JP6075715B2 - Bismuth glass and sealing material using the same - Google Patents

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Description

本発明は、ビスマス系ガラス及びこれを用いた封着材料に関し、特にレーザー光による封着処理(以下、レーザー封着)に好適なビスマス系ガラス及びこれを用いた封着材料に関する。   The present invention relates to bismuth-based glass and a sealing material using the same, and more particularly to a bismuth-based glass suitable for sealing treatment with laser light (hereinafter referred to as laser sealing) and a sealing material using the same.

近年、フラットディスプレイパネルとして、有機ELディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは、直流電圧で駆動できるため駆動回路を簡略化し得ると共に、液晶ディスプレイのように視野角依存性がなく、また自己発光のため明るく、更には応答速度が速い等の利点がある。現在、有機ELディスプレイは、主に携帯電話等の小型携帯機器に利用されているが、今後は超薄型テレビへの応用が期待されている。なお、有機ELディスプレイは、液晶ディスプレイと同様にして、薄膜トランジスタ(TFT)等のアクティブ素子を各画素に配置して、駆動させる方式が主流である。   In recent years, organic EL displays have attracted attention as flat display panels. Since the organic EL display can be driven by a direct current voltage, the driving circuit can be simplified, and there are advantages such as a liquid crystal display that is not dependent on the viewing angle, bright due to self-emission, and has a high response speed. Currently, organic EL displays are mainly used in small portable devices such as mobile phones, but in the future, application to ultra-thin televisions is expected. Note that the organic EL display is mainly driven by disposing an active element such as a thin film transistor (TFT) in each pixel in the same manner as a liquid crystal display.

有機ELディスプレイは、2枚のガラス基板、金属等の陰電極、有機発光層、ITO等の陽電極、接着材料等で構成される。従来、接着材料として、低温硬化性を有するエポキシ樹脂、或いは紫外線硬化樹脂等の有機樹脂系接着材料が使用されてきた。しかし、有機樹脂系接着材料では、気体の侵入を完全に遮断できない。このため、有機樹脂系接着材料を用いると、有機ELディスプレイ内部の気密性を保持することができず、これに起因して、耐水性が低い有機発光層が劣化し易くなって、有機ELディスプレイの表示特性が経時的に劣化する不具合が生じていた。また、有機樹脂系接着材料は、ガラス基板同士を低温で接着できる利点を有するものの、耐水性が低いため、有機ELディスプレイを長期に亘って使用した場合に、ディスプレイの信頼性が低下し易くなる。   The organic EL display is composed of two glass substrates, a negative electrode such as metal, an organic light emitting layer, a positive electrode such as ITO, and an adhesive material. Conventionally, an organic resin adhesive material such as an epoxy resin having a low temperature curability or an ultraviolet curable resin has been used as the adhesive material. However, organic resin adhesive materials cannot completely block gas intrusion. For this reason, when an organic resin adhesive material is used, the airtightness inside the organic EL display cannot be maintained, and as a result, the organic light emitting layer having low water resistance is easily deteriorated, and the organic EL display There was a problem that the display characteristics of the display deteriorated with time. In addition, the organic resin-based adhesive material has an advantage that the glass substrates can be bonded to each other at a low temperature. However, since the water resistance is low, when the organic EL display is used for a long time, the reliability of the display is likely to be lowered. .

一方、ガラス粉末を含む封着材料は、有機樹脂系接着材料に比べて、耐水性に優れると共に、有機ELディスプレイ内部の気密性の確保に適している。   On the other hand, the sealing material containing glass powder is excellent in water resistance as compared with the organic resin-based adhesive material, and is suitable for ensuring airtightness inside the organic EL display.

しかし、ガラス粉末は、一般的に、軟化温度が300℃以上であるため、有機ELディスプレイに適用が困難であった。具体的に説明すると、上記の封着材料でガラス基板同士を封着する場合、電気炉に有機ELディスプレイ全体を投入して、ガラス粉末の軟化温度以上の温度で焼成し、ガラス粉末を軟化流動させる必要があった。しかし、有機ELディスプレイに用いられるアクティブ素子は、120〜130℃程度の耐熱性しか有していないため、この方法でガラス基板同士を封着すると、アクティブ素子が熱により損傷して、有機ELディスプレイの表示特性が劣化してしまう。また、有機発光材料も耐熱性が乏しいため、この方法でガラス基板同士を封着すると、有機発光材料が熱により損傷して、有機ELディスプレイの表示特性が劣化してしまう。   However, since glass powder generally has a softening temperature of 300 ° C. or higher, it has been difficult to apply it to an organic EL display. More specifically, when sealing glass substrates with the above-mentioned sealing material, the entire organic EL display is put into an electric furnace and baked at a temperature equal to or higher than the softening temperature of the glass powder to soften and flow the glass powder. It was necessary to let them. However, since the active element used in the organic EL display has only heat resistance of about 120 to 130 ° C., sealing the glass substrates by this method damages the active element due to heat, and the organic EL display. Display characteristics will deteriorate. In addition, since the organic light emitting material also has poor heat resistance, sealing the glass substrates by this method damages the organic light emitting material due to heat and degrades the display characteristics of the organic EL display.

このような事情に鑑み、近年、有機ELディスプレイを封着する方法として、レーザー封着が検討されている。レーザー封着によれば、封着すべき部分のみを局所加熱できるため、アクティブ素子等の熱劣化を防止した上で、ガラス基板同士を封着することができる。   In view of such circumstances, in recent years, laser sealing has been studied as a method for sealing an organic EL display. According to laser sealing, since only the portion to be sealed can be locally heated, it is possible to seal the glass substrates together while preventing thermal degradation of the active element or the like.

米国特許第6416375号明細書US Pat. No. 6,416,375 特開2006−315902号公報JP 2006-315902 A

特許文献1、2には、フィールドエミッションディスプレイのガラス基板同士をレーザー封着することが記載されている。しかし、特許文献1、2には具体的な材料構成について記載がなく、どのような材料構成がレーザー封着に好適であるのか不明であった。このため、レーザー光を封着材料に照射しても、封着材料がレーザー光を的確に吸収できず、封着すべき部分において、レーザー光を熱エネルギーに効率良く変換させることが困難であった。なお、レーザー光の出力を上げると、材料構成を適正化しなくても、レーザー封着が可能になるが、この場合、アクティブ素子等が加熱されて、有機ELディスプレイの表示特性が劣化する虞がある。   Patent Documents 1 and 2 describe laser-sealing glass substrates of a field emission display. However, Patent Documents 1 and 2 do not describe a specific material configuration, and it is unclear what material configuration is suitable for laser sealing. For this reason, even if the sealing material is irradiated with the laser beam, the sealing material cannot absorb the laser beam accurately, and it is difficult to efficiently convert the laser beam into heat energy at the portion to be sealed. It was. If the output of the laser beam is increased, laser sealing can be performed without optimizing the material structure. In this case, however, the active element or the like may be heated to deteriorate the display characteristics of the organic EL display. is there.

また、本発明者等の調査によると、レーザー封着には、封着材料の流動性が要求される。封着材料の流動性が高いと、封着強度が向上し、機械的衝撃等によりリーク等の気密不良が生じ難くなる。   Further, according to the investigation by the present inventors, the fluidity of the sealing material is required for laser sealing. When the fluidity of the sealing material is high, the sealing strength is improved, and airtight defects such as leaks are less likely to occur due to mechanical impact or the like.

更に、本発明者等の調査によると、レーザー封着には、封着材料の低融点化も要求される。封着材料を低融点化すれば、局所加熱の熱衝撃によって、封着部分が破壊し難くなる。   Further, according to the investigation by the present inventors, it is also required to lower the melting point of the sealing material for laser sealing. If the melting point of the sealing material is lowered, the sealed portion is hardly broken by the thermal shock of local heating.

そこで、本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、レーザー光を熱エネルギーに変換し易く、良好な流動性を示し、しかも低融点化に資するビスマス系ガラス及びこれを用いた封着材料を提供することにより、有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることである。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical problem is to easily convert laser light into thermal energy, exhibit good fluidity, and contribute to lowering the melting point, and bismuth glass. It is to improve long-term reliability of an organic EL device or the like by providing a sealing material using this.

本発明者等は、Biを多量に含むビスマス系ガラスを採用すると共に、ガラス組成中にCuO及び/又はFeを所定量導入することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のビスマス系ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量%表示で、Bi 70〜90%、B 2〜12%、ZnO 1〜15%、CuO+Fe 0.2〜15%、MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜20%含有することを特徴とする。ここで、「CuO+Fe」は、CuOとFeの合量である。「MgO+CaO+SrO+BaO」は、MgO、CaO、SrO及びBaOの合量である。 The present inventors adopt a bismuth-based glass containing a large amount of Bi 2 O 3 and can introduce the predetermined amount of CuO and / or Fe 2 O 3 into the glass composition to solve the above technical problem. It is proposed as a heading and the present invention. That is, the bismuth-based glass of the present invention has a glass composition represented by mass% in terms of the following oxide, Bi 2 O 3 70 to 90%, B 2 O 3 2 to 12%, ZnO 1 to 15%, CuO + Fe 2. It is characterized by containing 0.2 to 15% of O 3 and 0.1 to 20% of MgO + CaO + SrO + BaO. Here, “CuO + Fe 2 O 3 ” is the total amount of CuO and Fe 2 O 3 . “MgO + CaO + SrO + BaO” is the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.

ビスマス系ガラスは、他のガラス系に比べて、レーザー封着の際に、発泡し難い特徴を有する。このため、ビスマス系ガラスを用いると、発泡に起因して、封着部分の機械的強度が低下する事態を防止することができる。更に、ビスマス系ガラスは、他のガラス系に比べて、熱的安定性が高い特徴を有する。このため、ビスマス系ガラスを用いると、レーザー封着の際に、失透に起因して、封着強度が低下する事態を防止することができる。   Bismuth-based glass has a feature that it is difficult to foam during laser sealing compared to other glass-based glasses. For this reason, when bismuth-type glass is used, the situation where the mechanical strength of a sealing part falls due to foaming can be prevented. Furthermore, bismuth-based glass has a feature that it has higher thermal stability than other glass-based glasses. For this reason, when bismuth-based glass is used, it is possible to prevent the sealing strength from being reduced due to devitrification during laser sealing.

また、上記のように、ビスマス系ガラスのガラス組成範囲を規制すれば、熱的安定性を維持した上で、軟化点を下げることができる。その結果、低温(500℃以下、好ましくは480℃以下、より好ましくは450℃以下)で良好な流動性を確保することができる。   Moreover, if the glass composition range of bismuth-type glass is regulated as described above, the softening point can be lowered while maintaining thermal stability. As a result, good fluidity can be secured at a low temperature (500 ° C. or lower, preferably 480 ° C. or lower, more preferably 450 ° C. or lower).

更に、本発明のビスマス系ガラスは、CuO+Feを0.2質量%以上(好ましくは1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、更に好ましくは3質量%以上、特に好ましくは4質量%以上、最も好ましくは5質量%以上)含む。このようにすれば、レーザー光等が効率良く熱エネルギーに変換されて、封着すべき部位のみを局所加熱することができる。その結果、アクティブ素子や有機発光層の熱的損傷を防止した上で、ガラス基板同士を封着することができる。なお、レーザー封着の場合、照射箇所から1mm離れた部位の温度は100℃以下になり、アクティブ素子や有機発光層の熱的損傷を防止することができる。一方、本発明のビスマス系ガラスは、CuO+Feの含有量が15質量%以下に規制されている。このようにすれば、レーザー封着の際に、ガラスが失透し難くなる。 Further, the bismuth-based glass of the present invention contains CuO + Fe 2 O 3 in an amount of 0.2% by mass or more (preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, still more preferably 3% by mass or more, particularly preferably 4% by mass. % Or more, most preferably 5% by mass or more). If it does in this way, a laser beam etc. will be efficiently converted into thermal energy and only the part which should be sealed can be heated locally. As a result, it is possible to seal the glass substrates together while preventing the active element and the organic light emitting layer from being thermally damaged. In the case of laser sealing, the temperature at a site 1 mm away from the irradiation site is 100 ° C. or lower, and thermal damage to the active element and the organic light emitting layer can be prevented. On the other hand, in the bismuth-based glass of the present invention, the content of CuO + Fe 2 O 3 is regulated to 15% by mass or less. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of laser sealing.

第二に、本発明のビスマス系ガラスは、CuO+Feの含有量が4質量%以上であることが好ましい。 Second, the bismuth-based glass of the present invention preferably has a CuO + Fe 2 O 3 content of 4% by mass or more.

第三に、本発明のビスマス系ガラスは、モル比率BaO/ZnOの値が0.01〜2であることが好ましい。   Third, the bismuth-based glass of the present invention preferably has a molar ratio BaO / ZnO value of 0.01-2.

第四に、本発明のビスマス系ガラスは、モル比率Bi/Bの値が1.6以上であることが好ましい。 Fourth, the bismuth-based glass of the present invention preferably has a molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 of 1.6 or more.

第五に、本発明のビスマス系ガラスは、モル比率Bi/ZnOの値が1.55以上であることが好ましい。 Fifth, the bismuth-based glass of the present invention preferably has a molar ratio Bi 2 O 3 / ZnO of 1.55 or more.

第六に、本発明のビスマス系ガラスは、BaOの含有量が0.1質量%以上であることが好ましい。このようにすれば、熱的安定性と低温封着性を高めることができる。   Sixth, the bismuth-based glass of the present invention preferably has a BaO content of 0.1% by mass or more. If it does in this way, thermal stability and low temperature sealing property can be improved.

第七に、本発明のビスマス系ガラスは、CuO+Feの含有量が5質量%以上、モル比率Bi/Bの値が1.5以下、且つモル比率BaO/ZnOの値が0.7以上であることが好ましい。このようにすれば、低融点特性と熱的安定性を高いレベルで両立し得ると共に、レーザー光をガラスに照射すると、レーザー光が高効率で熱エネルギーに変換されるため、ガラスが十分に軟化流動し、ガラス基板同士の封着強度を高めることができる。 Seventh, the bismuth-based glass of the present invention has a CuO + Fe 2 O 3 content of 5 mass% or more, a molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 of 1.5 or less, and a molar ratio BaO / ZnO. The value of is preferably 0.7 or more. In this way, both low melting point characteristics and thermal stability can be achieved at a high level, and when laser light is irradiated onto the glass, the laser light is converted into thermal energy with high efficiency, so that the glass is sufficiently softened. It can flow and can improve the sealing strength between glass substrates.

第八に、本発明の封着材料は、上記のビスマス系ガラスからなるガラス粉末 55〜100体積%、耐火性フィラー粉末 0〜45体積%含有することを特徴とする。このようにすれば、被封着物の熱膨張係数に整合するように、封着材料の熱膨張係数を下げることができる。   Eighth, the sealing material of the present invention is characterized in that it contains 55 to 100% by volume of glass powder made of the above bismuth glass and 0 to 45% by volume of refractory filler powder. In this way, the thermal expansion coefficient of the sealing material can be lowered so as to match the thermal expansion coefficient of the object to be sealed.

第九に、本発明の封着材料は、耐火性フィラー粉末が、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、リン酸ジルコニウム、ジルコン、ジルコニア、酸化スズから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。   Ninthly, in the sealing material of the present invention, the refractory filler powder is preferably one or more selected from cordierite, willemite, alumina, zirconium phosphate, zircon, zirconia, and tin oxide.

第十に、本発明の封着材料は、実質的にPbOを含有しないことが好ましい。ここで、「実質的にPbOを含有しない」とは、封着材料中のPbOの含有量が1000ppm(質量)未満の場合を指す。このようにすれば、近年の環境的要請を満たすことができる。   10thly, it is preferable that the sealing material of this invention does not contain PbO substantially. Here, “substantially does not contain PbO” refers to a case where the content of PbO in the sealing material is less than 1000 ppm (mass). In this way, environmental demands in recent years can be satisfied.

第十一に、本発明の封着材料は、軟化点が500℃以下であることが好ましい。軟化点が高過ぎると、レーザー光を照射しても、ガラスが十分に軟化流動せず、ガラス基板同士の封着強度を高めるために、レーザー光の出力を上げる必要がある。そして、レーザー光の出力が高いと、レーザー封着時に、レーザー光の照射部と非照射部間の熱衝撃が大きくなり、封着部分にクラック等が発生し易くなる。ここで、「軟化点」とは、マクロ型示差熱分析(DTA)装置で測定した値を指し、DTAは室温から測定を開始し、昇温速度は10℃/分とする。なお、マクロ型DTA装置で測定した軟化点は、図1に示す第四屈曲点の温度(Ts)を指す。なお、軟化点の下限は特に限定されないが、上記ビスマス系ガラスの熱的安定性を考慮すれば、390℃以上が好ましい。   Eleventh, the sealing material of the present invention preferably has a softening point of 500 ° C. or lower. If the softening point is too high, the glass does not sufficiently soften and flow even when irradiated with laser light, and it is necessary to increase the output of the laser light in order to increase the sealing strength between the glass substrates. If the output of the laser beam is high, the thermal shock between the laser beam irradiation part and the non-irradiation part becomes large at the time of laser sealing, and cracks and the like are likely to occur in the sealing part. Here, the “softening point” refers to a value measured with a macro-type differential thermal analysis (DTA) apparatus, DTA starts measurement from room temperature, and the rate of temperature rise is 10 ° C./min. In addition, the softening point measured with the macro type | mold DTA apparatus points out the temperature (Ts) of the 4th bending point shown in FIG. In addition, although the minimum of a softening point is not specifically limited, If the thermal stability of the said bismuth-type glass is considered, 390 degreeC or more is preferable.

第十二に、本発明の封着材料は、レーザー封着に用いることが好ましい。このようにすれば、封着材料を局所加熱することができ、アクティブ素子や有機発光層の熱的損傷を防止することができる。レーザー光の光源の種類は特に限定されないが、例えば半導体レーザー、YAGレーザー、COレーザー、エキシマレーザー、赤外レーザー等は、取り扱いが容易な点で好適である。また、発光中心波長は、上記ビスマス系ガラスにレーザー光を的確に吸収させるために、500〜1600nm、特に750〜1300nmが好ましい。 Twelfth, the sealing material of the present invention is preferably used for laser sealing. If it does in this way, a sealing material can be heated locally and the thermal damage of an active element or an organic light emitting layer can be prevented. The type of laser light source is not particularly limited. For example, a semiconductor laser, a YAG laser, a CO 2 laser, an excimer laser, an infrared laser, and the like are preferable in terms of easy handling. In addition, the emission center wavelength is preferably 500 to 1600 nm, particularly preferably 750 to 1300 nm, in order for the bismuth-based glass to absorb laser light accurately.

第十三に、本発明の封着材料は、有機ELデバイス又は太陽電池の封着に用いることが好ましい。   Thirteenth, the sealing material of the present invention is preferably used for sealing an organic EL device or a solar cell.

マクロ型DTA装置で測定した時の軟化点(Ts)を示す概略データである。It is outline data which shows the softening point (Ts) when it measures with a macro type DTA apparatus.

本発明のビスマス系ガラスのガラス組成範囲を限定した理由を下記に示す。なお、以下の%表示は、特に断りがある場合を除き、質量%を指す。   The reason for limiting the glass composition range of the bismuth-based glass of the present invention is shown below. In addition, the following% display points out the mass% except the case where there is particular notice.

Biは、軟化点を下げるための主要成分であり、その含有量は70〜90%、好ましくは75〜90%、より好ましくは80〜90%、更に好ましくは82〜88%である。Biの含有量が70%より少ないと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。一方、Biの含有量が90%より多いと、ガラスが熱的に不安定になり、溶融時又は照射時にガラスが失透し易くなる。 Bi 2 O 3 is a main component for lowering the softening point, and its content is 70 to 90%, preferably 75 to 90%, more preferably 80 to 90%, still more preferably 82 to 88%. . If the content of Bi 2 O 3 is less than 70%, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like. On the other hand, when the content of Bi 2 O 3 is more than 90%, the glass becomes thermally unstable, and the glass is easily devitrified at the time of melting or irradiation.

は、ビスマス系ガラスのガラスネットワークを形成する成分であり、その含有量は2〜12%、好ましくは3〜10%、より好ましくは3〜8%である。Bの含有量が2%より少ないと、ガラスが熱的に不安定になり、溶融時又は照射時にガラスが失透し易くなる。一方、Bの含有量が12%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。 B 2 O 3 is a component that forms a glass network of bismuth-based glass, and its content is 2 to 12%, preferably 3 to 10%, and more preferably 3 to 8%. If the content of B 2 O 3 is less than 2%, the glass becomes thermally unstable, and the glass tends to devitrify during melting or irradiation. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is more than 12%, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like.

モル比率Bi/Bの値は、好ましくは1.6以上、1.65以上、1.9以上、特に2.5以上である。モル比率Bi/Bの値が小さ過ぎると、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。なお、CuO+Feの含有量が多い場合、例えばCuO+Feの含有量が5質量%以上の場合に、モル比率Bi/Bの値が大き過ぎると、ガラスが熱的に不安定になり、溶融時又は照射時にガラスが失透し易くなる。よって、その場合、モル比率Bi/Bの値は、好ましくは2.3以下、2.0以下、1.8以下、1.7以下、1.6以下、特に1.5以下である。 The value of the molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 is preferably 1.6 or more, 1.65 or more, 1.9 or more, particularly 2.5 or more. If the value of the molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 is too small, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like. Incidentally, when the content of CuO + Fe 2 O 3 is large, for example, when the content of CuO + Fe 2 O 3 is more than 5 mass%, the value of the molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 is too large, the glass It becomes thermally unstable and the glass tends to be devitrified during melting or irradiation. Therefore, in that case, the value of the molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 is preferably 2.3 or less, 2.0 or less, 1.8 or less, 1.7 or less, 1.6 or less, particularly 1. 5 or less.

ZnOは、溶融時又は照射時の失透を抑制し、また熱膨張係数を低下させる成分であり、その含有量は1〜15%、好ましくは1.5〜10%である。ZnOの含有量が1%より少ないと、溶融時又は照射時の失透抑制効果が乏しくなる。一方、ZnOの含有量が15%より多いと、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。   ZnO is a component that suppresses devitrification at the time of melting or irradiation and lowers the thermal expansion coefficient, and its content is 1 to 15%, preferably 1.5 to 10%. If the ZnO content is less than 1%, the devitrification suppressing effect at the time of melting or irradiation becomes poor. On the other hand, when the content of ZnO is more than 15%, the component balance in the glass composition is impaired, and conversely, the glass is easily devitrified.

モル比率Bi/ZnOの値は、好ましくは1.55以上、1.6〜10、3〜9.5、4〜9、5〜8.5、特に5.5〜8である。このようにすれば、低融点特性と熱的安定性を高いレベルで両立することができる。 The value of the molar ratio Bi 2 O 3 / ZnO is preferably 1.55 or more, 1.6 to 10, 3 to 9.5, 4 to 9, 5 to 8.5, particularly 5.5 to 8. In this way, both low melting point characteristics and thermal stability can be achieved at a high level.

MgO+CaO+SrO+BaOは、溶融時又は照射時の失透を抑制する成分である。MgO+CaO+SrO+BaOの含有量は0.1〜20%、好ましくは0.1〜15%、より好ましくは0.1〜10%である。MgO+CaO+SrO+BaOの含有量が20%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。   MgO + CaO + SrO + BaO is a component that suppresses devitrification during melting or irradiation. The content of MgO + CaO + SrO + BaO is 0.1 to 20%, preferably 0.1 to 15%, more preferably 0.1 to 10%. If the content of MgO + CaO + SrO + BaO is more than 20%, the softening point becomes too high, and the glass becomes difficult to soften even when irradiated with laser light or the like.

BaOの含有量は0.1〜15%、好ましくは0.1〜8%である。BaOの含有量が15%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。MgO、CaO、SrOの各々の含有量は0〜5%、特に0〜2%が好ましい。MgO、CaO、SrOの各々の含有量が多過ぎると、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。   The content of BaO is 0.1 to 15%, preferably 0.1 to 8%. If the content of BaO is more than 15%, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like. The content of each of MgO, CaO, and SrO is preferably 0 to 5%, particularly preferably 0 to 2%. If the content of each of MgO, CaO, and SrO is too large, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like.

モル比率BaO/ZnOの値は、好ましくは0.01〜2、0.03〜1.5、0.05〜1.2、0.1〜0.9、0.4〜0.9、特に0.7〜0.9である。このようにすれば、低融点特性と熱的安定性を高いレベルで両立することができる。   The value of the molar ratio BaO / ZnO is preferably 0.01-2, 0.03-1.5, 0.05-1.2, 0.1-0.9, 0.4-0.9, in particular 0.7-0.9. In this way, both low melting point characteristics and thermal stability can be achieved at a high level.

CuO+Feは、光吸収特性を有する成分であり、所定の発光中心波長を有する光を照射すると、光を吸収して、ガラスを軟化させ易くする成分である。また、CuO+Feは、溶融時又は照射時の失透を抑制する成分である。CuO+Feの含有量は0.2〜15%、好ましくは1〜10%、より好ましくは2〜9%、更に好ましくは3〜8%、特に好ましくは4〜8%、最も好ましくは5〜8%である。CuO+Feの含有量が0.2%より少ないと、光吸収特性が乏しくなり、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。一方、CuO+Feの含有量が15%より多いと、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなり、流動性が低下し易くなる。 CuO + Fe 2 O 3 is a component having light absorption characteristics, and is a component that, when irradiated with light having a predetermined emission center wavelength, absorbs light and softens the glass easily. CuO + Fe 2 O 3 is a component that suppresses devitrification at the time of melting or irradiation. The content of CuO + Fe 2 O 3 is 0.2 to 15%, preferably 1 to 10%, more preferably 2 to 9%, still more preferably 3 to 8%, particularly preferably 4 to 8%, and most preferably 5 ~ 8%. When the content of CuO + Fe 2 O 3 is less than 0.2%, the light absorption characteristics are poor, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like. On the other hand, when the content of CuO + Fe 2 O 3 is more than 15%, the component balance in the glass composition is impaired, and conversely, the glass is easily devitrified, and the fluidity is easily lowered.

CuOは、光吸収特性を有する成分である。つまり所定の発光中心波長を有する光を照射すると、光を吸収して、ガラスを軟化させ易くする成分である。更に、溶融時又は照射時の失透を抑制する成分である。CuOの含有量は、好ましくは0〜15%、0.2〜10%、1〜9%、特に3〜7%である。CuOの含有量が15%より多いと、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなり、流動性が低下し易くなる。なお、CuOの含有量が少ないと、光吸収特性が乏しくなり、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。   CuO is a component having light absorption characteristics. That is, it is a component that, when irradiated with light having a predetermined emission center wavelength, absorbs light and softens the glass easily. Furthermore, it is a component that suppresses devitrification during melting or irradiation. The content of CuO is preferably 0 to 15%, 0.2 to 10%, 1 to 9%, particularly 3 to 7%. When the content of CuO is more than 15%, the component balance in the glass composition is impaired, and conversely, the glass is easily devitrified, and the fluidity is easily lowered. In addition, when there is little content of CuO, a light absorption characteristic will become scarce and even if it irradiates a laser beam etc., it will become difficult to soften glass.

Feは、光吸収特性を有する成分である。つまり所定の発光中心波長を有する光を照射すると、光を吸収して、ガラスを軟化させ易くする成分である。更に、溶融時又は照射時の失透を抑制する成分である。Feの含有量は、好ましくは0〜7%、0.05〜7%、0.1〜4%、特に0.2〜2%である。Feの含有量が7%より多いと、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなり、流動性が低下し易くなる。なお、Feの含有量が少ないと、光吸収特性が乏しくなり、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。 Fe 2 O 3 is a component having light absorption characteristics. That is, it is a component that, when irradiated with light having a predetermined emission center wavelength, absorbs light and softens the glass easily. Furthermore, it is a component that suppresses devitrification during melting or irradiation. The content of Fe 2 O 3 is preferably 0 to 7%, 0.05 to 7%, 0.1 to 4%, particularly 0.2 to 2%. When the content of Fe 2 O 3 is more than 7%, is impaired balance of components in the glass composition, reverse glass becomes liable to devitrify, the fluidity tends to decrease. Incidentally, when the content of Fe 2 O 3 is small, the light absorption characteristic is poor, even when irradiated with a laser beam or the like, a glass is hardly softened.

ガラス組成中のFeは、Fe2+又はFe3+の形で存在することが想定されるが、本発明において、ガラス組成中のFeは、Fe2+とFe3+の何れかに限定されるものではなく、何れであっても構わない。そこで、本発明では、Fe2+の場合はFeに換算した上で取り扱うものとする。特に、赤外レーザーを用いる場合、Fe2+は、赤外域に吸収ピークを有するため、Fe2+の割合を高くする方が好ましく、Fe2+/Fe3+の割合を0.03以上(望ましくは0.08以上)に規制することが好ましい。 It is assumed that Fe in the glass composition exists in the form of Fe 2+ or Fe 3+ , but in the present invention, Fe in the glass composition is not limited to either Fe 2+ or Fe 3+. Any of these may be used. Therefore, in the present invention, the case of Fe 2+ is handled after being converted to Fe 2 O 3 . In particular, when an infrared laser is used, since Fe 2+ has an absorption peak in the infrared region, it is preferable to increase the ratio of Fe 2+ , and the ratio of Fe 2+ / Fe 3+ is preferably 0.03 or more (preferably 0.8. (08 or more) is preferable.

上記の成分以外にも、例えば、以下の成分を添加してもよい。なお、その添加量は、合量で20%以下、10%以下、特に5%以下が好ましい。   In addition to the above components, for example, the following components may be added. The total amount added is preferably 20% or less, 10% or less, and particularly preferably 5% or less.

SiOは、耐水性を高める成分である。その含有量は0〜10%、特に0〜3%が好ましい。SiOの含有量が10%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。 SiO 2 is a component that improves water resistance. The content is preferably 0 to 10%, particularly preferably 0 to 3%. When the content of SiO 2 is more than 10%, the softening point becomes too high, and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like.

Alは、耐水性を高める成分である。その含有量は0〜5%、特に0.1〜2%が好ましい。Alの含有量が5%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。 Al 2 O 3 is a component that improves water resistance. Its content is preferably 0 to 5%, particularly preferably 0.1 to 2%. When the content of Al 2 O 3 is more than 5%, the softening point becomes too high and the glass is difficult to soften even when irradiated with laser light or the like.

CeOは、溶融時又は照射時の失透を抑制する成分である。CeOの含有量は、好ましくは0〜5%、0〜2%、特に0〜1%が好ましい。CeOの含有量が多過ぎると、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。 CeO 2 is a component that suppresses devitrification during melting or irradiation. The CeO 2 content is preferably 0 to 5%, 0 to 2%, particularly preferably 0 to 1%. When the content of CeO 2 is too large, is impaired balance of components in the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.

Sbは、失透を抑制する成分である。Sbの含有量は、好ましくは0〜5%、0〜2%、特に0〜1%が好ましい。Sbは、ビスマス系ガラスのネットワーク構造を安定化させる効果があり、Sbを適宜添加すれば、Biの含有量が多い場合、例えばBiの含有量が76%以上であっても、熱的安定性が低下し難くなる。但し、Sbの含有量が多過ぎると、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。 Sb 2 O 3 is a component that suppresses devitrification. The content of Sb 2 O 3 is preferably 0 to 5%, 0 to 2%, particularly preferably 0 to 1%. Sb 2 O 3 has an effect of stabilizing the network structure of the bismuth-based glass. If Sb 2 O 3 is added appropriately, the content of Bi 2 O 3 is large, for example, the content of Bi 2 O 3 is Even if it is 76% or more, thermal stability becomes difficult to fall. However, when the content of Sb 2 O 3 is too large, is impaired balance of components in the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.

Ndは、失透を抑制する成分である。Ndの含有量は、好ましくは0〜5%、0〜2%、特に0〜1%が好ましい。Ndは、ビスマス系ガラスのネットワーク構造を安定化させる効果があり、Ndを適宜添加すれば、Biの含有量が多い場合、例えばBiの含有量が76%以上であっても、熱的安定性が低下し難くなる。但し、Ndの含有量が多過ぎると、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。 Nd 2 O 3 is a component that suppresses devitrification. The content of Nd 2 O 3 is preferably 0 to 5%, 0 to 2%, particularly preferably 0 to 1%. Nd 2 O 3 has an effect of stabilizing the network structure of bismuth-based glass. If Nd 2 O 3 is added appropriately, the content of Bi 2 O 3 is large, for example, the content of Bi 2 O 3 is Even if it is 76% or more, thermal stability becomes difficult to fall. However, when the content of Nd 2 O 3 is too large, is impaired balance of components in the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.

WOは、失透を抑制する成分である。WOの含有量は、好ましくは0〜10%、特に0〜2%である。但し、WOの含有量が多過ぎると、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。 WO 3 is a component that suppresses devitrification. The content of WO 3 is preferably 0 to 10%, in particular 0 to 2%. However, when the content of WO 3 is too large, is impaired balance of components in the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.

In+Ga(InとGaの合量)は、失透を抑制する成分である。In+Gaの含有量は、好ましくは0〜5%、特に0〜3%である。ただし、In+Gaの含有量が多過ぎると、ガラス組成内の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。なお、Inの含有量は0〜1%が好ましく、Gaの含有量は0〜0.5%が好ましい。 In 2 O 3 + Ga 2 O 3 (total amount of In 2 O 3 and Ga 2 O 3 ) is a component that suppresses devitrification. The content of In 2 O 3 + Ga 2 O 3 is preferably 0 to 5%, particularly 0 to 3%. However, when the content of In 2 O 3 + Ga 2 O 3 is too large, is impaired balance of components in the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed. In addition, the content of In 2 O 3 is preferably 0 to 1%, and the content of Ga 2 O 3 is preferably 0 to 0.5%.

LiO、NaO、KO及びCsOは、軟化点を低下させる成分であるが、溶融時に失透を助長する作用を有する。よって、これらの成分の含有量は、合量で2%以下が好ましい。 Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, and Cs 2 O are components that lower the softening point, but have a function of promoting devitrification at the time of melting. Therefore, the total content of these components is preferably 2% or less.

は、溶融時の失透を抑制する成分であるが、その添加量が1%より多いと、溶融時にガラスが分相し易くなる。 P 2 O 5 is a component that suppresses devitrification at the time of melting. If the amount of P 2 O 5 added is more than 1%, the glass is likely to undergo phase separation at the time of melting.

La、Y及びGdは、溶融時の分相を抑制する成分であるが、各々の成分の含有量が3%より多いと、軟化点が高くなり過ぎ、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難くなる。 La 2 O 3 , Y 2 O 3 and Gd 2 O 3 are components that suppress phase separation at the time of melting, but if the content of each component is more than 3%, the softening point becomes too high, and laser Even if light or the like is irradiated, the glass becomes difficult to soften.

NiO、V、CoO、MoO、TiO及びMnOは、光吸収特性を有する成分である。つまり所定の発光中心波長を有する光を照射すると、光を吸収して、ガラスを軟化させ易くする成分である。各々の成分の含有量は、好ましくは0〜7%、特に0〜3%である。各々の成分の含有量が多過ぎると、失透により流動性が低下し易くなる。 NiO, V 2 O 5 , CoO, MoO 3 , TiO 2 and MnO 2 are components having light absorption characteristics. That is, it is a component that, when irradiated with light having a predetermined emission center wavelength, absorbs light and softens the glass easily. The content of each component is preferably 0-7%, in particular 0-3%. When there is too much content of each component, fluidity | liquidity will fall easily by devitrification.

上記の通り、PbOは、環境的観点から、実質的に含有しないことが好ましい。   As described above, it is preferable that PbO is not substantially contained from an environmental viewpoint.

上記のビスマス系ガラスは、良好な耐候性を有すると共に、熱的安定性が高く、しかも低温で良好な流動性を有する。その結果、長期間に亘って、有機ELデバイス等の気密性を確保することができる。   The bismuth-based glass has good weather resistance, high thermal stability, and good fluidity at low temperatures. As a result, airtightness of the organic EL device or the like can be ensured over a long period of time.

本発明の封着材料は、上記ビスマス系ガラスからなるガラス粉末55〜100体積%、耐火性フィラー粉末0〜45体積%を含有し、好ましくはビスマス系ガラス粉末60〜100体積%、耐火性フィラー粉末0〜40体積%であり、より好ましくはビスマス系ガラス粉末60〜85体積%、耐火性フィラー粉末15〜40体積%である。上記ビスマス系ガラスは、低融点であるため、低温で良好に流動する。また、ビスマス系ガラス粉末に耐火性フィラー粉末を添加すると、封着材料の熱膨張係数を調整し得るため、被封着物の熱膨張係数に容易に整合させることができる。その結果、封着部位に不当な応力が残留する事態を防止することができる。但し、耐火性フィラー粉末の含有量が45体積%より多いと、ビスマス系ガラス粉末の含有量が相対的に少なくなって、所望の流動性を確保し難くなる。   The sealing material of the present invention contains 55 to 100% by volume of glass powder made of the bismuth-based glass and 0 to 45% by volume of refractory filler powder, preferably 60 to 100% by volume of bismuth-based glass powder, and refractory filler. It is 0-40 volume% of powder, More preferably, it is 60-85 volume% of bismuth-type glass powder, and 15-40 volume% of refractory filler powders. Since the bismuth-based glass has a low melting point, it flows well at low temperatures. Further, when a refractory filler powder is added to the bismuth-based glass powder, the thermal expansion coefficient of the sealing material can be adjusted, so that the thermal expansion coefficient of the sealed object can be easily matched. As a result, it is possible to prevent a situation in which undue stress remains at the sealing portion. However, when the content of the refractory filler powder is more than 45% by volume, the content of the bismuth-based glass powder is relatively reduced, and it becomes difficult to ensure desired fluidity.

耐火性フィラー粉末として、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、リン酸ジルコニウム、ジルコン、ジルコニア、酸化スズから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。これらの耐火性フィラー粉末は、熱膨張係数が低いことに加えて、機械的強度が高く、しかもビスマス系ガラス粉末との適合性が良好である。更に、上記の耐火性フィラー粉末以外にも、封着材料の熱膨張係数の調整、流動性の調整及び機械的強度の改善のために、石英ガラス、β−ユークリプタイト等の耐火性フィラー粉末を添加することができる。   The refractory filler powder is preferably one or more selected from cordierite, willemite, alumina, zirconium phosphate, zircon, zirconia, and tin oxide. These refractory filler powders have a low coefficient of thermal expansion, a high mechanical strength, and good compatibility with bismuth-based glass powders. Furthermore, in addition to the above refractory filler powders, refractory filler powders such as quartz glass and β-eucryptite are used for adjustment of the thermal expansion coefficient of the sealing material, adjustment of fluidity and improvement of mechanical strength. Can be added.

有機ELデバイス用ガラス基板には、通常、無アルカリガラス基板(例えば、日本電気硝子株式会社製OA−10G)が用いられる。無アルカリガラス基板の熱膨張係数は、通常、40×10−7/℃以下である。無アルカリガラス基板同士を封着する場合、封着材料の熱膨張係数を無アルカリガラス基板に整合させる必要がある。よって、封着材料の熱膨張係数を可及的に低下させることは重要であり、封着材料の熱膨張係数は80×10−7/℃以下、特に70×10−7/℃以下が好ましい。このようにすれば、封着部分にかかる応力が小さくなるため、封着部分の応力破壊を防止し易くなる。ここで、「熱膨張係数」は、押棒式熱膨張係数測定(TMA)装置で測定した値を指し、測定温度範囲は30〜300℃とする。 As the glass substrate for an organic EL device, an alkali-free glass substrate (for example, OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) is usually used. The coefficient of thermal expansion of the alkali-free glass substrate is usually 40 × 10 −7 / ° C. or less. When sealing alkali-free glass substrates together, it is necessary to match the thermal expansion coefficient of the sealing material to the alkali-free glass substrate. Therefore, it is important to reduce the thermal expansion coefficient of the sealing material as much as possible, and the thermal expansion coefficient of the sealing material is preferably 80 × 10 −7 / ° C. or less, particularly preferably 70 × 10 −7 / ° C. or less. . By doing so, since the stress applied to the sealed portion is reduced, it becomes easy to prevent stress destruction of the sealed portion. Here, the “thermal expansion coefficient” refers to a value measured with a push rod type thermal expansion coefficient measurement (TMA) apparatus, and the measurement temperature range is 30 to 300 ° C.

本発明の封着材料において、軟化点は480℃以下、450℃以下、特に430℃以下が好ましい。軟化点が高過ぎると、レーザー光等を照射しても、ガラスが軟化し難い傾向があり、ガラス基板同士の封着強度を高めるためには、レーザー光等の出力を上げる必要がある。   In the sealing material of the present invention, the softening point is preferably 480 ° C. or lower, 450 ° C. or lower, and particularly preferably 430 ° C. or lower. If the softening point is too high, the glass tends to be difficult to soften even when irradiated with laser light or the like, and in order to increase the sealing strength between the glass substrates, it is necessary to increase the output of the laser light or the like.

本発明の封着材料において、耐火性フィラー粉末の最大粒子径Dmaxは15μm以下、10μm未満、5μm未満、特に3μm未満が好ましい。耐火性フィラー粉末の最大粒子径Dmaxが大き過ぎると、両ガラス基板間のギャップを均一化し難くなり、有機ELデバイスを薄型化し難くなる。また、耐火性フィラー粉末の最大粒子径Dmaxが大き過ぎると、両ガラス基板間のギャップが大きくなり、このような場合、ガラス基板と封着材料の熱膨張係数差が大きくても、ガラス基板及び封着部分にクラック等が発生し難くなる。ここで、「最大粒子径Dmax」とは、レーザー回折装置で測定した値を指し、レーザー回折法により測定した際の体積基準の累積粒度分布曲線において、その積算量が粒子の小さい方から累積して99%である粒子径を表す。 In the sealing material of the present invention, the maximum particle diameter Dmax of the refractory filler powder is preferably 15 μm or less, less than 10 μm, less than 5 μm, particularly preferably less than 3 μm. If the maximum particle diameter Dmax of the refractory filler powder is too large, it is difficult to make the gap between the glass substrates uniform, and it is difficult to make the organic EL device thin. Further, if the maximum particle diameter Dmax of the refractory filler powder is too large, the gap between the two glass substrates becomes large. In such a case, even if the difference in thermal expansion coefficient between the glass substrate and the sealing material is large, the glass substrate In addition, cracks and the like are less likely to occur at the sealed portion. Here, the “maximum particle diameter D max ” refers to a value measured by a laser diffractometer, and in the volume-based cumulative particle size distribution curve measured by the laser diffraction method, the accumulated amount is accumulated from the smaller particle. The particle size is 99%.

本発明の封着材料において、ビスマス系ガラス粉末の最大粒子径Dmaxは10μm以下、特に5μm以下が好ましい。ビスマス系ガラス粉末の最大粒子径Dmaxを大き過ぎると、両ガラス基板間のギャップを狭小化し難くなり、この場合、レーザー封着に要する時間を短縮し得ると共に、ガラス基板と封着材料の熱膨張係数の差が大きくても、ガラス基板及び封着部位にクラック等が発生し難くなる。 In the sealing material of the present invention, the maximum particle diameter Dmax of the bismuth-based glass powder is preferably 10 μm or less, particularly preferably 5 μm or less. If the maximum particle diameter Dmax of the bismuth-based glass powder is too large, it becomes difficult to narrow the gap between the two glass substrates. In this case, the time required for laser sealing can be shortened, and the heat of the glass substrate and the sealing material can be reduced. Even if the difference in the expansion coefficient is large, cracks and the like are hardly generated in the glass substrate and the sealing portion.

本発明の封着材料は、粉末の状態で使用に供してもよいが、ビークルと均一に混練し、ペーストに加工すると取り扱い易い。ビークルは、主に溶媒と樹脂で構成される。樹脂は、ペーストの粘性を調整する目的で添加される。また、必要に応じて、界面活性剤、増粘剤等を添加することもできる。作製されたペーストは、ディスペンサーやスクリーン印刷機等の塗布機を用いてガラス基板に塗布され、脱バインダー工程に供される。   The sealing material of the present invention may be used in a powder state, but is easy to handle when it is uniformly kneaded with a vehicle and processed into a paste. The vehicle is mainly composed of a solvent and a resin. The resin is added for the purpose of adjusting the viscosity of the paste. Moreover, surfactant, a thickener, etc. can also be added as needed. The produced paste is applied to a glass substrate using an applicator such as a dispenser or a screen printer, and is subjected to a binder removal process.

樹脂として、アクリル酸エステル(アクリル樹脂)、エチルセルロース、ポリエチレングリコール誘導体、ニトロセルロース、ポリメチルスチレン、ポリエチレンカーボネート、メタクリル酸エステル等が使用可能である。特に、アクリル酸エステル、ニトロセルロースは、熱分解性が良好であるため、好ましい。   As the resin, acrylic ester (acrylic resin), ethyl cellulose, polyethylene glycol derivative, nitrocellulose, polymethylstyrene, polyethylene carbonate, methacrylic ester and the like can be used. In particular, acrylic acid esters and nitrocellulose are preferable because they have good thermal decomposability.

溶媒として、N、N’−ジメチルホルムアミド(DMF)、α−ターピネオール、高級アルコール、γ−ブチルラクトン(γ−BL)、テトラリン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸エチル、酢酸イソアミル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、3−メトキシ−3−メチルブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン等が使用可能である。特に、α−ターピネオールは、高粘性であり、樹脂等の溶解性も良好であるため、好ましい。   As a solvent, N, N′-dimethylformamide (DMF), α-terpineol, higher alcohol, γ-butyllactone (γ-BL), tetralin, butyl carbitol acetate, ethyl acetate, isoamyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol Monoethyl ether acetate, benzyl alcohol, toluene, 3-methoxy-3-methylbutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene Glycol monobutyl ether, propylene carbonate, dimethyl sulfoxide (DMSO), N-methyl 2-pyrrolidone and the like can be used. In particular, α-terpineol is preferable because it is highly viscous and has good solubility in resins and the like.

実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。表1、2は、本発明の実施例(試料No.1〜8)、比較例(試料No.9、10)を示している。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。   The present invention will be described in detail based on examples. Tables 1 and 2 show examples of the present invention (sample Nos. 1 to 8) and comparative examples (samples No. 9 and 10). The following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.

次のようにして、表中に記載の各試料を調製した。まず、表中のガラス組成になるように、各種酸化物、炭酸塩等の原料を調合したガラスバッチを準備し、これを白金坩堝に入れて1000〜1100℃で1時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスを水冷ローラーにより薄片状に成形した。最後に、薄片状のガラスをボールミルにて粉砕後、空気分級し、平均粒子径D50が2.5μm、最大粒子径Dmaxが10μmの各ガラス粉末を得た。 Each sample described in the table was prepared as follows. First, a glass batch in which raw materials such as various oxides and carbonates were prepared so as to have the glass composition in the table was prepared, and this was put in a platinum crucible and melted at 1000 to 1100 ° C. for 1 hour. Next, the obtained molten glass was formed into a thin piece with a water-cooled roller. Finally, after grinding the flaky glass ball mill, and air classification, the average particle diameter D 50 of 2.5 [mu] m, maximum particle diameter D max to obtain each glass powder of 10 [mu] m.

耐火物フィラー粉末は、コーディエライト、ウイレマイト、β−ユークリプタイト、リン酸ジルコニウムを用いた。各耐火性フィラー粉末は、空気分級により、平均粒子径D50が2.5μm、最大粒子径Dmaxが10μmに調整されている。なお、最大粒子径Dmaxは、上記の通り、10μm未満、5μm未満、特に3μm未満が好ましい。 Cordierite, willemite, β-eucryptite and zirconium phosphate were used as the refractory filler powder. Each refractory filler powder has an average particle diameter D 50 adjusted to 2.5 μm and a maximum particle diameter D max adjusted to 10 μm by air classification. The maximum particle diameter Dmax is preferably less than 10 μm, less than 5 μm, particularly preferably less than 3 μm, as described above.

表中に示す通り、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を混合し、試料No.1〜10を作製した。試料No.1〜10につき、熱膨張係数、ガラス転移点、軟化点、レーザー封着強度、流動性及びレーザー封着後の気密性を評価した。   As shown in the table, bismuth-based glass powder and refractory filler powder were mixed, and sample No. 1-10 were produced. Sample No. About 1-10, the thermal expansion coefficient, the glass transition point, the softening point, the laser sealing strength, the fluidity, and the airtightness after laser sealing were evaluated.

熱膨張係数及びガラス転移点は、TMA装置により測定した。熱膨張係数は、30〜300℃の温度範囲で測定した。なお、各試料を緻密に焼結させた後、所定形状に加工したものを測定試料とした。   The thermal expansion coefficient and the glass transition point were measured with a TMA apparatus. The thermal expansion coefficient was measured in a temperature range of 30 to 300 ° C. In addition, after each sample was sintered densely, what was processed into the predetermined shape was used as a measurement sample.

軟化点は、DTA装置により求めた。測定は、空気中で行い、昇温速度は10℃/分とした。   The softening point was determined with a DTA apparatus. The measurement was performed in air, and the rate of temperature increase was 10 ° C./min.

流動性は、各試料の合成密度に相当する質量の粉末を金型により外径20mmのボタン状に乾式プレスし、これを40mm×40mm×2.8mm厚の高歪点ガラス基板上に載置し、空気中で10℃/分の速度で昇温した後、各試料の軟化点+30℃の温度で10分間保持した上で室温まで10℃/分で降温し、得られたボタンの直径を測定することで評価した。具体的には、流動径が20mm以上である場合を「○」、20mm未満である場合を「×」として評価した。なお、合成密度とは、ガラス粉末の密度と耐火物フィラー粉末の密度を、所定の体積比で混合させて算出される理論上の密度である。   For fluidity, a powder having a mass corresponding to the synthesis density of each sample was dry-pressed into a button shape having an outer diameter of 20 mm using a mold and placed on a 40 mm × 40 mm × 2.8 mm thick high strain point glass substrate. Then, the temperature was increased in air at a rate of 10 ° C./min, held at the softening point of each sample + 30 ° C. for 10 minutes, and then cooled to room temperature at 10 ° C./min. It evaluated by measuring. Specifically, the case where the flow diameter was 20 mm or more was evaluated as “◯”, and the case where it was less than 20 mm was evaluated as “x”. The synthetic density is a theoretical density calculated by mixing the density of the glass powder and the density of the refractory filler powder at a predetermined volume ratio.

次のようにして、レーザー封着強度を評価した。まず、各試料とビークル(エチルセルロース樹脂含有のα−ターピネオール)を三本ロールミルで均一に混錬し、ペースト化した後、無アルカリガラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10、□40mm×0.5mm厚)上に、無アルカリガラス基板の端縁に沿って枠形状(30μm厚、0.6mm幅)に塗布し、乾燥オーブンで125℃10分間乾燥した。次に、室温から10℃/分で昇温し、各試料の軟化点+30℃の温度で10分間焼成した後、室温まで10℃/分で降温し、ペースト中の樹脂成分の焼却(脱バインダー処理)及び封着材料の固着を行なった。次に、封着材料が固着された無アルカリガラス基板の上に、別の無アルカリガラス基板(□40mm×0.5mm厚)を正確に重ねた後、固着された封着材料を有する無アルカリガラス基板側から、封着材料に沿って、波長808nmのレーザー光を照射することにより、封着材料を軟化流動させて、無アルカリガラス基板同士を気密封着した。なお、封着材料の平均膜厚に応じて、レーザー光の照射条件(出力、照射速度)を調整した。最後に、レーザー封着後の両ガラス基板を上方1mからコンクリート上に落下させて、レーザー封着した部分で剥離が発生しなかったものを「○」、剥離が発生したものを「×」として評価した。   The laser sealing strength was evaluated as follows. First, after each sample and vehicle (α-terpineol containing ethyl cellulose resin) were uniformly kneaded with a three-roll mill and made into a paste, an alkali-free glass substrate (OA-10 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., 40 mm × 0) 0.5 mm thickness) on the edge of the non-alkali glass substrate and coated in a frame shape (30 μm thickness, 0.6 mm width) and dried in a drying oven at 125 ° C. for 10 minutes. Next, the temperature was raised from room temperature at 10 ° C./minute, and after baking for 10 minutes at a temperature of the softening point of each sample + 30 ° C., the temperature was lowered to room temperature at 10 ° C./minute to incinerate the resin components in the paste (debinding) Treatment) and fixing of the sealing material. Next, another alkali-free glass substrate (□ 40 mm × 0.5 mm thickness) is accurately stacked on the alkali-free glass substrate to which the sealing material is fixed, and then the alkali-free material having the fixed sealing material. By irradiating a laser beam having a wavelength of 808 nm along the sealing material from the glass substrate side, the sealing material was softened and fluidized, and the alkali-free glass substrates were hermetically sealed. In addition, the irradiation conditions (output, irradiation speed) of the laser beam were adjusted according to the average film thickness of the sealing material. Finally, both glass substrates after laser sealing are dropped onto the concrete from 1 m above, and “○” indicates that no peeling occurred at the laser-sealed portion, and “×” indicates that peeling occurred. evaluated.

次のようにして、レーザー封着後の気密性を評価した。レーザー封着強度の評価の場合と同様にして、無アルカリガラス基板(□40mm×0.5mm厚)上に封着材料の塗布、固着を行なった。続いて、別の無アルカリガラス基板(□40mm×0.5mm厚)上に金属Ca膜(□20mm、300nm厚)を真空蒸着にて形成し、湿度及び酸素濃度が管理されたグローブボックス中で、封着材料が固着された無アルカリガラス基板と金属Ca膜が形成された無アルカリガラス基板を正確に重ねた後、固着された封着材料を有する無アルカリガラス基板側から、封着材料に沿って、波長808nmのレーザー光を照射することにより、封着材料を軟化流動させて、無アルカリガラス基板同士を気密封着した。なお、封着材料の平均膜厚に応じて、レーザー光の照射条件(出力、照射速度)を調整した。レーザー封着後の無アルカリガラス基板を恒温恒湿槽にて40℃−90RH%の条件にて、1500時間保持した。その後、金属Ca膜が金属光沢を保持していたものを「○」、透明になったものを「×」として評価した。なお、金属Ca膜は、水分と反応すると、透明な水酸化カルシウムになる。   Airtightness after laser sealing was evaluated as follows. In the same manner as in the evaluation of the laser sealing strength, the sealing material was applied and fixed on an alkali-free glass substrate (□ 40 mm × 0.5 mm thickness). Subsequently, a metal Ca film (□ 20 mm, 300 nm thickness) is formed on another alkali-free glass substrate (□ 40 mm × 0.5 mm thickness) by vacuum deposition, and the humidity and oxygen concentration are controlled in a glove box. After the non-alkali glass substrate on which the sealing material is fixed and the non-alkali glass substrate on which the metal Ca film is formed are accurately stacked, the sealing material is applied to the sealing material from the non-alkali glass substrate side having the fixed sealing material. Then, the sealing material was softened and flowed by irradiating laser light having a wavelength of 808 nm, and the alkali-free glass substrates were hermetically sealed. In addition, the irradiation conditions (output, irradiation speed) of the laser beam were adjusted according to the average film thickness of the sealing material. The alkali-free glass substrate after laser sealing was held in a constant temperature and humidity chamber at 40 ° C.-90 RH% for 1500 hours. Thereafter, the case where the metallic Ca film maintained the metallic luster was evaluated as “◯”, and the case where it became transparent was evaluated as “X”. The metal Ca film becomes transparent calcium hydroxide when it reacts with moisture.

表1、2から明らかなように、試料No.1〜8は、ガラス転移点が351〜400℃、軟化点が407〜444℃、熱膨張係数αが66〜85×10−7/℃、流動性、レーザー封着強度及びレーザー封着後の気密性の評価も良好であった。一方、試料No.9、10は、ガラス組成中にCuO+Feを含んでいないため、レーザー光を照射しても封着材料が軟化せず、レーザー封着を適正に行うことができなかった。 As apparent from Tables 1 and 2, Sample No. 1-8 have a glass transition point of 351-400 ° C., a softening point of 407-444 ° C., a thermal expansion coefficient α of 66-85 × 10 −7 / ° C., fluidity, laser sealing strength and after laser sealing. The evaluation of airtightness was also good. On the other hand, sample No. Since Nos. 9 and 10 did not contain CuO + Fe 2 O 3 in the glass composition, the sealing material did not soften even when irradiated with laser light, and laser sealing could not be performed properly.

本発明の封着材料は、有機ELディスプレイ、有機EL照明装置等の有機ELデバイスのレーザー封着以外にも、色素増感型太陽電池、CIGS系薄膜化合物太陽電池等の太陽電池のレーザー封着、MEMSパッケージのレーザー封着等にも好適である。   The sealing material of the present invention is used for laser sealing of solar cells such as dye-sensitized solar cells and CIGS thin film compound solar cells in addition to laser sealing of organic EL devices such as organic EL displays and organic EL lighting devices. It is also suitable for laser sealing of MEMS packages.

Claims (13)

ガラス組成として、下記酸化物換算の質量%表示で、Bi 70〜90%、B 2〜12%、ZnO 1〜15%、CuO+Fe 7.6〜15%、CuO 3〜15%、MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜20%、BaO 0.1〜15%を含有することを特徴とするビスマス系ガラス。 As a glass composition, in mass% in terms of oxide, Bi 2 O 3 70~90%, B 2 O 3 2~12%, 1~15% ZnO, CuO + Fe 2 O 3 7.6 ~15%, CuO A bismuth-based glass containing 3 to 15%, MgO + CaO + SrO + BaO 0.1 to 20% , BaO 0.1 to 15% . Fe の含有量が0.1〜7質量%であることを特徴とする請求項1に記載のビスマス系ガラス。 Bismuth glass of claim 1 in which the content of Fe 2 O 3 is characterized in that 0.1 to 7 wt%. モル比率BaO/ZnOの値が0.7〜2であることを特徴とする請求項1および2に記載されるビスマス系ガラス。 The bismuth-based glass according to claim 1 or 2, wherein the molar ratio BaO / ZnO has a value of 0.7-2 . モル比率Bi/Bの値が1.6〜2.3であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のビスマス系ガラス。 The molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 bismuth glass according to any one of claims 1 to 3, the value of O 3 is characterized in that it is a 1.6 to 2.3. モル比率Bi/ZnOの値が1.55以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のビスマス系ガラス。 The molar ratio Bi 2 O 3 / bismuth-based glass according to claim 1, the value of ZnO is equal to or not less than 1.55. BaOの含有量が0.9質量%以上であることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のビスマス系ガラス。 The bismuth-based glass according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of BaO is 0.9 mass% or more. ル比率Bi/Bの値が1.5以下、且つモル比率BaO/ZnOの値が0.7以上であることを特徴とする請求項1〜3、5、6の何れかに記載のビスマス系ガラス。 The value of the molar ratio Bi 2 O 3 / B 2 O 3 is 1.5 or less, and the molar ratio of BaO / ZnO value of claims 1~3,5,6, characterized in that at least 0.7 The bismuth-type glass in any one. 請求項1〜7の何れかに記載のビスマス系ガラスからなるガラス粉末 55〜100体積%、耐火性フィラー粉末 0〜45体積%含有することを特徴とする封着材料。   A sealing material comprising 55 to 100% by volume of a glass powder comprising the bismuth-based glass according to claim 1 and 0 to 45% by volume of a refractory filler powder. 耐火性フィラー粉末が、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、リン酸ジルコニウム、ジルコン、ジルコニア、酸化スズから選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とする請求項8に記載の封着材料。   The sealing material according to claim 8, wherein the refractory filler powder is one or more selected from cordierite, willemite, alumina, zirconium phosphate, zircon, zirconia, and tin oxide. 実質的にPbOを含有しないことを特徴とする請求項8又は9に記載の封着材料。   The sealing material according to claim 8 or 9, which does not substantially contain PbO. 軟化点が500℃以下であることを特徴とする請求項8〜10の何れかに記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 8 to 10, wherein a softening point is 500 ° C or lower. レーザー光による封着処理に用いることを特徴とする請求項8〜11の何れかに記載の封着材料。   It is used for the sealing process by a laser beam, The sealing material in any one of Claims 8-11 characterized by the above-mentioned. 有機ELデバイス又は太陽電池の封着に用いることを特徴とする請求項8〜12の何れかに記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 8 to 12, which is used for sealing an organic EL device or a solar cell.
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