JP6097089B2 - Sealant for liquid crystal display element, vertical conduction material, and liquid crystal display element - Google Patents
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- Liquid Crystal (AREA)
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Description
本発明は、厚みの薄い基板を用いた場合であっても、ギャップムラの発生を抑制して優れた表示性能を有する液晶表示素子を得ることができる液晶表示素子用シール剤に関する。また、本発明は、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a sealant for a liquid crystal display element capable of obtaining a liquid crystal display element having excellent display performance by suppressing the occurrence of gap unevenness even when a thin substrate is used. Moreover, this invention relates to the vertical conduction material and liquid crystal display element which use this sealing compound for liquid crystal display elements.
近年、液晶表示セル等の液晶表示素子の製造方法は、タクトタイム短縮、使用液晶量の最適化といった観点から、従来の真空注入方式から、例えば、特許文献１に開示されているような光硬化型の樹脂組成物からなるシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶滴下方式にかわりつつある。 In recent years, a method for manufacturing a liquid crystal display element such as a liquid crystal display cell has been developed from a conventional vacuum injection method in view of shortening tact time and optimizing the amount of liquid crystal used, for example, photocuring as disclosed in Patent Document 1. A liquid crystal dropping method called a dropping method using a sealing agent made of a mold resin composition is being replaced.
滴下工法では、まず、２枚の電極付き透明基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、必要に応じて液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができ、現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。 In the dropping method, first, a rectangular seal pattern is formed on one of two transparent substrates with electrodes by dispensing. Next, fine droplets of liquid crystal are dropped onto the entire surface of the transparent substrate in an uncured state, and the other transparent substrate is immediately overlaid, and the seal portion is irradiated with light such as ultraviolet rays for temporary curing. . Thereafter, if necessary, heating is performed during liquid crystal annealing to perform main curing, and a liquid crystal display element is manufactured. If the substrates are bonded together under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with extremely high efficiency, and this dripping method is currently the mainstream method for manufacturing liquid crystal display elements.
液晶表示素子の基板にはガラス基板が多く用いられており、液晶表示素子の軽量化等を目的として、従来１ｍｍ程度であったガラス基板の厚みを０．３〜０．５ｍｍ程度に薄くする傾向にある。しかしながら、このように厚みの薄い基板を用いる場合、液晶表示素子の製造工程において、シール剤の効果や液晶アニール等の際に加熱を行った際、基板に反りが生じることがあった。基板に反りが生じると、シール剤が剥離しやすくなって液晶表示素子のセルギャップが均一でなくなり、その結果、液晶表示素子に色むら等の表示不良が発生することがあるという問題があった。 A glass substrate is often used as a substrate for a liquid crystal display element. For the purpose of reducing the weight of the liquid crystal display element, etc., the thickness of the glass substrate, which has conventionally been about 1 mm, tends to be reduced to about 0.3 to 0.5 mm. It is in. However, when such a thin substrate is used, the substrate may be warped in the manufacturing process of the liquid crystal display element when heating is performed during the effect of the sealing agent or liquid crystal annealing. When the substrate is warped, the sealing agent is easily peeled off and the cell gap of the liquid crystal display element is not uniform. As a result, there is a problem that display defects such as color unevenness may occur in the liquid crystal display element. .
本発明は、厚みの薄い基板を用いた場合であっても、ギャップムラの発生を抑制して優れた表示性能を有する液晶表示素子を得ることができる液晶表示素子用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。 The present invention provides a sealing agent for a liquid crystal display element capable of obtaining a liquid crystal display element having excellent display performance by suppressing occurrence of gap unevenness even when a thin substrate is used. Objective. Another object of the present invention is to provide a vertical conduction material and a liquid crystal display element using the sealing agent for a liquid crystal display element.
本発明は、硬化性樹脂と、充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤とを含有する液晶表示素子用シール剤であって、上記硬化性樹脂は、硬化性樹脂に対してメタクリル基を有する樹脂を５０重量％以上含有し、上記充填剤は、シリカとシリカ以外の充填剤とからなり、上記充填剤の含有量が、前記硬化性樹脂１００重量部に対して３５〜８０重量部であり、上記シリカの含有量が上記硬化性樹脂１００重量部に対して１２重量部以上４０重量部未満である液晶表示素子用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is a sealing agent for a liquid crystal display element containing a curable resin, a filler, a radical polymerization initiator and / or a thermosetting agent, and the curable resin is a methacrylic compound for the curable resin. 50% by weight or more of a resin having a group, and the filler is composed of silica and a filler other than silica, and the content of the filler is 35 to 80% by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. Part of the silica, and the content of the silica is 12 parts by weight or more and less than 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin.
The present invention is described in detail below.
本発明者は、メタクリル基を有する樹脂を主成分とする硬化性樹脂と、シリカを含有する充填剤を特定量含有するシール剤を用いることにより、厚みの薄い基板を用いた場合であっても、ギャップムラの発生を抑制して優れた表示性能を有する液晶表示素子を得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventor can use a thin substrate by using a curable resin whose main component is a resin having a methacryl group and a sealant containing a specific amount of a filler containing silica. The inventors have found that a liquid crystal display element having excellent display performance can be obtained by suppressing the occurrence of gap unevenness, and the present invention has been completed.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
上記硬化性樹脂は、硬化性樹脂に対してメタクリル基を有する樹脂を５０重量％以上含有する。
上記メタクリル基を有する樹脂は、ガラス転移温度が高いため、上記メタクリル基を有する樹脂を硬化性樹脂の主成分とする本発明の液晶表示素子用シール剤は、加熱時の寸法変化が小さくなり、基板の反りを緩和することができる。
The sealing agent for liquid crystal display elements of this invention contains curable resin.
The said curable resin contains 50 weight% or more of resin which has a methacryl group with respect to curable resin.
Since the resin having a methacryl group has a high glass transition temperature, the sealing agent for a liquid crystal display element of the present invention having the resin having the methacryl group as a main component of a curable resin has a small dimensional change during heating. The warpage of the substrate can be reduced.
上記メタクリル基を有する樹脂は特に限定されず、例えば、メタクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、メタクリル酸とエポキシ樹脂とを反応させることにより得られるエポキシメタクリレート、イソシアネートに水酸基を有するメタクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタンメタクリレート等が挙げられる。なかでも液晶の汚染を抑制する効果に優れることから、エポキシメタクリレートが好適である。
なお、本明細書において、上記エポキシメタクリレートとは、エポキシ樹脂中の全てのエポキシ基をメタクリル酸と反応させた化合物のことを表す。
The resin having a methacryl group is not particularly limited. For example, an ester compound obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with methacrylic acid, an epoxy methacrylate obtained by reacting methacrylic acid and an epoxy resin, and a hydroxyl group with isocyanate. And urethane methacrylate obtained by reacting a methacrylic acid derivative having Of these, epoxy methacrylate is preferred because of its excellent effect of suppressing liquid crystal contamination.
In addition, in this specification, the said epoxy methacrylate represents the compound which made all the epoxy groups in an epoxy resin react with methacrylic acid.
上記エポキシメタクリレートは特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂とメタクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られるもの等が挙げられる。 The epoxy methacrylate is not particularly limited, and examples thereof include those obtained by reacting an epoxy resin and methacrylic acid in the presence of a basic catalyst according to a conventional method.
上記エポキシメタクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂は特に限定されず、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物等が挙げられる。 The epoxy resin used as a raw material for synthesizing the above-mentioned epoxy methacrylate is not particularly limited, and bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, 2,2′-diallyl bisphenol A type epoxy resin, water Bisphenol type epoxy resin, propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, sulfide type epoxy resin, diphenyl ether type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type Epoxy resin, ortho-cresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene novolac epoxy resin, biphenyl novolac epoxy resin, naphthalene Nord novolak type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, alkyl polyol type epoxy resin, rubber-modified epoxy resins, glycidyl ester compounds.
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ｊＥＲ８２８ＥＬ、ｊＥＲ１００４（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ４００４（いずれも三菱化学社製）等が挙げられる。
上記ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＥＸＡ１５１４（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＥＸＡ７０１５（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＥＰ−４０００Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ｊＥＲＹＸ−４０００Ｈ（三菱化学社製）等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＹＳＬＶ−５０ＴＥ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＹＳＬＶ−８０ＤＥ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＥＰ−４０８８Ｓ（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＨＰ４０３２、エピクロンＥＸＡ−４７００（いずれもＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＮ−７７０（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＮ−６７０−ＥＸＰ−Ｓ（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、エピクロンＨＰ７２００（ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＥＳＮ−１６５Ｓ（新日鐵化学社製）等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ｊＥＲ６３０（三菱化学社製）、エピクロン４３０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ（三菱ガス化学社製）等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＺＸ−１５４２（新日鐵化学社製）、エピクロン７２６（ＤＩＣ社製）、エポライト８０ＭＦＡ（共栄社化学社製）、デナコールＥＸ−６１１（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されている樹脂としては、例えば、ＹＲ−４５０、ＹＲ−２０７（いずれも新日鐵化学社製）、エポリードＰＢ（ダイセル化学社製）等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されている化合物としては、例えば、デナコールＥＸ−１４７（ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
上記エポキシ樹脂のうちその他に市販されている樹脂としては、例えば、ＹＤＣ−１３１２、ＹＳＬＶ−８０ＸＹ、ＹＳＬＶ−９０ＣＲ（いずれも新日鐵化学社製）、ＸＡＣ４１５１（旭化成社製）、ｊＥＲ１０３１、ｊＥＲ１０３２（いずれも三菱化学社製）、ＥＸＡ−７１２０（ＤＩＣ社製）、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）等が挙げられる。
Examples of commercially available resins among the bisphenol A type epoxy resins include jER828EL, jER1004 (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like.
Examples of commercially available resins among the bisphenol F-type epoxy resins include jER806 and jER4004 (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
Examples of the commercially available resin among the bisphenol S-type epoxy resins include Epicron EXA1514 (manufactured by DIC).
Examples of the commercially available resin among the 2,2′-diallylbisphenol A type epoxy resins include RE-810NM (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
Examples of the commercially available resin among the hydrogenated bisphenol type epoxy resins include Epicron EXA7015 (manufactured by DIC).
Examples of commercially available resins among the propylene oxide-added bisphenol A type epoxy resins include EP-4000S (manufactured by ADEKA).
As a resin marketed among the said resorcinol type epoxy resins, EX-201 (made by Nagase ChemteX Corporation) etc. are mentioned, for example.
Examples of commercially available resins among the above biphenyl type epoxy resins include jERYX-4000H (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
Examples of the commercially available resin among the sulfide type epoxy resins include YSLV-50TE (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.).
Examples of the commercially available resin among the diphenyl ether type epoxy resins include YSLV-80DE (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.).
Among the above-mentioned dicyclopentadiene type epoxy resins, commercially available resins include, for example, EP-4088S (manufactured by ADEKA).
Examples of commercially available resins among the naphthalene type epoxy resins include Epicron HP4032, Epicron EXA-4700 (both manufactured by DIC Corporation), and the like.
As a resin marketed among the said phenol novolak-type epoxy resins, Epicron N-770 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.
Examples of commercially available resins among the ortho-cresol novolac type epoxy resins include Epicron N-670-EXP-S (manufactured by DIC).
As resin marketed among the said dicyclopentadiene novolak-type epoxy resins, epicron HP7200 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.
As resin marketed among the said biphenyl novolak-type epoxy resins, NC-3000P (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
Among the naphthalene phenol novolac type epoxy resins, examples of commercially available resins include ESN-165S (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.).
Examples of the commercially available resin among the glycidylamine type epoxy resins include jER630 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron 430 (manufactured by DIC Corporation), TETRAD-X (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), and the like.
Among the above-mentioned alkyl polyol type epoxy resins, commercially available resins include, for example, ZX-1542 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Epicron 726 (manufactured by DIC Corporation), Epolite 80MFA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX- 611 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
Examples of commercially available resins among the rubber-modified epoxy resins include YR-450, YR-207 (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.
As a compound marketed among the said glycidyl ester compounds, Denacol EX-147 (made by Nagase ChemteX Corporation) etc. are mentioned, for example.
Among the above epoxy resins, other commercially available resins include, for example, YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), jER1031, jER1032 ( These include Mitsubishi Chemical Corporation), EXA-7120 (DIC Corporation), TEPIC (Nissan Chemical Corporation), and the like.
また、上記メタクリル基を有する樹脂は、エポキシ樹脂中の一部のエポキシ基をメタクリル酸と反応させた化合物（以下、部分メタクリル変性エポキシ樹脂ともいう）であってもよい。上記部分メタクリル変性エポキシ樹脂を合成するための原料となるエポキシ樹脂としては、上述したエポキシメタクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂と同様のものを用いることができる。
上記部分メタクリル変性エポキシ樹脂を用いた場合には、残存するエポキシ基によって高い接着性を発揮することができる。ただし、エポキシ基の残量が多くなれば液晶汚染性が高まる。従って、液晶非汚染性の点からは全てのエポキシ基がメタクリル化されたエポキシメタクリレートを用いることが好ましい。
上記部分メタクリル変性エポキシ樹脂を用いる場合には、必要とされる接着力と液晶非汚染性とを考慮したうえで、その配合量やエポキシ基残量を調整する必要がある。上記部分メタクリル変性エポキシ樹脂を用いる場合の上記部分メタクリル変性エポキシ樹脂の好ましい配合比は、上記メタクリル基を有する樹脂全体に対して１０〜５０重量％である。
The resin having a methacryl group may be a compound obtained by reacting a part of the epoxy group in the epoxy resin with methacrylic acid (hereinafter also referred to as a partially methacryl-modified epoxy resin). As an epoxy resin used as a raw material for synthesize | combining the said partial methacryl modified epoxy resin, the thing similar to the epoxy resin used as the raw material for synthesize | combining the epoxy methacrylate mentioned above can be used.
When the partially methacryl-modified epoxy resin is used, high adhesiveness can be exhibited by the remaining epoxy group. However, if the remaining amount of epoxy groups increases, the liquid crystal contamination increases. Therefore, it is preferable to use epoxy methacrylate in which all epoxy groups are methacrylated from the viewpoint of non-staining properties of liquid crystal.
In the case of using the partially methacryl-modified epoxy resin, it is necessary to adjust the blending amount and the epoxy group remaining amount in consideration of the required adhesive strength and liquid crystal non-contamination. When the partial methacryl-modified epoxy resin is used, a preferable blending ratio of the partial methacryl-modified epoxy resin is 10 to 50% by weight with respect to the entire resin having the methacryl group.
上記メタクリル基を有する樹脂は、液晶への悪影響を抑える点で、−ＯＨ基、−ＮＨ−基、−ＮＨ２基等の水素結合性の官能基を有するものが好ましい。
また、上記メタクリル基を有する樹脂は、反応性の高さから分子中にメタクリル基を２〜３個有するものが好ましい。
更に、上記メタクリル基を有する樹脂は、上記光重合開始剤との相溶性により優れたものとなることから、エチレンオキサイド変性又はプロピレンオキサイド変性したものであることが好適である。
The resin having a methacryl group is preferably a resin having a hydrogen bonding functional group such as —OH group, —NH— group, and —NH 2 group from the viewpoint of suppressing adverse effects on the liquid crystal.
The resin having a methacryl group is preferably one having 2 to 3 methacryl groups in the molecule because of its high reactivity.
Furthermore, since the resin having a methacryl group is more excellent in compatibility with the photopolymerization initiator, it is preferable that the resin be modified with ethylene oxide or propylene oxide.
上記メタクリル基を有する樹脂の含有量は、上記硬化性樹脂の５０重量％以上である。上記メタクリル基を有する樹脂の含有量が５０重量％未満であると、加熱時の基板の反りを緩和する効果が充分に発揮されなくなる。上記メタクリル基を有する樹脂の含有量の好ましい下限は７５重量％であり、より好ましい下限は９０重量％であり、上記硬化性樹脂は、上記メタクリル基を有する樹脂のみからなることが更に好ましい。 Content of the resin which has the said methacryl group is 50 weight% or more of the said curable resin. When the content of the resin having a methacryl group is less than 50% by weight, the effect of relaxing the warpage of the substrate during heating is not sufficiently exhibited. The minimum with preferable content of the resin which has the said methacryl group is 75 weight%, and a more preferable minimum is 90 weight%, and it is still more preferable that the said curable resin consists only of resin which has the said methacryl group.
上記メタクリル基を有する樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレートとレゾルシノール型エポキシメタクリレートとを含有することが好ましい。上記メタクリル基を有する樹脂１００重量部のうち、ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレートとレゾルシノール型エポキシメタクリレートとの合計の含有量は、２０〜６０重量部であることが好ましい。 The resin having a methacryl group preferably contains bisphenol A type epoxy methacrylate and resorcinol type epoxy methacrylate. The total content of bisphenol A type epoxy methacrylate and resorcinol type epoxy methacrylate in 100 parts by weight of the resin having a methacryl group is preferably 20 to 60 parts by weight.
上記硬化性樹脂は、接着性を向上させるために、部分メタクリル変性エポキシ樹脂以外の、エポキシ基を有するその他の樹脂を含有してもよい。
上記エポキシ基を有するその他の樹脂は特に限定されず、上述したエポキシメタクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂と同様のものを用いることができる。
In order to improve adhesiveness, the said curable resin may contain other resin which has an epoxy group other than a partial methacryl modified epoxy resin.
The other resin having the epoxy group is not particularly limited, and the same epoxy resin as a raw material for synthesizing the above-described epoxy methacrylate can be used.
上記硬化性樹脂が、部分メタクリル変性エポキシ樹脂やエポキシ基を有するその他の樹脂を含有する場合、メタクリル基（上記硬化性樹脂が後述するアクリル基を有する樹脂を含有する場合はメタクリル基とアクリル基の合計）とエポキシ基との比が７５：２５〜９５：５になるように上記エポキシ基を有する樹脂を配合することが好ましい。上記メタクリル基（上記硬化性樹脂が後述するアクリル基を有する樹脂を含有する場合はメタクリル基とアクリル基の合計）の比率が７５％未満であると、得られるシール剤によって液晶が汚染されることがある。上記メタクリル基（上記硬化性樹脂が後述するアクリル基を有する樹脂を含有する場合はメタクリル基とアクリル基の合計）の比率が９５％以上であると、得られる液晶表示素子用シール剤の接着力が充分に得られないことがある。 When the curable resin contains a partially methacryl-modified epoxy resin or other resin having an epoxy group, a methacryl group (if the curable resin contains a resin having an acrylic group described later, a methacryl group and an acrylic group It is preferable to blend the resin having the epoxy group so that the ratio of the total) to the epoxy group is 75:25 to 95: 5. If the ratio of the methacrylic group (the total of the methacrylic group and the acryl group when the curable resin contains a resin having an acrylic group described later) is less than 75%, the liquid crystal is contaminated by the obtained sealing agent. There is. Adhesive strength of the obtained sealing agent for liquid crystal display elements when the ratio of the methacrylic group (the total of the methacrylic group and the acrylic group when the curable resin contains a resin having an acrylic group described later) is 95% or more. May not be sufficiently obtained.
上記硬化性樹脂は、接着性や紫外線硬化性を向上させる等の目的で、上記硬化性樹脂に対する上記メタクリル基を有する樹脂の含有量が５０重量％以上となる範囲でアクリル基を有する樹脂を含有してもよい。
上記硬化性樹脂に対する上記アクリル基を有する樹脂の含有量の上限は５０重量％である。上記アクリル基を有する樹脂の含有量が５０重量％を超えると、シール剤のガラス転移温度が低くなるために、加熱時の基板の反りを緩和する効果が充分に発揮されなくなる。上記アクリル基を有する樹脂の含有量の好ましい下限は１０重量％である。
The curable resin contains a resin having an acrylic group in a range in which the content of the resin having the methacrylic group with respect to the curable resin is 50% by weight or more for the purpose of improving adhesiveness or ultraviolet curability. May be.
The upper limit of the content of the resin having an acrylic group with respect to the curable resin is 50% by weight. If the content of the resin having an acrylic group exceeds 50% by weight, the glass transition temperature of the sealing agent is lowered, and thus the effect of reducing the warpage of the substrate during heating is not sufficiently exhibited. The minimum with preferable content of the resin which has the said acrylic group is 10 weight%.
上記アクリル基を有する樹脂を含有する場合、上記アクリル基を有する樹脂としてビスフェノールＡ型エポキシアクリレートとレゾルシノール型エポキシアクリレートとを含有することが好ましい。 When the resin having the acrylic group is contained, it is preferable to contain bisphenol A type epoxy acrylate and resorcinol type epoxy acrylate as the resin having the acrylic group.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、充填剤を含有する。
前記充填剤は、シリカとシリカ以外の充填剤とからなる。
上記メタクリル基を有する樹脂を５０重量％以上含有する硬化性樹脂と組み合わせてシリカを含有する充填剤を含有することにより、得られる液晶表示素子用シール剤の線膨張率を抑えることができ、その結果、加熱時の基板の反りによるシール剤の剥離を抑制することができる。
The sealing agent for liquid crystal display elements of this invention contains a filler.
The filler is composed of silica and a filler other than silica.
By containing a filler containing silica in combination with a curable resin containing 50% by weight or more of the resin having the methacrylic group, the linear expansion coefficient of the obtained sealing agent for liquid crystal display elements can be suppressed. As a result, it is possible to suppress peeling of the sealing agent due to warpage of the substrate during heating.
上記シリカは、表面処理したものであることが好ましい。
上記表面処理としては、メチル処理、ヘキサメチルジシラザン処理、エポキシ処理等が挙げられる。なかでも、得られる液晶表示素子用シール剤が描画性に優れるものとなることから、メチル処理、ヘキサメチルジシラザン処理が好適であり、ヘキサメチルジシラザン処理がより好適である。
The silica is preferably surface-treated.
Examples of the surface treatment include methyl treatment, hexamethyldisilazane treatment, and epoxy treatment. Especially, since the sealing agent for liquid crystal display elements obtained becomes excellent in drawing property, methyl treatment and hexamethyldisilazane treatment are suitable, and hexamethyldisilazane treatment is more preferred.
表面処理したシリカとしては、具体的には、表面をヘキサメチルジシラザンで処理したシリカ（以下、ヘキサメチルジシラザン処理シリカともいう）、表面を３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランで処理したシリカ（以下、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカともいう）が好ましく、ヘキサメチルジシラザン処理シリカがより好ましい。上記ヘキサメチルジシラザン処理シリカ及び／又は上記３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカと、上記硬化性樹脂とを組み合わせて用いることにより、得られる液晶表示素子用シール剤が直線描画性及び接着性に特に優れるものとなる。 Specifically, the surface-treated silica is silica whose surface is treated with hexamethyldisilazane (hereinafter also referred to as hexamethyldisilazane-treated silica), and whose surface is treated with 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. (Hereinafter also referred to as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-treated silica) is preferred, and hexamethyldisilazane-treated silica is more preferred. By using a combination of the hexamethyldisilazane-treated silica and / or the 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-treated silica and the curable resin, the resulting sealing agent for liquid crystal display elements has linear drawing properties and adhesion. It is particularly excellent in properties.
上記シリカを表面処理する方法は特に限定されず、シランカップリング剤等を用いて、シリカの表面を処理する方法等が挙げられる。
具体的には、上記ヘキサメチルジシラザン処理シリカは、例えば、シリカをゾルゲル法等の方法で合成し、シリカを流動させた状態でヘキサメチルジシラザンを噴霧させる方法や、アルコール、トルエン等の有機溶媒中にシリカを加え、更に、ヘキサメチルジシラザンと水とを加えた後、水と有機溶媒とをエバポレーターで蒸発乾燥させる方法等により作製することができる。
また、上記３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカは、例えば、原料シリカをゾルゲル法等の方法で合成し、シリカを流動させた状態で水と３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの混合液を噴霧させる方法や、アルコール、トルエン等の有機溶媒中にシリカを加え、更に、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと水とを加えた後、水と有機溶媒とをエバポレーターで蒸発乾燥させる方法等により作製することができる。
The method for surface treating the silica is not particularly limited, and examples thereof include a method for treating the surface of silica using a silane coupling agent or the like.
Specifically, the hexamethyldisilazane-treated silica is prepared by, for example, synthesizing silica by a method such as a sol-gel method and spraying hexamethyldisilazane in a state where the silica is fluidized, or an organic material such as alcohol or toluene. Silica is added to the solvent, hexamethyldisilazane and water are added, and then water and an organic solvent are evaporated and dried by an evaporator.
The 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane-treated silica is prepared by, for example, synthesizing raw material silica by a method such as a sol-gel method and mixing water and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane in a state where the silica is fluidized. Add silica in an organic solvent such as alcohol or toluene, and add 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and water, and then evaporate and dry the water and organic solvent with an evaporator. It can be produced by a method or the like.
上記シリカの平均粒子径の好ましい下限は０．１μｍ、好ましい上限は１．０μｍである。上記シリカの平均粒子径が０．１μｍ未満であると、得られる液晶表示素子用シール剤が接着性に劣るものとなることがある。上記シリカの平均粒子径が１．０μｍを超えると、得られる液晶表示素子用シール剤が直線描画性に劣るものとなることがある。上記シリカの平均粒子径のより好ましい下限は０．３μｍ、より好ましい上限は０．８μｍ、更に好ましい下限は０．４μｍ、更に好ましい上限は０．７μｍである。
なお、本明細書において上記平均粒子径は、走査型電子顕微鏡を用いて、１万倍の倍率で観察した粒子１０個の粒子径の平均値を意味する。上記走査型電子顕微鏡としては、Ｓ−４３００（日立ハイテクノロジーズ社製）等を用いることができる。
The preferable lower limit of the average particle diameter of the silica is 0.1 μm, and the preferable upper limit is 1.0 μm. When the average particle diameter of the silica is less than 0.1 μm, the obtained sealing agent for liquid crystal display elements may be inferior in adhesiveness. When the average particle diameter of the silica exceeds 1.0 μm, the obtained sealing agent for liquid crystal display elements may be inferior in linear drawing performance. The more preferable lower limit of the average particle diameter of the silica is 0.3 μm, the more preferable upper limit is 0.8 μm, the still more preferable lower limit is 0.4 μm, and the still more preferable upper limit is 0.7 μm.
In the present specification, the average particle diameter means an average value of particle diameters of 10 particles observed at a magnification of 10,000 using a scanning electron microscope. As the scanning electron microscope, S-4300 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) or the like can be used.
上記シリカの粒子径の変動係数（以下、ＣＶ値ともいう）は１５％以下であることが好ましい。上記シリカの粒子径のＣＶ値が１５％を超えると、シリカの大きさのバラツキにより、得られる液晶表示素子用シール剤が直線描画性に劣るものとなることがある。
なお、本明細書においてＣＶ値とは、下記式により求められる数値のことである。
粒子径のＣＶ値（％）＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）×１００
The coefficient of variation (hereinafter also referred to as CV value) of the particle diameter of the silica is preferably 15% or less. When the CV value of the silica particle diameter exceeds 15%, the resulting liquid crystal display element sealant may be inferior in linear drawing due to variations in silica size.
In addition, in this specification, a CV value is a numerical value calculated | required by a following formula.
CV value of particle diameter (%) = (standard deviation of particle diameter / average particle diameter) × 100
上記シリカの形状は特に限定されないが、球状であることが好ましい。
なお、本明細書において上記球状とは、粒子のアスペクト比（長径／厚み）が１．０５未満であることを意味する。上記アスペクト比は、上述した走査型電子顕微鏡で観察することで求めることができる。
The shape of the silica is not particularly limited, but is preferably spherical.
In the present specification, the spherical shape means that the aspect ratio (major diameter / thickness) of the particles is less than 1.05. The aspect ratio can be obtained by observing with the above-described scanning electron microscope.
上記シリカの含有量は、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、１２重量部以上４０重量部未満である。上記シリカの含有量が１２重量部未満であると、加熱時の基板の反りによるシール剤の剥離を抑制する効果が充分に発揮されない。上記シリカの含有量が４０重量部以上であると、得られる液晶表示素子用シール剤が、粘度が高くなりすぎて塗工性に劣るものとなる。上記シリカの含有量の好ましい下限は１５重量部、好ましい上限は３８重量部、より好ましい下限は２０重量部、より好ましい上限は３６重量部である。 The content of the silica is 12 parts by weight or more and less than 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. When the content of the silica is less than 12 parts by weight, the effect of suppressing the peeling of the sealing agent due to warping of the substrate during heating is not sufficiently exhibited. When the content of the silica is 40 parts by weight or more, the resulting sealant for a liquid crystal display element has an excessively high viscosity and is inferior in coatability. The preferred lower limit of the silica content is 15 parts by weight, the preferred upper limit is 38 parts by weight, the more preferred lower limit is 20 parts by weight, and the more preferred upper limit is 36 parts by weight.
上記シリカ以外の充填剤（以下、その他の充填剤ともいう）としては、例えば、タルク、石綿、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、セリサイト活性白土、窒化アルミニウム等の無機充填剤や、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子等の有機充填剤等が挙げられる。なかでも、凝集力が増加することから、タルクを含有することが好ましい。また、応力緩和を目的としてアクリル重合体微粒子を含有することが好ましい。 Examples of fillers other than silica (hereinafter also referred to as other fillers) include talc, asbestos, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, Inorganic fillers such as tin oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, glass beads, silicon nitride, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, sericite activated clay, aluminum nitride, polyester fine particles, polyurethane fine particles, vinyl heavy Examples thereof include organic fillers such as coalescent fine particles and acrylic polymer fine particles. Especially, since cohesive force increases, it is preferable to contain a talc. Moreover, it is preferable to contain acrylic polymer fine particles for the purpose of stress relaxation.
上記充填剤全体の含有量は、硬化性樹脂１００重量部に対して、下限が３５重量部、上限が８０重量部である。上記充填剤の含有量が３５重量部未満であると、シール剤の熱膨張係数が低くなり、加熱時の基板の反りによるシール剤の剥離を抑制する効果が充分に発揮されない。上記充填剤の含有量が８０重量部を超えると、得られる液晶表示素子用シール剤の粘度が高くなりすぎ、塗工性に劣るものとなる。上記充填剤の含有量の好ましい下限は４０重量部、好ましい上限は７５重量部、より好ましい下限は４５重量部、より好ましい上限は７０重量部である。
なお、上記充填剤としてシリカのみを含有する場合は、上記充填剤の含有量は、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、３５重量部以上４０重量部未満である。
The content of the whole filler is 35 parts by weight at the lower limit and 80 parts by weight at the upper limit with respect to 100 parts by weight of the curable resin. When the content of the filler is less than 35 parts by weight, the thermal expansion coefficient of the sealing agent is lowered, and the effect of suppressing the peeling of the sealing agent due to warping of the substrate during heating is not sufficiently exhibited. When content of the said filler exceeds 80 weight part, the viscosity of the sealing compound for liquid crystal display elements obtained will become high too much, and it will be inferior to coating property. The minimum with preferable content of the said filler is 40 weight part, a preferable upper limit is 75 weight part, a more preferable minimum is 45 weight part, and a more preferable upper limit is 70 weight part.
In addition, when only the silica is contained as the filler, the content of the filler is 35 parts by weight or more and less than 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤を含有する。
上記ラジカル重合開始剤としては、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤、及び／又は、熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤が好ましい。
The sealing agent for liquid crystal display elements of this invention contains a radical polymerization initiator and / or a thermosetting agent.
The radical polymerization initiator is preferably a photo radical polymerization initiator that generates radicals by light and / or a thermal radical polymerization initiator that generates radicals by heat.
上記光ラジカル重合開始剤は特に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等を好適に用いることができる。
また、上記光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０１、ルシリンＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ Ｊａｐａｎ社製）、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル（以上、いずれも東京化成工業社製）等が挙げられる。なかでも吸収波長域が広いことから、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ベンゾインイソプロピルエーテル、及び、ルシリンＴＰＯが好適である。これらの光ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
The photo radical polymerization initiator is not particularly limited, and for example, a benzophenone compound, an acetophenone compound, an acyl phosphine oxide compound, a titanocene compound, an oxime ester compound, a benzoin ether compound, a thioxanthone, or the like is preferably used. Can do.
Examples of commercially available photo radical polymerization initiators include IRGACURE 184, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 651, IRGACURE 819, IRGACURE 907, IRGACURE 2959, IRGACUREOXE01, Lucin TPO (all from BASF M Examples include ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether (all of which are manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Of these, IRGACURE651, IRGACURE907, benzoin isopropyl ether, and lucillin TPO are preferred because of their wide absorption wavelength range. These radical photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
上記熱ラジカル重合開始剤は特に限定されず、過酸化物やアゾ化合物が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、パーブチルＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＰＶ（いずれも日油社製）、Ｖ−３０、Ｖ−５０１、Ｖ−６０１、ＶＰＥ−０２０１（いずれも和光純薬工業社製）等が挙げられる。これらの熱ラジカル重合開始剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Examples of commercially available products include perbutyl O, perhexyl O, perbutyl PV (all manufactured by NOF Corporation), V -30, V-501, V-601, VPE-0201 (all manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and the like. These thermal radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
上記ラジカル重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が０．０１重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記ラジカル重合開始剤の含有量が０．０１重量部未満であると、得られるシール剤を充分に硬化させることができないことがある。上記ラジカル重合開始剤の含有量が１０重量部を超えると、得られるシール剤が保存安定性に劣るものとなることがある。 Although content of the said radical polymerization initiator is not specifically limited, A preferable minimum is 0.01 weight part and a preferable upper limit is 10 weight part with respect to 100 weight part of said curable resins. If the content of the radical polymerization initiator is less than 0.01 parts by weight, the resulting sealing agent may not be sufficiently cured. When content of the said radical polymerization initiator exceeds 10 weight part, the sealing agent obtained may become inferior to storage stability.
上記熱硬化剤は特に限定されず、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、常温固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。
上記常温固形の有機酸ヒドラジドは特に限定されず、例えば、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、ＳＤＨ、ＭＤＨ（いずれも日本ファインケム社製）、アミキュアＶＤＨ、アミキュアＶＤＨ−Ｊ、アミキュアＵＤＨ（いずれも味の素ファインテクノ社製）、ＡＤＨ（大塚化学社製）等が挙げられる。これらの熱硬化剤は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
The said thermosetting agent is not specifically limited, For example, organic acid hydrazide, an imidazole derivative, an amine compound, a polyhydric phenol type compound, an acid anhydride etc. are mentioned. Among these, organic acid hydrazide solid at room temperature is preferably used.
The room temperature solid organic acid hydrazide is not particularly limited, and examples thereof include sebacic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, and the like, and examples of commercially available products include SDH, MDH (any And Amicure VDH, Amicure VDH-J, Amicure UDH (all manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.), ADH (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like. These thermosetting agents may be used independently and may use 2 or more types together.
上記熱硬化剤の含有量は特に限定されないが、上記硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましい下限が１重量部、好ましい上限が１０重量部である。上記熱硬化剤の含有量が１重量部未満であると、熱硬化剤を含有させる効果がほとんど得られない。上記熱硬化剤の含有量が１０重量部を超えると、得られるシール剤が保存安定性に劣るものとなることがある。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい上限は５重量部である。 Although content of the said thermosetting agent is not specifically limited, A preferable minimum is 1 weight part and a preferable upper limit is 10 weight part with respect to 100 weight part of said curable resins. When the content of the thermosetting agent is less than 1 part by weight, the effect of containing the thermosetting agent is hardly obtained. When content of the said thermosetting agent exceeds 10 weight part, the sealing agent obtained may become inferior to storage stability. The upper limit with more preferable content of the said thermosetting agent is 5 weight part.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、更に、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主に液晶表示素子用シール剤とガラス基板等の基材とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。 It is preferable that the sealing compound for liquid crystal display elements of the present invention further contains a silane coupling agent. The silane coupling agent mainly serves as an adhesion aid for favorably bonding a sealing agent for liquid crystal display elements and a substrate such as a glass substrate.
上記シランカップリング剤は特に限定されないが、ガラス基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への流出を防止することができることから、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。 Although the silane coupling agent is not particularly limited, it is excellent in the effect of improving the adhesion to a glass substrate and the like, and can be prevented from flowing into the liquid crystal by chemically bonding with the curable resin. -Aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane and the like are preferably used. These silane coupling agents may be used independently and 2 or more types may be used together.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、チクソ性を調整する揺変剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、３−Ｐ−クロロフェニル−１，１−ジメチル尿素等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤等の添加剤を含有してもよい。 The sealing agent for liquid crystal display elements of the present invention further comprises a spacer such as a reactive diluent for adjusting the viscosity, a thixotropic agent for adjusting the thixotropy, a polymer bead for adjusting the panel gap, if necessary. You may contain additives, such as hardening accelerators, such as -P-chlorophenyl- 1, 1- dimethyl urea, an antifoamer, a leveling agent, and a polymerization inhibitor.
本発明の液晶表示素子用シール剤を製造する方法としては特に限定されず、例えば、メタクリル基を有する樹脂を５０重量％以上含有する硬化性樹脂と、充填剤と、ラジカル重合開始剤及び／又は熱硬化剤と、シランカップリング剤等の添加剤とを、従来公知の方法により混合する方法等が挙げられる。 The method for producing the sealing agent for liquid crystal display elements of the present invention is not particularly limited. For example, a curable resin containing 50% by weight or more of a resin having a methacryl group, a filler, a radical polymerization initiator, and / or The method etc. which mix a thermosetting agent and additives, such as a silane coupling agent, by a conventionally well-known method are mentioned.
本発明の液晶表示素子用シール剤のガラス転移温度の好ましい下限は１２５℃である。
上記ガラス転移温度が１２５℃未満であると、加熱時の基板の反りを充分に緩和することができず、シール剤が基板から剥離しやすくなって液晶表示素子のセルギャップが均一でなくなり、その結果、得られる液晶表示素子に色むら等の表示不良が発生することがある。上記ガラス転移温度のより好ましい下限は１３０℃、更に好ましい下限は１３５℃である。
なお、上記ガラス転移温度は、ＤＭＡ法により昇温速度５℃／分、周波数１０Ｈｚの条件で測定される値を示す。
The minimum with a preferable glass transition temperature of the sealing compound for liquid crystal display elements of this invention is 125 degreeC.
When the glass transition temperature is less than 125 ° C., the warpage of the substrate during heating cannot be sufficiently relaxed, the sealing agent is easily peeled off from the substrate, and the cell gap of the liquid crystal display element is not uniform. As a result, display defects such as color unevenness may occur in the obtained liquid crystal display element. A more preferable lower limit of the glass transition temperature is 130 ° C., and a more preferable lower limit is 135 ° C.
In addition, the said glass transition temperature shows the value measured on conditions with a temperature increase rate of 5 degree-C / min and a frequency of 10 Hz by DMA method.
本発明の液晶表示素子用シール剤のガラス転移温度から該ガラス転移温度より２０℃高い温度までの温度範囲における線膨張係数の好ましい下限は５×１０−７ ／℃、好ましい上限は５０×１０−７ ／℃である。
上記線膨張係数が５×１０−７ ／℃未満であると、得られる液晶表示素子用シール剤が接着性に劣るものとなることがある。上記線膨張係数が５０×１０−７ ／℃を超えるとシール剤が基板から剥離しやすくなって液晶表示素子のセルギャップが均一でなくなり、その結果、得られる液晶表示素子に色むら等の表示不良が発生することがある。上記線膨張係数のより好ましい下限は１０×１０−７ ／℃、より好ましい上限は４０×１０−７ ／℃である。
なお、本明細書において、上記線膨張係数は、ＴＭＡ法により昇温速度５℃／分、力０．２Ｎの条件で測定される値を示す。
The preferable lower limit of the linear expansion coefficient in the temperature range from the glass transition temperature of the sealing compound for liquid crystal display elements of the present invention to a temperature 20 ° C. higher than the glass transition temperature is 5 × 10 −7 / ° C. , and the preferable upper limit is 50 × 10 −. 7 / ° C.
When the linear expansion coefficient is less than 5 × 10 −7 / ° C. , the resulting liquid crystal display element sealing agent may have poor adhesion. When the linear expansion coefficient exceeds 50 × 10 −7 / ° C. , the sealing agent is easily peeled off from the substrate, and the cell gap of the liquid crystal display element becomes non-uniform. Defects may occur. A more preferable lower limit of the linear expansion coefficient is 10 × 10 −7 / ° C. , and a more preferable upper limit is 40 × 10 −7 / ° C.
In addition, in this specification, the said linear expansion coefficient shows the value measured on condition of a temperature increase rate of 5 degree-C / min and force 0.2N by TMA method.
本発明の液晶表示素子用シール剤は、厚みの薄いガラス基板の接着に好適に用いられる。特に、厚みが０．３〜０．５ｍｍのガラス基板の接着に用いた場合、加熱時の基板の反りを緩和し、剥離を抑制する効果が充分に発揮される。 The sealing agent for liquid crystal display elements of this invention is used suitably for adhesion | attachment of a thin glass substrate. In particular, when used for bonding a glass substrate having a thickness of 0.3 to 0.5 mm, the effect of reducing the warpage of the substrate during heating and suppressing peeling is sufficiently exhibited.
本発明の液晶表示素子用シール剤に、導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。本発明の液晶表示素子用シール剤と導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の一つである。 A vertical conducting material can be produced by blending conductive fine particles with the liquid crystal display element sealant of the present invention. The vertical conduction material containing the sealing compound for liquid crystal display elements of the present invention and conductive fine particles is also one aspect of the present invention.
上記導電性微粒子は特に限定されず、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、電極等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。 The conductive fine particles are not particularly limited, and metal balls, those obtained by forming a conductive metal layer on the surface of resin fine particles, and the like can be used. Among them, the one in which the conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particle is preferable because the conductive connection is possible without damaging the electrode or the like due to the excellent elasticity of the resin fine particle.
本発明の液晶表示素子用シール剤及び／又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の１つである。 The liquid crystal display element which uses the sealing compound for liquid crystal display elements of this invention and / or the vertical conduction material of this invention is also one of this invention.
本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、例えば、ＩＴＯ薄膜等からなる電極付きの２枚の透明基板の一方に、本発明の液晶表示素子用シール剤等をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶表示素子用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴をシールパターン透明基板の枠内全面に滴下塗布し、真空下ですぐに他方の透明基板を重ね合わせる工程、形成したシールパターン部分に紫外線等の光を照射して仮硬化させる工程、及び、仮硬化させたシールパターンを加熱してシールパターンを本硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。 As a method for producing the liquid crystal display element of the present invention, for example, the liquid crystal display element sealant of the present invention is applied to one of two transparent substrates with electrodes made of an ITO thin film or the like by screen printing, dispenser application, or the like. The step of forming a rectangular seal pattern, the liquid crystal display element sealant of the present invention is uncured, and liquid crystal microdrops are dropped onto the entire surface of the seal pattern transparent substrate, and the other immediately under vacuum. A method including a step of superimposing transparent substrates, a step of irradiating the formed seal pattern portion with light such as ultraviolet rays and temporarily curing, a step of heating the temporarily cured seal pattern and finally curing the seal pattern, etc. Is mentioned.
本発明によれば、厚みの薄い基板を用いた場合であっても、ギャップムラの発生を抑制して優れた表示性能を有する液晶表示素子を得ることができる液晶表示素子用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a case where a thin board | substrate is used, the sealing agent for liquid crystal display elements which can suppress the generation | occurrence | production of gap nonuniformity and can obtain the liquid crystal display element which has the outstanding display performance is provided. be able to. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which use this sealing compound for liquid crystal display elements can be provided.
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
（ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレートの合成）
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、及び、メタクリル酸５０６重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレートを得た。
(Synthesis of bisphenol A type epoxy methacrylate)
1000 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “jER828EL”), 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 506 parts by weight of methacrylic acid, While feeding, the mixture was reacted with stirring at 90 ° C. for 5 hours. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). A bisphenol A type epoxy methacrylate was obtained.
（レゾルシノール型エポキシメタクリレートの合成）
レゾルシノール型エポキシ樹脂（ナガセケムテックス社製、「デナコールＥＸ−２０１」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、及び、メタクリル酸７７５重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、レゾルシノール型エポキシメタクリレートを得た。
(Synthesis of resorcinol type epoxy methacrylate)
Resorcinol type epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX Corp., “Denacol EX-201”) 1000 parts by weight, p-methoxyphenol 2 parts by weight as a polymerization inhibitor, triethylamine 2 parts by weight as a reaction catalyst, and 775 parts by weight of methacrylic acid Then, the reaction was carried out by stirring at 90 ° C. for 5 hours while feeding air. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). Resorcinol type epoxy methacrylate was obtained.
（部分メタクリル変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の合成）
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、及び、メタクリル酸２５３重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、５０％部分メタクリル変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を得た。
(Synthesis of partially methacryl-modified bisphenol A type epoxy resin)
1000 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “jER828EL”), 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 253 parts by weight of methacrylic acid, While feeding, the mixture was reacted with stirring at 90 ° C. for 5 hours. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). A 50% partially methacryl-modified bisphenol A type epoxy resin was obtained.
（ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートの合成）
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、アクリル酸４２４重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートを得た。
(Synthesis of bisphenol A type epoxy acrylate)
1000 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “jER828EL”), 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 424 parts by weight of acrylic acid, while feeding air The reaction was stirred at 90 ° C. for 5 hours under reflux. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). A bisphenol A type epoxy acrylate was obtained.
（レゾルシノール型エポキシアクリレートの合成）
液状のレゾルシン型エポキシ樹脂（ナガセケムテックス社製、「デナコールＥＸ−２０１」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、アクリル酸６４９重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、レゾルシノール型エポキシアクリレートを得た。
(Synthesis of resorcinol type epoxy acrylate)
1000 parts by weight of a liquid resorcin type epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, “Denacol EX-201”), 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, and 649 parts by weight of acrylic acid Then, the reaction was carried out by stirring at 90 ° C. for 5 hours while feeding air. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). Resorcinol type epoxy acrylate was obtained.
（部分アクリル変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の合成）
液状のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製、「ｊＥＲ８２８ＥＬ」）１０００重量部、重合禁止剤としてｐ−メトキシフェノール２重量部、反応触媒としてトリエチルアミン２重量部、アクリル酸２１２重量部を、空気を送り込みながら９０℃で５時間還流攪拌して反応させた。得られた樹脂１００重量部を、反応物中のイオン性不純物を吸着させる為にクオルツとカオリンの天然結合物（ホフマンミネラル社製、「シリチンＶ８５」）１０重量部が充填されたカラムで濾過し、５０％部分アクリル変性ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を得た。
(Synthesis of partially acrylic modified bisphenol A type epoxy resin)
1000 parts by weight of a liquid bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “jER828EL”), 2 parts by weight of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 2 parts by weight of triethylamine as a reaction catalyst, 212 parts by weight of acrylic acid, While feeding, the mixture was reacted with stirring at 90 ° C. for 5 hours. In order to adsorb ionic impurities in the reaction product, 100 parts by weight of the obtained resin was filtered through a column packed with 10 parts by weight of a natural combination of quartz and kaolin (manufactured by Hoffman Mineral Co., Ltd., “Siritin V85”). A 50% partially acrylic modified bisphenol A type epoxy resin was obtained.
（ヘキサメチルジシラザン処理シリカの調製）
シリカ粒子（アドマテックス社製、「ＳＯ−Ｃ１」、平均粒子径０．６μｍ）の１００重量部をヘンシェルミキサーに入れ、窒素雰囲気下にて攪拌しながら水０．５重量部及びヘキサメチルジシラザン１０重量部を噴霧し、２６０℃で８０分間加熱した後に冷却し、ボールミルで解砕して、ヘキサメチルジシラザン処理シリカ（平均粒子径０．６μｍ）を調製した。
(Preparation of hexamethyldisilazane-treated silica)
100 parts by weight of silica particles (manufactured by Admatechs, “SO-C1”, average particle diameter 0.6 μm) are placed in a Henschel mixer, and 0.5 parts by weight of water and hexamethyldisilazane are stirred under a nitrogen atmosphere. 10 parts by weight was sprayed, heated at 260 ° C. for 80 minutes, cooled, and crushed with a ball mill to prepare hexamethyldisilazane-treated silica (average particle size 0.6 μm).
（実施例１〜７、比較例１〜６）
表１、２に記載した配合比に従い、各材料を、遊星式撹拌機（シンキー社製、「あわとり練太郎」）を用いて混合した後、更に３本ロールを用いて混合することにより実施例１〜７、比較例１〜６のシール剤を調製した。
(Examples 1-7, Comparative Examples 1-6)
According to the blending ratios described in Tables 1 and 2, each material was mixed using a planetary stirrer ("Shinky Co.," Awatori Netaro), and then mixed using three rolls. Sealants of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6 were prepared.
＜評価＞
実施例及び比較例で得られたシール剤について以下の評価を行った。結果を表１、２に示した。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the sealing agent obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Tables 1 and 2.
（ガラス転移温度）
実施例及び比較例で得られたそれぞれのシール剤にメタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱して完全に硬化させ、厚さ３００μｍのフィルムを作製し、試験片とした。得られた試験片について、動的粘弾性測定装置（ＩＴ計測制御社製、「ＤＶＡ−２００」）を用いて、−８０〜２００℃、１０Ｈｚにおいて動的粘弾性を測定し、損失正接（ｔａｎδ）の極大値の温度をガラス転移温度として求めた。
(Glass-transition temperature)
Each sealant obtained in the examples and comparative examples was irradiated with 3000 mJ / cm 2 ultraviolet rays with a metal halide lamp and then heated at 120 ° C. for 60 minutes to be completely cured to produce a film having a thickness of 300 μm. A test piece was obtained. About the obtained test piece, dynamic viscoelasticity was measured in -80-200 degreeC and 10 Hz using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (the IT measurement control company make, "DVA-200"), and loss tangent (tan-delta). ) Was determined as the glass transition temperature.
（線膨張係数）
実施例及び比較例で得られたそれぞれのシール剤にメタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱して完全に硬化させ、厚さ３００μｍのフィルムを作製し、得られたフィルムを試験片とした。得られた試験片について、ＴＭＡ法を用いて、２５〜２００℃、１０℃／ｍｉｎの昇温速度、０．２Ｎの力の条件で測定し、上述した「（ガラス転移温度）」の評価により得られたガラス転移温度から該ガラス転移温度より２０℃高い温度までの温度範囲における線膨張係数を求めた。
(Linear expansion coefficient)
Each sealant obtained in the examples and comparative examples was irradiated with 3000 mJ / cm 2 ultraviolet rays with a metal halide lamp and then heated at 120 ° C. for 60 minutes to be completely cured to produce a film having a thickness of 300 μm. The obtained film was used as a test piece. About the obtained test piece, it measured by 25-200 degreeC, the temperature increase rate of 10 degree-C / min, and the force of 0.2N using TMA method, and by evaluation of "(glass transition temperature)" mentioned above. The linear expansion coefficient in the temperature range from the obtained glass transition temperature to a temperature 20 ° C. higher than the glass transition temperature was determined.
（描画性）
実施例及び比較例で得られたそれぞれのシール剤に、シリカスペーサー（積水化学工業社製、「ＳＩ−Ｈ０５５」）を１重量％配合し、脱泡処理をしてシール剤中の泡を取り除いた後、ディスペンス用のシリンジ（武蔵エンジニアリング社製、「ＰＳＹ−１０Ｅ」）に充填し、再び脱泡処理を行った。次いで、ディスペンサー（武蔵エンジニアリング社製、「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）を用いてＩＴＯ薄膜付きの透明電極基板に長方形の枠を描く様にシール剤を塗布し、他方の透明基板を、真空張り合わせ装置にて５Ｐａの減圧下にて貼り合わせた。貼り合わせた後のセルにメタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、１２０℃で６０分加熱することによってシール剤を熱硬化させ、液晶セルを各シール剤につき５枚ずつ作製した。得られた液晶セル内のシール剤を観察し、シール剤に断線不良もうねりもなくきれいなラインが描けていた場合を「○」、断線不良はないがシール剤の端部にうねりが生じる等していた場合を「△」、断線不良が生じていた場合を「×」として評価した。
(Drawability)
Each sealing agent obtained in Examples and Comparative Examples is blended with 1% by weight of a silica spacer (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., “SI-H055”) and defoamed to remove bubbles in the sealing agent. After that, it was filled in a syringe for dispensing (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd., “PSY-10E”) and defoamed again. Next, using a dispenser (“SHOTMASTER300” manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.), a sealing agent is applied to the transparent electrode substrate with the ITO thin film so as to draw a rectangular frame, and the other transparent substrate is coated with 5 Pa with a vacuum bonding apparatus. Bonding was performed under reduced pressure. The cells after bonding were irradiated with 3000 mJ / cm 2 ultraviolet rays with a metal halide lamp, and then the sealing agent was thermally cured by heating at 120 ° C. for 60 minutes, thereby producing five liquid crystal cells for each sealing agent. . Observe the sealing agent in the obtained liquid crystal cell, and if the sealing agent has drawn a clean line without any undulations, ◯, if there is no disconnection, the end of the sealing agent swells, etc. The case where there was a disconnection was evaluated as “Δ”, and the case where a disconnection failure occurred was evaluated as “×”.
（セルギャップ）
実施例及び比較例で得られたそれぞれのシール剤をディスペンス用のシリンジ（武蔵エンジニアリング社製、「ＰＳＹ−１０Ｅ」）に充填し、脱泡処理を行ってから、ディスペンサー（武蔵エンジニアリング社製、「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）にてＩＴＯ薄膜付きの透明電極基板（厚さ０．３ｍｍ）に長方形の枠を描く様にシール剤を塗布した。続いて、ＴＮ液晶（チッソ社製、「ＪＣ−５００１ＬＡ」）の微小滴を液晶滴下装置にて滴下塗布し、他方の透明基板を、真空張り合わせ装置にて５Ｐａの真空下にて張り合わせた。張り合わせた後のセルにメタルハライドランプにて３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してシール剤を仮硬化させた後、１２０℃のオーブンにて６０分間シール剤を熱硬化させ、セルを得た。得られたセルにギャップムラがなかった場合を「○」、ギャップムラがあった場合を「×」としてセルギャップを評価した。
(Cell gap)
Each sealing agent obtained in Examples and Comparative Examples was filled in a syringe for dispensing (manufactured by Musashi Engineering, “PSY-10E”) and defoamed, and then dispenser (manufactured by Musashi Engineering, “ The sealing agent was applied so as to draw a rectangular frame on a transparent electrode substrate (thickness 0.3 mm) with an ITO thin film by using SHOTMASTER 300 ”). Subsequently, fine droplets of TN liquid crystal (manufactured by Chisso Corporation, “JC-5001LA”) were dropped and applied with a liquid crystal dropping device, and the other transparent substrate was bonded with a vacuum bonding device under a vacuum of 5 Pa. The cell after pasting was irradiated with 3000 mJ / cm 2 of ultraviolet rays with a metal halide lamp to temporarily cure the sealant, and then thermally cured in a 120 ° C. oven for 60 minutes to obtain a cell. The cell gap was evaluated as “◯” when the obtained cell had no gap unevenness and “×” when the gap was uneven.
本発明によれば、厚みの薄い基板を用いた場合であっても、ギャップムラの発生を抑制して優れた表示性能を有する液晶表示素子を得ることができる液晶表示素子用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶表示素子用シール剤を用いてなる上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a case where a thin board | substrate is used, the sealing agent for liquid crystal display elements which can suppress the generation | occurrence | production of gap nonuniformity and can obtain the liquid crystal display element which has the outstanding display performance is provided. be able to. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which use this sealing compound for liquid crystal display elements can be provided.
Claims (5)
前記硬化性樹脂は、硬化性樹脂に対してメタクリル基を有する樹脂を５０重量％以上含有し、
前記充填剤は、シリカとシリカ以外の充填剤とからなり、
前記シリカは、表面をヘキサメチルジシラザン処理したものであり、
前記充填剤の含有量が、前記硬化性樹脂１００重量部に対して３５〜８０重量部であり、
前記シリカの含有量が前記硬化性樹脂１００重量部に対して１２重量部以上４０重量部未満である
ことを特徴とする液晶表示素子用シール剤。 A sealing agent for a liquid crystal display element comprising a curable resin, a filler, a radical polymerization initiator and / or a thermosetting agent,
The curable resin contains 50% by weight or more of a resin having a methacrylic group with respect to the curable resin,
The filler comprises silica and a filler other than silica,
The silica is a surface treated with hexamethyldisilazane,
The filler content is 35 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin,
The sealing agent for a liquid crystal display element, wherein the content of the silica is 12 parts by weight or more and less than 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin.
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