JP6132454B2

JP6132454B2 - Container filling system

Info

Publication number: JP6132454B2
Application number: JP2010235946A
Authority: JP
Inventors: 茂広杉山; 篤志津尾; 後藤　征司; 征司後藤
Original assignee: Mitsubishi Heavy Industries Food and Packaging Machinery Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems Co Ltd
Priority date: 2010-10-20
Filing date: 2010-10-20
Publication date: 2017-05-24
Anticipated expiration: 2030-10-20
Also published as: JP2012086879A

Description

この発明は、容器充填システムおよび電子線殺菌ユニットに関し、さらに詳しくは、フィラ部へのオゾンの流入を抑制できると共にフィラ部の空気清浄度を確保できる容器充填システムおよび電子線殺菌ユニットに関する。 The present invention relates to a container filling system and an electron beam sterilization unit, and more particularly to a container filling system and an electron beam sterilization unit that can suppress the inflow of ozone into the filler part and can ensure the air cleanliness of the filler part.

従来の容器充填システムとして、例えば、清涼飲料であるお茶やミネラルウォータを無菌環境下でペットボトルに充填する無菌充填機が知られている。かかる容器充填システムは、容器に電子線を照射して容器を殺菌処理する電子線殺菌部と、この電子線殺菌部を通過した容器に内容物を充填するフィラ部とを備えている。 As a conventional container filling system, for example, an aseptic filling machine for filling a plastic bottle with tea or mineral water as a soft drink in an aseptic environment is known. Such a container filling system includes an electron beam sterilization unit that irradiates the container with an electron beam and sterilizes the container, and a filler unit that fills the container that has passed through the electron beam sterilization unit.

ここで、容器充填システムでは、電子線殺菌部での電子線の照射によりＸ線が発生して、空気中の酸素がオゾンに変換される。このオゾンは、内容物を酸化劣化させる要因となるため、フィラ部への流入を抑制する必要がある。 Here, in the container filling system, X-rays are generated by electron beam irradiation in the electron beam sterilization unit, and oxygen in the air is converted into ozone. Since this ozone causes the contents to oxidize and deteriorate, it is necessary to suppress the inflow to the filler portion.

また、内容物のコンタミネーションを防止するために、チャンバ外からの異物や菌の進入を防止する必要がある。特に、フィラ部では、内容物を容器に充填する工程が行われるため、最も高い空気清浄度（空気中の微粒子が最も少ない状態）が要求される。 Moreover, in order to prevent the contamination of the contents, it is necessary to prevent the entry of foreign substances and bacteria from outside the chamber. In particular, in the filler part, since the process of filling the contents into the container is performed, the highest air cleanliness (state with the smallest amount of fine particles in the air) is required.

このような課題に関する従来の容器充填システムとして、特許文献１に記載される技術が知られている。 As a conventional container filling system related to such a problem, a technique described in Patent Document 1 is known.

特開２００８−１６２６５２号公報JP 2008-162652 A

この発明は、フィラ部へのオゾンの流入を抑制できると共にフィラ部の空気清浄度を確保できる容器充填システムおよび電子線殺菌ユニットを提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a container filling system and an electron beam sterilization unit that can suppress the inflow of ozone into the filler part and can ensure the air cleanliness of the filler part.

上記目的を達成するため、この発明にかかる容器充填システムは、容器に電子線を照射して容器を殺菌処理する電子線殺菌部と、前記電子線殺菌部を通過した容器に内容物を充填するフィラ部とを備える容器充填システムであって、前記電子線殺菌部に対して容器搬送方向下流側かつ前記フィラ部に対して容器搬送方向上流側に配置されると共に、前記電子線殺菌部の室圧および前記フィラ部の室圧よりも低い室圧を有する下流側チャンバと、前記電子線殺菌部に対して容器搬送方向上流側に配置されると共に前記下流側チャンバの室圧よりも低い室圧を有する上流側チャンバと、前記上流側チャンバの上流側に配置されると共に前記上流側チャンバの室圧よりも低い室圧を有するエアリンス部と、前記上流側チャンバ内の空気を排出する排気装置と、前記下流側チャンバ内の空気を排出する排気装置と、前記電子線殺菌部の空気を除湿する除湿装置とを備え、且つ、前記上流側チャンバおよび前記下流側チャンバが外気圧よりも高い室圧を有し、且つ、前記電子線殺菌部にて、１つの容器に対して倒立状態と正立状態との双方で電子線による殺菌処理が行われる。 In order to achieve the above object, a container filling system according to the present invention fills a container with an electron beam sterilization unit that irradiates the container with an electron beam and sterilizes the container, and the container that has passed through the electron beam sterilization unit. A container filling system comprising a filler unit, which is disposed downstream of the electron beam sterilization unit in the container conveyance direction and upstream of the filler unit in the container conveyance direction, and is a chamber of the electron beam sterilization unit A downstream chamber having a lower pressure than the pressure and the chamber pressure of the filler portion, and a chamber pressure that is disposed upstream of the electron beam sterilization portion in the container transport direction and lower than the chamber pressure of the downstream chamber an upstream chamber having to discharge the Earinsu portion having a lower chamber pressure than room pressure of the upstream chamber while being disposed upstream of the upstream chamber, the air in the upstream chamber discharge Comprising a device and an exhaust device for exhausting the air in the downstream chamber, and a dehumidifier for dehumidifying the air in the electron beam sterilizing unit, and the upstream chamber and the downstream chamber is higher than the outside air pressure It has a room pressure, and the electron beam sterilization unit performs sterilization with an electron beam in both an inverted state and an upright state with respect to one container .

この容器充填システムでは、電子線殺菌部の室圧が下流側チャンバの室圧よりも高いので、電子線殺菌部での電子線照射により発生したオゾンの一部が電子線殺菌部から下流側チャンバに流入する。一方、フィラ部の室圧が下流側チャンバの室圧よりも高いので、下流側チャンバからフィラ部へのオゾンの流入が抑制され、また、フィラ部の空気に含まれる異物がフィラ部から下流側チャンバに集められる。これにより、フィラ部へのオゾンの流入を抑制できると共にフィラ部の空気清浄度を確保できる利点がある。 In this container filling system, since the chamber pressure of the electron beam sterilization unit is higher than the chamber pressure of the downstream chamber, a part of ozone generated by electron beam irradiation in the electron beam sterilization unit is transferred from the electron beam sterilization unit to the downstream chamber. Flow into. On the other hand, since the chamber pressure in the filler section is higher than the chamber pressure in the downstream chamber, the inflow of ozone from the downstream chamber to the filler section is suppressed, and foreign matter contained in the air in the filler section is downstream from the filler section. Collected in the chamber. Thereby, there exists an advantage which can ensure the air cleanliness of a filler part while being able to suppress the inflow of ozone to a filler part .

この発明にかかる容器充填システムおよび電子線殺菌ユニットによれば、フィラ部へのオゾンの流入を抑制できると共にフィラ部の空気清浄度を確保できる利点がある。 According to the container filling system and the electron beam sterilization unit according to the present invention, there is an advantage that the inflow of ozone to the filler part can be suppressed and the air cleanliness of the filler part can be ensured.

図１は、この発明の実施の形態にかかる容器充填システムを示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a container filling system according to an embodiment of the present invention. 図２は、図１に記載した容器充填システムの電子線殺菌ユニットを示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing an electron beam sterilization unit of the container filling system shown in FIG. 図３は、図１に記載した容器充填システムの変形例を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing a modification of the container filling system shown in FIG.

以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、この実施の形態の構成要素には、発明の同一性を維持しつつ置換可能かつ置換自明なものが含まれる。また、この実施の形態に記載された複数の変形例は、当業者自明の範囲内にて任意に組み合わせが可能である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments. Further, the constituent elements of this embodiment include those that can be replaced while maintaining the identity of the invention and that are obvious for replacement. In addition, a plurality of modifications described in this embodiment can be arbitrarily combined within a range obvious to those skilled in the art.

［容器充填システム］
図１は、この発明の実施の形態にかかる容器充填システムを示す説明図である。同図は、容器充填システム１の構成と各チャンバにおける室圧分布との関係を示している。また、図２は、図１に記載した容器充填システムの電子線殺菌ユニットを示す説明図である。同図は、電子線殺菌ユニットの内部構造を示している。 [Container filling system]
FIG. 1 is an explanatory view showing a container filling system according to an embodiment of the present invention. The figure shows the relationship between the configuration of the container filling system 1 and the chamber pressure distribution in each chamber. Moreover, FIG. 2 is explanatory drawing which shows the electron beam disinfection unit of the container filling system described in FIG. The figure shows the internal structure of the electron beam sterilization unit.

この容器充填システム１は、容器に内容物を充填する充填システムであり、特に、食品包装機などの食品機械に適用される。この実施の形態では、容器がペットボトルであり、内容物が飲料である場合を一例として説明する。 The container filling system 1 is a filling system for filling a container with contents, and is particularly applied to a food machine such as a food packaging machine. In this embodiment, the case where the container is a plastic bottle and the content is a beverage will be described as an example.

容器充填システム１は、導入ライン２１および搬出ライン２２と、供給部３１と、エアリンス部３２と、電子線殺菌部３４と、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５と、ガス置換部３６と、フィラ部３７と、キャッパ部３８および搬出部３９と、複数の送風装置４１〜４３および複数の排気装置４４〜４７とを備える（図１参照）。この容器充填システム１では、容器の搬送ラインのうち供給部３１から搬出部３９までが雰囲気中の微粒子を所定の基準量以下に制御したクリーンルームとなる。 The container filling system 1 includes an introduction line 21 and a carry-out line 22, a supply unit 31, an air rinse unit 32, an electron beam sterilization unit 34, an upstream chamber 33 and a downstream chamber 35, a gas replacement unit 36, and a filler. The part 37, the capper part 38, the carrying-out part 39, the several air blowers 41-43, and the some exhaust apparatus 44-47 are provided (refer FIG. 1). In this container filling system 1, the supply line 31 to the carry-out part 39 in the container transfer line is a clean room in which fine particles in the atmosphere are controlled to a predetermined reference amount or less.

なお、この実施の形態では、容器の搬送方向を基準として「上流側」および「下流側」を定義する。また、電子線殺菌部３４、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５を含むユニットを、電子線殺菌ユニットＵと呼ぶ。 In this embodiment, “upstream side” and “downstream side” are defined with reference to the conveyance direction of the container. A unit including the electron beam sterilization unit 34, the upstream chamber 33, and the downstream chamber 35 is referred to as an electron beam sterilization unit U.

導入ライン２１は、容器を搬入するラインであり、容器を成型する成型装置（図示省略）から容器を受け取って下流側に搬送する。搬出ライン２２は、容器を搬出するラインであり、搬出部３９から製品を受け取って所定の場所まで搬送する。 The introduction line 21 is a line for carrying a container, and receives the container from a molding apparatus (not shown) for molding the container and conveys the container downstream. The unloading line 22 is a line for unloading containers, receives products from the unloading unit 39, and transports them to a predetermined place.

供給部３１は、スターホイールなどの搬送装置がチャンバ内に配置されて構成され（図示省略）、導入ライン２１の下流側に配置される。この供給部３１では、搬送装置が導入ライン２１から容器を受け取って下流側に供給する。 The supply unit 31 is configured such that a transfer device such as a star wheel is disposed in the chamber (not shown), and is disposed on the downstream side of the introduction line 21. In this supply part 31, a conveyance apparatus receives a container from the introduction line 21, and supplies it downstream.

エアリンス部３２は、ブロア装置および搬送装置がチャンバ内に配置されて構成され（図示省略）、供給部３１の下流側に配置される。このエアリンス部３２では、搬送装置が容器を下流側に搬送し、その途中で、ブロア装置が容器にエアを吹き込んで容器内の異物を除去する。なお、この実施の形態では、搬送装置が容器を倒立させて搬送し、この倒立状態にて、ブロア装置が容器にエアを吹き込んでいる（図示省略）。 The air rinsing unit 32 is configured by arranging a blower device and a transfer device in a chamber (not shown), and is arranged on the downstream side of the supply unit 31. In the air rinse section 32, the transport device transports the container to the downstream side, and the blower device blows air into the container and removes foreign matter in the container. In this embodiment, the conveying device inverts and conveys the container, and the blower device blows air into the container in this inverted state (not shown).

電子線殺菌部３４は、一対の電子線照射装置３４１、３４２と、一対の搬送装置３４３、３４４とがチャンバ３４５内に配置されて構成される（図１および図２参照）。この電子線殺菌部３４では、一対の搬送装置３４３、３４４が容器を下流側に搬送し、その途中で、一対の電子線照射装置３４１、３４２が容器に電子線を照射して容器を殺菌処理する。なお、この実施の形態では、容器の倒立状態と正立状態との双方にて、電子線による殺菌処理が行われている。具体的には、第一の搬送装置３４３が容器を倒立させた状態で搬送し、この倒立状態にて、第一の電子線照射装置３４１が容器に１度目の電子線を照射している。また、容器が第一の搬送装置３４３から第二の搬送装置３４４に受け渡されるときに倒立状態から正立状態に戻される（トランスファ機能）。そして、第二の搬送装置３４４が容器を正立させた状態で搬送し、この正立状態にて、第二の電子線照射装置３４２が容器に２度目の電子線を照射している。なお、電子線殺菌部３４のチャンバ３４５は、電子線の照射により発生するＸ線が外部に漏れるのを防止するために、遮蔽用の物質によって覆われている。なお，必ずしも電子線殺菌部３４で容器を正立状態とする必要はない。 The electron beam sterilization unit 34 is configured by arranging a pair of electron beam irradiation devices 341 and 342 and a pair of transfer devices 343 and 344 in a chamber 345 (see FIGS. 1 and 2). In the electron beam sterilization unit 34, the pair of transport devices 343 and 344 transport the container downstream, and the pair of electron beam irradiation devices 341 and 342 sterilize the container by irradiating the container with the electron beam. To do. In this embodiment, sterilization with an electron beam is performed in both the inverted state and the upright state of the container. Specifically, the first transport device 343 transports the container in an inverted state, and the first electron beam irradiation device 341 irradiates the container with the first electron beam in this inverted state. Further, when the container is transferred from the first transfer device 343 to the second transfer device 344, the inverted state is returned to the upright state (transfer function). Then, the second transport device 344 transports the container upright, and in this upright state, the second electron beam irradiation device 342 irradiates the container with the electron beam for the second time. The chamber 345 of the electron beam sterilization unit 34 is covered with a shielding substance in order to prevent X-rays generated by electron beam irradiation from leaking to the outside. Note that the electron beam sterilization unit 34 does not necessarily need to bring the container upright.

上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５は、電子線殺菌部３４での電子線の照射により発生するＸ線を遮蔽し、また、電子線の照射により発生するオゾンを除去するためのチャンバである。上流側チャンバ３３は、搬送装置３３１がチャンバ３３２内に配置されて構成され、電子線殺菌部３４の上流側に配置される（図１および図２参照）。下流側チャンバ３５は、搬送装置３５１がチャンバ３５２内に配置されて構成され、電子線殺菌部３４の下流側に配置される。例えば、この実施の形態では、上流側チャンバ３３がエアリンス部３２と電子線殺菌部３４との間に配置されて電子線殺菌部３４に隣接している。また、下流側チャンバ３５が電子線殺菌部３４とガス置換部３６との間に配置されて電子線殺菌部３４に隣接している。 The upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 are chambers for shielding X-rays generated by electron beam irradiation in the electron beam sterilization unit 34 and removing ozone generated by electron beam irradiation. The upstream chamber 33 is configured by the transfer device 331 being disposed in the chamber 332, and is disposed upstream of the electron beam sterilization unit 34 (see FIGS. 1 and 2). The downstream chamber 35 is configured by arranging the transfer device 351 in the chamber 352 and is arranged on the downstream side of the electron beam sterilization unit 34. For example, in this embodiment, the upstream chamber 33 is disposed between the air rinse part 32 and the electron beam sterilization part 34 and is adjacent to the electron beam sterilization part 34. A downstream chamber 35 is disposed between the electron beam sterilization unit 34 and the gas replacement unit 36 and is adjacent to the electron beam sterilization unit 34.

ガス置換部３６は、ブロア装置および搬送装置がチャンバ内に配置されて構成され（図示省略）、電子線殺菌ユニットＵ（下流側チャンバ３５）の下流側に配置される。このガス置換部３６では、搬送装置が容器を下流側に搬送し、その途中で、ブロア装置が容器に空気を吹き込んで電子線殺菌処理により発生したオゾンを容器から追い出す。なお、ガス置換部３６は、容器を水で洗浄する洗浄装置を有しても良い（図示省略）。 The gas replacement unit 36 includes a blower device and a transfer device arranged in a chamber (not shown), and is arranged downstream of the electron beam sterilization unit U (downstream chamber 35). In the gas replacement unit 36, the transport device transports the container to the downstream side, and the blower device blows air into the container and expels ozone generated by the electron beam sterilization process from the container. The gas replacement unit 36 may include a cleaning device that cleans the container with water (not shown).

フィラ部３７は、充填装置および搬送装置がチャンバ内に配置されて構成され（図示省略）、ガス置換部３６の下流側に配置される。このフィラ部３７では、搬送装置が容器を下流側に搬送し、その途中で、充填装置が容器に内容物を充填する。 The filler unit 37 is configured by arranging a filling device and a transfer device in a chamber (not shown), and is arranged downstream of the gas replacement unit 36. In the filler unit 37, the transport device transports the container to the downstream side, and the filling device fills the container with the contents in the middle.

なお、この実施の形態では、容器が正立状態でフィラ部３７に搬送されるため、フィラ部３７に搬入される容器を正立状態にするためのトランスファ装置が省略されている（図１参照）。しかし、これに限らず、容器が倒立状態でフィラ部３７に搬送される構成では、フィラ部３７の上流側あるいはフィラ部３７の内部に、容器を正立状態にするためのトランスファ装置が配置されても良い（図示省略）。 In this embodiment, since the container is conveyed to the filler unit 37 in an upright state, a transfer device for bringing the container carried into the filler unit 37 into an upright state is omitted (see FIG. 1). ). However, the present invention is not limited to this, and in a configuration in which the container is conveyed to the filler unit 37 in an inverted state, a transfer device for placing the container in an upright state is disposed on the upstream side of the filler unit 37 or inside the filler unit 37. (Not shown).

キャッパ部３８は、キャッパ装置および搬送装置（図示省略）がチャンバ内に配置されて構成され、フィラ部３７の下流側に配置される。このキャッパ部３８では、搬送装置が容器を下流側に搬送し、その途中で、キャッパ装置が容器にキャップを装着する。 The capper unit 38 is configured by arranging a capper device and a transfer device (not shown) in the chamber, and is disposed on the downstream side of the filler unit 37. In the capper unit 38, the transport device transports the container to the downstream side, and the capper device attaches a cap to the container in the middle.

搬出部３９は、搬送装置がチャンバ内に配置されて構成され（図示省略）、キャッパ部３８の下流側に配置される。この搬出部３９では、搬送装置がキャッパ部３８から容器を受け取って下流側の搬出ライン２２に搬送する。 The carry-out unit 39 is configured by arranging a transfer device in the chamber (not shown), and is arranged on the downstream side of the capper unit 38. In the carry-out unit 39, the conveyance device receives the container from the capper unit 38 and conveys it to the carry-out line 22 on the downstream side.

送風装置４１〜４３は、空気を送り込む装置であり、電子線殺菌部３４、フィラ部３７およびキャッパ部３８にそれぞれ設置されて、これらのチャンバ内に空気を送り込む。例えば、この実施の形態では、送風装置４１〜４３が送風機および除塵フィルタを有するファンフィルタユニットであり、無菌エアを電子線殺菌部３４、フィラ部３７およびキャッパ部３８にそれぞれ送り込んでいる。排気装置４４〜４７は、空気を排出する装置であり、供給部３１、上流側チャンバ３３、下流側チャンバ３５および搬出部３９にそれぞれ配置されて、これらのチャンバ内の空気を排出する。 The blowers 41 to 43 are devices that send in air and are installed in the electron beam sterilization unit 34, the filler unit 37, and the capper unit 38, respectively, and send air into these chambers. For example, in this embodiment, the blowers 41 to 43 are fan filter units having a blower and a dust filter, and aseptic air is sent to the electron beam sterilization unit 34, the filler unit 37, and the capper unit 38, respectively. The exhaust devices 44 to 47 are devices that exhaust air, and are disposed in the supply unit 31, the upstream chamber 33, the downstream chamber 35, and the carry-out unit 39, respectively, and exhaust the air in these chambers.

この容器充填システム１では、まず、容器が導入ライン２１から供給部３１を介してエアリンス部３２に搬送される。このエアリンス部３２では、容器が倒立状態となり、容器にエアが吹き込まれて容器内の異物が除去される（図１参照）。次に、容器がエアリンス部３２から上流側チャンバ３３を通って電子線殺菌部３４に搬送される。この電子線殺菌部３４では、容器に電子線が照射されて容器の殺菌処理が行われる（図２参照）。次に、容器が電子線殺菌部３４から下流側チャンバ３５を通ってガス置換部３６に搬送される。ガス置換部３６では、容器に空気が吹き込まれて、電子線殺菌処理により発生したオゾンが容器から除去される。次に、容器がガス置換部３６からフィラ部３７に搬送される。フィラ部３７では、容器に内容物が充填される。次に、容器がフィラ部３７からキャッパ部３８に搬送される。キャッパ部３８では、容器にキャップが装着される。その後に、容器がキャッパ部３８から搬出部３９を介して搬出ライン２２に搬送される。 In the container filling system 1, first, the container is conveyed from the introduction line 21 to the air rinse unit 32 via the supply unit 31. In the air rinse section 32, the container is turned upside down, and air is blown into the container to remove foreign substances in the container (see FIG. 1). Next, the container is transported from the air rinse section 32 to the electron beam sterilization section 34 through the upstream chamber 33. In this electron beam sterilization part 34, an electron beam is irradiated to a container and the container is sterilized (refer FIG. 2). Next, the container is conveyed from the electron beam sterilization unit 34 to the gas replacement unit 36 through the downstream chamber 35. In the gas replacement unit 36, air is blown into the container, and ozone generated by the electron beam sterilization treatment is removed from the container. Next, the container is transported from the gas replacement unit 36 to the filler unit 37. In the filler unit 37, the container is filled with contents. Next, the container is conveyed from the filler unit 37 to the capper unit 38. In the cap part 38, a cap is attached to the container. Thereafter, the container is transported from the capper section 38 to the unloading line 22 via the unloading section 39.

［各チャンバの室圧分布］
ここで、容器充填システム１では、電子線殺菌部３４での電子線の照射によりＸ線が発生して、空気中の酸素がオゾンに変換される。このオゾンは、内容物を酸化劣化させる要因となるため、フィラ部３７への流入を抑制する必要がある。 [Room pressure distribution in each chamber]
Here, in the container filling system 1, X-rays are generated by irradiation of the electron beam in the electron beam sterilization unit 34, and oxygen in the air is converted into ozone. Since this ozone causes the contents to oxidize and deteriorate, it is necessary to suppress the inflow into the filler part 37.

また、内容物のコンタミネーションを防止するために、チャンバ外からの異物や菌の進入を防止する必要がある。特に、フィラ部３７では、内容物を容器に充填する工程が行われるため、最も高い空気清浄度（空気中の微粒子が最も少ない状態）が要求される。 Moreover, in order to prevent the contamination of the contents, it is necessary to prevent the entry of foreign substances and bacteria from outside the chamber. In particular, in the filler unit 37, the process of filling the container with the contents is performed, so that the highest air cleanliness (state with the least amount of fine particles in the air) is required.

そこで、この容器充填システム１（電子線殺菌ユニットＵ）では、フィラ部３７へのオゾンの流入を抑制すると共にフィラ部３７の空気清浄度を確保するために、以下の構成が採用されている（図１および図２参照）。 Therefore, in this container filling system 1 (electron beam sterilization unit U), the following configuration is adopted in order to suppress the inflow of ozone into the filler unit 37 and ensure the air cleanliness of the filler unit 37 ( FIG. 1 and FIG. 2).

まず、容器の搬送方向の上流側から順に、供給部３１の室圧Ｐ１、エアリンス部３２の室圧Ｐ２、上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４、下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５、ガス置換部３６の室圧Ｐ６、フィラ部３７の室圧Ｐ７、キャッパ部３８の室圧Ｐ８、搬出部３９の室圧Ｐ９を定義する。これらの室圧Ｐ１〜Ｐ９は、各チャンバ内の気圧である。また、外気圧（チャンバ外の気圧）をＰ０とする。 First, in order from the upstream side in the container conveying direction, the chamber pressure P1 of the supply unit 31, the chamber pressure P2 of the air rinse unit 32, the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33, the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34, and the downstream chamber The chamber pressure P5 of the gas replacement unit 36, the chamber pressure P7 of the filler unit 37, the chamber pressure P8 of the capper unit 38, and the chamber pressure P9 of the unloading unit 39 are defined. These chamber pressures P1 to P9 are atmospheric pressures in the respective chambers. Further, the external atmospheric pressure (the atmospheric pressure outside the chamber) is P0.

このとき、各室圧Ｐ１〜Ｐ９は、Ｐ１＜Ｐ０＜Ｐ２＜Ｐ３＜Ｐ４＞Ｐ５＜Ｐ６＜Ｐ７＞Ｐ８＞Ｐ０＞Ｐ９の関係に設定される（図１参照）。例えば、この実施の形態では、送風装置４１〜４３が電子線殺菌部３４、フィラ部３７およびキャッパ部３８の各チャンバに空気を供給し、排気装置４４〜４７が供給部３１、上流側チャンバ３３、下流側チャンバ３５および搬出部３９のチャンバから空気を排出させている。また、各チャンバには、室圧を計測する圧力計（図示省略）が設置され、これらの圧力計の出力信号に基づいて送風装置４１〜４３および排気装置４４〜４７の駆動制御（送風ファン／排気ファンの出力制御あるいはエアバルブの開度制御）が行われている。これにより、各チャンバの室圧Ｐ１〜Ｐ９が上記の関係に制御されている。 At this time, the chamber pressures P1 to P9 are set to have a relationship of P1 <P0 <P2 <P3 <P4> P5 <P6 <P7> P8> P0> P9 (see FIG. 1). For example, in this embodiment, the blowers 41 to 43 supply air to the respective chambers of the electron beam sterilization unit 34, the filler unit 37, and the capper unit 38, and the exhaust devices 44 to 47 supply the supply unit 31 and the upstream chamber 33. The air is discharged from the chambers of the downstream chamber 35 and the carry-out part 39. In addition, each chamber is provided with a pressure gauge (not shown) for measuring the chamber pressure, and based on output signals from these pressure gauges, drive control of the blowers 41 to 43 and the exhaust devices 44 to 47 (blowing fan / Exhaust fan output control or air valve opening control) is performed. Thereby, the chamber pressures P1 to P9 of each chamber are controlled to the above relationship.

上記の構成では、フィラ部３７の室圧Ｐ７が最も高い。これにより、フィラ部３７の空気清浄度が適性に維持される。 In the above configuration, the chamber pressure P7 of the filler portion 37 is the highest. Thereby, the air cleanliness of the filler part 37 is maintained appropriately.

また、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４が下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５よりも高い（Ｐ４＞Ｐ５）。このため、電子線照射により発生したオゾンが電子線殺菌部３４から下流側チャンバ３５に流入し易い。一方、フィラ部３７の室圧Ｐ７が下流側チャンバ３５よりも高い（Ｐ７＞Ｐ５）。このため、下流側チャンバ３５からフィラ部３７へのオゾンの流入が抑制され、また、フィラ部３７の空気に含まれる異物がフィラ部３７から下流側チャンバ３５に集まり易い。したがって、下流側チャンバ３５には、電子線殺菌部３４からのオゾンやフィラ部３７からの異物が集められる。そして、下流側チャンバ３５内のオゾンや異物が排気装置４６により室外に排出されて回収される。 Moreover, the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization part 34 is higher than the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 (P4> P5). For this reason, ozone generated by electron beam irradiation easily flows into the downstream chamber 35 from the electron beam sterilization unit 34. On the other hand, the chamber pressure P7 of the filler unit 37 is higher than that of the downstream chamber 35 (P7> P5). For this reason, the inflow of ozone from the downstream chamber 35 to the filler unit 37 is suppressed, and foreign substances contained in the air of the filler unit 37 are likely to gather from the filler unit 37 into the downstream chamber 35. Therefore, the downstream chamber 35 collects ozone from the electron beam sterilization unit 34 and foreign matter from the filler unit 37. Then, ozone and foreign matter in the downstream chamber 35 are discharged outside by the exhaust device 46 and collected.

例えば、この実施の形態では、除塵フィルタを有する送風装置４１、４２が電子線殺菌部３４およびフィラ部３７にそれぞれ設置されて各チャンバ内に無菌エアを送り込んでいる（図１および図２参照）。また、排気装置４６が下流側チャンバ３５に配置されてチャンバ３５２内から空気を排出している。そして、送風装置４１、４２および排気装置４６が駆動制御されることにより、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４とフィラ部３７の室圧Ｐ７と下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５とがＰ４＞Ｐ５＜Ｐ７の関係に制御されている。 For example, in this embodiment, air blowers 41 and 42 having a dust filter are installed in the electron beam sterilization unit 34 and the filler unit 37, respectively, and aseptic air is sent into each chamber (see FIGS. 1 and 2). . An exhaust device 46 is disposed in the downstream chamber 35 to exhaust air from the chamber 352. Then, by driving and controlling the blowers 41 and 42 and the exhaust device 46, the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34, the chamber pressure P7 of the filler unit 37, and the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 are P4> P5. <P7 is controlled.

なお、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４と下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５とは、２［Ｐａ］≦（Ｐ４−Ｐ５）≦１００［Ｐａ］の関係を有することが好ましい。これにより、電子線殺菌部３４にて発生したオゾンが下流側チャンバ３５に適正に回収される。また、下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５とフィラ部３７の室圧Ｐ７とは、２［Ｐａ］≦（Ｐ７−Ｐ５）≦１００［Ｐａ］の関係を有することが好ましい。これにより、下流側チャンバ３５からフィラ部３７へのオゾンの流出が抑制される。 The chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34 and the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 preferably have a relationship of 2 [Pa] ≦ (P4−P5) ≦ 100 [Pa]. Thereby, the ozone generated in the electron beam sterilization unit 34 is properly collected in the downstream chamber 35. Moreover, it is preferable that the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 and the chamber pressure P7 of the filler part 37 have a relationship of 2 [Pa] ≦ (P7−P5) ≦ 100 [Pa]. Thereby, the outflow of ozone from the downstream chamber 35 to the filler unit 37 is suppressed.

また、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４が上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３よりも高い（Ｐ４＞Ｐ３）。このため、電子線照射により発生したオゾンの一部が電子線殺菌部３４から上流側チャンバ３３に流入して集められる。そして、上流側チャンバ３３内のオゾンが排気装置４５により室外に排出されて回収される。 Further, the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34 is higher than the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33 (P4> P3). For this reason, a part of the ozone generated by the electron beam irradiation flows into the upstream chamber 33 from the electron beam sterilization unit 34 and is collected. Then, the ozone in the upstream chamber 33 is discharged outside by the exhaust device 45 and collected.

また、上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３が下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５よりも低い（Ｐ３＜Ｐ５）。ここで、上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３と下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５との差ΔＰは、１［Ｐａ］≦ΔＰ≦１００［Ｐａ］の範囲にあることが好ましい。これにより、電子線殺菌部３４にて発生したオゾンが、下流側チャンバ３５よりも上流側チャンバ３３に流入し易くなる。 Further, the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33 is lower than the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 (P3 <P5). Here, the difference ΔP between the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33 and the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 is preferably in the range of 1 [Pa] ≦ ΔP ≦ 100 [Pa]. Thereby, the ozone generated in the electron beam sterilization unit 34 is more likely to flow into the upstream chamber 33 than the downstream chamber 35.

また、上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３および下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５が外気圧Ｐ０よりも高い（Ｐ０＜Ｐ３＜Ｐ５）。ここで、上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３と外気圧Ｐ０との差（Ｐ３−Ｐ５）は、１［Ｐａ］≦（Ｐ３−Ｐ５）≦１００［Ｐａ］の範囲にあることが好ましい。これにより、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５から室外へのオゾンの流出が抑制される。 Further, the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33 and the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 are higher than the external pressure P0 (P0 <P3 <P5). Here, the difference (P3-P5) between the room pressure P3 and the external pressure P0 of the upstream chamber 33 is preferably in the range of 1 [Pa] ≦ (P3-P5) ≦ 100 [Pa]. Thereby, outflow of ozone from the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 to the outside is suppressed.

例えば、この実施の形態では、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５が電子線殺菌部３４を挟み込むように隣接して配置されている。これにより、電子線殺菌部３４からのオゾンが上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５にて効率的に回収されている。また、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５の配置によって、電子線殺菌部３４の出入口（チャンバ３４５の容器搬送用出入口）からのＸ線の漏洩が抑制されている。また、上流側チャンバ３３の入口（容器搬送方向上流側の開口部）および下流側チャンバ３５の出口（容器搬送方向下流側の開口部）が、他のチャンバの出入口（例えば、フィラ部３７の容器搬送用の出入口）よりも小さくなっている。これにより、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５から外部へのオゾンの流出あるいはＸ線の漏洩が抑制されている。 For example, in this embodiment, the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 are arranged adjacent to each other so as to sandwich the electron beam sterilization unit 34. Thereby, ozone from the electron beam sterilization unit 34 is efficiently recovered in the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35. Further, the arrangement of the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 suppresses X-ray leakage from the entrance / exit of the electron beam sterilization unit 34 (the container transport entrance of the chamber 345). Further, the inlet of the upstream chamber 33 (the opening on the upstream side in the container transport direction) and the outlet of the downstream chamber 35 (the opening on the downstream side in the container transport direction) are the entrances and exits of other chambers (for example, the container of the filler unit 37). It is smaller than the entrance / exit for conveyance. Thereby, outflow of ozone or leakage of X-rays from the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 to the outside is suppressed.

なお、この実施の形態では、エアリンス部３２が供給部３１と電子線殺菌ユニットＵ（上流側チャンバ３３）との間に配置されている（図１参照）。かかる構成は、エアリンスによって容器から除去された異物を室圧が低い供給部３１にて排気装置４４により回収できる点で、好ましい。これにより、無菌領域となる電子線殺菌部３４の前段階にて、異物を回収できる。 In this embodiment, the air rinse section 32 is disposed between the supply section 31 and the electron beam sterilization unit U (upstream chamber 33) (see FIG. 1). Such a configuration is preferable in that the foreign matter removed from the container by air rinsing can be collected by the exhaust device 44 in the supply unit 31 having a low chamber pressure . Thereby, a foreign material can be collect | recovered in the front | former stage of the electron beam sterilization part 34 used as an aseptic area | region.

しかし、これに限らず、エアリンス部３２が電子線殺菌ユニットＵ（下流側チャンバ３５）とガス置換部３６との間に配置されても良い（図３参照）。かかる構成では、各室圧Ｐ１〜Ｐ９が、Ｐ１＜Ｐ０＜Ｐ３＜Ｐ４＞Ｐ５＜Ｐ２＜Ｐ６＜Ｐ７＞Ｐ８＞Ｐ０＞Ｐ９の関係に設定される。 However, the present invention is not limited thereto, and the air rinse section 32 may be disposed between the electron beam sterilization unit U (downstream chamber 35) and the gas replacement section 36 (see FIG. 3). In such a configuration, the chamber pressures P1 to P9 are set to have a relationship of P1 <P0 <P3 <P4> P5 <P2 <P6 <P7> P8> P0> P9.

また、この実施の形態では、フィラ部３７に１台の送風装置４２が配置されている（図１参照）。しかし、これに限らず、フィラ部３７には、複数台の送風装置が配置されることが好ましい。かかる構成では、一つの送風装置が故障した場合にも、他の送風装置によりフィラ部３７の室圧Ｐ７を確保できる。これにより、フィラ部３７の空気清浄度を適正に維持できる。 Moreover, in this embodiment, the one air blower 42 is arrange | positioned at the filler part 37 (refer FIG. 1). However, the present invention is not limited to this, and it is preferable that a plurality of blowers be arranged in the filler unit 37. In such a configuration, even when one blower fails, the chamber pressure P7 of the filler portion 37 can be secured by another blower. Thereby, the air cleanliness of the filler part 37 can be maintained appropriately.

また、この実施の形態では、供給部３１および搬出部３９が他のチャンバよりも低い室圧Ｐ１、Ｐ９を有している。また、排気装置４４、４７が各チャンバ内から供給部３１および搬出部３９に流入したオゾンあるいは異物を排出して回収している。このとき、供給部３１および搬出部３９が外気圧Ｐ０よりも低いので、回収されたオゾンあるいは異物が供給部３１および搬出部３９から外部に流出する事態が防止されている。これにより、容器充填システム１の環境性が高められている。 In this embodiment, supply part 31 and carry-out part 39 have lower room pressures P1 and P9 than other chambers. Further, the exhaust devices 44 and 47 exhaust and collect ozone or foreign matter flowing into the supply unit 31 and the carry-out unit 39 from within each chamber. At this time, since the supply unit 31 and the carry-out unit 39 are lower than the external pressure P0, the situation where the recovered ozone or foreign matter flows out from the supply unit 31 and the carry-out unit 39 is prevented. Thereby, the environmental property of the container filling system 1 is improved.

また、この実施の形態では、電子線殺菌部３４に空気を送り込む送風装置４１と、この送風装置４１に供給される空気を除湿する除湿装置４８とが設置されている（図２参照）。これにより、電子線殺菌部３４における硝酸の発生が抑制されている。特に、送風装置４１が除塵フィルタを有し、除湿装置４８が送風装置４１に対して空気流れの上流側に配置されることにより、電子線殺菌部３４には、無菌かつ除湿された空気が供給されている。なお、除湿装置４８としては、例えば、クーラーが採用され得る。 Moreover, in this embodiment, the air blower 41 which sends air into the electron beam sterilization part 34, and the dehumidifier 48 which dehumidifies the air supplied to this air blower 41 are installed (refer FIG. 2). Thereby, generation | occurrence | production of nitric acid in the electron beam sterilization part 34 is suppressed. In particular, the blower 41 has a dust filter, and the dehumidifier 48 is arranged on the upstream side of the air flow with respect to the blower 41, whereby aseptic and dehumidified air is supplied to the electron beam sterilization unit 34. Has been. In addition, as the dehumidifier 48, a cooler can be employ | adopted, for example.

なお、この容器充填システム１では、送風装置４１に供給される空気を不活性ガス化処理するガス処理装置が配置されても良い（図示省略）。これにより、電子線殺菌部３４におけるオゾンの発生がより効果的に抑制される。 In this container filling system 1, a gas processing device that performs an inert gasification process on the air supplied to the blower 41 may be arranged (not shown). Thereby, generation | occurrence | production of ozone in the electron beam sterilization part 34 is suppressed more effectively.

また、この容器充填システム１では、例えば、電子線殺菌部３４のチャンバ３４５内の冷却、電子線を照射する電子銃の冷却、容器を把持するハンドリング装置の冷却などを行う冷却装置が設置されても良い（図示省略）。かかる冷却装置の配置により、電子線殺菌部３４内の温度を適正化（例えば、６５［℃］以下に）できる。なお、かかる冷却装置としては、例えば、上記の除湿装置４８が兼用され得る。 In the container filling system 1, for example, a cooling device for cooling the chamber 345 of the electron beam sterilization unit 34, cooling an electron gun that irradiates an electron beam, cooling a handling device that holds the container, and the like is installed. (Not shown). With the arrangement of the cooling device, the temperature in the electron beam sterilization unit 34 can be optimized (for example, 65 [° C.] or lower). As such a cooling device, for example, the dehumidifying device 48 may be used.

［効果］
以上説明したように、この容器充填システム１は、電子線殺菌部３４に対して容器搬送方向下流側かつフィラ部３７に対して容器搬送方向上流側に配置されると共に電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４よりも低い室圧Ｐ５を有する下流側チャンバ３５を備える（図１および図２参照）。かかる構成では、（１）電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４が下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５よりも高いので、電子線殺菌部３４での電子線照射により発生したオゾンの一部が電子線殺菌部３４から下流側チャンバ３５に流入する。一方、（２）フィラ部３７の室圧Ｐ７が下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５よりも高いので、下流側チャンバ３５からフィラ部３７へのオゾンの流入が抑制され、また、フィラ部３７の空気に含まれる異物がフィラ部３７から下流側チャンバ３５に集められる。これにより、（１）フィラ部３７へのオゾンの流入を抑制し、また、（２）フィラ部３７の空気清浄度を確保できる利点がある。 [effect]
As described above, the container filling system 1 is disposed on the downstream side in the container transport direction with respect to the electron beam sterilization unit 34 and on the upstream side in the container transport direction with respect to the filler unit 37, and the chamber of the electron beam sterilization unit 34. A downstream chamber 35 having a chamber pressure P5 lower than the pressure P4 is provided (see FIGS. 1 and 2). In this configuration, (1) since the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34 is higher than the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35, a part of ozone generated by the electron beam irradiation in the electron beam sterilization unit 34 is an electron beam. It flows from the sterilization section 34 into the downstream chamber 35. On the other hand, (2) since the chamber pressure P7 of the filler portion 37 is higher than the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35, the inflow of ozone from the downstream chamber 35 to the filler portion 37 is suppressed, and the air in the filler portion 37 The foreign matter contained in is collected in the downstream chamber 35 from the filler portion 37. Thereby, (1) the inflow of ozone to the filler unit 37 is suppressed, and (2) the air cleanliness of the filler unit 37 can be ensured.

また、この容器充填システム１は、下流側チャンバ３５内の空気を排出する排気装置４６を備える（図１および図２参照）。かかる構成では、電子線殺菌部３４からのオゾンやフィラ部３７からの異物が排気装置４６により下流側チャンバ３５に集められて外部に排出される。これにより、チャンバ内のオゾンや異物を適正に回収できる利点がある。 In addition, the container filling system 1 includes an exhaust device 46 that exhausts the air in the downstream chamber 35 (see FIGS. 1 and 2). In such a configuration, ozone from the electron beam sterilization unit 34 and foreign matter from the filler unit 37 are collected in the downstream chamber 35 by the exhaust device 46 and discharged to the outside. Thereby, there exists an advantage which can collect | recover ozone and a foreign material in a chamber appropriately.

また、この容器充填システム１は、電子線殺菌部３４に対して容器搬送方向上流側に配置されると共に電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４よりも低い室圧Ｐ３を有する上流側チャンバ３３を備える（図１および図２参照）。かかる構成では、電子線殺菌部３４の室圧Ｐ４が上流側チャンバ３３の室圧Ｐ３よりも高いので、電子線殺菌部３４での電子線照射により発生したオゾンの一部が電子線殺菌部３４から上流側チャンバ３３に流入する。これにより、容器搬送方向下流側へのオゾンの流出が抑制される利点がある。 Further, the container filling system 1 includes an upstream chamber 33 that is disposed upstream of the electron beam sterilization unit 34 in the container transport direction and has a chamber pressure P3 that is lower than the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34. (See FIGS. 1 and 2). In such a configuration, since the chamber pressure P4 of the electron beam sterilization unit 34 is higher than the chamber pressure P3 of the upstream chamber 33, a part of ozone generated by the electron beam irradiation in the electron beam sterilization unit 34 is part of the electron beam sterilization unit 34. Flows into the upstream chamber 33. Thereby, there exists an advantage by which the outflow of ozone to a container conveyance direction downstream is suppressed.

また、この容器充填システム１では、上流側チャンバ３３が下流側チャンバ３５の室圧Ｐ５よりも低い室圧Ｐ３を有する（Ｐ３＜Ｐ５）。かかる構成では、電子線殺菌部３４にて発生したオゾンが、下流側チャンバ３５よりも上流側チャンバ３３に流入し易い。これにより、下流側チャンバ３５よりも下流側にあるライン（特に、フィラ部３７）へのオゾンの流出や異物の飛散が抑制される利点がある。 In the container filling system 1, the upstream chamber 33 has a chamber pressure P3 that is lower than the chamber pressure P5 of the downstream chamber 35 (P3 <P5). In such a configuration, ozone generated in the electron beam sterilization unit 34 flows more easily into the upstream chamber 33 than the downstream chamber 35. Accordingly, there is an advantage that the outflow of ozone and the scattering of foreign matters to the line (particularly, the filler portion 37) on the downstream side of the downstream chamber 35 are suppressed.

また、この容器充填システム１では、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５が外気圧Ｐ０よりも高い室圧Ｐ５を有する（Ｐ０＜Ｐ３＜Ｐ５）。これにより、上流側チャンバ３３および下流側チャンバ３５から室外へのオゾンの流出が抑制される利点がある。これは、電子線殺菌部３４の送風装置４１が停止したときに、特に有益である。 In the container filling system 1, the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 have a chamber pressure P5 higher than the external pressure P0 (P0 <P3 <P5). Thereby, there is an advantage that the outflow of ozone from the upstream chamber 33 and the downstream chamber 35 to the outside is suppressed. This is particularly beneficial when the blower 41 of the electron beam sterilization unit 34 is stopped.

また、この容器充填システム１は、電子線殺菌部３４の空気を除湿する除湿装置４８を備える（図２参照）。かかる構成では、除湿装置４８が電子線殺菌部３４の空気を除湿するので、電子線照射時における硝酸の発生が抑制される利点がある。 Further, the container filling system 1 includes a dehumidifying device 48 for dehumidifying the air of the electron beam sterilizing unit 34 (see FIG. 2). In such a configuration, the dehumidifying device 48 dehumidifies the air of the electron beam sterilization unit 34, and therefore, there is an advantage that generation of nitric acid at the time of electron beam irradiation is suppressed.

以上のように、この発明にかかる容器充填システムおよび電子線殺菌ユニットは、フィラ部へのオゾンの流入を抑制できると共にフィラ部の空気清浄度を確保できる点で有用である。 As described above, the container filling system and the electron beam sterilization unit according to the present invention are useful in that the flow of ozone into the filler part can be suppressed and the air cleanliness of the filler part can be secured.

１容器充填システム
２１導入ライン
２２搬出ライン
３１供給部
３２エアリンス部
３３上流側チャンバ
３３１搬送装置
３３２チャンバ
３４電子線殺菌部
３４１、３４２電子線照射装置
３４３、３４４搬送装置
３４５チャンバ
３５下流側チャンバ
３５１搬送装置
３５２チャンバ
３６ガス置換部
３７フィラ部
３８キャッパ部
３９搬出部
４１〜４３送風装置
４４〜４７排気装置
４８除湿装置
Ｕ電子線殺菌ユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Container filling system 21 Introduction line 22 Unloading line 31 Supply part 32 Air rinse part 33 Upstream chamber 331 Transfer apparatus 332 Chamber 34 Electron beam sterilization part 341,342 Electron beam irradiation apparatus 343,344 Transfer apparatus 345 Chamber 35 Downstream chamber 351 Transfer Device 352 Chamber 36 Gas replacement portion 37 Filler portion 38 Capper portion 39 Unloading portions 41 to 43 Blower devices 44 to 47 Exhaust device 48 Dehumidifying device U Electron beam sterilization unit

Claims

A container filling system comprising an electron beam sterilization unit that irradiates a container with an electron beam and sterilizes the container, and a filler unit that fills a container that has passed through the electron beam sterilization unit,
A chamber that is disposed downstream of the electron beam sterilization unit in the container conveyance direction and upstream of the filler unit in the container conveyance direction, and is lower than the chamber pressure of the electron beam sterilization unit and the chamber pressure of the filler unit A downstream chamber having pressure;
An upstream chamber disposed upstream of the electron beam sterilization unit in a container transport direction and having a lower chamber pressure than a chamber pressure of the downstream chamber;
An air rinse section disposed upstream of the upstream chamber and having a chamber pressure lower than the chamber pressure of the upstream chamber ;
An exhaust device for exhausting air in the upstream chamber;
An exhaust device for discharging air in the downstream chamber;
A dehumidifying device for dehumidifying the air of the electron beam sterilization unit , and
The upstream chamber and the downstream chamber have a chamber pressure higher than an external pressure, and
The container filling system, wherein the electron beam sterilization unit performs sterilization with an electron beam in both an inverted state and an upright state with respect to one container .