JP6203668B2 - Planar antenna inspection method and planar antenna - Google Patents

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本発明は、平面アンテナ検査方法及び平面アンテナに係り、さらに詳しくは、導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナ及びその検査方法に関する。   The present invention relates to a planar antenna inspection method and a planar antenna, and more particularly to a planar antenna on which a waveguide microstrip line converter is formed and an inspection method thereof.

マイクロストリップアンテナは、誘電体基板の両面に導体層からなる回路パターンを形成することによって構成される平面アンテナであり、導波管を用いて給電される。例えば、誘電体基板の表面には、多数の放射素子、放射素子への給電回路及び短絡板を含む回路パターンが形成され、誘電体基板の裏面には、導波管を接続するための接続回路や接地板を含む回路パターンが形成される。この様な回路パターンは、写真製版(フォトリソグラフィ)の技術を利用して形成される。   The microstrip antenna is a planar antenna configured by forming a circuit pattern made of a conductor layer on both surfaces of a dielectric substrate, and is fed using a waveguide. For example, a circuit pattern including a large number of radiating elements, a feeding circuit to the radiating elements, and a short-circuit plate is formed on the surface of the dielectric substrate, and a connection circuit for connecting a waveguide on the back surface of the dielectric substrate. And a circuit pattern including a ground plate is formed. Such a circuit pattern is formed by using a photolithography technique.

平面アンテナの場合、誘電体基板の表面と裏面との間で回路パターンの位置に大きなずれがあれば、放射特性が劣化し、正面利得が低下してしまうという問題があった。従来、平面アンテナの製造工程では、平面アンテナの完成品について、正面利得等の放射特性を実際に測定することにより、上述した様な表裏ずれを推定し、表裏ずれの大きい完成品を不良品として除外することが行われていた。しかしながら、完成品の全数について、放射特性を測定することは、極めて生産効率が悪く、平面アンテナの製造コストを増大させる要因となっていた。   In the case of a planar antenna, if there is a large shift in the position of the circuit pattern between the front surface and the back surface of the dielectric substrate, there is a problem that the radiation characteristics deteriorate and the front gain decreases. Conventionally, in the manufacturing process of a planar antenna, the finished product of a planar antenna is actually measured for radiation characteristics such as front gain, thereby estimating the front-to-back deviation as described above, and the finished product with a large front-to-back deviation as a defective product. Exclusion was done. However, measuring the radiation characteristics of all the finished products is extremely inefficient in production and increases the manufacturing cost of the planar antenna.

また、上記接続回路は、導波管に対応づけて接地板に設けられる貫通孔と、貫通孔内に設けられる整合素子等により構成され、給電回路及び短絡板と合わせて、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成している。この様な導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナに位置合わせ用のパターンを設ければ、放射特性が劣化してしまうという問題もあった。   The connection circuit includes a through hole provided in the ground plate in association with the waveguide, a matching element provided in the through hole, and the like. It constitutes a line converter. If a planar pattern on which such a waveguide microstrip line converter is formed is provided with a pattern for alignment, there is also a problem that radiation characteristics deteriorate.

なお、特許文献1には、基板Wの表側にディテクター11及び照明L1からなる第1の検出手段1を配置し、基板Wの裏側にディテクター12及び照明L2からなる第2の検出手段2を配置した合わせずれ検査装置が記載されている。この合わせずれ検査装置では、照明L1から基板Wの表面に検出光を照射した際の反射光がディテクター11により検出されるとともに、照明L2から基板Wの裏面に検出光を照射した際の反射光がディテクター12により検出され、これらの検出データを合成することにより、基板の両面にそれぞれ形成されたパターン間の位置ずれが求められる。   In Patent Document 1, the first detection unit 1 including the detector 11 and the illumination L1 is disposed on the front side of the substrate W, and the second detection unit 2 including the detector 12 and the illumination L2 is disposed on the back side of the substrate W. A misalignment inspection apparatus is described. In this misalignment inspection apparatus, the reflected light when the detection light is irradiated from the illumination L1 to the surface of the substrate W is detected by the detector 11, and the reflected light when the detection light is irradiated from the illumination L2 to the back surface of the substrate W. Is detected by the detector 12, and by combining these detection data, the positional deviation between the patterns respectively formed on both surfaces of the substrate is obtained.

しかし、この様な反射光を用いる検査方法では、基板面における微細な凹凸や模様を回路パターンとして誤検出し易いことから、位置ずれの検出精度が低いという問題があった。また、誘電体基板の表面側で反射光を受光して得られた検出データと誘電体基板の裏面側で反射光を受光して得られた検出データとから、位置ずれを検出するには、これらの検出データを正確に位置合わせする必要がある。このため、ディテクター11及び12の位置や向きを予めキャリブレーションし、或いは、位置合わせ用のマーク等をディテクター11及び12の撮影領域内に予め設けておかなけらばならないという問題もあった。   However, in such an inspection method using reflected light, there is a problem that detection accuracy of misalignment is low because fine irregularities and patterns on the substrate surface are easily erroneously detected as circuit patterns. In addition, in order to detect misalignment from detection data obtained by receiving reflected light on the front surface side of the dielectric substrate and detection data obtained by receiving reflected light on the back surface side of the dielectric substrate, It is necessary to accurately align these detection data. For this reason, there has been a problem that the positions and orientations of the detectors 11 and 12 must be calibrated in advance, or an alignment mark or the like must be provided in the imaging area of the detectors 11 and 12 in advance.

特開2005−172540号公報JP 2005-172540 A

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを検出することができる平面アンテナ検査方法を提供することを目的とする。特に、反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法に比べ、位置ずれの検出精度を向上させることができる平面アンテナ検査方法を提供することを目的とする。また、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを検出することができる平面アンテナ検査方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a planar antenna inspection method capable of detecting a positional deviation between circuit patterns formed on both surfaces of a dielectric substrate without measuring radiation characteristics. The purpose is to provide. In particular, it is an object of the present invention to provide a planar antenna inspection method capable of improving the detection accuracy of misalignment as compared with an inspection method that receives reflected light and detects misalignment. Another object of the present invention is to provide a planar antenna inspection method capable of detecting a positional deviation between circuit patterns constituting a waveguide microstrip line converter while suppressing deterioration of radiation characteristics.

また、本発明は、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを光学的に検出することができる平面アンテナを提供することを目的とする。特に、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを光学的に検出することができる平面アンテナを提供することを目的とする。   It is another object of the present invention to provide a planar antenna that can optically detect a positional shift between circuit patterns formed on both surfaces of a dielectric substrate without measuring radiation characteristics. . In particular, it is an object of the present invention to provide a planar antenna that can optically detect a positional shift between circuit patterns constituting a waveguide microstrip line converter while suppressing deterioration of radiation characteristics.

第1の本発明による平面アンテナ検査方法は、導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナの検査方法であって、上記導波管マイクロストリップ線路変換器が、誘電体基板の第1面及び第2面にそれぞれ形成された第1回路パターン及び第2回路パターンからなり、第2回路パターンが導波管に対応づけて接地板に設けられた矩形の貫通孔を含み、第1回路パターンが上記貫通孔に対応づけて設けられた短絡板を含み、位置合わせ用の第1検査パターンを含む第1回路パターンを上記誘電体基板の第1面に形成する第1回路パターン形成ステップと、第1検査パターンに対応づけて配置される第2検査パターンを含む第2回路パターンを上記誘電体基板の第2面に形成する第2回路パターン形成ステップと、検出光を上記誘電体基板に照射した際の透過光を受光し、第1検査パターン及び第2検査パターンからなる検査パターンセットを含む検査パターン画像を生成する検査パターン撮像ステップと、上記検査パターン画像に基づいて、第1回路パターン及び第2回路パターン間の位置ずれを判定する位置ずれ判定ステップとを備え、上記検査パターンセットが、上記貫通孔の短辺に対向する位置に形成されるように構成される。   A planar antenna inspection method according to a first aspect of the present invention is a planar antenna inspection method in which a waveguide microstrip line converter is formed, wherein the waveguide microstrip line converter is a first dielectric substrate. A first circuit pattern and a second circuit pattern formed on the surface and the second surface, respectively, wherein the second circuit pattern includes a rectangular through-hole provided in the ground plate in association with the waveguide; A first circuit pattern forming step of forming a first circuit pattern on the first surface of the dielectric substrate, the pattern including a short-circuit plate provided in association with the through hole, and including a first inspection pattern for alignment; A second circuit pattern forming step of forming a second circuit pattern including a second inspection pattern arranged in correspondence with the first inspection pattern on the second surface of the dielectric substrate; Based on the inspection pattern imaging step of receiving the transmitted light when illuminating the electrical substrate and generating an inspection pattern image including an inspection pattern set including the first inspection pattern and the second inspection pattern, A displacement determination step of determining displacement between the first circuit pattern and the second circuit pattern, and the inspection pattern set is formed at a position facing the short side of the through hole.

この平面アンテナ検査方法では、第1及び第2検査パターンがそれぞれ第1及び第2回路パターンとして形成されるので、第1及び第2検査パターンからなる検査パターンセットが撮影された検査パターン画像を解析することにより、第1回路パターン及び第2回路パターン間の位置ずれを判定することができる。つまり、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを検出することができる。   In this planar antenna inspection method, since the first and second inspection patterns are formed as the first and second circuit patterns, respectively, an inspection pattern image obtained by photographing an inspection pattern set including the first and second inspection patterns is analyzed. By doing so, it is possible to determine the positional deviation between the first circuit pattern and the second circuit pattern. That is, it is possible to detect a positional shift between circuit patterns formed on both surfaces of the dielectric substrate without measuring the radiation characteristics.

また、検出光を誘電体基板に照射した際の透過光を受光して検査パターン画像を得るので、反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法に比べ、位置ずれの検出精度を向上させることができる。さらに、検査パターンセットは、導波管に対応づけて接地板に設けられた貫通孔の短辺に対向する位置に形成される。貫通孔の長辺及び短辺は、それぞれ導波管の広壁及び狭壁に対応し、短辺と交差する方向に比べ、長辺と交差する方向への電界の漏れが大きい。このため、検査パターンセットを貫通孔の長辺に対向する位置に形成する場合に比べ、放射特性が劣化するのを抑制することができる。従って、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを検出することができる。   Further, since the inspection pattern image is obtained by receiving the transmitted light when the dielectric substrate is irradiated with the detection light, the detection accuracy of the positional deviation is improved as compared with the inspection method for detecting the positional deviation by receiving the reflected light. be able to. Further, the inspection pattern set is formed at a position facing the short side of the through hole provided in the ground plate in association with the waveguide. The long side and the short side of the through hole correspond to the wide wall and the narrow wall of the waveguide, respectively, and the electric field leakage in the direction intersecting the long side is larger than the direction intersecting the short side. For this reason, it can suppress that a radiation characteristic deteriorates compared with the case where a test | inspection pattern set is formed in the position facing the long side of a through-hole. Therefore, it is possible to detect a positional shift between circuit patterns constituting the waveguide microstrip line converter while suppressing deterioration of radiation characteristics.

第2の本発明による平面アンテナは、導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナであって、誘電体基板の第2面に形成され、導波管に対応づけて接地板に設けられた矩形の貫通孔を含む第2回路パターンと、上記誘電体基板の第1面に形成され、上記貫通孔に対応づけて設けられた短絡板を含む第1回路パターンとを備え、第1回路パターンが、位置合わせ用の第1検査パターンを含み、第2回路パターンが、第1検査パターンに対応づけて配置される第2検査パターンを含み、第1検査パターン及び第2検査パターンからなる検査パターンセットが、上記貫通孔の短辺に対向する位置に形成されているように構成される。   A planar antenna according to a second aspect of the present invention is a planar antenna in which a waveguide microstrip line converter is formed, is formed on a second surface of a dielectric substrate, and is provided on a ground plate in association with the waveguide. A first circuit pattern including a second circuit pattern including a rectangular through hole and a first circuit pattern including a short-circuit plate formed on the first surface of the dielectric substrate so as to correspond to the through hole. The circuit pattern includes a first inspection pattern for alignment, the second circuit pattern includes a second inspection pattern arranged in association with the first inspection pattern, and includes the first inspection pattern and the second inspection pattern. The inspection pattern set is configured to be formed at a position facing the short side of the through hole.

この平面アンテナでは、第1及び第2検査パターンがそれぞれ第1及び第2回路パターンとして形成されるので、第1及び第2検査パターンからなる検査パターンセットを撮影した検査パターン画像を解析することにより、第1回路パターン及び第2回路パターン間の位置ずれを判定することができる。つまり、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを光学的に検出することができる。また、検査パターンセットは、導波管に対応づけて接地板に設けられた貫通孔の短辺に対向する位置に形成されるので、放射特性の劣化を抑制しつつ、位置ずれを光学的に検出することができる。   In this planar antenna, the first and second inspection patterns are formed as the first and second circuit patterns, respectively. Therefore, by analyzing the inspection pattern image obtained by photographing the inspection pattern set including the first and second inspection patterns. The positional deviation between the first circuit pattern and the second circuit pattern can be determined. That is, it is possible to optically detect a positional shift between circuit patterns formed on both surfaces of the dielectric substrate without measuring the radiation characteristics. In addition, since the inspection pattern set is formed at a position facing the short side of the through hole provided in the ground plate in association with the waveguide, the positional deviation can be optically suppressed while suppressing deterioration of radiation characteristics. Can be detected.

第3の本発明による平面アンテナは、上記構成に加え、2つの上記検査パターンセットが、上記導波管マイクロストリップ線路変換器を挟んで配置されているように構成される。この様な構成によれば、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを検出することができるとともに、位置ずれを検査パターンセット間で比較することにより、第1回路パターン及び第2回路パターン間における相対的な回転ずれを検出することができる。   The planar antenna according to the third aspect of the present invention is configured such that, in addition to the above-described configuration, the two test pattern sets are arranged with the waveguide microstrip line converter interposed therebetween. According to such a configuration, it is possible to detect the positional deviation between the circuit patterns constituting the waveguide microstrip line converter, and to compare the positional deviation between the test pattern sets, thereby obtaining the first circuit pattern. And a relative rotational deviation between the second circuit patterns can be detected.

第4の本発明による平面アンテナは、上記構成に加え、2以上の上記導波管マイクロストリップ線路変換器が上記貫通孔の短辺を互いに対向させて直線上に配置され、2つの上記検査パターンセットが、上記導波管マイクロストリップ線路変換器からなる変換器列を挟んで配置されているように構成される。この様な構成によれば、導波管マイクロストリップ線路変換器の配列方向への位置ずれや変換器列の回転ずれを高い精度で検出することができる。   A planar antenna according to a fourth aspect of the present invention includes, in addition to the above configuration, two or more of the waveguide microstrip line converters arranged on a straight line with the short sides of the through-holes facing each other, and the two inspection patterns The set is configured so as to be disposed with a converter row composed of the waveguide microstrip line converters interposed therebetween. According to such a configuration, it is possible to detect the positional deviation of the waveguide microstrip line converters in the arrangement direction and the rotational deviation of the transducer array with high accuracy.

第5の本発明による平面アンテナは、上記構成に加え、上記検査パターンセットが、上記短絡板から管内波長の1/4以上離間して配置されているように構成される。この様な構成によれば、平面アンテナの放射特性や導波管マイクロストリップ線路変換器の変換特性を劣化させることなく、検査パターンセットを形成することができる。   A planar antenna according to a fifth aspect of the present invention is configured such that, in addition to the above-described configuration, the inspection pattern set is disposed at a distance of 1/4 or more of the guide wavelength from the short-circuit plate. According to such a configuration, a test pattern set can be formed without degrading the radiation characteristics of the planar antenna and the conversion characteristics of the waveguide microstrip line converter.

本発明によれば、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを検出することができる平面アンテナ検査方法を提供することができる。特に、反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法に比べ、位置ずれの検出精度を向上させることができるとともに、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを検出することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a planar antenna inspection method capable of detecting a positional deviation between circuit patterns formed on both surfaces of a dielectric substrate without measuring radiation characteristics. In particular, compared to inspection methods that detect reflected light by receiving reflected light, it is possible to improve the accuracy of detecting the displacement, and to construct a waveguide microstrip line converter while suppressing deterioration of radiation characteristics It is possible to detect a positional deviation between circuit patterns to be performed.

また、本発明による平面アンテナでは、放射特性を測定しなくても、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間の位置ずれを光学的に検出することができる。特に、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管マイクロストリップ線路変換器を構成する回路パターン間の位置ずれを光学的に検出することができる。   Further, the planar antenna according to the present invention can optically detect a positional deviation between circuit patterns formed on both surfaces of the dielectric substrate without measuring the radiation characteristics. In particular, it is possible to optically detect a positional shift between circuit patterns constituting the waveguide microstrip line converter while suppressing deterioration of radiation characteristics.

本発明の実施の形態による平面アンテナ2の表裏ずれを検査する平面アンテナ検査装置1の一構成例を示したブロック図である。It is the block diagram which showed one structural example of the planar antenna test | inspection apparatus 1 which test | inspects the front-and-back displacement of the planar antenna 2 by embodiment of this invention. 図1の平面アンテナ2の一構成例を示した図であり、平面アンテナ2の表面が示されている。It is the figure which showed one structural example of the planar antenna 2 of FIG. 1, and the surface of the planar antenna 2 is shown. 図2の平面アンテナ2の構成例を示した断面図であり、平面アンテナ2をA−A切断線により切断した場合の切断面が示されている。It is sectional drawing which showed the structural example of the planar antenna 2 of FIG. 2, and the cut surface at the time of cut | disconnecting the planar antenna 2 by the AA cutting line is shown. 図2の平面アンテナ2の構成例を示した断面図であり、平面アンテナ2をB−B切断線により切断した場合の切断面が示されている。It is sectional drawing which showed the structural example of the planar antenna 2 of FIG. 2, and the cut surface at the time of cut | disconnecting the planar antenna 2 by a BB cutting line is shown. 図2の平面アンテナ2の使用状態を示した断面図であり、導波管6を平面アンテナ2の接続回路26に取り付けた状態が示されている。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a usage state of the planar antenna 2 of FIG. 2, in which a waveguide 6 is attached to a connection circuit 26 of the planar antenna 2. 図1の表裏ずれ検査装置1の動作の一例を示した図であり、透過照明により平面アンテナ2を撮影して得られた検査パターン画像7が示されている。It is the figure which showed an example of operation | movement of the front-back displacement inspection apparatus 1 of FIG. 1, and the test | inspection pattern image 7 obtained by image | photographing the planar antenna 2 by transmitted illumination is shown. 平面アンテナ2の放射特性の一例を示した図であり、回路パターン21及び25間の位置ずれを変化させながら測定された正面利得の低下量が示されている。It is the figure which showed an example of the radiation characteristic of the planar antenna 2, and the fall amount of the front gain measured while changing the position shift between the circuit patterns 21 and 25 is shown. 平面アンテナ2の他の構成例を示した図であり、6つの導波管−MSL変換器4が誘電体基板20に形成されている場合が示されている。FIG. 10 is a diagram showing another configuration example of the planar antenna 2, and shows a case where six waveguide-MSL converters 4 are formed on the dielectric substrate 20. 平面アンテナ2のその他の構成例を示した図であり、1つの導波管−MSL変換器4が誘電体基板20に形成されている場合が示されている。FIG. 6 is a diagram showing another configuration example of the planar antenna 2, and shows a case where one waveguide-MSL converter 4 is formed on the dielectric substrate 20.

以下の説明において、上下左右とは、図面の紙面を基準とした上下左右を指し、回転とは、図面の紙面に垂直な中心軸に基づく回転を指す。
<平面アンテナ検査装置1>
図1は、本発明の実施の形態による平面アンテナ2の表裏ずれを検査する平面アンテナ検査装置1の一構成例を示したブロック図である。この平面アンテナ検査装置1は、平面アンテナ2の表裏ずれを光学的に検出する画像測定装置であり、ステージ10、カメラ11、撮像制御部12、検査パターン画像記憶部13、表裏ずれ判定部14及び照明装置15により構成される。
In the following description, up, down, left, and right refer to up, down, left, and right with reference to the drawing sheet, and rotation refers to rotation based on a central axis perpendicular to the drawing sheet.
<Planar antenna inspection device 1>
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a planar antenna inspection apparatus 1 that inspects a front / back displacement of a planar antenna 2 according to an embodiment of the present invention. The planar antenna inspection apparatus 1 is an image measurement apparatus that optically detects the front / back deviation of the planar antenna 2, and includes a stage 10, a camera 11, an imaging control unit 12, an inspection pattern image storage unit 13, a front / back deviation determination unit 14, and It is comprised by the illuminating device 15.

ステージ10は、検査対象物を載置するための作業台であり、照明装置15から出射された検出光3を透過させる検出領域SAが形成されている。検出領域SAは、透明ガラス等の透光性材料からなる領域であり、検査対象の平面アンテナ2は、この検出領域SA内に載置される。カメラ11は、検出光3を検査対象物に照射した際に、検査対象物を透過した透過光3aを受光し、撮影画像を生成する撮像装置である。このカメラ11は、向きを下方に向けた状態で、ステージ10の上方に配置されている。   The stage 10 is a work table on which an inspection object is placed, and a detection area SA that transmits the detection light 3 emitted from the illumination device 15 is formed. The detection area SA is an area made of a translucent material such as transparent glass, and the planar antenna 2 to be inspected is placed in the detection area SA. The camera 11 is an imaging device that receives the transmitted light 3a transmitted through the inspection object and generates a captured image when the detection light 3 is irradiated onto the inspection object. The camera 11 is arranged above the stage 10 with the direction facing downward.

照明装置15は、ステージ10上の検査対象物に検出光3を下方から照射する透過照明用の光源装置である。例えば、検出光3には、可視光が用いられる。平面アンテナ検査装置1は、ステージ10上の検査対象物を撮影した撮影画像を解析することにより、撮影画像内のエッジを抽出して検査対象物の寸法や形状を測定することができる。   The illumination device 15 is a light source device for transmitted illumination that irradiates the inspection object on the stage 10 with the detection light 3 from below. For example, visible light is used as the detection light 3. The planar antenna inspection apparatus 1 can measure the size and shape of an inspection object by extracting an edge in the captured image by analyzing a captured image obtained by capturing the inspection object on the stage 10.

平面アンテナ2は、後述するように、誘電体基板の両面に導体層からなる回路パターンが形成された検査対象物であり、位置合わせ用の検査パターンが設けられる。誘電体基板の表面に設けられる検査パターンは、予め定められた図形、例えば、中心を特定することが容易な幾何学的な図形からなる。一方、誘電体基板の裏面に設けられる検査パターンは、表面の検査パターンと寸法の異なる同一形状の図形、すなわち、相似形状の図形からなり、表面の検査パターンと略同心に配置される。   As will be described later, the planar antenna 2 is an inspection object in which a circuit pattern made of a conductor layer is formed on both surfaces of a dielectric substrate, and is provided with an inspection pattern for alignment. The inspection pattern provided on the surface of the dielectric substrate is a predetermined figure, for example, a geometric figure that can easily identify the center. On the other hand, the inspection pattern provided on the back surface of the dielectric substrate is composed of a figure having the same shape, that is, a figure having a similar shape, which is different in size from the surface inspection pattern, and is arranged substantially concentrically with the surface inspection pattern.

撮像制御部12は、カメラ11による撮像を制御し、ステージ10上の平面アンテナ2が撮影された撮影画像を取得する。この撮像制御部12は、検査パターンが撮影された検査パターン画像を取得し、検査パターン画像記憶部13内に格納する。   The imaging control unit 12 controls imaging by the camera 11 and acquires a captured image obtained by capturing the planar antenna 2 on the stage 10. The imaging control unit 12 acquires an inspection pattern image obtained by capturing an inspection pattern and stores it in the inspection pattern image storage unit 13.

表裏ずれ判定部14は、検査パターン画像記憶部13から検査パターン画像を読み出して解析し、回路パターンの表裏ずれを判定する。表裏ずれは、誘電体基板の両面にそれぞれ形成された回路パターン間における相対的な位置ずれ又は回転ずれであり、検査パターンを示すエッジを抽出し、エッジの中心位置を特定することにより判定される。   The front / back deviation determination unit 14 reads and analyzes the inspection pattern image from the inspection pattern image storage unit 13 and determines the front / back deviation of the circuit pattern. The front / back deviation is a relative positional deviation or rotational deviation between circuit patterns formed on both surfaces of the dielectric substrate, and is determined by extracting an edge indicating an inspection pattern and specifying the center position of the edge. .

例えば、検査パターン画像に対し、エッジ抽出のための画像領域が測定対象領域として予め指定される。エッジ抽出は、この測定対象領域内の輝度変化を解析してエッジ点を検出し、検出した複数のエッジ点に直線、円、円弧などの幾何学図形をフィッティングさせることにより行われる。位置ずれは、表面の検査パターンを示すエッジの中心位置と、裏面の検査パターンを示すエッジの中心位置との間における2次元的な位置の変化量として求められる。   For example, for the inspection pattern image, an image area for edge extraction is designated in advance as a measurement target area. Edge extraction is performed by analyzing a luminance change in the measurement target region to detect an edge point, and fitting a geometric figure such as a straight line, a circle, or an arc to the detected plurality of edge points. The positional deviation is obtained as a two-dimensional change in position between the center position of the edge indicating the inspection pattern on the front surface and the center position of the edge indicating the inspection pattern on the back surface.

平面アンテナ2の製造工程において、平面アンテナ検査装置1を用いて平面アンテナ2の完成品を検査すれば、正面利得等の放射特性を実際に測定しなくても、回路パターンの表裏ずれを検出することができる。また、検出光3を誘電体基板に照射した際の透過光3aを受光して検査パターン画像を得るので、反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法に比べ、位置ずれの検出精度を向上させることができる。   In the manufacturing process of the planar antenna 2, if the finished product of the planar antenna 2 is inspected using the planar antenna inspection apparatus 1, the front and back deviation of the circuit pattern is detected without actually measuring the radiation characteristics such as the front gain. be able to. Further, since the inspection pattern image is obtained by receiving the transmitted light 3a when the detection light 3 is applied to the dielectric substrate, the detection accuracy of the positional deviation is improved compared to the inspection method in which the reflected light is received and the positional deviation is detected. Can be improved.

また、この様な光学的な検査方法により、平面アンテナ2の完成品から位置ずれの大きい完成品を不良品として除外した上で、完成品の放射特性を測定すれば、品質管理が容易化されるので、生産効率を顕著に向上させることができる。   In addition, quality control is facilitated by measuring the radiation characteristics of the finished product after removing the finished product with a large positional deviation from the finished product of the planar antenna 2 as a defective product by such an optical inspection method. Therefore, the production efficiency can be remarkably improved.

<平面アンテナ2>
図2は、図1の平面アンテナ2の一構成例を示した図であり、平面アンテナ2の表面が示されている。この図2には、左右方向を長手方向とする矩形の誘電体基板20に対し、5つの導波管−MSL(マイクロストリップ線路)変換器4と、4つの検査パターンセット30とを形成した平面アンテナ2が示されている。図3及び図4は、図2の平面アンテナ2の構成例を示した断面図であり、図3には、平面アンテナ2をA−A切断線により切断した場合の切断面が示され、図4には、平面アンテナ2をB−B切断線により切断した場合の切断面が示されている。
<Planar antenna 2>
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the planar antenna 2 of FIG. 1, and the surface of the planar antenna 2 is illustrated. In FIG. 2, a plane in which five waveguide-MSL (microstrip line) converters 4 and four test pattern sets 30 are formed on a rectangular dielectric substrate 20 whose longitudinal direction is the left-right direction. An antenna 2 is shown. 3 and 4 are cross-sectional views showing a configuration example of the planar antenna 2 of FIG. 2, and FIG. 3 shows a cut surface when the planar antenna 2 is cut along an AA cutting line. 4 shows a cut surface when the planar antenna 2 is cut along a BB cutting line.

この平面アンテナ2は、MSL23を介して放射素子22に給電するマイクロストリップアンテナであり、誘電体基板20と、誘電体基板20の表面に形成された回路パターン21と、誘電体基板20の裏面に形成された回路パターン25と、2以上の検査パターンセット30とにより構成される。   The planar antenna 2 is a microstrip antenna that supplies power to the radiating element 22 through the MSL 23, and is provided on the dielectric substrate 20, the circuit pattern 21 formed on the surface of the dielectric substrate 20, and the back surface of the dielectric substrate 20. The circuit pattern 25 is formed and two or more inspection pattern sets 30 are formed.

誘電体基板20は、検出光3を透過させる誘電体からなるアンテナ用の基板である。例えば、誘電体基板20には、比誘電率が小さいフッ素樹脂からなる絶縁性の樹脂基板が用いられる。回路パターン21は、導体層からなり、2以上の放射素子22と、2以上のMSL23と、2以上の短絡板24とを含む。MSL23は、放射素子22への給電回路であり、誘電体基板20の基板面に沿って概ね等幅で延びる伝送線路からなる。   The dielectric substrate 20 is an antenna substrate made of a dielectric material that transmits the detection light 3. For example, an insulating resin substrate made of a fluororesin having a small relative dielectric constant is used for the dielectric substrate 20. The circuit pattern 21 is made of a conductor layer, and includes two or more radiating elements 22, two or more MSLs 23, and two or more short-circuit plates 24. The MSL 23 is a power supply circuit to the radiating element 22, and includes a transmission line that extends substantially along the substrate surface of the dielectric substrate 20.

回路パターン25は、導体層からなり、2以上の接続回路26と、接地板29とを含む。接続回路26は、導波管(不図示)を接続するための回路パターンであり、接地板29に形成された矩形の貫通孔27と、この貫通孔27内に形成された整合素子28とにより構成される。   The circuit pattern 25 is made of a conductor layer and includes two or more connection circuits 26 and a ground plate 29. The connection circuit 26 is a circuit pattern for connecting a waveguide (not shown), and includes a rectangular through hole 27 formed in the ground plate 29 and a matching element 28 formed in the through hole 27. Composed.

接地板29は、MSL23に対してグランド電極として機能する回路パターンであり、誘電体基板20の基板面の全体を概ね覆っている。貫通孔27の長辺27a及び短辺27bは、それぞれ導波管の広壁及び狭壁に対応する寸法からなる。整合素子28は、電磁波を共振させる共振器であり、貫通孔27内に島状に形成された1又は2以上の連続領域からなる。この例では、1つの矩形領域からなる整合素子28が貫通孔27内に形成されている。短絡板24は、導波管を短絡させるための回路パターンであり、接続回路26に対向する位置に形成されている。   The ground plate 29 is a circuit pattern that functions as a ground electrode for the MSL 23, and substantially covers the entire substrate surface of the dielectric substrate 20. The long side 27a and the short side 27b of the through hole 27 have dimensions corresponding to the wide wall and the narrow wall of the waveguide, respectively. The matching element 28 is a resonator that resonates electromagnetic waves, and is composed of one or more continuous regions formed in an island shape in the through hole 27. In this example, a matching element 28 made of one rectangular region is formed in the through hole 27. The short-circuit plate 24 is a circuit pattern for short-circuiting the waveguide, and is formed at a position facing the connection circuit 26.

導波管−MSL変換器4は、導波管とMSL23との間で電磁波による電力変換を行う給電ポートであり、MSL23、短絡板24及び接続回路26により構成される。短絡板24には、上下方向に延びるMSL23を配置するための切り欠きが形成されている。また、MSL23は、その一端が貫通孔27の長辺27aを跨いでいる。短絡板24及び接続回路26は、導波管−MSL変換器4ごとに形成されている。   The waveguide-MSL converter 4 is a power supply port that performs power conversion using electromagnetic waves between the waveguide and the MSL 23, and includes the MSL 23, the short-circuit plate 24, and the connection circuit 26. The short-circuit plate 24 has a notch for arranging the MSL 23 extending in the vertical direction. The MSL 23 has one end straddling the long side 27 a of the through hole 27. The short-circuit plate 24 and the connection circuit 26 are formed for each waveguide-MSL converter 4.

各導波管−MSL変換器4は、貫通孔27の短辺27bを左右方向に延びる中心線5と交差させた状態で、中心線5上に配置されている。中心線5は、短辺27bの中点を結ぶ直線である。また、各導波管−MSL変換器4は、貫通孔27の短辺27bを互いに対向させて中心線5上に配置されている。また、1又は2以上の放射素子22とMSL23とからなる放射パターンは、導波管−MSL変換器4ごとに形成され、中心線5に関して上下対称である。導波管−MSL変換器4の数や放射パターンの形状は、平面アンテナ2に要求される性能、指向特性及びチャンネル数に応じて決定される。   Each waveguide-MSL converter 4 is disposed on the center line 5 with the short side 27b of the through hole 27 intersecting with the center line 5 extending in the left-right direction. The center line 5 is a straight line connecting the midpoints of the short sides 27b. Each waveguide-MSL converter 4 is disposed on the center line 5 with the short sides 27b of the through holes 27 facing each other. A radiation pattern including one or more radiation elements 22 and MSLs 23 is formed for each waveguide-MSL converter 4 and is vertically symmetric with respect to the center line 5. The number of waveguide-MSL converters 4 and the shape of the radiation pattern are determined according to the performance, directivity, and number of channels required for the planar antenna 2.

この例では、左から1つ目及び2つ目の導波管−MSL変換器4と、左から3つ目〜5つ目の導波管−MSL変換器4とで、接続される導波管のサイズが異なっている。左から1つ目の導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、下方への凹形状からなる1つの上切り欠きと、上方への凹形状からなる1つの下切り欠きとを有し、上切り欠きから上方に延びる放射パターンと、下切り欠きから下方に延びる放射パターンとが形成されている。上下の放射パターンは、MSL23が途中で3つに分岐し、それぞれ放射素子22に接続されている。   In this example, the waveguides connected by the first and second waveguide-MSL converters 4 from the left and the third to fifth waveguide-MSL converters 4 from the left. The tube size is different. In the first waveguide-MSL converter 4 from the left, the short-circuit plate 24 has one upper notch having a downward concave shape and one lower notch having an upward concave shape. A radiation pattern extending upward from the upper notch and a radiation pattern extending downward from the lower notch are formed. In the upper and lower radiation patterns, the MSL 23 branches into three in the middle, and each is connected to the radiation element 22.

左から2つ目の導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、下方への凹形状からなる1つの上切り欠きと、上方への凹形状からなる1つの下切り欠きとを有し、上切り欠きから上方に延びるMSL23に1つの放射素子22が接続され、下切り欠きから下方に延びるMSL23に1つの放射素子22が接続されている。左から3つ目〜5つ目の導波管−MSL変換器4は、いずれも短絡板24が、下方への凹形状からなる2つの上切り欠きと、上方への凹形状からなる2つの下切り欠きとを有している。これらの切り欠きごとに放射パターンが形成され、上切り欠きから上方に延びるMSL23には1つの放射素子22が接続され、また、下切り欠きから下方に延びるMSL23には1つの放射素子22が接続されている。   In the second waveguide-MSL converter 4 from the left, the short-circuit plate 24 has one upper notch made of a concave shape downward and one lower notch made of a concave shape upward. One radiating element 22 is connected to the MSL 23 extending upward from the upper notch, and one radiating element 22 is connected to the MSL 23 extending downward from the lower notch. In the third to fifth waveguide-MSL converters 4 from the left, each of the short-circuit plates 24 has two upper cutouts having a concave shape downward and two concave shapes having an upward concave shape. It has a lower notch. A radiation pattern is formed for each notch, and one radiating element 22 is connected to the MSL 23 extending upward from the upper notch, and one radiating element 22 is connected to the MSL 23 extending downward from the lower notch. Has been.

この様な回路パターン21及び25は、誘電体基板20に金属薄膜、例えば、銅箔を貼り付け、誘電体基板20上の金属薄膜をエッチング加工等によりパターニングすることによって製作される。MSL23の線路幅等は、送受信させる電磁波の周波数、帯域幅及び放射特性に応じて決定される。また、MSL23の線路幅は、送受信しようとする電磁波の管内波長λgに比べて十分に短い。ここでいう管内波長λgは、誘電体基板20に形成されたMSL23を伝搬する電磁波の波長である。   Such circuit patterns 21 and 25 are manufactured by attaching a metal thin film, for example, copper foil, to the dielectric substrate 20 and patterning the metal thin film on the dielectric substrate 20 by etching or the like. The line width and the like of the MSL 23 are determined according to the frequency, bandwidth and radiation characteristics of electromagnetic waves to be transmitted / received. The line width of the MSL 23 is sufficiently shorter than the in-tube wavelength λg of the electromagnetic wave to be transmitted / received. The guide wavelength λg here is the wavelength of the electromagnetic wave propagating through the MSL 23 formed on the dielectric substrate 20.

検査パターンセット30は、誘電体基板20の表面に設けられた表面検査パターン31と、誘電体基板20の裏面に設けられた裏面検査パターン32とにより構成される表裏ずれ検出用のシンボル対である。   The inspection pattern set 30 is a symbol pair for detecting front / back deviation, which includes a front surface inspection pattern 31 provided on the surface of the dielectric substrate 20 and a back surface inspection pattern 32 provided on the back surface of the dielectric substrate 20. .

表面検査パターン31は、中心の特定が容易な図形からなる位置合わせ用のシンボルであり、回路パターン21と同時に誘電体基板20に形成される。例えば、表面検査パターン31は、回路パターン21と同一の金属材料からなるパターンであり、回路パターン21と共通のパターニング工程において形成される。   The surface inspection pattern 31 is a positioning symbol made up of a figure whose center can be easily identified, and is formed on the dielectric substrate 20 simultaneously with the circuit pattern 21. For example, the surface inspection pattern 31 is a pattern made of the same metal material as the circuit pattern 21 and is formed in a patterning process common to the circuit pattern 21.

裏面検査パターン32は、表面検査パターン31に対応づけて配置される位置合わせ用のシンボルであり、回路パターン25と同時に誘電体基板20に形成される。例えば、裏面検査パターン32は、回路パターン25と同一の金属材料のパターンに形成された貫通孔からなる導体層抜きパターンであり、回路パターン25と共通のパターニング工程において形成される。この裏面検査パターン32は、表面検査パターン31と寸法の異なる同一形状(相似形状)の図形からなり、表面検査パターン31と略同心に配置される。   The back surface inspection pattern 32 is an alignment symbol arranged in association with the front surface inspection pattern 31 and is formed on the dielectric substrate 20 simultaneously with the circuit pattern 25. For example, the back surface inspection pattern 32 is a conductor layer extraction pattern made of a through hole formed in the same metal material pattern as the circuit pattern 25, and is formed in a patterning process common to the circuit pattern 25. The back surface inspection pattern 32 is formed of a figure having the same shape (similar shape) different in size from the surface inspection pattern 31 and is arranged substantially concentrically with the surface inspection pattern 31.

表面検査パターン31及び裏面検査パターン32の形状及びサイズは、特に限定されるものではないが、位置ずれの検出精度を上げるという観点から、中心を特定することが容易な幾何学的図形であることが望ましい。中心を特定し易い図形には、円、長方形、正六角形等の点対称な図形がある。また、表面検査パターン31及び裏面検査パターン32のサイズは、カメラ11の分解能よりも大きければ良い。   The shape and size of the front surface inspection pattern 31 and the back surface inspection pattern 32 are not particularly limited, but are geometric figures that can easily identify the center from the viewpoint of increasing the accuracy of detecting misalignment. Is desirable. Examples of the figure whose center can be easily specified include point-symmetric figures such as a circle, a rectangle, and a regular hexagon. Further, the size of the front surface inspection pattern 31 and the back surface inspection pattern 32 may be larger than the resolution of the camera 11.

また、表面検査パターン31及び裏面検査パターン32の大小関係は、特に限定されるものではないが、透過照明を利用した撮影画像を解析して表面検査パターン31及び裏面検査パターン32を識別する際の識別精度を向上させるという観点から、表面検査パターン31が裏面検査パターン32に内包されていることが望ましい。   Further, the magnitude relationship between the front surface inspection pattern 31 and the back surface inspection pattern 32 is not particularly limited, but when the surface inspection pattern 31 and the back surface inspection pattern 32 are identified by analyzing a captured image using transmitted illumination. From the viewpoint of improving the identification accuracy, it is desirable that the front surface inspection pattern 31 is included in the back surface inspection pattern 32.

この例では、円形の表面検査パターン31に対向させて、表面検査パターン31よりも径が大きい円形の貫通孔を接地板29に形成することにより、裏面検査パターン32が形成され、表面検査パターン31及び裏面検査パターン32が同心に配置されている。   In this example, a back surface inspection pattern 32 is formed by forming a circular through hole having a diameter larger than that of the surface inspection pattern 31 in the ground plate 29 so as to face the circular surface inspection pattern 31. And the back surface inspection pattern 32 is arranged concentrically.

検査パターン31及び32がそれぞれ回路パターン21及び25と同時に形成されるパターンであるので、検査パターンセット30が撮影された検査パターン画像を解析することにより、回路パターン21及び25の位置ずれを判定することができる。   Since the inspection patterns 31 and 32 are patterns formed simultaneously with the circuit patterns 21 and 25, respectively, the positional deviation of the circuit patterns 21 and 25 is determined by analyzing the inspection pattern image obtained by photographing the inspection pattern set 30. be able to.

検査パターンセット30は、貫通孔27の短辺27bに対向する位置に形成されている。好ましくは、検査パターンセット30は、短辺27bの中点を結ぶ直線からなる中心線5上であって、短辺27bに対向する位置に形成されている。具体的には、表面検査パターン31と短絡板24との距離dが管内波長λgの1/4以上となるように、検査パターンセット30は、短絡板24から離間して配置されている。   The inspection pattern set 30 is formed at a position facing the short side 27 b of the through hole 27. Preferably, the inspection pattern set 30 is formed on the center line 5 formed by a straight line connecting the midpoints of the short sides 27b and at positions facing the short sides 27b. Specifically, the inspection pattern set 30 is arranged away from the short-circuit plate 24 so that the distance d between the surface inspection pattern 31 and the short-circuit plate 24 is ¼ or more of the guide wavelength λg.

この様に検査パターンセット30は、貫通孔27の短辺27bに対向する位置に形成されるので、放射特性の劣化を抑制しつつ、導波管−MSL変換器4を構成する回路パターン間の位置ずれを検出することができる。また、検査パターンセット30を短絡板24から管内波長λgの1/4以上離間して配置するので、平面アンテナ2の放射特性や導波管−MSL変換器4の変換特性を劣化させることなく、検査パターンセット30を形成することができる。   In this way, the inspection pattern set 30 is formed at a position facing the short side 27b of the through hole 27, so that the deterioration of the radiation characteristic is suppressed and the circuit pattern constituting the waveguide-MSL converter 4 is suppressed. Misalignment can be detected. In addition, since the test pattern set 30 is arranged at a distance of ¼ or more of the in-tube wavelength λg from the short-circuit plate 24, the radiation characteristics of the planar antenna 2 and the conversion characteristics of the waveguide-MSL converter 4 are not deteriorated. An inspection pattern set 30 can be formed.

また、各検査パターンセット30は、長辺27aに平行な同一直線上(好ましくは、中心線5上)に形成され、左から1つ目及び4つ目の検査パターンセット30は、中心線5上に配置された導波管−MSL変換器4からなる変換器列を挟んで配置されている。この様に構成することにより、導波管−MSL変換器4の配列方向への位置ずれや変換器列の回転ずれを高い精度で検出することができる。   Each inspection pattern set 30 is formed on the same straight line (preferably on the center line 5) parallel to the long side 27a, and the first and fourth inspection pattern sets 30 from the left are the center line 5 They are arranged with a converter row composed of waveguide-MSL converters 4 arranged on the top. By configuring in this way, it is possible to detect the positional deviation of the waveguide-MSL converter 4 in the arrangement direction and the rotational deviation of the transducer array with high accuracy.

図5は、図2の平面アンテナ2の使用状態を示した断面図であり、導波管6を平面アンテナ2の接続回路26に取り付けた状態が示されている。導波管6は、マイクロ波又はミリ波帯の電磁波を管軸方向に伝送させる中空の構造体からなる。この導波管6は、狭壁6aの上端を貫通孔27の短辺27bに一致させた状態で、平面アンテナ2に取り付けられている。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a usage state of the planar antenna 2 of FIG. 2, and shows a state where the waveguide 6 is attached to the connection circuit 26 of the planar antenna 2. The waveguide 6 is formed of a hollow structure that transmits microwave or millimeter wave band electromagnetic waves in the tube axis direction. The waveguide 6 is attached to the planar antenna 2 with the upper end of the narrow wall 6 a aligned with the short side 27 b of the through hole 27.

導波管6の管軸は、誘電体基板20の基板面に垂直であり、各導波管6は、誘電体基板20の裏面から突出するように配置されている。平面アンテナ2の放射特性は、この様な使用状態において測定される。   The tube axis of the waveguide 6 is perpendicular to the substrate surface of the dielectric substrate 20, and each waveguide 6 is disposed so as to protrude from the back surface of the dielectric substrate 20. The radiation characteristic of the planar antenna 2 is measured in such a use state.

<検査パターン画像7>
図6は、図1の表裏ずれ検査装置1の動作の一例を示した図であり、透過照明により平面アンテナ2を撮影して得られた検査パターン画像7が示されている。この検査パターン画像7には、表面検査パターン31及び裏面検査パターン32からなる検査パターンセット30が被写体として撮像されている。
<Inspection pattern image 7>
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the operation of the front / back displacement inspection apparatus 1 of FIG. 1, and shows an inspection pattern image 7 obtained by photographing the planar antenna 2 with transmitted illumination. In this inspection pattern image 7, an inspection pattern set 30 including a front surface inspection pattern 31 and a back surface inspection pattern 32 is imaged as a subject.

表裏ずれの検出処理では、まず、検査パターン画像7を解析することにより、表面検査パターン31を示す円と、裏面検査パターン32を示す円とがエッジとして抽出される。次に、これらの円の中心31a及び32aの位置を求め、中心位置の変化量ΔZから表裏ずれが判定される。   In the front / back deviation detection process, first, by analyzing the inspection pattern image 7, a circle indicating the front surface inspection pattern 31 and a circle indicating the back surface inspection pattern 32 are extracted as edges. Next, the positions of the centers 31a and 32a of these circles are obtained, and the front / back deviation is determined from the change ΔZ of the center position.

図7は、平面アンテナ2の放射特性の一例を示した図であり、回路パターン21及び25間の位置ずれを変化させながら測定された正面利得の低下量が示されている。この図では、横軸が位置ずれ(mm)を表し、縦軸が正面利得の低下量(dB)を表し、ミリ波帯の電波を送受信する場合の放射特性が示されている。   FIG. 7 is a diagram showing an example of the radiation characteristics of the planar antenna 2, and shows the amount of decrease in front gain measured while changing the positional deviation between the circuit patterns 21 and 25. In this figure, the horizontal axis represents the positional deviation (mm), the vertical axis represents the front gain reduction amount (dB), and the radiation characteristics in the case of transmitting and receiving millimeter-wave radio waves are shown.

平面アンテナ2の正面利得は、位置ずれが0mmである場合に、低下量=0dBであり、位置ずれが大きくなるに従って、単調に低下している。例えば、位置ずれ=0.1mmでは、低下量=−0.7dB程度であり、位置ずれ=0.2mmでは、低下量=−2.6dB程度である。この様な放射特性を示すテーブルを予め作成しておくことにより、平面アンテナ2の放射特性を実際に測定しなくても、位置ずれから放射特性を推定することができるので、平面アンテナ2の品質検査を容易化することができる。   The front gain of the planar antenna 2 is decreased by 0 dB when the positional deviation is 0 mm, and monotonously decreases as the positional deviation increases. For example, when the positional deviation is 0.1 mm, the reduction amount is about −0.7 dB, and when the positional deviation is 0.2 mm, the reduction amount is about −2.6 dB. By preparing a table showing such radiation characteristics in advance, the radiation characteristics can be estimated from the positional deviation without actually measuring the radiation characteristics of the planar antenna 2. Inspection can be facilitated.

本実施の形態によれば、放射特性を測定しなくても、誘電体基板20に形成された回路パターン21及び25間の位置ずれを検出することができる。また、検出光3を誘電体基板20に照射した際の透過光3aを受光して検査パターン画像7を得るので、反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法に比べ、位置ずれの検出精度を向上させることができる。   According to the present embodiment, it is possible to detect a positional shift between the circuit patterns 21 and 25 formed on the dielectric substrate 20 without measuring the radiation characteristics. In addition, since the inspection pattern image 7 is obtained by receiving the transmitted light 3a when the detection light 3 is applied to the dielectric substrate 20, detection of misalignment is detected compared to the inspection method in which reflected light is received and misalignment is detected. Accuracy can be improved.

図8は、平面アンテナ2の他の構成例を示した図であり、6つの導波管−MSL変換器4と4つの検査パターンセット30とが誘電体基板20に形成されている場合が示されている。1又は2以上の放射素子22とMSL23とからなる放射パターンは、導波管−MSL変換器4ごとに形成され、中心線5に関して上下非対称である。   FIG. 8 is a diagram showing another configuration example of the planar antenna 2, and shows a case where six waveguide-MSL converters 4 and four inspection pattern sets 30 are formed on the dielectric substrate 20. Has been. A radiation pattern composed of one or more radiation elements 22 and the MSL 23 is formed for each waveguide-MSL converter 4 and is asymmetrical with respect to the center line 5.

左から1つ目〜5つ目の導波管−MSL変換器4と、左から6つ目の導波管−MSL変換器4とで、接続される導波管のサイズが異なっている。左から1つ目〜4つ目の導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、上方への凹形状からなる1つの下切り欠きを有し、下切り欠きから下方に延びるMSL23に1つの放射素子22が接続されている。   The first to fifth waveguide-MSL converter 4 from the left and the sixth waveguide-MSL converter 4 from the left have different waveguide sizes. In the first to fourth waveguide-MSL converters 4 from the left, the short-circuit plate 24 has one lower notch having a concave shape upward, and the MSL 23 extends downward from the lower notch. One radiating element 22 is connected.

左から5つ目の導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、上方への凹形状からなる1つの下切り欠きを有し、下切り欠きから下方に延びる放射パターンが形成されている。この放射パターンは、MSL23が途中で3つに分岐し、それぞれ放射素子22に接続されている。   In the fifth waveguide-MSL converter 4 from the left, the short-circuit plate 24 has one lower notch having a concave shape upward, and a radiation pattern extending downward from the lower notch is formed. Yes. In this radiation pattern, the MSL 23 branches into three in the middle, and each is connected to the radiation element 22.

左から6つ目の導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、上方への凹形状からなる2つの下切り欠きを有している。これらの切り欠きごとに放射パターンが形成され、下切り欠きから下方に延びるMSL23には1つの放射素子22が接続されている。   In the sixth waveguide-MSL converter 4 from the left, the short-circuit plate 24 has two lower notches that are concave upward. A radiation pattern is formed for each of these notches, and one radiation element 22 is connected to the MSL 23 extending downward from the lower notch.

各導波管−MSL変換器4及び各検査パターンセット30は、中心線5上に形成されている。この様な平面アンテナ2であっても、検査パターンセット30が撮影された検査パターン画像7を解析することにより、回路パターン21及び25間の表裏ずれを検出することができる。   Each waveguide-MSL converter 4 and each inspection pattern set 30 are formed on the center line 5. Even with such a planar antenna 2, it is possible to detect a front-back deviation between the circuit patterns 21 and 25 by analyzing the inspection pattern image 7 obtained by photographing the inspection pattern set 30.

図9は、平面アンテナ2のその他の構成例を示した図であり、1つの導波管−MSL変換器4と2つの検査パターンセット30とが誘電体基板20に形成されている場合が示されている。導波管−MSL変換器4は、貫通孔27の短辺27bを上下方向に延びる中心線8と交差させた状態で、中心線8上に配置されている。中心線8は、短辺27bの中点を結ぶ直線である。   FIG. 9 is a diagram showing another configuration example of the planar antenna 2, and shows a case where one waveguide-MSL converter 4 and two inspection pattern sets 30 are formed on the dielectric substrate 20. Has been. The waveguide-MSL converter 4 is disposed on the center line 8 with the short side 27b of the through hole 27 intersecting the center line 8 extending in the vertical direction. The center line 8 is a straight line connecting the midpoints of the short sides 27b.

2以上の放射素子22とMSL23とからなる放射パターンは、導波管−MSL変換器4の左右に形成されている。導波管−MSL変換器4は、短絡板24が、右方への凹形状からなる1つの左切り欠きと、左方への凹形状からなる1つの右切り欠きとを有し、左切り欠きから左方に延びる放射パターンと、右切り欠きから右方に延びる放射パターンとが形成されている。左右の放射パターンは、MSL23に多数の放射素子22が接続されている。   A radiation pattern composed of two or more radiation elements 22 and the MSL 23 is formed on the left and right of the waveguide-MSL converter 4. In the waveguide-MSL converter 4, the short-circuit plate 24 has one left cutout having a concave shape to the right and one right cutout having a concave shape to the left. A radiation pattern extending leftward from the notch and a radiation pattern extending rightward from the right notch are formed. In the left and right radiation patterns, a number of radiation elements 22 are connected to the MSL 23.

各検査パターンセット30は、中心線8上に形成され、導波管−MSL変換器4を挟んで配置されている。この様な平面アンテナ2であっても、検査パターンセット30が撮影された検査パターン画像7を解析することにより、回路パターン21及び25間の表裏ずれを検出することができる。   Each inspection pattern set 30 is formed on the center line 8 and arranged with the waveguide-MSL converter 4 interposed therebetween. Even with such a planar antenna 2, it is possible to detect a front-back deviation between the circuit patterns 21 and 25 by analyzing the inspection pattern image 7 obtained by photographing the inspection pattern set 30.

なお、本実施の形態では、検出光3を誘電体基板20の裏面側(裏面検査パターン32が形成されている側)から照射し、表面側(表面検査パターン31が形成されている側)でその透過光3aを受光して、検査パターンセット30の検査パターン画像を取得する場合の例について説明したが、本発明は、検出光3を表面側から照射し、裏面側でその透過光3aを受光して検査パターン画像を取得するような構成であっても良い。また、本実施の形態では、検出光3を誘電体基板20に照射した際の透過光3aを受光して位置ずれを検出する場合の例について説明したが、本発明は、検出光3を誘電体基板20に照射した際の反射光を受光して位置ずれを検出する検査方法にも適用することができる。   In the present embodiment, the detection light 3 is irradiated from the back side of the dielectric substrate 20 (side on which the back side inspection pattern 32 is formed), and on the front side (side on which the front side inspection pattern 31 is formed). The example in which the transmitted light 3a is received and the inspection pattern image of the inspection pattern set 30 is acquired has been described. However, the present invention irradiates the detection light 3 from the front side and the transmitted light 3a on the back side. A configuration in which an inspection pattern image is acquired by receiving light may be used. Further, in the present embodiment, an example in which the transmitted light 3a when the detection light 3 is irradiated onto the dielectric substrate 20 is received and the positional deviation is detected has been described. The present invention can also be applied to an inspection method in which reflected light when irradiated onto the body substrate 20 is received to detect misalignment.

1 平面アンテナ検査装置
10 ステージ
11 カメラ
12 撮像制御部
13 検査パターン画像記憶部
14 表裏ずれ判定部
15 照明装置
2 平面アンテナ
20 誘電体基板
21,25 回路パターン
22 放射素子
23 MSL
24 短絡板
26 接続回路
27 貫通孔
27a 長辺
27b 短辺
28 整合素子
29 接地板
30 検査パターンセット
31 表面検査パターン
32 裏面検査パターン
3 検出光
3a 透過光
4 導波管−MSL変換器
5,8 中心線
6 導波管
6a 狭壁
7 検査パターン画像
SA 検出領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Planar antenna inspection apparatus 10 Stage 11 Camera 12 Imaging control part 13 Inspection pattern image memory | storage part 14 Front and back deviation determination part 15 Illumination device 2 Planar antenna 20 Dielectric board | substrates 21 and 25 Circuit pattern 22 Radiation element 23 MSL
24 Shorting plate 26 Connection circuit 27 Through hole 27a Long side 27b Short side 28 Matching element 29 Grounding plate 30 Inspection pattern set 31 Surface inspection pattern 32 Back surface inspection pattern 3 Detection light 3a Transmission light 4 Waveguide-MSL converters 5, 8 Center line 6 Waveguide 6a Narrow wall 7 Inspection pattern image SA Detection region

Claims (5)

導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナの検査方法であって、
上記導波管マイクロストリップ線路変換器は、誘電体基板の第1面及び第2面にそれぞれ形成された第1回路パターン及び第2回路パターンからなり、第2回路パターンが導波管に対応づけて接地板に設けられた矩形の貫通孔を含み、第1回路パターンが上記貫通孔に対応づけて設けられた短絡板を含み、
位置合わせ用の第1検査パターンを含む第1回路パターンを上記誘電体基板の第1面に形成する第1回路パターン形成ステップと、
第1検査パターンに対応づけて配置される第2検査パターンを含む第2回路パターンを上記誘電体基板の第2面に形成する第2回路パターン形成ステップと、
検出光を上記誘電体基板に照射した際の透過光を受光し、第1検査パターン及び第2検査パターンからなる検査パターンセットを含む検査パターン画像を生成する検査パターン撮像ステップと、
上記検査パターン画像に基づいて、第1回路パターン及び第2回路パターン間の位置ずれを判定する位置ずれ判定ステップとを備え、
上記検査パターンセットは、上記貫通孔の短辺に対向する位置に形成されることを特徴とする平面アンテナ検査方法。
A method for inspecting a planar antenna on which a waveguide microstrip line converter is formed,
The waveguide microstrip line converter includes a first circuit pattern and a second circuit pattern formed on a first surface and a second surface of a dielectric substrate, respectively, and the second circuit pattern is associated with the waveguide. Including a rectangular through hole provided in the ground plate, the first circuit pattern including a short circuit plate provided in association with the through hole,
A first circuit pattern forming step of forming a first circuit pattern including a first inspection pattern for alignment on the first surface of the dielectric substrate;
A second circuit pattern forming step of forming a second circuit pattern including a second inspection pattern arranged in correspondence with the first inspection pattern on the second surface of the dielectric substrate;
A test pattern imaging step of receiving transmitted light when the dielectric substrate is irradiated with detection light and generating a test pattern image including a test pattern set including a first test pattern and a second test pattern;
A displacement determination step for determining displacement between the first circuit pattern and the second circuit pattern based on the inspection pattern image;
The planar antenna inspection method, wherein the inspection pattern set is formed at a position facing a short side of the through hole.
導波管マイクロストリップ線路変換器が形成された平面アンテナにおいて、
誘電体基板の第2面に形成され、導波管に対応づけて接地板に設けられた矩形の貫通孔を含む第2回路パターンと、
上記誘電体基板の第1面に形成され、上記貫通孔に対応づけて設けられた短絡板を含む第1回路パターンとを備え、
第1回路パターンは、位置合わせ用の第1検査パターンを含み、
第2回路パターンは、第1検査パターンに対応づけて配置される第2検査パターンを含み、
第1検査パターン及び第2検査パターンからなる検査パターンセットは、上記貫通孔の短辺に対向する位置に形成されていることを特徴とする平面アンテナ。
In a planar antenna in which a waveguide microstrip line converter is formed,
A second circuit pattern formed on the second surface of the dielectric substrate and including a rectangular through hole provided in the ground plate in association with the waveguide;
A first circuit pattern including a short-circuit plate formed on the first surface of the dielectric substrate and provided in association with the through hole;
The first circuit pattern includes a first inspection pattern for alignment,
The second circuit pattern includes a second inspection pattern arranged in association with the first inspection pattern,
A planar antenna, wherein an inspection pattern set including a first inspection pattern and a second inspection pattern is formed at a position facing the short side of the through hole.
2つの上記検査パターンセットが、上記導波管マイクロストリップ線路変換器を挟んで配置されていることを特徴とする請求項2に記載の平面アンテナ。   The planar antenna according to claim 2, wherein the two inspection pattern sets are arranged with the waveguide microstrip line converter interposed therebetween. 2以上の上記導波管マイクロストリップ線路変換器が上記貫通孔の短辺を互いに対向させて直線上に配置され、
2つの上記検査パターンセットが、上記導波管マイクロストリップ線路変換器からなる変換器列を挟んで配置されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の平面アンテナ。
Two or more waveguide microstrip line converters are arranged on a straight line with the short sides of the through holes facing each other,
The planar antenna according to claim 2 or 3, wherein the two inspection pattern sets are arranged with a converter row including the waveguide microstrip line converters interposed therebetween.
上記検査パターンセットが、上記短絡板から管内波長の1/4以上離間して配置されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の平面アンテナ。   The planar antenna according to any one of claims 2 to 4, wherein the inspection pattern set is disposed at a distance of ¼ or more of the wavelength in the tube from the short-circuit plate.
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