JP6232784B2 - パターン照明装置及び測距装置 - Google Patents
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このような「ステレオ測距」を適用した測距装置は、自走式のロボットや可動式のロボットアームに好適に用いることが出来る。
「ステレオ測距」では、2つの画像間に生じる視差を利用して、三角測量の原理により奥行き距離を算出するが、ステレオ測距において視差を求めるためには、ウィンドウマッチングを行って各画像において互いに対応する点(対応点)を探し出す必要がある。
「ステレオ測距」を用いた測距方法においては、1対の2次元センサと1対のレンズとを組み合わせることにより2つのカメラを構成して、計測対象物のずれ(視差)を検出し、三角測量の原理で距離を計測する。
図13に示すステレオカメラ装置106において、計測対象物101からの光を、同一の光学系からなる2つのカメラ102a、102bを配置して撮影する場合を考える。
カメラ102aのレンズ103aを通して得た計測対象物像104aと、カメラ102bのレンズ103bを通して得た計測対象物像104bとは、被写体(計測対象物101)上の同一点が視差Δだけずれて、2次元センサ105a、105b(図15)に夫々至り、複数の受光素子(画素)で受光され、電気信号に変換される。
A=Df/Δ・・・(式1)
基線長D、およびレンズの焦点距離fは既知であるから、(式1)を用いて視差Δを検出すれば被写体までの距離Aを算出することができる。
なお、上記の方法は、2つの2次元センサに映った計測対象物101を、画素の輝度値の分布特性に基づいて対応点を探し出す方法である。
従って、計測対象物101が単一色の表面をもつ物体で、表面の輝度分布が一様であり撮影画像において輝度値に変化が生じ難い場合は、対応づけを行うことが困難になり(即ち、図14に示す対応点104cを検知できないため)、距離を算出できなくなる。
特許文献1には、プロジェクタを用いてパターンを投光することでテクスチャー(模様)の無い対象物でもステレオカメラで正確に対応付けをできるようにする技術が開示されている。
そのため計測したい対象物がプロジェクタの投射画面のピントの合う範囲内に存在する場合は正確に距離を検出できるが、ピントが合う範囲外に存在する場合はピンボケしたパターンが照射されてしまうため正確に距離を検出できなくなる。
それに対し、パターン投影のための光源としてレーザ光源を用い、レーザ光を回折素子によって回折したパターン光を対象物に照射する方式にすれば、どこでもピントが合うピントフリーとすることが出来る。すなわち、対象物とステレオカメラの距離に関わらず、常にピントの合ったパターンを対象物に照射することができる。
この程度の明るさでは屋外では太陽光の明るさに埋もれてしまい、室内でも蛍光灯の明るさがノイズとなってしまう。
そのためレーザ光源と回折光学素子を用いたパターン照射は高輝度化が求められている。
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり常にピントの合った状態で回折パターン光の高輝度化が可能なパターン照射装置を提供することを目的とする。
本実施形態に係るパターン照明装置を説明するに先だって、複眼カメラ装置に適用可能なパターン照明装置の基本的な構成を説明する。
図1は、複眼カメラ装置に適用可能なパターン照明装置の構成例を示す図である。
なお、図1(a)は、パターン照明装置を構成する各要素を説明するものであり、パターン照明装置を適用可能な複眼カメラの構成は表示を省略している。また、図1(b)は、多階調輝度分布の階調を示す図である。
図1に示すように、本実施形態に係るパターン照明装置1は、光源としての半導体レーザ光源2と、半導体レーザ光源2から出射されるレーザ光の光路上に配置されたカップリングレンズ3、回折光学素子4と、を備えている。
カップリングレンズ3を通過(透過)した平行光は、次に回折光学素子4に入射して回折され、2階調以上の輝度分布を持つ回折パターン光5として計測対象に投光される。
なお、半導体レーザ光源2の出力を一定に保つために、その温度を一定に保つ温度調節機能部6aやAPC(Auto Power Control)機能部6bを備えていても良い。
図1(b)に示すように、回折パターン光は、多階調の輝度分布を持ち、最小単位である1つの画素のサイズは、約1mm角である。この多階調の輝度分布を持った最小単位の画素がランダムに配置された回折パターン光5が、計測(測距)対象物に投光される。
図2に示すように、回折光学素子4の断面形状における溝(階段)の段数や階段の深さを変えることで回折効率が変化させることが出来る。
回折効率が高い部分では輝度が高く(明るく)、回折効率が低い部分は輝度が低く(暗く)なるため、回折光学素子4における溝の形状パターンを適宜組み合わせることで、多階調の輝度分布を形成することが出来る。
このように回折光学素子4を用いて光の強度(輝度)分布を変換すること自体は特開2003−270585公報、特許第4333760号等にも関連する技術が開示されている。
可視光線を用いればステレオカメラの撮像素子に対して感度が高く、解像度の高い回折パターン光を照射できる。それに対し、近赤外光を用いる場合は、撮像素子に対する感度は低いもののレーザ光が眼に見えないために(不可視光)、使用者に不自然さを感じさせることがない。
回折光学素子4からの出射角度θ1は、半導体レーザ光源2からの出射光の波長λと、回折光学素子4の周期構造と、によって決定される。
出射角度θ1を大きな角度とするためには、半導体レーザ光源2の波長λを大きくするか、回折光学素子4の周期構造を微細化しなければならない。
そのため出射角度はある程度の角度以上には大きくできないのが実情である。
なお、例えば波長λ=0.65μm、周期構造を1.0μmとすると出射角度は約40°となる。
なお、複眼カメラとして、2つのカメラ(撮像レンズ及び撮像領域)を備えるステレオカメラ装置に好適に適用可能なであり、ステレオカメラ装置を例として説明する。
図3において、ステレオカメラ装置20は、同一面上に配置した複数(例えば2つ)のレンズを有するレンズアレイ11と、レンズアレイ11を透過した被写体からの反射光(回折パターン光を含む)を受光して画像情報を取得する撮像素子14と、を備えている。
なお、レンズアレイ11には、測距用のレンズである撮像レンズ12a、12bが一体化されて形成されている。
図3に示すように、光軸13a、13bの方向をZ軸とし、このZ軸に直交し且つ光軸13bから光軸13aへ向かう方向をY軸とし、さらにZ軸とY軸の双方に直交する方向をX軸とする。
この場合、視差Δが発生する方向はY軸方向となる。
撮像素子14はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)、CCD(Charge Coupled Device)等の撮像素子でありウェハ14a上に半導体プロセスにより多数の画素(撮像領域)を形成したものである。
撮像領域15aと撮像領域15bは、夫々同じ大きさの矩形領域であり、撮像領域15aと撮像領域15bの夫々の対角中心と、撮像レンズ12a、12bの光軸13a、13bがほぼ一致するように配置されている。
さらに図1に示したパターン照明装置によりパターンを照明すれば、計測対象物が単一色の表面をもつ物体であってもステレオ対応づけを行うことができるため物体を精度良く計測できる。
また、図4において、(a)はステレオカメラ装置の長手方向(レンズアレイの長さ方向)の断面図、(b)は、短手方向(レンズアレイの幅方向)の断面図である。
また、図5は、図4に示すステレオカメラにおける、測距レンズの画角とパターン照明装置の回折パターン光の出射角度との関係を示した図である。
なお、図4以降において、図1、図3と同じ構成については、同一の符号を付し、詳細な説明は省略するものとする。
すなわち、図3で説明したステレオカメラ装置20を構成する2つのカメラ(撮像レンズ12a及び撮像領域15a、撮像レンズ12b及び撮像領域15b)の間に、図1に示した如きパターン照明装置を配置している。
また、2つのカメラによって撮像した画像の視差に基づいて測距を行う視差演算部(測距手段)40を備えている。
平行光は回折光学素子4(図1参照)で回折され、所定の出射角度の回折パターン光5として出射されて対象物に照射される。
しかし、回折光学素子4から出射される回折パターン光5の出射角度θ1はステレオカメラ装置20の撮像レンズ12a、12bの画角θ2と等しい角度になっている。
従って、対象物とステレオカメラ装置20との距離が変わっても測距可能領域Aの全体にパターンが照射される。
従って、図5に示すように、測距対象物との距離に関わらず測距可能領域Aの全体で、回折パターン光を利用した測距が可能となる。
このように、回折光学素子4をステレオカメラの2つの撮像レンズ12a、12bの光軸の間に配置して、ステレオカメラの画角と回折光学素子4の画角(広がり角)を一致させる。
これによって、ステレオカメラによる測距可能な領域と回折パターン光を照明している領域とを、常に一致させることができる。
これにより対象物までの距離が変わってもステレオカメラにより測距可能な領域Aと回折パターン光を照明する領域を常に一致させることができる。また半導体レーザ光源2から出射される回折パターン光5を無駄なく測距可能領域Aに照射することができる。
次に、本発明の第1の実施形態を説明する。
上記に説明した基本的な構成では、パターン照明装置が備える半導体レーザ光源2やカップリングレンズ3は一組であり、充分な出力・輝度を確保することは出来ない。
以下に説明する実施形態は、そのような問題を解決することを目的としている。
パターン照明装置1は、複数の半導体レーザ光源2(2a〜2e)と、複数のカップリングレンズ3(3a〜3e)と、第1の光学素子(光学手段50と、第2の光学素子(光学手段)としての回折光学素子4と、を備えている。
半導体レーザ光源2(2a、2b、2c、2d、2e)は、夫々同一波長の赤外光を出射する半導体レーザである。
カップリングレンズ3(3a、3b、3c、3d、3e)は、複数の半導体レーザ光源2(2a、2b、2c、2d、2e)から出射された光を夫々平行光60a、60b、60c、60d、60eに変換する。
回折光学素子4は、入射した光束を回折して所望の回折パターン光5を対象物に照射する。
レーザ2光源の数を増やすほど、より輝度の高い回折パターン5を照射可能である。
半導体レーザ光源2は夫々カップリングレンズ3(3a、3b、3c、3d、3e)の光軸上に配置されている。
なお、カップリングレンズ3によって平行光に変換することが可能であるので、光源として、半導体レーザ光源よりも光が拡散するLED等を用いても良い。
カップリングレンズ3から出射する平行光60は夫々異なる角度で第1の光学素子50(50a、50b、50c、50d、50e)に入射して進行方向を一致させられる。
図7に示すように、第1の光学素子50は、夫々対応する平行光60のみを回折する5つの体積ホログラムを備えている。詳しくは、光の出射方向に向けて5つの体積ホログラムを配置した構成を備えている。
図7では、5つの体積ホログラムを積層配置しているが、体積ホログラムの間に間隙を設けても良い。
体積ホログラム50aはカップリングレンズ3aから出射された平行光60aだけを回折させ、他のカップリングレンズから出射された平行光60b、60c、60d、60eは透過させる。
同様に、体積ホログラム50bはカップリングレンズ3bから出射された平行光60bだけを回折させ、他の平行光60a、60c、60d、60eは透過させる。
このとき回折光学素子4に導かれる5つの光束は全て同じ角度で回折光学素子4に入射するように体積ホログラム50a〜50eによって回折される。
このように特定の光束だけを回折させて他の光束は透過させることを実現するにあたっては、体積ホログラムが持つ「角度選択性」という特徴を用いている。
「角度選択性」とは特定の入射角度で入射した光だけを高効率で回折させ、それ以外の角度で入射した光は透過させる特性である。
Q=2π・λ0・T/(n0Λ2)・・・(式2)
但し、λ0:入射光の波長、T:ホログラムの厚さ、n0:ホログラム素子基板の屈折率、Λ:ホログラムの周期
体積ホログラムは、特定の回折条件(いわゆるブラッグ条件)を満足する入射角度の光だけを強く回折させる。
図8に示されるように体積ホログラムの回折効率(%)は、入射角度がブラッグ条件を満足する時にピーク値を持つ。
光の入射角度がブラッグ角度と一致した時のみ100%に近い高い回折効率が得られ、それ以外の入射角度の場合、回折効率はほぼ0%になって透過する。これが「角度選択性」である。
半導体レーザ光源2a〜2eからの平行光束60a〜60eを夫々異なる角度で体積ホログラム50a〜50eに入射させる。
体積ホログラム50a〜50eは特定の入射角度の光束のみ回折させるように周期構造を最適化することで半導体レーザ光源2a〜2eからの光束を同方向に進む1本の光束に合成可能である。
上述の小山次郎、西原浩著の「光波電子光学」(コロナ社)107頁〜108頁によると、最大の回折波が現れる条件は式(3)で表される。
Λ(sinθi+sinθm)=±mλ・・・(3)
但し、θi:入射角度、θm:出射角度、λ:波長、Λ:ホログラム周期、m:整数
m=1として光の波長を900nmの赤外光とすると、入射角度20°、出射角度0°となるようにするためには、ホログラムの周期を2.631μmとすればよい。
同様に、入射角度10°の平行光束を出射角度0°として出射するためには、ホログラムの周期を5.183μmとすればよい。
従って、体積ホログラム50bの周期を5.183μmとすれば入射角度10°の平行光束60bだけを回折させることができる。
このように夫々異なる角度で入射する平行光60a〜60eにあわせて体積ホログラム50a〜50eの周期を設計することにより複数の半導体レーザ光源2a〜2eからの平行光60a〜60eを同じ方向に進む1本の光束に合成することができる。
なお、同一波長の複数の光束を、ビームスプリッタを用いて合成することも可能である。その場合は、偏光の違いを用いて合成する。しかしながら、この場合2つの(P偏光/S偏光)のビームを合成できるに過ぎないため、輝度は2倍にしかならない。
第1の光学素子50によって合成されて1本の光束となった光は、回折光学素子4に入射して回折光となり、ランダムな回折パターン光5として対象物に照射される。
ランダムパターンの分割数、画角、階調数については計測したい対象の大きさや形状に合わせて最適化される。
図9は、本発明の第2の実施形態に係るパターン照明装置を示す図である。
上述したように、本発明のパターン照明装置では、複数のレーザ光源からの光束を合成することで高輝度なパターン光を照射できるようにしている。
これにより例えば、測距対象物への距離が遠く1m四方の広い面積をパターン照明(パターン光5a)するような場合でも1cm3あたりの明るさは数百μW程度まで明るくなり、周囲の明るさが明るい場合でも外乱光に強いパターン光を照射出来る。
逆に、測距対象物への距離が近く狭い面積(パターン光5b)をパターン照射する場合、あるいは周囲の明るさが暗い場合は、回折光学素子4に入射するビームはそれほど光強度が強い必要はない。
この場合、全てのレーザ光源の光出力を下げて全体の光強度を下げるよりも、幾つかのレーザは発光させず、残ったレーザだけ通常の光強度で発光させた状態とした方が良い。
なお、測距対象物に対する距離は、パターン照明装置が適用される測距装置が備える測距制御部40による測距結果を用いることが可能である。また、周囲の明るさは、測距装置に光量センサを備えることで計測可能である。
図10に示すように、図9における広い面積のパターン光5aを照射する場合、半導体レーザ光源2a〜2eを全てONするが、狭い面積のパターン5bを照射する場合、半導体レーザ光源2a、2eをOFFし、半導体レーザ光源2b〜2dのみをONする。
発光させるレーザ光源を制御するには、例えば、図4に示した測距制御部40に、光源のON/OFFを切り替える光源制御部を備える。
半導体レーザは光出力に応じて熱を発生するため、この熱により発振するレーザの波長λはΔλだけ変動する。
上述したように、例えば体積ホログラム50aの周期を2.631μmとすれば、波長900nm、入射角度20°の平行光束60aを、出射角度0°で高効率に回折することができる。このときのブラック角は9.85°である。
ところが、この状態で温度変化によって半導体レーザ2aの発振波長が910nmに変化するとブラック角は9.96°となってしまう。
この場合、900nmの光で最大の回折効率が得られるように設計した体積ホログラムに910nmの光が入ると最大の回折効率が得られなくなり、パターン光の輝度低下を招いてしまう。そのためレーザ光源の波長変動は極力抑える必要がある。
そのためには個々のレーザの出力を大きく変動させないことが有効である。
そして、発光しているレーザは通常と同じ光強度で発光するようにして光出力をなるべく一定に保つことが望ましい。
次に、第1、第2の実施形態に示したパターン照明装置1を適用した測距装置を示す図である。
図12は、本実施形態に係るパターン照明装置を適用した測距装置を示す図である。
基本的には、図4に示した測距装置30におけるパターン照明装置を、図6、図9で説明したパターン照明装置1で置き換えた構成であるため、測距装置に関する詳しい説明は割愛する。
図13、図14で説明した原理を用いて、ステレオカメラ(カメラ12a、12b)を用いて、計測対象物の画像のずれ(視差)を検出して三角測量の原理で距離を計測する。
このような原理で測距するステレオカメラは、テクスチャ(模様)の無い部分は対応点を見つけられず測距できないため先に述べたようなパターン照明が有効な手段である。
さらにパターン照明光をカメラの視野範囲を無駄なく照明するためにはステレオカメラの2つのカメラの間からパターン光が出射されることが望ましい。
少数のレーザ光源を備える小型なパターン照明装置であれば配置可能であるが低輝度であり、上記したように屋外などでは使用できない。
そこで本実施形態ではパターン光を発生させる回折光学素子4だけを2つのカメラの間に配置し、パターン照明装置1の他の部品は別の位置に配置する構成とした。
図12において、複数の半導体レーザ光源2a〜2eと、カップリングレンズ3a〜3eと、合成光学素子50a〜50eは、ステレオカメラ(レンズ12a、12b)とは別の位置に有る。このように配置することで2つのカメラの間からパターン光が出射されることができる。光源等は別の位置に配置できるため大きくても基線長に制限を与えず、ステレオカメラの設計自由度も失うことは無い。
ステレオカメラは左右のカメラの画像からブロックマッチングを行って、対応点を検出することで対象物までの距離を計測しているため、対象物がテクスチャーのない物体の場合は距離検出できない。
また、本実施形態のパターン照明装置は、レーザ光源を用いたパターン照明であるため、対象物がどこにあっても照射するパターンはピンボケにならず(ピントフリー)、対象物の大きさや位置に関わらず高精度に距離測定することができる。
その結果、対象物の大きさや位置に関わらず常にピントの合ったくっきりしたパターンを照射できるため、高精度に距離測定することができる。
さらに、複数のレーザ光源からの光を合成するため高輝度なランダムパターンを照射することができ、外乱光に強く、屋外での使用も可能となる。
その結果、外乱光に強く、屋外での使用も可能な測距装置を実現することが出来る。
Claims (10)
- 複数の光源と、
前記複数の光源の各々に対応し、前記複数の光源から出射された光を各々平行光に変換する複数の変換手段と、
前記複数の変換手段により各々変換された複数の平行光を一本の光束になるように合成して同一方向に出射させる第1の光学手段と、
該第1の光学手段により合成されて出射された光を回折して回折パターン光を生成し、前記回折パターン光を対象物に投光する第2の光学手段と、
を備えたことを特徴とするパターン照明装置。 - 請求項1に記載のパターン照明装置において、
前記第1の光学手段は、前記複数の光源から出射された入射角度の異なる光を夫々同一の出射方向に回折させる複数の体積ホログラムであることを特徴とするパターン照明装置。 - 請求項1又は2に記載のパターン照明装置において、
前記複数の光源は、同一波長の光を出射するレーザ光源であることを特徴とするパターン照明装置。 - 請求項3に記載のパターン照明装置において、
前記複数の光源が出射する同一波長の光は赤外光であることを特徴とするパターン照明装置。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載のパターン照明装置において、
前記対象物までの距離又は周囲の明るさに応じて、前記複数の光源を選択的に点灯する光源制御手段を備えたことを特徴とするパターン照明装置。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載のパターン照明装置と
前記第2の光学手段から出射されて前記対象物で反射された回折パターン光を結像する複数の撮像レンズと、
前記各撮像レンズにより結像された前記回折パターン光に基づく前記被写体に係る複数の画像を撮像する複数の撮像手段と、
前記複数の画像間の視差情報から前記対象物からの距離を算出する測距手段と、
を備えたことを特徴とする測距装置。 - 請求項6に記載の測距装置において、
前記第2の光学手段は、前記複数の撮像レンズの間に配置されていることを特徴とする測距装置。 - 複数の光源と、
前記複数の光源から出射された光を合成して同一方向に出射させる第1の光学手段と、
該第1の光学手段により合成されて出射された光を回折して回折パターン光を生成し、前記回折パターン光を対象物に投光する第2の光学手段と、
前記対象物までの距離又は周囲の明るさに応じて、前記複数の光源を選択的に点灯する光源制御手段と、
を備えたことを特徴とするパターン照明装置。 - 複数の光源と、前記複数の光源から出射された光を合成して同一方向に出射させる第1の光学手段と、該第1の光学手段により合成されて出射された光を回折して回折パターン光を生成し、前記回折パターン光を対象物に投光する第2の光学手段と、を有するパターン照明装置と、
前記第2の光学手段から出射されて前記対象物で反射された回折パターン光を結像する複数の撮像レンズと、
前記各撮像レンズにより結像された前記回折パターン光に基づく前記被写体に係る複数の画像を撮像する複数の撮像手段と、
前記複数の画像間の視差情報から前記対象物からの距離を算出する測距手段と、
を備えたことを特徴とする測距装置。 - 請求項9に記載の測距装置において、
前記第2の光学手段は、前記複数の撮像レンズの間に配置されていることを特徴とする測距装置。
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