JP2017026750A - Electrochromic device, light control glasses, and method for manufacturing the electrochromic device - Google Patents

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竹内 弘司
Koji Takeuchi
弘司 竹内
八代 徹
Toru Yashiro
徹 八代
片野 泰男
Yasuo Katano
泰男 片野
碩燦 金
Seok-Chan Kim
碩燦 金
峻 後藤
shun Goto
峻 後藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochromic device that can prevent crack generation in an electrode layer and has excellent appearances and operating characteristics.SOLUTION: The electrochromic device includes: a first substrate 11; a first electrode layer 12 on the first substrate 11; an electrochromic layer 13 on the first electrode layer 12; a second substrate 16, facing the first substrate 11; a second electrode layer 15 on a side of the second substrate 16 which is near the first substrate 11; and an electrolyte layer 14 between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15. The electrochromic device has such a three-dimensional curved shape that the first substrate 11 forms a convex extending in the direction of the first electrode layer 12 and the first substrate 11 is thinner than the second substrate 16.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子、調光眼鏡及びエレクトロクロミック素子の製造方法に関する。   The present invention relates to an electrochromic element, dimming glasses, and a method for manufacturing an electrochromic element.

電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をエレクトロクロミズムという。このエレクトロクロミズムを利用した装置がエレクトロクロミック装置である。エレクトロクロミック装置にはエレクトロクロミズムの特徴に由来する応用が実現できるとして、今日まで多くの研究がなされている。   A phenomenon in which a redox reaction occurs reversibly and a color changes reversibly by applying a voltage is called electrochromism. A device using this electrochromism is an electrochromic device. Many studies have been conducted on electrochromic devices to date that applications derived from the characteristics of electrochromism can be realized.

エレクトロクロミック装置に用いられるエレクトロクロミック材料としては、有機材料や無機材料がある。有機材料は、その分子構造により様々な色彩発色が可能であることから、カラー表示装置として有望である。一方、無機材料は色彩の制御に課題があるが、この特徴を利用し、色彩度が低いことが利点となるアプリケーションとして調光ガラスやNDフィルタへの実用化が検討されている。   Electrochromic materials used in electrochromic devices include organic materials and inorganic materials. An organic material is promising as a color display device because it can generate various colors depending on its molecular structure. On the other hand, inorganic materials have problems in color control. However, practical application to light control glass and ND filters is being studied as an application that uses this feature and has an advantage of low color saturation.

このようなエレクトロクロミック装置は、一般に、エレクトロクロミック材料を対向する2つの電極間に形成し、イオン伝導可能な電解質層が電極間に満たされた構成で酸化還元反応を行う。エレクトロクロミックは電気化学現象であるため、電解質層の性能(イオン伝導度等)が応答速度や発色のメモリ効果に影響する。前記電解質層は電解質を溶媒に溶かした液体状である場合は速い応答性を得やすいが、素子強度及び信頼性の点で固体化、ゲル化による改良が検討されている。   In such an electrochromic device, generally, an electrochromic material is formed between two electrodes facing each other, and an oxidation-reduction reaction is performed in a configuration in which an ion conductive electrolyte layer is filled between the electrodes. Since electrochromic is an electrochemical phenomenon, the performance (ionic conductivity, etc.) of the electrolyte layer affects the response speed and the memory effect of color development. When the electrolyte layer is in the form of a liquid in which the electrolyte is dissolved in a solvent, it is easy to obtain fast responsiveness. However, improvements in solidification and gelation have been studied in terms of device strength and reliability.

即ち、従来から、電気化学素子としての電池やエレクトロクロミック装置では、電解液を使用している。そのため、電解液の漏れ、溶媒の揮発による電池内の乾燥があるばかりでなく、電池容器内では、電解液の偏りなどが内部インピーダンスの上昇や内部短絡の原因になっていた。
特にエレクトロクロミック装置は、調光ガラスや表示用途に用いる場合、少なくとも一方向は、ガラスやプラスチック等の透明材料で封止する必要があるため、金属等で電解質を完全に密閉してしまうことは困難であり、電解液の漏れや揮発がより大きな問題となる。
That is, conventionally, an electrolytic solution is used in a battery or an electrochromic device as an electrochemical element. For this reason, not only the leakage of the electrolyte and the drying of the battery due to the volatilization of the solvent, but also the unevenness of the electrolyte in the battery container caused an increase in internal impedance and an internal short circuit.
Especially when an electrochromic device is used for dimming glass or display applications, it is necessary to seal at least one direction with a transparent material such as glass or plastic. It is difficult, and leakage and volatilization of the electrolyte become a larger problem.

上述したような欠点を解決するための方法として、高分子固体電解質を用いることが提案されている。前記高分子固体電解質としては、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖を含有するマトリックスポリマーと無機塩との固溶体が挙げられるが、これらは完全固体であり、加工性に優れるものの、電導度が小さい。
そこで、前記高分子固体電解質の電導度を向上させるために、高分子に有機電解液を溶解させて半固形状のものにする方法や、電解質を加えた液状モノマーを重合反応させて電解質を含む架橋重合体とする方法が提案されている。
しかし、これらの提案の技術は、いずれも実用レベルには至っていない。
As a method for solving the above-described drawbacks, it has been proposed to use a polymer solid electrolyte. Examples of the solid polymer electrolyte include a solid solution of a matrix polymer containing an oxyethylene chain or an oxypropylene chain and an inorganic salt. These are completely solid and excellent in processability, but have low electrical conductivity.
Therefore, in order to improve the electrical conductivity of the polymer solid electrolyte, a method of dissolving the organic electrolyte in the polymer to make it semi-solid, or a liquid monomer added with the electrolyte is polymerized to include the electrolyte A method of forming a crosslinked polymer has been proposed.
However, none of these proposed technologies has reached a practical level.

ところで、エレクトロクロミック装置は、一般に、エレクトロクロミック材料を対向する2つの電極間に形成した後、イオン伝導可能な電解質層を介して貼り合わせることで作製される。そのため、平面な形状には作りやすいが、3次元面(3D面)、曲面などのアプリケーションには容易に適用できないという課題がある。例えば、レンズなどの3次元(3D)形状に適用できれば、光学用途として適用範囲が広がる。
しかし、貼り合せる2枚の基板の曲面精度や位置精度により、光学不良が発生しやすい。更に、メガネレンズとする場合、ユーザーに合わせて度数調整する必要があり、曲面形状の異なる基板を多数準備することが量産への課題となる。
By the way, in general, an electrochromic device is manufactured by forming an electrochromic material between two opposing electrodes and then bonding them together via an electrolyte layer capable of ion conduction. Therefore, although it is easy to make a flat shape, there is a problem that it cannot be easily applied to applications such as a three-dimensional surface (3D surface) and a curved surface. For example, if it can be applied to a three-dimensional (3D) shape such as a lens, the applicable range is widened as an optical application.
However, optical defects are likely to occur due to the curved surface accuracy and position accuracy of the two substrates to be bonded. Furthermore, in the case of a spectacle lens, it is necessary to adjust the frequency in accordance with the user, and preparing a large number of substrates having different curved shapes becomes a problem for mass production.

このようなエレクトロクロミック装置を貼り合わせプロセスなしで作製することができれば、前記課題を解決できるが、従来技術ではエレクトロクロミック装置を支持体上に薄膜プロセスで形成することが困難であった。即ち、貼合せプロセスを省略するために、電解質層上に電極を形成する場合、全固体の電解質層を用いると前述のように応答速度が遅いという問題がある。更に全固体の電解質層として有機材料層を用いると、電解質層上に形成する電極層の電気抵抗が高くなりやすく、正常に酸化還元駆動できないという問題がある。特に、一般的に透明電極として採用されている真空製膜で形成されたITO、IZO、SnO、AZO、GZO等の酸化物層は、有機膜表面に製膜した場合、透明性と電気伝導度とを両立しにくいという課題がある。 If such an electrochromic device can be manufactured without a bonding process, the above problem can be solved. However, it has been difficult to form an electrochromic device on a support by a thin film process in the prior art. That is, when an electrode is formed on the electrolyte layer in order to omit the bonding process, there is a problem that the response speed is slow as described above when an all-solid electrolyte layer is used. Furthermore, when an organic material layer is used as the all-solid electrolyte layer, there is a problem that the electric resistance of the electrode layer formed on the electrolyte layer tends to be high, and the redox drive cannot be performed normally. In particular, when an oxide layer such as ITO, IZO, SnO 2 , AZO, GZO formed by vacuum film formation, which is generally adopted as a transparent electrode, is formed on the surface of an organic film, transparency and electrical conduction There is a problem that it is difficult to balance the degree.

一方、全固体の電解質層として無機材料層を用いる場合には、無機エレクトロクロミック化合物に限定される。前記無機エレクトロクロミック化合物を用いる例としては、還元発色層と酸化発色層とを固体電解質層を挟んで対向配置した構造を有するエレクトロクロミック素子を挙げることができる。   On the other hand, when an inorganic material layer is used as the all-solid electrolyte layer, it is limited to an inorganic electrochromic compound. As an example of using the inorganic electrochromic compound, an electrochromic element having a structure in which a reduction color development layer and an oxidation color development layer are arranged to face each other with a solid electrolyte layer interposed therebetween can be given.

前記エレクトロクロミック素子では、還元発色層が酸化タングステンと酸化チタンを含有する材料で構成され、酸化発色層がニッケル酸化物を含有する材料で構成されている。更に、酸化発色固体電解質層との間に、ニッケル酸化物以外の金属酸化物若しくは金属、又はニッケル酸化物以外の金属酸化物と金属との複合物を主成分として構成される透明性を有する中間層を配置したエレクトロクロミック素子が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この提案によれば、中間層を形成することにより、繰り返し特性と応答性が改良して、数秒間で発消色駆動が可能であると記載されている。
しかし、この提案のエレクトロクロミック素子は、構造が複雑であり、真空製膜で無機化合物層を多層形成することは大型化が困難であると共に、コストアップ要因となる。また、製膜プロセスの熱影響が避けられず、基板がガラス等の耐熱性材料に限定されやすい。更に、無機エレクトロクロミック反応は水分の影響を受けやすく、色彩も青色系に限定されてしまうという課題がある。
In the electrochromic device, the reduced color layer is made of a material containing tungsten oxide and titanium oxide, and the oxidized color layer is made of a material containing nickel oxide. Further, a transparent intermediate composed of a metal oxide or metal other than nickel oxide or a composite of metal oxide and metal other than nickel oxide as a main component between the oxidation coloring solid electrolyte layer. An electrochromic element in which layers are arranged has been proposed (see, for example, Patent Document 1). According to this proposal, it is described that by forming the intermediate layer, the repetition characteristics and the responsiveness are improved, and the color development driving can be performed in a few seconds.
However, the proposed electrochromic device has a complicated structure, and it is difficult to increase the size of the inorganic compound layer by vacuum film formation, and this causes an increase in cost. In addition, the thermal effect of the film forming process is unavoidable, and the substrate is likely to be limited to a heat resistant material such as glass. Furthermore, there is a problem that the inorganic electrochromic reaction is easily affected by moisture and the color is limited to blue.

これに対し、貼合せプロセスなしで作製可能な有機エレクトロクロミック装置が提案されている(特許文献2参照)。これによれば、3D形状のエレクトロクロミック装置を実現することが可能である。
しかし、特許文献2においても支持体にコーティングする層数が多く、コーティング欠陥が生じやすい、ヘイズが大きくなる、また膜が剥離しやすいという課題があった。これに対して、電極層を含む樹脂基板を熱成型することにより、曲面形成することが考えられるが、基板を貼り合わせて3次元曲面に曲げ加工すると電極層にクラックが発生してしまい、外観が悪くなるという問題がある。また、クラックにより、電極の抵抗値が高くなり、所望の駆動電圧でエレクトロクロミック素子を駆動できない等の問題がある。
On the other hand, an organic electrochromic device that can be manufactured without a bonding process has been proposed (see Patent Document 2). According to this, it is possible to realize a 3D-shaped electrochromic device.
However, Patent Document 2 also has a problem that the number of layers coated on the support is large, coating defects are likely to occur, haze is increased, and the film is easily peeled off. On the other hand, it is conceivable to form a curved surface by thermoforming a resin substrate including an electrode layer. However, when the substrates are bonded and bent into a three-dimensional curved surface, cracks occur in the electrode layer, and the appearance There is a problem of getting worse. In addition, the resistance value of the electrode increases due to the crack, and there is a problem that the electrochromic element cannot be driven with a desired driving voltage.

本発明は上記諸問題点を解決するためになされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。すなわち、本発明は、電極層におけるクラックの発生を抑制することができ、外観及び動作特性の良好なエレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to achieve the following object. That is, an object of the present invention is to provide an electrochromic element that can suppress the occurrence of cracks in an electrode layer and has good appearance and operating characteristics.

上記課題を解決するために、本発明は、少なくとも第1の基板と、前記第1の基板上に形成された第1の電極層と、前記第1の電極層上に形成されたエレクトロクロミック層と、前記第1の基板と対向し、かつ、前記第1の電極層側に配置される第2の基板と、前記第2の基板における前記第1の基板側の面に形成された第2の電極層と、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に形成された電解質層とを有するエレクトロクロミック素子であって、前記エレクトロクロミック素子は3次元曲面形状を有し、該3次元曲面形状は、前記第1の基板が前記第1の電極層の方向に凸となる形状であり、前記第1の基板の厚みが前記第2の基板より薄いことを特徴とする。   In order to solve the above problems, the present invention provides at least a first substrate, a first electrode layer formed on the first substrate, and an electrochromic layer formed on the first electrode layer. A second substrate facing the first substrate and disposed on the first electrode layer side, and a second substrate formed on the first substrate side surface of the second substrate. And an electrolyte layer formed between the first electrode layer and the second electrode layer, the electrochromic element having a three-dimensional curved shape, The three-dimensional curved surface shape is a shape in which the first substrate is convex in the direction of the first electrode layer, and the thickness of the first substrate is thinner than the second substrate.

本発明によれば、電極層におけるクラックの発生を抑制することができ、外観及び動作特性の良好なエレクトロクロミック素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, generation | occurrence | production of the crack in an electrode layer can be suppressed, and the electrochromic element with a favorable external appearance and an operational characteristic can be provided.

本発明に係るエレクトロクロミック素子の一例における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in an example of the electrochromic element which concerns on this invention. 本発明に係るエレクトロクロミック素子の他の例における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in the other example of the electrochromic element which concerns on this invention. 本発明に係るエレクトロクロミック素子の他の例における断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram in the other example of the electrochromic element which concerns on this invention. 本発明に係るエレクトロクロミック素子の他の例における模式図である。It is a schematic diagram in the other example of the electrochromic element which concerns on this invention. 本発明に係るエレクトロクロミック素子の一例における製造工程のフロー図である。It is a flowchart of the manufacturing process in an example of the electrochromic element which concerns on this invention.

以下、本発明に係るエレクトロクロミック素子、調光眼鏡及びエレクトロクロミック素子の製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、本発明は以下に示す実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、修正、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用・効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。   Hereinafter, an electrochromic device, dimming glasses, and a method for manufacturing an electrochromic device according to the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to the embodiments described below, and other embodiments, additions, modifications, deletions, and the like can be changed within a range that can be conceived by those skilled in the art, and any aspect is possible. As long as the functions and effects of the present invention are exhibited, the scope of the present invention is included.

本発明は、少なくとも第1の基板と、前記第1の基板上に形成された第1の電極層と、前記第1の電極層上に形成されたエレクトロクロミック層と、前記第1の基板と対向し、かつ、前記第1の電極層側に配置される第2の基板と、前記第2の基板における前記第1の基板側の面に形成された第2の電極層と、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に形成された電解質層とを有するエレクトロクロミック素子であって、前記エレクトロクロミック素子は3次元曲面形状を有し、該3次元曲面形状は、前記第1の基板が前記第1の電極層の方向に凸となる形状であり、前記第1の基板の厚みが前記第2の基板より薄いことを特徴とする。   The present invention includes at least a first substrate, a first electrode layer formed on the first substrate, an electrochromic layer formed on the first electrode layer, and the first substrate. A second substrate that is opposed and disposed on the first electrode layer side, a second electrode layer formed on a surface of the second substrate on the first substrate side, and the first substrate An electrochromic element having an electrolyte layer formed between the second electrode layer and the second electrode layer, wherein the electrochromic element has a three-dimensional curved surface shape. One substrate has a shape protruding in the direction of the first electrode layer, and the thickness of the first substrate is thinner than that of the second substrate.

(エレクトロクロミック素子)
<第1の実施形態>
本発明のエレクトロクロミック素子の一実施形態の構成例を図1に示す。図1(A)に示されるように、第1の基板11上に、第1の電極層12、エレクトロクロミック層13、絶縁層17が形成されている。図1(B)に示されるように、第2の基板16上には第2の電極層15が形成されており、図1(C)に示されるように、これらの第1の基板11及び第2の基板16の電極層間に電解質層14を充填して貼り合わせ、エレクトロクロミック素子としている。
(Electrochromic device)
<First Embodiment>
A configuration example of one embodiment of the electrochromic device of the present invention is shown in FIG. As shown in FIG. 1A, a first electrode layer 12, an electrochromic layer 13, and an insulating layer 17 are formed over the first substrate 11. As shown in FIG. 1B, a second electrode layer 15 is formed on the second substrate 16, and as shown in FIG. 1C, these first substrate 11 and An electrolyte layer 14 is filled and bonded between the electrode layers of the second substrate 16 to form an electrochromic element.

また、図1(D)では、第1の基板11及び第1の基板11上に形成された第1の電極層12、エレクトロクロミック層13、絶縁層17が符号21で示されており、第2の基板16及び第2の基板に形成された第2の電極層15が符号22で示されている。図1(D)は熱加工され曲面加工された場合の例を示すものであり、3次元曲面形状が形成され、所望の曲面形状が形成される。   In FIG. 1D, the first substrate 11 and the first electrode layer 12, the electrochromic layer 13, and the insulating layer 17 formed on the first substrate 11 are denoted by reference numeral 21. The second substrate 16 and the second electrode layer 15 formed on the second substrate are denoted by reference numeral 22. FIG. 1D shows an example in the case of heat processing and curved surface processing, where a three-dimensional curved surface shape is formed and a desired curved surface shape is formed.

本発明では、第1の基板11の厚みが第2の基板16より薄くなっていることが特徴である。これにより、凸に曲げられる電極層にかかる応力を小さくすることができるため、曲面加工時に発生するクラックを防ぐことができる。   The present invention is characterized in that the thickness of the first substrate 11 is thinner than that of the second substrate 16. Thereby, since the stress concerning the electrode layer bent convexly can be made small, the crack which generate | occur | produces at the time of curved surface processing can be prevented.

以下、本実施形態に係るエレクトロクロミック素子を構成する各構成要素について詳細に説明する。   Hereinafter, each component which comprises the electrochromic element which concerns on this embodiment is demonstrated in detail.

<基板>
第1の基板11及び第2の基板16としては、周知の熱成型可能な樹脂材料をそのまま用いることができる。例えば、ポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂基板を用いてもよい。
また、第1の基板11及び第2の基板16の表面に、水蒸気バリア性、ガスバリア性、視認性を高めるために透明絶縁層、反射防止層等がコーティングされていてもよい。
<Board>
As the first substrate 11 and the second substrate 16, a well-known thermoformable resin material can be used as it is. For example, a resin substrate such as polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyester, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, polyurethane resin, or polyimide resin may be used.
In addition, the surfaces of the first substrate 11 and the second substrate 16 may be coated with a transparent insulating layer, an antireflection layer, or the like in order to improve water vapor barrier properties, gas barrier properties, and visibility.

電極層を形成した基板を曲面加工すると、電極層が凹になるように曲げた場合に比べて、凸になるように曲げた場合の方が、クラックが発生しやすいことが判明した。電極層は、圧縮応力より引っ張り応力に対して弱いことから、引っ張り応力がかかる電極層が、凸になる側の基板の厚さを薄くすることが有効であることが判った。そのため、電極層が凸になる方向に曲げる基板の厚さを、凹になる方向に曲げる基板より薄くすることによって、電極にクラックが発生しにくい構成とすることができる。   When the substrate on which the electrode layer is formed is curved, it has been found that cracks are more likely to occur when the electrode layer is bent to be convex than when the electrode layer is bent to be concave. Since the electrode layer is weaker than the compressive stress to the tensile stress, it has been found that it is effective to reduce the thickness of the substrate on which the electrode layer to which the tensile stress is applied becomes convex. Therefore, by making the thickness of the substrate bent in the direction in which the electrode layer is convex thinner than the substrate bent in the direction in which the electrode layer is concave, the electrode can be configured not to easily crack.

本実施形態では、第1の基板11と第2の基板16で挟まれる領域を内側としたとき、第1の基板11は内側方向に凸形状を有し、第2の基板16は内側方向に凹形状を有している。このため、第1の基板11は、電極層が形成されている面が凸になり、第2の基板16は、電極層が形成されている面が凹になる。上記のように、電極層が形成されている面が凸になる基板(第1の基板11)の厚みを、凹になる基板(第2の基板16)より薄くすることにより、曲面加工時に電極層にかかる応力を小さくすることができる。これにより、電極層におけるクラック発生を抑制することができ、外観及び動作特性の良好なエレクトロクロミック素子が得られ、所望の曲面形状が形成されたエレクトロクロミック素子を得ることができる。   In the present embodiment, when the region sandwiched between the first substrate 11 and the second substrate 16 is the inside, the first substrate 11 has a convex shape in the inward direction, and the second substrate 16 is in the inward direction. It has a concave shape. Therefore, the first substrate 11 has a convex surface on which the electrode layer is formed, and the second substrate 16 has a concave surface on which the electrode layer is formed. As described above, by making the thickness of the substrate (first substrate 11) having a convex surface on which the electrode layer is formed thinner than the substrate (second substrate 16) having a concave surface, the electrode is formed during curved surface processing. The stress applied to the layer can be reduced. Thereby, generation | occurrence | production of the crack in an electrode layer can be suppressed, the electrochromic element with a favorable external appearance and an operating characteristic can be obtained, and the electrochromic element in which the desired curved surface shape was formed can be obtained.

基板の厚さは、適宜変更が可能であるが、熱成型による曲げ加工が容易な0.2mm〜1.0mmの範囲が好ましい。
また、第1の基板11と第2の基板16との比は、(第1の基板11の厚さ)/(第2の基板16の厚さ)=0.2〜0.9が好ましい。
Although the thickness of a board | substrate can be changed suitably, the range of 0.2 mm-1.0 mm in which the bending process by thermoforming is easy is preferable.
The ratio of the first substrate 11 to the second substrate 16 is preferably (thickness of the first substrate 11) / (thickness of the second substrate 16) = 0.2 to 0.9.

<第1の電極層及び第2の電極層>
第1の電極層12及び第2の電極層15の材料としては、透明かつ導電性を有する材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、スズをドープした酸化インジウム(以下、ITO)、フッ素をドープした酸化スズ(以下、FTO)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下、ATO)などが挙げられる。これらの中でも、真空成膜により形成されたインジウム酸化物(以下、In酸化物という)、スズ酸化物(以下、Sn酸化物という)、及び亜鉛酸化物(以下、Zn酸化物という)のいずれか1つを含む無機材料であることが好ましい。
<First electrode layer and second electrode layer>
The material of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 is not particularly limited as long as it is a transparent and conductive material, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include indium oxide doped with tin (hereinafter referred to as ITO), tin oxide doped with fluorine (hereinafter referred to as FTO), tin oxide doped with antimony (hereinafter referred to as ATO), and the like. Among these, any of indium oxide (hereinafter referred to as In oxide), tin oxide (hereinafter referred to as Sn oxide), and zinc oxide (hereinafter referred to as Zn oxide) formed by vacuum film formation. An inorganic material including one is preferable.

前記In酸化物、Sn酸化物、及びZn酸化物は、スパッタ法により、容易に成膜が可能な材料であると共に、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料である。
これらの中でも、InSnO、GaZnO、SnO、In、ZnOが特に好ましい。更には、透明性を有する銀、金、カーボンナノチューブ、金属酸化物等のネットワーク電極やこれらの複合層も有用である。
The In oxide, Sn oxide, and Zn oxide are materials that can be easily formed by a sputtering method, and can obtain good transparency and electrical conductivity.
Among these, InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 and ZnO are particularly preferable. Furthermore, transparent network electrodes such as silver, gold, carbon nanotube, and metal oxide, and composite layers thereof are also useful.

前記電極層の厚みは、特に制限はなく、エレクトロクロミックの酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように調整でき、例えばITOを用いた場合には、50nm〜500nmが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the said electrode layer, It can adjust so that an electrical resistance value required for an electrochromic oxidation-reduction reaction may be obtained, for example, when using ITO, 50 nm-500 nm are preferable.

前記電極層の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空製膜方法が挙げられる。該表示電極材料が塗布形成できるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法も用いることができる。   Examples of the method for producing the electrode layer include vacuum film forming methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. If the display electrode material can be applied and formed, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, slit coating method, Various printing methods such as a capillary coating method, a spray coating method, a nozzle coating method, a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reverse printing method, and an inkjet printing method can also be used.

電極層の表面に微細な凹凸を形成する方法としては、例えばサンドブラスト法、ドライエッチング法、ウエットエッチング法、レーザーアブレーション法、コロイダルリソグラフィ法等が挙げられる。これらの中では簡便な方法で、かつエレクトロクロミック層や絶縁層を形成するときに使用するスピンコーター利用できるコロイダルリソグラフィ法が好ましい。   Examples of the method for forming fine irregularities on the surface of the electrode layer include a sand blast method, a dry etching method, a wet etching method, a laser ablation method, and a colloidal lithography method. Among these, a colloidal lithography method which is a simple method and can be used for a spin coater used when forming an electrochromic layer or an insulating layer is preferable.

<エレクトロクロミック層>
エレクトロクロミック層13は、エレクトロクロミック材料を含み、更に必要に応じてその他の成分を含んでいる。
前記エレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物及び有機エレクトロクロミック化合物のいずれを用いても構わない。また、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性高分子も用いることができる。
<Electrochromic layer>
The electrochromic layer 13 includes an electrochromic material, and further includes other components as necessary.
As the electrochromic material, either an inorganic electrochromic compound or an organic electrochromic compound may be used. In addition, a conductive polymer known to exhibit electrochromism can also be used.

前記無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタンなどが挙げられる。
前記有機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、ビオロゲン、希土類フタロシアニン、スチリルなどが挙げられる。
前記導電性高分子としては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はそれらの誘導体などが挙げられる。
Examples of the inorganic electrochromic compound include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, and titanium oxide.
Examples of the organic electrochromic compound include viologen, rare earth phthalocyanine, and styryl.
Examples of the conductive polymer include polypyrrole, polythiophene, polyaniline, or derivatives thereof.

エレクトロクロミック層13としては、導電性又は半導体性微粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持した構造を用いることが好ましい。具体的には、電極表面に粒径5nm〜50nm程度の微粒子を焼結し、前記微粒子の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着した構造である。前記構造は、微粒子の大きな表面効果を利用して、効率よく有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック素子と比較して高速応答する。   As the electrochromic layer 13, it is preferable to use a structure in which an organic electrochromic compound is supported on conductive or semiconductive fine particles. Specifically, it is a structure in which fine particles having a particle size of about 5 nm to 50 nm are sintered on the electrode surface, and an organic electrochromic compound having a polar group such as phosphonic acid, carboxyl group, silanol group or the like is adsorbed on the surface of the fine particles. . The structure utilizes a large surface effect of fine particles and efficiently injects electrons into the organic electrochromic compound. Therefore, the structure responds faster than a conventional electrochromic device.

更に、微粒子を用いることで表示層として透明な膜を形成することができるため、エレクトロクロミック色素の高い発色濃度を得ることができる。
なお、複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を導電性又は半導体性微粒子に担持することもできる。
Furthermore, since a transparent film can be formed as a display layer by using fine particles, a high color density of the electrochromic dye can be obtained.
A plurality of types of organic electrochromic compounds can be supported on conductive or semiconductive fine particles.

前記エレクトロクロミック材料としては、具体的には、ポリマー系、色素系のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物などが挙げられる。
これらの中でも、発消色電位が低く、良好な色値を示す点から、ビオロゲン系化合物又はジピリジン系化合物が好ましい。
Specific examples of the electrochromic material include polymer-based and dye-based electrochromic compounds such as azobenzene, anthraquinone, diarylethene, dihydroprene, dipyridine, styryl, styrylspiropyran, spirooxazine, Spirothiopyran, thioindigo, tetrathiafulvalene, terephthalic acid, triphenylmethane, triphenylamine, naphthopyran, viologen, pyrazoline, phenazine, phenylenediamine, phenoxazine, phenothiazine, phthalocyanine And low molecular organic electrochromic compounds such as fluoran, fulgide, benzopyran, and metallocene, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene.
Among these, a viologen compound or a dipyridine compound is preferable from the viewpoint of a low color developing / erasing potential and a good color value.

前記ビオロゲン系化合物としては、例えば、特許第3955641号公報、特開2007−171781号公報に記載の化合物などが挙げられる。
前記ジピリジン系化合物としては、例えば、特開2007−171781号公報、特開2008−116718号公報に記載の化合物などが挙げられる。
これらの中でも、良好な発色の色値を示す点から、下記一般式(1)で表されるジピリジン系化合物が好ましい。
Examples of the viologen compound include compounds described in Japanese Patent No. 39555641 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-171781.
Examples of the dipyridine-based compound include compounds described in JP 2007-171781 A and JP 2008-116718 A.
Among these, a dipyridine compound represented by the following general formula (1) is preferable from the viewpoint of exhibiting a good color value.

ただし、前記一般式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数1〜8のアルキル基、又はアリール基を表し、R1及びR2の少なくとも一方は、COOH、PO(OH)、及びSi(OC2k+1(ただし、kは、1から20)から選ばれる置換基を有する。Xは1価のアニオンを表し、例えば、カチオン部と安定に対を成すものであれば特に限定されるものではないが、Brイオン(Br)、Clイオン(Cl)、ClOイオン(ClO )、PFイオン(PF )、BFイオン(BF )などが挙げられる。n、m、及びlは、0、1又は2を表す。A、B、及びCは、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。 However, in said general formula (1), R1 and R2 represent each independently the C1-C8 alkyl group which may have a substituent, or an aryl group, and at least one of R1 and R2 is It has a substituent selected from COOH, PO (OH) 2 , and Si (OC k H 2k + 1 ) 3 (where k is 1 to 20). X represents a monovalent anion. For example, X is not particularly limited as long as it is stably paired with a cation moiety, but Br ion (Br ), Cl ion (Cl ), ClO 4 ion ( ClO 4 ), PF 6 ion (PF 6 ), BF 4 ion (BF 4 ) and the like. n, m, and l represent 0, 1, or 2. A, B, and C each independently represent a C 1-20 alkyl group, aryl group, or heterocyclic group that may have a substituent.

金属錯体系、金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアンブルー等の無機系エレクトロクロミック化合物が用いられる。
導電性又は半導体性微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属酸化物が好ましい。
As the metal complex-based or metal oxide-based electrochromic compound, inorganic electrochromic compounds such as titanium oxide, vanadium oxide, tungsten oxide, indium oxide, iridium oxide, nickel oxide, and Prussian blue are used.
There is no restriction | limiting in particular as electroconductive or semiconductive fine particle, Although it can select suitably according to the objective, A metal oxide is preferable.

前記金属酸化物の材料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物が用いられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the metal oxide materials include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, and oxidation. Metal oxides mainly composed of calcium, ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, aluminosilicate, calcium phosphate, aluminosilicate, etc. are used. . These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性を鑑みるに、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステンから選ばれる1種又はそれらの混合物が用いられたとき、発消色の応答速度に優れた色表示が可能である。
とりわけ、酸化チタンが用いられたとき、より発消色の応答速度に優れた色表示が可能である。
In view of electrical properties such as electrical conductivity and physical properties such as optical properties, one selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, indium oxide, tungsten oxide, or When these mixtures are used, it is possible to display colors with excellent response speed of color development and decoloration.
In particular, when titanium oxide is used, it is possible to display a color with an excellent response speed of color development and decoloration.

また、導電性又は半導体性微粒子の形状は、特に制限されるものではないが、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積(以下、比表面積という)が大きい形状が用いられる。
例えば、微粒子が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比が優れる。
In addition, the shape of the conductive or semiconductive fine particles is not particularly limited, but a shape having a large surface area per unit volume (hereinafter referred to as a specific surface area) is used in order to efficiently carry the electrochromic compound. .
For example, when the fine particle is an aggregate of nanoparticles, it has a large specific surface area, so that the electrochromic compound is more efficiently supported and the display contrast ratio of color development and decoloration is excellent.

エレクトロクロミック層13の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.2μm〜5.0μmが好ましい。前記厚みが、0.2μm未満であると、発色濃度が得にくくなることがあり、5.0μmを超えると、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすいことがある。
エレクトロクロミック層13及び導電性又は半導体性微粒子層は真空製膜により形成することも可能であるが、生産性の点で粒子分散ペーストとして塗布形成することが好ましい。
There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the electrochromic layer 13, Although it can select suitably according to the objective, 0.2 micrometer-5.0 micrometers are preferable. When the thickness is less than 0.2 μm, it may be difficult to obtain a color density, and when it exceeds 5.0 μm, the manufacturing cost increases and the visibility may be easily lowered by coloring.
Although the electrochromic layer 13 and the conductive or semiconductive fine particle layer can be formed by vacuum film formation, it is preferably formed by coating as a particle-dispersed paste from the viewpoint of productivity.

<電解質層>
電解質層14は固体電解質層が好ましく、光又は熱硬化樹脂中に電解質を保持した膜として形成される。さらに電解質層14の層厚を制御する無機粒子を混合していることが好ましい。このような電解質層は前記無機微粒子と硬化型樹脂、電解質を混合した溶液としてエレクトロクロミック層13上にコートした後、光又は熱で硬化した膜とすることが好ましい。また、予め多孔質の無機微粒子層を形成した後、無機微粒子層に浸透するように、硬化型樹脂、電解質を混合した溶液としてコートした後、光又は熱で硬化した膜とすることもできる。更に、エレクトロクロミック層が導電性又は半導体性ナノ粒子にエレクトロクロミック化合物が担持された層である場合は、エレクトロクロミック層13に浸透するように、硬化型樹脂、電解質を混合した溶液としてコートした後、光又は熱で硬化した膜とすることもできる。
<Electrolyte layer>
The electrolyte layer 14 is preferably a solid electrolyte layer, and is formed as a film holding the electrolyte in light or thermosetting resin. Furthermore, it is preferable to mix inorganic particles for controlling the thickness of the electrolyte layer 14. Such an electrolyte layer is preferably a film cured with light or heat after being coated on the electrochromic layer 13 as a mixed solution of the inorganic fine particles, curable resin, and electrolyte. Alternatively, a porous inorganic fine particle layer may be formed in advance and then coated as a mixed solution of a curable resin and an electrolyte so as to penetrate into the inorganic fine particle layer, and then a film cured by light or heat. Further, when the electrochromic layer is a layer in which an electrochromic compound is supported on conductive or semiconducting nanoparticles, after coating as a mixed solution of a curable resin and an electrolyte so as to penetrate into the electrochromic layer 13 A film cured with light or heat can also be used.

前記電解液としては、イオン液体等の液体電解質、又は固体電解質を溶媒に溶解した溶液が用いられる。
電解質の材料としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的には、LiClO、LiBF、LiAsF、LiPF、LiCFSO、LiCFCOO、KCl、NaClO、NaCl、NaBF、NaSCN、KBF、Mg(ClO、Mg(BFなどが挙げられる。
As the electrolytic solution, a liquid electrolyte such as an ionic liquid or a solution obtained by dissolving a solid electrolyte in a solvent is used.
As the electrolyte material, for example, inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, acids, and alkali supporting salts can be used. Specifically, LiClO 4 , LiBF 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaClO 3 , NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 , Mg (ClO 4 ) 2 , Mg ( BF 4 ) 2 and the like.

前記イオン性液体としては、特に制限はなく、一般的に研究・報告されている物質ならばどのようなものでも構わない。
有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造がある。
前記分子構造は、カチオン成分とアニオン成分とからなる。
前記カチオン成分としては、例えば、N、N−ジメチルイミダゾール塩、N、N−メチルエチルイミダゾール塩、N、N−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体;N、N−ジメチルピリジニウム塩、N、N−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体等の芳香族系の塩;トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム等の脂肪族4級アンモニウム系化合物などが挙げられる。
The ionic liquid is not particularly limited and may be any substance that is generally studied and reported.
An organic ionic liquid has a molecular structure that exhibits a liquid in a wide temperature range including room temperature.
The molecular structure is composed of a cation component and an anion component.
Examples of the cationic component include imidazole derivatives such as N, N-dimethylimidazole salt, N, N-methylethylimidazole salt, N, N-methylpropylimidazole salt; N, N-dimethylpyridinium salt, N, N- Examples include aromatic salts such as pyridinium derivatives such as methylpropylpyridinium salts; aliphatic quaternary ammonium compounds such as tetraalkylammonium such as trimethylpropylammonium salt, trimethylhexylammonium salt, and triethylhexylammonium salt.

前記アニオン成分としては、大気中の安定性の面でフッ素を含んだ化合物が好ましく、例えば、BF 、CFSO 、PF 、(CFSO、B(CNなどが挙げられる。これらのカチオン成分とアニオン成分の組み合わせにより処方したイオン性液体を用いることができる。 The anion component is preferably a compound containing fluorine in terms of stability in the atmosphere. For example, BF 4 , CF 3 SO 3 , PF 4 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , B ( CN 4) -, and the like. An ionic liquid formulated by a combination of these cationic components and anionic components can be used.

前記溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1,2−ジメトキシエタン、1,2−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類やそれらの混合溶媒等を用いることができる。   Examples of the solvent include propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-ethoxymethoxyethane, and polyethylene glycol. Alcohols and mixed solvents thereof can be used.

前記硬化樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、エチレン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂等の光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂などの一般的な材料を挙げることができるが、電解質との相溶性が高い材料が好ましい。このような構造としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のエチレングリコールの誘導体が好ましい。また、前記硬化樹脂としては、光硬化可能な樹脂を用いることが好ましい。熱重合や、溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間で素子を製造できるためである。   Examples of the cured resin include common materials such as acrylic resins, urethane resins, epoxy resins, vinyl chloride resins, ethylene resins, melamine resins, phenol resins, and other photocurable resins, and thermosetting resins. A material having high compatibility with the electrolyte is preferable. As such a structure, derivatives of ethylene glycol such as polyethylene glycol and polypropylene glycol are preferable. Further, as the curable resin, it is preferable to use a photocurable resin. This is because the device can be manufactured at a low temperature and in a short time compared to thermal polymerization or a method of thinning the film by evaporating the solvent.

特に好ましい組み合わせは、オキシエチレン鎖やオキシプロピレン鎖を含有するマトリックスポリマーとイオン液体との固溶体で構成されている電解質層である。この構成を用いることにより、硬度と高いイオン伝導度を両立しやすい。   A particularly preferred combination is an electrolyte layer composed of a solid solution of a matrix polymer containing oxyethylene chains or oxypropylene chains and an ionic liquid. By using this configuration, it is easy to achieve both hardness and high ionic conductivity.

前記無機微粒子としては、多孔質層を形成して電解質と硬化樹脂を保持することができる材料であれば特に限定されるものではないが、エレクトロクロミック反応の安定性、視認性の点から、絶縁性、透明性、耐久性が高い材料が好ましい。具体的な材料としては、シリコン、アルミニウム、チタン、亜鉛、錫等の酸化物又は硫化物、あるいはそれらの混合物を挙げることができる。   The inorganic fine particle is not particularly limited as long as it is a material that can form a porous layer and hold the electrolyte and the cured resin. However, in terms of stability of electrochromic reaction and visibility, it is insulated. A material having high properties, transparency and durability is preferable. Specific examples of the material include oxides or sulfides such as silicon, aluminum, titanium, zinc, and tin, or mixtures thereof.

前記無機微粒子の大きさ(平均粒径)は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、10nm〜10μmが好ましく、10nm〜100nmがより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the magnitude | size (average particle diameter) of the said inorganic fine particle, Although it can select suitably according to the objective, 10 nm-10 micrometers are preferable, and 10 nm-100 nm are more preferable.

<保護層>
保護層は、エレクトロクロミック装置側面部を物理的及び化学的に保護するように形成されている。前記保護層は、例えば、紫外線硬化性や熱硬化性の絶縁性樹脂等を、側面及び/又は上面を覆うように塗布し、その後硬化させることにより形成できる。また、硬化樹脂と無機材料との積層保護層とすることが更に好ましい。無機材料との積層構造にすることで、酸素や水に対するバリア性が向上する。
<Protective layer>
The protective layer is formed so as to physically and chemically protect the side portion of the electrochromic device. The protective layer can be formed by, for example, applying an ultraviolet curable or thermosetting insulating resin or the like so as to cover the side surface and / or the upper surface, and then curing. Moreover, it is more preferable to use a laminated protective layer of a cured resin and an inorganic material. By using a laminated structure with an inorganic material, barrier properties against oxygen and water are improved.

前記無機材料としては、絶縁性、透明性、耐久性が高い材料が好ましく、具体的な材料としては、シリコン、アルミニウム、チタン、亜鉛、錫などの酸化物又は硫化物、あるいはこれらの混合物などが挙げられる。これらの膜はスパッタ法や蒸着法などの真空製膜プロセスで容易に形成することができる。   As the inorganic material, a material having high insulation, transparency, and durability is preferable, and specific materials include oxides or sulfides such as silicon, aluminum, titanium, zinc, and tin, or a mixture thereof. Can be mentioned. These films can be easily formed by a vacuum film forming process such as sputtering or vapor deposition.

前記保護層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.5μm〜10μmが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the thickness of the said protective layer, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 micrometer-10 micrometers are preferable.

<第2の実施形態>
次に、本発明に係るエレクトロクロミック素子のその他の実施形態について説明する。上記実施形態と共通する部分の説明は省略する場合がある。
<Second Embodiment>
Next, other embodiments of the electrochromic device according to the present invention will be described. A description of parts common to the above embodiment may be omitted.

本実施形態に係るエレクトロクロミック素子は、第2の電極層16に接し、エレクトロクロミック層13の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応をする劣化防止層24を有している。本実施形態に係るエレクトロクロミック素子の構成例を図2に示す。図2(A)に示されるように、第2の基板16上に第2の電極層15が形成され、その上に劣化防止層24が形成されている。これと図1(A)に示されるような第1の基板11とを電解質層14を介して貼り合わせ、図2(B)に示される構成となる。これに対して、曲面加工することで、図2(C)に示されるエレクトロクロミック素子が得られる。なお、図2(C)では、第1の基板11側がまとめて符号31で示されており、第2の基板16側がまとめて符号32で示されている。以下、詳細を説明する。   The electrochromic device according to this embodiment includes a deterioration preventing layer 24 that is in contact with the second electrode layer 16 and performs an electrochemical reaction opposite to the oxidation-reduction reaction of the electrochromic layer 13. A configuration example of the electrochromic device according to the present embodiment is shown in FIG. As shown in FIG. 2A, the second electrode layer 15 is formed on the second substrate 16, and the deterioration preventing layer 24 is formed thereon. This is bonded to the first substrate 11 as shown in FIG. 1A via the electrolyte layer 14 to obtain the configuration shown in FIG. On the other hand, the electrochromic element shown in FIG. 2C is obtained by processing the curved surface. In FIG. 2C, the first substrate 11 side is collectively indicated by reference numeral 31, and the second substrate 16 side is collectively indicated by reference numeral 32. Details will be described below.

<劣化防止層>
劣化防止層24の役割としては、エレクトロクロミック層13と逆の化学反応をすることが好ましく、電荷のバランスをとって第2の電極層15が不可逆的な酸化還元反応により腐食や劣化することを抑制する。結果としてエレクトロクロミック素子の繰り返し安定性が向上する。なお、逆反応とは、劣化防止層24が酸化還元する場合に加え、キャパシタとして作用することも含む。
<Deterioration prevention layer>
The role of the deterioration preventing layer 24 is preferably to perform a chemical reaction opposite to that of the electrochromic layer 13 and to prevent the second electrode layer 15 from corroding or deteriorating due to an irreversible oxidation-reduction reaction in balance of charge. Suppress. As a result, the repeated stability of the electrochromic device is improved. Note that the reverse reaction includes not only the case where the deterioration preventing layer 24 is oxidized and reduced, but also that it functions as a capacitor.

劣化防止層24の材料は、第1の電極層12及び第2の電極層15の不可逆的な酸化還元反応による腐食を防止する役割を担う材料であれば特に限定されるものではない。劣化防止層24の材料としては、例えば、酸化アンチモン錫、酸化ニッケル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、又はそれらを複数含む導電性又は半導体性金属酸化物を用いることができる。更に、劣化防止層24の着色が問題にならない場合は、前述のエレクトロクロミック材料と同じものを用いることができる。   The material of the deterioration preventing layer 24 is not particularly limited as long as it is a material that plays a role of preventing corrosion of the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 due to irreversible oxidation-reduction reaction. As the material of the deterioration preventing layer 24, for example, antimony tin oxide, nickel oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, or a conductive or semiconductive metal oxide containing a plurality of them can be used. Furthermore, when coloring of the deterioration preventing layer 24 does not become a problem, the same material as the above-described electrochromic material can be used.

特に、透明性が要求されるレンズのような光学素子としてエレクトロクロミック素子を作製する場合は、劣化防止層として、透明性の高い材料を用いることが好ましい。このような材料としては、n型半導体性酸化物微粒子(n型半導体性金属酸化物)を用いることが好ましい。具体例としては、100nm以下の一次粒子径粒子からなる、酸化チタン、酸化錫、酸化亜鉛、又はそれらを複数含む化合物粒子、あるいは混合物を用いることができる。   In particular, when an electrochromic element is manufactured as an optical element such as a lens that requires transparency, it is preferable to use a highly transparent material as the deterioration preventing layer. As such a material, it is preferable to use n-type semiconducting oxide fine particles (n-type semiconducting metal oxide). As a specific example, titanium oxide, tin oxide, zinc oxide, compound particles containing a plurality of them, or a mixture composed of particles having a primary particle diameter of 100 nm or less can be used.

更に、これらの劣化防止層24を用いる場合は、エレクトロクロミック層13が酸化反応により色彩変化する材料であることが好ましい。その結果、エレクトロクロミック層13が酸化反応すると同時にn型半導体性金属酸化物が還元(電子注入)されやすく、駆動電圧が低減できるからである。   Furthermore, when these deterioration preventing layers 24 are used, it is preferable that the electrochromic layer 13 is a material that changes color by an oxidation reaction. As a result, the electrochromic layer 13 undergoes an oxidation reaction, and at the same time, the n-type semiconductor metal oxide is easily reduced (electron injection), and the driving voltage can be reduced.

このような形態において、特に好ましいエレクトロクロミック材料は、有機高分子材料である。塗布形成プロセス等により容易に製膜できると共に、分子構造により色の調整や制御が可能となる。これらの有機高分子材料の具体例としては、「Chemistry of Materials review 2011.23,397−415 Navigating the Color Palette of Solution−Processable Electrochromic Polymers(Reynolds)」、「Macromolecules 1996.29 7629−7630(Reynolds)」、「Polymer journal、 Vol.41、 No.7,Electrochromic Organic Matallic Hybrid Polymers」などに報告されている。
これらの有機高分子材料としては、例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)に系材料、ビス(ターピリジン)類と鉄イオンの錯形成ポリマーなどが挙げられる。
In such a form, a particularly preferred electrochromic material is an organic polymer material. The film can be easily formed by a coating process or the like, and the color can be adjusted and controlled by the molecular structure. Specific examples of these organic polymer materials include “Chemistry of Materials review 2011.23, 397-415 Navigating the Color Palette of Solution-Processable Electrochemical Polymers 29, Reynol76, Reyolde 30”. "Polymer journal, Vol. 41, No. 7, Electrochromic Organic Material Hybrid Polymers" and the like.
Examples of these organic polymer materials include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) based materials, complex polymers of bis (terpyridine) s and iron ions, and the like.

一方、劣化防止層24として、透明性の高いp型半導体性層の材料例としては、ニトロキシルラジカル(NOラジカル)を有する有機材料などであり、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル(TEMPO)の誘導体又は、誘導体のポリマー材料などが挙げられる。   On the other hand, examples of the material of the highly transparent p-type semiconducting layer as the deterioration preventing layer 24 include organic materials having a nitroxyl radical (NO radical), and 2,2,6,6-tetramethylpiperidine- Examples thereof include N-oxyl (TEMPO) derivatives and polymer materials of the derivatives.

なお、劣化防止層24を特別に形成することなく、電解質層14に劣化防止層用材料を混合し、電解質層14に劣化防止機能を付与することもできる。その場合の層構成例は、例えば図1(C)や図1(D)のようになる。
また、劣化防止層24が設けられる位置は図に示されるものに限られず、適宜変更が可能であり、第2の電極層15に接し、かつ、第2の基板16側であってもよい。
Note that the deterioration preventing layer 24 can be imparted to the electrolyte layer 14 by mixing the material for the deterioration preventing layer with the electrolyte layer 14 without specially forming the deterioration preventing layer 24. Examples of the layer structure in that case are as shown in FIGS. 1C and 1D, for example.
Further, the position at which the deterioration preventing layer 24 is provided is not limited to that shown in the figure, and can be changed as appropriate, and may be in contact with the second electrode layer 15 and on the second substrate 16 side.

劣化防止層24の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンレーティング法などが挙げられる。また、劣化防止層24の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法などが挙げられる。   Examples of the method for forming the deterioration preventing layer 24 include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion rating method. Further, as long as the material of the deterioration preventing layer 24 can be formed by coating, for example, spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, etc. And various printing methods such as a slit coating method, a capillary coating method, a spray coating method, a nozzle coating method, a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reverse printing method, and an inkjet printing method. .

また、劣化防止層24の厚みとしては、特に制限されるものではなく、適宜変更することが可能であるが、0.2μm〜5.0μmであることが好ましい。   Further, the thickness of the deterioration preventing layer 24 is not particularly limited and can be appropriately changed, but is preferably 0.2 μm to 5.0 μm.

<第3の実施形態>
次に、本発明に係るエレクトロクロミック素子のその他の実施形態について説明する。上記実施形態と共通する部分の説明は省略する場合がある。
<Third Embodiment>
Next, other embodiments of the electrochromic device according to the present invention will be described. A description of parts common to the above embodiment may be omitted.

本実施形態に係るエレクトロクロミック素子は、第1の基板11に接し、かつ、第1の電極層12とは反対側の面に樹脂層28を有している。本実施形態に係るエレクトロクロミック素子の構成例を図3に示す。   The electrochromic device according to this embodiment has a resin layer 28 on the surface that is in contact with the first substrate 11 and is opposite to the first electrode layer 12. A configuration example of the electrochromic element according to the present embodiment is shown in FIG.

本実施形態では、エレクトロクロミック素子が熱成型により所望の形状に加工された後(図1(D)参照)に、熱成型加工したエレクトロクロミック素子の外側表面に樹脂層28が形成されている。すなわち、エレクトロクロミック素子の凹面側に形成されている。
樹脂層28を追加形成することにより、エレクトロクロミック素子が厚膜化されることとなる。このように厚膜化した基板を削加工することにより、所望の曲面を形成できるため、ユーザー固有の条件に合わせたレンズ加工(度数加工など)が可能になる。これにより、調光眼鏡等のエレクトロクロミック調光装置を容易に得ることができる。この方法によれば、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、多品種少量生産が容易になる。
In the present embodiment, after the electrochromic element is processed into a desired shape by thermoforming (see FIG. 1D), the resin layer 28 is formed on the outer surface of the thermoformed electrochromic element. That is, it is formed on the concave surface side of the electrochromic element.
By additionally forming the resin layer 28, the electrochromic element is thickened. Since a desired curved surface can be formed by machining the substrate having a thick film in this way, lens processing (power processing or the like) adapted to user-specific conditions becomes possible. Thereby, an electrochromic light control device such as light control glasses can be easily obtained. According to this method, it is not necessary to prepare a mold or a member for each product shape, and multi-product small-volume production is facilitated.

(調光眼鏡)
本発明の調光眼鏡は、本発明のエレクトロクロミック素子をレンズに用いることを特徴とする。更に必要に応じてその他の部材を有してなる。前記その他の部材としては、特に制限はなく、用途に応じて適宜選択することができ、例えば、眼鏡フレーム、電源、スイッチなどが挙げられる。
(Light control glasses)
The light control glasses of the present invention are characterized by using the electrochromic device of the present invention for a lens. Furthermore, it has another member as needed. There is no restriction | limiting in particular as said other member, According to a use, it can select suitably, For example, a spectacles frame, a power supply, a switch, etc. are mentioned.

本発明に係る調光眼鏡の一実施形態における構成例を図4に示す。図4は、本実施形態の調光眼鏡を示す斜視図である。図4を参照するに、調光眼鏡150は、エレクトロクロミック調光装置51と、眼鏡フレーム52と、スイッチ53と、電源54とを有する。エレクトロクロミック調光装置51は、本発明の前記エレクトロクロミック素子を所望の形状に加工したものである。   A configuration example in one embodiment of the light control glasses according to the present invention is shown in FIG. FIG. 4 is a perspective view showing the light control glasses of the present embodiment. Referring to FIG. 4, the light control glasses 150 include an electrochromic light control device 51, a spectacle frame 52, a switch 53, and a power source 54. The electrochromic light control device 51 is obtained by processing the electrochromic element of the present invention into a desired shape.

2つのエレクトロクロミック調光装置51は、眼鏡フレーム52に組み込まれている。眼鏡フレーム52には、スイッチ53及び電源54が設けられている。電源54は、スイッチ53を介して、図示しない配線により、第1の電極層12及び第2の電極層15と電気的に接続されている。   The two electrochromic light control devices 51 are incorporated in the spectacle frame 52. The spectacle frame 52 is provided with a switch 53 and a power source 54. The power supply 54 is electrically connected to the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 through a switch 53 by wiring (not shown).

前記スイッチ53を切り替えることにより、例えば、第1の電極層12と第2の電極層15との間にプラス電圧を印加する状態、マイナス電圧を印加する状態、電圧を印加しない状態の中から1つの状態を選択可能である。
前記スイッチ53としては、例えば、スライドスイッチやプッシュスイッチ等の任意のスイッチを用いることができる。ただし、少なくとも前述の3つの状態を切り替え可能なスイッチに限る。
By switching the switch 53, for example, one of a state in which a positive voltage is applied between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, a state in which a negative voltage is applied, and a state in which no voltage is applied is selected. Two states can be selected.
As the switch 53, for example, an arbitrary switch such as a slide switch or a push switch can be used. However, it is limited to a switch that can switch at least the three states described above.

前記電源54としては、例えば、ボタン電池、太陽電池等の任意の直流電源を用いることができる。前記電源54は、第1の電極と第2の電極との間にプラスマイナス数V程度の電圧を印加可能である。
例えば、第1の電極層12と第2の電極層15との間にプラス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光装置51が所定の色に発色する。また、第1の電極層12と第2の電極層15との間にマイナス電圧を印加することにより、2つのエレクトロクロミック調光装置51が消色し透明となる。
As the power source 54, for example, an arbitrary DC power source such as a button battery or a solar battery can be used. The power source 54 can apply a voltage of about plus or minus several volts between the first electrode and the second electrode.
For example, by applying a positive voltage between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, the two electrochromic light control devices 51 are colored in a predetermined color. Further, by applying a negative voltage between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15, the two electrochromic light control devices 51 are decolored and become transparent.

ただし、エレクトロクロミック層に使用する材料の特性により、第1の電極と第2の電極との間にマイナス電圧を印加することにより発色し、プラス電圧を印加することにより消色し透明となる場合もある。なお、一度発色した後は、第1の電極と第2の電極との間に電圧を印加しなくても発色は継続する。   However, depending on the characteristics of the material used for the electrochromic layer, when a negative voltage is applied between the first electrode and the second electrode, the color is developed, and when the positive voltage is applied, the color is erased and becomes transparent. There is also. Note that once the color is developed, the color development continues even if no voltage is applied between the first electrode and the second electrode.

なお、本発明のエレクトロクロミック素子は、調光眼鏡以外の用途として、エレクトロクロミック調光装置、例えば、防眩ミラー、調光ガラスなどに好適に用いられる。上述のように、これらの中でも、エレクトロクロミック調光眼鏡が好ましい。   In addition, the electrochromic element of this invention is used suitably for an electrochromic light control apparatus, for example, an anti-glare mirror, light control glass, etc. as uses other than light control glasses. As described above, among these, electrochromic light control glasses are preferable.

(エレクトロクロミック素子の製造方法)
本発明に係るエレクトロクロミック素子の製造方法は、第1の基板上に第1の電極層を形成する工程と、前記第1の電極層の上にエレクトロクロミック層を形成する工程と、第2の基板上に第2の電極層を形成する工程と、前記エレクトロクロミック層が形成された第1の基板と前記第2の電極層が形成された第2の基板を、前記第1の電極層及び前記第2の電極層を挟み込むように対向させ、電解質層を介して貼り合わせる工程と、前記貼り合わせた第1の基板及び第2の基板を3次元曲面形状に加工する工程と、を有し、前記3次元曲面形状は、前記第1の基板と前記第2の基板で挟まれる領域を内側としたとき、前記第1の基板が内側方向に凸形状を有する形状であり、前記第1の基板の厚みが前記第2の基板より薄いことを特徴とする。
(Method for manufacturing electrochromic device)
An electrochromic device manufacturing method according to the present invention includes a step of forming a first electrode layer on a first substrate, a step of forming an electrochromic layer on the first electrode layer, and a second step. A step of forming a second electrode layer on the substrate, a first substrate on which the electrochromic layer is formed, and a second substrate on which the second electrode layer is formed, the first electrode layer and A step of facing the second electrode layer so as to sandwich the electrode layer, and a step of bonding through the electrolyte layer; and a step of processing the bonded first substrate and the second substrate into a three-dimensional curved surface shape. The three-dimensional curved surface shape is a shape in which the first substrate has a convex shape in an inward direction when a region sandwiched between the first substrate and the second substrate is defined as an inner side. The thickness of the substrate is thinner than that of the second substrate. .

以下、本発明に係るエレクトロクロミック素子の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態に係るエレクトロクロミック素子の製造方法の製造フロー図を図5に示す。詳細は上記の各構成における説明も参照。
なお、本実施形態に係るエレクトロクロミック素子の製造方法により、図1に示されるエレクトロクロミック素子が製造される。
Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an electrochromic device according to the present invention will be described. FIG. 5 shows a manufacturing flowchart of the method for manufacturing the electrochromic device according to the present embodiment. For details, see also the description of each configuration above.
Note that the electrochromic device shown in FIG. 1 is manufactured by the method for manufacturing an electrochromic device according to the present embodiment.

まず、第1の基板11を所望の形状にカットする(ステップS1)。カットした第1の基板11上に第1の電極層12を形成する(ステップS2)。第1の電極層12上にエレクトロクロミック層13を形成する(ステップS3)。さらにその上に絶縁層17を形成する(ステップS4)。さらに電解質の溶液を第1の基板11上に塗布する(ステップS5)。一方、第2の基板16を所望の形状にカットする(ステップS6)。カットした第2の基板16に第2の電極層15を形成する(ステップS7)。   First, the first substrate 11 is cut into a desired shape (step S1). A first electrode layer 12 is formed on the cut first substrate 11 (step S2). An electrochromic layer 13 is formed on the first electrode layer 12 (step S3). Further, an insulating layer 17 is formed thereon (step S4). Further, an electrolyte solution is applied on the first substrate 11 (step S5). On the other hand, the second substrate 16 is cut into a desired shape (step S6). The second electrode layer 15 is formed on the cut second substrate 16 (step S7).

次に、第1の基板11と第2の基板16を貼り合わせる(ステップS8)。先の電解質の溶液に対し、例えばUVにより硬化させ、電解質層14を形成する(ステップS9)。素子の側面及び/又は上面を覆うように保護層を形成する(ステップS10)。そして、熱成型を行い、エレクトロクロミック素子を作製する(ステップS11)。   Next, the first substrate 11 and the second substrate 16 are bonded together (step S8). The electrolyte solution is cured by, for example, UV to form the electrolyte layer 14 (step S9). A protective layer is formed so as to cover the side surface and / or top surface of the element (step S10). And thermoforming is performed and an electrochromic element is produced (step S11).

本発明においては、更に、第2の電極層15に接し、エレクトロクロミック層13の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応をする劣化防止層24を形成する工程を有していてもよい。劣化防止層24を形成する工程は、カットした第2の基板16に第2の電極層15を形成(ステップS7)した後、第1の基板11と第2の基板16を貼り合わせる(ステップS8)工程の前に行えばよい。   The present invention may further include a step of forming a deterioration preventing layer 24 that is in contact with the second electrode layer 15 and that performs an electrochemical reaction opposite to the oxidation-reduction reaction of the electrochromic layer 13. In the step of forming the deterioration preventing layer 24, after the second electrode layer 15 is formed on the cut second substrate 16 (step S7), the first substrate 11 and the second substrate 16 are bonded together (step S8). ) It may be performed before the process.

また、本発明においては、前記3次元曲面形状に加工する工程の後に、第1の基板11に接し、かつ、第1の電極層11とは反対側の面に樹脂層28を形成する工程を有していてもよい。この場合、樹脂層28を形成してエレクトロクロミック素子を厚膜化し、前記厚膜化したエレクトロクロミック素子を切削加工して所望の曲面形状を形成することができる。   Further, in the present invention, after the step of processing into the three-dimensional curved surface shape, the step of forming the resin layer 28 on the surface that is in contact with the first substrate 11 and opposite to the first electrode layer 11 is performed. You may have. In this case, the resin layer 28 is formed to thicken the electrochromic element, and the thickened electrochromic element can be cut to form a desired curved surface shape.

このように厚膜化した基板を削加工することにより、所望の曲面を形成できるため、ユーザー固有の条件に合わせたレンズ加工(度数加工など)が可能になる。これにより、調光眼鏡等のエレクトロクロミック調光装置を容易に得ることができる。この方法によれば、製品形状ごとに金型や部材を準備することが不要となり、多品種少量生産が容易になる。   Since a desired curved surface can be formed by machining the substrate having a thick film in this way, lens processing (power processing or the like) adapted to user-specific conditions becomes possible. Thereby, an electrochromic light control device such as light control glasses can be easily obtained. According to this method, it is not necessary to prepare a mold or a member for each product shape, and multi-product small-volume production is facilitated.

以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to the following Example.

(実施例1)
実施例1においては、図5に示されるフロー図に従ってエレクトロクロミック素子を作製した。
Example 1
In Example 1, an electrochromic device was fabricated according to the flow diagram shown in FIG.

<第1の基板の外形カット〜絶縁層形成>
まず、第1の基板11として厚み0.3mmのポリカーボネイト基板(商品名:NF-2000、三菱ガス化学社製)を長軸80mm×短軸55mmの楕円形状にカットした基板を準備した(図5中のステップS1、以下ステップとあるのは図5を示す)。次に、この基板上に透明導電膜としてITO膜をスパッタ法により約100nmの膜厚で第1の電極層12を形成した(同S2)。次に、このITO膜の表面に酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布し、60℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
続いて、エレクトロクロミック化合物として、下記構造式(1)で表される化合物を1.5wt%含む2,2,3,3−テトラフロロプロパノール溶液をスピンコート法により塗布した後、60℃で10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜に担持(吸着)させて、エレクトロクロミック層13を形成した(同S3)。
<External cut of first substrate to insulating layer formation>
First, a substrate obtained by cutting a polycarbonate substrate having a thickness of 0.3 mm (trade name: NF-2000, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company) into an elliptical shape having a major axis of 80 mm and a minor axis of 55 mm was prepared as the first substrate 11 (FIG. 5). Step S1 in the middle, the following steps are shown in FIG. Next, an ITO film as a transparent conductive film was formed on this substrate by sputtering to form a first electrode layer 12 having a thickness of about 100 nm (S2). Next, a titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) is applied to the surface of the ITO film by a spin coating method and annealed at 60 ° C. for 15 minutes. Thus, a nanostructured semiconductor material composed of a titanium oxide particle film having a thickness of about 1.0 μm was formed.
Subsequently, as an electrochromic compound, a 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution containing 1.5 wt% of the compound represented by the following structural formula (1) was applied by a spin coating method, followed by 10 at 60 ° C. An electrochromic layer 13 was formed by supporting (adsorbing) the titanium oxide particle film by performing an annealing treatment for a minute (S3).

続いて、エレクトロクロミック層13上に、平均一次粒径20nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度24.8質量%、ポリビニルアルコール1.2質量%、及び水74質量%)をスピンコートし、絶縁性無機微粒子層(絶縁層17)を形成した(同S4)。形成した絶縁性無機微粒子層の厚みは約2μmであった。 Subsequently, a SiO 2 fine particle dispersion liquid (silica solid content concentration 24.8 mass%, polyvinyl alcohol 1.2 mass%, and water 74 mass%) having an average primary particle diameter of 20 nm is spin-coated on the electrochromic layer 13. Then, an insulating inorganic fine particle layer (insulating layer 17) was formed (S4). The thickness of the formed insulating inorganic fine particle layer was about 2 μm.

<第2の基板の外形カット、第2の電極層の形成>
第2の基板16として厚み0.5mmのポリカーボネイト基板(商品名:IMR-05、三菱ガス化学社製)を、第1の基板11と同形状にカットした基板を準備した(同S6)。この基板上に、ITO膜をスパッタ法により厚み約100nmに製膜して、第2の電極層15を形成した(同S7)。
<External cut of second substrate, formation of second electrode layer>
A substrate obtained by cutting a polycarbonate substrate having a thickness of 0.5 mm (trade name: IMR-05, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company) into the same shape as the first substrate 11 was prepared as the second substrate 16 (S6). On this substrate, an ITO film was formed to a thickness of about 100 nm by sputtering to form a second electrode layer 15 (S7).

<電解質層の形成及び貼り合わせ>
続いて、前記絶縁性無機微粒子層表面に、ポリエチレンジアクリレートと、光開始剤(IRG184、BASF社製)と、電解質(1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩)とを質量比(100:5:40)で混合した溶液を第1の基板11上に塗布し(同S5)、第2の基板16における第2の電極層15面と貼り合わせ(同S8)、UV硬化させて電解質層14を形成した(同S9)。
<Formation and bonding of electrolyte layer>
Subsequently, polyethylene diacrylate, a photoinitiator (IRG184, manufactured by BASF), and an electrolyte (1-ethyl-3-methylimidazolium salt) are mass ratio (100: 5) on the surface of the insulating inorganic fine particle layer. : 40) is applied onto the first substrate 11 (S5), bonded to the surface of the second electrode layer 15 of the second substrate 16 (S8), and UV-cured to form the electrolyte layer 14. (S9).

<保護層の形成>
次に、貼り合せた基板の側面部に、紫外線硬化接着剤(商品名:KARAYADR604、日本化薬社製)を滴下し、紫外光照射により硬化させることで保護層を約3μmの厚みに形成した(同S10)。以上により、図1(C)に示されるような熱成型前のエレクトロクロミック素子を作製した。
<Formation of protective layer>
Next, an ultraviolet curable adhesive (trade name: KARAYADR604, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is dropped on the side surface of the bonded substrate and cured by ultraviolet light irradiation to form a protective layer having a thickness of about 3 μm. (S10). Thus, an electrochromic element before thermoforming as shown in FIG. 1C was produced.

<熱成型>
作製したエレクトロクロミック素子を曲率約90mmの凸金型と凹金型に135℃で加熱しながら挟み込むことで3次元球面を有する図1(D)に示されるようなエレクトロクロミック素子を作製した(同S11)。このときの凸球面長軸の長さは81mmであった。また曲率半径は87.5mmであった。
<Thermoforming>
The produced electrochromic element was sandwiched between a convex mold and a concave mold having a curvature of about 90 mm while being heated at 135 ° C. to produce an electrochromic element having a three-dimensional spherical surface as shown in FIG. S11). At this time, the length of the long axis of the convex spherical surface was 81 mm. The curvature radius was 87.5 mm.

<発消色駆動>
次に、エレクトロクロミック素子の発消色を確認した。具体的には、第1の基板11の端部及び第2の基板16の端部の一部を剥離し、第1の電極層12のコンタクト部及び第2の電極層15のコンタクト部を形成し、第1の電極層12と第2の電極層15との間に、第1の電極層12がマイナス極となるように−3.5Vの電圧を3秒間印加させたところ、エレクトロクロミック素子がエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認された。更に、第1の電極層12と第2の電極層15の引き出し部分との間に、+3.5Vの電圧を2秒間印加させたところ、エレクトロクロミック色素が消色し、エレクトロクロミック素子が透明になることが確認された。
<Color generation / erasing drive>
Next, the color development / erasure of the electrochromic element was confirmed. Specifically, the end portion of the first substrate 11 and a part of the end portion of the second substrate 16 are peeled to form the contact portion of the first electrode layer 12 and the contact portion of the second electrode layer 15. When a voltage of −3.5 V is applied for 3 seconds between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 so that the first electrode layer 12 becomes a negative electrode, an electrochromic element is obtained. Was confirmed to develop a magenta color derived from the electrochromic compound. Further, when a voltage of +3.5 V is applied between the first electrode layer 12 and the lead-out portion of the second electrode layer 15 for 2 seconds, the electrochromic dye disappears and the electrochromic element becomes transparent. It was confirmed that

(実施例2)
実施例2は、劣化防止層24を形成した場合のエレクトロクロミック素子の例であり、図2に示されるエレクトロクロミック素子を作製した。以下、劣化防止層24の形成以外は実施例1と同様にして作製を行った。
(Example 2)
Example 2 is an example of an electrochromic element when the deterioration preventing layer 24 is formed, and the electrochromic element shown in FIG. 2 was produced. Thereafter, fabrication was performed in the same manner as in Example 1 except for the formation of the deterioration preventing layer 24.

<第2の基板のカット〜劣化防止層の形成>
第2の基板16として厚み0.5mmのポリカーボネイト基板(商品名:IMR-05、三菱ガス化学社製)を、第1の基板11と同形状にカットした基板を準備した。この基板上に、実施例1と同様にITO膜をスパッタ法により厚み約100nmに製膜して、第2の電極層15を形成した。
次に、このITO膜の表面にATO粒子分散液(ATO平均粒子径:20nm/2,2,3,3−テトラフロロプロパノールの6wt%溶液にウレタン系結着剤HW140SF(DIC社製)を6wt%添加した分散液)をスピンコート法により塗布し、60℃で15分間アニール処理を行うことによって、厚み約1.0μmのATO粒子膜からなる劣化防止層24を形成した。
この後、実施例1と同様に電解質層の形成から熱成型の工程を経てエレクトロクロミック素子を作製した。
<Cut of second substrate-formation of deterioration preventing layer>
A substrate obtained by cutting a polycarbonate substrate having a thickness of 0.5 mm (trade name: IMR-05, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company) into the same shape as the first substrate 11 was prepared as the second substrate 16. On this substrate, an ITO film was formed to a thickness of about 100 nm by sputtering in the same manner as in Example 1 to form the second electrode layer 15.
Next, an ATO particle dispersion (ATO average particle size: 20 nm / 2,2,3,3-tetrafluoropropanol in a 6 wt% solution with a urethane binder HW140SF (manufactured by DIC) at 6 wt. %) Was applied by spin coating and annealed at 60 ° C. for 15 minutes to form a deterioration preventing layer 24 made of an ATO particle film having a thickness of about 1.0 μm.
Thereafter, similarly to Example 1, an electrochromic element was produced through the formation of the electrolyte layer and the thermoforming process.

<発消色駆動>
エレクトロクロミック素子の発消色を確認した。具体的には、第1の基板11の端部及び第2の基板16の端部の一部を剥離し、第1の電極層12のコンタクト部及び第2の電極層15のコンタクト部を形成し、第1の電極層12と第2の電極層15との間に、第1の電極層12がマイナス極となるように−3.0Vの電圧を3秒間印加させたところ、エレクトロクロミック素子がエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認された。更に、第1の電極層12と第2の電極層15の引き出し部分との間に、+3.0Vの電圧を2秒間印加させたところ、エレクトロクロミック色素が消色し、エレクトロクロミック素子が透明になることが確認された。劣化防止層24を形成したことによって、低電圧駆動が可能になった。
<Color generation / erasing drive>
The electrochromic element was confirmed for color development. Specifically, the end portion of the first substrate 11 and a part of the end portion of the second substrate 16 are peeled to form the contact portion of the first electrode layer 12 and the contact portion of the second electrode layer 15. Then, when a voltage of −3.0 V was applied between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 so that the first electrode layer 12 became a negative pole for 3 seconds, an electrochromic element was obtained. Was confirmed to develop a magenta color derived from the electrochromic compound. Further, when a voltage of +3.0 V is applied between the first electrode layer 12 and the lead-out portion of the second electrode layer 15 for 2 seconds, the electrochromic dye disappears and the electrochromic element becomes transparent. It was confirmed that By forming the deterioration preventing layer 24, low voltage driving is possible.

(実施例3)
実施例3は、実施例1のエレクトロクロミック素子の凹面に樹脂層28を射出成型により形成した場合の例である。
(Example 3)
Example 3 is an example in which the resin layer 28 is formed on the concave surface of the electrochromic element of Example 1 by injection molding.

<射出成型>
曲率半径約90mmの曲面を有する金型を備えた射出成形機の凹面金型の中央に、曲げ加工済みの実施例1のエレクトロクロミック素子の凸面側をセットする。次に、凹面金型と凸面金型を重ね合わせて金型を閉じ、厚膜化するための樹脂としてポリカーボネイト樹脂を用いて樹脂材料を用いて樹脂層28を射出成形した(図3参照)。
<Injection molding>
The convex side of the electrochromic element of Example 1 that has been bent is set in the center of a concave mold of an injection molding machine that includes a mold having a curved surface with a curvature radius of about 90 mm. Next, the concave mold and the convex mold were overlapped to close the mold, and the resin layer 28 was injection molded using a resin material using a polycarbonate resin as a resin for thickening the film (see FIG. 3).

<発消色駆動>
エレクトロクロミック素子の発消色を確認した。具体的には、第1及び第2の各電極層に達する孔を素子の表面から開け、そこに導電性ペーストを流し込んでコンタクト部を形成した。第1の電極層12と第2の電極層15との間に、第1の電極層12がマイナス極となるように−3.5Vの電圧を3秒間印加させたところ、エレクトロクロミック素子がエレクトロクロミック化合物に由来するマゼンタ色に発色することが確認された。更に、第1の電極層12と第2の電極層15の引き出し部分との間に、+3.5Vの電圧を2秒間印加させたところ、エレクトロクロミック色素が消色し、エレクトロクロミック素子が透明になることが確認された。
<Color generation / erasing drive>
The electrochromic element was confirmed for color development. Specifically, a hole reaching each of the first and second electrode layers was formed from the surface of the element, and a conductive paste was poured therein to form a contact portion. When a voltage of −3.5 V was applied between the first electrode layer 12 and the second electrode layer 15 for 3 seconds so that the first electrode layer 12 became a negative pole, the electrochromic element was electroelectronized. It was confirmed that the magenta color originated from the chromic compound. Further, when a voltage of +3.5 V is applied between the first electrode layer 12 and the lead-out portion of the second electrode layer 15 for 2 seconds, the electrochromic dye disappears and the electrochromic element becomes transparent. It was confirmed that

(比較例1)
比較例1のエレクトロクロミック素子は、第1の基板11及び第2の基板16として厚み0.5mmの基板を用いたこと以外は、実施例1と同様にして作製した。すなわち、第1の基板11と第2の基板16を同じ厚みとした。
(Comparative Example 1)
The electrochromic element of Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as Example 1 except that 0.5 mm thick substrates were used as the first substrate 11 and the second substrate 16. That is, the first substrate 11 and the second substrate 16 have the same thickness.

<発消色駆動>
比較例のエレクトロクロミック素子では、熱成型時に電極膜にクラックが発生し、外観不良となった。実施例1及び2の素子と同様にそれぞれ電極層のコンタクト部を形成し、第1の電極層12がマイナス極となるように+3.5Vの電圧を3秒間印加したところ、電極層の抵抗値が高くなったため、実施例1、2の素子ほど発色しなかった。更に、第1の電極層12と第2の電極層15の引き出し部分との間に、−3.5Vの電圧を2秒間印加させたところ、十分に消色しなかった。
<Color generation / erasing drive>
In the electrochromic element of the comparative example, cracks occurred in the electrode film during thermoforming, resulting in poor appearance. Similarly to the elements of Examples 1 and 2, contact portions of the electrode layers were respectively formed, and when a voltage of +3.5 V was applied for 3 seconds so that the first electrode layer 12 became a negative pole, the resistance value of the electrode layers was As a result, the color did not develop as much as the devices of Examples 1 and 2. Further, when a voltage of −3.5 V was applied between the first electrode layer 12 and the lead portion of the second electrode layer 15 for 2 seconds, the color was not sufficiently erased.

11 第1の基板
12 第1の電極層
13 エレクトロクロミック層
14 電解質層
15 第2の電極層
16 第2の基板
17 絶縁層
21、31 第1の基板側
22、32 第2の基板側
24 劣化防止層
28 樹脂材料部
51 エレクトロクロミック調光装置
52 眼鏡フレーム
53 スイッチ
54 電源
150 エレクトロクロミック調光眼鏡
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 1st board | substrate 12 1st electrode layer 13 Electrochromic layer 14 Electrolyte layer 15 2nd electrode layer 16 2nd board | substrate 17 Insulating layer 21, 31 1st board | substrate side 22, 32 2nd board | substrate side 24 Deterioration Prevention layer 28 Resin material part 51 Electrochromic light control device 52 Eyeglass frame 53 Switch 54 Power supply 150 Electrochromic light control glasses

特許第4105537号公報Japanese Patent No. 4105537 特開2014−112183号公報JP 2014-112183 A

Claims (7)

少なくとも第1の基板と、前記第1の基板上に形成された第1の電極層と、前記第1の電極層上に形成されたエレクトロクロミック層と、前記第1の基板と対向し、かつ、前記第1の電極層側に配置される第2の基板と、前記第2の基板における前記第1の基板側の面に形成された第2の電極層と、前記第1の電極層と前記第2の電極層の間に形成された電解質層とを有するエレクトロクロミック素子であって、
前記エレクトロクロミック素子は3次元曲面形状を有し、該3次元曲面形状は、前記第1の基板が前記第1の電極層の方向に凸となる形状であり、
前記第1の基板の厚みが前記第2の基板より薄いことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
At least a first substrate, a first electrode layer formed on the first substrate, an electrochromic layer formed on the first electrode layer, facing the first substrate, and A second substrate disposed on the first electrode layer side, a second electrode layer formed on a surface of the second substrate on the first substrate side, and the first electrode layer, An electrochromic device having an electrolyte layer formed between the second electrode layers,
The electrochromic element has a three-dimensional curved surface shape, and the three-dimensional curved surface shape is a shape in which the first substrate is convex in the direction of the first electrode layer,
The electrochromic element, wherein the first substrate is thinner than the second substrate.
前記第2の電極層に接し、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応をする劣化防止層を有することを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミック素子。   2. The electrochromic device according to claim 1, further comprising a deterioration preventing layer that is in contact with the second electrode layer and that performs an electrochemical reaction opposite to a redox reaction of the electrochromic layer. 前記第1の基板に接し、かつ、前記第1の電極層とは反対側の面に樹脂層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のエレクトロクロミック素子。   The electrochromic device according to claim 1, further comprising a resin layer in contact with the first substrate and on a surface opposite to the first electrode layer. 請求項1〜3のいずれかに記載のエレクトロクロミック素子をレンズに用いることを特徴とする調光眼鏡。   Light control glasses comprising the electrochromic device according to claim 1 as a lens. 第1の基板上に第1の電極層を形成する工程と、
前記第1の電極層の上にエレクトロクロミック層を形成する工程と、
第2の基板上に第2の電極層を形成する工程と、
前記エレクトロクロミック層が形成された第1の基板と前記第2の電極層が形成された第2の基板を、前記第1の電極層及び前記第2の電極層を挟み込むように対向させ、電解質層を介して貼り合わせる工程と、
前記貼り合わせた第1の基板及び第2の基板を3次元曲面形状に加工する工程と、を有し、
前記3次元曲面形状は、前記第1の基板が前記第1の電極層の方向に凸となる形状であり、
前記第1の基板の厚みが前記第2の基板より薄いことを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。
Forming a first electrode layer on a first substrate;
Forming an electrochromic layer on the first electrode layer;
Forming a second electrode layer on a second substrate;
The first substrate on which the electrochromic layer is formed and the second substrate on which the second electrode layer is formed are opposed to each other so as to sandwich the first electrode layer and the second electrode layer. A step of bonding through the layers;
Processing the bonded first substrate and second substrate into a three-dimensional curved surface shape,
The three-dimensional curved surface shape is a shape in which the first substrate is convex in the direction of the first electrode layer,
The method of manufacturing an electrochromic device, wherein the thickness of the first substrate is thinner than that of the second substrate.
前記第2の電極層に接し、前記エレクトロクロミック層の酸化還元反応に対して逆の電気化学反応をする劣化防止層を形成する工程を有することを特徴とする請求項5に記載のエレクトロクロミック素子の製造方法。   The electrochromic device according to claim 5, further comprising a step of forming a deterioration preventing layer that is in contact with the second electrode layer and performs an electrochemical reaction opposite to a redox reaction of the electrochromic layer. Manufacturing method. 前記3次元曲面形状に加工する工程の後に、前記第1の基板に接し、かつ、前記第1の電極層とは反対側の面に樹脂層を形成する工程を有することを特徴とする請求項5又は6に記載のエレクトロクロミック素子の製造方法。
The method of forming a resin layer on a surface that is in contact with the first substrate and opposite to the first electrode layer after the step of processing into the three-dimensional curved surface shape. The method for producing an electrochromic device according to 5 or 6.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180101702A (en) * 2017-03-03 2018-09-13 립하이 주식회사 Electrochromic device
JP2019107888A (en) * 2017-12-18 2019-07-04 株式会社リコー Three-dimensionally curved laminate substrate and method for producing the same
KR20190114941A (en) * 2017-03-03 2019-10-10 립하이 주식회사 Electrochromic device
EP3711920A1 (en) * 2019-03-20 2020-09-23 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, multiple laminated structure, lens, and method for producing laminated structure
CN114967268A (en) * 2022-05-12 2022-08-30 浙江合特光电有限公司 Solar power generation highway
US11833800B2 (en) 2017-12-18 2023-12-05 Ricoh Company, Ltd. Method and apparatus for forming three-dimensional curved surface on laminated substrate, and three-dimensional curved laminated substrate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009545015A (en) * 2006-07-28 2009-12-17 クロモジェニクス・アクチボラーグ Method for manufacturing curved electrochromic device
JP2010102010A (en) * 2008-10-22 2010-05-06 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display panel
US20130293825A1 (en) * 2012-03-26 2013-11-07 Pixeloptics, Inc. Electrochromic materials and optical systems employing the same
JP2015096879A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 株式会社リコー Electrochromic device and manufacturing method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009545015A (en) * 2006-07-28 2009-12-17 クロモジェニクス・アクチボラーグ Method for manufacturing curved electrochromic device
JP2010102010A (en) * 2008-10-22 2010-05-06 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display panel
US20130293825A1 (en) * 2012-03-26 2013-11-07 Pixeloptics, Inc. Electrochromic materials and optical systems employing the same
JP2015096879A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 株式会社リコー Electrochromic device and manufacturing method thereof

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11175560B2 (en) 2017-03-03 2021-11-16 Leaphigh Inc. Electrochromic element and electrochromic device including the same
KR20180101702A (en) * 2017-03-03 2018-09-13 립하이 주식회사 Electrochromic device
KR102027054B1 (en) * 2017-03-03 2019-10-01 립하이 주식회사 Electrochromic device
KR20190114941A (en) * 2017-03-03 2019-10-10 립하이 주식회사 Electrochromic device
US10739662B2 (en) 2017-03-03 2020-08-11 Leaphigh Inc. Electrochromic element and electrochromic device including the same
US11681198B2 (en) 2017-03-03 2023-06-20 Leaphigh Inc. Electrochromic element and electrochromic device including the same
KR102369094B1 (en) * 2017-03-03 2022-03-02 립하이 주식회사 Electrochromic device
JP2019107888A (en) * 2017-12-18 2019-07-04 株式会社リコー Three-dimensionally curved laminate substrate and method for producing the same
JP7151437B2 (en) 2017-12-18 2022-10-12 株式会社リコー 3D CURVED LAMINATED SUBSTRATE AND PRODUCTION METHOD THEREOF
US11833800B2 (en) 2017-12-18 2023-12-05 Ricoh Company, Ltd. Method and apparatus for forming three-dimensional curved surface on laminated substrate, and three-dimensional curved laminated substrate
EP3711920A1 (en) * 2019-03-20 2020-09-23 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, multiple laminated structure, lens, and method for producing laminated structure
US11681195B2 (en) 2019-03-20 2023-06-20 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, multiple laminated structure, lens, and method for producing laminated structure
CN114967268A (en) * 2022-05-12 2022-08-30 浙江合特光电有限公司 Solar power generation highway
CN114967268B (en) * 2022-05-12 2023-10-03 浙江合特光电有限公司 Solar power generation highway

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