JP2005336151A - Method for producing 4-fluoroproline derivative - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially producing a 4-fluoroproline derivative which is an important intermediate for a pharmaceutical. <P>SOLUTION: This method for producing the 4-fluoroproline derivative comprises making a protected 4-hydroxyproline compound react with trifluoromethanesulfonyl fluoride in the presence of an organic base, wherein an organic base which is industrially produced at a low cost and generally used, such as triethylamine, is used as the organic base. The method is characterized so that trifluoromethanesulfonylation of the protected 4-hydroxyproline compound is well progressed by using the trifluoromethanesulfonyl fluoride and subsequent fluorine substitution reaction is well progressed only by of a hydrofluoric acid salt or complex of the organic base, such as the trimethylamine, which is by-produced in an equivalent amount in a reaction system of the trifluoromethanesulfonylation. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は医薬の重要中間体である4−フルオロプロリン誘導体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a 4-fluoroproline derivative, which is an important intermediate of medicine.

本発明で対象とする4−フルオロプロリン誘導体の従来の製造方法は、次の二つに大別でき、それぞれ代表的な文献を引用する。   Conventional production methods of 4-fluoroproline derivatives targeted in the present invention can be broadly classified into the following two, and representative documents are cited respectively.

1)4−ヒドロキシプロリン保護体をDAST[(C252NSF3]で脱ヒドロキシフッ素化する方法(非特許文献1)と、2)4−ヒドロキシプロリン保護体をトリフルオロメタンスルホン酸無水物[(CF3SO22O]でトリフルオロメタンスルホン酸エステル体に変換し、テトラエチルアンモニウムフルオリド[(C25418F]と反応させる方法(非特許文献2)が開示されている。 1) A method of dehydroxyfluorinating a 4-hydroxyproline protected body with DAST [(C 2 H 5 ) 2 NSF 3 ] (Non-patent Document 1), and 2) a 4-hydroxyproline protected body with trifluoromethanesulfonic anhydride A method of converting the product [(CF 3 SO 2 ) 2 O] into a trifluoromethanesulfonic acid ester and reacting with tetraethylammonium fluoride [(C 2 H 5 ) 4 N 18 F] (Non-patent Document 2) is disclosed. Has been.

また関連する技術分野として、3)ヒドロキシル基を有する基質をDBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン)等の特殊な有機塩基の存在下に、パーフルオロブタンスルホニルフルオリド(C49SO2F)等のパーフルオロアルカンスルホニルフルオリド(RfSO2F;Rfはパーフルオロアルキル基を表す)で脱ヒドロキシフッ素化する方法(特許文献1、特許文献2)と、4)ヒドロキシル基を有する基質をトリエチルアミン[(C253N]等の有機塩基とトリエチルアミン・三フッ化水素錯体[(C253N・3HF]等のフッ素化剤の存在下に、パーフルオロブタンスルホニルフルオリドで脱ヒドロキシフッ素化する方法(非特許文献3、非特許文献4)が開示されている。
米国特許第5760255号明細書 米国特許第6248889号明細書 Tetrahedron Letters(英国),1998年,第39巻,第10号,p.1169−1172 Journal of Labelled Compounds and Radiopharmaceuticals(米国),1983年,第20巻,第4号,p.453−461 Organic Letters(米国),2004年,第6巻,第9号,p.1465−1468 第227回 米国化学会 春季年会要旨集(227th ACS Spring National Meeting Abstracts),2004年3月28日〜4月1日,ORGN 198,D.Zarkowsky他(Merck)
In addition, as a related technical field, 3) a substrate having a hydroxyl group is converted into perfluorobutanesulfonyl in the presence of a special organic base such as DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene). A method of dehydroxyfluorination with perfluoroalkanesulfonyl fluoride (RfSO 2 F; Rf represents a perfluoroalkyl group) such as fluoride (C 4 F 9 SO 2 F) (Patent Document 1 and Patent Document 2); 4) An organic base such as triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N] and a fluorinating agent such as triethylamine / hydrogen trifluoride complex [(C 2 H 5 ) 3 N · 3HF] are used as a substrate having a hydroxyl group. In the presence, methods for dehydroxyfluorination with perfluorobutanesulfonyl fluoride (Non-patent Documents 3 and 4) are disclosed.
US Pat. No. 5,760,255 US Pat. No. 6,248,889 Tetrahedron Letters (UK), 1998, Vol. 39, No. 10, p. 1169-1172 Journal of Labeled Compounds and Radiopharmaceuticals (USA), 1983, Vol. 20, No. 4, p. 453-461 Organic Letters (USA), 2004, Vol. 6, No. 9, p. 1465-1468 227th ACS Spring National Meeting Abstracts, March 28-April 1, 2004, ORGN 198, D.C. Zarkowski et al. (Merck)

本発明の目的は、医薬の重要中間体である4−フルオロプロリン誘導体の工業的な製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an industrial production method of a 4-fluoroproline derivative, which is an important intermediate of medicine.

非特許文献1の製造方法では、非常に高価で且つ大量の取り扱いが危険なDASTを使用する必要があった。非特許文献2の製造方法では、工業的な使用において高価なトリフルオロメタンスルホン酸無水物と工業的な入手が困難なテトラエチルアンモニウムフルオリドを使用する必要があった。   In the manufacturing method of Non-Patent Document 1, it is necessary to use DAST which is very expensive and dangerous to handle in large quantities. In the production method of Non-Patent Document 2, it is necessary to use expensive trifluoromethanesulfonic anhydride and tetraethylammonium fluoride which is difficult to obtain industrially for industrial use.

関連する技術分野の特許文献1、特許文献2、非特許文献3および非特許文献4においては、ヒドロキシル基を有する基質の脱ヒドロキシフッ素化反応が広く開示されているが、工業的な使用において不適な炭素鎖が長いパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドを使用しており、さらに特許文献1および特許文献2の製造方法では、工業的な使用において高価なDBU等の特殊な有機塩基を使用する必要があり、また非特許文献3および非特許文献4の製造方法では、トリエチルアミン・三フッ化水素錯体等のフッ素化剤をパーフルオロブタンスルホニルフルオリドの他に別途加える必要があった。   In the related technical fields, Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and Non-Patent Document 4 widely disclose dehydroxyfluorination reactions of substrates having a hydroxyl group, but they are not suitable for industrial use. Perfluoroalkanesulfonyl fluoride having a long carbon chain is used, and in addition, in the production methods of Patent Document 1 and Patent Document 2, it is necessary to use a special organic base such as DBU which is expensive in industrial use. In addition, in the production methods of Non-Patent Document 3 and Non-Patent Document 4, it was necessary to add a fluorinating agent such as triethylamine / hydrogen trifluoride complex in addition to perfluorobutanesulfonyl fluoride.

特許文献1、特許文献2、非特許文献3および非特許文献4の製造方法では、パーフルオロアルカンスルホニルフルオリドは基質のヒドロキシル基をパーフルオロアルカンスルホニル化し、引き続くフッ素アニオン(F-)との置換反応においてパーフルオロアルカンスルホネートアニオン(RfSO3 -;Rfはパーフルオロアルキル基を表す)として脱離するため、フッ素の原子経済性の観点から言及すれば、充分なスルホニル化能と脱離能を有するものであれば、炭素鎖が短い方が工業的な使用においてより有利であるが[パーフルオロオクタンスルホニルフルオリド(C817SO2F)<パーフルオロブタンスルホニルフルオリド<トリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)]、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用する脱ヒドロキシフッ素化反応は具体的に開示されていない。またパーフルオロアルカンスルホネートアニオンとしての脱離能の観点から言及すれば、炭素鎖が長い方が脱離能はより高くなるが[Synthesis(ドイツ国),1982年,第2号,p.85−126]、その反面でパーフルオロアルカンスルホン酸エステル体からパーフルオロアルカンスルホン酸が脱離して不飽和化合物を副生する等、脱離能が高過ぎることに起因する副反応が起こり易く、脱離能がより高いもの、つまり炭素鎖がより長いものを使用することが必ずしも好適とは限らず、最適なパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドの選択は反応基質の特異性によるところが非常に大きいが、本発明で対象とする4−ヒドロキシプロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応における最適なパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドの開示は行われていない。 In the production methods of Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and Non-Patent Document 4, perfluoroalkanesulfonyl fluoride is perfluoroalkanesulfonylated on a substrate, followed by substitution with a fluorine anion (F ). In the reaction, since it is eliminated as a perfluoroalkanesulfonate anion (RfSO 3 ; Rf represents a perfluoroalkyl group), it has sufficient sulfonylation ability and elimination ability from the viewpoint of fluorine atom economy. as long as, but shorter carbon chain is more advantageous in industrial use [perfluorooctane sulfonyl fluoride (C 8 F 17 SO 2 F ) < perfluorobutane sulfonyl fluoride <trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F)] , trifluoromethanesulfonyl Dehydroxyfluorination reaction using Ruorido are not specifically disclosed. Further, from the viewpoint of elimination ability as a perfluoroalkanesulfonate anion, the longer the carbon chain, the higher the elimination ability [Synthesis (Germany), 1982, No. 2, p. 85-126], on the other hand, perfluoroalkanesulfonic acid is eliminated from the perfluoroalkanesulfonic acid ester and an unsaturated compound is formed as a by-product. It is not always preferable to use one having a higher elimination ability, that is, one having a longer carbon chain, and the selection of the optimal perfluoroalkanesulfonyl fluoride is very dependent on the specificity of the reaction substrate, The optimal perfluoroalkanesulfonyl fluoride in the dehydroxyfluorination reaction of the 4-hydroxyproline protector targeted in the present invention has not been disclosed.

また炭素鎖が長いパーフルオロアルカンスルホン酸誘導体、特に炭素数が4以上のものは環境への長期残留性と毒性が指摘されており、工業的な使用が制限されている[例えば、パーフルオロオクタンスルホン酸誘導体の環境への長期残留性と毒性については、ファルマシア Vol.40 No.2 2004を参照]。   In addition, perfluoroalkanesulfonic acid derivatives having a long carbon chain, particularly those having 4 or more carbon atoms, have been pointed out to have long-term persistence and toxicity in the environment and are restricted in industrial use [for example, perfluorooctane For the long-term persistence and toxicity of sulfonic acid derivatives in the environment, see Pharmacia Vol. 40 No. 2 2004].

この様に4−フルオロプロリン誘導体を工業的に製造できる方法が強く望まれていた。   Thus, a method that can industrially produce a 4-fluoroproline derivative has been strongly desired.

本出願に先立ち、本出願人は、4−ヒドロキシプロリン保護体を有機塩基と「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと反応させることによりなる、4−フルオロプロリン誘導体の製造方法を出願した(特願2004−184099)。   Prior to the present application, the present applicant obtained by reacting a 4-hydroxyproline protector with trifluoromethanesulfonyl fluoride in the presence of an organic base and a “salt or complex comprising an organic base and hydrogen fluoride”. -A method for producing a fluoroproline derivative was filed (Japanese Patent Application No. 2004-184099).

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、4−ヒドロキシプロリン保護体をトリエチルアミン等の工業的に安価で且つ汎用されている有機塩基の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと反応させることにより4−フルオロプロリン誘導体が製造できることを明らかにした。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention obtained a 4-hydroxyproline protector in the presence of trifluoromethanesulfonyl fluoride in the presence of an industrially inexpensive and widely used organic base such as triethylamine. It was clarified that 4-fluoroproline derivatives can be produced by reaction.

本製造方法の特徴は、4−ヒドロキシプロリン保護体のトリフルオロメタンスルホニル化がトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用することにより良好に進行し、引き続くフッ素置換反応がトリフルオロメタンスルホニル化において反応系内で等量副生したトリエチルアミン等の有機塩基のフッ化水素塩または錯体だけで良好に進行することにある。この様な反応条件で脱ヒドロキシフッ素化反応が良好に進行する反応基質は未だ公知文献に開示されておらず、4−ヒドロキシプロリン保護体の基質特異性によるものである。   The feature of this production method is that trifluoromethanesulfonylation of the protected 4-hydroxyproline proceeds well by using trifluoromethanesulfonyl fluoride, and the subsequent fluorine substitution reaction is equivalent in the reaction system in trifluoromethanesulfonylation. It is to proceed well only with a hydrogen fluoride salt or complex of an organic base such as triethylamine as a by-product. A reaction substrate in which the dehydroxyfluorination reaction proceeds favorably under such reaction conditions has not yet been disclosed in known literature, but is due to the substrate specificity of the 4-hydroxyproline protector.

また非特許文献3の製造方法では、本発明で対象とする4−ヒドロキシプロリン保護体と類似の構造的特徴(複素五員環上の二級水酸基)を持つ2−ヒドロキシ−1,3,5−トリ−O−ベンゾイル−α−D−リボフラノースの脱ヒドロキシフッ素化反応には適応できないことが開示されている。また非特許文献3の記載内容で特に注目しなければならない点は、トリフルオロメタンスルホン酸無水物−トリエチルアミン・三フッ化水素錯体−トリエチルアミンからなる脱ヒドロキシフッ素化剤では、反応系内でガス状(沸点−21℃)のトリフルオロメタンスルホニルフルオリドが生成し、基質のヒドロキシル基が効率的にトリフルオロメタンスルホニル化できず、沸点の高い(64℃)パーフルオロブタンスルホニルフルオリドとの組み合わせ(パーフルオロブタンスルホニルフルオリド−トリエチルアミン・三フッ化水素錯体−トリエチルアミン)が好適であると開示されている。この記載内容は、脱ヒドロキシフッ素化剤のパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドとして沸点の低いトリフルオロメタンスルホニルフルオリドは好適でないことを明示しており、本発明でトリフルオロメタンスルホニルフルオリドが好適に利用できる点と対照的である。   Further, in the production method of Non-Patent Document 3, 2-hydroxy-1, 3, 5 having structural characteristics (secondary hydroxyl group on a hetero five-membered ring) similar to the 4-hydroxyproline protector targeted in the present invention. It is disclosed that it cannot be applied to the dehydroxyfluorination reaction of -tri-O-benzoyl-α-D-ribofuranose. Further, in the description of Non-Patent Document 3, a point to be particularly noted is that the dehydroxyfluorination agent comprising trifluoromethanesulfonic anhydride-triethylamine / hydrogen trifluoride complex-triethylamine is gaseous ( Trifluoromethanesulfonyl fluoride having a boiling point of -21 ° C. is formed, and the hydroxyl group of the substrate cannot be efficiently converted to trifluoromethanesulfonyl, and is combined with perfluorobutanesulfonyl fluoride having a high boiling point (64 ° C.) (perfluorobutane). Sulfonyl fluoride-triethylamine / hydrogen trifluoride complex-triethylamine) is disclosed as being suitable. This description clearly shows that trifluoromethanesulfonyl fluoride having a low boiling point is not suitable as perfluoroalkanesulfonyl fluoride as a dehydroxyfluorination agent, and trifluoromethanesulfonyl fluoride can be suitably used in the present invention. Contrast with.

本発明者らは、上述の反応が特定の条件で、特に好適に進行することを見出した。特に有機塩基(トリエチルアミン等)を、4−ヒドロキシプロリン保護体に対して極小過剰量(4−ヒドロキシプロリン保護体1.0モルに対し、1.0〜1.5モル)用いることで、目的物の選択性が特に向上する、という知見を得た。   The present inventors have found that the above-described reaction proceeds particularly favorably under specific conditions. In particular, by using an organic base (such as triethylamine) in a minimal excess with respect to the 4-hydroxyproline protector (1.0 to 1.5 mol with respect to 1.0 mol of 4-hydroxyproline protector), the desired product It was found that the selectivity of the is particularly improved.

さらに、反応終了後の反応混合液を、水または無機塩基の水溶液で洗浄することで、原料のトリフルオロメタンスルホニルフルオリドから副生するトリフルオロメタンスルホン酸と有機塩基からなる塩またはアルカリ金属塩を効率よく除去できることも見出し、本発明を完成した。   Furthermore, by washing the reaction mixture after completion of the reaction with water or an aqueous solution of an inorganic base, a salt or alkali metal salt composed of trifluoromethanesulfonic acid and organic base by-produced from the raw material trifluoromethanesulfonyl fluoride is efficiently produced. The inventors have also found that they can be removed well and completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式[1]   That is, the present invention relates to the general formula [1]

Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体を有機塩基の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、一般式[2]
Figure 2005336151
[In the formula, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon.] Is reacted with trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) to give a general formula [2]

Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法を提供する。
Figure 2005336151
[Wherein, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon], and provides a method for producing a 4-fluoroproline derivative represented by .

また、本発明は、一般式[1]   The present invention also provides a general formula [1].

Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体をトリエチルアミン[(C253N]の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、一般式[2]
Figure 2005336151
[Wherein, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon.] A protected 4-hydroxyproline represented by triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N] is reacted with trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) in the presence of general formula [2]

Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法を提供する。
Figure 2005336151
[Wherein, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon], and provides a method for producing a 4-fluoroproline derivative represented by .

また、本発明は、式[3]   Further, the present invention provides the formula [3]

Figure 2005336151
[式中、Bocはtert−ブトキシカルボニル基を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体をトリエチルアミン[(C253N]の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、式[4]
Figure 2005336151
[Wherein Boc represents a tert-butoxycarbonyl group] A protected 4-hydroxyproline represented by trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) in the presence of triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N] ) To give the formula [4]

Figure 2005336151
[式中、Bocはtert−ブトキシカルボニル基を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法を提供する。
Figure 2005336151
[Wherein Boc represents a tert-butoxycarbonyl group] is provided.

また、本発明は、上記方法の何れかにおいて、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)のみをフッ素化剤とし、他のフッ素化剤を併用しないことを特徴とする、上記方法の何れかに記載の方法を提供する。 Further, the present invention provides any one of the above methods, wherein only trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) is used as a fluorinating agent and no other fluorinating agent is used in combination. A method as described above is provided.

また、本発明は、上記方法の何れかにおいて、4−ヒドロキシプロリン保護体1.0モルに対し、有機塩基もしくはトリエチルアミンを1.0〜1.5モル用いることを特徴とする、上記方法の何れかに記載の方法を提供する。   In addition, in any of the above methods, the present invention uses 1.0 to 1.5 mol of an organic base or triethylamine with respect to 1.0 mol of the 4-hydroxyproline protector. A method as described above is provided.

また、本発明は、上記方法の何れかの方法で4−フルオロプロリン誘導体を合成した後、得られた反応混合液を水または無機塩基の水溶液で洗浄することを特徴とする、上記方法の何れかに記載の方法を提供する。   Further, the present invention provides any one of the above methods, wherein the 4-fluoroproline derivative is synthesized by any of the above methods, and then the obtained reaction mixture is washed with water or an aqueous solution of an inorganic base. A method as described above is provided.

本発明の製造方法は、現在までに公知文献に開示されている4−フルオロプロリン誘導体の製造方法の中で工業的に最も安価に実施できる手段である。本発明の製造方法が従来の技術に比べて有利な点を以下に述べる。   The production method of the present invention is the most industrially inexpensive means of producing 4-fluoroproline derivatives disclosed in publicly known literatures. The advantages of the manufacturing method of the present invention over the prior art will be described below.

非特許文献1に対しては、DASTの様な非常に高価で且つ大量の取り扱いが危険な試薬を使用する必要がない。   For Non-Patent Document 1, it is not necessary to use a very expensive reagent such as DAST that is dangerous to handle in large quantities.

非特許文献2に対しては、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の様な工業的な使用において高価な試薬や、テトラエチルアンモニウムフルオリドの様な工業的な入手が困難な試薬を使用する必要がない。またトリフルオロメタンスルホン酸無水物には二つのトリフルオロメタンスルホニル基(CF3SO2基)があるが、トリフルオロメタンスルホニル化に利用できるのは一つであり、残りはトリフルオロメタンスルホネートアニオン(CF3SO3 -)の形で脱離基として働き、トリフルオロメタンスルホニル基の官能基経済性の観点から言及すれば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物の使用は効率的でなかった。さらに一連のトリフルオロメタンスルホニル化剤の工業的な製造フローをスキーム1に示すが、この中でトリフルオロメタンスルホニルフルオリドは上流に位置し、トリフルオロメタンスルホン酸無水物やトリフルオロメタンスルホニルクロリドに比べて工業的に有利に利用できる。 For Non-Patent Document 2, it is not necessary to use an expensive reagent such as trifluoromethanesulfonic anhydride and an industrially difficult reagent such as tetraethylammonium fluoride. Trifluoromethanesulfonic anhydride has two trifluoromethanesulfonyl groups (CF 3 SO 2 groups), but only one can be used for trifluoromethanesulfonylation, and the rest is trifluoromethanesulfonate anion (CF 3 SO 2). 3 - serves as a leaving group in the form of a), if mentioned in terms of functional groups economics of trifluoromethanesulfonyl group, use of trifluoromethanesulfonic acid anhydride was not efficient. Furthermore, the industrial production flow of a series of trifluoromethanesulfonylating agents is shown in Scheme 1, in which trifluoromethanesulfonyl fluoride is located upstream, and compared to trifluoromethanesulfonic anhydride and trifluoromethanesulfonyl chloride, Can be advantageously used.

Figure 2005336151
特許文献1、特許文献2、非特許文献3および非特許文献4に対しては、DBU等の様な工業的な使用において高価で特殊な有機塩基を使用する必要がなく、また環境への長期残留性や毒性が問題となっている炭素鎖が長いパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドを使用する必要がない。さらにフッ素の原子経済性が最も高いトリフルオロメタンスルホニルフルオリドが使用できる。
Figure 2005336151
For Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and Non-Patent Document 4, it is not necessary to use an expensive and special organic base in industrial use such as DBU, and long-term environmental It is not necessary to use perfluoroalkanesulfonyl fluoride having a long carbon chain, which is a problem of persistence and toxicity. Furthermore, trifluoromethanesulfonyl fluoride, which has the highest atomic economy of fluorine, can be used.

さらに非特許文献3および非特許文献4に対しては、トリエチルアミン・三フッ化水素錯体等のフッ素化剤を系内に別途加える必要がない。本発明の方法では、フッ素置換反応がトリフルオロメタンスルホニル化において反応系内で等量副生したトリエチルアミン等の有機塩基のフッ化水素塩または錯体だけで良好に進行する。   Furthermore, for Non-Patent Document 3 and Non-Patent Document 4, it is not necessary to add a fluorinating agent such as triethylamine / hydrogen trifluoride complex to the system. In the method of the present invention, the fluorine substitution reaction proceeds satisfactorily only with a hydrogen fluoride salt or complex of an organic base such as triethylamine by-produced in the reaction system in the trifluoromethanesulfonylation.

またトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用することにより新たな発明の効果が見出された。パーフルオロアルカンスルホニルフルオリドを使用する脱ヒドロキシフッ素化反応では、反応終了液にパーフルオロアルカンスルホン酸と有機塩基からなる塩が量論的に副生するが、炭素鎖が長い、特に炭素数が4以上のパーフルオロアルカンスルホン酸と有機塩基からなる塩は有機溶媒に対する分配が比較的高いため、目的生成物と該塩を含む有機層を水洗、さらにはアルカリ金属の無機塩基(例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウム等)の水溶液で洗浄する等の一般的な脱塩操作では効率的に除去することができず、実際にパーフルオロブタンスルホン酸カリウム(C49SO3K)の有機溶媒−水系に対する分配においてさえ、トリフルオロメタンスルホン酸カリウム(CF3SO3K)に比べて格段に高い分配比で有機溶媒に存在することが分かった(参考例1、参考例2)。従って炭素数が4以上のパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドを使用する脱ヒドロキシフッ素化反応では、粗生成物にパーフルオロアルカンスルホン酸と有機塩基からなる塩またはアルカリ金属塩が多量に持ち込まれ、目的生成物を高い化学純度で得るためには負荷のかかる精製方法を必要とした。特に目的生成物が油状物質で高沸点のために蒸留精製が採用できない場合にはカラムクロマトグラフィー等による煩雑な精製操作を必要とし、また仮に目的生成物が蒸留精製できる場合でもこれらの塩が釜残として多量に残り、釜残に取り込まれた目的生成物を収率良く回収するためには高い温度条件で長時間に渡って蒸留操作を行う必要があり、目的生成物が熱的に不安定な場合には適した精製方法に成り得なかった。 Moreover, the effect of the new invention was discovered by using trifluoromethanesulfonyl fluoride. In the dehydroxyfluorination reaction using perfluoroalkanesulfonyl fluoride, a salt composed of perfluoroalkanesulfonic acid and an organic base is generated as a by-product in the reaction end solution, but the carbon chain is long, especially the number of carbon atoms. Since a salt composed of 4 or more perfluoroalkanesulfonic acids and an organic base has a relatively high partition to the organic solvent, the target product and the organic layer containing the salt are washed with water, and further, an alkali metal inorganic base (for example, hydrogen carbonate) It cannot be efficiently removed by a general desalting operation such as washing with an aqueous solution of sodium, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate or potassium carbonate). In fact, potassium perfluorobutanesulfonate (C 4 F 9 SO 3 K) organic solvents - even in distribution to water, potassium trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 3 K It was found to be present in the organic solvent at a significantly higher distribution ratio compared to (Reference Example 1, Reference Example 2). Therefore, in the dehydroxyfluorination reaction using perfluoroalkanesulfonyl fluoride having 4 or more carbon atoms, a large amount of salt or alkali metal salt composed of perfluoroalkanesulfonic acid and organic base is brought into the crude product, and the desired product is produced. In order to obtain a product with high chemical purity, a heavy purification method was required. In particular, if the target product is an oily substance and has a high boiling point, distillation purification cannot be adopted, and complicated purification operations such as column chromatography are required. Even if the target product can be purified by distillation, these salts are not dissolved. In order to recover the target product remaining in a large amount as a residue and with a high yield, it is necessary to carry out a distillation operation for a long time at a high temperature condition, and the target product is thermally unstable. In some cases, it could not be a suitable purification method.

さらに炭素数が4以上のパーフルオロアルカンスルホン酸と有機塩基からなる塩は酸触媒として働く場合もあり、酸に不安定な官能基を有する化合物を高い温度条件で長時間に渡って蒸留精製することも好ましくなかった。実際に二級アミノ基の保護基がtert−ブトキシカルボニル(Boc)基である4−フルオロプロリン誘導体の粗生成物の蒸留精製において、パーフルオロブタンスルホン酸と有機塩基からなる塩が多量に含まれていると脱Boc化が相当に認められた(比較例2)。この様に炭素鎖が長いパーフルオロアルカンスルホニルフルオリドを使用して工業的に脱ヒドロキシフッ素化反応を行う場合の問題点が明らかになった。   Furthermore, a salt composed of a perfluoroalkanesulfonic acid having 4 or more carbon atoms and an organic base may act as an acid catalyst, and a compound having an acid-labile functional group is purified by distillation over a long period of time under high temperature conditions. It was also not preferable. In fact, in the distillation purification of the crude product of 4-fluoroproline derivative in which the protecting group of secondary amino group is tert-butoxycarbonyl (Boc) group, a large amount of salt composed of perfluorobutanesulfonic acid and organic base is contained. As a result, de-Boc formation was considerably observed (Comparative Example 2). As described above, the problems in the industrial dehydroxyfluorination reaction using perfluoroalkanesulfonyl fluoride having a long carbon chain have been clarified.

本発明で使用するトリフルオロメタンスルホニルフルオリドから副生するトリフルオロメタンスルホン酸と有機塩基からなる塩またはアルカリ金属塩は水に対する分配が格段に高いため、これらの塩を効率的に水洗除去することができ、負荷のかからない精製方法を採用することにより目的生成物を高い化学純度で容易に得ることができる。従ってトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用することにより、精製での負荷が有意に低減でき、工業的に脱ヒドロキシフッ素化反応を行うことができるようになった。   Since salts or alkali metal salts composed of trifluoromethanesulfonic acid and an organic base by-produced from trifluoromethanesulfonyl fluoride used in the present invention have a significantly high distribution with respect to water, these salts can be efficiently removed by washing with water. The target product can be easily obtained with high chemical purity by adopting a purification method that does not require load. Therefore, by using trifluoromethanesulfonyl fluoride, the purification load can be significantly reduced and the dehydroxyfluorination reaction can be carried out industrially.

また本発明で対象とする4−ヒドロキシプロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応では、パーフルオロブタンスルホニルフルオリドよりもトリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用する方が粗生成物の化学純度においてより高い選択性を与えることが明らかになり、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドを使用することによりパーフルオロアルカンスルホン酸エステル体からパーフルオロアルカンスルホン酸が脱離して不飽和化合物を副生する等の副反応が有意に制御できることが分かった(実施例1 vs.比較例1、実施例2 vs.比較例2)。   In addition, in the dehydroxyfluorination reaction of the 4-hydroxyproline protector targeted in the present invention, the use of trifluoromethanesulfonyl fluoride is higher than the perfluorobutanesulfonyl fluoride in the chemical purity of the crude product. By using trifluoromethanesulfonyl fluoride, side reactions such as elimination of perfluoroalkanesulfonic acid from perfluoroalkanesulfonic acid ester and generation of unsaturated compounds are significantly controlled. (Example 1 vs. Comparative Example 1, Example 2 vs. Comparative Example 2)

本発明で開示した特徴を有する脱ヒドロキシフッ素化反応は、関連する技術分野の特許文献1、特許文献2、非特許文献3および非特許文献4では開示されておらず、また本発明で対象とする4−ヒドロキシプロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応に好適に適応できることも開示されていなかった。   The dehydroxyfluorination reaction having the characteristics disclosed in the present invention is not disclosed in Patent Document 1, Patent Document 2, Non-Patent Document 3, and Non-Patent Document 4 in the related technical fields, and It was also not disclosed that the 4-hydroxyproline protector can be suitably applied to the dehydroxyfluorination reaction.

本発明の製造方法は選択性が高く分離の難しい不純物を殆ど副生しないため、4−フルオロプロリン誘導体を工業的に製造するための極めて有用な方法である。   Since the production method of the present invention is highly selective and hardly produces impurities that are difficult to separate, it is an extremely useful method for industrial production of 4-fluoroproline derivatives.

以下、本発明の4−フルオロプロリン誘導体の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the production method of the 4-fluoroproline derivative of the present invention will be described in detail.

本製造方法は、一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体を有機塩基の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリドと反応させることによりなる。先ず4−ヒドロキシプロリン保護体のトリフルオロメタンスルホニル化が進行し、引き続いて反応系内で副生した有機塩基のフッ化水素塩または錯体によりフッ素置換反応が進行し、目的生成物である4−フルオロプロリン誘導体を与える。トリフルオロメタンスルホニル化では4位の立体化学は保持され、引き続くフッ素置換反応では4位の立体化学は反転する。従って4−ヒドロキシプロリン保護体の4R/2R体からは4−フルオロプロリン誘導体の4S/2R体が得られ、同様に4S/2R体からは4R/2R体が、4R/2S体からは4S/2S体が、4S/2S体からは4R/2S体が得られる。   This production method comprises reacting a 4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] with trifluoromethanesulfonyl fluoride in the presence of an organic base. First, trifluoromethanesulfonylation of the protected 4-hydroxyproline proceeds, followed by a fluorine substitution reaction with a hydrogen fluoride salt or complex of an organic base by-produced in the reaction system, and the desired product 4-fluoro Proline derivative is given. In trifluoromethanesulfonylation, the stereochemistry at the 4-position is retained, and in the subsequent fluorine substitution reaction, the stereochemistry at the 4-position is reversed. Therefore, the 4S / 2R form of the 4-fluoroproline derivative is obtained from the 4R / 2R form of the 4-hydroxyproline protected form, and similarly, the 4R / 2R form is obtained from the 4S / 2R form, and the 4S / 2R form is obtained from the 4S / 2S form. As for 2S body, 4R / 2S body is obtained from 4S / 2S body.

本製造方法では、引き続くフッ素置換反応がトリフルオロメタンスルホニル化において反応系内で等量副生したトリエチルアミン等の有機塩基のフッ化水素塩または錯体だけで良好に進行することが重要な特徴である。このため本製造方法はトリフルオロメタンスルホニルフルオリドの他にフッ素化剤(トリエチルアミン・三フッ化水素錯体等)を併用することなく実施することが好ましい。   In this production method, it is an important feature that the subsequent fluorine substitution reaction proceeds satisfactorily only with a hydrogen fluoride salt or a complex of an organic base such as triethylamine as a by-product in the reaction system in trifluoromethanesulfonylation. For this reason, this production method is preferably carried out without using a fluorinating agent (such as triethylamine / hydrogen trifluoride complex) in addition to trifluoromethanesulfonyl fluoride.

一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体の二級アミノ基の保護基Rとしては、ベンジルオキシカルボニル(Z)基、tert−ブトキシカルボニル(Boc)基、9−フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)基、3−ニトロ−2−ピリジンスルフェニル(Npys)基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル[Z(OMe)]基等が挙げられる。その中でもベンジルオキシカルボニル(Z)基およびtert−ブトキシカルボニル(Boc)基が好ましく、特にtert−ブトキシカルボニル(Boc)基がより好ましい。   The protecting group R for the secondary amino group of the protected 4-hydroxyproline represented by the general formula [1] includes benzyloxycarbonyl (Z) group, tert-butoxycarbonyl (Boc) group, 9-fluorenylmethoxycarbonyl (Fmoc) group, 3-nitro-2-pyridinesulfenyl (Npys) group, p-methoxybenzyloxycarbonyl [Z (OMe)] group and the like. Among these, a benzyloxycarbonyl (Z) group and a tert-butoxycarbonyl (Boc) group are preferable, and a tert-butoxycarbonyl (Boc) group is more preferable.

一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体のカルボキシル基の保護基R1としては、メチル(Me)基、エチル(Et)基、tert−ブチル(t−Bu)基、トリクロロエチル(Tce)基、フェナシル(Pac)基、ベンジル(Bzl)基、4−ニトロベンジル[Bzl(4−NO2)]基、4−メトキシベンジル[Bzl(4−OMe)]基等が挙げられる。その中でもメチル(Me)基、エチル(Et)基およびベンジル(Bzl)基が好ましく、特にメチル(Me)基およびエチル(Et)基がより好ましい。 As the protective group R 1 for the carboxyl group of the 4-hydroxyproline protected body represented by the general formula [1], a methyl (Me) group, an ethyl (Et) group, a tert-butyl (t-Bu) group, trichloroethyl ( Tce) group, phenacyl (Pac) group, benzyl (Bzl) group, 4-nitrobenzyl [Bzl (4-NO 2 )] group, 4-methoxybenzyl [Bzl (4-OMe)] group and the like. Among them, a methyl (Me) group, an ethyl (Et) group, and a benzyl (Bzl) group are preferable, and a methyl (Me) group and an ethyl (Et) group are particularly preferable.

一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体は、第4版 実験化学講座 22 有機合成IV 酸・アミノ酸・ペプチド(丸善、1992年、p.193−309)を参考にして市販の光学活性4−ヒドロキシプロリンから製造することができる。また二級アミノ基の保護基Rとカルボキシル基の保護基R1の組み合わせによっては市販されているものがあり、これらを利用することができる。また式[3]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体(二級アミノ基の保護基Rがtert−ブトキシカルボニル基、カルボキシル基の保護基R1がメチル基)は、上記の非特許文献1に従い、光学活性4−ヒドロキシプロリンメチルエステルの塩酸塩から変換できる。 The 4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] is a commercially available optical material with reference to the 4th edition Experimental Chemistry Course 22 Organic Synthesis IV Acids, Amino Acids and Peptides (Maruzen, 1992, p.193-309). It can be produced from active 4-hydroxyproline. Also a combination of protecting groups R 1 protecting group R and the carboxyl group of the secondary amino groups while others are commercially available, can use these. The equation [3] indicated by 4-hydroxyproline protected form (secondary protecting group R is tert- butoxycarbonyl group of the amino group, the protecting group R 1 is a methyl group of a carboxyl group), according non-patent document 1 above From the hydrochloride of optically active 4-hydroxyproline methyl ester.

一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体の不斉炭素の立体化学としては、2位と4位がそれぞれ独立にR配置またはS配置を採ることができ、立体化学の組み合わせとしては、4R/2R体、4S/2R体、4R/2S体または4S/2S体があり、各立体異性体のエナンチオマー過剰率(%ee)またはジアステレオマー過剰率(%de)としては、特に制限はないが、それぞれ90%eeまたは90%de以上を使用すればよく、通常は95%eeまたは95%de以上が好ましく、特に97%eeまたは97%de以上がより好ましい。   As the stereochemistry of the asymmetric carbon of the protected 4-hydroxyproline represented by the general formula [1], the 2-position and the 4-position can each independently adopt the R configuration or the S configuration. There are 4R / 2R, 4S / 2R, 4R / 2S, or 4S / 2S, and the enantiomeric excess (% ee) or diastereomeric excess (% de) of each stereoisomer is particularly limited. However, 90% ee or 90% de or more may be used, respectively. Usually, 95% ee or 95% de or more is preferable, and 97% ee or 97% de or more is particularly preferable.

トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの使用量としては、特に制限はないが、良好な収率を得るためには、一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して1モル以上を使用すればよく、通常は1〜10モルが好ましく、特に1〜5モルがより好ましい。上記の様に、本発明は、引き続くフッ素置換反応がトリフルオロメタンスルホニル化において反応系内で等量副生したトリエチルアミン等の有機塩基のフッ化水素塩または錯体だけで良好に進行することが重要な特徴であり、この利点を生かすためには、トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの使用量としては、4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して等モルから小過剰の1〜3モルがさらに好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as the usage-amount of a trifluoromethanesulfonyl fluoride, in order to obtain a favorable yield, 1 mol or more should be carried out with respect to 1 mol of 4-hydroxyproline protectors shown by General formula [1]. What is necessary is just to use, and 1-10 mol is preferable normally, and 1-5 mol is more preferable especially. As described above, in the present invention, it is important that the subsequent fluorine substitution reaction proceeds well only with a hydrogen fluoride salt or a complex of an organic base such as triethylamine by-produced in an equal amount in the reaction system in trifluoromethanesulfonylation. In order to take advantage of this advantage, the amount of trifluoromethanesulfonyl fluoride used is more preferably an equimolar to small excess of 1 to 3 moles per mole of 4-hydroxyproline protector.

有機塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリn−プロピルアミン、ピリジン、2,3−ルチジン、2,4−ルチジン、2,5−ルチジン、2,6−ルチジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、2,3,4−コリジン、2,4,5−コリジン、2,5,6−コリジン、2,4,6−コリジン、3,4,5−コリジン、3,5,6−コリジン等が挙げられる。その中でもトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリn−プロピルアミン、ピリジン、2,3−ルチジン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン、2,4,6−コリジンおよび3,5,6−コリジンが好ましく、特にトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジン、3,5−ルチジンおよび2,4,6−コリジンがより好ましい。   Examples of the organic base include trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-propylamine, pyridine, 2,3-lutidine, 2,4-lutidine, 2,5-lutidine, 2,6-lutidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 2,3,4-collidine, 2,4,5-collidine, 2,5,6-collidine, 2,4,6-collidine, 3,4,5-collidine, 3,5 6-collidine and the like can be mentioned. Among them, triethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-propylamine, pyridine, 2,3-lutidine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine, 2,4,6 -Colidine and 3,5,6-collidine are preferred, and triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, 3,5-lutidine and 2,4,6-collidine are more preferred.

有機塩基の使用量としては、特に制限はないが、一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して1モル以上を使用すればよく、通常は1〜10モルが好ましく、特に1〜5モルがより好ましい。本発明の製造方法においてはトリフルオロメタンスルホン酸エステル体からトリフルオロメタンスルホン酸が脱離して不飽和化合物を副生する等の副反応が起こり易いが、有機塩基を極小過剰使用することにより本副反応を有意に制御できる。従って4−ヒドロキシプロリン保護体1.0モルに対して1.0〜1.5モルがさらにより好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as the usage-amount of an organic base, 1 mol or more should just be used with respect to 1 mol of 4-hydroxyproline protectors shown by General formula [1], and 1-10 mol is preferable normally. In particular, 1 to 5 mol is more preferable. In the production method of the present invention, side reactions such as elimination of trifluoromethanesulfonic acid from the trifluoromethanesulfonic acid ester and generation of unsaturated compounds are likely to occur, but this side reaction can be achieved by using a minimal excess of organic base. Can be controlled significantly. Therefore, 1.0-1.5 mol is still more preferable with respect to 1.0 mol of 4-hydroxyproline protectors.

反応溶媒としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル系、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。その中でもn−ヘプタン、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルおよびジメチルスルホキシドが好ましく、特にトルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミドおよびアセトニトリルがより好ましい。これらの反応溶媒は単独または組み合わせて使用することができる。   Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and halogenated carbonization such as methylene chloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. Hydrogen type, diethyl ether, tetrahydrofuran, ether type such as tert-butyl methyl ether, ester type such as ethyl acetate, n-butyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc. Examples thereof include amides, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, and dimethyl sulfoxide. Among these, n-heptane, toluene, methylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, acetonitrile and dimethyl sulfoxide are preferable, and toluene, methylene chloride, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide and acetonitrile are more preferable. These reaction solvents can be used alone or in combination.

反応溶媒の使用量としては、特に制限はないが、一般式[1]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.1L(リットル)以上を使用すればよく、通常は0.1〜20Lが好ましく、特に0.1〜10Lがより好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as the usage-amount of a reaction solvent, What is necessary is just to use 0.1L (liter) or more with respect to 1 mol of 4-hydroxyproline protectors shown by General formula [1]. 1-20L is preferable and especially 0.1-10L is more preferable.

温度条件としては、−100〜+100℃であり、通常は−80〜+80℃が好ましく、特に−60〜+60℃がより好ましい。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドの沸点以上の温度条件で反応を行う場合には耐圧反応容器を使用することができる。   As temperature conditions, it is -100 to +100 degreeC, Usually, -80 to +80 degreeC is preferable, and -60 to +60 degreeC is especially more preferable. A pressure-resistant reaction vessel can be used when the reaction is performed under temperature conditions equal to or higher than the boiling point of trifluoromethanesulfonyl fluoride.

反応時間としては、0.1〜72時間であるが、基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、NMR等の分析手段により反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。   The reaction time is 0.1 to 72 hours, but since it varies depending on the substrate and reaction conditions, the progress of the reaction is traced by analytical means such as gas chromatography, liquid chromatography, NMR, etc., and most of the raw materials disappeared. The time point is preferably the end point.

後処理としては、特に制限はないが、通常は反応終了液をアルカリ金属の無機塩基(例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウム等)の水溶液に注ぎ込み、有機溶媒(例えば、トルエン、塩化メチレンまたは酢酸エチル等)で抽出することにより粗生成物を得ることができる。トリフルオロメタンスルホニルフルオリドから副生するトリフルオロメタンスルホン酸と有機塩基からなる塩またはアルカリ金属塩は水に対する分配が格段に高いため、これらの塩を効率的に水洗除去することができ、蒸留等の負荷のかからない精製方法を採用することにより、目的とする一般式[2]で示される4−フルオロプロリン誘導体を高い化学純度で得ることができる。   There is no particular limitation on the post-treatment, but usually the reaction end solution is poured into an aqueous solution of an alkali metal inorganic base (for example, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate or potassium carbonate) and an organic solvent (for example, The crude product can be obtained by extraction with toluene, methylene chloride or ethyl acetate). Since salts or alkali metal salts composed of trifluoromethanesulfonic acid and an organic base by-produced from trifluoromethanesulfonyl fluoride are remarkably highly distributed to water, these salts can be efficiently removed by washing with water such as distillation. By adopting a purification method that does not impose a load, the desired 4-fluoroproline derivative represented by the general formula [2] can be obtained with high chemical purity.

さらに得られた4−フルオロプロリン誘導体の二級アミノ基の保護基Rとカルボキシル基の保護基R1を選択的にまたは同時に脱保護することにより、一般式[5] Furthermore, by selectively or simultaneously deprotecting the protecting group R of the secondary amino group and the protecting group R 1 of the carboxyl group of the obtained 4-fluoroproline derivative, the general formula [5]

Figure 2005336151
[式中、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリンのカルボキシル基保護体、一般式[6]
Figure 2005336151
[Wherein R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon], a protected carboxyl group of 4-fluoroproline represented by the general formula [6]

Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリンの二級アミノ基保護体、または式[7]
Figure 2005336151
[Wherein R represents a protective group for a secondary amino group, and * represents an asymmetric carbon], or a protected secondary amino group of 4-fluoroproline represented by formula [7]

Figure 2005336151
[式中、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリンに変換できる。二級アミノ基の保護基Rとカルボキシル基の保護基R1の脱保護反応は、第4版 実験化学講座 22 有機合成IV 酸・アミノ酸・ペプチド(丸善、1992年、p.193−309)を参考にして行うことができる。また式[4]で示される4−フルオロプロリン誘導体(二級アミノ基の保護基Rがtert−ブトキシカルボニル基、カルボキシル基の保護基R1がメチル基)は、上記の非特許文献1に従い、式[8]
Figure 2005336151
[Wherein, * represents an asymmetric carbon]. The deprotection reaction of the protecting group R of the secondary amino group and the protecting group R 1 of the carboxyl group is carried out by the 4th edition Experimental Chemistry Course 22 Organic Synthesis IV Acid / Amino Acid / Peptide (Maruzen, 1992, p.193-309) This can be done with reference. Further, the 4-fluoroproline derivative represented by the formula [4] (secondary amino group protecting group R is tert-butoxycarbonyl group, carboxyl group protecting group R 1 is methyl group) Formula [8]

Figure 2005336151
[式中、Bocはtert−ブトキシカルボニル基を表す]で示される4−フルオロプロリンの二級アミノ基保護体に変換できる。
Figure 2005336151
[Wherein Boc represents a tert-butoxycarbonyl group] can be converted into a protected secondary amino group of 4-fluoroproline.

以下、実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the embodiments of the present invention will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
ステンレス鋼(SUS)製耐圧反応容器に、下記式
[Example 1]
In a pressure resistant reaction vessel made of stainless steel (SUS), the following formula

Figure 2005336151
で示される4−ヒドロキシプロリン保護体 3.44g(ガスクロマトグラフィー純度87.29%、12.23mmolとする、1.00eq)、アセトニトリル 24.5mlとトリエチルアミン 2.48g(24.46mmol、2.00eq)を加え、内温を−78℃に冷却してトリフルオロメタンスルホニルフルオリド 3.72g(24.46mmol、2.00eq)をボンベより吹き込んだ。同温度で3時間25分攪拌し、さらに35℃で17時間55分攪拌した。反応の変換率をガスクロマトグラフィーにより測定したところ99%以上であった。反応終了液を炭酸カリウムの水溶液[炭酸カリウム 10.14g(73.37mmol、6.00eq)と水 130mlから調製]に注ぎ込み、酢酸エチル 100mlで2回抽出した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下濃縮し、真空乾燥し、下記式
Figure 2005336151
Protected by 4-hydroxyproline represented by 3.44 g (gas chromatographic purity 87.29%, 12.23 mmol, 1.00 eq), acetonitrile 24.5 ml and triethylamine 2.48 g (24.46 mmol, 2.00 eq) ), The internal temperature was cooled to −78 ° C., and 3.72 g (24.46 mmol, 2.00 eq) of trifluoromethanesulfonyl fluoride was blown from the cylinder. The mixture was stirred at the same temperature for 3 hours and 25 minutes, and further stirred at 35 ° C. for 17 hours and 55 minutes. The conversion rate of the reaction was measured by gas chromatography and found to be 99% or more. The reaction-terminated liquid was poured into an aqueous solution of potassium carbonate [prepared from 10.14 g (73.37 mmol, 6.00 eq) of potassium carbonate and 130 ml of water], and extracted twice with 100 ml of ethyl acetate. The recovered organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated under reduced pressure, vacuum dried,

Figure 2005336151
で示される4−フルオロプロリン誘導体の粗生成物 3.86gを褐色の油状物質として得た。粗生成物のガスクロマトグラフィー純度は67.52%であった。
Figure 2005336151
The crude product of 4-fluoroproline derivative represented by the formula (3) was obtained as a brown oily substance. The gas chromatographic purity of the crude product was 67.52%.

主な不純物は3種類あり、不純物A〜Cと命名すると、不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ12.05%、11.57%、0.83%含まれていた。有機物の理論回収量は3.02gでトリフルオロメタンスルホン酸の塩が殆ど含まれていないことが示唆された。そこで粗生成物中の目的生成物とトリフルオロメタンスルホン酸の塩のモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、目的生成物:トリフルオロメタンスルホン酸の塩=10:1であった。4−フルオロプロリン誘導体の1H−NMRと19F−NMRスペクトルを下に示す(Boc基に起因する異性体の混合物として)。
1H−NMR(基準物質:(CH34Si,重溶媒:CDCl3)、δ ppm:1.43&1.49(s×2,トータル9H),1.95−2.55(トータル2H),3.51−3.94(トータル2H),3.75(S,3H),4.36−4.58(トータル1H),5.10−5.31(トータル1H),
19F−NMR(基準物質:C66,重溶媒:CDCl3)、δ ppm:−11.27(トータル1F).
トリフルオロメタンスルホン酸の塩の19F−NMRスペクトルを下に示す。
19F−NMR(基準物質:C66,重溶媒:CDCl3)、δ ppm:+83.36(s,3F).
[比較例1]
ガラス製反応容器に、下記式
There are three main impurities, and when impurities A to C are named, impurities A, B and C were included at 12.05%, 11.57% and 0.83%, respectively. The theoretical recovery amount of organic matter was 3.02 g, which suggested that the salt of trifluoromethanesulfonic acid was hardly contained. Therefore, when the molar ratio of the target product to the salt of trifluoromethanesulfonic acid in the crude product was measured by 19 F-NMR spectrum, the target product: salt of trifluoromethanesulfonic acid was 10: 1. The 1 H-NMR and 19 F-NMR spectra of the 4-fluoroproline derivative are shown below (as a mixture of isomers attributable to the Boc group).
1 H-NMR (reference substance: (CH 3 ) 4 Si, heavy solvent: CDCl 3 ), δ ppm: 1.43 & 1.49 (s × 2, total 9H), 1.95-2.55 (total 2H) 3.51-3.94 (total 2H), 3.75 (S, 3H), 4.36-4.58 (total 1H), 5.10-5.31 (total 1H),
19 F-NMR (reference substance: C 6 F 6 , heavy solvent: CDCl 3 ), δ ppm: -11.27 (total 1F).
The 19 F-NMR spectrum of the salt of trifluoromethanesulfonic acid is shown below.
19 F-NMR (reference material: C 6 F 6 , heavy solvent: CDCl 3 ), δ ppm: +83.36 (s, 3F).
[Comparative Example 1]
In a glass reaction vessel,

Figure 2005336151
で示される4−ヒドロキシプロリン保護体 3.00g(ガスクロマトグラフィー純度83.30%、10.19mmolとする、1.00eq)、アセトニトリル 15.3mlとトリエチルアミン 1.36g(13.45mmol、1.32eq)を加え、室温でパーフルオロブタンスルホニルフルオリド 3.69g(12.21mmol、1.20eq)を加えた。同温度で19時間55分攪拌した。反応の変換率をガスクロマトグラフィーにより測定したところ97%以上であった。反応終了液を炭酸カリウムの水溶液[炭酸カリウム 3.38g(24.46mmol、2.40eq)と水 100mlから調製]に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下濃縮し、真空乾燥し、下記式
Figure 2005336151
Protected by 4-hydroxyproline represented by the following formula: 3.00 g (gas chromatographic purity 83.30%, 10.19 mmol, 1.00 eq), 15.3 ml of acetonitrile and 1.36 g (13.45 mmol, 1.32 eq) of triethylamine ) And 3.69 g (12.21 mmol, 1.20 eq) perfluorobutanesulfonyl fluoride at room temperature. The mixture was stirred at the same temperature for 19 hours and 55 minutes. The conversion rate of the reaction was measured by gas chromatography and found to be 97% or more. The reaction-terminated liquid was poured into an aqueous solution of potassium carbonate [prepared from 3.38 g (24.46 mmol, 2.40 eq) of potassium carbonate and 100 ml of water] and extracted with ethyl acetate. The recovered organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated under reduced pressure, vacuum dried,

Figure 2005336151
で示される4−フルオロプロリン誘導体の粗生成物 6.69gを白色の結晶として得た(目的生成物の純品は無色澄明の油状物質である)。粗生成物のガスクロマトグラフィー純度は60.22%であった。
Figure 2005336151
6.69 g of a crude product of a 4-fluoroproline derivative represented by the formula (1) was obtained as white crystals (a pure product of the desired product is a colorless and clear oily substance). The gas chromatographic purity of the crude product was 60.22%.

主な不純物は3種類あり、実施例1と同様に不純物A〜Cと命名すると、不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ17.19%、17.03%、2.86%含まれていた。有機物の理論回収量は2.52gでパーフルオロブタンスルホン酸の塩が多量に含まれていることが示唆された。そこで粗生成物中の目的生成物とパーフルオロブタンスルホン酸の塩のモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、目的生成物:パーフルオロブタンスルホン酸の塩=2:1であった。4−フルオロプロリン誘導体の1H−NMRと19F−NMRスペクトルは実施例1で得られたものと同様であった。パーフルオロブタンスルホン酸の塩の19F−NMRスペクトルを下に示す。
19F−NMR(基準物質:C66,重溶媒:CDCl3)、δ ppm:+35.79(2F),+40.12(2F),+47.26(2F),+80.90(3F).
[実施例2]
ステンレス鋼(SUS)製耐圧反応容器に、下記式
There are three main impurities, and when impurities A to C are named as in Example 1, impurities A, B and C were contained in 17.19%, 17.03% and 2.86%, respectively. . The theoretical recovery amount of organic matter was 2.52 g, suggesting that a large amount of perfluorobutanesulfonic acid salt was contained. Therefore, when the molar ratio of the target product to the perfluorobutanesulfonic acid salt in the crude product was measured by 19 F-NMR spectrum, the target product: perfluorobutanesulfonic acid salt = 2: 1. The 1 H-NMR and 19 F-NMR spectra of the 4-fluoroproline derivative were the same as those obtained in Example 1. The 19 F-NMR spectrum of the salt of perfluorobutanesulfonic acid is shown below.
19 F-NMR (reference material: C 6 F 6 , heavy solvent: CDCl 3 ), δ ppm: +35.79 (2F), +40.12 (2F), +47.26 (2F), +80.90 (3F) .
[Example 2]
In a pressure resistant reaction vessel made of stainless steel (SUS), the following formula

Figure 2005336151
で示される4−ヒドロキシプロリン保護体 20.05g(ガスクロマトグラフィー純度99.77%、81.56mmolとする、1.00eq)、アセトニトリル 116.0mlとトリエチルアミン 9.08g(89.73mmol、1.10eq)を加え、内温を−35℃に冷却してトリフルオロメタンスルホニルフルオリド 16.23g(106.73mmol、1.31eq)をボンベより吹き込んだ。同温度で30分間攪拌し、さらに室温で16時間攪拌した。反応の変換率をガスクロマトグラフィーにより測定したところ99%以上であった。反応終了液を炭酸カリウムの水溶液[炭酸カリウム 45.21g(327.11mmol、4.01eq)と水 180mlから調製]に注ぎ込み、酢酸エチル 200mlで2回抽出した。さらに、有機層を10%食塩水 612mlで2回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下濃縮し、真空乾燥し、下記式
Figure 2005336151
Protected by 4-hydroxyproline represented by 20.05 g (gas chromatography purity 99.77%, 81.56 mmol, 1.00 eq), acetonitrile 116.0 ml and triethylamine 9.08 g (89.73 mmol, 1.10 eq) ) Was added, the internal temperature was cooled to -35 ° C., and 16.23 g (106.73 mmol, 1.31 eq) of trifluoromethanesulfonyl fluoride was blown from the cylinder. The mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes and further stirred at room temperature for 16 hours. The conversion rate of the reaction was measured by gas chromatography and found to be 99% or more. The reaction-terminated liquid was poured into an aqueous solution of potassium carbonate [prepared from 45.21 g (327.11 mmol, 4.01 eq) of potassium carbonate and 180 ml of water], and extracted twice with 200 ml of ethyl acetate. Further, the organic layer was washed twice with 612 ml of 10% saline. The recovered organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated under reduced pressure, vacuum dried,

Figure 2005336151
で示される4−フルオロプロリン誘導体の粗生成物 21.59gを褐色の油状物質として得た。粗生成物のガスクロマトグラフィー純度は85.21%であった。主な不純物は3種類あり、不純物A〜Cと命名すると、不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ6.47%、2.80%、4.68%含まれていた。生成物の理論収量は20.17gで、粗生成物にはトリフルオロメタンスルホン酸の塩が殆ど含まれていないことが示唆された。そこで粗生成物中の目的生成物とトリフルオロメタンスルホン酸の塩のモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、目的生成物:トリフルオロメタンスルホン酸の塩=97.6:2.4であった。
Figure 2005336151
21.59 g of a crude product of the 4-fluoroproline derivative represented by the formula (1) was obtained as a brown oily substance. The gas chromatographic purity of the crude product was 85.21%. There are three types of main impurities. When the impurities A to C are named, the impurities A, B and C were contained in 6.47%, 2.80% and 4.68%, respectively. The theoretical yield of product was 20.17 g, suggesting that the crude product contained almost no salt of trifluoromethanesulfonic acid. Therefore, when the molar ratio of the target product to the trifluoromethanesulfonic acid salt in the crude product was measured by 19 F-NMR spectrum, the target product: trifluorotrifluorosulfonic acid salt = 97.6: 2.4. It was.

粗生成物全量を蒸留精製し(減圧度300Pa、沸点110−115℃、油浴温度125−135℃)、蒸留精製品 16.82gを淡黄色の油状物質として得た。蒸留精製品のガスクロマトグラフィー純度は88.33%(不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ5.39%、1.74%、4.54%)であった。粗生成物にはトリフルオロメタンスルホン酸の塩が殆ど含まれていなかったことから、蒸留精製での脱Boc化は全く認められなかった。ガスクロマトグラフィー純度を考慮したトータル収率は73.7%であった。   The entire amount of the crude product was purified by distillation (decompression degree 300 Pa, boiling point 110-115 ° C., oil bath temperature 125-135 ° C.) to obtain 16.82 g of a distilled purified product as a pale yellow oily substance. The purity of the distilled purified product was 88.33% (impurities A, B and C were 5.39%, 1.74% and 4.54%, respectively). Since the crude product contained almost no salt of trifluoromethanesulfonic acid, no de-Boc formation by distillation purification was observed. The total yield considering gas chromatographic purity was 73.7%.

4−フルオロプロリン誘導体の1H−NMRと19F−NMRスペクトル、およびトリフルオロメタンスルホン酸の塩の19F−NMRスペクトルは実施例1で得られたものと同様であった。 1 H-NMR and 19 F-NMR spectrum of 4-fluoro-proline derivative, and 19 F-NMR spectrum of the salt of trifluoromethanesulfonic acid were the same as those obtained in Example 1.

[比較例2]
ガラス製反応容器に、下記式
[Comparative Example 2]
In a glass reaction vessel,

Figure 2005336151
で示される4−ヒドロキシプロリン保護体 20.02g(ガスクロマトグラフィー純度99.77%、81.44mmolとする、1.00eq)、アセトニトリル 116.0mlとトリエチルアミン 9.08g(89.73mmol、1.10eq)を加え、内温を−35℃に冷却してパーフルオロブタンスルホニルフルオリド 32.05g(106.09mmol、1.30eq)を加えた。同温度で30分間攪拌し、さらに室温で17.5時間攪拌した。反応の変換率をガスクロマトグラフィーにより測定したところ99%以上であった。反応終了液を炭酸カリウムの水溶液[炭酸カリウム 45.10g(326.32mmol、4.01eq)と水 180mlから調製]に注ぎ込み、酢酸エチル 200mlで2回抽出した。さらに、有機層を10%食塩水 613mlで2回洗浄した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下濃縮し、真空乾燥し、下記式
Figure 2005336151
Protected by 4-hydroxyproline represented by the following formula: 20.02 g (gas chromatographic purity 99.77%, 81.44 mmol, 1.00 eq), 116.0 ml of acetonitrile and 9.08 g (89.73 mmol, 1.10 eq) of triethylamine ), The internal temperature was cooled to −35 ° C., and 32.05 g (106.09 mmol, 1.30 eq) of perfluorobutanesulfonyl fluoride was added. The mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes and further stirred at room temperature for 17.5 hours. The conversion rate of the reaction was measured by gas chromatography and found to be 99% or more. The reaction-terminated liquid was poured into an aqueous solution of potassium carbonate [prepared from 45.10 g (326.32 mmol, 4.01 eq) of potassium carbonate and 180 ml of water] and extracted twice with 200 ml of ethyl acetate. Further, the organic layer was washed twice with 613 ml of 10% saline. The recovered organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated under reduced pressure, vacuum dried,

Figure 2005336151
で示される4−フルオロプロリン誘導体の粗生成物 68.92gを淡黄色のワックス状物質として得た。粗生成物のガスクロマトグラフィー純度は64.48%であった。主な不純物は3種類あり、不純物A〜Cと命名すると、不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ14.81%、17.33%、3.38%含まれていた。生成物の理論収量は20.14gで、粗生成物にはパーフルオロブタンスルホン酸の塩が多量に含まれていることが示唆された。そこで粗生成物中の目的生成物とパーフルオロブタンスルホン酸の塩のモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、目的生成物:パーフルオロブタンスルホン酸の塩=32.5:67.5であった。
Figure 2005336151
As a pale yellow waxy substance, 68.92 g of a crude product of a 4-fluoroproline derivative represented by the formula: The gas chromatographic purity of the crude product was 64.48%. There are three main impurities, and when impurities A to C are named, impurities A, B and C contained 14.81%, 17.33% and 3.38%, respectively. The theoretical yield of the product was 20.14 g, suggesting that the crude product contained a large amount of perfluorobutanesulfonic acid salt. Therefore, when the molar ratio of the target product to the perfluorobutanesulfonic acid salt in the crude product was measured by 19 F-NMR spectrum, the target product: perfluorobutanesulfonic acid salt = 32.5: 67.5. Met.

粗生成物全量を蒸留精製し[減圧度530Pa(さらに減圧度を上げても留出せず)、沸点93−98℃、油浴温度145−150℃]、蒸留精製品 4.30gを淡黄色の油状物質として得た。蒸留精製品のガスクロマトグラフィー純度は47.71%(不純物A、不純物Bおよび不純物Cはそれぞれ26.83%、9.60%、4.01%)であった。粗生成物にはパーフルオロブタンスルホン酸の塩が多量に含まれていたことから、蒸留精製での脱Boc化が相当に認められた(11.48%、下記式構造)。   The whole crude product was purified by distillation [depressurization degree 530 Pa (not distilled even if the depressurization degree was further increased), boiling point 93-98 ° C, oil bath temperature 145-150 ° C], and 4.30 g of distilled purified product was pale yellow Obtained as an oil. The purity of the distilled product by gas chromatography was 47.71% (impurities A, B and C were 26.83%, 9.60% and 4.01%, respectively). Since the crude product contained a large amount of perfluorobutanesulfonic acid salt, de-Boc formation by distillation purification was considerably recognized (11.48%, the following formula structure).

Figure 2005336151
ガスクロマトグラフィー純度を考慮したトータル収率は10.2%であった。4−フルオロプロリン誘導体の1H−NMRと19F−NMRスペクトルは実施例1で得られたものと同様であった。パーフルオロブタンスルホン酸の塩の19F−NMRスペクトルは比較例1で得られたものと同様であった。
Figure 2005336151
The total yield considering gas chromatographic purity was 10.2%. The 1 H-NMR and 19 F-NMR spectra of the 4-fluoroproline derivative were the same as those obtained in Example 1. The 19 F-NMR spectrum of the salt of perfluorobutanesulfonic acid was the same as that obtained in Comparative Example 1.

[参考例1]
ガラス製反応容器に、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム(C49SO3K) 2.02g(5.97mmol)、水 30mlと酢酸エチル 30mlを加え、室温で2時間攪拌した。静定後、有機層と水層を分液し、それぞれの層に含まれるパーフルオロブタンスルホン酸カリウムのモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、有機層:水層=26.0:74.0であった。
[Reference Example 1]
To a glass reaction vessel, 2.02 g (5.97 mmol) of potassium perfluorobutanesulfonate (C 4 F 9 SO 3 K), 30 ml of water and 30 ml of ethyl acetate were added and stirred at room temperature for 2 hours. After standing, the organic layer and the aqueous layer were separated, and the molar ratio of potassium perfluorobutanesulfonate contained in each layer was measured by 19 F-NMR spectrum. Organic layer: aqueous layer = 26.0: It was 74.0.

[参考例2]
ガラス製反応容器に、トリフルオロメタンスルホン酸カリウム(CF3SO3K) 1.13g(6.01mmol)、水 30mlと酢酸エチル 30mlを加え、室温で2時間攪拌した。静定後、有機層と水層を分液し、それぞれの層に含まれるトリフルオロメタンスルホン酸カリウムのモル比を19F−NMRスペクトルにより測定したところ、有機層:水層=0.8:99.2であった。
[Reference Example 2]
To a glass reaction vessel, 1.13 g (6.01 mmol) of potassium trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 3 K), 30 ml of water and 30 ml of ethyl acetate were added and stirred at room temperature for 2 hours. After standing, the organic layer and the aqueous layer were separated, and the molar ratio of potassium trifluoromethanesulfonate contained in each layer was measured by 19 F-NMR spectrum. Organic layer: aqueous layer = 0.8: 99 .2.

Claims (6)

一般式[1]
Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体を有機塩基の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、一般式[2]
Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法。
General formula [1]
Figure 2005336151
[In the formula, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon.] Is reacted with trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) to give a general formula [2]
Figure 2005336151
[Wherein R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon].
一般式[1]
Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体をトリエチルアミン[(C253N]の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、一般式[2]
Figure 2005336151
[式中、Rは二級アミノ基の保護基を表し、R1はカルボキシル基の保護基を表し、*は不斉炭素を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法。
General formula [1]
Figure 2005336151
[Wherein, R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon.] A protected 4-hydroxyproline represented by triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N] is reacted with trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) in the presence of general formula [2]
Figure 2005336151
[Wherein R represents a protecting group for a secondary amino group, R 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and * represents an asymmetric carbon].
式[3]
Figure 2005336151
[式中、Bocはtert−ブトキシカルボニル基を表す]で示される4−ヒドロキシプロリン保護体をトリエチルアミン[(C253N]の存在下にトリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)と反応させることにより、式[4]
Figure 2005336151
[式中、Bocはtert−ブトキシカルボニル基を表す]で示される4−フルオロプロリン誘導体を製造する方法。
Formula [3]
Figure 2005336151
[Wherein Boc represents a tert-butoxycarbonyl group] A protected 4-hydroxyproline represented by trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) in the presence of triethylamine [(C 2 H 5 ) 3 N] ) To give the formula [4]
Figure 2005336151
[Wherein Boc represents a tert-butoxycarbonyl group] A method for producing a 4-fluoroproline derivative represented by the formula:
請求項1乃至請求項3の何れかにおいて、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド(CF3SO2F)のみをフッ素化剤とし、他のフッ素化剤を併用しないことを特徴とする、請求項1乃至請求項3の何れかに記載の方法。 4. The method according to claim 1, wherein only trifluoromethanesulfonyl fluoride (CF 3 SO 2 F) is used as a fluorinating agent and no other fluorinating agent is used in combination. Item 4. The method according to any one of Items 3. 請求項1乃至請求項4の何れかにおいて、4−ヒドロキシプロリン保護体1.0モルに対し、有機塩基もしくはトリエチルアミンを1.0〜1.5モル用いることを特徴とする、請求項1乃至請求項4の何れかに記載の方法。 The organic base or triethylamine is used in any one of claims 1 to 4 in an amount of 1.0 to 1.5 mol per 1.0 mol of the 4-hydroxyproline protector. Item 5. The method according to any one of Items 4. 請求項1乃至請求項5の何れかの方法で4−フルオロプロリン誘導体を合成した後、得られた反応混合液を水または無機塩基の水溶液で洗浄することを特徴とする、請求項1乃至請求項5の何れかに記載の方法。

The 4-fluoroproline derivative is synthesized by the method according to any one of claims 1 to 5, and the resulting reaction mixture is washed with water or an aqueous solution of an inorganic base. 6. The method according to any one of items 5.

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