JP6065732B2 - Image processing apparatus and photographing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、X線等の放射線、可視光、赤外光等の電磁波を電荷に変換する変換膜を有する平面画像検出器で取得した画像を処理する画像処理装置および撮影装置に関する。 The present invention relates to an image processing apparatus and an imaging apparatus that process an image acquired by a planar image detector having a conversion film that converts radiation such as X-rays, electromagnetic waves such as visible light and infrared light into electric charges.
X線撮影装置に使用される平面画像検出器(X線検出器)としては、例えば、フラットパネルディテクタ(以下適宜、「FPD」と称する)が知られている。FPDは、アクティブマトリクス基板上に、a−Se(アモルファス・セレン)等の変換膜を蒸着して形成されたものである。アクティブマトリクス基板は、画素電極、薄膜トランジスタ(TFT)等のスイッチング素子、および蓄積容量(キャパシタ)等が二次元マトリクス状(二次元アレイ状)に配置されたものである。 As a planar image detector (X-ray detector) used in an X-ray imaging apparatus, for example, a flat panel detector (hereinafter referred to as “FPD” as appropriate) is known. The FPD is formed by depositing a conversion film such as a-Se (amorphous selenium) on an active matrix substrate. The active matrix substrate has a pixel electrode, a switching element such as a thin film transistor (TFT), a storage capacitor (capacitor) and the like arranged in a two-dimensional matrix (two-dimensional array).
FPDにおいて、X線管等により被検体に照射され、被検体を透過したX線像が変換膜上に投影されると、X線像の濃淡に比例した電荷が変換膜内で生成される。変換膜内で生成された電荷は、画素電極で収集され、蓄積容量に蓄積される。蓄積容量に蓄積された電荷は、スイッチング素子の動作により画素ごとに読み出され、画像処理部に送信されて種々の処理が行われる。 In the FPD, when an X-ray image that is irradiated onto a subject through an X-ray tube or the like and is transmitted through the subject is projected onto the conversion film, a charge proportional to the density of the X-ray image is generated in the conversion film. The charge generated in the conversion film is collected by the pixel electrode and accumulated in the storage capacitor. The electric charge accumulated in the accumulation capacitor is read out for each pixel by the operation of the switching element, and transmitted to the image processing unit to perform various processes.
このようなa−Se等の変換膜を備えたFPDは、変換膜の製造プロセスにおいて、欠損画素が発生する場合がある。変換膜による欠損画素の出力は、入射X線に対する線形性が保たれていないので、画像には使用できない。そのため、変換膜にX線を照射しない非照射状態のダーク画像を取得し、ダーク画像において、周辺画素値との差が大きな画素を欠損画素として抽出する。抽出された欠損画素は周囲の正常画素の画素値を用いて補間される(例えば、特許文献1参照)。 In the FPD provided with such a conversion film such as a-Se, defective pixels may occur in the conversion film manufacturing process. The output of the defective pixel by the conversion film cannot be used for the image because the linearity with respect to the incident X-ray is not maintained. For this reason, a dark image in a non-irradiation state in which the conversion film is not irradiated with X-rays is acquired, and a pixel having a large difference from the peripheral pixel value is extracted as a defective pixel in the dark image. The extracted defective pixels are interpolated using pixel values of surrounding normal pixels (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、従来の欠損画素の抽出方法に用いられるダーク画像には、TFT等のスイッチング素子による漏れ電流が含まれ、このスイッチング素子の漏れ電流は、スイッチング素子ごとにばらつきを有している。そのため、従来の欠損画素の抽出方法では、変換膜の漏れ電流による欠損画素であるのかスイッチング素子の漏れ電流による欠損画素であるのか区別をつけずに行われている。そのため、抽出される欠損画素が多くなり、画質を劣化させることになる。このように、スイッチング素子の漏れ電流によって、補間処理を行う必要のない画素を欠損画素として抽出しているので、これを改善することが望まれる。 However, the dark image used in the conventional defective pixel extraction method includes a leakage current due to a switching element such as a TFT, and the leakage current of the switching element varies for each switching element. Therefore, the conventional method for extracting defective pixels is performed without distinguishing whether the pixel is a defective pixel due to the leakage current of the conversion film or the defective pixel due to the leakage current of the switching element. For this reason, the number of defective pixels to be extracted increases, and the image quality deteriorates. Thus, since the pixel which does not need to perform an interpolation process is extracted as a defective pixel by the leakage current of the switching element, it is desired to improve this.
なお、スイッチング素子の漏れ電流は、入射X線量に依存しないものである。スイッチング素子の漏れ電流は、一般的に、被検体等を対象として取得した通常画像に対し、ダーク画像を用いたオフセット補正を行うことにより補正されている。 Note that the leakage current of the switching element does not depend on the incident X-ray dose. In general, the leakage current of the switching element is corrected by performing offset correction using a dark image on a normal image acquired for a subject or the like.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、変換膜による欠損画素のみを高精度に抽出できる画像処理装置および撮影装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an image processing apparatus and a photographing apparatus that can extract only defective pixels due to a conversion film with high accuracy.
発明者は、上記の問題を解決するために鋭意研究した結果、次のような知見を得た。すなわち、変換膜の欠損は、変換膜にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)において漏れ電流増加として現れ、変換膜にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像には現れない。一方、TFTの漏れ電流ばらつきは、バイアス電圧OFF画像でも確認され、バイアス電圧ON画像でもほとんど漏れ電流増加は発生しない。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors have obtained the following knowledge. That is, the loss of the conversion film appears as an increase in leakage current in the bias voltage ON image (dark image) acquired by applying the bias voltage to the conversion film, and the bias voltage OFF image acquired without applying the bias voltage to the conversion film. Does not appear. On the other hand, the variation in the leakage current of the TFT is confirmed even in the bias voltage OFF image, and almost no increase in the leakage current occurs in the bias voltage ON image.
このような知見に基づく本発明は、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る画像処理装置は、平面画像検出器が有する変換膜であって、電磁波を電荷に変換する前記変換膜にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像と、前記変換膜にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像とに基づいて欠損画素を抽出する欠損画素抽出処理部を備えていることを特徴とするものである。 The present invention based on such knowledge has the following configuration. That is, an image processing apparatus according to the present invention is a conversion film included in a planar image detector, which includes a bias voltage ON image obtained by applying a bias voltage to the conversion film that converts electromagnetic waves into electric charges, and the conversion film. In addition, a defective pixel extraction processing unit that extracts a defective pixel based on a bias voltage OFF image acquired without applying a bias voltage is provided.
本発明に係る画像処理装置によれば、次の性質を利用する。変換膜による漏れ電流は、バイアス電圧ON画像にはっきりと現れるが、バイアス電圧OFF画像に現れない。一方、スイッチング素子の漏れ電流ばらつきは、バイアス電圧ON画像とバイアス電圧OFF画像とでほとんど変化がない。この性質を利用して、平面画像検出器が有する変換膜であって、電磁波を電荷に変換する前記変換膜にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)と、変換膜にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像とに基づいて欠損画素を抽出する。これにより、補間処理する必要がない画素を欠損画素として抽出せずに、変換膜による欠損画素のみを高精度に抽出できる。 The image processing apparatus according to the present invention uses the following properties. The leakage current due to the conversion film appears clearly in the bias voltage ON image, but does not appear in the bias voltage OFF image. On the other hand, the leakage current variation of the switching element hardly changes between the bias voltage ON image and the bias voltage OFF image. Utilizing this property, a conversion film included in the planar image detector, which is a bias voltage ON image (dark image) obtained by applying a bias voltage to the conversion film that converts electromagnetic waves into electric charge, and a conversion film A defective pixel is extracted based on a bias voltage OFF image acquired without applying a bias voltage. Thereby, it is possible to extract only a defective pixel due to the conversion film with high accuracy without extracting a pixel that does not need to be interpolated as a defective pixel.
また、本発明に係る画像処理装置において、前記欠損画素抽出処理部は、前記バイアス電圧ON画像と前記バイアス電圧OFF画像との差分を求め、差分後の画像から欠損画素を抽出することが好ましい。差分後の画像は、スイッチング素子の漏れ電流ばらつきが抑えられた画像となっているので、変換膜による欠損画素のみを高精度に抽出できる。 In the image processing apparatus according to the present invention, it is preferable that the missing pixel extraction processing unit obtains a difference between the bias voltage ON image and the bias voltage OFF image and extracts a missing pixel from the image after the difference. Since the image after the difference is an image in which the variation in the leakage current of the switching element is suppressed, only the defective pixel due to the conversion film can be extracted with high accuracy.
また、本発明に係る画像処理装置において、前記差分後の画像に対してハイパスフィルタ処理を行い、ハイパスフィルタ処理後の画像から欠損画素を抽出することが好ましい。バイアス電圧ON画像は、スイッチング素子の漏れ電流ばらつきの他に、バイアス電圧による輝度ムラやアレイアンプ回路のゲインばらつきを含んでいる。差分後の画像に対するハイパスフィルタ処理後の画像は、それら輝度ムラやゲインばらつきがさらに取り除かれたものとなる。そのため、変換膜による欠損画素のみをさらに高精度に抽出できる。 In the image processing apparatus according to the present invention, it is preferable that a high-pass filter process is performed on the image after the difference, and a defective pixel is extracted from the image after the high-pass filter process. The bias voltage ON image includes non-uniformity of luminance due to the bias voltage and gain variation of the array amplifier circuit in addition to the leakage current variation of the switching element. The image after the high-pass filter processing with respect to the image after the difference is one in which the luminance unevenness and gain variation are further removed. Therefore, only defective pixels due to the conversion film can be extracted with higher accuracy.
また、本発明に係る画像処理装置において、前記バイアス電圧OFF画像は、予め設定された時期に取得されたものであり、前記バイアス電圧ON画像は、前記バイアス電圧OFF画像の取得後に繰り返し取得されるものであることが好ましい。予め設定した時期にバイアス電圧OFF画像を取得しておき、このバイアス電圧OFF画像の取得後に、例えば、校正ごとにバイアス電圧ON画像のみを取得し、欠損画素を抽出する。バイアス電圧ON画像を取得するごとに、バイアス電圧OFF画像を取得せずに済み、欠損画素の抽出時間を短縮できる。 In the image processing apparatus according to the present invention, the bias voltage OFF image is acquired at a preset time, and the bias voltage ON image is repeatedly acquired after acquiring the bias voltage OFF image. It is preferable. A bias voltage OFF image is acquired at a preset time, and after acquiring the bias voltage OFF image, for example, only the bias voltage ON image is acquired for each calibration, and defective pixels are extracted. It is not necessary to acquire the bias voltage OFF image every time the bias voltage ON image is acquired, and the extraction time of the defective pixel can be shortened.
また、本発明に係る画像処理装置において、前記バイアス電圧OFF画像の一例は、出荷前に取得した画像である。出荷後において、バイアス電圧ON画像を取得するごとに、バイアス電圧OFF画像を取得せずに済み、欠損画素の抽出時間を短縮できる。 In the image processing apparatus according to the present invention, an example of the bias voltage OFF image is an image acquired before shipment. After shipment, every time a bias voltage ON image is acquired, it is not necessary to acquire a bias voltage OFF image, and the extraction time of defective pixels can be shortened.
また、本発明に係るX線撮影装置は、上述の画像処理装置と、平面画像を取得する前記平面画像検出器とを備え、前記平面画像検出器は、前記変換膜と、前記変換膜にバイアス電圧を印加し、その印加を停止するバイアス電圧供給源とを有していることを特徴とするものである。 An X-ray imaging apparatus according to the present invention includes the above-described image processing apparatus and the planar image detector that acquires a planar image, and the planar image detector is biased to the conversion film and the conversion film. And a bias voltage supply source for applying a voltage and stopping the application.
本発明に係る撮影装置によれば、上述した画像処理装置を備えており、画像処理装置は、次の性質を利用する。変換膜による漏れ電流は、バイアス電圧ON画像にはっきりと現れるが、バイアス電圧OFF画像に現れない。一方、スイッチング素子の漏れ電流ばらつきは、バイアス電圧ON画像とバイアス電圧OFF画像とでほとんど変化がない。この性質を利用して、平面画像検出器が有する変換膜であって、電磁波を電荷に変換する前記変換膜にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)と、変換膜にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像とに基づいて欠損画素を抽出する。これにより、補間処理する必要がない画素を欠損画素として抽出せずに、変換膜による欠損画素のみを高精度に抽出できる。 The imaging apparatus according to the present invention includes the above-described image processing apparatus, and the image processing apparatus uses the following properties. The leakage current due to the conversion film appears clearly in the bias voltage ON image, but does not appear in the bias voltage OFF image. On the other hand, the leakage current variation of the switching element hardly changes between the bias voltage ON image and the bias voltage OFF image. Utilizing this property, a conversion film included in the planar image detector, which is a bias voltage ON image (dark image) obtained by applying a bias voltage to the conversion film that converts electromagnetic waves into electric charge, and a conversion film A defective pixel is extracted based on a bias voltage OFF image acquired without applying a bias voltage. Thereby, it is possible to extract only a defective pixel due to the conversion film with high accuracy without extracting a pixel that does not need to be interpolated as a defective pixel.
本発明に係る画像処理装置および撮影装置によれば、次の性質を利用する。変換膜による漏れ電流は、バイアス電圧ON画像にはっきりと現れるが、バイアス電圧OFF画像に現れない。一方、スイッチング素子の漏れ電流ばらつきは、バイアス電圧ON画像とバイアス電圧OFF画像とでほとんど変化がない。この性質を利用して、平面画像検出器が有する変換膜であって、電磁波を電荷に変換する前記変換膜にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)と、変換膜にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像とに基づいて欠損画素を抽出する。これにより、補間処理する必要がない画素を欠損画素として抽出せずに、変換膜による欠損画素のみを高精度に抽出できる。 The image processing apparatus and the photographing apparatus according to the present invention utilize the following properties. The leakage current due to the conversion film appears clearly in the bias voltage ON image, but does not appear in the bias voltage OFF image. On the other hand, the leakage current variation of the switching element hardly changes between the bias voltage ON image and the bias voltage OFF image. Utilizing this property, a conversion film included in the planar image detector, which is a bias voltage ON image (dark image) obtained by applying a bias voltage to the conversion film that converts electromagnetic waves into electric charge, and a conversion film A defective pixel is extracted based on a bias voltage OFF image acquired without applying a bias voltage. Thereby, it is possible to extract only a defective pixel due to the conversion film with high accuracy without extracting a pixel that does not need to be interpolated as a defective pixel.
以下、図面を参照して本発明の実施例1を説明する。本実施例では、撮影装置の一例としてX線撮影装置を説明する。図1は、実施例1に係るX線撮影装置の概略構成を示す図である。
図1を参照する。X線撮影装置1は、被検体Mを載置する天板2と、その被検体Mに向けてX線を照射するX線管3と、被検体Mを透過したX線を検出するFPD4とを備えている。なお、FPD4は、本発明の平面画像検出器に相当する。
Please refer to FIG. The
また、X線撮影装置1は、X線管3の管電圧や管電流を発生させる高電圧発生部5を有するX線管制御部6と、FPD4から出力された画像(X線検出信号)をディジタル化するA/D変換器7と、A/D変換器7で変換されたディジタルの画像(X線検出信号)に種々の処理を行う他に、欠損画素Lの抽出し、欠損画素Lの補間を行う画像処理部8とを備えている。画像処理部8における処理は、ソフトウェアやハードウェアで実現される。なお、画像処理部8は、本発明の画像処理装置に相当する。また、画像処理部8は、後で詳細を説明する。
The
また、X線撮影装置1は、各構成を統轄して制御する主制御部9と、画像処理部8で処理された画像などを記憶する記憶部10と、操作者が入力設定を行う入力部11と、画像処理部8で処理された画像などを表示する表示部12とを備えている。
In addition, the
主制御部9は、中央演算処理装置(CPU)などで構成される。記憶部10は、ROM(Read-only Memory)、RAM(Random-Access Memory)またはハードディスク等、取り外し可能なものを含む記憶媒体で構成される。入力部11は、ジョイスティック、マウス、タッチパネルなどで構成される。表示部12は、液晶モニタ等で構成される。
The main control unit 9 is composed of a central processing unit (CPU) and the like. The
図2は、FPD4の一画素の構成を示す断面図である。FPD4は、図2に示すように、入射したX線に感応して電荷を生成する半導体層16と、半導体層16の一方の面に形成され、バイアス電圧を印加するための共通電極17と、半導体層16の他方の面に形成され、二次元マトリクス状に複数の画素に区画された画素電極18とを備えている。半導体層16は、例えばa−Seで構成される。画素電極18、半導体層16、共通電極17は、その順番で、アクティブマトリクス基板19に蒸着等により形成される。なお、半導体層16は、本発明の変換膜に相当する。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of one pixel of the
アクティブマトリクス基板19は、半導体層16で生成された電荷を蓄積する蓄積容量21と、蓄積容量21で蓄積された電荷を読み出すためのスイッチング素子としてのTFT22と、ガラス等の絶縁基板23とを備えている。絶縁基板23には、蓄積容量21、TFT22、ゲート線24およびデータ線25が形成される。
The
図2の破線で示すように、1画素に対応するX線検出素子DUは、半導体層16、共通電極17、画素電極18、蓄積容量21およびTFT22等で構成される。図3は、FPD4の構成を示す平面図である。X線検出素子DUは、図3に示すように、二次元マトリクス状に複数個で構成されている。X線検出素子DUは、図3において、図示の便宜上、3×3画素で示すが、例えば1024×1024画素で構成される。
As shown by a broken line in FIG. 2, the X-ray detection element DU corresponding to one pixel includes a
アクティブマトリクス基板19は、図3中の行方向(X方向)に1列で並んでいる複数のTFT22のゲートと接続するゲート線24と、図3中に列方向(Y方向)に1列で並んでいる複数のTFT22のソースと接続するデータ線25とを備えている。なお、TFT22のドレインには、蓄積容量21が接続される。
The
FPD4において、ゲート線24には、ゲートドライバ回路26が接続されている。データ線25は、電荷を増幅して電圧信号に変換するアレイアンプ回路27に接続され、アレイアンプ回路27の出力は、複数の電圧信号から1つの電圧信号を選択して出力するマルチプレクサ28に接続される。アレイアンプ回路27は、データ線25ごとに設けられたアンプ27aを有している。
In the
すなわち、ゲートドライバ回路26により、複数のゲート線24に順番にTFT22をON状態にさせる信号を送る。すると、ゲート線24に接続された複数のTFT22ごとにON状態となり、蓄積容量21に蓄積された電荷は、TFT22を通じてデータ線25側に読み出され、データ線25を通じてアレイアンプ回路27に送られる。アレイアンプ回路27の各々のアンプ27aは、電荷を増幅して電圧信号に変換する。そして、アレイアンプ回路27で増幅され変換された複数の電圧信号から1つの電圧信号を選択して出力する。
That is, the
また、FPD4は、バイアス電圧を共通電極17に印加し、その印加を停止する(ほぼ0Vの状態にする)バイアス電圧供給源31を備えている。バイアス電圧供給源31は、予め設定されたバイアス電圧を共通電極17に印加することで、半導体層16にバイアス電圧を印加する。なお、図2および図3において、符号Vhはバイアス電圧を示す。
Further, the
ゲートドライバ回路26、アレイアンプ回路27、マルチプレクサ28およびバイアス電圧供給源31は、FPD制御回路33により制御される。また、FPD制御回路33は、主制御部9により制御される。
The
FPD4は、画像処理部8での欠損画素Lの抽出を行うために、2種類の画像を取得する。1つは、半導体層16にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)G1であり、もう1つは、半導体層16にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像G2である。画像G1および画像G2は、共に、X線管3からX線を照射しない非照射状態で行われ、バイアス電圧を印加するか否かが異なるのみでその他の取得条件(例えば1フレームの取得時間など)は同じである。
The
<画像処理部8>
図4を参照する。まず、本発明の特徴部分である画像処理部8の概要について説明する。画像処理部8は、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2との2つの画像に基づいて欠損画素Lを抽出する。欠損画素Lの抽出後、通常撮影に相当する、被検体M等を対象とした画像G0を取得する。そして、画像G0の取得後、画像処理部8は、抽出した欠損画素Lに基づき、被検体M等を対象とした画像G0における欠損画素Lに対応する画素を補間する。
<
Please refer to FIG. First, an outline of the
次に、画像処理部8の詳細な構成について説明する。画像処理部8は、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2とに基づき欠損画素Lを抽出する欠損画素抽出処理部41と、抽出した欠損画素Lに基づき、被検体M等を対象とした画像G0における欠損画素Lに対応する画素を補間する補間処理部43とを備えている。
Next, a detailed configuration of the
また、欠損画素抽出処理部41は、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算する減算部45と、その減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出する抽出部47とを備えている。
The defective pixel
バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2との間には、次のような性質がある。バイアス電圧ON画像G1では、半導体層16による漏れ電流がはっきりと現れるが、バイアス電圧OFF画像G2では、半導体層16による漏れ電流が現れない。一方、バイアス電圧OFF画像G2では、TFT22の漏れ電流が確認されるが、バイアス電圧ON画像G1では、バイアス電圧OFF画像G2に対して漏れ電流の増加がほとんど確認されない。すなわち、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2とは、欠損画素L以外でほとんど変化がない。
There are the following properties between the bias voltage ON image G1 and the bias voltage OFF image G2. In the bias voltage ON image G1, leakage current due to the
このような性質を利用することで、減算部45は、バイアス電圧ON画像G1からTFT22による漏れ電流を差し引いて、半導体層16による漏れ電流のみを残す。なお、減算部45は、バイアス電圧ON画像G1およびバイアス電圧OFF画像G2における座標が同じ同一画素どうしで減算を行う。
By utilizing such a property, the subtracting
抽出部47は、減算部45の減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出する。欠損画素Lの抽出は、周辺画素値との差が大きな画素を検出する。例えば、上限閾値および下限閾値の少なくとも一方を予め設定し、それらを超えた場合に欠損画素Lであると判定して抽出する。欠損画素Lの抽出方法については、その他公知の方法を用いてもよい。欠損画素Lは、欠損画素マップ等の形式で図示しない記憶部などに登録(記憶)される。
The
補間処理部43は、抽出した欠損画素Lに基づき、通常撮影に相当する、被検体M等を対象として取得した画像G0における欠損画素Lに対応する画素を補間する。補間処理は、例えば、欠損画素Lの周囲8画素における中央値(メジアン)を求めて、欠損画素Lと置換することで行う。また、周囲8画素の平均値を求めて、欠損画素Lと置換してもよい等、その他公知の方法を用いてもよい。そして、補間処理部43は、補間処理した画像G10を出力する。
Based on the extracted missing pixel L, the
なお、被検体M等を対象として取得した画像G0は、半導体層16にバイアス電圧を印加し、X線管3からX線を照射した状態で取得した画像である。この画像は、X線管3とFPD4との間に被検体Mを介在させて被検体Mを対象とした画像であるのはもちろんのこと、場合によっては、被検体Mを介在させないで取得した画像を含むものとする。
The image G0 acquired for the subject M or the like is an image acquired in a state in which a bias voltage is applied to the
また、画像G0、画像G1〜G3、後述する画像G4、および欠損画素Lは、図示しない記憶部に記憶され、必要なときに読み出して処理等を行うようになっているものとする。 Further, the image G0, the images G1 to G3, the image G4 to be described later, and the defective pixel L are stored in a storage unit (not shown) and are read out and processed when necessary.
<X線撮影装置1の動作>
次に、図5のフローチャートを参照してX線撮影装置1の動作を説明する。ここでは、本発明の特徴部分である欠損画素Lを抽出する処理を中心に説明する。
<Operation of
Next, the operation of the
〔ステップS01〕バイアス電圧OFF
まず、FPD4において、バイアス電圧供給源31により、共通電極17にバイアス電圧を印加せずに、半導体層16にバイアス電圧を印加しない状態にする。仮に、バイアス電圧を印加した状態(ON状態)である場合は、バイアス電圧供給源31により、印加したバイアス電圧をOFFにする(OFF状態)。
[Step S01] Bias voltage OFF
First, in the
〔ステップS02〕バイアス電圧OFF画像G2の取得
半導体層16にバイアス電圧を印加しない状態で画像を取得する。この画像が、バイアス電圧OFF画像G2である。また、バイアス電圧OFF画像G2は、X線管3からX線が照射されていない状態で行われる。バイアス電圧OFF画像G2には、半導体層16による漏れ電流が現れないが、TFT22による漏れ電流が確認される。つまり、図3の蓄積容量21には、TFT22による漏れ電流のみが蓄積され、読み出される。
[Step S02] Acquisition of Bias Voltage OFF Image G2 An image is acquired without applying a bias voltage to the
〔ステップS03〕バイアス電圧ON
バイアス電圧OFF画像G2の取得後、FPD4において、バイアス電圧供給源31により、共通電極17にバイアス電圧を印加して、半導体層16にバイアス電圧を印加した状態にする。
[Step S03] Bias voltage ON
After the acquisition of the bias voltage OFF image G2, the bias voltage is applied to the
〔ステップS04〕バイアス電圧ON画像の取得
半導体層16にバイアス電圧を印加した状態で画像を取得する。この画像が、バイアス電圧ON画像G1である。バイアス電圧ON画像G1は、画像G2と同様に、X線管3からX線が照射されていない状態で行われる。バイアス電圧ON画像G1は、通常のダーク画像である。バイアス電圧ON画像G1には、半導体層16による漏れ電流がはっきりと現れており、画像G2に対してTFT22による漏れ電流の増加がほとんど確認されない。つまり、図3の蓄積容量21には、半導体層による漏れ電流とTFT22による漏れ電流とが蓄積され、読み出される。
[Step S04] Acquisition of Bias Voltage ON Image An image is acquired with a bias voltage applied to the
〔ステップS05〕減算
バイアス電圧ON画像G1およびバイアス電圧OFF画像G2は、画像処理部8の減算部45に送られる。減算部45は、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算する。これにより、減算結果を示す画像G3は、TFT22による漏れ電流が抑えられ、半導体層16による漏れ電流がはっきりと示される。
[Step S05] Subtraction The bias voltage ON image G1 and the bias voltage OFF image G2 are sent to the
〔ステップS10〕欠損画素の抽出
減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出する。欠損画素Lは、上限閾値および下限閾値の少なくともいずれかを予め設定し、例えば、ある画素が上限閾値を超える場合は、その画素を欠損画素Lとして判定する。欠損画素Lは、例えば欠損画素マップとして、図示しない記憶部等に登録(記憶)される。
[Step S10] Extraction of Missing Pixel The missing pixel L is extracted from the image G3 showing the subtraction result. For the missing pixel L, at least one of an upper limit threshold and a lower limit threshold is set in advance. For example, when a certain pixel exceeds the upper limit threshold, the pixel is determined as the missing pixel L. The defective pixel L is registered (stored) in, for example, a storage unit (not shown) as a defective pixel map.
この後、通常撮影により、例えば、X線管からX線が被検体Mに向けて照射され、被検体Mを透過したX線をFPD4により検出して、被検体Mを対象とした画像G0を取得するとする。なお、画像G0の取得の際、半導体層16にはバイアス電圧が印加されている。画像G0は、画像処理部8の補間処理部43に送られる。補間処理部43は、抽出した欠損画素Lに基づき、被検体M等を対象として取得した画像G0における欠損画素Lに対応する画素(同一座標の画素)を補間する。補間処理は、例えば、補間対象の画素に対して周辺8画素の中央値(メジアン)を求めて、求めた値を補間対象の画素と置換することにより行われる。補間処理は、欠損画素マップとして登録された全ての欠損画素Lに対して行われる。
Thereafter, by normal imaging, for example, X-rays irradiated from the X-ray tube toward the subject M and transmitted through the subject M are detected by the
全ての欠損画素Lの補間処理が行われた後、補間処理部43は、補間処理後の画像G10を出力する。補間処理後の画像G10は、記憶部10に記憶されたり、表示部12に表示されたりする。
After interpolation processing for all the defective pixels L is performed, the
本実施例によれば、画像処理部8は、次の性質を利用する。半導体層16による漏れ電流は、バイアス電圧ON画像G1にはっきりと現れるが、バイアス電圧OFF画像G2に現れない。一方、TFT22の漏れ電流ばらつきは、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2とでほとんど変化がない。この性質を利用して、FPD4が有する半導体層16であって、X線に感応して電荷を生成する半導体層16にバイアス電圧を印加して取得したバイアス電圧ON画像(ダーク画像)G1と、半導体層16にバイアス電圧を印加せずに取得したバイアス電圧OFF画像G2とに基づいて欠損画素Lを抽出する。これにより、補間処理する必要がない画素を欠損画素Lとして抽出せずに、半導体層16による欠損画素Lのみを高精度に抽出できる。
According to the present embodiment, the
また、欠損画素抽出処理部41は、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算し、減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出する。減算結果を示す画像G3は、TFT22の漏れ電流ばらつきが抑えられた画像となっているので、半導体層16による欠損画素Lのみを高精度に抽出することができる。
Further, the defective pixel
なお、図6(a)および図6(b)は、本発明の効果の説明に供する図である。図6(a)は、半導体層16にバイアス電圧を印加した場合を示し、図6(b)は、半導体層16にバイアス電圧を印加しない場合を示す。また、図6(a)および図6(b)は、縦軸に画素値を示し、横軸にX線強度を示す。
6A and 6B are diagrams for explaining the effect of the present invention. FIG. 6A shows a case where a bias voltage is applied to the
図6(a)および図6(b)において、画素P,画素Qの2つの画素を比較する。画素P,画素Qは共に、X線の非照射状態においてオフセットしている。図6(a)は、半導体層16にバイアス電圧を印加している場合である。図6(a)において、画素Pは、入射X線に対して線形性(直線s)が保たれ、一方、画素Qは、曲線tや曲線uのように、入射X線に対して線形性が保たれていない。画素Qは、半導体層16による漏れ電流を有し、欠損画素Lとして抽出される画素である。図6(a)において、欠損画素Lを抽出する方法が従来の方法であり、この場合、画素Pも欠損画素Lとして抽出されてしまう。
In FIG. 6A and FIG. 6B, two pixels P and Q are compared. Both the pixel P and the pixel Q are offset in the non-irradiation state of X-rays. FIG. 6A shows a case where a bias voltage is applied to the
図6(b)は、半導体層16にバイアス電圧を印加しない場合である。なお、図6(b)では、画素P,画素Qの各々の画素値は、入射X線に対して変化しない。この図6(b)と図6(a)を比較すると、画素Pの画素値は、ほとんど変化しないが、画素Qの画素値は低下する。つまり、画素Qは、バイアス電圧を印加すると、オフセットする画素値が増加する傾向にある。
FIG. 6B shows a case where no bias voltage is applied to the
そのため、欠損画素抽出処理部41により、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算し、減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出することで、半導体層16による欠損画素Lのみを高精度に抽出できる。
Therefore, the defective pixel
次に、図面を参照して本発明の実施例2を説明する。なお、実施例1と重複する説明は省略する。本実施例は、図7に示す画像処理部8において、実施例1の構成に加え、減算部45と抽出部47との間にハイパスフィルタ部49を備えている。
Next,
減算部45の減算結果を示す画像G3には、バイアス電圧の印加により半導体層16に微小な漏れ電流が生じることによる輝度ムラや、複数のアレイアンプ回路27(図3参照)各々のアンプ27aのばらつきであるゲインばらつきが存在する。そこで、ハイパスフィルタ部49により、画像G3から輝度ムラやゲインばらつきのうねり成分を取り除き、半導体層16による漏れ電流成分を通過させる。
In the image G3 showing the subtraction result of the
すなわち、ハイパスフィルタ部49は、減算部45の減算結果を示す画像G3に対してハイパスフィルタ処理を行って、ハイパスフィルタ処理後の画像G4を取得する。ハイパスフィルタ処理後の画像G4は、例えば、画像G3をフーリエ変換して周波数領域に変換し、周波数領域において周波数フィルタによる処理を行い、この後、逆フーリエ変換することで取得し、また、画像G3に対してn×n画素の空間フィルタによる処理を行って取得する。
That is, the high-
図8は、実施例2に係る欠損画素抽出処理のフローチャートである。図8は、図5のフローチャートのステップS05とステップS10との間に、ステップS06のハイパスフィルタ処理を追加したものである。ステップS06において、図7に示すハイパスフィルタ部49は、減算部45での減算結果を示す画像G3に対してハイパスフィルタ処理を行う。ハイパスフィルタ処理により、画像G3から輝度ムラやゲインばらつきのうねり成分を取り除き、半導体層16による漏れ電流成分を通過させ、ハイパスフィルタ処理後の画像G4を取得する。そして、ステップ10において、ハイパスフィルタ処理後の画像G4から欠損画素Lを抽出する。
FIG. 8 is a flowchart of the defective pixel extraction process according to the second embodiment. FIG. 8 is obtained by adding the high-pass filter process of step S06 between step S05 and step S10 in the flowchart of FIG. In step S06, the high-
本実施例によれば、画像処理部8は、減算結果を示す画像G3に対してハイパスフィルタ処理を行い、ハイパスフィルタ処理後の画像G4から欠損画素Lを抽出する。バイアス電圧ON画像G1は、TFT22の漏れ電流ばらつきの他に、バイアス電圧による輝度ムラやアレイアンプ回路27のゲインばらつきを含んでいる。減算結果を示す画像G3に対するハイパスフィルタ処理後の画像G4は、それら輝度ムラやゲインばらつきがさらに取り除かれたものである。そのため、半導体層16による欠損画素Lのみをさらに高精度に抽出することができる。
According to the present embodiment, the
次に、図面を参照して本発明の実施例3を説明する。なお、実施例1および2と重複する説明は省略する。本実施例の構成は、実施例1や実施例2と同じであるが、実施例1の構成(図4参照)で説明する。図9は、実施例3に係る欠損画素抽出処理のフローチャートである。
Next,
本実施例では、図9に示すように、一旦、バイアス電圧OFF画像G2を取得すると、このバイアス電圧OFF画像G2と、バイアス電圧OFF画像G2の取得後に繰り返し取得される最新のバイアス電圧ON画像G1とから欠損画素を抽出するというものである。すなわち、欠損画素抽出処理部41は、予め取得したバイアス電圧OFF画像G2と、バイアス電圧ON画像G1とに基づいて欠損画素Lを抽出する。
In this embodiment, as shown in FIG. 9, once the bias voltage OFF image G2 is acquired, the latest bias voltage ON image G1 repeatedly acquired after the acquisition of the bias voltage OFF image G2 and the bias voltage OFF image G2. The defective pixels are extracted from the above. That is, the defective pixel
バイアス電圧OFF画像G2は、予め設定された時期に取得されたものである。例えば、バイアス電圧OFF画像G2は、出荷前に取得した画像である。出荷前とは、組立や調整等を行う工場から外部へ積み出す前の期間とする。一方、バイアス電圧ON画像G1は、バイアス電圧OFF画像G2の取得後に繰り返し取得されるものである。バイアス電圧ON画像G1は、例えば、校正(キャリブレーション)時に取得される。半導体層16による欠損画素Lは、経時変化で増加するので、定期的に校正をすることが望ましい。
The bias voltage OFF image G2 is acquired at a preset time. For example, the bias voltage OFF image G2 is an image acquired before shipment. The term “before shipment” refers to the period before shipment from the factory where assembly or adjustment is performed. On the other hand, the bias voltage ON image G1 is repeatedly acquired after acquiring the bias voltage OFF image G2. The bias voltage ON image G1 is acquired at the time of calibration (calibration), for example. Since defective pixels L due to the
本実施例のX線撮影装置1の動作を説明する。図9を参照する。半導体層16にバイアス電圧を印加せずにバイアス電圧OFF画像G2を取得する(ステップS01,S02)。バイアス電圧OFF画像G2は、図示しない記憶部に記憶する。バイアス電圧OFF画像G2は、出荷前に取得した画像とする。
The operation of the
バイアス電圧OFF画像G2の取得後、例えば出荷先で校正する際に、半導体層16にバイアス電圧を印加してバイアス電圧ON画像G1を取得する(ステップS03,S04)。そして、減算部45により、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算する(ステップS05)。抽出部47により、減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出する(ステップS10)。また、ステップS11において、再度、欠損画素Lを抽出する場合、例えば再度校正を行う場合(Yes)は、ステップ03に戻る。
After obtaining the bias voltage OFF image G2, for example, when calibrating at the shipping destination, the bias voltage is applied to the
本実施例によれば、バイアス電圧OFF画像G2は、予め設定された時期に取得されたものであり、バイアス電圧ON画像G1は、バイアス電圧OFF画像G2の取得後に繰り返し取得されるものである。予め設定した時期にバイアス電圧OFF画像G2を取得しておき、このバイアス電圧OFF画像G2の取得後に、例えば、校正ごとにバイアス電圧ON画像G1のみを取得し、欠損画素Lを抽出する。バイアス電圧ON画像G1を取得するごとに、バイアス電圧OFF画像G2を取得せずに済み、欠損画素Lの抽出時間を短縮できる。 According to the present embodiment, the bias voltage OFF image G2 is acquired at a preset time, and the bias voltage ON image G1 is repeatedly acquired after acquiring the bias voltage OFF image G2. The bias voltage OFF image G2 is acquired at a preset time, and after acquiring the bias voltage OFF image G2, for example, only the bias voltage ON image G1 is acquired for each calibration, and the defective pixel L is extracted. It is not necessary to acquire the bias voltage OFF image G2 every time the bias voltage ON image G1 is acquired, and the extraction time of the defective pixel L can be shortened.
また、バイアス電圧OFF画像G2は、出荷前に取得した画像である場合、出荷後において、バイアス電圧ON画像G1を取得するごとに、バイアス電圧OFF画像G2を取得せずに済み、欠損画素Lの抽出時間を短縮できる。 Further, when the bias voltage OFF image G2 is an image acquired before shipping, it is not necessary to acquire the bias voltage OFF image G2 every time the bias voltage ON image G1 is acquired after shipping. Extraction time can be shortened.
なお、本実施例では、減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出しているが、実施例2のように、ハイパスフィルタ処理後の画像G4から欠損画素Lを抽出するようにしてもよい。また、本実施例では、バイアス電圧OFF画像G2を出荷前に取得しているが、これに限定されない。すなわち、出荷後であってもよい。また、例えば、予め設定された一定の期間ごとにバイアス電圧OFF画像G2を取得するようにしてもよい。 In this embodiment, the missing pixel L is extracted from the image G3 indicating the subtraction result. However, as in the second embodiment, the missing pixel L may be extracted from the image G4 after the high-pass filter processing. . In this embodiment, the bias voltage OFF image G2 is acquired before shipment, but the present invention is not limited to this. That is, it may be after shipment. Further, for example, the bias voltage OFF image G2 may be acquired every predetermined period set in advance.
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.
(1)上述した各実施例では、バイアス電圧ON画像G1からバイアス電圧OFF画像G2を減算し、減算結果を示す画像G3を取得していた。この点、バイアス電圧OFF画像G2からバイアス電圧ON画像G1を減算し、減算結果を示す画像G3を取得してもよい。すなわち、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2との差分を求め、差分後の画像G3を取得してもよい。差分後の画像G3は、絶対値であってもよい。なお、減算結果を示す画像G3は、本発明の差分後の画像に相当する。 (1) In each of the above-described embodiments, the bias voltage OFF image G2 is subtracted from the bias voltage ON image G1, and the image G3 indicating the subtraction result is acquired. In this regard, the bias voltage ON image G1 may be subtracted from the bias voltage OFF image G2 to obtain an image G3 indicating the subtraction result. That is, the difference between the bias voltage ON image G1 and the bias voltage OFF image G2 may be obtained, and the image G3 after the difference may be acquired. The image G3 after the difference may be an absolute value. Note that the image G3 showing the subtraction result corresponds to the image after the difference of the present invention.
(2)上述した実施例1,2および変形例(1)では、バイアス電圧OFF画像G2を取得した後、バイアス電圧ON画像G1を取得していた。これにより、通常撮影時はバイアス電圧が印加された状態であるので、バイアス電圧ON画像を取得し、欠損画素Lを抽出した後、通常撮影を円滑に行うことができる。それに対し、バイアス電圧ON画像G1を取得した後、バイアス電圧OFF画像G2を取得してもよい。
(2) In
(2)上述した各実施例および変形例(1)では、半導体層16は、a−Seを用いていたが、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化亜鉛カドミウム)等であってもよい。
(2) In each example and modification (1) described above, the
(3)上述した各実施例および各変形例では、画像処理部8は、減算結果を示す画像G3から欠損画素Lを抽出していた。なお、実施例2では、抽出部47は、画像G3に対するハイパスフィルタ処理後の画像G4から欠損画素Lを抽出していた。この点、画像処理部8は、バイアス電圧ON画像G1とバイアス電圧OFF画像G2とに基づいて欠損画素Lを抽出していればよい。例えば、従来のように、バイアス電圧ON画像(ダーク画像)G1から欠損画素Lを抽出し、抽出した欠損画素Lの画素値と、バイアス電圧OFF画像G2におけるその欠損画素Lと同一座標の画素の画素値とを比較する。このとき半導体層16による漏れ電流成分であるか否かの判定をして、半導体層16による漏れ電流でないと判定された場合には、抽出された欠損画素Lを取り消すようにしてもよい。
(3) In each embodiment and each modification described above, the
(4)上述した各実施例および各変形例では、A/D変換器7や画像処理部8は、FPD4の外部に設けられているが、FPD4の内部に設けられていてもよい。この場合、FPD4は、A/D変換器7のみを備えてもよいし、A/D変換器7および画像処理部8を備えてもよい。
(4) In each of the above-described embodiments and modifications, the A /
(5)上述した各実施例および各変形例において、バイアス電圧ON画像G1およびバイアス電圧OFF画像G2の少なくとも一方は、複数のフレームを取得して平均を求めた画像であってもよい。 (5) In each embodiment and each modification described above, at least one of the bias voltage ON image G1 and the bias voltage OFF image G2 may be an image obtained by obtaining a plurality of frames and calculating an average.
1 … X線撮影装置
4 … FPD
8 … 画像処理部
9 … 主制御部
16 … 半導体層
22 … TFT
27 … アレイアンプ回路
27a … アンプ
31 … バイアス供給電源
41 … 欠損画素抽出処理部
45 … 減算部
47 … 抽出部
49 … ハイパスフィルタ部
G1 … バイアス電圧ON画像
G2 … バイアス電圧OFF画像
G3 … 減算結果を示す画像
G4 … ハイパスフィルタ処理後の画像
L … 欠損画素
1 ...
8 ... Image processing unit 9 ...
27 ...
Claims (6)
前記欠損画素抽出処理部は、前記バイアス電圧ON画像と前記バイアス電圧OFF画像との差分を求め、差分後の画像から欠損画素を抽出することを特徴とする画像処理装置。 The image processing apparatus according to claim 1.
The image processing apparatus, wherein the defective pixel extraction processing unit obtains a difference between the bias voltage ON image and the bias voltage OFF image, and extracts a defective pixel from the image after the difference.
前記欠損画素抽出処理部は、前記差分後の画像に対してハイパスフィルタ処理を行い、ハイパスフィルタ処理後の画像から欠損画素を抽出することを特徴とする画像処理装置。 The image processing apparatus according to claim 2,
The image processing apparatus, wherein the defective pixel extraction processing unit performs high-pass filter processing on the image after the difference, and extracts defective pixels from the image after high-pass filter processing.
前記バイアス電圧OFF画像は、予め設定された時期に取得されたものであり、
前記バイアス電圧ON画像は、前記バイアス電圧OFF画像の取得後に繰り返し取得されるものであることを特徴とする画像処理装置。 The image processing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The bias voltage OFF image is obtained at a preset time,
The image processing apparatus according to claim 1, wherein the bias voltage ON image is repeatedly acquired after the bias voltage OFF image is acquired.
前記バイアス電圧OFF画像は、出荷前に取得した画像であることを特徴とする画像処理装置。 The image processing apparatus according to claim 4.
The image processing apparatus according to claim 1, wherein the bias voltage OFF image is an image acquired before shipment.
平面画像を取得する前記平面画像検出器とを備え、
前記平面画像検出器は、前記変換膜と、前記変換膜にバイアス電圧を印加し、その印加を停止するバイアス電圧供給源とを有していることを特徴とする撮影装置。 An image processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The planar image detector for obtaining a planar image,
The planar image detector includes the conversion film and a bias voltage supply source that applies a bias voltage to the conversion film and stops the application.
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