JP2012162441A - Sealing material and paste material using the same - Google Patents

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紀彰 益田
Toru Shiragami
徹 白神
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浩士 荒川
Hiroyuki Oshita
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase long-term reliability of an organic EL device or the like utilizing an organic EL element package by inventing a sealing material capable of being laser-sealed by a low output laser.SOLUTION: The sealing material includes at least an SnO-containing glass powder, a refractory filler and a pigment, has a ratio (average particle diameter Dof SnO-containing glass powders/average particle diameter Dof refractory fillers) of 0.6-4, and is used for the laser-sealing.

Description

本発明は、封着材料及びこれを用いたペースト材料に関し、具体的にはレーザによる封着処理(以下、レーザ封着)に用いる封着材料及びこれを用いたペースト材料に関する。   The present invention relates to a sealing material and a paste material using the same, and more specifically to a sealing material used for a sealing process using a laser (hereinafter referred to as laser sealing) and a paste material using the same.

近年、フラットディスプレイパネルとして、有機ELディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは、直流電圧で駆動できるため駆動回路を簡略化できると共に、液晶ディスプレイのように視野角依存性がなく、また自己発光のため明るく、更には応答速度が速い等の利点がある。現在、有機ELディスプレイは、主に携帯電話等の小型携帯機器に利用されているが、今後は超薄型テレビへの応用が期待されている。なお、有機ELディスプレイは、液晶ディスプレイと同様にして、薄膜トランジスタ(TFT)等のアクティブ素子を各画素に配置して、駆動させる方式が主流である。   In recent years, organic EL displays have attracted attention as flat display panels. Since the organic EL display can be driven by a direct current voltage, the driving circuit can be simplified, and there are advantages such as a liquid crystal display that does not depend on the viewing angle, is bright because of self-emission, and has a high response speed. Currently, organic EL displays are mainly used in small portable devices such as mobile phones, but in the future, application to ultra-thin televisions is expected. Note that the organic EL display is mainly driven by disposing an active element such as a thin film transistor (TFT) in each pixel in the same manner as a liquid crystal display.

有機ELディスプレイは、2枚のガラス基板、金属等の陰電極、有機発光層、ITO等の陽電極、接着材料等で構成される。従来、接着材料として、低温硬化性を有するエポキシ樹脂、或いは紫外線硬化樹脂等の有機樹脂系接着材料が使用されてきた。しかし、有機樹脂系接着材料では、気体の侵入を完全に遮断できない。このため、有機樹脂系接着材料を用いると、有機ELディスプレイ内部の気密性を保持することができず、これに起因して、耐水性が低い有機発光層が劣化し易くなって、有機ELディスプレイの表示特性が経時的に劣化する不具合が生じていた。また、有機樹脂系接着材料は、ガラス基板同士を低温で接着できる利点を有するものの、耐水性が低いため、有機ELディスプレイを長期に亘って使用した場合に、ディスプレイの信頼性が低下し易くなる。   The organic EL display is composed of two glass substrates, a negative electrode such as metal, an organic light emitting layer, a positive electrode such as ITO, and an adhesive material. Conventionally, an organic resin adhesive material such as an epoxy resin having a low temperature curability or an ultraviolet curable resin has been used as the adhesive material. However, organic resin adhesive materials cannot completely block gas intrusion. For this reason, when an organic resin adhesive material is used, the airtightness inside the organic EL display cannot be maintained, and as a result, the organic light emitting layer having low water resistance is easily deteriorated, and the organic EL display There was a problem that the display characteristics of the display deteriorated with time. In addition, the organic resin-based adhesive material has an advantage that the glass substrates can be bonded to each other at a low temperature. However, since the water resistance is low, when the organic EL display is used for a long time, the reliability of the display is likely to be lowered. .

米国特許第6416375号明細書US Pat. No. 6,416,375 特開2006−315902号公報JP 2006-315902 A

ガラス粉末を含む封着材料は、有機樹脂系接着材料に比べて、耐水性に優れると共に、有機ELディスプレイ内部の気密性の確保に適している。   The sealing material containing glass powder is excellent in water resistance as compared with the organic resin adhesive material, and is suitable for ensuring airtightness inside the organic EL display.

しかし、ガラス粉末は、一般的に、軟化温度が300℃以上であるため、有機ELディスプレイに適用が困難であった。具体的に説明すると、上記の封着材料でガラス基板同士を封着する場合、電気炉に有機ELディスプレイ全体を投入して、ガラス粉末の軟化温度以上の温度で焼成し、ガラス粉末を軟化流動させる必要があった。しかし、有機ELディスプレイに用いられるアクティブ素子は、120〜130℃程度の耐熱性しか有していないため、この方法でガラス基板同士を封着すると、アクティブ素子が熱により損傷して、有機ELディスプレイの表示特性が劣化してしまう。また、有機発光材料も耐熱性が乏しいため、この方法でガラス基板同士を封着すると、有機発光材料が熱により損傷して、有機ELディスプレイの表示特性が劣化してしまう。   However, since glass powder generally has a softening temperature of 300 ° C. or higher, it has been difficult to apply it to an organic EL display. More specifically, when sealing glass substrates with the above-mentioned sealing material, the entire organic EL display is put into an electric furnace and baked at a temperature equal to or higher than the softening temperature of the glass powder to soften and flow the glass powder. It was necessary to let them. However, since the active element used in the organic EL display has only heat resistance of about 120 to 130 ° C., sealing the glass substrates by this method damages the active element due to heat, and the organic EL display. Display characteristics will deteriorate. In addition, since the organic light emitting material also has poor heat resistance, sealing the glass substrates by this method damages the organic light emitting material due to heat and degrades the display characteristics of the organic EL display.

このような事情に鑑み、近年、有機ELディスプレイを封着する方法として、レーザ封着が検討されている。レーザ封着によれば、封着すべき部分のみを局所加熱できるため、アクティブ素子等の熱劣化を防止した上で、ガラス基板同士を封着することができる。   In view of such circumstances, in recent years, laser sealing has been studied as a method for sealing an organic EL display. According to laser sealing, since only the portion to be sealed can be locally heated, it is possible to seal the glass substrates while preventing thermal degradation of the active element or the like.

特許文献1、2には、フィールドエミッションディスプレイのガラス基板同士をレーザ封着することが記載されている。しかし、特許文献1、2には具体的な材料構成について記載がなく、どのような材料構成がレーザ封着に好適であるのか不明であった。このため、レーザを封着材料に照射しても、封着材料がレーザを的確に吸収できず、封着すべき部分において、レーザの光を熱エネルギーに効率良く変換させることが困難であった。なお、レーザの出力を上げると、材料構成を適正化しなくても、レーザ封着が可能になるが、この場合、アクティブ素子等が加熱されて、有機ELディスプレイの表示特性が劣化する虞がある。   Patent Documents 1 and 2 describe laser sealing of glass substrates of a field emission display. However, Patent Documents 1 and 2 do not describe a specific material configuration, and it is unclear what material configuration is suitable for laser sealing. For this reason, even if the sealing material is irradiated with the laser, the sealing material cannot absorb the laser accurately, and it is difficult to efficiently convert the laser light into heat energy in the portion to be sealed. . If the output of the laser is increased, laser sealing can be performed without optimizing the material configuration. In this case, however, the active element or the like may be heated to deteriorate the display characteristics of the organic EL display. .

そこで、本発明は、低出力のレーザでレーザ封着が可能な封着材料を創案することにより、有機EL素子パッケージを利用した有機ELデバイス等の長期信頼性を高めることを技術的課題とする。   Therefore, the present invention has a technical problem to improve the long-term reliability of an organic EL device using an organic EL element package by creating a sealing material that can be laser-sealed with a low-power laser. .

本発明者等は、鋭意検討の結果、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料を用いると共に、SnO含有ガラス粉末の粒度と耐火性フィラーの粒度を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。ここで、「SnO含有ガラス粉末」とは、ガラス組成として、SnOを20モル%以上含むガラス粉末を指す。また、「平均粒径D50」は、レーザ回折式粒度分布計で測定した値を指し、レーザ回折式粒度分布計により測定した際の体積基準の累積粒度分布曲線において、その積算量が粒子の小さい方から累積して50%である粒径を表す。 As a result of intensive studies, the present inventors use a sealing material containing at least a SnO-containing glass powder, a refractory filler, and a pigment, and regulate the particle size of the SnO-containing glass powder and the particle size of the refractory filler to a predetermined range. Thus, the present inventors have found that the above technical problem can be solved, and propose as the present invention. That is, the sealing material of the present invention is a sealing material containing at least a SnO-containing glass powder, a refractory filler, and a pigment, wherein (average particle diameter D 50 of SnO-containing glass powder) / (average of refractory filler) The particle size D 50 ) ratio is 0.6 to 4 and is used for laser sealing. Here, the “SnO-containing glass powder” refers to a glass powder containing 20 mol% or more of SnO as a glass composition. The “average particle diameter D 50 ” refers to a value measured with a laser diffraction particle size distribution meter. In the volume-based cumulative particle size distribution curve when measured with a laser diffraction particle size distribution meter, the accumulated amount is the particle size. The particle size is 50% cumulative from the smallest.

本発明の封着材料は、少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む。このようにすれば、レーザ封着の効率、信頼性を高めることができる。なお、SnO含有ガラス粉末は、軟化温度が低いため、低温で軟化流動することが可能である。耐火性フィラーは、熱膨張係数が低いため、封着材料の熱膨張係数を低下させることが可能である。顔料は、発色性に優れるため、レーザの吸収性が良好である。   The sealing material of the present invention includes at least a SnO-containing glass powder, a refractory filler, and a pigment. In this way, the efficiency and reliability of laser sealing can be improved. In addition, since SnO containing glass powder has a low softening temperature, it can soften and flow at a low temperature. Since the refractory filler has a low thermal expansion coefficient, it is possible to reduce the thermal expansion coefficient of the sealing material. Since the pigment is excellent in color developability, the laser absorbability is good.

本発明者等は、焼成膜と被封着物(ガラス基板等)を密着させると、低出力のレーザでレーザ封着し得ることを見出すと共に、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比を0.6〜4に規制すると、焼成膜(グレーズ膜)の表面平滑性が向上して、焼成膜と被封着物の密着性が顕著に向上することを見出した。 The present inventors have found that when the fired film and an object to be sealed (glass substrate or the like) are brought into close contact with each other, laser sealing can be performed with a low-power laser, and (average particle diameter D 50 of SnO-containing glass powder) / When the ratio of (average particle diameter D 50 of the refractory filler) is regulated to 0.6 to 4, the surface smoothness of the fired film (glaze film) is improved, and the adhesion between the fired film and the sealed object is significantly improved. I found out.

したがって、本発明の封着材料は、低出力のレーザでレーザ封着が可能である。その結果、有機ELデバイス内部の気密性を適正に確保できるため、有機発光層を劣化させるHOやO等が有機ELデバイス内部に侵入する事態を防止でき、結果として、有機ELデバイスの長期信頼性を高めることができる。 Therefore, the sealing material of the present invention can be laser-sealed with a low-power laser. As a result, since the airtightness inside the organic EL device can be properly secured, it is possible to prevent the situation where H 2 O, O 2 or the like that deteriorates the organic light emitting layer enters the inside of the organic EL device. Long-term reliability can be improved.

第二に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50が1.0〜3.0μmであることが好ましい。 Secondly, the sealing material of the present invention preferably has an average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder is 1.0 to 3.0 m.

第三に、本発明の封着材料は、耐火性フィラーの平均粒径D50が0.5〜2.0μmであることが好ましい。 Third, the sealing material of the present invention preferably has an average particle diameter D50 of the refractory filler of 0.5 to 2.0 μm.

第四に、本発明の封着材料は、顔料が非晶質カーボン又はグラファイトであることが好ましい。非晶質カーボン又グラファイトは、発色性に優れるため、レーザの吸収性が良好であると共に、レーザ封着の際に、SnO含有ガラス粉末が変質する事態を防止する効果、つまりレーザ封着の際にガラス組成中のSnOがSnOに酸化する事態を防止する効果も有する。 Fourthly, in the sealing material of the present invention, the pigment is preferably amorphous carbon or graphite. Amorphous carbon or graphite has excellent color developability, so it has good laser absorption and prevents the SnO-containing glass powder from being altered during laser sealing, that is, during laser sealing. SnO in the glass composition has the effect to prevent the oxidation in SnO 2 in.

第五に、本発明の封着材料は、顔料の一次粒子の平均粒径D50が1〜100nmであることが好ましい。 Fifth, the sealing material of the present invention preferably has an average particle size D 50 of the primary particles of the pigment is 1 to 100 nm.

第六に、本発明の封着材料は、顔料の含有量が0.05〜1質量%であることが好ましい。顔料の含有量を0.05質量%以上に規制にすれば、レーザの光を熱エネルギーに効率良く変換できるため、封着すべき部分のみを局所加熱し易くなり、結果として、アクティブ素子等の熱劣化を防止した上で、ガラス基板同士をレーザ封着し易くなる。一方、顔料の含有量を1質量%以下に規制すれば、レーザ照射時の過剰加熱を抑制できると共に、レーザ封着の際に、ガラスが失透する事態を防止し易くなる。   Sixth, the sealing material of the present invention preferably has a pigment content of 0.05 to 1% by mass. If the pigment content is regulated to 0.05% by mass or more, the laser light can be efficiently converted into thermal energy, so that only the portion to be sealed is easily heated locally. It becomes easy to laser seal glass substrates together while preventing thermal degradation. On the other hand, if the pigment content is regulated to 1% by mass or less, excessive heating during laser irradiation can be suppressed, and it is easy to prevent the glass from devitrifying during laser sealing.

第七に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、SnO 35〜70%、P 10〜30%を含有することが好ましい。 Seventh, the sealing material of the present invention, SnO-containing glass powder, as a glass composition, in mole%, SnO 35 to 70%, preferably contains P 2 O 5 10~30%.

第八に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、ZnOを1〜20モル%含むことを特徴とする。   Eighth, the sealing material of the present invention is characterized in that the SnO-containing glass powder contains 1 to 20 mol% of ZnO as a glass composition.

第九に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、Bを1〜20モル%含むことが好ましい。 Ninth, the sealing material of the present invention, SnO-containing glass powder, a glass composition preferably contains B 2 O 3 1 to 20 mol%.

第十に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、Alを0.1〜10モル%含むことが好ましい。 Tenth, the sealing material of the present invention, SnO-containing glass powder, a glass composition preferably contains Al 2 O 3 0.1 to 10 mol%.

第十一に、本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末と耐火性フィラーの混合割合が、体積%で40〜99.9%:0.1〜60%であることが好ましい。   Eleventhly, in the sealing material of the present invention, the mixing ratio of the SnO-containing glass powder and the refractory filler is preferably 40 to 99.9%: 0.1 to 60% by volume.

第十二に、本発明の封着材料は、耐火性フィラーとして、コーディエライト、ジルコン、酸化錫、酸化ニオブ、リン酸ジルコニウム系セラミック、NbZr(POから選ばれる一種又は二種以上を含むことが好ましい。 Twelfth, the sealing material of the present invention, as the refractory filler, cordierite, zircon, tin oxide, niobium oxide, zirconium phosphate-based ceramic, NbZr (PO 4) 3 from one or more selected It is preferable to contain.

第十三に、本発明の封着材料は、有機ELデバイスの封着に用いることが好ましい。ここで、「有機ELデバイス」には、有機ELディスプレイ、有機EL照明装置等が含まれる。   Thirteenth, the sealing material of the present invention is preferably used for sealing an organic EL device. Here, the “organic EL device” includes an organic EL display, an organic EL lighting device, and the like.

第十四に、本発明のペースト材料は、封着材料とビークルを含むペースト材料において、封着材料が上記の封着材料であることを特徴とする。   14thly, the paste material of this invention is a paste material containing a sealing material and a vehicle, The sealing material is said sealing material.

第十五に、本発明のペースト材料は、ビークルが、脂肪族ポリオレフィン系カーボネートを含むことが好ましい。第十六に、本発明のペースト材料は、ビークルが、更に、N,N’-ジメチルホルムアミド、エチレングリコール、ジメチルスルホキサイド、炭酸ジメチル、プロピレンカーボネート、ブチロラクトン、カプロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)から選ばれる一種又は二種以上を含むことが好ましい。   15thly, as for the paste material of this invention, it is preferable that a vehicle contains an aliphatic polyolefin-type carbonate. Sixteenth, in the paste material of the present invention, the vehicle further comprises N, N′-dimethylformamide, ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, dimethyl carbonate, propylene carbonate, butyrolactone, caprolactone, N-methyl-2-pyrrolidone. It is preferable that 1 type, or 2 or more types chosen from phenyl diglycol (PhDG), dibutyl phthalate (DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG) are included.

第十七に、本発明のペースト材料は、不活性雰囲気における脱バインダー処理に供されることが好ましい。ここで、「不活性雰囲気」には、Nガス雰囲気、Arガス雰囲気等の中性ガス雰囲気、真空雰囲気等の減圧雰囲気が含まれる。 Seventeenth, the paste material of the present invention is preferably subjected to a binder removal treatment in an inert atmosphere. Here, the “inert atmosphere” includes a neutral gas atmosphere such as an N 2 gas atmosphere and an Ar gas atmosphere, and a reduced pressure atmosphere such as a vacuum atmosphere.

第十八に、本発明のペースト材料は、不活性雰囲気におけるレーザ封着に供されることが好ましい。   Eighteenth, the paste material of the present invention is preferably subjected to laser sealing in an inert atmosphere.

第十九に、本発明の焼成膜の作製方法は、ペースト材料を焼成して、焼成膜を作製する焼成膜の作製方法であって、焼成膜の表面粗さRaが0.6μm以下、表面粗さRMSが1.0μm以下になるように、上記のペースト材料を焼成することを特徴とする。ここで、「表面粗さRa」は、JIS B0601:2001に準拠した方法で測定した値を指す。また、「表面粗さRMS」は、JIS B0601:2001に準拠した方法で測定した値を指す。   Nineteenth, the method for producing a fired film of the present invention is a method for producing a fired film by firing a paste material, and the surface roughness Ra of the fired film is 0.6 μm or less, The paste material is baked so that the roughness RMS is 1.0 μm or less. Here, “surface roughness Ra” refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001. “Surface roughness RMS” refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.

第二十に、本発明のレーザ封着方法は、上記の焼成膜にレーザを照射して、レーザ封着を行うことを特徴とする。   20thly, the laser sealing method of this invention is characterized by performing laser sealing by irradiating said baking film with a laser.

マクロ型DTA装置で測定したときの封着材料の軟化温度を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the softening temperature of the sealing material when it measures with a macro type | mold DTA apparatus. フェニルグリコール(PhG)がペースト材料の乾燥速度に及ぼす影響を示すデータである。It is data which shows the influence which phenylglycol (PhG) has on the drying rate of a paste material.

本発明の封着材料において、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4、好ましくは0.8〜3である。(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6より小さいと、SnO含有ガラス粉末に対して耐火性フィラーの比表面積が大きくなり過ぎて、SnO含有ガラス粉末が失透し易くなり、結果として、封着材料の軟化流動が阻害される虞があると共に、失透に起因して、焼成膜の表面に凹凸が残存し易くなる。一方、(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が4より大きいと、SnO含有ガラス粉末の粒度に対して耐火性フィラーの粒度が大きくなり、また耐火性フィラー粉末自身は軟化流動しないため、焼成膜の表面に凹凸が残存し易くなる。なお、焼成膜の凹凸が大きいと、焼成膜の表面平滑性が損なわれて、レーザ封着の前に、被封着物同士(例えば、ガラス基板同士)を均一に密着させることが困難になり、結果として、低出力のレーザでレーザ封着を行うことが困難になる。 In the sealing material of the present invention, the ratio (average particle diameter D 50 of the refractory filler) / (average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder) is 0.6 to 4, preferably from 0.8 to 3. (Average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder) / a ratio (average particle diameter D 50 of the refractory filler) is less than 0.6, the specific surface area of the refractory filler is too large relative to the SnO-containing glass powder As a result, the SnO-containing glass powder tends to be devitrified, and as a result, the softening flow of the sealing material may be hindered, and unevenness tends to remain on the surface of the fired film due to devitrification. On the other hand, (the average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder) / (average particle diameter D 50 of the refractory filler) ratio granularity of the refractory filler is increased relative to 4 larger than the particle size of SnO-containing glass powder Moreover, since the refractory filler powder itself does not soften and flow, irregularities easily remain on the surface of the fired film. In addition, when the unevenness | corrugation of a baked film is large, the surface smoothness of a baked film will be impaired, and it will become difficult to adhere | attach objects to be sealed (for example, glass substrates) uniformly before laser sealing, As a result, it becomes difficult to perform laser sealing with a low-power laser.

本発明の封着材料は、レーザ封着に用いることを特徴とする。なお、上記の通り、レーザ封着によれば、封着すべき部分のみを局所加熱できるため、アクティブ素子等の熱劣化を防止した上で、ガラス基板同士を封着することができる。   The sealing material of the present invention is used for laser sealing. As described above, according to laser sealing, only the portion to be sealed can be locally heated, so that the glass substrates can be sealed together while preventing thermal degradation of the active element or the like.

レーザ封着には、種々のレーザを使用することができる。特に、半導体レーザ、YAGレーザ、COレーザ、エキシマレーザ、赤外レーザ等は、取扱いが容易な点で好ましい。 Various lasers can be used for laser sealing. In particular, a semiconductor laser, a YAG laser, a CO 2 laser, an excimer laser, an infrared laser, and the like are preferable in terms of easy handling.

本発明の封着材料において、SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50は1.0〜3.0μm、特に1.5〜2.5μmが好ましい。SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50が1.0μmより小さいと、焼成時にガラスが失透し易くなり、封着材料の軟化流動が阻害される虞がある。また粉砕、分級の際に、ガラス粉末が凝集し易くなり、ペースト材料の混練後に凝集物として残存し、スクリーン印刷の際にスクリーンメッシュの目詰まり原因になる虞がある。一方、SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50が3.0μmより大きいと、スクリーン印刷の際に印刷面の凹凸が大きくなり過ぎて、焼成膜の表面平滑性を高めることが困難になる。また焼成時に封着材料が軟化流動し難くなるため、焼成温度を上昇させる必要があり、この場合、被封着物の熱的損傷が大きくなり易く、コスト高の一因にもなり得る。 In the sealing material of the present invention, the average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder 1.0 to 3.0 m, particularly 1.5~2.5μm is preferred. The average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder is 1.0μm less than the glass tends to devitrify during firing, there is a possibility that the softening flow of the sealing material is inhibited. Further, the glass powder tends to aggregate during pulverization and classification, and remains as an aggregate after kneading the paste material, which may cause clogging of the screen mesh during screen printing. On the other hand, the average particle diameter D 50 of the SnO-containing glass powder is larger than 3.0 [mu] m, the unevenness of the printing surface when the screen printing becomes too large, it becomes difficult to improve the surface smoothness of the fired film. Further, since the sealing material is softened and hardly flows during firing, it is necessary to raise the firing temperature. In this case, thermal damage to the sealed object is likely to increase, which may contribute to high cost.

本発明の封着材料において、耐火性フィラーの平均粒径D50は0.5〜2.0μm、特に0.5〜1.8μmが好ましい。耐火性フィラーの平均粒径D50が0.5μmより小さいと、焼成時に耐火性フィラーがガラス中に溶け込み易くなり、封着材料の軟化流動が阻害される虞がある。また粉砕、分級の際に、耐火性フィラーが凝集し易くなり、ペースト材料の混練後に凝集物として残存し、スクリーン印刷の際に、スクリーンメッシュの目詰まり原因になる虞がある。一方、耐火性フィラーの平均粒径D50が2.0μmより大きいと、スクリーン印刷の際に印刷面の凹凸が大きくなり過ぎて、焼成膜の表面平滑性を高めることが困難になる。 In the sealing material of the present invention, the average particle diameter D 50 of the refractory filler is 0.5 to 2.0 [mu] m, particularly 0.5~1.8μm is preferred. The average particle diameter D 50 and 0.5μm less than the refractory filler, refractory filler is easily dissolves in the glass during firing, there is a possibility that the softening flow of the sealing material is inhibited. In addition, the refractory filler easily aggregates during pulverization and classification, and remains as an aggregate after kneading the paste material, which may cause clogging of the screen mesh during screen printing. On the other hand, the average particle a diameter D 50 of greater than 2.0μm of refractory filler, uneven printing surface when the screen printing becomes too large, it becomes difficult to improve the surface smoothness of the fired film.

本発明の封着材料において、SnO含有ガラス粉末の90%粒径D90は7.0μm以下が好ましく、また耐火性フィラーの90%粒径D90は5.0μm以下が好ましい。このようにすれば、両ガラス基板間のギャップを狭小化し易くなり、この場合、レーザ封着に要する時間が短縮されると共に、ガラス基板と封着材料の熱膨張係数に差があっても、ガラス基板や封着部分にクラック等が発生し難くなる。ここで、「90%粒径D90」は、レーザ回折式粒度分布計で測定した値を指し、レーザ回折式粒度分布計により測定した際の体積基準の累積粒度分布曲線において、その積算量が粒子の小さい方から累積して90%である粒径を表す。 In the sealing material of the present invention, the 90% particle size D 90 of the SnO-containing glass powder is preferably 7.0 μm or less, and the 90% particle size D 90 of the refractory filler is preferably 5.0 μm or less. In this way, it becomes easy to narrow the gap between both glass substrates, in this case, the time required for laser sealing is shortened, and even if there is a difference in the thermal expansion coefficient between the glass substrate and the sealing material, Cracks and the like are less likely to occur in the glass substrate and the sealed portion. Here, “90% particle size D 90 ” refers to a value measured with a laser diffraction particle size distribution meter, and in the volume-based cumulative particle size distribution curve when measured with a laser diffraction particle size distribution meter, the integrated amount is The particle size is 90% cumulative from the smaller particle.

本発明の封着材料において、SnO含有ガラス粉末の最大粒径D99は15μm以下が好ましく、また耐火性フィラーの最大粒径D99は10μm以下が好ましい。このようにすれば、両ガラス基板間のギャップを狭小化し易くなり、この場合、レーザ封着に要する時間が短縮されると共に、ガラス基板と封着材料の熱膨張係数に差があっても、ガラス基板や封着部分にクラック等が発生し難くなる。ここで、「最大粒径D99」は、レーザ回折式粒度分布計で測定した値を指し、レーザ回折式粒度分布計により測定した際の体積基準の累積粒度分布曲線において、その積算量が粒子の小さい方から累積して99%である粒径を表す。 In the sealing material of the present invention, the maximum particle diameter D 99 of the SnO-containing glass powder is preferably 15 μm or less, and the maximum particle diameter D 99 of the refractory filler is preferably 10 μm or less. In this way, it becomes easy to narrow the gap between both glass substrates, in this case, the time required for laser sealing is shortened, and even if there is a difference in the thermal expansion coefficient between the glass substrate and the sealing material, Cracks and the like are less likely to occur in the glass substrate and the sealed portion. Here, the “maximum particle size D 99 ” refers to a value measured by a laser diffraction particle size distribution meter, and in the volume-based cumulative particle size distribution curve measured by the laser diffraction particle size distribution meter, the accumulated amount is a particle size. The particle size is 99% cumulative from the smaller of the two.

本発明の封着材料において、顔料は、無機顔料が好ましく、カーボン、Co、CuO、Cr、Fe、MnO、SnO、Ti2n−1(nは整数)から選ばれる一種又は二種以上がより好ましく、特にカーボンが好ましい。これらの顔料は、発色性に優れており、レーザの吸収性が良好である。カーボンとして、非晶質カーボン又はグライファイトが好ましい。これらのカーボンは、一次粒子の平均粒径D50を1〜100nmに加工し易い性質を有している。 In the sealing material of the present invention, the pigment is preferably an inorganic pigment, and carbon, Co 3 O 4 , CuO, Cr 2 O 3 , Fe 2 O 3 , MnO 2 , SnO, and Ti n O 2n-1 (n is an integer) 1 type or 2 types or more selected from the above are more preferable, and carbon is particularly preferable. These pigments have excellent color developability and good laser absorptivity. As carbon, amorphous carbon or griffite is preferable. These carbon has a property of easily processing the average particle diameter D 50 of the primary particles in the 1 to 100 nm.

本発明の封着材料において、顔料の一次粒子の平均粒径D50は1〜100nm、3〜70nm、5〜60nm、特に10〜50nmが好ましい。顔料の一次粒子の平均粒径D50が小さ過ぎると、顔料同士が凝集し易くなるため、顔料が均一に分散し難くなって、レーザ封着の際に封着材料が局所的に軟化流動しない虞がある。一方、顔料の一次粒子の平均粒径D50が大き過ぎても、顔料が均一に分散し難くなり、レーザ封着の際に封着材料が局所的に軟化流動しない虞がある。 In the sealing material of the present invention, the average particle diameter D50 of the primary particles of the pigment is preferably 1 to 100 nm, 3 to 70 nm, 5 to 60 nm, and particularly preferably 10 to 50 nm. When the average particle diameter D 50 of the primary particles of the pigment is too small, the pigment each other tend to aggregate, pigment becomes difficult to uniformly disperse, sealing material during the laser sealing is not locally softened flow There is a fear. On the other hand, too large an average particle diameter D 50 of the primary particles of the pigment, the pigment is difficult to uniformly disperse, sealing material during the laser sealing there is a possibility not to locally soften flow.

本発明の封着材料において、顔料の含有量は0.05〜1質量%、特に0.1〜0.5質量%が好ましい。顔料の含有量が少な過ぎると、レーザの光を熱エネルギーに変換し難くなる。一方、顔料の含有量が多過ぎると、レーザ封着の際に封着材料が軟化流動し難くなり、また封着強度を高めることが困難になる。   In the sealing material of the present invention, the pigment content is preferably 0.05 to 1% by mass, particularly preferably 0.1 to 0.5% by mass. When there is too little content of a pigment, it will become difficult to convert the light of a laser into heat energy. On the other hand, if the content of the pigment is too large, the sealing material becomes difficult to soften and flow during laser sealing, and it becomes difficult to increase the sealing strength.

顔料は、環境的観点から、実質的にCr系酸化物を含有しないことが好ましい。ここで、「実質的にCr系酸化物を含有しない」とは、顔料中のCr系酸化物の含有量が1000ppm(質量)以下の場合を指す。   The pigment preferably contains substantially no Cr-based oxide from the environmental viewpoint. Here, “substantially free of Cr-based oxide” refers to a case where the content of Cr-based oxide in the pigment is 1000 ppm (mass) or less.

本発明の封着材料において、SnO含有ガラス粉末は、ガラス組成として、下記酸化物換算のモル%表示で、SnO 35〜70%、P 10〜30%を含むことが好ましい。上記のようにガラス組成範囲を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有範囲の説明において、%表示は、特に断りがある場合を除き、モル%を指す。 In the sealing material of the present invention, the SnO-containing glass powder preferably contains SnO 35 to 70% and P 2 O 5 10 to 30% as a glass composition in terms of the following oxide equivalent mol%. The reason for limiting the glass composition range as described above will be described below. In addition, in description of the content range of each component,% display points out mol% except the case where there is particular notice.

SnOは、ガラスを低融点化する成分であり、必須成分である。その含有量は35〜70%、40〜70%、特に50〜68%が好ましい。なお、SnOの含有量が50%以上であれば、レーザ封着の際に、ガラスが軟化流動し易くなる。SnOの含有量が35%より少ないと、ガラスの粘性が高くなり過ぎて、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。一方、SnOの含有量が70%より多いと、ガラス化が困難になる。   SnO is a component that lowers the melting point of glass and is an essential component. The content is preferably 35 to 70%, 40 to 70%, particularly preferably 50 to 68%. If the SnO content is 50% or more, the glass tends to soften and flow during laser sealing. When the content of SnO is less than 35%, the viscosity of the glass becomes too high, and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output. On the other hand, if the SnO content is more than 70%, vitrification becomes difficult.

は、ガラス形成酸化物であり、ガラスの熱安定性を高める成分である。その含有量は10〜30%、15〜27%、特に15〜25%が好ましい。Pの含有量が10%より少ないと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。一方、Pの含有量が30%より多いと、ガラスの耐候性が低下し、有機ELデバイス等の長期信頼性を確保し難くなる。 P 2 O 5 is a glass-forming oxide and is a component that increases the thermal stability of glass. The content is preferably 10 to 30%, 15 to 27%, particularly preferably 15 to 25%. When the content of P 2 O 5 is less than 10%, the thermal stability of the glass tends to be lowered. On the other hand, when the content of P 2 O 5 is more than 30%, reduces the weather resistance of the glass, it becomes difficult to ensure long-term reliability of the organic EL device or the like.

上記成分以外にも、例えば、以下の成分を添加してもよい。   In addition to the above components, for example, the following components may be added.

ZnOは、中間酸化物であり、ガラスを安定化させる成分である。その含有量は0〜30%、1〜20%、特に1〜15%が好ましい。ZnOの含有量が30%より多いと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。   ZnO is an intermediate oxide and a component that stabilizes the glass. The content is preferably 0 to 30%, 1 to 20%, particularly preferably 1 to 15%. When there is more content of ZnO than 30%, the thermal stability of glass will fall easily.

は、ガラス形成酸化物であり、ガラスを安定化させる成分である。また、Bは、ガラスの耐候性を高める成分である。その含有量は0〜20%、1〜20%、特に2〜15%が好ましい。Bの含有量が20%より多いと、ガラスの粘性が高くなり過ぎて、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 B 2 O 3 is a glass-forming oxide and a component that stabilizes the glass. Further, B 2 O 3 is a component for enhancing the weather resistance of the glass. The content is preferably 0 to 20%, 1 to 20%, particularly preferably 2 to 15%. If the content of B 2 O 3 is more than 20%, the viscosity of the glass becomes too high, and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

Alは、中間酸化物であり、ガラスを安定化させる成分である。また、Alは、ガラスの熱膨張係数を低下させる成分である。その含有量は0〜10%、0.1〜10%、特に0.5〜5%が好ましい。Alの含有量が10%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 Al 2 O 3 is an intermediate oxide and a component that stabilizes the glass. Al 2 O 3 is a component that lowers the thermal expansion coefficient of glass. The content is preferably 0 to 10%, 0.1 to 10%, particularly preferably 0.5 to 5%. When the content of Al 2 O 3 is more than 10%, the softening temperature of the glass powder is unduly increased, and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

SiOは、ガラス形成酸化物であり、ガラスを安定化させる成分である。その含有量は0〜15%、特に0〜5%が好ましい。SiOの含有量が15%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 SiO 2 is a glass-forming oxide and is a component that stabilizes the glass. The content is preferably 0 to 15%, particularly preferably 0 to 5%. When the content of SiO 2 is more than 15%, the softening temperature of the glass powder rises unreasonably and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

Inは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。Inの含有量が5%より多いと、バッチコストが高騰する。 In 2 O 3 is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 5%. When the content of In 2 O 3 is more than 5%, the batch cost increases.

Taは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。Taの含有量が5%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 Ta 2 O 5 is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 5%. When the content of Ta 2 O 5 is more than 5%, the softening temperature of the glass powder is unduly increased, and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

Laは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、またガラスの耐候性を高める成分である。その含有量は0〜15%、0〜10%、特に0〜5%が好ましい。Laの含有量が15%より多いと、バッチコストが高騰する。 La 2 O 3 is a component that enhances the thermal stability of the glass and is a component that enhances the weather resistance of the glass. The content is preferably 0 to 15%, 0 to 10%, particularly preferably 0 to 5%. When the content of La 2 O 3 is more than 15%, batch cost soars.

MoOは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。MoOの含有量が5%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 MoO 3 is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 5%. When the content of MoO 3 is more than 5%, the softening temperature of the glass powder rises unreasonably and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

WOは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。WOの含有量が5%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。 WO 3 is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 5%. When the content of WO 3 is more than 5%, the softening temperature of the glass powder is unduly increased, and it becomes difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

LiOは、ガラスを低融点化する成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。LiOの含有量が5%より多いと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。 Li 2 O is a component that lowers the melting point of glass, and its content is preferably 0 to 5%. The content of Li 2 O is more than 5%, the thermal stability of the glass tends to decrease.

NaOは、ガラスを低融点化する成分であり、その含有量は0〜10%、特に0〜5%が好ましい。NaOの含有量が10%より多いと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。 Na 2 O is a component that lowers the melting point of glass, and its content is preferably 0 to 10%, particularly preferably 0 to 5%. When the content of Na 2 O is greater than 10%, thermal stability of the glass tends to decrease.

Oは、ガラスを低融点化する成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。KOの含有量が5%より多いと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。 K 2 O is a component that lowers the melting point of glass, and its content is preferably 0 to 5%. When the content of K 2 O is more than 5%, the thermal stability of the glass tends to decrease.

MgOは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜15%が好ましい。MgOの含有量が15%より多いと、ガラス粉末の軟化温度が不当に上昇して、所望のレーザ出力でレーザ封着し難くなる。   MgO is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 15%. When the content of MgO is more than 15%, the softening temperature of the glass powder rises unreasonably, making it difficult to perform laser sealing with a desired laser output.

BaOは、ガラスの熱的安定性を高める成分であり、その含有量は0〜10%が好ましい。BaOの含有量が10%より多いと、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。   BaO is a component that enhances the thermal stability of the glass, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of BaO is more than 10%, the component balance of the glass composition is impaired, and conversely, the glass is easily devitrified.

は、ガラスを低融点化する成分であり、その含有量は0〜5%が好ましい。Fの含有量が5%より多いと、ガラスの熱的安定性が低下し易くなる。 F 2 is a component to lower the melting point of the glass, the content thereof is preferably 0 to 5%. When the content of F 2 is greater than 5%, the thermal stability of the glass tends to decrease.

熱的安定性と低融点特性を考慮すれば、In、Ta、La、MoO、WO、LiO、NaO、KO、MgO、BaO、Fの合量は10%以下が好ましい。 In consideration of thermal stability and low melting point characteristics, In 2 O 3 , Ta 2 O 5 , La 2 O 3 , MoO 3 , WO 3 , Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, MgO, BaO, The total amount of F 2 is preferably 10% or less.

上記成分以外にも他の成分(CaO、SrO等)を例えば10%まで添加することができる。   In addition to the above components, other components (CaO, SrO, etc.) can be added, for example, up to 10%.

本発明に係るSnO含有ガラス粉末は、実質的に遷移金属酸化物を含まないことが好ましい。このようにすれば、ガラスの熱的安定性が低下する事態を防止し易くなる。ここで、「実質的に遷移金属酸化物を含有しない」とは、ガラス組成中の遷移金属酸化物の含有量が3000ppm(質量)以下、好ましくは1000ppm(質量)以下の場合を指す。   It is preferable that the SnO-containing glass powder according to the present invention does not substantially contain a transition metal oxide. If it does in this way, it will become easy to prevent the situation where the thermal stability of glass falls. Here, “substantially no transition metal oxide” refers to the case where the content of the transition metal oxide in the glass composition is 3000 ppm (mass) or less, preferably 1000 ppm (mass) or less.

なお、本発明に係るSnO含有ガラス粉末は、環境的観点から、実質的にPbOを含有しないことが好ましい。ここで、「実質的にPbOを含有しない」とは、ガラス組成中のPbOの含有量が1000ppm(質量)以下の場合を指す。   In addition, it is preferable that the SnO containing glass powder which concerns on this invention does not contain PbO substantially from an environmental viewpoint. Here, “substantially no PbO” refers to the case where the content of PbO in the glass composition is 1000 ppm (mass) or less.

本発明の封着材料は、耐火性フィラーを含む。このようにすれば、封着材料の熱膨張係数を低下できると共に、封着材料の機械的強度を高めることができる。SnO含有ガラス粉末と耐火性フィラーの混合割合は、体積%で40〜99.9%:0.1〜60%、45〜90%:10〜55%、50〜80%:20〜50%、50〜70%:30〜50%、特に50〜65%:35〜50%が好ましい。耐火性フィラーの含有量が少な過ぎると、耐火性フィラーによる効果を享受し難くなる。一方、耐火性フィラーの含有量が多過ぎると、SnO含有ガラス粉末の割合が相対的に少なくなり、レーザ封着の効率が低下し易くなる。   The sealing material of the present invention includes a refractory filler. In this way, the thermal expansion coefficient of the sealing material can be reduced, and the mechanical strength of the sealing material can be increased. The mixing ratio of SnO-containing glass powder and refractory filler is 40-99.9% by volume%: 0.1-60%, 45-90%: 10-55%, 50-80%: 20-50%, 50 to 70%: 30 to 50%, particularly 50 to 65%: 35 to 50% is preferable. When there is too little content of a refractory filler, it will become difficult to receive the effect by a refractory filler. On the other hand, when there is too much content of a refractory filler, the ratio of SnO containing glass powder will become relatively small, and the efficiency of laser sealing will fall easily.

耐火性フィラーとして、ジルコン、ジルコニア、酸化錫、石英、β−スポジュメン、コーディエライト、ムライト、石英ガラス、β−ユークリプタイト、β−石英、リン酸ジルコニウム、リン酸タングステン酸ジルコニウム、タングステン酸ジルコニウム、NbZr(PO等の[AB(MO]の基本構造をもつ化合物、
A:Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cu、Ni、Mn等
B:Zr、Ti、Sn、Nb、Al、Sc、Y等
M:P、Si、W、Mo等
若しくはこれらの固溶体が使用可能である。
Zircon, zirconia, tin oxide, quartz, β-spodumene, cordierite, mullite, quartz glass, β-eucryptite, β-quartz, zirconium phosphate, zirconium phosphate tungstate, zirconium tungstate as refractory filler NbZr (PO 4 ) 3 and other compounds having a basic structure of [AB 2 (MO 4 ) 3 ],
A: Li, Na, K, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ni, Mn etc. B: Zr, Ti, Sn, Nb, Al, Sc, Y etc. M: P, Si, W, Mo etc. Alternatively, these solid solutions can be used.

本発明の封着材料において、軟化温度は450℃以下、420℃以下、特に400℃以下が好ましい。軟化温度が450℃より高いと、レーザ封着の効率が低下し易くなる。軟化温度の下限は特に限定されないが、SnO含有ガラスの熱的安定性を考慮すれば、軟化温度を300℃以上に規制することが好ましい。ここで、「軟化温度」とは、窒素雰囲気下において、マクロ型示差熱分析(DTA)装置で測定した値を指し、DTAは室温から測定を開始し、昇温速度は10℃/分とする。なお、マクロ型DTA装置で測定した軟化温度は、図1に示す第四屈曲点の温度(Ts)を指す。   In the sealing material of the present invention, the softening temperature is preferably 450 ° C. or lower, 420 ° C. or lower, and particularly preferably 400 ° C. or lower. When the softening temperature is higher than 450 ° C., the efficiency of laser sealing tends to decrease. The lower limit of the softening temperature is not particularly limited, but it is preferable to limit the softening temperature to 300 ° C. or higher in consideration of the thermal stability of the SnO-containing glass. Here, the “softening temperature” refers to a value measured with a macro-type differential thermal analysis (DTA) apparatus in a nitrogen atmosphere, DTA starts measurement from room temperature, and the rate of temperature rise is 10 ° C./min. . In addition, the softening temperature measured with the macro type | mold DTA apparatus points out the temperature (Ts) of the 4th bending point shown in FIG.

現在、有機ELディスプレイには、駆動方式として、TFT等のアクティブ素子を各画素に配置して駆動させるアクティブマトリクス駆動が採用されている。この場合、有機ELディスプレイ用ガラス基板には、無アルカリガラス(例えば、日本電気硝子株式会社製OA−10G)が使用される。無アルカリガラスの熱膨張係数は、通常、40×10−7/℃以下である。一方、従来の封着材料の熱膨張係数は、通常、76〜83×10−7/℃である。このため、封着材料の熱膨張係数を無アルカリガラスの熱膨張係数に厳密に適合させることが困難であった。しかし、本発明に係るSnO含有ガラス粉末は、低膨張の耐火性フィラー、特にNbZr(PO、リン酸ジルコニウムとの適合性が良好である。従って、本発明に係るSnO含有ガラス粉末を用いると、封着材料の熱膨張係数を顕著に低下させることが可能になる。本発明の封着材料において、熱膨張係数は75×10−7/℃以下、65×10−7/℃以下、55×10−7/℃以下、特に49×10−7/℃以下が好ましい。このようにすれば、封着部分にかかる応力が小さくなるため、封着部分の応力破壊を防止し易くなる。ここで、「熱膨張係数」とは、押棒式熱膨張係数測定(TMA)装置により、30〜300℃の温度範囲で測定した平均値を指す。 Currently, an active matrix drive in which an active element such as a TFT is arranged and driven in each pixel is adopted as an organic EL display as a drive method. In this case, non-alkali glass (for example, OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) is used for the glass substrate for organic EL display. The thermal expansion coefficient of the alkali-free glass is usually 40 × 10 −7 / ° C. or less. On the other hand, the thermal expansion coefficient of the conventional sealing material is usually 76 to 83 × 10 −7 / ° C. For this reason, it has been difficult to strictly match the thermal expansion coefficient of the sealing material with that of the alkali-free glass. However, the SnO-containing glass powder according to the present invention has good compatibility with a low expansion refractory filler, particularly NbZr (PO 4 ) 3 and zirconium phosphate. Therefore, when the SnO-containing glass powder according to the present invention is used, the thermal expansion coefficient of the sealing material can be significantly reduced. In the sealing material of the present invention, the thermal expansion coefficient is preferably 75 × 10 −7 / ° C. or less, 65 × 10 −7 / ° C. or less, 55 × 10 −7 / ° C. or less, particularly 49 × 10 −7 / ° C. or less. . By doing so, since the stress applied to the sealed portion is reduced, it becomes easy to prevent stress destruction of the sealed portion. Here, the “thermal expansion coefficient” refers to an average value measured in a temperature range of 30 to 300 ° C. by a push rod type thermal expansion coefficient measurement (TMA) apparatus.

本発明の封着材料と、ビークルとを混練して、ペースト材料に加工することが好ましい。このようにすれば、塗布作業性等を高めることができる。なお、ビークルは、通常、樹脂バインダーと溶媒を含む。   The sealing material of the present invention and a vehicle are preferably kneaded and processed into a paste material. If it does in this way, workability | operativity etc. can be improved. Note that the vehicle usually includes a resin binder and a solvent.

本発明のペースト材料において、樹脂バインダーは、脂肪族ポリオレフィン系カーボネート、特にポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネートが好ましい。これらの樹脂バインダーは、脱バインダー又はレーザ封着の際にSnO含有ガラス粉末を変質させ難い特徴を有する。   In the paste material of the present invention, the resin binder is preferably an aliphatic polyolefin carbonate, particularly polyethylene carbonate or polypropylene carbonate. These resin binders have the characteristic that it is difficult to alter the SnO-containing glass powder during binder removal or laser sealing.

本発明のペースト材料において、溶媒は、N,N’−ジメチルホルムアミド、エチレングリコール、ジメチルスルホキサイド、炭酸ジメチル、プロピレンカーボネート、ブチロラクトン、カプロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)から選ばれる一種又は二種以上が好ましい。これらの溶媒は、脱バインダー又はレーザ封着の際にSnO含有ガラス粉末を変質させ難い特徴を有する。特に、これらの溶媒の内、プロピレンカーボネート、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)から選ばれる一種又は二種以上が好ましい。これらの溶媒は、沸点が240℃以上である。このため、これらの溶媒を使用すると、スクリーン印刷等の塗布作業の際に、溶媒の揮発を抑制し易くなり、結果として、ペースト材料を長期的に安定して使用することが可能になる。更に、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)は、顔料との親和性が高い。このため、これらの溶媒の添加量が少量でも、ペースト材料中で顔料が分離する事態を抑制することができる。   In the paste material of the present invention, N, N′-dimethylformamide, ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, dimethyl carbonate, propylene carbonate, butyrolactone, caprolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, phenyl diglycol (PhDG) , One or more selected from dibutyl phthalate (DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG) are preferred. These solvents have the characteristic that it is difficult to alter the SnO-containing glass powder during binder removal or laser sealing. In particular, among these solvents, one or two selected from propylene carbonate, phenyl diglycol (PhDG), dibutyl phthalate (DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG). The above is preferable. These solvents have a boiling point of 240 ° C. or higher. For this reason, when these solvents are used, it becomes easy to suppress the volatilization of the solvent during the application work such as screen printing, and as a result, the paste material can be used stably over a long period of time. Furthermore, phenyl diglycol (PhDG), dibutyl phthalate (DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG) have high affinity with pigments. For this reason, even if the addition amount of these solvents is small, the situation where a pigment separates in the paste material can be suppressed.

上記の通り、プロピレンカーボネート、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)は、溶媒の揮発を抑制して、ペースト材料の長期安定性を高める効果を有する。フェニルジグリコール(PhDG)を例にとり、この効果を具体的に説明する。まずプロピレンカーボネートに対して、図2に記載の通りに、フェニルジグリコール(PhDG)を外挿添加して、各種溶媒を作製した。次に、この溶媒をガラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10G)に一定量滴下した上で、図2に記載の通りにガラス基板を放置した。最後に、溶媒の減量率を測定することにより、フェニルジグリコール(PhDG)がペースト材料の乾燥速度に及ぼす影響を評価した。その結果を図2に示す。図2によると、フェニルジグリコール(PhDG)の含有量が多くなると、溶媒の減量率が小さくなる。よって、フェニルジグリコール(PhDG)を添加すれば、ペースト材料の乾燥速度が遅くなり、結果として、ペースト材料の長期安定性が向上することが分かる。   As described above, propylene carbonate, phenyl diglycol (PhDG), dibutyl phthalate (DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG) suppress the volatilization of the solvent and paste It has the effect of increasing the long-term stability of the material. Taking phenyldiglycol (PhDG) as an example, this effect will be specifically described. First, as shown in FIG. 2, phenyldiglycol (PhDG) was extrapolated to propylene carbonate to prepare various solvents. Next, after a certain amount of this solvent was dropped onto a glass substrate (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.), the glass substrate was left as shown in FIG. Finally, the influence of phenyl diglycol (PhDG) on the drying rate of the paste material was evaluated by measuring the weight loss rate of the solvent. The result is shown in FIG. According to FIG. 2, as the content of phenyldiglycol (PhDG) increases, the solvent weight loss rate decreases. Therefore, it can be seen that if phenyldiglycol (PhDG) is added, the drying speed of the paste material is decreased, and as a result, the long-term stability of the paste material is improved.

本発明のペースト材料は、不活性雰囲気における脱バインダー処理に供されることが好ましく、特にN雰囲気における脱バインダー処理に供されることが好ましい。このようにすれば、脱バインダーの際にSnO含有ガラス粉末が変質する事態を防止し易くなる。 The paste material of the present invention is preferably subjected to a binder removal treatment in an inert atmosphere, and particularly preferably subjected to a binder removal treatment in an N 2 atmosphere. If it does in this way, it will become easy to prevent the situation which SnO containing glass powder changes in the case of binder removal.

本発明のペースト材料は、不活性雰囲気におけるレーザ封着に供されることが好ましく、特にN雰囲気におけるレーザ封着に供されることが好ましい。このようにすれば、レーザ封着の際にSnO含有ガラス粉末が変質する事態を防止し易くなる。 The paste material of the present invention is preferably used for laser sealing in an inert atmosphere, and particularly preferably used for laser sealing in an N 2 atmosphere. If it does in this way, it will become easy to prevent the situation which SnO containing glass powder changes in the case of laser sealing.

本発明の焼成膜の焼成方法は、ペースト材料を焼成して、焼成膜を作製する焼成膜の作製方法であって、焼成膜の表面粗さRaが0.6μm以下、表面粗さRMSが1.0μm以下になるように、上記のペースト材料を焼成することを特徴とする。   The fired film firing method of the present invention is a fired film production method for firing a paste material to produce a fired film, wherein the fired film has a surface roughness Ra of 0.6 μm or less and a surface roughness RMS of 1. The paste material is fired so as to have a thickness of 0.0 μm or less.

焼成膜の表面粗さRaは0.6μm以下、0.5μm以下、特に0.4μm以下が好ましい。このようにすれば、レーザ封着後に強固な封着強度を確保し易くなる。   The surface roughness Ra of the fired film is preferably 0.6 μm or less, 0.5 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or less. In this way, it becomes easy to ensure a strong sealing strength after laser sealing.

焼成膜の表面粗さRMSは1.0μm以下、0.8μm以下、特に0.7μm以下が好ましい。このようにすれば、レーザ封着後に強固な封着強度を確保し易くなる。   The surface roughness RMS of the fired film is preferably 1.0 μm or less, 0.8 μm or less, and particularly preferably 0.7 μm or less. In this way, it becomes easy to ensure a strong sealing strength after laser sealing.

本発明のレーザ封着方法は、上記焼成膜にレーザを照射して、レーザ封着を行うことを特徴とする。このようにすれば、長期に亘って、封着部分の剥離を防止し易くなる。   The laser sealing method of the present invention is characterized in that laser sealing is performed by irradiating the fired film with a laser. If it does in this way, it will become easy to prevent peeling of a sealing part over a long period of time.

実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。但し、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。   The present invention will be described in detail based on examples. However, the following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.

表1は、本発明の実施例(試料No.1〜5)、比較例(試料No.6、7)を示している。   Table 1 shows Examples (Sample Nos. 1 to 5) and Comparative Examples (Sample Nos. 6 and 7) of the present invention.

次のようにして各SnO含有ガラス粉末を調製した。まず所定のガラス組成(モル%で、SnO 59%、P 20%、ZnO 5%、B 15%、Al 1%)になるように、原料を調合した後、この調合原料をアルミナ坩堝に入れて、窒素雰囲気下において、900℃で1〜2時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスを水冷ローラーによりフィルム状に成形した。続いて、ボールミルによりガラスフィルムを粉砕した後、分級し、表中に記載の粒度を有するSnO含有ガラス粉末を得た。 Each SnO containing glass powder was prepared as follows. First, after preparing the raw materials so as to have a predetermined glass composition (mol%, SnO 59%, P 2 O 5 20%, ZnO 5%, B 2 O 3 15%, Al 2 O 3 1%), This prepared raw material was put in an alumina crucible and melted at 900 ° C. for 1 to 2 hours under a nitrogen atmosphere. Next, the obtained molten glass was formed into a film shape with a water-cooled roller. Subsequently, the glass film was pulverized by a ball mill and classified to obtain SnO-containing glass powder having the particle size described in the table.

耐火性フィラーとして、リン酸ジルコニウム粉末を用いた。リン酸ジルコニウムの粉砕、分級条件を調整することにより、表中に記載の粒度を有する耐火性フィラーを得た。   Zirconium phosphate powder was used as a refractory filler. By adjusting the pulverization and classification conditions of zirconium phosphate, a refractory filler having the particle size described in the table was obtained.

顔料として、ケッチェンブラック(グラファイト)を用いた。顔料の一次粒子の平均粒径D50は20nmであった。 Ketjen black (graphite) was used as the pigment. The average particle diameter D 50 of the primary particles of the pigment was 20 nm.

SnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、顔料の粒度は、レーザ回折式粒度分布計で測定した値である。   The particle sizes of the SnO-containing glass powder, the refractory filler, and the pigment are values measured with a laser diffraction particle size distribution meter.

上記により調製した無機粉末(SnO含有ガラス粉末 60体積%、耐火性フィラー 40体積%) 99.75質量%と顔料 0.25質量%とを混合して、封着材料を作製した。   99.75% by mass of inorganic powder (SnO-containing glass powder 60% by volume, refractory filler 40% by volume) prepared as described above and 0.25% by mass of pigment were mixed to prepare a sealing material.

得られた封着材料に対して、軟化温度と30〜300℃の温度範囲における熱膨張係数を測定した。   With respect to the obtained sealing material, the softening temperature and the thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 300 ° C. were measured.

軟化温度は、DTA装置で測定した値である。測定は、窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で行い、室温から測定を開始した。   The softening temperature is a value measured with a DTA apparatus. The measurement was performed at a heating rate of 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere, and the measurement was started from room temperature.

30〜300℃の温度範囲における熱膨張係数は、TMA装置で測定した値である。なお、測定試料として、各封着材料を緻密に焼結させたものを使用した。   The thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 300 ° C. is a value measured with a TMA apparatus. In addition, what sealed each sealing material closely was used as a measurement sample.

次のようにして、ペースト材料を作製した。まず粘度が約100Pa・s(25℃、Shear rate:4)になるように、封着材料とビークルを混練した後、更に三本ロールミルで均一になるまで混錬し、ペースト化した。ビークルの樹脂成分として、ポリエチレンカーボネート樹脂(MW:129000)、溶媒成分として、プロピレンカーボネートを用いた。なお、プロピレンカーボネート中にポリエチレンカーボネート(PEC、分子量:200000)を20質量%溶解させたビークルを使用した。次に、縦40mm×横50mm×厚み0.5mmのガラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10G)の周縁部に、上記のペースト材料を厚み:約30μm、幅:約0.6mmになるように、スクリーン印刷機で印刷した上で、大気雰囲気下にて、120℃で30分間乾燥した後、窒素雰囲気下にて、480℃で10分間焼成して、ペースト中の樹脂成分の焼却(脱バインダー処理)、及び封着材料の固着を行い、表中に記載の平均膜厚、表面粗さ(Ra、RMS)を有する焼成膜を得た。   A paste material was produced as follows. First, the sealing material and the vehicle were kneaded so as to have a viscosity of about 100 Pa · s (25 ° C., Shear rate: 4), and then kneaded with a three-roll mill until uniform, thereby forming a paste. Polyethylene carbonate resin (MW: 129000) was used as the resin component of the vehicle, and propylene carbonate was used as the solvent component. A vehicle in which 20% by mass of polyethylene carbonate (PEC, molecular weight: 200000) was dissolved in propylene carbonate was used. Next, the thickness of the paste material is about 30 μm and the width is about 0.6 mm on the periphery of a 40 mm long × 50 mm wide × 0.5 mm thick glass substrate (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.). As described above, after printing with a screen printing machine, after drying at 120 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere, firing at 480 ° C. for 10 minutes in a nitrogen atmosphere to incinerate the resin components in the paste ( The binder film was removed and the sealing material was fixed to obtain a fired film having the average film thickness and surface roughness (Ra, RMS) shown in the table.

焼成膜の膜厚は、非接触型レーザ膜厚計で測定した値である。   The film thickness of the fired film is a value measured with a non-contact type laser film thickness meter.

焼成膜の表面粗さ(Ra、RMS)は、表面粗さ計で測定した値である。   The surface roughness (Ra, RMS) of the fired film is a value measured with a surface roughness meter.

続いて、焼成膜上に、縦50mm×横50mm×厚み0.5mmのガラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10G)を窒素雰囲気下で配置した後、焼成膜が形成されたガラス基板側から焼成膜に沿って、波長808nmのレーザを照射することにより、焼成膜を軟化流動させて、ガラス基板同士を気密封着した。なお、焼成膜の平均膜厚に応じて、レーザの照射条件(出力、照射速度)を調整した。   Subsequently, after placing a glass substrate (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) having a length of 50 mm × width 50 mm × thickness 0.5 mm on the fired film in a nitrogen atmosphere, the glass substrate side on which the fired film was formed By irradiating a laser having a wavelength of 808 nm along the fired film, the fired film was softened and fluidized, and the glass substrates were hermetically sealed. The laser irradiation conditions (output and irradiation speed) were adjusted according to the average film thickness of the fired film.

高温高湿高圧試験:HAST試験(Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress test)後の封着部分における剥離の有無を観察して、レーザ封着後の封着性を評価した。なお、HAST試験の条件は、121℃、湿度100%、2atmの、24時間である。   High-temperature, high-humidity and high-pressure test: The sealing property after laser sealing was evaluated by observing the presence or absence of peeling at the sealing portion after the HAST test (Highly Accelerated Temperature and Humidity Stress test). The conditions of the HAST test are 121 ° C., humidity 100%, 2 atm, 24 hours.

表1から明らかなように、試料No.1〜5は、HAST試験後に封着部分が剥離しておらず、強固な封着性を維持していた。また、試料No.1〜5は、焼成膜の表面粗さRaが0.3〜0.5μm、表面粗さRMSが0.5〜0.8μmであり、良好な表面平滑性を有していた。一方、試料No.6、7は、HAST試験後にすべての封着部分に剥離が認められた。また、試料No.6、7は、焼成膜の表面粗さRaが1.1〜1.2μm、表面粗さRMSが1.4〜1.6μmであり、表面平滑性に劣っていた。   As is clear from Table 1, sample No. In Nos. 1 to 5, the sealed portion was not peeled off after the HAST test, and the strong sealing property was maintained. Sample No. Nos. 1 to 5 had a surface roughness Ra of the fired film of 0.3 to 0.5 μm and a surface roughness RMS of 0.5 to 0.8 μm, and had good surface smoothness. On the other hand, Sample No. As for Nos. 6 and 7, peeling was observed in all the sealing portions after the HAST test. Sample No. Nos. 6 and 7 had a surface roughness Ra of 1.1 to 1.2 μm and a surface roughness RMS of 1.4 to 1.6 μm, and were inferior in surface smoothness.

本発明の封着材料は、有機ELディスプレイ、有機EL照明装置等の有機ELデバイス以外にも、色素増感型太陽電池等の太陽電池のレーザ封着、リチウムイオン二次電池のレーザ封着、MEMSパッケージのレーザ封着等にも好適である。   In addition to organic EL devices such as organic EL displays and organic EL lighting devices, the sealing material of the present invention includes laser sealing of solar cells such as dye-sensitized solar cells, laser sealing of lithium ion secondary batteries, It is also suitable for laser sealing of MEMS packages.

Claims (20)

少なくともSnO含有ガラス粉末、耐火性フィラー、及び顔料を含む封着材料であって、
(SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50)/(耐火性フィラーの平均粒径D50)比が0.6〜4であり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする封着材料。
A sealing material comprising at least SnO-containing glass powder, a refractory filler, and a pigment,
(SnO-containing glass average particle diameter D 50 of the powder) / a ratio (average particle diameter D 50 of the refractory filler) is 0.6 to 4, and the sealing material, which comprises using a laser sealing.
SnO含有ガラス粉末の平均粒径D50が1.0〜3.0μmであることを特徴とする請求項1に記載の封着材料。 The sealing material according to claim 1, wherein the SnO-containing glass powder has an average particle diameter D 50 of 1.0 to 3.0 μm. 耐火性フィラーの平均粒径D50が0.5〜2.0μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の封着材料。 Sealing material according to claim 1 or 2 average particle diameter D 50 of the refractory filler is characterized in that it is a 0.5 to 2.0 [mu] m. 顔料が非晶質カーボン又はグラファイトであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 1 to 3, wherein the pigment is amorphous carbon or graphite. 顔料の一次粒子の平均粒径D50が1〜100nmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の封着材料。 Sealing material according to claim 1, wherein an average particle diameter D 50 of the primary particles of the pigment is 1 to 100 nm. 顔料の含有量が0.05〜1質量%であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 1 to 5, wherein the pigment content is 0.05 to 1% by mass. SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、SnO 35〜70%、P 10〜30%を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の封着材料。 SnO-containing glass powder, as a glass composition, in mole%, SnO 35 to 70%, sealing according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it contains P 2 O 5 10~30% Landing material. SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、ZnOを1〜20モル%含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 1 to 7, wherein the SnO-containing glass powder contains 1 to 20 mol% of ZnO as a glass composition. SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、Bを1〜20モル%含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の封着材料。 SnO-containing glass powder, as a glass composition, a sealing material according to any one of claims 1-8, characterized in that it comprises a B 2 O 3 1 to 20 mol%. SnO含有ガラス粉末が、ガラス組成として、Alを0.1〜10モル%含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の封着材料。 SnO-containing glass powder, as a glass composition, a sealing material according to any one of claims 1-9, characterized in that it comprises Al 2 O 3 0.1 to 10 mol%. SnO含有ガラス粉末と耐火性フィラーの混合割合が、体積%で40〜99.9%:0.1〜60%であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の封着材料。   The mixing ratio of SnO containing glass powder and a refractory filler is 40-99.9% by volume%: 0.1-60%, The sealing as described in any one of Claims 1-10 characterized by the above-mentioned. Landing material. 耐火性フィラーとして、コーディエライト、ジルコン、酸化錫、酸化ニオブ、リン酸ジルコニウム系セラミック、NbZr(POから選ばれる一種又は二種以上を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の封着材料。 The refractory filler includes one or more selected from cordierite, zircon, tin oxide, niobium oxide, zirconium phosphate ceramic, and NbZr (PO 4 ) 3 . The sealing material as described in any one of Claims. 有機ELデバイスの封着に用いることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の封着材料。   The sealing material according to any one of claims 1 to 12, which is used for sealing an organic EL device. 封着材料とビークルを含むペースト材料において、
封着材料が請求項1〜13のいずれか一項に記載の封着材料であることを特徴とするペースト材料。
In paste materials including sealing materials and vehicles,
A paste material, wherein the sealing material is the sealing material according to any one of claims 1 to 13.
ビークルが、脂肪族ポリオレフィン系カーボネートを含むことを特徴とする請求項14に記載のペースト材料。   The paste material according to claim 14, wherein the vehicle includes an aliphatic polyolefin carbonate. ビークルが、更に、N,N’-ジメチルホルムアミド、エチレングリコール、ジメチルスルホキサイド、炭酸ジメチル、プロピレンカーボネート、ブチロラクトン、カプロラクトン、N-メチル−2−ピロリドン、フェニルジグリコール(PhDG)、フタル酸ジブチル(DBP)、ベンジルグリコール(BzG)、ベンジルジグリコール(BzDG)、フェニルグリコール(PhG)から選ばれる一種又は二種以上を含むことを特徴とする請求項14又は15に記載のペースト材料。   The vehicle further comprises N, N′-dimethylformamide, ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, dimethyl carbonate, propylene carbonate, butyrolactone, caprolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, phenyl diglycol (PhDG), dibutyl phthalate ( The paste material according to claim 14 or 15, comprising one or more selected from DBP), benzyl glycol (BzG), benzyl diglycol (BzDG), and phenyl glycol (PhG). 不活性雰囲気における脱バインダー処理に供されることを特徴とする請求項14〜16のいずれか一項に記載のペースト材料。   The paste material according to any one of claims 14 to 16, which is subjected to a binder removal treatment in an inert atmosphere. 不活性雰囲気におけるレーザ封着に供されることを特徴とする請求項14〜17のいずれか一項に記載のペースト材料。   The paste material according to any one of claims 14 to 17, which is used for laser sealing in an inert atmosphere. ペースト材料を焼成して、焼成膜を作製する焼成膜の作製方法であって、
焼成膜の表面粗さRaが0.6μm以下、表面粗さRMSが1.0μm以下になるように、請求項14〜18のいずれか一項に記載のペースト材料を焼成することを特徴とする焼成膜の作製方法。
A method for producing a fired film by firing a paste material to produce a fired film,
The paste material according to any one of claims 14 to 18 is fired so that the surface roughness Ra of the fired film is 0.6 μm or less and the surface roughness RMS is 1.0 μm or less. A method for producing a fired film.
請求項19に記載の焼成膜にレーザを照射して、レーザ封着を行うことを特徴とするレーザ封着方法。   20. A laser sealing method comprising performing laser sealing by irradiating the fired film according to claim 19 with a laser.
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