JP6214061B2 - セルフモード同期半導体ディスクレーザ(sdl) - Google Patents
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Description
第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学カーレンズ効果を示す層とを有する多層半導体利得媒体を載置している共振器を具え、
当該共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体中に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択されている。
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返された共振器を提供するステップであって、第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に載置されている、ステップと;
共振器の長さを、キャビティモードの往復時間が利得媒体中に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択するステップ;
を具えている。
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返した共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている共振器と;
その出力が前記利得媒体を励起するように構成された連続波(cw)光学場源と;を具え、
前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体内に配置された一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように、選択されていることを特徴とする。
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を具える多層半導体利得媒体に装着されている共振器を提供するステップと;
前記利得媒体を励起するように構成された連続波(cw)光学場を提供するステップと;
前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が、前記利得媒体内に配置された一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように、選択するステップと;
を具える。
第1及び第2のミラーで終端しており、第3のミラーで折り返す共振器であって、当該第3のミラーが少なくとも一の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている共振器と;
前記利得媒体でキャビティモード非点収差を導入する手段を提供する非点収差コントローラと;
を具え、共振器が、カーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用するように構成されている。
第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返した共振器であって、第3のミラーが少なくとも1の量子ウエル層と光学的カーレンズ効果を示す層を含む多層半導体利得媒体に装着されている、共振器を提供するステップと;
利得媒体においてキャビティモードに非点収差を導入するステップと;
カーレンズ効果を示す層がキャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用するように共振器を構成するステップと;
を具える。
Claims (18)
- セルフモード同期レーザにおいて、
第1及び第2のミラーで終端し、第3のミラーで折り返される共振器であって、前記第3のミラーが、分布ブラッグ反射鏡と、前記分布ブラッグ反射鏡上に形成された量子ウェルを有する利得媒体と、前記利得媒体上に連結されたクリスタル熱スプレッダとを有する、共振器と、
前記利得媒体におけるキャビティモードに非点収差を導入する手段を提供する非点収差コントローラと、を具え、
前記共振器が、前記クリスタル熱スプレッダが前記キャビティモードに導入された非点収差を相殺するように作用し、レーザの出力場のモード同期を起こすよう構成されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。 - 請求項1に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記クリスタル熱スプレッダがダイヤモンドクリスタル層を具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項1又は2に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に当該共振器に配置した開口を有する開口絞りを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項3に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記開口絞りが前記第2のミラー近傍に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に、第4のミラーで折り返されており、当該第4のミラーが前記第2のミラーと第3のミラーとの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項5に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器が更に、第5のミラーで折り返されており、当該第5のミラーが前記第2及び第4のミラーの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項6に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器がさらに、第6のミラーで折り返されており、当該第6のミラーが前記第2及び第5のミラーの間に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記非点収差コントローラがミラー回転手段を具えることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項5乃至7のいずれか1項に従属する請求項8に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記ミラー回転手段が、前記第4のミラーの共振場の入射角度を変化させるように用いられることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- 請求項1乃至9のいずれか項に記載のセルフモード同期レーザにおいて、前記共振器の長さが、キャビティモードの往復時間が前記利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択されていることを特徴とするセルフモード同期レーザ。
- セルフモード同期レーザを製造する方法において、
第1及び第2のミラーによって終端し、第3のミラーによって折り返す共振器であって、前記第3のミラーが、分布ブラッグ反射鏡と、前記分布ブラッグ反射鏡上に形成された量子ウェルを有する利得媒体と、前記利得媒体上に連結されたクリスタル熱スプレッダとを有する、共振器を提供するステップと、
前記利得媒体でキャビティモードに非点収差を導入するステップと、
前記クリスタル熱スプレッダが前記キャビティモードに導入した非点収差を相殺し、レーザの出力場のモード同期を起こすように前記共振器を構成するステップと、を具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。 - 請求項11に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、その中に配置した開口を有する開口絞りを前記共振器に配置するステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項12に記載のセルフモード同期レーザの作成方法において、前記開口が前記第2のミラー近傍に配置されていることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項11乃至13のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザの作成方法において、当該方法が更に、前記第2のミラーと第3のミラーの間に第4のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項14に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、前記第4のミラーを回転させて前記キャビティモードに非点収差を導入し、前記第4のミラー上の共振場の入射角度を大きくするようにすることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項11乃至15のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、前記第2のミラーと第4のミラーの間に第5のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項16に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、前記第2のミラーと第5のミラーの間に第6のミラーを提供することによって、前記キャビティを折り返すステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
- 請求項11乃至17のいずれか1項に記載のセルフモード同期レーザの製造方法において、当該方法が更に、前記キャビティモードの往復時間が前記共振器の長さを前記利得媒体内に配置した一またはそれ以上の半導体キャリアのアッパー状態寿命に対応するように選択するステップを具えることを特徴とするセルフモード同期レーザの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1205588.5A GB2493583B (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB1205588.5 | 2012-03-29 | ||
PCT/GB2013/050800 WO2013144620A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-03-27 | Self mode - locking semiconductor disk laser |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015511772A JP2015511772A (ja) | 2015-04-20 |
JP2015511772A5 JP2015511772A5 (ja) | 2016-05-19 |
JP6214061B2 true JP6214061B2 (ja) | 2017-10-18 |
Family
ID=46159937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015502451A Active JP6214061B2 (ja) | 2012-03-29 | 2013-03-27 | セルフモード同期半導体ディスクレーザ(sdl) |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9461434B2 (ja) |
EP (1) | EP2831965B1 (ja) |
JP (1) | JP6214061B2 (ja) |
CA (1) | CA2868503C (ja) |
ES (1) | ES2831702T3 (ja) |
GB (1) | GB2493583B (ja) |
WO (1) | WO2013144620A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2500676B (en) * | 2012-03-29 | 2015-12-16 | Solus Technologies Ltd | Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB2493583B (en) | 2012-03-29 | 2013-06-26 | Solus Technologies Ltd | Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB2519773C (en) | 2013-10-29 | 2018-01-03 | Solus Tech Limited | Mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB2521140B (en) * | 2013-12-10 | 2018-05-09 | Solus Tech Limited | Improved self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB2525252B (en) * | 2014-04-18 | 2016-08-17 | Solus Tech Ltd | Improved passively mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
CN105762636B (zh) * | 2016-04-21 | 2019-01-22 | 上海交通大学 | 一种产生高空间强度对比度的飞秒涡旋光束的方法 |
CN110323663B (zh) * | 2019-06-25 | 2020-04-03 | 江苏师范大学 | 一种产生中红外波段的矢量超短激光脉冲的装置与方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3767299B2 (ja) * | 1999-03-12 | 2006-04-19 | 株式会社日立製作所 | 固体レーザーのパラメータ決定方法 |
US6834064B1 (en) | 1999-12-08 | 2004-12-21 | Time-Bandwidth Products Ag | Mode-locked thin-disk laser |
JP2004253800A (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-09 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | レーザーパルス形成用レーザー装置 |
US7362787B2 (en) | 2005-10-28 | 2008-04-22 | Lucent Technologies Inc. | Self-mode-locked semiconductor laser |
US20090290606A1 (en) * | 2008-05-23 | 2009-11-26 | Chilla Juan L | Mode-locked external-cavity surface-emitting semiconductor laser |
GB2500676B (en) * | 2012-03-29 | 2015-12-16 | Solus Technologies Ltd | Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
GB2493583B (en) | 2012-03-29 | 2013-06-26 | Solus Technologies Ltd | Self mode-locking semiconductor disk laser (SDL) |
-
2012
- 2012-03-29 GB GB1205588.5A patent/GB2493583B/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-03-27 EP EP13719134.2A patent/EP2831965B1/en active Active
- 2013-03-27 US US14/389,247 patent/US9461434B2/en active Active
- 2013-03-27 ES ES13719134T patent/ES2831702T3/es active Active
- 2013-03-27 WO PCT/GB2013/050800 patent/WO2013144620A1/en active Application Filing
- 2013-03-27 CA CA2868503A patent/CA2868503C/en active Active
- 2013-03-27 JP JP2015502451A patent/JP6214061B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2868503C (en) | 2019-09-03 |
EP2831965A1 (en) | 2015-02-04 |
US20150063390A1 (en) | 2015-03-05 |
GB2493583B (en) | 2013-06-26 |
GB2493583A (en) | 2013-02-13 |
JP2015511772A (ja) | 2015-04-20 |
EP2831965B1 (en) | 2020-08-19 |
CA2868503A1 (en) | 2013-10-03 |
GB201205588D0 (en) | 2012-05-16 |
WO2013144620A1 (en) | 2013-10-03 |
ES2831702T3 (es) | 2021-06-09 |
US9461434B2 (en) | 2016-10-04 |
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Date | Code | Title | Description |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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