JP6171753B2 - Inkjet head and wiring board - Google Patents

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Description

本発明はインクジェットヘッド及び配線基板に関し、詳しくは、ヘッドチップと配線基板とを導電性粒子を含む接着剤によって接合することによって、両者の電極間の電気的接続を行うようにしたインクジェットヘッド及び配線基板に関する。   The present invention relates to an ink-jet head and a wiring board, and more specifically, an ink-jet head and a wiring in which a head chip and a wiring board are joined with an adhesive containing conductive particles so as to make electrical connection between the electrodes. Regarding the substrate.

チャネル内のインクを吐出させることによって各種画像の記録を行うインクジェットヘッドとして、せん断モード型のインクジェットヘッドがある。これは、多数並設されるチャネルの間を区画する隔壁を圧電素子によって形成することで駆動壁としている。駆動壁の両面には駆動電極が形成されており、これら1対の駆動電極に所定電圧の駆動信号を印加することによって駆動壁をせん断変形させ、そのときのチャネルの容積変化による圧力を利用してチャネル内のインクをノズルから吐出させる。   As an inkjet head that records various images by discharging ink in a channel, there is a shear mode type inkjet head. In this case, a partition wall that partitions between a large number of juxtaposed channels is formed by a piezoelectric element to form a drive wall. Drive electrodes are formed on both sides of the drive wall. By applying a drive signal of a predetermined voltage to the pair of drive electrodes, the drive wall is subjected to shear deformation, and the pressure generated by the change in volume of the channel is used. Then, the ink in the channel is ejected from the nozzle.

このようなインクジェットヘッドに使用されるヘッドチップとして、いわゆるハーモニカ型のヘッドチップがある。このヘッドチップは一般に六面体形状をしており、相反する前面と後面とにそれぞれインクの出口と入口となるチャネルの開口部が配置され、両開口部に亘るストレート状のチャネルを有している。このようなストレート状のチャネルを有するヘッドチップは、駆動壁両面の駆動電極がチャネルの内部にあって外部に露出していないため、各駆動電極へ電圧印加を行うことが難しい。   As a head chip used for such an ink jet head, there is a so-called harmonica type head chip. This head chip generally has a hexahedral shape, and has openings of channels serving as an ink outlet and an inlet on opposite front and rear surfaces, respectively, and has straight channels extending over both openings. In a head chip having such a straight channel, it is difficult to apply a voltage to each drive electrode because the drive electrodes on both sides of the drive wall are inside the channel and are not exposed to the outside.

このため、従来、ヘッドチップの後面に駆動電極と導通する接続電極をチャネル毎に個別に形成しておくと共に、接続電極と電気的に接続する配線電極が並設された配線基板を、ヘッドチップの後面に接合することにより、配線基板を利用して各駆動電極をヘッドチップの外部に電気的に引き出し、駆動電極への電圧印加の容易化を図る工夫が採られている。配線基板には各チャネルに対応する位置にインク供給用の貫通穴が開設され、配線基板の背面側に接合されるマニホールド内のインクを、この貫通穴を介して各チャネル内に供給できるようにしている(特許文献1)。   For this reason, conventionally, a connection electrode that is electrically connected to the drive electrode is individually formed on the rear surface of the head chip for each channel, and a wiring substrate in which wiring electrodes that are electrically connected to the connection electrode are arranged in parallel is provided on the head chip. A device has been devised to facilitate the application of voltage to the drive electrodes by bonding them to the rear surface so that each drive electrode is electrically drawn out of the head chip using a wiring board. The wiring board has through holes for supplying ink at positions corresponding to the respective channels, so that the ink in the manifold joined to the back side of the wiring board can be supplied into the respective channels through the through holes. (Patent Document 1).

ヘッドチップと配線基板との接合時、接続電極と配線電極とが重なり合うことによって、ヘッドチップと配線基板との間には両電極の厚みを足し合わせた分の間隙が形成される。接合に使用される接着剤はこの間隙に存在し、貼り合せ直後の低粘度状態にあるときに間隙内を毛細管力によって流動する。流動した接着剤は、ヘッドチップと配線基板との間のほぼ全域に広がった後、硬化することによって両者が接合される。   When the head chip and the wiring substrate are joined, the connection electrode and the wiring electrode overlap each other, whereby a gap corresponding to the sum of the thicknesses of both electrodes is formed between the head chip and the wiring substrate. The adhesive used for bonding exists in this gap, and flows in the gap by capillary force when in a low viscosity state immediately after bonding. The fluidized adhesive spreads over almost the entire area between the head chip and the wiring board, and is then cured to be bonded together.

この接合時に接着剤が流動することによって、接着剤中の導電性粒子がヘッドチップと配線基板との間で凝集することがある。特に、導電性粒子の凝集は、チャネルの開口部の周囲に多く見られ、これが原因で、ヘッドチップと配線基板との間で近接している電極同士をショートさせることがある。   When the adhesive flows during the bonding, the conductive particles in the adhesive may agglomerate between the head chip and the wiring board. In particular, agglomeration of conductive particles is often observed around the opening of the channel, and this may cause short-circuiting of electrodes that are close to each other between the head chip and the wiring substrate.

そこで本願出願人は、導電性粒子の凝集によってヘッドチップ側の電極と配線基板側の電極との間で発生するショートについて、チャネル間のピッチ、配線電極の配置、配線基板の厚みやヤング率等の条件を規定することによって防止する技術を提案している(特許文献2)。   Therefore, the applicant of the present application is concerned with the short circuit occurring between the electrode on the head chip side and the electrode on the wiring board due to the aggregation of the conductive particles, the pitch between the channels, the arrangement of the wiring electrodes, the thickness of the wiring board, the Young's modulus, etc. A technique for preventing this problem by prescribing the condition is proposed (Patent Document 2).

特開2002−178509号公報(図18)Japanese Patent Laid-Open No. 2002-178509 (FIG. 18) 特開2012−16848号公報JP 2012-16848 A

本発明者が確認したところ、接着剤中の導電性粒子の凝集によって引き起こされる電極間のショートは、ヘッドチップ側の電極と配線基板側の電極との間で発生するのみならず、配線基板の表面に並設されている隣り合う配線電極の間でも発生する場合があることがわかった。   The present inventors have confirmed that a short circuit between electrodes caused by aggregation of conductive particles in the adhesive occurs not only between the electrode on the head chip side and the electrode on the wiring board side, but also on the wiring board. It has been found that it may occur even between adjacent wiring electrodes arranged in parallel on the surface.

すなわち、ヘッドチップと配線基板とを接合する際、接着不良の発生を防ぐため、通常はやや多めの接着剤が塗布されている。これにより、ヘッドチップと配線基板との間を外側に向けて流動した接着剤の一部がヘッドチップの外側にはみ出し、ヘッドチップの外周縁に接着剤フィレットを形成する。この接着剤フィレットは、ヘッドチップの側面と配線基板の表面とに亘って形成される。このとき、接着剤が流動するのに伴って多くの導電性粒子が接着剤フィレットに集まり、これが凝集することによって、接着剤フィレットの下を通っている配線電極同士をショートさせるおそれがあった。   That is, when bonding the head chip and the wiring substrate, a slightly larger amount of adhesive is usually applied to prevent the occurrence of adhesion failure. As a result, part of the adhesive that has flowed outward between the head chip and the wiring board protrudes to the outside of the head chip, and an adhesive fillet is formed on the outer periphery of the head chip. This adhesive fillet is formed across the side surface of the head chip and the surface of the wiring board. At this time, as the adhesive flowed, many conductive particles gathered in the adhesive fillet and agglomerated to cause a short circuit between the wiring electrodes passing under the adhesive fillet.

そこで、本発明は、ヘッドチップと配線基板とを導電性粒子を含む接着剤によって接合することによって、両者の電極間の電気的接続を行うようにしたインクジェットヘッドにおいて、接着剤中の凝集した導電性粒子による配線基板上の配線電極同士のショートを防止できるようにすることを課題とする。   In view of the above, the present invention provides an ink jet head in which the head chip and the wiring substrate are joined with an adhesive containing conductive particles, thereby electrically connecting the two electrodes. It is an object of the present invention to prevent a short circuit between wiring electrodes on a wiring board due to conductive particles.

また、本発明の他の課題は、ヘッドチップを導電性粒子を含む接着剤によって接合することによって、両者の電極間の電気的接続を行う配線基板において、接着剤中の凝集した導電性粒子による配線基板上の配線電極同士のショートを防止できるようにすることにある。   In addition, another object of the present invention is to use agglomerated conductive particles in an adhesive in a wiring board that performs electrical connection between both electrodes by bonding a head chip with an adhesive containing conductive particles. An object of the present invention is to prevent a short circuit between wiring electrodes on a wiring board.

本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。   Other problems of the present invention will become apparent from the following description.

上記課題は、以下の各発明によって解決される。   The above problems are solved by the following inventions.

1.複数の接続電極が表面に形成されたヘッドチップと、
前記接続電極と電気的に接続されると共に前記ヘッドチップとの接合領域の外側に延びる複数の配線電極が表面に並設された配線基板とを有し、
前記ヘッドチップの前記接続電極が形成された面に、導電性粒子を含む接着剤を介して前記配線基板が接合されることにより、前記ヘッドチップと前記配線基板との間から流出した前記接着剤による接着剤フィレットが形成されているインクジェットヘッドにおいて、
前記配線基板は、前記接合領域の外側の前記配線電極における前記接着剤フィレットを通る部位を被覆するように、第1の絶縁膜が形成されていることを特徴とするインクジェットヘッド。
1. A head chip having a plurality of connection electrodes formed on the surface;
A plurality of wiring electrodes that are electrically connected to the connection electrodes and extend outside the bonding region with the head chip, and a wiring board arranged in parallel on the surface;
The adhesive that has flowed out between the head chip and the wiring board by bonding the wiring board to the surface of the head chip on which the connection electrodes are formed via an adhesive containing conductive particles. In an inkjet head in which an adhesive fillet is formed by
The inkjet head is characterized in that a first insulating film is formed on the wiring board so as to cover a portion passing through the adhesive fillet in the wiring electrode outside the bonding region.

2.前記第1の絶縁膜は、前記接合領域の内側に延びるように形成された延出部を有することを特徴とする前記1記載のインクジェットヘッド。   2. 2. The inkjet head according to claim 1, wherein the first insulating film has an extending portion formed so as to extend inside the bonding region.

3.前記延出部は、前記配線電極の1本おきに、該配線電極に沿って前記接合領域の内側に延びるように形成されていることを特徴とする前記2記載のインクジェットヘッド。   3. 3. The inkjet head according to claim 2, wherein the extending portion is formed so as to extend to the inside of the bonding region along the wiring electrode every other wiring electrode.

4.前記導電性粒子の粒子径をX、前記接続電極の厚みをa、前記配線電極の厚みをb、前記第1の絶縁膜の厚みをc1としたとき、c1<a、且つ、X<a+bであることを特徴とする前記3記載のインクジェットヘッド。   4). When the particle diameter of the conductive particles is X, the thickness of the connection electrode is a, the thickness of the wiring electrode is b, and the thickness of the first insulating film is c1, c1 <a and X <a + b 4. The inkjet head as described in 3 above.

5.前記ヘッドチップは、前記接着剤を介して前記延出部と対向して接着される前記ヘッドチップの端部において、前記配線基板との間の間隔を部分的に大となるように当該端部が前記配線基板に対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする前記2、3又は4記載のインクジェットヘッド。   5. The end portion of the head chip that is bonded to the extension portion via the adhesive so as to partially increase the distance between the head chip and the wiring board. The ink jet head according to 2, 3, or 4, wherein is recessed in a direction opposite to the wiring board.

6.前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする前記2、3又は4記載のインクジェットヘッド。   6). The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. 5. The ink jet head according to 2, 3, or 4, wherein the ink jet head is recessed in an opposite direction.

7.前記ヘッドチップは、前記接着剤を介して前記延出部と対向して接着される前記ヘッドチップの端部において、前記配線基板との間の間隔を部分的に大となるように当該端部が前記配線基板に対して反対の方向に凹んでいると共に、
前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする前記2、3又は4記載のインクジェットヘッド。
7). The end portion of the head chip that is bonded to the extension portion via the adhesive so as to partially increase the distance between the head chip and the wiring board. Is recessed in the opposite direction to the wiring board,
The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. 5. The ink jet head according to 2, 3, or 4, wherein the ink jet head is recessed in an opposite direction.

8.前記導電性粒子の粒子径をX、前記接続電極の厚みをa、前記配線電極の厚みをb、前記第1の絶縁膜の厚みをc1としたとき、c1<a、且つ、X<a+b−c1であることを特徴とする前記1又は2記載のインクジェットヘッド。   8). When the particle diameter of the conductive particles is X, the thickness of the connection electrode is a, the thickness of the wiring electrode is b, and the thickness of the first insulating film is c1, c1 <a and X <a + b− 3. The inkjet head as described in 1 or 2 above, which is c1.

9.前記第1の絶縁膜の材料は、TiO、SiO、Alのいずれかであることを特徴とする前記1〜8のいずれかに記載のインクジェットヘッド。 9. The material of the first insulating film, the ink-jet head according to any one of 1 to 8, characterized in that either TiO 2, SiO 2, Al 2 O 3.

10.前記第1の絶縁膜は、CVDにより形成されていることを特徴とする前記1〜9のいずれかに記載のインクジェットヘッド。   10. 10. The inkjet head according to any one of 1 to 9, wherein the first insulating film is formed by CVD.

11.前記ヘッドチップは、複数のチャネルが並設されたチャネル列を複数有し、
前記複数の接続電極は、前記複数のチャネルにそれぞれ対応して配置され、
前記配線基板は、前記複数の配線電極のうち、いずれかの前記チャネル列の前記接続電極と電気的に接続される前記配線電極の他端が、他のいずれかの前記チャネル列を跨いで前記接合領域の外側に延びていると共に、前記チャネル列を跨いでいる前記配線電極を被覆するように、前記接合領域の内側に第2の絶縁膜が形成されていることを特徴とする前記1〜10のいずれかに記載のインクジェットヘッド。
11. The head chip has a plurality of channel rows in which a plurality of channels are arranged in parallel,
The plurality of connection electrodes are arranged corresponding to the plurality of channels, respectively.
The wiring board is configured such that, among the plurality of wiring electrodes, the other end of the wiring electrode that is electrically connected to the connection electrode of any one of the channel rows straddles any other channel row. A second insulating film is formed on the inner side of the bonding region so as to cover the wiring electrode extending over the bonding region and straddling the channel row. The inkjet head according to any one of 10.

12.前記第2の絶縁膜は、前記配線電極毎に独立して形成されていることを特徴とする前記11記載のインクジェットヘッド。   12 12. The inkjet head according to 11, wherein the second insulating film is formed independently for each wiring electrode.

13.ヘッドチップとの接合領域と、該接合領域の内側から外側に延びるように並設された複数の配線電極とを有すると共に、該接合領域の外側であって該接合領域近傍の前記配線電極を被覆するように、第1の絶縁膜が形成されていることを特徴とする前記1〜12のいずれかに記載のインクジェットヘッドに用いられる配線基板。   13. A bonding area with the head chip and a plurality of wiring electrodes arranged in parallel so as to extend from the inside to the outside of the bonding area, and covering the wiring electrodes outside the bonding area and in the vicinity of the bonding area The wiring board used for the ink jet head according to any one of 1 to 12, wherein a first insulating film is formed.

14.前記第1の絶縁膜は、前記接合領域の内側に延びるように形成された延出部を有することを特徴とする前記13記載の配線基板。   14 14. The wiring board according to 13, wherein the first insulating film has an extending portion formed so as to extend inside the bonding region.

15.前記延出部は、前記配線電極の1本おきに、該配線電極に沿って前記接合領域の内側に延びるように形成されていることを特徴とする前記14記載の配線基板。   15. 15. The wiring board according to claim 14, wherein the extending portion is formed so as to extend along the wiring electrode to the inside of the bonding region every other wiring electrode.

16.前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする前記14又は15記載の配線基板。   16. The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. 16. The wiring board according to 14 or 15, wherein the wiring board is recessed in the opposite direction.

17.前記第1の絶縁膜の材料は、TiO、SiO、Alのいずれかであることを特徴とする前記13〜16のいずれかに記載の配線基板。 17. The material of the first insulating film, a wiring board according to any one of the 13 to 16, characterized in that either TiO 2, SiO 2, Al 2 O 3.

18.前記第1の絶縁膜は、CVDにより形成されていることを特徴とする前記13〜17のいずれかに記載の配線基板。   18. 18. The wiring board according to any one of 13 to 17, wherein the first insulating film is formed by CVD.

本発明によれば、ヘッドチップと配線基板とを導電性粒子を含む接着剤によって接合することによって、両者の電極間の電気的接続を行うようにしたインクジェットヘッドにおいて、接着剤中の凝集した導電性粒子による配線基板上の配線電極同士のショートを防止することができる。   According to the present invention, in the ink jet head in which the head chip and the wiring substrate are joined with an adhesive containing conductive particles to make an electrical connection between the electrodes, the aggregated conductive in the adhesive is obtained. It is possible to prevent a short circuit between the wiring electrodes on the wiring substrate due to the conductive particles.

また、本発明によれば、ヘッドチップを導電性粒子を含む接着剤によって接合することによって、両者の電極間の電気的接続を行う配線基板において、接着剤中の凝集した導電性粒子による配線基板上の配線電極同士のショートを防止することができる。   Further, according to the present invention, in the wiring board that performs electrical connection between the electrodes by bonding the head chip with the adhesive containing the conductive particles, the wiring board made of the aggregated conductive particles in the adhesive A short circuit between the upper wiring electrodes can be prevented.

本発明に係るインクジェットヘッドの第1の実施形態を示す分解斜視図1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an inkjet head according to the present invention. 図1に示すインクジェットヘッドにおけるヘッドチップの部分背面図Partial rear view of the head chip in the inkjet head shown in FIG. ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図View of the bonding state between the head chip and the wiring board as seen from the wiring board side 図3の(iv)−(iv)線に沿って切断した断面の一部を示す図The figure which shows a part of cross section cut | disconnected along the (iv)-(iv) line | wire of FIG. (a)は図4の(va)−(va)線に沿う断面図、(b)は図4の(vb)−(vb)線に沿う断面図(A) is a sectional view taken along line (va)-(va) in FIG. 4, and (b) is a sectional view taken along line (vb)-(vb) in FIG. ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図View of the bonding state between the head chip and the wiring board as seen from the wiring board side 図6中の(vii)−(vii)線に沿う断面図Sectional drawing which follows the (vii)-(vii) line in FIG. 本発明に係るインクジェットヘッドの第3の実施形態を示す配線基板の部分平面図The partial top view of the wiring board which shows 3rd Embodiment of the inkjet head which concerns on this invention. 図8における絶縁膜の縁部を拡大して示す部分平面図The partial top view which expands and shows the edge part of the insulating film in FIG. 本発明に係るインクジェットヘッドの第4の実施形態を示し、図5(a)と同一部位の断面を示す断面図Sectional drawing which shows 4th Embodiment of the inkjet head which concerns on this invention, and shows the cross section of the same site | part as Fig.5 (a) 第4の実施形態の他の態様を示し、図5(a)と同一部位の断面を示す断面図Sectional drawing which shows the other aspect of 4th Embodiment, and shows the cross section of the same site | part as Fig.5 (a) 第4の実施形態の更に他の態様を示し、図5(a)と同一部位の断面を示す断面図Sectional drawing which shows the further another aspect of 4th Embodiment, and shows the cross section of the same site | part as Fig.5 (a) 本発明に係るインクジェットヘッドの第5の実施形態を示し、ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図The figure which showed 5th Embodiment of the inkjet head which concerns on this invention, and looked at the joining state of a head chip and a wiring board from the wiring board side. 本発明に係るインクジェットヘッドの第5の実施形態の他の態様を示し、ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図The figure which showed the other aspect of 5th Embodiment of the inkjet head which concerns on this invention, and looked at the joining state of a head chip and a wiring board from the wiring board side. インクジェットヘッドの製造方法の一例を示す配線基板の平面図Plan view of a wiring board showing an example of a manufacturing method of an inkjet head ヘッドチップと配線基板とを一対の加圧板で挟持した状態を示す断面図Sectional drawing which shows the state which clamped the head chip and the wiring board with a pair of pressure plate ダミーチャネル内の気体を加熱膨張させた状態の説明図Explanatory drawing of the state where the gas in the dummy channel is heated and expanded

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

(第1の実施形態)
図1は本発明に係るインクジェットヘッドの第1の実施形態を示す分解斜視図、図2はそのインクジェットヘッドにおけるヘッドチップの部分背面図、図3はヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図、図4は図3の(iv)−(iv)線に沿って切断した断面の一部を示す図、図5(a)は図4の(va)−(va)線に沿う断面図、(b)は図4の(vb)−(vb)線に沿う断面図である。なお、図1〜図4においてヘッドチップと配線基板との間に存在する接着剤は図示省略している。
(First embodiment)
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an ink jet head according to the present invention, FIG. 2 is a partial rear view of a head chip in the ink jet head, and FIG. 3 shows a bonding state between the head chip and the wiring board. FIG. 4 is a diagram showing a part of a cross section cut along line (iv)-(iv) in FIG. 3, and FIG. 5 (a) is a line (va)-(va) in FIG. (B) is sectional drawing which follows the (vb)-(vb) line | wire of FIG. 1 to 4, the adhesive existing between the head chip and the wiring board is not shown.

図中、1はヘッドチップ、2はヘッドチップ1の前面1aに接合されるノズルプレート、3はヘッドチップ1の後面1bに接合される配線基板、4は配線基板3の端部3aに接続されるFPC(フレキシブル基板)である。   In the figure, 1 is a head chip, 2 is a nozzle plate bonded to the front surface 1 a of the head chip 1, 3 is a wiring substrate bonded to the rear surface 1 b of the head chip 1, and 4 is connected to an end 3 a of the wiring substrate 3. FPC (flexible substrate).

ヘッドチップ1は六面体からなり、A列、B列の2列のチャネル列を有している。ここでは図2に示す下側のチャネル列をA列、上側のチャネル列をB列とする。各チャネル列は、それぞれ駆動チャネル11A、11Bとダミーチャネル12A、12Bとが交互に配置されることによって構成されている。隣り合う駆動チャネル11A又は11Bとダミーチャネル12A又は12Bとの間の隔壁は圧電素子からなる駆動壁13となっている。   The head chip 1 is formed of a hexahedron and has two channel rows of A rows and B rows. Here, the lower channel row shown in FIG. 2 is the A row, and the upper channel row is the B row. Each channel row is configured by alternately arranging drive channels 11A and 11B and dummy channels 12A and 12B. A partition wall between the adjacent drive channel 11A or 11B and the dummy channel 12A or 12B is a drive wall 13 made of a piezoelectric element.

各駆動チャネル11A、11B及び各ダミーチャネル12A、12Bは、ヘッドチップ1の前面1aと後面1bとにそれぞれ開口しており、前面1aと後面1bとに亘るストレート状に形成されている。各駆動チャネル11A、11B内及び各ダミーチャネル12A、12B内に臨んでいる壁面のうちの少なくとも駆動壁13の表面には、駆動電極14がそれぞれ形成されている。   Each drive channel 11A, 11B and each dummy channel 12A, 12B are opened to the front surface 1a and the rear surface 1b of the head chip 1, respectively, and are formed in a straight shape extending over the front surface 1a and the rear surface 1b. A drive electrode 14 is formed on at least the surface of the drive wall 13 among the wall surfaces facing the drive channels 11A and 11B and the dummy channels 12A and 12B.

ヘッドチップ1は、各チャネル列において駆動チャネル11A、11Bとダミーチャネル12A、12Bとが交互に配置される独立駆動型のヘッドチップであり、各駆動電極14に所定電圧の駆動信号を印加することによって、1対の駆動電極14、14に挟まれた駆動壁13をせん断変形させる。これによって駆動チャネル11A、11B内に供給されたインクに吐出のための圧力変化を与え、ヘッドチップ1の前面1aに接合されたノズルプレート2のノズル21からインク滴として吐出させる。   The head chip 1 is an independent drive type head chip in which drive channels 11A and 11B and dummy channels 12A and 12B are alternately arranged in each channel row, and a drive signal of a predetermined voltage is applied to each drive electrode 14. Thus, the driving wall 13 sandwiched between the pair of driving electrodes 14 and 14 is subjected to shear deformation. As a result, a pressure change for ejection is applied to the ink supplied into the drive channels 11A and 11B, and the ink is ejected as ink droplets from the nozzles 21 of the nozzle plate 2 joined to the front surface 1a of the head chip 1.

本発明では、ヘッドチップ1において、ノズル21が配置されてインクが吐出される側の面を「前面」、その反対側の面を「後面」と定義する。また、ヘッドチップ1の前面1a又は後面1bと平行な方向であって該ヘッドチップ1から離れる方向をヘッドチップ1の「側方」と定義する。   In the present invention, in the head chip 1, the surface on the side where the nozzles 21 are arranged and the ink is ejected is defined as “front surface”, and the opposite surface is defined as “rear surface”. Further, a direction parallel to the front surface 1 a or the rear surface 1 b of the head chip 1 and away from the head chip 1 is defined as “side” of the head chip 1.

また、駆動チャネルとは、画像記録時に画像データに応じてインク吐出を行うチャネルであり、ダミーチャネルとは、画像データに関わらず、常にインク吐出を行わないチャネルである。ダミーチャネル12A、12Bはインク吐出を行う必要がないため、通常、インクが充填されないか、ノズルプレート2にノズル21が形成されない。本実施形態に示すノズルプレート2は、各駆動チャネル11A、11Bに対応する位置のみにノズル21が開設されている。   The drive channel is a channel that ejects ink in accordance with image data during image recording, and the dummy channel is a channel that does not always eject ink regardless of image data. Since the dummy channels 12A and 12B do not need to eject ink, the ink is not usually filled or the nozzle 21 is not formed on the nozzle plate 2. In the nozzle plate 2 shown in the present embodiment, the nozzles 21 are opened only at positions corresponding to the drive channels 11A and 11B.

ヘッドチップ1の後面1bには、駆動チャネル11A、11B及びダミーチャネル12A、12Bに1対1に対応するように接続電極15A、15Bが形成されている。各接続電極15A、15Bの一端は、対応する駆動チャネル11A、11B又はダミーチャネル12A、12B内の駆動電極14と導通している。   Connection electrodes 15A and 15B are formed on the rear surface 1b of the head chip 1 so as to correspond to the drive channels 11A and 11B and the dummy channels 12A and 12B on a one-to-one basis. One end of each connection electrode 15A, 15B is electrically connected to the drive electrode 14 in the corresponding drive channel 11A, 11B or dummy channel 12A, 12B.

A列の駆動チャネル11A及びダミーチャネル12Aに対応する各接続電極15Aの他端は、各チャネル11A、12A内からヘッドチップ1の後面1bにおける一方の端縁1cに向けて延び、該端縁1cとの間に200μm程度の間隔をあけて止まっている。また、B列の駆動チャネル11B及びダミーチャネル12Bに対応する各接続電極15Bの他端は、各チャネル11B、12B内からA列側に向けて延び、該A列のチャネル列との間に200μm程度の間隔をあけて止まっている。従って、接続電極15A、15Bのいずれも、各チャネル11A、11B、12A、12Bから同一方向に向けて延びている。   The other end of each connection electrode 15A corresponding to the drive channel 11A and the dummy channel 12A in the A row extends from the inside of each channel 11A, 12A toward one end edge 1c on the rear surface 1b of the head chip 1, and the end edge 1c. And about 200 μm apart. Further, the other end of each connection electrode 15B corresponding to the drive channel 11B and the dummy channel 12B in the B row extends toward the A row side from each of the channels 11B and 12B, and is 200 μm between the A row and the channel row. It stops at a certain interval. Accordingly, all of the connection electrodes 15A and 15B extend in the same direction from the respective channels 11A, 11B, 12A, and 12B.

配線基板3は、ヘッドチップ1の後面1bの面積よりも大きな面積を有する平板状の基板であり、接着剤を介してヘッドチップ1の後面1bに接合されている。接合後の配線基板3の少なくとも一つの端部3aは、ヘッドチップ1が接合される接合領域31(図1中に一点鎖線で示す。)の外側に延びており、ヘッドチップ1のチャネル列の並び方向に沿う側方に大きく張り出している。   The wiring substrate 3 is a flat substrate having an area larger than the area of the rear surface 1b of the head chip 1, and is bonded to the rear surface 1b of the head chip 1 with an adhesive. At least one end portion 3a of the bonded wiring board 3 extends outside a bonding region 31 (shown by a one-dot chain line in FIG. 1) to which the head chip 1 is bonded. It protrudes greatly to the side along the line direction.

なお、この接合領域31は、配線基板3の表面が、接合されたヘッドチップ1によって覆われる領域であり、ヘッドチップ1の後面1bの外周縁から配線基板3に垂下した線によって規定される。   The bonding region 31 is a region where the surface of the wiring substrate 3 is covered by the bonded head chip 1 and is defined by a line that hangs down from the outer peripheral edge of the rear surface 1b of the head chip 1 to the wiring substrate 3.

配線基板3の材質は、ガラス、セラミックス、シリコン、プラスチック等の適宜の材料を用いることができる。中でも適度に剛性を備え、安価で加工も容易である点でガラスが好ましい。   The material of the wiring board 3 can be an appropriate material such as glass, ceramics, silicon, or plastic. Among them, glass is preferable because it has moderate rigidity, is inexpensive, and can be easily processed.

配線基板3は、ヘッドチップ1の後面1bに配置される全てのチャネルを覆うように接合されるが、この配線基板3におけるヘッドチップ1の接合領域31内には、ヘッドチップ1の駆動チャネル11A、11Bに対応する位置のみに、配線基板3の背面側からインクを各駆動チャネル11A、11Bに供給するための貫通穴32A、32Bがそれぞれ個別に開設されている。各貫通穴32A、32Bは、ヘッドチップ1側の開口部が、各駆動チャネル11A、11Bの後面1b側の開口部と同一形状となるように形成されている。   The wiring substrate 3 is bonded so as to cover all the channels arranged on the rear surface 1b of the head chip 1, and in the bonding region 31 of the head chip 1 in the wiring substrate 3, the driving channel 11A of the head chip 1 is connected. , 11B, through-holes 32A, 32B for supplying ink to the drive channels 11A, 11B from the back side of the wiring board 3 are opened individually. Each through hole 32A, 32B is formed so that the opening on the head chip 1 side has the same shape as the opening on the rear surface 1b side of each drive channel 11A, 11B.

一方、配線基板3におけるダミーチャネル12A、12Bに対応する部位にはこのような貫通穴が形成されていない。このため、ダミーチャネル12A、12Bは配線基板3によって塞がれている。   On the other hand, such a through hole is not formed in a portion of the wiring board 3 corresponding to the dummy channels 12A and 12B. For this reason, the dummy channels 12 </ b> A and 12 </ b> B are blocked by the wiring board 3.

配線基板3のヘッドチップ1との接合面となる表面には、ヘッドチップ1の後面1bに配列されている各接続電極15A、15Bに1対1に対応するように、配線電極33A、33Bが形成されている。配線電極33AはA列のチャネル列の各接続電極15Aに対応し、配線電極33BはB列のチャネル列の各接続電極15Bに対応している。   Wiring electrodes 33A and 33B are formed on the surface of the wiring board 3 that is a bonding surface with the head chip 1 so as to correspond to the connection electrodes 15A and 15B arranged on the rear surface 1b of the head chip 1 on a one-to-one basis. Is formed. The wiring electrode 33A corresponds to each connection electrode 15A in the channel row of the A row, and the wiring electrode 33B corresponds to each connection electrode 15B in the channel row of the B row.

図3に示すように、配線電極33Aの一端は、対応する駆動チャネル11A及びダミーチャネル12Aの近傍に達し、対応する接続電極15Aと重なり合っていると共に、他端は、ヘッドチップ1の側方へ張り出した配線基板3の同一の端部3aに向けて延びている。また、配線電極33Bの一端は、対応する駆動チャネル11B及びダミーチャネル12Bの近傍に達し、対応する接続電極15Bと重なり合っていると共に、他端は、A列のチャネル列の隣り合う駆動チャネル11A、11A間を通って該A列のチャネル列を跨ぎ、配線電極33Aと同様に、配線基板3の端部3aに向けて延びている。このため、ヘッドチップ1の側方に張り出した配線基板3の表面には、接合領域31の内側から端部3aにかけて、配線電極33A、33Bが交互となるように並設されている。   As shown in FIG. 3, one end of the wiring electrode 33A reaches the vicinity of the corresponding drive channel 11A and the dummy channel 12A, overlaps with the corresponding connection electrode 15A, and the other end is to the side of the head chip 1. It extends toward the same end portion 3 a of the overhanging wiring board 3. In addition, one end of the wiring electrode 33B reaches the vicinity of the corresponding drive channel 11B and the dummy channel 12B and overlaps with the corresponding connection electrode 15B, and the other end is the adjacent drive channel 11A in the channel row of the A column, 11A and across the channel row A, and extends toward the end portion 3a of the wiring board 3 like the wiring electrode 33A. For this reason, wiring electrodes 33A and 33B are arranged in parallel on the surface of the wiring substrate 3 protruding to the side of the head chip 1 from the inside of the bonding region 31 to the end portion 3a so as to alternate.

配線基板3の端部3aには、外部配線部材の一例であるFPC4が、例えばACF(異方性導電フィルム)等を介して接続され、不図示の駆動回路との間を電気的に接続している。これにより、駆動回路からの所定電圧の駆動信号が、FPC4、配線基板3の各配線電極33A、33B、ヘッドチップ1の接続電極15A、15Bを介して、各チャネル11A、11B、12A、12B内の駆動電極14に印加されるようになっている。   An FPC 4, which is an example of an external wiring member, is connected to the end 3a of the wiring board 3 via, for example, an ACF (anisotropic conductive film) or the like, and electrically connected to a drive circuit (not shown). ing. As a result, a drive signal of a predetermined voltage from the drive circuit is supplied to each channel 11A, 11B, 12A, 12B via the FPC 4, the wiring electrodes 33A, 33B of the wiring board 3, and the connection electrodes 15A, 15B of the head chip 1. The drive electrode 14 is applied.

ヘッドチップ1と配線基板3との接合に使用される接着剤は、導電性粒子が分散された導電性接着剤である。接着剤としては常温で硬化させる常温硬化型接着剤、加熱によって重合を促進させて硬化させる熱硬化型接着剤、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって重合を促進させて硬化させる活性エネルギー線硬化型接着剤等を用いることができる。   The adhesive used for joining the head chip 1 and the wiring board 3 is a conductive adhesive in which conductive particles are dispersed. As an adhesive, a normal temperature curable adhesive that cures at room temperature, a thermosetting adhesive that cures by heating to promote polymerization, an active energy ray curable adhesive that cures by accelerating polymerization by irradiation of active energy rays such as ultraviolet rays An adhesive or the like can be used.

中でも熱硬化型接着剤が好ましい。熱硬化型接着剤は、接合後に硬化のために所定温度まで加熱を行うと、接着剤の粘度が一時的に低下して流動し易くなり、これに伴って接着剤中の導電性粒子の流動も活発化することで、ヘッドチップ1からはみ出した接着剤による接着剤フィレット中において導電性粒子による凝集が発生し易い。このため本発明の効果が顕著に得られる。熱硬化型接着剤としてはエポキシ系接着剤が好ましく用いられるが、特に限定されない。   Among these, a thermosetting adhesive is preferable. When the thermosetting adhesive is heated to a predetermined temperature for curing after joining, the viscosity of the adhesive is temporarily reduced to easily flow, and the flow of the conductive particles in the adhesive accordingly. As a result, the agglomeration due to the conductive particles easily occurs in the adhesive fillet of the adhesive protruding from the head chip 1. For this reason, the effect of this invention is acquired notably. An epoxy adhesive is preferably used as the thermosetting adhesive, but is not particularly limited.

導電性粒子としては、AuやNi等の金属粒子そのものの他、合成樹脂粒子の表面にAuやNi等の金属膜をめっき等によって被覆したもの等があり、本発明ではいずれを用いることもできる。   Examples of the conductive particles include metal particles such as Au and Ni themselves, and those obtained by coating the surface of synthetic resin particles with a metal film such as Au and Ni by plating or the like, and any of them can be used in the present invention. .

図5は、ヘッドチップ1と配線基板3とを接着剤によって接合した際に、ヘッドチップ1と配線基板3との間からはみ出した接着剤による接着剤フィレットFが形成された様子を断面で示している。接着剤フィレットFは、配線基板3の接合領域31の外側でヘッドチップ1の外周縁に沿って、ヘッドチップ1の側面と配線基板3の表面とに亘るように形成されている。図中の符号Faは、接着剤フィレットFの形成領域である。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing an adhesive fillet F formed by an adhesive protruding from between the head chip 1 and the wiring board 3 when the head chip 1 and the wiring board 3 are bonded to each other by an adhesive. ing. The adhesive fillet F is formed outside the bonding region 31 of the wiring substrate 3 along the outer peripheral edge of the head chip 1 so as to span the side surface of the head chip 1 and the surface of the wiring substrate 3. Reference numeral Fa in the drawing is an area where the adhesive fillet F is formed.

接合領域31の外側に出た配線電極33A、33Bは、この接着剤フィレットFの下を通って配線基板3の端部3aまで延びている。そして、配線基板3の表面には絶縁膜34(第1の絶縁膜)が形成されている。絶縁膜34は、接合領域31の外側の配線電極33A、33Bにおける接着剤フィレットFを通る部位を少なくとも被覆するように形成されている。この絶縁膜34の接合領域31側の縁部34aは、図3に示すように、該接合領域31の縁部31aと接するように、該縁部31aに沿う直線状に形成されている。   The wiring electrodes 33 </ b> A and 33 </ b> B that have come out of the bonding region 31 extend under the adhesive fillet F to the end 3 a of the wiring substrate 3. An insulating film 34 (first insulating film) is formed on the surface of the wiring board 3. The insulating film 34 is formed so as to cover at least a portion passing through the adhesive fillet F in the wiring electrodes 33 </ b> A and 33 </ b> B outside the bonding region 31. As shown in FIG. 3, the edge 34 a on the bonding region 31 side of the insulating film 34 is formed linearly along the edge 31 a so as to contact the edge 31 a of the bonding region 31.

このように配線電極33A、33Bは、接合領域31の近傍の接着剤フィレットFを通る部位が絶縁膜34によって被覆されることで、接着剤フィレットF中で凝集した導電性粒子Pと直に接触することが防止される。このため、接着剤フィレットF中で凝集した導電性粒子Pによって引き起こされる配線電極33A、33B同士のショートを防止することができる。   Thus, the wiring electrodes 33A and 33B are in direct contact with the conductive particles P aggregated in the adhesive fillet F by covering the portion passing through the adhesive fillet F in the vicinity of the bonding region 31 with the insulating film 34. Is prevented. For this reason, short-circuit between the wiring electrodes 33A and 33B caused by the conductive particles P aggregated in the adhesive fillet F can be prevented.

図示する例では、配線基板3の端部3aにおいてFPC4が接続される領域を除き、接合領域31と端部3aとの間の配線電極33A、33Bを全て被覆するように絶縁膜34が形成された態様を示している。従って、この絶縁膜34は、ヘッドチップ1とFPC4との間に露出する配線電極33A、33Bの表面及びそれら配線電極33A、33Bの間を全て覆うため、接着剤フィレットF中で凝集した導電性粒子Pによる配線電極33A、33B同士のショートの防止に加え、配線電極33A、33Bの汚染や、インク等の付着によるショートをも防止することができる。   In the illustrated example, the insulating film 34 is formed so as to cover all the wiring electrodes 33A and 33B between the bonding region 31 and the end 3a except for the region where the FPC 4 is connected at the end 3a of the wiring substrate 3. The embodiment is shown. Therefore, the insulating film 34 covers the entire surface of the wiring electrodes 33A and 33B exposed between the head chip 1 and the FPC 4 and the space between the wiring electrodes 33A and 33B. In addition to preventing the wiring electrodes 33A and 33B from being short-circuited by the particles P, it is also possible to prevent the wiring electrodes 33A and 33B from being contaminated or from being short-circuited due to adhesion of ink or the like.

絶縁膜34は、配線基板3上に絶縁性を付与できる膜であれば使用できる。具体的な絶縁膜34の材料としては、TiO、SiO、Al等が挙げられる。 The insulating film 34 can be used as long as it can provide insulation on the wiring board 3. Specific examples of the material for the insulating film 34 include TiO 2 , SiO 2 , Al 2 O 3, and the like.

また、絶縁膜34は、CVD(Chemical Vapor Deposition)により形成されることが好ましい。配線電極33A、33Bは配線基板3の表面から所定の厚みを有して突出しているため、導電性粒子Pが凝集した際に配線電極33A、33Bの側面と接触してショートを引き起こし易い。従って、配線電極33A、33Bの上面のみならず、側面にも絶縁性が付与される必要がある。CVDによれば、この配線電極33A、33Bの側面にも回り込んで均一な絶縁膜を形成できるため、ショートの発生を効果的に防止できる。   The insulating film 34 is preferably formed by CVD (Chemical Vapor Deposition). Since the wiring electrodes 33A and 33B protrude from the surface of the wiring substrate 3 with a predetermined thickness, when the conductive particles P aggregate, they easily come into contact with the side surfaces of the wiring electrodes 33A and 33B to cause a short circuit. Therefore, it is necessary to provide insulation not only on the upper surfaces of the wiring electrodes 33A and 33B but also on the side surfaces. According to CVD, since a uniform insulating film can be formed by wrapping around the side surfaces of the wiring electrodes 33A and 33B, occurrence of a short circuit can be effectively prevented.

導電性粒子Pの粒子径は、接続電極15A、15Bと配線電極33A、33Bとが直に重なり合うことができるように、接続電極15A、15Bの厚みと配線電極33A、33Bの厚みとを足し合わせた寸法よりも小さいものである必要がある。また、絶縁膜34が厚くなると、接続電極15A、15Bと配線電極33A、33Bとが重なり合った後に接合領域31の外側へ向かって流動する接着剤中の導電性粒子Pが、絶縁膜34の縁部34aで漉されて接合領域31の外側に流出せず、絶縁膜34外側の縁部34a近傍で凝集し、接合領域31の内側で隣り合う配線電極33A、33B同士をショートさせてしまうおそれもある。このため、絶縁膜34の厚みをc1、導電性粒子Pの粒子径をX、接続電極15A、15Bの厚みをa、配線電極33A、33Bの厚みをbとしたとき、c1<a、且つ、X<a+b−c1の条件を満たすことが好ましい。なお、導電性粒子Pの粒子径は平均粒子径であり、等体積球相当径によって規定される。   The particle diameter of the conductive particles P is the sum of the thickness of the connection electrodes 15A and 15B and the thickness of the wiring electrodes 33A and 33B so that the connection electrodes 15A and 15B and the wiring electrodes 33A and 33B can directly overlap each other. It must be smaller than the dimension. In addition, when the insulating film 34 is thickened, the conductive particles P in the adhesive that flows toward the outside of the bonding region 31 after the connection electrodes 15A and 15B and the wiring electrodes 33A and 33B overlap each other, There is also a possibility that the wiring electrodes 33A and 33B adjacent to each other inside the bonding region 31 may be short-circuited by being crushed by the portion 34a and not flowing out of the bonding region 31 but aggregating in the vicinity of the edge 34a outside the insulating film 34. is there. Therefore, when the thickness of the insulating film 34 is c1, the particle diameter of the conductive particles P is X, the thickness of the connection electrodes 15A and 15B is a, and the thickness of the wiring electrodes 33A and 33B is b, c1 <a and It is preferable that the condition X <a + b−c1 is satisfied. In addition, the particle diameter of the electroconductive particle P is an average particle diameter, and is prescribed | regulated by the equivalent volume sphere equivalent diameter.

絶縁膜34の厚みと導電性粒子Pの粒子径が上記の条件を満たすことにより、ヘッドチップ1と配線基板3との間から接合領域31の外側に向って流動する接着剤中の導電性粒子Pは、接続電極15A、15Bと配線電極33A、33Bとが完全に重なり合った後でも、隣り合う配線電極33A、33Bの間から縁部34aを越えて絶縁膜34上に流出することができる。従って、絶縁膜34外の縁部34a近傍での導電性粒子Pの凝集を抑制することができる。   When the thickness of the insulating film 34 and the particle diameter of the conductive particles P satisfy the above conditions, the conductive particles in the adhesive that flow from the space between the head chip 1 and the wiring substrate 3 toward the outside of the bonding region 31 are obtained. P can flow out onto the insulating film 34 from between the adjacent wiring electrodes 33A and 33B over the edge 34a even after the connection electrodes 15A and 15B and the wiring electrodes 33A and 33B are completely overlapped. Therefore, aggregation of the conductive particles P in the vicinity of the edge 34a outside the insulating film 34 can be suppressed.

(第2の実施形態)
図6、図7は本発明に係るインクジェットヘッドの第2の実施形態を示している。図6はヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図、図7は図6中の(vii)−(vii)線に沿う断面図である。第1の実施形態に係るインクジェットヘッドと同一符号の部位は同一構成の部位を示しているため、ここでは相違する構成のみを説明し、その他の説明は第1の実施形態の説明を援用し、記載を省略する。
(Second Embodiment)
6 and 7 show a second embodiment of the inkjet head according to the present invention. 6 is a view of the bonding state between the head chip and the wiring board as viewed from the wiring board side, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line (vii)-(vii) in FIG. Since the site | part of the same code | symbol as the inkjet head which concerns on 1st Embodiment has shown the site | part of the same structure, only the structure which is different here is demonstrated, The other description uses the description of 1st Embodiment, Description is omitted.

本実施形態では、絶縁膜34の直線状の縁部34aが、直線状のまま接合領域31の縁部31aを跨いで、接合領域31の内側における接続電極15Aの手前まで延びている。これによって絶縁膜34は接合領域31と重なり合う延出部34bを有している。   In the present embodiment, the linear edge 34 a of the insulating film 34 extends in a straight line and straddles the edge 31 a of the junction region 31 to the connection electrode 15 </ b> A inside the junction region 31. As a result, the insulating film 34 has an extended portion 34 b that overlaps the bonding region 31.

これによれば、接合領域31の外側の接着剤フィレットF内のみならず、接合領域31の内側の接着剤フィレットF近傍で導電性粒子Pの凝集が発生しても、延出部34dによって配線電極33A、33B同士のショートを防止できるため、ショート防止効果を高めることができる。   According to this, even if the aggregation of the conductive particles P occurs not only in the adhesive fillet F outside the joining region 31 but also in the vicinity of the adhesive fillet F inside the joining region 31, the wiring is extended by the extending portion 34 d. Since the short circuit between the electrodes 33A and 33B can be prevented, the short circuit prevention effect can be enhanced.

この延出部34bを有する絶縁膜34の縁部34aは、A列のチャネル列から延びる接続電極15Aと重ならないように、ヘッドチップ1の端縁1cから接続電極15Aの手前までの領域内にあればよいが、一般には、接合領域31の内側に100μm〜150μm程度入り込むように形成されていればよい。   The edge 34a of the insulating film 34 having the extended portion 34b is in a region from the edge 1c of the head chip 1 to the front of the connection electrode 15A so as not to overlap with the connection electrode 15A extending from the channel row A. In general, it may be formed so as to enter about 100 μm to 150 μm inside the bonding region 31.

この第2の実施形態における絶縁膜34は、延出部34bがヘッドチップ1と配線基板3との間に入り込んでいるため、絶縁膜34の厚みc1は、接続電極15A、15Bの厚みaとの関係でc1<aとする必要があるが、同時に、第1の実施形態と同様に、絶縁膜34外の縁部34a近傍での導電性粒子Pの凝集を抑制する観点から、導電性粒子Pの粒子径X、接続電極15A、15Bの厚みa及び配線電極33A、33Bの厚みbとの関係で、X<a+b−c1の条件を満たすことが好ましい。   In the insulating film 34 according to the second embodiment, the extending portion 34b extends between the head chip 1 and the wiring substrate 3, and therefore the thickness c1 of the insulating film 34 is equal to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B. From the viewpoint of suppressing aggregation of the conductive particles P in the vicinity of the edge 34a outside the insulating film 34, at the same time, as in the first embodiment, the conductive particles need to be set to c1 <a. The relationship X <a + b−c1 is preferably satisfied in relation to the particle diameter X of P, the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B, and the thickness b of the wiring electrodes 33A and 33B.

(第3の実施形態)
図8、図9は本発明に係るインクジェットヘッドの第3の実施形態を示している。図8は配線基板3の部分平面図、図9は図8における絶縁膜の縁部を拡大して示す部分平面図である。第1の実施形態に係るインクジェットヘッドと同一符号の部位は同一構成の部位を示しているため、ここでは相違する構成のみを説明し、その他の説明は第1の実施形態の説明を援用し、記載を省略する。
(Third embodiment)
8 and 9 show a third embodiment of the ink jet head according to the present invention. FIG. 8 is a partial plan view of the wiring board 3, and FIG. 9 is a partial plan view showing an enlarged edge portion of the insulating film in FIG. Since the site | part of the same code | symbol as the inkjet head which concerns on 1st Embodiment has shown the site | part of the same structure, only the structure which is different here is demonstrated, The other description uses the description of 1st Embodiment, Description is omitted.

図6、図7に示した第2の実施形態における絶縁膜34は、直線状の縁部34aを接合領域31の内側まで入り込ませることによって該接合領域31と重なり合う延出部34bを形成するようにしたが、本実施形態における延出部34bは、絶縁膜34の縁部34aから、部分的に接合領域31の縁部31aを跨いで、該接合領域31内に向けて突出するように延びることで、櫛歯状に形成されている。   The insulating film 34 in the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7 forms an extended portion 34 b that overlaps the joining region 31 by allowing the linear edge 34 a to enter the inside of the joining region 31. However, the extending portion 34b in the present embodiment extends from the edge portion 34a of the insulating film 34 so as to partially extend over the edge portion 31a of the bonding region 31 and protrude into the bonding region 31. Thus, it is formed in a comb-teeth shape.

延出部34bは、配線基板3上に並設されている配線電極33A、33Bの1本おきに形成されている。ここでは、各延出部34bは配線電極33A、33Bのうちの配線電極33Bを被覆するように形成されている。すなわち、各延出部34bは、配線電極33Bの上面及び側面を被覆し、該配線電極33Bに沿って接合領域31の内側まで延びている。しかし、配線電極33Aとは接しておらず、該配線電極33Aとの間に、導電性粒子Pが通過し得る程度の僅かな隙間を形成している。   The extending part 34b is formed every other wiring electrode 33A, 33B arranged in parallel on the wiring board 3. Here, each extending part 34b is formed so as to cover the wiring electrode 33B of the wiring electrodes 33A and 33B. That is, each extending portion 34b covers the upper surface and the side surface of the wiring electrode 33B, and extends to the inside of the bonding region 31 along the wiring electrode 33B. However, it is not in contact with the wiring electrode 33A, and a slight gap is formed between the wiring electrode 33A so that the conductive particles P can pass therethrough.

本実施形態における絶縁膜34の縁部34aは、ヘッドチップ1の接合領域31と接しておらず、該接合領域31の縁部31aとの間に僅かな距離をおいている。従って、各延出部34bのみが縁部34aから接合領域31の内側に向けて延び、該接合領域31の縁部31aを跨いでいる。絶縁膜34の縁部34aと接合領域31の縁部31aとの間は、導電性粒子Pの粒子径の10倍程度の距離であることが好ましい。   In this embodiment, the edge 34 a of the insulating film 34 is not in contact with the bonding region 31 of the head chip 1, and is slightly spaced from the edge 31 a of the bonding region 31. Accordingly, only each extending portion 34 b extends from the edge portion 34 a toward the inside of the bonding region 31 and straddles the edge portion 31 a of the bonding region 31. The distance between the edge 34 a of the insulating film 34 and the edge 31 a of the bonding region 31 is preferably about 10 times the particle diameter of the conductive particles P.

このような絶縁膜34によれば、導電性粒子Pは、図9中の矢印で示すように、ヘッドチップ1と配線基板3との間の接着剤が接合領域31の外側に向って流動するのに伴って接合領域31の外側に向けて流動するが、延出部34bの先端で漉されて停滞してしまうことはなく、延出部34bと配線電極33Aとの間の隙間を流路として接合領域31の外側に流出し、絶縁膜34の縁部34a近傍に受け入れられる。この縁部34a近傍には接着剤フィレットFが形成されており(図5参照)、導電性粒子Pの一部はこの接着剤フィレットF中で凝集する。   According to such an insulating film 34, the conductive particles P flow toward the outside of the bonding region 31 in the adhesive between the head chip 1 and the wiring substrate 3 as indicated by arrows in FIG. 9. As a result, the fluid flows toward the outside of the joining region 31, but is not trapped and stagnated at the tip of the extending portion 34b, and the flow path passes through the gap between the extending portion 34b and the wiring electrode 33A. And flows out of the bonding region 31 and is received in the vicinity of the edge 34a of the insulating film 34. An adhesive fillet F is formed in the vicinity of the edge 34a (see FIG. 5), and a part of the conductive particles P aggregates in the adhesive fillet F.

このため、延出部34bが接合領域31の内側に延びていても、導電性粒子Pが延出部34bで漉されて接合領域31の内側で凝集してしまうことはなく、接合領域31の内側での配線電極33A、33B同士のショートを防止できる。また、接合領域31の外側に流出した接着剤フィレットF中の導電性粒子Pの一部は、図9に示すように、導電性粒子Pが絶縁膜34の縁部34a近傍のみならず、絶縁膜34の延出部34b上や配線電極33A上にも凝集するが、延出部34bは配線電極33Bの上面及び側面を被覆しているため、このように接着剤フィレットF中の導電性粒子Pが絶縁膜34の延出部34b上や配線電極33A上で凝集しても、隣り合う配線電極33A、33B同士をショートさせてしまうこともない。   For this reason, even if the extending part 34b extends to the inside of the joining region 31, the conductive particles P are not trapped by the extending part 34b and aggregated inside the joining region 31. A short circuit between the wiring electrodes 33A and 33B on the inner side can be prevented. Further, as shown in FIG. 9, some of the conductive particles P in the adhesive fillet F that have flowed out of the bonding region 31 are not only insulated from the vicinity of the edge 34 a of the insulating film 34, but also insulated. Although it also aggregates on the extended portion 34b of the film 34 and the wiring electrode 33A, the extended portion 34b covers the upper surface and the side surface of the wiring electrode 33B, and thus the conductive particles in the adhesive fillet F are thus formed. Even if P aggregates on the extended portion 34b of the insulating film 34 or the wiring electrode 33A, the adjacent wiring electrodes 33A and 33B are not short-circuited.

また、チップ加工時にヘッドチップ1の後面1bが平坦に切断されないことによって、ヘッドチップ1の端縁1cが配線基板3側に向けて僅かに出っ張る場合があり、その出っ張り部位で、接合領域31の外側に向って流動する導電性粒子Pが漉されるおそれがある。この場合、本実施形態のように接合領域31と櫛歯状に重なり合う延出部34bを形成しておけば、ヘッドチップ1の端縁1c近傍で漉された導電性粒子Pが凝集しても、上記のように隣り合う配線電極33A、33B同士のショートを防止することができる。   Further, when the rear surface 1b of the head chip 1 is not cut flat at the time of chip processing, the edge 1c of the head chip 1 may slightly protrude toward the wiring board 3 side. There is a possibility that the conductive particles P flowing toward the outside are wrinkled. In this case, if the extension part 34b which overlaps with the joining area | region 31 like a comb-like shape is formed like this embodiment, even if the electroconductive particle P crushed near the edge 1c of the head chip 1 will aggregate As described above, it is possible to prevent a short circuit between the adjacent wiring electrodes 33A and 33B.

本実施形態の絶縁膜34も、櫛歯状の延出部34bがヘッドチップ1と配線基板3との間に入り込んでいるため、絶縁膜34の厚みc1は接続電極15A、15Bの厚みaとの関係でc1<aである必要がある。しかし、導電性粒子Pの粒子径Xは、接続電極15A、15Bの厚みa及び配線電極33A、33Bの厚みbとの関係で、X<a+bの条件を満たしていればよく、必ずしも絶縁膜34の厚みを考慮する必要がない。この条件を満たしていれば、導電性粒子Pは絶縁膜34の延出部34bと配線電極33Aとの間の隙間を流路として流動することが可能となり、上記のように導電性粒子Pが絶縁膜34の縁部34a近傍で凝集しても、隣り合う配線電極33A、33B同士をショートさせてしまうことを防止できるためである。   Also in the insulating film 34 of the present embodiment, since the comb-shaped extending portion 34b enters between the head chip 1 and the wiring substrate 3, the thickness c1 of the insulating film 34 is equal to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B. Therefore, it is necessary that c1 <a. However, the particle diameter X of the conductive particles P only needs to satisfy the condition of X <a + b in relation to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B and the thickness b of the wiring electrodes 33A and 33B. There is no need to consider the thickness. If this condition is satisfied, the conductive particles P can flow using the gap between the extending portion 34b of the insulating film 34 and the wiring electrode 33A as a flow path. This is because it is possible to prevent the adjacent wiring electrodes 33A and 33B from being short-circuited even if they are aggregated in the vicinity of the edge 34a of the insulating film 34.

また、導電性粒子Pの粒子径Xは絶縁膜34の厚みを考慮する必要がないことにより、それだけ粒子径Xを大きくすることができる。導電性粒子Pは大きいほど電気的接続の信頼性が向上するため、本実施形態によれば、電気的接続の信頼性向上を図ることもできる。   Further, since the particle diameter X of the conductive particles P does not need to consider the thickness of the insulating film 34, the particle diameter X can be increased accordingly. Since the reliability of the electrical connection is improved as the conductive particles P are larger, according to the present embodiment, the reliability of the electrical connection can be improved.

なお、櫛歯状の各延出部34bも、A列のチャネル列から延びる接続電極15Aと重ならないように、ヘッドチップ1の端縁1cから接続電極15Aの手前までの領域内にあればよく、一般には、接合領域31内に100μm〜150μm程度入り込むように形成されていればよい。   Each comb-like extending portion 34b may also be located in the region from the edge 1c of the head chip 1 to the front of the connection electrode 15A so as not to overlap with the connection electrode 15A extending from the channel row A. In general, it may be formed so as to enter the bonding region 31 by about 100 μm to 150 μm.

また、ここでは、各延出部34bを配線電極33Bに沿って突出するように形成したが、これに代えて、配線電極33Aに沿って突出するように形成してもよい。   Here, each extending portion 34b is formed so as to protrude along the wiring electrode 33B, but instead, it may be formed so as to protrude along the wiring electrode 33A.

(第4の実施形態)
図10は本発明に係るインクジェットヘッドの第4の実施形態を示し、図5(a)と同一部位の断面を示す断面図である。第1及び第2の実施形態に係るインクジェットヘッドと同一符号の部位は同一構成の部位を示しているため、ここでは相違する構成のみを説明し、その他の説明は第1及び第2の実施形態の説明を援用し、記載を省略する。
(Fourth embodiment)
FIG. 10 shows a fourth embodiment of the ink jet head according to the present invention, and is a cross-sectional view showing a cross section of the same portion as FIG. Since the parts having the same reference numerals as those of the ink jet heads according to the first and second embodiments indicate the parts having the same configuration, only the different structure will be described here, and the other description will be made in the first and second embodiments. The description is omitted and the description is omitted.

本実施形態における絶縁膜34は、図6、図7に示した第2の実施形態と同様、接合領域31と重なり合う延出部34bが形成されている点で共通しているが、ヘッドチップ1の後面1bは、この延出部34bに対向して接着されるヘッドチップ1の端部が段状に凹んでいることによって凹部16を形成しており、この凹部16において配線基板3との間の間隔が部分的に大となっている点で異なっている。すなわち、凹部16内におけるヘッドチップ1の後面1bと配線基板3の表面との間隔Dは、接続電極15A、15Bの厚みa及び配線電極33A、33Bの厚みbとの関係で、D>a+bとなっている。絶縁膜34の延出部34bは、この凹部16内に配置されている。   The insulating film 34 in the present embodiment is common in that an extended portion 34b that overlaps the bonding region 31 is formed, as in the second embodiment shown in FIGS. The rear surface 1b forms a concave portion 16 with the end portion of the head chip 1 bonded to the extended portion 34b facing the extended portion 34b. The concave portion 16 is formed between the rear surface 1b and the wiring substrate 3. The difference is that the interval of is partially large. That is, the distance D between the rear surface 1b of the head chip 1 and the surface of the wiring board 3 in the recess 16 is related to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B and the thickness b of the wiring electrodes 33A and 33B, and D> a + b It has become. The extending part 34 b of the insulating film 34 is disposed in the recess 16.

図10に示す凹部16の存在によって、接続電極15A、15Bの厚みに関わらず、凹部16内におけるヘッドチップ1の後面1bと配線基板3の表面との間隔Dの範囲内で絶縁膜34の厚膜化が可能となるので、絶縁膜34を厚くして絶縁性を高めることができるという観点から好ましい実施形態である。   10, the thickness of the insulating film 34 is within the distance D between the rear surface 1b of the head chip 1 and the surface of the wiring board 3 in the recess 16, regardless of the thickness of the connection electrodes 15A and 15B. Since the film can be formed, this is a preferable embodiment from the viewpoint that the insulating film 34 can be thickened to improve the insulating property.

凹部16の形状は、ヘッドチップ1の端部を段状に凹ませる他に、図11に示すように、絶縁膜34との干渉を避けるように斜めに切り欠かれたテーパー状に形成してもよい。   The shape of the recess 16 is formed in a tapered shape that is notched obliquely so as to avoid interference with the insulating film 34, as shown in FIG. Also good.

また、このように絶縁膜34を厚膜化させる場合、以上のようにヘッドチップ1側に凹部16を形成することに代えて、図12に示すように、延出部34bが形成されている部位の配線基板3の厚みを薄く形成して、配線基板3の当該部位がヘッドチップ1に対して反対の方向に凹んでいるようにすることによって、配線基板3に薄肉部35を形成するようにしても全く同様の効果を得ることができる。   Further, when the insulating film 34 is made thicker in this way, instead of forming the recess 16 on the head chip 1 side as described above, an extension 34b is formed as shown in FIG. The thin part 35 is formed in the wiring board 3 by forming the wiring board 3 in a thin part so that the part of the wiring board 3 is recessed in the opposite direction to the head chip 1. However, the same effect can be obtained.

図12では、ヘッドチップ1の接続電極15Aの近傍から端部3aにかけて薄肉部35を形成するようにしたが、薄肉部35は、絶縁膜34の延出部34bが形成されている部位から接着剤フィレットFの形成領域Faにかけて形成されていればよい。   In FIG. 12, the thin portion 35 is formed from the vicinity of the connection electrode 15 </ b> A of the head chip 1 to the end portion 3 a, but the thin portion 35 is bonded from a portion where the extending portion 34 b of the insulating film 34 is formed. What is necessary is just to be formed over the formation area Fa of the agent fillet F.

また、図示しないが、図10、図11に示すようにヘッドチップ1の後面1bに凹部16を形成することに加えて、図12に示すように配線基板3の表面に薄肉部35を形成するようにしてもよい。絶縁膜34をより厚膜化することができる。   Although not shown, in addition to forming the recess 16 on the rear surface 1b of the head chip 1 as shown in FIGS. 10 and 11, a thin portion 35 is formed on the surface of the wiring board 3 as shown in FIG. You may do it. The insulating film 34 can be made thicker.

本実施形態でも、導電性粒子Pの粒子径Xは、接続電極15A、15Bの厚みa及び配線電極33A、33Bの厚みbとの関係で、X<a+bの条件を満たしていればよく、必ずしも絶縁膜34の厚みを考慮する必要がない。これにより、導電性粒子Pの電気的接続の信頼性を向上させることもできる。   Also in the present embodiment, the particle diameter X of the conductive particles P only needs to satisfy the condition of X <a + b in relation to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B and the thickness b of the wiring electrodes 33A and 33B. There is no need to consider the thickness of the insulating film 34. Thereby, the reliability of the electrical connection of the electroconductive particle P can also be improved.

また、本実施形態において、絶縁膜34の延出部34bは、図6、図7に示したように、直線状の縁部34aが接合領域31と重なり合うように形成されるものであってもよいし、図8、図9に示したように、配線電極33A、33Bの1本おきに接合領域31内に突出するように延びる櫛歯状に形成されるものであってもよい。   In the present embodiment, the extending portion 34b of the insulating film 34 may be formed so that the linear edge portion 34a overlaps the bonding region 31 as shown in FIGS. Alternatively, as shown in FIGS. 8 and 9, the wiring electrodes 33 </ b> A and 33 </ b> B may be formed in a comb-like shape extending so as to protrude into the bonding region 31.

(第5の実施形態)
図13は本発明に係るインクジェットヘッドの第5の実施形態を示し、ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図である。第1の実施形態に係るインクジェットヘッドと同一符号の部位は同一構成の部位を示しているため、ここでは相違する構成のみを説明し、その他の説明は第1の実施形態の説明を援用し、記載を省略する。
(Fifth embodiment)
FIG. 13 shows a fifth embodiment of an ink jet head according to the present invention, and is a view of a bonding state between a head chip and a wiring board as viewed from the wiring board side. Since the site | part of the same code | symbol as the inkjet head which concerns on 1st Embodiment has shown the site | part of the same structure, only the structure which is different here is demonstrated, The other description uses the description of 1st Embodiment, Description is omitted.

この配線基板3には、絶縁膜34に加え、接合領域31の内側に別の絶縁膜36(第2の絶縁膜)が形成されている。この絶縁膜36は、接合領域31内において、ヘッドチップ1のA列の駆動チャネル11A、11A間を通って該A列のチャネル列を跨いでいる配線電極33Bの表面及び隣り合う配線電極33B、33B間を被覆するように帯状に形成されている。絶縁膜36の一方の縁部36aは、B列のチャネル列の接続電極15Bと重ならないように、該接続電極15Bの手前で止まっており、他方の縁部36bは、配線電極33Aを被覆しないように、該配線電極33Aの手前で止まっている。従って、各貫通穴32Aは、この絶縁膜36内に開口している。   In addition to the insulating film 34, another insulating film 36 (second insulating film) is formed on the wiring substrate 3 inside the bonding region 31. In the bonding region 31, the insulating film 36 passes between the drive channels 11A and 11A of the A column of the head chip 1 and straddles the channel column of the A column and the adjacent wiring electrode 33B. It is formed in a band shape so as to cover between 33B. One edge 36a of the insulating film 36 stops in front of the connection electrode 15B so as not to overlap with the connection electrode 15B of the B-row channel row, and the other edge 36b does not cover the wiring electrode 33A. Thus, it stops in front of the wiring electrode 33A. Accordingly, each through hole 32A is opened in the insulating film 36.

このようにチャネル列を跨ぐように配線される配線電極33Bは、チャネル列を跨ぐ部位で近接しているため、その近傍で導電性粒子Pの凝集が発生した場合、隣り合う配線電極33B、33B間でもショートを発生させるおそれがある。しかし、この部位にも絶縁膜36を形成しておくことにより、このような配線電極33B、33B同士のショートを防止することができる。   Since the wiring electrodes 33B wired so as to straddle the channel rows in this manner are close to each other across the channel rows, when the aggregation of the conductive particles P occurs in the vicinity thereof, the neighboring wiring electrodes 33B, 33B There is a risk of causing a short circuit. However, by forming the insulating film 36 also in this part, such a short circuit between the wiring electrodes 33B and 33B can be prevented.

また、ヘッドチップ1の後面1bに開口する駆動チャネル11Aやダミーチャネル12Aは、その開口部に駆動電極14の縁部が露出しているため、配線電極33Bが駆動チャネル11Aやダミーチャネル12Aの駆動電極14との間で、凝集した導電性粒子Pによってショートが発生するおそれもあるが、絶縁膜36を形成しておくことで、このような配線電極33Bと駆動電極14との間のショートも防止することができる。   Further, since the edge of the drive electrode 14 is exposed at the opening of the drive channel 11A and the dummy channel 12A opened on the rear surface 1b of the head chip 1, the wiring electrode 33B drives the drive channel 11A and the dummy channel 12A. A short circuit may occur due to the aggregated conductive particles P between the electrode 14 and the insulating film 36, so that the short circuit between the wiring electrode 33B and the drive electrode 14 can be prevented. Can be prevented.

絶縁膜36は、絶縁膜34と同一の材料によって形成することができる。また、絶縁膜36は接合領域31内に形成されるため、絶縁膜36の厚みc2は、接続電極15A、15Bの厚みaとの関係で、c2<aとされる必要があるが、絶縁膜36の縁部36a、36bで導電性粒子Pの一部が漉されてしまうことを回避するため、第1の実施形態における絶縁膜34の場合と同様、導電性粒子Pの粒子径X、接続電極15A、15Bの厚みa及び配線電極33A、33Bの厚みbとの関係で、X<a+b−c2の条件を同時に満足することが好ましい。   The insulating film 36 can be formed of the same material as the insulating film 34. In addition, since the insulating film 36 is formed in the bonding region 31, the thickness c2 of the insulating film 36 needs to be c2 <a in relation to the thickness a of the connection electrodes 15A and 15B. In order to avoid that some of the conductive particles P are wrinkled by the edges 36a and 36b of the 36, as in the case of the insulating film 34 in the first embodiment, the particle diameter X of the conductive particles P, the connection In relation to the thickness a of the electrodes 15A and 15B and the thickness b of the wiring electrodes 33A and 33B, it is preferable to satisfy the condition of X <a + b−c2 at the same time.

この絶縁膜36は、以上のようにA列のチャネル列に沿って帯状に形成することに代えて、図14に示すように、配線電極33BがA列のチャネル列を跨いでいる部分のみを個別に覆うように形成してもよい。すなわち、絶縁膜36は、配線電極33B毎に独立して形成される。これによれば、絶縁膜36、36間に隙間が形成されるため、この隙間を接着剤及び導電性粒子Pの流路とすることができる。従って、上記の効果に加えて、絶縁膜36を厚く形成しても、接着剤及び導電性粒子Pの流動を妨げることがない効果が得られる。   Instead of forming the insulating film 36 in a strip shape along the A-column channel as described above, only the portion where the wiring electrode 33B straddles the A-channel channel row as shown in FIG. You may form so that it may cover separately. That is, the insulating film 36 is formed independently for each wiring electrode 33B. According to this, since a gap is formed between the insulating films 36 and 36, this gap can be used as a flow path for the adhesive and the conductive particles P. Therefore, in addition to the above effect, even if the insulating film 36 is formed thick, an effect that does not hinder the flow of the adhesive and the conductive particles P can be obtained.

なお、本実施形態における絶縁膜34は、図6、図7に示す第2の実施形態の絶縁膜34のように直線状の延出部34bを有するものであってもよいし、図8、図9に示す第3の実施形態の絶縁膜34のように、櫛歯状の延出部34bを有するものであってもよい。また、本実施形態において、第4の実施形態のように、ヘッドチップ1には凹部16が形成されていてもよいし(図10、図11)、配線基板3には薄肉部35が形成されていてもよい(図12)。   The insulating film 34 in the present embodiment may have a linearly extending portion 34b like the insulating film 34 in the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7, or FIG. Like the insulating film 34 of 3rd Embodiment shown in FIG. 9, it may have the comb-tooth shaped extension part 34b. Further, in the present embodiment, as in the fourth embodiment, the head chip 1 may be formed with the recess 16 (FIGS. 10 and 11), and the wiring board 3 is formed with the thin portion 35. (FIG. 12).

(その他の実施形態)
以上の説明では、ヘッドチップ1のチャネルが、駆動チャネル11A、11Bとダミーチャネル12A、12Bとからなるものを例示したが、全てのチャネルがインク吐出を行う駆動チャネルであってもよい。
(Other embodiments)
In the above description, the channel of the head chip 1 is exemplified by the drive channels 11A and 11B and the dummy channels 12A and 12B. However, all the channels may be drive channels that discharge ink.

また、ヘッドチップ1に設けられるチャネル列は2列のものに限らず、1列のみであってもよいし、3列以上であってもよい。例えば、以上説明した2列のチャネル列を有するインクジェットヘッドを、図2、図3において上下対称に形成することにより、4列のチャネル列を有するインクジェットヘッドを構成することができる。   Further, the number of channel columns provided in the head chip 1 is not limited to two, and may be only one column or three or more columns. For example, an inkjet head having four channel rows can be configured by forming the inkjet head having the two channel rows described above symmetrically in FIGS. 2 and 3.

更に、以上の説明では、前面1aと後面1bに各チャネルの開口部が配置されたストレート状のチャネル構造を持ついわゆるハーモニカ型のヘッドチップ1を有するインクジェットヘッドを例示したが、本発明は、複数のチャネルにそれぞれ対応する複数の接続電極が表面に形成されたヘッドチップを有し、接続電極が形成された面に導電性粒子を含む接着剤によって配線基板を接合するようにしたインクジェットヘッドであればよく、ハーモニカ型のヘッドチップを有するものになんら限定されない。   Furthermore, in the above description, an inkjet head having a so-called harmonica type head chip 1 having a straight channel structure in which openings of the respective channels are arranged on the front surface 1a and the rear surface 1b is exemplified. An inkjet head having a head chip on the surface of which a plurality of connection electrodes corresponding to the respective channels are formed and bonding the wiring substrate to the surface on which the connection electrodes are formed with an adhesive containing conductive particles. What is necessary is just and it is not limited to what has a harmonica type head chip.

(インクジェットヘッドの製造方法)
以下、インクジェットヘッドの製造方法の一例について、図15〜図17を用いて説明する。ここでは第1の実施形態に示すインクジェットヘッドを例に挙げて説明するが、他の実施形態でも同様に行うことができる。
(Inkjet head manufacturing method)
Hereinafter, an example of a method for manufacturing an inkjet head will be described with reference to FIGS. Here, the inkjet head shown in the first embodiment will be described as an example, but the same can be done in other embodiments.

図15は、配線基板3の表面を示している。まず、貫通穴32A、32B、各配線電極33A、33B及び絶縁膜34が形成された配線基板3の表面に対し、ヘッドチップ1の各接続電極15A、15Bと各配線電極33A、33Bとが重なり合う部分に亘って帯状となるように接着剤5を塗布し、その後、接合領域31にヘッドチップ1を位置決めして貼り合せる。   FIG. 15 shows the surface of the wiring board 3. First, the connection electrodes 15A and 15B of the head chip 1 and the wiring electrodes 33A and 33B overlap the surface of the wiring substrate 3 on which the through holes 32A and 32B, the wiring electrodes 33A and 33B, and the insulating film 34 are formed. The adhesive 5 is applied so as to form a strip over the portion, and then the head chip 1 is positioned and bonded to the bonding region 31.

次いで、ヘッドチップ1における配線基板3との接合面と反対側に位置する前面1aに開口するダミーチャネル12A、12Bを密閉する。   Next, the dummy channels 12A and 12B opened in the front surface 1a located on the side opposite to the bonding surface of the head chip 1 with the wiring substrate 3 are sealed.

図16は、この密閉状態を形成する際に好ましい方法を示す断面図である。貼り合わされたヘッドチップ1と配線基板3は、上下一対の加圧板6a、6bの間に装着され、両加圧板6a、6b間で挟持することにより所定の圧力をかける。これにより、帯状に塗布された接着剤5は毛細管力によってヘッドチップ1と配線基板3との間を流動していく。なお、図16では接着剤5は図示省略している。   FIG. 16 is a cross-sectional view showing a preferred method for forming this sealed state. The bonded head chip 1 and wiring board 3 are mounted between a pair of upper and lower pressure plates 6a and 6b, and a predetermined pressure is applied by being sandwiched between the pressure plates 6a and 6b. Thereby, the adhesive 5 applied in a band shape flows between the head chip 1 and the wiring substrate 3 by a capillary force. In FIG. 16, the adhesive 5 is not shown.

このとき、ダミーチャネル12A、12Bに到達した接着剤5は、その一部が配線基板3を伝ってダミーチャネル12A、12B内部に入り込む。ダミーチャネル12A、12Bの開口部は配線基板3によって閉塞されているためである。一方、駆動チャネル11A、11Bには、その開口部と同一形状で貫通穴32A、32Bが形成されているため、接着剤5は配線基板3を伝って駆動チャネル11A、11Bの開口部から内部に入り込みにくい。   At this time, part of the adhesive 5 that has reached the dummy channels 12A and 12B enters the dummy channels 12A and 12B through the wiring board 3. This is because the openings of the dummy channels 12 </ b> A and 12 </ b> B are blocked by the wiring board 3. On the other hand, since the drive channels 11A and 11B have through holes 32A and 32B having the same shape as the openings, the adhesive 5 travels along the wiring board 3 from the openings of the drive channels 11A and 11B to the inside. Hard to get in.

両加圧板6a、6bのうち、ヘッドチップ1の前面1a側に配置される加圧板7aの表面には、弾性材料からなるシート状のシール材7が設けられており、このシール材7がヘッドチップ1の前面1aと当接するようになっている。弾性材料としては一般にはゴムを用いることができ、中でもシリコンゴムが好ましい。   A sheet-like sealing material 7 made of an elastic material is provided on the surface of the pressure plate 7a disposed on the front surface 1a side of the head chip 1 among the pressure plates 6a and 6b. The front surface 1a of the chip 1 is in contact with the front surface 1a. Generally, rubber can be used as the elastic material, and silicon rubber is particularly preferable.

このシール材7を設ける理由は次の通りである。一般にヘッドチップ1は、ダイシングブレード等によってセラミックスをフルカットすることによって作製されるため、フルカット面(前面1a及び後面1b)に切断時の痕跡が微細な凹凸状となって残っていることがある。この状態では、平板状の加圧板6aのみではダミーチャネル12A、12Bを密閉し難いものとなる。この問題はフルカット面を研摩することによって改善されるが、図示するように弾性材料からなるシール材7を間に挟むことによって、ヘッドチップ1の前面1aが凹凸状となっていても、わざわざ研摩作業を行うことなくヘッドチップ1の前面1aの開口部を効果的に密閉することができる。   The reason for providing this sealing material 7 is as follows. In general, since the head chip 1 is manufactured by fully cutting ceramics with a dicing blade or the like, traces at the time of cutting may remain as fine irregularities on the full cut surfaces (front surface 1a and rear surface 1b). is there. In this state, it is difficult to seal the dummy channels 12A and 12B with only the flat pressure plate 6a. This problem can be improved by polishing the full-cut surface. However, even if the front surface 1a of the head chip 1 has an uneven shape by sandwiching a sealing material 7 made of an elastic material as shown in the drawing, it is bothered. The opening of the front surface 1a of the head chip 1 can be effectively sealed without performing a polishing operation.

配線基板3側のダミーチャネル12A、12Bの開口部は、その周囲に流れ込んだ接着剤5と配線基板3とによって密閉状態にある。このため、この配線基板3側の加圧板6bには必ずしもシール材7を設ける必要はない。ヘッドチップ1のダミーチャネル12A、12Bは、加圧板6aのシール材7と配線基板3との間で密閉され、内部に気体(空気)が封入された状態となる。   The openings of the dummy channels 12 </ b> A and 12 </ b> B on the wiring board 3 side are in a sealed state by the adhesive 5 and the wiring board 3 that have flowed into the periphery thereof. For this reason, it is not always necessary to provide the sealing material 7 on the pressure plate 6b on the wiring board 3 side. The dummy channels 12A and 12B of the head chip 1 are sealed between the sealing material 7 of the pressure plate 6a and the wiring board 3, and gas (air) is sealed inside.

次いで、この状態でヘッドチップ1と配線基板3を加熱することにより、ダミーチャネル12A、12B内に封入されている気体を膨張させる。   Next, by heating the head chip 1 and the wiring board 3 in this state, the gas sealed in the dummy channels 12A and 12B is expanded.

この加熱は、接着剤5が熱硬化型接着剤である場合は加熱硬化時の熱を利用することができる。接着剤5が熱硬化型でない場合は、加圧板6a、6bで挟持された状態でオーブン等の適宜の加熱手段によって加熱すればよい。ここでは接着剤5が熱硬化型であり、加熱硬化時の熱を利用して上記の加熱を行う場合について説明する。   When the adhesive 5 is a thermosetting adhesive, this heating can use heat at the time of heat curing. When the adhesive 5 is not a thermosetting type, it may be heated by an appropriate heating means such as an oven while being sandwiched between the pressure plates 6a and 6b. Here, the case where the adhesive 5 is of a thermosetting type and the above-described heating is performed using heat at the time of heat curing will be described.

ヘッドチップ1の加熱によってダミーチャネル12A、12B内の気体が膨張すると、図17に示すように、この気体の膨張によってダミーチャネル12A、12B内に入り込んだ接着剤5は、該ダミーチャネル12A、12Bから、ヘッドチップ1の後面1bと配線基板3との間に押し出される。そして、この状態で接着剤5を硬化させることによって、ダミーチャネル12A、12Bの開口部内に残留する接着剤5による接着剤フィレット51を、該開口部の四隅に独立して存在させる。これにより、ダミーチャネル12A、12Bの開口部の周囲は接着剤フィレット51によって取り囲まれ、封止される。また同時に、ダミーチャネル12A、12Bの内部が接着剤5によって閉塞されてしまうことが避けられる。   When the gas in the dummy channels 12A and 12B expands due to the heating of the head chip 1, as shown in FIG. 17, the adhesive 5 that has entered the dummy channels 12A and 12B due to the expansion of the gas is transferred to the dummy channels 12A and 12B. From the rear surface 1 b of the head chip 1 and the wiring substrate 3. Then, by curing the adhesive 5 in this state, the adhesive fillets 51 due to the adhesive 5 remaining in the openings of the dummy channels 12A and 12B are present independently at the four corners of the openings. As a result, the periphery of the openings of the dummy channels 12A and 12B is surrounded by the adhesive fillet 51 and sealed. At the same time, the inside of the dummy channels 12A and 12B is prevented from being blocked by the adhesive 5.

この加熱膨張によってダミーチャネル12A、12Bから押し出された接着剤5が、ヘッドチップ1と配線基板3との間を広がっていくと、ヘッドチップ1からはみ出した接着剤5によって、図5に示すように接着剤フィレットFが形成される。このようにダミーチャネル12A、12B内から接着剤5を押し出すようにすると、押し出しによる流動によって多くの導電性粒子Pが接着剤フィレットFまで運ばれ易くなり、ここで凝集することによって配線電極33A、33B同士のショートを発生させるおそれはより高くなる。しかし、本発明によれば、絶縁膜34によって接着剤フィレットF中で凝集した導電性粒子Pによる配線電極33A、33B同士のショートを防止できるため、このような製造方法に適用することで特に顕著な効果を得ることができる。   As the adhesive 5 pushed out from the dummy channels 12A and 12B by the thermal expansion spreads between the head chip 1 and the wiring substrate 3, the adhesive 5 protruding from the head chip 1 causes the adhesive 5 to protrude as shown in FIG. An adhesive fillet F is formed on the surface. When the adhesive 5 is pushed out from the dummy channels 12A and 12B in this way, a large amount of the conductive particles P are easily carried to the adhesive fillet F by the flow caused by the extrusion, and the wiring electrodes 33A, The possibility of causing a short circuit between 33B is further increased. However, according to the present invention, it is possible to prevent the wiring electrodes 33A and 33B from being short-circuited by the conductive particles P aggregated in the adhesive fillet F by the insulating film 34. Effects can be obtained.

気体を膨張させる際の加熱温度や加熱時間は、接着剤硬化温度にする前にダミーチャネル12A、12B内の気体を適切に膨張させる必要があり、接着剤5の粘度を上昇させすぎず、流動状態を維持し得ると共に、ある程度の流動の後は流動しないレベルとなる程度の温度及び時間である必要がある。具体的な温度や時間は、使用される接着剤5の種類(硬化温度、粘度)、ダミーチャネル12A、12Bの容積、ヘッドチップ1の大きさや熱伝導率等に応じて適宜調整される。   The heating temperature and the heating time for expanding the gas need to appropriately expand the gas in the dummy channels 12A and 12B before reaching the adhesive curing temperature, and the viscosity of the adhesive 5 is not increased excessively. The temperature and the time must be such that the state can be maintained and the level does not flow after a certain amount of flow. Specific temperature and time are appropriately adjusted according to the type (curing temperature and viscosity) of the adhesive 5 used, the volume of the dummy channels 12A and 12B, the size and thermal conductivity of the head chip 1, and the like.

このようにしてヘッドチップ1と配線基板3とを接合した後、ヘッドチップ1の前面1aにノズルプレート2を接合すると共に、配線基板3の背面側に不図示のマニホールドを接合し、更に、配線基板3の端部3aにFPC4を接続することによってインクジェットヘッドが完成する。   After joining the head chip 1 and the wiring board 3 in this way, the nozzle plate 2 is joined to the front surface 1a of the head chip 1, and a manifold (not shown) is joined to the back side of the wiring board 3, By connecting the FPC 4 to the end 3a of the substrate 3, the ink jet head is completed.

なお、駆動電極13の表面にパリレン膜等の保護膜を被覆形成する場合は、このようにヘッドチップ1と配線基板3とを接合した後、ノズルプレート2を接合する前に施工することができる。保護膜を形成する必要がない場合は、ノズルプレート2を接合後のヘッドチップ1と配線基板3とを接合するようにしてもよい。この場合、ヘッドチップ1の前面1a側のダミーチャネル11bの開口部はノズルプレート2によって密閉されるため、シール材7は必ずしも設けなくてもよい。   When a protective film such as a parylene film is formed on the surface of the drive electrode 13, the head chip 1 and the wiring substrate 3 can be bonded before the nozzle plate 2 is bonded. . When it is not necessary to form a protective film, the head chip 1 and the wiring board 3 after the nozzle plate 2 are bonded may be bonded. In this case, since the opening of the dummy channel 11b on the front surface 1a side of the head chip 1 is sealed by the nozzle plate 2, the sealing material 7 is not necessarily provided.

1:ヘッドチップ
1a:前面
1b:後面
1c:端縁
11A、11B:駆動チャネル
12A、12B:ダミーチャネル
13:駆動壁
14:駆動電極
15A、15B:接続電極
16:凹部
2:ノズルプレート
21:ノズル
3:配線基板
3a:端部
31:接合領域
31a:縁部
32A、32B:貫通穴
33A、33B:配線電極
34:絶縁膜(第1の絶縁膜)
34a:縁部
34b:延出部
35:薄肉部
36:絶縁膜(第2の絶縁膜)
36a、36b:縁部
4:FPC
5:接着剤
51:接着剤フィレット
6a、6b:加圧板
7:シール材
F:接着剤フィレット
Fa:接着剤フィレットの形成領域
P:導電性粒子
1: Head chip 1a: Front surface 1b: Rear surface 1c: Edge 11A, 11B: Drive channel 12A, 12B: Dummy channel 13: Drive wall 14: Drive electrode 15A, 15B: Connection electrode 16: Concavity 2: Nozzle plate 21: Nozzle 3: Wiring substrate 3a: End 31: Bonding region 31a: Edge 32A, 32B: Through hole 33A, 33B: Wiring electrode 34: Insulating film (first insulating film)
34a: Edge part 34b: Extension part 35: Thin part 36: Insulating film (second insulating film)
36a, 36b: Edge 4: FPC
5: Adhesive 51: Adhesive fillet 6a, 6b: Pressure plate 7: Seal material F: Adhesive fillet Fa: Formation area of adhesive fillet P: Conductive particles

Claims (18)

複数の接続電極が表面に形成されたヘッドチップと、
前記接続電極と電気的に接続されると共に前記ヘッドチップとの接合領域の外側に延びる複数の配線電極が表面に並設された配線基板とを有し、
前記ヘッドチップの前記接続電極が形成された面に、導電性粒子を含む接着剤を介して前記配線基板が接合されることにより、前記ヘッドチップと前記配線基板との間から流出した前記接着剤による接着剤フィレットが形成されているインクジェットヘッドにおいて、
前記配線基板は、前記接合領域の外側の前記配線電極における前記接着剤フィレットを通る部位を被覆するように、第1の絶縁膜が形成されていることを特徴とするインクジェットヘッド。
A head chip having a plurality of connection electrodes formed on the surface;
A plurality of wiring electrodes that are electrically connected to the connection electrodes and extend outside the bonding region with the head chip, and a wiring board arranged in parallel on the surface;
The adhesive that has flowed out between the head chip and the wiring board by bonding the wiring board to the surface of the head chip on which the connection electrodes are formed via an adhesive containing conductive particles. In an inkjet head in which an adhesive fillet is formed by
The inkjet head is characterized in that a first insulating film is formed on the wiring board so as to cover a portion passing through the adhesive fillet in the wiring electrode outside the bonding region.
前記第1の絶縁膜は、前記接合領域の内側に延びるように形成された延出部を有することを特徴とする請求項1記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to claim 1, wherein the first insulating film has an extending portion formed so as to extend inside the bonding region. 前記延出部は、前記配線電極の1本おきに、該配線電極に沿って前記接合領域の内側に延びるように形成されていることを特徴とする請求項2記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to claim 2, wherein the extending portion is formed so as to extend along the wiring electrode to the inside of the bonding region every other wiring electrode. 前記導電性粒子の粒子径をX、前記接続電極の厚みをa、前記配線電極の厚みをb、前記第1の絶縁膜の厚みをc1としたとき、c1<a、且つ、X<a+bであることを特徴とする請求項3記載のインクジェットヘッド。   When the particle diameter of the conductive particles is X, the thickness of the connection electrode is a, the thickness of the wiring electrode is b, and the thickness of the first insulating film is c1, c1 <a and X <a + b The inkjet head according to claim 3, wherein the inkjet head is provided. 前記ヘッドチップは、前記接着剤を介して前記延出部と対向して接着される前記ヘッドチップの端部において、前記配線基板との間の間隔を部分的に大となるように当該端部が前記配線基板に対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする請求項2、3又は4記載のインクジェットヘッド。   The end portion of the head chip that is bonded to the extension portion via the adhesive so as to partially increase the distance between the head chip and the wiring board. The ink jet head according to claim 2, wherein the ink jet head is recessed in a direction opposite to the wiring board. 前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする請求項2、3又は4記載のインクジェットヘッド。   The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. 5. The ink jet head according to claim 2, wherein the ink jet head is recessed in the opposite direction. 前記ヘッドチップは、前記接着剤を介して前記延出部と対向して接着される前記ヘッドチップの端部において、前記配線基板との間の間隔を部分的に大となるように当該端部が前記配線基板に対して反対の方向に凹んでいると共に、
前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする請求項2、3又は4記載のインクジェットヘッド。
The end portion of the head chip that is bonded to the extension portion via the adhesive so as to partially increase the distance between the head chip and the wiring board. Is recessed in the opposite direction to the wiring board,
The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. 5. The ink jet head according to claim 2, wherein the ink jet head is recessed in the opposite direction.
前記導電性粒子の粒子径をX、前記接続電極の厚みをa、前記配線電極の厚みをb、前記第1の絶縁膜の厚みをc1としたとき、c1<a、且つ、X<a+b−c1であることを特徴とする請求項1又は2記載のインクジェットヘッド。   When the particle diameter of the conductive particles is X, the thickness of the connection electrode is a, the thickness of the wiring electrode is b, and the thickness of the first insulating film is c1, c1 <a and X <a + b− The inkjet head according to claim 1, wherein the inkjet head is c1. 前記第1の絶縁膜の材料は、TiO、SiO、Alのいずれかであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のインクジェットヘッド。 The inkjet head according to claim 1, wherein the material of the first insulating film is any one of TiO 2 , SiO 2 , and Al 2 O 3 . 前記第1の絶縁膜は、CVDにより形成されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to claim 1, wherein the first insulating film is formed by CVD. 前記ヘッドチップは、複数のチャネルが並設されたチャネル列を複数有し、
前記複数の接続電極は、前記複数のチャネルにそれぞれ対応して配置され、
前記配線基板は、前記複数の配線電極のうち、いずれかの前記チャネル列の前記接続電極と電気的に接続される前記配線電極の他端が、他のいずれかの前記チャネル列を跨いで前記接合領域の外側に延びていると共に、前記チャネル列を跨いでいる前記配線電極を被覆するように、前記接合領域の内側に第2の絶縁膜が形成されていることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のインクジェットヘッド。
The head chip has a plurality of channel rows in which a plurality of channels are arranged in parallel,
The plurality of connection electrodes are arranged corresponding to the plurality of channels, respectively.
The wiring board is configured such that, among the plurality of wiring electrodes, the other end of the wiring electrode that is electrically connected to the connection electrode of any one of the channel rows straddles any other channel row. The second insulating film is formed on the inner side of the bonding region so as to cover the wiring electrode extending outside the bonding region and straddling the channel row. The inkjet head in any one of -10.
前記第2の絶縁膜は、前記配線電極毎に独立して形成されていることを特徴とする請求項11記載のインクジェットヘッド。   The inkjet head according to claim 11, wherein the second insulating film is formed independently for each of the wiring electrodes. ヘッドチップとの接合領域と、該接合領域の内側から外側に延びるように並設された複数の配線電極とを有すると共に、該接合領域の外側であって該接合領域近傍の前記配線電極を被覆するように、第1の絶縁膜が形成されていることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載のインクジェットヘッドに用いられる配線基板。   A bonding area with the head chip and a plurality of wiring electrodes arranged in parallel so as to extend from the inside to the outside of the bonding area, and covering the wiring electrodes outside the bonding area and in the vicinity of the bonding area The wiring board used for the ink jet head according to claim 1, wherein a first insulating film is formed. 前記第1の絶縁膜は、前記接合領域の内側に延びるように形成された延出部を有することを特徴とする請求項13記載の配線基板。   14. The wiring board according to claim 13, wherein the first insulating film has an extending portion formed so as to extend inside the bonding region. 前記延出部は、前記配線電極の1本おきに、該配線電極に沿って前記接合領域の内側に延びるように形成されていることを特徴とする請求項14記載の配線基板。   The wiring board according to claim 14, wherein the extending portion is formed so as to extend along the wiring electrode to the inside of the bonding region every other wiring electrode. 前記配線基板は、前記延出部が形成されている部位の厚みが、前記ヘッドチップとの間の間隔を部分的に大となるように前記配線基板の当該部位が、前記ヘッドチップに対して反対の方向に凹んでいることを特徴とする請求項14又は15記載の配線基板。   The wiring board has a portion with respect to the head chip such that the thickness of the portion where the extension portion is formed partially increases a distance between the wiring chip and the head chip. The wiring board according to claim 14, wherein the wiring board is recessed in an opposite direction. 前記第1の絶縁膜の材料は、TiO、SiO、Alのいずれかであることを特徴とする請求項13〜16のいずれかに記載の配線基板。 17. The wiring board according to claim 13, wherein the material of the first insulating film is any one of TiO 2 , SiO 2 , and Al 2 O 3 . 前記第1の絶縁膜は、CVDにより形成されていることを特徴とする請求項13〜17のいずれかに記載の配線基板。   The wiring board according to claim 13, wherein the first insulating film is formed by CVD.
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