JP6188354B2 - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、図5(a)に示すようなシリコン基板1を用意する。
次に、図5(b)に示すように、シリコン基板に、シリコン基板の第一の面から第二の面側に延びる未貫通孔を複数形成する。
次に、図5(c)に示すように、異方性エッチングによって液体供給口10を形成する。このとき、液体供給口10内にシリコンを残さず、梁を形成しない。例えば、図5(b)において、X8で示す長さが200μmであっても、X9が110μmとすると、梁を残さないようにすることができる。
図2に示す方法で液体吐出ヘッドを製造した。
実施例1に対して、X4を120μmとした。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例1と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。
実施例1に対して、X4を1000μmとした。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例1と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。
実施例1に対して、X4を110μmとした。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例1と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に、実施例1と比較するとやや小さいものの、梁が形成されていることが確認できた。
実施例1に対して、図2(a)の段階において、シリコン基板の第二の面側に吐出口形成部材を形成しておいた。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例1と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。
実施例5に対して、X3を10μmとした。これ以外は実施例5と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例5と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。
実施例5に対して、X3を75μmとした。これ以外は実施例5と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例5と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。
実施例5に対して、X3を5μmとした。これ以外は実施例5と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例5と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。但し、吐出口形成部材を電子顕微鏡で観察すると、実施例1の吐出口形成部材と比較して僅かに変形している箇所があった。
実施例5に対して、X3を80μmとした。さらに、図2(d)における異方性エッチングを2.8時間で行った。これ以外は実施例5と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例5と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に、実施例5と比較するとやや小さいものの、梁が形成されていることが確認できた。
図3に示す方法で液体吐出ヘッドを製造した。基本的には部材や加工方法に関して、実施例1と同様とした。但し、図3に示すように、シリコン基板を第二の面側からみたときに、液体供給口が形成される領域のシリコン基板の長手方向に沿う中心線と重なる位置に犠牲層を形成しないようにした。また、図3(a)に示すように、凹部14を形成しなかった。これ以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造した。実施例1と同様にしてシリコン基板の断面を観察したところ、液体供給口のシリコン基板の第二の面側の領域に良好な梁が形成されていることが確認できた。また、実施例1とは異なり、梁はシリコン基板の酸化膜1aに接する位置に形成されていた。
図4に示す方法で液体吐出ヘッドを製造した。
図5に示す方法で液体吐出ヘッドを製造した。
まず、図5(a)に示すようなシリコン基板1を用意した。ここでは、凹部14を形成しない以外は実施例1と同様とした。
次に、図5(b)に示すように、シリコン基板に、シリコン基板の第一の面から第二の面側に延びる未貫通孔をYAGレーザの3倍波によって複数形成した。ここで、X8を200μm、X9を110μmとした。
次に、図5(c)に示すように、複数の未貫通孔を形成したシリコン基板に、第一の面からTMAHの22質量%溶液を用いて異方性エッチングを行い、シリコン基板に第二の液体供給口10を形成した。TMAH溶液の温度は80℃、エッチング時間は6時間とした。
Claims (12)
- 液体供給口内に梁が形成されたシリコン基板を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
第一の面と前記第一の面と反対側の面である第二の面とを有するシリコン基板を用意する工程と、
前記シリコン基板の第二の面側に、シリコンの変質領域を形成する工程と、
前記シリコン基板に、前記第一の面の側から第一の異方性エッチングを行い、前記シリコン基板に未貫通の第一の液体供給口を形成する工程と、
前記第一の液体供給口の底面から、前記第二の面に向かって延び、前記シリコン基板を第一の面側からみたときにシリコン基板を介して前記変質領域を内側に囲む、複数の未貫通孔を形成する工程と、
前記複数の未貫通孔が形成されたシリコン基板に第二の異方性エッチングを行う工程と、を有し、
前記シリコン基板に第二の異方性エッチングを行う工程において、前記シリコン基板を第二の面側からみて前記複数の未貫通孔に挟まれた領域のシリコンを異方性エッチングで消失させずに残し、前記複数の未貫通孔に挟まれた領域に残したシリコンを梁とすることを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記第二の異方性エッチングでシリコンを消失させない領域では、複数の未貫通孔の間隔を120μm以上1000μm以下とする請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記未貫通孔の先端から前記シリコン基板の第二の面までの長さは、10μm以上75μm以下である請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記複数の未貫通孔に挟まれた領域のシリコンは、一部の領域を異方性エッチングによって消失させて液体供給口とし、前記領域では複数の未貫通孔の間隔を25μm以上100μm以下とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記複数の未貫通孔によって複数の未貫通孔の列が形成されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記シリコン基板を第一の面側からみたときに、前記複数の未貫通孔の列は、前記液体供給口が形成される領域のシリコン基板の長手方向に沿う中心線に対して対称に配置されている請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記異方性エッチングを行う際、前記シリコン基板の第二の面側には犠牲層が形成されている請求項1〜6のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記シリコン基板を第二の面側からみたときに、液体供給口が形成される領域のシリコン基板の長手方向に沿う中心線と重なる位置には、前記犠牲層が形成されていない請求項7に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記シリコン基板を前記第二の面の側からみたときに、前記犠牲層と前記変質領域とが重ならない請求項7または8に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記変質領域の前記シリコン基板の短手方向の幅が120μm以上1000μm以下である請求項1〜9のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記変質領域の前記第二の面からの深さが2μm以上120μm以下である請求項1〜10のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の異方性エッチングを行う前に、前記シリコン基板の第一の異方性エッチングを行う領域に、前記第一の面から前記第二の面に向かって延びる複数の凹部を形成する請求項1〜11のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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