JP6069979B2 - Can roll with gas release mechanism, long substrate processing apparatus equipped with the same, and long substrate processing method using the same - Google Patents

Can roll with gas release mechanism, long substrate processing apparatus equipped with the same, and long substrate processing method using the same Download PDF

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本発明は、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を巻き付けて冷却するキャンロール及びこれを搭載した長尺基板の処理装置並びにこれを用いた長尺基板の処理方法に関し、特に、表面処理手段により熱負荷の掛かる表面処理を施す際に、長尺基板を外周面に巻き付けて冷却しながら該外周面に設けたガス放出孔から該外周面と長尺基板の隙間にガスの放出を行うガス放出機構付きキャンロール及びこれを搭載した長尺基板の処理装置並びにこれを用いた長尺基板の処理方法に関する。   The present invention relates to a can roll that winds and cools a long substrate conveyed by roll-to-roll in a vacuum chamber, a long substrate processing apparatus equipped with the can roll, and a long substrate processing method using the same. When the surface treatment is applied by the surface treatment means, the long substrate is wound around the outer peripheral surface and cooled, and the gas is discharged from the gas discharge hole provided in the outer peripheral surface to the gap between the outer peripheral surface and the long substrate. The present invention relates to a can roll with a gas release mechanism that performs discharge, a long substrate processing apparatus equipped with the can roll, and a long substrate processing method using the same.

液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話等には、耐熱性樹脂フィルムの上に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板が用いられている。このフレキシブル配線基板は、耐熱性樹脂フィルムの片面若しくは両面に金属膜を成膜した金属膜付耐熱性樹脂フィルムに、フォトリソグラフィーやエッチング等の薄膜技術を適用したパターニング処理を施すことによって得られる。近年、フレキシブル配線基板の配線パターンは、ますます繊細化、高密度化する傾向にあり、これに伴って金属膜付耐熱性樹脂フィルムには平坦でシワのないものが求められている。   In a liquid crystal panel, a notebook computer, a digital camera, a mobile phone, and the like, a flexible wiring board in which a wiring pattern is formed on a heat resistant resin film is used. This flexible wiring board is obtained by subjecting a heat-resistant resin film with a metal film to which a metal film is formed on one side or both sides of a heat-resistant resin film, by performing a patterning process using a thin film technique such as photolithography or etching. In recent years, the wiring patterns of flexible wiring boards tend to be more delicate and denser, and accordingly, heat-resistant resin films with metal films are required to be flat and free from wrinkles.

この種の金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造方法として、従来から、金属箔を接着剤により耐熱性樹脂フィルムに貼り付けて製造する方法(3層基板の製造方法)、金属箔に耐熱性樹脂溶液をコーティングした後、乾燥させて製造する方法(キャスティング法)、耐熱性樹脂フィルムに真空成膜法単独で、又は真空成膜法と湿式めっき法との併用で金属膜を成膜して製造する方法(メタライジング法)等が知られている。   As a manufacturing method of this kind of heat-resistant resin film with a metal film, conventionally, a method in which a metal foil is attached to a heat-resistant resin film with an adhesive (manufacturing method of a three-layer substrate), a heat-resistant resin on the metal foil After coating the solution, dry and manufacture (casting method), heat-resistant resin film by vacuum film formation method alone or in combination with vacuum film formation method and wet plating method. A method (metalizing method) or the like is known.

メタライジング法においては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等が真空成膜法として用いられている。例えば特許文献1には、ポリイミド支持基体にNi−Cr合金をスパッタリングしてから銅をスパッタリングし、得られた銅スパッタリング膜の表面に電解メッキ法で銅を成膜する技術が開示されている。このようなポリイミドなどの長尺フィルムからなる支持基体に対してスパッタリング成膜などの乾式めっき処理を行う場合は、スパッタリングフィルムコータを用いることが一般的である。   In the metalizing method, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an ion beam sputtering method or the like is used as the vacuum film forming method. For example, Patent Literature 1 discloses a technique in which a Ni—Cr alloy is sputtered onto a polyimide support base, copper is sputtered, and copper is formed on the surface of the obtained copper sputtering film by electrolytic plating. When performing a dry plating process such as sputtering film formation on a support base made of a long film such as polyimide, a sputtering film coater is generally used.

ところで、上記スパッタリング法は一般に密着力に優れる反面、真空蒸着法に比べて耐熱性樹脂フィルムに与える熱負荷が大きいといわれている。そして、成膜の際に耐熱性樹脂フィルムに大きな熱負荷がかかると、フィルムにシワが発生し易くなることも知られている。このシワの発生を防ぐため、金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造装置であるスパッタリングフィルムコータでは、冷却機能を備えた回転駆動されるキャンロールの外周面にロールツーロールで搬送される耐熱性樹脂フィルムを巻き付けることによってスパッタリング処理中の耐熱性樹脂フィルムをその裏面側から冷却することが行われている。   By the way, although the said sputtering method is generally excellent in adhesive force, it is said that the heat load given to a heat resistant resin film is large compared with the vacuum evaporation method. It is also known that when a large heat load is applied to the heat resistant resin film during film formation, the film is likely to be wrinkled. In order to prevent the generation of wrinkles, a sputtering film coater, which is a manufacturing apparatus for heat-resistant resin films with a metal film, uses a roll-to-roll heat-resistant resin conveyed to the outer peripheral surface of a rotationally driven can roll having a cooling function. Cooling the heat-resistant resin film during the sputtering process from its back side by winding the film.

例えば特許文献2には、スパッタリングウェブコータの一例である巻出巻取式(ロールツーロール方式)の真空スパッタリング装置が開示されている。この巻出巻取式の真空スパッタリング装置には、上記キャンロールの役割を担うクーリングロールが具備されている。更に、クーリングロールの少なくともフィルム送入れ側若しくは送出し側にサブロールが設けられており、これにより耐熱性の長尺樹脂フィルムをクーリングロールに密着する制御が行われている。   For example, Patent Document 2 discloses an unwinding type (roll-to-roll type) vacuum sputtering apparatus which is an example of a sputtering web coater. The unwinding / winding-type vacuum sputtering apparatus includes a cooling roll that plays the role of the can roll. Further, a sub-roll is provided on at least the film feeding side or the feeding side of the cooling roll, thereby controlling the heat-resistant long resin film in close contact with the cooling roll.

しかしながら、キャンロールの外周面はミクロ的に見て平坦ではないため、キャンロールの外周面とそこに巻き付けて搬送される長尺樹脂フィルムとの間には真空空間を介して離間するギャップ部(間隙)が存在している。このギャップ部のため、スパッタリングや蒸着の際に長尺樹脂フィルムに加わった熱は実際には長尺樹脂フィルムからキャンロールに効率よく伝熱されているとはいえず、これが長尺樹脂フィルムのシワ発生の原因になっていた。   However, since the outer peripheral surface of the can roll is not flat when viewed microscopically, a gap portion (via a vacuum space) is separated between the outer peripheral surface of the can roll and the long resin film that is wound around the outer peripheral surface of the can roll. Gap) exists. Because of this gap portion, the heat applied to the long resin film during sputtering and vapor deposition cannot actually be efficiently transferred from the long resin film to the can roll. It was the cause of wrinkles.

この問題を解決するため、キャンロールの外周面と長尺樹脂フィルムとの間のギャップ部にキャンロール側からガスを導入して、当該ギャップ部の熱伝導率を真空に比べて高くする技術が提案されている。例えば特許文献3には、フィルムと支持手段であるキャンロールの外周面との間に1箇所のガス導入用ノズルからガスを導入し、熱伝導を改善する技術が開示されている。しかし、一箇所だけに設けたガス導入用のノズルのみで支持手段とそこに巻き付けたフィルムとの隙間にガス供給することは困難であり、制御も難しくなることが懸念される。   In order to solve this problem, there is a technique for introducing a gas from the can roll side into the gap portion between the outer peripheral surface of the can roll and the long resin film so that the thermal conductivity of the gap portion is higher than that of the vacuum. Proposed. For example, Patent Document 3 discloses a technique for improving heat conduction by introducing a gas from one gas introduction nozzle between a film and the outer peripheral surface of a can roll as a support means. However, it is difficult to supply the gas to the gap between the support means and the film wound around the gas introducing nozzle provided only in one place, and there is a concern that the control becomes difficult.

そこで、特許文献4には、キャンロールの外周面に全周に亘ってガスの供給を行う多数の微細な孔(ガス放出孔)を設けることで上記ギャップ部にキャンロール側からガスを導入する技術が開示されている。しかし、この場合は、キャンロールの外周面のうちフィルムが巻き付けられていない領域はフィルムが巻き付けられている領域に比べてガス放出孔での抵抗が低くなるため、キャンロールに供給されるガスのほとんどがこのフィルムの巻き付けられていない領域のガス放出孔を経て真空チャンバーの空間に放出されてしまう。その結果、キャンロールの外周面とそこに巻き付けられているフィルムとの間のギャップ部に本来導入されるべき量のガスが供給されなくなって、熱伝導率を高める効果が得られなくなることがあった。   Therefore, Patent Document 4 introduces gas from the can roll side into the gap portion by providing a large number of fine holes (gas discharge holes) for supplying gas over the entire circumference on the outer peripheral surface of the can roll. Technology is disclosed. However, in this case, the resistance of the gas discharge hole is lower in the outer surface of the can roll where the film is not wound than in the region where the film is wound. Most of the gas is discharged into the space of the vacuum chamber through the gas discharge holes in the area where the film is not wound. As a result, an amount of gas that should be originally introduced into the gap between the outer peripheral surface of the can roll and the film wound around the can roll is not supplied, and the effect of increasing the thermal conductivity may not be obtained. It was.

このフィルムの巻き付けられていない領域からのガス放出の問題に対しては、当該フィルムの巻き付けられない領域にカバーを取り付けて、この領域からチャンバーにガスが放出されるのを防止し、これによりキャンロールの外周面とそこに巻き付けられたフィルムとの間のギャップ部に良好にガスを導入する方法(特許文献5)などが提案されている。   For the problem of outgassing from the unwrapped area of the film, a cover is attached to the unwrapped area of the film to prevent gas from being released into the chamber from this area, thereby There has been proposed a method (Patent Document 5) or the like in which gas is favorably introduced into a gap portion between an outer peripheral surface of a roll and a film wound around the roll.

特開平6−120630号公報JP-A-6-120630 特開昭62−247073号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-247073 特開平1−152262号公報JP-A-1-152262 国際公開第WO2005/001157号パンフレットInternational Publication No. WO2005 / 001157 pamphlet 国際公開第WO2002/070778号パンフレットInternational Publication No. WO2002 / 070778 Pamphlet

減圧雰囲気下でロールツーロールで搬送される長尺基板をキャンロールの外周面に巻きつけて冷却しながらその表面に熱負荷の掛かる処理を施す装置において、効率のよい冷却を行うべくキャンロールの外周面とそこに巻き付けられた長尺基板の隙間にキャンロールの外周面からガスを導入する場合、長尺基板は当該外周面から浮上した状態で搬送されることになる。   In a device that applies a heat load to the surface of a long substrate that is transported roll-to-roll in a reduced pressure atmosphere around the outer surface of the can roll and cools it, When gas is introduced from the outer peripheral surface of the can roll into the gap between the outer peripheral surface and the long substrate wound therearound, the long substrate is transported in a state of floating from the outer peripheral surface.

発明者は、この浮上した状態での搬送の際、長尺基板がキャンロールの外周面から離間する距離が、外周面の周方向において略一定とはならない場合が生じることを確認した。すなわち、長尺基板が巻き付けられるキャンロールの外周面のうち、周方向におけるある角度範囲では長尺基板が局所的に盛り上がったり、逆に局所的に浮上せずに外周面に密着したりすることがあった。   The inventor has confirmed that the distance at which the long substrate is separated from the outer peripheral surface of the can roll may not be substantially constant in the circumferential direction of the outer peripheral surface during conveyance in the floating state. That is, out of the outer peripheral surface of the can roll around which the long substrate is wound, the long substrate is locally raised in a certain angular range in the circumferential direction, or conversely, does not float locally and adheres to the outer peripheral surface. was there.

キャンロールの外周面から離間する長尺基板の距離が当該外周面の周方向で略一定になっていない状態は、長尺基板の搬送上の問題が生じたり、長尺基板の表面に一定の品質で処理を施すことができなかったりする問題に繋がるおそれがある。しかも、キャンロールの外周面から長尺基板が局所的に盛り上がったり密着したりする位置は、長尺基板を装着する度ごとに異なるため、事前にキャンロール等を調整しておくことができなかった。   When the distance of the long substrate that is separated from the outer peripheral surface of the can roll is not substantially constant in the circumferential direction of the outer peripheral surface, a problem in transporting the long substrate may occur or the surface of the long substrate may be constant. There is a possibility that it may lead to a problem that processing cannot be performed with quality. In addition, the position where the long substrate locally rises and adheres from the outer peripheral surface of the can roll differs every time the long substrate is mounted, so the can roll cannot be adjusted in advance. It was.

本発明は上記の状況に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、効率のよい冷却を行うべくキャンロールの外周面からガスを放出して当該外周面とそこに巻き付けられる長尺基板との隙間にガスを導入することにより、キャンロールの外周面から長尺基板を浮上させて搬送する場合において、キャンロールの外周面から長尺基板が離間する距離を外周面の周方向で略一定にすることを可能にする技術を提案することにある。   The present invention has been made in view of the above situation, and the problem is that the gas is discharged from the outer peripheral surface of the can roll so as to perform efficient cooling, and the outer peripheral surface is wound around the long peripheral surface. When a long substrate is lifted and transported from the outer peripheral surface of the can roll by introducing gas into the gap with the substrate, the distance that the long substrate is separated from the outer peripheral surface of the can roll in the circumferential direction of the outer peripheral surface. The purpose is to propose a technique that makes it possible to maintain a substantially constant value.

本発明が提供するキャンロールは、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に巻き付けて冷却するキャンロールと、該キャンロールの外周面のうち該長尺基板が巻き付けられる領域に対向して配された熱負荷の掛かる表面処理を施す表面処理手段と、該キャンロールの外周面に巻き付けられている長尺基板が周方向において局所的に膨らんだり密着したりしている角度範囲を定めることが可能な非接触式の変位測定手段とを備えた長尺基板の処理装置であって、該キャンロールは、前記外周面側に開口する複数のガス放出孔を各々有する複数のガス導入路が周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って設けられており、各ガス導入路の両端部には、互いに並列関係にあり且つ各々バルブを備えた2本のガス供給ラインがそれぞれ連通しており、これら2本のガス供給ラインのバルブの操作により前記真空チャンバーの外部から個々のガス導入路へのガスの供給が調整自在であることによってガス導入路ごとにガスの放出量を変化させ得るものであることを特徴としている。 The can roll provided by the present invention is a can roll that winds and cools a long substrate conveyed by roll-to-roll in a vacuum chamber around the outer peripheral surface, and the long substrate is wound around the outer peripheral surface of the can roll. A surface treatment means for applying a surface treatment to which a heat load is applied, which is arranged opposite to the region, and a long substrate wound around the outer peripheral surface of the can roll are locally expanded or adhered in the circumferential direction. An apparatus for processing a long substrate comprising a non-contact type displacement measuring means capable of determining an angle range , wherein the can roll has a plurality of gas discharge holes each opening on the outer peripheral surface side. Gas introduction passages are provided over the entire circumference at substantially equal intervals in the circumferential direction, and two gases that are in parallel with each other and have valves are provided at both ends of each gas introduction passage. Supply line in communication with each gas to each gas inlet passage by the supply of gas by the operation of the valve of the two gas supply lines from the outside of the vacuum chamber to the individual gas introduction passage is adjustable It is characterized in that it can change the amount of release .

本発明によれば、キャンロールの外周面から長尺基板が離間する距離を外周面の周方向で略一定にすることができ、これによりばらつきのない高品質の金属膜付耐熱性樹脂フィルムを高い歩留まりで作製することが可能となる。   According to the present invention, the distance at which the long substrate is separated from the outer peripheral surface of the can roll can be made substantially constant in the circumferential direction of the outer peripheral surface, whereby a high-quality heat-resistant resin film with a metal film can be obtained. It can be manufactured with a high yield.

本発明に係るキャンロールが好適に使用されるロールツーロール方式の長尺基板処理装置の一具体例を示す模式的に示す正面図である。It is a front view showing typically a specific example of a roll-to-roll type long substrate processing apparatus in which a can roll concerning the present invention is used suitably. 本発明の一具体例のキャンロールをその回転中心軸と平行な面で切断したときの切断図である。It is a cutting figure when the can roll of one specific example of this invention is cut | disconnected by the surface parallel to the rotation center axis | shaft. 図2に示す円筒部材の斜視図である。It is a perspective view of the cylindrical member shown in FIG. 図2のキャンロールが具備するバルブの開閉状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the opening-and-closing state of the valve | bulb which the can roll of FIG. 2 comprises. 実施例1の条件におけるキャンロールの外周面上の長尺樹脂フィルムの状態を回転中心軸方向から見たときの模式図である。It is a schematic diagram when the state of the long resin film on the outer peripheral surface of the can roll under the conditions of Example 1 is viewed from the direction of the rotation center axis. 実施例2の条件におけるキャンロールの外周面上の長尺樹脂フィルムの状態を回転中心軸方向から見たときの模式図である。It is a schematic diagram when the state of the elongate resin film on the outer peripheral surface of the can roll on the conditions of Example 2 is seen from the rotation center axis direction. 実施例3の条件におけるキャンロールの外周面上の長尺樹脂フィルムの状態を回転中心軸方向から見たときの模式図である。It is a schematic diagram when the state of the elongate resin film on the outer peripheral surface of the can roll on the conditions of Example 3 is seen from the rotation center axis direction.

先ず、本発明に係るキャンロールが好適に搭載される長尺基板の処理装置であるロールツーロール方式のスパッタリング装置について説明する。このスパッタリング装置は、長尺基板である長尺樹脂フィルムをロールツーロールで搬送し、搬送経路としてのキャンロールの外周面に巻き付けて冷却しながら当該キャンロールの外周面に対向して設けられたスパッタリングカソードで長尺樹脂フィルムに熱負荷の掛かる表面処理であるスパッタリング成膜処理を施す装置である。   First, a roll-to-roll sputtering apparatus that is a processing apparatus for a long substrate on which a can roll according to the present invention is preferably mounted will be described. This sputtering apparatus was provided to face the outer peripheral surface of the can roll while transporting a long resin film, which is a long substrate, by roll-to-roll, wrapping around the outer peripheral surface of the can roll as a transport path and cooling. This is an apparatus for performing a sputtering film forming process, which is a surface process that applies a thermal load to a long resin film with a sputtering cathode.

図1を参照しながら具体的に説明すると、このロールツーロール方式のスパッタリング装置10は、ロール状に巻かれた長尺樹脂フィルムFが巻き出される巻出しロール13と、長尺樹脂フィルムFを巻き付けて冷却する外周面を有するキャンロール14と、長尺樹脂フィルムFの搬送経路に関してキャンロール14の直前及び直後にそれぞれ設けられた前フィードロール16a及び後フィードロール16bと、キャンロール14の上流側を走行する長尺樹脂フィルムFの張力及びキャンロール14の下流側を走行する成膜処理された長尺樹脂フィルムSの張力をそれぞれ測定する張力センサーを備えたテンションロール17a及び17bと、成膜処理された長尺樹脂フィルムSを巻き取る巻取りロール18とを有している。   Specifically, referring to FIG. 1, this roll-to-roll sputtering apparatus 10 includes an unwinding roll 13 from which a long resin film F wound in a roll shape is unwound, and a long resin film F. A can roll 14 having an outer peripheral surface to be wound and cooled, a front feed roll 16a and a rear feed roll 16b provided immediately before and immediately after the can roll 14 with respect to the transport path of the long resin film F, and upstream of the can roll 14 Tension rolls 17a and 17b having tension sensors for measuring the tension of the long resin film F traveling on the side and the tension of the film-treated long resin film S traveling on the downstream side of the can roll 14, respectively. And a winding roll 18 for winding the long resin film S subjected to the film treatment.

これら巻出しロール13、キャンロール14、前フィードロール16a及び後フィードロール16b、テンションロール17a及び17b、並びに巻取りロール18が搬送手段を構成し、このうち巻出しロール13、キャンロール14、前フィードロール16a、及び巻取りロール18が、各々サーボモータなどの回転駆動手段によって回転せしめられる。更に、巻出しロール13及び巻取りロール18にはパウダークラッチ等のトルク制御手段が設けられており、これにより搬送中の長尺樹脂フィルムF及びSの張力バランスが保たれる。なお、テンションロール17a及び17b、並びにキャンロール14は、外周面が硬質クロムめっきで仕上げられている。   The unwinding roll 13, the can roll 14, the front feed roll 16a and the rear feed roll 16b, the tension rolls 17a and 17b, and the take-up roll 18 constitute a conveying means. Among these, the unwinding roll 13, the can roll 14, and the front roll The feed roll 16a and the take-up roll 18 are each rotated by rotation driving means such as a servo motor. Furthermore, the unwinding roll 13 and the winding roll 18 are provided with torque control means such as a powder clutch, whereby the tension balance of the long resin films F and S being conveyed is maintained. The tension rolls 17a and 17b and the can roll 14 have outer peripheral surfaces finished with hard chrome plating.

スパッタリング装置10には、更にキャンロール14の外周面に巻き付けられた長尺樹脂フィルムFにスパッタリング成膜処理を施して、成膜された長尺樹脂フィルムSを形成する4つのスパッタリングカソード15a〜15dが設けられている。これらスパッタリングカソード15a〜dは、例えばマグネトロンカソード式であり、キャンロール14の外周面の搬送経路に沿って当該外周面に対向するように配置されている。なお、スパッタリングカソード15a〜dにおいて、長尺樹脂フィルムFの搬送方向に直交する方向の寸法は、当該長尺樹脂フィルムFの巾より広ければよい。   In the sputtering apparatus 10, four sputtering cathodes 15 a to 15 d for forming a long resin film S by performing a sputtering film forming process on the long resin film F wound around the outer peripheral surface of the can roll 14. Is provided. These sputtering cathodes 15 a to 15 d are of, for example, a magnetron cathode type, and are disposed so as to face the outer peripheral surface along the conveyance path of the outer peripheral surface of the can roll 14. In the sputtering cathodes 15a to 15d, the dimension in the direction orthogonal to the conveying direction of the long resin film F only needs to be wider than the width of the long resin film F.

上記したスパッタリング装置10の構成要素は、筐体としての略直方体形状の真空チャンバー12に収納されており、これにより長尺樹脂フィルムFを減圧雰囲気下において搬送しながら連続的に表面処理することが可能になる。このようにスパッタリング法で成膜する場合は、真空チャンバー12内は10−4Pa〜10−3Paの範囲内の圧力まで減圧される(この減圧により達成する最小の圧力を到達圧力という)。 The above-described components of the sputtering apparatus 10 are accommodated in a substantially rectangular parallelepiped vacuum chamber 12 as a casing, thereby enabling continuous surface treatment while transporting the long resin film F in a reduced-pressure atmosphere. It becomes possible. Thus, when forming into a film by sputtering method, the inside of the vacuum chamber 12 is pressure-reduced to the pressure in the range of 10 < -4 > Pa-10 < -3 > Pa (the minimum pressure achieved by this pressure reduction is called ultimate pressure).

到達圧力まで減圧された後、真空チャンバー12内にはスパッタリングガス(アルゴン)が導入されて10−1Pa〜約1Paの範囲内の圧力に維持される。この状態でスパッタリングが行われる。なお、図1では真空チャンバー12は直方体状で示されているが、真空チャンバー12内を10−4Pa〜10Pa程度の減圧状態に保持できるのであればこの形状に限定されるものではなく、円筒状などの他の形状でも良い。 After the pressure is reduced to the ultimate pressure, sputtering gas (argon) is introduced into the vacuum chamber 12 and maintained at a pressure in the range of 10 −1 Pa to about 1 Pa. Sputtering is performed in this state. In FIG. 1, the vacuum chamber 12 is shown in a rectangular parallelepiped shape, but the shape is not limited to this shape as long as the inside of the vacuum chamber 12 can be maintained in a reduced pressure of about 10 −4 Pa to 10 Pa. Other shapes such as a shape may be used.

次に、上記キャンロール14について図2を参照しながらより詳しく説明する。キャンロール14は、円筒部材20とその回転中心軸O部分に設けられた回転軸21とで構成されている。回転軸21は、その両端部に設けられた回転軸受け22で回転可能に支持されており、図示しない駆動装置で回転中心軸Oを中心として回転せしめられる。この円筒部材20の外周面20aにロールツーロールで搬送される長尺樹脂フィルムFが巻き付けられる。   Next, the can roll 14 will be described in more detail with reference to FIG. The can roll 14 includes a cylindrical member 20 and a rotation shaft 21 provided at the rotation center axis O portion. The rotating shaft 21 is rotatably supported by rotating bearings 22 provided at both ends of the rotating shaft 21, and is rotated around the rotation center axis O by a driving device (not shown). The long resin film F conveyed by roll-to-roll is wound around the outer peripheral surface 20a of the cylindrical member 20.

円筒部材20の内表面側には、冷却水などの冷媒が流通する例えばジャケット構造の冷媒循環部23が設けられており、また、回転軸21は二重配管構造になっていて冷媒が出入りする2つの流路が形成されている。これにより、これら流路を介して真空チャンバー12の外部に設けられた図示しない冷媒冷却装置と冷媒循環部23との間で冷媒を循環させることができ、キャンロール14の外周面(すなわち、円筒部材20の外周面20a)の温度を略一定に調節することが可能となる。   On the inner surface side of the cylindrical member 20, there is provided, for example, a jacket-structured refrigerant circulation portion 23 through which a refrigerant such as cooling water circulates, and the rotary shaft 21 has a double pipe structure so that the refrigerant enters and exits. Two flow paths are formed. Accordingly, the refrigerant can be circulated between the refrigerant cooling device (not shown) provided outside the vacuum chamber 12 and the refrigerant circulation portion 23 through these flow paths, and the outer peripheral surface of the can roll 14 (that is, the cylinder) It becomes possible to adjust the temperature of the outer peripheral surface 20a) of the member 20 to be substantially constant.

円筒部材20の外周部分には、図3に示すように、周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って複数のガス導入路24が穿設されている。各ガス導入路24は、円筒部材20の回転中心線O方向に平行に延在しており且つ円筒部材20の外周部分の肉厚部を貫通して両端部が開口している。ガス導入路24の本数やキャンロール14の伝熱性などを考慮してガス導入路24の内径や隣接するガス導入路24とのピッチが適宜選択されるが、内径5mm程度であれば公知のガンドリルなどで容易に深穴加工を行うことができる。   As shown in FIG. 3, a plurality of gas introduction passages 24 are formed in the outer peripheral portion of the cylindrical member 20 over the entire circumference at substantially equal intervals in the circumferential direction. Each gas introduction path 24 extends in parallel with the direction of the rotation center line O of the cylindrical member 20, and penetrates the thick portion of the outer peripheral portion of the cylindrical member 20 and both ends are open. The inner diameter of the gas introduction path 24 and the pitch with the adjacent gas introduction path 24 are appropriately selected in consideration of the number of the gas introduction paths 24 and the heat transfer property of the can roll 14. For example, deep hole machining can be easily performed.

各ガス導入路24は、更に円筒部材20の外周面20aに開口する複数のガス放出孔25を有している。これら複数のガス放出孔25は、図3に示すように、円筒部材20の回転中心線O方向に沿って略均等な間隔をあけて穿設されている。各ガス放出孔25の内径は100μm以上400μmが望ましい。この内径が100μ未満ではガス放出孔25の加工が困難になる。一方、この内径が400μmを越えると長尺基板とキャンロール間の伝熱が難しくなることがある。ガス放出孔25の穴あけ加工はドリルやレーザー加工で行うことができる。   Each gas introduction path 24 further has a plurality of gas discharge holes 25 that open to the outer peripheral surface 20 a of the cylindrical member 20. As shown in FIG. 3, the plurality of gas discharge holes 25 are formed at substantially equal intervals along the rotation center line O direction of the cylindrical member 20. The inner diameter of each gas discharge hole 25 is preferably 100 μm or more and 400 μm. If the inner diameter is less than 100 μm, it is difficult to process the gas discharge hole 25. On the other hand, if the inner diameter exceeds 400 μm, heat transfer between the long substrate and the can roll may be difficult. Drilling of the gas discharge hole 25 can be performed by drilling or laser processing.

上記複数のガス導入路24に、後述するロータリージョイントを介して真空チャンバー12の外部からH、He、Ar等のガスが供給される。これにより、各ガス導入路24が有する複数のガス放出孔25から放出されるガスがキャンロール14の外周面とそこに巻き付けられる長尺樹脂フィルムFとの間に導入され、熱伝導度が向上して長尺樹脂フィルムFを良好に冷却することが可能となる。 Gases such as H 2 , He, and Ar are supplied to the plurality of gas introduction paths 24 from the outside of the vacuum chamber 12 through a rotary joint described later. Thereby, the gas discharge | released from the several gas discharge hole 25 which each gas introduction path 24 has is introduce | transduced between the outer peripheral surface of the can roll 14, and the elongate resin film F wound around there, and thermal conductivity improves. Thus, the long resin film F can be cooled satisfactorily.

ところで、キャンロール14の外周面は前述したように硬質クロムめっき処理をされているため、目視では凹凸は確認できないが、サブμmからμmオーダーでの微細な凹凸が無数に存在している。これらの凹凸によりキャンロール14の外周面に長尺樹脂フィルムFが巻き付いている場合であっても当該外周面と長尺樹脂フィルムFとの間には微細な隙間が存在することになる。   By the way, since the outer peripheral surface of the can roll 14 has been subjected to the hard chrome plating process as described above, the unevenness cannot be visually confirmed, but there are innumerable fine unevenness in the order of sub μm to μm. Even if the long resin film F is wound around the outer peripheral surface of the can roll 14 due to these irregularities, a fine gap exists between the outer peripheral surface and the long resin film F.

ガス放出孔25から放出されたH等のガスは、このキャンロール14の外周面とそこに巻き付けられる長尺樹脂フィルムFとの間の隙間に流れ込む。そして、隙間を拡張させて長尺樹脂フィルムFをキャンロール14の外周面から浮上させる。このような長尺樹脂フィルムFのキャンロール14の外周面からの浮上は、主にキャンロール14の雰囲気の圧力やキャンロール14の半径、更には長尺樹脂フィルムFの張力と幅の影響を受ける。 A gas such as H 2 discharged from the gas discharge hole 25 flows into the gap between the outer peripheral surface of the can roll 14 and the long resin film F wound around the outer surface. Then, the gap is expanded and the long resin film F is floated from the outer peripheral surface of the can roll 14. Such floating of the long resin film F from the outer peripheral surface of the can roll 14 is mainly influenced by the pressure of the atmosphere of the can roll 14, the radius of the can roll 14, and the tension and width of the long resin film F. receive.

具体的には、キャンロール14の雰囲気の圧力と長尺樹脂フィルムFがその張力によりキャンロール14の外周面に密着しようとする力Nとの合計よりも高い圧力で上記隙間にガスが導入されると、長尺樹脂フィルムFはキャンロール14の外周面から浮上する。ここで、長尺樹脂フィルムFがその張力によりキャンロール14の外周面に密着しようとする力Nは、キャンロール14の半径をR、長尺樹脂フィルムFの張力をT、その幅をWとすると次の関係式から求めることができる。   Specifically, the gas is introduced into the gap at a pressure higher than the sum of the pressure in the atmosphere of the can roll 14 and the force N at which the long resin film F tends to adhere to the outer peripheral surface of the can roll 14 by its tension. Then, the long resin film F floats from the outer peripheral surface of the can roll 14. Here, the force N that the long resin film F tries to adhere to the outer peripheral surface of the can roll 14 by its tension is expressed as follows: the radius of the can roll 14 is R, the tension of the long resin film F is T, and the width is W. Then, it can obtain | require from the following relational expression.

N=T/(R×W)   N = T / (R × W)

なお、キャンロール14の内部には前述したように冷媒循環部23が設けられているので、キャンロール14とその外周面に巻き付けられた長尺樹脂フィルムFとの間に形成される隙間にガスが導入されると、長尺樹脂フィルムFからキャンロール14への伝熱が阻害されるとも思われる。しかし、10Pa以下の減圧雰囲気下では物体間の伝熱は輻射熱のみになるのに対して、本発明に係るキャンロール14では隙間にガスを導入することにより当該ガスによる対流伝熱が付加されるので、より効率的に長尺樹脂フィルムFからキャンロール14に熱を伝えることが可能となる。   In addition, since the refrigerant circulation part 23 is provided inside the can roll 14 as described above, a gas is formed in a gap formed between the can roll 14 and the long resin film F wound around the outer peripheral surface thereof. It is considered that heat transfer from the long resin film F to the can roll 14 is hindered. However, in a reduced pressure atmosphere of 10 Pa or less, heat transfer between objects is only radiant heat, whereas in the can roll 14 according to the present invention, convection heat transfer by the gas is added by introducing the gas into the gap. Therefore, it becomes possible to transmit heat from the long resin film F to the can roll 14 more efficiently.

更に、上記隙間にガスが導入されて隙間が拡張すると、キャンロール14の外周面と長尺樹脂フィルムFの間の摩擦が低減する。その結果、長尺樹脂フィルムFに熱負荷が掛けられて膨張しても外周面に拘束されることがなくなるので、シワの発生を防ぐことができる。   Furthermore, when gas is introduced into the gap and the gap is expanded, friction between the outer peripheral surface of the can roll 14 and the long resin film F is reduced. As a result, even if a thermal load is applied to the long resin film F and it expands, it is not restrained by the outer peripheral surface, so that generation of wrinkles can be prevented.

上記したように、キャンロール14の外周面と長尺樹脂フィルムFの隙間にガスを導入して外周面から長尺樹脂フィルムFを浮上させながら搬送する場合、長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から浮上する高さは周方向において略一定であることが望ましい。しかしながら、実際には浮上する高さは周方向においてばらつくことがある。   As described above, when gas is introduced into the gap between the outer peripheral surface of the can roll 14 and the long resin film F and the long resin film F is conveyed while floating from the outer peripheral surface, the long resin film F is transferred to the can roll 14. It is desirable that the height rising from the outer peripheral surface is substantially constant in the circumferential direction. However, in actuality, the flying height may vary in the circumferential direction.

すなわち、長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から局所的に大きく浮上して膨らんだ状態となったり、逆にキャンロール14の外周面に局所的に密着したりすることがあった。しかも、このような局所的な膨らみや密着が発生する位置は、キャンロール14の外周面の周方向において同じ角度範囲で毎回発生するとは限らず、長尺樹脂フィルムFのロット間の差や搬送速度等の諸条件で発生の有無や発生する位置が異なることがあった。   That is, the long resin film F may be in a state where it has been locally levitated and swollen locally from the outer peripheral surface of the can roll 14, or conversely, it may be in close contact with the outer peripheral surface of the can roll 14. In addition, the position where such local bulge or adhesion occurs is not always generated in the same angular range in the circumferential direction of the outer peripheral surface of the can roll 14, and the difference between the lots of the long resin film F and the conveyance Occurrence and location of occurrence may differ depending on various conditions such as speed.

本発明の発明者は、このようなキャンロール14の外周面に巻き付けられる長尺樹脂フィルムFの周方向における局所的な膨らみや密着を是正するために鋭意研究を行った結果、キャンロール14の外周面からガス放出孔25を介して放出させるガスをキャンロール14の全周に亘って均一に放出するのではなく、周方向に配設したガス導入路24ごとにガスの放出量を変化させ得るようにすることにより、上記局所的な膨らみや密着を抑え得ることを見出した。   The inventor of the present invention, as a result of earnest research to correct local swelling and adhesion in the circumferential direction of the long resin film F wound around the outer peripheral surface of such a can roll 14, The gas discharged from the outer peripheral surface through the gas discharge hole 25 is not discharged uniformly over the entire circumference of the can roll 14, but the gas discharge amount is changed for each gas introduction path 24 arranged in the circumferential direction. It has been found that the above-mentioned local swelling and adhesion can be suppressed by obtaining.

すなわち、本発明の一具体例のスパッタリング装置10では、上記した複数のガス導入路24の各々が、互いに並列関係にある2つのガス供給ラインを介して真空チャンバー12の外部からガスが供給させるようになっている。これら2つのガス供給ラインは、各々バルブを有しており、当該バルブを適宜操作することにより真空チャンバー12の外部からのガスをこれら2本のガス供給ラインの両方から又はいずれか一方だけから供給したり、あるいは当該ガスの供給を停止したりすることが可能となり、よって長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から浮上する高さを周方向において略一定にすることが可能となる。   That is, in the sputtering apparatus 10 of one specific example of the present invention, each of the plurality of gas introduction paths 24 is configured to supply gas from the outside of the vacuum chamber 12 via two gas supply lines that are in parallel with each other. It has become. Each of these two gas supply lines has a valve, and by appropriately operating the valve, gas from the outside of the vacuum chamber 12 is supplied from both or only one of these two gas supply lines. Or the supply of the gas can be stopped, so that the height at which the long resin film F floats from the outer peripheral surface of the can roll 14 can be made substantially constant in the circumferential direction.

具体的に説明すると、図2に示すように、キャンロール14には筒状部材20の両側面にそれぞれ第1ロータリージョイント30及び第2ロータリージョイント40がそれぞれ設けられている。これら第1及び第2ロータリージョイント30、40はほぼ同じ構成を有しており機能も同等であるので、以下、第1ロータリージョイント30について説明する。なお、以下に示す第1ロータリージョイント30の符号31〜37が指し示す構成要素は、それぞれ第2ロータリージョイント40の符号41〜47が指し示す構成要素に対応している。   More specifically, as shown in FIG. 2, the can roll 14 is provided with a first rotary joint 30 and a second rotary joint 40 on both side surfaces of the tubular member 20, respectively. Since these first and second rotary joints 30 and 40 have substantially the same configuration and the same functions, the first rotary joint 30 will be described below. Note that the constituent elements indicated by reference numerals 31 to 37 of the first rotary joint 30 shown below correspond to the constituent elements indicated by reference numerals 41 to 47 of the second rotary joint 40, respectively.

第1ロータリージョイント30は、1対の回転リングユニット31と固定リングユニット32とから構成されている。回転リングユニット31は、円筒部材20の側部に同心円状に取り付けられており、回転中心軸Oを中心として円筒部材20と共に回転するようになっている。一方、固定リングユニット32は、図示しない支持部材等で動かないように固定されている。これら回転リングユニット31及び固定リングユニット32は、互いに対向する部分にそれぞれ摺接面を有しており、回転リングユニット31が回転する際、これら摺接面同士で摺接するようになっている。   The first rotary joint 30 includes a pair of rotating ring units 31 and a fixed ring unit 32. The rotating ring unit 31 is concentrically attached to the side portion of the cylindrical member 20, and rotates with the cylindrical member 20 about the rotation center axis O. On the other hand, the fixed ring unit 32 is fixed so as not to move by a support member (not shown). The rotating ring unit 31 and the fixed ring unit 32 have sliding contact surfaces at portions facing each other. When the rotating ring unit 31 rotates, the sliding contact surfaces come into sliding contact with each other.

回転リングユニット31内には、ガス導入路24の本数と同じ本数のガス供給ライン33が放射状に設けられている。そして、各ガス供給ライン33の一端部は個別のバルブ35を介して同じ角度位置にあるガス導入路24の一方の開口部に連通しており、他端部は回転リングユニット31の摺接面で開口している。なお、ガス導入路24のもう一方の開口部に第2ロータリージョイント40側のガス供給ライン43が個別のバルブ45を介して連通している。   In the rotating ring unit 31, the same number of gas supply lines 33 as the number of the gas introduction paths 24 are provided radially. One end of each gas supply line 33 communicates with one opening of the gas introduction path 24 at the same angular position via an individual valve 35, and the other end is a slidable contact surface of the rotary ring unit 31. It is open at. A gas supply line 43 on the second rotary joint 40 side communicates with the other opening of the gas introduction path 24 via an individual valve 45.

固定リングユニット32内には真空チャンバー12の外部のガス供給源(図示せず)に接続部36aを介して連通する1本のガス分配路36が形成されており、このガス分配路36は、前述した摺接面で開口する複数のガス供給ライン33の開口部が回転により形成する環状領域に対向するように、該摺接面で環状に開口している。これにより真空チャンバー12の外部から供給されるガスを分配して各ガス導入路24に供給することが可能となる。   In the fixed ring unit 32, one gas distribution path 36 communicating with a gas supply source (not shown) outside the vacuum chamber 12 through a connection portion 36a is formed. The plurality of gas supply lines 33 that open at the sliding contact surfaces are annularly opened at the sliding contact surfaces such that the openings of the gas supply lines 33 face the annular region formed by rotation. As a result, the gas supplied from the outside of the vacuum chamber 12 can be distributed and supplied to each gas introduction path 24.

次に、バルブ35について図4(a)、(b)を参照しながら説明する。図4(a)に示すように、バルブ35は、弁体50と、その端部に設けたシャフト51と、このシャフト51の弁体50とは反対側に設けられた磁石部52と、シャフト51に巻回するスプリング53とから構成される。弁体50は、ガス供給ライン33を開放させる開位置(図4(a))と、ガス供給ライン33を閉塞させる閉位置(図4(b))との間で往復自在になっており、且つスプリング53によって開位置に向けて付勢されている。   Next, the valve 35 will be described with reference to FIGS. 4 (a) and 4 (b). As shown in FIG. 4A, the valve 35 includes a valve body 50, a shaft 51 provided at an end thereof, a magnet portion 52 provided on the opposite side of the valve body 50 from the shaft 51, and a shaft. And a spring 53 wound around 51. The valve body 50 can reciprocate between an open position (FIG. 4A) for opening the gas supply line 33 and a closed position (FIG. 4B) for closing the gas supply line 33. The spring 53 is biased toward the open position.

上記バルブ35を具備するガス供給ライン33は筒状部材20の回転に伴って回転するため、ガス導入路24が所定の角度位置に来た時、これと同じ角度位置にあるバルブ35が作動して当該ガス導入部24へのガス供給を遮断できるようになっている。具体的には、図4(b)に示すように、当該所定の角度位置に来たバルブ35の磁石部52に対向する位置に、磁石部52との間に反発力を生ぜしめる磁力付与手段37を設置できるようになっている。   Since the gas supply line 33 provided with the valve 35 rotates as the cylindrical member 20 rotates, when the gas introduction path 24 reaches a predetermined angular position, the valve 35 at the same angular position operates. Thus, the gas supply to the gas introduction unit 24 can be shut off. Specifically, as shown in FIG. 4B, magnetic force applying means for generating a repulsive force between the magnet portion 52 and the magnet portion 52 at a position facing the magnet portion 52 of the valve 35 at the predetermined angular position. 37 can be installed.

これにより、バルブ35が上記所定の角度位置に来た時、磁力付与手段37からの反発力が働いて弁体50がスプリング53の付勢力に逆らって開位置から閉位置に移動し、ガス供給ライン33からガス導入路24へのガスの供給が遮断される。このように、磁力付与手段37を設置する位置を適宜定めることにより、第1ロータリージョイント側からガス導入路24へのガスの供給と停止を個々のガス導入路24ごとに調整することが可能となる。なお、第2ロータリージョイント側でも同様にすることで第2ロータリージョイント側からガス導入路24へのガスの供給と停止を個々のガス導入路24ごとに行うことが可能となる。   As a result, when the valve 35 comes to the predetermined angular position, a repulsive force from the magnetic force applying means 37 works, and the valve body 50 moves from the open position to the closed position against the urging force of the spring 53 to supply gas. The supply of gas from the line 33 to the gas introduction path 24 is shut off. Thus, by appropriately determining the position where the magnetic force applying means 37 is installed, it is possible to adjust the supply and stop of the gas from the first rotary joint side to the gas introduction path 24 for each gas introduction path 24. Become. In addition, it is possible to supply and stop the gas from the second rotary joint side to the gas introduction path 24 for each gas introduction path 24 by performing the same on the second rotary joint side.

すなわち、磁力付与手段37、47を配置する角度位置を適宜調整することにより、所定の角度範囲内に位置するガス導入路24に対して2本のガス供給ライン33、43の両方から又はいずれか一方だけからガスを供給したり、両ガス供給ラインからのガスの供給を停止したりすることが可能となる。例えば、長尺樹脂フィルムFが巻き付けられない角度範囲には磁力付与手段37及び47を両方とも配置することによって、この角度範囲に位置するガス導入孔25からのガスの放出を防止することができる。これにより真空チャンバー12内の圧力制御への悪影響を抑えることができると共に、長尺樹脂フィルムFが巻き付いている角度範囲に位置するガス導入路24に供給するガスのガス圧を所定の圧力に安定的に維持することが可能となる。   That is, by appropriately adjusting the angular position at which the magnetic force applying means 37 and 47 are arranged, either or both of the two gas supply lines 33 and 43 with respect to the gas introduction path 24 located within a predetermined angular range. It is possible to supply gas from only one side or to stop the supply of gas from both gas supply lines. For example, by disposing both the magnetic force applying means 37 and 47 in the angle range where the long resin film F is not wound, it is possible to prevent the gas from being released from the gas introduction hole 25 located in this angle range. . Thereby, the adverse effect on the pressure control in the vacuum chamber 12 can be suppressed, and the gas pressure of the gas supplied to the gas introduction path 24 located in the angle range around which the long resin film F is wound is stabilized at a predetermined pressure. Can be maintained.

また、キャンロール14の周方向において、ある角度範囲には磁力付与手段37及び47のうちのいずれか一方若しくは両方を配置したり、両方とも設置しないようにしたりすることにより、所望の角度範囲に位置するガス導入路24へのガスの供給量をそれ以外の角度範囲に位置するガス導入路24とは異ならせることが可能になる。これにより、ガス放出孔25からのガス放出量をそれに連通するガス導入路24が存在する角度範囲ごとに変えることが可能となり、よってキャンロール14の外周面からの長尺樹脂フィルムFが離間する距離の周方向でのばらつきを是正することが可能となる。   Further, in the circumferential direction of the can roll 14, either one or both of the magnetic force applying means 37 and 47 are arranged in a certain angular range, or both are not installed, so that the desired angular range is obtained. It becomes possible to make the gas supply amount to the gas introduction path 24 located different from the gas introduction path 24 located in other angle ranges. This makes it possible to change the amount of gas discharged from the gas discharge hole 25 for each angle range where the gas introduction path 24 communicating therewith exists, and thus the long resin film F is separated from the outer peripheral surface of the can roll 14. It becomes possible to correct the variation in the circumferential direction of the distance.

なお、第1ロータリージョイント側に接続するガス供給源の圧力や流量は、第2ロータリージョイント側に接続するものとは異なっていてもよく、これらの圧力や流量は長尺樹脂フィルムFが外周面から離間する距離の周方向のばらつき等の状況を考慮して適宜定めることができる。例えば、第1ロータリージョイント側と第2ロータリージョイント側とで上記ガス供給源からの供給圧力を異ならせることにより、ガス導入路24に供給するガスの圧力を多段階に変更することが可能となるので、キャンロール14の外周面から長尺樹脂フィルムFが離間する距離を周方向においてより均一に保つことが可能となる。   In addition, the pressure and flow rate of the gas supply source connected to the first rotary joint side may be different from those connected to the second rotary joint side. It can be determined appropriately in consideration of the situation such as the variation in the circumferential direction of the distance away from the center. For example, the pressure of the gas supplied to the gas introduction path 24 can be changed in multiple stages by making the supply pressure from the gas supply source different on the first rotary joint side and the second rotary joint side. Therefore, the distance at which the long resin film F is separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 can be kept more uniform in the circumferential direction.

また、スパッタリング装置10の運転を開始するときは、キャンロール14に長尺樹脂フィルムFが巻きつく角度範囲に位置する全てのガス導入路24に対して両方のガス供給ライン33、43のバルブを開に設定し、キャンロール14の外周面上の長尺樹脂フィルムFの搬送状態を確認しながら、適宜磁力付与手段37、47を設置すればよい。   When starting the operation of the sputtering apparatus 10, the valves of both the gas supply lines 33 and 43 are connected to all the gas introduction paths 24 located in an angle range where the long resin film F is wound around the can roll 14. What is necessary is just to install magnetic force provision means 37 and 47 suitably, confirming the conveyance state of the long resin film F on the outer peripheral surface of the can roll 14, set to open.

上記長尺樹脂フィルムFの搬送状態の確認方法としては、例えば、キャンロール14の外周面から長尺樹脂フィルムFが離間する距離をキャンロール14の周方向に測定し、局所的に膨らんだり密着したりしている角度範囲を定めて、その角度範囲の磁力付与手段37や47の設置を変更してガス放出量を変えればよい。すなわち、キャンロール14の外周面から長尺樹脂フィルムFが離間する距離を、バルブ35、45の開閉でフィードバック制御することができる。   As a method for confirming the conveyance state of the long resin film F, for example, the distance at which the long resin film F is separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 is measured in the circumferential direction of the can roll 14 to be locally swelled or adhered. It is only necessary to determine the angle range in which the gas is discharged and change the installation of the magnetic force applying means 37 and 47 within the angle range to change the gas emission amount. That is, the distance at which the long resin film F is separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 can be feedback controlled by opening and closing the valves 35 and 45.

なお、磁力付与手段を電磁石とすれば、電気的制御で容易に磁極を変更できる。また、磁力付与手段を使用せずにガス供給ラインのバルブを電磁弁にして電気信号で開閉の制御を行っても良い。更に、各ガス導入路に接続するガス供給ラインの本数や各ガス供給ラインに設けるバルブの数は、上記した例に限定されず、ガス供給ラインやバルブを追加しても良い。各ガス導入路に接続するガス供給ラインの数が増えることで、ガス導入路へ供給されるガスの圧力をよりきめ細かく制御することができる。   If the magnetic force applying means is an electromagnet, the magnetic pole can be easily changed by electrical control. Further, the opening / closing control may be performed by an electric signal by using a valve of the gas supply line as an electromagnetic valve without using the magnetic force applying means. Furthermore, the number of gas supply lines connected to each gas introduction path and the number of valves provided in each gas supply line are not limited to the above example, and gas supply lines and valves may be added. By increasing the number of gas supply lines connected to each gas introduction path, the pressure of the gas supplied to the gas introduction path can be controlled more finely.

以上、ロールツーロール方式のスパッタリング装置10を一具体例としてとりあげて本発明に係るキャンロール及びそれを搭載した長尺基板の処理装置について説明したが、本発明はこの具体例に限定されるものではなく、本発明の主旨から逸脱しない範囲内で種々の態様で実施することができる。例えば、熱負荷のかかる表面処理は、スパッタリング成膜以外に蒸着などの他の乾式めっき処理でもよく、あるいはこれら乾式めっきによる成膜処理の他、プラズマやイオンビーム等の表面処理でもよい。   As described above, the roll-to-roll type sputtering apparatus 10 has been taken as a specific example, and the can roll according to the present invention and the processing apparatus for a long substrate equipped with the same have been described. However, the present invention is limited to this specific example. Instead, the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention. For example, the surface treatment with heat load may be other dry plating treatment such as vapor deposition in addition to sputtering film formation, or may be surface treatment such as plasma or ion beam in addition to the film formation treatment by dry plating.

[実施例1]
図2に示すようなキャンロール14を図1に示すようなスパッタリング装置10に搭載し、ロールツーロールで長尺樹脂フィルムFを搬送しながらスパッタリング成膜を行った。具体的に説明すると、キャンロール14には、直径約400mm、幅600mmのロール形状を有するステンレス製の円筒部材20を用いた。この円筒部材20の内側には冷却水の循環経路となる冷媒循環部23が設けられており、温度制御ができるようになっている。
[Example 1]
The can roll 14 as shown in FIG. 2 was mounted on the sputtering apparatus 10 as shown in FIG. 1, and sputtering film formation was performed while the long resin film F was conveyed by roll-to-roll. More specifically, a cylindrical member 20 made of stainless steel having a roll shape with a diameter of about 400 mm and a width of 600 mm was used for the can roll 14. Inside the cylindrical member 20, there is provided a refrigerant circulation section 23 that serves as a cooling water circulation path so that the temperature can be controlled.

円筒部材20の外周部には回転中心軸O方向に略平行な内径5mmの貫通孔を全周に亘って穿設し、これらをガス導入路24とした。各ガス導入路24にはキャンロール14の外周面において法線方向に開口する内径0.2mmの複数のガス放出孔25を設けた。なお、隣接するガス放出孔25同士の間隔は、円筒部材20の周方向に略10mmピッチ、軸方向に10mmピッチとした。   A through-hole having an inner diameter of 5 mm, which is substantially parallel to the direction of the rotation center axis O, is formed in the outer peripheral portion of the cylindrical member 20 over the entire circumference, and these are used as a gas introduction path 24. Each gas introduction path 24 was provided with a plurality of gas discharge holes 25 having an inner diameter of 0.2 mm that opened in the normal direction on the outer peripheral surface of the can roll 14. In addition, the space | interval of adjacent gas discharge holes 25 was about 10 mm pitch in the circumferential direction of the cylindrical member 20, and 10 mm pitch in the axial direction.

長尺樹脂フィルムFには厚さ25μm、幅50cmのポリイミドフィルムを用い、2m/分の速度で搬送した。このポリイミドフィルムからなる長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面に巻き付けられる角度(以降、抱き角とも称する)が270°となるように長尺樹脂フィルムFの搬送経路を画定する搬送手段を調整した。またスパッタリングカソード15aには20重量%クロムのニッケルクロム合金ターゲットを装着し、スパッタリングカソード15b、15c、15dには銅ターゲットを装着した。各スパッタリングカソードへの投入電力は20kWとした。   A polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 50 cm was used for the long resin film F and conveyed at a speed of 2 m / min. Conveying means for demarcating the conveying path of the long resin film F so that the angle at which the long resin film F made of the polyimide film is wound around the outer peripheral surface of the can roll 14 (hereinafter also referred to as a holding angle) is 270 °. It was adjusted. Further, a 20 wt% chromium nickel chromium alloy target was mounted on the sputtering cathode 15a, and a copper target was mounted on the sputtering cathodes 15b, 15c, and 15d. The input power to each sputtering cathode was 20 kW.

第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33には、真空チャンバー12の外部から圧力1020Paのアルゴンガスを供給し、第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43には、真空チャンバー12の外部から圧力850Paのアルゴンガスを供給した。キャンロール14の外周面に巻き付けられる長尺樹脂フィルムFが当該外周面から離間する距離(すなわち、抱き角の角度範囲内におけるキャンロール14の外周面と長尺樹脂フィルムFとの隙間)は、レーザー式の変位計で測定した。キャンロール14には温度20℃の冷却水を循環させた。スパッタリング時の真空チャンバー12内の雰囲気は圧力0.3Paのアルゴンとした。   The gas supply line 33 on the first rotary joint side is supplied with argon gas at a pressure of 1020 Pa from the outside of the vacuum chamber 12, and the gas supply line 43 on the second rotary joint side is supplied with a pressure of 850 Pa from the outside of the vacuum chamber 12. Argon gas was supplied. The distance that the long resin film F wound around the outer peripheral surface of the can roll 14 is separated from the outer peripheral surface (that is, the gap between the outer peripheral surface of the can roll 14 and the long resin film F within the angle range of the holding angle) is The measurement was made with a laser displacement meter. Cooling water having a temperature of 20 ° C. was circulated through the can roll 14. The atmosphere in the vacuum chamber 12 during sputtering was argon with a pressure of 0.3 Pa.

次に、長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面に巻き付いていない領域に対応する図5(a)の黒丸で示すガス導入路24が存在する角度範囲内では、第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33及び第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43からのガス供給が全て遮断されるように磁力付与手段37、47を設置した。更に、抱き角に位置する白丸で示すガス導入路24ついては第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33のバルブが全て開となり、第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43のバルブが全て閉になるように第2ロータリージョイント側にのみ磁力付与手段47を設置した。   Next, within the angle range where the gas introduction path 24 shown by the black circle in FIG. 5A corresponding to the region where the long resin film F is not wrapped around the outer peripheral surface of the can roll 14, the first rotary joint side The magnetic force application means 37 and 47 were installed so that the gas supply from the gas supply line 33 and the gas supply line 43 on the second rotary joint side could all be shut off. Further, for the gas introduction path 24 indicated by the white circle located at the holding angle, all the valves of the gas supply line 33 on the first rotary joint side are opened, and all the valves of the gas supply line 43 on the second rotary joint side are closed. The magnetic force applying means 47 is installed only on the second rotary joint side.

この状態で長尺樹脂フィルムFを搬送したところ、図5(a)に示すように、キャンロール14の下側中央部で隙間が100μmと大きく膨らんだ。そこで、図5(b)のようにキャンロール14の上記下側中央部に位置する斜線で示す3つのガス導入路24が存在する角度範囲内では、第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33に代えて第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43からガスが供給されるように、当該角度範囲において磁力付与手段47を取り外して磁力付与手段37を設置した。その結果、抱き角の角度範囲内において長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から離間する距離(隙間)を10μm〜20μmの範囲内に抑えることができた。   When the long resin film F was conveyed in this state, as shown in FIG. 5A, the gap swelled as large as 100 μm at the lower center portion of the can roll 14. Accordingly, as shown in FIG. 5B, the gas supply line 33 on the first rotary joint side is connected to the gas supply line 33 on the first rotary joint side within the angle range where the three gas introduction paths 24 indicated by the oblique lines located in the lower central portion of the can roll 14 exist. Instead, the magnetic force applying means 47 was removed and the magnetic force applying means 37 was installed in the angular range so that the gas was supplied from the gas supply line 43 on the second rotary joint side. As a result, the distance (gap) at which the long resin film F was separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 within the range of the holding angle could be suppressed within the range of 10 μm to 20 μm.

[実施例2]
実施例1とは別ロットのポリイミドフィルムからなる長尺樹脂フィルムFを用いた以外は実施例1と同様にして、先ず図5(a)と同じ位置に磁力付与手段37、47を設置して長尺樹脂フィルムFを搬送したところ、図6(a)に示すように、抱き角の角度範囲内のうちキャンロール14の下流側に位置する角度範囲で隙間が100μmと大きく膨らんだ。
[Example 2]
First, magnetic force applying means 37 and 47 are installed at the same position as in FIG. 5A except that a long resin film F made of a polyimide film of a lot different from that in Example 1 is used. When the long resin film F was conveyed, as shown in FIG. 6A, the gap swelled as large as 100 μm in the angular range located on the downstream side of the can roll 14 within the angular range of the holding angle.

そこで、図6(b)のようにキャンロール14の下流側に位置する斜線で示す2つのガス導入路24が存在する角度範囲内では、第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33に代えて第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43からガスが供給されるように、当該角度範囲において磁力付与手段47を取り外して磁力付与手段37を設置した。その結果、抱き角の角度範囲内において長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から離間する距離(隙間)を10μm〜20μmの範囲内に抑えることができた。   Therefore, as shown in FIG. 6B, within the angle range where the two gas introduction paths 24 indicated by the oblique lines located on the downstream side of the can roll 14 exist, the gas supply line 33 on the first rotary joint side is replaced with the first gas supply line 33. In order to supply gas from the gas supply line 43 on the 2 rotary joint side, the magnetic force applying means 47 was removed and the magnetic force applying means 37 was installed in the angular range. As a result, the distance (gap) at which the long resin film F was separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 within the range of the holding angle could be suppressed within the range of 10 μm to 20 μm.

[実施例3]
実施例1及び2とは別ロットのポリイミドフィルムからなる長尺樹脂フィルムFを用いた以外は実施例1及び2と同様にして、先ず図5(a)及び6(a)と同じ位置に磁力付与手段37、47を設置して長尺樹脂フィルムFを搬送したところ、図7(a)に示すように、抱き角の角度範囲のうちキャンロール14の上流側に位置する角度範囲で隙間が0μmとなって密着状態にあった。
[Example 3]
A magnetic force is first applied at the same position as in FIGS. 5 (a) and 6 (a) in the same manner as in Examples 1 and 2, except that a long resin film F made of a polyimide film of a different lot from Examples 1 and 2 is used. When the providing means 37 and 47 are installed and the long resin film F is conveyed, as shown in FIG. 7A, a gap is formed in the angular range located upstream of the can roll 14 in the angular range of the holding angle. It was 0 μm and was in close contact.

そこで、図7(b)のようにキャンロール14の上流側に位置する縦線で示す3つのガス導入路24が存在する角度範囲内では、第1ロータリージョイント側のガス供給ライン33に加えて第2ロータリージョイント側のガス供給ライン43からもガスが供給されるように、当該角度範囲において磁力付与手段47を取り外した。その結果、抱き角の角度範囲内において長尺樹脂フィルムFがキャンロール14の外周面から離間する距離(隙間)を10μm〜20μmの範囲内に抑えることができた。この状態で更に長尺樹脂フィルムFを500m搬送しながらスパッタリング成膜を行ったところシワは発生しなかった。なお、このスパッタリング成膜時の長尺樹脂フィルムFの温度を熱電対で測定したところ最高温度は50℃であった。   Accordingly, in addition to the gas supply line 33 on the first rotary joint side, an angle range in which three gas introduction paths 24 indicated by vertical lines located upstream of the can roll 14 exist as shown in FIG. The magnetic force application means 47 was removed in the angular range so that the gas was supplied also from the gas supply line 43 on the second rotary joint side. As a result, the distance (gap) at which the long resin film F was separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 within the range of the holding angle could be suppressed within the range of 10 μm to 20 μm. In this state, when the sputter film formation was carried out while conveying the long resin film F by 500 m, no wrinkles were generated. In addition, when the temperature of the long resin film F at the time of this sputtering film-forming was measured with the thermocouple, the maximum temperature was 50 degreeC.

[比較例1]
キャンロール14の外周面とそこに巻き付けられる長尺樹脂フィルムFとの間にガスを導入しないこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリング成膜を実施した。その結果、キャンロール14の外周面から離間する長尺樹脂フィルムFの距離(隙間)を測定することはできず、長尺樹脂フィルムFの最高温度は120℃であった。また、スパッタリング成膜を開始してすぐにシワが発生した。
[Comparative Example 1]
Sputter deposition was performed in the same manner as in Example 3 except that no gas was introduced between the outer peripheral surface of the can roll 14 and the long resin film F wound around the can roll 14. As a result, the distance (gap) of the long resin film F separated from the outer peripheral surface of the can roll 14 could not be measured, and the maximum temperature of the long resin film F was 120 ° C. In addition, wrinkles occurred immediately after the start of sputtering film formation.

[比較例2]
実施例3における図7(b)の操作を行わずに、図7(a)の状態のままスパッタリング成膜を行ったところ、長尺樹脂フィルムFを200m搬送した時にしわが発生した。
[Comparative Example 2]
When the sputtering film formation was performed in the state of FIG. 7A without performing the operation of FIG. 7B in Example 3, wrinkles were generated when the long resin film F was conveyed 200 m.

10 スパッタリング装置
12 真空チャンバー
13 巻出ロール
14 キャンロール
15a〜15d スパッタリングカソード
16a 前フィードロール
16b 前フィードロール
17a、17b テンションロール
18 巻取ロール
20 円筒部材
21 回転軸
22 回転軸受け
23 冷媒循環部
24 ガス導入路
25 ガス放出孔
30、40 ガスロータリージョイント
31、41 回転リングユニット
32、42 固定リングユニット22
33、43 ガス供給ライン
35、45 バルブ
36、46 ガス分配路
37、47 磁力付与手段
F 長尺樹脂フィルム
O 回転中心軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sputtering apparatus 12 Vacuum chamber 13 Unwinding roll 14 Can roll 15a-15d Sputtering cathode 16a Front feed roll 16b Front feed roll 17a, 17b Tension roll 18 Winding roll 20 Cylindrical member 21 Rotating shaft 22 Rotating bearing 23 Refrigerant circulation part 24 Gas Introduction path 25 Gas discharge hole 30, 40 Gas rotary joint 31, 41 Rotating ring unit 32, 42 Fixed ring unit 22
33, 43 Gas supply line 35, 45 Valve 36, 46 Gas distribution path 37, 47 Magnetic force applying means F Long resin film O Rotation center axis

Claims (7)

真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板を外周面に巻き付けて冷却するキャンロールと、該キャンロールの外周面のうち該長尺基板が巻き付けられる領域に対向して配された熱負荷の掛かる表面処理を施す表面処理手段と、該キャンロールの外周面に巻き付けられている長尺基板が周方向において局所的に膨らんだり密着したりしている角度範囲を定めることが可能な非接触式の変位測定手段とを備えた長尺基板の処理装置であって、
該キャンロールは、前記外周面側に開口する複数のガス放出孔を各々有する複数のガス導入路が周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って設けられており、各ガス導入路の両端部には、互いに並列関係にあり且つ各々バルブを備えた2本のガス供給ラインがそれぞれ連通しており、これら2本のガス供給ラインのバルブの操作により前記真空チャンバーの外部から個々のガス導入路へのガスの供給が調整自在であることによってガス導入路ごとにガスの放出量を変化させ得るものであることを特徴とする長尺基板の処理装置
A can roll that wraps and cools a long substrate conveyed by roll-to-roll in a vacuum chamber around the outer peripheral surface , and heat that is arranged to face a region of the outer peripheral surface of the can roll where the long substrate is wound. It is possible to define a surface treatment means for applying a surface treatment to which a load is applied and an angular range in which a long substrate wound around the outer peripheral surface of the can roll is locally swollen or closely adhered in the circumferential direction. A long substrate processing apparatus comprising a contact-type displacement measuring means ,
In the can roll, a plurality of gas introduction paths each having a plurality of gas discharge holes opened on the outer peripheral surface side are provided over the entire circumference at substantially equal intervals in the circumferential direction. The two gas supply lines that are in parallel with each other and each provided with a valve communicate with each other at both ends of each of the two, and each of the two gas supply lines is operated from the outside of the vacuum chamber by operating the valves of the two gas supply lines. An apparatus for processing a long substrate, characterized in that the gas supply amount to the gas introduction path can be adjusted to change the gas discharge amount for each gas introduction path .
前記長尺基板が前記キャンロールの外周面から離間する距離を該キャンロールの周方向において略一定に保つように、前記変位測定手段で定めた前記角度範囲に位置するガス導入路に連通する前記2本のガス供給ラインのバルブの操作をフィードバック制御する構成になっていることを特徴とする、請求項1に記載の長尺基板の処理装置。The gas communication path that communicates with the gas introduction path located in the angular range defined by the displacement measuring means so as to keep the distance that the long substrate is separated from the outer peripheral surface of the can roll substantially constant in the circumferential direction of the can roll. 2. The apparatus for processing a long substrate according to claim 1, wherein the operation of the valves of the two gas supply lines is feedback-controlled. 前記表面処理手段が乾式成膜手段であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の長尺基板の処理装置。 Characterized in that said surface treatment unit is a dry film forming means, the processing unit of the long substrate according to claim 1 or 2. 前記乾式成膜手段がスパッタリングカソードであることを特徴とする、請求項に記載の長尺基板の処理装置。 The long substrate processing apparatus according to claim 3 , wherein the dry film forming means is a sputtering cathode. 真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺基板に対して、熱負荷の掛かる表面処理を施す際に、外周面側に開口する複数のガス放出孔を各々有する複数のガス導入路が周方向に略均等な間隔をあけて全周に亘って配設されたキャンロールの該外周面に巻き付けて該外周面と長尺基板の間に該複数のガス放出孔からガスを導入しながら冷媒で冷却する長尺基板の処理方法であって、
前記複数のガス導入路の各々の両端部には、互いに並列関係にあり且つ各々バルブを備えた2本のガス供給ラインがそれぞれ連通しており、これら2本のガス供給ラインのバルブを操作して前記真空チャンバーの外部から個々のガス導入路へのガスの供給を調整することによってガス導入路ごとにガスの放出量を変化させ得るものであり、長尺基板が巻き付いていない角度範囲に位置するガス導入路へのガスの供給を停止すると共に該長尺基板が該外周面から周方向に局所的に膨らんだり密着したりしている角度範囲を定めて、該角度範囲内に位置するガス導入路へのガス放出量を調整することにより、前記外周面から長尺基板が離間する距離をキャンロールの周方向において略一定に保つことを特徴とする長尺基板の処理方法。
A plurality of gas introduction paths each having a plurality of gas discharge holes opened on the outer peripheral surface side are provided when a long substrate subjected to a heat load is applied to a long substrate transported by roll-to-roll in a vacuum chamber. The refrigerant is wound around the outer peripheral surface of a can roll disposed over the entire circumference at substantially equal intervals in the direction and introduces gas from the plurality of gas discharge holes between the outer peripheral surface and the long substrate. A method for treating a long substrate cooled in
Two gas supply lines, which are in parallel with each other and each provided with a valve, communicate with both ends of each of the plurality of gas introduction paths, and the valves of these two gas supply lines are operated. By adjusting the gas supply from the outside of the vacuum chamber to the individual gas introduction passages, the gas discharge amount can be changed for each gas introduction passage, and is located in an angular range where the long substrate is not wound. The gas located in the angular range is determined by stopping the gas supply to the gas introduction path and defining an angular range in which the long substrate is locally expanded or adhered in the circumferential direction from the outer peripheral surface. A method for treating a long substrate, characterized in that a distance at which the long substrate is separated from the outer peripheral surface is maintained substantially constant in a circumferential direction of the can roll by adjusting a gas discharge amount to the introduction path .
前記熱負荷の掛かる表面処理が乾式成膜であることを特徴とする、請求項に記載の長尺基板の処理方法。 The long substrate processing method according to claim 5 , wherein the surface treatment to which the thermal load is applied is dry film formation. 前記乾式成膜がスパッタリング成膜であることを特徴とする請求項に記載の長尺基板の処理方法。 The long substrate processing method according to claim 6 , wherein the dry film formation is a sputtering film formation.
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