JP2007025328A - Photopolymerizable composition, photosensitive lithographic printing original plate, and method for making lithographic printing plate - Google Patents

Photopolymerizable composition, photosensitive lithographic printing original plate, and method for making lithographic printing plate Download PDF

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JP2007025328A JP2005208381A JP2005208381A JP2007025328A JP 2007025328 A JP2007025328 A JP 2007025328A JP 2005208381 A JP2005208381 A JP 2005208381A JP 2005208381 A JP2005208381 A JP 2005208381A JP 2007025328 A JP2007025328 A JP 2007025328A
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圭子 石代
Kimihiko Okubo
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable composition having high sensitivity and excellent in printing durability and storage stability, a photosensitive lithographic printing plate and a method for making a lithographic printing plate. <P>SOLUTION: The photopolymerizable composition contains an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing compound, a photoinitiator, a sensitizing dye and a bromine compound having a molecular weight of 500-2,000 represented by formula (1): R-(O(C=O)-CBr<SB>3</SB>)<SB>n</SB>, wherein R represents an alkyl group, an alkenyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group or a heterocyclic group, n is an integer of 1-4, and when n is 2-4, the molecular weight of the bromine compound represented by the formula is confined such that a numeric value obtained by dividing the molecular weight by the total number of tribromoacetyloxy groups in a molecule is made ≥500. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、感光性組成物及び感光性平版印刷版に関し、詳しくは高感度で耐刷性に優れる感光性組成物及び感光性平版印刷版に関するものである。   The present invention relates to a photosensitive composition and a photosensitive lithographic printing plate, and more particularly to a photosensitive composition and a photosensitive lithographic printing plate that have high sensitivity and excellent printing durability.

一般に、平版印刷版では画像露光後、露光部分を硬化させ、未露光部分を溶解除去した後、水洗処理、フィニッシャーガム処理を行い、平版印刷版を得ている。近年、高い解像力と鮮鋭性を得るため、画像情報に基づいてレーザー光によるデジタル露光を行った後、現像処理して平版印刷版を作製する方法が検討されている。その一例を挙げると、通信回線により伝送される画像信号や電子製版システム、画像処理システム等からの出力信号により露光光源を変調し、感光材料に直接走査露光を行って平版印刷版を作製するシステムである。   Generally, in a lithographic printing plate, after image exposure, an exposed portion is cured and an unexposed portion is dissolved and removed, followed by washing with water and finisher gum treatment to obtain a lithographic printing plate. In recent years, in order to obtain high resolving power and sharpness, a method for producing a lithographic printing plate by performing digital exposure with a laser beam based on image information and developing it has been studied. For example, a system for producing a lithographic printing plate by modulating an exposure light source by an image signal transmitted through a communication line, an output signal from an electronic plate making system, an image processing system, etc., and performing direct scanning exposure on a photosensitive material. It is.

しかし、従来型のジアゾ樹脂を用いる平版印刷版用材料では、デジタル露光によるレーザー光の発振波長に併せた分光増感法及び高感度化が困難であるという問題を抱えていた。近年、光重合開始剤を含有する光重合性の感光層を有した平版印刷版用材料が、レーザー光に適した高感度化が可能のためレーザー光によるデジタル露光向けに注目されてきている。このレーザー光源でデジタルデータを記録するCTP(Computer To Plate)用版材に対しては、記録時間短縮のために高感度であることが求められている。また、新聞印刷や、広告等の商業印刷をはじめとし、多くの印刷分野において、耐刷力のある版材が求められている。   However, a conventional lithographic printing plate material using a diazo resin has a problem that it is difficult to achieve spectral sensitization and high sensitivity in accordance with the oscillation wavelength of laser light by digital exposure. In recent years, a lithographic printing plate material having a photopolymerizable photosensitive layer containing a photopolymerization initiator has been attracting attention for digital exposure using laser light because it can achieve high sensitivity suitable for laser light. A CTP (Computer To Plate) plate material for recording digital data with this laser light source is required to have high sensitivity in order to shorten the recording time. In addition, printing materials having printing durability are required in many printing fields including newspaper printing and commercial printing such as advertisements.

高感度化を達成するために、光ラジカル重合を利用する手段が古くから検討されており、光重合開始剤としてトリクロロメチル基を有するs−トリアジン化合物を使用すること(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3参照。)、光重合開始剤として鉄アレーン錯体化合物と過酸化物を使用すること(例えば、特許文献4を参照。)、光重合開始剤としてモノアルキルトリアリールボレート化合物を使用すること(例えば、特許文献5、特許文献6、特許文献7を参照。)、光重合開始剤としてチタノセン化合物を使用すること(例えば、特許文献8、特許文献9を参照。)等が提案されていた。しかしながら、これらの技術では感度が不十分であった。   In order to achieve high sensitivity, means utilizing photo radical polymerization has been studied for a long time, and the use of an s-triazine compound having a trichloromethyl group as a photopolymerization initiator (for example, Patent Document 1, Patent Reference 2 and Patent Reference 3), use of iron arene complex compound and peroxide as photopolymerization initiator (for example, refer to Patent Document 4), monoalkyltriarylborate compound as photopolymerization initiator. Use (for example, refer to Patent Document 5, Patent Document 6, and Patent Document 7), use of a titanocene compound as a photopolymerization initiator (for example, refer to Patent Document 8 and Patent Document 9), etc. are proposed. It had been. However, these techniques have insufficient sensitivity.

一方、感度改善を目的として、モノマー(付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体)構造中に3級アミノ基を導入し、トリハロゲン化メチル−s−トリアジン化合物等を併用する技術(例えば、特許文献10を参照。)、モノマー(付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体)構造中に3級アミノ基を導入し、トリハロゲン化メチル−s−トリアジン化合物に加え、チタノセン等のメタロセン化合物を併用する技術(例えば、特許文献11参照。)等が提案されたが、これらの技術では感度の改善が見られたものの耐刷力が不十分であった。   On the other hand, for the purpose of improving sensitivity, a technique in which a tertiary amino group is introduced into a monomer (addition polymerizable ethylenic double bond-containing monomer) structure and a trihalogenated methyl-s-triazine compound is used in combination ( For example, see Patent Document 10), a tertiary amino group is introduced into the monomer (ethylenic double bond-containing monomer capable of addition polymerization) structure, and in addition to the trihalogenated methyl-s-triazine compound, titanocene Techniques using metallocene compounds such as these (for example, see Patent Document 11) have been proposed. However, although these techniques have improved sensitivity, the printing durability is insufficient.

さらに耐刷力改善を目的として、光重合開始剤組成物に臭素化合物を併用する技術(特許文献11を参照)が提案されているが、未だ保存性が不十分であった。   Furthermore, for the purpose of improving printing durability, a technique (see Patent Document 11) in which a bromine compound is used in combination with a photopolymerization initiator composition has been proposed, but the storage stability is still insufficient.

そこでさらにこれらの臭素化合物を種々検討したところ、驚くべきことに、特定構造を有し、ある特定の範囲の分子量を有する臭素化合物を併用することにより感度および対刷性、保存性に優れた光重合組成物を得られるに至った。
特開昭48−36281号公報 特開昭54−74887号公報 特開昭64−35548号公報 特開昭59−219307号公報 特開昭62−150242号公報 特開昭62−143044号公報 特開昭64−35548号公報 特開昭63−41483号公報 特開平2−291号公報 特開平1−105238号公報 特開平2−127404号公報
Therefore, when various studies were made on these bromine compounds, surprisingly, light having excellent sensitivity, printability, and storage stability was obtained by using a bromine compound having a specific structure and having a specific range of molecular weight. A polymer composition was obtained.
Japanese Patent Laid-Open No. 48-36281 JP 54-74887 A JP-A 64-35548 JP 59-219307 A Japanese Patent Laid-Open No. Sho 62-150242 JP-A-62-143044 JP-A 64-35548 JP 63-41483 A JP-A-2-291 JP-A-1-105238 JP-A-2-127404

本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、高感度でかつ耐刷性及び保存性に優れた光重合性組成物、感光性平版印刷版および平版印刷版の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to provide a photopolymerizable composition, a photosensitive lithographic printing plate, and a method for producing a lithographic printing plate that are highly sensitive and excellent in printing durability and storage stability. It is to provide.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
付加重合可能なエチレン性二重結合含有化合物、光重合開始剤、増感色素及び下記一般式(1)で表される分子量500〜2000の臭素化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。
(Claim 1)
A photopolymerizable composition comprising an ethylenic double bond-containing compound capable of addition polymerization, a photopolymerization initiator, a sensitizing dye, and a bromine compound having a molecular weight of 500 to 2000 represented by the following general formula (1): object.

一般式(1) R−(O(C=O)−CBr3)n
〔式中、Rはアルキル基、アルケニル基、脂環式炭化水素基、アリール基、複素環基を表す。nは1〜4の整数である。ただしnが2〜4の場合、前記一般式(1)で表される臭素化合物の分子量は分子内のトリブロモアセチルオキシ基の総数で除した数値が500以上である。〕
(請求項2)
前記光重合性組成物に光重合開始剤として鉄アレーン化合物またはチタノセン化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の光重合性組成物。
Formula (1) R- (O (C = O) -CBr 3) n
[Wherein, R represents an alkyl group, an alkenyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group, or a heterocyclic group. n is an integer of 1-4. However, when n is 2 to 4, the molecular weight of the bromine compound represented by the general formula (1) is 500 or more divided by the total number of tribromoacetyloxy groups in the molecule. ]
(Claim 2)
The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition contains an iron arene compound or a titanocene compound as a photopolymerization initiator.

(請求項3)
下記一般式(2)で表される増感色素を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光重合性組成物。
(Claim 3)
The photopolymerizable composition according to claim 1 or 2, comprising a sensitizing dye represented by the following general formula (2).

Figure 2007025328
Figure 2007025328

〔式中、R1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表し、Ra及びRbは各々アルキル基を表し、Xは置換基を表す。〕
(請求項4)
支持体上に請求項1〜3の何れか1項に記載の光重合性組成物を含有する光重合性感光層を含有することを特徴とする感光性平版印刷版原版。
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, R a and R b each represent an alkyl group, and X represents a substituent. ]
(Claim 4)
A photosensitive lithographic printing plate precursor comprising a photopolymerizable photosensitive layer containing the photopolymerizable composition according to any one of claims 1 to 3 on a support.

(請求項5)
請求項4に記載の感光性平版印刷版原版に350〜450nmの波長のレーザー光源で像様に走査記録して製造することを特徴とする平版印刷版の製造方法。
(Claim 5)
A method for producing a lithographic printing plate, comprising producing the photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 4 by scanning and recording imagewise with a laser light source having a wavelength of 350 to 450 nm.

本発明により、高感度でかつ耐刷性及び保存性に優れた光重合性組成物及び感光性平板印刷版および平版印刷版の製造方法を提供することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a photopolymerizable composition having high sensitivity and excellent printing durability and storage stability, and a method for producing a photosensitive lithographic printing plate and a lithographic printing plate.

以下に本発明の光重合性組成物の詳細について説明する。   Details of the photopolymerizable composition of the present invention will be described below.

先ず、前記一般式(1)で表される臭素化合物について説明する。   First, the bromine compound represented by the general formula (1) will be described.

一般式(1)で表される臭素化合物は分子量が500以上2000以下であり、nが2〜4の整数の場合は、該臭素化合物の分子量は分子内のトリブロモアセチルオキシ基の総数で除した数値であり、500以上である。   The bromine compound represented by the general formula (1) has a molecular weight of 500 or more and 2000 or less, and when n is an integer of 2 to 4, the molecular weight of the bromine compound is divided by the total number of tribromoacetyloxy groups in the molecule. Which is 500 or more.

Rで表される置換基としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ステアリル基、ベヘニル基、2−メチルミリスチル基、2−オクチルドデシル基、等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、ヘキサデセニル基、オレイル基、エイコセニル基等)、脂環式炭化水素基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、アダマンチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)が挙げられる。   Examples of the substituent represented by R include an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, pentadecyl group, stearyl group, Behenyl group, 2-methylmyristyl group, 2-octyldodecyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group, hexadecenyl group, oleyl group, eicosenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group (eg, cyclohexane) Propyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, adamantyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), complex A ring group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, A diyl group, a pyrimidyl group, a pyrazyl group, a triazyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a thiazolyl group, a benzoimidazolyl group, a benzoxazolyl group, a quinazolyl group, a phthalazyl group, a pyrrolidyl group, an imidazolidyl group, a morpholyl group, an oxazolidyl group, etc. Can be mentioned.

Rで表される置換基はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基、アルケニル基、脂肪族炭化水素基、アリール基、複素環基、アルキニル基(エチニル、プロパルギル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、等が挙げられる。Rはさらに縮合環を有していても良い。   The substituent represented by R may further have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkynyl group (ethynyl, propargyl, etc.). ), Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy groups (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.) , Aryloxy groups (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio groups (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio groups (for example, Cyclopentylthio group, cyclohexylthio group ), Arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxy Carbonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group) Octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.) Acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyloxy group , Ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonyl) Amino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, Decylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group) Octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentyl) Ureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminourei Group), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.) Alkylsulfonyl groups (eg, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl groups (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridyl group) Sulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino) , Dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl) Group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.) , Etc. R may further have a condensed ring.

Rで表される置換基のうち、アルキル基、アルケニル基、脂環式炭化水素基が好ましい。   Of the substituents represented by R, an alkyl group, an alkenyl group, and an alicyclic hydrocarbon group are preferable.

以下、一般式(1)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。また不斉炭素中心が存在する化合物である場合は、R体/S体のいずれでも良く、また両者の混合物でも良い。   Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (1) is given, this invention is not limited to these. When the compound has an asymmetric carbon center, it may be either R-form / S-form, or a mixture of both.

Figure 2007025328
Figure 2007025328

Figure 2007025328
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Figure 2007025328
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これら一般式(1)で表される臭素化合物の配合量は特に限定されないが、好ましくは、光重合性組成物100質量部に対して0.1〜20質量部である。   Although the compounding quantity of the bromine compound represented by these General formula (1) is not specifically limited, Preferably, it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of photopolymerizable compositions.

本発明に係る一般式(1)で表される臭素化合物と好ましく併用できる光重合開始剤について説明する。   The photopolymerization initiator that can be preferably used in combination with the bromine compound represented by the general formula (1) according to the present invention will be described.

光重合開始剤としては、ハロゲン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチルトリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、過酸化物、鉄アレーン化合物、チタノセン化合物などが挙げられる。   Photopolymerization initiators include halides (α-haloacetophenones, trichloromethyltriazines, etc.), azo compounds, aromatic carbonyl compounds (benzoin esters, ketals, acetophenones, o-acyloxyiminoketones, acylphosphines) Oxides), hexaarylbisimidazole compounds, peroxides, iron arene compounds, titanocene compounds, and the like.

過酸化物としては、特開昭59−1504号ならびに同61−240807号記載の有機過酸化物を用いることができる。具体的な化合物としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類;アセチルパーオキサイド、プロピオニルパーオキサイド、i−ブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、アセチルシクロヘキサンスルホニルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類;t−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジ−i−プロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、p−メタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド等のヒドロパーオキサイド類;ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、1,3−ビス(t−ブチルパーオキシ−i−プロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチル)パーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−4,4′−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類;t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ−i−ブチレート、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルパーオキシフタレート、t−ブチルパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジベンゾイルパーオキシヘキサン等のアルキルパーエステル類;ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−i−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ジーメトキシ−i−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ビス−(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類;琥珀酸パーオキサイドに代表される水溶性パーオキサイド類が挙げられる。   As the peroxide, organic peroxides described in JP-A Nos. 59-1504 and 61-240807 can be used. Specific compounds include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide; Oxide, propionyl peroxide, i-butyl peroxide, octanoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, decanoyl peroxide, uraroyl peroxide, benzoyl peroxide, benzoyl peroxide, p-chloro Benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, acetylcyclohexanesulfonyl peroxide Diacyl peroxides such as t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, di-i-propylbenzene hydroperoxide, p-methane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide Hydroperoxides such as 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide; di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 1,3-bis (t-butylperoxy-i -Propyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyl) peroxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, butyl-4,4'-bis (t-butylperoxy) butane, etc. Peroxyketals; t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxy-i-butyle T-butyl peroxyoctoate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxyneodecanate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxybenzoate Alkyl peresters such as di-t-butylperoxyphthalate, t-butylperoxyisophthalate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-dibenzoylperoxyhexane; 2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-i-propyl peroxydicarbonate, di-sec-butyl peroxycarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, dimethoxy-i-propyl peroxydicarbonate, di-3-methoxybutyl Peroxydicarbonate, di-2-e Examples include peroxycarbonates such as toxiethylperoxydicarbonate and bis- (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate; water-soluble peroxides typified by oxalic acid peroxide.

好ましくは、下記構造の有機過酸化物を用いることができる。   Preferably, an organic peroxide having the following structure can be used.

Figure 2007025328
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本発明で好ましく用いることができる鉄アレーン化合物とは、芳香族炭化水素化合物又は芳香族複素環化合物又は不飽和化合物のπ電子と鉄イオンとがπ結合した化合物であり、特に限定されないが、例えば下記構造のものが挙げられる。   The iron arene compound that can be preferably used in the present invention is a compound in which a π electron of an aromatic hydrocarbon compound, an aromatic heterocyclic compound or an unsaturated compound and an iron ion are π-bonded, and is not particularly limited. The thing of the following structure is mentioned.

Figure 2007025328
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本発明で好ましく用いることができるチタノセン化合物としては、特に限定されないが、例えば特開昭59−152396号、同61−151197号等に記載される各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。更に具体的には、ジシクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジメチルペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル(以下、Ti−1と言う)が挙げられる。これらの中で特に好ましいものは、下記の構造であるTi−1である。   The titanocene compound that can be preferably used in the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected from various titanocene compounds described in, for example, JP-A Nos. 59-152396 and 61-151197. More specifically, dicyclopentadienyl-Ti-dichloride, dicyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluoro Pheni-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoro Phen-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, dimethylpenta Dienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, dimethylpentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1- Dimethylpentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) -pheny 1-yl (hereinafter referred to as Ti-1) may be mentioned. Among these, Ti-1 having the following structure is particularly preferable.

Figure 2007025328
Figure 2007025328

光重合開始剤として、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、スタンノニウム塩などのオニウム塩を用いることができる。即ち、特公昭55−39162号、特開昭59−14023号及び「マクロモレキュルス(Macromolecules),第10巻,1307頁(1977年)」記載の各種オニウム化合物を用いることができる。ヨードニウム塩としては、ジアリールヨードニウム塩を用いることも好ましい。   As the photopolymerization initiator, onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and stannonium salts can be used. That is, various onium compounds described in JP-B-55-39162, JP-A-59-14023, and “Macromolecules, Vol. 10, page 1307 (1977)” can be used. As the iodonium salt, it is also preferable to use a diaryl iodonium salt.

又、オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、ジトリルヨードニウム塩、フェニル(p−メトキシフェニル)ヨードニウム塩、ビス(m−ニトロフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−t−ブチルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−シアノフェニル)ヨードニウム塩等のクロリド、ブロマイド、四弗化硼素塩、六弗化硼素塩、六弗化燐塩、六弗化砒素塩、六弗化アンチモン塩、過塩素酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、p−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩、ブチルトリフェニル硼素塩等も挙げられる。   Examples of the onium salt include diphenyliodonium salt, ditolyliodonium salt, phenyl (p-methoxyphenyl) iodonium salt, bis (m-nitrophenyl) iodonium salt, bis (pt-butylphenyl) iodonium salt, bis ( p-cyanophenyl) iodonium salts such as chloride, bromide, boron tetrafluoride, boron hexafluoride, phosphorus hexafluoride, arsenic hexafluoride, antimony hexafluoride, perchlorate, benzenesulfone Acid salts, p-toluene sulfonate, p-trifluoromethylbenzene sulfonate, butyl triphenyl boron salt and the like are also included.

本発明では2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体も用いることができる。特開昭55−127550号、同60−202437号に記載される下記の構造のものが好ましい。   In the present invention, 2,4,5-triarylimidazole dimer can also be used. The following structures described in JP-A Nos. 55-127550 and 60-202437 are preferable.

Figure 2007025328
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これら光重合開始剤の配合量は特に限定されないが、好ましくは、光重合性組成物100質量部に対して0.1〜20質量部である。一般式(1)で表される臭素化合物と光重合開始剤の配合比率は、モル比で1:100〜100:1の範囲が好ましい。   Although the compounding quantity of these photoinitiators is not specifically limited, Preferably, it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of photopolymerizable compositions. The blending ratio of the bromine compound represented by the general formula (1) and the photopolymerization initiator is preferably in the range of 1: 100 to 100: 1 in terms of molar ratio.

(増感色素)
光源にレーザー光を用いる場合、好ましくは感光層に分光増感色素を添加する。光源の波長付近に吸収極大波長を有する色素を用いることが好ましい。
(Sensitizing dye)
When laser light is used as the light source, a spectral sensitizing dye is preferably added to the photosensitive layer. It is preferable to use a dye having an absorption maximum wavelength in the vicinity of the wavelength of the light source.

可視光から近赤外まで波長増感させる化合物としては、例えばシアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、クマリン誘導体、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体等、ケトアルコールボレート錯体が挙げられ、更に欧州特許568,993号明細書、米国特許4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001−125255号公報、特開平11−271969号公報等に記載の化合物も用いられる。   Examples of compounds for wavelength sensitization from visible light to near infrared include cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenyl Ketone alcohol borate complexes such as methane, polymethine acridine, coumarin, coumarin derivatives, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, etc. Further, European Patent No. 568,993, U.S. Pat. No. 4,508,811, No. 5,227,227, JP-A-2001-1252. 5 discloses, compounds described in JP-A 11-271969 Patent Publication also used.

次に、本発明に用いられる一般式(1)で表される臭素化合物および光重合開始剤を併用することにより好ましい効果を得ることができる350nm以上450nm以下に吸収極大を有する色素としては、特開2000−98605号公報、特開2000−147763号公報、特開2000−206690公報、特開2000−258910公報、特開2001−42524公報、特開2001−100412公報、特開2005−18012号公報等に記載されている色素が好ましい。更に好ましくは、前記一般式(2)で表される色素である。   Next, the combination of the bromine compound represented by the general formula (1) and the photopolymerization initiator used in the present invention can obtain a preferable effect, and the dye having an absorption maximum at 350 nm or more and 450 nm or less includes JP 2000-98605, JP 2000-147663, JP 2000-206690, JP 2000-258910, JP 2001-42524, JP 2001-100412, JP 2005-18012. Etc. are preferred. More preferably, it is a dye represented by the general formula (2).

一般式(2)において、R1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表す。置換基としては前述の一般式(1)におけるRで表される基に置換可能な基と同様の基が挙げられる。これらの置換基は、上記の置換基によって更に置換されてもよい。又、R1、R2、R3、R4のうち隣接する複数の基が互いに結合して環を形成してもよい。 In the general formula (2), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the same groups as those that can be substituted for the group represented by R in the general formula (1). These substituents may be further substituted with the above substituents. A plurality of adjacent groups out of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.

1〜R4としては水素原子、アルキル基、アシル基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基、アルコキシカルボニル基、シアノ基が好ましく、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、フッ化炭化水素基である。 R 1 to R 4 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group, a halogen atom, a fluorinated hydrocarbon group, an alkoxycarbonyl group or a cyano group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a fluorinated hydrocarbon group. .

a及びRbは各々アルキル基を表す。これらはさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては具体的には前述のRで表される置換基と同様の基が挙げられる。またRaとRbが互いに結合して環を形成しても良い。 R a and R b each represents an alkyl group. These may further have a substituent, and specific examples of the substituent include the same groups as the substituents represented by R described above. R a and R b may be bonded to each other to form a ring.

Xで表される置換基としては、具体的には前述のRで表される置換基と同様の基が挙げられる。好ましくはアリール基、複素環基、カルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは複素環基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基であり、さらに好ましくはアルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基である。   Specific examples of the substituent represented by X include the same groups as the substituents represented by R described above. An aryl group, a heterocyclic group, a carbonyl group, an alkyloxycarbonyl group, a cycloalkyloxycarbonyl group, and a carbamoyl group are preferable, a heterocyclic group, an alkyloxycarbonyl group, and a cycloalkyloxycarbonyl group are more preferable. Are an alkyloxycarbonyl group and a cycloalkyloxycarbonyl group.

以下、一般式(2)で表される増感色素の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。またこれらに複数の不斉炭素中心が存在する化合物である場合は、R体/S体のいずれでも良く、また両者の混合物でも良い。   Hereinafter, although the specific example of a sensitizing dye represented by General formula (2) is given, this invention is not limited to these. Further, when these are compounds having a plurality of asymmetric carbon centers, they may be either R-form / S-form, or a mixture of both.

Figure 2007025328
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Figure 2007025328
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これら増感色素の配合量は特に限定されないが、好ましくは、光重合性組成物100質量部に対して0.01〜50質量部、更に好ましくは0.1〜30質量部である。   Although the compounding quantity of these sensitizing dyes is not specifically limited, Preferably, it is 0.01-50 mass parts with respect to 100 mass parts of photopolymerizable compositions, More preferably, it is 0.1-30 mass parts.

本発明の光重合性組成物には付加重合可能なエチレン性二重結合含有化合物を含有することが好ましい。   The photopolymerizable composition of the present invention preferably contains an ethylenic double bond-containing compound capable of addition polymerization.

本発明の付加重合可能なエチレン性二重結合を有する化合物には、一般的なラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類を用いることができる。該化合物に限定は無いが、好ましいものとして、例えば2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、又はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル;例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル類、又はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル;例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、又はこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。   The compound having an ethylenic double bond capable of addition polymerization according to the present invention includes an ethylenic double bond capable of addition polymerization in a molecule generally used in general radical polymerizable monomers and UV curable resins. Plural polyfunctional monomers and polyfunctional oligomers can be used. The compound is not limited, but preferred examples thereof include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl acrylate, tetrahydrofurfur. Monofunctional acrylic esters such as furyloxyhexanolide acrylate, acrylate of ε-caprolactone adduct of 1,3-dioxane alcohol, 1,3-dioxolane acrylate, or these acrylates into methacrylate, itaconate, crotonate, maleate Alternative methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester; for example, ethylene glycol diacrylene , Triethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, hydroquinone diacrylate, resorcin diacrylate, hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipentylate of hydroxypentylate neopentyl glycol, neopentyl Diacrylate of glycol adipate, Diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-hydroxymethyl-5-ethyl-1,3- Dioxane diacrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate, ε-caprolactone adduct of tricyclodecane dimethylol acrylate, 1 Difunctional acrylates such as diacrylate of diglycidyl ether of 6-hexanediol, or methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate; Methylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Ε-caprolactone adduct, pyrogallol triacrylate, Polyfunctional acrylic acid esters such as lopionic acid / dipentaerythritol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetraacrylate, hydroxypivalylaldehyde-modified dimethylolpropane triacrylate, or these acrylates to methacrylate, itaconate, crotonate, maleate Examples thereof include methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester and the like.

又、プレポリマーも上記同様に使用することができる。プレポリマーとしては、後述する様な化合物等が挙げることができ、又、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。これらプレポリマーは、1種又は2種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び/又はオリゴマーと混合して用いてもよい。   Prepolymers can also be used as described above. Examples of the prepolymer include compounds as described below, and a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be suitably used. These prepolymers may be used alone or in combination of two or more, and may be used by mixing with the above-mentioned monomers and / or oligomers.

プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、琥珀酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価アルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類;例えばビスフェノールA・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類;例えばエチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したウレタンアクリレート;例えばポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類;その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げられる。   Examples of prepolymers include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, glutaric acid, pimelic acid, Polybasic acids such as sebacic acid, dodecanoic acid, tetrahydrophthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, propylene oxide, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, trimethylol Polyester acrylate in which (meth) acrylic acid is introduced into a polyester obtained by combining polyhydric alcohols such as propane, pentaerythritol, sorbitol, 1,6-hexanediol, 1,2,6-hexanetriol For example, bisphenol A, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid, and epoxy acrylates in which (meth) acrylic acid is introduced into an epoxy resin, such as phenol novolac, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid; ethylene glycol, adipic acid, Tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl phthalyl methacrylate, xylene diisocyanate, 1,2-polybutadiene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, tri Like methylolpropane, propylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, Urethane acrylate in which (meth) acrylic acid is introduced into a urethane resin; for example, silicone resin acrylates such as polysiloxane acrylate, polysiloxane diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate; and other (meth) acryloyl groups are introduced into oil-modified alkyd resins And prepolymers such as alkyd-modified acrylates and spirane resin acrylates.

本発明の感光性組成物には、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸EO(エチレンオキシド)変性ジアクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを含有することができる。   The photosensitive composition of the present invention includes a phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified diacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trimethylolpropane benzoic acid benzoate. Addition-polymerizable oligomers and prepolymers having monomers such as acid esters, alkylene glycol type acrylic acid-modified, urethane-modified acrylates, and structural units formed from the monomers can be contained.

更に、本発明に併用可能なエチレン性単量体として、少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を含有する燐酸エステル化合物が挙げられる。該化合物は、燐酸の水酸基の少なくとも一部がエステル化された化合物であり、しかも、(メタ)アクリロイル基を有する限り特に限定はされない。   Furthermore, examples of the ethylenic monomer that can be used in combination with the present invention include a phosphoric ester compound containing at least one (meth) acryloyl group. The compound is not particularly limited as long as it is a compound in which at least part of the hydroxyl group of phosphoric acid is esterified and has a (meth) acryloyl group.

その他に、特開昭58−212994号、同61−6649号、同62−46688号、同62−48589号、同62−173295号、同62−187092号、同63−67189号、特開平1−244891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化合物なども好適に用いることができる。これらの中で、分子内に二つ以上のアクリル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ましくは5,000以下のものが望ましい。   In addition, JP 58-212994, 61-6649, 62-46688, 62-48589, 62-173295, 62-187092, 63-67189, JP-A-1 The compounds described in No. 244891 etc. can be mentioned, and further, “11290 Chemical Products”, Chemical Industry Daily, pages 286-294, “UV / EB Curing Handbook (Raw Materials)” Polymer Publication The compounds described in Kaikai, pages 11 to 65 can also be suitably used. Among these, compounds having two or more acrylic groups or methacryl groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are desirable.

又、本発明では、分子内に3級アミノ基を含有する付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体を使用することが好ましい。構造上の限定は特に無いが、水酸基を有する三級アミン化合物を、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸クロリド、アクリル酸クロリド等で変性したものが好ましく用いられる。具体的には、特開平1−165613号、同1−203413号記載の重合可能な化合物等が好ましく用いられる。   In the present invention, it is preferable to use an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer containing a tertiary amino group in the molecule. Although there is no particular limitation on the structure, a tertiary amine compound having a hydroxyl group modified with glycidyl methacrylate, methacrylic acid chloride, acrylic acid chloride or the like is preferably used. Specifically, polymerizable compounds described in JP-A-1-165613 and 1-203413 are preferably used.

更に本発明では、分子内に3級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物を使用することが好ましい。   Further, in the present invention, a reaction product of a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule is used. Is preferred.

ここで言う、分子内に3級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノ−ルアミン、N−ブチルジエタノールアミン、N−t−ブチルジエタノ−ルアミン、N,N−ジ(ヒドロキシエチル)アニリン、N,N,N′,N′−テトラ−2−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン、p−トリルジエタノ−ルアミン、N,N,N′,N′−テトラ−2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、アリルジエタノールアミン、3−(ジメチルアミノ)−1,2−プロパンジオール、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオ−ル、N,N−ジ(プロピル)アミノ−2,3−プロパンジオール、N,N−ジ(i−プロピル)アミノ−2,3−プロパンジオール、3−(N−メチル−N−ベンジルアミノ)−1,2−プロパンジオ−ル等が挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule include triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-butyldiethanolamine, Nt-butyldiethanolamine, N, N-di (hydroxyethyl) aniline, N, N, N ', N'-tetra-2-hydroxypropylethylenediamine, p-tolyldiethanolamine, N, N, N', N'-tetra-2-hydroxyethylethylenediamine N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline, allyldiethanolamine, 3- (dimethylamino) -1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, N, N-di ( Propyl) amino-2,3-propanediol, N, N-di (i-propyl) Amino-2,3-propanediol, 3- (N-methyl--N- benzylamino) -1,2-propanediol - but Le etc., without limitation.

ジイソシアネート化合物としては、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサン−1,6−ジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、オクタン−1,8−ジイソシアネート、1,3−ジイソシアナートメチル−シクロヘキサノン、2,2,4−トリメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,2−フェニレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレン−2,4−ジイソシアネート、トリレン−2,5−ジイソシアネート、トリレン−2,6−ジイソシアネート、1,3−ジ(イソシアナートメチル)ベンゼン、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン等が挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the diisocyanate compound include butane-1,4-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, octane-1,8-diisocyanate, 1,3-diisocyanate methyl-cyclohexanone. 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,2-phenylene diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene- 2,5-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene, 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene, and the like. In Not a constant.

分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物としては、下記MH−1〜MH−13等の化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule include the following compounds such as MH-1 to MH-13, but are not limited thereto.

Figure 2007025328
Figure 2007025328

好ましくは、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピレン−1,3−ジメタクリレート、2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート等が挙げられる。   Preferable examples include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate, 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate, and the like.

これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシアネート化合物、ヒドロキシル基含有アクリレート化合物の反応で、ウレタンアクリレートを合成する方法と同様に行うことが出来る。   These reactions can be carried out in the same manner as a method for synthesizing urethane acrylate by a reaction of a normal diol compound, diisocyanate compound, and hydroxyl group-containing acrylate compound.

これらの分子内に3級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、及び分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物の具体例を以下に示す。   Specific examples of reaction products of polyhydric alcohols containing a tertiary amino group in the molecule, diisocyanate compounds, and compounds containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule are shown below. .

M−1:トリエタノールアミン/ヘキサン−1,6−ジイソシアネート/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(1/3/3モル)の反応生成物
M−2:トリエタノールアミン/イソホロンジイソシアネート/2−ヒドロキシエチルアクリレート(1/3/3モル)の反応生成物
M−3:N−ブチルジエタノ−ルアミン/1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン/2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート(1/2/2モル)の反応生成物
M−4:N−ブチルジエタノ−ルアミン/1,3−ジ(イソシアナートメチル)ベンゼン/2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート(1/2/2モル)の反応生成物
M−5:N−メチルジエタノールアミン/トリレン−2,4−ジイソシアネート/2−ヒドロキシプロピレン−1,3−ジメタクリレート(1/2/2モル)の反応生成物
この他にも、特開平1−105238号、同2−127404号記載のアクリレート又はアルキルアクリレートを用いることが出来る。
M-1: Reaction product of triethanolamine / hexane-1,6-diisocyanate / 2-hydroxyethyl methacrylate (1/3/3 mol) M-2: triethanolamine / isophorone diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate ( 1/3/3 mol) of reaction product M-3: N-butyldiethanolamine / 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene / 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3- Reaction product of acrylate (1/2/2 mol) M-4: N-butyldiethanolamine / 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene / 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate (1 / 2/2 mol) of reaction product M-5: N-methyldiethanolamine / tolylene- Reaction product of 2,4-diisocyanate / 2-hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate (1/2/2 mol) Besides these, acrylates described in JP-A-1-105238 and JP-A-2-127404 Alkyl acrylate can be used.

本発明の光重合性組成物には、前記一般式(1)の臭素化合物、前記光重合開始剤、前記一般式(2)の増感色素、前記エチレン性二重結合含有化合物に加えて高分子結合材を含有していてもよい。   The photopolymerizable composition of the present invention includes a bromine compound of the general formula (1), the photopolymerization initiator, a sensitizing dye of the general formula (2), and the ethylenic double bond-containing compound. A molecular binder may be contained.

この高分子結合材としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等も使用できる。又、これらを2種以上併用しても構わない。好ましくはアクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合体である。   Examples of the polymer binder include acrylic polymer, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, and other natural resins. Can also be used. Two or more of these may be used in combination. A vinyl copolymer obtained by copolymerization of acrylic monomers is preferred.

更に、高分子結合材の共重合組成として、(a)カルボキシル基含有モノマー、(b)メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの共重合体であることが好ましい。   Furthermore, the copolymer composition of the polymer binder is preferably a copolymer of (a) a carboxyl group-containing monomer, (b) a methacrylic acid alkyl ester or an acrylic acid alkyl ester.

カルボキシル基含有モノマーの具体例としては、α,β−不飽和カルボン酸類、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。その他、フタル酸と2−ヒドロキシメタクリレートのハーフエステル等のカルボン酸も好ましい。   Specific examples of the carboxyl group-containing monomer include α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride and the like. In addition, carboxylic acids such as phthalic acid and 2-hydroxymethacrylate half ester are also preferable.

メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル等の無置換アルキルエステルの他、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル等の環状アルキルエステルや、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等の置換アルキルエステルも挙げられる。   Specific examples of alkyl methacrylates and alkyl esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate. , Decyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic In addition to unsubstituted alkyl esters such as decyl acid, undecyl acrylate and dodecyl acrylate, cyclic alkyl esters such as cyclohexyl methacrylate and cyclohexyl acrylate Substituted alkyl esters such as benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, and glycidyl acrylate Also mentioned.

更に、本発明の高分子結合材は、他の共重合モノマーとして、下記(1)〜(14)に記載のモノマー等を用いることが出来る。   Furthermore, in the polymer binder of the present invention, monomers described in the following (1) to (14) can be used as other copolymerization monomers.

1)芳香族水酸基を有するモノマー:例えばo−(又はp−,m−)ヒドロキシスチレン、o−(又はp−,m−)ヒドロキシフェニルアクリレート等。   1) Monomers having an aromatic hydroxyl group: for example, o- (or p-, m-) hydroxystyrene, o- (or p-, m-) hydroxyphenyl acrylate, and the like.

2)脂肪族水酸基を有するモノマー:例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。   2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group: For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate , 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.

3)アミノスルホニル基を有するモノマー:例えばm−(又はp−)アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−(又はp−)アミノスルホニルフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。   3) Monomer having an aminosulfonyl group: for example, m- (or p-) aminosulfonylphenyl methacrylate, m- (or p-) aminosulfonylphenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p -Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.

4)スルホンアミド基を有するモノマー:例えばN−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。   4) Monomers having a sulfonamide group: N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.

5)アクリルアミド又はメタクリルアミド類:例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ニトロフェニル)アクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。   5) Acrylamide or methacrylamide: For example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (4-nitrophenyl) acrylamide, N-ethyl-N- Phenylacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.

6)弗化アルキル基を含有するモノマー:例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。   6) Monomers containing fluorinated alkyl groups: for example, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N- Butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.

7)ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。   7) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like.

8)ビニルエステル類:例えばビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。   8) Vinyl esters: For example, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.

9)スチレン類:例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。   9) Styrenes: For example, styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.

10)ビニルケトン類:例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。   10) Vinyl ketones: For example, methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.

11)オレフィン類:例えばエチレン、プロピレン、i−ブチレン、ブタジエン、イソプレン等。   11) Olefins: For example, ethylene, propylene, i-butylene, butadiene, isoprene and the like.

12)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。   12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.

13)シアノ基を有するモノマー:例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート、o−(又はm−,p−)シアノスチレン等。   13) Monomers having a cyano group: for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o- (or m-, p-) cyanostyrene, and the like.

14)アミノ基を有するモノマー:例えばN,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−i−プロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。   14) A monomer having an amino group: for example, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, Ni-propylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.

更に、これらのモノマーと共重合し得る他のモノマーを共重合してもよい。   Furthermore, other monomers that can be copolymerized with these monomers may be copolymerized.

更に、上記ビニル系共重合体の分子内に存在するカルボキシル基に、分子内に(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物を付加反応させることによって得られる、不飽和結合含有ビニル系共重合体も高分子結合材として好ましい。分子内に不飽和結合とエポキシ基を共に含有する化合物としては、具体的にはグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、特開平11−271969号に記載されるエポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。   Furthermore, an unsaturated bond-containing vinyl copolymer obtained by addition-reacting a compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group in the molecule to a carboxyl group present in the molecule of the vinyl copolymer. Is also preferred as a polymer binder. Specific examples of the compound containing both an unsaturated bond and an epoxy group in the molecule include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and an epoxy group-containing unsaturated compound described in JP-A No. 11-271969.

以下に、本発明の実施例を具体的に示すが、本発明の実施態様は、これ等に限定されるものでない。尚、特に断りない限り、実施例における「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を表す。   Examples of the present invention are specifically shown below, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” in the examples represents “part by mass” and “%” represents “% by mass”.

〈アクリル系共重合体1の合成〉
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸30部、メタクリル酸メチル50部、メタクリル酸エチル20部、i−プロピルアルコール500部及びα,α′−アゾビス−i−ブチロニトリル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させた。その後、i−プロピルアルコールの沸点で1時間還流した後、トリエチルアンモニウムクロライド3部及びグリシジルメタクリレート25部を加えて3時間反応させ、バインダーとしてのアクリル系共重合体1を得た。GPCを用いて測定した重量平均分子量は約35,000、DSC(示差熱分析法)を用いて測定したガラス転移温度(Tg)は約85℃であった。
<Synthesis of acrylic copolymer 1>
In a three-necked flask under a nitrogen stream, 30 parts of methacrylic acid, 50 parts of methyl methacrylate, 20 parts of ethyl methacrylate, 500 parts of i-propyl alcohol and 3 parts of α, α'-azobis-i-butyronitrile are placed in a nitrogen stream. The reaction was carried out in an oil bath at 80 ° C. for 6 hours. Then, after refluxing for 1 hour at the boiling point of i-propyl alcohol, 3 parts of triethylammonium chloride and 25 parts of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain an acrylic copolymer 1 as a binder. The weight average molecular weight measured using GPC was about 35,000, and the glass transition temperature (Tg) measured using DSC (differential thermal analysis) was about 85 ° C.

〈支持体の作製〉
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3%の硝酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、15%硫酸溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、更に1%ポリビニルホスホン酸で75℃で親水化処理を行って支持体を作製した。
<Production of support>
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.3 mm was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. This degreased aluminum plate was neutralized by dipping in a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Next, the aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current for 60 seconds in a 0.3% nitric acid aqueous solution at 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 , and then kept at 60 ° C. In addition, desmutting treatment was performed for 10 seconds in a 5% aqueous sodium hydroxide solution. The desmutted roughened aluminum plate was anodized in a 15% sulfuric acid solution at 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a voltage of 15 V for 1 minute, and further with 1% polyvinylphosphonic acid. Hydrophilic treatment was performed at 75 ° C. to prepare a support.

この時、表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.65μmであった。   At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 μm.

〈平版印刷版材料の作製〉
上記支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液1を乾燥時1.5g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、95℃で1.5分間乾燥し、光重合感光層塗布試料を得た。
(光重合性感光層塗工液1)
臭素化合物(表1記載) 表1記載量
光重合開始剤(表1記載) 表1記載量
増感色素(表1記載) 表1記載量
エチレン性二重結合含有化合物M−3 20部
NKエステル4G(新中村化学社製ポリエチレングリコールジメタクリレート)
20部
アクリル系共重合体1 40.0部
N−フェニルグリシンベンジルエステル 4.0部
フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 6.0部
2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−
4−メチルフェニルアクリレート(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部
弗素系界面活性剤(F−178K:大日本インキ社製) 0.5部
メチルエチルケトン 80部
シクロヘキサノン 820部
上記光重合感光層塗布試料上に、下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥時1.8g/m2になるようになるようアプリケーターで塗布し、75℃で1.5分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する平版印刷版材料(試料1〜15)を作製した。
(酸素遮断層塗工液1)
ポリビニルアルコール(GL−05:日本合成化学社製) 89部
水溶性ポリアミド(P−70:東レ社製) 10部
界面活性剤(サーフィノール465:日信化学工業社製) 0.5部
水 900部
〈平版印刷版の作製と評価〉
各平版印刷版材料に、408nm、30mV出力のレーザー光源を備えたプレートセッター(タイガーキャット:ECRM社改造品)を用いて、2400dpi(dpiとは1インチ即ち2.54cm当たりのドット数)で露光を行った。
<Preparation of lithographic printing plate material>
On the support, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was applied with a wire bar so as to be 1.5 g / m 2 when dried, and dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. A coated sample was obtained.
(Photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1)
Bromine compound (described in Table 1) Amount described in Table 1 Photopolymerization initiator (described in Table 1) Amount described in Table 1 Sensitizing dye (described in Table 1) Amount described in Table 1 Ethylene double bond-containing compound M-3 20 parts NK ester 4G (polyethylene glycol dimethacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
20 parts Acrylic copolymer 1 40.0 parts N-phenylglycine benzyl ester 4.0 parts Phthalocyanine pigment (MHI454: manufactured by Gokoku Dye Co., Ltd.) 6.0 parts 2-t-butyl-6- (3-t-butyl -2-hydroxy-5-methylbenzyl)-
4-methylphenyl acrylate (Sumilyzer GS: manufactured by Sumitomo 3M) 0.5 parts Fluorosurfactant (F-178K: manufactured by Dainippon Ink & Co.) 0.5 parts Methyl ethyl ketone 80 parts Cyclohexanone 820 parts Application of the above photopolymerized photosensitive layer An oxygen barrier layer coating solution having the following composition is applied on the sample with an applicator so as to be 1.8 g / m 2 when dried, and dried at 75 ° C. for 1.5 minutes, and the oxygen barrier layer on the photosensitive layer. Lithographic printing plate materials (Samples 1 to 15) having layers were prepared.
(Oxygen barrier layer coating solution 1)
Polyvinyl alcohol (GL-05: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 89 parts Water-soluble polyamide (P-70: Toray Industries, Inc.) 10 parts Surfactant (Surfinol 465: Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.5 parts Water 900 <Preparation and evaluation of planographic printing plates>
Each lithographic printing plate material is exposed at 2400 dpi (dpi is the number of dots per inch or 2.54 cm) using a plate setter (Tiger Cat: modified ECRM) equipped with a laser light source of 408 nm and 30 mV output. Went.

露光パターンは、100%画像部と、175LPI(line per inch)・50%のスクエアードットを使用した。次いで、版材を105度で10秒加熱処理するプレヒート部、現像前にオーバーコート層を除去する前水洗部、下記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液(GW−3:三菱化学社製を2倍希釈したもの)処理部を備えたCTP自動現像機(PHW23−V:Technigraph社製)で現像処理を行い、平版印刷版を得た。   As the exposure pattern, a 100% image portion and 175 LPI (line per inch) · 50% square dots were used. Next, a preheating part that heat-treats the plate material at 105 degrees for 10 seconds, a pre-washing part that removes the overcoat layer before development, a developing part filled with a developer having the following composition, and a washing part that removes the developer adhering to the plate surface , Development processing is carried out with a CTP automatic developing machine (PHW23-V: manufactured by Technigraph) equipped with a processing unit for gum solution (GW-3: manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.). A lithographic printing plate was obtained.

(現像液組成)
A珪酸カリウム 8.0%
ニューコールB−13SN(日本乳化剤社製) 3.0%
苛性カリウム pH=12.3となる添加量
(Developer composition)
A Potassium silicate 8.0%
New Coal B-13SN (Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 3.0%
Caustic potassium pH = 12.3

Figure 2007025328
Figure 2007025328

《感度》
得られた平版印刷版の版面に記録された100%画像部において、膜減りが観察されない最低量の露光エネルギー量を記録エネルギーとし、感度の指標とした。記録エネルギーが小さいほど高感度であることを示す。
"sensitivity"
In the 100% image area recorded on the plate surface of the obtained lithographic printing plate, the minimum exposure energy amount at which no film reduction was observed was defined as the recording energy, which was used as an index of sensitivity. The smaller the recording energy, the higher the sensitivity.

《耐刷性》
175線の画像を200μJ/cm2で露光、現像して作製した平版印刷版を、印刷機(三菱重工業社製:DAIYA1F−1)で、コート紙、印刷インキ(大日本インキ化学工業社製:大豆油インキ「ナチュラリス100」)及び湿し水(東京インク社製:H液SG−51,濃度1.5%)を用いて印刷を行い、ハイライト部の点細りの発生する印刷枚数を耐刷性の指標とした。多いほど耐刷性に優れる。
<Press life>
A lithographic printing plate produced by exposing and developing an image of 175 lines at 200 μJ / cm 2 , coated paper, printing ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: Soybean oil ink “Naturalis 100”) and dampening water (manufactured by Tokyo Ink Co., Ltd .: H liquid SG-51, density 1.5%) are used for printing, and the number of prints in which highlights are dotted is determined. It was used as an index of printing durability. The greater the number, the better the printing durability.

《保存性》
各平版印刷版材料を55℃で3日間強制劣化した後、上記と同条件で露光、現像処理を行い、得られた平版印刷版について、強制劣化前後の記録エネルギーの差を求めた。強制劣化前後の記録エネルギーの差が小さいほど保存性に優れる。
<Preservation>
Each lithographic printing plate material was forcibly deteriorated at 55 ° C. for 3 days, then exposed and developed under the same conditions as described above, and the difference in recording energy before and after the forced deterioration was determined for the obtained lithographic printing plate. The smaller the difference in recording energy before and after forced deterioration, the better the storage stability.

結果を併せて表1に示す。   The results are also shown in Table 1.

Figure 2007025328
Figure 2007025328

表1に示されるように、本発明の光重合性組成物を光重合性感光層に用いた平版印刷版原版は、比較の光重合性組成物を用いた平版印刷版原版と比べて感度、耐刷性および保存性に優れていることがわかった。   As shown in Table 1, the lithographic printing plate precursor using the photopolymerizable composition of the present invention for the photopolymerizable photosensitive layer is more sensitive than the lithographic printing plate precursor using the comparative photopolymerizable composition, It was found that the printing durability and storage stability were excellent.

(実施例2)
実施例1で用いた臭素化合物、光重合開始剤および増感色素を表2の内容に変更した以外は、実施例1と同様の方法で試料を作成し露光、現像を行い、感度、耐刷性および保存性を評価した。結果を表2に示す。
(Example 2)
A sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that the bromine compound, photopolymerization initiator and sensitizing dye used in Example 1 were changed to the contents shown in Table 2, and exposure and development were performed. And shelf life were evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2007025328
Figure 2007025328

表2に示されるように、本発明の光重合性組成物を光重合性感光層に用いた平版印刷版原版は、光重合開始剤を変更しても、比較の臭素化合物と比べて感度、耐刷性および保存性に優れていることがわかった。   As shown in Table 2, the lithographic printing plate precursor using the photopolymerizable composition of the present invention for the photopolymerizable photosensitive layer has a sensitivity higher than that of the comparative bromine compound, even if the photopolymerization initiator is changed. It was found that the printing durability and storage stability were excellent.

Claims (5)

付加重合可能なエチレン性二重結合含有化合物、光重合開始剤、増感色素及び下記一般式(1)で表される分子量500〜2000の臭素化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。
一般式(1) R−(O(C=O)−CBr3)n
〔式中、Rはアルキル基、アルケニル基、脂環式炭化水素基、アリール基、複素環基を表す。nは1〜4の整数である。ただしnが2〜4の場合、前記一般式(1)で表される臭素化合物の分子量は分子内のトリブロモアセチルオキシ基の総数で除した数値が500以上である。〕
A photopolymerizable composition comprising an ethylenic double bond-containing compound capable of addition polymerization, a photopolymerization initiator, a sensitizing dye, and a bromine compound having a molecular weight of 500 to 2000 represented by the following general formula (1): object.
Formula (1) R- (O (C = O) -CBr 3) n
[Wherein, R represents an alkyl group, an alkenyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aryl group, or a heterocyclic group. n is an integer of 1-4. However, when n is 2 to 4, the molecular weight of the bromine compound represented by the general formula (1) is 500 or more divided by the total number of tribromoacetyloxy groups in the molecule. ]
前記光重合性組成物に光重合開始剤として鉄アレーン化合物またはチタノセン化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の光重合性組成物。 The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition contains an iron arene compound or a titanocene compound as a photopolymerization initiator. 下記一般式(2)で表される増感色素を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の光重合性組成物。
Figure 2007025328
〔式中、R1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表し、Ra及びRbは各々アルキル基を表し、Xは置換基を表す。〕
The photopolymerizable composition according to claim 1 or 2, comprising a sensitizing dye represented by the following general formula (2).
Figure 2007025328
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent, R a and R b each represent an alkyl group, and X represents a substituent. ]
支持体上に請求項1〜3の何れか1項に記載の光重合性組成物を含有する光重合性感光層を含有することを特徴とする感光性平版印刷版原版。 A photosensitive lithographic printing plate precursor comprising a photopolymerizable photosensitive layer containing the photopolymerizable composition according to any one of claims 1 to 3 on a support. 請求項4に記載の感光性平版印刷版原版に350〜450nmの波長のレーザー光源で像様に走査記録して製造することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 A method for producing a lithographic printing plate, comprising producing the photosensitive lithographic printing plate precursor according to claim 4 by scanning and recording imagewise with a laser light source having a wavelength of 350 to 450 nm.
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