JP6215907B2 - セルフモード同期半導体ディスクレーザ(sdl) - Google Patents

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Description

本発明は、半導体レーザに関するものであり、特に、超短パルスを放射するように構成された半導体ディスクレーザ(SDL)に関する。
SDLsは、垂直外部共振器面発光レーザ(VECSELs)、又は、光励起半導体レーザ(OPSLs)としてこの分野でも知られている。従って、半導体ディスクレーザ(SDL)の用語は、本明細書で使用する場合、これらのシステムの各々を意味する。
以下の説明に用いている用語「超短」パルスは、持続期間が約100ピコ秒(ps)から数フェムト秒(fs)のパルスを意味する。
レーザ源によって生じる光学的放射の超短パルスは、科学的、計装及び非線形光学アプリケーションの範囲で使用される。これらの超短パルス用の特別なアプリケーションの一つには、例えば、二光子励起蛍光(TPEF)顕微鏡又はその他の同様の多光子顕微鏡技術といった、非線形顕微鏡の分野がある。歴史的には、これらの非線形顕微鏡技術には、固有の調節可能レンジが大きい(700nmから1000nm)ことと、ピーク電力をこのような利得媒質に利用できるため、チタン:サファイヤのレーザ源が用いられてきた。チタン:サファイヤレーザシステムは、一般的に、緑のスペクトル領域の波長で光学的に励起し、従って、これらのシステムは通常、ネオジウムをドープしたYAG(Nd:YAG)や、ネオジウムをドープしたオルトバナジウム酸イットリウム(Nd:YVO)といったネオジウムをドープした利得媒質を有する周波数逓倍固体レーザを用いて励起される。ここでは、基本波長が約1064nmの放射が、周波数逓倍技術によって基本波長が約532nmの波長を有する放射に変換される。その結果、上述した固体超高速レーザは、比較的複雑であり、嵩が大きく、維持条件が高く、最も重要なことに、製造コストが高い。
チタン:サファイアレーザ源の代替として、モード同期ダイオード励起固体レーザ用に超高速半導体可飽和吸収体ミラー(SESAM)を使用することがこの分野で知られている。長いキャビティを折り返すことによって、あるいは、レーザの繰り返し率を上げて自然にキャビティ長を短くすることによって、コンパクトな設計が実現されている。SESAMsを使用するシステムの主な欠点は、製造とメンテナンスが比較的複雑なことである。
最近では、Cr:LiCAF、Cr:LiSAF、及びCr:LiSGAFレーザといった、クロムをドープしたコンパクトな超高速レーザシステムが開発され、非線形TPEF顕微鏡に使用されている。最大で500mWの平均出力が示されているが、このような材料に基づくシステムは、その平均出力を十分に拡大する能力が制限されている。
ファイバーレーザや、増幅スキームを具える半導体レーザダイオードに基づくその他の代替のレーザ源も、非線形顕微鏡アプリケーション用のコンパクトレーザとして成功裏に示されている。ファイバーレーザは、受動モード同期技術を介して非常に短いパルスを生成するのに使用できる。しかしながら、ファイバーレーザは、波長約1030nm及び1550nmあたりで、およびこれらの基本波長から生じた二次高調波で動作するように制限されている。例えば、垂直外部共振器面発光レーザ(VECSELs);利得スイッチInGaAsP分布帰還−ブラッグ(DFB)レーザダイオード;及び、多重量子井戸からなる外部共振器モード同期レーザダイオード(AlGaAs);などの増幅スキームを有する半導体レーザに基づく利得−スイッチ源では、すべて、発生した光学パルスを圧縮又は増幅するのにいくつかの段階を必要とするため、システムの単純さ又はコンパクト性が損なわれている。
非線形顕微鏡アプリケーション用のコンパクトなレーザシステムを最適化する一つの重要な態様は、レーザの繰り返し率と、発生した多光子信号長との間の、臨界的妥協点である。TPEF顕微鏡における信号長は、ピーク電力×平均電力の積だけ長くなる(画像スポットサイズ、吸収、アンプル、検出路、その他が一定であると仮定して)。超短共振器SDLの一例が、米国特許公開第2009/0290606号に記載されている。この書類は、光学パルスを用いてSDL利得構造体を光学的に励起させることを記載しており、このパルスはレーザ共振器の共振周波数に対応するパルス繰り返し周波数で送達する。共振器は更に、強い光学カー効果を示す光学要素、出力カプラと共働する二次高調波を発生する非線形クリスタル、あるいは、半導体可飽和吸収ミラー(SESAM)を具える出力カプラ、などの受動共振構造を具えている。ここに述べられている光励起パルス源を有する利得構造の光励起と、受動共振スキームとの組み合わせは、100psから100fsの範囲のパルスを作ることができるが、このような要素を組み入れることで全体が複雑になり、超短パルス源が高価なものになる。
したがって、本発明の一実施例の目的は、この分野で知られている超短パルス源の放射の上述した欠点をなくすあるいは少なくとも緩和することである。
本発明の一実施例の更なる目的は、セルフモード同期半導体ディスクレーザシステムを提供することである。
本発明の第1の態様によれば、セルフモード同期レーザが提供されており、このレーザは、
第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学カーレンズ効果を示す層とを有する多層半導体利得媒体を載置している共振器を具え、
当該共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体中に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択されている。
上述の構成により、専用の受動又は能動モード同期素子を内部に組み入れる必要なく、モード同期するレーザが提供される。共振器の長さを利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に匹敵するように選択することによって、レーザの出力場の強度に、光学カーレンズ効果を示す層が出力場でモード共振を誘発するのに十分な小さな摂動が生じる。この結果、この分野で知られているこのシステムに比べて、動作とメンテナンスがより簡単で、製造コストが低減された半導体レーザができる。
第2のミラーは、利得媒体の基本波長で部分的に光を反射し、部分的に透過させて、共振器の出力カプラとして動作する。
最も好ましくは、光学カーレンズ効果を示す層が、半導体利得媒体上に取り付けた熱スプレッダを具えている。この熱スプレッダは、ダイヤモンドクリスタル層を具えていてもよい。
共振器は、更に、内部に開口を配置した開口絞りを具えていてもよい。好ましくは、この開口絞りが第2のミラー近傍に配置されている。代替的に、開口絞りを第1のミラー近傍に配置してもよい。
共振器は、更に、第4のミラーで折り返すようにしてもよく、この第4のミラーは第2のミラーと第3のミラーの間に配置されている。第4のミラーは、好ましくは、凹の曲率半径を有している。
共振器は、更に、第5のミラーで折り返すようにしてもよく、この第5のミラーは第2のミラーと第4のミラーの間に配置されている。第5のミラーは、好ましくは平面である。
共振器は、更に、第6のミラーで折り返すようにしてもよく、この第6のミラーは第2のミラーと第5のミラーの間に配置されている。第6のミラーは、好ましくは、凹の曲率半径を有している。
選択的に、このレーザは、連続波(cw)光学場源を具えており、この出力が利得媒体を励起するように構成されている。この(cw)光学場源は、ファイバーカップリングレーザダイオードシステムを具えていてもよい。
共振器は更に、非点収差コントローラを具えており、利得媒体でキャビティモードに非点収差を導入する手段を提供するようにしてもよい。
この実施例において、共振器は好ましくは、カーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように働くように構成されている。キャビティモードに導入された非点収差を相殺することによって、利得媒体でのキャビティモードと励起スポットが重なる領域が増える。この結果、レーザのセルフモード同期特性が強化される。
非点収差コントローラは、ミラー回転手段を具えていてもよい。このミラー回転手段を用いて第4のミラーを回転させて、第4のミラー上の共振場の入射角度を変化させることができる。
最も好ましくは、レーザが超短パルスを含む出力場を提供している。この超短パルスは、パルス幅が100ps乃至100fsの範囲である。
本発明の第2の態様によれば、レーザをセルフモード同期させる方法が提供されており、この方法は、
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返された共振器を提供するステップであって、第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に載置されている、ステップと;
共振器の長さを、キャビティモードの往復時間が利得媒体中に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択するステップ;
を具えている。
このレーザをセルフモード同期させる方法は更に、共振器内に配置した開口を有する開口絞りを配置するステップを具える。
好ましくは、この開口絞りは第2のミラー近傍に配置されている。代替的に、開口が第1のミラー近傍に配置されている。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第3のミラーの間に第4のミラーを設けてキャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第4のミラーの間に第5のミラーを設けてキャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第5のミラーの間に第6のミラーを設けてキャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、利得媒体を励起するように構成された連続波(cw)光学場源を提供するステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、利得媒体におけるキャビティモードに非点収差を導入するステップを具えていてもよい。
この非点収差は、第4のミラーを回転させて、第4のミラー上の共振場の入射角度を大きくすることによって、キャビティモードに導入することができる。
レーザをセルフモード同期させる方法は、さらに、共振器をカーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように動作するように構成するステップを具えていてもよい。この方法では、キャビティモードと利得媒体の同期スポットが重なる面積が大きくなる。
本発明の第2の態様の実施例は、本発明の第1の態様の好ましい又は選択的特徴を実行する特徴を具えていてもよく、その逆でもよい。
本発明の第3の態様によれば、セルフモード同期レーザが提供されており、このレーザは、
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返した共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている共振器と;
その出力が前記利得媒体を励起するように構成された連続波(cw)光学場源と;を具え、
前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体内に配置された一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように、選択されていることを特徴とする。
本発明の第3の態様の実施例は、本発明の第1又は第2の態様の好ましいあるいは選択的な特徴を実装する特徴を具えていてもよく、逆も同じである。
本発明の第4の態様によれば、セルフモード同期レーザを作成する方法が提供されており、この方法は:
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に装着されている共振器を提供するステップと;
前記利得媒体を励起するように構成された連続波(cw)光学場を提供するステップと;
前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体内に配置された一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように、選択するステップと;
を具える。
本発明の第4の態様の実施例は、本発明の第1乃至第3の態様の好ましいあるいは選択的な特徴を実装する特徴を具えていてもよく、逆も同じである。
本発明の第5の態様によれば、セルフモード同期レーザが提供されており、このレーザは、
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている共振器と;
前記利得媒体でキャビティモード非点収差を導入する手段を提供する非点収差コントローラと;
を具え、共振器が、カーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用するように構成されている。
この共振器をカーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用するよう構成することによって、利得媒体におけるキャビティモードと励起スポット間の重なり合う面積が大きくなる。この結果、上記構成により、専用の受動又は能動的モード同期要素を組み込む必要がなく、モード同期がなされるレーザが提供される。これにより、操作とメンテナンスがより簡単であり、この分野で知られているシステムに比べて製造コストが低い半導体レーザを提供できる。
第2のミラーは、利得媒体の基本波長において部分的に光を反射し、部分的に光を透過して、共振器の出力カプラとして作用する。
最も好ましくは、光学的カーレンズ効果を示す層が、半導体利得媒体上に熱スプレッダを装着している。熱スプレッダは、ダイヤモンドクリスタル層を具えていてもよい。
共振器は、更に、内部に配置された開口を有する開口絞りを具えていてもよい。好ましくは、開口絞りは第2のミラー近傍に配置されている。代替的に、開口絞りを第1のミラー近傍に配置してもよい。
共振器は、更に第4のミラーで折り返すようにしてもよく、この第4のミラーは第2及び第3のミラーの間に配置されている。第4のミラーは、好ましくは凹の曲率半径を有する。
共振器は、更に、第5のミラーで折り返すようにしてもよく、第5のミラーは第2及び第4のミラーの間に配置されている。第5のミラーは平面であることが好ましい。
共振器は、更に、第6のミラーで折り返すようにしてもよく、第6のミラーは第2のミラーと第5のミラーの間に配置されている。第6のミラーは、好ましくは凹の曲率半径を有する。
選択的に、レーザは、その出力が利得媒体を励起するように構成されている連続波(cw)光学場源を具える。この(cw)光学場源は、ファイバーカップリングレーザダイオードシステムを具えていてもよい。
非点収差コントローラは、ミラー回転手段を具えていてもよい。
ミラー回転手段は、第4のミラーを回転させて第4のミラー上の共振場の入射角を変えるように使用することができる。
共振器の長さは、キャビティモードの往復時間が、利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択することができる。
最も好ましくは、レーザが超短パルスを含む出力場を提供する。この超短パルスは、100ps乃至100fsの範囲のパルス幅を有する。
本発明の第5の態様の実施例は、本発明の第1乃至第4の態様の好ましい又は選択的な特徴を実装する特徴を具えており、逆も同じである。
本発明の第6の態様によれば、レーザをセルフモード同期させる方法が提供されており、この方法は:
第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返した共振器であって、第3のミラーが少なくとも1の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている、共振器を提供するステップと;
利得媒体においてキャビティモードに非点収差を導入するステップと;
カーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用するように共振器を構成するステップと;
を具える。
レーザをセルフモード同期させる方法は更に、共振器内に配置した開口を有する開口絞りを配置するステップを具える。
好ましくは、開口絞りが第2のミラー近傍に配置されている。代替的に、開口を第1のミラー近傍に配置してもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第3のミラーの間に第4のミラーを提供することで、キャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
この非点収差は、第4のミラーを回転させることによってキャビティモードに導入して、第4のミラー上の共鳴場の入射角を大きくするようにしてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第4のミラー間に第5のミラーを提供することによって、キャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、第2及び第5のミラー間に第6のミラーを提供することによって、キャビティを折り返すステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、利得媒体を励起させるように構成した連続波(cw)光学場を提供するステップを具えていてもよい。
レーザをセルフモード同期させる方法は、更に、共振器の長さをキャビティモードの往復時間が、利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択するステップを具えていてもよい。
本発明の第6の態様の実施例は、本発明の第1乃至第5の態様の好ましい又は選択的な特徴を実装する特徴を具えていてもよく、逆も同じである。
本発明の対応と利点は、以下の詳細な説明を図面を参照することによって明らかになる。
図1は、本発明の一実施例によるセルフモード共振型外部キャビティ表面発光半導体レーザを示す図である。 図2は、図1に示すレーザに使用する半導体ディスクレーザ(SDL)を示す図である。 図3は、図2に示すSDLと共働する冷却装置を示す図である。 図4は、図1に示すSDLの表面の、キャビティモード、励起スポット、及びカーレンズ効果を示すモードを示す図である。 図5は、本発明の代替の実施例による半導体レーザを示す図である。 図6は、本発明の更なる代替実施例による半導体レーザを示す図である。
以下の詳細な説明において、同様の部分には明細書及び図面を通じて同じ符号が付されている。図面は、同じスケールである必要はなく、所定の部分の比率が、本発明の実施例の詳細及び特徴をよりよく示すように拡大されている。
初めに、図1を参照すると、本発明の一実施例によるセルフモード同期、キャビティ表面発光半導体レーザ1が示されている。理解を明確にするために、この図には軸が示されている。以下に参照するキャビティの平面は、x軸とz軸で規定された平面である。
セルフモード同期レーザ1は、第1のミラー3と第2のミラー4との間に形成されたレーザ共振器2を具えており、これは、多層で、光学的に励起される半導体ディスクレーザ(SDL)5を具えている。レーザの更なる詳細を図2及び3を参照して以下に示す。図に示すように、SDL5は、共振器2の第1の折り返しミラーとして機能する。更に3つの折り返しミラー6、7及び8が共振器2に設けられており、共振器2は、4回折り返した共振器であると考えることができる。
第1のミラー3と3つの折り返しミラー6、7、及び8は、SDL5の基本波長で光を良く反射するように構成されている一方で、第2のミラー4は基本波長で部分的に光を反射し部分的に光を透過して、共振器2の出力カプラとして作用する。開口10を具える、スリット開口などの開口絞り9が、第2のミラー4近傍に配置されている。この開口は、キャビティの平面、このキャビティの平面に直交する平面に向けられているか、あるいは、絞りを具え両平面に部品を有するものでもよい。
ミラー3、6、7、及び8は、圧電制御ミラーマウント内に装着して、これらの部品のアラインメントを微調整する手段を提供してもよい。更に、ミラー3、6及び8は、凹面ミラーであり、ミラー4及び7、及びSDL5を実質的に平面反射エレメントとして、以下に詳細に説明するように、共振器2が光学的に安定し、SDL5におけるキャビティモードの形状を制御できるようにしてもよい。
ファイバーカップルレーザダイオードシステム12を用いることによって、SDL5を励起させる連続波(cw)光学励起場11を提供する。この実施例では、ファイバーカップルレーザダイオードシステム12は、808nmでcw光学励起場11を発生するように構成されている。DILAS(登録商標)M1F4S22−808 30C−SS2.1は、好適なファイバーカップルレーザダイオードシステム12の一例である。
ここに述べた実施例では、ファイバーカップルレーザダイオードシステム12は利得媒体18の表面で、楕円励起スポットを提供するのに適した角度で、利得媒体18を励起させるように構成されている。本発明が限定的なものではなく、ファイバーカップルレーザダイオードシステム12が、利得媒体18に直交する励起場11を提供して、利得媒体18表面で円形励起スポットを提供するようにしてもよいことは、当業者には自明である。ファイバーカップルレーザダイオードシステム12は、第1のミラー3を介して励起させて、利得媒体18を励起するようにしてもよい。
図1では、キャビティ内共鳴場が符号13で大まかに示されており、レーザ共鳴器2からの超短パルス出力場が、符号14で示されている。
SDL5が図2に示されている。SDL5は、有機金属化学気相成長法(MOCVD)技術でGaAs基体16上に成長させたウエハ構造15を具えていてもよい。ウエハ構造の蒸着は、この分野で知られている代替技術、例えば、分子線エピタキシャル成長法(MBE)によって行うこともできる。ウエハ構造15は、単一の分布ブラッグ反射鏡(DBR)領域17、利得媒体18、キャリア閉じ込めポテンシャル障壁19、及び酸化防止層20を具える。
ウエハ構造15には、この分野の当業者に知られているSDLs内に組み込まれた多くの変形例があり、本発明は特別なDBR領域17あるいは利得媒体18構造の使用に限定されるものではない。一般的に、利得媒体18は、SDL5を従来の励起波長で光学的に励起させる半波構造間に同じスペースを空けて配置された複数の量子ウエルを具え、一方、DBR領域17は一般に、高い反射率を示す複数対のクオーター波層を具える。
ここに述べた実施例は、利得媒体18を具える。これは、半波GaAs構造体の間に等間隔で配置されたInGaAs量子ウエルを具え、SDL5が808nmで光学的に励起され、980nmで出力を生成できる。DBR領域17は、30対のAlAs−GaAsクオーター波層を具えており、980nmを中心に99.9%以上の反射率となる一方、キャリア閉じ込めポテンシャルバリヤ19は、単一の波長−厚Al0.3Ga0.7As層を具える。酸化防止層20は、薄いGaAsキャップを具えていてもよい。
代替的に使用できる当業者に知られている利得媒体は、670nmと1300nmの間の出力波長を生成できる代替のガリウムヒ素(GaAs)構造体であり;1350nm乃至1600nmの間の出力波長を生成できるリン化インジウム(InP)構造であるか;1800nm乃至2700nmの間の出力波長を生成できるアンチモン化ガリウム(GaSb)構造を作ることができる。これらの利得媒体は、当業者には知られている。
以下にさらに詳細に説明する理由によって、共振器2の長さをキャビティモードの往復時間が利得媒体18内に配置した半導体キャリアのアッパー状態寿命に一致するように選択することができる。本実施例では、半導体キャリアの寿命は約5nsであり、共振器の長さを約750mm及び反復率を約200MHzとしている。
この構成は、共振器の長さをできるだけ小さくしてシステム全体を小さくするために一般的に望ましいとされる考えに、直感的に逆の構成である。共振器の長さを最小にする場合の主な制限は、システムに組み込む必要があるすべての光学部品について十分な物理的スペースを提供し、選択されたキャビティモード特性にするという要件である。公知のシステムでは、選択した共振器の長さによって、関連する利得媒体のアッパー状態寿命よりキャビティモードの往復寿命が、通常桁違いに低くなる。
図3は、SDL5の操作特性の改良に使用する冷却装置21の更なる詳細を示す図である。特に、冷却装置21は、熱スプレッダ22と標準熱電クーラ又はウォータークーラ23を具える。熱スプレッダ22は、外側にヒンジ面24を具える単一ダイヤモンドクリスタルを具える。
高性能反射防止コーティングをヒンジ面24の表面に配置指定もよい。
単ダイヤモンドクリスタル熱スプレッダ22は、利得媒体18が熱スプレッダ22とDBR領域17との間に位置するように光学的接触によってウエハ構造15に連結されている。ウエハ構造15と熱スプレッダ22は、従って、熱電クーラ又はウォータクーラー23の上でインジウムフォイル層25の頂部に固定されている。
単ダイヤモンドクリスタルは、サファイヤ及びシリコンカーバイドに比較できる熱伝導レベルを示すので、熱スプレッダ22として好適に使用することができる。従って、上述の構成により熱スプレッダ22は利得媒体18内に励起場11によって発生した熱を、熱が利得媒体18内に制限距離のみ伝達した後、冷却装置21に即座に拡散させる。この結果、SDL5の全体の効率が有意に改善される。
単ダイヤモンドクリスタルを熱スプレッダ22として使用することには更なる固有の利点がある。これは、単ダイヤモンドクリスタルが、固有の光学カーレンズ効果を示す材料であることである。この効果は、図4を参照して更なる詳細に述べるように、セルフモード同期システムとして半導体レーザ1を作用するように構成するために用いられる。
特に、図4は、図1のSDL5の表面におけるキャビティモード26と、励起スポット27と、カーレンズモード28を示す図である。このレーザは、SDL5の表面においてキャビティモード26と、励起スポット27と、カーレンズモード28が重なる領域があるように構成されている。
SDL5のカーレンズモード28領域は、単ダイヤモンドクリスタル熱スプレッダ22によって規定され、本実施例では、長軸がx軸に沿った方向にある楕円プロファイルを示している。同様に、SDL5のポンプスポット27は、長軸がx軸に沿った方向にある楕円形プロファイルを有している。本実施例のカーレンズモード28は、ポンプスポット27の長軸より小さい。
凹型折り返しミラー6が、キャビティモード26に非点収差を導入するように配置されている。これは、凹型折り返しミラー6をy軸の周りで回転させて、このミラー6上で共鳴場13の入射角度を上げるように構成されている。図4に明らかなとおり、この回転によってSDL5におけるキャビティモード26は、y軸に沿った主軸を伴う楕円形プロファイルを有する。
この構成では、利得媒体18が励起場11によって励起されると半導体レーザ1がレーザ光を発し始め、出力場14ができる。最も重要なことは、レーザがセルフモード同期レーザであり、980nmの超短出力場が生じる、すなわち、100psから数フェムト秒のパルス幅を作ることができることである。この結果は、反復可能であり、このモード同期は、レーザ1のオペレータから更なる入力を得る必要なく行われる。
発明者らは、レーザ1のセルフモード同期に寄与する二つの独立した機構があると考えている。ここに述べたレーザ1では、これらの機構が組み合わせて作用しているが、交互に独立して用いることができる。
レーザ1のセルフモード同期の第1の機構は、共振器2の長さが、キャビティモード26の往復時間が利得媒体18内に位置する半導体キャリアのアッパー状態寿命に近くなるように選択されていることによる。これは、出力場14の強度にわずかな摂動をもたらすが、単ダイヤモンドクリスタル熱スプレッダ22のわずかな固有の光学カーレンズ効果が出力場14にモード同期を導入するには十分である。
このプロセスは、更に、第2の機構により支援される。これは、SDL5の表面でキャビティモード26に非点収差を導入することができる。熱スプレッダ22のカーレンズ効果が始まると、キャビティモード26の主軸が効率よく減少して、キャビティモード26と励起スポット27の領域間の重なりがより大きくなる。従って、発生した非点収差を克服するために熱スプレッダ22のカーレンズ効果を用いることによって、出力場14のセルフモード同期の第2の手段が提供される。
当業者には自明であるように、これらの機構は両方とも開口絞り9の存在によって支援される。開口絞り9は開口10が、開口10における共振器のレーザ発光モードがクリップされ、熱スプレッダ22によって導入されたカー効果がない場合には、レーザの発光が不可能になるように構成されている。更に、開口絞り9を代替的に第1のミラー3近傍に配置してもよいことは自明である。
図5は、本発明の代替の実施例による、セルフモード同期外部キャビティ表面発光半導体レーザ29を示す図である。これは、図1に示すレーザ1と同様である。この実施例において、折り返しミラー8が出力カプラ4の近傍に置き換えられており、共振器2bは3回折り返した共振器と考えられる。
図6は、本発明の更なる代替の実施例によるセルフモード同期、外部キャビティ表面発光、半導体レーザ30を示す図であり、これは図1に示すレーザ1と同様である。この実施例では、折り返しミラー8がなく、折り返しミラー7が出力カプラ4の近傍に配置されており、共振器2cが2回折り返した共振器と考えられる。
上述の実施例に様々な代替例を組み入れることができることは自明である。例えば、SDL5の構造は、半導体レーザが使用される特定のアプリケーションによって必要な代替の出力波長を提供するように変更できる。
更に、キャビティモード26、励起スポット27、及びカーレンズモード28の方向は、関連する主軸が特定の実施例から変化するように変えることができる。重要なことは、共振器が、利得媒体18が励起場11によって励起されてキャビティモード26と励起スポット27が重なる面積が増えると、共振器2の構造によってキャビティモード26に導入された非点収差が、熱スプレッダ22によって導入された光学カーレンズ効果によって低減されるように、構成されていることである。
熱スプレッダは、使用した材料が必要な熱スプレッドと光学カーレンズ特性を示す限りは、単ダイヤモンドクリスタル熱スプレッダ22以外の材料を代替的に具えていてもよい。サファイヤ(Al)及びシリコンカーバイド(SiC)は、熱スプレッダを作るのに使用できる代替材料の例である。
ここに述べた半導体レーザは、この分野で知られている半導体レーザに比べて多くの利点を提供する。上述した固体超高速レーザに比べると、ここに述べたシステムは、複雑でなく、よりコンパクトであり、メンテナンス条件が少なく、製造コストが有意に低い。
上述の半導体レーザがセルフモード同期型であるという事実により、専用の静的あるいは動的モード同期エレメントを組み入れる必要がなくなる。これによって、上述の半導体レーザは複雑でなく、維持条件が低く、関連する製造コストが低減できることになる。
上述した半導体レーザシステムは、波長670nmと2700nmで、100mWから5Wの範囲の電力出力をもつ、パルス波長100ps乃至100fsのパルスを生成するのに使用できる。
これらのファクタは、上述の半導体レーザを、例えば、二光子蛍光(TPEF)顕微鏡や、その他の同様の多光子顕微鏡技術といった、非線形顕微鏡技術に使用するのに理想的なものにする。例えば、単パルス幅によって、使用する特定のGFPに応じて395nmと475nm、あるいは496nmで励起ピークを示す、緑色蛍光タンパク質(GFPs)で実行する有意な深さのプロファイリングが可能となる。
本発明はセルフモード同期レーザ及びセルフモード同期レーザの製造方法について述べている。このレーザは、第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返した共振器を具える。第3のミラーは、単一の分布ブラッグ反射鏡(DBR)を具え、ここに多層半導体利得媒体が装置されており、これは、少なくとも一の量子ウエルと光学カーレンズ効果を示す層を具える。セルフモード同期は、共振器の長さをキャビティモードの往復時間が、利得媒体内に位置する一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に合致するように選択することで達成できる。レーザのセルフモードは、レーザ共振器を、カーレンズ効果を示す層のレンズ効果がキャビティモードへ意図的に導入された非点収差を低減するように構成することによって、更に強化される。
本発明についての上述の記載は、説明の目的で記載されており、開示した詳細な形状に本発明を限定しようとするものではない。上述の実施例は、本発明の原理と実施のアプリケーションを最もよく説明するために選択され記載されており、これによって当業者は、様々な実施例で、及び意図した特定の使用に適した様々な変形例をもちいて、本発明を最もよく利用できる。従って、更なる変形あるいは改良が、特許請求の範囲に規定されている本発明の範囲を逸脱することなく、ここに含まれる。

Claims (18)

  1. セルフモード同期レーザにおいて、
    第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返され、当該第3のミラーが、少なくとも一の量子ウエル層と、光学的カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に装填されている共振器を具え、
    前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に一致するように選択され、それによりレーザの出力場の強度に摂動を引き起こして、光学的カーレンズ効果を示す層に出力場でモード同期を生じさせることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  2. 請求項1に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記光学的カーレンズ効果を示す層が、前記半導体利得媒体上に装着した熱スプレッダを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  3. 請求項2に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記熱スプレッダがダイヤモンドクリスタル層を具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に当該共振器に配置した開口を有する開口絞りを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  5. 請求項4に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記開口が前記第2のミラー近傍に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  6. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に、第4のミラーで折り返されており、当該第4のミラーが前記第2のミラーと第3のミラーとの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  7. 請求項6に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に、第5のミラーで折り返されており、当該第5のミラーが前記第2及び第4のミラーの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  8. 請求項7に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器がさらに、第6のミラーで折り返されており、当該第6のミラーが前記第2及び第5のミラーの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  9. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に、前記利得媒体において前記キャビティモードに非点収差を導入する手段を具える非点収差コントローラを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  10. 請求項9に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が、前記カーレンズ効果を示す層が、前記キャビティモードに導入した非点収差を相殺するよう作用するように構成されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
  11. セルフモード同期レーザを作成する方法において、
    第1及び第2のミラーによって終端し、第3のミラーによって折り返す共振器であって、前記第3のミラーが、少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に装填されている共振器を提供するステップと;
    前記共振器の長さを、キャビティモードの往復時間が前記利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に一致するように選択し、それによりレーザの出力場の強度に摂動を引き起こして、光学的カーレンズ効果を示す層に出力場でモード同期を生じさせるステップと;
    を具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの作成方法。
  12. 請求項11に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、その中に配置した開口を有する開口絞りを前記共振器に配置するステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  13. 請求項12に記載のセルフモード同期レーザの作成方法において、前記開口が前記第1のミラー近傍に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  14. 請求項11乃至13のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザの作成方法において、当該方法が更に、前記第2のミラーと第3のミラーの間に第4のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  15. 請求項14に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、前記第2のミラーと第4のミラーの間に第5のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  16. 請求項15に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、前記方法が更に、前記第2のミラーと第5のミラーの間に第6のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  17. 請求項11乃至16に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が前記利得媒体で前記キャビティモードに非点収差を導入するステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
  18. 請求項17に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、前記共振器を前記カーレンズ効果を示す層が、前記キャビティモードに導入した非点収差を相殺するように作用するように構成したことを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2500676B (en) 2012-03-29 2015-12-16 Solus Technologies Ltd Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL)
GB2493583B (en) * 2012-03-29 2013-06-26 Solus Technologies Ltd Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL)
GB2519773C (en) * 2013-10-29 2018-01-03 Solus Tech Limited Mode-locking semiconductor disk laser (SDL)
GB2521140B (en) * 2013-12-10 2018-05-09 Solus Tech Limited Improved self mode-locking semiconductor disk laser (SDL)
GB2526063B (en) * 2014-04-28 2016-10-26 Solus Tech Ltd Optical amplifier
CN105124960A (zh) * 2015-09-17 2015-12-09 河海大学常州校区 一种一体式折叠椅
CN115437193B (zh) * 2022-09-13 2024-07-30 电子科技大学 一种锁定克尔光孤子重复频率噪声的方法
CN115986558B (zh) * 2023-01-17 2023-11-03 重庆师范大学 一种能自启动的超快激光器

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62285480A (ja) * 1986-06-04 1987-12-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光パルス列発生装置
US5079772A (en) * 1990-12-21 1992-01-07 Coherent, Inc. Mode-locked laser using non-linear self-focusing element
AT1859U1 (de) * 1996-11-29 1997-12-29 Stingl Andreas Dipl Ing Kurzpuls-laservorrichtung
US7046711B2 (en) 1999-06-11 2006-05-16 High Q Laser Production Gmbh High power and high gain saturation diode pumped laser means and diode array pumping device
US6834064B1 (en) * 1999-12-08 2004-12-21 Time-Bandwidth Products Ag Mode-locked thin-disk laser
US6735234B1 (en) 2000-02-11 2004-05-11 Giga Tera Ag Passively mode-locked optically pumped semiconductor external-cavity surface-emitting laser
WO2002021643A2 (en) * 2000-09-06 2002-03-14 Paschotta Ruediger MULTIWAVELENGTH lIGHT SOURCE USING AN OPTICAL PARAMETRIC OSCILLATOR
JP2004253800A (ja) * 2003-02-19 2004-09-09 Osram Opto Semiconductors Gmbh レーザーパルス形成用レーザー装置
GB2399942A (en) * 2003-03-24 2004-09-29 Univ Strathclyde Vertical cavity semiconductor optical devices
US7362787B2 (en) 2005-10-28 2008-04-22 Lucent Technologies Inc. Self-mode-locked semiconductor laser
US20070223540A1 (en) * 2006-01-27 2007-09-27 Time-Bandwidth Products Ag Pulsed laser
US20090290606A1 (en) * 2008-05-23 2009-11-26 Chilla Juan L Mode-locked external-cavity surface-emitting semiconductor laser
GB0906482D0 (en) * 2009-04-15 2009-05-20 Univ St Andrews intra-cavity optical parametric oscillator
WO2010138552A1 (en) 2009-05-26 2010-12-02 Redfern Integrated Optics, Inc. Achieving low phase noise in external cavity laser implemented using planar lightwave circuit technology
US20110150013A1 (en) 2009-12-17 2011-06-23 Coherent, Inc. Resonant pumping of thin-disk laser with an optically pumped external-cavity surface-emitting semiconductor laser
WO2011147799A1 (de) * 2010-05-28 2011-12-01 Daniel Kopf Ultrakurzpuls-mikrochiplaser, halbleiterlaser, lasersystem und pumpverfahren für dünne lasermedien
US8218587B2 (en) * 2010-05-28 2012-07-10 Newport Corporation Automated bandwidth / wavelength adjustment systems and methods for short pulse lasers and optical amplifiers
US8774238B2 (en) 2011-06-30 2014-07-08 Coherent, Inc. Mode-locked optically pumped semiconductor laser
WO2013050054A1 (en) * 2011-10-07 2013-04-11 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Laser device with kerr effect based mode-locking and operation thereof
GB2500676B (en) 2012-03-29 2015-12-16 Solus Technologies Ltd Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL)
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