JP6171812B2 - Electrochromic display element, electrochromic dimming lens, display device, information device, and method for manufacturing electrochromic display element - Google Patents

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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Description

本発明は、エレクトロクロミック表示素子、エレクトロクロミック調光レンズ、表示装置及び情報機器並びにエレクトロクロミック表示素子の製造方法に関する。   The present invention relates to an electrochromic display element, an electrochromic light control lens, a display device, an information device, and a method for manufacturing an electrochromic display element.

近年、紙に替わる情報媒体として、所謂、電子ペーパーの開発が盛んに行われている。電子ペーパーに用いられる表示素子としては、反射型液晶を用いた表示素子、電気泳動を用いた表示素子、トナー泳動を用いた表示素子、エレクトロクロミック化合物を用いた表示素子(エレクトロクロミック表示素子)、等が挙げられる。   In recent years, so-called electronic paper has been actively developed as an information medium replacing paper. As a display element used for electronic paper, a display element using a reflective liquid crystal, a display element using electrophoresis, a display element using toner migration, a display element using an electrochromic compound (electrochromic display element), Etc.

エレクトロクロミック表示素子は、メモリ効果があること、低電圧で駆動できること、等の理由から、次世代の表示素子の有力候補であり、現在、材料開発からデバイス設計に至るまで、エレクトロクロミック表示素子に対する幅広い研究開発が行われている。   The electrochromic display element is a promising candidate for the next generation display element because of its memory effect and being able to be driven at a low voltage. Currently, from electrochromic display element to material design to device design. A wide range of research and development is underway.

エレクトロクロミズム(electrochromism)現象とは、エレクトロクロミック化合物に電圧を印加することにより、該化合物が酸化還元反応を生じ、発色或いは消色する可逆的な現象である。エレクトロクロミック表示素子は、該化合物の構造を変化させ、エレクトロクロミズム現象を利用することで、様々な種類の色を発色できる。このため、エレクトロクロミック表示素子は、多色表示が可能な表示素子としても期待されている。   The electrochromism phenomenon is a reversible phenomenon in which, when a voltage is applied to an electrochromic compound, the compound causes an oxidation-reduction reaction to develop or decolor. The electrochromic display element can develop various kinds of colors by changing the structure of the compound and utilizing the electrochromism phenomenon. For this reason, the electrochromic display element is also expected as a display element capable of multicolor display.

例えば、特許文献1は、複数の高分子微粒子層が積層された有機エレクトロクロミック層を有するエレクトロクロミック素子を開示している。   For example, Patent Document 1 discloses an electrochromic element having an organic electrochromic layer in which a plurality of polymer fine particle layers are stacked.

また、特許文献2は、異なる色を発色する複数のエレクトロクロミック組成物を積層又は混合して形成した表示層を有する多色表示素子を開示している。   Patent Document 2 discloses a multicolor display element having a display layer formed by laminating or mixing a plurality of electrochromic compositions that develop different colors.

また、特許文献3は、複数の表示電極に対応して複数のエレクトロクロミック層が設けられたエレクトロクロミック表示装置を開示している。   Patent Document 3 discloses an electrochromic display device provided with a plurality of electrochromic layers corresponding to a plurality of display electrodes.

一方、特許文献4は、エレクトロクロミック表示素子を用いた実用的な電子ペーパー実現のために駆動素子としてTFT(thin film transistor)を用い、TFTが複数分離形成された画素電極(対向電極)上に、電荷保持層(高抵抗層)を連続層(ベタ膜)として形成することにより、発色にじみ、画像ボケなどがない良好な表示品質で、かつ耐久性に優れたエレクトロクロミック表示装置を開示している。   On the other hand, Patent Document 4 uses a TFT (thin film transistor) as a drive element to realize a practical electronic paper using an electrochromic display element, and on a pixel electrode (counter electrode) on which a plurality of TFTs are separately formed. Disclosed is an electrochromic display device that has excellent display quality and excellent durability without color bleeding, image blur, etc., by forming a charge retention layer (high resistance layer) as a continuous layer (solid film). Yes.

また、エレクトロクロミック表示素子は上述の電子ペーパーの他、調光レンズ、調光窓、防眩ミラー等への応用も検討されている。例えば、一枚のレンズ上に、薄膜が積層された調光機能部を形成することにより、薄型軽量化及び低コスト化が可能で、生産性に優れたエレクトロクロミック調光レンズが提案されている。   In addition to the above-described electronic paper, electrochromic display elements are also being considered for application to light control lenses, light control windows, anti-glare mirrors, and the like. For example, an electrochromic dimming lens that can be reduced in thickness, weight and cost by forming a dimming function unit in which a thin film is laminated on a single lens and has excellent productivity has been proposed. .

ところで、電子ペーパーや調光レンズ等に用いられるエレクトロクロミック表示素子は、反射型表示、及び透過型表示において、優れた耐光性を有していることが望まれる。加えて、反射型表示において、紙と同程度の白反射率を有することが望まれる。   By the way, an electrochromic display element used for electronic paper, a light control lens, or the like is desired to have excellent light resistance in reflective display and transmissive display. In addition, in the reflective display, it is desired to have a white reflectance comparable to that of paper.

従来より、エレクトロクロミック表示素子において、酸化チタンが好適に用いられている。特に、反射型表示において、エレクトロクロミック化合物の担持粒子として、酸化チタンのナノ粒子を、また、白色反射層の材料として、白色散乱性の高い酸化チタン粒子を用いることで、エレクトロクロミック表示素子は、高い白反射率及び高コントラスト比を維持できる。   Conventionally, titanium oxide has been suitably used in electrochromic display elements. In particular, in the reflective display, by using titanium oxide nanoparticles as the electrochromic compound-supporting particles, and by using titanium oxide particles having a high white scattering property as the material of the white reflective layer, the electrochromic display element is High white reflectance and high contrast ratio can be maintained.

しかしながら、光触媒活性物質である酸化チタンは、エレクトロクロミック化合物、及びその他の構成要素を分解し、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を低下させてしまう。酸化チタンの光触媒活性を抑制するための対策として、ルチル型の酸化チタンを用いることも提案されているが、耐光性の低下を改善することは難しい。   However, titanium oxide, which is a photocatalytically active substance, decomposes the electrochromic compound and other constituent elements, thereby reducing the light resistance of the electrochromic display element. As a countermeasure for suppressing the photocatalytic activity of titanium oxide, it has been proposed to use rutile type titanium oxide, but it is difficult to improve the decrease in light resistance.

特許文献5では、白色反射層の材料として用いる酸化チタン粒子の光触媒活性を抑制するために、該酸化チタン粒子の表面を、表示媒体組成物に不活性な高分子化合物により被覆している。しかし、高分子化合物による被覆では、酸化チタン粒子の光触媒活性を十分に抑制できない。更に、エレクトロクロミック化合物の担持粒子として用いる酸化チタンのナノ粒子に対しては、光触媒活性を抑制するための対策が施されていないという問題もある。   In Patent Document 5, in order to suppress the photocatalytic activity of titanium oxide particles used as a material for the white reflective layer, the surface of the titanium oxide particles is coated with a polymer compound that is inert to the display medium composition. However, the coating with the polymer compound cannot sufficiently suppress the photocatalytic activity of the titanium oxide particles. Furthermore, there is also a problem that measures for suppressing the photocatalytic activity are not taken for the titanium oxide nanoparticles used as the electrochromic compound-supported particles.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、反射型表示及び透過型表示において、耐光性に優れたエレクトロクロミック表示素子、表示装置、および情報機器を提供することを目的とする。また、耐光性に優れたエレクトロクロミック調光レンズを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide an electrochromic display element, a display device, and an information device that are excellent in light resistance in a reflective display and a transmissive display. Moreover, it aims at providing the electrochromic light control lens excellent in light resistance.

上記目的を達成するために、本実施の形態のエレクトロクロミック表示素子は、表示基板と、表示電極と、表示電極に接して設けられたエレクトロクロミック層と、表示基板に対向して設けられた対向基板と、対向電極と、対向電極に接して設けられた電荷保持層と、表示基板と対向基板との間を充填する電解質層とを有し、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆されることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an electrochromic display element according to the present embodiment includes a display substrate, a display electrode, an electrochromic layer provided in contact with the display electrode, and a facing provided facing the display substrate. The surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer has a substrate, a counter electrode, a charge retention layer provided in contact with the counter electrode, and an electrolyte layer filling the space between the display substrate and the counter substrate. It is characterized by being coated with a metal hydroxide.

また、本実施の形態のエレクトロクロミック調光レンズは、レンズと、レンズに接して設けられた第1の電極層と、第1の電極層に接して設けられたエレクトロクロミック層(劣化防止層)と、エレクトロクロミック層(劣化防止層)に接して設けられた絶縁性多孔質層と、絶縁性多孔質層に接して設けられた劣化防止層(エレクトロクロミック層)と、劣化防止層(エレクトロクロミック層)に接して設けられた第2の電極層と、第1の電極層と第2の電極層との間を充填し、絶縁性多孔質層を介してエレクトロクロミック層及び劣化防止層と接触する電解質層と、を有し、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆されることを特徴とする。   The electrochromic light control lens of the present embodiment includes a lens, a first electrode layer provided in contact with the lens, and an electrochromic layer (deterioration prevention layer) provided in contact with the first electrode layer. An insulating porous layer provided in contact with the electrochromic layer (deterioration preventing layer), a deterioration preventing layer (electrochromic layer) provided in contact with the insulating porous layer, and a deterioration preventing layer (electrochromic layer) The second electrode layer provided in contact with the layer), the space between the first electrode layer and the second electrode layer, and contact with the electrochromic layer and the deterioration preventing layer through the insulating porous layer The surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.

本実施の形態によれば、反射型表示及び透過型表示において、耐光性に優れたエレクトロクロミック表示素子、表示装置、および情報機器を提供することができる。また、耐光性に優れたエレクトロクロミック調光レンズを提供することができる。   According to this embodiment, it is possible to provide an electrochromic display element, a display device, and an information device that are excellent in light resistance in reflective display and transmissive display. Moreover, the electrochromic light control lens excellent in light resistance can be provided.

実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子の構造の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of a structure of an electrochromic display element according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子の構造の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of a structure of an electrochromic display element according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子の構造の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of a structure of an electrochromic display element according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子の製造方法の一例を説明する図である。6 is a diagram illustrating an example of a method for manufacturing an electrochromic display element according to Embodiment 1. FIG. 実施形態2に係るエレクトロクロミック表示素子の耐光性を説明するための図である。6 is a view for explaining light resistance of an electrochromic display element according to Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る情報機器の構造の一例を示すである。It is an example of the structure of the information equipment which concerns on Embodiment 3. 実施形態4に係るエレクトロクロミック調光レンズの一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of an electrochromic light control lens according to Embodiment 4. FIG. 実施形態4に係るエレクトロクロミック調光レンズを用いたメガネの構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure of the spectacles using the electrochromic light control lens which concerns on Embodiment 4. 実施形態5に係るエレクトロクロミック調光レンズの耐光性を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining light resistance of an electrochromic light control lens according to Embodiment 5.

(実施形態1)
(エレクトロクロミック表示素子の構造)
図1に、本実施形態に係るエレクトロクロミック表示素子20の構造の一例を示す。
(Embodiment 1)
(Structure of electrochromic display element)
FIG. 1 shows an example of the structure of the electrochromic display element 20 according to this embodiment.

エレクトロクロミック表示素子20は、表示基板21、第1の表示電極22、第1のエレクトロクロミック層23、第1の絶縁層24、第2の表示電極25、第2エレクトロクロミック層26、第2の絶縁層27、第3の表示電極28、第3のエレクトロクロミック層29、電解質層30、白色反射層31、電荷保持層32、対向電極33、駆動素子層34、対向基板35、壁部材36を含む。   The electrochromic display element 20 includes a display substrate 21, a first display electrode 22, a first electrochromic layer 23, a first insulating layer 24, a second display electrode 25, a second electrochromic layer 26, a second electrochromic display element 20. An insulating layer 27, a third display electrode 28, a third electrochromic layer 29, an electrolyte layer 30, a white reflective layer 31, a charge holding layer 32, a counter electrode 33, a driving element layer 34, a counter substrate 35, and a wall member 36 Including.

図1に示す様に、エレクトロクロミック表示素子20は、対向する2枚の基板の間に、白色反射層、複数のエレクトロクロミック層を有しており、基板間を、電解質層30で充填している。また、図1には明記されていないが、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子、白色反射層に含まれる酸化チタン粒子は、金属水酸化物で被覆されている。   As shown in FIG. 1, the electrochromic display element 20 has a white reflective layer and a plurality of electrochromic layers between two opposing substrates, and the space between the substrates is filled with an electrolyte layer 30. Yes. Although not clearly shown in FIG. 1, the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer and the titanium oxide particles contained in the white reflective layer are coated with a metal hydroxide.

表示基板21側の詳細な構造として、表示基板21に接して第1の表示電極22が設けられている。更に、第1の表示電極22に接して第1のエレクトロクロミック層23が設けられている。更に、第1のエレクトロクロミック層23と第2の表示電極25との間には、第1の絶縁層24が設けられている。更に、第2の表示電極25に接して第2エレクトロクロミック層26が設けられている。更に、第2エレクトロクロミック層26と第3の表示電極28との間には、第2の絶縁層27が設けられている。更に、第3の表示電極28に接して第3のエレクトロクロミック層29が設けられている。   As a detailed structure on the display substrate 21 side, a first display electrode 22 is provided in contact with the display substrate 21. Further, a first electrochromic layer 23 is provided in contact with the first display electrode 22. Further, a first insulating layer 24 is provided between the first electrochromic layer 23 and the second display electrode 25. Further, a second electrochromic layer 26 is provided in contact with the second display electrode 25. Further, a second insulating layer 27 is provided between the second electrochromic layer 26 and the third display electrode 28. Further, a third electrochromic layer 29 is provided in contact with the third display electrode 28.

一方、対向基板35側の詳細な構造として、対向基板35に接して駆動素子層34が設けられている。更に、駆動素子層34に接して対向電極33が設けられている。対向電極33は、駆動素子層34に含まれる各駆動素子に対応してそれぞれ設けられている。更に、対向電極33に接して電荷保持層32が設けられている。   On the other hand, as a detailed structure on the counter substrate 35 side, a drive element layer 34 is provided in contact with the counter substrate 35. Further, a counter electrode 33 is provided in contact with the drive element layer 34. The counter electrode 33 is provided corresponding to each drive element included in the drive element layer 34. Further, a charge retention layer 32 is provided in contact with the counter electrode 33.

なお、白色反射層31は、第3のエレクトロクロミック層29に接して形成されても良いし、電荷保持層32に接して形成されても良い。   The white reflective layer 31 may be formed in contact with the third electrochromic layer 29, or may be formed in contact with the charge retention layer 32.

表示基板21は、第1の表示電極22、第1のエレクトロクロミック層23、第1の絶縁層24、第2の表示電極25、第2エレクトロクロミック層26、第2の絶縁層27、第3の表示電極28、第3のエレクトロクロミック層29等の積層構造を支持するための基板である。   The display substrate 21 includes a first display electrode 22, a first electrochromic layer 23, a first insulating layer 24, a second display electrode 25, a second electrochromic layer 26, a second insulating layer 27, a third The display electrode 28, the third electrochromic layer 29, and the like are used for supporting a laminated structure.

表示基板21の材料としては、透光性を有する材料であることが好ましい。例えば、ガラス、プラスチックフィルム等が挙げられる。   The material of the display substrate 21 is preferably a light transmissive material. For example, glass, a plastic film, etc. are mentioned.

第1の表示電極22は、該電極と対向電極33との間に生じる電圧により、第1のエレクトロクロミック層23を発色或いは消色させる。第2の表示電極25は、該電極と対向電極33との間に生じる電圧により、第2のエレクトロクロミック層26を発色或いは消色させる。第3の表示電極28は、該電極と対向電極33との間に生じる電圧により、第3のエレクトロクロミック層29を発色或いは消色させる。各エレクトロクロミック層での発色は、対向電極33と各表示電極との間に生じるこれらの電圧の大きさによって定まるため、該電圧により、各エレクトロクロミック層の色の諧調は変化する。   The first display electrode 22 causes the first electrochromic layer 23 to be colored or decolored by a voltage generated between the electrode and the counter electrode 33. The second display electrode 25 develops or decolors the second electrochromic layer 26 by a voltage generated between the electrode and the counter electrode 33. The third display electrode 28 develops or decolors the third electrochromic layer 29 by a voltage generated between the electrode and the counter electrode 33. Since the color development in each electrochromic layer is determined by the magnitude of these voltages generated between the counter electrode 33 and each display electrode, the color tone of each electrochromic layer changes depending on the voltage.

第1の表示電極22、第2の表示電極25、及び第3の表示電極の材料としては、透光性を有する導電性材料であることが好ましい。例えば、スズがドープされた酸化インジウム(ITO)、フッ素がドープされた酸化スズ(FTO)、アンチモンがドープされた酸化スズ(ATO)等の無機材料が挙げられる。また、InSnO、GaZnO、SnO、In2O3、ZnO等を用いることが特に好ましい。 The material of the first display electrode 22, the second display electrode 25, and the third display electrode is preferably a light-transmitting conductive material. Examples thereof include inorganic materials such as indium oxide (ITO) doped with tin, tin oxide (FTO) doped with fluorine, and tin oxide (ATO) doped with antimony. Further, it is particularly preferable to use InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 , ZnO or the like.

第1のエレクトロクロミック層23は、エレクトロクロミック化合物23a、エレクトロクロミック化合物を担持する金属酸化物(酸化チタン)のナノ粒子23b、金属酸化物のナノ粒子23bの表面を被覆する金属水酸化物23cを含む(図2参照)。図2に示す様に、金属酸化物のナノ粒子23bにエレクトロクロミック化合物23aの単分子を吸着させることで、金属酸化物23bのナノ粒子の大きな表面積を利用して、効率良くエレクトロクロミック化合物23aに電子を注入することができる。従って、エレクトロクロミック化合物23aの発色時の色濃度を高くし、発色及び消色の切り替え速度を高速にすることができる。   The first electrochromic layer 23 includes an electrochromic compound 23a, a metal oxide (titanium oxide) nanoparticle 23b supporting the electrochromic compound, and a metal hydroxide 23c covering the surface of the metal oxide nanoparticle 23b. Included (see FIG. 2). As shown in FIG. 2, by adsorbing a single molecule of the electrochromic compound 23a to the metal oxide nanoparticle 23b, the large surface area of the metal oxide 23b nanoparticle can be used to efficiently form the electrochromic compound 23a. Electrons can be injected. Therefore, the color density of the electrochromic compound 23a during color development can be increased, and the switching speed between color development and decoloration can be increased.

エレクトロクロミック化合物23aは、第1の表示電極22と対向電極33との間に生じる電圧により、酸化還元反応を生じ、発色或いは消色する(可逆反応)。エレクトロクロミック化合物23aの単分子の長さは、5nm程度以下であることが好ましい。   The electrochromic compound 23a generates an oxidation-reduction reaction by the voltage generated between the first display electrode 22 and the counter electrode 33, and develops or decolors (reversible reaction). The length of the single molecule of the electrochromic compound 23a is preferably about 5 nm or less.

金属酸化物のナノ粒子23bは、エレクトロクロミック化合物23aを担持する。金属酸化物のナノ粒子23bの粒径は、5nm〜100nm程度であることが好ましく、特に20nm程度であることが好ましい。金属酸化物のナノ粒子23bの粒径を、5nm〜100nm程度とすることにより、第1のエレクトロクロミック層23を透明な層とすることができる。即ち、反射型表示素子においては、発色していないときに高い白反射率を得ることができる。また透過型表示素子においては発色時には鮮やかな色が得られ、消色時には無色透明の状態が得られる。   The metal oxide nanoparticles 23b carry an electrochromic compound 23a. The particle size of the metal oxide nanoparticles 23b is preferably about 5 nm to 100 nm, and more preferably about 20 nm. By setting the particle diameter of the metal oxide nanoparticles 23b to about 5 nm to 100 nm, the first electrochromic layer 23 can be made a transparent layer. That is, in the reflective display element, a high white reflectance can be obtained when no color is generated. In the transmissive display element, a vivid color is obtained at the time of color development, and a colorless and transparent state is obtained at the time of decoloration.

金属水酸化物23cは、酸化チタンのナノ粒子の表面を被覆し、酸化チタンの光触媒活性を抑制する。金属水酸化物23cの膜厚は、0.2nm以上4.0nm以下であることが好ましい。金属水酸化物23cが、酸化チタンの光触媒活性を抑制する理由であるが、酸化チタンのナノ粒子の表面を、金属水酸化物により被覆することで、酸化チタンのナノ粒子と金属水酸化物との界面で発生するフリーラジカルを、失活(不活性化)させることができるためであると考えられる。酸化チタンの光触媒活性を抑制した結果、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を改善できることは、後述する実験結果により示唆される。   The metal hydroxide 23c covers the surface of the titanium oxide nanoparticles and suppresses the photocatalytic activity of the titanium oxide. The film thickness of the metal hydroxide 23c is preferably 0.2 nm or more and 4.0 nm or less. The metal hydroxide 23c is the reason for suppressing the photocatalytic activity of titanium oxide. By coating the surface of the titanium oxide nanoparticles with the metal hydroxide, the titanium oxide nanoparticles and the metal hydroxide This is considered to be because free radicals generated at the interface can be deactivated (inactivated). As a result of suppressing the photocatalytic activity of titanium oxide, it is suggested by the experimental results described later that the light resistance of the electrochromic display element can be improved.

なお、図1において、金属酸化物のナノ粒子23bは、1種類のエレクトロクロミック化合物23aを担持した構造を有しているが、金属酸化物のナノ粒子23bは、複数種類のエレクトロクロミック化合物を担持することも可能である。   In FIG. 1, the metal oxide nanoparticles 23b have a structure supporting one type of electrochromic compound 23a, but the metal oxide nanoparticles 23b support a plurality of types of electrochromic compounds. It is also possible to do.

第2のエレクトロクロミック層26及び第3のエレクトロクロミック層29も、第1のエレクトロクロミック層23と同様に、エレクトロクロミック化合物、エレクトロクロミック化合物を担持する酸化チタンのナノ粒子、酸化チタンのナノ粒子の表面を被覆する金属水酸化物を含む。   Similarly to the first electrochromic layer 23, the second electrochromic layer 26 and the third electrochromic layer 29 are composed of an electrochromic compound, a titanium oxide nanoparticle carrying an electrochromic compound, and a titanium oxide nanoparticle. Includes metal hydroxide coating the surface.

第2のエレクトロクロミック層26及び第3のエレクトロクロミック層29に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を、金属水酸化物により被覆することで、酸化チタンの光触媒活性を抑制できる。従って、全てエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を、金属水酸化物により被覆し、酸化チタンの光触媒活性を抑制することで、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を改善できる。   By covering the surfaces of the titanium oxide nanoparticles contained in the second electrochromic layer 26 and the third electrochromic layer 29 with a metal hydroxide, the photocatalytic activity of the titanium oxide can be suppressed. Therefore, the light resistance of the electrochromic display element can be improved by covering the surfaces of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer with metal hydroxide and suppressing the photocatalytic activity of the titanium oxide.

なお、図2では、理想的な状態として金属酸化物のナノ粒子23bにエレクトロクロミック化合物23aの単分子を吸着させた構造を示しているが、該構造に限定されない。エレクトロクロミック化合物23aが移動しないよう高密度に固定される構造であれば良い。また、エレクトロクロミック化合物23aの酸化還元反応に伴う電子の授受が妨げられないように、第1のエレクトロクロミック層23と第1の表示電極22との電気的な接続が確保される構造であれば良い。また、エレクトロクロミック化合物23aと金属酸化物のナノ粒子23bとは混合されて単一層となっていても良い。第2のエレクトロクロミック層26及び第3のエレクトロクロミック層29の場合も同様である。   2 shows a structure in which a single molecule of the electrochromic compound 23a is adsorbed to the metal oxide nanoparticles 23b as an ideal state, but the structure is not limited thereto. Any structure may be used as long as the electrochromic compound 23a is fixed at a high density so as not to move. In addition, as long as the electrical connection between the first electrochromic layer 23 and the first display electrode 22 is ensured so as not to hinder the transfer of electrons accompanying the redox reaction of the electrochromic compound 23a. good. The electrochromic compound 23a and the metal oxide nanoparticles 23b may be mixed to form a single layer. The same applies to the second electrochromic layer 26 and the third electrochromic layer 29.

金属酸化物の材料としては、本明細書では、酸化チタンを用いている。これは、酸化チタンが、エレクトロクロミック化合物の担持粒子、及び白色反射層の材料として、好適に用いられ、且つ、現在、代表的な光触媒活性物質として、広く用いられているためである。しかしながら、金属酸化物の材料は、酸化チタンに限定されるものではない。今後、エレクトロクロミック表示素子に適用され、その粒子を金属水酸化物により被覆することで、耐光性を高められる光触媒活性物質が実用化された場合、このような物質も範疇に含むものとする。   In this specification, titanium oxide is used as the metal oxide material. This is because titanium oxide is suitably used as a material for the electrochromic compound-supported particles and the white reflective layer, and is currently widely used as a typical photocatalytic active substance. However, the metal oxide material is not limited to titanium oxide. In the future, when a photocatalytically active material that can be applied to an electrochromic display element and whose particles are coated with a metal hydroxide to improve light resistance is put to practical use, such a material is also included in the category.

金属水酸化物の材料としては、酸化チタンナノ粒子の光触媒活性の抑制を効果的に高められる材料であれば、特に限定されないが、水酸化鉄、水酸化アルミニウム等が挙げられる。水酸化アルミニウムを用いることが特に好ましい。   The material of the metal hydroxide is not particularly limited as long as the suppression of the photocatalytic activity of the titanium oxide nanoparticles can be effectively enhanced, and examples thereof include iron hydroxide and aluminum hydroxide. It is particularly preferable to use aluminum hydroxide.

エレクトロクロミック化合物の材料としては、色素系、ポリマー系、金属錯体系、金属酸化物系等の公知のエレクトロクロミック化合物材料を用いることができる。   As a material of the electrochromic compound, a known electrochromic compound material such as a dye system, a polymer system, a metal complex system, or a metal oxide system can be used.

例えば、色素系及びポリマー系のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、また、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物が挙げられる。更に、これらの材料は、ビオロゲン系化合物(例えば、特許3955641号公報、特開2007−171781号公報参照)又はジピリジン系化合物(例えば、特開2007−171781号公報、特開2008−116718号公報参照)を含むことが好ましい。ビオロゲン系化合物又はジピリジン系化合物を含ませることで、表示電極及び対向電極に印加する電圧が低くても、発色時及び消色時に、エレクトロクロミック化合物が良好な色値を示すことができる。   For example, as dye-based and polymer-based electrochromic compounds, azobenzene, anthraquinone, diarylethene, dihydroprene, dipyridine, styryl, styryl spiropyran, spirooxazine, spirothiopyran, thioindigo, tetrathiafulvalene , Terephthalic acid, triphenylmethane, triphenylamine, naphthopyran, viologen, pyrazoline, phenazine, phenylenediamine, phenoxazine, phenothiazine, phthalocyanine, fluoran, fulgide, benzopyran, Examples thereof include low molecular organic electrochromic compounds such as metallocenes, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene. Further, these materials include viologen compounds (see, for example, Japanese Patent No. 39555641, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-171781) or dipyridine compounds (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-171781, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-116718). ) Is preferably included. By including a viologen-based compound or a dipyridine-based compound, even when the voltage applied to the display electrode and the counter electrode is low, the electrochromic compound can exhibit a good color value at the time of coloring and decoloring.

また、例えば、金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物として、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ニッケル、酸化バナジウム、プルシアンブルー等が挙げられる。   Examples of the metal oxide electrochromic compound include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue.

なお、エレクトロクロミック表示素子20内の、各エレクトロクロミック層におけるエレクトロクロミック化合物に用いられる材料は、全て酸化発色材料であるか、或いは、全て還元発色材料である、という様に統一されることが好ましい。   The materials used for the electrochromic compound in each electrochromic layer in the electrochromic display element 20 are preferably unified so that they are all oxidation coloring materials or all reduction coloring materials. .

第1の絶縁層24は、第1のエレクトロクロミック層23が設けられた第1の表示電極22と、第2エレクトロクロミック層26が設けられた第2の表示電極25とが、電気的に絶縁されるように、これらを隔離する。   The first insulating layer 24 is electrically insulated from the first display electrode 22 provided with the first electrochromic layer 23 and the second display electrode 25 provided with the second electrochromic layer 26. Isolate these as you can.

第2の絶縁層27は、第2エレクトロクロミック層26が設けられた第2の表示電極25と、第3のエレクトロクロミック層29が設けられた第3の表示電極28とが、電気的に絶縁されるように、これらを隔離する。   The second insulating layer 27 is electrically insulated from the second display electrode 25 provided with the second electrochromic layer 26 and the third display electrode 28 provided with the third electrochromic layer 29. Isolate these as you can.

なお、第1の表示電極22と第2の表示電極25との間の電極間抵抗を大きくすることができるのであれば、第1の絶縁層24は設けなくても良い。例えば、第1のエレクトロクロミック層23の膜厚を大きくすることで、第1の表示電極22と第2の表示電極25との間の電極間抵抗を大きくすることは可能である。同様に、第2の表示電極25と第3の表示電極28との間の電極間抵抗を大きくすることができるのであれば、第2の絶縁層27は設けなくても良い。   Note that the first insulating layer 24 may not be provided as long as the interelectrode resistance between the first display electrode 22 and the second display electrode 25 can be increased. For example, the interelectrode resistance between the first display electrode 22 and the second display electrode 25 can be increased by increasing the film thickness of the first electrochromic layer 23. Similarly, if the interelectrode resistance between the second display electrode 25 and the third display electrode 28 can be increased, the second insulating layer 27 may not be provided.

これらの絶縁層を設けることで、各エレクトロクロミック層での発色は及び消色を個別に制御することができるため、高精細なフルカラー表示が可能になる。   By providing these insulating layers, color development and decoloration in each electrochromic layer can be individually controlled, so that high-definition full-color display is possible.

絶縁層の材料としては、多孔質の絶縁体であれば良く、特に限定されるものではないが、絶縁性及び耐久性が高く、成膜性に優れた材料であることが好ましい。少なくともZnSを含む材料であることが好ましい。ZnSは、スパッタリングによる高速成膜が可能であるためである。また、ZnSは、成膜時にエレクトロクロミック層に与えるダメージを低減することができるためである。例えば、ZnS−SiO2、ZnS−SiC、ZnS−Si、ZnS−Ge等を用いることが好ましい。 The material of the insulating layer is not particularly limited as long as it is a porous insulator, but a material having high insulation and durability and excellent film formability is preferable. A material containing at least ZnS is preferable. This is because ZnS enables high-speed film formation by sputtering. This is because ZnS can reduce damage to the electrochromic layer during film formation. For example, it is preferable to use ZnS—SiO 2 , ZnS—SiC, ZnS—Si, ZnS—Ge, or the like.

対向基板35は、駆動素子層34、対向電極33、電荷保持層32等の積層構造を支持するための基板である。   The counter substrate 35 is a substrate for supporting a laminated structure of the drive element layer 34, the counter electrode 33, the charge holding layer 32, and the like.

対向基板35の材料としては、透光性を有する材料であることが好ましい。例えば、ガラス、プラスチックフィルム等が挙げられる。   The material of the counter substrate 35 is preferably a light transmissive material. For example, glass, a plastic film, etc. are mentioned.

対向電極33は、各表示電極との間に生じる電圧に基づいて、第1のエレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、及び第3のエレクトロクロミック層29を発色或いは消色させる。   The counter electrode 33 develops or decolors the first electrochromic layer 23, the second electrochromic layer 26, and the third electrochromic layer 29 based on the voltage generated between the display electrodes.

対向電極33の材料としては、導電性を有する材料であれば、特に限定されない。例えば、透光性を有する導電性材料として、ITO、FTO、酸化亜鉛等が挙げられる。また、導電性金属材料として、亜鉛、白金等が挙げられる。また、カーボン等を用いても良い。   The material of the counter electrode 33 is not particularly limited as long as it is a conductive material. For example, ITO, FTO, zinc oxide, or the like can be given as a light-transmitting conductive material. Moreover, zinc, platinum, etc. are mentioned as an electroconductive metal material. Carbon or the like may be used.

駆動素子層34は、複数の駆動素子を含み、選択された画素に応じて、駆動素子を駆動する。なお、画素密度と、駆動素子の数は、比例する。   The drive element layer 34 includes a plurality of drive elements and drives the drive elements according to the selected pixel. Note that the pixel density is proportional to the number of driving elements.

電荷保持層32は、各表示電極と対向電極33との間に印加される電圧によって生じる電荷の授受を緩和する。電荷保持層32を設けることで、各エレクトロクロミック層における発色及び消色の繰り返し耐久性を改善することができる。繰り返し耐久性を高めることで、エレクトロクロミック表示素子を用いた表示装置において高精細な表示が可能になる。   The charge retention layer 32 relieves transfer of charges generated by a voltage applied between each display electrode and the counter electrode 33. By providing the charge retention layer 32, it is possible to improve the repeated durability of coloring and decoloring in each electrochromic layer. By increasing the durability repeatedly, high-definition display is possible in a display device using an electrochromic display element.

電荷保持層32の材料としては、導電体微粒子材料或いは半導体微粒子材料(微粒子材料)と、ポリマー材料との混合材料を用いることができる。   As a material of the charge retention layer 32, a mixed material of a conductive fine particle material or a semiconductor fine particle material (fine particle material) and a polymer material can be used.

ポリマー材料として、特別な制約は無いが、例えば、アクリル系、アルキド系、フッ素系、イソシアネート系、ウレタン系、アミノ系、エポキシ系、フェノール系等が挙げられる。   Although there is no special restriction | limiting as a polymer material, For example, an acrylic type, an alkyd type, a fluorine type, an isocyanate type, a urethane type, an amino type, an epoxy type, a phenol type etc. are mentioned.

導電体微粒子として、例えば、ITO、FTO、ATO等が挙げられる。   Examples of the conductive fine particles include ITO, FTO, ATO and the like.

半導体微粒子として、例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、クロム、モリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、銀、亜鉛、ストロンチウム、鉄、ニッケル等の酸化物が挙げられる。   Examples of the semiconductor fine particles include oxides such as titanium, zirconium, hafnium, chromium, molybdenum, tungsten, vanadium, niobium, tantalum, silver, zinc, strontium, iron, and nickel.

なお、各エレクトロクロミック層におけるエレクトロクロミック化合物に用いられる材料が、いずれも酸化発色材料である場合、ポリマー材料と混合する微粒子材料として、ATOを用いることが特に好ましい。また、各エレクトロクロミック層におけるエレクトロクロミック化合物に用いられる材料が、いずれも還元発色材料である場合、ポリマー材料と混合する微粒子材料として、酸化タングステンを用いることが特に好ましい。酸化発色材料である場合に、ATOを、還元発色材料である場合に、酸化タングステンを用いることで、エレクトロクロミック表示素子の駆動電圧を低下させ、繰り返し耐久性を向上させることができる。   In addition, when all the materials used for the electrochromic compound in each electrochromic layer are oxidation coloring materials, it is particularly preferable to use ATO as the fine particle material mixed with the polymer material. In addition, when all the materials used for the electrochromic compound in each electrochromic layer are reduction coloring materials, it is particularly preferable to use tungsten oxide as the fine particle material mixed with the polymer material. By using ATO in the case of an oxidative coloring material and using tungsten oxide in the case of a reducing chromogenic material, the driving voltage of the electrochromic display element can be lowered and the durability can be repeatedly improved.

壁部材36は、各表示電極、各エレクトロクロミック層及び白色反射層31を取り囲む。壁部材36の材料としては、アクリレート系(ラジカル重合型)、エポキシ系(カチオン重合型)などの紫外線硬化樹脂材料、エポキシ系、フェノール系、メラミン系などの熱硬化樹脂材料を用いることができる。   The wall member 36 surrounds each display electrode, each electrochromic layer, and the white reflective layer 31. As the material of the wall member 36, an ultraviolet curable resin material such as an acrylate type (radical polymerization type) or an epoxy type (cationic polymerization type), or a thermosetting resin material such as an epoxy type, a phenol type, or a melamine type can be used.

白色反射層31は、エレクトロクロミック表示素子20において、白色の反射率を向上させるためのものである。白色反射層31は、酸化チタン粒子、及び酸化チタン粒子の表面を被覆する金属水酸化物を含む。なお、酸化チタン粒子の表面を金属水酸化物で被覆しない構造とすることもできるが、特に、反射型表示において、エレクトロクロミック表示素子20の白色の反射率をより高めるためには、被覆する構造とする方が好ましい。   The white reflective layer 31 is for improving the white reflectance in the electrochromic display element 20. The white reflective layer 31 includes titanium oxide particles and a metal hydroxide that covers the surfaces of the titanium oxide particles. Although the surface of the titanium oxide particles can be structured not to be coated with a metal hydroxide, in order to further increase the white reflectance of the electrochromic display element 20, particularly in the reflective display, the structure to be coated is used. Is more preferable.

酸化チタン粒子の粒径は、200nm〜3μm程度であることが好ましく、特に300nm程度であることが好ましい。   The particle size of the titanium oxide particles is preferably about 200 nm to 3 μm, and particularly preferably about 300 nm.

酸化チタン粒子を被覆する金属水酸化物の膜厚は、0.2nm以上4.0nm以下であることが好ましい。   The film thickness of the metal hydroxide covering the titanium oxide particles is preferably 0.2 nm or more and 4.0 nm or less.

白色反射層31に含まれる酸化チタン粒子の表面を、金属水酸化物により被覆することで、酸化チタンの光触媒活性を抑制できる。また、白色反射層31に含まれる酸化チタン粒子の表面を、金属水酸化物で被覆することにより、白色反射層31に含まれる酸化チタンの光触媒活性を抑制した結果、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を改善できることは、後述する実験結果により示唆される。   By coating the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer 31 with a metal hydroxide, the photocatalytic activity of titanium oxide can be suppressed. In addition, the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer 31 is coated with a metal hydroxide to suppress the photocatalytic activity of the titanium oxide contained in the white reflective layer 31, resulting in the light resistance of the electrochromic display element. It is suggested by the experimental result mentioned later that can be improved.

金属水酸化物の材料としては、酸化チタン粒子の光触媒活性の抑制を効果的に高められる材料であれば、特に限定されないが、水酸化鉄、水酸化アルミニウム等が挙げられる。水酸化アルミニウムを用いることが特に好ましい。   The metal hydroxide material is not particularly limited as long as it can effectively suppress the suppression of the photocatalytic activity of the titanium oxide particles, and examples thereof include iron hydroxide and aluminum hydroxide. It is particularly preferable to use aluminum hydroxide.

電解質層30は、対向基板35と、周りが壁部材36で囲まれた表示基板21との間に生じるスペースを充填する。電解質層30は、各エレクトロクロミック層が電解質層30中に含まれるように、該スペースを充填する。電解質層30は、第1の表示電極22、第2の表示電極25、又は第3の表示電極28と、対向電極33との間で電荷を移動させ、第1のエレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、及び第3のエレクトロクロミック層29の、発色或いは消色を促す。   The electrolyte layer 30 fills a space generated between the counter substrate 35 and the display substrate 21 surrounded by the wall member 36. The electrolyte layer 30 fills the space so that each electrochromic layer is included in the electrolyte layer 30. The electrolyte layer 30 moves electric charge between the first display electrode 22, the second display electrode 25, or the third display electrode 28 and the counter electrode 33, and the first electrochromic layer 23, the second display electrode Coloring or erasing of the electrochromic layer 26 and the third electrochromic layer 29 is promoted.

電解質層30の材料としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩等を用いることができる。   As the material of the electrolyte layer 30, inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, acids, and supporting salts of alkalis can be used.

例えば、LiClO4、LiBF4、LiAsF6、LiPF6、LiCF3SO3、LiCF3COO、KCl、NaCl、NaBF4、NaSCN、KBF4、Mg(ClO4)2、Mg(BF4)2等が挙げられる。 For example, LiClO 4 , LiBF 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 , Mg (ClO 4 ) 2 , Mg (BF 4 ) 2 etc. Can be mentioned.

また、電解質層30の材料としては、イオン性液体を用いることもできる。有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造を有しているため、用いることが好ましい。   Further, as the material of the electrolyte layer 30, an ionic liquid can be used. The organic ionic liquid is preferably used because it has a molecular structure showing the liquid in a wide temperature range including room temperature.

例えば、カチオン成分として、N,N-ジメチルイミダゾール塩、N,N-メチルエチルイミダゾール塩、N,N-メチルプロピルイミダゾール塩、等のイミダゾール誘導体が挙げられる。また、N,N-ジメチルピリジニウム塩、N,N-メチルプロピルピリジニウム塩、等のピリジニウム誘導体が挙げられる。また、トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩、等の脂肪族4級アンモニウム系が挙げられる。   Examples of the cationic component include imidazole derivatives such as N, N-dimethylimidazole salt, N, N-methylethylimidazole salt, and N, N-methylpropylimidazole salt. Further, pyridinium derivatives such as N, N-dimethylpyridinium salt and N, N-methylpropylpyridinium salt can be mentioned. In addition, aliphatic quaternary ammonium compounds such as trimethylpropylammonium salt, trimethylhexylammonium salt, and triethylhexylammonium salt can be used.

また、例えば、アニオン成分として、大気中での安定性を考慮して、フッ素を含んだ化合物を用いることが好ましい。例えば、BF4−、CF3SO3−、PF4−、(CF3SO2)2N−、等が挙げられる。 For example, it is preferable to use a compound containing fluorine as the anion component in consideration of stability in the air. For example, BF 4 -, CF 3 SO 3 -, PF 4 -, (CF 3 SO 2) 2 N-, and the like.

即ち、電解質層30の材料としては、カチオン成分とアニオン成分とを任意に組み合わせたイオン性液体を用いることが好ましい。該イオン性液体は、光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかに直接溶解させても良い。なお、溶解性が悪い場合は、少量の溶媒(例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、−ジメトキシエタン、−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類など)に溶解させ、該溶液を光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかと混合して用いれば良い。   That is, as the material for the electrolyte layer 30, it is preferable to use an ionic liquid in which a cation component and an anion component are arbitrarily combined. The ionic liquid may be directly dissolved in any of photopolymerizable monomers, oligomers, and liquid crystal materials. If the solubility is poor, a small amount of solvent (for example, propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, -dimethoxyethane, -ethoxymethoxyethane, Polyethylene glycol, alcohols, etc.), and the solution may be mixed with any of photopolymerizable monomers, oligomers, and liquid crystal materials.

更に、保護層を、第1のエレクトロクロミック層23及び第2エレクトロクロミック層26の各々の表示基板21と反対側の面に接するように、設けても良い。保護層を設けることで、第1のエレクトロクロミック層23及び第2エレクトロクロミック層26の各々の隣接層(例えば、第1の絶縁層24、第2の絶縁層27等)との密着性、溶剤に対する耐溶解性、等を向上させ、エレクトロクロミック表示素子20の耐久性を向上させることができる。   Furthermore, a protective layer may be provided so as to be in contact with the surface of each of the first electrochromic layer 23 and the second electrochromic layer 26 on the side opposite to the display substrate 21. By providing the protective layer, the adhesion with the adjacent layers (for example, the first insulating layer 24, the second insulating layer 27, etc.) of each of the first electrochromic layer 23 and the second electrochromic layer 26, solvent The solubility of the electrochromic display element 20 can be improved.

保護層の材料としては、有機高分子材料を用いることが好ましい。例えば、ポリビニルアルコール、ポリNビニルアミド、ポリエステル、ポリスチレン、ポリプロピレンなど一般的な樹脂が挙げられる。   As a material for the protective layer, an organic polymer material is preferably used. For example, general resins such as polyvinyl alcohol, poly N vinylamide, polyester, polystyrene, and polypropylene can be used.

また、無機保護層を、第3のエレクトロクロミック層29と電解質層30との間に設けても良い。無機保護層を設けることで、第3のエレクトロクロミック層29の電解質層30に対する耐溶解性、耐食性、等を向上させ、エレクトロクロミック表示素子20の耐久性を向上させることができる。   An inorganic protective layer may be provided between the third electrochromic layer 29 and the electrolyte layer 30. By providing the inorganic protective layer, it is possible to improve the dissolution resistance, corrosion resistance, and the like of the third electrochromic layer 29 with respect to the electrolyte layer 30, and to improve the durability of the electrochromic display element 20.

なお、図1に示すエレクトロクロミック表示素子20は、第1のエレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、第3のエレクトロクロミック層29、の3つのエレクトロクロミック層を有しているが、特に限定されない。フルカラー画像表示ではなく、モノクロ画像表示を目的とする場合には、例えば、図3に示すエレクトロクロミック表示素子20Aの様に、1つのエレクトロクロミック層のみを有していても良い。   The electrochromic display element 20 shown in FIG. 1 has three electrochromic layers including a first electrochromic layer 23, a second electrochromic layer 26, and a third electrochromic layer 29. It is not limited. For the purpose of monochrome image display instead of full-color image display, for example, it may have only one electrochromic layer like the electrochromic display element 20A shown in FIG.

上述のエレクトロクロミック表示素子20によれば、エレクトロクロミック化合物の担持粒子として用いられる酸化チタンのナノ粒子の表面を、金属水酸化物で被覆することで、酸化チタンの光触媒活性を抑制し、反射型表示及び透過型表示のどちらの場合であっても、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を高めることができる。加えて、白色反射層の材料として用いられる酸化チタン粒子の表面を、金属水酸化物で被覆することで、特に、反射型表示において、白反射率を高めることができる。   According to the electrochromic display element 20 described above, the surface of titanium oxide nanoparticles used as electrochromic compound-supported particles is coated with a metal hydroxide, thereby suppressing the photocatalytic activity of titanium oxide and reflecting type. In both cases of display and transmissive display, the light resistance of the electrochromic display element can be improved. In addition, by coating the surface of titanium oxide particles used as a material for the white reflective layer with a metal hydroxide, it is possible to increase the white reflectance particularly in a reflective display.

(エレクトロクロミック表示素子の多色表示)
次に、エレクトロクロミック表示素子の多色表示について説明する。
(Multicolor display of electrochromic display elements)
Next, multicolor display of the electrochromic display element will be described.

図1に示すエレクトロクロミック表示素子20は、上述の構造を有することにより、容易に多色表示が可能である。   The electrochromic display element 20 shown in FIG. 1 can easily perform multicolor display by having the above-described structure.

エレクトロクロミック表示素子20において、第1のエレクトロクロミック層23は、シアン色を発色し、第2エレクトロクロミック層26は、マゼンタ色を発色し、第3のエレクトロクロミック層29は、イエロー色を発色する。   In the electrochromic display element 20, the first electrochromic layer 23 develops a cyan color, the second electrochromic layer 26 develops a magenta color, and the third electrochromic layer 29 develops a yellow color. .

第1の表示電極22と第2の表示電極25とが、第1の絶縁層24を介して隔離して設けられているため、エレクトロクロミック表示素子20は、対向電極33と第1の表示電極22との間に生じる電圧と、対向電極33と第2の表示電極25との間に生じる電圧とを独立して制御することができる。   Since the first display electrode 22 and the second display electrode 25 are provided separately via the first insulating layer 24, the electrochromic display element 20 includes the counter electrode 33 and the first display electrode. The voltage generated between the counter electrode 33 and the second display electrode 25 can be controlled independently.

また、第2の表示電極25と第3の表示電極28とが、第2の絶縁層27を介して隔離して設けられているため、エレクトロクロミック表示素子20は、対向電極33と第2の表示電極25との間に生じる電圧と、対向電極33と第3の表示電極28との間に生じる電圧とを独立して制御することができる。   In addition, since the second display electrode 25 and the third display electrode 28 are provided separately via the second insulating layer 27, the electrochromic display element 20 includes the counter electrode 33 and the second electrode. The voltage generated between the display electrode 25 and the voltage generated between the counter electrode 33 and the third display electrode 28 can be controlled independently.

つまり、エレクトロクロミック表示素子20は、第1の表示電極22に接して設けられた第1のエレクトロクロミック層23と、第2の表示電極25に接して設けられた第2エレクトロクロミック層26と、第3の表示電極28に接して設けられた第3のエレクトロクロミック層29とを、それぞれ独立して発色或いは消色させることができる。   That is, the electrochromic display element 20 includes a first electrochromic layer 23 provided in contact with the first display electrode 22, a second electrochromic layer 26 provided in contact with the second display electrode 25, The third electrochromic layer 29 provided in contact with the third display electrode 28 can be independently developed or decolored.

その結果、エレクトロクロミック表示素子20は、対向電極及び各表示電極に印加される電圧に基づき、各エレクトロクロミック層を、任意に発色或いは消色させることができる。例えば、第1のエレクトロクロミック層23のみの発色、第2エレクトロクロミック層26のみの発色、第1のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層29のみの発色等、多段階の発色パターンで任意に発色させることができる。また、各エレクトロクロミック層が発色する色、色濃度、明るさ、等を対向電極及び各表示電極に印加される電圧に基づき、適宜調整し、所望の多色表示を行うことができる。   As a result, the electrochromic display element 20 can arbitrarily color or decolor each electrochromic layer based on the voltage applied to the counter electrode and each display electrode. For example, color development of only the first electrochromic layer 23, color development of only the second electrochromic layer 26, color development of only the first electrochromic layer 23 and the third electrochromic layer 29, etc. Can develop color. Further, a desired multicolor display can be performed by appropriately adjusting the color, color density, brightness, and the like of each electrochromic layer based on the voltage applied to the counter electrode and each display electrode.

なお、エレクトロクロミック表示素子20において、第1のエレクトロクロミック層23が発色する色は、シアン色に限定されない。また、第2エレクトロクロミック層26が発色する色は、マゼンタ色に限定されない。また、第3のエレクトロクロミック層29が発色する色は、イエロー色に限定されない。   In the electrochromic display element 20, the color that the first electrochromic layer 23 develops is not limited to cyan. Further, the color that the second electrochromic layer 26 develops is not limited to magenta. Further, the color developed by the third electrochromic layer 29 is not limited to the yellow color.

エレクトロクロミック表示素子20は、各エレクトロクロミック層に含まれるエレクトロクロミック化合物の担持粒子として、酸化チタンを用いているため、発色或いは消色の応答速度に優れた多色表示を行うことができる。また、エレクトロクロミック表示素子20は、各エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を、金属水酸化物で被覆しているため、酸化チタンの光触媒活性を抑制し、優れた耐光性を維持することができる。これより、エレクトロクロミック表示素子20は、高精細、且つ高コントラストを維持しつつ耐光性に優れたフルカラー表示(多色表示)を実現できる。   Since the electrochromic display element 20 uses titanium oxide as the electrochromic compound-carrying particles contained in each electrochromic layer, it can perform multicolor display with excellent response speed of color development or decoloration. In addition, since the electrochromic display element 20 covers the surface of the titanium oxide nanoparticles contained in each electrochromic layer with a metal hydroxide, it suppresses the photocatalytic activity of the titanium oxide and has excellent light resistance. Can be maintained. Thus, the electrochromic display element 20 can realize full color display (multicolor display) excellent in light resistance while maintaining high definition and high contrast.

(エレクトロクロミック表示素子の製造方法)
次に、図4を用いてエレクトロクロミック表示素子20の製造方法の一例について説明する。
(Method for manufacturing electrochromic display element)
Next, an example of a method for manufacturing the electrochromic display element 20 will be described with reference to FIG.

エレクトロクロミック表示素子20の製造方法は、図4のステップS11からステップS23に示される様に、表示電基板21上に第1の表示電極22を形成する第1の表示電極形成工程(ステップS11)と、その上に第1のエレクトロクロミック層23を形成する第1のエレクトロクロミック層形成工程(ステップS12)と、その上に第1の絶縁層24を形成する第1の絶縁層形成工程(ステップS13)と、その上に第2の表示電極25を形成する第2の表示電極形成工程(ステップS14)と、その上に第2のエレクトロクロミック層26を形成する第2のエレクトロクロミック層形成工程(ステップS15)と、その上に第2の絶縁層27を形成する第2の絶縁層形成工程(ステップS16)と、その上に第3の表示電極28を形成する第3の表示電極形成工程(ステップS17)と、その上に第3のエレクトロクロミック層29を形成する第3のエレクトロクロミック層形成工程(ステップS18)と、その上に白色反射層31を形成する白色反射層形成工程(ステップS19)と、対向基板35上に駆動素子層34を形成する駆動素子層形成工程(ステップS20)と、その上に対向電極33を形成する対向電極形成工程(ステップS21)と、その上に電荷保持層32を形成する電荷保持層形成工程(ステップS22)と、表示基板21と対向基板35とを貼合せる貼合せ工程(ステップS23)とを有する。   As shown in step S11 to step S23 in FIG. 4, the method for manufacturing the electrochromic display element 20 includes a first display electrode formation step (step S11) in which the first display electrode 22 is formed on the display substrate 21. And a first electrochromic layer forming step (step S12) for forming the first electrochromic layer 23 thereon, and a first insulating layer forming step (step for forming the first insulating layer 24 thereon) S13), a second display electrode forming step for forming the second display electrode 25 thereon (step S14), and a second electrochromic layer forming step for forming the second electrochromic layer 26 thereon (Step S15), a second insulating layer forming step for forming the second insulating layer 27 thereon (Step S16), and a third display electrode forming step for forming the third display electrode 28 thereon (Step S17) and on it A third electrochromic layer forming step (step S18) for forming the third electrochromic layer 29, a white reflecting layer forming step (step S19) for forming the white reflecting layer 31 thereon, and driving on the counter substrate 35 A driving element layer forming step (step S20) for forming the element layer 34, a counter electrode forming step (step S21) for forming the counter electrode 33 thereon, and a charge holding layer formation for forming the charge holding layer 32 thereon A process (step S22) and a bonding process (step S23) for bonding the display substrate 21 and the counter substrate 35 to each other.

(第1の表示電極形成工程)
まず、図4のステップS11に示される第1の表示電極形成工程を行う。
(First display electrode forming step)
First, the first display electrode formation step shown in step S11 of FIG. 4 is performed.

表示基板21(例えば、縦40mm×横40mmのガラス基板)上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約100nm、表面抵抗が約200Ω/□のITO膜を成膜し、第1の表示電極22を形成する。   An ITO film having a film thickness of about 100 nm and a surface resistance of about 200Ω / □ is formed on the display substrate 21 (for example, a glass substrate having a length of 40 mm and a width of 40 mm) by sputtering, and the first display electrode 22 is formed.

成膜法としては、スパッタ法に限定されず、イオンプレーティング法等、その他の真空成膜法を適用することができる。   The film forming method is not limited to the sputtering method, and other vacuum film forming methods such as an ion plating method can be applied.

(第1のエレクトロクロミック層形成工程)
次に、図4のステップS12に示される第1のエレクトロクロミック層形成工程を行う。
(First electrochromic layer forming step)
Next, the first electrochromic layer forming step shown in step S12 of FIG. 4 is performed.

まず、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子の分散液を、第1の表示電極22上に、スピンコート法により塗布する。その後、第1の表示電極22と酸化チタンのナノ粒子、及び酸化チタンのナノ粒子同士が部分的に接合するように、120℃で15分間のアニール処理を行う。これより、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子を多数含む酸化チタン粒子膜を形成する。   First, a dispersion of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is applied onto the first display electrode 22 by spin coating. Thereafter, annealing is performed at 120 ° C. for 15 minutes so that the first display electrode 22, the titanium oxide nanoparticles, and the titanium oxide nanoparticles are partially bonded to each other. Thus, a titanium oxide particle film including a large number of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is formed.

酸化チタンと水酸化アルミニウムの重量比は、88.3%:11.7%である。また、酸化チタンのナノ粒子の粒径は、20nmである。   The weight ratio of titanium oxide to aluminum hydroxide is 88.3%: 11.7%. The particle size of the titanium oxide nanoparticles is 20 nm.

その後、酸化チタン粒子膜上に、エレクトロクロミック化合物4,4'-(isooxazole-3,5-diyl)bis(1-(2-phosphonoethyl)pyridinium)bromideを1wt%含む2,2,3,3-テトラフロロプロパノール(以下「TFP」と記載)溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間のアニール処理を行う。これより、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第1のエレクトロクロミック層23を形成する。   Thereafter, 2,2,3,3-containing 1 wt% of electrochromic compound 4,4 ′-(isooxazole-3,5-diyl) bis (1- (2-phosphonoethyl) pyridinium) bromide on the titanium oxide particle film. A tetrafluoropropanol (hereinafter referred to as “TFP”) solution is applied by spin coating, and annealed at 120 ° C. for 10 minutes. Thus, the first electrochromic layer 23 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound is formed.

その後、第1のエレクトロクロミック層23上に、ポリNビニルアミドを0.1wt%含むエタノール溶液、ポリビニルアルコールを0.5wt%含む水溶液を、スピンコート法により塗布することによって、保護層を形成する。   Thereafter, a protective layer is formed on the first electrochromic layer 23 by applying an ethanol solution containing 0.1 wt% poly N vinylamide and an aqueous solution containing 0.5 wt% polyvinyl alcohol by spin coating.

(第1の絶縁層形成工程)
次に、図4のステップS13に示される第1の絶縁層形成工程を行う。
(First insulating layer forming step)
Next, a first insulating layer forming step shown in step S13 in FIG. 4 is performed.

保護層上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約140nmのZnS−SiO2膜を成膜し、第1の絶縁層24を形成する。ZnSとSiO2の組成比は、8:2である。 A ZnS—SiO 2 film having a thickness of about 140 nm is formed on the protective layer by sputtering, and the first insulating layer 24 is formed. The composition ratio of ZnS and SiO 2 is 8: 2.

成膜法としては、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等の真空成膜法を適用することができる。   As a film formation method, a vacuum film formation method such as an evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method can be applied.

(第2の表示電極形成工程)
次に、図4のステップS14に示される第2の表示電極形成工程を行う。
(Second display electrode forming step)
Next, a second display electrode forming step shown in step S14 of FIG. 4 is performed.

第1の絶縁層24上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約100nm、表面抵抗が約200Ω/□のITO膜を成膜し、第2の表示電極25を形成する。   On the first insulating layer 24, an ITO film having a film thickness of about 100 nm and a surface resistance of about 200Ω / □ is formed by sputtering to form a second display electrode 25.

(第2のエレクトロクロミック層形成工程)
次に、図4のステップS15に示される第2のエレクトロクロミック層形成工程を行う。
(Second electrochromic layer forming step)
Next, the second electrochromic layer forming step shown in step S15 of FIG. 4 is performed.

まず、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子の分散液を、第2の表示電極25上に、スピンコート法により塗布する。その後、第2の表示電極25と酸化チタンのナノ粒子、及び酸化チタンのナノ粒子同士が部分的に接合するように、120℃で15分間のアニール処理を行う。これより、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子を多数含む酸化チタン粒子膜を形成する。   First, a dispersion of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is applied onto the second display electrode 25 by spin coating. After that, an annealing process is performed at 120 ° C. for 15 minutes so that the second display electrode 25, the titanium oxide nanoparticles, and the titanium oxide nanoparticles are partially bonded to each other. Thus, a titanium oxide particle film including a large number of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is formed.

酸化チタンと水酸化アルミニウムの重量比は、88.3%:11.7%である。また、酸化チタンのナノ粒子の粒径は、20nmである。   The weight ratio of titanium oxide to aluminum hydroxide is 88.3%: 11.7%. The particle size of the titanium oxide nanoparticles is 20 nm.

その後、酸化チタン粒子膜上に、エレクトロクロミック化合物4,4'-(1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-diyl)bis(1-(4-phosphonomethyl)benzyl)pyridinium)bromideを1wt%含むTFP溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間のアニール処理を行う。これより、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層26を形成する。   Thereafter, 1 wt% of electrochromic compound 4,4 ′-(1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-diyl) bis (1- (4-phosphonomethyl) benzyl) pyridinium) bromide is contained on the titanium oxide particle film. TFP solution is applied by spin coating and annealed at 120 ° C for 10 minutes. Thus, the second electrochromic layer 26 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound is formed.

その後、第2のエレクトロクロミック層26上に、ポリNビニルアミドを0.1wt%含むエタノール溶液、ポリビニルアルコールを0.5wt%含む水溶液を、スピンコート法により塗布することによって、保護層を形成する。   Thereafter, a protective layer is formed on the second electrochromic layer 26 by applying an ethanol solution containing 0.1 wt% poly N vinylamide and an aqueous solution containing 0.5 wt% polyvinyl alcohol by a spin coating method.

(第2の絶縁層形成工程)
次に、図4のステップS16に示される第2の絶縁層形成工程を行う。
(Second insulating layer forming step)
Next, a second insulating layer forming step shown in step S16 in FIG. 4 is performed.

保護層上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約140nmのZnS−SiO2膜を成膜し、第2の絶縁層27を形成する。ZnSとSiO2の組成比は、8:2である。 A ZnS—SiO 2 film having a thickness of about 140 nm is formed on the protective layer by sputtering, and the second insulating layer 27 is formed. The composition ratio of ZnS and SiO 2 is 8: 2.

成膜法としては、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等の真空成膜法を適用することができる。   As a film formation method, a vacuum film formation method such as an evaporation method, a sputtering method, or an ion plating method can be applied.

(第3の表示電極形成工程)
次に、図4のステップS17に示される第3の表示電極形成工程を行う。
(Third display electrode forming step)
Next, a third display electrode forming step shown in step S17 in FIG. 4 is performed.

第2の絶縁層27上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約100nm、表面抵抗が約200Ω/□のITO膜を成膜し、第3の表示電極28を形成する。   On the second insulating layer 27, an ITO film having a film thickness of about 100 nm and a surface resistance of about 200Ω / □ is formed by sputtering, and a third display electrode 28 is formed.

(第3のエレクトロクロミック層形成工程)
次に、図4のステップS18に示される第3のエレクトロクロミック層形成工程を行う。
(Third electrochromic layer forming step)
Next, a third electrochromic layer forming step shown in step S18 of FIG. 4 is performed.

まず、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子の分散液を、第3の表示電極28上に、スピンコート法により塗布する。その後、第3の表示電極28と酸化チタンのナノ粒子、及び酸化チタンのナノ粒子同士が部分的に接合するように、120℃で15分間のアニール処理を行う。これより、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタンのナノ粒子を多数含む酸化チタン粒子膜を形成する。   First, a dispersion of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is applied onto the third display electrode 28 by spin coating. After that, an annealing process is performed at 120 ° C. for 15 minutes so that the third display electrode 28, the titanium oxide nanoparticles, and the titanium oxide nanoparticles are partially bonded to each other. Thus, a titanium oxide particle film including a large number of titanium oxide nanoparticles coated with aluminum hydroxide is formed.

酸化チタンと水酸化アルミニウムの重量比は、88.3%:11.7%である。また、酸化チタンのナノ粒子の粒径は、20nmである。   The weight ratio of titanium oxide to aluminum hydroxide is 88.3%: 11.7%. The particle size of the titanium oxide nanoparticles is 20 nm.

その後、酸化チタン粒子膜上に、エレクトロクロミック化合物4,4'-(4,4'-(1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(1-(8-phosphonooctyl)pyridinium)bromideを1wt%含むTFP溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間のアニール処理を行う。これより、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第3のエレクトロクロミック層29を形成する。   Thereafter, on the titanium oxide particle film, the electrochromic compound 4,4 ′-(4,4 ′-(1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl) bis (4,1-phenylene)) bis (1 A TFP solution containing 1 wt% of (8-phosphonooctyl) pyridinium) bromide is applied by spin coating, and annealed at 120 ° C. for 10 minutes. Thus, a third electrochromic layer 29 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound is formed.

(白色反射層形成工程)
次に、図4のステップS19に示される白色反射層形成工程を行う。
(White reflective layer forming process)
Next, the white reflective layer forming step shown in step S19 of FIG. 4 is performed.

まず、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタン粒子、及び水性ポリウレタン樹脂のTFP分散液を、第3のエレクトロクロミック層29上に、スピンコート法により塗布する。その後、120℃で10分間のアニール処理を行う。これより、水酸化アルミニウムで被覆された酸化チタン粒子を多数含む白色反射層31を形成する。   First, titanium oxide particles coated with aluminum hydroxide and a TFP dispersion of an aqueous polyurethane resin are applied onto the third electrochromic layer 29 by spin coating. Thereafter, annealing is performed at 120 ° C. for 10 minutes. Thus, the white reflective layer 31 including a large number of titanium oxide particles coated with aluminum hydroxide is formed.

酸化チタンと水酸化アルミニウムの重量比は、91.1%:8.9%である。また、酸化チタン粒子の粒径は、300nmである。   The weight ratio of titanium oxide to aluminum hydroxide is 91.1%: 8.9%. The particle size of the titanium oxide particles is 300 nm.

その後、第1の表示電極22、第2の表示電極25、第3の表示電極28、第1のエレクトロクロミック層23、第2のエレクトロクロミック層26、第3のエレクトロクロミック層29、白色反射層31を、壁部材36(図1参照)で取り囲む。   Thereafter, the first display electrode 22, the second display electrode 25, the third display electrode 28, the first electrochromic layer 23, the second electrochromic layer 26, the third electrochromic layer 29, and the white reflective layer 31 is surrounded by a wall member 36 (see FIG. 1).

(駆動素子層形成工程)
次に、図4のステップS20に示される駆動素子層形成工程を行う。
(Driving element layer forming step)
Next, the driving element layer forming step shown in step S20 of FIG. 4 is performed.

対向基板35(例えば、縦40mm×横40mmのガラス基板)上に、画素密度が140ppi(Pixels per Inch)となる様に、複数の駆動素子を有する駆動素子層34を、公知の工程により形成する。   A driving element layer 34 having a plurality of driving elements is formed by a known process on a counter substrate 35 (for example, a glass substrate having a length of 40 mm and a width of 40 mm) so that the pixel density is 140 ppi (Pixels per inch). .

(対向電極形成工程)
次に、図4のステップS21に示される対向電極形成工程を行う。
(Counter electrode formation process)
Next, the counter electrode forming step shown in step S21 of FIG. 4 is performed.

対向基板35上に、スパッタ法を用いて、膜厚が約100nmのITO膜を成膜する。その後、フォトリソグラフィにより、駆動素子層34が有する複数の駆動素子に対応させて、複数の対向電極35を形成する。   An ITO film having a thickness of about 100 nm is formed on the counter substrate 35 by sputtering. Thereafter, a plurality of counter electrodes 35 are formed by photolithography so as to correspond to the plurality of driving elements included in the driving element layer 34.

(電荷保持層形成工程)
次に、図4のステップS22に示される電荷保持層形成工程を行う。
(Charge retention layer forming step)
Next, the charge retention layer forming step shown in step S22 of FIG. 4 is performed.

電荷保持層32は、ポリマー材料と微粒子材料とを混合して分散媒に分散させ、スピンコーティング法により、該混合材料を、駆動素子層34及び対向電極33上に塗布することで形成される。   The charge retention layer 32 is formed by mixing a polymer material and a fine particle material and dispersing them in a dispersion medium, and applying the mixed material onto the drive element layer 34 and the counter electrode 33 by a spin coating method.

具体的には、駆動素子層34及び対向電極35上に、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子のTFP分散液をスピンコート法により塗布する。その後、120℃で15分間のアニール処理を行うことにより、膜厚が約640nm、表面抵抗が約1.0E+06Ω/□の電荷保持層32を形成する。   Specifically, a TFP dispersion of an aqueous polyurethane resin and ATO nanoparticles is applied on the driving element layer 34 and the counter electrode 35 by a spin coating method. Thereafter, the charge retention layer 32 having a film thickness of about 640 nm and a surface resistance of about 1.0E + 06Ω / □ is formed by performing an annealing process at 120 ° C. for 15 minutes.

水性ポリウレタン樹脂とATOの重量比は、55%:45%である。   The weight ratio of the aqueous polyurethane resin to ATO is 55%: 45%.

塗布法としては、スピンコーティング法、ブレードコーティング法等、その他の印刷手法を適用することができる。   As a coating method, other printing methods such as a spin coating method and a blade coating method can be applied.

なお、水性ポリウレタン樹脂及びATOナノ粒子のTFP溶液は、対向電極33上のみに選択的に塗布する必要はなく、駆動素子層34に含まれる複数の駆動素子に対応して形成される対向電極33と対向電極33との間に、塗布しても良い。該溶液を、選択的に塗布する必要が無いため、電荷保持層32を形成しない場合と比較して、電荷保持層32を形成する場合の方が、製造工程を簡易化し、製造コストを抑えることができる。   The aqueous polyurethane resin and the TFP solution of ATO nanoparticles do not need to be selectively applied only on the counter electrode 33, and the counter electrode 33 formed corresponding to a plurality of drive elements included in the drive element layer 34. And the counter electrode 33 may be applied. Since it is not necessary to selectively apply the solution, the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is reduced when the charge holding layer 32 is formed compared to the case where the charge holding layer 32 is not formed. Can do.

(貼合せ工程)
次に、図4のステップS23に示される貼合せ工程を行う。
(Lamination process)
Next, the bonding process shown in step S23 of FIG. 4 is performed.

電荷保持層32までを形成した対向基板35と、白色反射層31までを形成した表示基板21とを、対向電極と表示電極とが対面するように電解質を挟んで貼合せる。   The counter substrate 35 having the layers up to the charge holding layer 32 and the display substrate 21 having the layers up to the white reflective layer 31 are bonded with the electrolyte sandwiched so that the counter electrode and the display electrode face each other.

具体的には、壁部材36に囲まれた表示基板21において、電解質の前駆体材料を、白色反射層31の上から、注入する。注入口を封止することによって、表示基板21と対向基板35とを貼合せる。その後、高圧水銀ランプにより、紫外光を、対向電極33側から、2分間照射する。紫外光照射により、該前駆体材料を光重合相分離させることができるため、両基板の間に電解質層30を形成することができる。なお、紫外光は、中心波長が365nm、強度が50mW/cm2である。 Specifically, in the display substrate 21 surrounded by the wall member 36, an electrolyte precursor material is injected from above the white reflective layer 31. The display substrate 21 and the counter substrate 35 are bonded together by sealing the injection port. Thereafter, ultraviolet light is irradiated for 2 minutes from the counter electrode 33 side by a high-pressure mercury lamp. Since the precursor material can be photopolymerized and separated by irradiation with ultraviolet light, the electrolyte layer 30 can be formed between the two substrates. The ultraviolet light has a center wavelength of 365 nm and an intensity of 50 mW / cm 2 .

電解質層30の前駆体材料は、エレクトロクロミック表示素子20の製造前に調整される。ステップS23における貼合せ工程では、事前に調整された電解質層30の前駆体材料を使用する。電解質層30の前駆体材料の調整方法の一例としては、まず、過塩素酸テトラブチルアンモニウム(Tetra Butyl Ammonium Perchlorate:TBAP)の炭酸プロピレン(propylene carbonate)溶液を、TBAPのモル濃度が、約2.0mol/lとなる様に調整する。その後、PNLC(Polymer Network Liquid Crystal)用の液晶組成物、モノマー組成物、及び重合開始剤の混合物を、該溶液に混合する。その後、炭酸プロピレン溶液におけるTBAPのモル濃度が、約0.04mol/lになる様に再び調整する。その後、製造される電解質層30の膜厚を規定するために、粒径10μmの真球状樹脂ビーズを0.2wt%濃度で、該炭酸プロピレン溶液に分散させる。こうして、電解質層30の前駆体材料とすることができる。   The precursor material of the electrolyte layer 30 is adjusted before the electrochromic display element 20 is manufactured. In the bonding step in step S23, the precursor material of the electrolyte layer 30 adjusted in advance is used. As an example of a method of adjusting the precursor material of the electrolyte layer 30, first, a propylene carbonate solution of tetrabutylammonium perchlorate (TBAP) and a molar concentration of TBAP of about 2.0 mol are used. Adjust to / l. Thereafter, a mixture of a liquid crystal composition for PNLC (Polymer Network Liquid Crystal), a monomer composition, and a polymerization initiator is mixed into the solution. Thereafter, the molar concentration of TBAP in the propylene carbonate solution is adjusted again to be about 0.04 mol / l. Thereafter, in order to regulate the film thickness of the electrolyte layer 30 to be manufactured, true spherical resin beads having a particle diameter of 10 μm are dispersed in the propylene carbonate solution at a concentration of 0.2 wt%. Thus, a precursor material for the electrolyte layer 30 can be obtained.

(実施形態2)
(エレクトロクロミック表示素子の耐光性評価)
本実施形態では、エレクトロクロミック表示素子の耐光性について説明する。
(Embodiment 2)
(Evaluation of light resistance of electrochromic display elements)
In this embodiment, the light resistance of an electrochromic display element will be described.

エレクトロクロミック表示素子の色差保持率から、エレクトロクロミック表示素子の耐光性を評価した。   The light resistance of the electrochromic display element was evaluated from the color difference retention rate of the electrochromic display element.

色差保持率の変化から、白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の表面、或いはエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を金属水酸化物で被覆することによって生じる効果を調べた。また、色差保持率の変化から、該金属水酸化物を、水酸化アルミニウム、或いは水酸化鉄(Fe(OH))とすることによって生じる効果を調べた。 From the change in color difference retention rate, the effect produced by coating the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer or the surface of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer with a metal hydroxide was investigated. Further, from the change in color difference retention rate, the effect produced by using the metal hydroxide as aluminum hydroxide or iron hydroxide (Fe (OH) 3 ) was examined.

評価結果を図5に示す。   The evaluation results are shown in FIG.

エレクトロクロミック表示素子としては、5種類の異なるエレクトロクロミック表示素子を用いた。なお、5種類のエレクトロクロミック表示素子の構造は、次に示す構造((1)〜(5)参照)がそれぞれ異なっている。異なる構造を除いた他の構造は、実施形態1に示したエレクトロクロミック表示素子20の構造と全て等しい。構造(1)〜(4)を実施例のエレクトロクロミック表示素子(実施例1〜4)とした。構造(5)を比較例のエレクトロクロミック表示素子(比較例1)とした。   As the electrochromic display element, five different types of electrochromic display elements were used. The structures of the five types of electrochromic display elements are different from each other in the following structure (see (1) to (5)). The other structures except for the different structures are all the same as the structure of the electrochromic display element 20 shown in the first embodiment. Structures (1) to (4) were used as electrochromic display elements of Examples (Examples 1 to 4). Structure (5) was used as a comparative electrochromic display element (Comparative Example 1).

1種類目として、(1)白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を水酸化アルミニウムで被覆したエレクトロクロミック表示素子を用いた。2種類目として、(2)エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面のみを水酸化アルミニウムで被覆したエレクトロクロミック表示素子を用いた。3種類目として、(3)白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の表面のみを水酸化アルミニウムで被覆したエレクトロクロミック表示素子を用いた。4種類目として、(4)白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を水酸化鉄(Fe(OH))で被覆したエレクトロクロミック表示素子を用いた。5種類目として、(5)白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面をどちらも金属水酸化物で被覆しないエレクトロクロミック表示素子を用いた。 As the first type, (1) an electrochromic display element in which the surface of titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer was coated with aluminum hydroxide was used. As the second type, (2) an electrochromic display element in which only the surface of titanium oxide particles contained in the electrochromic layer was coated with aluminum hydroxide was used. As the third type, (3) an electrochromic display element in which only the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer was coated with aluminum hydroxide was used. As a fourth type, (4) an electrochromic display element in which the surface of titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer was coated with iron hydroxide (Fe (OH) 3 ) was used. As the fifth type, (5) an electrochromic display element in which neither the surface of titanium oxide particles contained in the white reflective layer nor the electrochromic layer was coated with a metal hydroxide was used.

色差保持率は、エレクトロクロミック表示素子に光を照射する前の色差ΔE_αと、エレクトロクロミック表示素子に光を照射した後の色差ΔE_βに基づいて算出した。光照射は、測定対象のエレクトロクロミック表示素子に対して、UV成分を含む白色蛍光灯の光を、照度15000Lx、100時間照射することにより行った。   The color difference retention was calculated based on the color difference ΔE_α before irradiating the electrochromic display element with light and the color difference ΔE_β after irradiating the electrochromic display element with light. Light irradiation was performed by irradiating the electrochromic display element to be measured with light from a white fluorescent lamp containing a UV component at an illuminance of 15000 Lx for 100 hours.

色差ΔEは、次の様に算出した。まず、測定対象のエレクトロクロミック表示素子を完全に消色させた状態と、測定対象のエレクトロクロミック表示素子においてエレクトロクロミック層を発色させた状態との2状態における発色濃度の違いを分光測色計により測色した。CIE Lab表色系(L*a*b*表色系)で表された2値の座標に対応させて、色差ΔEを算出し、発色濃度の指標とした。光照射後の色差ΔE_βを、光照射前の色差ΔE_αとして、色差ΔE_βを色差ΔE_αで除すことにより、色差保持率を算出した。   The color difference ΔE was calculated as follows. First, using a spectrocolorimeter, the difference in color density between two states, a state in which the electrochromic display element to be measured is completely decolored and a state in which the electrochromic layer is colored in the electrochromic display element to be measured Measured color. The color difference ΔE was calculated in correspondence with the binary coordinates expressed in the CIE Lab color system (L * a * b * color system), and used as an index of color density. The color difference retention rate was calculated by dividing the color difference ΔE_β by the color difference ΔE_α with the color difference ΔE_β after the light irradiation as the color difference ΔE_α before the light irradiation.

なお、CIE Lab表色系とは、色を、明度L*とクロマネティクス指数a*、b*からなる均等色空間上の座標で表したものであり、人の目の色覚を元に計算式が定義されている。   The CIE Lab color system is a color expression expressed in coordinates on a uniform color space consisting of lightness L * and chrominance index a *, b *, and is based on the color vision of the human eye. Is defined.

まず、(1)のエレクトロクロミック表示素子における、光照射前後の色差保持率を算出した。   First, the color difference retention ratio before and after light irradiation in the electrochromic display element of (1) was calculated.

白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の粒径を300nm、酸化チタン粒子と水酸化アルミニウムの重量比を、91.1%:8.9%とした。また、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の粒径を20nm、酸化チタンのナノ粒子と水酸化アルミニウムの重量比を、88.3%:11.7%とした。   The particle size of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer was 300 nm, and the weight ratio of the titanium oxide particles to aluminum hydroxide was 91.1%: 8.9%. The particle size of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer was 20 nm, and the weight ratio of the titanium oxide nanoparticles to aluminum hydroxide was 88.3%: 11.7%.

光照射前における色差ΔE_αは、54.8であった。   The color difference ΔE_α before the light irradiation was 54.8.

光照射後における色差ΔE_βは、49.0であった。   The color difference ΔE_β after light irradiation was 49.0.

即ち、白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を水酸化アルミニウムで被覆した場合、光照射を経た色差保持率は89.4%であった。この結果より、(1)のエレクトロクロミック表示素子は、優れた耐光性を有することが示唆される。   That is, when the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer was coated with aluminum hydroxide, the color difference retention rate after light irradiation was 89.4%. This result suggests that the electrochromic display element (1) has excellent light resistance.

次に、(2)のエレクトロクロミック表示素子における、光照射前後の色差保持率を算出した。   Next, in the electrochromic display element of (2), the color difference retention ratio before and after light irradiation was calculated.

エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の粒径を20nm、酸化チタンのナノ粒子と水酸化アルミニウムの重量比を、88.3%:11.7%とした。   The particle size of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer was 20 nm, and the weight ratio of the titanium oxide nanoparticles to aluminum hydroxide was 88.3%: 11.7%.

光照射前における色差ΔE_αは、55.1であった。   The color difference ΔE_α before the light irradiation was 55.1.

光照射後における色差ΔE_βは、37.0であった。   The color difference ΔE_β after light irradiation was 37.0.

即ち、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面のみを水酸化アルミニウムで被覆した場合、光照射を経た色差保持率は67.1%であった。この結果より、(2)のエレクトロクロミック表示素子は、(1)のエレクトロクロミック表示素子と比較して耐光性が低下することが示唆される。   That is, when only the surface of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer was coated with aluminum hydroxide, the color difference retention rate after light irradiation was 67.1%. This result suggests that the electrochromic display element of (2) has lower light resistance than the electrochromic display element of (1).

次に、(3)のエレクトロクロミック表示素子における、光照射前後の色差保持率を算出した。   Next, the color difference retention ratio before and after light irradiation in the electrochromic display element of (3) was calculated.

白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の粒径を300nm、酸化チタン粒子と水酸化アルミニウムの重量比を、91.1%:8.9%とした。   The particle size of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer was 300 nm, and the weight ratio of the titanium oxide particles to aluminum hydroxide was 91.1%: 8.9%.

光照射前における色差ΔE_αは、53.4であった。   The color difference ΔE_α before light irradiation was 53.4.

光照射後における色差ΔE_βは、24.2であった。   The color difference ΔE_β after light irradiation was 24.2.

即ち、白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の表面のみを水酸化アルミニウムで被覆した場合、光照射を経た色差保持率は45.3%であった。この結果より、白色反射層を水酸化アルミニウムで被覆する場合と比べて、エレクトロクロミック層を水酸化アルミニウムで被覆する場合の方が、耐光性は高まることが示唆される。   That is, when only the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer was coated with aluminum hydroxide, the color difference retention rate after light irradiation was 45.3%. From this result, it is suggested that the light resistance is improved when the electrochromic layer is coated with aluminum hydroxide as compared with the case where the white reflective layer is coated with aluminum hydroxide.

次に、(4)のエレクトロクロミック表示素子における、光照射前後の色差保持率を算出した。   Next, the color difference retention ratio before and after light irradiation in the electrochromic display element of (4) was calculated.

白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の粒径を300nm、酸化チタン粒子と水酸化鉄(Fe(OH))の重量比を、90.3%:9.7%とした。また、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の粒径を20nm、酸化チタンのナノ粒子と水酸化鉄(Fe(OH))の重量比を、87.5%:12.5%とした。 The particle size of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer was 300 nm, and the weight ratio of the titanium oxide particles to iron hydroxide (Fe (OH) 3 ) was 90.3%: 9.7%. The particle size of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer was 20 nm, and the weight ratio of the titanium oxide nanoparticles to iron hydroxide (Fe (OH) 3 ) was 87.5%: 12.5%.

光照射前における色差ΔE_αは、55.7であった。   The color difference ΔE_α before the light irradiation was 55.7.

光照射後における色差ΔE_βは、42.9であった。   The color difference ΔE_β after light irradiation was 42.9.

即ち、白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を水酸化鉄(Fe(OH))で被覆した場合、光照射を経た色差保持率は77.1%であった。この結果より、白色反射層及びエレクトロクロミック層を水酸化アルミニウムで被覆する場合よりは劣るが、白色反射層及びエレクトロクロミック層を水酸化鉄(Fe(OH))で被覆する場合も、エレクトロクロミック表示素子は、優れた耐光性を有することが示唆される。また、水酸化アルミニウムは、水酸化鉄(Fe(OH))と比較して、酸化チタンに対する光触媒活性の抑制効果が大きいことが示唆される。 That is, when the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer was coated with iron hydroxide (Fe (OH) 3 ), the color difference retention rate after light irradiation was 77.1%. From this result, although it is inferior to the case where the white reflective layer and the electrochromic layer are coated with aluminum hydroxide, the case where the white reflective layer and the electrochromic layer are coated with iron hydroxide (Fe (OH) 3 ) is also electrochromic. It is suggested that the display element has excellent light resistance. In addition, it is suggested that aluminum hydroxide has a greater effect of suppressing photocatalytic activity on titanium oxide than iron hydroxide (Fe (OH) 3 ).

次に、(5)のエレクトロクロミック表示素子における、光照射前後の色差保持率を算出した。   Next, the color difference retention ratio before and after light irradiation in the electrochromic display element of (5) was calculated.

光照射前における色差ΔE_αは、55.4であった。   The color difference ΔE_α before light irradiation was 55.4.

光照射後における色差ΔE_βは、11.0であった。   The color difference ΔE_β after light irradiation was 11.0.

即ち、白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面をどちらも金属水酸化物で被覆しない場合、光照射を経た色差保持率は19.8%であった。この結果より、エレクトロクロミック表示素子の耐光性は、非常に悪いことが示唆される。   That is, when neither of the surfaces of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer was coated with a metal hydroxide, the color difference retention rate after light irradiation was 19.8%. This result suggests that the light resistance of the electrochromic display element is very poor.

上述の5つの結果を比較すると、白色反射層及びエレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面をどちらも金属水酸化物で被覆し、且つその金属水酸化物が、水酸化アルミニウムである場合に、光照射後における色差_βが最も大きく色差保持率が高いことが確認できた。   Comparing the above five results, when the surface of the titanium oxide particles contained in the white reflective layer and the electrochromic layer are both coated with a metal hydroxide, and the metal hydroxide is aluminum hydroxide, It was confirmed that the color difference_β after light irradiation was the largest and the color difference retention rate was high.

従って、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を金属水酸化物で被覆することで、優れた耐光性を有するエレクトロクロミック表示素子を実現できることが示唆される。   Therefore, it is suggested that an electrochromic display element having excellent light resistance can be realized by coating the surface of titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer with a metal hydroxide.

また、白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の表面を金属水酸化物で被覆することで、更に優れた耐光性を有するエレクトロクロミック表示素子を実現できることが示唆される。   Further, it is suggested that an electrochromic display element having further excellent light resistance can be realized by coating the surface of titanium oxide particles contained in the white reflective layer with a metal hydroxide.

なお、エレクトロクロミック層を、1層のみ形成し、モノクロ表示のエレクトロクロミック表示素子における光照射前後の色差保持率を算出すると、光照射前における色差ΔE_αは、53.0、光照射後における色差ΔE_βは47.9であり、光照射を経た色差保持率は90.3%であった。分光測色計による測色においては、白色板上に該エレクトロクロミック表示素子を重ねて測色した。これより、モノクロ表示の場合であっても、優れた耐光性を有するエレクトロクロミック表示素子を実現できることが示唆される。   When only one electrochromic layer is formed and the color difference retention ratio before and after light irradiation in a monochrome display electrochromic display element is calculated, the color difference ΔE_α before light irradiation is 53.0, and the color difference ΔE_β after light irradiation is 47.9. The color difference retention rate after light irradiation was 90.3%. In the colorimetry using the spectrocolorimeter, the electrochromic display element was superimposed on a white plate for colorimetry. This suggests that an electrochromic display element having excellent light resistance can be realized even in the case of monochrome display.

(実施形態3)
(エレクトロクロミック表示素子を適用した情報機器)
本実施形態では、実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子20を、電子書籍リーダに適用した場合について説明する。エレクトロクロミック表示素子20は、電子書籍リーダに限定されず、例えば、電子広告、モバイルパソコン、携帯端末等、表示装置を備えたあらゆる情報機器に適用することができる。
(Embodiment 3)
(Information equipment using electrochromic display elements)
In the present embodiment, a case where the electrochromic display element 20 according to the first embodiment is applied to an electronic book reader will be described. The electrochromic display element 20 is not limited to an electronic book reader, and can be applied to any information device including a display device such as an electronic advertisement, a mobile personal computer, and a portable terminal.

図6は、電子書籍リーダ100の概略構造の一例を示している。   FIG. 6 shows an example of a schematic structure of the electronic book reader 100.

電子書籍リーダ100は、表示装置101、メインコントローラ102、ROM103、RAM104、フラッシュメモリ105、キャラクタジェネレータ106、インターフェース107を含む。また、表示装置101は、タッチパネル付きの表示パネル111、タッチパネルドライバ112、表示コントローラ113、VRAM114を含む。   The electronic book reader 100 includes a display device 101, a main controller 102, a ROM 103, a RAM 104, a flash memory 105, a character generator 106, and an interface 107. The display device 101 includes a display panel 111 with a touch panel, a touch panel driver 112, a display controller 113, and a VRAM 114.

なお、図6に示す構造では、表示装置101の外部にキャラクタジェネレータ106が備えられているが、表示装置101の内部にキャラクタジェネレータ106が備えられていても良い。また、表示パネル111は、タッチパネルを備えていなくても良い。他の入力手段がある場合は、他の入力手段を、表示パネル111に備えれば良い。表示パネル111がタッチパネルを備えていない場合は、タッチパネルドライバ112は不要である。   In the structure shown in FIG. 6, the character generator 106 is provided outside the display device 101. However, the character generator 106 may be provided inside the display device 101. Further, the display panel 111 may not include a touch panel. If there is other input means, the display panel 111 may be provided with other input means. When the display panel 111 does not include a touch panel, the touch panel driver 112 is not necessary.

なお、図6に示す矢印は、代表的な信号や情報の流れを表しており、各ブロックの接続関係の全てを表すものではない。   Note that the arrows shown in FIG. 6 represent the flow of typical signals and information, and do not represent the entire connection relationship of each block.

タッチパネル付きの表示パネル111は、実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子20、及び第1のエレクトロクロミック層23、第2エレクトロクロミック層26、第3のエレクトロクロミック層29を個別に駆動する駆動回路を含む。駆動回路は、駆動素子層34を含んでおり、駆動素子層34は、各々の対向電極33に対応した複数の駆動素子を有する。表示パネル111は、表示コントローラ113から出力される画素選択信号に基づいて、選択された画素に対応する駆動素子を駆動させ、選択された画素に、所定の電圧を印加する。なお、画素選択信号は、選択される画素の縦方向の位置と横方向の位置とを指定する信号である。また、表示パネル111は、表示コントローラ113から出力される色指定信号に基づいて、その指定色に応じて、対応する表示電極に所定の電圧を印加する。画素選択信号、色指定信号等の信号に基づいて、表示パネル111は、動画像又は静止画像等を表示する。   The display panel 111 with a touch panel includes a drive circuit for individually driving the electrochromic display element 20 according to the first embodiment, the first electrochromic layer 23, the second electrochromic layer 26, and the third electrochromic layer 29. Including. The drive circuit includes a drive element layer 34, and the drive element layer 34 has a plurality of drive elements corresponding to the respective counter electrodes 33. The display panel 111 drives a driving element corresponding to the selected pixel based on the pixel selection signal output from the display controller 113, and applies a predetermined voltage to the selected pixel. The pixel selection signal is a signal that designates the vertical position and the horizontal position of the selected pixel. Further, based on the color designation signal output from the display controller 113, the display panel 111 applies a predetermined voltage to the corresponding display electrode according to the designated color. Based on signals such as a pixel selection signal and a color designation signal, the display panel 111 displays a moving image, a still image, or the like.

また、表示パネル111は、ユーザがタッチパネルをタッチした際、タッチ位置に基づく信号をタッチパネルドライバ112に出力する。   Further, the display panel 111 outputs a signal based on the touch position to the touch panel driver 112 when the user touches the touch panel.

なお、表示パネル111は、実施形態1に係るエレクトロクロミック表示素子20を備えているため、高い白反射率及び高コントラスト比を維持しつつ、高精細なフルカラー表示(多色表示)を実現することができる。実際、フルカラー画像の表示と消去とを交互に1000回繰り返した後であっても、画像の表示状態には特別な変化は見られなかった。   Since the display panel 111 includes the electrochromic display element 20 according to the first embodiment, high-definition full-color display (multicolor display) can be realized while maintaining high white reflectance and a high contrast ratio. Can do. Actually, even after displaying and erasing a full-color image alternately 1000 times, no special change was observed in the display state of the image.

また、表示パネル111は、発色或いは消色の切り替えを高速に行うことができる。実際、駆動開始から画像取得までに要する時間、及び取得した画像を消去するまでに要する時間を測定すると、500mm秒程度であった。   Further, the display panel 111 can switch between color development and color erasure at high speed. Actually, the time required from the start of driving to image acquisition and the time required to erase the acquired image were about 500 mm seconds.

また、表示パネル111は、耐光性に優れているため、日光や室内光等の光に対する堅牢性が高く、長時間光が照射されても、視認性の高い画像表示を維持することができる。実際、フルカラー画像を表示させた後、30分程度静置しても、画像の見え方に変化はなく、画像のボケは認識できなかった。   In addition, since the display panel 111 has excellent light resistance, the display panel 111 has high fastness to light such as sunlight and room light, and can maintain high-visibility image display even when light is irradiated for a long time. In fact, even after standing for about 30 minutes after displaying a full-color image, there was no change in the appearance of the image, and blurring of the image could not be recognized.

VRAM114は、表示パネル111に動画像又は静止画像を表示するための表示データを格納する。該表示データは、表示パネル111に含まれる複数の画素に個別に対応している。従って、該表示データは、各々の画素に対応する表示色情報を含む。   The VRAM 114 stores display data for displaying a moving image or a still image on the display panel 111. The display data individually corresponds to a plurality of pixels included in the display panel 111. Therefore, the display data includes display color information corresponding to each pixel.

表示コントローラ113は、所定のタイミング毎に、VRAM114に格納されている表示データを読み出し、該表示データに応じて、表示パネル111に含まれる複数の画素の表示色を個別に制御する。表示コントローラ113は、発色させる画素を特定するための画素選択信号と、色を特定するための色指定信号とを表示パネル111に出力する。   The display controller 113 reads display data stored in the VRAM 114 at predetermined timings, and individually controls display colors of a plurality of pixels included in the display panel 111 according to the display data. The display controller 113 outputs to the display panel 111 a pixel selection signal for specifying a pixel to be colored and a color designation signal for specifying a color.

タッチパネルドライバ112は、表示パネル111上においてユーザがタッチした位置に対応する位置情報をメインコントローラ102に出力する。   The touch panel driver 112 outputs position information corresponding to the position touched by the user on the display panel 111 to the main controller 102.

メインコントローラ102は、ROM103に格納されているプログラムに従って、RAM104、フラッシュメモリ105、キャラクタジェネレータ106、インターフェース107、VRAM114等の各部を統括的に制御する。   The main controller 102 comprehensively controls each unit such as the RAM 104, the flash memory 105, the character generator 106, the interface 107, and the VRAM 114 in accordance with a program stored in the ROM 103.

例えば、ユーザによって電源がオンされると、メインコントローラ102は、初期メニュー画面データを、ROM103から読み出し、キャラクタジェネレータ106を参照して、該初期メニュー画面データをドットデータに変換し、該ドットデータを、VRAM114に転送する。これより、初期メニュー画面が、表示パネル111に表示される。この際、フラッシュメモリ105に格納されているコンテンツの一覧が、表示パネル111に表示される。表示パネル111上のメニューの1つが、ユーザによって選択され、その表示部分がタッチされると、メインコントローラ102は、タッチパネルドライバ112からの位置情報に基づいて、ユーザの選択内容を取得する。   For example, when the power is turned on by the user, the main controller 102 reads the initial menu screen data from the ROM 103, refers to the character generator 106, converts the initial menu screen data into dot data, and converts the dot data into , Transfer to VRAM114. Thus, the initial menu screen is displayed on the display panel 111. At this time, a list of contents stored in the flash memory 105 is displayed on the display panel 111. When one of the menus on the display panel 111 is selected by the user and the display portion is touched, the main controller 102 acquires the selection content of the user based on the position information from the touch panel driver 112.

ユーザがコンテンツを指定し、該コンテンツの閲覧を要求した場合には、メインコントローラ102は、該コンテンツの電子データをフラッシュメモリ105から読み出し、キャラクタジェネレータ106を参照して、該電子データをドットデータに変換し、該ドットデータを、VRAM114に転送する。   When the user designates the content and requests to view the content, the main controller 102 reads the electronic data of the content from the flash memory 105 and refers to the character generator 106 to convert the electronic data into dot data. Then, the dot data is transferred to the VRAM 114.

また、ユーザがインターネットを介したコンテンツの購入を要求した場合には、メインコントローラ102は、インターフェース107を介して所定の購入サイトに接続し、通常のブラウザとして機能する。該購入サイトからの情報が表示パネル111に表示され、ユーザがコンテンツを購入すると、該コンテンツの電子データがダウンロードされる。メインコントローラ102は、該コンテンツの電子データをフラッシュメモリ105に格納する。   When the user requests to purchase content via the Internet, the main controller 102 connects to a predetermined purchase site via the interface 107 and functions as a normal browser. When information from the purchase site is displayed on the display panel 111 and the user purchases the content, electronic data of the content is downloaded. The main controller 102 stores the electronic data of the content in the flash memory 105.

ROM103は、メインコントローラ102にて解読可能なコードで記述された各種プログラム、及びプログラムの実行に必要な各種データを格納する。   The ROM 103 stores various programs described in codes readable by the main controller 102 and various data necessary for executing the programs.

RAM104は、作業用のメモリである。   The RAM 104 is a working memory.

フラッシュメモリ105は、コンテンツである書籍の電子データ等を格納する。   The flash memory 105 stores electronic data of books that are contents.

キャラクタジェネレータ106は、各種キャラクタデータに対応するドットデータを格納する。   The character generator 106 stores dot data corresponding to various character data.

インターフェース107は、外部機器との接続を制御する。インターフェース107は、メモリカード、パソコン、公衆回線を接続することが可能である。なお、パソコン及び公衆回線への接続は、有線、無線いずれも可能である。   The interface 107 controls connection with an external device. The interface 107 can connect a memory card, a personal computer, and a public line. The connection to the personal computer and the public line can be either wired or wireless.

本実施の形態に係る電子書籍リーダ100によれば、タッチパネルに、実施形態1に示すエレクトロクロミック素子を適用しているため、反射型表示、及び透過型表示どちらの場合であっても耐光性を高めることができる。   According to the electronic book reader 100 according to the present embodiment, since the electrochromic element shown in the first embodiment is applied to the touch panel, light resistance is obtained in both cases of the reflective display and the transmissive display. Can be increased.

(実施形態4)
(エレクトロクロミック調光レンズの構造)
図7は、本実施の形態に係るエレクトロクロミック調光レンズを例示する断面図である。図7を参照するに、エレクトロクロミック調光レンズ110は、レンズ120と、レンズ120に接して設けられた薄膜調光機能部130とを有する。エレクトロクロミック調光レンズ110は、傷防止のためのハードコート層や、反射を抑制するための反射防止層等を必要に応じて備えていても良い。
(Embodiment 4)
(Structure of electrochromic light control lens)
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an electrochromic light control lens according to this embodiment. Referring to FIG. 7, the electrochromic light control lens 110 includes a lens 120 and a thin film light control function unit 130 provided in contact with the lens 120. The electrochromic light control lens 110 may include a hard coat layer for preventing scratches, an antireflection layer for suppressing reflection, and the like as necessary.

エレクトロクロミック調光レンズ110の製造方法としては、実施形態1におけるエレクトロクロミック表示素子20の製造方法を参酌することができるため、詳細な説明は省略する。製造方法の一例としては、レンズ120上に第1の電極層131、エレクトロクロミック層132、絶縁性多孔質層133、第2の電極層134、劣化防止層135を順次積層する工程と、第2の電極層134、劣化防止層135形成される貫通孔から絶縁性多孔質層133に、電解質を充填する工程と、電解質注入後に塗布法で保護層136を形成する工程、等を含む方法が挙げられる。電解質注入後に塗布法により保護層136を形成することで、エレクトロクロミック調光レンズ110を薄くすることができる。このため、2枚のレンズを貼り合わせる構造と比較して、軽量化、低コスト化を図り易い。   As a manufacturing method of the electrochromic light control lens 110, the manufacturing method of the electrochromic display element 20 in Embodiment 1 can be referred to, and thus detailed description thereof is omitted. As an example of the manufacturing method, the first electrode layer 131, the electrochromic layer 132, the insulating porous layer 133, the second electrode layer 134, and the deterioration preventing layer 135 are sequentially stacked on the lens 120, The method includes a step of filling the insulating porous layer 133 with an electrolyte from the through-hole formed in the electrode layer 134 and the deterioration preventing layer 135, a step of forming the protective layer 136 by a coating method after the electrolyte is injected, and the like. It is done. By forming the protective layer 136 by a coating method after electrolyte injection, the electrochromic light control lens 110 can be thinned. For this reason, compared with the structure which bonds two lenses together, it is easy to aim at weight reduction and cost reduction.

エレクトロクロミック調光レンズ110において、エレクトロクロミック層132、第2の電極層134、劣化防止層135は、多孔質層となっている。これらの層に形成される多数の貫通孔は、絶縁性多孔質層133に電解質を充填するための注入孔として利用される。これらの層が多数の貫通孔を有することで、電解質を充填する前に、低抵抗な第2の電極層134を形成することができる。このため、エレクトロクロミック調光レンズ110の性能を向上させることができる。   In the electrochromic light control lens 110, the electrochromic layer 132, the second electrode layer 134, and the deterioration preventing layer 135 are porous layers. A number of through holes formed in these layers are used as injection holes for filling the insulating porous layer 133 with an electrolyte. Since these layers have a large number of through holes, the second electrode layer 134 having low resistance can be formed before the electrolyte is filled. For this reason, the performance of the electrochromic light control lens 110 can be improved.

なお、劣化防止層135、及びエレクトロクロミック層132は、電気活性層と称することもできる。この場合、エレクトロクロミック調光レンズ110は、レンズと、レンズに接して設けられた第1の電極層と、第1の電極層に接して設けられた第1の電気活性層と、第1の電気活性層に接して設けられた絶縁性多孔質層と、絶縁性多孔質層に接して設けられた第2の電気活性層と、第2の電気活性層に接して設けられた第2の電極層と、第1の電極層と第2の電極層との間を充填し、絶縁性多孔質層を介して該電気活性層と接触する電解質層と、を有し、第1(第2)の電気活性層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆されることを特徴とする構造とすることもできる。   Note that the deterioration preventing layer 135 and the electrochromic layer 132 can also be referred to as electroactive layers. In this case, the electrochromic light control lens 110 includes a lens, a first electrode layer provided in contact with the lens, a first electroactive layer provided in contact with the first electrode layer, An insulating porous layer provided in contact with the electroactive layer, a second electroactive layer provided in contact with the insulating porous layer, and a second electrode provided in contact with the second electroactive layer An electrode layer, and an electrolyte layer that fills a space between the first electrode layer and the second electrode layer and is in contact with the electroactive layer via the insulating porous layer. The surface of the titanium oxide particles contained in the electroactive layer can be structured to be coated with a metal hydroxide.

レンズ120は、眼鏡用レンズとして機能するものであれば、特に限定されず、度数(屈折率)の調整がされていないレンズ(単なるガラス板等)も、その範疇に含むものとする。   The lens 120 is not particularly limited as long as it functions as a lens for spectacles, and includes a lens (just a glass plate or the like) whose power (refractive index) is not adjusted.

レンズ120の材料としては、透明性が高く、厚みが薄く、且つ軽量な材料を用いることが好ましい。又、熱履歴による膨張がなるべく小さい方が好ましく、ガラス転移点Tgが高い材料、線膨張係数が小さい材料が好ましい。   As the material of the lens 120, it is preferable to use a material that is highly transparent, thin, and lightweight. Further, it is preferable that the expansion due to the thermal history is as small as possible, and a material having a high glass transition point Tg and a material having a small linear expansion coefficient are preferable.

具体的には、ガラスの他に、特許庁の高屈折率メガネレンズに関する技術概要資料に記載される材料等を使用することができ、例えば、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂等やそれらの混合物等が挙げられる。又、必要に応じて、ハードコートや密着性を改善するためのプライマーを形成していてもよい。   Specifically, in addition to glass, materials described in the technical summary document on high refractive index eyeglass lenses of the JPO can be used, for example, episulfide resin, thiourethane resin, methacrylate resin, Examples thereof include polycarbonate resins, urethane resins, and mixtures thereof. Moreover, you may form the primer for improving a hard coat and adhesiveness as needed.

レンズ120の平面形状は、特に限定されないが、例えば、丸型の平面形状とすることができる。   The planar shape of the lens 120 is not particularly limited, but may be a round planar shape, for example.

薄膜調光機能部130は、エレクトロクロミック層132の発消色(調光)を行い、複数の薄膜が積層された積層構造を有する。具体的には、薄膜調光機能部130は、第1の電極層131、エレクトロクロミック層132、絶縁性多孔質層133、第2の電極層134、劣化防止層135、及び保護層136が順次積層された積層構造を有する(図7参照)。第2の電極層134と保護層136との間に劣化防止層135が設けられることで、繰り返し使用しても安定動作が可能なエレクトロクロミック調光レンズを実現できる。   The thin film dimming function unit 130 has a laminated structure in which the electrochromic layer 132 is colored and dimmed (dimmed) and a plurality of thin films are laminated. Specifically, the thin film dimming function unit 130 includes a first electrode layer 131, an electrochromic layer 132, an insulating porous layer 133, a second electrode layer 134, a deterioration preventing layer 135, and a protective layer 136 in order. It has a laminated structure (see FIG. 7). By providing the deterioration preventing layer 135 between the second electrode layer 134 and the protective layer 136, it is possible to realize an electrochromic light control lens capable of stable operation even after repeated use.

薄膜調光機能部130の構造は、図7に示す構造に限定されない。例えば、劣化防止層135が、第2の電極層と保護層136との間、及び第2の電極層と絶縁性多孔質層133との間に設けられ、第2の電極層134の両面に接して設けられていてもよい。又、例えば、劣化防止層135が、第2の電極層と絶縁性多孔質層133との間のみに設けられていてもよい。   The structure of the thin film light control function unit 130 is not limited to the structure shown in FIG. For example, the deterioration preventing layer 135 is provided between the second electrode layer and the protective layer 136 and between the second electrode layer and the insulating porous layer 133, and is provided on both surfaces of the second electrode layer 134. It may be provided in contact. For example, the deterioration preventing layer 135 may be provided only between the second electrode layer and the insulating porous layer 133.

エレクトロクロミック層132(電気活性層)、劣化防止層135(電気活性層)は、一方の層が酸化(還元)反応をする際、他方の層が還元(酸化)反応をするという関係にある。従って、エレクトロクロミック層132と劣化防止層135とは逆の位置に設けられていても良い。つまり、例えば、エレクトロクロミック層が、第2の電極層と保護層136との間、及び第2の電極層と絶縁性多孔質層133との間に設けられ、劣化防止層が、第1の電極層131と絶縁性多孔質層133との間に設けられていてもよい。又、例えば、エレクトロクロミック層が、第2の電極層と保護層136との間のみに設けられていてもよい。又、例えば、エレクトロクロミック層が、第2の電極層と絶縁性多孔質層133との間のみに設けられていてもよい。   The electrochromic layer 132 (electroactive layer) and the deterioration preventing layer 135 (electroactive layer) have a relationship that when one layer undergoes an oxidation (reduction) reaction, the other layer undergoes a reduction (oxidation) reaction. Therefore, the electrochromic layer 132 and the deterioration preventing layer 135 may be provided at opposite positions. That is, for example, an electrochromic layer is provided between the second electrode layer and the protective layer 136 and between the second electrode layer and the insulating porous layer 133, and the deterioration preventing layer is provided in the first layer. It may be provided between the electrode layer 131 and the insulating porous layer 133. For example, the electrochromic layer may be provided only between the second electrode layer and the protective layer 136. For example, the electrochromic layer may be provided only between the second electrode layer and the insulating porous layer 133.

薄膜調光機能部130の厚みは、2μm〜200μm程度とすることが好ましい。薄膜調光機能部130の厚みを200μmより厚くすると、丸型レンズの加工時に亀裂、剥離が生じる、レンズの光学特性等に悪影響が出る等の不具合が生じ、2μmより薄くすると、充分な調光機能が得られない。   The thickness of the thin-film light control function unit 130 is preferably about 2 μm to 200 μm. If the thickness of the thin-film light control function unit 130 is thicker than 200 μm, problems such as cracking and peeling occur during processing of the round lens, and adversely affecting the optical characteristics of the lens. The function cannot be obtained.

第1の電極層131及び第2の電極層134の材料としては、導電性を有する材料であれば、特に限定されないが、調光ガラスとして利用する場合は光の透過性を確保する必要があるため、光の透過性が高く、且つ導電性に優れた材料(以下、透明導電性材料とする)を用いることが好ましい。透明導電性材料を用いることで、ガラスの透明性を高められると共に、エレクトロクロミック層132の着色時におけるコントラストをより高めることができる。   The material of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 is not particularly limited as long as it is a conductive material, but when used as a light control glass, it is necessary to ensure light transmission. For this reason, it is preferable to use a material having high light transmittance and excellent conductivity (hereinafter referred to as a transparent conductive material). By using the transparent conductive material, the transparency of the glass can be enhanced, and the contrast during coloring of the electrochromic layer 132 can be further enhanced.

透明導電性材料としては、スズをドープした酸化インジウム(以下、ITOとする)、フッ素をドープした酸化スズ(以下、FTOとする)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下、ATOとする)等の無機材料を用いることができる。特に、真空成膜により形成されたインジウム酸化物(以下、In酸化物とする)、スズ酸化物(以下、Sn酸化物とする)又は亜鉛酸化物(以下、Zn酸化物とする)の何れか1つを含む無機材料を用いることが好ましい。   Examples of the transparent conductive material include indium oxide doped with tin (hereinafter referred to as ITO), tin oxide doped with fluorine (hereinafter referred to as FTO), tin oxide doped with antimony (hereinafter referred to as ATO), and the like. Inorganic materials can be used. In particular, any of indium oxide (hereinafter referred to as In oxide), tin oxide (hereinafter referred to as Sn oxide) or zinc oxide (hereinafter referred to as Zn oxide) formed by vacuum film formation. It is preferable to use an inorganic material including one.

In酸化物、Sn酸化物、及びZn酸化物は、スパッタ法により、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料であるため好適である。又、InSnO、GaZnO、SnO、In、ZnO等を用いることがより好ましい。更に、光の透過性が高い銀、金、カーボンナノチューブ、金属酸化物等も有用である。カーボンナノチューブ、他の高導電性の非透過性材料等を、微細なネットワーク状に形成し、光の透過性を高めたネットワーク電極は、光の透過性が高く、且つ導電性に優れた電極として、特に好適である。 In oxides, Sn oxides, and Zn oxides are preferable because they are materials that can be easily formed by a sputtering method and that can obtain good transparency and electrical conductivity. It is more preferable to use InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 , ZnO, or the like. Furthermore, silver, gold, carbon nanotubes, metal oxides and the like having high light transmittance are also useful. A network electrode made of carbon nanotubes, other highly conductive non-permeable materials, etc., formed in a fine network to increase light transmission is an electrode with high light transmission and excellent conductivity. Is particularly preferred.

第1の電極層131及び第2の電極層134の各々の膜厚は、エレクトロクロミック層132の酸化還元反応に必要な電気抵抗値を得られる様に、適宜調整されることが好ましい。第1の電極層131及び第2の電極層134の材料としてITOを用いた場合、第1の電極層131及び第2の電極層134の各々の膜厚は、例えば50〜500nm程度とすることができる。   The thickness of each of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 is preferably adjusted as appropriate so that an electric resistance value necessary for the oxidation-reduction reaction of the electrochromic layer 132 can be obtained. When ITO is used as the material of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, the thickness of each of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 is, for example, about 50 to 500 nm. Can do.

第1の電極層131及び第2の電極層134の各々の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等を用いることができる。又、第1の電極層131及び第2の電極層134の各々の材料が塗布形成できるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。   As a manufacturing method of each of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or the like can be used. In addition, as long as each material of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 can be applied and formed, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method. Method, wire bar coating method, dip coating method, slit coating method, capillary coating method, spray coating method, nozzle coating method, gravure printing method, screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, reverse printing method, inkjet printing method Various printing methods such as these can be used.

第2の電極層134は、厚さ方向に貫通する多数の貫通孔が形成された多孔質の電極層である。第2の電極層134における微細な貫通孔の形成方法としては、以下の様な方法が挙げられる。   The second electrode layer 134 is a porous electrode layer in which a large number of through holes penetrating in the thickness direction are formed. Examples of a method for forming fine through holes in the second electrode layer 134 include the following methods.

微細な貫通孔は、第2の電極層134を形成する前に、予め下地層として凹凸を有する層を形成し、該下地層上に、第2の電極層134を形成する、という方法により形成してもよい。   The fine through-hole is formed by a method in which a layer having irregularities is formed in advance as a base layer before forming the second electrode layer 134, and the second electrode layer 134 is formed on the base layer. May be.

又、微細な貫通孔は、第2の電極層134を形成する前に、予め下層にマイクロピラー等の凸形状構造体を形成し、第2の電極層134を形成後に、凸形状構造体を取り除く、という方法により形成してもよい。   In addition, the fine through-holes are formed in advance by forming a convex structure such as a micro pillar in the lower layer before forming the second electrode layer 134, and forming the convex structure after forming the second electrode layer 134. You may form by the method of removing.

又、微細な貫通孔は、第2の電極層134を形成する前に、予め下層に発泡性の高分子重合体等を散布し、第2の電極層134を形成後に、加熱や脱気する等の処理を施して発泡させる、という方法により形成してもよい。   In addition, before forming the second electrode layer 134, the fine through-holes are preliminarily sprayed with a foamable polymer or the like on the lower layer, and heated or degassed after the second electrode layer 134 is formed. You may form by the method of giving a process etc. and making it foam.

又、微細な貫通孔は、第2の電極層134に直接各種放射線を輻射する、レーザ光を用いた加工装置を利用する、等方法により形成してもよい。   In addition, the fine through hole may be formed by a method of directly radiating various kinds of radiation to the second electrode layer 134 or using a processing apparatus using a laser beam.

又、微細な貫通孔は、コロイダルリソグラフィー法により形成してもよい。第2の電極層134を形成する前に、予め下層に微粒子を散布し、微粒子が散布された面に、該微粒子をマスクとして真空成膜法等により導電膜を形成し、導電膜を形成後に、微粒子と共に一部の導電膜を除去することでパターニングを行い、微細貫通孔を有する第2の電極層134を形成することができる。   The fine through hole may be formed by a colloidal lithography method. Before the second electrode layer 134 is formed, fine particles are spread on the lower layer in advance, and a conductive film is formed on the surface on which the fine particles are spread by a vacuum film formation method or the like using the fine particles as a mask. The second electrode layer 134 having fine through holes can be formed by patterning by removing part of the conductive film together with the fine particles.

又、微細な貫通孔は、フォトレジストやドライフィルム等を用いた公知のリフトオフ法により形成してもよい。所望のフォトレジストパターンを形成後に、導電膜を形成し、フォトレジストパターンと共にフォトレジストパターン上に形成される導電膜(不要な部分)を除去することで、微細貫通孔を有する第2の電極層134を形成することができる。公知のリフトオフ法により第2の電極層134に微細貫通孔を形成する場合、光照射による下層へのダメージを回避するため、対象物への光照射面積が小さくて済むように、使用するフォトレジストはネガ型のものを使用することが好ましい。   The fine through hole may be formed by a known lift-off method using a photoresist, a dry film, or the like. After forming a desired photoresist pattern, a conductive film is formed, and the conductive film (unnecessary portion) formed on the photoresist pattern together with the photoresist pattern is removed, whereby the second electrode layer having fine through holes 134 can be formed. When a fine through hole is formed in the second electrode layer 134 by a known lift-off method, the photoresist used is used so that the light irradiation area to the object may be small in order to avoid damage to the lower layer due to light irradiation. It is preferable to use a negative type.

ネガ型のフォトレジストとしては、例えば、ポリビニルシンナメート、スチリルピリジニウムホルマール化ポリビニルアルコール、グリコールメタクリレート/ポリビニルアルコール/開始剤、ポリグリシジルメタクリレート、ハロメチル化ポリスチレン、ジアゾレジン、ビスアジド/ジエン系ゴム、ポリヒドロキシスチレン/メラミン/光酸発生剤、メチル化メラミン樹脂、メチル化尿素樹脂等を挙げることができる。   Negative photoresists include, for example, polyvinyl cinnamate, styrylpyridinium formalized polyvinyl alcohol, glycol methacrylate / polyvinyl alcohol / initiator, polyglycidyl methacrylate, halomethylated polystyrene, diazoresin, bisazide / diene rubber, polyhydroxystyrene / Mention may be made of melamine / photoacid generators, methylated melamine resins, methylated urea resins and the like.

微細な貫通孔の径としては、10nm以上100μm以下であると好適である。貫通孔の径が10nm(0.01μm)よりも小さい場合、電解質イオンの透過が悪くなる不具合が生じる。又、微細貫通孔の径が100μmよりも大きい場合、目視できるレベル(通常のディスプレイでは1画素電極レベルの大きさ)であり、微細な貫通孔直上の表示性能に不具合が生じることになる。   The diameter of the fine through hole is preferably 10 nm or more and 100 μm or less. When the diameter of the through hole is smaller than 10 nm (0.01 μm), there arises a problem that the permeation of electrolyte ions is deteriorated. In addition, when the diameter of the fine through hole is larger than 100 μm, it is at a level that can be visually observed (the size of one pixel electrode in a normal display), which causes a problem in display performance immediately above the fine through hole.

微細な貫通孔の、第2の電極層134の表面積に対する孔面積の比(穴密度)は、適宜設定することができるが、例えば0.01〜40%程度とすることができる。穴密度が高すぎると、第2の電極層134の表面抵抗が大きくなるため、第2の電極層134が形成されない領域の面積が広くなることで、エレクトロクロミック層に欠陥が生じる。又、穴密度が低すぎると電解質イオンの浸透性が悪くなるため、駆動時に不具合が生じる。   The ratio of the hole area to the surface area of the second electrode layer 134 (hole density) of the fine through-holes can be set as appropriate, and can be, for example, about 0.01 to 40%. If the hole density is too high, the surface resistance of the second electrode layer 134 is increased, so that the area of the region where the second electrode layer 134 is not formed is increased, thereby causing defects in the electrochromic layer. Further, if the hole density is too low, the permeability of the electrolyte ions is deteriorated, which causes a problem during driving.

エレクトロクロミック層132は、第1の電極層131と第2の電極層134との間に電圧が印加されることで生じる電荷の授受(酸化還元反応)により、発消色する。エレクトロクロミック層132は、厚さ方向に貫通する多数の貫通孔が形成された多孔質層であり、電解質(図示せず)が充填されている。エレクトロクロミック層132に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆されている。   The electrochromic layer 132 is colored by a charge transfer (oxidation-reduction reaction) generated when a voltage is applied between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134. The electrochromic layer 132 is a porous layer in which a large number of through holes penetrating in the thickness direction are formed, and is filled with an electrolyte (not shown). The surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer 132 is covered with a metal hydroxide.

エレクトロクロミック層132は、エレクトロクロミック材料を含んだ層であり、エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物、有機エレクトロクロミック化合物の何れを用いても構わない。又、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性高分子を用いてもよい。   The electrochromic layer 132 is a layer containing an electrochromic material, and any of an inorganic electrochromic compound and an organic electrochromic compound may be used as the electrochromic material. Moreover, you may use the conductive polymer known by showing electrochromism.

無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタン等が挙げられる。又、有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、ビオロゲン、希土類フタロシアニン、スチリル等が挙げられる。   Examples of the inorganic electrochromic compound include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, and titanium oxide. Examples of the organic electrochromic compound include viologen, rare earth phthalocyanine, styryl and the like.

又、エレクトロクロミック層132としては、導電性又は半導体性微粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持した構造を用いてもよい。具体的には、電極表面に粒径5nm〜50nm程度の微粒子を焼結し、その微粒子の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着した構造である。   As the electrochromic layer 132, a structure in which an organic electrochromic compound is supported on conductive or semiconductive fine particles may be used. Specifically, it is a structure in which fine particles having a particle size of about 5 nm to 50 nm are sintered on the electrode surface, and an organic electrochromic compound having a polar group such as phosphonic acid, carboxyl group, silanol group or the like is adsorbed on the fine particle surface. .

このような構造では、微粒子の大きな表面効果を利用して、効率よく有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック表示素子と比較して高速応答が可能となる。更に、微粒子を用いることで表示層として透明な膜を形成することができるため、エレクトロクロミック色素の高い発色濃度を得ることができる。又、複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を導電性又は半導体性微粒子に担持することもできる。   In such a structure, electrons are efficiently injected into the organic electrochromic compound by utilizing the large surface effect of the fine particles, so that a high-speed response is possible as compared with a conventional electrochromic display element. Furthermore, since a transparent film can be formed as a display layer by using fine particles, a high color density of the electrochromic dye can be obtained. A plurality of types of organic electrochromic compounds can also be supported on conductive or semiconductive fine particles.

具体的には、色素系のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物を用いることができる。   Specifically, azobenzene, anthraquinone, diarylethene, dihydroprene, dipyridine, styryl, styryl spiropyran, spirooxazine, spirothiopyran, thioindigo, tetrathiafulvalene, as electrochromic compounds of dye type , Terephthalic acid, triphenylmethane, triphenylamine, naphthopyran, viologen, pyrazoline, phenazine, phenylenediamine, phenoxazine, phenothiazine, phthalocyanine, fluoran, fulgide, benzopyran, Low molecular organic electrochromic compounds such as metallocenes, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene can be used.

上記中、発消色電位が低く良好な色値を示すビオロゲン系化合物又はジピリジン系化合物を含むことが特に好ましい。例えば、式[化1](一般式)で表されるジピリジン系化合物を含むことが好ましい。   Among these, it is particularly preferable to include a viologen-based compound or a dipyridine-based compound having a low color development / discoloration potential and a good color value. For example, it is preferable to include a dipyridine compound represented by the formula [Chemical Formula 1] (general formula).

Figure 0006171812
なお、式[化1](一般式)中、R1及びR2は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1から8のアルキル基、又はアリール基を表し、R1又はR2の少なくとも一方は、COOH、PO(OH)、Si(OC2k+1から選ばれる置換基を有する。Xは1価のアニオンを表す。n、m、lは0、1、又は2を表す。A、B、Cは各々独立に置換基を有してもよい炭素数1から20のアルキル基、アリール基、複素環基を表す。
Figure 0006171812
In the formula [Chemical Formula 1] (general formula), R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent, and at least one of R1 and R2 Has a substituent selected from COOH, PO (OH) 2 , Si (OC k H 2k + 1 ) 3 . X represents a monovalent anion. n, m, and l represent 0, 1, or 2. A, B and C each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent.

一方、金属錯体系や金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアンブルー等の無機系エレクトロクロミック化合物を用いることができる。   On the other hand, as the metal complex-based or metal oxide-based electrochromic compound, inorganic electrochromic compounds such as titanium oxide, vanadium oxide, tungsten oxide, indium oxide, iridium oxide, nickel oxide, and Prussian blue can be used.

導電性又は半導体性微粒子としては特に限定されるものではないが、金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物を用いることができる。   Although it does not specifically limit as electroconductive or semiconductive fine particle, It is preferable to use a metal oxide. Specific materials include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, Metal oxides mainly composed of ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, aluminosilicate, calcium phosphate, aluminosilicate, etc. can be used. .

又、これらの金属酸化物は、単独で用いてもよく、2種以上が混合され用いてもよい。電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性を鑑みるに、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステンから選ばれる一種、若しくはそれらの混合物が用いられたとき、発消色の応答速度に優れた色表示が可能である。とりわけ、酸化チタンが用いられたとき、より発消色の応答速度に優れた色表示が可能である。   Moreover, these metal oxides may be used independently and 2 or more types may be mixed and used for them. In view of physical properties such as electrical properties such as electrical conductivity and optical properties, a kind selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, indium oxide, tungsten oxide, or When these mixtures are used, it is possible to display colors with excellent response speed of color development and decoloration. In particular, when titanium oxide is used, it is possible to display a color with an excellent response speed of color development and decoloration.

又、導電性又は半導体性微粒子の形状は、特に限定されるものではないが、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積(以下比表面積)が大きい形状が用いられる。例えば、微粒子が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比が優れる。   The shape of the conductive or semiconductive fine particles is not particularly limited, but a shape having a large surface area per unit volume (hereinafter referred to as specific surface area) is used in order to efficiently carry the electrochromic compound. For example, when the fine particle is an aggregate of nanoparticles, it has a large specific surface area, so that the electrochromic compound is more efficiently supported and the display contrast ratio of color development and decoloration is excellent.

エレクトロクロミック層132の膜厚は、例えば、0.05〜5.0μm程度とすることができる。エレクトロクロミック層132の膜厚が上記範囲よりも薄い場合、発色濃度を得にくくなる。又、エレクトロクロミック層132の膜厚が上記範囲より厚い場合、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすい。エレクトロクロミック層132、及び、導電性又は半導体性微粒子層は、真空成膜により形成することも可能であるが、生産性の点で粒子分散ペーストとして塗布形成することが好ましい。   The film thickness of the electrochromic layer 132 can be, for example, about 0.05 to 5.0 μm. When the film thickness of the electrochromic layer 132 is thinner than the above range, it is difficult to obtain the color density. Moreover, when the thickness of the electrochromic layer 132 is thicker than the above range, the manufacturing cost increases and the visibility is likely to decrease due to coloring. The electrochromic layer 132 and the conductive or semiconductive fine particle layer can be formed by vacuum film formation, but are preferably applied and formed as a particle-dispersed paste from the viewpoint of productivity.

絶縁性多孔質層133は、第1の電極層131と第2の電極層134とを電気的に絶縁するために設けられており、絶縁性多孔質層133は、絶縁性金属酸化物微粒子を含んでいる。又、絶縁性多孔質層133は、電解質を保持するために設けられる。   The insulating porous layer 133 is provided to electrically insulate the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 from each other. The insulating porous layer 133 is made of insulating metal oxide fine particles. Contains. The insulating porous layer 133 is provided to hold the electrolyte.

絶縁性多孔質層133の材料としては、多孔質層を形成できる材料であれば、特に限定されるものではないが、絶縁性及び耐久性が高く成膜性に優れた有機材料や無機材料、及びそれらの複合体を用いることが好ましい。   The material of the insulating porous layer 133 is not particularly limited as long as it is a material that can form a porous layer. However, an organic material or an inorganic material that has high insulation and durability and excellent film forming properties, And their complexes are preferred.

絶縁性多孔質層133の形成方法としては、例えば、焼結法(高分子微粒子や無機粒子を、バインダ等を添加して部分的に融着させ粒子間に生じた孔を利用する)を用いることができる。絶縁性多孔質層133の形成方法として、例えば、抽出法(溶剤に可溶な有機物又は無機物類と溶剤に溶解しないバインダ等で構成層を形成した後に、溶剤で有機物又は無機物類を溶解させ細孔を得る)等を用いてもよい。   As a method of forming the insulating porous layer 133, for example, a sintering method (using fine holes or inorganic particles partially fused by adding a binder or the like to use holes generated between the particles) is used. be able to. As a method for forming the insulating porous layer 133, for example, an extraction method (after forming a constituent layer with an organic or inorganic substance soluble in a solvent and a binder that does not dissolve in the solvent, the organic or inorganic substance is dissolved in a solvent to To obtain holes) or the like.

又、絶縁性多孔質層133の形成方法として、高分子重合体等を加熱や脱気する等して発泡させる発泡法、良溶媒と貧溶媒を操作して高分子類の混合物を相分離させる相転換法、各種放射線を輻射して細孔を形成させる放射線照射法等の形成方法を用いてもよい。具体例としては、金属酸化物微粒子(SiO粒子やAl粒子等)とポリマー結着剤を含むポリマー混合粒子膜、多孔性有機膜(ポリウレタン樹脂やポリエチレン樹脂等)、多孔質膜状に形成した無機絶縁材料膜等が挙げられる。 The insulating porous layer 133 can be formed by a foaming method in which a polymer is foamed by heating or degassing, etc., and a mixture of polymers is phase-separated by operating a good solvent and a poor solvent. Forming methods such as a phase inversion method and a radiation irradiation method in which various radiations are radiated to form pores may be used. Specific examples include polymer mixed particle films containing metal oxide fine particles (such as SiO 2 particles and Al 2 O 3 particles) and a polymer binder, porous organic films (such as polyurethane resins and polyethylene resins), and porous film shapes. An inorganic insulating material film formed in the above.

絶縁性多孔質層133の凹凸は、第2の電極層134の膜厚にも依存するが、例えば第2の電極層134の膜厚を100nmとすると、絶縁性多孔質層133の表面粗さは平均粗さ(Ra)で100nm未満の要件を満たす必要がある。平均粗さが100nmを超える場合には第2の電極層134の表面抵抗が大きく失われ、表示不良の原因となる。絶縁性多孔質層133の膜厚は、例えば、0.5〜2μm程度とすることができる。   The unevenness of the insulating porous layer 133 depends on the thickness of the second electrode layer 134. For example, when the thickness of the second electrode layer 134 is 100 nm, the surface roughness of the insulating porous layer 133 is as follows. Must satisfy the requirement of less than 100 nm in average roughness (Ra). When the average roughness exceeds 100 nm, the surface resistance of the second electrode layer 134 is greatly lost, which causes display defects. The film thickness of the insulating porous layer 133 can be, for example, about 0.5 to 2 μm.

又、絶縁性多孔質層133は、無機膜と組み合わせて用いることが好ましい。これは絶縁性多孔質層133の表面に形成される第2の電極層134をスパッタ法により形成する際に、下層である絶縁性多孔質層133やエレクトロクロミック層132の有機物質へのダメージを低減させるためである。   The insulating porous layer 133 is preferably used in combination with an inorganic film. This is because when the second electrode layer 134 formed on the surface of the insulating porous layer 133 is formed by sputtering, damage to the organic material of the insulating porous layer 133 or the electrochromic layer 132 as a lower layer is prevented. This is to reduce.

上記無機膜としては、SiOに加え、ZnSを含む材料を用いることが好ましい。ZnSは、スパッタ法によって、エレクトロクロミック層132等にダメージを与えることなく高速に成膜できるという特徴を有する。更に、ZnSを主な成分として含む材料として、ZnS−SiO、ZnS−SiC、ZnS−Si、ZnS−Ge等を用いてもよい。 As the inorganic film, it is preferable to use a material containing ZnS in addition to SiO 2 . ZnS has a feature that it can be deposited at high speed by sputtering without damaging the electrochromic layer 132 or the like. Furthermore, ZnS—SiO 2 , ZnS—SiC, ZnS—Si, ZnS—Ge, or the like may be used as a material containing ZnS as a main component.

ここで、ZnSの含有率は、絶縁層を形成した際の結晶性を良好に保つために、約50〜90mol%とすることが好ましい。従って、特に好ましい材料は、ZnS−SiO(8/2)、ZnS−SiO(7/3)、ZnS、ZnS−ZnO−In−Ga(60/23/10/7)である。絶縁性多孔質層133として上記のような材料を用いることにより、薄膜で良好な絶縁効果が得られ、膜強度低下や膜剥離を防止することができる。 Here, the ZnS content is preferably about 50 to 90 mol% in order to maintain good crystallinity when the insulating layer is formed. Therefore, particularly preferred materials are ZnS—SiO 2 (8/2), ZnS—SiO 2 (7/3), ZnS, ZnS—ZnO—In 2 O 3 —Ga 2 O 3 (60/23/10/7). ). By using the above materials as the insulating porous layer 133, a good insulating effect can be obtained with a thin film, and a decrease in film strength and film peeling can be prevented.

劣化防止層135は、エレクトロクロミック層132と逆の化学反応をし、電荷のバランスをとって第1の電極層131や第2の電極層134が不可逆的な酸化還元反応により腐食や劣化することを抑制する、等の役割を有する。その結果として、エレクトロクロミック調光レンズ10の繰り返し安定性を向上させることが可能になる。なお、逆反応とは、劣化防止層が酸化還元する場合に加え、キャパシタとして作用することも含む。   The deterioration preventing layer 135 has a chemical reaction opposite to that of the electrochromic layer 132, and balances the electric charge so that the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 are corroded or deteriorated by an irreversible oxidation-reduction reaction. It has the role of suppressing. As a result, the repeated stability of the electrochromic light control lens 10 can be improved. In addition, the reverse reaction includes acting as a capacitor in addition to the case where the degradation preventing layer is oxidized and reduced.

劣化防止層135は、絶縁性多孔質層の上面(レンズ120が形成される面とは反対側の面)のみに形成されても良い。この場合、第2の電極層の下面(レンズ120が形成される面)に、劣化防止層を形成する必要がないため、第2の電極層形成時のスパッタ等により生じる劣化防止層へのダメージを低減できる。又、劣化防止層は、第2の電極層の上面(レンズ120が形成される面とは反対側の面)のみに形成されても良い。この場合、微細な貫通孔を有する第2の電極層134を通して、電解質に含まれるイオンを第2の電極層134の表裏に移動させることができる。即ち、劣化防止層135は、絶縁性多孔質層の上面のみに形成されても、第2の電極層の上面のみに形成されても良いが、劣化防止層をより均質できる構造を、適宜選択することが好ましい。なお、必要に応じて、劣化防止層は、第2の電極層の上面及び第2の電極層の下面の両面に形成されても良い。   The deterioration preventing layer 135 may be formed only on the upper surface of the insulating porous layer (the surface opposite to the surface on which the lens 120 is formed). In this case, since it is not necessary to form a deterioration preventing layer on the lower surface of the second electrode layer (the surface on which the lens 120 is formed), damage to the deterioration preventing layer caused by sputtering or the like when forming the second electrode layer. Can be reduced. The deterioration preventing layer may be formed only on the upper surface of the second electrode layer (the surface opposite to the surface on which the lens 120 is formed). In this case, ions contained in the electrolyte can be moved to the front and back of the second electrode layer 134 through the second electrode layer 134 having fine through holes. That is, the deterioration preventing layer 135 may be formed only on the upper surface of the insulating porous layer or only on the upper surface of the second electrode layer, but a structure capable of making the deterioration preventing layer more uniform is appropriately selected. It is preferable to do. If necessary, the deterioration preventing layer may be formed on both the upper surface of the second electrode layer and the lower surface of the second electrode layer.

劣化防止層135の材料としては、第1の電極層131及び第2の電極層134の不可逆的な酸化還元反応による腐食を防止する役割を担う材料であれば特に限定されるものではない。劣化防止層135の材料として、例えば、酸化アンチモン錫や酸化ニッケル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、又はそれらを複数含む導電性又は半導体性金属酸化物を用いることができる。更に、劣化防止層の着色が問題にならない場合は、前述のエレクトロクロミック材料と同じものを用いることができる。   The material of the deterioration preventing layer 135 is not particularly limited as long as it is a material that plays a role of preventing corrosion of the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 due to an irreversible oxidation-reduction reaction. As the material of the deterioration preventing layer 135, for example, antimony tin oxide, nickel oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, or a conductive or semiconductive metal oxide containing a plurality of them can be used. Furthermore, when coloring of the deterioration preventing layer does not become a problem, the same material as the above-described electrochromic material can be used.

劣化防止層135は、電解質の注入を阻害しない程度の多孔質薄膜から構成することができる。例えば酸化アンチモン錫や酸化ニッケル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の導電性又は半導体性金属酸化物微粒子を、例えばアクリル系、アルキド系、イソシアネート系、ウレタン系、エポキシ系、フェノール系等のバインダにより第2の電極層34に固定化することで、電解質の浸透性と、劣化防止層としての機能を満たす、好適な多孔質薄膜を得ることができる。   The deterioration preventing layer 135 can be composed of a porous thin film that does not hinder electrolyte injection. For example, conductive or semiconductive metal oxide fine particles such as antimony tin oxide, nickel oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, etc., binders such as acrylic, alkyd, isocyanate, urethane, epoxy, phenol, etc. By fixing to the second electrode layer 34, a suitable porous thin film satisfying the electrolyte permeability and the function as a deterioration preventing layer can be obtained.

或いは、劣化防止層135の材料として、電荷の授受に伴って透明状態を保持する材料を用いてもよい。例えば、ポリピロール系、ポリチオフェン系、ポリアニリン系、又はそれらの誘導体等の導電性高分子や、金属錯体と有機リガンドのハイブリッドポリマー、ラジカルポリマーなどが挙げられる。これらを用いる際は、電解質の注入を阻害しないように膜密度を調整するか、或いはレーザ加工等により貫通孔を形成する必要がある。或いは、エレクトロクロミック層132として、これらの材料を用い、劣化防止層135として、既述の導電性或いは半導体性微粒子に担持した有機エレクトロクロミック化合物を用いてもよい。   Alternatively, as the material of the deterioration preventing layer 135, a material that maintains a transparent state with charge exchange may be used. For example, conductive polymers such as polypyrrole, polythiophene, polyaniline, or derivatives thereof, hybrid polymers of metal complexes and organic ligands, radical polymers, and the like can be given. When these are used, it is necessary to adjust the film density so as not to inhibit the injection of the electrolyte, or to form through holes by laser processing or the like. Alternatively, these materials may be used as the electrochromic layer 132, and the organic electrochromic compound supported on the conductive or semiconductive fine particles described above may be used as the deterioration preventing layer 135.

劣化防止層135として、透明性の高いn型半導体性酸化物微粒子(n型半導体性金属酸化物)を用いることが好ましい。具体例としては、100nm以下の1次粒子径粒子からなる、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、又はそれらを複数含む化合物粒子、混合物を用いることができる。   As the deterioration preventing layer 135, it is preferable to use highly transparent n-type semiconducting oxide fine particles (n-type semiconducting metal oxide). As a specific example, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, or compound particles containing a plurality of them, or a mixture of particles having a primary particle size of 100 nm or less can be used.

更に、これらの劣化防止層135を用いる場合は、エレクトロクロミック層132が酸化反応により着色から透明に変化する材料であることが好ましい。エレクトロクロミック層132が酸化反応すると同時にn型半導体性金属酸化物が還元(電子注入)され易く、駆動電圧が低減できるからである。   Furthermore, when these deterioration preventing layers 135 are used, the electrochromic layer 132 is preferably a material that changes from colored to transparent by an oxidation reaction. This is because the n-type semiconductor metal oxide is easily reduced (electron injection) at the same time as the electrochromic layer 132 undergoes an oxidation reaction, and the drive voltage can be reduced.

このような形態において、特に好ましいエレクトロクロミック材料は、有機高分子材料である。塗布形成プロセス等により容易に成膜できると共に、分子構造により色の調整や制御が可能となる。これらの有機高分子材料例としては、ポリ(3,4- エチレンジオキシチオフェン)系材料、ビス(ターピリジン)類と鉄イオンの錯形成ポリマー等である。   In such a form, a particularly preferred electrochromic material is an organic polymer material. The film can be easily formed by a coating process or the like, and the color can be adjusted and controlled by the molecular structure. Examples of these organic polymer materials include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -based materials, bis (terpyridine) s and iron ion complex-forming polymers, and the like.

劣化防止層135の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタ法、イオンレーティング法等を用いることができる。又、劣化防止層135の材料が塗布形成できるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。   As a method for forming the deterioration preventing layer 135, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion rating method, or the like can be used. If the material of the deterioration preventing layer 135 can be formed by coating, a spin coating method, a casting method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, Various printing methods such as a slit coating method, a capillary coating method, a spray coating method, a nozzle coating method, a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reverse printing method, and an inkjet printing method can be used.

保護層136は、外的応力や洗浄工程の薬品から素子を守ることや、電解質の漏洩を防ぐこと、大気中の水分や酸素などエレクトロクロミック素子が安定的に動作するために不要なものの侵入を防ぐこと、等の役割を有する。同時に、レンズとしての機能を損なわないための透明性、表面の平滑性、屈折率、耐熱性、耐光性が求められる。厚みとしては1μm〜200μmの範囲が好ましい。   The protective layer 136 protects the device from external stress and chemicals in the cleaning process, prevents leakage of the electrolyte, and prevents intrusion of unnecessary substances such as moisture and oxygen in the atmosphere for stable operation of the electrochromic device. It has a role to prevent. At the same time, transparency, surface smoothness, refractive index, heat resistance, and light resistance are required so as not to impair the function as a lens. The thickness is preferably in the range of 1 μm to 200 μm.

保護層136は、少なくとも劣化防止層135の上面(レンズ120が形成される面とは反対側の面)に形成されていればよい。図7に示す様に、保護層136は、第1の電極層131、エレクトロクロミック層132、絶縁性多孔質層133、第2の電極層134、及び劣化防止層135の各側面に形成されていてもよく、被覆される側面の層は、特に限定されない。   The protective layer 136 may be formed at least on the upper surface of the deterioration preventing layer 135 (surface opposite to the surface on which the lens 120 is formed). As shown in FIG. 7, the protective layer 136 is formed on each side of the first electrode layer 131, the electrochromic layer 132, the insulating porous layer 133, the second electrode layer 134, and the deterioration preventing layer 135. The side layer to be coated is not particularly limited.

保護層136の材料としては、紫外線硬化型や熱硬化型の樹脂を用いることができ、具体的には、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系樹脂等を用いることが好ましい。保護層36の形成プロセスとしては、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、キャスト法等の各種成膜法を用いることができる。   As a material for the protective layer 136, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used. Specifically, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, or the like is preferably used. As a process for forming the protective layer 36, various film forming methods such as a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, and a casting method can be used.

電解質(図示せず)は、電解液として、劣化防止層135を介して、第2の電極層134に形成された微細な貫通孔から第1の電極層131と第2の電極層134との間に配置された絶縁性多孔質層133に充填される。つまり、電解質は、第1の電極層131と第2の電極層134との間に充填されてエレクトロクロミック層132と接し、且つ、第2の電極層134に形成された貫通孔を介して劣化防止層135と接するように設けられている。電解液としては、イオン液体等の液体電解質又は、固体電解質を溶媒に溶解した溶液を用いることができる。   An electrolyte (not shown) is used as an electrolyte solution through the deterioration prevention layer 135 through the fine through-holes formed in the second electrode layer 134 to form the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134. The insulating porous layer 133 disposed therebetween is filled. That is, the electrolyte is filled between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 so as to be in contact with the electrochromic layer 132 and is deteriorated through the through-hole formed in the second electrode layer 134. It is provided in contact with the prevention layer 135. As the electrolytic solution, a liquid electrolyte such as an ionic liquid or a solution obtained by dissolving a solid electrolyte in a solvent can be used.

電解質の材料としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、LiClO、LiBF、LiAsF、LiPF、LiCFSO、LiCFCOO、KCl、NaClO、NaCl、NaBF、NaSCN、KBF、Mg(ClO、Mg(BF等を用いることができる。 As the electrolyte material, for example, inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, acids, and alkali supporting salts can be used. Specifically, LiClO 4 , LiBF 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaClO 3 , NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 , Mg (ClO 4 ) 2 , Mg ( BF 4 ) 2 or the like can be used.

又、イオン性液体も用いることができる。イオン性液体としては、一般的に研究・報告されている物質ならばどのようなものでも構わない。特に有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造がある。分子構造の例としては、カチオン成分としてN,N−ジメチルイミダゾール塩、N,N−メチルエチルイミダゾール塩、N,N−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体、N,N−ジメチルピリジニウム塩、N,N−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体など芳香族系の塩、又は、トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウムなど脂肪族4級アンモニウム系が挙げられる。   An ionic liquid can also be used. The ionic liquid may be any substance that is generally studied and reported. In particular, an organic ionic liquid has a molecular structure that exhibits a liquid in a wide temperature range including room temperature. Examples of molecular structures include cation components such as N, N-dimethylimidazole salt, N, N-methylethylimidazole salt, N, N-methylpropylimidazole salt, N, N-dimethylpyridinium salt, N, Examples thereof include aromatic salts such as pyridinium derivatives such as N-methylpropylpyridinium salts, and aliphatic quaternary ammonium systems such as tetraalkylammonium such as trimethylpropylammonium salt, trimethylhexylammonium salt, and triethylhexylammonium salt.

アニオン成分としては大気中の安定性の面でフッ素を含んだ化合物がよく、BF、CFSO−、PF−、(CFSON−等が挙げられる。これらのカチオン成分とアニオン成分の組み合わせにより処方したイオン性液体を用いることができる。 As the anion component, a compound containing fluorine is preferable in terms of stability in the atmosphere, and examples thereof include BF 4 , CF 3 SO 3 —, PF 4 —, (CF 3 SO 2 ) 2 N—, and the like. An ionic liquid formulated by a combination of these cationic components and anionic components can be used.

又、溶媒の例としては、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1、2−ジメトキシエタン、1、2−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類やそれらの混合溶媒等を用いることができる。   Examples of the solvent include propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-ethoxymethoxyethane, polyethylene. Glycols, alcohols and mixed solvents thereof can be used.

又、電解液は低粘性の液体である必要はなく、ゲル状や高分子架橋型、液晶分散型等の様々な形態をとることが可能である。電解液はゲル状、固体状に形成することが、素子強度向上、信頼性向上、発色拡散の防止から好ましい。固体化手法としては、電解質と溶媒をポリマー樹脂中に保持する方法が好ましい。高いイオン伝導度と固体強度が得られるためである。更に、ポリマー樹脂は光硬化可能な樹脂を用いることが好ましい。熱重合や、溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間で素子を製造できるためである。   Further, the electrolytic solution need not be a low-viscosity liquid, and can take various forms such as a gel, a polymer cross-linked type, and a liquid crystal dispersed type. It is preferable to form the electrolyte in a gel or solid form from the viewpoint of improving element strength, improving reliability, and preventing color diffusion. As the solidification method, a method of holding the electrolyte and the solvent in the polymer resin is preferable. This is because high ionic conductivity and solid strength can be obtained. Further, it is preferable to use a photocurable resin as the polymer resin. This is because the device can be manufactured at a low temperature and in a short time compared to thermal polymerization or a method of thinning the film by evaporating the solvent.

上述の様な構造のエレクトロクロミック調光レンズ(図7参照)は、耐光性に優れ、且つ高性能なレンズとなる。該レンズは、エレクトロクロミック調光眼鏡等に適用することが可能である。   The electrochromic light control lens (see FIG. 7) having the above-described structure is a lens with excellent light resistance and high performance. The lens can be applied to electrochromic dimming glasses.

図8は、本実施の形態に係るエレクトロクロミック調光眼鏡150を例示する斜視図である。図8を参照するに、エレクトロクロミック調光眼鏡150は、エレクトロクロミック調光レンズ151と、眼鏡フレーム152と、スイッチ153と、電源154とを有する。図8に示すエレクトロクロミック調光レンズ151は、図7に示すエレクトロクロミック調光レンズ110を所望の形状に加工したものである。   FIG. 8 is a perspective view illustrating electrochromic dimming glasses 150 according to this embodiment. Referring to FIG. 8, the electrochromic dimming glasses 150 include an electrochromic dimming lens 151, a spectacle frame 152, a switch 153, and a power source 154. An electrochromic light control lens 151 shown in FIG. 8 is obtained by processing the electrochromic light control lens 110 shown in FIG. 7 into a desired shape.

2つのエレクトロクロミック調光レンズ151は、眼鏡フレーム152に組み込まれている。眼鏡フレーム152には、スイッチ153及び電源154が設けられている。電源154は、スイッチ153を介して、図示しない配線により、第1の電極層131及び第2の電極層134と電気的に接続されている。スイッチ153を切り替えることにより、例えば、第1の電極層131と第2の電極層134との間にプラス電圧を印加する状態、マイナス電圧を印加する状態、電圧を印加しない状態の中から1つの状態を選択可能である。   The two electrochromic dimming lenses 151 are incorporated in the spectacle frame 152. The eyeglass frame 152 is provided with a switch 153 and a power source 154. The power source 154 is electrically connected to the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134 through a switch 153 and a wiring (not shown). By switching the switch 153, for example, one of a state in which a positive voltage is applied between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, a state in which a negative voltage is applied, and a state in which no voltage is applied are selected. The state can be selected.

スイッチ153としては、例えば、スライドスイッチやプッシュスイッチ等の任意のスイッチを用いることができる。但し、少なくとも前述の3つの状態を切り替え可能なスイッチに限る。電源154としては、例えば、ボタン電池や太陽電池等の任意の直流電源を用いることができる。電源154は、第1の電極層131と第2の電極層134との間にプラスマイナス数V程度の電圧を印加可能である。   As the switch 153, for example, an arbitrary switch such as a slide switch or a push switch can be used. However, it is limited to a switch that can switch at least the three states described above. As the power source 154, for example, an arbitrary DC power source such as a button battery or a solar battery can be used. The power source 154 can apply a voltage of about plus or minus several volts between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134.

例えば、第1の電極層131と第2の電極層134との間にプラス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光レンズ151が所定の色に発色する。又、第1の電極層131と第2の電極層134との間にマイナス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光レンズ151が消色し透明となる。   For example, by applying a positive voltage between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, the two electrochromic light control lenses 151 are colored in a predetermined color. Further, when a negative voltage is applied between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, the two electrochromic light control lenses 151 are decolored and become transparent.

但し、エレクトロクロミック層132に使用する材料の特性により、第1の電極層131と第2の電極層134との間にマイナス電圧を印加することにより発色し、プラス電圧を印加することにより消色し透明となる場合もある。なお、一度発色した後は、第1の電極層131と第2の電極層134との間に電圧を印加しなくても発色は継続する。   However, depending on the characteristics of the material used for the electrochromic layer 132, color is developed by applying a minus voltage between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134, and the color is erased by applying a plus voltage. However, it may be transparent. Note that once the color is developed, the color continues even if no voltage is applied between the first electrode layer 131 and the second electrode layer 134.

エレクトロクロミック調光眼鏡150のレンズとして、エレクトロクロミック調光レンズ110を利用することで、耐光性に優れ、且つ高性能なエレクトロクロミック調光眼鏡150を実現することができる。   By using the electrochromic light control lens 110 as the lens of the electrochromic light control glasses 150, the electrochromic light control glasses 150 having excellent light resistance and high performance can be realized.

(実施形態5)
本実施の形態では、エレクトロクロミック調光レンズを作製し、耐光性評価を行った。エレクトロクロミック調光レンズとしては、2種類の異なるエレクトロクロミック調光レンズを作製した。即ち、実施例としてのエレクトロクロミック調光レンズと、比較例としてのエレクトロクロミック調光レンズを作製した。
(Embodiment 5)
In the present embodiment, an electrochromic light control lens was produced and evaluated for light resistance. As the electrochromic light control lens, two different types of electrochromic light control lenses were produced. That is, an electrochromic light control lens as an example and an electrochromic light control lens as a comparative example were produced.

<実施例としてのエレクトロクロミック調光レンズの作製>
まず、実施例としてのエレクトロクロミック調光レンズを作製した。
<Production of electrochromic light control lens as an example>
First, an electrochromic light control lens as an example was manufactured.

[第1の電極層、エレクトロクロミック層の形成]
直径65mmのレンズを準備し、25mm×45mmの領域及び引き出し部分にメタルマスクを介してITO膜をスパッタ法により約100nmの厚さに成膜して、第1の電極層131を形成した。
[Formation of first electrode layer and electrochromic layer]
A lens having a diameter of 65 mm was prepared, and an ITO film having a thickness of about 100 nm was formed by sputtering on a 25 mm × 45 mm region and a lead portion through a metal mask to form the first electrode layer 131.

次に、このITO膜の表面に表面を水酸化アルミニウムで被覆した酸化チタンナノ粒子の分散液(平均粒子径:約20nm、酸化チタンのナノ粒子と水酸化アルミニウムの重量比:11.7%)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で5分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。   Next, a dispersion of titanium oxide nanoparticles whose surface is coated with aluminum hydroxide on the surface of this ITO film (average particle diameter: about 20 nm, weight ratio of titanium oxide nanoparticles to aluminum hydroxide: 11.7%) is spin-coated. It was applied by the method. And the nanostructure semiconductor material which consists of an about 1.0 micrometer titanium oxide particle film was formed by performing an annealing process for 5 minutes at 120 degreeC.

続いて、エレクトロクロミック化合物として、構造式[化2]で表される化合物を1.5wt%含む2,2,3,3−テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した。その後、120℃×10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に担持(吸着)させて、エレクトロクロミック層32を形成した。   Subsequently, as an electrochromic compound, a 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution containing 1.5 wt% of the compound represented by the structural formula [Chemical Formula 2] was applied by a spin coating method. Thereafter, an annealing process was performed at 120 ° C. for 10 minutes to carry (adsorb) the titanium oxide particle film to form the electrochromic layer 32.

Figure 0006171812
[絶縁性多孔質層、微細な貫通孔が形成された第2の電極層の形成]
続いて、エレクトロクロミック層132上に平均一次粒径20nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度24.8重量%、ポリビニルアルコール1.2重量%、水74重量%)をスピンコートし、絶縁性多孔質層133を形成した。形成した絶縁性多孔質層133の膜厚は約2μmであった。更に、平均一次粒径450nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度1重量%、2−プロパノール99重量%)をスピンコートし、微細貫通孔形成用マスク(コロイダルマスク)を形成した。
Figure 0006171812
[Formation of insulating porous layer, second electrode layer with fine through-holes]
Subsequently, a SiO 2 fine particle dispersion liquid (silica solid content concentration 24.8% by weight, polyvinyl alcohol 1.2% by weight, water 74% by weight) having an average primary particle diameter of 20 nm is spin-coated on the electrochromic layer 132 and insulated. The porous layer 133 was formed. The film thickness of the formed insulating porous layer 133 was about 2 μm. Further, a fine SiO 2 fine particle dispersion (silica solid content concentration 1 wt%, 2-propanol 99 wt%) having an average primary particle diameter of 450 nm was spin-coated to form a fine through-hole forming mask (colloidal mask).

続いて、微細貫通孔形成用マスク上にZnS−SiO(8/2)の無機絶縁層をスパッタ法により40nmの膜厚で形成した。更に、無機絶縁層上にスパッタ法により約100nmのITO膜を、第1の電極層131で形成したITO膜と重なる25mm×45mmの領域、及び、第1の電極層131とは異なる領域にメタルマスクを介して形成し、第2の電極層134を作製した。なお、第1の電極層131とは異なる領域に形成したITO膜は第2の電極層134の引き出し部分である。 Subsequently, an inorganic insulating layer of ZnS—SiO 2 (8/2) was formed to a thickness of 40 nm on the fine through hole forming mask by a sputtering method. Further, an ITO film having a thickness of about 100 nm is formed on the inorganic insulating layer by a sputtering method in a region of 25 mm × 45 mm overlapping with the ITO film formed by the first electrode layer 131 and in a region different from the first electrode layer 131. A second electrode layer 134 was formed using a mask. Note that the ITO film formed in a region different from the first electrode layer 131 is a lead-out portion of the second electrode layer 134.

この後、2−プロパノール中で超音波照射を3分間行い、コロイダルマスクである450nmのSiO微粒子の除去処理を行った。SEM観察により250nm程度の微細な貫通孔が形成された第2の電極層134が形成されていることを確認した。第2の電極層134のシート抵抗は約100Ω/□であった。 Thereafter, 2-in-propanol performs ultrasonic irradiation for 3 minutes, subjected to SiO 2 removal treatment of the fine particles of 450nm is colloidal masks. It was confirmed by SEM observation that the second electrode layer 134 in which minute through holes of about 250 nm were formed was formed. The sheet resistance of the second electrode layer 134 was about 100Ω / □.

[劣化防止層の形成]
続いて、第2の電極層134上に、劣化防止層135として、酸化アンチモン錫粒子分散液をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化アンチモン錫粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
[Formation of deterioration prevention layer]
Subsequently, an antimony tin oxide particle dispersion was applied as a deterioration preventing layer 135 on the second electrode layer 134 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of about 1.0 micrometer antimony tin oxide particle film was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC.

[電解質の充填]
電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム、溶媒としてジメチルスルホキシド及びポリエチレングリコール(分子量:200)を12対54対60で混合した溶液を電解液とした。そして、劣化防止層135まで形成した素子を1分間浸漬し、その後120℃のホットプレート上で1分間乾燥させることで電解質を充填させた。
[Electrolyte filling]
A solution obtained by mixing tetrabutylammonium perchlorate as an electrolyte and dimethyl sulfoxide and polyethylene glycol (molecular weight: 200) as a solvent in a ratio of 12:54:60 was used as an electrolytic solution. The element formed up to the deterioration preventing layer 135 was immersed for 1 minute and then dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 minute to fill the electrolyte.

[保護層の形成]
更に、紫外線硬化接着剤(商品名:SD−17 DIC社製)をスピンコートし、紫外光照射により硬化させることで保護層136を約3μmの厚さに形成した。これにより、実施例としてのエレクトロクロミック調光レンズを得た。
[Formation of protective layer]
Further, a protective layer 136 was formed to a thickness of about 3 μm by spin-coating an ultraviolet curable adhesive (trade name: manufactured by SD-17 DIC) and curing it by irradiation with ultraviolet light. This obtained the electrochromic light control lens as an Example.

<比較例としてのエレクトロクロミック調光レンズの作製>
次に、比較例としてのエレクトロクロミック調光レンズを作製した。
<Production of electrochromic light control lens as comparative example>
Next, an electrochromic light control lens as a comparative example was produced.

実施例と同様の方法により、エレクトロクロミック調光レンズを作製した。但し、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子(平均粒子径:約20nm)の表面を、金属水酸化物等で全く被覆しなかった。   An electrochromic light control lens was produced in the same manner as in the example. However, the surface of the titanium oxide nanoparticles (average particle size: about 20 nm) contained in the electrochromic layer was not covered with metal hydroxide or the like at all.

(エレクトロクロミック調光レンズの耐光性評価)
色差保持率から、2種類の異なるエレクトロクロミック調光レンズの耐光性を評価した。(評価は上述の実施例1〜4、比較例1と同様に実施した)。評価結果を図9に示す。
(Light resistance evaluation of electrochromic light control lens)
The light resistance of two different electrochromic light control lenses was evaluated from the color difference retention rate. (Evaluation was performed in the same manner as in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1). The evaluation results are shown in FIG.

図9に示す様に、実施例のエレクトロクロミック調光レンズにおいて、光照射前における色差ΔE_αは、53.7であった。又、光照射後における色差ΔE_βは、37.7であった。   As shown in FIG. 9, in the electrochromic light control lens of the example, the color difference ΔE_α before light irradiation was 53.7. The color difference ΔE_β after light irradiation was 37.7.

即ち、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を水酸化アルミニウムで被覆した場合、光照射を経た色差保持率は70.2%であった。   That is, when the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer was coated with aluminum hydroxide, the color difference retention rate after light irradiation was 70.2%.

図9に示す様に、比較例のエレクトロクロミック調光レンズにおいて、光照射前における色差ΔE_αは、53.9であった。又、光照射後における色差ΔE_βは、10.1であった。   As shown in FIG. 9, in the electrochromic light control lens of the comparative example, the color difference ΔE_α before the light irradiation was 53.9. Further, the color difference ΔE_β after light irradiation was 10.1.

即ち、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面を金属水酸化物等(例えば、水酸化アルミニウム)で被覆しなかった場合、光照射を経た色差保持率は18.7%であった。   That is, when the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer was not covered with a metal hydroxide or the like (for example, aluminum hydroxide), the color difference retention rate after light irradiation was 18.7%.

以上から、エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタンのナノ粒子の表面を金属水酸化物で被覆することで、優れた耐光性を有するエレクトロクロミック調光レンズを実現できることが示唆される。   From the above, it is suggested that an electrochromic light control lens having excellent light resistance can be realized by coating the surface of the titanium oxide nanoparticles contained in the electrochromic layer with a metal hydroxide.

以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の実施形態の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。   The preferred embodiment of the present invention has been described in detail above, but the present invention is not limited to the specific embodiment, and within the scope of the gist of the embodiment of the present invention described in the claims, Various modifications and changes are possible.

20 エレクトロクロミック表示素子
21 表示基板
22,25,28 表示電極
23,26,29 エレクトロクロミック層
23b 酸化チタン粒子
23c 金属水酸化物
30 電解質層
31 白色反射層
32 電荷保持層
33 対向電極
35 対向基板
100 情報機器(電子書籍リーダ)
101 表示装置
102 制御装置(メインコントローラ)
110 エレクトロクロミック調光レンズ
113 表示コントローラ
114 VRAM
20 Electrochromic display element
21 Display board
22, 25, 28 Display electrode
23, 26, 29 Electrochromic layer
23b Titanium oxide particles
23c metal hydroxide
30 Electrolyte layer
31 White reflective layer
32 Charge retention layer
33 Counter electrode
35 Counter substrate
100 Information equipment (electronic book reader)
101 display
102 Control device (main controller)
110 Electrochromic light control lens
113 Display controller
114 VRAM

特開2003−121883号公報JP 2003-121883 A 特開2006−106669号公報JP 2006-106669 A 特開2010−33016号公報JP 2010-33016 A 特開2012−137736号公報JP 2012-137736 A 特開2011−128200号公報JP 2011-128200 A

Claims (14)

表示基板と、表示電極と、前記表示電極に接して設けられたエレクトロクロミック層と、前記表示基板に対向して設けられた対向基板と、対向電極と、前記対向電極に接して設けられた電荷保持層と、前記表示基板と前記対向基板との間を充填する電解質層とを有するエレクトロクロミック表示素子であって、
前記エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック表示素子。
A display substrate, a display electrode, an electrochromic layer provided in contact with the display electrode, a counter substrate provided in opposition to the display substrate, a counter electrode, and a charge provided in contact with the counter electrode An electrochromic display element having a holding layer and an electrolyte layer filling a space between the display substrate and the counter substrate,
The electrochromic display element, wherein the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.
表示基板と、表示電極と、前記表示電極に接して設けられたエレクトロクロミック層と、前記表示基板に対向して設けられた対向基板と、対向電極と、前記対向電極に接して設けられた電荷保持層と、前記エレクトロクロミック層と前記電荷保持層との間に設けられた白色反射層と、前記表示基板と前記対向基板との間を充填する電解質層とを有するエレクトロクロミック表示素子であって、
前記エレクトロクロミック層及び前記白色反射層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック表示素子。
A display substrate, a display electrode, an electrochromic layer provided in contact with the display electrode, a counter substrate provided in opposition to the display substrate, a counter electrode, and a charge provided in contact with the counter electrode An electrochromic display element having a holding layer, a white reflective layer provided between the electrochromic layer and the charge holding layer, and an electrolyte layer filling a space between the display substrate and the counter substrate. ,
The electrochromic display element in which the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer and the white reflective layer is coated with a metal hydroxide.
前記金属水酸化物は、水酸化アルミニウムである、請求項1又は請求項2に記載のエレクトロクロミック表示素子。   The electrochromic display element according to claim 1, wherein the metal hydroxide is aluminum hydroxide. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のエレクトロクロミック表示素子と、表示データを格納するVRAMと、前記表示データに基づいて前記エレクトロクロミック表示素子を制御する表示コントローラと、を備える表示装置。   A display comprising: the electrochromic display element according to any one of claims 1 to 3; a VRAM that stores display data; and a display controller that controls the electrochromic display element based on the display data. apparatus. 請求項4に記載の表示装置と、前記表示装置に表示する情報を制御する制御装置と、を備える情報機器。   An information device comprising: the display device according to claim 4; and a control device that controls information displayed on the display device. 表示電基板上に、表示電極を形成する工程と、
前記表示電極上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含むエレクトロクロミック層を形成する工程と、
対向基板上に、対向電極を形成する工程と、
前記対向電極上に電荷保持層を形成する工程と、
前記表示電基板と前記対向基板とを電解質層を介して貼合せる工程と、を有するエレクトロクロミック表示素子の製造方法。
Forming a display electrode on the display substrate;
Forming an electrochromic layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the display electrode;
Forming a counter electrode on the counter substrate;
Forming a charge retention layer on the counter electrode;
And a step of bonding the display substrate and the counter substrate through an electrolyte layer.
表示電基板上に、表示電極を形成する工程と、
前記表示電極上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含むエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記エレクトロクロミック層上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含む白色反射層を形成する工程と、
対向基板上に、駆動素子層を形成する工程と、
前記駆動素子層上に、対向電極を形成する工程と、
前記対向電極上に電荷保持層を形成する工程と、
前記表示電基板と前記対向基板とを電解質層を介して貼合せる工程と、を有するエレクトロクロミック表示素子の製造方法。
Forming a display electrode on the display substrate;
Forming an electrochromic layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the display electrode;
Forming a white reflective layer containing titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the electrochromic layer;
Forming a drive element layer on the counter substrate;
Forming a counter electrode on the drive element layer;
Forming a charge retention layer on the counter electrode;
And a step of bonding the display substrate and the counter substrate through an electrolyte layer.
表示電基板上に、第1の表示電極を形成する工程と、
前記第1の表示電極上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含む第1のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記第1のエレクトロクロミック層上に、第1の絶縁層を形成する工程と、
前記第1の絶縁層上に、第2の表示電極を形成する工程と、
前記第2の表示電極上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含む第2のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記第2のエレクトロクロミック層上に、第2の絶縁層を形成する工程と、
前記第2の絶縁層上に、第3の表示電極を形成する工程と、
前記第3の表示電極上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含む第3のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記第3のエレクトロクロミック層上に、表面が金属水酸化物で被覆される酸化チタン粒子を含む白色反射層を形成する工程と、
対向基板上に、駆動素子層を形成する工程と、
前記駆動素子層上に、対向電極を形成する工程と、
前記対向電極上に電荷保持層を形成する工程と、
前記表示電基板と前記対向基板とを電解質層を介して貼合せる工程と、を有するエレクトロクロミック表示素子の製造方法。
Forming a first display electrode on the display substrate;
Forming a first electrochromic layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the first display electrode;
Forming a first insulating layer on the first electrochromic layer;
Forming a second display electrode on the first insulating layer;
Forming a second electrochromic layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the second display electrode;
Forming a second insulating layer on the second electrochromic layer;
Forming a third display electrode on the second insulating layer;
Forming a third electrochromic layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the third display electrode;
Forming a white reflective layer including titanium oxide particles whose surface is coated with a metal hydroxide on the third electrochromic layer;
Forming a drive element layer on the counter substrate;
Forming a counter electrode on the drive element layer;
Forming a charge retention layer on the counter electrode;
And a step of bonding the display substrate and the counter substrate through an electrolyte layer.
レンズと、前記レンズに接して設けられた第1の電極層と、
前記第1の電極層に接して設けられたエレクトロクロミック層と、
前記エレクトロクロミック層に接して設けられた絶縁性多孔質層と、
前記絶縁性多孔質層に接して設けられた劣化防止層と、
前記劣化防止層に接して設けられた第2の電極層と、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間を充填し、前記絶縁性多孔質層を介して前記エレクトロクロミック層及び前記劣化防止層と接触する電解質層と、を有し、
前記エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック調光レンズ。
A lens, and a first electrode layer provided in contact with the lens;
An electrochromic layer provided in contact with the first electrode layer;
An insulating porous layer provided in contact with the electrochromic layer;
A deterioration preventing layer provided in contact with the insulating porous layer;
A second electrode layer provided in contact with the deterioration preventing layer;
An electrolyte layer that fills a space between the first electrode layer and the second electrode layer and is in contact with the electrochromic layer and the deterioration preventing layer via the insulating porous layer;
The electrochromic light control lens, wherein the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.
レンズと、前記レンズに接して設けられた第1の電極層と、
前記第1の電極層に接して設けられたエレクトロクロミック層と、
前記エレクトロクロミック層に接して設けられた絶縁性多孔質層と、
前記絶縁性多孔質層に接して設けられた第2の電極層と、
前記第2の電極層に接して設けられた劣化防止層と、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間を充填し、前記絶縁性多孔質層及び前記第2の電極層を介して前記エレクトロクロミック層及び前記劣化防止層と接触する電解質層と、を有し、
前記エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック調光レンズ。
A lens, and a first electrode layer provided in contact with the lens;
An electrochromic layer provided in contact with the first electrode layer;
An insulating porous layer provided in contact with the electrochromic layer;
A second electrode layer provided in contact with the insulating porous layer;
A deterioration preventing layer provided in contact with the second electrode layer;
An electrolyte layer filling the space between the first electrode layer and the second electrode layer and contacting the electrochromic layer and the deterioration preventing layer via the insulating porous layer and the second electrode layer And having
The electrochromic light control lens, wherein the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.
前記劣化防止層は、前記第2の電極層の両面に形成される、請求項9又は請求項10に記載のエレクトロクロミック調光レンズ。   The electrochromic light control lens according to claim 9 or 10, wherein the deterioration preventing layer is formed on both surfaces of the second electrode layer. レンズと、前記レンズに接して設けられた第1の電極層と、
前記第1の電極層に接して設けられた劣化防止層と、
前記劣化防止層に接して設けられた絶縁性多孔質層と、
前記絶縁性多孔質層に接して設けられたエレクトロクロミック層と、
前記エレクトロクロミック層に接して設けられた第2の電極層と、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間を充填し、前記絶縁性多孔質層を介して前記エレクトロクロミック層及び前記劣化防止層と接触する電解質層と、を有し、
前記エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック調光レンズ。
A lens, and a first electrode layer provided in contact with the lens;
A deterioration preventing layer provided in contact with the first electrode layer;
An insulating porous layer provided in contact with the deterioration preventing layer;
An electrochromic layer provided in contact with the insulating porous layer;
A second electrode layer provided in contact with the electrochromic layer;
An electrolyte layer that fills a space between the first electrode layer and the second electrode layer and is in contact with the electrochromic layer and the deterioration preventing layer via the insulating porous layer;
The electrochromic light control lens, wherein the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.
レンズと、前記レンズに接して設けられた第1の電極層と、
前記第1の電極層に接して設けられた劣化防止層と、
前記劣化防止層に接して設けられた絶縁性多孔質層と、
前記絶縁性多孔質層に接して設けられた第1のエレクトロクロミック層と、
前記第1のエレクトロクロミック層に接して設けられた第2の電極層と、
前記第2の電極層に接して設けられた第2のエレクトロクロミック層と、
前記第1の電極層と前記第2の電極層との間を充填し、前記絶縁性多孔質層及び前記第2の電極層を介して前記第1のエレクトロクロミック層、前記第2のエレクトロクロミック層、及び前記劣化防止層と接触する電解質層と、を有し、
前記エレクトロクロミック層に含まれる酸化チタン粒子の表面は、金属水酸化物で被覆される、エレクトロクロミック調光レンズ。
A lens, and a first electrode layer provided in contact with the lens;
A deterioration preventing layer provided in contact with the first electrode layer;
An insulating porous layer provided in contact with the deterioration preventing layer;
A first electrochromic layer provided in contact with the insulating porous layer;
A second electrode layer provided in contact with the first electrochromic layer;
A second electrochromic layer provided in contact with the second electrode layer;
The space between the first electrode layer and the second electrode layer is filled, and the first electrochromic layer and the second electrochromic layer are interposed via the insulating porous layer and the second electrode layer. And an electrolyte layer in contact with the deterioration preventing layer,
The electrochromic light control lens, wherein the surface of the titanium oxide particles contained in the electrochromic layer is coated with a metal hydroxide.
前記金属水酸化物は、水酸化アルミニウムである請求項9乃至請求項13の何れか一項に記載のエレクトロクロミック調光レンズ。   The electrochromic light control lens according to any one of claims 9 to 13, wherein the metal hydroxide is aluminum hydroxide.
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