JP6186801B2 - Compound - Google Patents
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- 0 CCCCC(CC)CN(CC)c(cc1)cc(O2)c1C=C(c1nc(ccc(C(O)=O)c3)c3[o]1)C2=* Chemical compound CCCCC(CC)CN(CC)c(cc1)cc(O2)c1C=C(c1nc(ccc(C(O)=O)c3)c3[o]1)C2=* 0.000 description 2
- JBDRLQIWJIDDAC-UHFFFAOYSA-N CCCCCCNc1cccc(O)c1 Chemical compound CCCCCCNc1cccc(O)c1 JBDRLQIWJIDDAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEHCDLUIGFBOPZ-UHFFFAOYSA-N OC(c(cc1)cc2c1C=CC=C(C(C(Oc1c3)=O)=Cc1ccc3N1CCCCCC1)O2)=O Chemical compound OC(c(cc1)cc2c1C=CC=C(C(C(Oc1c3)=O)=Cc1ccc3N1CCCCCC1)O2)=O AEHCDLUIGFBOPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
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Description
本発明は、染料として有用な化合物等に関する。 The present invention relates to a compound useful as a dye.
染料は、例えば、繊維材料、液晶表示装置、インクジェット等の分野で反射光又は透過光を利用して色表示するために使用されている。かかる染料として、クマリン６が知られている。 Dyes are used for color display using reflected light or transmitted light in the fields of fiber materials, liquid crystal display devices, ink jets, and the like. Coumarin 6 is known as such a dye.
上記の化合物（クマリン６）は、熱的安定性の点で液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として十分に満足できるものではなかった。 The above compound (coumarin 6) was not sufficiently satisfactory as a dye used for a color filter of a display device such as a liquid crystal display device in terms of thermal stability.
本発明は、以下の発明を含む。
〔１〕 式（Ｉ）で表される化合物。
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
〔２〕 Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する〔１〕記載の化合物。
〔３〕 Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、並びに、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する〔１〕または〔２〕記載の化合物。
〔４〕 式（ＩＩ）で表される化合物。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
〔５〕 Ｒ１及びＲ２が、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表し、該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子に置き換わっていてもよい〔４〕記載の化合物。
〔６〕 〔１〕〜〔５〕のいずれか記載の化合物を含む染料。
The present invention includes the following inventions.
[1] A compound represented by the formula (I).
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1 and R 3 are bonded to each other and adjacent to the carbon atom on the adjacent benzene ring. To form a ring with the nitrogen atom to be bonded, and R 2 and R 4 are bonded to form a ring with the carbon atom on the adjacent benzene ring and the adjacent nitrogen atom, or R 1 and R 2 are bonded to be adjacent to each other Forms a ring with the nitrogen atom. The methylene group constituting the monovalent hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 5 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and is included in the monovalent hydrocarbon group. The hydrogen atom may be replaced with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, a hydroxy group or an amino group.
R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 5 are present, they are the same or different from each other.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
[2] R 1 to R 4 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or carbons on an adjacent benzene ring by bonding R 1 and R 3. The compound according to [1], wherein a ring is formed with an atom and an adjacent nitrogen atom, or R 2 and R 4 are bonded to form a ring with a carbon atom on the adjacent benzene ring and an adjacent nitrogen atom.
[3] R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or carbons on an adjacent benzene ring by bonding R 1 and R 3. The ring according to [1] or [2], wherein a ring is formed with an atom and an adjacent nitrogen atom, and R 2 and R 4 are combined to form a ring with a carbon atom on the adjacent benzene ring and an adjacent nitrogen atom Compound.
[4] A compound represented by the formula (II).
R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. The methylene group constituting the monovalent hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 5 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and is included in the monovalent hydrocarbon group. The hydrogen atom may be replaced with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, a hydroxy group or an amino group.
R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 5 are present, they are the same or different from each other.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
[5] R 1 and R 2 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the methylene group constituting the monovalent hydrocarbon group is replaced by an oxygen atom. The compound according to [4], wherein the hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group may be replaced by a halogen atom.
[6] A dye comprising the compound according to any one of [1] to [5].
本発明の化合物は、熱的安定性が高いため、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として優れる。 Since the compound of the present invention has high thermal stability, it is excellent as a dye used for a color filter of a display device such as a liquid crystal display device.
本発明の化合物は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）ということがある。）である。本発明の化合物には、その互変異性体やそれらの塩も含まれる。
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する。該１価の炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ５）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよく、該１価の炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わっていてもよい。
Ｒ５は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。Ｒ５が複数存在する場合、それらは互いに同一又は相異なる。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］
The compound of the present invention is a compound represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as compound (I)). The compounds of the present invention include tautomers and salts thereof.
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1 and R 3 are bonded to each other and adjacent to the carbon atom on the adjacent benzene ring. A ring is formed with the nitrogen atom to be bonded, or R 2 and R 4 are bonded to form a ring with the carbon atom on the adjacent benzene ring and the adjacent nitrogen atom. The methylene group constituting the monovalent hydrocarbon group may be replaced by an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 5 ) —, a sulfonyl group or a carbonyl group, and is included in the monovalent hydrocarbon group. The hydrogen atom may be replaced with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, a hydroxy group or an amino group.
R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. When a plurality of R 5 are present, they are the same or different from each other.
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。 In formula (I), examples of the halogen atom in R 1 to R 4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、（２−エチル）ブチル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、ペンチル基、イソペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、２−ペンテニル基、（３−エチル）ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、５−メチルヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基、ヘプチル基、（３−エチル）ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクダデシル基等の脂肪族炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、１，２−ジメチルシクロヘキシル基、１，３−ジメチルシクロヘキシル基、１，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，３−ジメチルシクロヘキシル基、２，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、３，４−ジメチルシクロヘキシル基、３，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，２−ジメチルシクロヘキシル基、３，３−ジメチルシクロヘキシル基、４，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，４，６−トリメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル基などの脂環式炭化水素基；
フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の芳香族炭化水素基；
及び、それらの組み合わせによる基が挙げられる。
In the formula (I), as the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 1 to R 4 , for example,
Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, isopropenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, (2-ethyl) butyl, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentyl group, isopentyl group, 3-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 2-pentenyl group, (3 -Ethyl) pentyl group, hexyl group, isohexyl group, 5-methylhexyl group, (2-ethyl) hexyl group, heptyl group, (3-ethyl) heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl Group, aliphatic hydrocarbon group such as okdadecyl group;
Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cycloheptyl group, 1-methylcyclohexyl group, 2-methylcyclohexyl group, 3-methylcyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 1,2-dimethyl Cyclohexyl group, 1,3-dimethylcyclohexyl group, 1,4-dimethylcyclohexyl group, 2,3-dimethylcyclohexyl group, 2,4-dimethylcyclohexyl group, 2,5-dimethylcyclohexyl group, 2,6-dimethylcyclohexyl group 3,4-dimethylcyclohexyl group, 3,5-dimethylcyclohexyl group, 2,2-dimethylcyclohexyl group, 3,3-dimethylcyclohexyl group, 4,4-dimethylcyclohexyl group, 2,4,6-trimethylcyclohexyl group 2,2,6,6-tetramethyl cyclohexyl group, an alicyclic hydrocarbon group such as 3,3,5,5-tetramethyl cyclohexyl group;
Phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, o-cumenyl group, m-cumenyl group, p-cumenyl group, benzyl group, phenethyl group, biphenylyl group, 1- An aromatic hydrocarbon group such as a naphthyl group and a 2-naphthyl group;
And the group by those combination is mentioned.
これら１価の炭化水素基を構成するメチレン基が、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ5）−、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わったり、１価の炭化水素基に含まれる水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＳＯ３Ｍ、−ＣＯ２Ｍ、ヒドロキシ基又はアミノ基に置き換わったりした基としては、例えば、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、（２−エチル）ヘキシルオキシ基等のアルコキシ基；
フェノキシ基等のアリールオキシ基；
ベンジルオキシ基等のアラルキルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；
アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；
Methylene groups constituting these monovalent hydrocarbon group, an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 5) -, or replaced by a sulfonyl group or a carbonyl group, a hydrogen atom contained in the monovalent hydrocarbon group, Examples of the group substituted with a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, —SO 3 M, —CO 2 M, a hydroxy group or an amino group include:
Alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, (2-ethyl) hexyloxy group;
Aryloxy groups such as phenoxy groups;
An aralkyloxy group such as a benzyloxy group;
Alkoxycarbonyl groups such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a propoxycarbonyl group;
An acyloxy group such as an acetoxy group or a benzoyloxy group;
Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−イソブチルカルバモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ペンチルカルバモイル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（２−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（３−メチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−シクロペンチルカルバモイル基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）カルバモイル基、Ｎ−ヘプチルカルバモイル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）カルバモイル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）カルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）カルバモイル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）カルバモイル基等のＮ−１置換カルバモイル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）カルバモイル基等のＮ，Ｎ−２置換カルバモイル基；
N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-isopropylcarbamoyl group, N-butylcarbamoyl group, N-isobutylcarbamoyl group, N-sec-butylcarbamoyl group, N-tert-butylcarbamoyl Group, N-pentylcarbamoyl group, N- (1-ethylpropyl) carbamoyl group, N- (1,1-dimethylpropyl) carbamoyl group, N- (1,2-dimethylpropyl) carbamoyl group, N- (2, 2-dimethylpropyl) carbamoyl group, N- (1-methylbutyl) carbamoyl group, N- (2-methylbutyl) carbamoyl group, N- (3-methylbutyl) carbamoyl group, N-cyclopentylcarbamoyl group, N-hexylcarbamoyl group, N- (1,3-dimethylbutyl) carbonate Vamoyl group, N- (3,3-dimethylbutyl) carbamoyl group, N-heptylcarbamoyl group, N- (1-methylhexyl) carbamoyl group, N- (1,4-dimethylpentyl) carbamoyl group, N-octylcarbamoyl , N-substituted carbamoyl groups such as N- (2-ethylhexyl) carbamoyl group, N- (1,5-dimethyl) hexylcarbamoyl group, N- (1,1,2,2-tetramethylbutyl) carbamoyl group ;
N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-ethylmethylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, N, N-propylmethylcarbamoyl group, N, N-isopropylmethylcarbamoyl group, N, N-tert-butyl Such as methylcarbamoyl group, N, N-butylethylcarbamoyl group, N, N-bis (1-methylpropyl) carbamoyl group, N, N-heptylmethylcarbamoyl group, N, N-bis (2-ethylhexyl) carbamoyl group, etc. An N, N-2 substituted carbamoyl group;
Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（２−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−シクロペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−ヘプチルスルファモイル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）スルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）スルファモイル基等のＮ−１置換スルファモイル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）スルファモイル基等のＮ，Ｎ−２置換スルファモイル基；
N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-isopropylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-isobutylsulfamoyl group, N- sec-butylsulfamoyl group, N-tert-butylsulfamoyl group, N-pentylsulfamoyl group, N- (1-ethylpropyl) sulfamoyl group, N- (1,1-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N- (1,2-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N- (2,2-dimethylpropyl) sulfamoyl group, N- (1-methylbutyl) sulfamoyl group, N- (2-methylbutyl) sulfamoyl group, N- (3 -Methylbutyl) sulfamoyl group, N-cyclopentylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl N- (1,3-dimethylbutyl) sulfamoyl group, N- (3,3-dimethylbutyl) sulfamoyl group, N-heptylsulfamoyl group, N- (1-methylhexyl) sulfamoyl group, N- (1 , 4-Dimethylpentyl) sulfamoyl group, N-octylsulfamoyl group, N- (2-ethylhexyl) sulfamoyl group, N- (1,5-dimethyl) hexylsulfamoyl group, N- (1,1,2, , 2-tetramethylbutyl) sulfamoyl group and the like N-1 substituted sulfamoyl group;
N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-ethylmethylsulfamoyl group, N, N-diethylsulfamoyl group, N, N-propylmethylsulfamoyl group, N, N-isopropylmethylsulfa Moyl group, N, N-tert-butylmethylsulfamoyl group, N, N-butylethylsulfamoyl group, N, N-bis (1-methylpropyl) sulfamoyl group, N, N-heptylmethylsulfamoyl An N, N-2 substituted sulfamoyl group such as a group, N, N-bis (2-ethylhexyl) sulfamoyl group;
Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−（１−エチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）アミノ基、Ｎ−（１−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−（２−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−（３−メチルブチル）アミノ基、Ｎ−シクロペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）アミノ基、Ｎ−ヘプチルアミノ基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）アミノ基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）アミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノ基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルアミノ基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）アミノ基等のＮ−アルキルアミノ基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノ基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基；
N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, N-isobutylamino group, N-sec-butylamino group, N-tert-butylamino Group, N-pentylamino group, N- (1-ethylpropyl) amino group, N- (1,1-dimethylpropyl) amino group, N- (1,2-dimethylpropyl) amino group, N- (2, 2-dimethylpropyl) amino group, N- (1-methylbutyl) amino group, N- (2-methylbutyl) amino group, N- (3-methylbutyl) amino group, N-cyclopentylamino group, N-hexylamino group, N- (1,3-dimethylbutyl) amino group, N- (3,3-dimethylbutyl) amino group, N-heptylamino group, N- (1-methylhexyl) amino group, N (1,4-dimethylpentyl) amino group, N-octylamino group, N- (2-ethylhexyl) amino group, N- (1,5-dimethyl) hexylamino group, N- (1,1,2,2) -N-alkylamino groups such as tetramethylbutyl) amino group;
N, N-dimethylamino group, N, N-ethylmethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-propylmethylamino group, N, N-isopropylmethylamino group, N, N-tert-butylmethyl N such as amino group, N, N-butylethylamino group, N, N-bis (1-methylpropyl) amino group, N, N-heptylmethylamino group, N, N-bis (2-ethylhexyl) amino group, etc. , N-dialkylamino group;
Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−プロピルアミノメチル基、Ｎ−イソプロピルアミノメチル基、Ｎ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−イソブチルアミノメチル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノメチル基、Ｎ−ペンチルアミノメチル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ−（１−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（２−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（３−メチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−シクロペンチルアミノメチル基、Ｎ−ヘキシルアミノメチル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）アミノメチル基、Ｎ−ヘプチルアミノメチル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）アミノメチル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）アミノメチル基、Ｎ−オクチルアミノメチル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）アミノメチル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルアミノメチル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）アミノメチル基等のＮ−アルキルアミノメチル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）アミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノメチル基；
N-methylaminomethyl group, N-ethylaminomethyl group, N-propylaminomethyl group, N-isopropylaminomethyl group, N-butylaminomethyl group, N-isobutylaminomethyl group, N-sec-butylaminomethyl group N-tert-butylaminomethyl group, N-pentylaminomethyl group, N- (1-ethylpropyl) aminomethyl group, N- (1,1-dimethylpropyl) aminomethyl group, N- (1,2- Dimethylpropyl) aminomethyl group, N- (2,2-dimethylpropyl) aminomethyl group, N- (1-methylbutyl) aminomethyl group, N- (2-methylbutyl) aminomethyl group, N- (3-methylbutyl) Aminomethyl group, N-cyclopentylaminomethyl group, N-hexylaminomethyl group, N- (1,3-dimethylbutyl) a Nomethyl group, N- (3,3-dimethylbutyl) aminomethyl group, N-heptylaminomethyl group, N- (1-methylhexyl) aminomethyl group, N- (1,4-dimethylpentyl) aminomethyl group, N-octylaminomethyl group, N- (2-ethylhexyl) aminomethyl group, N- (1,5-dimethyl) hexylaminomethyl group, N- (1,1,2,2-tetramethylbutyl) aminomethyl group An N-alkylaminomethyl group such as
N, N-dimethylaminomethyl group, N, N-ethylmethylaminomethyl group, N, N-diethylaminomethyl group, N, N-propylmethylaminomethyl group, N, N-isopropylmethylaminomethyl group, N, N -Tert-butylmethylaminomethyl group, N, N-butylethylaminomethyl group, N, N-bis (1-methylpropyl) aminomethyl group, N, N-heptylmethylaminomethyl group, N, N-bis ( N, N-dialkylaminomethyl groups such as 2-ethylhexyl) aminomethyl group;
トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロイソプロペニル基、ペルフルオロ（１−プロペニル）基、ペルフルオロ（２−プロペニル）基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロイソブチル基、ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブチル）基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブチル）基、ペルフルオロ（２−ブテニル）基、ペルフルオロ（１，３−ブタジエニル）基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロ（イソペンチル）基、ペルフルオロ（３−ペンチル）基、ペルフルオロネオペンチル基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ペンチル）基、ペルフルオロ（１−メチルペンチル）基、ペルフルオロ（２−メチルペンチル）基、ペルフルオロ（２−ペンテニル）基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロイソヘキシル基、ペルフルオロ（５−メチルヘキシル）基、ペルフルオロ（２−エチルヘキシル）基、ペルフルオロヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノニル基、ペルフルオロデシル基、ペルフルオロウンデシル基、ペルフルオロドデシル基、ペルフルオロオクタデシル基等のフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基； Trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluoroisopropenyl group, perfluoro (1-propenyl) group, perfluoro (2-propenyl) group, perfluorobutyl group, perfluoroisobutyl group, perfluoro (sec- Butyl) group, perfluoro (tert-butyl) group, perfluoro (2-butenyl) group, perfluoro (1,3-butadienyl) group, perfluoropentyl group, perfluoro (isopentyl) group, perfluoro (3-pentyl) group, perfluoroneo Pentyl group, perfluoro (tert-pentyl) group, perfluoro (1-methylpentyl) group, perfluoro (2-methylpentyl) group, perfluoro (2-pentenyl) group, perfluorohexyl Group, perfluoroisohexyl group, perfluoro (5-methylhexyl) group, perfluoro (2-ethylhexyl) group, perfluoroheptyl group, perfluorooctyl group, perfluorononyl group, perfluorodecyl group, perfluoroundecyl group, perfluorododecyl group, perfluoro An aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom such as an octadecyl group;
ペルフルオロシクロプロピル基、ペルフルオロシクロブチル基、ペルフルオロシクロペンチル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキセニル基、ペルフルオロシクロヘプチル基、ペルフルオロ（１−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（４−メチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，２−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（１，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，５−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，６−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，５−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，２−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，３−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（４，４−ジメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，４，６−トリメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル）基、ペルフルオロ（３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル）基等のフッ素原子を有する脂環式炭化水素基； Perfluorocyclopropyl group, perfluorocyclobutyl group, perfluorocyclopentyl group, perfluorocyclohexyl group, perfluorocyclohexenyl group, perfluorocycloheptyl group, perfluoro (1-methylcyclohexyl) group, perfluoro (2-methylcyclohexyl) group, perfluoro (3- Methylcyclohexyl) group, perfluoro (4-methylcyclohexyl) group, perfluoro (1,2-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (1,3-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (1,4-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2 , 3-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,4-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,5-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,6-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (3,4-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (3,5-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,2-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (3,3-dimethyl) Cyclohexyl) group, perfluoro (4,4-dimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,4,6-trimethylcyclohexyl) group, perfluoro (2,2,6,6-tetramethylcyclohexyl) group, perfluoro (3,3,3) An alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom such as a 5,5-tetramethylcyclohexyl) group;
ペルフルオロフェニル基、ペルフルオロ（ｏ−トリル）基、ペルフルオロ（ｍ−トリル）基、ペルフルオロ（ｐ−トリル）基、ペルフルオロキシリル基、ペルフルオロメシチル基、ペルフルオロ（ｏ−クメニル）基、ペルフルオロ（ｍ−クメニル）基、ペルフルオロ（ｐ−クメニル）基、ペルフルオロベンジル基、ペルフルオロフェネチル基、ペルフルオロビフェニリル基、ペルフルオロ（１−ナフチル）基、ペルフルオロ（２−ナフチル）基、１−トリフルオロメチルフェニル基、２−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基等のフッ素原子を有する芳香族炭化水素基； Perfluorophenyl group, perfluoro (o-tolyl) group, perfluoro (m-tolyl) group, perfluoro (p-tolyl) group, perfluoroxylyl group, perfluoromesityl group, perfluoro (o-cumenyl) group, perfluoro (m- Cumenyl) group, perfluoro (p-cumenyl) group, perfluorobenzyl group, perfluorophenethyl group, perfluorobiphenylyl group, perfluoro (1-naphthyl) group, perfluoro (2-naphthyl) group, 1-trifluoromethylphenyl group, 2 -An aromatic hydrocarbon group having a fluorine atom such as a trifluoromethylphenyl group, a 3-trifluoromethylphenyl group, or a 4-trifluoromethylphenyl group;
ペルフルオロメトキシ基、ペルフルオロエトキシ基、ペルフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ（イソプロポキシ）基、ペルフルオロブトキシ基、ペルフルオロ（イソブトキシ）基、ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブトキシ）基、ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブトキシ）基、ペルフルオロペンチルオキシ基、ペルフルオロフェノキシ基、ペルフルオロベンジルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、（ペルフルオロエチル）メトキシ基、（ペルフルオロプロピル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソプロピル））メトキシ基、（ペルフルオロ（イソプロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１−プロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−プロペニル））メトキシ基、（ペルフルオロブチル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｓｅｃ−ブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ブチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−ブテニル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１，３−ブタジエニル））メトキシ基、（ペルフルオロペンチル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（３−ペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ネオペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（ｔｅｒｔ−ペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（１−メチルペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−メチルペンチル））メトキシ基、（ペルフルオロ（２−ペンテニル））メトキシ基、（ペルフルオロヘキシル）メトキシ基、（ペルフルオロ（イソヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロ（５−メチルヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロ（（２−エチル）ヘキシル））メトキシ基、（ペルフルオロヘプチル）メトキシ基、（ペルフルオロオクチル）メトキシ基、（ペルフルオロノニル）メトキシ基、（ペルフルオロデシル）メトキシ基、（ペルフルオロウンデシル）メトキシ基、（ペルフルオロドデシル）メトキシ基、（ペルフルオロオクタデシル）メトキシ基等のフッ素原子を有する置換オキシ基； Perfluoromethoxy group, perfluoroethoxy group, perfluoropropoxy group, perfluoro (isopropoxy) group, perfluorobutoxy group, perfluoro (isobutoxy) group, perfluoro (sec-butoxy) group, perfluoro (tert-butoxy) group, perfluoropentyloxy group, Perfluorophenoxy group, perfluorobenzyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, (perfluoroethyl) methoxy group, (perfluoropropyl) methoxy group, (perfluoro (isopropyl)) methoxy group, (perfluoro (isopropenyl)) Methoxy group, (perfluoro (1-propenyl)) methoxy group, (perfluoro (2-propenyl)) methoxy group, (perfluorobutyl) methoxy group, (perfluoro (iso (Til)) methoxy group, (perfluoro (sec-butyl)) methoxy group, (perfluoro (tert-butyl)) methoxy group, (perfluoro (2-butenyl)) methoxy group, (perfluoro (1,3-butadienyl)) methoxy Group, (perfluoropentyl) methoxy group, (perfluoro (isopentyl)) methoxy group, (perfluoro (3-pentyl)) methoxy group, (perfluoro (neopentyl)) methoxy group, (perfluoro (tert-pentyl)) methoxy group, Perfluoro (1-methylpentyl)) methoxy group, (perfluoro (2-methylpentyl)) methoxy group, (perfluoro (2-pentenyl)) methoxy group, (perfluorohexyl) methoxy group, (perfluoro (isohexyl)) methoxy group, (Perful (Ro (5-methylhexyl)) methoxy group, (perfluoro ((2-ethyl) hexyl)) methoxy group, (perfluoroheptyl) methoxy group, (perfluorooctyl) methoxy group, (perfluorononyl) methoxy group, (perfluorodecyl) A substituted oxy group having a fluorine atom such as a methoxy group, a (perfluoroundecyl) methoxy group, a (perfluorododecyl) methoxy group, or a (perfluorooctadecyl) methoxy group;
２，３−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、３，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基等が挙げられる。 2,3-bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, 2,5-bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, 2,6-bis (trifluoro) And methyl) phenylmethyl group, 3,4-bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylmethyl group, and the like.
Ｒ１及びＲ２としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基が好ましい。該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよい。 R 1 and R 2 are preferably an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group may be replaced with an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be replaced with an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group.
Ｒ１としては、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基が好ましい。中でも、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基及びオクチル基がより好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基がさらに好ましく、（２−エチル）ヘキシル基が特に好ましい。Ｒ１がこれらの基である本発明の化合物は溶媒への溶解性に優れる。 R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Among them, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, a (2-ethyl) hexyl group and an octyl group are more preferable, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group and a (2-ethyl) hexyl group are more preferable, and (2-ethyl) A hexyl group is particularly preferred. The compound of the present invention in which R 1 is these groups is excellent in solubility in a solvent.
Ｒ２としては、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基が好ましい。中でも、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基及びオクチル基がより好ましく、エチル基、ブチル基、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基がさらに好ましく、ヘキシル基及び（２−エチル）ヘキシル基が特に好ましい。Ｒ２がこれらの基である本発明の化合物は溶媒への溶解性に優れる。 R 2 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Among them, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group, a (2-ethyl) hexyl group and an octyl group are more preferable, an ethyl group, a butyl group, a hexyl group and a (2-ethyl) hexyl group are more preferable, and a hexyl group and (2 -Ethyl) hexyl groups are particularly preferred. The compound of the present invention in which R 2 is these groups is excellent in solubility in a solvent.
Ｒ３及びＲ４は、製造し易さの点で、水素原子であることが好ましい。 R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom from the viewpoint of ease of production.
Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、またはＲ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成する場合、＊−Ｒ１−Ｒ３−＊及び＊−Ｒ２−Ｒ４−＊としては、＊−ＣＨ２−ＣＨ２−＊、＊−ＣＦ２−ＣＦ２−＊、＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２）５−＊、＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊等が挙げられ、＊−ＣＨ２−ＣＨ２−＊及び＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊が好ましく、その中でも＊−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−＊が特に好ましい。＊は結合手を表す。 R 1 and R 3 combine to form a ring with carbon atoms and adjacent nitrogen atoms on the adjacent benzene ring, or R 2 and R 4 combine to form carbon ring and adjacent nitrogen on the adjacent benzene ring If together with the atoms to form a ring, * - R 1 -R 3 - * and * -R 2 -R 4 - * the, * - CH 2 -CH 2 - *, * - CF 2 -CF 2 - *, * -CH 2 -C (CH 2) 5 - *, * - CH 2 -C (CH 3) 2 - * , and the like, * - CH 2 -CH 2 - * and * -CH 2 -C (CH 3) 2 - *, more preferably a hydrogen atom * -CH 2 -C (CH 3) 2 - * are particularly preferred. * Represents a bond.
Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する場合、＊−Ｒ１−Ｒ２−＊としては、＊−（ＣＨ２）２−＊、＊−（ＣＨ２）３−＊、＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊、＊−（ＣＨ２）６−＊、＊−（ＣＨ２）７−＊、＊−（ＣＦ２）２−＊、＊−（ＣＦ２）３−＊、＊−（ＣＦ２）４−＊、＊−（ＣＦ２）５−＊、＊−（ＣＦ２）６−＊、＊−（ＣＦ２）７−＊等が挙げられ、＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊、＊−（ＣＨ２）６−＊、＊−（ＣＦ２）４−＊、＊−（ＣＦ２）５−＊及び＊−（ＣＦ２）６−が好ましく、その中でも＊−（ＣＨ２）４−＊、＊−（ＣＨ２）５−＊及び＊−（ＣＨ２）６−＊が好ましく、＊−（ＣＨ２）４−＊及び＊−（ＣＨ２）５−＊が特に好ましい。＊は結合手を表す。 When R 1 and R 2 are bonded to form a ring with an adjacent nitrogen atom, * —R 1 —R 2 — * includes * — (CH 2 ) 2 — *, * — (CH 2 ) 3 —. *, * - (CH 2) 4 - *, * - (CH 2) 5 - *, * - (CH 2) 6 - *, * - (CH 2) 7 - *, * - (CF 2) 2 - *, * - (CF 2) 3 - *, * - (CF 2) 4 - *, * - (CF 2) 5 - *, * - (CF 2) 6 - *, * - (CF 2) 7 - * and the like, * - (CH 2) 4 - *, * - (CH 2) 5 - *, * - (CH 2) 6 - *, * - (CF 2) 4 - *, * - (CF 2) 5 - * and * - (CF 2) 6 -, more preferably a hydrogen atom * - (CH 2) 4 - *, * - (CH 2) 5 - * and * - (CH 2) 6 - * is preferably , *-(C 2) 4 - * and * - (CH 2) 5 - * are particularly preferred. * Represents a bond.
Ｒ５における炭素数１〜２０の１価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソプロペニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、（２−エチル）ブチル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、ペンチル基、イソペンチル基、３−ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、２−ペンテニル基、（３−エチル）ペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、５−メチルヘキシル基、（２−エチル）ヘキシル基、ヘプチル基、（３−エチル）ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、オクダデシル基等の脂肪族炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、１，２−ジメチルシクロヘキシル基、１，３−ジメチルシクロヘキシル基、１，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，３−ジメチルシクロヘキシル基、２，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、３，４−ジメチルシクロヘキシル基、３，５−ジメチルシクロヘキシル基、２，２−ジメチルシクロヘキシル基、３，３−ジメチルシクロヘキシル基、４，４−ジメチルシクロヘキシル基、２，４，６−トリメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６−テトラメチルシクロヘキシル基、３，３，５，５−テトラメチルシクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基；
フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メシチル基、ｏ−クメニル基、ｍ−クメニル基、ｐ−クメニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニリル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の芳香族炭化水素基；
及び、それらを組み合わせた基が挙げられる。
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R 5 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, isopropenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, (2-ethyl) butyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, pentyl group, isopentyl group, 3-pentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1 -Methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 2-pentenyl group, (3-ethyl) pentyl group, hexyl group, isohexyl group, 5-methylhexyl group, (2-ethyl) hexyl group, heptyl group, (3- Ethyl) aliphatic hydrocarbon groups such as heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, okdadecyl;
Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexenyl group, cycloheptyl group, 1-methylcyclohexyl group, 2-methylcyclohexyl group, 3-methylcyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 1,2-dimethyl Cyclohexyl group, 1,3-dimethylcyclohexyl group, 1,4-dimethylcyclohexyl group, 2,3-dimethylcyclohexyl group, 2,4-dimethylcyclohexyl group, 2,5-dimethylcyclohexyl group, 2,6-dimethylcyclohexyl group 3,4-dimethylcyclohexyl group, 3,5-dimethylcyclohexyl group, 2,2-dimethylcyclohexyl group, 3,3-dimethylcyclohexyl group, 4,4-dimethylcyclohexyl group, 2,4,6-trimethylcyclohexyl group 2,2,6,6-tetramethyl-cyclohexyl, 3,3,5,5 alicyclic hydrocarbon group, such as tetramethyl cyclohexyl group;
Phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, o-cumenyl group, m-cumenyl group, p-cumenyl group, benzyl group, phenethyl group, biphenylyl group, 1- An aromatic hydrocarbon group such as a naphthyl group and a 2-naphthyl group;
And the group which combined them is mentioned.
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表し、好ましくは水素原子、ナトリウム原子又はカリウム原子であり、より好ましくは水素原子である。 M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, preferably a hydrogen atom, a sodium atom or a potassium atom, more preferably a hydrogen atom.
化合物（Ｉ）としては、例えば、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４４）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩が挙げられる。 Examples of compound (I) include compounds represented by formula (I-1) to formula (I-44) and salts thereof.
合成のしやすさの観点から、化合物（Ｉ）としては、化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−８）及び化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−４２）が好ましく、その中でも化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−４）、化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−３２）及び化合物（Ｉ−３９）〜化合物（Ｉ−４２）が好ましく、その中でも化合物（Ｉ−１）〜化合物（Ｉ−４）、化合物（Ｉ−１５）〜化合物（Ｉ−２０）、化合物（Ｉ−２７）〜化合物（Ｉ−２８）、化合物（Ｉ−３１）〜化合物（Ｉ−３２）及び化合物（Ｉ−３９）〜化合物（Ｉ−４２）がさらに好ましい。 From the viewpoint of ease of synthesis, as compound (I), compound (I-1) to compound (I-8) and compound (I-15) to compound (I-42) are preferable. I-1) to Compound (I-4), Compound (I-15) to Compound (I-32), and Compound (I-39) to Compound (I-42) are preferred, and among these, Compound (I-1) -Compound (I-4), Compound (I-15)-Compound (I-20), Compound (I-27)-Compound (I-28), Compound (I-31)-Compound (I-32) and More preferred are compound (I-39) to compound (I-42).
本発明の化合物（Ｉ）は、例えば、Dyes and Pigments (2008), 77, 556-558.に記載された方法に準じて製造することができる。
化合物（Ｉ）の具体的な製造方法としては、式（ａ１）で表される化合物、式（ａ２）で表される化合物及びシアノ酢酸エチルを、安息香酸及び溶媒存在下、環化反応させる方法が挙げられる。反応温度は、０℃〜２００℃が好ましく、１００℃〜１５０℃がより好ましい。反応時間は、１時間〜２４時間が好ましく、８時間〜１６時間がより好ましい。前記溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−オクタノール又はＮ−メチルピロリドン等が挙げられ、１−ペンタノールが好ましい。
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Compound (I) of the present invention can be produced, for example, according to the method described in Dyes and Pigments (2008), 77, 556-558.
As a specific production method of the compound (I), a method in which the compound represented by the formula (a1), the compound represented by the formula (a2), and ethyl cyanoacetate are cyclized in the presence of benzoic acid and a solvent. Is mentioned. The reaction temperature is preferably 0 ° C to 200 ° C, more preferably 100 ° C to 150 ° C. The reaction time is preferably 1 hour to 24 hours, more preferably 8 hours to 16 hours. Examples of the solvent include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-octanol, and N-methylpyrrolidone, and 1-pentanol is preferable.
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化合物（Ｉ）の製造において、式（ａ１）で表される化合物の使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは１モル〜１０モルであり、より好ましくは１モルであり、さらに好ましくは１モル〜３モルであり、さらにより好ましくは１モルである。 In the production of the compound (I), the amount of the compound represented by the formula (a1) is preferably 1 mol to 10 mol, more preferably 1 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (a2). 1 mol, more preferably 1 mol to 3 mol, and even more preferably 1 mol.
化合物（Ｉ）の製造において、シアノ酢酸エチルの使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは１モル〜１０モルであり、より好ましくは１モル〜４モルであり、より好ましくは１モル〜３モルであり、より好ましくは１モルである。 In the production of compound (I), the amount of ethyl cyanoacetate used is preferably 1 mol to 10 mol, more preferably 1 mol to 4 mol, relative to 1 mol of the compound represented by formula (a2). More preferably, it is 1 mol-3 mol, More preferably, it is 1 mol.
化合物（Ｉ）の製造において、安息香酸の使用量は、式（ａ２）で表される化合物１モルに対して、好ましくは０．１モル〜３モルであり、さらに好ましくは０．３モル〜３モルであり、さらにより好ましくは０．３モル〜１．２モルであり、特に好ましくは０．３〜０．４モルである。 In the production of compound (I), the amount of benzoic acid used is preferably 0.1 mol to 3 mol, more preferably 0.3 mol to 1 mol of the compound represented by formula (a2). 3 mol, still more preferably 0.3 mol to 1.2 mol, and particularly preferably 0.3 to 0.4 mol.
反応混合物から目的化合物である本発明の化合物（Ｉ）を取得する方法は特に限定されず、公知の種々の手法が採用できる。例えば、反応混合物の温度を適宜調整する方法、又は反応混合物を化合物（I）が溶解しない溶媒に加える方法で結晶を析出させ、該結晶を濾取することが好ましい。濾取した結晶は、水、アセトニトリル、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−オクタノール、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロホルム又はこれらの混合液等の溶媒で洗浄又は再結晶し、次いで乾燥することが好ましい。また必要に応じて、カラムクロマトグラフィー又は再結晶等の公知の手法によってさらに精製してもよい。 The method for obtaining the target compound (I) of the present invention from the reaction mixture is not particularly limited, and various known techniques can be employed. For example, it is preferable to precipitate crystals by a method of appropriately adjusting the temperature of the reaction mixture or a method of adding the reaction mixture to a solvent in which the compound (I) is not dissolved, and collecting the crystals by filtration. The crystals collected by filtration were water, acetonitrile, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-octanol, tetrahydrofuran, acetone, acetic acid, ethyl acetate, hexane, toluene, N, N-dimethylformamide. , N-methylpyrrolidone, chloroform or a mixture thereof or the like, and then washing or recrystallization is preferable, followed by drying. Moreover, you may refine | purify further by well-known methods, such as column chromatography or recrystallization, as needed.
次に実施例等を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例及び比較例中、含有量や使用量を表す％及び部は、特記ない限り、質量基準である。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
In Examples and Comparative Examples, “%” and “part” representing the content and the amount used are based on mass unless otherwise specified.
以下の実施例において、化合物の構造はＮＭＲ（ＪＭＭ−ＥＣＡ−５００；日本電子（株）製）又は質量分析（ＬＣ；Ａｇｉｌｅｎｔ製１２００型、ＭＡＳＳ；Ａｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ６１３０型）で確認した。 In the following examples, the structure of the compound was confirmed by NMR (JMM-ECA-500; manufactured by JEOL Ltd.) or mass spectrometry (LC; Agilent 1200 model, MASS; Agilent LC / MSD6130 model).
実施例１
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）１０．０部、４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１２．８部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．７３部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１５７部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．４３部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．４６部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．７９部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）４９．８部及び４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１２．７部を加え、１２０℃で１４時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．７６部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．４１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）５２．５部及び４−（ジエチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）６．３５部を加え、１２０℃で８時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１４０部を加え、７０℃で１時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１２０部を加え、７０℃で１時間撹拌した後、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３４０部を加え、９０℃に加熱して溶解させた後、０℃〜５℃で静置した。析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣を、６０℃で減圧乾燥して、式（Ｉ−１）で表される化合物５．６９部を得た。１Ｈ−ＮＭＲにて構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：１．１４（６Ｈ，ｔ），３．４７（４Ｈ，ｑ），６．５７（１Ｈ，ｄ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ），７．６８（１Ｈ，ｄ），７．７９（１Ｈ，ｄ），７．９６（１Ｈ，ｄｄ），８．１５（１Ｈ，ｄ），８．８０（１Ｈ，ｓ），１３．１１（１Ｈ，ｓ）
Example 1
10.0 parts of 4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 12.8 parts of 4- (diethylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), benzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 2.73 parts manufactured by Co., Ltd., 157 parts 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 7.43 parts ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed at 3 ° C. at 120 ° C. Stir for hours. 7.46 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 2.79 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 49.8 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) And 12.7 parts of 4- (diethylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred at 120 ° C. for 14 hours. Ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.76 parts, Benzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1.41 parts, 1-Pentanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 52.5 parts And 6.35 parts of 4- (diethylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and stirred at 120 ° C. for 8 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were obtained as a residue of suction filtration. To this residue was added 140 parts of tetrahydrofuran, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour, and insoluble matter was obtained as a residue of suction filter. To this residue was added 120 parts of tetrahydrofuran, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour, and insoluble matter was obtained as a residue of a suction filter. To this residue, 340 parts of N, N-dimethylformamide was added, dissolved by heating to 90 ° C., and then allowed to stand at 0 ° C. to 5 ° C. The precipitated crystals were obtained as a suction filtration residue. This residue was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 5.69 parts of a compound represented by the formula (I-1). The structure was confirmed by 1 H-NMR.
1 H-NMR (500 MHz, DMSO-d 6 ): 1.14 (6H, t), 3.47 (4H, q), 6.57 (1H, d), 6.78 (1H, dd), 7 .68 (1H, d), 7.79 (1H, d), 7.96 (1H, dd), 8.15 (1H, d), 8.80 (1H, s), 13.11 (1H, s)
実施例２
４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）２４．８部、４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）１５．３部、安息香酸（東京化成工業（株）製）４．２０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）２４２部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１１．３部を混合し、１２０℃で５時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７０部、４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．１部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７０部、４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．２部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で３時間攪拌した。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．６１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．７１部及び４−（ジブチルアミノ）サリチルアルデヒド（東京化成工業（株）製）１０．３部を加え、１２０℃で１８時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、ヘキサン１９００部に加え撹拌した。析出した結晶を吸引ろ過の残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン３２８部を加え、６０℃で再結晶した。析出した結晶を吸引ろかの残渣として得た。この残渣にテトラヒドロフラン１６０部を加え撹拌し、不溶物を吸引ろかの残渣として得た。この残渣を、６０℃で減圧乾燥して、式（Ｉ−３）で表される化合物１８．９部を得た。１Ｈ−ＮＭＲにて構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：０．９２（６Ｈ，ｔ），１．３４（４Ｈ，ｑｔ），１．５４（４Ｈ，ｔｔ），３．４１（４Ｈ，ｔ），６．５６（１Ｈ，ｄ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ），７．６９（１Ｈ，ｄ），７．８０（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｄｄ），８．１７（１Ｈ，ｄ），８．８２（１Ｈ，ｓ），１３．１１（１Ｈ，ｓ）．
Example 2
4- (dibutylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 24.8 parts, 4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 15.3 parts, benzoic acid (Tokyo Chemical Industry) 1.20 parts of Kogyo Co., Ltd., 242 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 11.3 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are mixed at 120 ° C. Stir for 5 hours. 4.61 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1.70 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4- (dibutylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.1 parts and 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 120 ° C. for 3 hours. Ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.60 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1.70 parts, 4- (dibutylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.2 parts and 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 120 ° C. for 3 hours. 4.61 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1.71 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 4- (dibutylamino) salicylaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.3 parts were added and stirred at 120 ° C. for 18 hours. The reaction solution was cooled to room temperature and then added to 1900 parts of hexane and stirred. The precipitated crystals were obtained as a suction filtration residue. To this residue, 328 parts of tetrahydrofuran was added and recrystallized at 60 ° C. The precipitated crystals were obtained as a residue of suction filter. To this residue, 160 parts of tetrahydrofuran was added and stirred to obtain an insoluble material as a residue of a suction filter. This residue was dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 18.9 parts of a compound represented by the formula (I-3). The structure was confirmed by 1 H-NMR.
1 H-NMR (500 MHz, DMSO-d 6 ): 0.92 (6H, t), 1.34 (4H, qt), 1.54 (4H, tt), 3.41 (4H, t), 6 .56 (1H, d), 6.78 (1H, dd), 7.69 (1H, d), 7.80 (1H, d), 7.98 (1H, dd), 8.17 (1H, d), 8.82 (1H, s), 13.11 (1H, s).
実施例３
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）４．３２部、４−（ビス（２−エチルヘキシル）アミノ）サリチルアルデヒド（特表２００７−５０８２７５に記載された方法に準じて合成した）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．１８部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）６８．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．１９部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に４−（ビス（２−エチルヘキシル）アミノ）サリチルアルデヒド（特表２００７−５０８２７５に記載された方法に準じて合成した）１５．３部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．８０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）４．８０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１５）で表される化合物６．３２部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ５４７．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５４６．３
Example 3
4-Amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.32 parts, 4- (bis (2-ethylhexyl) amino) salicylaldehyde (in accordance with the method described in JP-T-2007-508275) 10.2 parts synthesized, 1.18 parts benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 68.0 parts 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.19 parts) manufactured by Co., Ltd. were mixed and stirred at 120 ° C. for 3 hours. To this reaction solution, 15.3 parts of 4- (bis (2-ethylhexyl) amino) salicylaldehyde (synthesized according to the method described in JP-T-2007-508275), benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1.80 parts, 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 4.80 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at 120 ° C. for 12 hours. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent was distilled off with the rotary evaporator and the residue was obtained. This residue was purified by column chromatography to obtain 6.32 parts of a compound represented by the formula (I-15).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 547.3
Exact Mass: 546.3
実施例４
レゾルシノール（東京化成工業（株）製）２７５部とｎ−ヘキシルアミン（東京化成工業（株）製）１０１部を混合し、１５０〜１５５℃で生成する水を除去しながら２０時間撹拌した。放冷後、反応混合物をトルエン４３３部に溶解し、このトルエン溶液を水１０００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム５０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して粗生成物を得た。この粗生成物をトルエン２３４部に溶解し、０℃以下で撹拌し、晶析物を濾過により取り出した。この晶析物を５０℃で減圧乾燥して、式（ｐｔ１）で表される化合物９５．７部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ １９４．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： １９３．２
Example 4
275 parts of resorcinol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 101 parts of n-hexylamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred for 20 hours while removing water produced at 150 to 155 ° C. After cooling, the reaction mixture was dissolved in 433 parts of toluene, and this toluene solution was washed with 1000 parts of water three times. 50 parts of anhydrous magnesium sulfate was added to this toluene solution and stirred, followed by filtration. The solvent of the filtrate was distilled off to obtain a crude product. This crude product was dissolved in 234 parts of toluene, stirred at 0 ° C. or lower, and the crystallized product was removed by filtration. This crystallized product was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 95.7 parts of a compound represented by the formula (pt1).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 194.2
Exact Mass: 193.2
式（ｐｔ１）で表される化合物９５．３部と水４８.０部を混合し、８０℃で撹拌した。続いて、１−ブロモ−２−エチルヘキサン（東京化成工業（株）製）１０７部を加えながら、８０℃で３時間撹拌した後、４８％水酸化ナトリウム水溶液２２．４部を加えた。この混合物を１１０℃で１８時間撹拌した。放冷後、反応混合物を１０％水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨを５に調整し、トルエン１３０部を加えて撹拌し、トルエン層を抽出した。トルエン抽出液を水５００部で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウム２５.０部を加えて撹拌し、ろ過した。ろ液の溶媒を留去し、式（ｐｔ２）で表される化合物を主成分として含む残渣１５４部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ３０６．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ３０５．３
95.3 parts of the compound represented by the formula (pt1) and 48.0 parts of water were mixed and stirred at 80 ° C. Subsequently, while adding 107 parts of 1-bromo-2-ethylhexane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 22.4 parts of a 48% aqueous sodium hydroxide solution was added. The mixture was stirred at 110 ° C. for 18 hours. After allowing to cool, the pH of the reaction mixture was adjusted to 5 using 10% aqueous sodium hydroxide solution, 130 parts of toluene was added and stirred, and the toluene layer was extracted. The toluene extract was washed twice with 500 parts of water, added with 25.0 parts of anhydrous magnesium sulfate, stirred and filtered. The solvent of the filtrate was distilled off to obtain 154 parts of a residue containing the compound represented by the formula (pt2) as a main component.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 306.3
Exact Mass: 305.3
得られた式（ｐｔ２）で表される化合物を主成分として含む残渣１５４部とＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド５９７部を混合し、−６℃〜３℃で撹拌した。これに、液温を−６℃〜３℃に保ちながら、塩化ホスホリル（和光純薬工業（株）製）２５８部を加えた。この混合物を室温で１時間撹拌した後、６０℃で４時間撹拌した。放冷後、反応混合物を氷１５００部に加え、４８％水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和した。これにトルエン８６７部を加え、トルエン層を抽出した。このトルエン抽出液を１５％塩化ナトリウム水溶液１２００部で２回洗浄した。このトルエン抽出液に無水硫酸マグネシウム６０．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（ｐｔ３）で表される化合物９４．４部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ３３４．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ３３３．３
154 parts of the residue containing the compound represented by the formula (pt2) as a main component and 597 parts of N, N-dimethylformamide were mixed and stirred at -6 ° C to 3 ° C. To this, 258 parts of phosphoryl chloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added while maintaining the liquid temperature at −6 ° C. to 3 ° C. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then stirred at 60 ° C. for 4 hours. After allowing to cool, the reaction mixture was added to 1500 parts of ice and neutralized with a 48% aqueous sodium hydroxide solution. To this, 867 parts of toluene was added, and the toluene layer was extracted. This toluene extract was washed twice with 1200 parts of a 15% aqueous sodium chloride solution. 60.0 parts of anhydrous magnesium sulfate was added to the toluene extract and stirred, followed by filtration. The filtrate was evaporated to give a residue. This residue was purified by column chromatography to obtain 94.4 parts of a compound represented by the formula (pt3).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 334.3
Exact Mass: 333.3
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）６．８９部、式（ｐｔ３）で表される化合物１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）１．８７部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１１０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）５．０９部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に式（ｐｔ３）で表される化合物２２．５部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．８５部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）７．６６部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１７）で表される化合物８．８６部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ５１９．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５１８．３
1.89 parts of 4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 15.0 parts of a compound represented by the formula (pt3), benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 87 parts, 110 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 5.09 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred at 120 ° C. for 3 hours. In this reaction solution, 22.5 parts of the compound represented by the formula (pt3), 2.85 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.0 Parts and 7.66 parts of ethyl cyanoacetate (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were mixed and stirred at 120 ° C. for 12 hours. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent was distilled off and the residue was obtained. This residue was purified by column chromatography to obtain 8.86 parts of the compound represented by formula (I-17).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 519.3
Exact Mass: 518.3
実施例５
レゾルシノール１３８部に２−エチルヘキシルアミン６４．５部を加え、この混合物を１５０℃〜１５５℃で生成する水を除去しながら１８時間撹拌した。放冷後、反応混合物にトルエン２５０部を加え、水５００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム２０．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去し、式（ｐｔ４）で表される化合物を主成分として含む残渣１１３部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ２２２．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ２２１．２
Example 5
64.5 parts of 2-ethylhexylamine was added to 138 parts of resorcinol, and this mixture was stirred for 18 hours while removing water produced at 150 ° C to 155 ° C. After allowing to cool, 250 parts of toluene was added to the reaction mixture, and washed with 500 parts of water three times. 20.0 parts of anhydrous magnesium sulfate was added to this toluene solution and stirred, followed by filtration. The solvent of the filtrate was distilled off to obtain 113 parts of a residue containing the compound represented by the formula (pt4) as a main component.
(Mass Spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 222.2
Exact Mass: 221.2
得られた式（ｐｔ４）で表される化合物を主成分として含む残渣を５８．５部に水２３．０部を加え、撹拌しながら、液温を６０℃にした。この温度で、硫酸ジエチル３９．３部と４８％水酸化ナトリウム水溶液１０．６部を加えながら９時間撹拌した。その後、６０℃下で５時間撹拌した。放冷後、反応混合物を１０％水酸化ナトリウム水溶液で中和し、トルエン３００部を加えた。このトルエン溶液を水５００部で３回洗浄した。このトルエン溶液に無水硫酸マグネシウム２０．０部加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して、式（ｐｔ５）で表される化合物を主成分として含む残渣を６７．５部得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ２５０．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ２４９．２
28.5 parts of water was added to 58.5 parts of the residue containing the compound represented by the formula (pt4) as a main component, and the liquid temperature was adjusted to 60 ° C. while stirring. At this temperature, 39.3 parts of diethyl sulfate and 10.6 parts of 48% aqueous sodium hydroxide solution were added and stirred for 9 hours. Then, it stirred at 60 degreeC for 5 hours. After allowing to cool, the reaction mixture was neutralized with a 10% aqueous sodium hydroxide solution, and 300 parts of toluene was added. This toluene solution was washed with 500 parts of water three times. 20.0 parts of anhydrous magnesium sulfate was added to this toluene solution and stirred, followed by filtration. The solvent of the filtrate was distilled off to obtain 67.5 parts of a residue containing the compound represented by the formula (pt5) as a main component.
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 250.2
Exact Mass: 249.2
得られた式（ｐｔ５）で表される化合物を主成分として含む残渣を６７．５部に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３２３部を加えた。この混合溶液の温度を−６℃〜４℃に保ちながら、オキシ塩化リン１０５部を加えた。この反応液の温度を室温に戻して１時間撹拌した後、反応液の温度を６０℃に上げて３時間撹拌した。放冷後、反応混合物を氷水１５００部に加え、撹拌しながら４８％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。これにトルエン５００部を加え、トルエン層を抽出した。このトルエン溶液を水１０００部で洗浄した。次に、このトルエン溶液を飽和塩化ナトリウム水溶液１５００部で洗浄した。このトルエン溶液に、無水硫酸マグネシウム２５．０部を加えて撹拌した後、ろ過した。ろ液の溶媒を留去して残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（ｐｔ６）で表される化合物３６．７部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ２７８．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ２７７．２
To 67.5 parts of the residue containing the compound represented by the formula (pt5) as a main component, 323 parts of N, N-dimethylformamide was added. While maintaining the temperature of this mixed solution at -6 ° C to 4 ° C, 105 parts of phosphorus oxychloride was added. The temperature of the reaction solution was returned to room temperature and stirred for 1 hour, and then the temperature of the reaction solution was raised to 60 ° C. and stirred for 3 hours. After allowing to cool, the reaction mixture was added to 1500 parts of ice water, and neutralized by adding a 48% aqueous sodium hydroxide solution while stirring. 500 parts of toluene was added to this, and the toluene layer was extracted. This toluene solution was washed with 1000 parts of water. Next, this toluene solution was washed with 1500 parts of a saturated aqueous sodium chloride solution. To this toluene solution, 25.0 parts of anhydrous magnesium sulfate was added and stirred, followed by filtration. The filtrate was evaporated to give a residue. This residue was purified by column chromatography to obtain 36.7 parts of a compound represented by the formula (pt6).
(Mass spectrometry) ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 278.2
Exact Mass: 277.2
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）８．２８部、式（ｐｔ６）で表される化合物１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．２５部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１３０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．１２部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に式（ｐｔ６）で表される化合物２２．５部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．４０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）９．２０部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−１９）で表される化合物８．７５部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ４６３．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ４６２．２
1.28 parts of 4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 15.0 parts of a compound represented by the formula (pt6), benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 25 parts, 130 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 6.12 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred at 120 ° C. for 3 hours. In this reaction solution, 22.5 parts of a compound represented by the formula (pt6), 3.40 parts of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.0 Parts and 9.20 parts of ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred at 120 ° C. for 12 hours. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent was distilled off and the residue was obtained. This residue was purified by column chromatography to obtain 8.75 parts of the compound represented by the formula (I-19).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 463.2
Exact Mass: 462.2
実施例６
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）８．０１部、２−ヒドロキシ−４−（ピロリジン−１−イル）ベンズアルデヒド（Chem. Commun.2011,47, 2435.に準じて合成した）１０．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．１８部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１２７部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）５．９１部を混合し、１２０℃で３時間攪拌した。この反応溶液に２−ヒドロキシ−４−（ピロリジン−１−イル）ベンズアルデヒド（Chem. Commun.2011,47, 2435.に準じて合成した）１５．０部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．３０部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）８．９０部を混合し、１２０℃で１２時間攪拌した。上記の反応液を室温まで冷却後、溶媒を留去し、残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−３９）で表される化合物６．５０部を得た。
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ＋： ｍ／ｚ＝[Ｍ＋Ｈ]＋ ３７７．１
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ３７６．１
Example 6
4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 8.01 parts, 2-hydroxy-4- (pyrrolidin-1-yl) benzaldehyde (Chem. Commun. 2011, 47, 2435. 10.0 parts, benzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 2.18 parts, 1-pentanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 127 parts and ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 5) parts were mixed and stirred at 120 ° C. for 3 hours. In this reaction solution, 15.0 parts of 2-hydroxy-4- (pyrrolidin-1-yl) benzaldehyde (synthesized according to Chem. Commun. 2011, 47, 2435.), benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) 3.30 parts, 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 8.90 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are mixed and stirred at 120 ° C. for 12 hours. did. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent was distilled off and the residue was obtained. This residue was purified by column chromatography to obtain 6.50 parts of a compound represented by formula (I-39).
(Mass Spectrometry) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 377.1
Exact Mass: 376.1
〔耐熱性評価〕
示差熱熱重量同時測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製 ＴＧ／ＤＴＡ６２００Ｒ）を用いて、実施例１〜実施例６でそれぞれ得られた化合物並びにクマリン６（東京化成工業（株）製）の示差走査熱量測定を行った。一回の測定に用いた試料量は５ｍｇであった。測定温度は、最初、２５℃から開始し、毎分１０℃の速度で昇温し、６００℃まで測定した。空気中において重量減少率が５％となる温度Ｔ５（空気下）、空気中において重量減少率が１０％となる温度Ｔ１０（空気下）、窒素雰囲気下において重量減少率が５％となる温度Ｔ５（窒素下）、および窒素雰囲気下において重量減少率が１０％となる温度Ｔ１０（窒素下）を求めた。結果を表１に示す。
[Heat resistance evaluation]
Differential scanning of the compounds obtained in Examples 1 to 6 and Coumarin 6 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) using a differential thermothermal gravimetric simultaneous measurement apparatus (TG / DTA6200R manufactured by SII Nanotechnology). Calorimetry was performed. The amount of sample used for one measurement was 5 mg. The measurement temperature was started from 25 ° C., heated at a rate of 10 ° C. per minute, and measured to 600 ° C. Temperature T5 (under air) at which the weight reduction rate is 5% in air, temperature T10 (under air) at which the weight reduction rate is 10% in air, and temperature T5 at which the weight reduction rate is 5% in nitrogen atmosphere (Under nitrogen) and a temperature T10 (under nitrogen) at which the weight loss rate was 10% in a nitrogen atmosphere were determined. The results are shown in Table 1.
実施例７
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）９．２１部、８−ヒドロキシジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１３．１部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．５１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１４５部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．８０部を混合し、１２０℃で３時間攪拌する。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．８０部、８−ヒドロキシジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１９．６部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌する。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得る。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−５）で表される化合物を得る。
4-amino-3-hydroxybenzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 9.21 parts, 8-hydroxyjulolidine-9-carboxaldehyde (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 13.1 parts, benzoic acid ( 2.51 parts of Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 145 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 6.80 parts of ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Stir for 3 hours at ° C. Ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.2 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.80 parts, 8-hydroxyjulolidine-9-carboxaldehyde (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 19.6 parts) and 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added and stirred at 120 ° C. for 12 hours. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent is distilled off with a rotary evaporator to obtain a residue. The residue is purified by column chromatography to obtain the compound represented by the formula (I-5).
実施例８
４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸（東京化成工業（株）製）９．２１部、８−ヒドロキシ−１，１，７，７−テトラメチルジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）１６．４部、安息香酸（東京化成工業（株）製）２．５１部、１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１４５部及びシアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）６．８０部を混合し、１２０℃で３時間攪拌する。シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）１０．２部、安息香酸（東京化成工業（株）製）３．８０部、８−ヒドロキシ−１，１，７，７−テトラメチルジュロリジン−９−カルボキシアルデヒド（東京化成工業（株）製）２４．７部及び１−ペンタノール（東京化成工業（株）製）１０．０部を加え、１２０℃で１２時間攪拌する。上記の反応液を室温まで冷却後、ロータリーエバポレーターで溶媒留去し、残渣を得る。この残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、式（Ｉ−７）で表される化合物を得る。
9.21 parts of 4-amino-3-hydroxybenzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 8-hydroxy-1,1,7,7-tetramethyljulolidine-9-carboxaldehyde (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 16.4 parts), benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 2.51 parts, 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 145 parts, and ethyl cyanoacetate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) Product) 6.80 parts are mixed and stirred at 120 ° C. for 3 hours. Ethyl cyanoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 10.2 parts, benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.80 parts, 8-hydroxy-1,1,7,7-tetramethyljulolidine- 24.7 parts of 9-carboxaldehyde (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 10.0 parts of 1-pentanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added and stirred at 120 ° C. for 12 hours. After cooling said reaction liquid to room temperature, the solvent is distilled off with a rotary evaporator to obtain a residue. The residue is purified by column chromatography to obtain the compound represented by the formula (I-7).
本発明の化合物は、熱的安定性が高いため、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタに用いられる染料として有用であり、利用可能である。 Since the compound of the present invention has high thermal stability, it is useful and usable as a dye used for a color filter of a display device such as a liquid crystal display device.
Claims (6)
Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表すか、Ｒ１及びＲ３が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、Ｒ２及びＲ４が結合して隣接するベンゼン環上の炭素原子および隣接する窒素原子とともに環を形成し、または、Ｒ１及びＲ２が結合して隣接する窒素原子とともに環を形成する。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］ A compound represented by formula (I).
R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R 1 and R 3 are bonded to each other and adjacent to the carbon atom on the adjacent benzene ring. To form a ring with the nitrogen atom to be bonded, and R 2 and R 4 are bonded to form a ring with the carbon atom on the adjacent benzene ring and the adjacent nitrogen atom, or R 1 and R 2 are bonded to be adjacent to each other Forms a ring with the nitrogen atom .
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。
Ｍは、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。］ A compound represented by the formula (II).
R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms .
M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom. ]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013068501A JP6186801B2 (en) | 2012-03-29 | 2013-03-28 | Compound |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012076379 | 2012-03-29 | ||
| JP2012076379 | 2012-03-29 | ||
| JP2013068501A JP6186801B2 (en) | 2012-03-29 | 2013-03-28 | Compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013227552A JP2013227552A (en) | 2013-11-07 |
| JP6186801B2 true JP6186801B2 (en) | 2017-08-30 |
Family
ID=49362724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013068501A Active JP6186801B2 (en) | 2012-03-29 | 2013-03-28 | Compound |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6186801B2 (en) |
| KR (1) | KR102022483B1 (en) |
| CN (1) | CN103360377B (en) |
| TW (1) | TWI551597B (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105777729A (en) * | 2016-05-31 | 2016-07-20 | 浙江工业大学 | Coumarin amides compound as well as preparation method and application of coumarin amides compound |
| WO2018150450A1 (en) * | 2017-02-14 | 2018-08-23 | コニカミノルタ株式会社 | Aminocoumarin compound, and aminocoumarin compound-containing resin particles |
| EP3553136A4 (en) * | 2017-02-14 | 2020-03-11 | Konica Minolta, Inc. | Aminocoumarin compound, and aminocoumarin compound-containing resin particles |
| JP7095603B2 (en) * | 2017-02-14 | 2022-07-05 | コニカミノルタ株式会社 | Fluorescent labeling method |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
2013
- 2013-03-27 KR KR1020130032696A patent/KR102022483B1/en active IP Right Grant
- 2013-03-27 CN CN201310102664.4A patent/CN103360377B/en active Active
- 2013-03-27 TW TW102111074A patent/TWI551597B/en active
- 2013-03-28 JP JP2013068501A patent/JP6186801B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103360377A (en) | 2013-10-23 |
| KR20130111376A (en) | 2013-10-10 |
| TWI551597B (en) | 2016-10-01 |
| JP2013227552A (en) | 2013-11-07 |
| TW201348230A (en) | 2013-12-01 |
| KR102022483B1 (en) | 2019-09-18 |
| CN103360377B (en) | 2017-09-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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