JP6086704B2

JP6086704B2 - レーザアブレーション装置

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Description

本発明は、レーザアブレーション装置に関するものである。

従来、高密度のエネルギーを有するレーザを出射する挿入部からレーザを患部組織に照射して焼灼するレーザアブレーションカテーテルが知られている（例えば、特許文献１）。レーザアブレーションカテーテルは、主として不整脈治療を行うものであり、患者に対しては、レーザアブレーションカテーテルが挿入可能な最小限の範囲を切開するだけで患部を焼灼することができるので、低侵襲な手術を行うことができるという利点がある。

特開平７−８５０２号公報

しかしながら、上述したレーザアブレーションカテーテルでは、高いエネルギーを有するレーザが直線的に照射されるので、レーザによる患部の焼灼能力が高い一方で、レーザの過剰照射による正常組織の損傷や穿孔の虞がある。このため、操作者は挿入部を手動で振動させ、レーザが局所的に過剰に照射されないようレーザアブレーションカテーテルを操作しているが、これは高度な操作を要するため操作者に負担となる。また、特に、心嚢内のような狭い空間では、操作者による挿入部基端部の操作を挿入部先端にまで作用させることが困難であり、操作者に依存した操作は限定的となる。さらに、治療の為のレーザの照射は、その光量、照射範囲、及び照射時間が特定されるが、操作経路によってレーザの照射密度に差があるため照射ムラが生じ、所望の照射を行うことができない虞がある。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、レーザの局所的な過剰照射を防止し、治療対象範囲において、均一にレーザを照射するレーザアブレーション装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、患部を焼灼するためのレーザ光を出射する光源と、挿入部内に設けられ、前記光源から出射されたレーザ光を導光して該レーザ光を挿入部先端から照射するファイバと、該ファイバに設けられ該ファイバを第１の周期で振動させる第１の駆動部と、前記ファイバを第２の周期で振動させる第２の駆動部とを備えるレーザアブレーション装置を提供する。

本発明によれば、光源から出射したレーザ光を挿入部内に設けられたファイバにより導光し、ファイバにより挿入部先端からレーザ光を出射する。挿入部先端、すなわちファイバの出射端から出射したレーザ光は直線的に患部に照射されるが、レーザ光が第１の駆動部により周期的に振動させられているので、レーザ光が定点照射されることがなく、所定の領域に均一にレーザ光を照射することができる。したがって、治療対象範囲において、均一にレーザを照射すると共に、レーザの局所的な過剰照射を防止することができる。

上記した発明において、前記ファイバを第２の周期で振動させる第２の駆動部を更に備えることで、レーザ光の照射領域を拡張させることができ、より広範囲にかつ均一にレーザ光を照射することができる。また、第１の周期と第２の周期とを異なる周期とすることも同じ周期とすることもできる。

上記した発明において、前記第１の駆動部による振幅よりも前記第２の駆動部による振幅が大きいことが好ましい。
このようにすることで、第１の駆動部によって比較的細かいレーザ光照射を行い、第２の駆動部によって比較的荒い照射を行うことができるので、全体としてレーザ光の照射領域を広げつつ、患部に対してムラなく均一なレーザ光照射を行うことができる。

上記した発明において、前記第１の駆動部が前記第２の駆動部よりも前記ファイバの先端側に設けられ、前記第１の周期よりも前記第２の周期が長いことが好ましい。
また、上記した発明において、前記第１の駆動部が前記第２の駆動部よりも前記ファイバの先端側に設けられ、前記第２の周期が前記第１の周期のｎ倍（ｎは整数）の周期であることが好ましい。
このようにすることで、より均一にレーザ光を患部に照射することができる。

上記した発明において、前記ファイバが、前記第１の駆動部及び前記第２の駆動部により回転運動され、前記第１の駆動部によるファイバの回転数が前記第２の駆動部によるファイバの回転数よりも早いことが好ましい。
このようにすることで、より均一にレーザ光を患部に照射することができる。

なお、第１の駆動部及び第２の駆動部は、前記ファイバを共振運動させたり、ラスター走査させたり、スパイラル走査させたり、異なる走査を組み合わせることもできる。このように、共振運動させることにより電気−機械変換効率が向上し、所定の治療を行うのに必要な電圧を下げることができる。

さらに、ラスター走査やスパイラル走査等に走査方法を変えることで、レーザ照射領域の形状を変えることができるので、治療対象の形状に合わせて最適な走査方法を選択することにより、照射時間の短縮、照射回数の削減を図ることが可能となる。
また、ファイバを周期的に振動させる他の１以上の駆動部を更に備えることにより、より均一にレーザ光を患部に照射すると共に、照射時間の短縮、照射回数の削減を図ることが可能となる。

本発明によれば、レーザの局所的な過剰照射を防止し、治療対象範囲において、均一にレーザを照射することができるという効果を奏する。

本発明の参考実施形態に係るレーザアブレーション装置の全体構成を示す図である。本発明の参考実施形態に係るレーザアブレーション装置の挿入部を示し、（Ａ）は、挿入部全体を、（Ｂ）は、シャフトとファイバの固定状態を、（Ｃ）は（Ｂ）のＡ−Ａ’断面を示す図である。本発明の第１の実施形態に係るレーザアブレーション装置の全体構成を示す図である。本発明の第１の実施形態に係るレーザアブレーション装置の挿入部を示し、（Ａ）は、挿入部全体を、（Ｂ）は、シャフトとファイバの固定状態を、（Ｃ）は（Ｂ）のＡ−Ａ’断面を示し、（Ｄ）は、（Ｂ）のＢ−Ｂ’断面を示す図である。本発明の第１の実施形態に係るレーザアブレーション装置のファイバによるレーザ光の照射軌跡の例である。本発明の第２の実施形態に係るレーザアブレーション装置の全体構成を示す図である。本発明の第２の実施形態に係るレーザアブレーション装置の挿入部を示す図である。本発明の第２の実施形態に係るレーザアブレーション装置のファイバによるレーザ光の照射軌跡の例である。本発明の第２の実施形態の変形例に係るレーザアブレーション装置の挿入部を示す図である。本発明の第２の実施形態の変形例に係るレーザアブレーション装置のファイバによるレーザ光の照射軌跡の例である。本発明の他の例に係るレーザアブレーション装置の挿入部を示す図である。図１１のレーザアブレーション装置のファイバによるレーザ光の照射軌跡の例である。

（参考実施形態）
以下に、本発明の参考実施形態に係るレーザアブレーション装置１０について図面を参照して説明する。本実施形態におけるレーザアブレーション装置１０は、後述する挿入部からレーザ光を患部組織に照射して焼灼することにより不整脈の治療などを行うものであり、挿入部１１及び本体部１２を備えている。

図１及び図２に示すように、患部の体内に挿入される挿入部１１は、細長で柔軟性を有する管路であり、後述する光源から射出されたレーザ光を導光しこのレーザ光を挿入部先端から照射するファイバ１５と、ファイバ１５に設けられファイバ１５を所定の周期で振動させるモータ１６とを備えている。すなわち、ファイバ１５はモータ１６のシャフト１６Ａと一体的に設けられ、モータ１６の回転と同時に回転しながらレーザ光を導光するようになっている。

すなわち、シャフト１６Ａは中空構造となっており、シャフト１６Ａをファイバ１５が貫通している。そして、モータ１６のシャフト１６Ａは屈曲部を有し、モータ１６の出力を回転軸に対して偏心させるようになっている。シャフト１６Ａの先端部は、図２（Ａ）に示すように、４つのボールベアリング１６Ｂが等間隔で配置され、これらのボールベアリング１６Ｂを介してファイバ１５がシャフト１６Ａに接し、これによりファイバ１５がシャフト１６Ａに固定されている。挿入部１１の先端面にはファイバ１５の出射端から出射されたレーザ光を透過させるレンズ１５Ａが設けられている。

本体部１２は、光源部１７、ファイバ１５の振動を制御する振動制御部１８、光源部１７及び振動制御部１８等を制御する制御部１９を備えている。
光源部１７は、患部を焼灼するためのレーザ光を出射する光源としてのＬＤ（レーザダイオード）１７ＡとＬＤ１７Ａを駆動するＬＤ駆動部１７Ｂとを備えている。
振動制御部１８は、モータ１６を回転駆動させるモータ駆動部１８Ａとモータ１６の回転速度を適宜変調させる回転速変調部１８Ｂとを有している。

以下、このように構成されたレーザアブレーション装置１０の作用について説明する。
レーザアブレーション装置１０の挿入部１１の先端を患部近傍まで挿入する。この状態で、制御部１９からの制御信号に基づいて、ＬＤ駆動部１７ＢによりＬＤ１７Ａに電源が供給されると、ＬＤ１７Ａからレーザ光が出射され、挿入部１１の基端側に配置されたファイバ１５の入射端にレーザ光が入射する。レーザ光は、ファイバ１５によりファイバ１５の先端まで導光されその出射端から挿入部１１の先端に設けられたレンズ１５Ａを介して患部に照射される。

このとき、ファイバ１５はモータ１６のシャフト１６Ａと一体的に設けられ、モータ１６の回転と同時に回転しながらレーザ光を導光するようになっている。また、モータ１６のシャフト１６Ａはモータ１６の出力を回転軸に対して偏心させるので、モータ１６がモータ駆動部１８Ａにより回転駆動されると、ファイバ１５から出射されるレーザ光はシャフト１６Ａの偏心位置に対応した円形の軌跡を辿りながら患部に照射されることとなる。

以上述べたように本実施形態によれば、モータ１６による回転によりレーザ光を出射するファイバ１５を振動させることで、レーザ光の照射軌跡も振動させることができ、レーザ光が局所的に患部に対して照射されることを防止すると共に、照射範囲を拡大しながら均一にレーザ光を照射することができる。

（第１の実施形態）
続いて、本発明の第１の実施形態に係るレーザアブレーション装置３０について、図面を参照して説明する。本実施形態において、上述した参考実施形態と同一の構成には同符号を付し、その説明を省略する。本実施形態における参考実施形態との主たる相違点は、図３に示されるように、シャフト１６Ａの出力端の軸線回りに４方向に対称に圧電素子１５Ｂが設けられていることである。

従って、本体部１２は、さらに圧電素子を制御する圧電素子制御部２０を備え、制御部１９は光源部１７、振動制御部１８及び圧電素子制御部２０を制御する。
圧電素子制御部２０は、各圧電素子１５Ｂに電力を供給するＡＭ変調部２３と、ＡＭ変調部２３から出力される変調信号の位相とモータ１６の回転数とを調整するＰＬＬ制御部２４と、ＡＭ変調部２３に供給する交流信号を生成する交流信号発生部２１及び交流信号発生部２１から出力された交流信号を増幅する増幅部２２とを備えている。

図４に示すように、中空のシャフト１６Ａの内部にファイバ１５が設けられ、ファイバ１５の先端が弾性部材１６Ｃを介して設けられたボールベアリング１６Ｂによってシャフト１６Ａに固定されている。ボールベアリング１６Ｂの接点は弾性材の振動の節位置に設けられる。各圧電素子１５Ｂは、ファイバ１５の弾性部材１６Ｃを介しての軸線回りに４方向に対称に設けられ、Ｘ軸方向駆動用圧電素子とＹ軸方向駆動用圧電素子に分かれているので、交流信号発生部２１により供給される交流信号の位相はＸ軸方向駆動用圧電素子とＹ軸方向駆動用圧電素子とで９０度ずらしている。また、ＡＭ変調部２３から出力される変調信号とモータ１６の回転速度はＰＬＬ制御部２４によりそれぞれ分周・逓倍の関係になるよう制御される。

このように構成されたレーザアブレーション装置の作用について説明する。
交流信号発生部２１から発生した交流信号は増幅部２２により増幅され、ＡＭ変調部２３にてＡＭ変調される。各圧電素子１５Ｂに印加される電圧・電流の周波数はファイバ１５の振動の共振周波数に合わせられる。ＡＭ変調部２２から出力された変調信号は各圧電素子１５Ｂに供給されると、圧電素子１５Ｂは圧電効果により振動してシャフト１６Ａを振動させる。その振動が伝達し、ファイバ１５を共振させる。

この状態で、ＬＤ駆動部１７Ｂが、制御部１９の制御信号に基づいてＬＤ１７Ａに所定の電源を供給すると、ＬＤ１７Ａはレーザ光をファイバ１５の出射端に向けて出射する。出射されたレーザ光はファイバ１５を介して挿入部先端から患部に対して照射される。
この時、上述のように、モータ１６が駆動することによりシャフト１６Ａが回転すると共に、圧電素子１５Ｂが圧電効果により振動してシャフト１６Ａの先端を振動させるので、挿入部１１の先端から照射された光はモータによる振動と圧電素子１５Ｂによる振動とが重畳された照射軌跡を辿ることとなる。

図５にファイバ１５によるレーザ光の照射軌跡の例を示す。図５（Ａ）は、圧電素子１５Ｂによる振動の振幅をモータ１６の振動による振幅よりも小さくすることで、圧電素子１５Ｂにより細かくレーザ光を移動させながら、モータ１６によりレーザ光を粗く移動させた場合の照射軌跡の例を示す。図５（Ａ）は圧電素子１５Ｂによりファイバ１５をらせん状に振動させた場合、図５（Ｂ）は、圧電素子１５Ｂによりファイバ１５を円形の軌跡で振動させた場合のレーザ光の照射軌跡の例を示す。

このように、本実施形態によれば、モータ１６の回転運動による振動と圧電素子１５Ｂによる振動とを重畳させることにより、レーザ光が局所的に照射されることを防止すると共に、より均一なレーザ光の照射が可能になり、患部以外の組織に対する損傷を防止することができる。そして、定点照射を回避し、領域照射が可能となるため、内視鏡などの観察眼で視覚的に治療量を把握することができる。

なお、モータの回転数、回転速度及び回転方向は任意であるとともに、モータの振幅と圧電素子の振幅とは異なる振幅であっても同一の振幅であってもよい。また、本実施形態においては、各圧電素子１５Ｂに印加される電圧・電流の周波数はファイバ１５の振動の共振周波数に合わせられることとしたが、必ずしも共振である必要はなく非共振であってもよい。

（第２の実施形態）
続いて、本発明の第２の実施形態に係るレーザアブレーション装置４０について、図面を参照して説明する。本実施形態において、上述した第１の実施形態と同一の構成には同符号を付し、その説明を省略する。本実施形態における第１の実施形態との主たる相違点は、図６、図７に示すように、モータ１６に代えて、圧電素子１５Ｃを設けたことである。
すなわち、ファイバ１５には、圧電素子１５Ｂ及び圧電素子１５Ｃを支持するための弾性部材３２が設けられている。弾性部材３２の先端側の４方向に圧電素子１５Ｂが、基端側の４方向に圧電素子１５Ｃが夫々対称に設けられている。

従って、本体部１２には、圧電素子制御部２０に代えて、圧電素子１５Ｂ及び圧電素子１５Ｃを制御する圧電素子制御部２８を備えている。
圧電素子制御部２８は、各圧電素子１５Ｂ，１５Ｃに電力を供給するＡＭ変調部２３Ｂ，２３Ｃと、ＡＭ変調部２３Ｂ，２３Ｃから出力される変調信号の位相を互いに調整するＰＬＬ制御部２４と、ＡＭ変調部２３Ｂ，２３Ｃに供給する交流信号を生成する交流信号発生部２１Ｂ，２１Ｃ及び交流信号発生部２１Ｂ，２１Ｃから出力された交流信号を増幅する増幅部２２Ｂ，２２Ｃとを備えている。

交流信号発生部２１Ｂから発生した交流信号は増幅部２２Ｂにて増幅され、ＡＭ変調部２３ＢにてＡＭ変調される。同じく、交流信号発生部２１Ｃから発生した交流信号は増幅部２２Ｃにて増幅され、ＡＭ変調部２３ＣにてＡＭ変調される。ＡＭ変調部２３ＢおよびＡＭ変調部２３Ｃから出力される変調信号は、それぞれ周波数が異なるが、ＰＬＬ制御部２４でそれぞれ分周・逓倍の関係になるよう制御される。また、圧電素子１５Ｂに印加される電圧・電流の周波数は弾性部材３２の先端部の共振周波数に合わせられ、圧電素子１５Ｃに印加される電圧・電流の周波数は、ファイバ１５の共振周波数に合わせられている。

このように構成されたレーザアブレーション装置の作用について説明する。ＡＭ変調部２３Ｂ、ＡＭ変調部２３Ｃから出力された変調信号はそれぞれ圧電素子１５Ｂ、１５Ｃに供給され、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃは変調信号に基づく圧電効果により振動する。振動は、弾性部材３２を経由して伝達し、ファイバ１５を振動させる。

この状態で、ＬＤ駆動部１７Ｂが制御部１９からの制御信号に基づいてＬＤ１７Ａに所定の電源を供給することにより、ＬＤ１７がレーザ光をファイバ１５の入射端に向けて出射する。出射されたレーザ光はファイバ１５を介して挿入部１１の先端から射出される。
このとき、ファイバ１５が圧電素子１５Ｂ，１５Ｃにより振動させられているので、挿入部１１の先端から出射されるレーザ光は、挿入部１１の先端から照射された圧電素子１５Ｂと圧電素子１５Ｃによる振動とが重畳された照射軌跡を辿ることとなる。

図８にファイバ１５によるレーザ光の照射軌跡の例を示す。図８は、圧電素子１５Ｂによる振動の振幅を圧電素子１５Ｃの振動による振幅よりも小さくすることで、圧電素子１５Ｂにより細かくレーザ光を移動させながら、圧電素子１５Ｃによりレーザ光を粗く移動させた場合の照射軌跡の例を示す。図８（Ａ）は圧電素子１５Ｃにより円形の軌跡で振動させながら圧電素子１５Ｂによりファイバ１５をらせん状に振動させた場合の例、図８（Ｂ）は、圧電素子１５Ｂによる振動を（Ａ）と同様とし、圧電素子１５Ｃによる振動をらせん状の振動とした場合のレーザ光の照射軌跡の例を示す。図８（Ｃ）は、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃのいずれによる振動も円形の軌跡の振動とした場合のレーザ光の照射軌跡の例を示す。

このように、本実施形態によれば、圧電素子１５Ｂによる振動と圧電素子１５Ｃによる振動と弾性部材３２を介してファイバ１５に伝えると共に、圧電素子１５Ｂによる振動と圧電素子１５Ｃによる振動とを重畳させることにより、レーザ光が局所的に照射されることを防止すると共に、より均一なレーザ光の照射が可能になり、患部以外の組織に対する損傷を防止することができる。そして、定点照射を回避し、領域照射が可能となるため、内視鏡などの観察眼で視覚的に治療量を把握することができる。照射範囲の可変域が広い為、異なる治療範囲に対し柔軟に対応できる。

（第２の実施形態の変形例）
続いて、本発明の第２の実施形態の変形例に係るレーザアブレーション装置について、図面を参照して説明する。本実施形態において、上述した第２の実施形態と同一の構成には同符号を付し、その説明を省略する。本実施形態における第２の実施形態との主たる相違点は、図９に示すように、弾性部材３２の軸方向に圧電素子が３箇所設けられた所謂３段構成となっている点である。

すなわち、ファイバ１５には、圧電素子１５Ｂ、圧電素子１５Ｃ及び圧電素子１５Ｄを支持するための弾性部材３２が設けられている。弾性部材３２の先端側の４方向に圧電素子１５Ｂが、圧電素子１５Ｂよりも基端側の４方向に圧電素子１５Ｃが、さらに基端側の４方向に圧電素子１５Ｄが夫々対称に設けられている。

従って、上記した第２の実施形態と同様に、本体部は、圧電素子制御部２０に代えて、圧電素子１５Ｂ、圧電素子１５Ｃ及び圧電素子１５Ｄを制御する圧電素子制御部を備え、圧電素子制御部２８が、各圧電素子１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄに電力を供給するＡＭ変調部、ＡＭ変調部から出力される変調信号の位相を互いに調整するＰＬＬ制御部と、ＡＭ変調部に供給する交流信号を生成する交流信号発生部及び交流信号発生部から出力された交流信号を増幅する増幅部とを備えている。

このように圧電素子１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄがファイバの軸方向の３箇所に設けらている場合のファイバ１５によるレーザ光の照射軌跡の例を図１０に示す。図１０は、ファイバ１５の先端側に設けられた圧電素子ほどその振動の振幅を小さくすることで、先端側の圧電素子により細かくレーザ光を移動させながら、基端側の圧電素子によりレーザ光を粗く移動させた場合の照射軌跡の例を示す。特に、図１０（Ａ）は圧電素子１５Ｃ，１５Ｄにより円形の軌跡で振動させながら圧電素子１５Ｂによりファイバ１５をらせん状に振動させた場合の例、図１０（Ｂ）は、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃによる振動を螺旋状に振動させながら圧電素子１５Ｄにより円形の軌跡で振動させた場合の例、図１０（Ｃ）は、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄのいずれによる振動も円形の軌跡の振動とした場合のレーザ光の照射軌跡の例を示す。

このように、本実施形態によれば、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄによる振動と弾性部材３２を介してファイバ１５に伝えると共に、圧電素子１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄによる振動とを重畳させることにより、レーザ光が局所的に照射されることを防止すると共に、より均一なレーザ光の照射が可能になり、患部以外の組織に対する損傷を防止することができる。そして、定点照射を回避し、領域照射が可能となるため、内視鏡などの観察眼で視覚的に治療量を把握することができる。照射範囲の可変域が広い為、異なる治療範囲に対し柔軟に対応できる。

なお、上述した各実施形態においては、振動を発生させる手段として圧電素子を用いたが、必ずしも圧電素子に限られるものではなく、例えば、電磁式の振動素子であってもよい。
また、第２の実施形態においては、圧電素子１５Ｂによって振動を発生させる駆動部と圧電素子１５Ｃによって振動を発生させる駆動部との２段構成とし、第２の実施形態の変形例においては圧電素子によって振動を発生させる３つの駆動部による３段構成としたが、４段又はそれ以上の構成であってもよく、駆動部として、モータ、圧電素子、電磁式の振動素子等、ファイバを振動させ得るあらゆる手段を単独又は適宜組み合わせて適用することができる。

例えば、図１１に示すように、電磁式の振動素子３５は、ファイバ１５に振動を伝達する弾性部材３２の軸上に配置された永久磁石３３とこの永久磁石３３の周囲を囲むように設けられたコイル３４とを有している。そして、このように構成された電磁式振動素子３５を適用する場合には、図１１（Ａ）のように、ファイバ１５の基端側に電磁式の振動素子３５を設けると共に先端側に圧電素子１５Ｃを設ける構成とすることや、図１１（Ｂ）のように、ファイバ１５の基端側及び先端側共に電磁式の振動素子３５を設ける構成とすることができる。

そして、コイルに電流が供給されると永久磁石が電磁誘導により振動し、この振動が弾性部材を介してファイバ１５の先端側を振動させる。電磁式の振動素子３５は、ラスター走査をすることができるので、図１１（Ａ）のようにファイバ１５の先端側に圧電素子が設けられている場合には、図１２（Ａ），（Ｂ）に示すように、圧電素子による回転による振動と組み合わせることができ、図１１（Ｂ）のように、ファイバ１５の基端側及び先端側共に電磁式の振動素子３５を設けた場合には、双方ともラスター走査とすることで、図１２（Ｃ）のような走査軌跡とすることができる。何れも、レーザ光が局所的に照射されるのを防止することができる。

１０，３０，４０レーザアブレーション装置
１１挿入部
１５ファイバ
１５Ｂ圧電素子
１５Ｃ圧電素子
１６モータ
１６Ａシャフト
１７Ａ光源
１８振動制御部
１９制御部
２０，２８圧電素子制御部

Claims

患部を焼灼するためのレーザ光を出射する光源と、
挿入部内に設けられ、前記光源から出射されたレーザ光を導光して該レーザ光を挿入部先端から照射するファイバと、
該ファイバに設けられ該ファイバを第１の周期で振動させる第１の駆動部と、
前記ファイバを第２の周期で振動させる第２の駆動部とを備えるレーザアブレーション装置。
前記第１の駆動部による振幅よりも前記第２の駆動部による振幅が大きい請求項１に記載のレーザアブレーション装置。
前記第１の駆動部が前記第２の駆動部よりも前記ファイバの先端側に設けられ、
前記第１の周期よりも前記第２の周期が長い請求項１または請求項２に記載のレーザアブレーション装置。
前記第１の駆動部が前記第２の駆動部よりも前記ファイバの先端側に設けられ、
前記第２の周期が前記第１の周期のｎ倍（ｎは整数）の周期である請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。
前記ファイバが、前記第１の駆動部及び前記第２の駆動部により回転運動され、
前記第１の駆動部によるファイバの回転数が前記第２の駆動部によるファイバの回転数よりも早い請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。
前記ファイバが共振運動させられる請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。
前記ファイバがラスター走査させられる請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。
前記ファイバがスパイラル走査させられる請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。
前記ファイバを周期的に振動させる他の１以上の駆動部を更に備える請求項１乃至請求項８の何れか１項に記載のレーザアブレーション装置。