JP6211374B2 - 電波選択構造及び電波選択方法 - Google Patents

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Description

本発明は、電波選択構造及び電波選択方法に関する。
レーダ及び通信装置などに用いられるアンテナは、外部環境から保護するため、レドームにより覆われる場合がある。
レドームとして、周波数選択構造を有するものがある。図1Aは、そのようなレドーム100の一例を示す図である。図1Aには、レドーム100の一部を示す断面図及び正面図が描かれている。このレドーム100には、周波数選択構造101が設けられている。周波数選択構造101は、アンテナが使用する周波数の電波を透過させ、他の周波数の電波を遮断する機能を有している。図1Bに示されるように、アンテナ102が使用する電波103−1は、レドーム100を透過する。一方、図1Cに示されるように、他の周波数の電波103−2は、遮断される。これにより、他の装置による捜索電波又は妨害電波などがアンテナ102に入射することが防止され、隠蔽性及び耐妨害性の向上が図られる。
上記に関連して、特許文献1(特許第4784115号)には、レドームが開示されている。このレドームは、レーダアンテナを周波数選択層を備えた壁体で覆い、レーダアンテナが送受信する所定の周波数帯域の電波を透過可能とするレドームである。このレドームは、壁体の周波数選択層の外側に、レーダアンテナで使用される周波数帯域よりも低い帯域の周波数100MHz以上5GHz以下用の低周波アンテナが設けられ、周波数選択層は低周波アンテナで送受信する低周波帯域の電波を透過させないように設定される。
特許第4784115号
しかしながら、周波数選択構造を用いた場合であっても、自アンテナが使用する周波数に同一又は近い周波数の電波は、透過する。そのため、捜索電波又は妨害電波などの周波数によっては、探知されたり、妨害されてしまうことがある。
そこで、本発明の課題は、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることができる、電波選択構造、及び電波選択方法を提供することにある。
本発明に係る電波選択構造は、アンテナを覆うように配置される。電波選択構造は、外側に設けられた第1層と、中間領域を介して第1層の内側に設けられた、第2層と、中間領域に配置された少なくとも一つのプラズマポートとを備える。プラズマポートは、中間領域にある電界強度以上の強度を有する電界(以下、高電界という)が発生した場合に、中間領域にプラズマを発生させるように構成されている。
本発明に係る電波選択方法は、電波選択構造内に高電界が発生した場合に、電波選択構造内にプラズマを発生させるステップを含んでいる。電波選択構造は、アンテナを覆うように配置される。電波選択構造は、第1層と、中間領域を介して前記第1層と対向するように配置された、第2層とを有している。プラズマを発生させるステップは、中間領域に高電界が発生した場合に、中間領域にプラズマを発生させるステップを含んでいる。
本発明によれば、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることができる、電波選択構造、及び電波選択方法が提供される。
図1Aは、レドームの一例を示す図である。 図1Bは、レドームの動作の一例を示す図である。 図1Cは、レドームの動作の一例を示す図である。 図2は、第1の実施形態に係る電波選択構造を示す概略図である。 図3は、電波選択構造を模式的に示す断面図である。 図4は、電波選択構造の一部を示す断面図及び正面図である。 図5Aは、電波選択構造2の動作を示す概略断面図である。 図5Bは、電波選択構造2の動作を示す概略断面図である。 図6は、第1の実施形態の変形例に係る電波選択構造の断面を示す模式図である。 図7は、第2の実施形態に係る電波選択構造を示す断面図、及び正面図である。 図8は、電波選択構造の一部を示す断面図である。 図9Aは、通常時における電波選択構造の動作を説明する為の図である。 図9Bは、中間領域にプラズマが発生した状態を示す図である。 図10は、第3の実施形態に係る電波選択構造を示す断面図、及び正面図である。 図11Aは、通常時における電波選択構造の動作を説明する為の図である。 図11Bは、中間領域がプラズマで満たされた場合における電波選択構造の動作を説明する為の図である。 図12は、第4の実施形態に係る電波選択構造を示す断面図、及び正面図である。 図13は、第5の実施形態に係る電波選択構造を示す断面図、及び正面図である。 図14は、第6の実施形態に係る電波選択構造を示す断面図、及び正面図である。 図15は、第7の実施形態に係る電波選択構造を示す模式図である。 図16Aは、通常時における電波選択構造の動作を説明する為の図である。 図16Bは、中間領域がプラズマで満たされた場合における電波選択構造の動作を説明する為の図である。
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について説明する。
(第1の実施形態)
図2は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す概略図である。図2に示されるように、電波選択構造2は、アンテナ1を覆うように配置されている。電波選択構造2は、アンテナ1を外部の環境から保護する機能も有しており、いわゆるレドームとして用いられる。
図3は、電波選択構造2を模式的に示す断面図である。図3に示されるように、電波選択構造2は、コア材5、スキン3(第1層)、スキン4(第2層)、及びプラズマポート6を備えている。
スキン3は、コア材5におけるアンテナ1側の面に設けられている。一方、スキン4は、コア材5における外側の面に設けられている。言い換えれば、スキン3は内側に設けられ、スキン4は外側に設けられている。スキン3とスキン4とは、中間領域20を介して対向するように配置され、中間領域20にはコア材5が充填されている。中間領域20は、閉じられた領域である。
コア材5としては、スキン3及びスキン4よりも電気的特性が良い(電波の透過性が高い)材料が用いられる。また、コア材5としては、内部に空隙構造を有する層が用いられる。コア材5としては、例えば、発泡性樹脂層が用いられる。発泡性樹脂層としては、例えば、ウレタンフォーム層が挙げられる。なお、電波の透過性は、材料の誘電率及び誘電正接という物性値により決まり、電波の周波数に強く依存する。また、コア材5とスキン(3、4)との境界では、反射波の存在も考慮する必要があるため、コア材5とスキン(3、4)とを組み合わせた状態で、使用する周波数での電波の透過率を計算し、各材料及び厚みを決定することが好ましい。
スキン3及びスキン4としては、コア材5よりも強度が高い材料が用いられる。また、スキン3及びスキン4としては、後述するプラズマを閉じ込めておくことができる材料が用いられる。スキン3及びスキン4としては、例えば、FRP樹脂層などが用いられる。
上述のように、コア材5、スキン3、及びスキン4が積層された構造を採用することにより、良好な電気的特性と高い強度とを両立させることができる。
プラズマポート6は、スキン3とスキン4との間の領域(中間領域20)に配置されている。プラズマポート6は、高電界が中間領域20に発生した場合に、中間領域20にプラズマを発生させるように構成されている。具体的には、プラズマポート6は、環境により生じる高電界(スキン4の外部から中間領域20に入射する妨害電波等に基づく高電界)により、プラズマを発生させるように構成されている。また、例えば、コア材5として発泡性樹脂層が用いられる場合、プラズマポート6は、コア材5内の空隙にプラズマを発生させる。
尚、プラズマポート6は、自装置が使用する電波により生じる電界によっては、プラズマを発生させないように構成されている。
プラズマポート6の材料は、中間領域20に高電界が発生した場合にプラズマを発生させることができるものであればよく、特に限定されない。但し、プラズマポート6としては、カーボンナノチューブが好ましく用いられる。カーボンナノチューブは、電界が発生した場合にイオン化しやすく、容易にプラズマを発生させることができる。
次に、図4乃至図5Bを参照して、本実施形態に係る電波選択方法について説明する。
図4(a)及び(b)には、それぞれ、電波選択構造2を示す断面図と、電波選択構造2の一部を示す正面図とが示されている。図4(a)は、通常時の状態を示しており、図4(b)は、高電界が発生した場合の状態を示している。
図4(a)に示されるように、通常時には、中間領域20にプラズマが存在しない。この場合、図5Aに示されるように、電波8−1は電波選択構造2を透過する。
一方、図4(b)に示されるように、環境により(外部から妨害電波などが中間領域20に入射すると)、中間領域20に高電界が発生する。その結果、プラズマポート6がプラズマを発生させ、中間領域20(コア材5内の空隙部分)にプラズマ7が充満する。プラズマは、プラズマ周波数と呼ばれる値よりも低い周波数の電波を反射する性質を有する。プラズマ周波数は、一般的に数百GHz程度である。プラズマの密度が高いほど、プラズマ周波数は高くなる。一般に、レーダ又は通信装置などに用いられる電波の周波数は、数十GHz以下である。従って、中間領域20にプラズマが充満すると、図5Bに示されるように、実質的に全ての電波8−2が反射又は遮断される。これにより、隠蔽性及び耐妨害性を向上させることができる。尚、高電界が消えると、プラズマが消滅し、元のレドームとしての機能が戻る。
以上説明したように、本実施形態によれば、プラズマポート6が中間領域20にプラズマ7を発生させるため、全ての周波数の電波を一時的に遮断することが可能である。
尚、図3に示した例では、プラズマポート6が、スキン3とコア材5との境界部分に配置されている。但し、プラズマポート6は、中間領域20に配置されていればよく、必ずしもスキン3とコア材5との境界部分に配置されている必要はない。
また、図3に示した例では、プラズマポート6は、先端部分が先鋭な形状を有している。このような形状を有している場合、電界を制御しやすく、プラズマポート6が先端部分でプラズマ化しやすい。但し、プラズマポート6の形状はこれに限定されるものではない。
また、プラズマポート6としてカーボンナノチューブなどを用いた場合、カーボンナノチューブの構成成分が電離し、プラズマ化する。但し、必ずしも、プラズマポート6の構成成分自体がプラズマ化する必要はない。プラズマポート6は、中間領域20内に存在する気体成分をプラズマ化させるように構成されていてもよい。また、中間領域20には、プラズマ化されるべき気体成分として、空気以外の気体が充填されていてもよい。
また、既述のように、本実施形態では、プラズマポート6は、自装置が使用する電波により生じる電界によっては、プラズマを発生させないように構成されている。物質がプラズマ化する電界強度の値は、材料と形状によって決まる。従って、自装置の出力、及び想定される外部環境(妨害電波などの電界強度)を考慮することにより、自装置が使用する電波に基づく電界によってはプラズマが発生しないように、プラズマポート6の材料及び形状を決定することができる。
また、自装置の電波放射時にプラズマポート6を導体で覆う機構が追加されてもよい。この場合、プラズマポート6及び覆いとしては、電波の波長に比べて小さいものが用いられる。このような構成を採用することによっても、自装置の電波放射時におけるプラズマの発生を防ぐことができる。
また、外部から入射する電波は、電波源からの距離が遠く、平面波となり、レドーム(電波選択構造2)付近では電界強度が空間的に一様となる。これに対し、自装置の電波は、電波源からの距離が近い近傍界であり、例えば電波源の広がりによる干渉によって電界強度が空間的に強い場所と弱い場所が発生する。従って、プラズマポート6を電界強度が弱い場所に配置することによっても、自装置の電波源によるプラズマ化を防ぐことが可能である。
(変形例)
続いて、本実施形態の変形例に係る電波選択構造2について説明する。図6は、本変形例に係る電波選択構造2の断面を示す模式図である。本実施形態では、電界発生回路11が追加されており、電界発生回路11によって中間領域20に高電界が発生させられる。その他の点については、上述の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明は省略する。
図6に示されるように、本変形例では、スキン3とコア材5との間に、導体層9が設けられている。また、スキン4とコア材5との間に、導体層10が設けられている。導体層9及び導体層10は、電界発生回路11に接続されている。電界発生回路11は、導体層9及び導体層10の間に電圧を印加することにより、中間領域20に高電界を発生させる。
尚、導体層9及び導体層10は、スキン3及びスキン4の全面に設けられているのではなく、自装置が使用する電波を遮断しないようなパターンを有している。また、導体層9及び導体層10は、例えば、銅箔層により実現される。
本変形例では、電界発生回路11が、外部指令を受けて、中間領域20に高電界を発生させる。これにより、プラズマポート6が中間領域20にプラズマ7を発生させ、電波が遮断される。その結果、上述の実施形態と同様に、全ての周波数の電波を一時的に遮断することができる。また、本変形例によれば、任意のタイミングで、プラズマを発生させることが可能である。
尚、本変形例では、導体層9及び導体層10が設けられている場合について説明したが、他の手段により中間領域20に高電界が発生させられてもよい。
また、本変形例においても、上述の実施形態と同様に、外部から妨害電波などが入射した場合にも、プラズマが発生するように、電波選択構造2が構成されていてもよい。
(第2の実施形態)
続いて、第2の実施形態について説明する。図7は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す断面図、及び正面図である。図7(a)は通常時の状態を示しており、図7(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図7に示されるように、本実施形態では、電波選択構造2に、周波数選択構造12が追加されている。その他の点については、既述の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明は省略する。
周波数選択構造12は、一部の周波数の電波を遮断するように構成されている。具体的には、周波数選択構造12は、自装置(アンテナ1)が使用する周波数を含む周波数帯の電波を透過させ、その他の周波数の電波を遮断するように構成されている。
図8は、電波選択構造2の一部を示す断面図である。図8に示されるように、スキン4とコア材5との境界部分には、導体層14(例えば銅箔層)が設けられている。周波数選択構造12は、この導体層14により実現される。詳細には、図7に示されるように、導体層14(周波数選択構造12)は、周期的な形状を有しており、自装置が使用する周波数の電波を透過させ、他の周波数の電波を遮断するような形状を有している。
図9Aは、通常時における動作を説明する為の図である。図9Aに示されるように、通常時には、自装置が使用する周波数の電波8−4は、電波選択構造2を透過する。一方、他の周波数の電波8−3は、周波数選択構造12により遮断され、アンテナ1に到達しない。
一方、中間領域20に高電界が発生すると、既述の実施形態と同様に、プラズマポート6が、中間領域20にプラズマ7を発生させる(図7(b)参照)。図9Bは、中間領域20にプラズマが発生した状態を示す図である。プラズマが発生すると、図9Bに示されるように、全ての電波(自装置が使用する周波数の電波8−6、及び他の周波数の電波8−5)が、遮断される。尚、高電界は、既述の実施形態と同様に、外部から入射する電波により発生されてもよいし、電界発生回路11により発生されてもよい。
本実施形態によれば、既述の実施形態と同様の効果に加え、周波数選択構造12が設けられているため、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることができる。
尚、周波数選択構造12(導体層14)のパターンは、図7に示されるような枠状であってもよいし、他の形状であってもよい。また、図8に示した例では、導体層14が、スキン4とコア材5との間に設けられている。ただし、導体層14は、スキン3とコア材5との間に設けられていてもよい。更に、導体層14は、第1の実施形態の変形例(図6参照)における導体層10と共通であってもよい
また、周波数選択構造12の具体的構成は、他の周波数の電波を遮断することができるような構成であれば、特に限定されるものではない。すなわち、導体層14以外の構成によって周波数選択構造12が実現されてもよい。
(第3の実施形態)
続いて、第3の実施形態について説明する。図10は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す断面図、及び正面図である。図10(a)は通常時の状態を示しており、図10(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図10に示されるように、本実施形態では、電波選択構造2に、入射角選択構造13(13−1、13−2)が追加されている。その他の点については、第1の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明については省略する。
入射角選択構造13は、電波選択構造2の外側から入射する電波のうち、特定の入射角の電波だけをスキン3のアンテナ1側へ透過させるように構成されている。
入射角選択構造13の具体的構造は、特に限定されない。
例えば、図10(a)の断面図に示される例では、コア材5の厚みが、位置に応じて異なっている。このような構成を採用することにより、特定の入射角の電波だけを透過させることができ、入射角選択構造13−1が実現される。
また、図10(a)の正面図に示される例では、中間領域20に、入射角選択構造13−2として、非周期的なパターンが設けられている。この非周期的なパターンは、例えば、スキン3とスキン4との間に配置された導体層に設けられる。このような構成により、メタマテリアルが実現され、入射角選択構造13−2を実現できる。尚、非周期的パターンを有する導体層は、例えば、図6などに示した例と同様に、コア材5とスキン(3又は4)との界面に設けることができる。
また、入射角選択構造13としては、必ずしも入射角選択構造13−1及び入射角選択構造13−2の双方が用いられる必要はなく、何れか一方が用いられてもよい。
図11Aは、通常時における電波選択構造2の動作を説明する為の図である。図11Aに示されるように、通常時には、特定の入射角の電波8−9だけが、電波選択構造2を透過する。具体的には、自アンテナ1が使用するべき電波の入射角の電波が、電波選択構造2を透過する。他の入射角の電波(8−8、8−7)は、入射角選択構造13により遮断され、アンテナ1に到達しない。
一方、中間領域20に高電界が発生すると、既述の実施形態と同様、図10(b)に示されるように、中間領域20がプラズマ7で満たされる。図11Bは、中間領域20がプラズマ7で満たされた場合における電波選択構造2の動作を説明する為の図である。図11Bに示されるように、中間領域20がプラズマで満たされると、全ての電波(8−10〜8−12)が、遮断される。
以上説明したように、本実施形態によれば、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。加えて、本実施形態によれば、入射角選択構造13が設けられていることにより、通常時には特定の入射角の電波だけが電波選択構造2を透過する。これにより、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることが可能となる。
(第4の実施形態)
続いて、第4の実施形態について説明する。図12は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す断面図、及び正面図である。図12(a)は通常時の状態を示しており、図12(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図12に示されるように、本実施形態では、中間領域20における複数の部分に、プラズマポート(6−1〜6−4)が設けられている。その他の点については、第1の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明については省略する。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、中間領域20に高電界が加えられると、プラズマポート(6−1〜6−4)がプラズマ7を発生させ、中間領域20にプラズマ7が充満する(図12(b)参照)。これにより、第1の実施形態と同様に、全ての周波数の電波が、電波選択構造2により遮断され、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることが可能となる。
加えて、本実施形態によれば、プラズマポート(6−1〜6−4)が複数の部分に設けられているため、より速やかに、中間領域20をプラズマで満たすことができる。
また、プラズマポート(6−1〜6−4)がプラズマを発生させることができる回数には、限りがある場合がある。このような場合であっても、本実施形態によれば、プラズマポート(6−1〜6−4)が複数の部分に設けられているため、プラズマをより多くの回数、発生させることが可能である。
(第5の実施形態)
続いて、第5の実施形態について説明する。図13は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す断面図、及び正面図である。図13(a)は通常時の状態を示しており、図13(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図13に示されるように、本実施形態では、第2の実施形態と同様に、電波選択構造2に、周波数選択構造12が設けられている。また、第4の実施形態と同様に、中間領域20における複数の部分に、プラズマポート(6−1〜6−4)が設けられている。その他の点については、既述の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明については省略する。
本実施形態によれば、中間領域20に高電界が発生すると、既述の実施形態と同様に、プラズマポート(6−1〜6−4)により、中間領域20がプラズマ7により満たされる(図13(b)参照)。これにより、全ての周波数の電波が遮断される。
加えて、第2の実施形態と同様に、周波数選択構造12が設けられているため、通常時には、自装置が使用する周波数に近い周波数の電波だけが、透過する。これにより、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることが可能となる。
また、第4の実施形態と同様に、プラズマポート(6−1〜6−4)が複数の部分に設けられているため、より速やかに、多くの回数、中間領域20をプラズマで満たすことができる。
(第6の実施形態)
続いて、第6の実施形態について説明する。図14は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す断面図、及び正面図である。図14(a)は通常時の状態を示しており、図14(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図14に示されるように、本実施形態では、第3の実施形態と同様に、電波選択構造2に、入射角選択構造13(13−1、13−2)が設けられている。また、第4の実施形態と同様に、中間領域20における複数の部分に、プラズマポート(6−1〜6−3)が設けられている。その他の点については、既述の実施形態と同様の構成を採用することができるので、詳細な説明については省略する。
本実施形態によれば、中間領域20に高電界が発生すると、既述の実施形態と同様に、プラズマポート(6−1〜6−4)により、中間領域20がプラズマにより満たされる。これにより、全ての周波数の電波が遮断される。
加えて、第3の実施形態と同様に、入射角選択構造13が設けられているため、通常時には、自装置が使用する周波数の電波だけが、透過する。これにより、隠蔽性及び耐妨害性をより向上させることが可能となる。
また、第4の実施形態と同様に、プラズマポート(6−1〜6−4)が複数の部分に設けられているため、より速やかに、多くの回数、中間領域20をプラズマで満たすことができる。
(第7の実施形態)
続いて、第7の実施形態について説明する。既述の実施形態では、電波選択構造2がいわゆるレドームとして用いられる場合について説明した。但し、電波選択構造2は、必ずしもレドームである必要はなく、レドームとは別に電波選択構造2が設けられていてもよい。本実施形態では、レドームとは別に電波選択構造2が設けられている場合の例について説明する。
図15は、本実施形態に係る電波選択構造2を示す模式図である。図15(a)は通常時の状態を示しており、図15(b)は高電界が発生したときの状態を示している。
図15に示されるように、アンテナ1は、レドーム21により覆われている。ここで、電波選択構造2は、アンテナ1の前面を覆うように、レドーム21の内部に配置されている。電波選択構造2は、レドーム21によって支持されている。
電波選択構造2は、遮蔽板22(第1層)、遮蔽板23(第2層)、及び複数のプラズマポート6(6−1〜6−3)を有している。遮蔽板22及び遮蔽板23は、対向するように配置されている。遮蔽板22と遮蔽板23との間には、中間領域20として、密閉された空間が形成されている。複数のプラズマポート6(6−1〜6−3)は、中間領域20に配置されている。
尚、遮蔽板22及び遮蔽板23の材質としては、電波を透過させ、プラズマを閉じ込めておくことができる機能を有するものであればよく、特に限定されない。
図16Aは、通常時における電波選択構造2の動作を説明する為の図である。図16Aに示されるように、通常時には、電波8−13は、電波選択構造2を透過する。
一方、中間領域20に高電界が発生すると、図15(b)に示されるように、既述の実施形態と同様に、プラズマポート6(6−1〜6−3)がプラズマを発生させ、中間領域20がプラズマ7で満たされる。図16Bは、中間領域20がプラズマ7で満たされた場合における電波選択構造2の動作を説明する為の図である。図16Bに示されるように、中間領域20がプラズマで満たされると、全ての周波数の電波が、遮断される。すなわち、本実施形態によっても、既述の実施形態と同様に、全ての周波数の電波を、一時的に遮断することができる。
尚、本実施形態においては、中間領域20にコア材5が充填されている必要はない。但し、中間領域20にコア材が充填されていてもよい。また、中間領域20には空気が充填されていてもよいし、プラズマ化されるべき他の気体成分が充填されていてもよい。このような構成を採用した場合であっても、上述の実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。
また、高電界は、第1の実施形態と同様に、環境(電波選択構造2に入射する妨害電波など)により発生されてもよいし、第1の実施形態の変形例と同様に、電界発生回路11(図6参照)により発生されてもよい。
また、プラズマポート6は、複数の部分に設けられてよいし、単一であってもよい。
また、本実施形態においても、第2の実施形態と同様に周波数選択構造が設けられていてもよいし、第3の実施形態と同様に入射角選択構造が設けられていてもよい。
以上、本発明について、第1乃至第7の実施形態、及び変形例を用いて説明した。尚、これらの実施形態及び変形例は独立するものではなく、矛盾のない範囲内で組み合わせて用いることも可能である。
1 アンテナ
2 電波選択構造
3 スキン
4 スキン
5 コア材
6 プラズマポート
7 プラズマ
8 電波
9 導体層
10 導体層
11 電界発生回路
12 周波数選択構造
13 入射角選択構造
14 導体層
20 中間領域
21 レドーム
22 遮蔽板
23 遮蔽板
24 中間領域
100 レドーム
101 周波数選択構造
102 アンテナ
103 電波

Claims (10)

  1. アンテナを覆うように配置される電波選択構造であって、
    第1層と、
    中間領域を介して前記第1層の外側に設けられた、第2層と、
    前記中間領域に配置された少なくとも一つのプラズマポートと、
    を具備し、
    前記プラズマポートは、
    先鋭な形状を有する先端部分
    を具備し、
    前記プラズマポートは、前記中間領域に電界が発生した場合に、前記中間領域に存在する成分を、前記先端部分でプラズマさせるように構成されている
    電波選択構造。
  2. 請求項1に記載された電波選択構造であって、
    更に、
    前記中間領域に電界を発生させる、電界発生回路、
    を具備する
    電波選択構造。
  3. 請求項1または2に記載された電波選択構造であって、
    前記プラズマポートは、カーボンナノチューブを含んでいる
    電波選択構造。
  4. 請求項1乃至のいずれかに記載された電波選択構造であって、
    更に、
    前記中間領域に配置され、一部の周波数の電波を透過させ、他の周波数の電波を遮断するように構成された、周波数選択構造、
    を具備する
    電波選択構造。
  5. 請求項1乃至のいずれかに記載された電波選択構造であって、
    前記プラズマポートは、複数の部分に配置されている
    電波選択構造。
  6. 請求項1乃至のいずれかに記載された電波選択構造であって、
    更に、
    一部の入射角の電波を外部から前記アンテナ側へ透過させ、他の入射角の電波を遮断するように構成された、入射角選択構造
    を具備する
    電波選択構造。
  7. 請求項1乃至のいずれかに記載された電波選択構造であって、
    前記中間領域に配置されたコア材をさらに具備する
    電波選択構造。
  8. 請求項に記載された電波選択構造であって、
    前記コア材は、発泡性樹脂を含んでいる
    電波選択構造。
  9. 電波選択構造内に電界が発生した場合に、前記電波選択構造内にプラズマを発生させるステップ、
    を具備し、
    前記電波選択構造は、アンテナを覆うように配置され、
    前記電波選択構造は、
    第1層と、
    中間領域を介して前記第1層の外側に設けられた、第2層と
    前記中間領域に配置された少なくとも一つのプラズマポートと
    を有し、
    前記プラズマポートは、
    先鋭な形状を有する先端部分
    を具備し、
    前記プラズマを発生させるステップは、前記中間領域に電界が発生した場合に、前記中間領域に存在する成分を、前記先端部分でプラズマさせるステップを含んでいる
    電波選択方法。
  10. 請求項に記載された電波選択方法であって、
    前記プラズマを発生させるステップは、電界発生回路が電界を発生させるステップを含んでいる
    電波選択方法。
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