing apparatus 1. In the flexible electronic device manufacturing apparatus 1, the functional layer may be fired and crosslinked.

また、ゲート層110、絶縁層120、ソース・ドレイン層130、半導体140の四層を一度に印刷するものに限定されず、例えば、ゲート層110を印刷した後にフィルム基板100を排出させ、別体の処理装置において他の処理を施した後、再びフレキシブル電子デバイス製造装置1に戻して残りの絶縁層120、ソース・ドレイン層130、半導体140を印刷しても良い。   The gate layer 110, the insulating layer 120, the source / drain layer 130, and the semiconductor 140 are not limited to those printed at once. For example, after the gate layer 110 is printed, the film substrate 100 is discharged and separated. After performing other processing in the processing apparatus, the remaining insulating layer 120, source / drain layer 130, and semiconductor 140 may be printed again by returning to the flexible electronic device manufacturing apparatus 1.

本発明に係るフレキシブル電子デバイス製造装置を含む複数の処理装置を用いて基材に処理を施す場合には、本実施例のように、フレキシブル電子デバイス製造装置1においてフィルム基板100のアライメント調整を行うことにより、事前に処理が施されたフィルム基板100に対して、作業者に負荷をかけることなく高精度で更なる処理を施すことができる。   When processing a base material using a plurality of processing apparatuses including a flexible electronic device manufacturing apparatus according to the present invention, alignment adjustment of the film substrate 100 is performed in the flexible electronic device manufacturing apparatus 1 as in this embodiment. Accordingly, the film substrate 100 that has been processed in advance can be further processed with high accuracy without imposing a load on the operator.

1 フレキシブル電子デバイス製造装置
2 基材供給部(供給手段)
3 基材処理部
4 基材排出部(排出手段)
10 供給装置
11 搬送台
12 搬送テーブル
13 載置ボード(載置手段)
13a 載置ボードの搬送方向上流側先端部
13b 載置ボードの切り欠き部
14 アクチュエータ(位置調整手段)
15 アライメントカメラ(位置検出手段)
16 ポンプ(吸着手段)
20 渡胴(搬送手段)
21 渡胴のくわえ爪装置
30 圧胴
31 圧胴のくわえ爪装置
40 反転印刷装置(処理手段、印刷装置)
41 ゴム胴
42 反転版胴
43 スリットダイ
50 コーティング装置(処理手段、塗布装置)
51 ゴム胴
52 スリットダイ
60 インクジェット印刷装置(処理手段、印刷装置)
61 ノズルヘッド
70 乾燥装置(処理手段、固化装置)
80 排出装置
81 スプロケット
82 スプロケット
83 チェーン
84 排出装置のくわえ爪装置
90 排出台
100 フィルム基板
101 アライメントマーク
110 ゲート層
120 絶縁層
130 ソース・ドレイン層
140 半導体
200 制御装置
201 圧胴位相検出器(圧胴位相検出手段)
202 反転印刷部ゴム胴位相検出器(ゴム胴位相検出手段)
203 反転印刷部版胴位相検出器(版胴位相検出手段)
204 コーティング部ゴム胴位相検出器(ゴム胴位相検出手段)
205 乾燥装置前基材有無検知センサ
206 吸着スイッチ
221 渡胴爪開閉カム駆動装置
230 圧胴駆動装置(圧胴駆動手段)
231a 渡胴側圧胴爪開閉カム駆動装置
231b 排出部側圧胴爪開閉カム駆動装置
241 反転印刷部ゴム胴駆動・着脱装置(ゴム胴駆動手段およびゴム胴着脱手段)
242 反転印刷部版胴駆動・着脱装置(版胴駆動手段および版胴着脱手段)
243 反転印刷部スリットコータ作動装置
251 コーティング部ゴム胴駆動・着脱装置(ゴム胴駆動手段およびゴム胴着脱手段)
252 コーティング部スリットコータ作動装置
260 インクジェット作動装置
270 乾燥装置作動装置
284 排出部爪開閉カム駆動装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flexible electronic device manufacturing apparatus 2 Base material supply part (supply means)
3 Base material processing part 4 Base material discharge part (discharge means)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Supply apparatus 11 Conveyance stand 12 Conveyance table 13 Mounting board (mounting means)
13a Upstream end portion 13b in the transport direction of the mounting board Notch portion 14 in the mounting board Actuator (position adjusting means)
15 Alignment camera (position detection means)
16 Pump (adsorption means)
20 Crossing (conveying means)
21 Crossing nail device 30 for transfer cylinder Impression cylinder 31 Nail device 40 for impression cylinder Reverse printing device (processing means, printing device)
41 Rubber cylinder 42 Reversing plate cylinder 43 Slit die 50 Coating device (processing means, coating device)
51 Rubber cylinder 52 Slit die 60 Inkjet printing device (processing means, printing device)
61 Nozzle head 70 Drying device (processing means, solidification device)
80 Discharge device 81 Sprocket 82 Sprocket 83 Chain 84 Discharge device gripper device 90 Discharge base 100 Film substrate 101 Alignment mark 110 Gate layer 120 Insulating layer 130 Source / drain layer 140 Semiconductor 200 Controller 201 Impression cylinder phase detector (impression cylinder) Phase detection means)
202 Inverted printing section rubber cylinder phase detector (rubber cylinder phase detection means)
203 Inversion printing section plate cylinder phase detector (plate cylinder phase detection means)
204 Coating part rubber cylinder phase detector (rubber cylinder phase detection means)
205 Pre-drying device presence / absence detection sensor 206 Adsorption switch 221 Crossing claw opening / closing cam driving device 230 Pressure drum driving device (pressure drum driving means)
231a Transfer cylinder side impression cylinder claw opening / closing cam drive unit 231b Discharge unit side impression cylinder claw opening / closing cam drive apparatus 241 Reverse printing unit rubber cylinder driving / detaching device (rubber cylinder driving means and rubber cylinder attaching / detaching means)
242 Reverse printing section plate cylinder driving / detaching device (plate cylinder driving means and plate cylinder attaching / detaching means)
243 Reverse printing section slit coater actuator 251 Coating section rubber cylinder driving / detaching device (rubber cylinder driving means and rubber cylinder attaching / detaching means)
252 Coating unit slit coater actuator 260 Inkjet actuator 270 Dryer actuator 284 Discharge part claw opening / closing cam drive unit

Claims (3)

フレキシブルな基材に対して機能層を印刷または塗布する基材処理部と、基材を前記基材処理部へ供給する基材供給部とを備えたフレキシブル電子デバイス製造装置であって、
前記基材供給部に、
基材を載置する載置手段と、
基材を前記載置手段に吸着する吸着手段と、
前記載置手段の位置を調整する位置調整手段と、
前記載置手段に載置された基材の位置を検出する基材位置検出手段と、
基材を所定の位置で前記基材処理部へ供給するように、前記基材位置検出手段の検出結果に基づいて前記位置調整手段を制御する制御手段と
を備え
前記基材処理部に、基材を保持して回転駆動する圧胴と、前記圧胴の位相を検出する圧胴位相検出手段とを備え、
前記基材供給部に、前記載置手段に載置された基材を前記基材処理部の前記圧胴へ搬送する搬送手段を備え、
前記制御手段は、前記圧胴位相検出手段の検出結果に基づいて、前記搬送手段を制御する
ことを特徴とするフレキシブル電子デバイス製造装置。
A flexible electronic device manufacturing apparatus comprising a base material processing unit that prints or applies a functional layer to a flexible base material, and a base material supply unit that supplies the base material to the base material processing unit,
In the base material supply unit,
A mounting means for mounting the substrate;
Adsorbing means for adsorbing the base material to the placing means,
Position adjusting means for adjusting the position of the placing means,
Base material position detecting means for detecting the position of the base material placed on the placing means,
Control means for controlling the position adjusting means based on the detection result of the base material position detecting means so as to supply the base material to the base material processing unit at a predetermined position ;
The base material processing unit includes a pressure drum that holds and rotates the base material, and a pressure drum phase detection unit that detects a phase of the pressure drum,
The substrate supply unit includes a conveying unit that conveys the substrate placed on the placing unit to the impression cylinder of the substrate processing unit,
The flexible electronic device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls the transport unit based on a detection result of the impression cylinder phase detection unit .
前記位置調整手段は、前記載置手段を水平面内における異なる二方向への移動および回転によって位置調整する
ことを特徴とする請求項1に記載のフレキシブル電子デバイス製造装置。
The flexible electronic device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the position adjusting unit adjusts the position of the placing unit by moving and rotating in two different directions within a horizontal plane.
前記搬送手段は、基材の端部をくわえて保持するくわえ爪装置を備えた渡胴であり、
前記載置手段は、前記くわえ爪装置における爪の軌道に対応する位置に切り欠き部を有する板状物である
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフレキシブル電子デバイス製造装置。
The transport means is a transfer cylinder provided with a gripper device that holds and holds an end of a base material;
The flexible electronic device manufacturing apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the placing means is a plate-like object having a notch at a position corresponding to a track of the nail in the gripper nail device.
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