JP6062191B2 - Sampling method of sample gas - Google Patents
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Description
本発明は、試料ガスのサンプリング方法に関し、詳しくは、試料ガスをガスサンプリングバッグにサンプリングしてから分析するまでの期間中に、サンプリングした試料ガス中の被分析成分の濃度変化を抑制し、分析精度を向上させることができる試料ガスのサンプリング方法に関する。 The present invention relates to a sampling method for sample gas, and more particularly, suppresses a change in concentration of an analyte in a sampled sample gas during a period from when the sample gas is sampled into a gas sampling bag to analysis. The present invention relates to a sample gas sampling method capable of improving accuracy.
例えば、毒性を有するガスの除害処理を行う除害装置では、除害処理後の排ガスを定期的に分析して有毒成分が確実に除害されていることを確認している。除害装置の排ガスを分析する際には、通常、除害処理後の排ガスをガス容器内にサンプリングして分析装置に搬送するようにしている。ガス容器内に試料ガスをサンプリングした場合、容器内面に吸着している成分などとの反応によってガス組成が変化することがあるため、例えば、容器内面を化学研磨することによって容器内のガス組成の変化を抑えたり、サンプリング前に酸素を加圧充填して容器内面に存在する水素と反応させ、サンプリングした試料ガス中への水素の放出を抑制したりすることによってガス容器内でのガス組成の変化を抑え、分析精度の向上を図ることが行われていた(例えば、特許文献1,2参照。)。
For example, in a detoxification device that performs detoxification treatment of toxic gas, the exhaust gas after the detoxification treatment is periodically analyzed to confirm that toxic components are reliably detoxified. When analyzing the exhaust gas from the detoxification device, the exhaust gas after the detoxification treatment is usually sampled in a gas container and conveyed to the analysis device. When the sample gas is sampled in the gas container, the gas composition may change due to reaction with components adsorbed on the inner surface of the container. For example, by chemically polishing the inner surface of the container, The gas composition in the gas container can be controlled by suppressing the change or by pressurizing and filling oxygen before sampling to react with the hydrogen present on the inner surface of the container and suppressing the release of hydrogen into the sampled sample gas. It has been attempted to suppress the change and improve the analysis accuracy (see, for example,
前記両特許文献に記載された分析精度向上技術は、いずれも金属製ガス容器を対象としたものであって、金属製ガス容器に対しては十分な効果を期待することができる。一方、近年は、試料ガスをサンプリングする際に、金属製ガス容器に比べて軽量で取り扱いも容易なサンプリングバッグを使用することが多くなってきている。分析用試料ガスをサンプリングするサンプリングバッグには、アルミニウム層を含むラミネートフィルムで形成することによってガスバリア性を付与した、いわゆるアルミニウムバッグが用いられている。 Both of the analysis accuracy improving techniques described in both patent documents are directed to a metal gas container, and a sufficient effect can be expected for the metal gas container. On the other hand, in recent years, when sampling a sample gas, a sampling bag that is lighter and easier to handle than a metal gas container is often used. As the sampling bag for sampling the sample gas for analysis, a so-called aluminum bag is used, which is formed of a laminate film including an aluminum layer to provide a gas barrier property.
しかし、アルミニウムバッグでは、前記両特許文献などに記載された金属製容器における各種分析精度向上対策を実施することができないため、バッグ内面に試料ガスの組成に影響を与える成分が吸着していたり、試料ガス中の成分が吸着したりすることがある。特に、試料ガス中の被分析成分濃度が低く、例えば数ppb程度の極微量成分を分析する際に、通常の窒素ガスを用いたパージ操作を行ったアルミニウムバッグを用いると、アルミニウムバッグ内に封入した試料ガスの組成が変化して正確な分析を行えないことがあった。 However, in the aluminum bag, since various analytical accuracy improvement measures in the metal container described in both the above-mentioned patent documents can not be carried out, components that affect the composition of the sample gas are adsorbed on the bag inner surface, The component in the sample gas may be adsorbed. In particular, when analyzing an extremely small amount of component, such as several ppb, in the sample gas, when an aluminum bag purged with a normal nitrogen gas is used, it is enclosed in the aluminum bag. In some cases, the composition of the sample gas changed and accurate analysis could not be performed.
そこで本発明は、ガスバリア性を有するガスサンプリングバッグ、すなわち、アルミニウムバッグを使用して試料ガスをサンプリングした際の試料ガスの組成変動を抑えることができ、被分析成分の分析精度を向上させることができる試料ガスのサンプリング方法を提供することを目的としている。 Therefore, the present invention can suppress the variation in the composition of the sample gas when the sample gas is sampled using the gas sampling bag having the gas barrier property, that is, the aluminum bag, and improve the analysis accuracy of the component to be analyzed. It aims at providing the sampling method of the sample gas which can be performed.
上記目的を達成するため、本発明の試料ガスのサンプリング方法は、ガスバリア性を有するガスサンプリングバッグに被分析成分を含む試料ガスをサンプリングする方法において、試料ガスをサンプリングする前に、、前記試料ガス中の被分析成分濃度の50倍以上の被分析成分を含む前処理ガスを前記ガスサンプリングバッグ内に導入する前処理を行うことを特徴としている。 To achieve the above object, a method of sampling a sample gas of the present invention is a method of sampling a sample gas containing an analyte component in a gas sampling bag having a gas barrier property, ,, the sample gas before sampling a sample gas A pretreatment is performed in which a pretreatment gas containing an analysis component that is 50 times or more of the concentration of the analysis component therein is introduced into the gas sampling bag.
さらに、本発明の試料ガスのサンプリング方法は、前記前処理を24時間以上行うこと、前記ガスサンプリングバッグ内に、前記試料ガスを大気圧より3kPa以上高い圧力で封入することを特徴とし、また、前記被分析成分が揮発性金属水素化物であり、揮発性金属水素化物を除害処理する除害装置から排出される排ガスであることを特徴としている。 Further, the sampling method of sample gas of the present invention, by performing the pre-Symbol pretreatment 24 hours or more, the a gas sampling bag, characterized by sealing the sample gas at a higher pressure than 3kPa than atmospheric pressure, also The component to be analyzed is a volatile metal hydride, which is exhaust gas discharged from a detoxifying device for detoxifying the volatile metal hydride.
本発明の試料ガスのサンプリング方法によれば、ガスサンプリングバッグに被分析成分を含む試料ガスをサンプリングする前に、被分析成分を含む前処理ガス、好ましくは、試料ガス中の被分析成分濃度の50倍以上の被分析成分を含んだ前処理ガスを導入し、該前処理ガスをガスサンプリングバッグ内にあらかじめ設定された時間以上、好ましくは24時間以上通気させたり、封入したりする前処理を行うので、ガスサンプリングバッグの内面で生じる被分析成分の吸着平衡を、前処理ガス中に含まれる被分析成分によって安定化させることができる。 According to the sample gas sampling method of the present invention, before sampling the sample gas containing the component to be analyzed in the gas sampling bag, the pretreatment gas containing the component to be analyzed, preferably the concentration of the component to be analyzed in the sample gas is measured. A pretreatment gas that introduces a pretreatment gas containing a component to be analyzed 50 times or more, and is preaerated for a predetermined time or more, preferably 24 hours or more in the gas sampling bag, or is pretreated. As a result, the adsorption equilibrium of the analyte to be generated on the inner surface of the gas sampling bag can be stabilized by the analyte to be contained in the pretreatment gas.
これにより、前処理後に通常のパージ操作、例えば窒素ガスによる通常のパージ操作を行ってから試料ガスをガスサンプリングバッグ内に導入したときに、試料ガス中の被分析成分とガスサンプリングバッグの内面との間の吸着平衡の影響を受けることがなくなるので、ガスサンプリングバッグ内を少ない量の試料ガスでバッグ内を試料ガスに置換することができる。また、試料ガスをガスサンプリングバッグ内に導入した後、時間が経過しても前記吸着平衡による被分析成分の濃度変化も生じることがなくなる。さらに、ガスサンプリングバッグ内の試料ガスの封入圧力を、大気圧より3kPa以上高い圧力に設定することにより、ガスサンプリングバッグの内面から被分析成分が脱着することを防止でき、被分析成分濃度の変化を防止できる。特に、被分析成分が、強い吸着性を有する揮発性金属水素化物が被分析成分である場合、ガスサンプリングバッグ内面への揮発性金属水素化物の吸着による濃度低下を抑えて正確な分析を行うことができる。
As a result, when the sample gas is introduced into the gas sampling bag after performing a normal purge operation after the pretreatment, for example, a normal purge operation with nitrogen gas, the analyte in the sample gas and the inner surface of the gas sampling bag Therefore, the gas sampling bag can be replaced with the sample gas with a small amount of sample gas. In addition, after the sample gas is introduced into the gas sampling bag, the concentration of the component to be analyzed does not change due to the adsorption equilibrium even if time elapses. Furthermore, by setting the sealing pressure of the sample gas in the gas sampling bag to a
本発明で使用するガスバリア性を有するガスサンプリングバッグは、前述のように、アルミニウム層を含むラミネートフィルムで形成したアルミニウムバッグであって、アルミニウム層を構成するアルミニウム箔(アルミホイル)の両面に、ポリエチレンやナイロンなどを積層したラミネートフィルムで形成した市販のアルミニウムバッグを使用することができる。なお、前処理ガスや試料ガスをバッグ内に流通させる場合には、ガス流通口を2口有するアルミニウムバッグを使用すればよい。また、アルミニウムバッグの封入体積は任意であるが、通常は、5リットル程度の封入体積を有するアルミニウムバッグを使用すればよい。 The gas sampling bag having a gas barrier property used in the present invention is an aluminum bag formed of a laminate film including an aluminum layer as described above, and is formed on both surfaces of an aluminum foil (aluminum foil) constituting the aluminum layer. A commercially available aluminum bag formed of a laminate film in which nylon or nylon is laminated can be used. When the pretreatment gas or the sample gas is circulated in the bag, an aluminum bag having two gas distribution ports may be used. Moreover, although the enclosure volume of an aluminum bag is arbitrary, what is necessary is just to use the aluminum bag which usually has an enclosure volume of about 5 liters.
以下、図1に示すガスサンプリング装置及び図2に示すガス分析装置を使用して行った実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。試料ガスとしては、半導体製造設備の除害装置から排出される排ガスや半導体製造装置周辺の大気を想定し、被分析成分として、半導体製造用原料ガスとして用いられる反応性及び吸着性が高いモノシラン、ホスフィン及びアルシンをそれぞれ含むガスを用いた。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail on the basis of an example carried out using the gas sampling apparatus shown in FIG. 1 and the gas analyzer shown in FIG. As the sample gas, assuming the exhaust gas discharged from the abatement device of the semiconductor manufacturing facility and the atmosphere around the semiconductor manufacturing device, the monosilane having high reactivity and high adsorptivity used as the raw material gas for semiconductor manufacturing, Gases containing phosphine and arsine were used.
図1に示すガスサンプリング装置11は、アルミニウムバッグ(GLサイエンス社製 CCL−5:封入体積5L)12の一方の封止弁12aにガス導入経路13を接続し、他方の封止弁12bにガス導出経路14を接続している。ガス導入経路13とガス導出経路14とは、バイパス弁15Vを備えたバイパス経路15で接続し、アルミニウムバッグ12を通過させずにガス導入経路13からガス導出経路14へガスを流せるように形成している。
The
前記ガス導入経路13には、標準ガスを濃度調整した基準ガスを導入する基準ガス導入経路16と基準ガスを希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入経路17とを接続している。基準ガス導入経路16及び希釈ガス導入経路17には、圧力調節弁16a,17a及びマスフローコントローラー16b,17bをそれぞれ設けるとともに、希釈ガス導入経路17には、希釈ガスを水に通気させるバブリング槽(加湿槽)18を設けている。
Connected to the gas introduction path 13 are a reference
図2に示すガス分析装置21は、前記ガス導出経路14に接続した試料ガス導入経路22と、キャリアガス導入経路23と、複数の切替弁24,25,26と、試料ガスを計量する計量管27と、被分析成分を濃縮する濃縮管28と、複数のカラム31,32,33,34と、分析器35と、分析器用パージガス導入経路36とを備えるもので、試料ガス導入経路22には、脱水剤として五酸化リンを充填した精製筒22aを設けている。この分析装置21は、各切替弁24,25,26を所定の順序で切り替えるとともに濃縮管28の温度制御を行うことにより、計量管27で計量し、濃縮管28で濃縮した被分析成分を分析器35で分析するように形成されている。
A
標準ガスとして、窒素ガス中にモノシランを10ppmv/v(体積ppm、以下同じ)含むガスを使用し、希釈ガスには、窒素ガス中に酸素体積20%及び二酸化炭素500ppmv/v含む大気成分を模擬したガスを使用した。希釈ガスは、バブリング槽17を通すことによって水分が略飽和した状態とした。試料ガスには、前記マスフローコントローラー16b,17bで標準ガス及び希釈ガスの流量を調整することにより、モノシラン濃度を100ppbv/v(体積ppb、以下同じ)に調製したガスを使用した。
As a standard gas, a gas containing 10 ppmv / v monosilane in nitrogen gas (volume ppm, the same applies hereinafter) is used, and an atmospheric component containing 20% oxygen volume in nitrogen gas and 500 ppmv / v carbon dioxide is used as a dilution gas. Used gas. The dilution gas was passed through the
アルミニウムバッグの前処理に使用する前処理ガスの組成を、試料ガスのモノシラン濃度に対して100倍(前処理ガスA:10ppmv/v)、50倍(前処理ガスB:5ppmv/v)、20倍(前処理ガスC:2ppmv/v)、10倍(前処理ガスD:1ppmv/v)のそれぞれに設定したモノシラン含有窒素ガスを用いるとともに、従来のパージ方法を想定してモノシランを含まない窒素ガス(前処理ガスE)を用い、各前処理ガスをアルミニウムバッグ12に流通させてガス置換を行った後、封止弁12a,12bを閉じて各前処理ガスA〜Eをそれぞれ封入し、6時間、12時間、24時間及び48時間静置した。所定時間静置後に各アルミニウムバッグ内に窒素ガス(前処理ガスEと同じガス)を流通させ、各アルミニウムバッグ内を十分に窒素置換したアルミニウムバッグを、それぞれ試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグとした。
The composition of the pretreatment gas used for the pretreatment of the aluminum bag is 100 times the concentration of monosilane in the sample gas (pretreatment gas A: 10 ppmv / v), 50 times (pretreatment gas B: 5 ppmv / v), 20 Nitrogen-containing nitrogen gas set to 10 times (pretreatment gas C: 2 ppmv / v) and 10 times (pretreatment gas D: 1 ppmv / v), respectively, and nitrogen that does not contain monosilane assuming a conventional purge method After using gas (pretreatment gas E) to circulate each pretreatment gas through the
各試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグを前記ガスサンプリング装置にセットし、前記試料ガス(モノシラン濃度100ppbv/v)を流通しながら前記分析装置で分析したモノシラン濃度の変化を各前処理ガスA〜Eで前処理した各アルミニウムバッグに対してそれぞれ記録した。その結果を図3に示す。また、各アルミニウムバッグ内への前処理ガスA〜Dの封入時間と分析装置で分析したモノシラン濃度との関係を図4に示す。さらに、モノシラン濃度が50倍の前処理ガスBとモノシランを含まない前処理ガスEとをそれぞれ24時間封入する前処理を行ったアルミニウムバッグにおいて、分析装置で分析したモノシラン濃度が安定した直後に封止弁12a,12bをそれぞれ封止してアルミニウムバッグ内に試料ガスを封入し、1〜3日経過した後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスを分析装置でそれぞれ分析した。その結果を図5に示す。また、アルミニウムバッグ内にサンプリングした試料ガスの圧力を0kPa(大気圧),1kPa,2kPa,3kPa,5kPa,10kPaにそれぞれ設定し、試料ガスを封入してから3日後、1週間後、2週間後、4週間後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスをそれぞれ分析した。その結果を図6に示す。
An aluminum bag for sampling each sample gas is set in the gas sampling device, and the change in monosilane concentration analyzed by the analyzer while circulating the sample gas (
標準ガスを実施例1のモノシラン含有窒素ガスに代えて、窒素ガス中にホスフィンを10ppmv/v含むガスを使用し、試料ガス中のホスフィン濃度を30ppbv/vに設定した。希釈ガスは、実施例1と同じガスを使用した。 The standard gas was replaced with the monosilane-containing nitrogen gas of Example 1, and a gas containing 10 ppmv / v of phosphine in the nitrogen gas was used, and the phosphine concentration in the sample gas was set to 30 ppbv / v. The same gas as in Example 1 was used as the dilution gas.
アルミニウムバッグの前処理に使用する前処理ガスの組成を、試料ガスのホスフィン濃度に対して100倍(前処理ガスA:3ppmv/v)、50倍(前処理ガスB:1.5ppmv/v)、20倍(前処理ガスC:0.6ppmv/v)、10倍(前処理ガスD:0.3ppmv/v)のそれぞれに設定したホスフィン含有窒素ガスを用いるとともに、ホスフィンを含まない窒素ガス(前処理ガスE)を用い、各前処理ガスをアルミニウムバッグに流通させてガス置換を行った後、封止弁12a,12bを閉じて各前処理ガスA〜Eをそれぞれ封入し、6時間、12時間、24時間及び48時間静置した。所定時間静置後に各アルミニウムバッグ内を窒素ガスに置換して試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグとした。
The composition of the pretreatment gas used for the pretreatment of the aluminum bag is 100 times the phosphine concentration of the sample gas (pretreatment gas A: 3 ppmv / v), 50 times (pretreatment gas B: 1.5 ppmv / v) , Phosphine-containing nitrogen gas set to 20 times (pretreatment gas C: 0.6 ppmv / v) and 10 times (pretreatment gas D: 0.3 ppmv / v), respectively, and nitrogen gas containing no phosphine ( The pretreatment gas E) was used to circulate each pretreatment gas through the aluminum bag and perform gas replacement. Then, the sealing
各試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグを前記ガスサンプリング装置にセットし、前記試料ガス(ホスフィン濃度30ppbv/v)を流通しながら前記分析装置で分析したホスフィン濃度の変化を各前処理ガスA〜Eで前処理した各アルミニウムバッグに対してそれぞれ記録した。その結果を図7に示す。また、各アルミニウムバッグ内への前処理ガスA〜Dの封入時間と分析装置で分析したホスフィン濃度との関係を図8に示す。さらに、ホスフィン濃度が50倍の前処理ガスBとホスフィンを含まない前処理ガスEとをそれぞれ24時間封入する前処理を行ったアルミニウムバッグにおいて、分析装置で分析したホスフィン濃度が安定した直後に封止弁12a,12bをそれぞれ封止してアルミニウムバッグ内に試料ガスを封入し、1〜3日経過した後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスを分析装置でそれぞれ分析した。その結果を図9に示す。また、アルミニウムバッグ内にサンプリングした試料ガスの圧力を0kPa(大気圧),1kPa,2kPa,3kPa,5kPa,10kPaにそれぞれ設定し、試料ガスを封入してから3日後、1週間後、2週間後、4週間後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスをそれぞれ分析した。その結果を図10に示す。
An aluminum bag for sampling each sample gas is set in the gas sampling device, and the change in the phosphine concentration analyzed by the analyzer while the sample gas (
標準ガスを実施例1のモノシラン含有窒素ガスに代えて、窒素ガス中にアルシンを1ppmv/v含むガスを使用し、試料ガス中のアルシン濃度を5ppbv/vに設定した。希釈ガスは、実施例1と同じガスを使用した。 The standard gas was replaced with the monosilane-containing nitrogen gas of Example 1, and a gas containing 1 ppm v / v of arsine in nitrogen gas was used. The arsine concentration in the sample gas was set to 5 ppbv / v. The same gas as in Example 1 was used as the dilution gas.
アルミニウムバッグの前処理に使用する前処理ガスの組成を、試料ガスのアルシン濃度に対して100倍(前処理ガスA:500ppbv/v)、50倍(前処理ガスB:250ppbv/v)、20倍(前処理ガスC:100ppbv/v)、10倍(前処理ガスD:50ppbv/v)のそれぞれに設定したアルシン含有窒素ガスを用いるとともに、アルシンを含まない窒素ガス(前処理ガスE)を用い、各前処理ガスをアルミニウムバッグに流通させてガス置換を行った後、封止弁12a,12bを閉じて各前処理ガスA〜Eをそれぞれ封入し、6時間、12時間、24時間及び48時間静置した。所定時間静置後に各アルミニウムバッグ内を窒素ガスに置換して試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグとした。
The composition of the pretreatment gas used for the pretreatment of the aluminum bag is 100 times the pretreatment gas arsine concentration (pretreatment gas A: 500 ppbv / v), 50 times (pretreatment gas B: 250 ppbv / v), 20 Nitrogen gas (pretreatment gas E) not containing arsine is used while using arsine-containing nitrogen gas set to double (pretreatment gas C: 100 ppbv / v) and 10 times (pretreatment gas D: 50 ppbv / v). After each pretreatment gas was circulated through the aluminum bag and replaced with gas, the sealing
各試料ガスサンプリング用のアルミニウムバッグを前記ガスサンプリング装置にセットし、前記試料ガス(アルシン濃度5ppbv/v)を流通しながら前記分析装置で分析したアルシン濃度の変化を各前処理ガスA〜Eで前処理した各アルミニウムバッグに対してそれぞれ記録した。その結果を図11に示す。また、各アルミニウムバッグ内への前処理ガスA〜Dの封入時間と分析装置で分析したアルシン濃度との関係を図12に示す。さらに、アルシン濃度が50倍の前処理ガスBとアルシンを含まない前処理ガスEとをそれぞれ24時間封入する前処理を行ったアルミニウムバッグにおいて、分析装置で分析したアルシン濃度が安定した直後に封止弁12a,12bをそれぞれ封止してアルミニウムバッグ内に試料ガスを封入し、1〜3日経過した後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスを分析装置で分析した。その結果を図13に示す。また、アルミニウムバッグ内に封入する試料ガスの圧力を0kPa(大気圧),1kPa,2kPa,3kPa,5kPa,10kPaにそれぞれ設定し、試料ガスを封入してから3日後、1週間後、2週間後、4週間後に各アルミニウムバッグ内の試料ガスをそれぞれ分析した。その結果を図14に示す。
An aluminum bag for each sample gas sampling is set in the gas sampling device, and the change in the arsine concentration analyzed by the analyzer while the sample gas (
以上の各実施例から、被分析成分を含む前処理ガスを使用して前処理を行うことにより、サンプリングを行う際に、アルミニウムバッグ内を少量の試料ガスで安定した状態に置換することができ、サンプリングに要する時間を短縮できることがわかる。特に、試料ガス中の被分析成分濃度に対して50倍以上の濃度で被分析成分を含む前処理ガスを使用することにより、より少ない量の試料ガスでアルミニウムバッグ内を試料ガスに置換することができる。なお、前処理ガス中の被分析成分の濃度の上限は特にないが、被分析成分濃度を高くすると被分析成分の使用量が多くなって不経済であるから、試料ガス中の被分析成分濃度に対して50〜100倍程度に設定することが好ましい。
From each of the above examples, by performing the pretreatment using the pretreatment gas containing the component to be analyzed, the inside of the aluminum bag can be replaced with a small amount of sample gas when sampling is performed. It can be seen that the time required for sampling can be shortened. In particular, by using a pretreatment gas containing an analyte at a
また、アルミニウムバッグの内面と前処理ガスとを24時間以上接触させることによってもサンプリング時の試料ガス量の低減を図れることがわかる。接触時間についても上限は特にないが、長時間に設定するとアルミニウムバッグの数が多く必要になったり、管理が面倒になったりするので、通常は、サンプリングを行う前日に前処理を行うことが好ましい。 It can also be seen that the amount of sample gas during sampling can be reduced by bringing the inner surface of the aluminum bag into contact with the pretreatment gas for 24 hours or longer. There is no particular upper limit for the contact time, but if it is set to a long time, a large number of aluminum bags are required or management becomes troublesome. Therefore, it is usually preferable to perform pretreatment the day before sampling. .
さらに、ガスサンプリングバッグ内に封入する試料ガスの圧力を高くすることにより、長時間にわたって安定した状態で試料ガスを封入した状態にすることができる。この封入圧力は、アルミニウムバッグの耐圧性能によって上限が制限されるが、サンプリングする試料ガスの圧力に応じて設定すればよい。 Furthermore, by increasing the pressure of the sample gas sealed in the gas sampling bag, the sample gas can be sealed in a stable state for a long time. The upper limit of the sealing pressure is limited by the pressure resistance of the aluminum bag, but may be set according to the pressure of the sample gas to be sampled.
なお、実際の試料ガスをサンプリングする際の操作は、従来と同様にして行うことができ、分析装置は、分析対象となる成分の種類や濃度に応じて選択することができる。 The operation for sampling the actual sample gas can be performed in the same manner as in the past, and the analyzer can be selected according to the type and concentration of the component to be analyzed.
11…ガスサンプリング装置、12…アルミニウムバッグ、12a,12b…封止弁、13…ガス導入経路、14…ガス導出経路、15…バイパス経路、15V…バイパス弁、16…基準ガス導入経路、17…希釈ガス導入経路、16a,17a…圧力調節弁、16b,17b…マスフローコントローラー、18…バブリング槽、21…ガス分析装置、22…試料ガス導入経路、22a…精製筒、23…キャリアガス導入経路、24,25,26…切替弁、27…計量管、28…濃縮管、31,32,33,34…カラム、35…分析器、36…分析器用パージガス導入経路
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