JP6215522B2 - 化合物、発光素子、発光装置、電子機器、照明装置 - Google Patents

化合物、発光素子、発光装置、電子機器、照明装置 Download PDF

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Description

本発明の一態様は、複数の発光色を有する発光素子に関する。また、発光装置、電子機器、及び照明装置に関する。さらに、新規のピレン系化合物に関する。
近年、エレクトロルミネッセンス(EL:Electro Luminescence)を利用した発光素子の研究開発が盛んに行われている。これら発光素子の基本的な構成は、一対の電極間に発光性の物質を含む層を挟んだものである。この素子に電圧を印加することにより、発光性の物質からの発光を得ることができる。
このような発光素子は自発光型であるため、液晶ディスプレイに比べ画素の視認性が高く、バックライトが不要である等の利点があり、フラットパネルディスプレイ素子として好適であると考えられている。また、このような発光素子は、薄型軽量に作製できることも大きな利点である。さらに非常に応答速度が速いことも特徴の一つである。
そして、これらの発光素子は膜状に形成することが可能であるため、面状の発光を容易に得ることができる。よって、面状の発光を利用した大面積の素子を形成することができる。このことは、白熱電球やLEDに代表される点光源、あるいは蛍光灯に代表される線光源では得難い特色であるため、照明等に応用できる面光源としての利用価値も高い。
エレクトロルミネッセンスを利用した発光素子は、発光性の物質が有機化合物であるか、無機化合物であるかによって大別できるが、発光性の物質に有機化合物を用いる場合、発光素子に電圧を印加することにより、一対の電極から電子および正孔がそれぞれ発光性の有機化合物を含む層に注入され、電流が流れる。そして、それらキャリア(電子および正孔)が再結合することにより、発光性の有機化合物が励起状態を形成し、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。なお、有機化合物が形成する励起状態の種類としては、一重項励起状態と三重項励起状態が可能であり、一重項励起状態(S)からの発光が蛍光、三重項励起状態(T)からの発光が燐光と呼ばれている。
発光性の有機化合物を用いた発光素子の発光層には、発光性の有機化合物を単体で用いることでその機能を得ることができるが、発光性の有機化合物の濃度消光などを抑制するために、他の物質からなるマトリクス中に発光性の有機化合物を分散させて形成することという方法も用いられている。なお、マトリクスとなる物質はホスト材料、マトリクス中に分散される物質はゲスト材料と呼ばれる。
この場合、両電極から注入されたキャリア(電子及び正孔)は、発光層中のホスト材料で再結合し、そのエネルギーをゲスト材料が受け取って発光する。従って、高輝度で色純度の良い発光が得られることが知られている。
また、近年では、照明の用途として白色発光を呈する発光素子が適用されている。この場合、複数の発光材料を用いることにより白色発光が得られる。しかし、発光層に複数種の発光材料を含んで発光層が形成されると、発光材料間でエネルギー移動が起こるため色度の変化や外部量子効率の低下といった問題が生じる。
これに対して、互いに異なる発光材料を含む複数の発光層を積層させるという方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、この場合には、積層された層の界面において電荷が蓄積されるなどの理由により、劣化が生じやすいという問題を有する。
特開2006−269232号公報
本発明の一態様は、複数の発光色が得られる高効率な発光素子を作製する場合において、発光層が積層構造を有していても劣化が生じにくく、かつ外部量子効率の低下を最小限に抑えることが可能な発光素子を提供する。また、本発明の一態様は、上記発光素子の発光層に好適な新規のピレン系化合物を提供する。また、本発明の一態様は、新規のピレン系化合物を適用することにより高効率な発光素子を提供する。また、本発明の一態様は、新規のピレン系化合物を適用した発光素子を用いることにより、低消費電力で長寿命な発光装置、電子機器、および照明装置を提供する。
本発明の一態様は、一対の電極間に複数の層を積層してなる発光層を有する発光素子であって、各発光層は、それぞれホスト材料と、ゲスト材料とを有し、各発光層のゲスト材料は、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度であり、異なる発光色を呈する物質であることを特徴とする。なお、LUMO準位については、±0.2eV以内、好ましくは±0.1eV以内の範囲をLUMO準位が同程度であるとする。
なお、複数の発光層において、発光層ごとに異なるゲスト材料を用いることとし、異なるゲスト材料として、HOMO準位は異なるがLUMO準位が同程度である材料をそれぞれ用いることにより、積層された発光層の界面にホールトラップ性を持たせつつ、電子の移動を阻害しにくい構造を有する積層型の発光層を形成することができる。従って、発光効率が高く、長寿命な発光素子を形成することができる。
上記発光素子において、各発光層に用いるホスト材料としては、共通の材料を用いることが好ましく、バイポーラ性を有する材料であることが好ましい。バイポーラ性を有する共通の材料をホスト材料として用いることにより、積層構造を有する発光層であってもホスト材料によるキャリア輸送性への影響を抑え、素子設計を容易にすることができる。
また、各発光層に用いる共通のホスト材料としては、バイポーラ性であることに加え、縮合芳香族炭化水素を含む材料であることがより好ましい。縮合芳香族炭化水素を含むことにより分子量が大きくなり、熱物性が良好になるためである。縮合芳香族炭化水素を含む材料を用いて発光素子を作製した場合には、耐熱性の高い発光素子を形成することができる。なお、縮合芳香族炭化水素を含む材料としては、アントラセン、トリフェニレン、ピレン、フェナントレン、またはフルオランテンを含む材料が挙げられる。
上記発光素子において、各発光層に用いるゲスト材料としては、それぞれ構造の異なるピレン系化合物を用いることが好ましい。この時、該ピレン系化合物は、ピレンジアミン化合物、特にピレン−1,6−ジアミン化合物が好ましい。またこの時、ホスト材料としてはアントラセンを含む材料が好ましく、特にアミン骨格を有さずアントラセンを含む材料が好ましい。
本発明の別の一態様であり、上記発光素子の各発光層に用いることができるゲスト材料は、下記一般式(G1)で表される新規のピレン系化合物である。
但し、式中、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、αは、置換又は無置換のフェニレン基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。また、nは、0または1である。
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G2)で表される新規のピレン系化合物である。
但し、式中、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G3)で表される新規のピレン系化合物である。
但し、式中、R〜R12およびR21〜R25は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(100)で表される新規のピレン系化合物である。
上述した本発明の一態様である新規のピレン系化合物は、色純度の良い青緑色の発光が得られる。従って、一対の電極間に複数の層を積層してなる発光層を有する発光素子であって、各発光層は、それぞれホスト材料と、ゲスト材料とを有し、各発光層のゲスト材料として複数種のピレン系化合物を用いる発光素子を形成する場合、上述した本発明の一態様である新規のピレン系化合物を少なくとも一種、ゲスト材料として用い、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度である他のピレン系化合物を別のゲスト材料として用いて発光層を形成することにより、それぞれのゲスト材料の発光色が同時に得られる発光素子を形成することができる。
また、本発明の一態様である発光素子であって、それぞれ異なるゲスト材料を含んで形成された積層構造を有する発光層に、さらに橙色を呈する発光性物質を含む発光層を新たに積層することにより、発光色に優れた白色発光素子を形成することができる。
また、本発明の一態様は、発光素子を有する発光装置だけでなく、発光装置を有する電子機器および照明装置も範疇に含めるものである。従って、本明細書中における発光装置とは、画像表示デバイス、発光デバイス、もしくは光源(照明装置含む)を指す。また、発光装置にコネクター、例えばFPC(Flexible printed circuit)もしくはTAB(Tape Automated Bonding)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。
本発明の一態様は、複数の発光色が得られる高効率な発光素子を作製する場合において、発光層が積層構造を有していても劣化が生じにくく、かつ外部量子効率の低下を最小限に抑えることが可能な発光素子を提供することができる。また、本発明の一態様は、上記発光素子の発光層に好適な新規のピレン系化合物を提供することができる。また、本発明の一態様は、新規のピレン系化合物を適用することにより高効率な発光素子を提供することができる。また、本発明の一態様は、新規のピレン系化合物を適用した発光素子を用いることにより、低消費電力で長寿命な発光装置、電子機器、および照明装置を提供することができる。
発光素子の構造について説明する図。 発光素子の構造について説明する図。 発光装置について説明する図。 電子機器について説明する図。 電子機器について説明する図。 照明装置について説明する図。 構造式(100)に示すピレン系化合物のH−NMRチャート。 構造式(100)に示すピレン系化合物の紫外・可視吸収スペクトル及び発光スペクトル。 構造式(108)に示すピレン系化合物のH−NMRチャート。 構造式(108)に示すピレン系化合物の紫外・可視吸収スペクトル及び発光スペクトル。 発光素子1について説明する図。 発光素子1の輝度−電流効率特性を示す図。 発光素子1の電圧−電流特性を示す図。 発光素子1の色度を示す色度図。 発光素子1の発光スペクトルを示す図。 発光素子1の信頼性を示す図。 発光素子2について説明する図。 発光素子2の輝度−電流効率特性を示す図。 発光素子2の色度を示す色度図。 発光素子2の発光スペクトルを示す図。 構造式(100)に示す複素環化合物のLC−MS測定結果を示す図。
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることが可能である。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子について図1を用いて説明する。
本実施の形態に示す発光素子は、図1(A)に示すように一対の電極(第1の電極(陽極)101と第2の電極(陰極)103)間に発光層113を含むEL層102が挟まれており、EL層102は、発光層113の他に、正孔(または、ホール)注入層111、正孔(または、ホール)輸送層112、電子輸送層114、電子注入層115、電荷発生層(E)116などを含んで形成される。
このような発光素子に対して電圧を印加することにより、第1の電極101側から注入された正孔と第2の電極103側から注入された電子とが、発光層113において再結合し、発光層113に含まれる物質を励起状態にする。そして、励起状態の物質が基底状態に戻る際に発光する。
なお、EL層102における発光層113は、複数の層からなる積層構造を有している。例えば、発光層113が2層からなる積層構造である場合には、図1(B)に示すように、第1の発光層113aと第2の発光層113bとを有する構造となる。
第1の発光層113aと第2の発光層113bにおいて、LUMO準位は同程度(LUMO(a)≒LUMO(b))であるが、HOMO準位が異なる(HOMO(a)≠HOMO(b))ように形成される。図1(B)に示すように第1の発光層113aのHOMO準位(HOMO(a))が、第2の発光層113bのHOMO準位(HOMO(b))よりも深い準位を有している場合には、それによってホールトラップ性を生じるため、正孔(ホール)と電子の再結合領域が発光層の内部に閉じ込めることができる。従って、発光素子における発光効率を従来よりも高めることができる。したがって、発光層の陽極側(第1の発光層)に含まれるゲスト材料は、陰極側(第2の発光層)に含まれるゲスト材料よりも短波長の発光を示すことが好ましい。
また、第1の発光層113aと第2の発光層113bにおいて、LUMO準位を同程度(LUMO(a)≒LUMO(b))にして、HOMO準位を異なる(HOMO(a)≠HOMO(b))ように形成する場合には、第1の発光層113aと第2の発光層113bに用いるホスト材料を同じにし、ゲスト材料をそれぞれ異なる材料で形成すればよい。なお、異なるゲスト材料を用いることにより、それぞれの発光層(第1の発光層113a、第2の発光層113b)で異なる発光色が得られる場合であっても、第1の発光層113aと第2の発光層113bとの界面で正孔(ホール)がトラップされるため、発光色の異なる光を同時に発光させることができる。このことは、例えば別の発光層と組み合わせて白色光を得る場合には、演色性を高めることができるので非常に有利である。
EL層102における正孔注入層111は、正孔輸送性の高い物質とアクセプター性物質を含む層であり、アクセプター性物質によって正孔輸送性の高い物質から電子が引き抜かれることにより正孔(ホール)が発生する。従って、正孔注入層111から正孔輸送層112を介して発光層113に正孔が注入される。
また、電荷発生層(E)116は、正孔輸送性の高い物質とアクセプター性物質を含む層である。アクセプター性物質によって正孔輸送性の高い物質から電子が引き抜かれるため、引き抜かれた電子が、電子注入性を有する電子注入層115から電子輸送層114を介して発光層113に注入される。
以下に本実施の形態に示す発光素子を作製する上での具体例について説明する。
第1の電極(陽極)101および第2の電極(陰極)103には、金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。具体的には、酸化インジウム−酸化スズ(ITO:Indium Tin Oxide)、珪素若しくは酸化珪素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸化インジウム−酸化亜鉛(Indium Zinc Oxide)、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、チタン(Ti)の他、元素周期表の第1族または第2族に属する元素、すなわちリチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む合金、その他グラフェン等を用いることができる。なお、第1の電極(陽極)101および第2の電極(陰極)103は、例えばスパッタリング法や蒸着法(真空蒸着法を含む)等により形成することができる。
正孔注入層111、正孔輸送層112、および電荷発生層(E)116に用いる正孔輸送性の高い物質としては、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPBまたはα−NPD)やN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(略称:TCTA)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物、3−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA1)、3,6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、3−[N−(1−ナフチル)−N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCN1)等が挙げられる。その他、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)等のカルバゾール誘導体、等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。
さらに、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)、ポリ(4−ビニルトリフェニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニルアミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](略称:PTPDMA)ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)などの高分子化合物を用いることもできる。
また、正孔注入層111および電荷発生層(E)116に用いるアクセプター性物質としては、遷移金属酸化物や元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化モリブデンが特に好ましい。また、有機化合物のアクセプター性物質を用いても良い。
発光層113は、積層構造を有しており、各発光層は、それぞれホスト材料と、ゲスト材料とを有する。なお、各発光層のホスト材料は、ゲスト材料よりも三重項励起エネルギーが大きい共通の材料を用いることが好ましく、バイポーラ性を有する材料であることが好ましい。さらに好ましくは、バイポーラ性であることに加え、縮合芳香族炭化水素を含む材料を用いる。具体的には、アントラセン、トリフェニレン、ピレン、フェナントレン、またはフルオランテンを含む材料が挙げられる。
また、各発光層のゲスト材料は、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度であり、異なる発光色を呈する物質である。各発光層に用いるゲスト材料としては、それぞれ構造の異なるピレン系化合物を用いることが好ましい。この時、該ピレン系化合物は、ピレンジアミン化合物、特にピレン−1,6−ジアミン化合物が好ましい。ピレンジアミン化合物においては、アミン骨格を変えることにより、ピレン由来のLUMO準位を同等に保ったまま、発光色およびHOMO準位を変えることができるためである。またこの時、ホスト材料としてはアントラセンを含む材料が好ましく、特にアミン骨格を有さずアントラセンを含む材料が好ましい。このような材料は、LUMOがピレンジアミン化合物と同等であるため、電子輸送が潤滑となる一方で、HOMO準位はピレンジアミン化合物よりも深いため、ホールトラップが有効に働く。このような構成により、駆動電圧が低く発光効率が高い素子を作製することができる。また、ホールが抜けにくいため、電子輸送層や陰極の電子輸送性や電子注入性が経時的に低下したとしても、定電流駆動時に輝度が低下しにくい。したがって、長寿命な発光素子が得られる。
なお、ゲスト材料として用いることができるピレン系化合物の一態様については、後述の実施の形態2及び実施例1〜3で示すこととする。なお、本実施の形態で示す発光素子の積層構造を有する発光層において、各発光層で用いるゲスト材料はいずれも異なる材料を用いることとし、さらに、実施の形態2で示すピレン系化合物を少なくとも一種用いることとする。
電子輸送層114は、電子輸送性の高い物質を含む層である。電子輸送層114には、Alq、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、BAlq、Zn(BOX)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))などの金属錯体を用いることができる。また、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、4,4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾール−2−イル)スチルベン(略称:BzOs)などの複素芳香族化合物も用いることができる。また、ポリ(2,5−ピリジン−ジイル)(略称:PPy)、ポリ[(9,9−ジヘキシルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(ピリジン−3,5−ジイル)](略称:PF−Py)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(2,2’−ビピリジン−6,6’−ジイル)](略称:PF−BPy)のような高分子化合物を用いることもできる。ここに述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いてもよい。
また、電子輸送層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしてもよい。
電子注入層115は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層115には、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)、リチウム酸化物(LiOx)等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を用いることができる。また、フッ化エルビウム(ErF)のような希土類金属化合物を用いることができる。また、上述した電子輸送層114を構成する物質を用いることもできる。
あるいは、電子注入層115に、有機化合物と電子供与体(ドナー)とを混合してなる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した電子輸送層114を構成する物質(金属錯体や複素芳香族化合物等)を用いることができる。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的には、アルカリ金属やアルカリ土類金属や希土類金属が好ましく、リチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げられる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン(略称:TTF)等の有機化合物を用いることもできる。
なお、上述した正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114、電子注入層115、電荷発生層(E)116は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗布法等の方法で形成することができる。また、発光層113が積層構造の場合において、蒸着法により形成される層と、インクジェット法で形成される層とを組み合わせて形成しても良い。
上述した発光素子は、第1の電極101および第2の電極103との間に生じた電位差により電流が流れ、EL層102において正孔と電子とが再結合することにより発光する。そして、この発光は、第1の電極101および第2の電極103のいずれか一方または両方を通って外部に取り出される。従って、第1の電極101および第2の電極103のいずれか一方、または両方が透光性を有する電極となる。
なお、本実施の形態で示した発光素子は、本発明の一態様であり、発光層に異なるHOMO準位を有するにもかかわらず同程度のLUMO準位を有するという発光素子の一例である。このような発光素子は、発光層に異なるHOMO準位を設けることにより生じるホールトラップ性により、正孔(ホール)と電子の再結合領域を発光層の内部に閉じ込めることができるため、従来の発光素子に比べて、高効率な発光素子を実現することができる。また、上記発光素子を備えた発光装置の構成としては、パッシブマトリクス型の発光装置やアクティブマトリクス型の発光装置などを作製することができ、これらは、いずれも本発明に含まれるものとする。
なお、アクティブマトリクス型の発光装置の場合において、TFTの構造は、特に限定されない。例えば、スタガ型や逆スタガ型のTFTを適宜用いることができる。また、TFT基板に形成される駆動用回路についても、N型およびP型のTFTからなるものでもよいし、N型のTFTまたはP型のTFTのいずれか一方のみからなるものであってもよい。さらに、TFTに用いられる半導体膜の結晶性についても特に限定されない。例えば、非晶質半導体膜、結晶性半導体膜、その他、酸化物半導体膜等を用いることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いることができるものとする。
(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1に示した発光素子に適用でき、かつ本発明の一態様である新規のピレン系化合物について説明する。
本発明の一態様は、下記一般式(G1)で表される構造を有するピレン系化合物である。
一般式(G1)において、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、αは、置換又は無置換のフェニレン基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。また、nは、0または1である。
ここで、αの具体例としては、フェニレン基、炭素数1〜4のアルキル基で1以上置換されたフェニレン基が挙げられる。
なお、上記一般式(G1)においてn=0であると合成が容易となるため、より好ましい。したがって、本発明の一態様は、下記一般式(G2)で表される構造を含むピレン系化合物である。
一般式(G2)において、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。
また、一般式(G2)で表される構造を含むピレン系化合物のうち、下記一般式(G3)で表されるピレン系化合物が好ましい。
一般式(G3)において、R〜R12およびR21〜R25は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。
また、一般式(G1)から一般式(G3)において、R〜R12における炭素数1〜4のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。また、R13〜R20における炭素数1〜6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
次に、上述した本発明の一態様であるピレン系化合物の具体的な構造式を示す。(下記構造式(100)〜(114)。)ただし、本発明はこれらに限定されることはない。
上述した本発明の一態様である新規のピレン系化合物の合成方法としては、種々の反応を適用することができる。例えば、以下に示す合成反応を行うことによって、一般式(G1)で表される本発明の一態様のピレン系化合物を合成することができる。なお、本発明の一態様である新規のピレン系化合物の合成方法は、以下の合成方法に限定されない。
≪一般式(G1)で表されるピレン系化合物の合成方法≫
下記一般式(G1)で表されるピレン系化合物の合成方法の一例について説明する。
下記合成スキーム(A−1)に示すように、カルバゾール誘導体のハロゲン化物(a1)とアミンを有するアリール化合物(a2)とをカップリングさせることで、アミン誘導体(a3)が得られる。
なお、合成スキーム(A−1)において、Arは置換または無置換の炭素数6〜10のアリール基を表す。また、R〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、αは、置換または無置換のフェニレン基を表す。また、nは、0または1である。また、Xは、ハロゲンを表し、反応性の高さから、好ましくは臭素またはヨウ素、より好ましくはヨウ素である。
合成スキーム(A−1)において、アミンを有するアリール化合物(1級アリールアミン化合物、または2級アリールアミン化合物)と、カルバゾール誘導体のハロゲン化物とのカップリング反応は様々な反応条件の合成方法があり、例えば、塩基存在下にて金属触媒を用いた合成方法(ハートウィッグ・ブッフバルト反応やウルマン反応等)を適用することができる。
そこで、合成スキーム(A−1)において、ハートウィッグ・ブッフバルト反応を用いる場合について示す。金属触媒としてはパラジウム触媒を用いることができ、パラジウム触媒としてはパラジウム錯体とその配位子の混合物を用いることができる。具体的なパラジウム錯体としては、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)等が挙げられる。また、配位子としては、トリ(tert−ブチル)ホスフィンや、トリ(n−ヘキシル)ホスフィンや、トリシクロヘキシルホスフィンや、1,1−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(略称:DPPF)等が挙げられる。また、塩基として用いることができる物質としては、ナトリウム tert−ブトキシド等の有機塩基や、炭酸カリウム等の無機塩基等を挙げることができる。
なお、この反応は溶液中で行うことが好ましく、用いることができる溶媒としては、トルエン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。ただし、用いることができる触媒およびその配位子、塩基、溶媒はこれらに限られるものでは無い。またこの反応は窒素やアルゴンなど不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
次に、合成スキーム(A−1)において、ウルマン反応を用いる場合について示す。金属触媒としては銅触媒を用いることができ、具体的には、ヨウ化銅(I)、又は酢酸銅(II)が挙げられる。また、塩基として用いることができる物質としては、炭酸カリウム等の無機塩基が挙げられる
この反応も溶液中で行うことが好ましく、用いることができる溶媒としては、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)ピリミジノン(DMPU)、トルエン、キシレン、ベンゼン等が挙げられる。ただし、用いることができる触媒、塩基、溶媒はこれらに限られるものでは無い。またこの反応は窒素やアルゴンなど不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
なお、ウルマン反応では、反応温度が100℃以上の方がより短時間かつ高収率で目的物が得られるため、DMPU、キシレンなど沸点の高い溶媒を用いることが好ましい。また、反応温度は150℃以上より高い温度が更に好ましいため、より好ましくはDMPUを用いる。
次に、合成スキーム(A−2)を示す。下記合成スキーム(A−2)で示すように、アミン誘導体(a3)とハロゲン化ピレン誘導体(a4)とをカップリングさせることで、一般式(G1)で表されるアミン誘導体を得ることができる。
なお、合成スキーム(A−2)において、Arは置換または無置換の炭素数6〜10のアリール基を表す。また、R〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。また、αは、置換または無置換のフェニレン基を表す。nは、0または1である。また、X〜Xは、ハロゲンを表す。なお、ハロゲンとしては、臭素またはヨウ素が好ましいが、反応性が高いことからヨウ素がより好ましい。
また、合成スキーム(A−2)において、アミン誘導体(a3)をハロゲン化ピレン誘導体(a4)に対して2当量反応させることとする。
合成スキーム(A−2)においても、合成スキーム(A−1)と同様、アミンを有するアリール化合物(1級アリールアミン化合物、または2級アリールアミン化合物)と、ハロゲン基を有するアリール化合物とのカップリング反応には様々な反応条件の合成方法があり、例えば、塩基存在下にて金属触媒を用いた合成方法(ハートウィッグ・ブッフバルト反応やウルマン反応等)を適用することができる。
以上、本発明の一態様であるピレン系化合物(G1)の合成方法の一例について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、他のどのような合成方法によって合成されても良い。
また、本発明の一態様であるピレン系化合物を用いることで、発光効率の高い発光素子、発光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。また、消費電力が低い発光素子、発光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様として、電荷発生層を挟んでEL層を複数有する構造の発光素子(以下、タンデム型発光素子という)について説明する。
本実施の形態に示す発光素子は、図2(A)に示すように一対の電極(第1の電極201および第2の電極204)間に、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))を有するタンデム型発光素子である。
本実施の形態において、第1の電極201は、陽極として機能する電極であり、第2の電極204は陰極として機能する電極である。なお、第1の電極201および第2の電極204は、実施の形態1と同様な構成を用いることができる。また、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))は、実施の形態1で示したEL層と同様な構成であっても良いが、いずれかが同様の構成であれば良い。すなわち、第1のEL層202(1)と第2のEL層202(2)は、同じ構成であっても異なる構成であってもよく、その構成は実施の形態1と同様なものを適用することができる。なお、本発明の一態様であり、実施の形態2に示したピレン系化合物は、本実施の形態に示す複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))のいずれか、または全てに用いることができる。
また、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))の間には、電荷発生層(I)205が設けられている。電荷発生層(I)205は、第1の電極201と第2の電極204に電圧を印加したときに、一方のEL層に電子を注入し、他方のEL層に正孔を注入する機能を有する。本実施の形態の場合には、第1の電極201に第2の電極204よりも電位が高くなるように電圧を印加すると、電荷発生層(I)205から第1のEL層202(1)に電子が注入され、第2のEL層202(2)に正孔が注入される。
なお、電荷発生層(I)205は、光の取り出し効率の点から、可視光に対して透光性を有する(具体的には、電荷発生層(I)205に対する可視光の透過率が、40%以上)ことが好ましい。また、電荷発生層(I)205は、第1の電極201や第2の電極204よりも低い導電率であっても機能する。
電荷発生層(I)205は、正孔輸送性の高い有機化合物に電子受容体(アクセプター)が添加された構成であっても、電子輸送性の高い有機化合物に電子供与体(ドナー)が添加された構成であってもよい。また、これらの両方の構成が積層されていても良い。
正孔輸送性の高い有機化合物に電子受容体が添加された構成とする場合において、正孔輸送性の高い有機化合物としては、例えば、NPBやTPD、TDATA、MTDATA、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。
また、電子受容体としては、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル等を挙げることができる。また、遷移金属酸化物を挙げることができる。また元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
一方、電子輸送性の高い有機化合物に電子供与体が添加された構成とする場合において、電子輸送性の高い有機化合物としては、例えば、Alq、Almq、BeBq、BAlqなど、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等を用いることができる。また、この他、Zn(BOX)、Zn(BTZ)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外にも、PBDやOXD−7、TAZ、BPhen、BCPなども用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。
また、電子供与体としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属または希土類金属または元素周期表における第2、第13族に属する金属およびその酸化物、炭酸塩を用いることができる。具体的には、リチウム(Li)、セシウム(Cs)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、イッテルビウム(Yb)、インジウム(In)、酸化リチウム、炭酸セシウムなどを用いることが好ましい。また、テトラチアナフタセンのような有機化合物を電子供与体として用いてもよい。
なお、上述した材料を用いて電荷発生層(I)205を形成することにより、EL層が積層された場合における駆動電圧の上昇を抑制することができる。
本実施の形態では、EL層を2層有する発光素子について説明したが、図2(B)に示すように、n層(ただし、nは、3以上)のEL層を積層した発光素子についても、同様に適用することが可能である。本実施の形態に係る発光素子のように、一対の電極間に複数のEL層を有する場合、EL層とEL層との間に電荷発生層(I)を配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度領域での発光が可能である。また、電流密度を低く保てるため、長寿命素子を実現できる。また、照明を応用例とした場合は、電極材料の抵抗による電圧降下を小さくできるので、大面積での均一発光が可能となる。また、低電圧駆動が可能で消費電力が低い発光装置を実現することができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を有する発光装置について説明する。
また、上記発光装置は、パッシブマトリクス型の発光装置でもアクティブマトリクス型の発光装置でもよい。なお、本実施の形態に示す発光装置には、他の実施形態で説明した発光素子を適用することが可能である。
本実施の形態では、アクティブマトリクス型の発光装置について図3を用いて説明する。
なお、図3(A)は発光装置を示す上面図であり、図3(B)は図3(A)を鎖線A−A’で切断した断面図である。本実施の形態に係るアクティブマトリクス型の発光装置は、素子基板301上に設けられた画素部302と、駆動回路部(ソース線駆動回路)303と、駆動回路部(ゲート線駆動回路)304a、304bと、を有する。画素部302、駆動回路部303、及び駆動回路部304a、304bは、シール材305によって、素子基板301と封止基板306との間に封止されている。
また、素子基板301上には、駆動回路部303、及び駆動回路部304a、304bに外部からの信号(例えば、ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、又はリセット信号等)や電位を伝達する外部入力端子を接続するための引き回し配線307が設けられる。ここでは、外部入力端子としてFPC(フレキシブルプリントサーキット)308を設ける例を示している。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。
次に、断面構造について図3(B)を用いて説明する。素子基板301上には駆動回路部及び画素部が形成されているが、ここでは、ソース線駆動回路である駆動回路部303と、画素部302が示されている。
駆動回路部303はnチャネル型TFT309とpチャネル型TFT310とを組み合わせたCMOS回路が形成される例を示している。なお、駆動回路部を形成する回路は、種々のCMOS回路、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成しても良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に駆動回路を形成することもできる。
また、画素部302はスイッチング用TFT311と、電流制御用TFT312と電流制御用TFT312の配線(ソース電極又はドレイン電極)に電気的に接続された第1の電極(陽極)313とを含む複数の画素により形成される。なお、第1の電極(陽極)313の端部を覆って絶縁物314が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂を用いることにより形成する。
また、上層に積層形成される膜の被覆性を良好なものとするため、絶縁物314の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにするのが好ましい。例えば、絶縁物314の材料としてポジ型の感光性アクリル樹脂を用いた場合、絶縁物314の上端部に曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物314として、ネガ型の感光性樹脂、或いはポジ型の感光性樹脂のいずれも使用することができ、有機化合物に限らず無機化合物、例えば、酸化シリコン、酸窒化シリコン等、の両者を使用することができる。
第1の電極(陽極)313上には、EL層315及び第2の電極(陰極)316が積層形成されている。EL層315は、少なくとも発光層が設けられており、発光層は、実施の形態1で示した積層構造を有する。また、実施の形態2で示したピレン系化合物を用いることができる。また、EL層315には、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層等を適宜設けることができる。
なお、第1の電極(陽極)313、EL層315及び第2の電極(陰極)316との積層構造で、発光素子317が形成されている。第1の電極(陽極)313、EL層315及び第2の電極(陰極)316に用いる材料としては、実施の形態1に示す材料を用いることができる。また、ここでは図示しないが、第2の電極(陰極)316は外部入力端子であるFPC308に電気的に接続されている。
また、図3(B)に示す断面図では発光素子317を1つのみ図示しているが、画素部302において、複数の発光素子がマトリクス状に配置されているものとする。画素部302には、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子をそれぞれ選択的に形成し、フルカラー表示可能な発光装置を形成することができる。また、カラーフィルタと組み合わせることによってフルカラー表示可能な発光装置としてもよい。
さらに、シール材305で封止基板306を素子基板301と貼り合わせることにより、素子基板301、封止基板306、およびシール材305で囲まれた空間318に発光素子317が備えられた構造になっている。なお、空間318には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材305で充填される構成も含むものとする。
なお、シール材305にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板306に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
以上のようにして、アクティブマトリクス型の発光装置を得ることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成を適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を適用して作製された発光装置を用いて完成させた様々な電子機器の一例について、図4、図5を用いて説明する。
発光装置を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図4に示す。
図4(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置7100は、筐体7101に表示部7103が組み込まれている。表示部7103により、映像を表示することが可能であり、発光装置を表示部7103に用いることができる。また、ここでは、スタンド7105により筐体7101を支持した構成を示している。
テレビジョン装置7100の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー7109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機7110から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。
なお、テレビジョン装置7100は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
図4(B)はコンピュータであり、本体7201、筐体7202、表示部7203、キーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。なお、コンピュータは、発光装置をその表示部7203に用いることにより作製される。
図4(C)は携帯型遊技機であり、筐体7301と筐体7302の2つの筐体で構成されており、連結部7303により、開閉可能に連結されている。筐体7301には表示部7304が組み込まれ、筐体7302には表示部7305が組み込まれている。また、図4(C)に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部7306、記録媒体挿入部7307、LEDランプ7308、入力手段(操作キー7309、接続端子7310、センサ7311(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン7312)等を備えている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも表示部7304および表示部7305の両方、又は一方に発光装置を用いていればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図4(C)に示す携帯型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図4(C)に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。
図4(D)は、携帯電話機の一例を示している。携帯電話機7400は、筐体7401に組み込まれた表示部7402の他、操作ボタン7403、外部接続ポート7404、スピーカ7405、マイク7406などを備えている。なお、携帯電話機7400は、発光装置を表示部7402に用いることにより作製される。
図4(D)に示す携帯電話機7400は、表示部7402を指などで触れることで、情報を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。
表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合、表示部7402の画面のほとんどにキーボード又は番号ボタンを表示させることが好ましい。
また、携帯電話機7400内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、携帯電話機7400の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサで検出される信号を検知し、表示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。
表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部7402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
図5(A)及び図5(B)は2つ折り可能なタブレット型端末である。図5(A)は、開いた状態であり、タブレット型端末は、筐体9630、表示部9631a、表示部9631b、表示モード切り替えスイッチ9034、電源スイッチ9035、省電力モード切り替えスイッチ9036、留め具9033、操作スイッチ9038、を有する。なお、当該タブレット端末は、発光装置を表示部9631a、表示部9631bの一方又は両方に用いることにより作製される。
表示部9631aは、一部をタッチパネルの領域9632aとすることができ、表示された操作キー9637にふれることでデータ入力をすることができる。なお、表示部9631aにおいては、一例として半分の領域が表示のみの機能を有する構成、もう半分の領域がタッチパネルの機能を有する構成を示しているが該構成に限定されない。表示部9631aの全ての領域がタッチパネルの機能を有する構成としても良い。例えば、表示部9631aの全面をキーボードボタン表示させてタッチパネルとし、表示部9631bを表示画面として用いることができる。
また、表示部9631bにおいても表示部9631aと同様に、表示部9631bの一部をタッチパネルの領域9632bとすることができる。また、タッチパネルのキーボード表示切り替えボタン9639が表示されている位置に指やスタイラスなどでふれることで表示部9631bにキーボードボタン表示することができる。
また、タッチパネルの領域9632aとタッチパネルの領域9632bに対して同時にタッチ入力することもできる。
また、表示モード切り替えスイッチ9034は、縦表示または横表示などの表示の向きを切り替え、白黒表示やカラー表示の切り替えなどを選択できる。省電力モード切り替えスイッチ9036は、タブレット型端末に内蔵している光センサで検出される使用時の外光の光量に応じて表示の輝度を最適なものとすることができる。タブレット型端末は光センサだけでなく、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサなどの他の検出装置を内蔵させてもよい。
また、図5(A)では表示部9631bと表示部9631aの表示面積が同じ例を示しているが特に限定されず、一方のサイズともう一方のサイズが異なっていてもよく、表示の品質も異なっていてもよい。例えば一方が他方よりも高精細な表示を行える表示パネルとしてもよい。
図5(B)は、閉じた状態であり、タブレット型端末は、筐体9630、太陽電池9633、充放電制御回路9634、バッテリー9635、DCDCコンバータ9636を有する。なお、図5(B)では充放電制御回路9634の一例としてバッテリー9635、DCDCコンバータ9636を有する構成について示している。
なお、タブレット型端末は2つ折り可能なため、未使用時に筐体9630を閉じた状態にすることができる。従って、表示部9631a、表示部9631bを保護できるため、耐久性に優れ、長期使用の観点からも信頼性の優れたタブレット型端末を提供できる。
また、この他にも図5(A)及び図5(B)に示したタブレット型端末は、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示する機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示部に表示する機能、表示部に表示した情報をタッチ入力操作又は編集するタッチ入力機能、様々なソフトウェア(プログラム)によって処理を制御する機能、等を有することができる。
タブレット型端末の表面に装着された太陽電池9633によって、電力をタッチパネル、表示部、または映像信号処理部等に供給することができる。なお、太陽電池9633は、筐体9630の一面または二面に設けると、効率的なバッテリー9635の充電を行う構成とすることができるため好適である。なおバッテリー9635としては、リチウムイオン電池を用いると、小型化を図れる等の利点がある。
また、図5(B)に示す充放電制御回路9634の構成、及び動作について図5(C)にブロック図を示し説明する。図5(C)には、太陽電池9633、バッテリー9635、DCDCコンバータ9636、コンバータ9638、スイッチSW1乃至SW3、表示部9631について示しており、バッテリー9635、DCDCコンバータ9636、コンバータ9638、スイッチSW1乃至SW3が、図5(B)に示す充放電制御回路9634に対応する箇所となる。
まず外光により太陽電池9633により発電がされる場合の動作の例について説明する。太陽電池で発電した電力は、バッテリー9635を充電するための電圧となるようDCDCコンバータ9636で昇圧または降圧がなされる。そして、表示部9631の動作に太陽電池9633からの電力が用いられる際にはスイッチSW1をオンにし、コンバータ9638で表示部9631に必要な電圧に昇圧または降圧をすることとなる。また、表示部9631での表示を行わない際には、スイッチSW1をオフにし、スイッチSW2をオンにしてバッテリー9635の充電を行う構成とすればよい。
なお太陽電池9633については、発電手段の一例として示したが、特に限定されず、圧電素子(ピエゾ素子)や熱電変換素子(ペルティエ素子)などの他の発電手段によるバッテリー9635の充電を行う構成であってもよい。例えば、無線(非接触)で電力を送受信して充電する無接点電力伝送モジュールや、また他の充電手段を組み合わせて行う構成としてもよい。
また、上記実施の形態で説明した表示部を具備していれば、図5に示した電子機器に特に限定されないことは言うまでもない。
以上のようにして、本発明の一態様である発光装置を適用して電子機器を得ることができる。発光装置の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を含む発光装置を適用した照明装置の一例について、図6を用いて説明する。
図6は、発光装置を室内の照明装置8001として用いた例である。なお、発光装置は大面積化も可能であるため、大面積の照明装置を形成することもできる。その他、曲面を有する筐体を用いることで、発光領域が曲面を有する照明装置8002を形成することもできる。本実施の形態で示す発光装置に含まれる発光素子は薄膜状であり、筐体のデザインの自由度が高い。したがって、様々な意匠を凝らした照明装置を形成することができる。さらに、室内の壁面に大型の照明装置8003を備えても良い。
また、発光装置をテーブルの表面に用いることによりテーブルとしての機能を備えた照明装置8004とすることができる。なお、その他の家具の一部に発光装置を用いることにより、家具としての機能を備えた照明装置とすることができる。
以上のように、発光装置を適用した様々な照明装置が得られる。なお、これらの照明装置は本発明の一態様に含まれるものとする。
また、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
≪合成例1≫
本実施例では、実施の形態2の構造式(100)で表される本発明の一態様であるピレン系化合物、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)の合成方法について説明する。なお、1,6PCAPrn(略称)の構造を以下に示す。
<N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)の合成>
100mL三口フラスコに、0.80g(2.2mmol)の1,6−ジブロモピレンと、1.5g(4.4mmol)のN−フェニル−N−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)アミンと、0.86g(9.0mmol)のナトリウム tert−ブトキシドを入れた。フラスコ内を窒素置換してから、この混合物へ25mLのトルエンと、2.2mLのトリ−tert−ブチル−ホスフィン(10wt%ヘキサン溶液)を加えた。
この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気をした。脱気後、この混合物へ0.12g(0.22mmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加えた。この混合物を窒素気流下、110℃で7時間攪拌したところ固体が析出した。攪拌後、この混合物を吸引ろ過して固体を得た。
得られた固体を約500mLの熱したトルエンに溶かし、この溶液をセライト、アルミナ、フロリジールを通して吸引ろ過した。得られたろ液を濃縮して固体を得た。得られた固体をクロロホルム/ヘキサンで再結晶したところ、目的物の黄色粉末状固体を0.84g、収率43%で得た。
さらに、得られた黄色粉末状固体0.84gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製条件は、圧力を3.5Paとし、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、加熱条件を328℃とした。昇華精製後、1,6PCAPrnの黄色固体を0.31g、回収率37%で得た。
上記合成方法の反応スキームを下記(a−1)に示す。
上記合成法で得られた化合物の核磁気共鳴分光法(H−NMR)による分析結果を下記に示す。また、H−NMRチャートを図7に示す。なお,図7(B)は,図7(A)を拡大して表したチャートである。この結果から、上述の構造式(100)で表される本発明の一態様のピレン系化合物であるN,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)が得られたことがわかった。
H NMR(CCl,300MHz):δ=8.16(t,J=7.2Hz,2H),8.26(d,J=8.4Hz,4H),8.43−8.52(m,9H),8.59−8.74(m,10H),8.84−8.86(m,8H),9.15−9.22(m,3H),9.26(s,2H),9.36(d,J=8.1Hz,2H),9.54(d,J=8.7Hz,2H)。
次に、本実施例で得られた1,6PCAPrn(略称)を液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry,略称:LC/MS分析)によって分析した。
LC/MS分析は、ウォーターズ社製Acquity UPLCおよびウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSを用いて行った。
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization、略称:ESI)によるイオン化を行った。この時のキャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30Vとし、検出はポジティブモードで行った。
さらに、以上の条件でイオン化された成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させて複数のプロダクトイオンに解離させた。アルゴンを衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は70eVとした。なお、測定する質量範囲はm/z=100〜1200とした。
測定結果を図21に示す。図21の結果から、構造式(100)で表される本発明の一態様であるピレン系化合物、1,6PCAPrn(略称)は、主としてm/z=790付近、m/z=624付近、m/z=532付近でプロダクトイオンが検出されることがわかった。
なお、図21に示す結果は、1,6PCAPrn(略称)に由来する特徴的な結果を示すものであることから、混合物中に含まれる1,6PCAPrn(略称)を同定する上での重要なデータであるといえる。
なお、m/z=790付近のプロダクトイオンは、構造式(100)の化合物から、フェニル基が一つ離脱した状態のカチオンと推定され、本発明の一態様であるピレン系化合物の特徴の一つである。また、m/z=624付近のプロダクトイオンは、構造式(100)の化合物から、9−フェニル−9H−カルバゾリル基が一つ離脱した状態のカチオンと推定されるため、本発明の一態様であるピレン系化合物1,6PCAPrn(略称)が、9−フェニル−9H−カルバゾリル基を含んでいることを示唆するものである。また、m/z=381付近のプロダクトイオンは、ピレンジアミンにフェニル基が2つ結合した状態のカチオンと推測される。
次に、1,6PCAPrn(略称)の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用いた。また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用いた。また、吸収スペクトルおよび発光スペクトルのいずれの場合も1,6PCAPrn(略称)のトルエン溶液と、1,6PCAPrn(略称)の薄膜について測定した。なお、トルエン溶液の場合には、石英セルに入れ、室温で測定を行った。また薄膜の場合には、石英基板に蒸着した薄膜を用い、吸収スペクトルを測定する場合には薄膜のスペクトルから石英の吸収スペクトルを差し引いて得られる値を示す。
得られた吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図8に示す。なお、図8(A)には、1,6PCAPrn(略称)のトルエン溶液について測定した結果を示す。また、図8(B)には、1,6PCAPrn(略称)の薄膜について測定した結果を示す。図8(A)および図8(B)において、横軸は波長(nm)、縦軸は吸収強度(任意単位)または発光強度(任意単位)を表す。また、図8(A)および図8(B)において、2本の実線が示されているが、細い実線は吸収スペクトルを示し、太い実線は発光スペクトルを示している。
図8(A)に示す1,6PCAPrn(略称)のトルエン溶液では、444nm付近に吸収ピークが見られ、図8(B)に示す1,6PCAPrn(略称)の薄膜では、450nm付近に吸収ピークが見られた。
また、図8(A)に示す1,6PCAPrn(略称)のトルエン溶液では、最大発光波長が489nm(励起波長445nm)、図8(B)に示す1,6PCAPrn(略称)の薄膜では、最大発光波長が526nm(励起波長450nm)であった。
以上のことから、1,6PCAPrn(略称)は色純度の良い青緑色発光を呈することが分かった。従って、青緑色の発光材料として用いることができる。
また、1,6PCAPrn(略称)のHOMO準位およびLUMO準位について、サイクリックボルタンメトリ(CV)測定を行うことにより求めた。CV測定には、電気化学アナライザー(ビー・エー・エス(株)製、型番:ALSモデル600Aまたは600C)を用いた。
また、CV測定における溶液は、溶媒として脱水ジメチルホルムアミド(DMF)((株)アルドリッチ製、99.8%、カタログ番号;22705−6)を用い、支持電解質である過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム(n−BuNClO)((株)東京化成製、カタログ番号;T0836)を100mmol/Lの濃度となるように溶解させ、さらに測定対象を2mmol/Lの濃度となるように溶解させて調製した。また、作用電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、PTE白金電極)を、補助電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、VC−3用Ptカウンター電極(5cm))を、参照電極としてはAg/Ag電極(ビー・エー・エス(株)製、RE7非水溶媒系参照電極)をそれぞれ用いた。また、測定は室温(20〜25℃)とし、測定時のスキャン速度は、0.1V/secに統一した。なお、本実施例では、参照電極の真空準位に対するポテンシャルエネルギーを、−4.94eVであるとした。
CV測定で得られる酸化ピーク電位Epaと還元ピーク電位Epcとの中間の電位(半波電位)がHOMO準位に相当することから、1,6PCAPrn(略称)のHOMO準位は、−5.32eVと算出され、さらに1,6PCAPrn(略称)のLUMO準位は、−2.75eVと算出された。
なお、本実施例で合成した1,6PCAPrn(略称)を用い、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度である別のピレン系化合物と積層させてなる発光層を形成することにより、積層された発光層の界面にホールトラップ性を持たせつつ、電子の移動を阻害しにくい構造を有する積層型の発光層を形成することができる。
≪合成例2≫
本実施例では、実施の形態2の構造式(108)で表される本発明の一態様であるピレン系化合物、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]ジアミン(略称:1,6PCBAPrn)の合成方法について説明する。なお、1,6PCBAPrn(略称)の構造を以下に示す。
<N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]ジアミン(略称:1,6PCBAPrn)の合成>
1,6−ジブロモピレン0.4g(1.2mmol)、4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジフェニルアミン1.5g(3.5mmol)、ナトリウム tert−ブトキシド0.5g(5.3mmol)を50mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。
この混合物にトルエン17.7mLと、トリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘキサン溶液0.2mLを加えた。この混合物を80℃にし、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)33.4mg(0.05mmol)を加え4.0時間攪拌した後、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)22.4mg(0.04mmol)を加え、0.5時間攪拌した。攪拌後、フロリジール、セライト、アルミナを通して吸引ろ過し、ろ液を得た。
得られたろ液を濃縮し得た固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=3:2)により精製し、得られたフラクションを濃縮し、目的の黄色固体を得た。得られた固体をクロロホルム/ヘキサンにより再結晶を行い、黄色固体を1.1g 収率90%で得た。
得られた黄色固体0.8gを、トレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製条件は、圧力を1.1×10−2Paとし、加熱条件は、400℃で4.5時間、408℃で3.0時間とした。昇華精製後、目的物の黄色固体を0.4g、回収率48%で得た。
上記合成方法の反応スキームを下記(b−1)に示す。
上記合成法で得られた化合物の核磁気共鳴分光法(H−NMR)による分析結果を下記に示す。また、H−NMRチャートを図9に示す。なお,図9(B)は,図9(A)を拡大して表したチャートである。この結果から、上述の構造式(108)で表される本発明の一態様のピレン系化合物であるN,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]ジアミン(略称:1,6PCBAPrn)が得られたことがわかった。
H NMR(CHCl,300MHz):δ=6.98(t,J=7.2Hz,2H),7.14−7.31(m,14H),7.38−7.50(m,8H),7.56−7.64(m,14H),7.89(d,J=7.8Hz,2H),7.97(d,J=9.3Hz,2H),8.13−8.17(m,4H),8.21(d,J=9.3Hz,2H),8.31(d,J=2.1Hz,2H)。
次に、1,6PCBAPrn(略称)の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用いた。また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用いた。また、吸収スペクトルおよび発光スペクトルのいずれの場合も1,6PCBAPrn(略称)のトルエン溶液と、1,6PCBAPrn(略称)の薄膜について測定した。なお、トルエン溶液の場合には、石英セルに入れ、室温で測定を行った。また薄膜の場合には、石英基板に蒸着した薄膜を用い、吸収スペクトルを測定する場合には薄膜のスペクトルから石英の吸収スペクトルを差し引いて得られる値を示す。
得られた吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図10に示す。なお、図10(A)には、1,6PCBAPrn(略称)のトルエン溶液について測定した結果を示す。また、図10(B)には、1,6PCBAPrn(略称)の薄膜について測定した結果を示す。図10(A)および図10(B)において、横軸は波長(nm)、縦軸は吸収強度(任意単位)または発光強度(任意単位)を表す。また、図10(A)および図10(B)において、2本の実線が示されているが、細い実線は吸収スペクトルを示し、太い実線は発光スペクトルを示している。
図10(A)に示す1,6PCBAPrn(略称)のトルエン溶液では、439nm付近に吸収ピークが見られ、図10(B)に示す1,6PCBAPrn(略称)の薄膜では、448nm付近に吸収ピークが見られた。
また、図10(A)に示す1,6PCBAPrn(略称)のトルエン溶液では、最大発光波長が474nm(励起波長370nm)、図10(B)に示す1,6PCBAPrn(略称)の薄膜では、最大発光波長が526nm(励起波長438nm)であった。
以上のことから、1,6PCBAPrn(略称)は色純度の良い青緑色発光を呈することが分かった。従って、青緑色の発光材料として用いることができる。
また、1,6PCBAPrn(略称)のHOMO準位およびLUMO準位について、サイクリックボルタンメトリ(CV)測定を行うことにより求めた。CV測定には、電気化学アナライザー(ビー・エー・エス(株)製、型番:ALSモデル600Aまたは600C)を用いた。
また、CV測定における溶液は、溶媒として脱水ジメチルホルムアミド(DMF)((株)アルドリッチ製、99.8%、カタログ番号;22705−6)を用い、支持電解質である過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム(n−BuNClO)((株)東京化成製、カタログ番号;T0836)を100mmol/Lの濃度となるように溶解させ、さらに測定対象を2mmol/Lの濃度となるように溶解させて調製した。また、作用電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、PTE白金電極)を、補助電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、VC−3用Ptカウンター電極(5cm))を、参照電極としてはAg/Ag電極(ビー・エー・エス(株)製、RE7非水溶媒系参照電極)をそれぞれ用いた。また、測定は室温(20〜25℃)とし、測定時のスキャン速度は、0.1V/secに統一した。なお、本実施例では、参照電極の真空準位に対するポテンシャルエネルギーを、−4.94eVであるとした。
CV測定で得られる酸化ピーク電位Epaと還元ピーク電位Epcとの中間の電位(半波電位)がHOMO準位に相当することから、1,6PCBAPrn(略称)のHOMO準位は、−5.19eVと算出され、さらに1,6PCBAPrn(略称)のLUMO準位は、−2.62eVと算出された。
なお、本実施例で合成した1,6PCBAPrn(略称)を用い、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度である別のピレン系化合物と積層させてなる発光層を形成することにより、積層された発光層の界面にホールトラップ性を持たせつつ、電子の移動を阻害しにくい構造を有する積層型の発光層を形成することができる。
本実施例では、ピレン系化合物N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(1,6PCAPrn(略称)(構造式(100))を発光層に用いた発光素子1について図11を用いて説明する。なお、本実施例で用いる材料の化学式を以下に示す。
≪発光素子1の作製≫
まず、ガラス製の基板1100上に酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により成膜し、陽極として機能する第1の電極1101を形成した。なお、その膜厚は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板1100上に発光素子1を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板1100を30分程度放冷した。
次に、第1の電極1101が形成された面が下方となるように、基板1100を真空蒸着装置内に設けられたホルダーに固定した。本実施例では、真空蒸着法により、EL層1102を構成する正孔注入層1111、正孔輸送層1112、発光層1113、電子輸送層1114、電子注入層1115が順次形成される場合について説明する。
真空装置内を10−4Paに減圧した後、1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)と酸化モリブデン(VI)とを、DBT3P−II(略称):酸化モリブデン=4:2(質量比)となるように共蒸着することにより、第1の電極1101上に正孔注入層1111を形成した。膜厚は70nmとした。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
次に、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)を30nm蒸着することにより、正孔輸送層1112を形成した。
次に、正孔輸送層1112上に発光層1113を形成した。なお、本実施例における発光層1113は、第1の発光層1113aと第2の発光層1113bの2層が積層された構造を有する。まず、第1の発光層1113aを9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)を、CzPA(略称):1,6mMemFLPAPrn(略称)=1:0.05(質量比)となるように共蒸着し、5nmの膜厚で形成した後、第2の発光層1113bを9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)を、CzPA(略称):1,6PCAPrn(略称)=1:0.1(質量比)となるように共蒸着し、20nmの膜厚で形成した。以上により、発光層1113を形成した。
次に、発光層1113上に9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)を10nm蒸着した後、さらに、バソフェナントロリン(略称:Bphen)を15nm蒸着することにより、電子輸送層1114を形成した。さらに電子輸送層1114上に、フッ化リチウムを1nm蒸着することにより、電子注入層1115を形成した。
最後に、電子注入層1115上にアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着し、陰極となる第2の電極1103形成し、発光素子1を得た。なお、上述した蒸着過程において、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子1の素子構造を表1に示す。
また、作製した発光素子は、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないように封止した。
≪発光素子1の動作特性≫
作製した発光素子1の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
まず、発光素子1の輝度−電流効率特性を図12に示す。なお、図12において、縦軸は電流効率(cd/A)、横軸は輝度(cd/m)を表す。また、発光素子1の電圧−電流特性を図13に示す。なお、図13において、縦軸に電流(mA)、横軸に電圧(V)を示す。また、発光素子1のCIE色度座標を図14に示す。なお、図14において、縦軸にY座標、横軸にX座標を示す。また、1000cd/m付近における発光素子1の主な初期特性値を以下の表2に示す。
上記結果から、本実施例で作製した発光素子1は、高い外部量子効率を示しているので、高い発光効率を示すことが分かる。さらに、色純度に関しては、純度の良い青緑色発光を示すことが分かる。
また、発光素子1に25mA/cmの電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを、図15に示す。図15に示す通り、発光素子の発光スペクトルは491nmと470nm付近にピークを有しており、ピレン系化合物1,6PCAPrn(略称)と1,6mMemFLPAPrn(略称)の発光に由来していることが示唆される。
また、発光素子1についての信頼性試験を行った。結果を図16に示す。なお、信頼性試験は、初期輝度を5000cd/mに設定し、電流密度一定の条件で発光素子1を駆動させた。その結果、発光素子1の300時間後の輝度は、初期輝度の74%程度を保っていた。したがって、発光素子1は、高い信頼性を示すことがわかった。
本実施例で示した発光素子は、発光層に含まれるゲスト材料の1,6mMemFLPAPrn(略称)に由来の青色発光と、1,6PCAPrn(略称)に由来の青緑色の発光が得られる発光素子である。通常、1,6mMemFLPAPrn(略称)をゲスト材料として含み青色発光が得られる発光素子の外部量子効率(8.4%)に比べて、1,6PCAPrn(略称)をゲスト材料として含み青緑発光が得られる発光素子の外部量子効率(7.2%)は低下する傾向にあるが、本実施例の場合においては、両方の物質をゲスト材料として含んでいても、外部量子効率が8.5%と同程度以上を得られた。
従って、本実施例で示したような、共通のホスト材料と、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度である別のピレン系化合物(1,6PCBAPrn(略称):HOMO準位(−5.32eV)、LUMO準位(−2.75eV)、1,6mMemFLPAPrn(略称):HOMO準位(−5.50eV)、LUMO準位(−2.82eV))をゲスト材料としてそれぞれ含む発光層が積層された発光素子を形成することにより、積層された発光層の界面に両ゲスト材料のHOMO準位の差により生じるホールトラップ性を持たせつつ、両ゲスト材料のLUMO準位が同程度であるため電子の移動を阻害しにくい構造を有する積層型の発光層を形成することができるので、発光効率の高い発光素子が実現できる。また、共通のホスト材料としては、本実施例で用いたCzPA(HOMO準位:−5.64eV、LUMO準位:−2.71eV)のように、アントラセンを含む材料であって、特にアミン骨格を有さずアントラセンを含む材料が好ましい。これにより、発光素子の長寿命化を図ることもできる。また、上記構造を有する発光素子において、発光色の異なる発光層をさらに積層させることにより、演色性の高い発光素子を提供することができる。
(参考例)
本参考例では、実施例3で用いた下記の構造式で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)の合成例について示す。
[ステップ1:3−メチルフェニル−3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニルアミン(略称:mMemFLPA)の合成法]
9−(3−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレン3.2g(8.1mmol)、ナトリウム tert−ブトキシド2.3g(24.1mmol)を200mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエン40.0mL、m−トルイジン0.9mL(8.3mmol)、トリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘキサン溶液0.2mLを加えた。この混合物を60℃にし、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)44.5mg(0.1mmol)を加え、この混合物を80℃にして2.0時間攪拌した。攪拌後、フロリジール、セライト、アルミナを通して吸引ろ過し、ろ液を得た。得られたろ液を濃縮し得た固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=1:1)により精製し、トルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶し、目的の白色固体2.8gを、収率82%で得た。上記ステップ1の合成スキームを下記(C−1)に示す。
[ステップ2:N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)の合成法]
1,6−ジブロモピレン0.6g(1.7mmol)、3−メチルフェニル−3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニルアミン1.4g(3.4mmol)、ナトリウム tert−ブトキシド0.5g(5.1mmol)を100mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエン21.0mL、トリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘキサン溶液0.2mLを加えた。この混合物を60℃にし、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)34.9mg(0.1mmol)を加え、この混合物を80℃にして3.0時間攪拌した。攪拌後、トルエンを400mL加えて加熱し、熱いまま、フロリジール、セライト、アルミナを通して吸引ろ過し、ろ液を得た。得られたろ液を濃縮し得た固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=3:2)により精製し、黄色固体を得た。得られた黄色固体をトルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶し、目的の黄色固体を1.2g、収率67%で得た。
得られた黄色固体1.0gを、トレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製条件は、圧力2.2Pa、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、317℃で黄色固体を加熱した。昇華精製後、目的物の黄色固体1.0gを、回収率93%で得た。上記ステップ2の合成スキームを下記(C−2)に示す。
核磁気共鳴法(NMR)によって、この化合物が目的物であるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)であることを確認した。
得られた化合物のH NMRデータを以下に示す。
H NMR(CDCl,300MHz):δ=2.21(s、6H)、6.67(d、J=7.2Hz、2H)、6.74(d、J=7.2Hz、2H)、7.17−7.23(m、34H)、7.62(d、J=7.8Hz、4H)、7.74(d、J=7.8Hz、2H)、7.86(d、J=9.0Hz、2H)、8.04(d、J=8.7Hz、4H)。
本実施例では、実施例1において合成したピレン系化合物、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)(構造式(100))を発光層に用いた図17に示す発光素子2を作製し、その動作特性について測定した。なお、本実施例で作製した発光素子2は、実施の形態3で説明した、電荷発生層を挟んでEL層を複数有する構造の発光素子(以下、タンデム型発光素子という)である。なお、本実施例で用いる材料の化学式を以下に示す。
≪発光素子2の作製≫
まず、ガラス製の基板3000上に酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により成膜し、陽極として機能する第1の電極3001を形成した。なお、その膜厚は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板3000上に発光素子2を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板3000を30分程度放冷した。
次に、第1の電極3001が形成された面が下方となるように、基板3000を真空蒸着装置内に設けられたホルダーに固定した。本実施例では、真空蒸着法により、第1のEL層3002aを構成する第1の正孔注入層3011a、第1の正孔輸送層3012a、第1の発光層3013a、第1の電子輸送層3014a、第1の電子注入層3015aを順次形成した後、電荷発生層3016を形成し、次に第2のEL層3002bを構成する第2の正孔注入層3011b、第2の正孔輸送層3012b、第2の発光層3013b、第2の電子輸送層3014b、第2の電子注入層3015bを形成する場合について説明する。
真空装置内を10−4Paに減圧した後、9−[4−(9―フェニルカルバゾール−3−イル)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)と酸化モリブデン(VI)とを、PCzPA(略称):酸化モリブデン=1:0.5(質量比)となるように共蒸着することにより、第1の電極3001上に第1の正孔注入層3011aを形成した。膜厚は33.3nmとした。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
次に、PCzPA(略称)を30nm蒸着することにより、第1の正孔輸送層3012aを形成した。
次に、第1の正孔輸送層3012a上に第1の発光層3013aを形成した。9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)を、CzPA(略称):1,6mMemFLPAPrn(略称)=1:0.05(質量比)となるように共蒸着し、5nmの膜厚で形成した後、CzPA(略称)、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレニル)−N,N’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)ジアミン(略称:1,6PCAPrn)を、CzPA(略称):1,6PCAPrn(略称)=1:0.01(質量比)となるように共蒸着し、25nmの膜厚で形成して積層することにより、第1の発光層3013aを形成した。
次に、第1の発光層3013a上にCzPA(略称)を5nm蒸着した後、さらに、バソフェナントロリン(略称:Bphen)を15nm蒸着することにより、第1の電子輸送層3014aを形成した。さらに第1の電子輸送層3014a上に、酸化リチウム(LiO)を0.1nm蒸着することにより、第1の電子注入層3015aを形成した。
次に、第1の電子注入層3015a上に、銅フタロシアニン(略称:CuPc)を膜厚2nmで蒸着することにより、電荷発生層3016を形成した。
次に、電荷発生層3016上に、PCzPA(略称)と酸化モリブデン(VI)とを、PCzPA(略称):酸化モリブデン=1:0.5(質量比)となるように共蒸着することにより、第2の正孔注入層3011bを形成した。膜厚は50nmとした。
次に、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)を20nm蒸着することにより、第2の正孔輸送層3012bを形成した。
次に、第2の正孔輸送層3012b上に第2の発光層3013bを形成した。2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTPDBq−II)、4−フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBA1BP)、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(dppm)(acac)])を、2mDBTPDBq−II(略称):PCBA1BP(略称):[Ir(dppm)(acac)](略称)=0.8:0.2:0.06(質量比)となるように共蒸着し、第2の発光層3013bを形成した。膜厚は、40nmとした。
次に、第2の発光層3013b上に2mDBTPDBq−II(略称)を15nm蒸着した後、さらに、Bphen(略称)を15nm蒸着することにより、第2の電子輸送層3014bを形成した。さらに第2の電子輸送層3014b上に、フッ化リチウム(LiF)を0.1nm蒸着することにより、第2の電子注入層3015bを形成した。
最後に、第2の電子注入層3015b上にアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着し、陰極となる第2の電極3003を形成し、発光素子2を得た。なお、上述した蒸着過程において、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子2の素子構造を表3に示す。
また、作製した発光素子2は、大気に曝されないように窒素雰囲気のグローブボックス内において封止した(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時に80℃にて1時間熱処理)。
≪発光素子2の動作特性≫
作製した発光素子2の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
まず、発光素子2の輝度−電流効率特性を図18に示す。なお、図18において、縦軸は電流効率(cd/A)、横軸は輝度(cd/m)を表す。また、発光素子2のCIE色度座標を図19に示す。なお、図19において、縦軸にY座標、横軸にX座標を示す。また、1000cd/m付近における発光素子2の主な初期特性値を以下の表4に示す。
上記結果から、本実施例で作製した発光素子2は、高い外部量子効率を示しているので、高い発光効率を示すことが分かる。さらに、色度(x、y)から、白色発光(電球色)を示すことが分かる。
また、発光素子2に0.1mA/cmの電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを、図20に示す。図20に示す通り、発光素子2の発光スペクトルは471nm、581nmにそれぞれピークを有しており、発光層に含まれるピレン系化合物1,6PCAPrn(略称)と1,6mMemFLPAPrn(略称)、および燐光性有機金属イリジウム錯体、[Ir(dppm)(acac)](略称)の発光に由来していることが示唆される。なお、このスペクトルから算出される平均演色評価数(Ra)は43.6であり、高い演色性を示している。
したがって、本実施例で示したような、共通のホスト材料と、HOMO準位が異なるがLUMO準位が同程度である別のピレン系化合物をゲスト材料としてそれぞれ含む発光層が積層された発光素子を形成することにより、積層された発光層の界面に両ゲスト材料のHOMO準位の差により生じるホールトラップ性を持たせつつ、両ゲスト材料のLUMO準位が同程度であるため電子の移動を阻害しにくい構造を有する積層型の発光層を形成することができるので、発光効率の高い発光素子が実現できる。さらに本実施例で示す発光素子では、発光色が異なる燐光性有機金属イリジウム錯体を有する発光層を積層していることから、さらに発光効率の高い、白色発光素子が得られる。
101 第1の電極
102 EL層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
116 電荷発生層(E)
201 第1の電極
202(1) 第1のEL層
202(2) 第2のEL層
202(n−1) 第(n−1)のEL層
202(n) 第(n)のEL層
204 第2の電極
205 電荷発生層(I)
205(1) 第1の電荷発生層(I)
205(2) 第2の電荷発生層(I)
205(n−2) 第(n−2)の電荷発生層(I)
205(n−1) 第(n−1)の電荷発生層(I)
301 素子基板
302 画素部
303 駆動回路部(ソース線駆動回路)
304a、304b 駆動回路部(ゲート線駆動回路)
305 シール材
306 封止基板
307 配線
308 FPC(フレキシブルプリントサーキット)
309 nチャネル型TFT
310 pチャネル型TFT
311 スイッチング用TFT
312 電流制御用TFT
313 第1の電極(陽極)
314 絶縁物
315 EL層
316 第2の電極(陰極)
317 発光素子
318 空間
1100 基板
1101 第1の電極
1102 EL層
1103 第2の電極
1111 正孔注入層
1112 正孔輸送層
1113 発光層
1114 電子輸送層
1115 電子注入層
7100 テレビジョン装置
7101 筐体
7103 表示部
7105 スタンド
7107 表示部
7109 操作キー
7110 リモコン操作機
7201 本体
7202 筐体
7203 表示部
7204 キーボード
7205 外部接続ポート
7206 ポインティングデバイス
7301 筐体
7302 筐体
7303 連結部
7304 表示部
7305 表示部
7306 スピーカ部
7307 記録媒体挿入部
7308 LEDランプ
7309 操作キー
7310 接続端子
7311 センサ
7312 マイクロフォン
7400 携帯電話機
7401 筐体
7402 表示部
7403 操作ボタン
7404 外部接続ポート
7405 スピーカ
7406 マイク
8001 照明装置
8002 照明装置
8003 照明装置
8004 照明装置
9033 留め具
9034 表示モード切り替えスイッチ
9035 電源スイッチ
9036 省電力モード切り替えスイッチ
9038 操作スイッチ
9630 筐体
9631 表示部
9631a 表示部
9631b 表示部
9632a タッチパネルの領域
9632b タッチパネルの領域
9633 太陽電池
9634 充放電制御回路
9635 バッテリー
9636 DCDCコンバータ
9637 操作キー
9638 コンバータ
9639 ボタン
3000 基板
3001 第1の電極
3002a 第1のEL層
3002b 第2のEL層
3003 第2の電極
3011a 第1の正孔注入層
3011b 第2の正孔注入層
3012a 第1の正孔輸送層
3012b 第2の正孔輸送層
3013a 第1の発光層
3013b 第2の発光層
3014a 第1の電子輸送層
3014b 第2の電子輸送層
3015a 第1の電子注入層
3015b 第2の電子注入層
3016 電荷発生層

Claims (8)

  1. 式(G1)で表される化合物(ただし、重水素またはハロゲンで置換されたものを除く)

    (式中、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、αは、置換又は無置換のフェニレン基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。また、nは、0または1である。)
  2. 式(G2)で表される化合物(ただし、重水素またはハロゲンで置換されたものを除く)

    (式中、Arは、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、R〜R12はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。また、R13〜R20は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基のいずれかを表す。)
  3. 式(G3)で表される化合物。

    (式中、R〜R12およびR21〜R25は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを表す。)
  4. 式(100)または式(108)で表される化合物。

  5. 一対の電極間に、請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の化合物を有する発光素子。
  6. 請求項5に記載の発光素子を有する発光装置。
  7. 請求項6に記載の発光装置を有する電子機器。
  8. 請求項6に記載の発光装置を有する照明装置。
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