JP6243862B2 - Method for manufacturing liquid crystal alignment film, method for manufacturing liquid crystal display device, and liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal alignment film, method for manufacturing liquid crystal display device, and liquid crystal display device Download PDF

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Description

本発明は、液晶配向膜の製造方法、液晶表示装置の製造方法、および、液晶配向膜の製造方法により作製される液晶配向膜を有する液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a liquid crystal alignment film, a method for producing a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device having a liquid crystal alignment film produced by the method for producing a liquid crystal alignment film.

液晶表示装置(liquid crystal display:LCD)は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターやスマートフォンなどのモニター、テレビ用途に広く利用されている。
このような液晶表示装置は、液晶セルおよび液晶セルの両側に配置された2枚の偏光板を有しており、また、液晶セルは、液晶層と液晶層を挟んで互いに対向して配置される2枚の基板とを有しており、この基板は、一般的に液晶層を構成する液晶を配向させるため配向膜が設けられる。
Liquid crystal displays (LCDs) are widely used for monitors such as personal computers and smartphones and television applications because of their various advantages, such as low voltage and low power consumption, enabling miniaturization and thinning.
Such a liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates disposed on both sides of the liquid crystal cell, and the liquid crystal cell is disposed to face each other with the liquid crystal layer and the liquid crystal layer interposed therebetween. In general, the substrate is provided with an alignment film for aligning the liquid crystal constituting the liquid crystal layer.

このような配向膜として、例えば、特許文献1には、ラビングにより配向処理を施す「ポリオキサゾールを主成分とする液晶配向膜」が記載されており([請求項1])、
また、特許文献2には、光により配向処理を施す「ポリベンゾオキサゾール系化合物、ポリベンゾチアゾール系化合物、ポリベンゾイミダゾール系化合物の中のいずれか一つに光活性基が作用基として結合された高分子からなる配向膜」が記載されている([請求項1])。
As such an alignment film, for example, Patent Document 1 describes a “liquid crystal alignment film containing polyoxazole as a main component” for performing an alignment treatment by rubbing ([Claim 1]).
Patent Document 2 discloses that a photoactive group is bonded as an active group to any one of a polybenzoxazole-based compound, a polybenzothiazole-based compound, and a polybenzimidazole-based compound that is subjected to alignment treatment by light. An alignment film made of a polymer ”is described ([Claim 1]).

特開2000−122067号公報JP 2000-122067 A 特開2008−077050号公報JP 2008-077050 A

本発明者は、特許文献1および2に記載された配向膜について検討したところ、特許文献1に記載された配向膜では、ラビング処理後にスジ状の配向ムラが生じ、特許文献2に記載された配向膜では、耐光性に劣ることを明らかとした。   The inventor examined the alignment films described in Patent Documents 1 and 2, and in the alignment film described in Patent Document 1, streaky alignment unevenness occurred after the rubbing treatment, which was described in Patent Document 2. The alignment film was found to be inferior in light resistance.

そこで、本発明は、配向状態が良好で、耐光性にも優れる液晶配向膜の製造方法、液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置を提供することを課題とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a liquid crystal alignment film, a method for producing a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device that have a good alignment state and excellent light resistance.

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の構造を有する繰り返し単位を含むポリマーを含有する皮膜に対して、熱処理と特定波長領域の光配向処理とを施すことにより、配向状態が良好で、耐光性にも優れる液晶配向膜を作製できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventor conducted heat treatment and photo-alignment treatment in a specific wavelength region on a film containing a polymer containing a repeating unit having a predetermined structure. The present inventors have found that a liquid crystal alignment film having a good state and excellent light resistance can be produced.
That is, it has been found that the above object can be achieved by the following configuration.

[1] 基板上に、後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、
皮膜に、熱処理を施し、熱処理が施された皮膜を形成する熱処理工程と、
熱処理が施された皮膜に、波長313nm以下の光で配向処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法。
[1] An application step of applying a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by formula (1) described later on a substrate to form a film;
A heat treatment step for applying heat treatment to the film to form a film subjected to the heat treatment;
And a photo-alignment treatment step of producing a liquid crystal alignment film by subjecting the heat-treated film to an alignment treatment with light having a wavelength of 313 nm or less.

[2] 基板上に、後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、
皮膜に、波長313nm以下の光で配向処理を施し、配向処理が施された皮膜を形成する光配向処理工程と、
配向処理が施された皮膜に、熱処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法。
[2] An application step of applying a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the formula (1) described later on a substrate to form a film;
A photo-alignment treatment step of performing an alignment treatment on the film with light having a wavelength of 313 nm or less, and forming a film subjected to the alignment process;
And a photo-alignment treatment step of producing a liquid crystal alignment film by performing heat treatment on the film subjected to the alignment process.

[3] ポリマーが、後述する式(2)で表される繰り返し単位を有するポリマーである、[1]または[2]に記載の液晶配向膜の製造方法。
[4] ポリマーが、後述する式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーである、[1]〜[3]のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
[5] ポリマーが、後述する式(3)で表される繰り返し単位と、後述する式(4)で表される繰り返し単位と有するポリマーである、[1]〜[4]のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
[6] 硬化性組成物が、更に硬化触媒を含有する、[1]〜[5]のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。
[7] 硬化触媒が、塩基触媒または潜在性塩基触媒である、[6]に記載の液晶配向膜の製造方法。
[8] [1]〜[7]のいずれかに記載の液晶配向膜の製造方法により液晶配向膜を形成する工程を有する、液晶表示装置の製造方法。
[3] The method for producing a liquid crystal alignment film according to [1] or [2], wherein the polymer is a polymer having a repeating unit represented by formula (2) described later.
[4] The method for producing a liquid crystal alignment film according to any one of [1] to [3], wherein the polymer is a polymer having a repeating unit represented by formula (3) described later.
[5] The polymer according to any one of [1] to [4], wherein the polymer is a polymer having a repeating unit represented by formula (3) described later and a repeating unit represented by formula (4) described later. A method for producing a liquid crystal alignment film.
[6] The method for producing a liquid crystal alignment film according to any one of [1] to [5], wherein the curable composition further contains a curing catalyst.
[7] The method for producing a liquid crystal alignment film according to [6], wherein the curing catalyst is a base catalyst or a latent base catalyst.
[8] A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising a step of forming a liquid crystal alignment film by the method for manufacturing a liquid crystal alignment film according to any one of [1] to [7].

[9] 液晶層と、液晶層を挟んで互いに対向して配置された第1の基板および第2の基板とを有する液晶表示装置であって、
液晶層と第1の基板および/または第2の基板との間の少なくとも一部に、[1]〜[7]のいずれかにに記載の液晶配向膜の製造方法により作製された液晶配向膜を有する、液晶表示装置。
[10] 液晶層を構成する液晶が、水平配向液晶である、[9]に記載の液晶表示装置。
[9] A liquid crystal display device having a liquid crystal layer, and a first substrate and a second substrate disposed to face each other across the liquid crystal layer,
A liquid crystal alignment film produced by the method for producing a liquid crystal alignment film according to any one of [1] to [7] at least partially between the liquid crystal layer and the first substrate and / or the second substrate A liquid crystal display device.
[10] The liquid crystal display device according to [9], wherein the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is a horizontally aligned liquid crystal.

本発明によれば、配向状態が良好で、耐光性にも優れる液晶配向膜の製造方法、液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a liquid crystal alignment film, a method for manufacturing a liquid crystal display device, and a liquid crystal display device that have a good alignment state and excellent light resistance.

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.

[液晶配向膜の製造方法]
本発明の第1の態様に係る液晶配向膜の製造方法は、基板上に、後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、皮膜に熱処理を施し、熱処理が施された皮膜を形成する熱処理工程と、熱処理が施された皮膜に波長313nm以下の光で配向処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法である。
また、本発明の第2の態様に係る液晶配向膜の製造方法は、後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、皮膜に波長313nm以下の光で配向処理を施し、配向処理が施された皮膜を形成する光配向処理工程と、配向処理が施された皮膜に熱処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法である。
すなわち、本発明の第1の態様に係る液晶配向膜の製造方法および本発明の第2の態様に係る液晶配向膜の製造方法(以下、これらをまとめて単に「本発明の製造方法」と略す。)は、熱処理工程と光配向処理工程との順序のみが異なる製造方法である。
[Method for producing liquid crystal alignment film]
In the method for producing a liquid crystal alignment film according to the first aspect of the present invention, a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by formula (1) described later is applied on a substrate to form a film. A photo-alignment process for forming a liquid crystal alignment film by applying a heat treatment to the film, heat-treating the film to form a heat-treated film, and subjecting the heat-treated film to an alignment treatment with light having a wavelength of 313 nm or less A liquid crystal alignment film having a processing step.
Moreover, the manufacturing method of the liquid crystal aligning film which concerns on the 2nd aspect of this invention apply | coats the curable composition containing the polymer which has a repeating unit represented by Formula (1) mentioned later, and forms the membrane | film | coat. A liquid crystal alignment film is prepared by performing an alignment process with a light having a wavelength of 313 nm or less, forming a film subjected to the alignment process, and performing a heat treatment on the film subjected to the alignment process. A liquid crystal alignment film having a photo-alignment treatment step.
That is, a method for manufacturing a liquid crystal alignment film according to the first aspect of the present invention and a method for manufacturing a liquid crystal alignment film according to the second aspect of the present invention (hereinafter, these are collectively abbreviated as “the manufacturing method of the present invention”. .) Is a manufacturing method that differs only in the order of the heat treatment step and the photo-alignment treatment step.

本発明の製造方法は、熱処理および光配向処理工程を順不同に有することにより、配向状態が良好で、耐光性にも優れる液晶配向膜を作製することができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者は以下のように推測している。
すなわち、熱処理によって後述する式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマー中にオキサゾール環が生じ、このオキサゾール環が、波長313nm以下という短波長の光で配向処理を施すことにより分解し、偏向光によってある方向が選択的に分解されるためであると考えられる。
次に、本発明の製造方法における各処理工程について詳述する。
The production method of the present invention can produce a liquid crystal alignment film having a good alignment state and excellent light resistance by having heat treatment and photo-alignment treatment steps in no particular order.
Although this is not clear in detail, the inventor presumes as follows.
That is, an oxazole ring is produced in a polymer having a repeating unit represented by the formula (1) described later by heat treatment, and this oxazole ring is decomposed by applying an alignment treatment with light having a short wavelength of 313 nm or less, and deflected. This is probably because a certain direction is selectively decomposed by light.
Next, each processing step in the production method of the present invention will be described in detail.

〔塗布工程〕
本発明の製造方法が有する塗布工程は、後述する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する工程である。
[Coating process]
The coating process which the manufacturing method of this invention has is a process of apply | coating the curable composition mentioned later and forming a membrane | film | coat.

<硬化性組成物>
硬化性組成物は、下記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物であれば特に限定されないが、後述する硬化触媒や溶媒など含有していてもよい。
<Curable composition>
The curable composition is not particularly limited as long as it is a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the following formula (1), but may contain a curing catalyst or a solvent described later.

(ポリマー)
硬化性組成物に含有するポリマーは、下記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーである。

ここで、式(1)中のXは芳香環を含む4価の有機基を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、Lはアルキレン基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるLはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
(polymer)
The polymer contained in the curable composition is a polymer having a repeating unit represented by the following formula (1).

Here, X in Formula (1) represents a tetravalent organic group containing an aromatic ring, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, L represents an alkylene group, and n represents 2 to 2 Represents an integer of 10,000. X in each repeating unit may be the same or different, R in each repeating unit may be the same or different, and L in each repeating unit may be the same or different. May be.

ここで、Xが示す芳香環を含む4価の有機基としては、具体的には、例えば、以下に示す有機基が好適に挙げられる。なお、以下に示す4価の有機基において、「*」は上記式(1)における−NH−との連結部分を表し、「**」は上記式(1)における−ORとの連結部分を表す。
Here, specifically as a tetravalent organic group containing the aromatic ring which X shows, the organic group shown below is mentioned suitably, for example. In the tetravalent organic group shown below, “*” represents a connecting portion with —NH— in the above formula (1), and “**” represents a connecting portion with —OR in the above formula (1). Represent.

また、Rは、水素原子であることが好ましいが、Rが示す一価の有機基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基等が挙げられる。
また、Rは、上記式(1)中のXに連結する−O−と連結してアセタール構造を形成する基を表してもよい。具体的には以下に示す構造が挙げられる。なお、以下に示す構造において、***は−O−との連結部分を表す。
R is preferably a hydrogen atom, and examples of the monovalent organic group represented by R include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R may represent a group that forms an acetal structure by linking to —O— linked to X in the formula (1). Specific examples include the following structures. In the structure shown below, *** represents a connecting portion with —O—.

また、Lが示すアルキレン基は、炭素数2〜8の脂環式または直鎖状のアルキレン基であるのが好ましく、脂環式のアルキレン基としては、例えば、シクロヘキサン−1,4−ジイル基等が挙げられ、直鎖状のアルキレン基としては、エチレン基、n−プロピレン基、n−ブチレン基、n−ペンチレン基、n−へキシレン基、n−ヘプチレン基、n−オクチレン基等が挙げられる。
nは、5〜1000の整数であるのが好ましく、10〜500の整数であるのがより好ましい。
The alkylene group represented by L is preferably an alicyclic or linear alkylene group having 2 to 8 carbon atoms. Examples of the alicyclic alkylene group include a cyclohexane-1,4-diyl group. Examples of the linear alkylene group include an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, an n-pentylene group, an n-hexylene group, an n-heptylene group, and an n-octylene group. It is done.
n is preferably an integer of 5 to 1000, and more preferably an integer of 10 to 500.

本発明においては、大型塗布機に対応できるPGMEA(プロピレングリコールメチルエーテルアセテート)、MEDG(ジエチレングリコールメチルエチルエーテル)などの溶媒に溶解させることができる理由から、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーが、下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリマーであることが好ましい。
なお、下記式(2)中のR、Lおよびnは、いずれも上記式(1)において説明したものと同様である。
In the present invention, the repeating unit represented by the above formula (1) can be dissolved in a solvent such as PGMEA (propylene glycol methyl ether acetate) and MEDG (diethylene glycol methyl ethyl ether) that can be used for a large coater. It is preferable that the polymer which has is a polymer which has a repeating unit represented by following formula (2).
In the following formula (2), R, L, and n are all the same as those described in the above formula (1).

本発明においては、フラットパネルディスプレイ用途に必要な強度および溶媒耐性の観点から、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーが、下記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーであることが好ましい。
なお、下記式(3)中のRおよびnは、いずれも上記式(1)において説明したものと同様である。
In the present invention, the polymer having a repeating unit represented by the above formula (1) is a polymer having a repeating unit represented by the following formula (3) from the viewpoint of strength and solvent resistance required for flat panel display applications. It is preferable that
In the following formula (3), R and n are the same as those described in the above formula (1).

本発明においては、大型塗布機に対応できるPGMEA(プロピレングリコールメチルエーテルアセテート)、MEDG(ジエチレングリコールメチルエチルエーテル)などの溶媒に溶解させることができ、また、フラットパネルディスプレイ用途に必要な透明性が向上する理由から、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーが、上記式(3)で表される繰り返し単位と、下記式(4)で表される繰り返し単位とを有するポリマー(共重合体)であるのが好ましい。なお、下記式(4)中のnは、上記式(1)において説明したものと同様であり、mは、2〜8の整数を表す。
また、共重合の態様は特に限定されず、ブロック共重合体であってもよく、ランダム共重合体であってもよい。
In the present invention, it can be dissolved in a solvent such as PGMEA (propylene glycol methyl ether acetate) or MEDG (diethylene glycol methyl ethyl ether) that can be used for large coating machines, and the transparency required for flat panel display applications is improved. For this reason, the polymer having a repeating unit represented by the above formula (1) is a polymer having a repeating unit represented by the above formula (3) and a repeating unit represented by the following formula (4) (both Polymer). In addition, n in following formula (4) is the same as that of what was demonstrated in the said Formula (1), and m represents the integer of 2-8.
Moreover, the aspect of copolymerization is not specifically limited, A block copolymer may be sufficient and a random copolymer may be sufficient.

本発明においては、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーの重量平均分子量は、1000〜100000であるのが好ましく、10000〜50000であるのがより好ましい。
ここで、重量平均分子量の測定は、下記条件で、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて行う。
・カラム:東ソー社製 KF−804L(3本)
・展開溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
・カラム温度:40℃
・流速:1.0mL/min
・装置:東ソー社製 HLC−8220
・検量線:TSKスタンダードPStシリーズ
In this invention, it is preferable that the weight average molecular weights of the polymer which has a repeating unit represented by the said Formula (1) are 1000-100000, and it is more preferable that it is 10000-50000.
Here, the weight average molecular weight is measured using GPC (gel permeation chromatography) under the following conditions.
・ Column: Tosoh KF-804L (three)
・ Developing solvent: Tetrahydrofuran (THF)
-Column temperature: 40 ° C
・ Flow rate: 1.0 mL / min
・ Apparatus: HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
-Calibration curve: TSK standard PSt series

(硬化触媒)
本発明においては、硬化性が速くなり、生産性が良好となる理由から、硬化性組成物が、更に硬化触媒を含有するのが好ましい。
硬化触媒としては、例えば、酸触媒あるいは塩基触媒または潜在性塩基触媒などが挙げられる。
ここで、酸触媒としては、例えば、塩酸などのハロゲン化水素;硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸;ドデシルベンゼンスルホン酸などのスルホン酸;等が挙げられる。
また、塩基触媒としては、例えば、イミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、4−メチルイミダゾール、5−メチルイミダゾール、1−エチルベンズイミダゾール、1−プロピルイミダゾール、1−ブチルイミダゾール、ベンズイミダゾール、1−メチルベンズイミダゾール、2−メチルベンズイミダゾール、4−メチルベンズイミダゾール、5−メチルベンズイミダゾール、2、4−ジメチルベンズイミダゾール、2,5−ジメチルベンズイミダゾール、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−2H−ピリミドピリミジン、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−1−メチル−2H−ピリミドピリミジン、1,2−ジメチル−テトラヒドロピリミジン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4,3,0]−5−ノネン、1,4,5,6−テトラヒドロピリミジン、6−(ジブチルアミノ)−1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−7−ウンデセン等が挙げられる。
また、潜在性塩基触媒としては、熱または酸によって塩基触媒を発生させる化合物が好ましく、例えば、1−(tert−ブトキシカルボニル)−ピペリジン、1−(tert−ブトキシカルボニル)−イミダゾール、1−(tert−ブトキシカルボニル)−4−ヒドロキシピペリジン等が挙げられる。
これらのうち、硬化性がより速くなり、生産性がより良好となる理由から、塩基触媒または潜在性塩基触媒であるのが好ましい。
(Curing catalyst)
In the present invention, it is preferable that the curable composition further contains a curing catalyst because the curability becomes fast and the productivity becomes good.
Examples of the curing catalyst include an acid catalyst, a base catalyst, and a latent base catalyst.
Here, examples of the acid catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid; nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid such as formic acid and acetic acid; dodecylbenzenesulfonic acid and the like. Sulfonic acid; and the like.
Examples of the base catalyst include imidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 4-methylimidazole, 5-methylimidazole, 1-ethylbenzimidazole, 1-propylimidazole, 1-butylimidazole, benzimidazole, 1-methylbenzimidazole, 2-methylbenzimidazole, 4-methylbenzimidazole, 5-methylbenzimidazole, 2,4-dimethylbenzimidazole, 2,5-dimethylbenzimidazole, 1,3,4,6,7, 8-hexahydro-2H-pyrimidopyrimidine, 1,3,4,6,7,8-hexahydro-1-methyl-2H-pyrimidopyrimidine, 1,2-dimethyl-tetrahydropyrimidine, 1,8-diazabicyclo- [ 5,4,0] -7-Undese 1,5-diazabicyclo- [4,3,0] -5-nonene, 1,4,5,6-tetrahydropyrimidine, 6- (dibutylamino) -1,8-diazabicyclo- [5,4,0] And -7-undecene.
The latent base catalyst is preferably a compound that generates a base catalyst by heat or acid. For example, 1- (tert-butoxycarbonyl) -piperidine, 1- (tert-butoxycarbonyl) -imidazole, 1- (tert -Butoxycarbonyl) -4-hydroxypiperidine and the like.
Of these, a base catalyst or a latent base catalyst is preferred because the curability is faster and the productivity is better.

(溶媒)
硬化性組成物には、基板上に塗布する作業性の観点から、溶媒が含まれていてもよい。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく、具体的には、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン(以下、「NMP」と略す。)、N−ビニル−2−ピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセトニトリル、アセトン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、プロピレングリコールメチルエーテル等の極性溶媒が好適に挙げられる。
(solvent)
The curable composition may contain a solvent from the viewpoint of workability applied on the substrate.
The solvent is preferably an organic solvent. Specifically, for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter, “ NMP "), N-vinyl-2-pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, acetonitrile, acetone, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, propylene glycol methyl ether, etc. The polar solvent is preferably mentioned.

<基板>
硬化性組成物を塗布する基板は特に限定されず、透明基板であるのが好ましく、具体的には、例えば、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英、シリコーン、シリコンナイトライド、および、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板等が挙げられる。
これらの基板は、上記の形態のまま用いられる場合は少なく、最終製品の形態によって、例えば、薄膜トランジスター(TFT)素子のような多層積層構造が形成されていてもよい。
<Board>
The substrate on which the curable composition is applied is not particularly limited and is preferably a transparent substrate. Specifically, for example, a soda glass plate having a silicon oxide film on its surface, low expansion glass, non-alkali glass, quartz, Examples include silicone, silicon nitride, and a composite substrate in which molybdenum, titanium, aluminum, copper, or the like is vapor-deposited on such a substrate.
These substrates are rarely used in the above-described form, and a multilayer laminated structure such as a thin film transistor (TFT) element may be formed depending on the form of the final product.

<塗布方法>
硬化性組成物を基板上に塗布する方法は特に限定されず、具体的には、例えば、印刷法(例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、インプリント法など)、スピンコーティング法、スリットコーティング法、スリットアンドスピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
<Application method>
The method for applying the curable composition on the substrate is not particularly limited. Specifically, for example, a printing method (for example, gravure printing method, screen printing method, flexographic printing method, inkjet printing method, imprinting method, etc.) , Spin coating method, slit coating method, slit and spin coating method, dip coating method, curtain coating method and the like.

〔溶媒除去工程〕
本発明の製造方法は、上述した塗布工程の後であって、後述する熱処理工程および光配向処理工程の前に、硬化性組成物に含まれる任意の溶媒を皮膜から除去する溶媒除去工程を有していてもよい。
溶媒除去工程は、溶媒の種類や量により処理条件が異なるが、例えば、溶媒としてNMPを用いた場合には、80〜150℃程度で、0.5〜3分程度、加熱する工程であるのが好ましく、90〜120℃程度で、0.5〜2分程度、加熱する工程であるのがより好ましい。
[Solvent removal step]
The production method of the present invention has a solvent removal step for removing any solvent contained in the curable composition from the film after the coating step described above and before the heat treatment step and the photo-alignment treatment step described later. You may do it.
The solvent removal step is a step of heating at about 80 to 150 ° C. for about 0.5 to 3 minutes when NMP is used as the solvent, although the processing conditions differ depending on the type and amount of the solvent. It is more preferable that it is a step of heating at about 90 to 120 ° C. for about 0.5 to 2 minutes.

〔熱処理工程〕
熱処理工程は、本発明の第1の態様においては、上述した塗布工程において形成された皮膜に対して熱処理を施す工程であり、本発明の第2の態様においては、上述した塗布工程において形成された皮膜に後述する配向処理を施した皮膜(配向処理が施された皮膜)に対して熱処理を施す工程である。
このような熱処理を施すことにより、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマー中に脱水閉環したオキサゾール環、具体的には、上記式(3)または(4)で表される繰り返し単位を有するポリマーにおいてはポリベンゾオキサゾール骨格が生起することになる。
[Heat treatment process]
In the first aspect of the present invention, the heat treatment step is a step of performing a heat treatment on the film formed in the coating step described above. In the second aspect of the present invention, the heat treatment step is formed in the coating step described above. This is a step of performing a heat treatment on a film obtained by subjecting the coated film to an orientation treatment described later (a film on which the orientation treatment has been performed).
By performing such heat treatment, the oxazole ring dehydrated and closed in the polymer having the repeating unit represented by the above formula (1), specifically, the repeating represented by the above formula (3) or (4) In a polymer having a unit, a polybenzoxazole skeleton is generated.

皮膜ないし配向処理が施された皮膜に対して熱処理を施す方法としては、例えば、皮膜ないし配向処理が施された皮膜を180〜350℃の温度、好ましくは200〜300℃の温度で、20〜60分間、加熱する方法等が好適に挙げられる。
また、熱処理は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて行うことが好ましい。また、熱処理を窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
Examples of a method for performing a heat treatment on a film or a film subjected to an alignment treatment include, for example, a film that has been subjected to a film or an alignment treatment at a temperature of 180 to 350 ° C., preferably 200 to 300 ° C. A method of heating for 60 minutes is preferable.
The heat treatment is preferably performed using a heating device such as a hot plate or an oven. Further, the transparency can be further improved by performing the heat treatment in a nitrogen atmosphere.

〔光配向処理工程〕
光配向処理工程は、本発明の第1の態様においては、上述した熱処理工程において熱処理が施された皮膜に対して光配向処理を施す工程であり、本発明の第2の態様においては、上述した塗布工程において形成された皮膜に対して光配向処理を施す工程である。
[Photo-alignment treatment process]
In the first aspect of the present invention, the photo-alignment treatment step is a step of performing a photo-alignment treatment on the film that has been subjected to the heat treatment in the above-described heat treatment step. This is a step of performing a photo-alignment process on the film formed in the coating step.

光配向処理工程における光配向処理は、波長313nm以下の光を用いること以外は特に限定されないが、偏光した紫外線を用いることが均一な配向を得る上で好ましい。この場合、偏光した紫外線を照射する方法は特に限定されない。なお、偏光としては特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。   The photo-alignment treatment in the photo-alignment treatment step is not particularly limited except that light having a wavelength of 313 nm or less is used, but it is preferable to use polarized ultraviolet rays for obtaining uniform alignment. In this case, the method of irradiating polarized ultraviolet rays is not particularly limited. In addition, there is no restriction | limiting in particular as polarized light, For example, linearly polarized light, circularly polarized light, elliptically polarized light etc. are mentioned, Among these, linearly polarized light is preferable.

また、実質的に偏光が得られればよく、無偏光の光を薄膜の法線から一定角度傾けて照射してもよい。言い換えると、薄膜表面の斜め方向から非偏光を照射してもよい。「傾けて照射」とは、薄膜表面の法線方向に対して極角θ(0<θ<90°)傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが20〜80°であることが好ましい。   Moreover, it is only necessary to obtain substantially polarized light, and non-polarized light may be irradiated at an angle inclined from the normal line of the thin film. In other words, non-polarized light may be irradiated from an oblique direction on the surface of the thin film. “Inclined irradiation” is not particularly limited as long as it is a direction inclined by a polar angle θ (0 <θ <90 °) with respect to the normal direction of the thin film surface, and can be appropriately selected according to the purpose. However, it is preferable that (theta) is 20-80 degrees.

使用される光の光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
このような光源から得た紫外線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。
Examples of the light source used include a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, and a metal halide lamp.
By using an interference filter, a color filter, or the like for ultraviolet rays obtained from such a light source, the wavelength range of irradiation can be limited. Moreover, linearly polarized light can be obtained by using a polarizing filter or a polarizing prism for the light from these light sources.

[液晶表示装置の製造方法]
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上述した本発明の液晶配向膜の製造方法により液晶配向膜を形成する工程(以下、本段落においては「配向膜形成工程」と略す。)を有する製造方法である。
ここで、配向膜形成工程以外の工程については特に限定されず、例えば、配向膜上に液晶層を形成する工程や、液晶層を挟んで互いに対向して配置される基板を貼り合せる工程などについては、従来公知の液晶表示装置の製造方法における各工程を適宜採用することができる。
[Method for manufacturing liquid crystal display device]
The manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention includes a step of forming a liquid crystal alignment film by the above-described manufacturing method of the liquid crystal alignment film of the present invention (hereinafter abbreviated as “alignment film forming step” in this paragraph). Is the method.
Here, the steps other than the alignment film forming step are not particularly limited. For example, a step of forming a liquid crystal layer on the alignment film, a step of bonding substrates disposed opposite to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, and the like. Can adopt each process in the manufacturing method of a conventionally well-known liquid crystal display device suitably.

[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、液晶層と、液晶層を挟んで互いに対向して配置された第1の基板および第2の基板とを有する液晶表示装置であって、液晶層と第1の基板および/または第2の基板との間の少なくとも一部に、上述した本発明の製造方法により作製された液晶配向膜を有する、液晶表示装置である。
[Liquid Crystal Display]
A liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device having a liquid crystal layer, and a first substrate and a second substrate disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween, wherein the liquid crystal layer and the first substrate And / or a liquid crystal display device having a liquid crystal alignment film produced by the above-described production method of the present invention at least partially between the substrate and the second substrate.

〔液晶層〕
本発明の液晶表示装置に利用される液晶層を駆動させるための駆動方式としては、TN(Twisted Nematic)方式、VA(Virtical Alignment)方式、IPS(In−Place−Switching)方式、FFS(Frings Field Switching)方式、OCB(Optical Compensated Bend)方式などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらの駆動方式の中でもIPS方式であることが好ましい。
IPS方式の液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。即ち、IPS方式においては、液晶層を構成する液晶が水平配向液晶である。IPS方式は電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。
[Liquid crystal layer]
As a driving method for driving a liquid crystal layer used in the liquid crystal display device of the present invention, a TN (Twisted Nematic) method, a VA (Virtual Alignment) method, an IPS (In-Place-Switching) method, an FFS (Frings Field). Examples include, but are not limited to, a switching method and an OCB (Optical Compensated Bend) method.
Among these driving methods, the IPS method is preferable.
In the IPS liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially parallel to the substrate, and the liquid crystal molecules respond in a planar manner when an electric field parallel to the substrate surface is applied. That is, in the IPS system, the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is a horizontally aligned liquid crystal. In the IPS system, black is displayed when no electric field is applied, and the absorption axes of a pair of upper and lower polarizing plates are orthogonal.

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the following examples.

<合成例1>
温度計、撹拌機および乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン32.96g(0.09モル)とピリジン14.24g(0.18モル)とを、NMP132gに溶解させた。
次いで、セパラブルフラスコを冷却して反応系の温度を−10℃に保ち、窒素流入下で撹拌を行ないながら、ゼバコイルクロリド(東京化成社製)6.33g(0.0265モル)、1,4−シクロヘキシルジカルボニルクロリド(商品名14−CHDC、日本軽金属社製)12.91g(0.0617モル)、アセチルクロリド0.64g(0.0081モル)をNMP87.01gに溶解させたものを滴下し、反応系の温度を−10℃に保ちながら5時間撹拌を続けた。
次いで、反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を反応溶液の20倍量のイオン交換水中に滴下し、樹脂分を沈殿させた。
樹脂分を濾過した後、50℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて、下記式(5)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:15000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、硬化性組成物(S−1)を調製した。
<Synthesis Example 1>
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dry nitrogen gas inlet tube, 32.96 g (0.09 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 14.24 g (0.18 mol) of pyridine were dissolved in 132 g of NMP.
Next, the separable flask was cooled to maintain the temperature of the reaction system at −10 ° C., and while stirring under nitrogen flow, 6.33 g (0.0265 mol) of zevacoyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4-cyclohexyl dicarbonyl chloride (trade name 14-CHDC, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd.) 12.91 g (0.0617 mol), 0.64 g (0.0081 mol) of acetyl chloride dissolved in NMP 87.01 g was added dropwise. Then, stirring was continued for 5 hours while maintaining the temperature of the reaction system at −10 ° C.
Next, the temperature of the reaction system was returned to room temperature, and the reaction solution was dropped into 20 times the amount of ion-exchanged water of the reaction solution to precipitate the resin component.
After filtering the resin component, it was dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 15000) represented by the following formula (5).
The curable composition (S-1) was prepared by diluting with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component was 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve was 8: 2.

<合成例2>
温度計、撹拌機および乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン32.96g(0.09モル)とピリジン14.24g(0.18モル)とを、NMP132gに溶解させた。
次いで、セパラブルフラスコを冷却して反応系の温度を−10℃に保ち、窒素流入下で撹拌を行ないながら、1.4−シクロヘキシルジカルボニルクロリド(商品名14−CHDC、日本軽金属社製)18.44g(0.0882モル)、アセチルクロリド0.64g(0.0081モル)をNMP87.01gに溶解させたものを滴下し、反応系の温度を−10℃に保ちながら5時間撹拌を続けた。
反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を反応溶液の20倍量のイオン交換水中に滴下し、樹脂分を沈殿させた。
樹脂分を濾過した後、50℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて、下記式(6)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:15000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、硬化性組成物(S−2)を調製した。
<Synthesis Example 2>
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dry nitrogen gas inlet tube, 32.96 g (0.09 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 14.24 g (0.18 mol) of pyridine were dissolved in 132 g of NMP.
Next, the separable flask was cooled to maintain the temperature of the reaction system at −10 ° C., while stirring under nitrogen flow, and 1.4-cyclohexyl dicarbonyl chloride (trade name 14-CHDC, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd.) 18 .44 g (0.0882 mol) and 0.64 g (0.0081 mol) of acetyl chloride dissolved in 87.01 g of NMP were added dropwise, and stirring was continued for 5 hours while maintaining the temperature of the reaction system at −10 ° C. .
The temperature of the reaction system was returned to room temperature, and the reaction solution was added dropwise into 20 times the amount of ion-exchanged water of the reaction solution to precipitate the resin component.
After filtering the resin component, it was dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 15000) represented by the following formula (6).
The curable composition (S-2) was prepared by diluting with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component was 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve was 8: 2.

<合成例3>
温度計、撹拌機および乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン32.96g(0.09モル)とピリジン14.24g(0.18モル)とを、NMP132gに溶解させた。
次いで、セパラブルフラスコを冷却して反応系の温度を−10℃に保ち、窒素流入下で撹拌を行ないながら、1.4−シクロヘキシルジカルボニルクロリド(商品名14−CHDC、日本軽金属社製)15.05g(0.072モル)をNMP87.01gに溶解させたものを滴下し、反応系の温度を−10℃に保ちながら5時間撹拌を続けた。
反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を反応溶液の20倍量のイオン交換水中に滴下し、樹脂分を沈殿させた。
樹脂分を濾過した後、50℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて、下記式(7)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:19000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、硬化性組成物(S−3)を調製した。
<Synthesis Example 3>
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dry nitrogen gas inlet tube, 32.96 g (0.09 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 14.24 g (0.18 mol) of pyridine were dissolved in 132 g of NMP.
Next, the separable flask was cooled to maintain the temperature of the reaction system at −10 ° C., and while stirring under nitrogen flow, 1.4-cyclohexyl dicarbonyl chloride (trade name 14-CHDC, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd.) 15 A solution obtained by dissolving 0.05 g (0.072 mol) in 87.01 g of NMP was added dropwise, and stirring was continued for 5 hours while maintaining the temperature of the reaction system at −10 ° C.
The temperature of the reaction system was returned to room temperature, and the reaction solution was added dropwise into 20 times the amount of ion-exchanged water of the reaction solution to precipitate the resin component.
After filtering the resin content, it was dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 19000) represented by the following formula (7).
The curable composition (S-3) was prepared by diluting with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component was 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve was 8: 2.

<合成例4>
温度計、撹拌機および乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン32.96g(0.09モル)とピリジン14.24g(0.18モル)とを、NMP132gに溶解させた。
次いで、セパラブルフラスコを冷却して反応系の温度を−10℃に保ち、窒素流入下で撹拌を行ないながら、セバコイルクロリド(東京化成社製)21.09g(0.0882モル)、アセチルクロリド0.64g(0.0081モル)をNMP87.01gに溶解させたものを滴下し、反応系の温度を−10℃に保ちながら5時間撹拌を続けた。
次いで、反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を反応溶液の20倍量のイオン交換水中に滴下し、樹脂分を沈殿させた。
樹脂分を濾過した後、50℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて、下記式(8)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:14000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、硬化性組成物(S−4)を調製した。
<Synthesis Example 4>
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dry nitrogen gas inlet tube, 32.96 g (0.09 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 14.24 g (0.18 mol) of pyridine were dissolved in 132 g of NMP.
Next, the separable flask was cooled to keep the temperature of the reaction system at −10 ° C., and while stirring under nitrogen flow, 21.09 g (0.0882 mol) of sebacoyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), acetyl chloride A solution prepared by dissolving 0.64 g (0.0081 mol) in 87.01 g of NMP was added dropwise, and stirring was continued for 5 hours while maintaining the temperature of the reaction system at −10 ° C.
Next, the temperature of the reaction system was returned to room temperature, and the reaction solution was dropped into 20 times the amount of ion-exchanged water of the reaction solution to precipitate the resin component.
After filtering the resin content, it was dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 14000) represented by the following formula (8).
The curable composition (S-4) was prepared by diluting with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component was 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve was 8: 2.

<合成例5>
合成例1と同様の方法により、上記式(5)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:15000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、更に硬化触媒(塩基触媒)として、ブチルイミダゾール(0.223g,0.0018モル)を添加し、硬化性組成物(S−5)を調製した。
<Synthesis Example 5>
In the same manner as in Synthesis Example 1, polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 15000) represented by the above formula (5) was obtained.
It is diluted with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component is 5% and the ratio of NMP to butyl cellosolve is 8: 2, and butylimidazole (0.223 g, 0.0018 mol) is used as a curing catalyst (base catalyst). Was added to prepare a curable composition (S-5).

<合成例6>
合成例1と同様の方法により、上記式(5)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:15000)を得た。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、更に硬化触媒(酸触媒)として、ドデシルベンゼンスルホン酸(0.587g,0.0018モル)を添加し、硬化性組成物(S−6)を調製した。
<Synthesis Example 6>
In the same manner as in Synthesis Example 1, polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 15000) represented by the above formula (5) was obtained.
It is diluted with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component is 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve is 8: 2, and as a curing catalyst (acid catalyst), dodecylbenzenesulfonic acid (0.587 g, 0.0018). Mol) was added to prepare a curable composition (S-6).

<比較合成例1>
温度計、撹拌機および乾燥窒素ガス導入管を備えた四ツ口セパラブルフラスコ中で、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン36.6g(0.1モル)とピリジン17.75g(0.2モル)とを、NMP165gに溶解させた。
次いで、セパラブルフラスコを冷却して反応系の温度を−10℃に保ち、窒素流入下で撹拌を行ないながら、塩化テレフタロイル(東京化成社製)20.3g(0.1モル)をNMP108.8gに溶解させたものを滴下し、反応系の温度を−10℃に保ちながら5時間撹拌を続けた。
次いで、反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を反応溶液の20倍量のイオン交換水中に滴下し、樹脂分を沈殿させた。
樹脂分を濾過した後、50℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて、下記式(9)で表されるポリヒドロキシアミド(重量平均分子量:16000)を得た。なお、下記式(9)で表されるポリヒドロキシアミドは、上記式(1)で表されるL(アルキレン基)を満たさないポリマーである。
NMPとブチルセロソルブにより、樹脂成分の濃度が5%、NMPとブチルセロソルブの比率が8:2になるように希釈し、硬化性組成物(R−1)を調製した。
<Comparative Synthesis Example 1>
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a stirrer and a dry nitrogen gas inlet tube, 36.6 g (0.1 mol) of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane And 17.75 g (0.2 mol) of pyridine were dissolved in 165 g of NMP.
Next, the separable flask was cooled to maintain the temperature of the reaction system at −10 ° C., and while stirring under nitrogen flow, 20.3 g (0.1 mol) of terephthaloyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to 108.8 g of NMP. The solution dissolved in was dropped, and stirring was continued for 5 hours while maintaining the temperature of the reaction system at -10 ° C.
Next, the temperature of the reaction system was returned to room temperature, and the reaction solution was dropped into 20 times the amount of ion-exchanged water of the reaction solution to precipitate the resin component.
After filtering the resin content, it was dried in a vacuum dryer at 50 ° C. for 24 hours to obtain polyhydroxyamide (weight average molecular weight: 16000) represented by the following formula (9). The polyhydroxyamide represented by the following formula (9) is a polymer that does not satisfy L (alkylene group) represented by the above formula (1).
The curable composition (R-1) was prepared by diluting with NMP and butyl cellosolve so that the concentration of the resin component was 5% and the ratio of NMP and butyl cellosolve was 8: 2.

〔実施例1〕
中央部に1cm×1cmのITO(Indium Tin Oxide)透明電極を有し、そこから外部への接続が可能なように、幅1mmの電極が形成された5cm×5cmの低アルカリガラス基板上に、フレキソ印刷により硬化性組成物(S−1)を印刷し、皮膜を形成した。
次いで、80℃のホットプレート上で2分間予備乾燥(溶媒除去)を行なった後、300℃、窒素雰囲気下のクリーンオーブン中で60分間、熱処理を施し、ガラス基板上に膜厚100nmの熱処理が施された皮膜を形成した。
なお、熱処理が施された皮膜のIR(infrared absorption spectrometry)スペクトルを測定したところ、1060cm−1と1625cm−1にオキサゾール由来のピークが強く認められ、ポリヒドロキシアミドが脱水閉環した、ポリベンゾオキサゾールが主成分であることが確認できた。
次いで、ガラス基板上の熱処理が施された皮膜に対して、紫外線偏光露光装置(HC−2150PUFM、ランテック社製)を用いて、313nm以下の光を中心とした1J/cmの偏向光によって光配向処理を施し、液晶配向膜を形成した後に、エポキシ樹脂系のシール材を用いてセルギャップ3μmのセルを作製した。
セル中に水平配向用液晶組成物(MLC−2055、メルク社製)を注入し、注入口をUV硬化性の封口剤で封止した後、セルの両面に配向方向と方向を合わせて偏光板を貼り、液晶表示装置を作製した。
[Example 1]
On a 5 cm × 5 cm low alkali glass substrate having a 1 cm × 1 cm ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode in the center, and an electrode having a width of 1 mm formed so that connection to the outside is possible from there. The curable composition (S-1) was printed by flexographic printing to form a film.
Next, after preliminary drying (solvent removal) for 2 minutes on a hot plate at 80 ° C., heat treatment is performed for 60 minutes in a clean oven under a nitrogen atmosphere at 300 ° C., and a heat treatment with a film thickness of 100 nm is performed on the glass substrate. The applied film was formed.
In addition, when IR (infrared absorption spectrometry) spectrum of the heat-treated film was measured, peaks derived from oxazole were strongly observed at 1060 cm −1 and 1625 cm −1, and polybenzoxazole with polyhydroxyamide dehydrated and closed. It was confirmed that it was the main component.
Next, the film subjected to the heat treatment on the glass substrate is irradiated with 1 J / cm 2 of polarized light centered on light of 313 nm or less using an ultraviolet polarized light exposure apparatus (HC-2150PUFM, manufactured by Lantec). After performing alignment treatment and forming a liquid crystal alignment film, a cell having a cell gap of 3 μm was prepared using an epoxy resin-based sealing material.
A liquid crystal composition for horizontal alignment (MLC-2055, manufactured by Merck & Co., Inc.) was injected into the cell, and the injection port was sealed with a UV curable sealant. A liquid crystal display device was manufactured.

〔実施例2〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(S−2)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
[Example 2]
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (S-2) was used instead of the curable composition (S-1).

〔実施例3〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(S−3)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
Example 3
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (S-3) was used instead of the curable composition (S-1).

〔実施例4〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(S−4)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
Example 4
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (S-4) was used instead of the curable composition (S-1).

〔実施例5〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(S−5)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
Example 5
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (S-5) was used instead of the curable composition (S-1).

〔実施例6〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(S−6)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
Example 6
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (S-6) was used instead of the curable composition (S-1).

〔比較例1〕
中央部に1cm×1cmのITO透明電極を有し、そこから外部への接続が可能なように、幅1mmの電極が形成された5cm×5cmの低アルカリガラス基板上に、フレキソ印刷により硬化性組成物(S−1)を印刷し、皮膜を形成した。
次いで、80℃のホットプレート上で2分間予備乾燥(溶媒除去)を行なった後、300℃、窒素雰囲気下のクリーンオーブン中で60分間、熱処理を施し、ガラス基板上に膜厚100nmの熱処理が施された皮膜を形成した。
なお、熱処理が施された皮膜のIRスペクトルを測定したところ、1060cm−1と1625cm−1にオキサゾール由来のピークが強く認められ、ポリヒドロキシアミドが脱水閉環した、ポリベンゾオキサゾールが主成分であることが確認できた。
次いで、ガラス基板上の熱処理が施された皮膜に対して、ラビング方向が上下基板で平行になるようにラビング処理を施し、液晶配向膜を形成した後に、エポキシ樹脂系のシール材を用いてセルギャップ3μmのセルを作製した。
セル中に水平配向用液晶組成物(MLC−2055、メルク社製)を注入し、注入口をUV硬化性の封口剤で封止した後、セルの両面にラビング方向と方向を合わせて偏光板を貼り、液晶表示装置を作製した。
[Comparative Example 1]
Hardened by flexographic printing on a 5cm x 5cm low-alkali glass substrate with a 1mm x 1cm wide electrode that has a 1cm x 1cm ITO transparent electrode in the center and can be connected to the outside. The composition (S-1) was printed to form a film.
Next, after preliminary drying (solvent removal) for 2 minutes on a hot plate at 80 ° C., heat treatment is performed for 60 minutes in a clean oven under a nitrogen atmosphere at 300 ° C., and a heat treatment with a film thickness of 100 nm is performed on the glass substrate. The applied film was formed.
In addition, when the IR spectrum of the heat-treated film was measured, peaks derived from oxazole were strongly observed at 1060 cm −1 and 1625 cm −1, and polybenzoxazole having polyhydroxyamide dehydrated and ring-closed as a main component. Was confirmed.
Next, a rubbing process is performed on the heat-treated film on the glass substrate so that the rubbing direction is parallel between the upper and lower substrates, a liquid crystal alignment film is formed, and then a cell is formed using an epoxy resin-based sealing material. A cell with a gap of 3 μm was produced.
A liquid crystal composition for horizontal alignment (MLC-2055, manufactured by Merck & Co., Inc.) was poured into the cell, and the inlet was sealed with a UV curable sealant, and then the rubbing direction and direction were aligned on both sides of the cell. A liquid crystal display device was manufactured.

〔比較例2〕
硬化性組成物(S−1)に代えて、硬化性組成物(R−1)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
[Comparative Example 2]
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition (R-1) was used instead of the curable composition (S-1).

〔比較例3〕
光配向処理を行う際に、365nm紫外線カットフィルター(LUX350、朝日分光社製)を用いて長波偏光のみで処理した以外は、実施例1と同様の方法により、液晶表示装置を作製した。
[Comparative Example 3]
A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that when performing the photo-alignment treatment, treatment was performed only with long wave polarized light using a 365 nm ultraviolet cut filter (LUX350, manufactured by Asahi Spectroscopic Co., Ltd.).

〔評価〕
作製した各液晶表示装置に関して、以下に示す方法および基準により、配向性、配向感度、耐光性および透明性について評価した。これらの結果を下記表1に示す。
[Evaluation]
With respect to each of the manufactured liquid crystal display devices, the orientation, orientation sensitivity, light resistance, and transparency were evaluated by the following methods and criteria. These results are shown in Table 1 below.

<配向性>
作製した各液晶表示装置と同様の液晶配向膜を、1cm×1cmのITO透明電極を有するガラス基板上に膜厚100nmとなるように形成し、サンプルを作製した。
作製したサンプルを倍率30倍の偏光顕微鏡で観察し、配向欠陥がなく、均一な配向が得られている場合を「A」と評価し、スジ状の配向欠陥がある場合を「B」と評価した。
<Orientation>
A liquid crystal alignment film similar to each of the produced liquid crystal display devices was formed on a glass substrate having a 1 cm × 1 cm ITO transparent electrode to a film thickness of 100 nm to prepare a sample.
The prepared sample is observed with a polarizing microscope with a magnification of 30 times, and the case where there is no alignment defect and uniform alignment is evaluated as “A”, and the case where there is a streak-like alignment defect is evaluated as “B”. did.

<配向感度>
各液晶表示装置を作製する際に、セル中に注入した水平配向用液晶組成物について、注入から30秒後に配向が完了している最低の偏光照射エネルギー値を調べた。この数値が小さい程、生産性が良好であると評価できる。
<Orientation sensitivity>
When manufacturing each liquid crystal display device, the lowest polarization irradiation energy value at which the alignment was completed 30 seconds after the injection was examined for the liquid crystal composition for horizontal alignment injected into the cell. It can be evaluated that productivity is so favorable that this figure is small.

<耐光性>
作製した各液晶表示装置に対して、ウエザオメーターを用いてXe/180mW/72hの強制耐光性試験を実施した後、±5V,30Hzの矩形波を印加し、遮光/非遮光を確認し、駆動する場合を「A」と評価し、駆動しないもしくは表示ムラがある場合を「B」と評価した。
<Light resistance>
After the forced light resistance test of Xe / 180mW / 72h was performed on each manufactured liquid crystal display device using a weatherometer, a ± 5V, 30Hz rectangular wave was applied to check light shielding / non-light shielding, The case of driving was evaluated as “A”, and the case of not driving or display unevenness was evaluated as “B”.

<透明性>
各液晶表示装置の液晶配向膜の形成に用いた硬化性組成物を用いて、フレキソ印刷により、ガラス基板上に印刷し、皮膜を形成した。
次いで、80℃のホットプレート上で2分間予備乾燥(溶媒除去)を行なった後、300℃のクリーンオーブン中で60分間、熱処理を施し、ガラス基板上に膜厚100nmの熱処理が施された皮膜が形成されたサンプルを作製した。
作製したサンプルについて、400nmの透過率(1μm換算)を測定し、透過率が90%以上であったものを透明性に優れるものとして「A」と評価し、透過率が90%未満であったものを透明性に劣るものとして「B」と評価した。
<Transparency>
Using the curable composition used for forming the liquid crystal alignment film of each liquid crystal display device, the film was printed on a glass substrate by flexographic printing to form a film.
Next, after preliminary drying (solvent removal) for 2 minutes on a hot plate at 80 ° C., heat treatment was performed for 60 minutes in a clean oven at 300 ° C., and a heat treatment having a film thickness of 100 nm was performed on the glass substrate. A sample in which was formed was produced.
About the produced sample, the transmittance | permeability of 400 nm (1 micrometer conversion) was measured, and what was the transmittance | permeability 90% or more was evaluated as "A" as what is excellent in transparency, and the transmittance | permeability was less than 90%. The thing was evaluated as "B" as being inferior in transparency.

表1に示す結果からも明らかな通り、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を用いた場合であっても、ラビングによる配向処理では、スジ状の配向欠陥が生じることが分かった(比較例1)。
また、上記式(1)で表される繰り返し単位と異なる繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を用いた場合は、熱処理および光配向処理を施しても、耐光性が劣ることが分かった(比較例2)。
また、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を用いた場合であっても、313nmよりも長波長の光で配向処理を施した場合には、配向感度が著しく劣ることが分かった(比較例3)。
As is clear from the results shown in Table 1, even in the case of using a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the above formula (1), the alignment treatment by rubbing has a streak-like shape. It was found that alignment defects occur (Comparative Example 1).
Moreover, when the curable composition containing the polymer which has a repeating unit different from the repeating unit represented by said Formula (1) was used, even if it heat-processes and a photo-alignment process, it turns out that light resistance is inferior. (Comparative Example 2).
In addition, even when a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the above formula (1) is used, when the alignment treatment is performed with light having a wavelength longer than 313 nm, the alignment is performed. It was found that the sensitivity was significantly inferior (Comparative Example 3).

これに対し、上記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を用い、熱処理および波長313nm以下の光による光配向処理を施すと、配向状態が良好で、耐光性にも優れる液晶配向膜が形成できることが分かった(実施例1〜6)。
特に、実施例1〜4と実施例5〜6との対比から、硬化性組成物に硬化触媒を配合することにより、液相層の配向が完了する最低の偏光照射エネルギー値が小さくなり、液晶表示装置の生産性が向上することが分かった。
更に、実施例5と実施例6との対比から、硬化触媒として、塩基触媒を用いると、液相層の配向が完了する最低の偏光照射エネルギー値がより小さくなることが分かった。
On the other hand, when a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the above formula (1) is used and subjected to a heat treatment and a photo-alignment treatment with light having a wavelength of 313 nm or less, the alignment state is good and the light resistance It turned out that the liquid crystal aligning film which is excellent also in the property can be formed (Examples 1-6).
In particular, from the comparison between Examples 1 to 4 and Examples 5 to 6, by blending a curing catalyst with the curable composition, the lowest polarized irradiation energy value for completing the orientation of the liquid phase layer is reduced, and the liquid crystal It has been found that the productivity of the display device is improved.
Furthermore, from the comparison between Example 5 and Example 6, it was found that when a base catalyst was used as the curing catalyst, the lowest polarized light irradiation energy value for completing the orientation of the liquid phase layer became smaller.

Claims (10)

基板上に、下記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、
前記皮膜に、熱処理を施し、熱処理が施された皮膜を形成する熱処理工程と、
前記熱処理が施された皮膜に、波長313nm以下の光で配向処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法。

ここで、前記式(1)中のXは芳香環を含む4価の有機基を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、Lはアルキレン基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるLはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Applying a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the following formula (1) on a substrate to form a film;
A heat treatment step for applying a heat treatment to the film to form a film subjected to the heat treatment;
And a photoalignment treatment step of producing a liquid crystal alignment film by subjecting the heat-treated film to an alignment treatment with light having a wavelength of 313 nm or less.

Here, X in the formula (1) represents a tetravalent organic group containing an aromatic ring, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, L represents an alkylene group, and n represents 2 Represents an integer of -10000. X in each repeating unit may be the same or different, R in each repeating unit may be the same or different, and L in each repeating unit may be the same or different. May be.
基板上に、下記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマーを含有する硬化性組成物を塗布し、皮膜を形成する塗布工程と、
前記皮膜に、波長313nm以下の光で配向処理を施し、配向処理が施された皮膜を形成する光配向処理工程と、
前記配向処理が施された皮膜に、熱処理を施し、液晶配向膜を作製する光配向処理工程と、を有する液晶配向膜の製造方法。

ここで、前記式(1)中のXは芳香環を含む4価の有機基を表し、Rはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、Lはアルキレン基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるXはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるLはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Applying a curable composition containing a polymer having a repeating unit represented by the following formula (1) on a substrate to form a film;
The film is subjected to an alignment treatment with light having a wavelength of 313 nm or less, and a photo-alignment treatment step of forming a film subjected to the alignment treatment;
And a photo-alignment treatment step of producing a liquid crystal alignment film by performing heat treatment on the film subjected to the alignment process.

Here, X in the formula (1) represents a tetravalent organic group containing an aromatic ring, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, L represents an alkylene group, and n represents 2 Represents an integer of -10000. X in each repeating unit may be the same or different, R in each repeating unit may be the same or different, and L in each repeating unit may be the same or different. May be.
前記ポリマーが、下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリマーである、請求項1または2に記載の液晶配向膜の製造方法。

ここで、前記式(2)中のRはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、Lはアルキレン基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、各繰り返し単位におけるLはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
The manufacturing method of the liquid crystal aligning film of Claim 1 or 2 whose said polymer is a polymer which has a repeating unit represented by following formula (2).

Here, R in said Formula (2) represents a hydrogen atom or a monovalent organic group each independently, L represents an alkylene group, and n represents the integer of 2-10000. R in each repeating unit may be the same or different, and L in each repeating unit may be the same or different.
前記ポリマーが、下記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリマーである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶配向膜の製造方法。

ここで、前記式(3)中のRはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
The manufacturing method of the liquid crystal aligning film of any one of Claims 1-3 whose said polymer is a polymer which has a repeating unit represented by following formula (3).

Here, R in said Formula (3) represents a hydrogen atom or a monovalent organic group each independently, and n represents the integer of 2-10000. R in each repeating unit may be the same or different.
前記ポリマーが、下記式(3)で表される繰り返し単位と、下記式(4)で表される繰り返し単位と有するポリマーである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶配向膜の製造方法。

ここで、前記式(3)中のRはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、前記式(4)中のRはそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表し、mは2〜8の整数を表し、nは2〜10000の整数を表す。各繰り返し単位におけるRはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
The liquid crystal aligning film of any one of Claims 1-4 whose said polymer is a polymer which has a repeating unit represented by following formula (3), and a repeating unit represented by following formula (4). Manufacturing method.

Here, R in said Formula (3) represents a hydrogen atom or a monovalent organic group each independently, and n represents the integer of 2-10000. R in each repeating unit may be the same or different.
Moreover, R in said Formula (4) represents a hydrogen atom or a monovalent organic group each independently, m represents the integer of 2-8, n represents the integer of 2-10000. R in each repeating unit may be the same or different.
前記硬化性組成物が、更に硬化触媒を含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶配向膜の製造方法。   The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 1, wherein the curable composition further contains a curing catalyst. 前記硬化触媒が、塩基触媒または潜在性塩基触媒である、請求項6に記載の液晶配向膜の製造方法。   The method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 6, wherein the curing catalyst is a base catalyst or a latent base catalyst. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の液晶配向膜の製造方法により液晶配向膜を形成する工程を有する、液晶表示装置の製造方法。   The manufacturing method of a liquid crystal display device which has a process of forming a liquid crystal aligning film with the manufacturing method of the liquid crystal aligning film of any one of Claims 1-7. 液晶層と、前記液晶層を挟んで互いに対向して配置された第1の基板および第2の基板とを有する液晶表示装置であって、
前記液晶層と前記第1の基板および/または前記第2の基板との間の少なくとも一部に、請求項1〜7のいずれか1項に記載の液晶配向膜の製造方法により作製された液晶配向膜を有する、液晶表示装置。
A liquid crystal display device having a liquid crystal layer, and a first substrate and a second substrate disposed opposite to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween,
The liquid crystal produced by the method for producing a liquid crystal alignment film according to claim 1, at least partly between the liquid crystal layer and the first substrate and / or the second substrate. A liquid crystal display device having an alignment film.
前記液晶層を構成する液晶が、水平配向液晶である、請求項9に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is a horizontally aligned liquid crystal.
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