JP6138989B2 - 導電性フィルムロールの製造方法 - Google Patents
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Description
更に、前記第1金属層及び前記第2金属層は、単位面積当りの表面抵抗値が10Ω/□以下となるように形成されるのが好ましい。
長さ1000m、厚み100μmのポリシクロオレフィンフィルム(日本ゼオン社製 商品名「ZEONOR(登録商標)」)からなるフィルム基材のロールを図2のスパッタ装置に入れ、上記フィルム基材を第1成膜ロールに接触させながら搬送し、上記フィルム基材の上記第1成膜ロールと接触していない第1面側に、厚み20nmのインジウムスズ酸化物層からなる第1透明導電体層と、厚み50nmの第1銅層と、厚み2.5nmの酸化銅層とを、スパッタ法により順次積層し、第1積層体を形成した。
X線光電子分光(X-ray Photoelectron Spectroscopy)分析装置(PHI社製 製品名「QuanteraSXM」)を用いて、酸化銅層の厚みを測定した。
透明導電体層、銅層、及びフィルム基材の厚みは、透過型電子顕微鏡(日立製作所製 H−7650)により断面観察して測定した。
導電性フィルムロールから導電性フィルムを巻き戻して、ロール表面を観察することにより確認した。
(比較例1)
比較例1として、酸化銅層を形成しなかったこと以外は、上記実施例1と同様の方法で導電性フィルムロールを作製した。
10 チャンバ
11,22 保持部
12 ガイドロール
13,18 成膜ロール
14,15,16,19,20 ターゲット材
17a,17b,17c,17d ガイドロール
21 搬送室
23,24,25,26,27,28 処理室
30 初期ロール
31 ロール
40 導電性フィルムロール
41 導電性フィルム
42 フィルム基材
43 透明導電体層
44 金属層
45 透明導電体層
46 金属層
47 酸化金属皮膜層
Claims (4)
- 長尺状のフィルム基材を搬送し、前記フィルム基材の第1面側に、第1透明導電体層と、第1金属層と、前記第1金属層を構成する金属の酸化物からなる第1酸化金属皮膜層とを、スパッタ法により順次積層して第1積層体を形成する第1工程と、
前記第1積層体が形成されたフィルム基材を搬送し、前記フィルム基材の前記第1積層体が形成されていない第2面側に、第2透明導電体層と、第2金属層と、第2酸化金属被膜層とを、スパッタ法により順次積層して第2積層体を形成する第2工程と、
前記第2積層体をロール状に巻回する第3工程と、
を含み、
前記第1金属層及び前記第2金属層は、銅で形成され、
前記第1酸化金属皮膜層及び前記第2酸化金属皮膜層は、酸化銅で形成される、
ことを特徴とする導電性フィルムロールの製造方法。 - 前記第1工程において、厚み1nm〜15nmの第1酸化金属皮膜層が形成されることを特徴とする、請求項1記載の導電性フィルムロールの製造方法。
- 前記第1透明導電体層及び第2透明導電体層は、可視光領域で透過率が80%以上であり、且つ単位面積当りの表面抵抗値が500Ω/□以下となるように形成されることを特徴とする、請求項1記載の導電性フィルムロールの製造方法。
- 前記第1金属層及び前記第2金属層は、単位面積当りの表面抵抗値が10Ω/□以下となるように形成されることを特徴とする、請求項1記載の導電性フィルムロールの製造方法。
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