JP6165767B2 - 赤外線を放出するシステム及び方法 - Google Patents

Description

本開示は、流体中の１又は複数の分子種の相対量を検出するように構成されるシステムにおいて使用される赤外電磁放射線を生成する方法及び装置に関する。

被検体に供給される呼吸用ガスのフローの組成をモニタするように構成される既存のシステムがある。このようなシステムの幾つかは、組成の光学検出に依存する。一般に、電磁放射線のビームが、当該呼吸用ガスのフローのサンプル中を伝播され、電磁放射線が呼吸用ガスのフローを通過したあと、反対側にある光学検出器が、電磁放射線の１又は複数のパラメータを測定する。１又は複数のパラメータは、例えば、光帯域エッジ、帯域透過又は帯域吸収を含みうる。このような装置は、非分散（non-dispersive、ＮＤ）型システムとして知られている。

これらのシステムの電磁放射線源は、通常、実際に測定に使用されるよりも大きい立体角で電磁放射線を生成する。使用される立体角の外側で放出される電磁放射線は、概して失われ、すなわち従来のシステムによって実際的な目的のために使用されない。

従って、本開示の１又は複数の見地は、赤外線ソースアセンブリに関する。ある実施形態において、ソースアセンブリは、エミッタ及び反射アセンブリを含む。エミッタは、光路に沿って赤外電磁放射線を放出するように構成され、エミッタは、放射立体角で赤外電磁放射線を放出する。光路に沿って使用可能な放出された赤外電磁放射線の一部は、放射立体角より小さい有用な立体角で放出され、放射立体角は、有用な立体角を包含する。反射アセンブリは、有用な立体角外にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも一部を反射するように構成され、反射される赤外電磁放射線は、エミッタに又はその近くに集束され、それによって、エミッタの熱を増大させる。

本開示の更に他の見地は、赤外電磁放射線を放出する方法に関する。ある実施形態において、方法は、放射表面から光路に沿って赤外電磁放射線を放出するステップであって、赤外電磁放射線は放射立体角で放出され、光路に沿って使用可能な放出された赤外電磁放射線の一部は、放射立体角より小さい有用な立体角で放出され、放射立体角は有用な立体角を包含する、ステップと、有用な立体角外にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも一部を反射するステップであって、反射された赤外電磁放射線は、放射表面に又はその近くに集束され、それによって、放射表面における又はその近くにおける熱を増大する、ステップと、を含む。

本開示の別の見地は、赤外電磁放射線を放出するように構成されるシステムに関する。ある実施形態において、システムは、光路に沿って赤外電磁放射線を放出する放出手段であって、赤外電磁放射線は放射立体角において放出され、光路に沿って使用可能である放出された赤外電磁放射線の一部が、放射立体角より小さい有用な立体角で放出され、放射立体角が有用な立体角を包含する、放出手段と、有用な立体角外にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも一部を反射する手段であって、反射された赤外電磁放射線が放出手段に又はその近くに集束され、それによって放出手段の熱を増大させる、手段と、を有する。

本開示のこれら及び他の目的、特徴及び特性、並びに構造の関連した構成要素の動作方法及び機能、及び製造の一部及び経済の組み合わせは、添付の図面を参照して以下の記述及び添付の請求項を検討することにより明らかになる。図面のすべてが、この明細書の一部を形成する。図面において、参照数字は、さまざまな図の対応する部分を示す。しかしながら、図面は、図示及び記述のためにだけあり、本開示の範囲を規定することを意図しないことが明白に理解されるべきである。

被検体に供給される呼吸用ガスのフローの組成をモニタするように構成されるシステム。 気道アダプタ及びガス測定モジュールを示す図。 気道アダプタ及びガス測定モジュールを示す図。 ガス測定モジュールのソースアセンブリを示す図。 ガス測定モジュールのソースアセンブリを示す図。 ガス測定モジュールのソースアセンブリを示す図。 赤外電磁放射線を生成する方法を示す図。

ここで使用されるとき、「a」、「an」、「the」の単数形は、文脈が他の場合を明確に示さない限り、複数の言及を含む。ここで使用されるとき、２又はそれ以上の部品又はコンポーネントが「結合される」という記述は、部品が、直接的に、又は間接的に、すなわち１又は複数の中間部品又はコンポーネントを通じて、リンクが生じる限り、一緒に結合され又は作動することを意味する。ここで使用されるとき、「直接的に結合される」という記述は、２つの構成要素が直接的に互いに接触することを意味する。ここで使用されるとき、「固定的に結合される」又は「固定される」という記述は、２つのコンポーネントが互いに対し一定の方向を維持すると共に一体となって移動するように結合されることを意味する。

ここで使用されるとき、「単体（unitary）」という語は、コンポーネントが単一部品又はユニットとして生成されることを意味する。すなわち、別々に生成され、その後ユニットとして一緒に結合される部品を含むコンポーネントは、「単体」のコンポーネント又は本体ではない。ここで用いられるとき、２又はそれ以上の部品又はコンポーネントが互いに「係合する」という記述は、部品が、直接的に、又は１又は複数の中間部品又はコンポーネントを通じて、互いに対し力を及ぼすことを意味する。ここに用いられるとき、「数」という語は、１又は１より大きい整数（すなわち複数）を意味する。

非限定的な例示として、上、下、左、右、上方、下方、前、後及びそれらの派生語は、図面に示される構成要素の向きに関連し、特に記述されない限り、請求項を制限しない。

図１は、被検体１４が換気治療を受け取ることができる呼吸回路１２内のガスの組成を解析するように構成されるシステム１０を示す。一実施形態において、呼吸回路１２は、呼吸回路１２を通じて被検体１４の気道に供給するための呼吸用ガスの圧縮フローを生成するように構成される圧力生成器に一端が接続される。しかしながら、これは、制限することを意図しない。一実施形態において、システム１０は、ガス測定モジュール１６を有する。

呼吸回路１２は、回路コンジット１８及び被検体インタフェース器具２０を有する。多くの異なる治療状況において、被検体１４の気道は、呼吸回路１２と係合され、呼吸回路１２を被検体１４の気道と流体連絡するようにする。被検体１４の気道は、被検体インタフェース器具２０によって、呼吸回路１２と流体連絡するように係合され、配置される。被検体インタフェース器具２０は、密閉され又は密閉されない態様で被検体１４の気道の１又は複数のオリフィスと係合することができる。被検体インタフェース器具２０の幾つかの例は、例えば、気管内チューブ、鼻カニューレ、気管切開チューブ、鼻マスク、鼻／口マスク、フルフェースマスク、トータルフェースマスク、部分的呼吸マスク、又は被検体の気道とガスフローを連絡する他のインタフェース器具を含む。本発明は、これらの例に制限されず、いかなる被検体インタフェースの実現をも企図する。

回路コンジット１８は、被検体インタフェース器具２０の方へ及びそこから離れる方へガスを運ぶように構成される。非限定的な例により、回路コンジット１８は、可撓性コンジットを含むことができる。この開示の目的で、回路コンジット１８は、被検体インタフェース器具２０へ及び／又はから圧縮ガスフローを運ぶ管状部材に必ずしも制限されない。回路コンジット１８は、被検体インタフェース器具２０によって被検体１４の気道と流体連絡するように配置される中空の本体、コンテナ及び／又はチャンバを含むことができる。

回路コンジット１８は、ガス測定モジュール１６が取り外し可能に結合されることができるドックを含む。ドックは、ある実施形態において、回路コンジット１８に含まれる気道アダプタ２２によって形成される。例示として、図２は、気道アダプタ２２及びガス測定モジュール１６の分解組立図である。気道アダプタ２２は、第１の開口２４及び第２の開口２６を有し、それらの間にフロー経路を形成することにより、呼吸回路１２内の呼吸用ガスのフローが気道アダプタ２２を通じて運ばれるように、構成される。気道アダプタ２２は、Valoxポリエステル及び／又は他のポリマから成形されるワンピースのユニットでありうる。気道アダプタ２２は、概して、平行六面体の中心セクション３２及び２つの円筒状端部セクション２８及び３０を有し、２つの円筒状端部セクション２８及び３０は、第１の開口２４及び第２の開口２６を形成する。端部セクション２８及び３０は、中心セクション３２と軸方向に位置合わせされる。

気道アダプタ２２の中心セクション３２は、ガス測定モジュール１６のための座部を提供する。一体的なＵ字形のケーシング素子３４は、気道アダプタ２２にまっすぐ立てて及び図１の矢印３６によって示される横断方向に、ガス測定モジュール１６を明確に位置付ける。矢印３６は更に、気道アダプタ２２がそれ自体をガス測定モジュール１６に組み付けるために移動される方向を示す。ウィンドウ３８は、気道アダプタ２２の第１の側４０及び第２の側４２の、気道アダプタ２２の中心セクション３２に形成される。ウィンドウ３８は、赤外電磁放射線に関して光学的に透過性のある１又は複数の材料から形成される。ガス測定モジュール１６が気道アダプタ２２に組み付けられる場合、これらのウィンドウ３８は、ここで詳しく記述される光路に沿って位置合わせされる。光路は、気道アダプタ２２及び気道アダプタを流れるガスによって形成されるフロー経路を横断する方向に、及び第１の側４０から第２の側４２まで、延在する。

ガス測定モジュール１６は、呼吸回路１２内のガスの組成を解析するように構成される。ガス測定モジュール１６は、ガス測定モジュール１６によって形成されるサンプリングチャンバ内のガスの組成の解析を容易にする光学及び／又は電子コンポーネントを収容する及び／又は保持するハウジング４４を有する。具体的には、ガス測定モジュール１６は、ウィンドウ３８を通じて、気道アダプタ２２のサンプリングチャンバを横切るように赤外電磁放射線を指向し、赤外電磁放射線を受け取り、受け取られた電磁放射線の１又は複数のパラメータに関する情報を示す出力信号を生成する。１又は複数のパラメータは、強度、位相、フラックス、波長及び／又は他のパラメータの１又は複数を含むことができる。これらの出力信号は、サンプリングチャンバ内のガスの組成を決定するために使用されることができる。

他の例示として、図３は、動作のために接続されるガス測定モジュール１６及び気道アダプタ２２の概略部分図を示す。この図は、気道アダプタ２２内に形成されるサンプリングチャンバ４６を示す。図２及び図３の各々に見られるように、ハウジング４４は、「Ｕ」字型の断面を有し、ソースアセンブリ４８、検出器５０及び／又は他のコンポーネントを囲む。「Ｕ」字型のハウジング４４の２つの両側の脚部は、それらの間の間隙の対向する側面を規定する。間隙の一方の側の脚部には、ソースアセンブリ４８が配置され、間隙の他方の側の脚部には、検出器５０が配置される。ガス測定モジュール１６は更に、ハウジング４４内に配置される自己内蔵型エレクトロニクスを有する（図示せず）。

一対のウィンドウ５１が、ハウジング４４に形成され、図３に示される態様でガス測定モジュール１６が気道アダプタ２２とドッキングされる際に、ウィンドウ３８と位置合わせされる。ウィンドウ５１は、赤外電磁放射線に関して透過性がある１又は複数の材料から形成され、それにより、赤外電磁放射線は、サンプリングチャンバ４６とハウジング４４の内側の間を進むように、ウィンドウ３８及び５１の両方を通って光路に沿って通過することができる。

ソースアセンブリ４８は、「ＭＷＩＲ」（中波長赤外線）帯域を含む広帯域放射線を生成する放射線源である。赤外線は、概して、０．７μｍと３００μｍの間の光スペクトルの波長帯域を占める放射線をさす。「ＭＷＩＲ」は、概して、３μｍと８μｍの間の赤外線帯域の中波長サブセットをさす。ソースアセンブリ４８によって放出されるＭＷＩＲ放射線は、基準波長及び二酸化炭素波長（それぞれλ_ＲＥＦ及びλ_ＣＯ２）を含む。ソースアセンブリ４８は、スペクトルの少なくとも一部（例えば０．７μｍと３０μｍの間）について黒体として実質的に動作することができる。

検出器５０は、２台の別個の感光センサ５２及び５４を有する。検出器５０を通じたカプノメトリ／カプノグラフィの背後の基本的な動作原理は、４．２７５μｍ付近の帯域の赤外線放射は、信頼性をもって反復可能な関係に従って、（サンプルガスを通る固定長の経路を進行する際に）二酸化炭素濃度の増加と共に増大する吸収を経験する。比較によれば、同じ条件下の３．６８１μｍ赤外線の吸収は、二酸化炭素濃度に本質的に影響されない。

ソースアセンブリ４８からのＭＷＩＲ放射線が、サンプリングチャンバ４６内の呼吸用ガスのフローを通過する際、λ_ＣＯ２の赤外線は、呼吸用ガスのフローの中の二酸化炭素の濃度に応じて減衰する。しかしながら、λ_ＲＥＦの赤外線は、気体の中のいかなる二酸化炭素にも影響されず、ソースアセンブリ４８からの赤外線強度によってのみ変化する。λ_ＲＥＦの赤外線は、ビームスプリッタ５６によってセンサ５２に向けられ、λ_ＣＯ２の赤外線は、ビームスプリッタ５６によってセンサ５４に向けられる。λ_ＲＥＦ及びλ_ＣＯ２は、黒体放射曲線上でかなり近くにあるので、ＩＲ電磁放射線に対し感受性をもつセンサ５２及び５４の出力信号は、気体の中の二酸化炭素濃度が一定のままである限り、ソース放射線強度の小さい変動において、互いに略比例する。Ｎ_２により検出器５０を「ゼロ調整」することによって（又は室内空気によるゼロ調整−すなわち、環境中の残留二酸化炭素について適当な補償を実施した後）、センサ５２及びセンサ５４からの出力信号レベルの間の基準比が確立される。２つの信号の間の比がこの基準比に等しいときはいつも、サンプリングチャンバ４６内に二酸化炭素がない。センサ５２の出力信号に対するセンサ５４の出力信号の低下は、サンプリングチャンバ４６内の二酸化炭素の濃度の対応する増加を示す。

図４−図６において、ソースアセンブリ４８の１又は複数の実施形態が示されている。図４−図６にみられるように、ソースアセンブリ４８は、エミッタ６０、コリメート光学系６２、反射アセンブリ６４及び／又は他のコンポーネントの１又は複数を含むことができる。

エミッタ６０は、それに印加される電流に応答して、光路に沿って赤外電磁放射線を放出するように構成される。例えば、エミッタ６０は、その上に印刷された放射素子（図示せず）を有する基板６６を有することができる。放射素子に印加される電流に応答して、放射素子は加熱され、赤外電磁放射線を放出することができる。エミッタ６０は、放射立体角で赤外電磁放射線を放出する。放射立体角は、例えば約１８０°でありうる。放射立体角で放出される電磁放射線の分布は、ランバート分布でありうる。

コリメート光学系６２は、光路に沿ってエミッタ６０によって放出された電磁放射線の一部を受け取り、光路に沿って、電磁放射線の受け取られた一部をコリメートするように構成される。図４−図６に示される実施形態において、コリメート光学系６２は、コリメートミラー７０を有する。これは、制限することを意図せず、他の光学素子（例えば１又は複数のコリメートレンズ）が、コリメート光学系として実現されてもよい。コリメート光学系６２によって受け取られる電磁放射線の一部は、エミッタ６０の有用な立体角の範囲内で放出される電磁放射線である。エミッタの有用な立体角は放射立体角より小さく、放射立体角は、有用な立体角を包含する。有用な立体角は、コリメート光学系６２のサイズ、形状及び／又は位置によって規定されることができる。放射立体角の範囲内にあり且つ有用な立体角の外側にある電磁放射線は、概して、コリメート光学系によって受け取られない電磁放射線からなる。従来の装置構成において、放射立体角の一部の範囲内にあり且つ有用な立体角の外側にある電磁放射線は、「失われ」うる（例えば、システム１０の動作を改善するように供給されない）。

反射アセンブリ６４は、有用な立体角の外側にある電磁放射線の少なくとも一部を、エミッタ６０の方へ反射して戻すように構成される。反射アセンブリ６４は、エミッタ６０のところに又はその近くに、反射された電磁放射線を焦束するように構成されることができる。これは、基板６６上の放射素子によって形成される放射表面に、反射された電磁放射線を焦束することを含むことができる。

図４−図６に示される１又は複数の実施形態において、反射アセンブリ６４は、複数の反射体６８を含むことができる。反射体６８が、有用な立体角の外側にある電磁放射線の少なくとも一部を受け取るように、光路の周りに構成される。反射体６８は、第１のロケーションで反射体６８に入射する電磁放射線が、第２のロケーションで反射板６８に入射する電磁放射線とは異なるエミッタ６０の部分に集束されるように（例えば、放射素子の放射表面上の別のロケーション、基板上の別のロケーション、及び／又は他の別の部分）、構成されることができる。これは、反射アセンブリ６４によって焦束される電磁放射線によって、エミッタ６０に与えられる熱の均一性を高め及び／又は維持することができる。反射アセンブリ６４に関するこの構成が制限することを意図しないことが理解されるであろう。ある実施形態において、図４−図６に示される反射体６８とは異なって、反射アセンブリ６４は、有用な立体角の少なくとも一部の周りに連続する反射面を提供するように製造される１又は複数のミラー（例えば単一ミラー）を有する。

反射アセンブリ６４は、反射立体角で電磁放射線を受け取るように構成されることができる。ある実施形態において、反射立体角は、有用な立体角の端部で始まり、電磁放射線が反射アセンブリ６４によって受け取られる光路からの最大角度まで続く。相対的に大きい角度の電磁放射線は、ある分布（例えばランバート分布）において低い強度を有する傾向があるので、この最大角度は、放射立体角より小さくいものでありうる。この最大角度は、約９０°より小さく、約８０°より小さく、約７０°より小さく、約６０°より小さく、及び／又は他の値を有することができる。反射アセンブリ６４によって受け取られ、エミッタ６０へ戻るように集束される有用な立体角の外側の電磁放射線のパーセンテージは、少なくとも３０％であり、少なくとも４０％であり、少なくとも５０％であり、少なくとも６０％であり、少なくとも７０％であり、少なくとも８０％であり、及び／又は他のパーセンテージでありうる。

有用な立体角の外側にある電磁放射線の反射は、エミッタ６０の効率を高めることができる。エミッタ６０が電流パルスによって駆動される実施形態において、反射された電磁放射線は、電流パルスに実質的に同期して熱を増大させる傾向がある。これは、電流パルスによるエミッタ６０の熱の変調を容易にする。

図７は、被検体の気道と流体連絡する呼吸回路内の呼吸用ガスのフローの組成をモニタする方法８０を示す。以下に示される方法８０の処理は、説明的であることを意図する。ある実施形態において、方法８０は、記述されない１又は複数の付加の処理を伴って達成され、及び／又は記述される処理の１又は複数を行わずに達成されることができる。更に、方法８０の処理が図７に図示され以下に記述されている順序は、制限することを意図しない。

処理８２において、赤外電磁放射線が生成される。赤外電磁放射線は、放射表面から光路に沿って放出される。電磁放射線は、放射立体角により放出される。光路に沿って使用される放出電磁放射線の一部は、放射立体角より小さい有用な立体角で放出され、放射立体角は、有用な立体角を包含する。ある実施形態において、処理８２は、エミッタ６０（図４−図６に示されここに記述される）と同じ又は同様のエミッタによって実施される。

処理８４において、有用な立体角の外側にある放出された電磁放射線の少なくとも一部が、反射される。この反射は、放射表面に又はその近くに、電磁放射線を焦束し、それによって、放射表面における又はその近くにおける熱を増大する。ある実施形態において、処理８４は、反射アセンブリ６４（図４−図６に示されここに記述される）と同じ又は同様の反射アセンブリによって実施される。

処理８６において、有用な立体角で放出されて呼吸用ガスのフローを通過した電磁放射線が、受け取られる。ある実施形態において、処理８６は、検出器アセンブリ５０（図３に示されここに記述される）と同じ又は同様の検出器アセンブリによって実施される。

処理８８において、受け取られた電磁放射線の１又は複数のパラメータに関する情報を示す出力信号が生成される。ある実施形態において、処理８８は、検出器アセンブリ５０（図３に示される及びここに記述される）と同じ又は同様の検出器アセンブリによって実施される。

処理９０において、呼吸用ガスのフローの組成に関する情報が、出力信号から決定される。この情報は、呼吸用ガスのフローの中の１又は複数の分子種の相対量、濃度及び／又はレベルを含むことができる。ある実施形態において、処理９０は、出力信号を受け取る１又は複数のプロセッサによって実施される。

呼吸回路内の二酸化炭素を検出するように構成されるシステムに配置されるソースアセンブリ４８の本明細書における記述は、制限することを意図しないことが理解されるであろう。ここに記述される原理は、さまざまなコンテクストにおいて、さまざまなタイプの流体（例えば、気体、液体及び／又は他の流体）中のさまざまな分子種について、センサの性能を高めるために実現されることができる。呼吸回路内の二酸化炭素を検出するように構成されたシステムの記述は、単なる例示的な実現例にすぎない。

請求項において、括弧内に示される参照符号は、請求項を制限するものとして解釈されるべきでない。「含む、有する（comprising、including）」という語は、請求項に列挙されるもの以外の構成要素又はステップの存在を除外しない。幾つかの手段を列挙する装置の請求項において、これらの手段の幾つかは、同じ１つのハードウェアアイテムによって具体化されることができる。構成要素の前の「a」又は「an」の語は、このような構成要素の複数の存在を除外しない。幾つかの手段を列挙する装置の請求項において、これらの手段の幾つかは、同じ１つのハードウェアアイテムによって具体化されることができる。特定の構成要素が互いに異なる従属請求項に列挙されているという単なる事実は、これらの構成要素が組み合わせにおいて使用されることができないことを示さない。

上に示される記述は、最も実際的且つ好適な実施形態であると現在考えられるものに基づいて、説明の目的で詳細を与えているが、そのような詳細は単にその目的のためにあり、本開示は、特に開示された実施形態に制限されず、逆に、添付の請求項の精神及び範囲の内にある変形例及び等価な構成をカバーすることを意図することが理解されるべきである。例えば、本開示は、可能な限りにおいて、任意の実施形態の１又は複数の特徴が他の実施形態の１又は複数の特徴と組み合わせられることができることを企図するものであることが理解されることができる。

Claims (13)

1. 赤外線ソースアセンブリであって、
   光路に沿って赤外電磁放射線を放出するエミッタであって、前記エミッタは、赤外電磁放射線が放出される放射立体角を規定し、放出された赤外電磁放射線のうち前記光路に沿って使用可能な部分が、前記放射立体角より小さい有用な立体角を規定し、前記放射立体角が前記有用な立体角を包含する、エミッタと、
   前記有用な立体角の外側にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも一部を反射する反射アセンブリであって、反射される赤外電磁放射線が、前記エミッタのところに又はその近くに集束されるように構成される、反射アセンブリと、
   を有するソースアセンブリ。
2. 前記反射アセンブリは、少なくとも１つの集束ミラーを有する、請求項１に記載のソースアセンブリ。
3. 前記反射アセンブリは、前記有用な立体角の外側にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも３０％を集束させるように構成される、請求項１に記載のソースアセンブリ。
4. 前記反射アセンブリは、異なるロケーションから反射された赤外電磁放射線が前記エミッタ上の異なるロケーションに集束されるように、構成される、請求項１に記載のソースアセンブリ。
5. 前記反射アセンブリは、放出された赤外電磁放射線を反射する単一の実質的に連続する反射面を形成する、請求項１に記載のソースアセンブリ。
6. 赤外電磁放射線を放出する方法であって、
   放射表面から光路に沿って赤外電磁放射線を放出するステップであって、前記赤外電磁放射線は、前記放射表面により規定される放射立体角で放出され、放出された赤外電磁放射線のうち光路に沿って使用可能な部分が、前記放射立体角より小さい有用な立体角を規定し、前記放射立体角が前記有用な立体角を包含する、ステップと、
   前記有用な立体角の外側にある前記放射立体角で放出された赤外電磁放射線の少なくとも一部を反射するステップであって、反射される赤外電磁放射線が前記放射表面に又はその近くに集束されるようにし、それによって、前記放射表面における又はその近くにおける熱を増大させる、ステップと、
   を含む方法。
7. 前記反射するステップは、少なくとも１つの集束ミラーによって実施される、請求項６に記載の方法。
8. 前記反射するステップが、前記有用な立体角の外側にある放出された赤外電磁放射線の少なくとも３０％を、前記放射表面に又はその近くに集束するように反射することを含む、請求項６に記載の方法。
9. 異なるロケーションから反射された赤外電磁放射線は、前記エミッタ上の異なるロケーションに集束される、請求項６に記載の方法。
10. 前記反射するステップは、放出された赤外電磁放射線を反射する単一の実質的に連続する反射面によって実施される、請求項６に記載の方法。
11. 前記有用な立体角で放出される赤外電磁放射線の前記一部をコリメートするように構成されるコリメート光学系を更に有する、請求項１に記載のソースアセンブリ。
12. 前記コリメート光学系が、前記放出された赤外電磁放射線のうち前記光路に沿って使用可能な部分を規定する、請求項１１に記載のソースアセンブリ。
13. 前記反射アセンブリが、前記有用な立体角の外側にある前記電磁放射線の少なくとも一部を受け取るように、前記光路の周りに構成される複数の反射体を有する、請求項１１に記載のソースアセンブリ。

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