JP6110485B2 - Microneedle formulation manufacturing system and air conditioning method - Google Patents

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Description

本発明は、マイクロニードルに薬剤を塗布してマイクロニード製剤を製造するためのシステム及び空調方法に関する。   The present invention relates to a system and an air conditioning method for manufacturing a microneed formulation by applying a drug to microneedles.

薬剤の経皮吸収を向上させるためのデバイスとしてマイクロニードル製剤が知られている。マイクロニードル製剤のマイクロニードルに薬剤を塗布する方法には、ディップ方式と称されるものがある(例えば、特許文献1)。これは、マスク版に形成された複数個の開口部に、薬剤を含む塗布液を充填し、その開口部にマイクロニードルを挿入して塗布液をマイクロニードルに塗布するという方法である。この方法によれば、マイクロニードルに塗布液を一定量塗布することができる。   A microneedle formulation is known as a device for improving the transdermal absorption of a drug. As a method of applying a drug to microneedles of a microneedle preparation, there is a method called a dip method (for example, Patent Document 1). This is a method in which a plurality of openings formed in the mask plate are filled with a coating liquid containing a drug, and microneedles are inserted into the openings to apply the coating liquid to the microneedles. According to this method, a certain amount of coating solution can be applied to the microneedles.

国際公開第2008/139648号International Publication No. 2008/139648

しかしながら、塗布液に溶媒として水が用いられている場合、特許文献1に開示された方法を用いて塗布を行っても、塗布液をマイクロニードルに塗布した後、乾燥工程を経て得られるマイクロニードル製剤のマイクロニードル上の薬剤量を調べると、製造日又は製造時間等によってばらつきが生じており、安定的に製造することが困難であることが分かった。   However, when water is used as a solvent in the coating solution, even if coating is performed using the method disclosed in Patent Document 1, after the coating solution is applied to the microneedle, the microneedle obtained through a drying step When the amount of the drug on the microneedle of the preparation was examined, it was found that there was variation depending on the production date or production time, and it was difficult to produce stably.

そこで、本発明者らは、マイクロニードル上に塗布される薬剤量のばらつきを防止するため、マイクロニードルへの薬剤塗布が行われる塗布チャンバー内の環境に着目し、塗布チャンバー内を所定範囲の温度及び湿度にすることで、塗布液の物性変化を抑え、これにより、マイクロニードルに塗布される薬剤量のばらつきを抑えられることを見出した。   Therefore, the present inventors pay attention to the environment in the coating chamber where the drug is applied to the microneedles in order to prevent variation in the amount of the drug applied on the microneedles, and the temperature inside the coating chamber is within a predetermined range. It has been found that the change in physical properties of the coating liquid can be suppressed by setting the humidity and humidity, thereby suppressing variations in the amount of drug applied to the microneedles.

しかし、塗布チャンバーの内部に温度調節装置及び調湿器を設けることによって塗布チャンバー内の温湿度を直接制御することは困難であった。そこで、本発明者らは、塗布チャンバーの外部で予め所定範囲の温度及び湿度に調節した空気を塗布チャンバー内に供給することによって、塗布チャンバー内を所望の温湿度に維持するという手段を着想するに至った。   However, it is difficult to directly control the temperature and humidity in the coating chamber by providing a temperature control device and a humidity controller inside the coating chamber. Therefore, the present inventors have conceived a means for maintaining the inside of the coating chamber at a desired temperature and humidity by supplying air that has been adjusted to a predetermined range of temperature and humidity outside the coating chamber into the coating chamber. It came to.

また、上述のように、塗布チャンバー内の温湿度を調節することによって塗布液の物性変化を抑制しようとする場合、塗布液の組成によっては比較的高い湿度を要する。一方、マイクロニードル製剤は無菌状態で製造される必要がある。通常、ある空間を無菌状態にするためには、湿度を下げて微生物の繁殖を抑制するという手段が採用されているため、マイクロニードル製剤製造用システムにおいては、従来、高湿度と無菌状態という相反する二つの状態を同時に実現することは困難であると考えられてきた。   In addition, as described above, when it is intended to suppress changes in physical properties of the coating liquid by adjusting the temperature and humidity in the coating chamber, a relatively high humidity is required depending on the composition of the coating liquid. On the other hand, the microneedle preparation needs to be manufactured under aseptic conditions. Usually, in order to make a certain space sterile, a means of reducing the humidity and suppressing the growth of microorganisms is adopted. Therefore, in a system for manufacturing a microneedle preparation, there has conventionally been a conflict between high humidity and a sterile condition. It has been considered difficult to realize these two states simultaneously.

しかしながら、この相反する要請についても、塗布チャンバーの外部で予め所定範囲の温度及び湿度に調節した空気を塗布チャンバー内に供給するという手段を採用することで十分に応えうることを、本発明者らは見出した。   However, the present inventors have also responded to this conflicting request by sufficiently adopting means for supplying air, which has been adjusted to a predetermined range of temperature and humidity outside the coating chamber, into the coating chamber. Found.

図1は、上記着眼点に基づき本発明者らによって考案されたマイクロニードル製剤製造用システムの一例である。図1に示すマイクロニードル製剤製造用100は、空気圧縮機10と、空気圧縮機10から供給される空気の温度を調節する圧縮空気温度調節装置12と、圧縮空気温度調節装置12によって温度が調節された空気の湿度を調節する湿度調節装置18と、塗布チャンバー内に供給される空気を除菌するエアフィルター16とを備えている。このような構成を有するシステム100を用いて予め所定範囲の温度及び湿度に調節した無菌状態の空気を塗布チャンバー内に供給することによって、塗布チャンバー内を所望の空気環境に維持することが可能である。塗布チャンバー内の空気環境が所定範囲の温度及び湿度であると、塗布チャンバー内の塗布液の物性の変化を抑制することができるため、当該環境下で塗布されたマイクロニードル上の薬剤量のばらつきは抑制されたものとなる。   FIG. 1 is an example of a system for producing a microneedle formulation devised by the present inventors based on the above-mentioned viewpoint. The microneedle preparation production 100 shown in FIG. 1 has an air compressor 10, a compressed air temperature adjusting device 12 that adjusts the temperature of air supplied from the air compressor 10, and a temperature adjusted by the compressed air temperature adjusting device 12. A humidity adjusting device 18 for adjusting the humidity of the air, and an air filter 16 for sterilizing the air supplied into the coating chamber. It is possible to maintain the inside of the coating chamber in a desired air environment by supplying aseptic air that has been previously adjusted to a predetermined range of temperature and humidity into the coating chamber using the system 100 having such a configuration. is there. When the air environment in the coating chamber is within a predetermined range of temperature and humidity, the change in the physical properties of the coating liquid in the coating chamber can be suppressed. Is suppressed.

一方、マイクロニードル製剤に塗布される塗布液の組成によっては、塗布液の物性の変化を抑制するために、塗布チャンバー内を30〜70%(RH)の湿度(中湿度)にすることが必要な場合がある。しかし、上述の構成を有するシステム100を用いると、70%(RH)超の湿度(高湿度)には調節することが可能であっても、これより低い範囲の湿度に精密に調節し維持することは困難であることも分かってきた。   On the other hand, depending on the composition of the coating solution applied to the microneedle formulation, the inside of the coating chamber needs to be 30-70% (RH) humidity (medium humidity) in order to suppress changes in physical properties of the coating solution. There is a case. However, when the system 100 having the above-described configuration is used, even if it is possible to adjust the humidity to be higher than 70% (RH) (high humidity), the humidity is precisely adjusted and maintained at a lower humidity range. It has also proved difficult.

そこで、本発明は、マイクロニードルへの薬剤塗布が行われる塗布チャンバー内の空気環境を30〜70%(RH)の中湿度に調節することができるマイクロニードル製剤製造用システム及び空調方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a system for producing a microneedle formulation and an air conditioning method capable of adjusting the air environment in an application chamber in which a drug is applied to the microneedle to a medium humidity of 30 to 70% (RH). For the purpose.

上記目的を達成するために、本発明は、マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布してマイクロニードル製剤を製造するための塗布チャンバー内の空気環境を調節するマイクロニードル製剤製造用システムであって、空気圧縮機と、空気圧縮機から供給される空気の湿度を調節するためのものであり、空気と湿度調節源たる水分とが透湿膜で分離されている透湿膜型である湿度調節装置と、空気圧縮機から供給される空気の圧力を調節する圧力調節装置と、該塗布チャンバー内に供給される空気を除菌するエアフィルターと、を備えるマイクロニードル製剤製造用システムを提供する。   In order to achieve the above object, the present invention is a microneedle preparation manufacturing system that adjusts the air environment in an application chamber for manufacturing a microneedle preparation by applying a coating liquid containing a drug to microneedles. Humidity control is an air compressor and a moisture permeable membrane type for adjusting the humidity of the air supplied from the air compressor, in which air and moisture as a humidity control source are separated by a moisture permeable membrane There is provided a system for producing a microneedle preparation, comprising: a device; a pressure adjusting device for adjusting the pressure of air supplied from an air compressor; and an air filter for sterilizing air supplied into the coating chamber.

このような構成を有するマイクロニードル製剤製造用システムを温度が所定の範囲内である環境下で用いて、透湿膜型の湿度調節装置内の流路を流れる空気の圧力を調節することにより、塗布チャンバー内に、30〜70%(RH)の範囲の任意の湿度に制御され、かつ無菌状態である空気を安定的に供給することができる。   By using the microneedle preparation manufacturing system having such a configuration in an environment where the temperature is within a predetermined range, by adjusting the pressure of the air flowing through the flow path in the moisture permeable membrane type humidity control device, Air that is controlled to an arbitrary humidity within the range of 30 to 70% (RH) and is in a sterile state can be stably supplied into the coating chamber.

上記透湿膜は、中空糸状に形成されたものを用いることができる。透湿膜が中空糸状に形成されていることで、より効率的に湿度調節を行うことができる。   As the moisture permeable membrane, one formed in a hollow fiber shape can be used. Since the moisture permeable membrane is formed in a hollow fiber shape, the humidity can be adjusted more efficiently.

マイクロニードル製剤製造用システムは、湿度センサーと、前記湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて圧力調節装置を制御する第1の制御手段とを備えることが好ましい。さらに、マイクロニードル製剤製造用システムは、温度センサーと、温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて圧力調節装置を制御する第2の制御手段とを備えることとしてもよい。このように第1の制御手段及び/又は第2の制御手段を設けることにより、塗布チャンバー内の温湿度に対応して圧力調節装置を随時操作することができ、より効率的、かつ確実に塗布チャンバー内の温湿度を制御することができる。   The system for manufacturing a microneedle preparation preferably includes a humidity sensor and first control means for controlling the pressure regulator based on a signal corresponding to the humidity detected by the humidity sensor. Furthermore, the system for manufacturing a microneedle preparation may include a temperature sensor and second control means for controlling the pressure adjusting device based on a signal corresponding to the temperature detected by the temperature sensor. By providing the first control means and / or the second control means in this way, the pressure adjusting device can be operated at any time according to the temperature and humidity in the coating chamber, and more efficient and reliable coating can be performed. The temperature and humidity in the chamber can be controlled.

マイクロニードル製剤製造用システムは、空気圧縮機から供給される空気の温度を調節する圧縮空気温度調節装置を備えていてもよい。システムが置かれる環境の温度が変動し、空気圧縮機によってシステム内に供給される空気が所望範囲の温度でない場合には、システムが圧縮空気温度調節装置を備えることにより、塗布チャンバー内に送り込む空気を任意の温度に調節することができ、湿度の制御をより精度よく行うことができる。   The system for manufacturing a microneedle preparation may include a compressed air temperature adjusting device that adjusts the temperature of air supplied from an air compressor. If the temperature of the environment in which the system is located fluctuates and the air supplied into the system by the air compressor is not in the desired range, the air fed into the coating chamber by providing the system with a compressed air temperature control device Can be adjusted to an arbitrary temperature, and the humidity can be controlled more accurately.

マイクロニードル製剤製造用システムは、湿度センサーと、湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて圧縮空気温度調節装置を制御する第3の制御手段とを備えてもよい。さらに、マイクロニードル製剤製造用システムは、温度センサーと、温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて圧縮空気温度調節装置を制御する第4の制御手段とを備えてもよい。このように第3の制御手段及び/又は第4の制御手段を設けることにより、塗布チャンバー内の温湿度に対応して圧縮空気温度調節装置を随時操作することができ、より効率的、かつ確実に塗布チャンバー内の温湿度を制御することができる。   The system for manufacturing a microneedle preparation may include a humidity sensor and third control means for controlling the compressed air temperature adjusting device based on a signal corresponding to the humidity detected by the humidity sensor. Furthermore, the system for manufacturing a microneedle preparation may include a temperature sensor and fourth control means for controlling the compressed air temperature adjusting device based on a signal corresponding to the temperature detected by the temperature sensor. By providing the third control means and / or the fourth control means in this way, the compressed air temperature adjusting device can be operated at any time according to the temperature and humidity in the coating chamber, and it is more efficient and reliable. The temperature and humidity in the coating chamber can be controlled.

湿度調節装置は、水分を供給する水分供給器を備えることが好適である。湿度調節装置がこのような構成を有することによって、システム内の湿度を調節するための水分を簡便に供給することができる。   It is preferable that the humidity control apparatus includes a moisture supply device that supplies moisture. When the humidity adjusting device has such a configuration, it is possible to easily supply moisture for adjusting the humidity in the system.

さらに、水分供給器が恒温水槽であることが望ましい。恒温水槽を水分供給器として用いることにより、水分供給器の水分を容易に一定の温度に保つことができるため、温湿度の制御をより高精度に行うことができる。   Furthermore, it is desirable that the moisture supply device is a constant temperature water tank. By using the thermostatic water tank as a moisture supply device, the moisture in the moisture supply device can be easily maintained at a constant temperature, so that the temperature and humidity can be controlled with higher accuracy.

また、水分供給器が水温を調節可能であるもの、すなわち、幅を持った温度範囲のうち、任意の温度に調節することができるものであることが有効である。水分供給器がこのような機能を有することにより、水分供給器の水分を、幅広い範囲の任意の一定温度に保つことができる。   Further, it is effective that the water supply device can adjust the water temperature, that is, a device that can adjust the water temperature to an arbitrary temperature within a wide temperature range. Since the moisture supply device has such a function, the moisture of the moisture supply device can be maintained at an arbitrary constant temperature in a wide range.

マイクロニードル製剤製造用システムは、湿度センサーと、湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて水分供給器の水温を制御する第5の制御手段とを備えてもよい。さらに、マイクロニードル製剤製造用システムは、温度センサーと、温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて水分供給器の水温を制御する第6の制御手段とを備えてもよい。このように第5の制御手段及び/又は第6の制御手段を設けることによって、塗布チャンバー内の温湿度に対応して水分供給器の水温を随時操作することができ、より効率的、かつ確実に塗布チャンバー内の温湿度を制御することができる。   The system for manufacturing a microneedle preparation may include a humidity sensor and a fifth control unit that controls the water temperature of the water supplier based on a signal corresponding to the humidity detected by the humidity sensor. Furthermore, the system for manufacturing a microneedle preparation may include a temperature sensor and sixth control means for controlling the water temperature of the water supply device based on a signal corresponding to the temperature detected by the temperature sensor. By providing the fifth control means and / or the sixth control means in this manner, the water temperature of the water supply device can be operated at any time corresponding to the temperature and humidity in the coating chamber, and it is more efficient and reliable. The temperature and humidity in the coating chamber can be controlled.

本発明の別の態様によれば、マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布してマイクロニードル製剤を製造するための塗布チャンバー内の空気環境を調節するための空調方法であって、塗布チャンバーに送り込む空気の湿度を、前記空気と湿度調節源たる水分とが透湿膜で分離されている透湿膜型である湿度調節装置によって調節する工程と、該塗布チャンバーに送り込む空気の圧力を圧力調節装置によって調節する工程と、前記空気をエアフィルターによって除菌する工程と、湿度が調節され除菌された空気を塗布チャンバーに導入する工程とを含む空調方法を提供する。   According to another aspect of the present invention, there is provided an air conditioning method for adjusting an air environment in a coating chamber for manufacturing a microneedle formulation by applying a coating liquid containing a drug to microneedles, Adjusting the humidity of the air to be fed by a humidity control device which is a moisture permeable membrane type in which the air and moisture as a humidity control source are separated by a moisture permeable membrane, and adjusting the pressure of the air sent to the coating chamber Provided is an air conditioning method including a step of adjusting by an apparatus, a step of sterilizing the air by an air filter, and a step of introducing sterilized air whose humidity is adjusted and sterilized into an application chamber.

このような空調方法によれば、温度が所定の範囲内である空気を湿度調節装置に供給することで、塗布チャンバー内に、温度が所望の範囲であり、30〜70%(RH)の範囲の任意の湿度に制御された無菌状態の空気を安定的に供給することができる。   According to such an air conditioning method, by supplying air whose temperature is within a predetermined range to the humidity control device, the temperature is within a desired range in the coating chamber, and is in the range of 30 to 70% (RH). It is possible to stably supply aseptic air controlled to an arbitrary humidity.

本発明のマイクロニードル製剤製造用システム又は空調方法により、所望範囲の温度及び30〜70%(RH)の範囲の任意の湿度とされ、かつ無菌状態である空気を、安定的に塗布チャンバー内に供給することができる。これにより、塗布チャンバー内外の温湿度の日間及び日内変動に影響されることなく、塗布チャンバー内を所望範囲の温湿度に維持することができるため、塗布チャンバー内の塗布液物性の変動を抑制することができる。したがって、本発明のマイクロニードル製剤製造用システム又は空調方法によって調節された空気環境下でマイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布すると、一定の薬剤量が塗布されたマイクロニードル製剤を安定的に製造することができる。   With the microneedle preparation manufacturing system or the air conditioning method of the present invention, air in a desired range and an arbitrary humidity in the range of 30 to 70% (RH) and in a sterile state can be stably introduced into the coating chamber. Can be supplied. As a result, the inside and outside of the coating chamber can be maintained at a temperature and humidity within a desired range without being affected by fluctuations in temperature and humidity inside and outside the coating chamber, thereby suppressing fluctuations in physical properties of the coating liquid in the coating chamber. be able to. Therefore, when a coating liquid containing a drug is applied to the microneedle in an air environment adjusted by the microneedle formulation manufacturing system or the air conditioning method of the present invention, a microneedle formulation coated with a certain amount of drug is stably produced. can do.

マイクロニードル製剤製造用システムの一実施形態を示すブロック構成図である。It is a block block diagram which shows one Embodiment of the system for microneedle formulation manufacture. マイクロニードル製剤製造用システムの一実施形態を示すブロック構成図である。It is a block block diagram which shows one Embodiment of the system for microneedle formulation manufacture. マイクロニードル製剤製造用システムにおける湿度調節装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the humidity control apparatus in the system for microneedle formulation manufacture. マイクロニードル製剤の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a microneedle formulation. 図4のマイクロニードル製剤のV−V線断面図である。It is the VV sectional view taken on the line of the microneedle formulation of FIG. (a)〜(c)は、マイクロニードル製剤の製造方法の一例を示す模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing method of a microneedle formulation. (a)〜(c)は、塗布チャンバー内の湿度推移を示すグラフである。(A)-(c) is a graph which shows humidity transition in a coating chamber. マイクロニードル上に塗布された薬剤の含量を示すグラフである。It is a graph which shows the content of the chemical | medical agent apply | coated on the microneedle. 風量調節試験用の塗布チャンバーを示す模式斜視図である。It is a model perspective view which shows the application | coating chamber for an air volume adjustment test. (a)は塗布チャンバー内の温度推移を示すグラフ、(b)は塗布チャンバー内の湿度推移を示すグラフである。(A) is a graph which shows the temperature transition in a coating chamber, (b) is a graph which shows the humidity transition in a coating chamber. (a)は塗布チャンバー内の温度推移を示すグラフ、(b)は塗布チャンバー内の湿度推移を示すグラフである。(A) is a graph which shows the temperature transition in a coating chamber, (b) is a graph which shows the humidity transition in a coating chamber.

以下、図面を参照しながら本発明によるマイクロニードル製剤製造用システム及び空調方法の好適な実施形態について説明する。なお、図中、同一又は相当部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of a microneedle formulation manufacturing system and an air conditioning method according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム(以下、場合により単に「システム」ともいう。)は、マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布してマイクロニードル製剤を製造する作業を行うのに適した空気環境を作り出すものである。本明細書では湿度とは相対湿度のことをいう。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to the present embodiment (hereinafter also simply referred to as “system” in some cases) is suitable for performing an operation of manufacturing a microneedle preparation by applying a coating liquid containing a drug to the microneedle. It creates an air environment. In this specification, humidity refers to relative humidity.

図2は、本発明のマイクロニードル製剤製造用システムの一実施形態を示すブロック構成図である。マイクロニードル製剤製造用システム200は、空気圧縮機10、圧縮空気温度調節装置12、圧力調節装置30、湿度調節装置18、風量調節装置14及びエアフィルター16が、それぞれ送風ラインLを介してこの順に接続されることによって構成されている。送風ラインLの終端は、マイクロニードルが配置され薬剤の塗布が行われる塗布チャンバー20に接続されている。   FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of the system for producing a microneedle preparation of the present invention. The microneedle preparation manufacturing system 200 includes an air compressor 10, a compressed air temperature adjustment device 12, a pressure adjustment device 30, a humidity adjustment device 18, an air volume adjustment device 14, and an air filter 16, respectively, in this order via a blower line L. It is configured by being connected. The end of the air blowing line L is connected to a coating chamber 20 in which microneedles are arranged and medicine is applied.

次に、本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200の各構成について説明する。   Next, each configuration of the microneedle formulation manufacturing system 200 according to the present embodiment will be described.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200における空気圧縮機10は、所望の風速(流速)の気流を発生することのできるものであればよく、空気圧縮機10の圧縮比は特に制限されない。したがって、空気圧縮機10としては、JIS(B 0132:2005)に規定されるところの圧縮機に限定されず、圧縮比の低い送風機などを用いることもできる。空気圧縮機10によって本システム200内に供給される空気の風量は、10〜250L/minであることが好ましく、20〜100L/minであることがより好ましい。また、風量は0.3〜10L/minであってもよい。供給される空気の風量は、塗布チャンバー20の容積当たりの風量として計算することができる。塗布チャンバー20の容積1L当たりに供給される空気の風量は、28〜696L/minであることが好ましく、56〜278L/minであることがより好ましい。また、塗布チャンバー20の容積1L当たりに供給される空気の風量は1〜28L/minであってもよい。なお、空気圧縮機10により本システム200内に供給される空気としては、システム外部に存在する空気を用いることができるが、マイクロニードルに塗布される塗布液の組成に応じて、任意のガスを混合してもよい。   The air compressor 10 in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment is not particularly limited as long as it can generate an airflow at a desired wind speed (flow velocity). . Therefore, the air compressor 10 is not limited to the compressor defined in JIS (B 0132: 2005), and a blower having a low compression ratio may be used. The air volume of air supplied into the system 200 by the air compressor 10 is preferably 10 to 250 L / min, and more preferably 20 to 100 L / min. The air volume may be 0.3 to 10 L / min. The air volume of the supplied air can be calculated as the air volume per volume of the coating chamber 20. The amount of air supplied per 1 L of the coating chamber 20 is preferably 28 to 696 L / min, and more preferably 56 to 278 L / min. The air volume supplied per 1 L of the volume of the coating chamber 20 may be 1 to 28 L / min. As air supplied into the system 200 by the air compressor 10, air existing outside the system can be used, but any gas can be used depending on the composition of the coating liquid applied to the microneedles. You may mix.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200における圧縮空気温度調節装置12は、空気圧縮機10によって外部から本システム200内に供給された空気の温度を、任意の温度に調節することができるものである。したがって、本システム200の外気の温度に日間及び日内の変動がある場合でも、圧縮空気温度調節装置12を設けることにより、外部の環境によらず本システム200内に流れる空気の温度を所望の範囲内に維持することができる。圧縮空気温度調節装置12は、圧縮空気温度調節装置12に注入される空気の温度として、およそ5〜40℃の範囲に適応できることが好ましい。圧縮空気温度調節装置12から下流側の送風ラインLに送り込まれる空気の温度は、用いる塗布液の組成に応じて、任意に設定することができるが、温度調節の効率の観点から、室温付近に設定することが好ましく、20〜30℃に設定することがより好ましい。また、排出空気の温度を±0.5℃以下の精度で制御できる圧縮空気温度調節装置12を用いることが好ましい。圧縮空気温度調節装置12としては、圧縮空気の温度を精度よく制御できるものであればよく、温度制御方式、放冷方式などによるものを用いることができる。   The compressed air temperature adjusting device 12 in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment can adjust the temperature of the air supplied from the outside into the system 200 by the air compressor 10 to an arbitrary temperature. Is. Therefore, even when the temperature of the outside air of the system 200 varies between days and days, the temperature of the air flowing in the system 200 can be set within a desired range regardless of the external environment by providing the compressed air temperature adjusting device 12. Can be maintained within. The compressed air temperature adjusting device 12 is preferably adaptable to a range of approximately 5 to 40 ° C. as the temperature of the air injected into the compressed air temperature adjusting device 12. The temperature of the air sent from the compressed air temperature control device 12 to the downstream air blowing line L can be arbitrarily set according to the composition of the coating liquid to be used. It is preferable to set, and it is more preferable to set to 20-30 degreeC. Moreover, it is preferable to use the compressed air temperature control apparatus 12 which can control the temperature of exhaust air with the precision of +/- 0.5 degreeC or less. The compressed air temperature adjusting device 12 may be any device that can accurately control the temperature of the compressed air, and a device using a temperature control method, a cooling method, or the like can be used.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200における湿度調節装置18は、上述の圧縮空気温度調節装置12と組み合わせて用いることによって、本システム200内に流れる空気を、所望の湿度、特に30〜70%(RH)の範囲の湿度に調節し維持することができるものである。湿度調節装置18は透湿膜型であり、中空糸状に形成された透湿膜を含む透湿膜装置24を有する。このような透湿膜型である湿度調節装置18は、水分を供給する水分供給器22を備えてもよい。透湿膜としては、例えば、イオン交換樹脂を中空糸状に成形したものを用いることができる。透湿膜は、水蒸気を透過させ、液体の水を透過させない性質を有する。   The humidity adjusting device 18 in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment is used in combination with the compressed air temperature adjusting device 12 described above, so that air flowing in the system 200 has a desired humidity, particularly 30 to 30%. The humidity can be adjusted and maintained in the range of 70% (RH). The humidity adjusting device 18 is a moisture permeable membrane type, and has a moisture permeable membrane device 24 including a moisture permeable membrane formed in a hollow fiber shape. Such a moisture permeable membrane type humidity control device 18 may include a moisture supply device 22 for supplying moisture. As the moisture permeable membrane, for example, an ion exchange resin formed into a hollow fiber shape can be used. The moisture permeable membrane has a property of allowing water vapor to pass therethrough and preventing liquid water from passing therethrough.

水分供給器22は、一定に水温を制御するために恒温水槽を用いることが有効である。さらに、恒温水槽は、幅をもった温度範囲に調節可能であり、任意の温度に高精度に調整が可能であるものが好適である。水分供給器22に用いられる水は、無菌状態を確保するために純水であることが好ましい。水分供給器22から透湿膜装置24に供給された水分は、透湿膜を介して、気化されて水蒸気として本システム200内に供給される。   It is effective to use a constant temperature water tank for the water supply device 22 to control the water temperature constantly. Further, the thermostatic water tank is preferably adjustable to a wide temperature range and can be adjusted to an arbitrary temperature with high accuracy. The water used for the moisture supply device 22 is preferably pure water in order to ensure aseptic conditions. The moisture supplied from the moisture supply device 22 to the moisture permeable membrane device 24 is vaporized through the moisture permeable membrane and supplied to the present system 200 as water vapor.

透湿膜装置24としては、効率性の観点から、中空糸状に形成された透湿膜が多数束状に固定されたものである中空糸モジュールを用いることが好ましい。中空糸モジュールを用いる場合、中空糸状透湿膜の内部に本システム200内を流れる空気が通過するように、中空糸モジュールを本システム200の送風ラインLに接続する。そして、中空糸状透湿膜の外部には、水分供給器22、好ましくは恒温水槽によって水温を制御された水が接するように流れ、中空糸状透湿膜と水分供給器22との間を常に循環するように構成されることが好ましい。中空糸状透湿膜を介して一定の温度の水分と所定範囲の温度の気体が接した場合、所定範囲の湿度の気体が中空糸モジュールから導出される。したがって、圧縮空気温度調節装置12により温度調節された空気が中空糸モジュールに導入されかつ恒温水槽から一定温度の純水が中空糸モジュールを通過することで、中空糸モジュールからの空気は所望範囲の湿度を有して下流へと流れていくことになる。また、恒温水槽などの水分供給器22の水温を制御することによって、湿度の制御を高精度に行うことができることにもなる。すなわち、水温をある温度にまで上昇させることによって、本システム200内を流れる空気をその温度に対応した湿度まで加湿でき、逆に水温をある温度まで下げることによって、本システム200内を流れる空気をその温度に対応した湿度まで除湿することができる。なお、中空糸モジュールを有する透湿膜装置24を用いた場合、中空糸モジュールにはフィルター機能があるため、水分供給器22中の水に含まれている可能性のある微生物は中空糸モジュールにより捕捉され、本システム200内に流れる空気中に混入することを抑制することができる。   As the moisture permeable membrane device 24, it is preferable to use a hollow fiber module in which a large number of moisture permeable membranes formed in a hollow fiber shape are fixed in a bundle from the viewpoint of efficiency. When the hollow fiber module is used, the hollow fiber module is connected to the blower line L of the system 200 so that the air flowing through the system 200 passes through the hollow fiber-shaped moisture permeable membrane. And it flows so that the water whose water temperature is controlled by the moisture supply device 22, preferably a constant temperature water tank, is in contact with the outside of the hollow fiber-shaped moisture permeable membrane, and is constantly circulated between the hollow fiber-shaped moisture permeable membrane and the moisture supply device 22. It is preferable to be configured to do so. When moisture at a certain temperature and a gas having a predetermined range of temperature come into contact with each other through the hollow fiber-shaped moisture permeable membrane, a gas having a predetermined range of humidity is derived from the hollow fiber module. Therefore, air whose temperature is adjusted by the compressed air temperature adjusting device 12 is introduced into the hollow fiber module, and pure water at a constant temperature passes through the hollow fiber module from the constant temperature water tank, so that the air from the hollow fiber module is within a desired range. It will flow downstream with humidity. Further, by controlling the water temperature of the water supply device 22 such as a constant temperature water tank, the humidity can be controlled with high accuracy. That is, by increasing the water temperature to a certain temperature, the air flowing in the system 200 can be humidified to a humidity corresponding to the temperature, and conversely, by reducing the water temperature to a certain temperature, the air flowing in the system 200 is It can be dehumidified to a humidity corresponding to the temperature. When the moisture permeable membrane device 24 having a hollow fiber module is used, since the hollow fiber module has a filter function, microorganisms that may be contained in the water in the moisture supply device 22 are determined by the hollow fiber module. It is possible to prevent the air from being trapped and mixed in the air flowing into the system 200.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200における圧力調節装置30は、上記透湿膜装置24の中空糸状の透湿膜の内部の圧力を調節することができるものである。圧力調節装置30は、圧縮空気温度調節装置12の下流かつ透湿膜装置24の上流に設けられている。本システム200において、透湿膜装置24の透湿膜は中空糸状に形成されているため、該透湿膜装置24に導入される空気の圧力を圧力調節装置30によって調節することで、透湿膜装置24から導出される空気の湿度を調節することができ、特に塗布チャンバー内の湿度を約30〜70%(RH)の中程度の湿度に調節するのに適している。圧力調節装置30としては、精密に圧力を調節できるものであればよく、例えばダイヤフラム式のものを用いることができる。圧力調節装置30としては0.02〜1.0MPaの範囲で調圧できるものを用いることができる。   The pressure adjusting device 30 in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment can adjust the pressure inside the hollow fiber-shaped moisture permeable membrane of the moisture permeable membrane device 24. The pressure adjusting device 30 is provided downstream of the compressed air temperature adjusting device 12 and upstream of the moisture permeable membrane device 24. In the present system 200, the moisture permeable membrane of the moisture permeable membrane device 24 is formed in a hollow fiber shape. Therefore, by adjusting the pressure of the air introduced into the moisture permeable membrane device 24 by the pressure adjusting device 30, The humidity of the air derived from the membrane device 24 can be adjusted, and is particularly suitable for adjusting the humidity in the coating chamber to a moderate humidity of about 30-70% (RH). The pressure adjusting device 30 may be any device that can precisely adjust the pressure. For example, a diaphragm type device can be used. As the pressure adjusting device 30, a device capable of adjusting pressure in the range of 0.02 to 1.0 MPa can be used.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200におけるエアフィルター16は、通過する空気中に含まれる細菌、真菌類などの微生物を捕捉して除菌することができるものであれば制限なく用いることができる。このようなエアフィルター16を用いることにより、微生物だけでなく、空気中の塵埃を取り除くことができる。フィルター16の孔径は、除菌効率の観点から、0.2μm以下であることが好ましい。また、例えば、HEPA(High Efficiency Particulate Air)フィルターなどの除塵効果のあるフィルターと、除菌効果のあるエアフィルターとを組み合わせるなど、2つ以上のエアフィルターを用いることもできる。本実施形態に係るシステム200内では、絶えず空気圧縮機10から供給された空気が塗布チャンバー20の開口21に向かって流れているため、エアフィルター16を本システム200内に備えていることによって、より確実に塗布チャンバー20内を無菌状態にすることができる。エアフィルター16は、風量調節装置14の下流側に設置されているが、本システム200内の空気圧縮機10より下流側の送風ラインL上の任意の位置に設けることができる。その中でも、設置レイアウト上、及び圧力制御の効率の関係から、湿度調節装置18より下流に設けられることが好ましい。   The air filter 16 in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment can be used without limitation as long as it can capture and sterilize microorganisms such as bacteria and fungi contained in the passing air. Can do. By using such an air filter 16, not only microorganisms but also dust in the air can be removed. The pore diameter of the filter 16 is preferably 0.2 μm or less from the viewpoint of sterilization efficiency. Also, for example, two or more air filters can be used, such as a combination of a filter having a dust removal effect such as a HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter and an air filter having a bacteria elimination effect. In the system 200 according to the present embodiment, since the air supplied from the air compressor 10 is constantly flowing toward the opening 21 of the coating chamber 20, by providing the air filter 16 in the system 200, The inside of the coating chamber 20 can be more aseptically ensured. The air filter 16 is installed on the downstream side of the air volume adjusting device 14, but can be provided at an arbitrary position on the air blowing line L on the downstream side of the air compressor 10 in the system 200. Among these, it is preferable to be provided downstream of the humidity adjusting device 18 in view of installation layout and pressure control efficiency.

本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システム200における送風ラインLは、その材質を問わず、空気の漏出入のないものであればどのような形態のものを用いてもよい。圧縮空気温度調節装置12による温度調節の効果をより確実にし、塗布チャンバー20内の空気環境を所望の温度により安定的に維持するため、送風ラインLは断熱効果を有するものであることが好ましい。送風ラインLが断熱効果を有するようにするための方法としては、送風ラインLの周囲を覆うように断熱材を設けてもよく、送風ラインLの材質自体を断熱効果のある素材にしてもよい。   The blower line L in the microneedle preparation manufacturing system 200 according to the present embodiment may be of any form as long as it does not leak air regardless of its material. In order to ensure the effect of temperature adjustment by the compressed air temperature adjusting device 12 and to stably maintain the air environment in the coating chamber 20 at a desired temperature, the air blowing line L preferably has a heat insulating effect. As a method for making the air blowing line L have a heat insulating effect, a heat insulating material may be provided so as to cover the periphery of the air blowing line L, and the material of the air blowing line L itself may be a material having a heat insulating effect. .

湿度調節装置18から所定範囲内の温湿度となって導出され、エアフィルター16によって除菌された空気は、内部でマイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布してマイクロニードル製剤を製造するための塗布チャンバー20に送り込まれる。塗布チャンバー20は、その壁面の一部に開口21を有している。この開口21は、本システム200から供給された空気が排出される排気口としてだけでなく、塗布液を塗布されるマイクロニードル製剤の搬入口の役割も有している。開口21は、塗布チャンバー20が例えば箱型である場合、塗布チャンバー20の上面に設けられていてもよく、側面又は下面に設けられていてもよい。塗布チャンバー20内を所望の空気環境で十分に満たすために、開口21と、本システム200との接続部とは十分離れていることが好ましい。塗布チャンバー20に吹き込まれる空気の風量は、十分に高く保たれていることが望ましい。風量を十分に高く保つことで、塗布チャンバー20内を本システム200の外部に対して陽圧に保ち、開口21から外部の空気が塗布チャンバー20内に流入することを防ぐことができる。そのため、塗布チャンバー20内を所望の温湿度に維持することができ、また、菌類が開口21から塗布チャンバー20内部に侵入することを防ぐことができる。   The air that is derived from the humidity control device 18 as temperature and humidity within a predetermined range and is sterilized by the air filter 16 is used for producing a microneedle preparation by applying a coating liquid containing a drug to the microneedle. It is fed into the coating chamber 20. The coating chamber 20 has an opening 21 in a part of its wall surface. The opening 21 not only serves as an exhaust port through which the air supplied from the system 200 is discharged, but also serves as a carry-in port for a microneedle preparation to which a coating solution is applied. When the coating chamber 20 is, for example, a box shape, the opening 21 may be provided on the upper surface of the coating chamber 20 or may be provided on a side surface or a lower surface. In order to sufficiently fill the inside of the coating chamber 20 with a desired air environment, it is preferable that the opening 21 and the connection portion with the present system 200 are sufficiently separated from each other. It is desirable that the air volume blown into the coating chamber 20 is kept sufficiently high. By keeping the air volume sufficiently high, the inside of the coating chamber 20 can be maintained at a positive pressure with respect to the outside of the system 200, and external air can be prevented from flowing into the coating chamber 20 from the opening 21. Therefore, the inside of the coating chamber 20 can be maintained at a desired temperature and humidity, and fungi can be prevented from entering the coating chamber 20 from the opening 21.

塗布チャンバー20の内部には、塗布チャンバー20内の空気の温湿度を把握するために、温湿度センサー(温度センサー及び湿度センサー)26を設置することが好ましい。本システム200によって塗布チャンバー20内に供給された空気が、所望の温湿度に維持されているかを随時把握可能にすることにより、塗布チャンバー20内の温湿度に対応して圧力調節装置30、圧縮空気温度調節装置12及び湿度調節装置18を逐次操作し、さらに厳密に塗布チャンバー20内の空気の温湿度を制御することができるからである。また、温湿度センサー26によって検出された塗布チャンバー20内の温度及び湿度に対応する信号を制御装置(圧力調節装置30を制御する第1の制御手段及び/又は第2の制御手段、圧縮空気温度調節装置12を制御する第3の制御手段及び/又は第4の制御手段、並びに水分供給器22の水温を制御する第5の制御手段及び/又は第6の制御手段)28に送り、その信号に基づいて制御装置28が圧力調節装置30、圧縮空気温度調節装置12又は湿度調節装置18内の水分供給器22を操作するシステム、すなわちフィードバックシステムを設けてもよい。具体的には、例えば、塗布チャンバー20内の湿度低下を検知すると、圧力調節装置30の設定圧力を下げるように作動し、逆に塗布チャンバー20内の湿度上昇を検知すると、圧力調節装置30の設定圧力を上げるように作動させるフィードバックシステムを設けてもよい。同様に、例えば、塗布チャンバー20内の湿度低下を検知すると、水分供給器22の加熱機構を作動させ、逆に塗布チャンバー20内の湿度上昇を検知すると、水分供給器22の冷却機構を作動させるようなフィードバックシステムを設けることができる。また、例えば、塗布チャンバー20内の温度が所定の下限値よりも低いことを検知すると、圧縮空気温度調節装置12の加熱機構の加熱を促進し、又は冷却機構の冷却を抑制し、逆に、塗布チャンバー20内の温度が所定の上限値よりも高いことを検知すると、圧縮空気温度調節装置12の加熱機構の加熱を抑制し、又は冷却機構の冷却を促進するようなフィードバックシステムを設けることができる。このようなフィードバックシステムを設けることによって、塗布チャンバー20内の温湿度制御をより効率的に、かつ確実に行うことができる。   In order to grasp the temperature and humidity of the air in the coating chamber 20, it is preferable to install a temperature and humidity sensor (temperature sensor and humidity sensor) 26 inside the coating chamber 20. By making it possible to grasp at any time whether the air supplied into the coating chamber 20 by the system 200 is maintained at a desired temperature and humidity, the pressure adjusting device 30 and the compression corresponding to the temperature and humidity in the coating chamber 20 This is because the air temperature adjusting device 12 and the humidity adjusting device 18 can be sequentially operated to more precisely control the temperature and humidity of the air in the coating chamber 20. Further, a signal corresponding to the temperature and humidity in the coating chamber 20 detected by the temperature / humidity sensor 26 is transmitted to a control device (first control means and / or second control means for controlling the pressure adjusting device 30, compressed air temperature). The third control means and / or the fourth control means for controlling the adjusting device 12 and the fifth control means and / or the sixth control means for controlling the water temperature of the water supply device 22) are sent to the signal. On the basis of the control device 28, a system for operating the water supply device 22 in the pressure adjusting device 30, the compressed air temperature adjusting device 12 or the humidity adjusting device 18, that is, a feedback system may be provided. Specifically, for example, when a decrease in humidity in the coating chamber 20 is detected, the pressure regulator 30 operates to decrease the set pressure. Conversely, when an increase in humidity in the coating chamber 20 is detected, the pressure controller 30 A feedback system may be provided that operates to increase the set pressure. Similarly, for example, when a decrease in humidity in the coating chamber 20 is detected, the heating mechanism of the moisture supply unit 22 is activated, and conversely, when an increase in humidity in the coating chamber 20 is detected, the cooling mechanism of the moisture supply unit 22 is activated. Such a feedback system can be provided. Further, for example, when it is detected that the temperature in the coating chamber 20 is lower than a predetermined lower limit value, the heating of the heating mechanism of the compressed air temperature adjusting device 12 is promoted, or the cooling of the cooling mechanism is suppressed. When it is detected that the temperature in the coating chamber 20 is higher than a predetermined upper limit value, a feedback system that suppresses heating of the heating mechanism of the compressed air temperature adjusting device 12 or promotes cooling of the cooling mechanism may be provided. it can. By providing such a feedback system, temperature and humidity control in the coating chamber 20 can be performed more efficiently and reliably.

以上のような構成のマイクロニードル製剤製造用システム200を作動させると、まず、空気圧縮機10によって外部から空気が吸入され、本システム200内に供給される。空気圧縮機10によって供給された空気は、送風ラインLを通って圧縮空気温度調節装置12に注入され、所定の温度に調節される。圧縮空気温度調節装置12によって所定の温度に調節された空気は、送風ラインLを通って圧力調節装置30に注入され、所定の圧力に調節される。圧力調節装置30によって圧力を調節された空気は、送風ラインLを通って湿度調節装置18に注入され、所定の湿度に調節される。湿度調節装置18によって湿度を調節された空気は、必要に応じて風量調節された後、エアフィルター16によって除菌される。このようにして温湿度を調節された無菌状態の空気は、送風ラインLを通って塗布チャンバー20内に供給される。それまで塗布チャンバー20内に存在していた空気は、塗布チャンバー20を構成する壁の一部に設けられている開口21から排出され、塗布チャンバー20の内部は、所望の温湿度を有する無菌状態の空気で満たされる。開口21からは、本システム200により塗布チャンバー20内に供給された空気が随時排出される。本システム200内を流れる空気は、空気圧縮機10の送風力によって、常にある程度の風速をもった状態で、開口21に向かって一方向に流れている。そのため本システム200の内部で空気が滞留することはなく、本システム200内部に菌が存在していたとしても、その繁殖は抑制される。   When the microneedle preparation manufacturing system 200 configured as described above is operated, air is first sucked from the outside by the air compressor 10 and supplied into the system 200. The air supplied by the air compressor 10 is injected into the compressed air temperature adjusting device 12 through the blower line L and adjusted to a predetermined temperature. The air adjusted to a predetermined temperature by the compressed air temperature adjusting device 12 is injected into the pressure adjusting device 30 through the blower line L and adjusted to a predetermined pressure. The air whose pressure is adjusted by the pressure adjusting device 30 is injected into the humidity adjusting device 18 through the blower line L and adjusted to a predetermined humidity. The air whose humidity is adjusted by the humidity adjusting device 18 is sterilized by the air filter 16 after the air volume is adjusted as necessary. The aseptic air whose temperature and humidity are adjusted in this way is supplied into the coating chamber 20 through the blower line L. The air that has existed in the coating chamber 20 until then is exhausted from an opening 21 provided in a part of the wall constituting the coating chamber 20, and the inside of the coating chamber 20 is in a sterile state having a desired temperature and humidity. Filled with air. From the opening 21, the air supplied into the coating chamber 20 by the present system 200 is discharged as needed. The air flowing through the system 200 flows in one direction toward the opening 21 in a state where the wind force of the air compressor 10 always has a certain wind speed. Therefore, air does not stay inside the system 200, and even if bacteria are present inside the system 200, the propagation is suppressed.

塗布チャンバー20内には、マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を予め用意しておく。塗布作業をする間、前述したように、常に塗布チャンバー20内は所定範囲の温湿度かつ無菌状態の環境下にあるため、塗布液に含まれる水の気化反応、及び空気中の水分の液化反応は制御され、塗布液の物性の変化が抑制される。これによって、マイクロニードルに塗布される薬剤の量のばらつきを抑制することができ、マイクロニードル製剤を無菌環境下で安定的に生産することができる。マイクロニードルに塗布される薬剤の量のばらつきの度合いを示すCV(変動係数)値は10%以下であることが好ましく、5%以下であることがさらに好ましい。CV値とは、標準偏差を平均値で除し、百分率で表した値である。   In the coating chamber 20, a coating liquid containing a drug in a microneedle is prepared in advance. During the coating operation, as described above, since the inside of the coating chamber 20 is always in a predetermined range of temperature and humidity and in a sterile environment, the vaporization reaction of water contained in the coating liquid and the liquefaction reaction of moisture in the air are performed. Is controlled, and the change in physical properties of the coating liquid is suppressed. As a result, variation in the amount of the drug applied to the microneedles can be suppressed, and the microneedle preparation can be stably produced in an aseptic environment. The CV (coefficient of variation) value indicating the degree of variation in the amount of drug applied to the microneedle is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. The CV value is a value expressed as a percentage by dividing the standard deviation by the average value.

空気圧縮機10からの空気の風量(流量)は空気圧縮機10自体の機能によって調節することも可能であるが、空気圧縮機10の下流側に風量調節装置14を接続することで、本システム200内を流れる空気の風量をより高精度に調節できるようにすることが好適である。本システム200が風量調節装置14を含む場合、本システム200内を流れる空気の風量を細かく調節することにより、マイクロニードルに塗布される薬剤の量を制御することもできる。なお、風量が一定量以上、例えば0.5L/min以上であると、塗布チャンバー内における温湿度の分布をより均一化することができる。風量調節装置14は、設置レイアウト上、及び圧力制御の効率の観点から、湿度調節装置18よりも下流に設けられることが好ましい。   The air volume (flow rate) of the air from the air compressor 10 can be adjusted by the function of the air compressor 10 itself, but by connecting the air volume adjusting device 14 to the downstream side of the air compressor 10, the present system It is preferable to be able to adjust the air volume of the air flowing through 200 with higher accuracy. When the system 200 includes the air volume adjusting device 14, the amount of the medicine applied to the microneedles can be controlled by finely adjusting the air volume of the air flowing through the system 200. When the air volume is a certain amount or more, for example, 0.5 L / min or more, the temperature and humidity distribution in the coating chamber can be made more uniform. The air volume adjusting device 14 is preferably provided downstream of the humidity adjusting device 18 in terms of installation layout and pressure control efficiency.

上記実施形態では、本システム200が置かれる環境の温度が変動するものとして説明したが、環境全体の温度が制御されている空間の中で本システム200を用いる場合など、空気圧縮機10から供給される空気が既に所定範囲の温度に保たれているときには、圧縮空気温度調節装置12を構成中に備えていなくてもよい。   In the above embodiment, the temperature of the environment in which the system 200 is placed is described as fluctuating. However, when the system 200 is used in a space in which the temperature of the entire environment is controlled, the supply is performed from the air compressor 10. The compressed air temperature adjusting device 12 may not be included in the configuration when the air to be used is already maintained at a predetermined temperature range.

また、湿度調節装置18は、中空糸状の透湿膜を有する透湿膜装置24を有するものとして説明したが、透湿膜は中空糸状の形状に制限されず、任意の形状のものを用いることができる。図3に示す湿度調節装置18は、隔壁型に設けられた透湿膜23を有している。図3中の透湿膜23は、空気圧縮機10から本システム200内に供給される空気と、湿度調節源たる水分とを分離している。水分は、透湿膜23を介して水蒸気として本システム200の流路内を流れる空気中に供給される。   Moreover, although the humidity control apparatus 18 was demonstrated as what has the moisture-permeable membrane apparatus 24 which has a hollow fiber-like moisture-permeable film, a moisture-permeable film is not restrict | limited to a hollow fiber-like shape, Use the thing of arbitrary shapes. Can do. The humidity control device 18 shown in FIG. 3 has a moisture permeable film 23 provided in a partition wall shape. The moisture permeable membrane 23 in FIG. 3 separates the air supplied from the air compressor 10 into the system 200 and the moisture as a humidity control source. Moisture is supplied to the air flowing in the flow path of the present system 200 through the moisture permeable membrane 23 as water vapor.

図3中の圧力調節装置30は、湿度調節装置18の上流側の外部に接続されており、湿度調節装置18内に導入される空気の圧力を調節する。なお、圧力調節装置30は、湿度調節装置18の内部に設けられ、湿度調節装置18内に導入された空気の圧力を調節するようになっていてもよい。   The pressure adjusting device 30 in FIG. 3 is connected to the upstream side of the humidity adjusting device 18 and adjusts the pressure of the air introduced into the humidity adjusting device 18. The pressure adjusting device 30 may be provided inside the humidity adjusting device 18 so as to adjust the pressure of the air introduced into the humidity adjusting device 18.

以上の構成におけるマイクロニードル製剤製造用システムを用いて、マイクロニードル製剤を製造する方法について、概要を説明する。図4は、本実施形態に係るシステムを用いて製造されるマイクロニードル製剤の一例を示す斜視図である。図4に示すマイクロニードル製剤40は、基板42と、基板42上に二次元状に配置された複数のマイクロニードル44と、マイクロニードル44上に形成された塗布層46とを備えている。塗布層46は、本実施形態に係るマイクロニードル製剤製造用システムを用いて塗布されたものであり、その揮発成分の少なくとも一部が除去されていることが好ましい。   An outline of a method for producing a microneedle formulation using the microneedle formulation production system having the above-described configuration will be described. FIG. 4 is a perspective view showing an example of a microneedle preparation manufactured using the system according to the present embodiment. A microneedle preparation 40 shown in FIG. 4 includes a substrate 42, a plurality of microneedles 44 arranged two-dimensionally on the substrate 42, and an application layer 46 formed on the microneedles 44. The application layer 46 is applied using the system for manufacturing a microneedle preparation according to this embodiment, and it is preferable that at least a part of the volatile component is removed.

基板42は、マイクロニードル44を支持するための土台である。基板42の面積は、0.5〜10cmであることが好ましく、さらに好ましくは1〜5cm、より好ましくは1〜3cmである。この基板42を数個つなげることで所望の大きさの基板を構成するようにしてもよい。The substrate 42 is a base for supporting the microneedles 44. Area of the substrate 42 is preferably 0.5 to 10 cm 2, more preferably 1 to 5 cm 2, more preferably 1 to 3 cm 2. You may make it comprise the board | substrate of a desired magnitude | size by connecting several this board | substrate 42. FIG.

マイクロニードル44は微小構造であり、その高さ(長さ)は、好ましくは50〜600μmである。ここで、マイクロニードル44の長さを50μm以上とすることにより、塗布液に含まれる薬剤の投与を確実に行うことができる。また、マイクロニードル44の長さを600μm以下とすることにより、マイクロニードルが神経に接触するのを回避して、痛みの可能性を確実に減少させるとともに、出血の可能性を確実に回避することができるようになる。また、マイクロニードル44の長さが500μm以下であると、皮内に入るべき量の薬剤を効率良く投与することができ、基底膜を穿孔させずに投与することも可能である。マイクロニードル44の長さは、300〜500μmであることが特に好ましい。   The microneedle 44 has a fine structure, and its height (length) is preferably 50 to 600 μm. Here, by setting the length of the microneedle 44 to 50 μm or more, the drug contained in the coating liquid can be reliably administered. In addition, by making the length of the microneedle 44 600 μm or less, the microneedle can be prevented from coming into contact with the nerve, the possibility of pain can be reliably reduced, and the possibility of bleeding can be surely avoided. Will be able to. Moreover, when the length of the microneedle 44 is 500 μm or less, an amount of drug that should enter the skin can be efficiently administered, and administration without perforating the basement membrane is also possible. The length of the microneedle 44 is particularly preferably 300 to 500 μm.

ここで、マイクロニードル44とは、凸状構造物であって、広い意味での針形状、又は針形状を含む構造物を意味する。もっとも、マイクロニードルは、鋭い先端を有する針形状のものに限定されるものではなく、先の尖っていない形状のものであってもよい。マイクロニードル44が円錐状構造である場合には、その基底における直径は50〜200μm程度であることが好ましい。本実施形態ではマイクロニードル44は円錐状であるが、四角錐などの多角錐状や、別の形状のマイクロニードルであってもよい。   Here, the microneedle 44 is a convex structure and means a needle shape in a broad sense or a structure including a needle shape. However, the microneedle is not limited to a needle shape having a sharp tip, and may have a shape with no sharp tip. When the microneedle 44 has a conical structure, the diameter at the base is preferably about 50 to 200 μm. In this embodiment, the microneedle 44 has a conical shape, but may be a polygonal pyramid shape such as a quadrangular pyramid or a microneedle having another shape.

マイクロニードル44は、典型的には、針の横列について1ミリメートル(mm)当たり約1〜10本の密度となるように間隔を空けて設けられる。一般に、隣接する横列は横列内の針の空間に対して実質的に等しい距離だけ互いに離れており、1cm当たり100〜10000本の針密度を有する。100本以上の針密度があると、効率良く皮膚を穿孔することができる。一方、10000本を超える針密度では、マイクロニードル44の強度を保つことが難しくなる。マイクロニードル44の密度は、好ましくは200〜5000本、さらに好ましくは300〜2000本、特に好ましくは400〜850本である。The microneedles 44 are typically spaced so that there is a density of about 1-10 per millimeter (mm) for a row of needles. In general, adjacent rows are separated from each other by a substantially equal distance relative to the needle space within the row and have a density of 100-10000 needles per cm 2 . When there is a needle density of 100 or more, the skin can be efficiently perforated. On the other hand, when the needle density exceeds 10,000, it is difficult to maintain the strength of the microneedles 44. The density of the microneedles 44 is preferably 200 to 5000, more preferably 300 to 2000, and particularly preferably 400 to 850.

基板42又はマイクロニードル44の材質としては、シリコン、二酸化ケイ素、セラミック、金属(ステンレス、チタン、ニッケル、モリブテン、クロム、コバルト等)及び合成又は天然の樹脂素材等が挙げられるが、マイクロニードルの抗原性及び材質の単価を考慮すると、ポリ乳酸、ポリグリコリド、ポリ乳酸−co−ポリグリコリド、プルラン、カプロノラクトン、ポリウレタン、ポリ無水物等の生分解性ポリマー、又は非分解性ポリマーであるポリカーボネート、ポリメタクリル酸、エチレンビニルアセテート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリオキシメチレン等の合成又は天然の樹脂素材が特に好ましい。また、多糖類であるヒアルロン酸、ヒアルロン酸ナトリウム、プルラン、デキストラン、デキストリン又はコンドロイチン硫酸等も好適である。   Examples of the material of the substrate 42 or the microneedle 44 include silicon, silicon dioxide, ceramic, metal (stainless steel, titanium, nickel, molybdenum, chromium, cobalt, etc.) and synthetic or natural resin materials. In consideration of the properties and the unit price of the material, biodegradable polymers such as polylactic acid, polyglycolide, polylactic acid-co-polyglycolide, pullulan, capronolactone, polyurethane, polyanhydride, etc., or nondegradable polycarbonate, polymethacrylate Synthetic or natural resin materials such as acid, ethylene vinyl acetate, polytetrafluoroethylene, and polyoxymethylene are particularly preferable. Also suitable are polysaccharides such as hyaluronic acid, sodium hyaluronate, pullulan, dextran, dextrin or chondroitin sulfate.

基板42又はマイクロニードル44の製法としては、シリコン基板を用いたウエットエッチング加工又はドライエッチング加工、金属若しくは樹脂を用いた精密機械加工(放電加工、レーザー加工、ダイシング加工、ホットエンボス加工、射出成型加工等)、機械切削加工等が挙げられる。これらの加工法により、基板42とマイクロニードル44は、一体に成型される。マイクロニードル44を中空にする方法としては、マイクロニードル44を作製後、レーザー等で2次加工する方法が挙げられる。   As a manufacturing method of the substrate 42 or the microneedle 44, wet etching processing or dry etching processing using a silicon substrate, precision machining using metal or resin (electric discharge processing, laser processing, dicing processing, hot embossing processing, injection molding processing) Etc.), machine cutting and the like. By these processing methods, the substrate 42 and the microneedles 44 are integrally molded. As a method of making the microneedle 44 hollow, a method of performing secondary processing with a laser or the like after the microneedle 44 is manufactured may be mentioned.

マイクロニードル製剤40は、マイクロニードル44上に塗布層46を備えているが、塗布層46は、塗布液を塗付することにより形成されることが好ましい。塗付方法としては、噴霧コーティング及び浸漬コーティング等が挙げられ、浸漬コーティングが好ましい。なお、図4では、全てのマイクロニードル44に塗布層46が形成されているが、塗布層46は複数存在するマイクロニードル44の一部だけに形成されていてもよい。図4ではまた、塗布層46はマイクロニードル44の先端部分だけに形成されているが、マイクロニードル44の全体を覆うように形成されていてもよい。さらには、塗布層46は基板42の上に形成されていてもよい。   The microneedle preparation 40 includes a coating layer 46 on the microneedle 44. The coating layer 46 is preferably formed by applying a coating solution. Examples of the application method include spray coating and dip coating, and dip coating is preferred. In FIG. 4, the coating layer 46 is formed on all the microneedles 44, but the coating layer 46 may be formed only on a part of the plurality of microneedles 44. In FIG. 4, the coating layer 46 is formed only on the tip portion of the microneedle 44, but may be formed so as to cover the entire microneedle 44. Further, the coating layer 46 may be formed on the substrate 42.

図5は図4のV−V線断面図である。図5に示すように、マイクロニードル製剤40は、基板42と、基板42上に設けられた、マイクロニードル44と、当該マイクロニードル44上に設けられた塗布層46と、を備えるものである。マイクロニードル上に付着している塗布層46は、薬剤を含有するものであり、例えば上述した工程を経て製造することができる。   5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG. As shown in FIG. 5, the microneedle preparation 40 includes a substrate 42, a microneedle 44 provided on the substrate 42, and an application layer 46 provided on the microneedle 44. The coating layer 46 attached on the microneedles contains a drug and can be manufactured through the above-described steps, for example.

図6(a)、(b)及び(c)は、マイクロニードル製剤40の製造方法の一例を示す図である。この方法はディップ方式と称される。この方法では、まず、図6(a)に示すように、塗布液50をマスク版52上でヘラ54により矢印A方向に掃引する。これにより、開口部56に塗布液50が充填される。続いて、図6(b)に示すように、マスク版52の開口部56にマイクロニードル44を挿入する。その後、図6(c)に示すように、マスク版52の開口部56からマイクロニードル44を引き出す。これにより、マイクロニードル44上に塗布液50を付着させる。なお、塗布液50は基板42上に付着させてもよい。   6A, 6 </ b> B, and 6 </ b> C are diagrams illustrating an example of a method for producing the microneedle formulation 40. This method is called a dip method. In this method, first, as shown in FIG. 6A, the coating solution 50 is swept in the direction of arrow A by a spatula 54 on a mask plate 52. Thereby, the coating liquid 50 is filled in the opening 56. Subsequently, as shown in FIG. 6B, the microneedle 44 is inserted into the opening 56 of the mask plate 52. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the microneedle 44 is pulled out from the opening 56 of the mask plate 52. Thereby, the coating liquid 50 is adhered onto the microneedle 44. The coating liquid 50 may be attached on the substrate 42.

図6(a)、(b)及び(c)に示す作業を塗布チャンバー内において行うことで、マイクロニードル製剤を製造するわけであるが、その際の条件として、本実施形態に係るシステムを用いることによって、塗布チャンバー内を、温湿度を制御した無菌状態の空気環境にする。具体的には、本システムにおける各装置を起動させ、空気圧縮機から供給された空気を所望の環境に調節し、塗布チャンバー内に吹き込む。塗布チャンバー内の温湿度計測結果を恒温水槽などにフィードバックすることによって、安定的に所望の温湿度の空気環境を維持する。このようにして得られる空気環境下で塗布を行うことによって、一定の薬剤含量である塗布液をマイクロニードルに安定的に塗布することができる。   The microneedle preparation is manufactured by performing the operations shown in FIGS. 6A, 6B, and 6C in the coating chamber, and the system according to the present embodiment is used as a condition at that time. As a result, the inside of the coating chamber is made an aseptic air environment in which the temperature and humidity are controlled. Specifically, each device in the present system is activated, the air supplied from the air compressor is adjusted to a desired environment, and blown into the coating chamber. An air environment having a desired temperature and humidity is stably maintained by feeding back the temperature and humidity measurement results in the coating chamber to a constant temperature water tank or the like. By applying in the air environment thus obtained, a coating solution having a certain drug content can be stably applied to the microneedles.

上述のようにして塗布を行った後、風乾、真空乾燥、又はそれらの組み合わせの既知の方法により、マイクロニードル44上の塗布液50の揮発成分を除去する。これにより、マイクロニードル44上に塗布層46が強固に付着し、典型的にはガラス質又は固形状になり、マイクロニードル製剤40が製造される。塗布層46の水分含有量は通常、塗布層46の全量基準で55質量%以下、好ましくは、30質量%以下、さらには10質量%以下である。上記方法により、付着した塗布液50の液ダレが防止される。液ダレとは、針先から塗布液が垂れてくることを指し、図6(c)ではH部分が長くなることを意味する。   After coating as described above, the volatile components of the coating liquid 50 on the microneedles 44 are removed by a known method such as air drying, vacuum drying, or a combination thereof. As a result, the coating layer 46 adheres firmly on the microneedles 44 and typically becomes vitreous or solid, and the microneedle preparation 40 is manufactured. The water content of the coating layer 46 is usually 55% by mass or less, preferably 30% by mass or less, and further 10% by mass or less based on the total amount of the coating layer 46. By the above method, dripping of the applied coating solution 50 is prevented. Liquid dripping means that the coating liquid drips from the tip of the needle, and means that the H portion becomes longer in FIG.

マイクロニードル44上に付着している塗布層46の高さHは、図6(b)に示すクリアランス(ギャップ)Cで調整される。このクリアランスCは、マイクロニードル44の基底からマスク版52表面までの距離(基板42の厚みは関与しない)で定義され、マスク版52のテンションとマイクロニードル44の長さに応じて設定される。クリアランスCの距離の範囲は、好ましくは、0〜500μmである。クリアランスCの距離が0の場合には、塗布液50がマイクロニードル44の全体に対して塗付されることを意味する。マイクロニードル44上に付着している塗布液50の高さHはマイクロニードル44の高さによって変動するが、0〜500μmとすることができ、通常10〜500μmであり、好ましくは30〜300μm程度で、特に好ましくは40〜250μm程度である。塗布液50中の薬剤を有効に用いるためには、マイクロニードルの一部分、すなわちニードルの先端部分に集中的に存在させた方が好ましく、また、皮膚に対する刺激及び薬物の皮膚への移行率の観点からも、先端から200μmまでに存在させることが好ましい。塗布液50は、例えば高分子化合物を水溶液中に溶解させることができ、高い粘度を有することから、マイクロニードルの一部分に塗布層46を形成することが可能となる。このような形でマイクロニードル44上に保持された塗布液50は、マイクロニードル44を皮膚へ穿刺させたときに同時に皮内へ挿入される。   The height H of the coating layer 46 attached on the microneedle 44 is adjusted by a clearance (gap) C shown in FIG. This clearance C is defined by the distance from the base of the microneedle 44 to the surface of the mask plate 52 (the thickness of the substrate 42 is not involved), and is set according to the tension of the mask plate 52 and the length of the microneedle 44. The distance range of the clearance C is preferably 0 to 500 μm. When the distance of the clearance C is 0, it means that the coating liquid 50 is applied to the entire microneedle 44. The height H of the coating solution 50 adhering to the microneedles 44 varies depending on the height of the microneedles 44, but can be 0 to 500 μm, usually 10 to 500 μm, and preferably about 30 to 300 μm. Especially preferably, it is about 40-250 micrometers. In order to effectively use the drug in the coating solution 50, it is preferable that the drug is concentrated on a part of the microneedle, that is, the tip part of the needle, and in terms of stimulation to the skin and the rate of transfer of the drug to the skin. Therefore, it is preferable to be present up to 200 μm from the tip. The coating liquid 50 can dissolve, for example, a polymer compound in an aqueous solution and has a high viscosity, so that the coating layer 46 can be formed on a part of the microneedle. The coating solution 50 held on the microneedles 44 in this manner is simultaneously inserted into the skin when the microneedles 44 are punctured into the skin.

マイクロニードル44上に付着している塗布層46の乾燥後の厚さは50μm未満であることが好ましく、より好ましくは40μm未満、さらに好ましくは1〜30μmである。一般に、マイクロニードル上に付着している塗布層46の厚さは、乾燥後にマイクロニードル44の表面にわたって測定される平均の厚さである。マイクロニードル44上に付着している塗布層46の厚さは、塗布液50の複数の被膜を適用することにより増大させること、すなわち、塗布液50を付着させた後に付着工程を繰り返すことで増大させることができる。   The thickness of the coating layer 46 attached on the microneedles 44 after drying is preferably less than 50 μm, more preferably less than 40 μm, and even more preferably 1 to 30 μm. In general, the thickness of the coating layer 46 deposited on the microneedles is an average thickness measured across the surface of the microneedles 44 after drying. The thickness of the coating layer 46 adhering onto the microneedle 44 is increased by applying a plurality of coatings of the coating solution 50, that is, by repeating the deposition process after the coating solution 50 is deposited. Can be made.

塗布液50に含まれる薬剤としては、例えば、ペプチド、タンパク質、DNA、RNA等の高分子化合物が考えられるが特に限定されず、分子量が1000程度であれば、ワクチン、低分子ペプチド、糖、核酸等であってもよい。生理活性物質としては、例えば、ナルトレキソン、酢酸セトロレリクス、タルチレリン、ナファレリン酢酸塩、プロスタグランジンA1、アルプロスタジル、α−インターフェロン、多発性硬化症のためのβ−インターフェロン、エリスロポイエチン、フォリトロピンβ、フォリトロピンα、G−CSF、GM−CSF、ヒト絨毛性腺刺激ホルモン、黄体形成(leutinizing)ホルモン、サケカルシトニン、グルカゴン、GNRH アンタゴニスト、インスリン、ヒト成長ホルモン、フィルグラスチン、ヘパリン、低分子ヘパリン、ソマトロピン、インクレチン、GLP−1誘導体等が挙げられる。また、ワクチン類の例としては、日本脳炎ワクチン、ロタウィルスワクチン、アルツハイマー病ワクチン、動脈硬化ワクチン、癌ワクチン、ニコチンワクチン、ジフテリアワクチン、破傷風ワクチン、百日咳ワクチン、ライム病ワクチン、狂犬病ワクチン、肺炎双球菌ワクチン、黄熱病ワクチン、コレラワクチン、種痘疹ワクチン、結核ワクチン、風疹ワクチン、麻疹ワクチン、おたふくかぜワクチン、ボツリヌスワクチン、ヘルペスウイルスワクチン、他のDNAワクチン、B型肝炎ワクチン等が挙げられる。   Examples of the drug contained in the coating solution 50 include high molecular compounds such as peptides, proteins, DNA, and RNA, but are not particularly limited. If the molecular weight is about 1000, vaccines, low molecular peptides, sugars, and nucleic acids. Etc. Examples of the physiologically active substance include naltrexone, cetrorelix acetate, tartilellin, nafarelin acetate, prostaglandin A1, alprostadil, α-interferon, β-interferon for multiple sclerosis, erythropoietin, follitropin β , Follitropin α, G-CSF, GM-CSF, human chorionic gonadotropin, luteinizing hormone, salmon calcitonin, glucagon, GNRH antagonist, insulin, human growth hormone, filgrastin, heparin, low molecular weight heparin, Examples include somatropin, incretin, and GLP-1 derivatives. Examples of vaccines include Japanese encephalitis vaccine, rotavirus vaccine, Alzheimer's disease vaccine, arteriosclerosis vaccine, cancer vaccine, nicotine vaccine, diphtheria vaccine, tetanus vaccine, pertussis vaccine, Lyme disease vaccine, rabies vaccine, pneumococcus pneumoniae Vaccines, yellow fever vaccines, cholera vaccines, seed urticaria vaccines, tuberculosis vaccines, rubella vaccines, measles vaccines, mumps vaccines, botulinum vaccines, herpes virus vaccines, other DNA vaccines, hepatitis B vaccines and the like.

その他、例えば、催眠・鎮静剤(塩酸フルラゼパム、塩酸リルマザホン、フェノバルビタール、アモバルビタール等)、解熱消炎鎮痛剤(酒石酸ブトルファノール、クエン酸ペリソキサール、アセトアミノフェン、メフェナム酸、ジクロフェナックナトリウム、アスピリン、アルクロフェナク、ケトプロフェン、フルルビプロフェン、ナプロキセン、ピロキシカム、ペンタゾシン、インドメタシン、サリチル酸グリコール、アミノピリン、ロキソプロフェン等)、ステロイド系抗炎症剤(ヒドロコルチゾン、プレドニゾロン、デキサメタゾン、ベタメタゾン等)、興奮・覚醒剤(塩酸メタンフェタミン、塩酸メチルフェニデート等)、精神神経用剤(塩酸イミプラン、ジアゼパム、塩酸セルトラリン、マレイン酸フルボキサミン、塩酸パロキセチン、臭化水素酸シタロプラム、塩酸フルオキセチン、アルプラゾラム、ハロペリドール、クロミプラミン、アミトリプチリン、デシプラミン、アモクサピン、マプロチリン、ミアンセリン、セチプチリン、トラザドン、ロヘプラミン、ミルナシプラン、デュロキセチン、ベンラフェキシン、塩酸クロルプロマジン、チオリダジン、ジアゼパム、メプロバメート、エチゾラム等)、ホルモン剤(エストラジオール、エストリオール、プロゲステロン、酢酸ノルエチステロン、酢酸メテロノン、テストステロン等)、局所麻酔剤(塩酸リドカイン、塩酸プロカイン、塩酸テトラカイン、塩酸ジブカイン、塩酸プロピトカイン等)、泌尿器官用剤(塩酸オキシブチニン、塩酸タムスロシン、塩酸プロピベリン等)、骨格筋弛緩剤(塩酸チザニジン、塩酸エペリゾン、メシル酸プリジノール、塩酸スキサメトニウム、等)、生殖器官用剤(塩酸リトドリン、酒石酸メルアドリン)、抗てんかん剤(バルプロ酸ナトリウム、クロナゼパム、カルバマゼピン等)、自律神経用剤(塩化カルプロニウム、臭化ネオスチグミン、塩化ベタネコール等)、抗パーキンソン病剤(メシル酸ペルゴリド、メシル酸ブロモクリプチン、塩酸トリヘキシフェニジル、塩酸アマンタジン、塩酸ロピニロール、塩酸タリペキソール、カベルゴリン、ドロキシドパ、ピペリデン、塩酸セレギリン等)、利尿剤(ヒドロフルメチアジド、フロセミド等)、呼吸促進剤(塩酸ロベリン、ジモルホラミン、塩酸ナロキソン等)、抗片頭痛剤(メシル酸ジヒドロエルゴタミン、スマトリプタン、酒石酸エルゴタミン、塩酸フルナリジン、塩酸サイプロヘプタジン等)、抗ヒスタミン剤(フマル酸クレマスチン、タンニン酸ジフェンヒドラミン、マレイン酸クロルフェニラミン、塩酸ジフェニルピラリン、プロメタジン等)、気管支拡張剤(塩酸ツロブテロール、塩酸プロカテロール、硫酸サルブタモール、塩酸クレンブテロール、臭化水素酸フェノテロ−ル、硫酸テルブタリン、硫酸イソプレナリン、フマル酸ホルモテロール等)、強心剤(塩酸イソプレナリン、塩酸ドパミン等)、冠血管拡張剤(塩酸ジルチアゼム、塩酸ベラパミル、硝酸イソソルビド、ニトログリセリン、ニコランジル等)、末梢血管拡張剤(クエン酸ニカメタート、塩酸トラゾリン等)、禁煙補助薬(ニコチン等)、循環器官用剤(塩酸フルナリジン、塩酸ニカルジピン、ニトレンジピン、ニソルジピン、フェロジピン、ベシル酸アムロジピン、ニフェジピン、ニルバジピン、塩酸マニジピン、塩酸ベニジピン、マレイン酸エナラプリル、塩酸デモカプリル、アラセプリル、塩酸イミダプリル、シラザプリル、リシノプリル、カプトプリル、トランドラプリル、ペリンドプリルエルブミン、アテノロール、フマル酸ビソプロロール、酒石酸メトプロロール、塩酸ベタキソロール、塩酸アロチノロール、塩酸セリプロロール、カルベジロール、塩酸カルテオロール、塩酸ベバントロール、バルサルタン、カンデサルタンシレキセチル、ロサルタンカリウム、塩酸クロニジン等)、不整脈用剤(塩酸プロプラノロール、塩酸アルプレノロール、塩酸プロカインアミド、塩酸メキシチレン、ナドロール、ジソピラミド等)、抗悪性潰瘍剤(シクロフォスファミド、フルオロウラシル、デガフール、塩酸プロカルバジン、ラニムスチン、塩酸イリノテカン、フルリジン等)、抗脂血症剤(プラバスタチン、シンバスタチン、ベザフィブレート、プロブコール等)、血糖降下剤(グリベンクラミド、クロルプロパミド、トルブタミド、グリミジンナトリウム、グリブゾール、塩酸ブホルミン)、消化性潰瘍治療剤(プログルミド、塩酸セトラキサート、スピゾフロン、シメチジン、臭化グリコピロニウム)、利胆剤(ウルソデスオキシコール酸、オサルミド等)、消化管運動改善剤(ドンペリドン、シサプリド等)、肝臓疾患用剤(チオプロニン等)、抗アレルギー剤(フマル酸ケトチフェン、塩酸アゼラスチン等)、抗ウイルス剤(アシクロビル等)、鎮暈剤(メシル酸ベタヒスチン、塩酸ジフェニドール等)、抗生剤(セファロリジン、セフジニル、セフポドキシムプロキセチル、セファクロル、クラリスロマイシン、エリスロマイシン、メチルエリスロマイシン、硫酸カナマイシン、サイクロセリン、テトラサイクリン、ベンジルペニシリンカリウム、プロピシリンカリウム、クロキサシンナトリウム、アンピシリンナトリウム、塩酸バカンピシリン、カルベニシリンナトリウム、クロラムフェニコール、等)、習慣性中毒用剤(シアナミド等)、食欲抑制剤(マジンドール等)、化学療法剤(イソニアシド、エチオナミド、ピラジナミド等)、血液凝固促進剤(塩酸チクロピジン、ワルファリンカリウム)、抗アルツハイマー剤(フィゾスチグミン、塩酸ドネペジル、タクリン、アレコリン、キサノメリン等)、セロトニン受容体拮抗制吐剤(塩酸オンダンセトロン、塩酸グラニセトロン、塩酸ラモセトロン、塩酸アザセトロン等)、痛風治療剤(コルヒチン、プロベネシド、スルフィンピラゾン等)、麻薬系の鎮痛剤(クエン酸フェンタニル、硫酸モルヒネ、塩酸モルヒネ、リン酸コデイン、塩酸コカイン、塩酸ペチジン等)が挙げられる。   Others such as hypnotic / sedative (flurazepam hydrochloride, rilmazaphone hydrochloride, phenobarbital, amobarbital, etc.), antipyretic analgesics (butorphanol tartrate, perisoxal citrate, acetaminophen, mefenamic acid, diclofenac sodium, aspirin, alclofenac, ketoprofen , Flurbiprofen, naproxen, piroxicam, pentazocine, indomethacin, glycol salicylate, aminopyrine, loxoprofen, etc.), steroidal anti-inflammatory agents (hydrocortisone, prednisolone, dexamethasone, betamethasone, etc.), stimulants / stimulants (methamphetamine hydrochloride, methylphenidate hydrochloride) Etc.), neuropsychiatric agents (imipran hydrochloride, diazepam, sertraline hydrochloride, fluvoxamine maleate, paroxy hydrochloride) Tin, Citalopram hydrobromide, fluoxetine hydrochloride, alprazolam, haloperidol, clomipramine, amitriptyline, desipramine, amoxapine, maprotiline, mianserin, cetiptiline, trazadone, lohepramine, milnacipran, duloxetine, venlafexine, chlorpromazine, thiolipazine Meprobamate, etizolam, etc.), hormonal agents (estradiol, estriol, progesterone, norethisterone acetate, metellonone acetate, testosterone, etc.), local anesthetics (lidocaine hydrochloride, procaine hydrochloride, tetracaine hydrochloride, dibucaine hydrochloride, propitocaine hydrochloride, etc.), urinary organs Preparations (oxybutynin hydrochloride, tamsulosin hydrochloride, propiverine hydrochloride, etc.), skeletal muscle relaxants (tizanidi hydrochloride) , Eperisone hydrochloride, pridinol mesylate, squismethonium hydrochloride, etc.), reproductive organs (ritodrine hydrochloride, meradrin tartrate), antiepileptics (sodium valproate, clonazepam, carbamazepine, etc.), autonomic agents (carpronium chloride, odor) Neostigmine, betanecol chloride, etc.), antiparkinsonian drugs (pergolide mesylate, bromocriptine mesylate, trihexyphenidyl hydrochloride, amantadine hydrochloride, ropinirole hydrochloride, talipexol hydrochloride, cabergoline, droxidopa, piperidene, selegiline hydrochloride, etc.), diuretics Hydroflumethiazide, furosemide, etc.), respiratory stimulant (loveline hydrochloride, dimorphoamine, naloxone hydrochloride, etc.), anti-migraine agent (dihydroergotamine mesylate, sumatriptan, ergotamine tartrate, fumaramine hydrochloride) Lunaridine, cyproheptadine hydrochloride, etc.), antihistamines (clemastine fumarate, diphenhydramine tannate, chlorpheniramine maleate, diphenylpyraline hydrochloride, promethazine, etc.), bronchodilators (tubuterol hydrochloride, procaterol hydrochloride, salbutamol sulfate, clenbuterol hydrochloride, Phenoterol hydrobromide, terbutaline sulfate, isoprenaline sulfate, formoterol fumarate, etc.), cardiotonic agents (isoprenalin hydrochloride, dopamine hydrochloride, etc.), coronary vasodilators (diltiazem hydrochloride, verapamil hydrochloride, isosorbide nitrate, nitroglycerin, nicorandil, etc.) , Peripheral vasodilators (such as nicamethate citrate, trazoline hydrochloride), smoking cessation aids (such as nicotine), circulatory organ agents (flunarizine hydrochloride, nicardipine hydrochloride, nitrendipine, Soldipine, felodipine, amlodipine besylate, nifedipine, nilvadipine, manidipine hydrochloride, benidipine hydrochloride, enalapril maleate, democapril hydrochloride, aracepril, imidapril hydrochloride, cilazapril, lisinopril, captopril, trandolapril, perindopril erbumine, atenoprolol, acid Metoprolol tartrate, betaxolol hydrochloride, arotinolol hydrochloride, seriprolol hydrochloride, carvedilol, carteolol hydrochloride, bevantolol hydrochloride, valsartan, candesartan cilexetil, losartan potassium, clonidine hydrochloride), arrhythmic agents (propranolol hydrochloride, alprenolol hydrochloride, Procainamide hydrochloride, mexitylene hydrochloride, nadolol, disopyramide, etc.), anti-malignant ulcer agent Cyclophosphamide, fluorouracil, degafur, procarbazine hydrochloride, ranimustine, irinotecan hydrochloride, fluridine, etc.), antilipidemic agents (pravastatin, simvastatin, bezafibrate, probucol, etc.), hypoglycemic agents (glibenclamide, chlorpropamide, tolbutamide, glycan Midine sodium, glybuzole, buformin hydrochloride), peptic ulcer treatment (proglumide, cetraxate hydrochloride, spizofuron, cimetidine, glycopyrronium bromide), algae (ursodesoxycholic acid, osalmid, etc.), gastrointestinal motility improver (Domperidone, cisapride, etc.), liver disease agents (thiopronin, etc.), antiallergic agents (ketotifen fumarate, azelastine hydrochloride, etc.), antiviral agents (acyclovir, etc.), antipruritic agents (betahistyl mesylate) , Diphenidol hydrochloride, etc.), antibiotics (cephalolidine, cefdinir, cefpodoxime proxetil, cefaclor, clarithromycin, erythromycin, methylerythromycin, kanamycin sulfate, cycloserine, tetracycline, benzylpenicillin potassium, propicillin potassium, chloroxy Sacin sodium, ampicillin sodium, bacampicillin hydrochloride, carbenicillin sodium, chloramphenicol, etc.), addictive addiction (cyanamide, etc.), appetite suppressant (mazindol, etc.), chemotherapeutic agents (isoniaside, etionamide, pyrazinamide, etc.), Blood coagulation promoters (ticlopidine hydrochloride, warfarin potassium), anti-Alzheimer drugs (physostigmine, donepezil hydrochloride, tacrine, arecoline, xanomeline, etc.) Tonin receptor antagonist antiemetics (ondansetron hydrochloride, granisetron hydrochloride, ramosetron hydrochloride, azasetron hydrochloride, etc.), gout treatments (colchicine, probenecid, sulfinpyrazone, etc.), narcotic analgesics (fentanyl citrate, morphine sulfate, Morphine hydrochloride, codeine phosphate, cocaine hydrochloride, pethidine hydrochloride, etc.).

なおこれらの薬剤は単独で用いても2種類以上併用してもよく、薬学的に許容できる塩であれば、無機塩又は有機塩のいずれの形態の薬物も当然含まれる。また、薬物は、塗布液中に包含させるのが基本であるが、塗布液中には薬剤を包含させずに別に後からマイクロニードルの基板に施された貫通孔より供給することもできる。塗布液中の(A)薬剤の含有量は、0.1〜80重量%であり、好ましくは1〜70重量%であり、特に好ましくは5〜60重量%である。   These drugs may be used singly or in combination of two or more, and naturally, any form of drug in the form of an inorganic salt or an organic salt is included as long as it is a pharmaceutically acceptable salt. In addition, the drug is basically included in the coating solution, but it can also be supplied from a through-hole formed in the substrate of the microneedle afterwards without including the drug in the coating solution. Content of (A) chemical | medical agent in a coating liquid is 0.1-80 weight%, Preferably it is 1-70 weight%, Especially preferably, it is 5-60 weight%.

塗布液は、上記薬剤とは異なる高分子化合物を含んでいてもよい。当該高分子化合物としては、例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリメチルセルロース、デキストラン、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、プルラン、カルメロースナトリウム、コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、デキストラン、アラビアゴム等が挙げられる。   The coating solution may contain a polymer compound different from the above-mentioned drug. Examples of the polymer compound include polyethylene oxide, polyhydroxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, polyhydroxypropylmethylcellulose, polymethylcellulose, dextran, polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, pullulan, carmellose sodium, chondroitin sulfate, and hyaluronic acid. Dextran, gum arabic and the like.

この他、塗布液には、必要に応じて溶解補助剤又は吸収促進剤として、炭酸プロピレン、クロタミトン、l−メントール、ハッカ油、リモネン、ジイソプロピルアジペート等や、薬効補助剤として、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール、l−メントール、チモール、ハッカ油、ノニル酸ワニリルアミド、トウガラシエキス等を添加してもよい。   In addition, the coating solution contains propylene carbonate, crotamiton, l-menthol, mint oil, limonene, diisopropyl adipate, etc. as a solubilizing agent or absorption accelerator as necessary, and methyl salicylate, glycol salicylate as medicinal aids. , L-menthol, thymol, peppermint oil, nonyl acid vanillylamide, pepper extract and the like may be added.

さらに、塗布液には、必要に応じて、安定化剤、抗酸化剤、乳化剤、界面活性剤、塩類等を添加してもよい。界面活性剤は、非イオン性活性剤、イオン性活性剤(カチオン、アニオン、両性)のいずれでもよいが、安全性の面から通常医薬品基剤に用いられる非イオン性活性剤が望ましい。さらに詳しくは、ショ糖脂肪酸エステルなどの糖アルコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等が挙げられる。   Furthermore, you may add a stabilizer, an antioxidant, an emulsifier, surfactant, salt etc. to a coating liquid as needed. The surfactant may be either a nonionic active agent or an ionic active agent (cation, anion, amphoteric), but from the viewpoint of safety, a nonionic active agent usually used for a pharmaceutical base is desirable. More specifically, sugar alcohol fatty acid esters such as sucrose fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, propylene glycol fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid Examples thereof include esters, polyoxyethylene castor oil, and polyoxyethylene hydrogenated castor oil.

他の既知の製剤補助物質は、それらが塗布液の塗布に必要な溶解性及び粘度の特徴、並びに乾燥された塗布層の性状及び物性に有害な影響を及ぼさない限り、塗布液に添加されてもよい。   Other known pharmaceutical auxiliary substances are added to the coating solution as long as they do not detrimentally affect the solubility and viscosity characteristics required for application of the coating solution and the properties and properties of the dried coating layer. Also good.

塗布液には、液だれすることのないよう、ある程度の粘性が必要であり、具体的には100〜100000cps程度の粘度が必要である。塗布液のより好ましい粘度は、100〜60000cpsであり、粘度がこの範囲にあることにより、マイクロニードル44の材質に依存することなく、所望量の塗布液を一度に塗布することが可能となる。また、一般的に粘度が高くなればなるほど塗布される塗布液の量が増える傾向にあり、粘度が600cps未満であるとき最低限の塗布液をマイクロニードル44に塗布することが困難になる。しかし、意外なことに45000cps以上であると逆に得られる塗布層46中の薬剤含量が減少に転じる。このような特徴から、塗布液の粘度を45000cps以上の粘度にすると、使用する薬剤に応じた塗布層46中の薬剤の含量が望めなくなり、経済的に好ましくないため、塗布液の粘度は、600〜45000cpsとすることが特に好ましい。   The coating solution needs to have a certain degree of viscosity so as not to spill, and specifically needs a viscosity of about 100 to 100,000 cps. A more preferable viscosity of the coating solution is 100 to 60000 cps. When the viscosity is within this range, a desired amount of the coating solution can be applied at a time without depending on the material of the microneedle 44. In general, the higher the viscosity is, the more the amount of coating solution to be applied tends to increase. When the viscosity is less than 600 cps, it becomes difficult to apply the minimum coating solution to the microneedles 44. However, surprisingly, the drug content in the coating layer 46 obtained on the contrary when it is 45000 cps or more starts to decrease. From such characteristics, if the viscosity of the coating solution is 45000 cps or more, the content of the drug in the coating layer 46 corresponding to the drug used cannot be expected, which is economically undesirable. It is especially preferable to set it to -45000 cps.

以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
コンプレッサー、圧縮空気温度調節装置、圧力調節装置、湿度調節装置、風量調節装置及びエアフィルターを、送風ラインをこの順に備えるマイクロニードル製剤製造用システムを作製した。湿度調節装置としては、中空糸モジュール及び恒温水槽を組み合わせて用いた。具体的には、中空糸モジュールの中空糸状膜の内部を、システム内に流れる気体が通過するように接続し、中空糸モジュールの中空糸状膜の外部に、恒温水槽から供給される一定温度の水が接触し恒温水槽と循環するように接続した。各装置を接続する送風ラインにはテフロン(登録商標)チューブ及びシリコンチューブを用い、断熱材としてチューブの周囲に気泡ニトリル系合成ゴム製保温材を設置した。使用した各装置の詳細は以下のとおりである。
コンプレッサー:制御圧力0.6〜0.8MPa、吐出し空気量85L/min
圧縮空気温度調節装置:電子冷熱式、設定排出温度23℃
風量調節装置:設定風量30L/min
エアフィルター:ポリテトラフルオロエチレン製、孔径0.2μm、有効面積50cm
恒温水槽:循環恒温水槽
中空糸モジュール:内径1mm、外形1.3mm、長さ300mmのフッ素系イオン交換樹脂製の中空糸を230本内蔵した、円筒形モジュール
圧力調節装置:フィードバック制御精密レギュレータ
作製したシステムを、塗布チャンバーにポリプロピレンチューブを介して接続した。塗布チャンバーとしてはアクリル製チャンバーを用いた。塗布チャンバーはさらにブースで覆い、ブース内の温湿度を精密温湿度ユニットによって管理した。恒温水槽を23℃に設定し、各装置を起動させた。圧力調節装置の設定圧力を0.1〜0.3Mpaにし、それぞれの圧力条件での塗布チャンバー内の相対湿度(%)を計測した。結果を表1に示す。圧力調節装置で中空糸モジュール内の圧力を制御することにより、塗布チャンバー内を70%(RH)以下の任意の湿度に調節することができ、30%(RH)程度の中程度の湿度に調節することも可能であった。
Example 1
A system for producing a microneedle preparation comprising a compressor, a compressed air temperature adjusting device, a pressure adjusting device, a humidity adjusting device, an air volume adjusting device and an air filter in this order was prepared. As the humidity control device, a hollow fiber module and a thermostatic water bath were used in combination. Specifically, the inside of the hollow fiber membrane of the hollow fiber module is connected so that the gas flowing in the system passes, and the water at a constant temperature supplied from the constant temperature water tank to the outside of the hollow fiber membrane of the hollow fiber module. Were connected to circulate with the constant temperature water bath. A Teflon (registered trademark) tube and a silicon tube were used for the blower line connecting each device, and a bubble nitrile synthetic rubber heat insulating material was installed around the tube as a heat insulating material. The details of each device used are as follows.
Compressor: control pressure 0.6-0.8MPa, discharge air volume 85L / min
Compressed air temperature control device: electronic cooling type, set discharge temperature 23 ° C
Air volume control device: Set air volume 30L / min
Air filter: Polytetrafluoroethylene, pore size 0.2 μm, effective area 50 cm 2
Constant temperature water tank: Circulating constant temperature water tank Hollow fiber module: Cylindrical module containing 230 hollow fibers made of fluorine-based ion exchange resin with an inner diameter of 1 mm, an outer diameter of 1.3 mm, and a length of 300 mm Pressure regulator: Feedback control precision regulator The system was connected to the application chamber via a polypropylene tube. An acrylic chamber was used as the coating chamber. The coating chamber was further covered with a booth, and the temperature and humidity inside the booth were controlled by a precision temperature and humidity unit. The constant temperature water bath was set to 23 ° C., and each device was started. The set pressure of the pressure adjusting device was set to 0.1 to 0.3 Mpa, and the relative humidity (%) in the coating chamber under each pressure condition was measured. The results are shown in Table 1. By controlling the pressure in the hollow fiber module with the pressure regulator, the inside of the coating chamber can be adjusted to an arbitrary humidity of 70% (RH) or less, and adjusted to a moderate humidity of about 30% (RH). It was also possible to do.

(実施例2)
実施例1と同様のシステムを用いて、湿度維持試験を行った。システムの各装置を起動させ、圧力調節装置の設定圧力を適宜変更することによって、塗布チャンバー内の湿度を調節した。塗布チャンバー内の湿度を経時的に測定した。結果を図7に示す。約30%(図7(a))、約50%(図7(b))、約70%(図7(c))のそれぞれの湿度において、長時間にわたって塗布チャンバー内の湿度を一定に維持することが可能であった。
(Example 2)
Using the same system as in Example 1, a humidity maintenance test was performed. The humidity in the coating chamber was adjusted by starting each device of the system and appropriately changing the set pressure of the pressure adjusting device. The humidity in the coating chamber was measured over time. The results are shown in FIG. At a humidity of about 30% (FIG. 7 (a)), about 50% (FIG. 7 (b)), and about 70% (FIG. 7 (c)), the humidity in the coating chamber is kept constant for a long time. It was possible to do.

(実施例3)
実施例1の方法で温湿度を23℃、60%(RH)に調節した塗布チャンバー内で、マイクロニードルデバイスへの塗布試験を行った。塗布試験の具体的な方法は以下のとおりである。
(マイクロニードル)
材質:ポリ乳酸、高さ:500μm、密度:625本/cm、マイクロニードルデバイスの製剤面積:1cm/patch
(塗布液)
安息香酸ナトリウムを2質量%、デキストラン40を38質量%、グリセリンを48質量%、精製水を12質量%の割合で混合し、塗布液を得た。
(Example 3)
In the coating chamber in which the temperature and humidity were adjusted to 23 ° C. and 60% (RH) by the method of Example 1, a coating test on the microneedle device was performed. The specific method of the application test is as follows.
(Microneedle)
Material: Polylactic acid, Height: 500 μm, Density: 625 / cm 2 , Microneedle device formulation area: 1 cm 2 / patch
(Coating solution)
Sodium benzoate 2% by mass, dextran 40 38% by mass, glycerin 48% by mass and purified water 12% by mass were mixed to obtain a coating solution.

マイクロニードルへの塗布液の塗布を、上述の図6(a)〜(c)に示す方法で行った。塗布チャンバー内に設置したメタルマスク版(厚さ75μm、開口径250μm、ピッチ400μm)に、得られた塗布液をヘラにより掃引し、メタルマスク版の開口部に充填した。充填した開口部にマイクロニードルを挿入させた後引き出すことにより、マイクロニードルに塗布液を塗布した。塗布後のマイクロニードルを風乾後、室温にて保存した。100枚のマイクロニードルデバイスに塗布し、10枚毎に1枚抽出して、塗布された安息香酸ナトリウム量を定量した。安息香酸ナトリウムの定量方法としては、風乾後のマイクロニードル上の薬剤を1mlの水で抽出し、得られた抽出液中の安息香酸ナトリウム濃度を、HPLCを用いて測定した。得られた測定値から、マイクロニードル製剤1枚当たりの含量を算出した。結果を図8に示す。乾燥後のマイクロニードル上のモデル薬剤含有量の各デバイス間における変動は十分に小さく、安息香酸ナトリウムの平均含量は1.8μg、標準偏差は0.1μg、CV値は7.0%であった。   Application | coating of the coating liquid to a microneedle was performed by the method shown to the above-mentioned FIG.6 (a)-(c). The obtained coating solution was swept with a spatula into a metal mask plate (thickness 75 μm, opening diameter 250 μm, pitch 400 μm) installed in the coating chamber, and filled in the openings of the metal mask plate. The microneedles were inserted into the filled openings and then pulled out to apply the coating solution to the microneedles. The microneedle after application was air-dried and stored at room temperature. It apply | coated to 100 microneedle devices, 1 piece was extracted for every 10 pieces, and the amount of sodium benzoate applied was quantified. As a method for quantifying sodium benzoate, the drug on the microneedle after air drying was extracted with 1 ml of water, and the sodium benzoate concentration in the obtained extract was measured using HPLC. From the obtained measured value, the content per microneedle preparation was calculated. The results are shown in FIG. The variation in the content of the model drug on the microneedle after drying was sufficiently small between devices, the average content of sodium benzoate was 1.8 μg, the standard deviation was 0.1 μg, and the CV value was 7.0%. .

(実施例4)
実施例1と同様のシステム及び図9に示す塗布チャンバーを用いて、風量調節試験を行った。塗布チャンバーのサイズは以下のとおりである。
高さ35mm、幅50mm、長さ205mm、容積約0.359L
排気口(開口)21:長方形、25mm×30mm
送風ラインLが接続された給気口:円形、直径16mm
Example 4
An air volume adjustment test was performed using the same system as in Example 1 and the coating chamber shown in FIG. The size of the coating chamber is as follows.
Height 35mm, width 50mm, length 205mm, volume about 0.359L
Exhaust port (opening) 21: Rectangular, 25 mm x 30 mm
Air supply port to which the air line L is connected: Circular, diameter 16mm

システムの各装置を起動させ、風量を風量調節装置によって表2に示す各値に設定し、必要に応じて恒温水槽温度、循環水量及び圧縮空気温度を適宜調節した。塗布チャンバー内に中央と四隅の計5つの測定位置pを設け、それぞれ塗布チャンバーの高さの2分の1の高さの位置とした。各測定位置pにおいて湿度を測定し、5点の平均湿度、標準偏差(SD)及びCV値を求めた。結果を表2に示す。風量がいずれの値であっても湿度を任意に調節することが可能であったが、風量が一定量以上である場合、塗布チャンバー内の湿度をより均一に調節することが可能であった。   Each device of the system was started, the air volume was set to each value shown in Table 2 by the air volume controller, and the constant temperature water tank temperature, the circulating water volume and the compressed air temperature were appropriately adjusted as necessary. A total of five measurement positions p in the center and at the four corners were provided in the coating chamber, and the positions were each one-half the height of the coating chamber. Humidity was measured at each measurement position p, and five points of average humidity, standard deviation (SD), and CV value were determined. The results are shown in Table 2. It was possible to arbitrarily adjust the humidity regardless of the air volume, but when the air volume was a certain amount or more, it was possible to adjust the humidity in the coating chamber more uniformly.

(比較例1)
コンプレッサー、圧縮空気温度調節装置、風量調節装置、エアフィルター及び湿度調節装置をこの順に備えるマイクロニードル製剤製造用システムを作製した。各装置は、実施例1と共通するものについては実施例1と同様のものを用いた。作製したマイクロニードル製剤製造用システムを、実施例1と同様に、アクリル製塗布チャンバーにポリプロピレンチューブを介して接続した。塗布チャンバーはさらにブースで覆い、ブース内の温湿度を精密温湿度ユニットによって管理した。各装置を起動させ、塗布チャンバー内を、温湿度を調節した空気で満たした。
(Comparative Example 1)
A system for producing a microneedle preparation comprising a compressor, a compressed air temperature adjusting device, an air flow adjusting device, an air filter and a humidity adjusting device in this order was produced. The same devices as in Example 1 were used for each device in common with Example 1. The produced microneedle preparation production system was connected to an acrylic coating chamber via a polypropylene tube in the same manner as in Example 1. The coating chamber was further covered with a booth, and the temperature and humidity inside the booth were controlled by a precision temperature and humidity unit. Each apparatus was started, and the inside of the coating chamber was filled with air with adjusted temperature and humidity.

塗布チャンバー内の温度及び湿度を経時的に測定した。結果を図10(a)、(b)に示す。比較例1のシステムでは、塗布チャンバー内の温度及び湿度を所望の範囲に調節することができたものの、中空糸モジュール内に循環する水の温度を下げても、湿度を70%(RH)未満に下げた状態で安定させることは困難であった。   The temperature and humidity in the coating chamber were measured over time. The results are shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). In the system of Comparative Example 1, the temperature and humidity in the coating chamber could be adjusted to a desired range, but the humidity was less than 70% (RH) even when the temperature of the water circulating in the hollow fiber module was lowered. It was difficult to stabilize in the state lowered to.

(比較例2)
コンプレッサー、風量調節装置及び湿度調節装置を、送風ラインを介してこの順に接続した。コンプレッサー及び風量調節装置は実施例1と同じものを用い、同様に設定を行った。湿度調節装置としては循環恒温水槽のみを用いた。塗布チャンバー内の温度及び相対湿度の推移を計測した。結果を図11(a)、(b)に示す。塗布チャンバー内の温度には日間及び日内で変動が見られた。また、塗布チャンバー内の相対湿度も大きく変動していた。
(Comparative Example 2)
The compressor, the air volume control device, and the humidity control device were connected in this order via the air blowing line. The same compressor and air volume adjusting device as in Example 1 were used, and settings were made in the same manner. Only a circulating water bath was used as the humidity control device. Changes in temperature and relative humidity in the coating chamber were measured. The results are shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b). The temperature in the coating chamber varied between days and days. Moreover, the relative humidity in the coating chamber also fluctuated greatly.

10…空気圧縮機、12…圧縮空気温度調節装置、14…風量調節装置、16…エアフィルター、18…湿度調節装置、20…塗布チャンバー、21…開口、22…水分供給器、23…透湿膜、24…透湿膜装置、26…温湿度センサー(温度センサー及び湿度センサー)、28…制御装置(第1〜第6の制御手段)、30…圧力調節装置、40…マイクロニードル製剤、42…基板、44…マイクロニードル、46…塗布層、50…塗布液、52…マスク版、54…ヘラ、56…開口部、100,200…マイクロニードル製剤製造用システム、L…送風ライン。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Air compressor, 12 ... Compressed air temperature control apparatus, 14 ... Air volume control apparatus, 16 ... Air filter, 18 ... Humidity control apparatus, 20 ... Coating chamber, 21 ... Opening, 22 ... Moisture supply device, 23 ... Moisture permeability Membrane, 24 ... moisture permeable membrane device, 26 ... temperature / humidity sensor (temperature sensor and humidity sensor), 28 ... control device (first to sixth control means), 30 ... pressure adjusting device, 40 ... microneedle formulation, 42 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Substrate, 44 ... Microneedle, 46 ... Coating layer, 50 ... Coating liquid, 52 ... Mask plate, 54 ... Spatula, 56 ... Opening, 100, 200 ... Microneedle preparation manufacturing system, L ... Air blowing line.

Claims (14)

マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布してマイクロニードル製剤を製造するためのマイクロニードル製剤製造用システムであって、
マイクロニードルに薬剤を含む塗布液を塗布するための塗布チャンバーと、
前記塗布チャンバーに送風ラインを介して接続される空気圧縮機と、
前記送風ラインに設けられ、前記空気圧縮機から供給される空気の湿度を30〜70%(RH)に調節するためのものであり、前記空気と湿度調節源たる水分とが透湿膜で分離されている透湿膜型である湿度調節装置と、
前記送風ラインに設けられ、前記空気圧縮機から供給される空気の圧力を調節する圧力調節装置と、
前記送風ラインに設けられ、前記塗布チャンバー内に供給される空気を除菌するエアフィルターと
を備えるマイクロニードル製剤製造用システム。
A Ma Ikuronidoru formulations manufacturing system for manufacturing a microneedle formulation a coating solution containing a drug is coated on the microneedles,
A coating chamber for coating a microneedle with a coating solution containing a drug;
An air compressor connected to the coating chamber via a blower line ;
It is provided in the blower line and is used to adjust the humidity of air supplied from the air compressor to 30 to 70% (RH) , and the air and moisture as a humidity adjusting source are separated by a moisture permeable membrane. A humidity control device that is a moisture permeable membrane type,
A pressure adjusting device that is provided in the air blowing line and adjusts the pressure of air supplied from the air compressor;
A system for producing a microneedle preparation , comprising an air filter provided in the blowing line and for sterilizing air supplied into the coating chamber.
前記透湿膜が中空糸状に形成されたものである、請求項1に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to claim 1, wherein the moisture permeable membrane is formed in a hollow fiber shape. 湿度センサーと、前記湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて前記圧力調節装置を制御する第1の制御手段とを備える、請求項1又は2に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to claim 1 or 2, comprising a humidity sensor and first control means for controlling the pressure adjusting device based on a signal corresponding to humidity detected by the humidity sensor. 温度センサーと、前記温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて前記圧力調節装置を制御する第2の制御手段とを備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The microneedle according to any one of claims 1 to 3, further comprising: a temperature sensor; and second control means for controlling the pressure adjusting device based on a signal corresponding to a temperature detected by the temperature sensor. System for pharmaceutical production. 前記空気圧縮機から供給される空気の温度を調節する圧縮空気温度調節装置を備える、請求項1〜4のいずれか一項に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to any one of claims 1 to 4, further comprising a compressed air temperature adjusting device that adjusts a temperature of air supplied from the air compressor. 湿度センサーと、前記湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて前記圧縮空気温度調節装置を制御する第3の制御手段とを備える、請求項5に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to claim 5, comprising a humidity sensor and third control means for controlling the compressed air temperature adjusting device based on a signal corresponding to humidity detected by the humidity sensor. 温度センサーと、前記温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて前記圧縮空気温度調節装置を制御する第4の制御手段とを備える、請求項5又は6に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The microneedle preparation production according to claim 5 or 6, comprising a temperature sensor and a fourth control means for controlling the compressed air temperature adjusting device based on a signal corresponding to a temperature detected by the temperature sensor. system. 前記湿度調節装置が、水分を供給する水分供給器を備える、請求項1〜7のいずれか一項に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to any one of claims 1 to 7, wherein the humidity control device includes a water supply device for supplying water. 前記水分供給器が恒温水槽である、請求項8に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to claim 8, wherein the water supply device is a constant temperature water tank. 前記水分供給器が水温を調節可能であるものである、請求項8又は9に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for producing a microneedle preparation according to claim 8 or 9, wherein the water supplier is capable of adjusting a water temperature. 湿度センサーと、前記湿度センサーにより検出される湿度に対応する信号に基づいて前記水分供給器の水温を制御する第5の制御手段とを備える、請求項10に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The system for manufacturing a microneedle preparation according to claim 10, comprising a humidity sensor and a fifth control means for controlling the water temperature of the water supply device based on a signal corresponding to the humidity detected by the humidity sensor. 温度センサーと、前記温度センサーにより検出される温度に対応する信号に基づいて前記水分供給器の水温を制御する第6の制御手段とを備える、請求項10又は11に記載のマイクロニードル製剤製造用システム。   The microneedle preparation production according to claim 10 or 11, comprising: a temperature sensor; and sixth control means for controlling the water temperature of the water supply unit based on a signal corresponding to the temperature detected by the temperature sensor. system. 送風ラインに設けられた、空気と湿度調節源たる水分とが透湿膜で分離されている透湿膜型である湿度調節装置に、前記送風ラインに設けられた圧力調節装置によって圧力を調節した空気を導入し、塗布チャンバーに送風ラインを通して送り込む空気の湿度を前記湿度調節装置によって30〜70%(RH)に調節する工程と、
記空気を前記送風ラインに設けられたエアフィルターによって除菌する工程と、
湿度が調節され除菌された前記空気を前記塗布チャンバーに導入する工程と
前記塗布チャンバー内に、薬剤を含む塗布液、及びマイクロニードルを用意する工程と、
湿度が調節され除菌された前記空気が送り込まれた前記塗布チャンバー内で、前記マイクロニードルに前記塗布液を塗布する工程と
を含む、マイクロニードル製剤の製造方法。
Provided blowing line, adjusting the pressure and serving air and humidity control source water to the humidity control apparatus is a moisture permeable membrane are separated by the moisture permeable membrane, the pressure regulating device provided in the air blowing line Adjusting the humidity of the air introduced into the coating chamber through the blower line to 30 to 70% (RH) by the humidity adjusting device ;
A step of sterilization by an air filter provided in front Symbol air into the blower line,
Introducing the air whose humidity is controlled and sterilized into the coating chamber ;
Preparing a coating liquid containing a drug and a microneedle in the coating chamber;
In humidity within regulated the coating chamber in which the air that has been sterilization is fed, comprising said <br/> the step of applying the coating solution to the microneedle method microneedles formulation.
前記塗布液が塗布されたマイクロニードルを乾燥する工程を更に含む、請求項13に記載の製造方法。The manufacturing method of Claim 13 which further includes the process of drying the microneedle with which the said coating liquid was apply | coated.
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