JP6211897B2 - Method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal - Google Patents

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本発明は、3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal.

3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法として、金属触媒の存在下に、(ペルフルオロアルキル)エチレンと、一酸化炭素および水素とを反応させる方法、いわゆるヒドロホルミル化が知られている。非特許文献1には、コバルト、白金、ルテニウムまたはロジウム化合物から成る触媒の存在下、110−130気圧の一酸化炭素と水素の1:1混合ガス中で3,3,4,4,4−ペンタフルオロ−1−ブテン、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテン、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロ−1−デセンをヒドロホルミル化する方法が開示されている。また、非特許文献2および3には、ロジウム化合物とジホスフィンから成る触媒の存在下、20−100気圧の一酸化炭素と水素の1:1混合ガス中で3,3,3−トリフルオロプロペン、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロ−1−オクテンをヒドロホルミル化する方法が開示されている。   As a method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal, a method in which (perfluoroalkyl) ethylene is reacted with carbon monoxide and hydrogen in the presence of a metal catalyst, so-called hydroformylation is known. Non-Patent Document 1 discloses 3,3,4,4,4-4-in a 1: 1 gas mixture of carbon monoxide and hydrogen at 110 to 130 atm in the presence of a catalyst composed of a cobalt, platinum, ruthenium or rhodium compound. Pentafluoro-1-butene, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-1-pentene, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8, A method for hydroformylating 8,9,9,10,10,10-heptadecafluoro-1-decene is disclosed. Non-Patent Documents 2 and 3 include 3,3,3-trifluoropropene in a 1: 1 mixed gas of carbon monoxide and hydrogen at 20 to 100 atm in the presence of a catalyst composed of a rhodium compound and diphosphine. A method for hydroformylating 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluoro-1-octene is disclosed.

(ペルフルオロアルキル)エチレンのヒドロホルミル化においては、目的とする3−(ペルフルオロアルキル)プロパナール(以下、直鎖アルデヒドと称する)とともに、2−メチル−2−(ペルフルオロアルキル)エタナール(以下、分岐アルデヒドと称する)が副生する。ヒドロホルミル化後の分離工程を簡便にするためには、分岐アルデヒドの副生を極力抑制し、生成する直鎖アルデヒドの割合((直鎖アルデヒドの収率)/(直鎖アルデヒドの収率+分岐アルデヒドの収率)、以下、選択率と称する)が高いことが好ましい。非特許文献1に記載のオクタカルボニルジコバルト存在下での3,3,3−トリフルオロプロペンのヒドロホルミル化では、直鎖アルデヒドである4,4,4−トリフルオロブタナールの選択率は、93%である。また、白金、ルテニウムまたはロジウム化合物の存在下では、3%−71%である。さらにテトラロジウムドデカカルボニルの存在下、3,3,4,4,4−ペンタフルオロ−1−ブテン、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテン、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロ−1−デセンのヒドロホルミル化では、選択率は、5.3−27.2%である。また、非特許文献2および3に記載のロジウム化合物存在下での3,3,3−トリフルオロプロペンのヒドロホルミル化では、選択率は4−12%である。また、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロ−1−オクテンのヒドロホルミル化では、選択率は9%である。   In the hydroformylation of (perfluoroalkyl) ethylene, 2-methyl-2- (perfluoroalkyl) ethanal (hereinafter referred to as a branched aldehyde) together with the desired 3- (perfluoroalkyl) propanal (hereinafter referred to as a linear aldehyde). By-product). In order to simplify the separation step after hydroformylation, the by-product of branched aldehydes is suppressed as much as possible, and the ratio of linear aldehydes produced ((linear aldehyde yield) / (linear aldehyde yield + branch). The yield of aldehyde (hereinafter referred to as selectivity) is preferably high. In hydroformylation of 3,3,3-trifluoropropene in the presence of octacarbonyl dicobalt as described in Non-Patent Document 1, the selectivity of 4,4,4-trifluorobutanal, which is a linear aldehyde, is 93 %. Further, in the presence of platinum, ruthenium or rhodium compound, it is 3% -71%. Further, 3,3,4,4,4-pentafluoro-1-butene, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-1-pentene, 3,3 in the presence of tetrarhodium dodecacarbonyl 4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluoro-1-decene, the selectivity is 5.3. -27.2%. In the hydroformylation of 3,3,3-trifluoropropene in the presence of the rhodium compound described in Non-Patent Documents 2 and 3, the selectivity is 4-12%. In the hydroformylation of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluoro-1-octene, the selectivity is 9%.

1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス(1,1−ジフェニルホスフィン)およびその誘導体は、ロジウム化合物と組み合わせて用いることにより、選択率が極めて高いヒドロホルミル化用触媒となることが開示されている(例えば、非特許文献4、5)。また、6,6’−[(3,3’−ジ−tert−ブチル−5,5’−ジメトキシ−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(オキシ)]ビス(ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン)は、ロジウム化合物と組み合わせて用いることにより、選択率が極めて高いヒドロホルミル化用触媒となることが開示されている(例えば、非特許文献6)。これらの触媒系を用いたヒドロホルミル化でも、10−33気圧の高圧の一酸化炭素と水素の1:1混合ガス中で実施されている。また、これらの触媒系を用いて、(ペルフルオロアルキル)エチレンのヒドロホルミル化を実施した例はない。   1,1 ′-(9,9-Dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis (1,1-diphenylphosphine) and its derivatives have a very high selectivity when used in combination with a rhodium compound. It is disclosed that it becomes a catalyst for hydroformylation (for example, Non-Patent Documents 4 and 5). In addition, 6,6 ′-[(3,3′-di-tert-butyl-5,5′-dimethoxy-1,1′-biphenyl-2,2′-diyl) bis (oxy)] bis (dibenzo [ d, f] [1,3,2] dioxaphosphepine) is disclosed to be a catalyst for hydroformylation having a very high selectivity when used in combination with a rhodium compound (for example, non-patent) Reference 6). Hydroformylation using these catalyst systems is also carried out in a 1: 1 mixture gas of carbon monoxide and hydrogen at a high pressure of 10-33 atm. Moreover, there is no example which hydroformylated (perfluoroalkyl) ethylene using these catalyst systems.

Journal of the American Chemical Society,109巻,7714ページ,1987年.Journal of the American Chemical Society, 109, 7714, 1987. Journal of the American Chemical Society,119巻,4413ページ,1997年.Journal of the American Chemical Society, 119, 4413, 1997. Journal of the American Chemical Society,125巻,8555ページ,2003年.Journal of the American Chemical Society, 125, 8555, 2003. Organometallics,14巻,3081ページ,1995年.Organometallics, 14, 3081, 1995. Journal of the American Chemical Society,125巻,10311ページ,2003年.Journal of the American Chemical Society, 125, 10311, 2003. Angewandte Chemie,International Edition,52巻,1586ページ,2013年.Angelwandte Chemie, International Edition, 52, 1586, 2013.

本発明の目的は、(ペルフルオロアルキル)エチレンのヒドロホルミル化により、低圧条件下で、直鎖アルデヒドを高い選択率で製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for producing a linear aldehyde with high selectivity under low pressure conditions by hydroformylation of (perfluoroalkyl) ethylene.

本発明者らは、上記課題を鑑み、鋭意検討を重ねた結果、ロジウム化合物およびジホスフィンを用いることにより、(ペルフルオロアルキル)エチレンのヒドロホルミル化で、1気圧以下の低圧で直鎖アルデヒドを高い選択率で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、
(i)ロジウム化合物および、一般式(1−1)
As a result of intensive studies in view of the above-mentioned problems, the present inventors have used a rhodium compound and diphosphine, and thereby, by hydroformylation of (perfluoroalkyl) ethylene, a high selectivity to a linear aldehyde at a low pressure of 1 atm or less. As a result, the present invention was completed. That is, the present invention
(I) Rhodium compound and general formula (1-1)

Figure 0006211897
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(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1から3のアルコキシ基を示す。Xはジメチルメチレン基またはイミノ基を示す。)または一般式(1−2) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. X represents a dimethylmethylene group or an imino group.) Or the general formula (1-2)

Figure 0006211897
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(式中、Rは、炭素数1から3のアルキル基を示す。Rは、炭素数1から4のアルキル基を示す。)で表されるジホスフィンの存在下、一般式(2) (In the formula, R 2 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) In the presence of diphosphine represented by the general formula (2)

Figure 0006211897
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(式中、Rfは、炭素数1〜16のペルフルオロアルキル基を示す。)で表される(ペルフルオロアルキル)エチレンと、一酸化炭素および水素とを反応させることを特徴とする、一般式(3) (Wherein Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.) (Perfluoroalkyl) ethylene represented by the general formula (3), characterized by reacting carbon monoxide and hydrogen. )

Figure 0006211897
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(式中、Rfは、前記と同じ内容を示す。)で表される3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(ii)Rfがトリフルオロメチル基である請求項(i)に記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(iii)一酸化炭素および水素の分圧が各々独立に0.1〜0.9気圧であり、かつ、一酸化炭素、水素および(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)の分圧の総和が1気圧以下である(i)または(ii)に記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(iv)一酸化炭素と水素の分圧比が、1:1〜9:1である(i)から(iii)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(v)反応温度が、70〜120℃である(i)から(iv)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(vi)ロジウム化合物が、ヘキサロジウム(0)ヘキサデカカルボニル、ヒドロキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、メトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、(アセチルアセトナト)ジカルボニルロジウム(I)、ヒドリドカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)およびトリス(アセチルアセトナト)ロジウム(III)から選ばれる一種以上である(i)から(v)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(vii)Xが、ジメチルメチレン基であり、Rが、水素原子、フッ素原子またはメトキシ基である(i)から(iv)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(viii)Xが、ジメチルメチレン基であり、Rが、水素原子である(i)から(iv)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(ix)Xが、イミノ基であり、Rが、水素原子である(i)から(iv)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
(x)Rがメチル基でありかつRがtert−ブチル基である(i)から(iv)のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法;
に関するものである。
以下に本発明を詳細に説明する。
ジホスフィン(1−1)のRで表されるハロゲン原子としては、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。収率および選択率が良い点で、フッ素原子が好ましい。
(Wherein Rf represents the same content as described above) 3- (perfluoroalkyl) propanal production method represented by:
(Ii) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to claim (i), wherein Rf is a trifluoromethyl group;
(Iii) The partial pressures of carbon monoxide and hydrogen are each independently 0.1 to 0.9 atm, and the sum of the partial pressures of carbon monoxide, hydrogen and (perfluoroalkyl) ethylene (2) is 1 atm The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to (i) or (ii):
(Iv) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iii), wherein the partial pressure ratio of carbon monoxide to hydrogen is 1: 1 to 9: 1;
(V) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iv), wherein the reaction temperature is 70 to 120 ° C;
(Vi) The rhodium compound is hexarhodium (0) hexadecacarbonyl, hydroxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, (acetyl) Any one of (i) to (v) which is at least one selected from acetonato) dicarbonylrhodium (I), hydridocarbonylbis (triphenylphosphine) rhodium (I) and tris (acetylacetonato) rhodium (III) A process for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to claim 1;
(Vii) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iv), wherein X is a dimethylmethylene group, and R 1 is a hydrogen atom, a fluorine atom or a methoxy group. ;
(Viii) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iv), wherein X is a dimethylmethylene group, and R 1 is a hydrogen atom;
(Ix) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iv), wherein X is an imino group, and R 1 is a hydrogen atom;
(X) The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of (i) to (iv), wherein R 2 is a methyl group and R 3 is a tert-butyl group;
It is about.
The present invention is described in detail below.
Specific examples of the halogen atom represented by R 1 of diphosphine (1-1) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. A fluorine atom is preferable in terms of good yield and selectivity.

ジホスフィン(1−1)のRで表される炭素数1〜3のアルコキシ基は、直鎖または分岐のいずれでも良く、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基が例示できる。収率および選択率が良い点で、メトキシ基が好ましい。
ジホスフィン(1−1のXは、ジメチルメチレン基またはイミノ基である。
ジホスフィン(1−2)のRで表される炭素数1〜3のアルキル基は、直鎖または分岐のいずれでも良く、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が例示できる。収率および選択率が良い点で、メチル基が好ましい。
ジホスフィン(1−2)のRで表される炭素数1〜4のアルキル基は、直鎖または分岐のいずれでも良く、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基が例示できる。収率および選択率が良い点で、tert−ブチル基が好ましい。
The alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 1 of diphosphine (1-1) may be linear or branched. Specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or an isopropoxy group may be used. It can be illustrated. A methoxy group is preferable in terms of good yield and selectivity.
Diphosphine (1-1 X is a dimethylmethylene group or an imino group.
The alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 2 of diphosphine (1-2) may be linear or branched, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. it can. A methyl group is preferable in terms of good yield and selectivity.
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 3 of diphosphine (1-2) may be linear or branched, and specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl Group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. A tert-butyl group is preferable in terms of good yield and selectivity.

(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)のRfで表されるペルフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、具体的には、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロ−sec−ブチル基、ペルフルオロ−tert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロイソペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロイソヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロシクロオクチル基、ペルフルオロノニル基、ペルフルオロデカニル基、ペルフルオロウンデカニル基、ペルフルオロドデカニル基、ペルフルオロトリデカニル基、ペルフルオロテトラデカニル基、ペルフルオロペンタデカニル基、ペルフルオロヘキサデカニル基等が例示できる。医薬品や機能性材料合成用の含フッ素ビルディングブロックとして有用な点で、直鎖状が好ましく、中でもトリフルオロメチル基が好ましい。   (Perfluoroalkyl) The perfluoroalkyl group represented by Rf of ethylene (2) may be linear, branched or cyclic, and specifically includes a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, Perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluoro-sec-butyl group, perfluoro-tert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluoroisopentyl group, perfluorohexyl group, perfluoroisohexyl group, perfluorocyclohexyl group, perfluoroheptyl group, perfluorooctyl Group, perfluorocyclooctyl group, perfluorononyl group, perfluorodecanyl group, perfluoroundecanyl group, perfluorododecanyl group, perfluorotridecanyl group, perfluoro Toradekaniru group, a perfluoroalkyl pentadecanoyl group, perfluoro hexadecanyl group and the like can be exemplified. From the viewpoint of being useful as a fluorine-containing building block for synthesizing drugs and functional materials, a straight chain is preferable, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.

本発明で用いることのできるロジウム化合物としては、具体的には、ヘキサロジウム(0)ヘキサデカカルボニル、テトラロジウム(0)ドデカカルボニル等の0価ロジウム化合物、クロロビス(2,2’−ビピリジル)ロジウム(I)、(アセチルアセトナト)(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)、クロロビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)ダイマー、ヒドロキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、クロロ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、メトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、クロロ(ノルボルナジエン)ロジウム(I)ダイマー、(アセチルアセトナト)ジカルボニルロジウム(I)、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)、ヒドリドカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)等のI価ロジウム化合物、三塩化ロジウム(III)、酢酸ロジウム(III)、硝酸ロジウム(III)、クロロペンタキス(トリクロロスタナト)ロジウム(III)、クロロ(テトラフェニルポルフィリナト)ロジウム(III)、ヘキサアンミンロジウム(III)塩、トリス(アセチルアセトナト)ロジウム(III)等のIII価ロジウム化合物を例示することができる。収率および選択率が良い点で、ヘキサロジウム(0)ヘキサデカカルボニル、ヒドロキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、クロロ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、メトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、(アセチルアセトナト)ジカルボニルロジウム(I)、ヒドリドカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)、トリス(アセチルアセトナト)ロジウム(III)が好ましい。   Specific examples of rhodium compounds that can be used in the present invention include zero-valent rhodium compounds such as hexarhodium (0) hexadecacarbonyl and tetrarhodium (0) dodecacarbonyl, and chlorobis (2,2′-bipyridyl) rhodium. (I), (acetylacetonato) (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I), chlorobis (triphenylphosphine) rhodium (I) dimer, hydroxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer Chloro (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, chloro (norbornadiene) rhodium (I) dimer, (acetylacetonato) dicarbonyl Rhodium (I), chlorotris (triphenylphosphine) Ivalent rhodium compounds such as rhodium (I), hydridocarbonylbis (triphenylphosphine) rhodium (I), rhodium (III) chloride, rhodium (III) acetate, rhodium (III) nitrate, chloropentakis (trichlorostanato) Illustrative are trivalent rhodium compounds such as rhodium (III), chloro (tetraphenylporphyrinato) rhodium (III), hexaammine rhodium (III) salt, tris (acetylacetonato) rhodium (III). Hexalhodium (0) hexadecacarbonyl, hydroxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, chloro (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer in terms of good yield and selectivity , Methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, (acetylacetonato) dicarbonylrhodium (I), hydridocarbonylbis (triphenylphosphine) rhodium (I), tris (acetylacetonato) rhodium ( III) is preferred.

また、これらのロジウム化合物の内、クロロビス(2,2’−ビピリジル)ロジウム(I)、クロロビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)ダイマー、クロロ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、クロロ(ノルボルナジエン)ロジウム(I)ダイマー、(クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)、塩化ロジウム(III)、クロロペンタキス(トリクロロスタナト)ロジウム(III)、クロロ(テトラフェニルポルフィリナト)ロジウム(III)等のクロロ配位子をもつロジウム化合物を用いる場合は、有機塩基を添加することが、収率および選択率が良い点で好ましい。用いることのできる有機塩基としては、ピリジン、4−アミノピリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、イミダゾール、N−メチルイミダゾール等の芳香族アミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等の脂肪族アミンが例示できる。収率および選択性が良い点で、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、N−メチルイミダゾール、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミンが好ましい。   Among these rhodium compounds, chlorobis (2,2′-bipyridyl) rhodium (I), chlorobis (triphenylphosphine) rhodium (I) dimer, chloro (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer Chloro (norbornadiene) rhodium (I) dimer, (chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (I), rhodium (III) chloride, chloropentakis (trichlorostanato) rhodium (III), chloro (tetraphenylporphyrinato) rhodium When a rhodium compound having a chloro ligand such as (III) is used, it is preferable to add an organic base from the viewpoint of good yield and selectivity, and examples of the organic base that can be used include pyridine, 4- Aminopyridine, 4- (dimethylamino) pyridine, imida And aromatic amines such as N-methylimidazole, and aliphatic amines such as triethylamine, tripropylamine, tributylamine, ethyldiisopropylamine, etc. 4- (dimethylamino) in terms of good yield and selectivity Pyridine, N-methylimidazole, tributylamine and ethyldiisopropylamine are preferred.

有機塩基の使用量に特に制限はないが、ロジウム化合物中のロジウム原子に対して1〜500倍モルから適宜選ばれる量を用いることができる。
ジホスフィン(1−1)は、具体的には、1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス(1,1−ジフェニルホスフィン)、1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス[1,1−ジ(4−メトキシフェニル)ホスフィン]、1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス[1,1−ジ(4−フルオロフェニル)ホスフィン]、4,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)−10H−フェノキサジンが、収率および選択率が良い点で好ましい。また、ジホスフィン(1−2)は、具体的には、6,6’−[(3,3’−ジ−tert−ブチル−5,5’−ジメトキシ−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(オキシ)]ビス(ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン)が、収率および選択率が良い点で好ましい。これらのジホスフィン(1−1、1−2)は、市販品を用いても良いし、Organometallics,14巻,1995年,3081ページ.
または、US 2002/0049355.に記載の方法で合成することができる。
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of an organic base, The quantity suitably chosen from 1-500 times mole with respect to the rhodium atom in a rhodium compound can be used.
Specifically, diphosphine (1-1) is 1,1 ′-(9,9-dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis (1,1-diphenylphosphine), 1,1′-. (9,9-Dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis [1,1-di (4-methoxyphenyl) phosphine], 1,1 ′-(9,9-dimethyl-9H-xanthene-4 , 5-Diyl) bis [1,1-di (4-fluorophenyl) phosphine] and 4,6-bis (diphenylphosphino) -10H-phenoxazine are preferable in terms of yield and selectivity. Further, diphosphine (1-2) is specifically 6,6 ′-[(3,3′-di-tert-butyl-5,5′-dimethoxy-1,1′-biphenyl-2,2). '-Diyl) bis (oxy)] bis (dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine) is preferred in terms of good yield and selectivity. These diphosphines (1-1, 1-2) may be commercially available or Organometallics, 14, 1995, p. 3081.
Or US 2002/0049355. It can be synthesized by the method described in 1.

ロジウム化合物の使用量に特に制限はないが、(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)に対して、収率および選択率が良い点で、ロジウム化合物中のロジウム原子が0.001mol%〜5mol%が好ましく、0.01mol%〜2mol%がさらに好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a rhodium compound, 0.001 mol%-5 mol% of rhodium atoms in a rhodium compound are preferable at a point with a good yield and selectivity with respect to (perfluoroalkyl) ethylene (2). 0.01 mol% to 2 mol% is more preferable.

ロジウム化合物中のロジウム原子とジホスフィン(1−1、1−2)のモル比に特に制限はないが、1:0.1〜1:25が好ましく、1:0.5〜1:15がさらに好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the molar ratio of the rhodium atom and diphosphine (1-1, 1-2) in a rhodium compound, 1: 0.1-1: 25 are preferable, and 1: 0.5-1: 15 are further preferable.

本製造方法は、一酸化炭素および水素の分圧が各々独立に0.1〜0.9気圧であり、かつ、一酸化炭素、水素および(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)の分圧の総和が1気圧以下で実施することが、収率および選択性が良い点で好ましく、1気圧がさらに好ましい。   In this production method, the partial pressures of carbon monoxide and hydrogen are each independently 0.1 to 0.9 atm, and the sum of the partial pressures of carbon monoxide, hydrogen and (perfluoroalkyl) ethylene (2) is It is preferable to carry out at 1 atmosphere or less from the viewpoint of good yield and selectivity, and 1 atmosphere is more preferable.

一酸化炭素と水素のモル比は、収率および選択性が良い点で、1:1〜9:1が好ましく、1:1〜7.5:2.5がさらに好ましい。
一酸化炭素および水素は、(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)に対して3倍モル以上であることが収率および選択率が良い点で好ましい。
The molar ratio of carbon monoxide to hydrogen is preferably 1: 1 to 9: 1 and more preferably 1: 1 to 7.5: 2.5 in terms of good yield and selectivity.
Carbon monoxide and hydrogen are preferably 3 times mol or more with respect to (perfluoroalkyl) ethylene (2) in terms of yield and selectivity.

本発明の製造方法は、有機溶媒中で実施することができ、反応に害を及ぼす恐れのない有機溶媒であればよい。用いることのできる有機溶媒としては、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン等の芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロオクタン等の脂肪族炭化水素、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、1,4−ジオキサン、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル、アセトン、エチルメチルケトン、メチル(tert−ブチル)ケトン等のケトン、N−メチルピロリドン等のラクタム、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を例示することができ、上記の有機溶媒のうち2種類以上を混合しても差し支えない。収率および選択率が良い点で、トルエン、ヘキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、N−メチルピロリドンおよびこれらの混合溶媒が好ましい。   The production method of the present invention may be carried out in an organic solvent and may be any organic solvent that does not cause harm to the reaction. Organic solvents that can be used include aromatic hydrocarbons such as toluene, o-xylene, m-xylene and p-xylene, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, octane and cyclooctane, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, amides such as N, N-dimethylacetamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, tetrahydrofuran, diethyl ether, cyclopentyl methyl ether, 1 , 4-dioxane, methyl-tert-butyl ether, ethers such as 1,2-dimethoxyethane, acetone, ethyl methyl ketone, ketones such as methyl (tert-butyl) ketone, and lacta such as N-methylpyrrolidone , Dichloromethane can be exemplified by halogenated hydrocarbons such as chloroform, also a mixture of two or more of the above organic solvents no problem. From the viewpoint of good yield and selectivity, toluene, hexane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetone, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, N-methylpyrrolidone and a mixed solvent thereof are preferable.

(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)が常温で気体の場合、気体のまま供給してもよいが、収率および選択率が良い点で溶媒に溶かして用いることが好ましい。その際、上記の反応用の溶媒を用いることが、利便性の点で好ましい。また、その際の濃度は、(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)の溶解度によるが、収率および選択率が良い点で、0.05〜5mol/Lが好ましく、0.1〜1mol/Lがさらに好ましい。   When (perfluoroalkyl) ethylene (2) is a gas at room temperature, it may be supplied as a gas, but it is preferably dissolved in a solvent and used in terms of good yield and selectivity. At that time, it is preferable from the viewpoint of convenience to use the solvent for the above reaction. The concentration at that time depends on the solubility of (perfluoroalkyl) ethylene (2), but is preferably 0.05 to 5 mol / L, more preferably 0.1 to 1 mol / L in terms of good yield and selectivity. preferable.

本発明の製造方法は、20℃〜200℃の温度から適宜選ばれた温度で実施することができる。収率および選択率が良い点で、70℃〜120℃が好ましい。   The production method of the present invention can be carried out at a temperature appropriately selected from a temperature of 20 ° C to 200 ° C. 70 to 120 degreeC is preferable at a point with a good yield and selectivity.

反応時間に特に制限はないが、0.5時間以上行うことで、目的物を収率および選択性良く得ることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular in reaction time, A target object can be obtained with a sufficient yield and selectivity by performing for 0.5 hour or more.

反応溶液から生成物を分離する方法としては、蒸留、カラムクロマトグラフィー、分取クロマトグラフィー、再結晶等、汎用的な方法を用いることができる。   As a method for separating the product from the reaction solution, general-purpose methods such as distillation, column chromatography, preparative chromatography, and recrystallization can be used.

本発明は、医薬品や機能性材料合成用の含フッ素ビルディングブロックとして重要な化合物である3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールを、低圧条件下で高い選択率で製造する方法として有効である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is effective as a method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal, which is an important compound as a fluorine-containing building block for synthesizing pharmaceuticals and functional materials, under high pressure conditions.

次に本発明を実施例および比較例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例および比較例中では、以下の略号および化学式を用いる。
TFP:3,3,3−トリフルオロプロペン、TFB:4,4,4−トリフルオロブタナール、TFMP:3,3,3−トリフルオロ−2−メチルプロパナール、DMF:N,N−ジメチルホルムアミド、THF:テトラヒドロフラン、Xantphos:1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス(1,1−ジフェニルホスフィン)、[Rh(OH)(cod)]:ヒドロキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、CO:一酸化炭素、H:水素.
EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to these.
In the examples and comparative examples, the following abbreviations and chemical formulas are used.
TFP: 3,3,3-trifluoropropene, TFB: 4,4,4-trifluorobutanal, TFMP: 3,3,3-trifluoro-2-methylpropanal, DMF: N, N-dimethylformamide , THF: tetrahydrofuran, Xantphos: 1,1 ′-(9,9-dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis (1,1-diphenylphosphine), [Rh (OH) (cod)] 2 : hydroxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, CO: carbon monoxide, H 2: hydrogen.

なお、生成物の定量は、ベンゾトリフルオリドを内部標準とし、19F−NMRで行った。生成物の濃度を反応溶液と同一とし、直鎖アルデヒドの選択率が91%、95%、97%、99%、99.5%の5種類の標準試料を用いて検量線を作成し、直鎖アルデヒドと分岐アルデヒドのモル比が19F−NMRピークの面積比と同じとなることを確認した。さらに、選択率97%および99%の標準試料について、GCを用いて算出した選択率と一致することを確認した。 The product was quantified by 19 F-NMR using benzotrifluoride as an internal standard. Create a calibration curve using five standard samples with the same product concentration as the reaction solution and a linear aldehyde selectivity of 91%, 95%, 97%, 99%, and 99.5%. It was confirmed that the molar ratio of the chain aldehyde to the branched aldehyde was the same as the area ratio of the 19 F-NMR peak. Further, it was confirmed that the standard samples having selectivity of 97% and 99% agreed with the selectivity calculated using GC.

実施例−1 Example-1

Figure 0006211897
Figure 0006211897

反応容器に[Rh(OH)(cod)]4.6mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.99mmol(収率80%)およびTFMP0.025mmol(収率1.0%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
TFB
H−NMR(重クロロホルム):δ2.46(2H,m),2.77(2H,t,J=7.5Hz),9.81(1H,brs).
19F−NMR(重クロロホルム):δ−66.7.
TFMP
H−NMR(重クロロホルム):δ1.33(3H,d,J=7.2Hz),3.10(1H,m),9.77(1H,m).
19F−NMR(重クロロホルム):δ−68.5.
[Rh (OH) (cod)] 2 4.6 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol) and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure of 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.99 mmol of TFB (yield 80%) and 0.025 mmol of TFMP (yield 1.0%) were produced. The selectivity was 99%.
TFB
1 H-NMR (deuterated chloroform): δ 2.46 (2H, m), 2.77 (2H, t, J = 7.5 Hz), 9.81 (1H, brs).
19 F-NMR (deuterated chloroform): δ-66.7.
TFMP
1 H-NMR (deuterated chloroform): δ1.33 (3H, d, J = 7.2 Hz), 3.10 (1H, m), 9.77 (1H, m).
19 F-NMR (deuterated chloroform): δ-68.5.

実施例−2
90℃で反応を行った以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.85mmol(収率74%)およびTFMP0.010mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-2
The same operation as in Example 1 was performed except that the reaction was performed at 90 ° C., and it was confirmed that 1.85 mmol (yield 74%) of TFB and 0.010 mmol (yield 0.4%) of TFMP were produced. . The selectivity was 99%.

実施例−3
100℃で反応を行った以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.55mmol(収率62%)が生成していることを確認した。TFMPの生成は認められなかった。
Example-3
The same operation as in Example 1 was performed except that the reaction was performed at 100 ° C., and it was confirmed that 1.55 mmol (yield 62%) of TFB was generated. Production of TFMP was not observed.

実施例−4
Xantphosの量を17.4mg(0.03mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.84mmol(収率74%)およびTFMP0.061mmol(収率2.5%)が生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-4
The same operation as in Example 1 was performed except that the amount of Xantphos was changed to 17.4 mg (0.03 mmol), and TFB 1.84 mmol (yield 74%) and TFMP 0.061 mmol (yield 2.5%) were obtained. It was confirmed that it was generated. The selectivity was 97%.

実施例−5
Xantphosの量を52.1mg(0.09mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.95mmol(収率78%)およびTFMP0.029mmol(収率1.1%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-5
The same operation as in Example 1 was performed except that the amount of Xantphos was changed to 52.1 mg (0.09 mmol), and TFB 1.95 mmol (yield 78%) and TFMP 0.029 mmol (yield 1.1%) were obtained. It was confirmed that it was generated. The selectivity was 99%.

実施例−6
DMFをトルエンに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.61mmol(収率64%)およびTFMP0.033mmol(収率1.3%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-6
The same operation as in Example 1 was performed except that DMF was replaced with toluene, and it was confirmed that 1.61 mmol of TFB (yield: 64%) and 0.033 mmol of TFMP (yield: 1.3%) were produced. The selectivity was 98%.

実施例−7
DMFをアセトニトリルに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.60mmol(収率64%)およびTFMP0.029mmol(収率1.2%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-7
The same operation as in Example 1 was performed except that DMF was changed to acetonitrile, and it was confirmed that 1.60 mmol of TFB (64% yield) and 0.029 mmol of TFMP (1.2% yield) were produced. The selectivity was 98%.

実施例−8
DMFをN,N−ジメチルアセトアミドに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.88mmol(収率75%)およびTFMP0.051mmol(収率2.0%)が生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-8
The same operation as in Example 1 was performed except that DMF was replaced with N, N-dimethylacetamide, and TFB 1.88 mmol (yield 75%) and TFMP 0.051 mmol (yield 2.0%) were produced. It was confirmed. The selectivity was 97%.

実施例−9
DMFをN−メチルピロリドンに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.92mmol(収率77%)およびTFMP0.009mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99.5%であった。
Example-9
Except that DMF was replaced with N-methylpyrrolidone, the same operation as in Example-1 was performed, and TFB 1.92 mmol (77% yield) and TFMP 0.009 mmol (0.4% yield) were produced. confirmed. The selectivity was 99.5%.

実施例−10
DMFをジメチルスルホキシドに替え、TFP0.2mol/Lのジメチルスルホキシド溶液10mL(TFP含有量2.0mmol)を加えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.56mmol(収率78%)およびTFMP0.034mmol(収率1.7%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-10
DMF was replaced with dimethyl sulfoxide, and except that 10 mL of TFP 0.2 mol / L dimethyl sulfoxide solution (TFP content 2.0 mmol) was added, the same operation as in Example-1 was performed, and TFB 1.56 mmol (yield 78%) And TFMP 0.034 mmol (yield 1.7%) was confirmed to be produced. The selectivity was 98%.

実施例−11
Xantphosを1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス[1,1−ジ(4−メトキシフェニル)ホスフィン]41.9mg(0.06mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.94mmol(収率77%)およびTFMP0.012mmol(収率0.5%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-11
Xantphos was replaced with 41.9 mg (0.06 mmol) of 1,1 ′-(9,9-dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis [1,1-di (4-methoxyphenyl) phosphine]. Except for the above, the same operation as in Example 1 was performed, and it was confirmed that 1.94 mmol (yield 77%) of TFB and 0.012 mmol (0.5% of yield) of TFMP were generated. The selectivity was 99%.

実施例−12
Xantphosを1,1’−(9,9−ジメチル−9H−キサンテン−4,5−ジイル)ビス[1,1−ジ(4−フルオロフェニル)ホスフィン]37.9mg(0.06mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.90mmol(収率76%)およびTFMP0.058mmol(収率2.3%)が生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-12
Xantphos was replaced with 37.9 mg (0.06 mmol) of 1,1 ′-(9,9-dimethyl-9H-xanthene-4,5-diyl) bis [1,1-di (4-fluorophenyl) phosphine]. Except for the above, the same operation as in Example 1 was carried out, and it was confirmed that 1.90 mmol (76% yield) of TFB and 0.058 mmol (2.3% yield) of TFMP were produced. The selectivity was 97%.

実施例−13
Xantphosを4,6−ビス(ジフェニルホスフィノ)−10H−フェノキサジン33.1mg(0.06mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.67mmol(収率67%)およびTFMP0.063mmol(収率2.5%)が生成していることを確認した。選択率は96%であった。
Example-13
The same operation as in Example 1 was carried out except that Xantphos was changed to 3,6-bis (diphenylphosphino) -10H-phenoxazine 33.1 mg (0.06 mmol), and TFB 1.67 mmol (yield 67%) And TFMP 0.063 mmol (yield 2.5%) was confirmed to be produced. The selectivity was 96%.

実施例−14
Xantphosを6,6’−[(3,3’−ジ−tert−ブチル−5,5’−ジメトキシ−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(オキシ)]ビス(ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン)47.2mg(0.06mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.53mmol(収率61%)およびTFMP0.061mmol(収率2.5%)が生成していることを確認した。選択率は96%であった。
Example-14
Xantphos is converted to 6,6 ′-[(3,3′-di-tert-butyl-5,5′-dimethoxy-1,1′-biphenyl-2,2′-diyl) bis (oxy)] bis (dibenzo [ d, f] [1,3,2] dioxaphosphepine) Except for changing to 47.2 mg (0.06 mmol), the same operation as in Example-1 was performed, and TFB 1.53 mmol (yield 61%) And TFMP 0.061 mmol (yield 2.5%) was confirmed to be produced. The selectivity was 96%.

実施例−15
[Rh(OH)(cod)]をメトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー4.8mg(0.01mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.90mmol(収率76%)およびTFMP0.038mmol(収率1.5%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-15
Except that [Rh (OH) (cod)] 2 was changed to 4.8 mg (0.01 mmol) of methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, the same operation as in Example-1 was performed. It was confirmed that 1.90 mmol of TFB (yield 76%) and 0.038 mmol of TFMP (yield 1.5%) were produced. The selectivity was 98%.

実施例−16
[Rh(OH)(cod)]を(アセチルアセトナト)ジカルボニルロジウム(I)4.8mg(0.02mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.95mmol(収率78%)およびTFMP0.012mmol(収率0.5%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-16
Except that [Rh (OH) (cod)] 2 was changed to 4.8 mg (0.02 mmol) of (acetylacetonato) dicarbonylrhodium (I), the same operation as in Example-1 was performed, and 1.95 mmol of TFB ( (Yield 78%) and TFMP 0.012 mmol (yield 0.5%) were confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−17
[Rh(OH)(cod)]をヒドリドカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)13.1mg(0.02mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.86mmol(収率74%)およびTFMP0.015mmol(収率0.6%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-17
Except that [Rh (OH) (cod)] 2 was changed to 13.1 mg (0.02 mmol) of hydridocarbonylbis (triphenylphosphine) rhodium (I), the same operation as in Example-1 was carried out to obtain 1.86 mmol of TFB. (Yield 74%) and TFMP 0.015 mmol (yield 0.6%) were confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−18
[Rh(OH)(cod)]をヘキサロジウム(0)ヘキサデカカルボニル3.6mg(0.0033mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.96mmol(収率78%)およびTFMP0.012mmol(収率0.5%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-18
Except that [Rh (OH) (cod)] 2 was changed to 3.6 mg (0.0033 mmol) of hexarhodium (0) hexadecacarbonyl, the same operation as in Example-1 was carried out to obtain 1.96 mmol of TFB (yield 78 %) And 0.012 mmol (0.5% yield) of TFMP were confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−19
[Rh(OH)(cod)]をトリス(アセチルアセトナト)ロジウム(III)8.0mg(0.02mmol)に替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.90mmol(収率76%)およびTFMP0.012mmol(収率0.5%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-19
Except that [Rh (OH) (cod)] 2 was replaced with 8.0 mg (0.02 mmol) of tris (acetylacetonato) rhodium (III), the same operation as in Example-1 was carried out to obtain 1.90 mmol (concentration of TFB). And a TFMP of 0.012 mmol (yield 0.5%) was confirmed. The selectivity was 99%.

実施例−20
混合ガスを、分圧0.6気圧のCO(1.08L)および分圧0.4気圧のH(0.72L)の混合ガスに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.00mmol(収率80%)およびTFMP0.028mmol(収率1.1%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-20
The same operation as in Example 1 was performed except that the mixed gas was changed to a mixed gas of CO (1.08 L) having a partial pressure of 0.6 atm and H 2 (0.72 L) having a partial pressure of 0.4 atm. , TFB 2.00 mmol (yield 80%) and TFMP 0.028 mmol (yield 1.1%) were confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−21
混合ガスを、分圧0.7気圧のCO(1.26L)および分圧0.3気圧のH(0.54L)の混合ガスに替えた以外は、実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.17mmol(収率87%)およびTFMP0.032mmol(収率1.3%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-21
The same operation as in Example 1 was performed except that the mixed gas was changed to a mixed gas of CO (1.26 L) having a partial pressure of 0.7 atm and H 2 (0.54 L) having a partial pressure of 0.3 atm. , TFB 2.17 mmol (yield 87%) and TFMP 0.032 mmol (yield 1.3%) were confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−22
混合ガスを、分圧0.75気圧のCO(1.35L)および分圧0.25気圧のH(0.45L)の混合ガスに替えた以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.24mmol(収率89%)およびTFMP0.031mmol(収率1.2%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-22
The same operation as in Example 1 was performed except that the mixed gas was changed to a mixed gas of CO (1.35 L) having a partial pressure of 0.75 atm and H 2 (0.45 L) having a partial pressure of 0.25 atm. It was confirmed that 2.24 mmol (yield 89%) of TFB and 0.031 mmol (yield 1.2%) of TFMP were produced. The selectivity was 99%.

実施例−23
混合ガスを、分圧0.8気圧のCO(1.44L)および分圧0.2気圧のH(0.36L)の混合ガスに替えた以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB1.96mmol(収率78%)およびTFMP0.030mmol(収率1.2%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-23
The same operation as in Example 1 was performed except that the mixed gas was changed to a mixed gas of CO (1.44 L) having a partial pressure of 0.8 atm and H 2 (0.36 L) having a partial pressure of 0.2 atm, It was confirmed that 1.96 mmol (yield 78%) of TFB and 0.030 mmol (yield 1.2%) of TFMP were produced. The selectivity was 98%.

実施例−24
反応容器に[Rh(OH)(cod)]1.1mg(0.0025mmol)、Xantphos17.4mg(0.03mmol)およびDMF5mLを加え分圧0.75気圧のCO(1.35L)および分圧0.25気圧のH(0.45L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で18時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB2.06mmol(収率82%)およびTFMP0.078mmol(収率3.1%)が生成していることを確認した。選択率は96%であった。
Example-24
[Rh (OH) (cod)] 2 1.1 mg (0.0025 mmol), Xantphos 17.4 mg (0.03 mmol) and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and partial pressure 0.75 atm CO (1.35 L) and partial pressure were added. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of 0.25 atm H 2 (0.45 L). To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 18 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that TFB 2.06 mmol (yield 82%) and TFMP 0.078 mmol (yield 3.1%) were produced. The selectivity was 96%.

実施例−25
90℃で反応を行ったこと以外は実施例−24と同じ操作を行い、TFB2.17mmol(収率87%)およびTFMP0.021mmol(収率0.8%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-25
The same operation as in Example-24 was performed except that the reaction was performed at 90 ° C., and it was confirmed that TFB2.17 mmol (yield 87%) and TFMP 0.021 mmol (yield 0.8%) were produced. . The selectivity was 99%.

実施例−26
反応容器に[Rh(OH)(cod)]0.46mg(0.001mmol)、Xantphos10.4mg(0.018mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、反応雰囲気を分圧0.75気圧のCO(1.35L)および分圧0.25気圧のH(0.45L)の混合ガスに変え、90℃で18時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.54mmol(収率61%)およびTFMP0.015mmol(収率0.6%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-26
[Rh (OH) (cod)] 2 0.46 mg (0.001 mmol), Xantphos 10.4 mg (0.018 mmol), and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure of 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. To this solution was added 5 mL of TFP 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol), and the reaction atmosphere was CO (1.35 L) with a partial pressure of 0.75 atm and H 2 with a partial pressure of 0.25 atm. The reaction mixture was changed to a mixed gas of (0.45 L) and reacted at 90 ° C. for 18 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.54 mmol (61% yield) of TFB and 0.015 mmol (0.6% yield) of TFMP were produced. The selectivity was 99%.

実施例−27
Xantphosの量を13.9mg(0.024mmol)とした以外は全て実施例−26と同じ操作を行い、TFB1.79mmol(収率72%)およびTFMP0.011mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-27
The same operation as in Example -26 was carried out except that the amount of Xantphos was changed to 13.9 mg (0.024 mmol) to produce 1.79 mmol (72% yield) and 0.011 mmol (0.4% yield) TFMP. I confirmed that The selectivity was 99%.

実施例−28
Xantphosの量を13.9mg(0.024mmol)とし、100℃で反応を行った以外は全て実施例−26と同じ操作を行い、TFB1.66mmol(収率66%)が生成していることを確認した。TFMPの生成は認められなかった。
Example-28
Except that the amount of Xantphos was 13.9 mg (0.024 mmol) and the reaction was performed at 100 ° C., all the same operations as in Example-26 were carried out, and TFB 1.66 mmol (yield 66%) was produced. confirmed. Production of TFMP was not observed.

実施例−29
Xantphosの量を13.9mg(0.024mmol)とし、27時間反応を行った以外は全て実施例−26と同じ操作を行い、TFB1.87mmol(収率75%)およびTFMP0.010mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-29
The same operation as in Example-26 was carried out except that the amount of Xantphos was 13.9 mg (0.024 mmol) and the reaction was performed for 27 hours, and TFB 1.87 mmol (75% yield) and TFMP 0.010 mmol (yield 0 4%) was confirmed to be produced. The selectivity was 99%.

実施例−30
Xantphosの量を13.9mg(0.024mmol)とし、反応雰囲気を分圧0.7気圧のCO(1.26L)および分圧0.3気圧のH(0.54L)の混合ガスに替え、27時間反応を行った以外は全て実施例−26と同じ操作を行い、TFB1.92mmol(収率77%)およびTFMP0.015mmol(収率0.6%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-30
The amount of Xantphos was changed to 13.9 mg (0.024 mmol), and the reaction atmosphere was changed to a mixed gas of CO (1.26 L) with a partial pressure of 0.7 atm and H 2 (0.54 L) with a partial pressure of 0.3 atm. The same operation as in Example-26 was carried out except that the reaction was carried out for 27 hours, and it was confirmed that 1.92 mmol (yield 77%) of TFB and 0.015 mmol (yield 0.6%) of TFMP were produced. . The selectivity was 99%.

実施例−31
Xantphosの量を13.9mg(0.024mmol)とし、反応雰囲気を分圧0.65気圧のCO(1.17L)および分圧0.35気圧のH(0.63L)の混合ガスに替え、27時間反応を行った以外は全て実施例−26と同じ操作を行い、TFB2.05mmol(収率82%)およびTFMP0.042mmol(収率1.7%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-31
The amount of Xantphos was changed to 13.9 mg (0.024 mmol), and the reaction atmosphere was changed to a mixed gas of CO (1.17 L) having a partial pressure of 0.65 atm and H 2 (0.63 L) having a partial pressure of 0.35 atm. The same operation as in Example 26 was carried out except that the reaction was performed for 27 hours, and it was confirmed that 2.05 mmol (82% yield) of TFB and 0.042 mmol (1.7% yield) of TFMP were produced. . The selectivity was 98%.

実施例−32
反応容器に[Rh(OH)(cod)]1.1mg(0.0025mmol)、Xantphos8.7mg(0.015mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.94mmol(収率77%)およびTFMP0.065mmol(収率2.6%)が生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-32
[Rh (OH) (cod)] 2 1.1 mg (0.0025 mmol), Xantphos 8.7 mg (0.015 mmol) and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure of 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that TFB 1.94 mmol (yield 77%) and TFMP 0.065 mmol (yield 2.6%) were produced. The selectivity was 97%.

実施例−33
反応容器に[RhCl(cod)]4.9mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.75気圧のCO(1.35L)および分圧0.25気圧のH(0.45L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.97mmol(収率79%)およびTFMP0.10mmol(収率4.0%)が生成していることを確認した。選択率は95%であった。
Example-33
[RhCl (cod)] 2 (4.9 mg, 0.01 mmol), Xantphos (34.7 mg, 0.06 mmol) and DMF (5 mL) were added to the reaction vessel, and partial pressure of 0.75 atm CO (1.35 L) and partial pressure of 0. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of 25 atm H 2 (0.45 L). To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.97 mmol (79% yield) of TFB and 0.10 mmol (4.0% yield) of TFMP were produced. The selectivity was 95%.

実施例−34
反応容器にメトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー4.8mg(0.01mmol)、Xantphos23.1mg(0.04mmol)およびトルエン4mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、THF1mLおよびTFPの0.5mol/Lトルエン溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.12mmol(収率45%)およびTFMP0.046mmol(収率1.8%)が生成していることを確認した。選択率は96%であった。
Example-34
To the reaction vessel, 4.8 mg (0.01 mmol) of methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, 23.1 mg (0.04 mmol) of Xantphos and 4 mL of toluene were added, and CO ( 0.6 L) and a mixed gas of H 2 (0.6 L) having a partial pressure of 0.5 atm, and heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour. To this solution, 1 mL of THF and 5 mL of a 0.5 mol / L toluene solution of TFP (TFP content 2.5 mmol) were added, and the reaction was performed at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.12 mmol (yield 45%) of TFB and 0.046 mmol (yield 1.8%) of TFMP were produced. The selectivity was 96%.

実施例−35
THFに替えてヘキサン1mLを用いた以外は全て実施例−34と同じ操作を行い、TFB1.19mmol(収率48%)およびTFMP0.055mmol(収率2.2%)が生成していることを確認した。選択率は96%であった。
Example-35
Except that 1 mL of hexane was used instead of THF, the same operation as in Example-34 was performed, and it was confirmed that 1.19 mmol (48% yield) and 0.055 mmol (2.2% yield) TFMP were produced. confirmed. The selectivity was 96%.

実施例−36
THFに替えてアセトン1mLを用いた以外は全て実施例−34と同じ操作を行い、TFB1.61mmol(収率64%)およびTFMP0.020mmol(収率0.8%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-36
Except that 1 mL of acetone was used instead of THF, the same operation as in Example-34 was performed, and 1.61 mmol (64% yield) of TFB and 0.020 mmol (0.8% yield) of TFMP were produced. confirmed. The selectivity was 99%.

実施例−37
THFに替えてDMF1mLを用いた以外は全て実施例−34と同じ操作を行い、TFB1.70mmol(収率68%)およびTFMP0.031mmol(収率1.2%)が生成していることを確認した。選択率は98%であった。
Example-37
Except that 1 mL of DMF was used instead of THF, the same operation as in Example-34 was performed to confirm that 1.70 mmol (68% yield) and 0.031 mmol (TF1.2%) TFMP were produced. did. The selectivity was 98%.

実施例−38
反応容器に[Rh(OH)(cod)]4.6mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で2時間反応を行った。さらにTFPのDMF溶液5mL(0.5mol/L、TFP含有量2.5mmol)加え、80℃で2時間反応を行った。この操作をさらに3回繰り返した(全TFP投入量12.5mmol)後、19F−NMRにより、TFB9.84mmol(収率79%)およびTFMP0.11mmol(収率0.9%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-38
[Rh (OH) (cod)] 2 4.6 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol) and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure of 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. To this solution, 5 mL of TFP 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 2 hours. Furthermore, 5 mL (0.5 mol / L, TFP content 2.5 mmol) of DMF solution of TFP was added, and the reaction was performed at 80 ° C. for 2 hours. This operation was repeated three more times (total TFP input 12.5 mmol), and 19 F-NMR produced 9.84 mmol (79% yield) and 0.11 mmol (0.9% yield) TFMP. I confirmed. The selectivity was 99%.

実施例−39
反応容器に[Rh(OH)(cod)]4.6mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびDMF10mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱した。ここに、ガスタイトシリンジを用いてTFP(48mL、TFP量2.0mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB0.99mmol(収率50%)およびTFMP0.028mmol(収率1.4%)生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-39
[Rh (OH) (cod)] 2 4.6 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol) and DMF 10 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. TFP (48 mL, TFP amount 2.0 mmol) was added thereto using a gas tight syringe, and the reaction was performed at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that TFB 0.99 mmol (yield 50%) and TFMP 0.028 mmol (yield 1.4%) were produced. The selectivity was 97%.

実施例−40
反応容器に[Rh(OH)(cod)]4.6mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびトルエン10mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱した。ここに、ガスタイトシリンジを用いてTFP(48mL、TFP量2.0mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB0.86mmol(収率43%)およびTFMP0.029mmol(収率1.5%)生成していることを確認した。選択率は97%であった。
Example-40
[Rh (OH) (cod)] 2 4.6 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol) and 10 mL of toluene were added to the reaction vessel, and the partial pressure of 0.5 atm CO (0.6 L) and The mixture was heated at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) having a partial pressure of 0.5 atm. TFP (48 mL, TFP amount 2.0 mmol) was added thereto using a gas tight syringe, and the reaction was performed at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that TFB 0.86 mmol (yield 43%) and TFMP 0.029 mmol (yield 1.5%) were produced. The selectivity was 97%.

実施例−41
反応容器に[RhCl(cod)]4.9mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)、DMAP3.7mg(0.03mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.75気圧のCO(1.35L)および分圧0.25気圧のH(0.45L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.97mmol(収率87%)およびTFMP0.10mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99.6%であった。
Example-41
[RhCl (cod)] 2 4.9 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol), DMAP 3.7 mg (0.03 mmol) and DMF 5 mL were added to the reaction vessel, and CO (partial pressure 0.75 atm) CO ( 1.35 L) and a mixed gas of H 2 (0.45 L) having a partial pressure of 0.25 atm, and heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour. To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.97 mmol (yield 87%) and TFMP 0.10 mmol (yield 0.4%) were produced. The selectivity was 99.6%.

実施例−42
DMAPの量を12.2mg(0.1mmol)とした以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.29mmol(収率92%)が生成していることを確認した。TFMPは生成しなかった。
Example-42
The same operation as in Example 1 was carried out except that the amount of DMAP was 12.2 mg (0.1 mmol), and it was confirmed that 2.29 mmol (92% yield) of TFB was generated. TFMP was not generated.

実施例−43
[RhCl(cod)]を1.2mg(0.0025mmol)Xantphosを17.4mg(0.03mmol)およびDMAP0.9mg(0.0075mmol)とした以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.04mmol(収率82%)およびTFMP0.019mmol(収率0.8%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-43
[RhCl (cod)] 2 was changed to 1.2 mg (0.0025 mmol) and Xantphos was changed to 17.4 mg (0.03 mmol) and DMAP 0.9 mg (0.0075 mmol). It was confirmed that 0.04 mmol (yield 82%) and TFMP 0.019 mmol (yield 0.8%) were produced. The selectivity was 99%.

実施例−44
DMAPに替えてN−メチルイミダゾール0.8mg(0.01mmol)を用いた以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.04mmol(収率82%)およびTFMP0.013mmol(収率0.5%)が生成していることを確認した。選択率は99%であった。
Example-44
The same operation as in Example 1 was carried out except that 0.8 mg (0.01 mmol) of N-methylimidazole was used instead of DMAP, and 2.04 mmol (82% yield) of TFB and 0.013 mmol (TF5) of TFMP. %) Was confirmed to be generated. The selectivity was 99%.

実施例−45
DMAPに替えてトリブチルアミン1.9mg(0.01mmol)を用いた以外は実施例−1と同じ操作を行い、TFB2.11mmol(収率85%)およびTFMP0.010mmol(収率0.4%)が生成していることを確認した。選択率は99.5%であった。
Example-45
The same operation as in Example 1 was performed except that 1.9 mg (0.01 mmol) of tributylamine was used instead of DMAP, and TFB2.11 mmol (yield 85%) and TFMP 0.010 mmol (yield 0.4%) were obtained. Was confirmed to be generated. The selectivity was 99.5%.

実施例−46
反応容器に三塩化ロジウム(III)三水和物5.3mg(0.02mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)、DMAP12.2mg(0.1mmol)およびDMF5mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、TFP0.5mol/LのDMF溶液5mL(TFP含有量2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、TFB1.61mmol(収率64%)が生成していることを確認した。TFMPの生成は認められなかった。
Example-46
To the reaction vessel were added rhodium (III) trihydrate 5.3 mg (0.02 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol), DMAP 12.2 mg (0.1 mmol) and DMF 5 mL, with a partial pressure of 0.5 atm. In a mixed gas of CO (0.6 L) and H 2 (0.6 L) having a partial pressure of 0.5 atm, the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour. To this solution, 5 mL of TMF 0.5 mol / L DMF solution (TFP content 2.5 mmol) was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 1.61 mmol (64% yield) of TFB was produced. Production of TFMP was not observed.

実施例−47 Example-47

Figure 0006211897
Figure 0006211897

反応容器に[Rh(OH)(cod)]4.6mg(0.01mmol)、Xantphos34.7mg(0.06mmol)およびDMF10mLを加え、分圧0.5気圧のCO(0.6L)および分圧0.5気圧のH(0.6L)の混合ガス中、80℃、1時間加熱撹拌した。この溶液に、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロ−1−ヘキセン615mg(2.5mmol)を加え、80℃で15時間反応を行った。反応後、19F−NMRにより、4,4,5,5,6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプタナール2.28mmol(収率91%)が生成していることを確認した。3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロ−2−メチルヘキサナールの生成は認められなかった。
4,4,5,5,6,6,7,7,7−ノナフルオロヘプタナール
H−NMR(重クロロホルム):δ2.47(2H,m),2.83(2H,t,J=7.5Hz),9.84(1H,brs).
19F−NMR(重クロロホルム):δ−81.2(3F,m),−114.6(2F,m),−124.5(2F,m),−126.1(2F,m).
[Rh (OH) (cod)] 2 4.6 mg (0.01 mmol), Xantphos 34.7 mg (0.06 mmol) and DMF 10 mL were added to the reaction vessel, and the partial pressure 0.5 atm CO (0.6 L) and min. The mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour in a mixed gas of H 2 (0.6 L) at a pressure of 0.5 atm. To this solution, 615 mg (2.5 mmol) of 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro-1-hexene was added and reacted at 80 ° C. for 15 hours. After the reaction, it was confirmed by 19 F-NMR that 4,4,5,5,6,6,7,7,7-nonafluoroheptanal 2.28 mmol (yield 91%) was produced. Formation of 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro-2-methylhexanal was not observed.
4,4,5,5,6,6,7,7,7-nonafluoroheptanal
1 H-NMR (deuterated chloroform): δ 2.47 (2H, m), 2.83 (2H, t, J = 7.5 Hz), 9.84 (1H, brs).
19 F-NMR (deuterated chloroform): δ-81.2 (3F, m), -114.6 (2F, m), -124.5 (2F, m), -126.1 (2F, m).

実施例−48 Example-48

Figure 0006211897
Figure 0006211897

3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロ−1−ヘキセン615mg(2.5mmol)に替えて3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロ−1−デセン1.12g(2.5mmol)を用いた以外は全て実施例−42と同じ操作を行い、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデカウンデセナール2.33mmol(収率93%)が生成していることを確認した。3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロ−2−メチルデセナールの生成は認められなかった。
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデカウンデセナール
H−NMR(重クロロホルム):δ2.47(2H,m),2.83(2H,t,J=7.4Hz),9.84(1H,brs).
19F−NMR(重クロロホルム):δ−80.7(3F,t,J=10.0Hz),−114.7(2F,m),−121.7(2F,m),−121.9(4F,m),−122.7(2F,m),−123.5(2F,m),−126.1(2F,m).
3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro-1-hexene instead of 615 mg (2.5 mmol), 3,3,4,4,5,5,6,6,7, Except that 1.12 g (2.5 mmol) of 7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluoro-1-decene was used, the same operation as in Example-42 was carried out. 5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecoundecenal 2.33 mmol (yield 93%) It was confirmed. Formation of 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluoro-2-methyldecenal was not observed.
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecooundesenal
1 H-NMR (deuterated chloroform): δ 2.47 (2H, m), 2.83 (2H, t, J = 7.4 Hz), 9.84 (1H, brs).
19 F-NMR (deuterated chloroform): δ-80.7 (3F, t, J = 10.0 Hz), -114.7 (2F, m), -121.7 (2F, m), -121.9 (4F, m), -122.7 (2F, m), -123.5 (2F, m), -126.1 (2F, m).

Claims (10)

ロジウム化合物および、一般式(1−1)
Figure 0006211897
(式中、Rは、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1から3のアルコキシ基を示す。Xはジメチルメチレン基またはイミノ基を示す。)または一般式(1−2)
Figure 0006211897
(式中、Rは、炭素数1から3のアルキル基を示す。Rは、炭素数1から4のアルキル基を示す。)で表されるジホスフィンの存在下、一般式(2)
Figure 0006211897
(式中、Rfは、炭素数1〜16のペルフルオロアルキル基を示す。)で表される(ペルフルオロアルキル)エチレンと、一酸化炭素および水素とを反応させることを特徴とする、一般式(3)
Figure 0006211897
(式中、Rfは、前記と同じ内容を示す。)で表される3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。
Rhodium compound and general formula (1-1)
Figure 0006211897
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. X represents a dimethylmethylene group or an imino group.) Or the general formula (1-2)
Figure 0006211897
(In the formula, R 2 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) In the presence of diphosphine represented by the general formula (2)
Figure 0006211897
(Wherein Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.) (Perfluoroalkyl) ethylene represented by the general formula (3), characterized by reacting carbon monoxide and hydrogen. )
Figure 0006211897
(Wherein Rf represents the same content as described above). A method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal represented by:
Rfがトリフルオロメチル基である請求項1に記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to claim 1, wherein Rf is a trifluoromethyl group. 一酸化炭素および水素の分圧が各々独立に0.1〜0.9気圧であり、かつ、一酸化炭素、水素および(ペルフルオロアルキル)エチレン(2)の分圧の総和が1気圧以下である請求項1または2に記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The partial pressures of carbon monoxide and hydrogen are each independently 0.1 to 0.9 atm, and the sum of the partial pressures of carbon monoxide, hydrogen and (perfluoroalkyl) ethylene (2) is 1 atm or less. A process for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to claim 1 or 2. 一酸化炭素と水素の分圧比が、1:1〜9:1である請求項1から3のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。   The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 3, wherein a partial pressure ratio of carbon monoxide to hydrogen is 1: 1 to 9: 1. 反応温度が、70〜120℃である請求項1から4のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 4, wherein the reaction temperature is 70 to 120 ° C. ロジウム化合物が、ヘキサロジウム(0)ヘキサデカカルボニル、ヒドロキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、メトキソ(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム(I)ダイマー、(アセチルアセトナト)ジカルボニルロジウム(I)、ヒドリドカルボニルビス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)およびトリス(アセチルアセトナト)ロジウム(III)から選ばれる一種以上である請求項1から5のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 Rhodium compounds are hexarhodium (0) hexadecacarbonyl, hydroxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, methoxo (1,5-cyclooctadiene) rhodium (I) dimer, (acetylacetonato) 6. One or more selected from dicarbonylrhodium (I), hydridocarbonylbis (triphenylphosphine) rhodium (I), and tris (acetylacetonato) rhodium (III). 6. A method for producing (perfluoroalkyl) propanal. Xが、ジメチルメチレン基であり、Rが、水素原子、フッ素原子またはメトキシ基である請求項1から6のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 6, wherein X is a dimethylmethylene group, and R 1 is a hydrogen atom, a fluorine atom or a methoxy group. Xが、ジメチルメチレン基であり、Rが、水素原子である請求項1から6のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 6, wherein X is a dimethylmethylene group and R 1 is a hydrogen atom. Xが、イミノ基であり、Rが、水素原子である請求項1から6のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。 The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 6, wherein X is an imino group and R 1 is a hydrogen atom. がメチル基でありかつRがtert−ブチル基である請求項1から6のいずれかに記載の3−(ペルフルオロアルキル)プロパナールの製造方法。
The method for producing 3- (perfluoroalkyl) propanal according to any one of claims 1 to 6, wherein R 2 is a methyl group and R 3 is a tert-butyl group.
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