JP6058939B2 - LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE MANUFACTURING METHOD - Google Patents

LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE MANUFACTURING METHOD Download PDF

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Description

本発明は、発光装置及びその製造方法に関し、特に、発光素子を搭載した発光装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a light emitting device including a light emitting element and a manufacturing method thereof.

近年、照明装置の光源としてLED(Light Emitting Diode)が多く用いられるようになってきている。LED(発光素子)を用いた照明装置の白色光を得る方法として、赤色LED、青色LED及び緑色LEDの三種類のLEDを用いる方法、青色LEDから発した励起光を変換して黄色光を発する蛍光体を用いる方法等がある。照明用光源としては、十分な輝度の白色光が要求されているために、LEDチップを複数個用いた照明装置が商品化されている。こうした照明装置は、通常、LEDを搭載した発光装置を備えている。   In recent years, LEDs (Light Emitting Diodes) are often used as light sources for lighting devices. As a method of obtaining white light of a lighting device using an LED (light emitting element), a method using three types of LEDs, a red LED, a blue LED, and a green LED, and emitting yellow light by converting excitation light emitted from the blue LED There is a method using a phosphor. As a light source for illumination, white light with sufficient luminance is required, and lighting devices using a plurality of LED chips have been commercialized. Such an illuminating device usually includes a light emitting device on which an LED is mounted.

近年では、種々のタイプの照明装置が求められており、特に、より広範囲において光を出射する電球等のタイプの照明装置が求められるようになってきている。例えば、全方位型電球等がこれに当たる。このような照明装置を実現するためには、より広範囲に光を出射する発光装置が必要となる。   In recent years, various types of illumination devices have been demanded, and in particular, there has been a demand for illumination devices of a type such as a light bulb that emits light in a wider range. For example, an omnidirectional light bulb corresponds to this. In order to realize such an illumination device, a light emitting device that emits light in a wider range is required.

こうした発光装置として、従来、透明基板上に発光素子を実装した発光装置が知られている。この発光装置において、発光素子から出射された光は透明基板を透過して当該透明基板の裏面側にも出射されるため、広範囲に光が出射される。   As such a light emitting device, a light emitting device in which a light emitting element is mounted on a transparent substrate is conventionally known. In this light emitting device, the light emitted from the light emitting element is transmitted through the transparent substrate and also emitted to the back side of the transparent substrate, so that the light is emitted in a wide range.

しかし、透明基板は熱伝導が悪いため、従来知られている発光装置では放熱性が不十分であるという問題がある。特に、高い光出力を必要とする発光装置の場合は、透明基板上に複数の発光素子が実装されるため放熱の問題が大きくなる。   However, since the transparent substrate has poor heat conduction, a conventionally known light emitting device has a problem of insufficient heat dissipation. In particular, in the case of a light-emitting device that requires high light output, the problem of heat dissipation increases because a plurality of light-emitting elements are mounted on a transparent substrate.

このような問題に対して後掲の特許文献1は透明基板の両側に金属プレートを配置した発光装置を提案している。この発光装置は、LEDチップが実装された透明基板を含み、透明基板におけるLEDチップの両側に導電体を介して金属プレートが固定されている。透明基板上に実装されたLEDチップは、蛍光体を含有する透光性部材によって封止されている。特許文献1の発光装置では、透明基板の両側に導電体を介して金属プレートが固定されているため、この金属プレートを介してLEDチップで生じた熱が放熱される。   With respect to such a problem, Patent Document 1 described later proposes a light emitting device in which metal plates are arranged on both sides of a transparent substrate. This light-emitting device includes a transparent substrate on which an LED chip is mounted, and metal plates are fixed to both sides of the LED chip on the transparent substrate via a conductor. The LED chip mounted on the transparent substrate is sealed with a translucent member containing a phosphor. In the light emitting device of Patent Document 1, since the metal plate is fixed to both sides of the transparent substrate via a conductor, heat generated in the LED chip is radiated through the metal plate.

特開2007−165811号公報JP 2007-165811 A

特許文献1の発光装置はLEDチップが1つのみ実装されている場合であれば放熱性に関して大きな問題はない。しかし、本願発明者が検討を行なったところ、例えば透明基板上に複数のLEDチップを実装した場合等では、金属プレートが固定されている、透明基板の両側のみ放熱が進むため、透明基板の中心部分に熱がこもるという不都合が生じることが分かった。さらに、LEDチップが搭載された場所により、LEDチップの温度が異なる、温度ムラが生じることも分かった。   The light emitting device of Patent Document 1 has no major problem with respect to heat dissipation as long as only one LED chip is mounted. However, when the inventors of the present application have studied, for example, when a plurality of LED chips are mounted on a transparent substrate, the metal plate is fixed, and heat dissipation proceeds only on both sides of the transparent substrate. It turned out that the inconvenience that heat accumulates in a part arises. Furthermore, it was also found that the temperature of the LED chip varies depending on the location where the LED chip is mounted, resulting in temperature unevenness.

上記特許文献1はさらに、LEDチップを実装するためのダイボンド部材に蛍光体を含有させた構成も開示している。ダイボンド部材に蛍光体を含有させることにより、LEDチップから透明基板側に出射された光はダイボンド部材中の蛍光体によって波長変換される。   Patent Document 1 also discloses a configuration in which a phosphor is contained in a die bond member for mounting an LED chip. By including the phosphor in the die bond member, the light emitted from the LED chip to the transparent substrate side is wavelength-converted by the phosphor in the die bond member.

ダイボンド部材に蛍光体を含有した場合、ダイボンド部材の厚みが大きくなり放熱性が著しく低下する場合がある。放熱性の改善のためには、ダイボンド部材に蛍光体を含有しないことが好ましい。この場合、LEDチップから透明基板側に出射された光は、ダイボンド部材を透過して透明基板中に入射するため、LEDチップの発光色のままの光が透明基板中を伝播して外部に出射されるおそれがある。これにより、LEDチップの発光色のままの光が多く出射されてしまうため色むらを引起こすという新たな問題が生じる。   When a phosphor is contained in the die bond member, the thickness of the die bond member may increase and the heat dissipation may be significantly reduced. In order to improve heat dissipation, it is preferable that the die bond member does not contain a phosphor. In this case, since the light emitted from the LED chip to the transparent substrate side is transmitted through the die bonding member and enters the transparent substrate, the light of the LED chip in the emission color propagates through the transparent substrate and is emitted to the outside. There is a risk of being. As a result, a large amount of light in the emission color of the LED chip is emitted, resulting in a new problem of causing color unevenness.

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、本発明の1つの目的は、広範囲に光を出射することが可能であり、かつ、面内均一性の高い放熱を実現できる発光装置及びその発光装置の製造方法を提供することである。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems. One object of the present invention is to emit light over a wide range and to provide heat radiation with high in-plane uniformity. A light-emitting device that can be realized and a method for manufacturing the light-emitting device.

本発明のもう1つの目的は、均一な発光色の光を広範囲に、かつ、効率よく出射できる発光装置及びその発光装置の製造方法を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a light emitting device capable of efficiently emitting light of uniform light emission color over a wide range and a method for manufacturing the light emitting device.

上記目的を達成するために、本発明の第1の局面に係る発光装置は、複数の発光素子と、これら複数の発光素子が搭載される透明基体と、透明基体が固定される反射板と、蛍光体を含有し、透明基体を覆うように形成された透明樹脂層とを含む。反射板は、複数の発光素子から出射された光が透過する光透過部を有する。光透過部は、複数の発光素子と対向する領域に設けられている。   In order to achieve the above object, a light-emitting device according to a first aspect of the present invention includes a plurality of light-emitting elements, a transparent substrate on which the plurality of light-emitting elements are mounted, a reflector on which the transparent substrate is fixed, A transparent resin layer containing a phosphor and formed so as to cover the transparent substrate. The reflection plate has a light transmission part through which light emitted from the plurality of light emitting elements is transmitted. The light transmission portion is provided in a region facing the plurality of light emitting elements.

複数の発光素子は透明基体上に搭載されており、この透明基体が反射板上に固定されている。発光素子で生じた熱はこの反射板を介して放熱される。反射板上に透明基体を固定することにより、複数の発光素子の駆動によって発生した熱を面内で均一に広げて効率よく放熱できる。すなわち、面内均一性の高い放熱を実現できる。そのため、例えば透明基体の中心部分に熱がこもったり、複数の発光素子において温度が異なる、温度ムラが生じたりするのを抑制できる。透明基体が固定される反射板には、複数の発光素子と対向する領域に光透過部が設けられている。発光素子から出射された光は、例えば透明基体を透過して光透過部からも出射される。これにより、本発光装置は広範囲に光を出射できる。   The plurality of light emitting elements are mounted on a transparent substrate, and the transparent substrate is fixed on the reflector. Heat generated in the light emitting element is dissipated through the reflector. By fixing the transparent substrate on the reflecting plate, the heat generated by driving the plurality of light emitting elements can be spread uniformly in the plane and efficiently radiated. That is, heat radiation with high in-plane uniformity can be realized. Therefore, for example, it is possible to suppress the heat from being accumulated in the central portion of the transparent substrate, or the occurrence of temperature unevenness in which the temperatures are different among the plurality of light emitting elements. The reflection plate to which the transparent substrate is fixed is provided with a light transmission portion in a region facing the plurality of light emitting elements. The light emitted from the light emitting element passes through the transparent substrate, for example, and is also emitted from the light transmission part. Thereby, this light-emitting device can emit light in a wide range.

本発光装置はまた、蛍光体を含有する透明樹脂層で透明基体が覆われている。そのため、発光素子の発光色のままの光が透明基体中を伝播して外部に出射されるのを抑制できる。したがって、発光素子の発光色のままの光が多く出射されてしまうのを抑制できるので、色むらの発生を抑制できる。さらに、透明基体を固定する反射板を含むことによって、発光素子及び蛍光体から出射された光を反射板で効率よく反射できる。これにより、光を有効に発光装置の外部に取出すことができる。   In the light emitting device, the transparent substrate is covered with a transparent resin layer containing a phosphor. Therefore, it can suppress that the light with the luminescent color of a light emitting element propagates in a transparent base | substrate, and is radiate | emitted outside. Therefore, since it can suppress that many lights with the luminescent color of a light emitting element are radiate | emitted, generation | occurrence | production of color unevenness can be suppressed. Further, by including a reflecting plate for fixing the transparent substrate, the light emitted from the light emitting element and the phosphor can be efficiently reflected by the reflecting plate. Thereby, light can be effectively taken out of the light emitting device.

このように、本発光装置によれば、面内均一性の高い放熱を実現できるとともに、均一な発光色の光を広範囲に、かつ、効率よく出射できる。   As described above, according to the light emitting device, heat radiation with high in-plane uniformity can be realized, and light of uniform light emission color can be emitted in a wide range and efficiently.

好ましくは、光透過部の形成領域は透明基体の平面積より小さい。これにより、容易に、発光素子が搭載された透明基体を、その発光素子が光透過部と対向するようにして反射板に固定できる。   Preferably, the formation region of the light transmission part is smaller than the plane area of the transparent substrate. Thereby, the transparent base | substrate with which the light emitting element is mounted can be easily fixed to a reflecting plate so that the light emitting element may oppose a light transmissive part.

より好ましくは、発光装置は、発光素子を透明基体上に固定する、蛍光体を含有しない接着層をさらに含み、接着層は透光性を有している。   More preferably, the light emitting device further includes an adhesive layer that does not contain a phosphor and fixes the light emitting element on the transparent substrate, and the adhesive layer has translucency.

蛍光体を含有しない接着層を介して発光素子を固定することにより、接着層の厚みが大きくなり過ぎるのを抑制できるので、放熱性をより向上できる。本発光装置は、蛍光体を含有する透明樹脂層で透明基体が覆われているので、このように構成した場合でも、発光素子の発光色のままの光が透明基体中を伝播して外部に出射されるのを抑制できる。   By fixing the light emitting element through an adhesive layer that does not contain a phosphor, it is possible to suppress the thickness of the adhesive layer from becoming too large, so that heat dissipation can be further improved. In this light emitting device, since the transparent substrate is covered with the transparent resin layer containing the phosphor, even in such a configuration, the light that remains in the emission color of the light emitting element propagates through the transparent substrate and is exposed to the outside. The emission can be suppressed.

さらに好ましくは、透明基体は端部を有するとともに、透明樹脂層は透明基体の端部に対応する端部を有し、透明基体の端部から透明樹脂層の端部までの距離をdとし、透明基体における発光素子が搭載されている搭載面から当該透明樹脂層における搭載面と対向する外表面までの距離をtとした場合に、距離dと距離tとはd≧tの関係を有する。   More preferably, the transparent substrate has an end, the transparent resin layer has an end corresponding to the end of the transparent substrate, and the distance from the end of the transparent substrate to the end of the transparent resin layer is d, When the distance from the mounting surface on which the light emitting element is mounted on the transparent substrate to the outer surface facing the mounting surface in the transparent resin layer is t, the distance d and the distance t have a relationship of d ≧ t.

透明基体の端部から透明樹脂層の端部までの距離dを透明基体の搭載面から透明樹脂層の外表面までの距離t以上とすることにより、透明基体の側面を、容易に、適切な量の蛍光体を含有する透明樹脂層で覆うことができる。透明基体中を伝播して当該透明基体の側面から出射される光は、透明基体の側面を覆う透明樹脂層中の蛍光体を十分に励起できるため、発光素子の発光色のままの光が多く出射されてしまうのを容易に抑制できる。その結果、外部に出射される光を容易に均一な発光色の光にできる。   By making the distance d from the edge of the transparent substrate to the edge of the transparent resin layer equal to or greater than the distance t from the mounting surface of the transparent substrate to the outer surface of the transparent resin layer, the side surface of the transparent substrate can be easily and appropriately It can be covered with a transparent resin layer containing an amount of phosphor. Light that propagates through the transparent substrate and is emitted from the side surface of the transparent substrate can sufficiently excite the phosphor in the transparent resin layer that covers the side surface of the transparent substrate, so that much of the light remains in the emission color of the light-emitting element. Emission can be easily suppressed. As a result, the light emitted to the outside can be easily converted into light of uniform emission color.

さらに好ましくは、透明基体は端部を有するとともに、透明樹脂層及び反射板はそれぞれ透明基体の端部に対応する端部を有し、透明基体の端部から透明樹脂層の端部までの距離をdとし、透明基体の端部から反射板の端部までの距離をAとした場合に、距離dと距離AとはA≧dの関係を有する。   More preferably, the transparent substrate has an end, and each of the transparent resin layer and the reflector has an end corresponding to the end of the transparent substrate, and the distance from the end of the transparent substrate to the end of the transparent resin layer. Is d and the distance from the end of the transparent substrate to the end of the reflector is A, the distance d and the distance A have a relationship of A ≧ d.

透明基体の端部から反射板の端部までの距離Aを透明基体の端部から透明樹脂層の端部までの距離d以上とすることにより、容易に、蛍光体を含有する透明樹脂層で透明基体を覆うことができる。加えて、容易に、透明基体の側面を適切な量の蛍光体を含有する透明樹脂層で覆うことができる。   By setting the distance A from the edge of the transparent substrate to the edge of the reflector to be equal to or greater than the distance d from the edge of the transparent substrate to the edge of the transparent resin layer, the transparent resin layer containing the phosphor can be easily formed. The transparent substrate can be covered. In addition, the side surface of the transparent substrate can be easily covered with a transparent resin layer containing an appropriate amount of phosphor.

さらに好ましくは、光透過部は端部を有し、光透過部の端部から複数の発光素子のうち最も当該端部側の発光素子までの距離をCとした場合に、距離CはC>0である。   More preferably, the light transmission part has an end part, and when the distance from the end part of the light transmission part to the light emitting element closest to the end part among the plurality of light emitting elements is C, the distance C is C> 0.

このように構成すれば、発光素子から出射された光を光透過部から効率よく外部に取出すことができるので、発光素子からの光を広範囲に、かつ、効率よく外部に出射できる。   If comprised in this way, since the light radiate | emitted from the light emitting element can be efficiently taken out from the light transmissive part, the light from a light emitting element can be efficiently radiate | emitted outside over a wide range.

さらに好ましくは、反射板は金属材料から構成されている。   More preferably, the reflecting plate is made of a metal material.

反射板を金属材料から構成することにより、より一層、発光素子で生じた熱を面内で均一に広げて効率よく放熱できる。これにより、発光装置の放熱性をより一層向上できる。   By configuring the reflecting plate from a metal material, the heat generated in the light emitting element can be spread more uniformly in the plane and efficiently radiated. Thereby, the heat dissipation of a light-emitting device can be improved further.

さらに好ましくは、透明基体は200μm以上6000μm以下の厚みを有する。   More preferably, the transparent substrate has a thickness of 200 μm or more and 6000 μm or less.

透明基体の厚みをこのような厚みにすることによって、発光装置の放熱特性をさらに向上できる。加えて、透明基体の機械的強度の低下を抑制して、当該透明基体を破損しにくくできる。   By setting the thickness of the transparent substrate to such a thickness, the heat dissipation characteristics of the light emitting device can be further improved. In addition, a decrease in mechanical strength of the transparent substrate can be suppressed, and the transparent substrate can be hardly damaged.

本発明の第2の局面に係る発光装置の製造方法は、透明基体上に複数の発光素子を実装する工程と、光透過部を有する反射板を形成する工程と、反射板上に、透明基体を複数の発光素子が光透過部と対向するようにして固定する工程と、透明基体を覆うように、蛍光体を含有した透明樹脂層を形成する工程とを含む。   A method for manufacturing a light emitting device according to a second aspect of the present invention includes a step of mounting a plurality of light emitting elements on a transparent substrate, a step of forming a reflector having a light transmission portion, and a transparent substrate on the reflector. Including a step of fixing the plurality of light emitting elements so as to face the light transmitting portion, and a step of forming a transparent resin layer containing a phosphor so as to cover the transparent substrate.

複数の発光素子を透明基体上に搭載し、この透明基体を反射板上に固定する。発光素子で生じた熱はこの反射板を介して放熱される。反射板上に透明基体を固定することにより、複数の発光素子の駆動によって発生した熱を面内で均一に広げて効率よく放熱できる。すなわち、面内均一性の高い放熱を実現できる。反射板に透明基体を固定する際に、複数の発光素子が反射板に形成された光透過部と対向するようにして、透明基体を反射板に固定する。そのため、発光素子から出射された光は、例えば透明基体を透過して反射板の光透過部からも出射される。これにより、本製造方法により製造された発光装置は広範囲に光を出射できる。   A plurality of light emitting elements are mounted on a transparent substrate, and the transparent substrate is fixed on a reflector. Heat generated in the light emitting element is dissipated through the reflector. By fixing the transparent substrate on the reflecting plate, the heat generated by driving the plurality of light emitting elements can be spread uniformly in the plane and efficiently radiated. That is, heat radiation with high in-plane uniformity can be realized. When the transparent substrate is fixed to the reflecting plate, the transparent substrate is fixed to the reflecting plate so that the plurality of light emitting elements are opposed to the light transmission part formed on the reflecting plate. Therefore, the light emitted from the light emitting element passes through the transparent base, for example, and is also emitted from the light transmitting portion of the reflecting plate. Thereby, the light-emitting device manufactured by this manufacturing method can emit light in a wide range.

さらに、発光素子が搭載された透明基体を覆うように、蛍光体を含有した透明樹脂層を形成する。透明基体は蛍光体を含有した透明樹脂層で覆われるため、発光素子の発光色のままの光が透明基体中を伝播して外部に出射されるのを抑制できる。したがって、発光素子の発光色のままの光が多く出射されてしまうのを抑制できるので、色むらの発生を抑制できる。さらに、反射板に透明基体を固定することによって、発光素子及び蛍光体から出射された光を反射板で効率よく反射できるので、光を有効に取出すことができる。   Further, a transparent resin layer containing a phosphor is formed so as to cover the transparent substrate on which the light emitting element is mounted. Since the transparent substrate is covered with the transparent resin layer containing the phosphor, it is possible to suppress the light that remains in the emission color of the light emitting element from propagating through the transparent substrate and being emitted to the outside. Therefore, since it can suppress that many lights with the luminescent color of a light emitting element are radiate | emitted, generation | occurrence | production of color unevenness can be suppressed. Furthermore, by fixing the transparent substrate to the reflecting plate, the light emitted from the light emitting element and the phosphor can be efficiently reflected by the reflecting plate, so that the light can be taken out effectively.

このように、本製造方法によれば、面内均一性の高い放熱を実現できるとともに、均一な発光色の光を広範囲に、かつ、効率よく出射できる発光装置を製造できる。   As described above, according to this manufacturing method, it is possible to manufacture a light emitting device that can realize heat radiation with high in-plane uniformity and can efficiently emit light of uniform light emission color over a wide range.

以上より、本発明によれば、広範囲に光を出射することが可能であり、かつ、面内均一性の高い放熱を実現できる発光装置及びその発光装置の製造方法を容易に得ることができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to easily obtain a light emitting device capable of emitting light over a wide range and realizing heat radiation with high in-plane uniformity and a method for manufacturing the light emitting device.

また本発明によれば、均一な発光色の光を広範囲に、かつ、効率よく出射できる発光装置及びその発光装置の製造方法を容易に得ることができる。   Further, according to the present invention, it is possible to easily obtain a light emitting device capable of efficiently emitting light of uniform emission color over a wide range and a method for manufacturing the light emitting device.

本発明の第1の実施の形態に係る照明装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the illuminating device which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1に示す発光装置の断面図(図3の2−2線に沿った断面に対応する図)である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the light emitting device shown in FIG. 1 (a view corresponding to a cross section taken along line 2-2 in FIG. 3). 図1に示す発光装置の平面図(上面側から見た状態の図)である。It is a top view (figure of the state seen from the upper surface side) of the light-emitting device shown in FIG. 図1に示す発光装置の透明基体の平面図である。It is a top view of the transparent base | substrate of the light-emitting device shown in FIG. 図4の5−5線に沿った断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line 5-5 of FIG. 図1に示す発光装置の透明基体の断面図(金属柱が固定された状態を示す図)である。FIG. 2 is a cross-sectional view (a diagram showing a state in which a metal column is fixed) of the transparent substrate of the light emitting device shown in FIG. 1. 図1に示す発光装置の反射板の平面図である。It is a top view of the reflecting plate of the light-emitting device shown in FIG. 図1に示す発光装置の平面図(下面側から見た状態の図)である。It is a top view (figure of the state seen from the lower surface side) of the light-emitting device shown in FIG. 図1に示す発光装置に搭載される発光素子の断面図(図10の9−9線に沿った断面に対応する図)である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a light-emitting element mounted on the light-emitting device shown in FIG. 1 (a diagram corresponding to a cross section taken along line 9-9 in FIG. 10). 図1に示す発光装置に搭載される発光素子の平面図である。It is a top view of the light emitting element mounted in the light-emitting device shown in FIG. 図1に示す発光装置の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of light-emitting device shown in FIG. 図1に示す発光装置の製造方法を説明するための図(発光装置を側面側から見た図)である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the light-emitting device shown in FIG. 1 (the figure which looked at the light-emitting device from the side side). 図1に示す発光装置の製造方法を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the manufacturing method of the light-emitting device shown in FIG. 本発明の第2の実施の形態に係る照明装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the illuminating device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図14に示す発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device shown in FIG. 本発明の第3の実施の形態に係る発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第1の変形例に係る発光装置の反射板を示す平面図である。It is a top view which shows the reflecting plate of the light-emitting device which concerns on the 1st modification of this invention. 本発明の第1の変形例に係る発光装置を一部省略して示す平面図である。It is a top view which abbreviate | omits and shows the light-emitting device which concerns on the 1st modification of this invention. 本発明の第2の変形例に係る発光装置の反射板を示す平面図である。It is a top view which shows the reflecting plate of the light-emitting device which concerns on the 2nd modification of this invention. 本発明の第2の変形例に係る発光装置を一部省略して示す平面図である。It is a top view which abbreviate | omits and shows the light-emitting device which concerns on the 2nd modification of this invention. 本発明の第3の変形例に係る発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device which concerns on the 3rd modification of this invention.

以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の説明及び図面においては、同一の部品又は構成要素には同一の参照符号及び名称を付してある。それらの機能も同様である。したがって、それらについての詳細な説明は繰返さない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description and drawings, the same reference numerals and names are assigned to the same parts or components. Their functions are also the same. Therefore, detailed description thereof will not be repeated.

(第1の実施の形態)
[全体構成]
図1を参照して、本実施の形態に係る照明装置50は、電球型のLEDランプである。照明装置50は、透光性のバルブ60と、白熱電球のフィラメントに代えて、バルブ60の内部に配設された発光装置200と、発光装置200を支持(保持)する金属柱300及び補助金属柱310と、給電用の口金部70とを含む。
(First embodiment)
[overall structure]
With reference to FIG. 1, the illuminating device 50 which concerns on this Embodiment is a lightbulb-type LED lamp. The illuminating device 50 includes a light-transmitting bulb 60, a light-emitting device 200 disposed inside the bulb 60 instead of the incandescent bulb filament, a metal column 300 that supports (holds) the light-emitting device 200, and an auxiliary metal. A column 310 and a base part 70 for power supply are included.

バルブ60は例えばプラスチック、ガラス等の透光性を有する材料から構成された電球状の部材である。口金部70は、例えば照明器具のソケット(図示せず。)と接続する部分である。この口金部70がソケットと接続されることにより、口金部70を介して発光装置200に電力が供給される。   The bulb 60 is a light bulb-like member made of a light-transmitting material such as plastic or glass. The base part 70 is a part connected to a socket (not shown) of a lighting fixture, for example. When the base unit 70 is connected to the socket, electric power is supplied to the light emitting device 200 via the base unit 70.

照明装置50はさらに、発光装置200からの光を反射する反射基体80を含む。反射基体80は、例えばAl合金等の反射率の高い材料から構成されている。この反射基体80はその反射面82が発光装置200側を向くようにして口金部70の上部側(バルブ60側)に取付けられている。反射基体80はまた、バルブ60の開口部分(図示せず。)を覆うように配置されており、発光装置200から下部方向(下方側:口金部70の方向)に出射された光を反射する。この反射基体80は、発光装置200からの熱を放熱するためのヒートシンクとしての機能をも有している。   The illumination device 50 further includes a reflective base 80 that reflects light from the light emitting device 200. The reflection base 80 is made of a material having a high reflectance such as an Al alloy. The reflecting substrate 80 is attached to the upper side (the bulb 60 side) of the base part 70 so that the reflecting surface 82 faces the light emitting device 200 side. The reflection base 80 is also disposed so as to cover an opening (not shown) of the bulb 60, and reflects light emitted from the light emitting device 200 in the lower direction (downward direction: the base portion 70). . The reflective substrate 80 also has a function as a heat sink for radiating heat from the light emitting device 200.

本照明装置50は、1つの金属柱300と2つの補助金属柱310とを含む。金属柱300及び補助金属柱310は、例えば反射率の高いAl合金から構成されている。金属柱300及び補助金属柱310はまた、発光装置200を支持(保持)する機能に加えて、後述する発光素子100(図2参照)で生じた熱を放熱するためのヒートシンクとしての機能、及び、発光素子100を口金部70と電気的に接続するためのリード端子(導入線)としての機能を有する。   The lighting device 50 includes one metal column 300 and two auxiliary metal columns 310. The metal column 300 and the auxiliary metal column 310 are made of, for example, an Al alloy having a high reflectance. In addition to the function of supporting (holding) the light-emitting device 200, the metal column 300 and the auxiliary metal column 310 function as a heat sink for radiating heat generated in the light-emitting element 100 (see FIG. 2) described later, and The light emitting element 100 has a function as a lead terminal (introduction wire) for electrically connecting the light emitting element 100 to the base part 70.

発光装置200は、金属柱300及び補助金属柱310が反射基体80側の部分(マウント部)に取付けられることによって照明装置50の内部において浮かせたような状態で固定されている。   The light emitting device 200 is fixed in such a manner that the metal pillar 300 and the auxiliary metal pillar 310 are floated inside the lighting device 50 by being attached to a portion (mounting portion) on the reflection base 80 side.

《発光装置200の構成》
図2を参照して、本実施の形態に係る発光装置200は、複数の発光素子100と、これら複数の発光素子100が搭載される透明基体210と、透明基体210が固定される反射板230と、複数の発光素子100を封止する透明樹脂層である封止樹脂層250とを含む。封止樹脂層250には、発光素子100からの光を波長変換する蛍光体が含有されている。
<< Configuration of Light Emitting Device 200 >>
With reference to FIG. 2, the light-emitting device 200 according to the present embodiment includes a plurality of light-emitting elements 100, a transparent base 210 on which the plurality of light-emitting elements 100 are mounted, and a reflector 230 on which the transparent base 210 is fixed. And a sealing resin layer 250 which is a transparent resin layer for sealing the plurality of light emitting elements 100. The sealing resin layer 250 contains a phosphor that converts the wavelength of light from the light emitting element 100.

透明基体210は、搭載される発光素子100からの光を70%以上透過することが可能な支持基板である。透明基体210は、発光素子100から発生した熱を金属柱300及び補助金属柱310まで伝導することが可能な熱伝導性の高い材料から構成されている。具体的には、透明基体210は絶縁性のサファイアから構成されている。   The transparent substrate 210 is a support substrate that can transmit 70% or more of light from the light emitting element 100 to be mounted. The transparent substrate 210 is made of a material having high thermal conductivity capable of conducting heat generated from the light emitting element 100 to the metal pillar 300 and the auxiliary metal pillar 310. Specifically, the transparent substrate 210 is made of insulating sapphire.

透明基体210はまた、一方の主面(以下「表面」と記す。)212と、表面212の反対側の面である他方の主面(以下「裏面」と記す。)214と、側面216とを有する。表面212は、発光素子100が搭載される搭載面でもある。透明基体210の裏面214は、非平滑面とされている。透明基体210の厚みxは、放熱特性等を考慮した場合、200μm以上であるのが好ましい。さらに、透明基体210の厚みxを200μm以上とすることにより、透明基体210の機械的強度の低下を抑制して、当該透明基体210を破損しにくくできる。一方、透明基体210の厚みxが大きくなりすぎると、コストが上昇するとともに発光装置200の重量が増加する。こうした点を考慮すると、透明基体210の厚みxは6000μm以下であるのが好ましい。   The transparent substrate 210 also has one main surface (hereinafter referred to as “front surface”) 212, the other main surface (hereinafter referred to as “back surface”) 214 that is the surface opposite to the front surface 212, and a side surface 216. Have The surface 212 is also a mounting surface on which the light emitting element 100 is mounted. The back surface 214 of the transparent substrate 210 is a non-smooth surface. The thickness x of the transparent substrate 210 is preferably 200 μm or more in consideration of heat dissipation characteristics and the like. Furthermore, by setting the thickness x of the transparent substrate 210 to 200 μm or more, it is possible to suppress a decrease in mechanical strength of the transparent substrate 210 and to prevent the transparent substrate 210 from being damaged. On the other hand, when the thickness x of the transparent substrate 210 becomes too large, the cost increases and the weight of the light emitting device 200 increases. Considering these points, the thickness x of the transparent substrate 210 is preferably 6000 μm or less.

図3及び図4を参照して、透明基体210は、平面図的に見て一方向に延びる略矩形状に形成されている。そのため、透明基体210は4つの辺210a〜210dを有している。各辺210a〜210dは、透明基体210の側面216と一致している。側面216は、4つの辺210a〜210dにそれぞれ対応する側面216a〜216dを含む。透明基体210はさらに、4つの辺210a〜210dにそれぞれ一致する端部210e〜210hを有している。   3 and 4, the transparent substrate 210 is formed in a substantially rectangular shape extending in one direction as seen in a plan view. Therefore, the transparent substrate 210 has four sides 210a to 210d. Each side 210 a to 210 d coincides with the side surface 216 of the transparent substrate 210. The side surface 216 includes side surfaces 216a to 216d corresponding to the four sides 210a to 210d, respectively. The transparent substrate 210 further has end portions 210e to 210h that coincide with the four sides 210a to 210d, respectively.

図4を参照して、透明基体210の中央部分には貫通孔218が形成されている。透明基体210の表面212上であって、貫通孔218の周囲の領域には電極パッド220が形成されている。図5を参照して、透明基体210の裏面214上にも、表面212上に形成された電極パッド220と同様の電極パッド222が形成されている。さらに、貫通孔218の内側面上には、電極パッド220と電極パッド222とを接続する接続部224が形成されている。電極パッド220、電極パッド222及び接続部224は同一材料で一体的に形成されている。そのため、電極パッド220、電極パッド222及び接続部224は互いに電気的に接続された状態となっている。これら電極パッド220、電極パッド222及び接続部224は、電気伝導性に優れた金属材料から構成されている。   Referring to FIG. 4, a through hole 218 is formed in the central portion of the transparent substrate 210. An electrode pad 220 is formed on the surface 212 of the transparent substrate 210 and in a region around the through hole 218. Referring to FIG. 5, electrode pads 222 similar to the electrode pads 220 formed on the front surface 212 are also formed on the back surface 214 of the transparent substrate 210. Furthermore, a connection portion 224 that connects the electrode pad 220 and the electrode pad 222 is formed on the inner side surface of the through hole 218. The electrode pad 220, the electrode pad 222, and the connection portion 224 are integrally formed of the same material. Therefore, the electrode pad 220, the electrode pad 222, and the connection part 224 are in a state of being electrically connected to each other. The electrode pad 220, the electrode pad 222, and the connection portion 224 are made of a metal material having excellent electrical conductivity.

図6を参照して、透明基体210の貫通孔218には金属柱300(図2参照)が挿入される。貫通孔218内に金属柱300が挿入されることによって、例えば接続部224と金属柱300とが接触する。これにより、金属柱300と電極パッド220とが電気的に接続される。金属柱300は、透明基体210の貫通孔218に挿入されることによって透明基体210に固定される。この場合、金属柱300が抜けないように接着剤等で固定されているのが好ましい。   Referring to FIG. 6, a metal column 300 (see FIG. 2) is inserted into the through hole 218 of the transparent substrate 210. By inserting the metal pillar 300 into the through hole 218, for example, the connecting portion 224 and the metal pillar 300 are in contact with each other. Thereby, the metal pillar 300 and the electrode pad 220 are electrically connected. The metal column 300 is fixed to the transparent substrate 210 by being inserted into the through hole 218 of the transparent substrate 210. In this case, it is preferable that the metal pillar 300 is fixed with an adhesive or the like so as not to come off.

図2及び図3を参照して、発光素子100は発光装置200の光源として機能する。複数の発光素子100は、いずれも、窒化物半導体を用いて形成された発光ダイオード素子(LED)からなる。これら複数の発光素子100はいずれも透明基体210の表面212上に搭載されている。発光素子100の具体的な搭載数は例えば30個である。発光素子100の詳細については後述する。   2 and 3, the light emitting element 100 functions as a light source of the light emitting device 200. Each of the plurality of light emitting elements 100 includes a light emitting diode element (LED) formed using a nitride semiconductor. All of the plurality of light emitting elements 100 are mounted on the surface 212 of the transparent substrate 210. The specific number of mounted light emitting elements 100 is, for example, thirty. Details of the light emitting element 100 will be described later.

複数の発光素子100はダイボンドペーストからなる接着層240(図2参照)を介して透明基体210上に実装されている。ダイボンドペーストには透光性を有するシリコーン樹脂が使用されている。接着層240には蛍光体が含有されていない。   The plurality of light emitting elements 100 are mounted on the transparent substrate 210 via an adhesive layer 240 (see FIG. 2) made of a die bond paste. A silicone resin having translucency is used for the die bond paste. The adhesive layer 240 does not contain a phosphor.

接着層に蛍光体を含有させる場合、通常、その蛍光体の平均粒径は5μm〜15μm程度と大きい。このような粒径の大きな蛍光体を接着層に分散させると接着層の厚みが大きくなり放熱性が著しく低下する。本実施の形態では、放熱性を向上させるために、接着層240は蛍光体を含有しない構成とされている。   When the phosphor is contained in the adhesive layer, the average particle size of the phosphor is usually as large as about 5 μm to 15 μm. When such a phosphor having a large particle size is dispersed in the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer is increased and the heat dissipation is significantly reduced. In the present embodiment, in order to improve heat dissipation, the adhesive layer 240 is configured not to contain a phosphor.

複数の発光素子100はまた、金線等からなるワイヤ242によって例えば直並列に接続されている。直列接続された発光素子100の接続数はいずれも等しくなるように構成されているのが好ましい。   The plurality of light emitting elements 100 are also connected in series and parallel, for example, by wires 242 made of gold wires or the like. It is preferable that the light emitting elements 100 connected in series have the same number of connections.

透明基体210上に実装された複数の発光素子100の一方の電極は、ワイヤ242等を介して電極パッド220と電気的に接続されている。複数の発光素子100の他方の電極は、ワイヤ242等を介して反射板230と電気的に接続されている。本実施の形態では、例えば、透明基体210の電極パッド220は正電極として機能し、反射板230は負電極として機能する。なお、発光素子100の接続を逆にすることによって、電極パッド220が負電極として機能し、反射板230が正電極として機能するように構成してもよい。   One electrode of the plurality of light emitting elements 100 mounted on the transparent substrate 210 is electrically connected to the electrode pad 220 via a wire 242 or the like. The other electrode of the plurality of light emitting elements 100 is electrically connected to the reflecting plate 230 via a wire 242 or the like. In the present embodiment, for example, the electrode pad 220 of the transparent substrate 210 functions as a positive electrode, and the reflector 230 functions as a negative electrode. Note that by reversing the connection of the light emitting element 100, the electrode pad 220 may function as a negative electrode, and the reflector 230 may function as a positive electrode.

反射板230は熱伝導性の高い金属材料から構成されている。具体的には、反射板230はAl合金から構成されている。Al合金は反射率が高いため、反射板230を構成する材料として好適に用いることができる。   The reflector 230 is made of a metal material having high thermal conductivity. Specifically, the reflector 230 is made of an Al alloy. Since the Al alloy has a high reflectance, it can be suitably used as a material constituting the reflecting plate 230.

図7を参照して、反射板230は平面図的に見て一方向に延びる略矩形状に形成されている。そのため、反射板230は4つの辺230a〜230dを有している。反射板230はまた、4つの辺230a〜230dにそれぞれ一致する端部230e〜230hを有している。この反射板230の外形寸法は透明基体210の外形寸法より大きい。反射板230の厚みは耐久性を高める等の観点から100μm以上であるのが好ましい。なお、反射板230の厚みが大きくなり過ぎると、発光装置200が重くなるとともに、反射板の陰が強くなる。反射板の陰が強くなると放射特性が低下するおそれがあるため、均一な放射特性を得ることが困難となる。均一な放射特性を得るためには反射板230の厚みは10mm未満であるのが好ましい。さらに、反射板の陰が強くなるのを抑制して均一な放射特性を得るためには反射板230の厚みは透明基体210の厚みxより小さい厚みであるのが好ましい。   Referring to FIG. 7, the reflector 230 is formed in a substantially rectangular shape extending in one direction as viewed in plan view. Therefore, the reflecting plate 230 has four sides 230a to 230d. The reflector 230 also has end portions 230e to 230h that coincide with the four sides 230a to 230d, respectively. The external dimensions of the reflector 230 are larger than the external dimensions of the transparent substrate 210. The thickness of the reflector 230 is preferably 100 μm or more from the viewpoint of enhancing durability. In addition, when the thickness of the reflecting plate 230 becomes too large, the light emitting device 200 becomes heavy and the shade of the reflecting plate becomes strong. If the shade of the reflecting plate becomes strong, the radiation characteristics may be deteriorated, so that it is difficult to obtain uniform radiation characteristics. In order to obtain uniform radiation characteristics, the thickness of the reflector 230 is preferably less than 10 mm. Furthermore, the thickness of the reflector 230 is preferably smaller than the thickness x of the transparent substrate 210 in order to obtain uniform radiation characteristics while suppressing the shade of the reflector from becoming strong.

反射板230の中央部分には、当該反射板230を厚み方向に貫通する開口部232が形成されている。この開口部232は、発光素子100からの光を透過(通過)させて反射板230の下面側に出射させるための光透過部(光通過部)として機能する。開口部232は平面図的に見て略矩形状に形成されている。例えば開口部232の平面形状は透明基体210に対して相似形状とされている。そのため、開口部232は、反射板230の端部230e〜230hにそれぞれ対応する4つの端部232a〜232dを有している。   An opening 232 that penetrates the reflecting plate 230 in the thickness direction is formed in the central portion of the reflecting plate 230. The opening 232 functions as a light transmission part (light transmission part) for transmitting (passing) light from the light emitting element 100 and emitting it to the lower surface side of the reflection plate 230. The opening 232 is formed in a substantially rectangular shape when viewed in plan view. For example, the planar shape of the opening 232 is similar to that of the transparent substrate 210. Therefore, the opening 232 has four end portions 232 a to 232 d corresponding to the end portions 230 e to 230 h of the reflection plate 230, respectively.

開口部232はさらに、反射板230における透明基体210が固定される部分に、透明基体210の平面積よりも小さい平面積で形成されている。反射板230の延び方向における両端部分には、補助金属柱310が固定される貫通孔234が形成されている。補助金属柱310はこれら貫通孔234を用いてネジ止め固定される。補助金属柱310が貫通孔234にネジ止め固定されることによって、補助金属柱310と反射板230とが電気的に接続される。そして、金属柱300及び補助金属柱310により、発光素子100に外部からの電流印加が可能となり、素子を発光させることができる。   The opening 232 is further formed in a portion of the reflector 230 where the transparent substrate 210 is fixed, with a plane area smaller than the plane area of the transparent substrate 210. Through holes 234 to which the auxiliary metal pillar 310 is fixed are formed at both end portions in the extending direction of the reflection plate 230. The auxiliary metal column 310 is fixed by screws using these through holes 234. The auxiliary metal pillar 310 and the reflector 230 are electrically connected by fixing the auxiliary metal pillar 310 to the through hole 234 with screws. The metal pillar 300 and the auxiliary metal pillar 310 allow an external current to be applied to the light emitting element 100, and the element can emit light.

再び図2及び図3を参照して、透明基体210は反射板230の上面上に、開口部232を覆うように固定されている。具体的には、透明基体210の辺210a〜210d(端部210e〜210h)がそれぞれ反射板230の辺230a〜230d(端部230e〜230h)と対応するようにして、透明基体210が反射板230の上面上に配置されている。開口部232の形成領域は透明基体210の平面積よりも小さいため、透明基体210は開口部232を塞ぐように固定されている。この状態において、透明基体210の4つの辺210a〜210dは反射板230における開口部232の周囲の領域に支持されている。すなわち、透明基体210の4つの辺210a〜210dの部分が、反射板230における開口部232の周囲の領域と重なった状態となっている。   Referring to FIGS. 2 and 3 again, the transparent substrate 210 is fixed on the upper surface of the reflector 230 so as to cover the opening 232. Specifically, the transparent substrate 210 is made to be a reflector so that the sides 210a to 210d (ends 210e to 210h) of the transparent substrate 210 correspond to the sides 230a to 230d (ends 230e to 230h) of the reflector 230, respectively. 230 is disposed on the upper surface. Since the formation area of the opening 232 is smaller than the plane area of the transparent substrate 210, the transparent substrate 210 is fixed so as to close the opening 232. In this state, the four sides 210 a to 210 d of the transparent substrate 210 are supported by a region around the opening 232 in the reflecting plate 230. That is, the four sides 210 a to 210 d of the transparent substrate 210 are in a state of overlapping with the area around the opening 232 in the reflector 230.

透明基体210に搭載された複数の発光素子100は、透明基体210が反射板230に固定された状態において、開口部232と対向している。換言すると、光透過部として機能する開口部232は、複数の発光素子100と対向する領域に設けられている。そのため、各発光素子100の直下の領域には開口部232が位置している。   The plurality of light emitting elements 100 mounted on the transparent substrate 210 face the opening 232 in a state where the transparent substrate 210 is fixed to the reflecting plate 230. In other words, the opening 232 functioning as a light transmission portion is provided in a region facing the plurality of light emitting elements 100. Therefore, an opening 232 is located in a region immediately below each light emitting element 100.

透明基体210は図示しない接着剤によって反射板230上に固定されている。この接着剤は透光性を有する樹脂材料からなる。具体的には、透明基体210と反射板230とを固定する接着剤は、例えばシリコーン樹脂からなる。反射板230と透明基体210とが固定された状態で、透明基体210の電極パッド220は反射板230と絶縁分離されている。   The transparent substrate 210 is fixed on the reflector 230 with an adhesive (not shown). This adhesive is made of a resin material having translucency. Specifically, the adhesive that fixes the transparent substrate 210 and the reflecting plate 230 is made of, for example, a silicone resin. In a state where the reflecting plate 230 and the transparent base 210 are fixed, the electrode pad 220 of the transparent base 210 is insulated and separated from the reflecting plate 230.

図2を参照して、透明基体210は上記封止樹脂層250で覆われている。封止樹脂層250は、反射板230の上面上に形成される第1の封止樹脂層252と、反射板230の下面上に形成される第2の封止樹脂層254とを含む。第1の封止樹脂層252は、透明基体210の表面212及び側面216を覆うように形成されている。第2の封止樹脂層254は、透明基体210の裏面214(開口部232から露出された部分)を覆うように形成されている。封止樹脂層250は、耐熱性及び耐光性に優れた透明樹脂であるシリコーン樹脂からなる。封止樹脂層250中には複数の蛍光粒子260(蛍光体)が分散されている。   Referring to FIG. 2, the transparent substrate 210 is covered with the sealing resin layer 250. The sealing resin layer 250 includes a first sealing resin layer 252 formed on the upper surface of the reflecting plate 230 and a second sealing resin layer 254 formed on the lower surface of the reflecting plate 230. The first sealing resin layer 252 is formed so as to cover the surface 212 and the side surface 216 of the transparent substrate 210. The second sealing resin layer 254 is formed so as to cover the back surface 214 (the portion exposed from the opening 232) of the transparent substrate 210. The sealing resin layer 250 is made of a silicone resin that is a transparent resin excellent in heat resistance and light resistance. A plurality of fluorescent particles 260 (phosphors) are dispersed in the sealing resin layer 250.

図3を参照して、第1の封止樹脂層252は平面図的に見て略矩形状に形成されている。そのため、第1の封止樹脂層252は4つの辺252a〜252dを有している。第1の封止樹脂層252はまた、4つの辺252a〜252dにそれぞれ一致する端部252e〜252hを有している。第1の封止樹脂層252は、4つの辺252a〜252dが、反射板230の辺230a〜230d(端部230e〜230h)と対応するように反射板230の上面上に形成されている。   Referring to FIG. 3, the first sealing resin layer 252 is formed in a substantially rectangular shape when seen in a plan view. Therefore, the first sealing resin layer 252 has four sides 252a to 252d. The first sealing resin layer 252 also has end portions 252e to 252h that coincide with the four sides 252a to 252d, respectively. The first sealing resin layer 252 is formed on the upper surface of the reflection plate 230 so that the four sides 252a to 252d correspond to the sides 230a to 230d (end portions 230e to 230h) of the reflection plate 230.

図8を参照して、第2の封止樹脂層254は平面図的に見て略矩形状に形成されている。そのため、第2の封止樹脂層254も4つの辺254a〜254dを有している。第2の封止樹脂層254は、4つの辺254a〜254dが、反射板230の辺230a〜230d(端部230e〜230h)と対応するように反射板230の下面上に形成されている。第2の封止樹脂層254における中央部の領域には、透明基体210の貫通孔218を露出させるための開口256が形成されている。第2の封止樹脂層254は放熱特性に直接影響を与えるため、その厚みは50μm以下であるのが好ましい。より好ましくは、第2の封止樹脂層254の厚みは10μm以下である。   Referring to FIG. 8, the second sealing resin layer 254 is formed in a substantially rectangular shape when seen in a plan view. Therefore, the second sealing resin layer 254 also has four sides 254a to 254d. The second sealing resin layer 254 is formed on the lower surface of the reflection plate 230 so that the four sides 254a to 254d correspond to the sides 230a to 230d (end portions 230e to 230h) of the reflection plate 230. In the central region of the second sealing resin layer 254, an opening 256 for exposing the through hole 218 of the transparent substrate 210 is formed. Since the second sealing resin layer 254 directly affects the heat dissipation characteristics, the thickness is preferably 50 μm or less. More preferably, the thickness of the second sealing resin layer 254 is 10 μm or less.

蛍光体は、白色LEDにおいてよく用いられているYAG(イットリウム・アルミ・ガーネット)蛍光体等を用いてもよい。さらに蛍光体としては、例えば、Ce:YAG(セリウム賦活イットリウム・アルミニウム・ガーネット)蛍光体(YAl12:Ce,(Y,Gd)Al12:Ce等)、Eu:BOSE(ユーロピウム賦活バリウム・ストロンチウム・オルソシリケート)蛍光体、Eu:SOSE(ユーロピウム賦活ストロンチウム・バリウム・オルソシリケート)蛍光体、ユーロピウム賦活αサイアロン蛍光体、Ce:TAG(セリウム附活テルビウム・アルミニウム・ガーネット)蛍光体(TbAl12:Ce等)、アルカリ土類(Eu附活MSi:Eu,MSi12:Eu等、Ce附活CaSCSi12)、カズン−Eu(Eu附活CaAlSi)、及び、La酸窒化物−Ce Ce附活LaAl(Si−zAl)N10−z0、βサイアロン系等を適用できる。(Sr,Ba,Mg)SiO:Eu、Ca(Sc,Mg)Si12:Ce等からなる緑色蛍光体、(Sr,Ca)AlSiN:Eu、CaAlSiN:Eu等からなる赤色蛍光体、(Si,Al)(O,N):Eu、(Ba,Sr)SiO:Eu等からなる黄色蛍光体等を用いてもよい。ナノ蛍光体等も好適に用いることができる。 As the phosphor, a YAG (yttrium, aluminum, garnet) phosphor or the like often used in white LEDs may be used. Further, as the phosphor, for example, Ce: YAG (cerium activated yttrium, aluminum, garnet) phosphor (Y 3 Al 5 O 12 : Ce, (Y, Gd) 3 Al 5 O 12 : Ce, etc.), Eu: BOSE (Europium-activated barium / strontium / orthosilicate) phosphor, Eu: SOSE (europium-activated strontium / barium / orthosilicate) phosphor, europium-activated α-sialon phosphor, Ce: TAG (cerium-activated terbium / aluminum / garnet) phosphor Body (Tb 3 Al 5 O 12 : Ce, etc.), alkaline earth (Eu-activated M 2 Si 5 N 8 : Eu, MSi 12 O 2 N 2 : Eu, etc., Ce-activated Ca 3 SC 2 Si 3 O 12 ), Cousins -Eu (Eu Fukatsu CaAlSi 3 N 3), and, La San窒Things -Ce Ce Fukatsu LaAl (Si 6 -zAl 2) N 10 -z0, can be applied to β sialon and the like. From (Sr, Ba, Mg) 2 SiO 4 : Eu, Ca 3 (Sc, Mg) 2 Si 3 O 12 : Ce, etc., green phosphor, (Sr, Ca) AlSiN 3 : Eu, CaAlSiN 3 : Eu, etc. A red phosphor such as (Si, Al) 6 (O, N) 8 : Eu, a yellow phosphor composed of (Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu, or the like may be used. Nano fluorescent substance etc. can also be used suitably.

上述した反射板230は、本発光装置200において3つの大きな役割を果たす。1つ目の役割は、発光素子100及び蛍光体から出射された光を効率よく反射する役割である。この役割を果たすことによって、光を有効に発光装置(以下「パッケージ」と記す場合がある。)から取出すことが可能となる。2つ目の役割は、発光素子100を駆動する際に発生する熱を面内で均一に広げ、効率よく放熱する役割である。この役割を果たすことによって、面内均一性の高い放熱が実現される。3つ目の役割は、封止樹脂層250を形成する際の土台としての役割である。この役割を果たすことによって、後述するように、簡便に透明基体210の側面216(216a〜216d)を、蛍光体を含有した封止樹脂層250で覆うことが可能となる。これにより、透明基体210の表面212、裏面214及び側面216(216a〜216d)を封止樹脂層250で容易に覆うことが可能となるため、透明基体210から発光素子100の発光色のままの光が多く出射されるような領域を簡単になくすことができ、均一な発光色の発光装置を容易に実現できる。   The reflector 230 described above plays three major roles in the light emitting device 200. The first role is to efficiently reflect the light emitted from the light emitting element 100 and the phosphor. By playing this role, light can be effectively extracted from the light emitting device (hereinafter sometimes referred to as “package”). The second role is to uniformly dissipate the heat generated when driving the light emitting element 100 in the plane and efficiently dissipate heat. By playing this role, heat radiation with high in-plane uniformity is realized. The third role is a role as a base when the sealing resin layer 250 is formed. By playing this role, as will be described later, the side surface 216 (216a to 216d) of the transparent substrate 210 can be easily covered with the sealing resin layer 250 containing the phosphor. Accordingly, the front surface 212, the back surface 214, and the side surfaces 216 (216a to 216d) of the transparent substrate 210 can be easily covered with the sealing resin layer 250, so that the light emission color of the light emitting element 100 is maintained from the transparent substrate 210. A region where a large amount of light is emitted can be easily eliminated, and a light emitting device having a uniform emission color can be easily realized.

《発光素子100の構成》
図9を参照して、本実施の形態に係る発光素子100は、自身が発する光に対して透光性を有する成長基板110を備えている。成長基板としては、一般的にサファイア基板及び窒化物半導体基板(例えば、GaN基板、AlInGaN基板、AlGaN基板、AlN基板等)、SiC基板、石英基板等の透光性を有する基板が好ましい。成長基板110は、主面110aを有する。成長基板110の主面110a上には、半導体多層膜を含む多層構造体150が形成されている。この多層構造体150は、成長基板110側から順に形成された、n型層120、MQW(Multiple Quantum Well)構造を有するMQW発光層130、及び、p型層140を含む。
<< Configuration of Light Emitting Element 100 >>
Referring to FIG. 9, the light emitting device 100 according to the present embodiment includes a growth substrate 110 having translucency with respect to light emitted from itself. As a growth substrate, generally a substrate having translucency such as a sapphire substrate and a nitride semiconductor substrate (for example, a GaN substrate, an AlInGaN substrate, an AlGaN substrate, an AlN substrate, etc.), a SiC substrate, or a quartz substrate is preferable. The growth substrate 110 has a main surface 110a. On the main surface 110a of the growth substrate 110, a multilayer structure 150 including a semiconductor multilayer film is formed. The multilayer structure 150 includes an n-type layer 120, an MQW light emitting layer 130 having an MQW (Multiple Quantum Well) structure, and a p-type layer 140, which are sequentially formed from the growth substrate 110 side.

本実施の形態では、成長基板110にサファイア基板を用いている。この成長基板110の厚みは例えば約120μmである。n型層120は、成長基板110の主面110a上に、バッファ層、下地層、n型窒化物半導体層、低温n型GaN/InGaN多層構造、及び、中間層である超格子層(以上、いずれも図示せず。)が主面110a側からこの順に形成されることによって構成されている。本実施の形態において、超格子層とは、非常に薄い結晶層を交互に積層することにより、その周期構造が基本単位格子よりも長い結晶格子からなる層を意味する。p型層140は、MQW発光層130上に、p型AlGaN層、p型GaN層及び高濃度p型GaN層(以上、いずれも図示せず。)がMQW発光層130側からこの順に形成されることによって構成されている。   In this embodiment, a sapphire substrate is used as the growth substrate 110. The thickness of the growth substrate 110 is about 120 μm, for example. The n-type layer 120 includes a buffer layer, an underlayer, an n-type nitride semiconductor layer, a low-temperature n-type GaN / InGaN multilayer structure, and a superlattice layer as an intermediate layer (referred to above) on the main surface 110a of the growth substrate 110. Neither is shown.) Is formed in this order from the main surface 110a side. In the present embodiment, the superlattice layer means a layer composed of crystal lattices whose periodic structure is longer than the basic unit lattice by alternately stacking very thin crystal layers. In the p-type layer 140, a p-type AlGaN layer, a p-type GaN layer, and a high-concentration p-type GaN layer (all of which are not shown) are formed in this order from the MQW light-emitting layer 130 side on the MQW light-emitting layer 130. Is made up of.

バッファ層は、例えばAls0Gat0N(0≦S0≦1、0≦t0≦1、s0+t0≠0)からなる。バッファ層は、AlN層又はGaN層から構成されているとより好ましい。N(窒素)の極一部(例えば0.5%〜2%程度)をO(酸素)に置き換えてもよい。そうすることにより、成長基板110の主面110aの法線方向に伸張するようにバッファ層が形成されるので、結晶粒の揃った柱状結晶の集合体からなるバッファ層が得られる。バッファ層の厚みは、特に限定されないが、3nm以上100nm以下であるのが好ましく、5nm以上50nm以下であればより好ましい。 The buffer layer is made of, for example, Al s0 Ga t0 N (0 ≦ S0 ≦ 1, 0 ≦ t0 ≦ 1, s0 + t0 ≠ 0). The buffer layer is more preferably composed of an AlN layer or a GaN layer. A very small part of N (nitrogen) (for example, about 0.5% to 2%) may be replaced with O (oxygen). By doing so, the buffer layer is formed so as to extend in the normal direction of the main surface 110a of the growth substrate 110, so that a buffer layer made of an aggregate of columnar crystals with uniform crystal grains is obtained. The thickness of the buffer layer is not particularly limited, but is preferably 3 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 50 nm or less.

下地層は、例えばAls1Gat1Inu1N(0≦s1≦1、0≦t1≦1、0≦u1≦1、s1+t1+u1≠0)からなる。下地層は、Als1Gat1N(0≦s1≦1、0≦t1≦1、s1+t1≠1)から構成されているとより好ましく、GaN層から構成されているとさらに好ましい。下地層の厚みは、1μm以上8μm以下であるのが好ましい。 The underlayer is made of, for example, Al s1 Gat1 In u1 N (0 ≦ s1 ≦ 1, 0 ≦ t1 ≦ 1, 0 ≦ u1 ≦ 1, s1 + t1 + u1 ≠ 0). The underlayer is more preferably made of Al s1 Ga t1 N (0 ≦ s1 ≦ 1, 0 ≦ t1 ≦ 1, s1 + t1 ≠ 1), and more preferably made of a GaN layer. The thickness of the underlayer is preferably 1 μm or more and 8 μm or less.

n型窒化物半導体層は、例えばAls2Gat2Inu2N(0≦s2≦1、0≦t2≦1、0≦u2≦1、s1+t1+u1≒1)にn型不純物がドーピングされた層からなる。n型窒化物半導体層は、Als2Ga1−s2N(0≦s2≦1、好ましくは0≦s2≦0.5、より好ましくは0≦s2≦0.1)にn型不純物がドーピングされた層から構成されているとより好ましい。n型不純物にはSiが用いられている。n型ドーピング濃度(キャリア濃度とは異なる)は、特に限定されないが、1×1019cm−3以下であるのが好ましい。 The n-type nitride semiconductor layer is made of a layer in which, for example, Al s2 Gat2 In u2 N (0 ≦ s2 ≦ 1, 0 ≦ t2 ≦ 1, 0 ≦ u2 ≦ 1, s1 + t1 + u1≈1) is doped with n-type impurities. . In the n-type nitride semiconductor layer, Al s2 Ga 1-s2 N (0 ≦ s2 ≦ 1, preferably 0 ≦ s2 ≦ 0.5, more preferably 0 ≦ s2 ≦ 0.1) is doped with n-type impurities. More preferably, the layer is composed of different layers. Si is used for the n-type impurity. The n-type doping concentration (different from the carrier concentration) is not particularly limited, but is preferably 1 × 10 19 cm −3 or less.

低温n型GaN/InGaN多層構造は、MQW発光層130に対する成長基板110及び下地層からの応力を緩和する機能を有する。この低温n型GaN/InGaN多層構造は、約7nmの厚みを有するn型InGaN層、約30nmの厚みを有するn型GaN層、約7nmの厚みを有するn型InGaN層、及び、約20nmの厚みを有するn型GaN層を交互に積層した多層構造からなる。   The low-temperature n-type GaN / InGaN multilayer structure has a function of relieving stress from the growth substrate 110 and the underlayer on the MQW light emitting layer 130. This low temperature n-type GaN / InGaN multilayer structure includes an n-type InGaN layer having a thickness of about 7 nm, an n-type GaN layer having a thickness of about 30 nm, an n-type InGaN layer having a thickness of about 7 nm, and a thickness of about 20 nm. It has a multilayer structure in which n-type GaN layers having n are alternately stacked.

超格子層は、ワイドバンドギャップ層とナローバンドギャップ層とが交互に積層された超格子構造を有している。その周期構造は、ワイドバンドギャップ層を構成する半導体材料の基本単位格子及びナローバンドギャップ層を構成する半導体材料の基本単位格子よりも長い。超格子層の一周期の長さ(ワイドバンドギャップ層の厚みとナローバンドギャップ層の厚みとの合計厚み)は、MQW発光層130の一周期の長さよりも短い。超格子層の具体的な厚みは、例えば1nm以上10nm以下である。各ワイドバンドギャップ層は、例えばAlGaIn(1−a−b)N(0≦a<1、0<b≦1)からなる。各ワイドバンドギャップ層は、GaN層から構成されていると好ましい。各ナローバンドギャップ層は、ワイドバンドギャップ層よりバンドギャップが小さく、かつ、MQW発光層130の各井戸層(図示せず。)よりもバンドギャップが大きい半導体材料から構成されているのが好ましい。各ナローバンドギャップ層は、例えばAlGaIn(1−a−b)N(0≦a<1、0<b≦1)からなる。各ナローバンドギャップ層は、GaIn(1−b)N(0<b≦1)から構成されていると好ましい。なお、ワイドバンドギャップ層及びナローバンドギャップ層の両方がアンドープであると駆動電圧が上昇するため、ワイドバンドギャップ層及びナローバンドギャップ層の少なくとも一方は、n型不純物がドーピングされているのが好ましい。 The superlattice layer has a superlattice structure in which wide bandgap layers and narrow bandgap layers are alternately stacked. The periodic structure is longer than the basic unit cell of the semiconductor material forming the wide band gap layer and the basic unit cell of the semiconductor material forming the narrow band gap layer. The length of one cycle of the superlattice layer (the total thickness of the thickness of the wide band gap layer and the thickness of the narrow band gap layer) is shorter than the length of one cycle of the MQW light emitting layer 130. The specific thickness of the superlattice layer is, for example, not less than 1 nm and not more than 10 nm. Each wide band gap layer is made of, for example, Al a Ga b In (1-ab) N (0 ≦ a <1, 0 <b ≦ 1). Each wide band gap layer is preferably composed of a GaN layer. Each narrow band gap layer is preferably made of a semiconductor material having a band gap smaller than that of the wide band gap layer and larger than each well layer (not shown) of the MQW light emitting layer 130. Each narrow band gap layer is made of, for example, Al a Ga b In (1-ab) N (0 ≦ a <1, 0 <b ≦ 1). Each narrow band gap layer is preferably composed of Ga b In (1-b) N (0 <b ≦ 1). Note that when both the wide band gap layer and the narrow band gap layer are undoped, the driving voltage increases. Therefore, at least one of the wide band gap layer and the narrow band gap layer is preferably doped with an n-type impurity.

MQW発光層130は、バリア層及び井戸層(いずれも図示せず。)が交互に積層された多重量子井戸構造を有している。MQW発光層130の一周期(バリア層の厚みと井戸層の厚みとの合計厚み)の長さは、例えば5nm以上100nm以下である。各井戸層の組成は、半導体発光素子に求められる発光波長に合わせて調整される。例えば、各井戸層の組成は、AlGaIn(1−c−d)N(0≦c<1、0<d≦1)とすることができる。各井戸層の組成は、Alを含まない、InGa(1−e)N(0<e≦1)であればより好ましい。各井戸層の組成は同じであるのが好ましい。そうすることにより、各井戸層において、電子とホールとの再結合により発光する波長を同じにできる。そのため、半導体発光素子の発光スペクトル幅を狭くできるため好ましい。各井戸層の厚みは、1nm以上7nm以下であるのが好ましい。 The MQW light emitting layer 130 has a multiple quantum well structure in which barrier layers and well layers (both not shown) are alternately stacked. The length of one cycle of MQW light emitting layer 130 (the total thickness of the barrier layer and the well layer) is, for example, not less than 5 nm and not more than 100 nm. The composition of each well layer is adjusted according to the emission wavelength required for the semiconductor light emitting device. For example, the composition of each well layer can be Al c Ga d In (1-cd) N (0 ≦ c <1, 0 <d ≦ 1). The composition of each well layer is more preferably In e Ga (1-e) N (0 <e ≦ 1) that does not contain Al. The composition of each well layer is preferably the same. By doing so, in each well layer, the wavelength of light emitted by recombination of electrons and holes can be made the same. Therefore, it is preferable because the emission spectrum width of the semiconductor light emitting device can be narrowed. The thickness of each well layer is preferably 1 nm or more and 7 nm or less.

バリア層は、井戸層よりもバンドギャップエネルギーが大きい方が好ましい。各バリア層の組成は、AlGaIn(1−f−g)N(0≦f<1、0<g≦1)とすることができる。各バリア層の組成は、Alを含まないInGa(1−h)N(0<h≦1)、又は、井戸層との格子定数をほぼ一致させたAlGaIn(1−f−g)N(0≦f<1、0<g≦1)であればより好ましい。各バリア層の厚みは、小さいほど駆動電圧が低下する一方、極端に小さくすると発光効率が低下する傾向にある。そのため、各バリア層の厚みは、1nm以上10nm以下であるのが好ましく、3nm以上7nm以下であればより好ましい。 The barrier layer preferably has a larger band gap energy than the well layer. The composition of each barrier layer may be an Al f Ga g In (1- f-g) N (0 ≦ f <1,0 <g ≦ 1). The composition of each barrier layer is In h Ga (1-h) N (0 <h ≦ 1) which does not contain Al, or Al f Ga g In (1-f ) in which the lattice constants of the well layers are substantially matched. -G) More preferably, N (0 ≦ f <1, 0 <g ≦ 1). As the thickness of each barrier layer decreases, the driving voltage decreases. On the other hand, when the thickness is extremely small, the light emission efficiency tends to decrease. Therefore, the thickness of each barrier layer is preferably 1 nm or more and 10 nm or less, and more preferably 3 nm or more and 7 nm or less.

井戸層及びバリア層には、n型不純物がドーピングされている。ただし、井戸層及びバリア層には、n型不純物がドーピングされていなくてもよい。   The well layer and the barrier layer are doped with n-type impurities. However, the well layer and the barrier layer may not be doped with n-type impurities.

p型層140は、例えばAls4Gat4Inu4N(0≦s4≦1、0≦t4≦1、0≦u4≦1、s4+t4+u4≠0)にp型不純物がドーピングされた層からなる。p型層140は、Als4Ga1−s4N(0<s4≦0.4、好ましくは0.1≦s4≦0.3)にp型不純物がドーピングされた層から構成されていればより好ましい。p型層140におけるキャリア濃度は、1×1017cm−3以上であるのが好ましい。ここで、p型不純物の活性率は0.01程度であることから、p型層140におけるp型ドーピング濃度(キャリア濃度とは異なる)は1×1019cm−3以上であるのが好ましい。ただし、MQW発光層130に近い層(例えばp型AlGaN層)では、p型ドーピング濃度はこれより低くてもよい。p型層140の厚み(3層の合計厚み)は、特に限定されないが、例えば50nm以上1000nm以下とすることができる。p型層140の厚みを小さくすれば、その成長時における加熱時間を短縮できるため、p型不純物のMQW発光層130への拡散を抑制できる。 The p-type layer 140 is made of a layer in which, for example, Al s4 Gat4 In u4 N (0 ≦ s4 ≦ 1, 0 ≦ t4 ≦ 1, 0 ≦ u4 ≦ 1, s4 + t4 + u4 ≠ 0) is doped with a p-type impurity. The p-type layer 140 is more preferably composed of a layer in which Al s4 Ga 1-s4 N (0 <s4 ≦ 0.4, preferably 0.1 ≦ s4 ≦ 0.3) is doped with a p-type impurity. preferable. The carrier concentration in the p-type layer 140 is preferably 1 × 10 17 cm −3 or more. Here, since the activation rate of the p-type impurity is about 0.01, the p-type doping concentration (different from the carrier concentration) in the p-type layer 140 is preferably 1 × 10 19 cm −3 or more. However, the p-type doping concentration may be lower in a layer close to the MQW light emitting layer 130 (for example, a p-type AlGaN layer). The thickness of p-type layer 140 (the total thickness of the three layers) is not particularly limited, but can be, for example, 50 nm or more and 1000 nm or less. If the thickness of the p-type layer 140 is reduced, the heating time during the growth can be shortened, so that diffusion of p-type impurities into the MQW light emitting layer 130 can be suppressed.

上記多層構造体150はさらに、n型層120の一部が露出された領域である露出部と、露出部の外側の領域であるメサ部とを含む。   The multilayer structure 150 further includes an exposed portion that is a region where a part of the n-type layer 120 is exposed, and a mesa portion that is a region outside the exposed portion.

図9及び図10を参照して、露出部の上面上(n型層120上)には、n側電極160が形成されている。このn側電極160は、ワイヤボンド領域であるパッド部160aと、このパッド部160aと一体に形成された電流拡散を目的とする細長い突出部160b(枝電極)とを含む。メサ部の上面上(p型層140上)には、透光性電極170を介してp側電極180が形成されている。透光性電極170は、メサ部上において、比較的広い範囲にわたって広面積に形成されている。p側電極180は、透光性電極170上の一部の領域に形成されている。このp側電極180は、ワイヤボンド領域であるパッド部180aと、このパッド部180aと一体に形成された電流拡散を目的とする細長い突出部180b(枝電極)とを含む。   Referring to FIGS. 9 and 10, n-side electrode 160 is formed on the upper surface of exposed portion (on n-type layer 120). The n-side electrode 160 includes a pad portion 160a that is a wire bond region, and an elongated protrusion 160b (branch electrode) that is formed integrally with the pad portion 160a for the purpose of current diffusion. A p-side electrode 180 is formed on the upper surface of the mesa part (on the p-type layer 140) with a translucent electrode 170 interposed therebetween. The translucent electrode 170 is formed in a wide area over a relatively wide range on the mesa portion. The p-side electrode 180 is formed in a partial region on the translucent electrode 170. The p-side electrode 180 includes a pad portion 180a which is a wire bond region, and an elongated protruding portion 180b (branch electrode) which is formed integrally with the pad portion 180a for the purpose of current diffusion.

n側電極160は、n型層120上に、例えばチタン層、アルミニウム層及び金層がこの順に積層された多層構造を有する。n側電極160の厚みは例えば約1μmである。ワイヤボンドを行なう場合の強度を想定すると、n側電極160は1μm程度の厚みを有していればよい。   The n-side electrode 160 has a multilayer structure in which, for example, a titanium layer, an aluminum layer, and a gold layer are stacked in this order on the n-type layer 120. The thickness of the n-side electrode 160 is, for example, about 1 μm. Assuming strength when wire bonding is performed, the n-side electrode 160 only needs to have a thickness of about 1 μm.

透光性電極170は、例えばITO(Indium Tin Oxide)から構成されている。その厚みは、例えば20nm以上200nm以下である。p側電極180は、透光性電極170上に、例えばニッケル層、アルミニウム層、チタン層及び金層がこの順に積層された多層構造を有する。p側電極180の厚みは例えば約1μmである。p側電極180においても、ワイヤボンドを行なう場合の強度を想定すると、その厚みは1μm程度であればよい。   The translucent electrode 170 is made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide). The thickness is, for example, 20 nm or more and 200 nm or less. The p-side electrode 180 has a multilayer structure in which, for example, a nickel layer, an aluminum layer, a titanium layer, and a gold layer are stacked in this order on the translucent electrode 170. The thickness of the p-side electrode 180 is about 1 μm, for example. The p-side electrode 180 may have a thickness of about 1 μm assuming the strength when wire bonding is performed.

発光素子100の上面には、SiOからなる絶縁性の透明保護膜190が設けられている。この透明保護膜190は、発光素子100の上面のほぼ全体を覆うように形成されている。ただし、透明保護膜190は、p側電極180のパッド部180a及びn側電極160のパッド部160aを露出させるようにパターニングされている。 An insulating transparent protective film 190 made of SiO 2 is provided on the upper surface of the light emitting element 100. The transparent protective film 190 is formed so as to cover almost the entire upper surface of the light emitting element 100. However, the transparent protective film 190 is patterned so as to expose the pad portion 180a of the p-side electrode 180 and the pad portion 160a of the n-side electrode 160.

[発光素子100から出射された光の経路]
図2を参照して、発光素子100から出射された光の経路について説明する。透明基体210を含む本発光装置200は、発光素子100から出射された光が主として以下の3つのルート(Pルート、Qルート及びRルート)を経てパッケージの外部に出射される。
[Path of light emitted from light emitting element 100]
A path of light emitted from the light emitting device 100 will be described with reference to FIG. In the light emitting device 200 including the transparent substrate 210, the light emitted from the light emitting element 100 is emitted to the outside of the package mainly through the following three routes (P route, Q route, and R route).

Pルートは、発光素子100から上部方向に出射された光が第1の封止樹脂層252を通って外部に出射されるルートである。発光素子100から上部方向に出射された光の一部は第1の封止樹脂層252中に分散された蛍光体に吸収されて当該蛍光体から波長変換された光が外部に出射される。蛍光体から出射された光と、発光素子100から出射された発光色のままの光とが一緒に出射されることにより、発光装置200から例えば白色光として外部に出射される。   The P route is a route in which light emitted upward from the light emitting element 100 is emitted to the outside through the first sealing resin layer 252. A part of the light emitted upward from the light emitting element 100 is absorbed by the phosphor dispersed in the first sealing resin layer 252, and the wavelength-converted light is emitted from the phosphor to the outside. The light emitted from the phosphor and the light having the emission color emitted from the light emitting element 100 are emitted together, and are emitted from the light emitting device 200 to the outside as, for example, white light.

Qルートは、発光素子100の下面から下部方向に出射された光が、接着層240及び透明基体210を透過して反射板230の開口部232から外部に出射されるルートである。透明基体210を透過した光は開口部232を介して第2の封止樹脂層254に入射する。第2の封止樹脂層254に入射した光の一部は、第2の封止樹脂層254中に分散された蛍光体に吸収されて当該蛍光体から波長変換された光が外部に出射される。蛍光体から出射された光と、発光素子100から出射された発光色のままの光とが一緒に出射されることにより、発光装置200から例えば白色光として外部に出射される。   The Q route is a route in which light emitted downward from the lower surface of the light emitting element 100 passes through the adhesive layer 240 and the transparent substrate 210 and is emitted to the outside from the opening 232 of the reflection plate 230. The light transmitted through the transparent substrate 210 is incident on the second sealing resin layer 254 through the opening 232. Part of the light incident on the second sealing resin layer 254 is absorbed by the phosphor dispersed in the second sealing resin layer 254, and the wavelength-converted light is emitted from the phosphor to the outside. The The light emitted from the phosphor and the light having the emission color emitted from the light emitting element 100 are emitted together, and are emitted from the light emitting device 200 to the outside as, for example, white light.

Rルートは、発光素子100の下面から下部方向に出射された光が、接着層240を透過して透明基体210に入射し、透明基体210中を伝播して透明基体210の側面216から外部に出射されるルートである。   In the R route, light emitted downward from the lower surface of the light emitting element 100 passes through the adhesive layer 240 and enters the transparent substrate 210, propagates through the transparent substrate 210, and is transmitted from the side surface 216 of the transparent substrate 210 to the outside. This is the route that is emitted.

本実施の形態のように、接着層240に蛍光体が含有されていない場合、接着層240を透過して透明基体210に入射した光は発光素子100から出射された発光色のままの光である。Rルートでは、発光素子100の発光色のままの光が透明基体210中を伝播して透明基体210の側面216から出射される。   In the case where the phosphor is not contained in the adhesive layer 240 as in the present embodiment, the light that passes through the adhesive layer 240 and enters the transparent substrate 210 is light that is emitted from the light emitting element 100 and remains in the emission color. is there. In the R route, light that remains in the emission color of the light emitting element 100 propagates through the transparent substrate 210 and is emitted from the side surface 216 of the transparent substrate 210.

このとき、透明基体210の側面216の近傍に適切な量の蛍光体がないと、透明基体210の側面216から発光素子100の発光色のままの光が多く出射されてしまう。発光素子100から出射される光の色が例えば青色の場合、青い筋状の発光パターンとなり、電球等の光源として用いた場合に非常に問題となる。   At this time, if there is no appropriate amount of the phosphor in the vicinity of the side surface 216 of the transparent substrate 210, a large amount of light in the emission color of the light emitting element 100 is emitted from the side surface 216 of the transparent substrate 210. When the color of light emitted from the light emitting element 100 is, for example, blue, a blue streak-like light emission pattern is formed, which is very problematic when used as a light source such as a light bulb.

本実施の形態では、上述したように、透明基体210の表面212及び裏面214に加えて、4つの側面216(216a〜216d)も蛍光体を含有した封止樹脂層250で覆われている。すなわち、透明基体210の表面212及び裏面214のみならず、側面216についても適切な蛍光体を含有した封止樹脂層250できっちりと覆われている。そのため、透明基体210中を伝播して透明基体210の側面216から出射した光は、第1の封止樹脂層252に入射する。第1の封止樹脂層252に入射した光の一部は、第1の封止樹脂層252中に分散された蛍光体に吸収されて当該蛍光体から波長変換された光が外部に出射される。蛍光体から出射された光と、発光素子100から出射された発光色のままの光とが一緒に出射されることにより、発光装置200から例えば白色光として外部に出射される。   In the present embodiment, as described above, in addition to the front surface 212 and the back surface 214 of the transparent substrate 210, the four side surfaces 216 (216a to 216d) are also covered with the sealing resin layer 250 containing a phosphor. That is, not only the front surface 212 and the back surface 214 of the transparent substrate 210 but also the side surface 216 is completely covered with the sealing resin layer 250 containing an appropriate phosphor. Therefore, light that has propagated through the transparent substrate 210 and emitted from the side surface 216 of the transparent substrate 210 is incident on the first sealing resin layer 252. Part of the light incident on the first sealing resin layer 252 is absorbed by the phosphor dispersed in the first sealing resin layer 252 and the wavelength-converted light is emitted from the phosphor. The The light emitted from the phosphor and the light having the emission color emitted from the light emitting element 100 are emitted together, and are emitted from the light emitting device 200 to the outside as, for example, white light.

このように、本発光装置200では、発光素子100の発光色のままの光が多く出射される領域(例えば、発光素子100の発光色のままの光のみが出射される領域)がないため、広範囲にわたって均一な発光色の光(例えば白色光)が出射される。   As described above, in the present light emitting device 200, there is no region in which a large amount of light with the light emission color of the light emitting element 100 is emitted (for example, a region in which only the light with the light emission color of the light emitting element 100 is emitted) Light of uniform emission color (for example, white light) is emitted over a wide range.

[封止樹脂層250と透明基体210との関係]
図2及び図3を参照して、第1の封止樹脂層252と透明基体210との関係について説明する。透明基体210の各端部210e〜210hから第1の封止樹脂層252における対応する各端部252e〜252hまでの距離をそれぞれ距離dとする。透明基体210の表面212から第1の封止樹脂層252の上面(透明基体210の表面212と対向する外表面)までの距離を距離tとする。この場合、距離dと距離tとは以下の式(1)の関係を有しているのが好ましい。
d≧t ・・・・ (1)
[Relationship Between Sealing Resin Layer 250 and Transparent Base 210]
With reference to FIG.2 and FIG.3, the relationship between the 1st sealing resin layer 252 and the transparent base | substrate 210 is demonstrated. The distances from the respective end portions 210e to 210h of the transparent substrate 210 to the corresponding end portions 252e to 252h in the first sealing resin layer 252 are defined as distances d. A distance from the surface 212 of the transparent substrate 210 to the upper surface of the first sealing resin layer 252 (an outer surface facing the surface 212 of the transparent substrate 210) is a distance t. In this case, it is preferable that the distance d and the distance t have the relationship of the following formula (1).
d ≧ t (1)

発光素子100から出射される光が例えば波長450nmの青色光の場合、距離dが距離tに対してd<tとなっていると、透明基体210中を伝播して透明基体210の側面216から出射される青色光が十分に蛍光体を励起できず、Pルートの光に比べて青色の光が強く出射されてしまう。この場合、均一な光源(例えば白色光源)が得られず、電球等の照明装置に搭載した場合にこの青色の光がライン状に見えることがある。   When the light emitted from the light emitting element 100 is blue light having a wavelength of 450 nm, for example, if the distance d is d <t with respect to the distance t, the light propagates through the transparent substrate 210 and from the side surface 216 of the transparent substrate 210. The emitted blue light cannot sufficiently excite the phosphor, and the blue light is emitted more strongly than the P route light. In this case, a uniform light source (for example, a white light source) cannot be obtained, and this blue light may appear as a line when mounted on an illumination device such as a light bulb.

上記した式(1)の関係を満たすことにより、青色の光がライン状に見える問題が解消される。したがって、距離dと距離tとが上記した式(1)の関係を満たすように、第1の封止樹脂層252が形成されているのが好ましい。   By satisfying the relationship of the above formula (1), the problem that the blue light looks like a line is solved. Therefore, it is preferable that the first sealing resin layer 252 is formed so that the distance d and the distance t satisfy the relationship of the above-described formula (1).

[反射板230と透明基体210との関係]
図2及び図3を参照して、反射板230と透明基体210との関係について説明する。透明基体210の各端部210e〜210hから反射板230における対応する各端部230e〜230hまでの距離をそれぞれ距離Aとする。この場合、距離Aと距離dとは以下の式(2)の関係を有しているのが好ましい。
A≧d ・・・・ (2)
[Relationship Between Reflector 230 and Transparent Base 210]
With reference to FIG.2 and FIG.3, the relationship between the reflecting plate 230 and the transparent base | substrate 210 is demonstrated. The distances from the respective end portions 210e to 210h of the transparent substrate 210 to the corresponding end portions 230e to 230h in the reflecting plate 230 are defined as distance A, respectively. In this case, it is preferable that the distance A and the distance d have the relationship of the following formula (2).
A ≧ d (2)

すなわち、第1の封止樹脂層252の端部252e〜252hは、それぞれ、透明基体210の端部から反射板230の端部までの間に位置するように形成するのが好ましい。上記した式(2)の関係を満たすことにより、簡便に透明基体210の側面216(216a〜216d)を、蛍光体を含有した第1の封止樹脂層252で覆うことが可能となる。   That is, the end portions 252e to 252h of the first sealing resin layer 252 are preferably formed so as to be located between the end portion of the transparent substrate 210 and the end portion of the reflection plate 230, respectively. By satisfying the relationship of the above formula (2), the side surface 216 (216a to 216d) of the transparent substrate 210 can be easily covered with the first sealing resin layer 252 containing the phosphor.

なお、距離dと距離tとは、d≧tの関係を有しているのが好ましいため、距離A、距離d及び距離tは、以下の式(3)の関係を有しているのが好ましい。
A≧d≧t ・・・・ (3)
Since it is preferable that the distance d and the distance t have a relationship of d ≧ t, the distance A, the distance d, and the distance t have the relationship of the following formula (3). preferable.
A ≧ d ≧ t (3)

図3及び図11を参照して、反射板230に形成された開口部232の各端部232a〜232dから透明基体210における対応する各端部までの距離をそれぞれ距離Bとする。距離Bは、反射板230と透明基体210との重なり合った領域の幅でもある。透明基体210と反射板230の固定(接着)の状況は、距離Bによって決定される。透明基体210と反射板230とを十分に固定するために、距離Bは500μm以上であるのが好ましい。一方、距離Bが大きくなると、開口部232を介して下方に抜ける光の量が減少する。このため、距離Bを適宜調整することで、下方へ出射する光の量を制御できる。   With reference to FIG. 3 and FIG. 11, the distances from the respective end portions 232 a to 232 d of the opening 232 formed in the reflecting plate 230 to the corresponding end portions in the transparent substrate 210 are defined as distance B, respectively. The distance B is also the width of the overlapping area between the reflector 230 and the transparent substrate 210. The state of fixation (adhesion) between the transparent substrate 210 and the reflector 230 is determined by the distance B. In order to sufficiently fix the transparent substrate 210 and the reflector 230, the distance B is preferably 500 μm or more. On the other hand, as the distance B increases, the amount of light that passes downward through the opening 232 decreases. For this reason, the amount of light emitted downward can be controlled by appropriately adjusting the distance B.

さらに、開口部232の各端部232a〜232dから当該端部232a〜232dの最も近傍に位置する発光素子100の端までの距離をそれぞれ距離Cとする。距離Cは、発光素子100から出射される光の効率に影響を与える。そのため、距離Cは、以下の式(4)を満たしているのが好ましい。
C>0 ・・・・ (4)
Furthermore, distances from the respective end portions 232a to 232d of the opening 232 to the end of the light emitting element 100 located closest to the end portions 232a to 232d are set as distance C, respectively. The distance C affects the efficiency of light emitted from the light emitting element 100. Therefore, it is preferable that the distance C satisfies the following formula (4).
C> 0 (4)

すなわち、複数の発光素子100の全てが平面図的に見て開口部232の内側の領域に位置するように透明基体210上に搭載されているのが好ましい。なお、距離Cは、透明基体210の厚みxとの関係において以下の式(5)を満たしていれば、光取出し効率がより高くなるため、より好ましいことが分かった。
x≧C ・・・・ (5)
That is, it is preferable that the plurality of light emitting elements 100 are mounted on the transparent substrate 210 so that all of the light emitting elements 100 are located in a region inside the opening 232 in a plan view. It has been found that the distance C is more preferable if the following expression (5) is satisfied in relation to the thickness x of the transparent substrate 210, since the light extraction efficiency becomes higher.
x ≧ C (5)

[製造方法]
図2、図4、図5、図7、図8、図12及び図13を参照して、本実施の形態に係る発光装置200の製造方法について説明する。まず、図4に示すような透明基体210を準備する。透明基体210の少なくとも裏面214を非平滑面とする。例えば、透明基体210の裏面214を研磨せずに、凹凸を残したままの面とする。その他、意図的にストライプ及びディンプル等の凹凸を設けてもよい。透明基体210の裏面214を非平滑面とすることにより、透明基体210の裏面214に別途透光性部材等を設けなくても発光素子100の下面から透明基体210に導光された光を効率よく外部に取出すことができる。
[Production method]
A manufacturing method of the light emitting device 200 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2, 4, 5, 7, 8, 12, and 13. First, a transparent substrate 210 as shown in FIG. 4 is prepared. At least the back surface 214 of the transparent substrate 210 is a non-smooth surface. For example, the back surface 214 of the transparent substrate 210 is not polished, and is a surface that remains uneven. In addition, irregularities such as stripes and dimples may be provided intentionally. By making the back surface 214 of the transparent substrate 210 a non-smooth surface, the light guided to the transparent substrate 210 from the bottom surface of the light emitting element 100 can be efficiently performed without providing a separate light-transmitting member or the like on the back surface 214 of the transparent substrate 210. Can be taken out well.

次に、透明基体210の所定の領域に金属柱300を固定するための貫通孔218を形成する。貫通孔218が形成された領域に、電極パッドを形成する。図12(a)を参照して、電極パッドは、透明基体210の両面に形成する。貫通孔218の内側面には電極パッドと同一材料で形成された接続部224(図5参照)を形成する。電極パッドと接続部224とは例えば同一工程で一体的に形成することができる。なお、貫通孔218を形成する工程の前に電極パッドを形成する工程を行ない、電極パッドを形成した後に、電極パッドの形成領域に貫通孔218を形成するようにしてもよい。   Next, a through hole 218 for fixing the metal pillar 300 to a predetermined region of the transparent substrate 210 is formed. An electrode pad is formed in the region where the through hole 218 is formed. Referring to FIG. 12A, the electrode pads are formed on both surfaces of the transparent substrate 210. A connection portion 224 (see FIG. 5) formed of the same material as the electrode pad is formed on the inner side surface of the through hole 218. The electrode pad and the connection portion 224 can be integrally formed in the same process, for example. Alternatively, the step of forming the electrode pad may be performed before the step of forming the through hole 218, and the through hole 218 may be formed in the electrode pad formation region after the electrode pad is formed.

その後、透明基体210の表面212上に複数の発光素子100をダイボンドペーストにより実装する。具体的には、発光素子100をシリコーン樹脂からなるダイボンドペーストを用いて載置し、150℃で2〜3時間加熱することでダイボンドペーストを硬化させて発光素子100を透明基体210の表面212上に接着する。   Thereafter, the plurality of light emitting elements 100 are mounted on the surface 212 of the transparent substrate 210 with a die bond paste. Specifically, the light emitting element 100 is placed using a die bond paste made of a silicone resin and heated at 150 ° C. for 2 to 3 hours to cure the light emitting element 100 on the surface 212 of the transparent substrate 210. Adhere to.

図12(b)を参照して、複数の発光素子100が搭載された透明基体210を反射板230の上面上に接着剤等で固定する。反射板230は、図7に示すような形状及び寸法に加工する。具体的には、Al合金からなる金属板を略矩形状に加工し、その中央部分に開口部232を形成する。反射板230の延び方向における両端部分には、補助金属柱310(図2参照)が固定される貫通孔234を形成する。図13を参照して、透明基体210を反射板230に固定する際に、透明基体210で開口部232を塞ぐように当該透明基体210を固定する。このとき、透明基体210に搭載された複数の発光素子100が、反射板230の開口部232と対向するように調整する。なお、平面図的に見た場合に、複数の発光素子100の全てが開口部232の内側の領域に位置するように透明基体210を反射板230の上面上に固定するのが好ましい。   Referring to FIG. 12B, the transparent substrate 210 on which the plurality of light emitting elements 100 are mounted is fixed on the upper surface of the reflection plate 230 with an adhesive or the like. The reflector 230 is processed into a shape and dimensions as shown in FIG. Specifically, a metal plate made of an Al alloy is processed into a substantially rectangular shape, and an opening 232 is formed in the central portion. Through holes 234 to which the auxiliary metal pillar 310 (see FIG. 2) is fixed are formed at both ends in the extending direction of the reflector 230. Referring to FIG. 13, when the transparent substrate 210 is fixed to the reflector 230, the transparent substrate 210 is fixed so as to close the opening 232 with the transparent substrate 210. At this time, the plurality of light emitting elements 100 mounted on the transparent substrate 210 are adjusted so as to face the opening 232 of the reflecting plate 230. Note that the transparent substrate 210 is preferably fixed on the upper surface of the reflector 230 so that all of the plurality of light emitting elements 100 are located in the region inside the opening 232 when viewed in plan view.

図12(c)及び図13を参照して、透明基体210を反射板230に固定した後、各発光素子100をワイヤ242で結線する。   Referring to FIG. 12C and FIG. 13, after fixing the transparent substrate 210 to the reflecting plate 230, each light emitting element 100 is connected by a wire 242.

続いて、図12(d)を参照して、反射板230の上面上及び透明基体210上に、透明基体210の側面216をも含めて透明基体210の外面を覆うように、蛍光体を含有した透明樹脂を例えばポッティング法により塗布する。このとき、透明基体210の貫通孔218が透明樹脂で埋まらないようにする。そして、オーブンにて150℃程度の温度で2〜3時間程度加熱して透明樹脂を硬化させる。さらに、図12(e)に示すように、透明基体210が搭載されていない、反射板230の下面上にも、蛍光体を含有した透明樹脂を例えばポッティング法により塗布し、同様に、オーブンにて150℃程度の温度で2〜3時間程度加熱して透明樹脂を硬化させる。このときも、透明基体210の貫通孔218が透明樹脂で埋まらないようにする。また、図8に示すように、透明基体210の貫通孔218が反射板230の下面から露出するように透明樹脂を塗布する。   Subsequently, referring to FIG. 12D, the phosphor is contained on the upper surface of the reflector 230 and on the transparent substrate 210 so as to cover the outer surface of the transparent substrate 210 including the side surface 216 of the transparent substrate 210. The applied transparent resin is applied by, for example, a potting method. At this time, the through hole 218 of the transparent substrate 210 is not filled with the transparent resin. Then, the transparent resin is cured by heating in an oven at a temperature of about 150 ° C. for about 2 to 3 hours. Furthermore, as shown in FIG. 12 (e), a transparent resin containing a phosphor is also applied to the lower surface of the reflector 230 on which the transparent substrate 210 is not mounted by, for example, a potting method. The transparent resin is cured by heating at a temperature of about 150 ° C. for about 2 to 3 hours. Also at this time, the through hole 218 of the transparent substrate 210 is prevented from being filled with the transparent resin. Further, as shown in FIG. 8, a transparent resin is applied so that the through hole 218 of the transparent substrate 210 is exposed from the lower surface of the reflecting plate 230.

このように、透明基体の片面ずつ透明樹脂を塗布して硬化させることにより、ポッティング法等の非常に容易な方法で透明基体210の両面上に蛍光体を含有した透明樹脂(封止樹脂層250)を形成できる。このとき、透明基体210の側面216に蛍光体を含有した透明樹脂(封止樹脂層250)が十分に回りこむことが重要である。これは、透明樹脂(封止樹脂層250)の土台となる反射板230を透明基体210より大きく形成することで、非常に簡便に透明基体210を覆うように透明樹脂を形成できる。そのため、透明基体210の側面216に蛍光体を含有した透明樹脂(封止樹脂層250)を十分に回りこませた状態で封止樹脂層250を形成できる。   Thus, by applying and curing a transparent resin on each side of the transparent substrate, the transparent resin (encapsulating resin layer 250) containing the phosphor on both surfaces of the transparent substrate 210 by a very easy method such as a potting method. ) Can be formed. At this time, it is important that the transparent resin (encapsulating resin layer 250) containing the phosphor sufficiently wraps around the side surface 216 of the transparent substrate 210. In this case, the transparent resin can be formed so as to cover the transparent substrate 210 very easily by forming the reflector 230 serving as a base of the transparent resin (sealing resin layer 250) larger than the transparent substrate 210. Therefore, the sealing resin layer 250 can be formed in a state where the transparent resin (sealing resin layer 250) containing the phosphor is sufficiently wrapped around the side surface 216 of the transparent substrate 210.

なお、透明樹脂を塗布する際に、透明樹脂が反射板230上で流れださないように、図12(d)及び図12(e)に示すようなダム30及び32を反射板230上に設けてもよい。このダム30及び32は、例えばシリコーン樹脂及びエポキシ樹脂等を用いて形成できる。   It should be noted that dams 30 and 32 as shown in FIGS. 12D and 12E are provided on the reflector 230 so that the transparent resin does not flow on the reflector 230 when applying the transparent resin. It may be provided. The dams 30 and 32 can be formed using, for example, a silicone resin and an epoxy resin.

これにより、本実施の形態に係る発光装置200が製造される。こうして製造された発光装置200に金属柱300及び補助金属柱310を固定する。具体的には、図2に示すように、透明基体210の貫通孔218に金属柱300を挿入して金属柱300を透明基体210に固定する。さらに、反射板230の貫通孔234に補助金属柱310をネジ止め固定する。   Thereby, the light emitting device 200 according to the present embodiment is manufactured. The metal pillar 300 and the auxiliary metal pillar 310 are fixed to the light emitting device 200 thus manufactured. Specifically, as shown in FIG. 2, the metal column 300 is inserted into the through hole 218 of the transparent substrate 210 to fix the metal column 300 to the transparent substrate 210. Further, the auxiliary metal pillar 310 is fixed to the through hole 234 of the reflector 230 with screws.

図1を参照して、金属柱300及び補助金属柱310が固定された発光装置200を照明装置の本体部分に固定してバルブ60を取付けることにより、電球型のLEDランプに組立てる。これにより、本実施の形態に係る照明装置50が製造される。   Referring to FIG. 1, the light emitting device 200 to which the metal column 300 and the auxiliary metal column 310 are fixed is fixed to the main body portion of the lighting device, and the bulb 60 is attached to assemble the light bulb type LED lamp. Thereby, the illuminating device 50 which concerns on this Embodiment is manufactured.

[本実施の形態の効果]
以上の説明から明らかなように、本実施の形態に係る発光装置200及び照明装置50は、以下に述べる効果を奏する。
[Effects of the present embodiment]
As is clear from the above description, the light emitting device 200 and the lighting device 50 according to the present embodiment have the effects described below.

複数の発光素子100は透明基体210上に搭載されており、この透明基体210が反射板230上に固定されている。発光素子100で生じた熱はこの反射板230を介して放熱される。反射板230上に透明基体210を固定することにより、複数の発光素子の駆動によって発生した熱を面内で均一に広げて効率よく放熱できる。すなわち、面内均一性の高い放熱を実現できる。そのため、例えば透明基体210の中心部分に熱がこもったり、複数の発光素子において温度が異なる、温度ムラが生じたりするのを抑制できる。   The plurality of light emitting elements 100 are mounted on a transparent substrate 210, and the transparent substrate 210 is fixed on the reflection plate 230. Heat generated in the light emitting element 100 is radiated through the reflector 230. By fixing the transparent substrate 210 on the reflecting plate 230, heat generated by driving a plurality of light emitting elements can be spread uniformly in the plane and efficiently radiated. That is, heat radiation with high in-plane uniformity can be realized. Therefore, for example, it is possible to suppress the heat from being accumulated in the central portion of the transparent substrate 210 or the occurrence of temperature unevenness in the plurality of light emitting elements at different temperatures.

透明基体210が固定される反射板230には、複数の発光素子100と対向する領域に開口部232が設けられている。発光素子100の下面から出射された光は、透光性を有する接着層240及び透明基体210を透過して反射板230の開口部232から出射される。すなわち、反射板230の下面側にも光を出射できる。そのため、発光装置200の上方のみならず下方にも光を出射できるので、広範囲に光を出射できる。   The reflector 230 to which the transparent substrate 210 is fixed is provided with openings 232 in regions facing the plurality of light emitting elements 100. The light emitted from the lower surface of the light emitting element 100 passes through the light-transmitting adhesive layer 240 and the transparent base 210 and is emitted from the opening 232 of the reflection plate 230. That is, light can be emitted also to the lower surface side of the reflecting plate 230. Therefore, since light can be emitted not only above the light emitting device 200 but also below, light can be emitted in a wide range.

本発光装置200はまた、蛍光体を含有する封止樹脂層250で透明基体210が覆われている。そのため、発光素子100の発光色のままの光が透明基体210中を伝播して外部に出射されるのを抑制できる。したがって、発光素子100の発光色のままの光が多く出射されてしまうのを抑制できるので、色むらの発生を抑制できる。さらに、透明基体210を固定する反射板230を含むことによって、発光素子100及び蛍光体から出射された光を反射板230で効率よく反射できるので、光を有効にパッケージの外部に取出すことができる。   In the light emitting device 200, the transparent substrate 210 is covered with a sealing resin layer 250 containing a phosphor. Therefore, it is possible to suppress the light that remains in the emission color of the light emitting element 100 from propagating through the transparent substrate 210 and being emitted to the outside. Therefore, since it can suppress that many lights with the luminescent color of the light emitting element 100 are radiate | emitted, generation | occurrence | production of color unevenness can be suppressed. Further, by including the reflecting plate 230 for fixing the transparent substrate 210, the light emitted from the light emitting element 100 and the phosphor can be efficiently reflected by the reflecting plate 230, so that the light can be effectively taken out of the package. .

このように、本発光装置200によれば、面内均一性の高い放熱を実現できるとともに、均一な発光色の光を広範囲に、かつ、効率よく出射できる。   Thus, according to the light emitting device 200, heat radiation with high in-plane uniformity can be realized, and light of uniform light emission color can be efficiently emitted in a wide range.

さらに、反射板230における開口部232の形成領域を透明基体210の平面積より小さくすることによって、容易に、発光素子100が搭載された透明基体210を、その発光素子100が開口部232と対向するようにして反射板230に固定できる。   Further, by making the formation region of the opening 232 in the reflecting plate 230 smaller than the plane area of the transparent substrate 210, the transparent substrate 210 on which the light emitting element 100 is mounted can be easily opposed to the opening 232. Thus, it can be fixed to the reflector 230.

蛍光体を含有しない接着層240を介して発光素子100を透明基体210上に固定することにより、接着層240の厚みが大きくなり過ぎるのを抑制できるので、放熱性をより向上できる。本発光装置200は、蛍光体を含有する封止樹脂層250で透明基体210が覆われているため、このように構成した場合でも、発光素子100の発光色のままの光が透明基体210中を伝播して外部に出射されるのを抑制できる。これより、放熱特性をより向上させながら、例えば、青色の光がライン状に見えるという問題が生じるのを抑制できる。   By fixing the light emitting element 100 on the transparent substrate 210 via the adhesive layer 240 that does not contain a phosphor, it is possible to suppress the thickness of the adhesive layer 240 from becoming too large, so that heat dissipation can be further improved. In the light emitting device 200, the transparent substrate 210 is covered with the sealing resin layer 250 containing a phosphor. Therefore, even when configured in this manner, light that remains in the emission color of the light emitting element 100 is contained in the transparent substrate 210. Can be prevented from being emitted to the outside. As a result, for example, it is possible to suppress the problem that blue light looks like a line while improving the heat dissipation characteristics.

第1の封止樹脂層252を形成する際に、透明基体210の端部から封止樹脂層250の端部までの距離dを透明基体210の表面212から第1の封止樹脂層252の上面までの距離t以上とすることによって、透明基体210の側面216を、容易に、適切な量の蛍光体を含有する第1の封止樹脂層252で覆うことができる。透明基体210中を伝播して当該透明基体210の側面216から出射される光は、透明基体210の側面を覆う第1の封止樹脂層252中の蛍光体を十分に励起できるため、発光素子100の発光色のままの光が多く出射されてしまうのを容易に抑制できる。その結果、外部に出射される光を容易に均一な発光色の光にできる。   When forming the first sealing resin layer 252, the distance d from the end of the transparent base 210 to the end of the sealing resin layer 250 is set so that the distance d from the surface 212 of the transparent base 210 to the first sealing resin layer 252. By setting the distance to the upper surface to be t or more, the side surface 216 of the transparent substrate 210 can be easily covered with the first sealing resin layer 252 containing an appropriate amount of phosphor. Since the light propagating through the transparent substrate 210 and emitted from the side surface 216 of the transparent substrate 210 can sufficiently excite the phosphor in the first sealing resin layer 252 covering the side surface of the transparent substrate 210, the light emitting element It is possible to easily suppress the emission of a large amount of light with the 100 emission colors. As a result, the light emitted to the outside can be easily converted into light of uniform emission color.

透明基体210の端部から反射板230の端部までの距離Aを透明基体210の端部から封止樹脂層250の端部までの距離d以上とすることにより、容易に、蛍光体を含有する第1の封止樹脂層252で透明基体210を覆うことができる。加えて、容易に、透明基体210の側面216を適切な量の蛍光体を含有する封止樹脂層250で覆うことができる。   By making the distance A from the end of the transparent substrate 210 to the end of the reflector 230 equal to or greater than the distance d from the end of the transparent substrate 210 to the end of the sealing resin layer 250, the phosphor is easily contained. The transparent substrate 210 can be covered with the first sealing resin layer 252 to be performed. In addition, the side surface 216 of the transparent substrate 210 can be easily covered with the sealing resin layer 250 containing an appropriate amount of phosphor.

さらに、開口部232の端部から複数の発光素子100のうち最も当該端部側の発光素子100までの距離をCとした場合に、距離CをC>0となるように構成することによって、発光素子100から出射された光を開口部232から効率よく反射板230の下面側に取出すことができる。そのため、発光素子100からの光を広範囲に、かつ、効率よく外部に出射できる。   Furthermore, when the distance from the end of the opening 232 to the light emitting element 100 closest to the end among the plurality of light emitting elements 100 is C, the distance C is configured to satisfy C> 0. Light emitted from the light emitting element 100 can be efficiently extracted from the opening 232 to the lower surface side of the reflector 230. Therefore, the light from the light emitting element 100 can be efficiently emitted to the outside over a wide range.

なお、反射板230を金属材料から構成することにより、より一層、発光素子100で生じた熱を面内で均一に広げて効率よく放熱できる。これにより、発光装置200の放熱性をより一層向上できる。   Note that, when the reflector 230 is made of a metal material, the heat generated in the light emitting element 100 can be evenly spread in the plane and efficiently radiated. Thereby, the heat dissipation of the light emitting device 200 can be further improved.

本実施の形態に係る照明装置50は、上記発光装置200を光源として搭載することによって、広範囲に光を放射する電球型のLEDランプとすることができる。このとき、発光装置200を放熱部材としても機能する金属柱300及び補助金属柱310で支持することによって、発光素子100で発生した熱をさらに効率よく放熱できる。   The lighting device 50 according to the present embodiment can be a bulb-type LED lamp that emits light over a wide range by mounting the light emitting device 200 as a light source. At this time, by supporting the light emitting device 200 with the metal column 300 and the auxiliary metal column 310 that also function as a heat radiating member, the heat generated in the light emitting element 100 can be radiated more efficiently.

(第2の実施の形態)
図14を参照して、本実施の形態に係る照明装置500は、第1の実施の形態に係る照明装置50と同様、電球型のLEDランプである。この照明装置500は、照明装置50の発光装置200に代えて、発光装置600を含む。
(Second Embodiment)
Referring to FIG. 14, lighting device 500 according to the present embodiment is a light bulb-type LED lamp, similarly to lighting device 50 according to the first embodiment. The lighting device 500 includes a light emitting device 600 instead of the light emitting device 200 of the lighting device 50.

図15を参照して、本実施の形態に係る発光装置600は、上記第1の実施の形態に係る発光装置200において、封止樹脂層250を被覆する透明封止樹脂層650をさらに含む。   Referring to FIG. 15, light emitting device 600 according to the present embodiment further includes a transparent sealing resin layer 650 that covers sealing resin layer 250 in light emitting device 200 according to the first embodiment.

本実施の形態では、封止樹脂層250が透明封止樹脂層650で被覆されているため、発光素子100を封止する封止樹脂層(透明樹脂層)が2層構造となっている。外側の透明封止樹脂層650は、例えばシリコーン樹脂によって形成されている。この透明封止樹脂層650には蛍光体が含有されていない。   In this embodiment, since the sealing resin layer 250 is covered with the transparent sealing resin layer 650, the sealing resin layer (transparent resin layer) for sealing the light emitting element 100 has a two-layer structure. The outer transparent sealing resin layer 650 is made of, for example, a silicone resin. The transparent sealing resin layer 650 does not contain a phosphor.

透明封止樹脂層650の表面は、球状又は凸形状とされている。透明封止樹脂層650の表面をこのような形状とすることにより、発光素子100から発する光、及び封止樹脂層250に含まれる蛍光体から発する光を、球状又は凸形状の透明封止樹脂層650で周囲に無指向に放出できる。   The surface of the transparent sealing resin layer 650 is spherical or convex. By forming the surface of the transparent sealing resin layer 650 in such a shape, the light emitted from the light emitting element 100 and the light emitted from the phosphor included in the sealing resin layer 250 are converted into a spherical or convex transparent sealing resin. The layer 650 can emit omnidirectionally to the surroundings.

透明封止樹脂層650は光学レンズとして機能させることも可能である。これにより全方向へ均等な光を放出することが可能な発光装置600が得られる。透明封止樹脂層650は、例えばトランスファー成型等により形成できる。透明封止樹脂層650の形成にトランスファー成型等の成型方法を用いることにより、透明封止樹脂層650の表面をあらゆる光学レンズ状の曲面に成型することが可能である。   The transparent sealing resin layer 650 can also function as an optical lens. As a result, the light emitting device 600 capable of emitting uniform light in all directions is obtained. The transparent sealing resin layer 650 can be formed by, for example, transfer molding. By using a molding method such as transfer molding to form the transparent sealing resin layer 650, the surface of the transparent sealing resin layer 650 can be molded into a curved surface of any optical lens shape.

なお、透明封止樹脂層650の屈折率は、蛍光体を含有する封止樹脂層250と同等かそれより小さい屈折率であるのが光取出しの観点からは好ましい。   The refractive index of the transparent sealing resin layer 650 is preferably the same or lower than that of the sealing resin layer 250 containing a phosphor from the viewpoint of light extraction.

(第3の実施の形態)
図16を参照して、本実施の形態に係る発光装置700は、透明基体210が反射板230の下面上に固定されている。具体的には、透明基体210の表面212と反射板230の下面とが図示しない接着剤によって固定されている。複数の発光素子100は、反射板230の開口部232の内側の領域に位置している。
(Third embodiment)
Referring to FIG. 16, in light emitting device 700 according to the present embodiment, transparent substrate 210 is fixed on the lower surface of reflecting plate 230. Specifically, the surface 212 of the transparent substrate 210 and the lower surface of the reflecting plate 230 are fixed by an adhesive (not shown). The plurality of light emitting elements 100 are located in a region inside the opening 232 of the reflection plate 230.

発光装置700は、封止樹脂層250と同様の封止樹脂層750によって透明基体210が覆われている。封止樹脂層750は、反射板230の上面上に形成される第1の封止樹脂層752と、反射板230の下面上に形成される第2の封止樹脂層754とを含む。第1の実施の形態と同様、第1の封止樹脂層752及び第2の封止樹脂層754には蛍光体が含有されている。   In the light emitting device 700, the transparent substrate 210 is covered with a sealing resin layer 750 similar to the sealing resin layer 250. The sealing resin layer 750 includes a first sealing resin layer 752 formed on the upper surface of the reflecting plate 230 and a second sealing resin layer 754 formed on the lower surface of the reflecting plate 230. As in the first embodiment, the first sealing resin layer 752 and the second sealing resin layer 754 contain a phosphor.

本実施の形態では、透明基体210が反射板230の下面に固定されているため、透明基体210の側面216は第2の封止樹脂層754によって覆われている。すなわち、第2の封止樹脂層754は、透明基体210の裏面214及び側面216を覆うように反射板230の下面上に形成されている。一方、第1の封止樹脂層752は、透明基体210の表面212、複数の発光素子100及びワイヤ242を封止するように反射板230の上面上に形成されている。   In the present embodiment, since the transparent substrate 210 is fixed to the lower surface of the reflector 230, the side surface 216 of the transparent substrate 210 is covered with the second sealing resin layer 754. That is, the second sealing resin layer 754 is formed on the lower surface of the reflection plate 230 so as to cover the back surface 214 and the side surface 216 of the transparent substrate 210. On the other hand, the first sealing resin layer 752 is formed on the upper surface of the reflection plate 230 so as to seal the surface 212 of the transparent substrate 210, the plurality of light emitting elements 100, and the wires 242.

このような構成を有する発光装置700は、第1の実施の形態に係る発光装置200と同様の効果を有する。   The light emitting device 700 having such a configuration has the same effect as the light emitting device 200 according to the first embodiment.

(変形例)
上記実施の形態では、電球型のLEDランプに本発明を適用した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。電球型のLEDランプ以外の照明装置に本発明を適用することもできる。
(Modification)
In the said embodiment, although the example which applied this invention to the light bulb type LED lamp was shown, this invention is not limited to such embodiment. The present invention can also be applied to an illumination device other than a bulb-type LED lamp.

上記実施の形態では、反射板に光透過部(光通過部)としての開口部を形成した例について示したが、光透過部(光通過部)は、開口部以外に例えば切欠き状のものであってもよい。そのような反射板の一例を図17及び図18に示す。図17を参照して、反射板1230は、反射板230を2つに分割した形状を有する。反射板1230は一方側の反射板1240と他方側の反射板1250とを含む。反射板1240は切欠部1242を有しており、反射板1250は切欠部1252を有している。切欠部同士を向かい合わせて、反射板1240と反射板1250とをつき合わせると、反射板230と同様の形状となる。図18を参照して、反射板1240及び反射板1250は、透明基体210が固定されることによって、一体化される。このような反射板1250を用いた場合も、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。   In the above-described embodiment, an example in which an opening as a light transmission part (light passage part) is formed on the reflection plate has been described. However, the light transmission part (light passage part) has, for example, a notch shape in addition to the opening part. It may be. An example of such a reflector is shown in FIGS. Referring to FIG. 17, reflector 1230 has a shape obtained by dividing reflector 230 into two parts. The reflection plate 1230 includes a reflection plate 1240 on one side and a reflection plate 1250 on the other side. The reflector 1240 has a notch 1242, and the reflector 1250 has a notch 1252. When the notch portions are faced to each other and the reflecting plate 1240 and the reflecting plate 1250 are brought together, the same shape as the reflecting plate 230 is obtained. Referring to FIG. 18, the reflecting plate 1240 and the reflecting plate 1250 are integrated by fixing the transparent substrate 210. Even when such a reflector 1250 is used, the same effect as that of the above embodiment can be obtained.

上記実施の形態では、反射板に光透過部(光通過部)としての開口部を1つ形成した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。反射板の光透過部は複数の開口部によって形成されていてもよい。そのような反射板の一例を図19及び図20に示す。図19及び図20を参照して、反射板1330は、複数の開口部1332〜1334を有している。開口部1332〜1342は、発光素子100と対向する領域に形成されている。すなわち、発光素子100の直下の領域に位置するように複数の開口部1332〜1342が反射板1330に形成されている。開口部1344は、透明基体210の貫通孔218を露出させるために形成されている。この開口部1344によって、金属柱を透明基体210に固定することができる。このように、反射板の光透過部は複数の開口部1332〜1342によって形成した場合でも、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。   In the said embodiment, although the example which formed one opening part as a light transmissive part (light passage part) in the reflecting plate was shown, this invention is not limited to such an embodiment. The light transmission part of the reflection plate may be formed by a plurality of openings. An example of such a reflector is shown in FIGS. Referring to FIGS. 19 and 20, the reflection plate 1330 has a plurality of openings 1332 to 1334. The openings 1332 to 1342 are formed in a region facing the light emitting element 100. That is, a plurality of openings 1332 to 1342 are formed in the reflector 1330 so as to be located in a region immediately below the light emitting element 100. The opening 1344 is formed to expose the through hole 218 of the transparent substrate 210. The metal column can be fixed to the transparent substrate 210 by the opening 1344. Thus, even when the light transmission part of the reflecting plate is formed by the plurality of openings 1332 to 1342, the same effects as those of the above embodiment can be obtained.

上記実施の形態では、反射板に略矩形状の開口部を形成した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。開口部の平面形状は矩形状以外の形状であってもよい。開口部の平面形状は、例えば円形状及び楕円形状等であってもよい。   In the said embodiment, although the example which formed the substantially rectangular shaped opening part in the reflecting plate was shown, this invention is not limited to such an embodiment. The planar shape of the opening may be a shape other than a rectangular shape. The planar shape of the opening may be, for example, a circular shape or an elliptical shape.

上記実施の形態において、金属柱の固定方法はネジ止め固定等であってもよい。例えば、図21に示す発光装置800のように、金属柱300Aをネジ810によって固定するようにしてもよい。なお、金属柱及び補助金属柱の固定方法は、ネジ止め以外に、例えばリベット、かしめ、溶接、接着、係止、係合及び嵌合等の他の固定方法を適宜用いることもできる。   In the above embodiment, the metal column may be fixed by screwing or the like. For example, the metal pillar 300A may be fixed with screws 810 as in the light emitting device 800 shown in FIG. In addition, the fixing method of a metal pillar and an auxiliary metal pillar can also use suitably other fixing methods, such as a rivet, caulking, welding, adhesion | attachment, latching, engagement, and fitting, other than screwing.

上記実施の形態では、サファイアからなる透明基体を用いた例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明基体の構成材料はサファイア以外であってもよい。ただし、透明基体の構成材料は、光透過性を有することに加えて、高い熱伝導性を有しているのが好ましい。このような熱伝導性の高い材料としては、例えば、サファイア、GaN、酸化ベリリウム(ベリリア)、ZnO、SiC、Si、ZnS、AlN、SiC、ダイヤモンド及びルビー等の単結晶材料又は多結晶材料等、若しくはそれらの結晶体で形成されたセラミック材料等を用いることができる。   In the above embodiment, an example using a transparent substrate made of sapphire has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. The constituent material of the transparent substrate may be other than sapphire. However, it is preferable that the constituent material of the transparent substrate has high thermal conductivity in addition to having optical transparency. As such a material having high thermal conductivity, for example, sapphire, GaN, beryllium oxide (beryllia), ZnO, SiC, Si, ZnS, AlN, SiC, diamond, ruby, and other single crystal materials or polycrystalline materials, Or the ceramic material etc. which were formed with those crystal bodies can be used.

特に透明基体として導電性を有する部材を使用すると、発光素子の搭載面でも導通を得ることができるので、ワイヤボンディングは一方の電極のみで足りる。そのため、ワイヤの数を減らして製造コストの削減及び歩留まりを向上できる。したがって、透明基体に導電性を有する部材を用いることにより、信頼性の向上に寄与できる。特にワイヤは、これを封止する樹脂中で熱膨張係数の違い等によって断線するおそれがあるため、ワイヤの使用本数を減らすことでこのようなリスクを低減できる。この場合、透明基体と反射板とを固定する接着剤に絶縁性の接着剤等を用いて、透明基体と反射板とが短絡しないように構成するのが好ましい。   In particular, when a conductive member is used as the transparent substrate, continuity can be obtained even on the mounting surface of the light emitting element, so that only one electrode is sufficient for wire bonding. Therefore, the number of wires can be reduced to reduce the manufacturing cost and improve the yield. Therefore, the use of a conductive member for the transparent substrate can contribute to the improvement of reliability. In particular, since the wire may be disconnected due to a difference in thermal expansion coefficient in the resin for sealing the wire, such a risk can be reduced by reducing the number of wires used. In this case, it is preferable to use an insulating adhesive or the like as an adhesive for fixing the transparent substrate and the reflecting plate so that the transparent substrate and the reflecting plate are not short-circuited.

また、発光素子と透明基体との界面における反射を低減するために、これらの間の屈折率を調整することが好ましい。発光素子が成長基板上に素子構造体が支持されている場合、成長基板と透明基体との屈折率差が小さいことが好ましく、又は成長基板の屈折率が透明基体の屈折率より大きくなるように両者の材質を決定することにより、光の反射を少なくすることができる。例えば、成長基板としてのサファイア基板上に半導体層を成長させた発光素子を用いる場合、透明基体はサファイアからなる透明基体を使用することが好ましい。サファイアの透明基体よりも屈折率の低い石英の透明基体を用いてもよい。成長基板を有さないGaN系半導体素子であれば、GaNからなる透明基体を用いることが好ましく、GaNより屈折率の低いサファイア及び石英の透明基体を用いることが好ましい。   In order to reduce reflection at the interface between the light emitting element and the transparent substrate, it is preferable to adjust the refractive index between them. When the element structure is supported on the growth substrate, it is preferable that the difference in refractive index between the growth substrate and the transparent substrate is small, or the refractive index of the growth substrate is larger than the refractive index of the transparent substrate. By determining both materials, light reflection can be reduced. For example, when using a light emitting device in which a semiconductor layer is grown on a sapphire substrate as a growth substrate, it is preferable to use a transparent substrate made of sapphire. A quartz transparent substrate having a refractive index lower than that of the sapphire transparent substrate may be used. In the case of a GaN-based semiconductor element having no growth substrate, it is preferable to use a transparent substrate made of GaN, and it is preferable to use a transparent substrate made of sapphire and quartz having a refractive index lower than that of GaN.

上記実施の形態では、透明基体の表面上に搭載された発光素子の成長基板側から出射された光は、透明基体を通り、さらに透明基体の裏面上に形成された、蛍光体を含有する第2の封止樹脂層中に入射し、そのまま透過してパッケージ下方に出射されたり、第2の封止樹脂層中の蛍光体によって、緑又は赤色の波長に波長変換されたりして、パッケージ下方に出射される。このため、透明基体の屈折率と封止樹脂層の屈折率差が小さいことが好ましい。そのため、封止樹脂層を構成する透明樹脂としては、屈折率が1.35〜1.58程度のシリコーン樹脂が、透明基体としては、酸化アルミニウム(例えばサファイア等)の焼結体であるセラミック基体、サファイアの透明基体、石英の透明基体等が好適であると考えられる。屈折率の関係として、成長基板≧透明基体≧透明樹脂(封止樹脂層)の関係性が好ましい。   In the above embodiment, the light emitted from the growth substrate side of the light emitting element mounted on the surface of the transparent substrate passes through the transparent substrate and further contains the phosphor formed on the back surface of the transparent substrate. 2 is incident on the sealing resin layer 2 and is transmitted as it is to be emitted below the package, or is converted into a green or red wavelength by the phosphor in the second sealing resin layer, and the lower part of the package. Is emitted. For this reason, it is preferable that the difference in refractive index between the transparent substrate and the sealing resin layer is small. Therefore, the transparent resin constituting the sealing resin layer is a silicone resin having a refractive index of about 1.35 to 1.58, and the transparent substrate is a ceramic substrate that is a sintered body of aluminum oxide (for example, sapphire). A transparent substrate of sapphire, a transparent substrate of quartz, etc. are considered suitable. As the relationship of refractive index, the relationship of growth substrate ≧ transparent substrate ≧ transparent resin (sealing resin layer) is preferable.

上記実施の形態では、透明基体の裏面を非平滑面とした例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明基体の裏面は平滑面としてもよいし、透明基体の表面及び裏面の両方を非平滑面としてもよい。さらに、透明基体の表面及び裏面を曲面にしてもよい。このようにすれば、透明基体の表面及び裏面で全反射される光の成分を低減できるので、透明基体の内部に光が閉じ込められて光取出しが抑制されるのを防ぐことができる。   In the said embodiment, although the example which made the back surface of the transparent base | substrate the non-smooth surface was shown, this invention is not limited to such embodiment. The back surface of the transparent substrate may be a smooth surface, or both the front and back surfaces of the transparent substrate may be non-smooth surfaces. Further, the front and back surfaces of the transparent substrate may be curved. In this way, since the components of light totally reflected on the front and back surfaces of the transparent substrate can be reduced, it is possible to prevent light from being confined inside the transparent substrate and suppressing light extraction.

上記実施の形態では、発光素子を固定するためのダイボンドペーストにシリコーン樹脂を用いた例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。上記実施の形態におけるダイボンドペーストとして、発光素子と透明基体とを固定するとともに、発光素子からの光を透過することが可能な材料であれば、特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂等の有機材料、無機材料、並びにこれらのハイブリッド材料を用いることができる。具体的には、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂、熱可塑性樹脂であるアクリル樹脂及びポリイミド樹脂、熱安定性が高いシリコーン樹脂等からなるダイボンドペーストが挙げられる。ダイボンドペースト(接着層)が、光及び熱等による劣化で着色すると光の取出し効率が低下するため、耐熱性、耐光性及び熱伝導性を備えることが望ましい。さらに、ダイボンドペーストの熱膨張率を調整するため、又は導電性を高めるために、これらの樹脂にフィラーを含有させることもできる。フィラーを入れることで、ダイボンドペースト内の光散乱効果をあげることができるため、光取出しに関して好ましい。   In the above embodiment, an example in which a silicone resin is used for a die bond paste for fixing a light emitting element has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. The die bond paste in the above embodiment is not particularly limited as long as it is a material capable of fixing the light emitting element and the transparent substrate and transmitting the light from the light emitting element. For example, thermoplastic resin and thermosetting Organic materials such as conductive resins, inorganic materials, and hybrid materials thereof can be used. Specific examples include a die bond paste made of an epoxy resin that is a thermosetting resin, an acrylic resin and a polyimide resin that are thermoplastic resins, a silicone resin having high thermal stability, and the like. When the die bond paste (adhesive layer) is colored due to deterioration due to light, heat, or the like, the light extraction efficiency decreases, so it is desirable to have heat resistance, light resistance, and thermal conductivity. Furthermore, in order to adjust the coefficient of thermal expansion of the die bond paste or increase the conductivity, a filler can be contained in these resins. Since a light scattering effect in the die bond paste can be increased by adding a filler, it is preferable for light extraction.

上記実施の形態では、金属柱及び補助金属柱をAl合金から構成した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。例えば、熱伝導性と導電性に優れた素材の表面に発光素子からの光を反射することが可能な金属メッキを施した金属柱及び補助金属柱を用いることもできる。金属柱の構成材料(素材)であって、熱伝導性に優れた素材として、例えば銅、鉄・ニッケル・コバルトの合金であるコバール(登録商標)及、コバールと銅の合金等が挙げられる。これらの素材は、通常の導電体よりも熱伝導性に優れているため、放熱性を向上して更なる高出力にも対応できる。特に、金属柱及び補助金属柱の素材として、耐食性、耐摩耗性、メッキ性、ろう付け性、耐応力腐食割れ性、導電性、熱伝導性に優れ、プレス、曲げ、絞り等の加工性にも優れたりん青銅を用いることが好ましい。また、上記の素材の表面にメッキを施す前に、予め銅ストライクメッキを施すことが好ましい。このように、素材の酸化物を除去し、活性化とメッキを同時に行なうことにより、素材が密着性のよい銅皮膜で覆われ、この後のメッキの付き回りが改善されると同時に、耐食性も向上することができる。さらに、メッキ浴中への素材金属の溶解も防ぐことができ、浴の汚染を防止することもできる。このように表面処理された素材に、発光素子からの光を反射することが可能なメッキを有していることが好ましい。特にメッキとして、光沢度が90以上である導電性膜が設けられていることが好ましい。上記光沢度は、JIS規格に基づき発光素子からの光を60°で入射したときの鏡面反射率が80%となる、屈折率1.567のガラス面を光沢度0と規定し、日本電色工業株式会社製VSR300A微小面色差計にて測定した値を用いることができる。具体的なメッキ主材料として、Au,Ag,及びAl等が挙げられる。   In the said embodiment, although the example which comprised the metal pillar and the auxiliary | assistant metal pillar from Al alloy was shown, this invention is not limited to such embodiment. For example, a metal column and an auxiliary metal column that are provided with metal plating capable of reflecting light from the light emitting element on the surface of a material excellent in thermal conductivity and conductivity can be used. Examples of the constituent material (material) of the metal column and excellent in thermal conductivity include copper, Kovar (registered trademark) that is an alloy of iron, nickel, and cobalt, and an alloy of Kovar and copper. Since these materials have better thermal conductivity than ordinary conductors, they can improve heat dissipation and cope with higher output. In particular, as a material for metal columns and auxiliary metal columns, it has excellent corrosion resistance, wear resistance, plating properties, brazing properties, stress corrosion cracking resistance, conductivity, thermal conductivity, and workability such as pressing, bending, drawing, etc. It is preferable to use excellent phosphor bronze. Further, it is preferable to perform copper strike plating in advance before plating the surface of the material. In this way, by removing the oxide of the material and performing activation and plating at the same time, the material is covered with a copper film with good adhesion, so that the subsequent plating is improved and the corrosion resistance is also improved. Can be improved. Furthermore, dissolution of the metal material in the plating bath can be prevented, and contamination of the bath can also be prevented. It is preferable that the surface-treated material has a plating capable of reflecting light from the light emitting element. In particular, a conductive film having a glossiness of 90 or more is preferably provided as plating. The glossiness is defined as a glass surface with a refractive index of 1.567 and a glossiness of 0 when the light from the light emitting element is incident at 60 ° based on JIS standards. A value measured with a VSR300A minute surface color difference meter manufactured by Kogyo Co., Ltd. can be used. Specific examples of the main plating material include Au, Ag, and Al.

上記実施の形態では、反射板をAl合金から構成した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。反射板はAl合金以外の材料から構成されていてもよい。例えば、反射板についても、上記した金属柱に用いることが可能な材料を用いることができる。   In the said embodiment, although the example which comprised the reflecting plate from Al alloy was shown, this invention is not limited to such embodiment. The reflector may be made of a material other than the Al alloy. For example, a material that can be used for the above-described metal column can also be used for the reflector.

上記実施の形態では、シリコーン樹脂からなる接着剤を用いて透明基体を反射板上に固定する例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明基体を反射板上に固定する接着剤は、透光性を有するもの、又は高い光反射率を有するものであればよい。このような接着剤としては、耐熱、耐光性に優れたシリコーン樹脂が好適に使用できるが、シリコーン樹脂以外に、例えば熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂、熱可塑性樹脂であるアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等を用いることもできる。さらに、接着剤中に熱伝導をよくするためのフィラー等を入れたものであってもよい。フィラーとしては、一般的に粒径の小さいAlN等を用いることができる。   In the said embodiment, although the example which fixes a transparent base | substrate on a reflecting plate using the adhesive agent which consists of silicone resin was shown, this invention is not limited to such embodiment. The adhesive which fixes a transparent base | substrate on a reflecting plate should just have a translucency or a high light reflectivity. As such an adhesive, a silicone resin excellent in heat resistance and light resistance can be suitably used. In addition to the silicone resin, for example, an epoxy resin that is a thermosetting resin, an acrylic resin that is a thermoplastic resin, a polyimide resin, and the like Can also be used. Furthermore, what added the filler for improving heat conduction in the adhesive agent, etc. may be used. As the filler, generally AlN having a small particle diameter can be used.

上記実施の形態では、1つの金属柱と2つの補助金属柱とを用いて発光装置を支持する例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。例えば、2つの金属柱で発光装置を支持するようにしてもよい。また、1つの金属柱のみで発光装置を支持するようにしてもよい。   In the above embodiment, an example in which the light emitting device is supported by using one metal column and two auxiliary metal columns has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. For example, the light emitting device may be supported by two metal pillars. Further, the light emitting device may be supported by only one metal column.

上記実施の形態では、同じ種類の複数の発光素子を用いた例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。発光装置に搭載される複数の発光素子は異なる種類の素子が含まれていてもよい。なお、発光装置に搭載される発光素子の数は適宜変更できる。   In the above embodiment, an example in which a plurality of light emitting elements of the same type is used has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. The plurality of light emitting elements mounted on the light emitting device may include different types of elements. Note that the number of light-emitting elements mounted on the light-emitting device can be changed as appropriate.

上記実施の形態では、透明基体に搭載される複数の発光素子を、透明基体の表面において直並列に接続した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。例えば、複数の発光素子を全て直列接続にしてもよいし、全て並列接続にしてもよい。   In the above embodiment, an example in which a plurality of light emitting elements mounted on a transparent substrate are connected in series and parallel on the surface of the transparent substrate has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. For example, all of the plurality of light emitting elements may be connected in series, or all may be connected in parallel.

上記実施の形態では、発光素子を、蛍光体を含有しないダイボンドペースト(接着層)によって透明基体上に実装した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。例えば、蛍光体を含有する透光性のダイボンドペーストを用いて発光素子を実装するようにしてもよい。その場合、ダイボンドペーストに分散させる蛍光体には、平均粒径が200nm以下の蛍光体を用いるのが好ましい。このような粒径の小さい蛍光体を分散させることで放熱性の低下を効果的に抑制できる。なお、「平均粒径」とは、レーザ回折・散乱法によって求めた粒度分布における積算値50%での粒径(平均粒径d50)を意味する。   In the above-described embodiment, an example in which the light-emitting element is mounted on a transparent substrate with a die-bond paste (adhesive layer) that does not contain a phosphor is shown, but the present invention is not limited to such an embodiment. For example, the light emitting element may be mounted using a translucent die bond paste containing a phosphor. In that case, it is preferable to use a phosphor having an average particle size of 200 nm or less as the phosphor dispersed in the die bond paste. Dispersion of such a small particle size phosphor can effectively suppress a decrease in heat dissipation. The “average particle size” means the particle size (average particle size d50) at an integrated value of 50% in the particle size distribution obtained by the laser diffraction / scattering method.

上記実施の形態では、金属柱及び補助金属柱にリード端子(導入線)としての機能を持たせた例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。金属柱及び補助金属柱にリード端子としての機能を持たさずに、別途リード線(導入線)等を設けるようにしてもよい。さらに、例えば反射板上に当該反射板と絶縁された配線層を形成するようにしてもよい。この場合、反射板と金属柱とを直接接触するように構成するのが好ましい。金属柱は透明基体及び反射板の熱を照明装置の下部に放熱する役割を果たすため、金属柱と反射板とを直接接触することにより放熱性をさらに向上できる。   In the above-described embodiment, an example in which the metal column and the auxiliary metal column are provided with a function as a lead terminal (introduction wire) has been described, but the present invention is not limited to such an embodiment. You may make it provide a lead wire (introduction wire) etc. separately, without having a function as a lead terminal in a metal pillar and an auxiliary metal pillar. Furthermore, for example, a wiring layer insulated from the reflecting plate may be formed on the reflecting plate. In this case, it is preferable that the reflector plate and the metal column are directly in contact with each other. Since the metal column plays a role of radiating the heat of the transparent base and the reflecting plate to the lower part of the lighting device, the heat radiation can be further improved by directly contacting the metal column and the reflecting plate.

上記実施の形態では、透明基体及び反射板等を平面図的に見て略矩形状に形成した例について示したが本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明基体及び反射板等の形状は矩形状以外の形状であってもよい。透明基体及び反射板等の形状は、例えば円形状及び楕円形状等であってもよい。封止樹脂層の平面形状についても透明基体等と同様、略矩形状以外の形状であってもよい。なお、透明基体及び反射板は互いに同じ形状であってもよいし、異なる形状であってもよい。   In the above-described embodiment, an example in which the transparent substrate, the reflecting plate, and the like are formed in a substantially rectangular shape when viewed in plan view is shown, but the present invention is not limited to such an embodiment. The shapes of the transparent substrate and the reflecting plate may be other than a rectangular shape. The shapes of the transparent substrate and the reflector may be, for example, a circular shape or an elliptical shape. The planar shape of the sealing resin layer may also be a shape other than a substantially rectangular shape, like the transparent substrate. Note that the transparent substrate and the reflector may have the same shape or different shapes.

上記実施の形態において、第1の封止樹脂層に分散される蛍光体と第2の封止樹脂層に分散される蛍光体は同じであってもよい。さらに、意図的に、第1の封止樹脂層と第2の封止樹脂層とに含まれる蛍光体の量を変えて、発光装置の上部方向と下部方向に出射される光の色度変えてもよい。第1の封止樹脂層と第2の封止樹脂層とに含まれる蛍光体が異なっていてもよい。例えば、上述した蛍光体群から選ばれた異なる蛍光体が含まれ、第1の封止樹脂層には緑色蛍光体、第2の封止樹脂層には赤色蛍光体等の異なる種類の蛍光体を含有させてもよい。なお、赤色蛍光体としては、例えばEu附活CaAlSiを用いることができる。緑色蛍光体としては、例えば(Sr,Ba,Mg)SiO:Eu、Ca(Sc,Mg)Si12:Ceを用いることができる。 In the above embodiment, the phosphor dispersed in the first sealing resin layer and the phosphor dispersed in the second sealing resin layer may be the same. Furthermore, the chromaticity of the light emitted in the upper direction and the lower direction of the light emitting device is changed intentionally by changing the amount of the phosphor contained in the first sealing resin layer and the second sealing resin layer. May be. The phosphors contained in the first sealing resin layer and the second sealing resin layer may be different. For example, different phosphors selected from the phosphor group described above are included, and the first sealing resin layer is a green phosphor, and the second sealing resin layer is a different type of phosphor such as a red phosphor. May be included. For example, Eu-activated CaAlSi 3 N 3 can be used as the red phosphor. As the green phosphor, for example, (Sr, Ba, Mg) 2 SiO 4 : Eu, Ca 3 (Sc, Mg) 2 Si 3 O 12 : Ce can be used.

また上記実施の形態において、距離A、距離B、距離C及び距離dは、透明基体及び反射板等の各端部において必ずしも互いに同じ距離となるように構成する必要はないが、各端部のいずれにおいても距離A、距離B、距離C及び距離dが、上記した式(1)〜式(5)の関係を満たすように構成されているのが好ましい。   In the above embodiment, the distance A, the distance B, the distance C, and the distance d are not necessarily configured to be the same distance at each end of the transparent substrate and the reflector, but each end has In any case, it is preferable that the distance A, the distance B, the distance C, and the distance d are configured so as to satisfy the relationships of the above-described formulas (1) to (5).

上記実施の形態において、発光素子の素子構成は適宜変更することができる。例えば、第1の実施の形態では、発光素子の透明電極にITOからなる透明電極を用いた例について示したが、透明電極はITO以外に例えばIZO(Indium Zinc Oxide)等の透明導電膜を用いることもできる。また、発光素子のn側電極は上記以外に例えばW/Al、Ti/Al、Ti/Al/Ni/Au、W/Al/WPt/Au及びAl/Pt/Au等であってもよい。   In the above embodiment, the element structure of the light-emitting element can be changed as appropriate. For example, in the first embodiment, an example in which a transparent electrode made of ITO is used as the transparent electrode of the light emitting element has been described. However, the transparent electrode uses a transparent conductive film such as IZO (Indium Zinc Oxide) in addition to ITO. You can also. In addition to the above, the n-side electrode of the light emitting element may be, for example, W / Al, Ti / Al, Ti / Al / Ni / Au, W / Al / WPt / Au, and Al / Pt / Au.

上記第2の実施の形態では、透明封止樹脂層を蛍光体が含有しない構成とした例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明封止樹脂層に蛍光体を含有させた構成とすることもできる。さらに透明封止樹脂層の一部(例えば透明基体の表面側及び裏面側の一方)に蛍光体を分散させた構成としてもよい。   In the said 2nd Embodiment, although the example which set the transparent sealing resin layer as the structure which a fluorescent substance does not contain was shown, this invention is not limited to such an embodiment. It can also be set as the structure which contained the fluorescent substance in the transparent sealing resin layer. Furthermore, it is good also as a structure which fluorescent substance was disperse | distributed to some transparent sealing resin layers (for example, one of the surface side of a transparent base | substrate, and a back surface side).

上記第2の実施の形態では、透明封止樹脂層をシリコーン樹脂から構成した例について示したが、本発明はそのような実施の形態には限定されない。透明封止樹脂層は、シリコーン樹脂以外の材料から構成されていてもよい。シリコーン樹脂以外の材料としては、例えばエポキシ樹脂、ガラス等が挙げられる。   In the said 2nd Embodiment, although the example which comprised the transparent sealing resin layer from the silicone resin was shown, this invention is not limited to such an embodiment. The transparent sealing resin layer may be composed of a material other than the silicone resin. Examples of materials other than the silicone resin include epoxy resin and glass.

上記で開示された技術を適宜組合せて得られる実施の形態についても、本発明の技術的範囲に含まれる。   Embodiments obtained by appropriately combining the techniques disclosed above are also included in the technical scope of the present invention.

今回開示された実施の形態は単に例示であって、この発明が上記した実施の形態のみに制限されるわけではない。この発明の範囲は、発明の詳細な説明の記載を参酌した上で、特許請求の範囲の各請求項によって示され、そこに記載された文言と均等の意味及び範囲内での全ての変更を含む。   The embodiment disclosed this time is merely an example, and the present invention is not limited to the embodiment described above. The scope of the present invention is indicated by each claim in the scope of claims after taking into account the description of the detailed description of the invention, and all modifications within the meaning and scope equivalent to the wording described therein are included. Including.

50、500 照明装置
60 バルブ
70 口金部
80 反射基体
100 発光素子
110 成長基板
200、600、700、800 発光装置
210 透明基体
210e〜210h、230e〜230h、
232a〜232d、252e〜252h 端部
212 表面
214 裏面
216 側面
218 貫通孔
220 電極パッド
230、1230、1330 反射板
232 開口部
240 接着層
250、750 封止樹脂層
252、752 第1の封止樹脂層
254、754 第2の封止樹脂層
300、300A 金属柱
310 補助金属柱
650 透明封止樹脂層
50, 500 Illuminating device 60 Valve 70 Cap part 80 Reflective substrate 100 Light emitting element 110 Growth substrate 200, 600, 700, 800 Light emitting device 210 Transparent substrate 210e-210h, 230e-230h,
232a to 232d, 252e to 252h End 212 Surface 214 Back surface 216 Side surface 218 Through hole 220 Electrode pad 230, 1230, 1330 Reflector plate 232 Opening 240 Adhesive layer 250, 750 Sealing resin layer 252, 752 First sealing resin Layers 254, 754 Second sealing resin layer 300, 300A Metal pillar 310 Auxiliary metal pillar 650 Transparent sealing resin layer

Claims (10)

複数の発光素子と、
前記複数の発光素子が搭載される透明基体と、
前記透明基体が固定される反射板と、
蛍光体を含有し、前記透明基体を覆うように形成された透明樹脂層とを含み、
前記反射板は、前記複数の発光素子から出射された光が透過する、開口部によって構成される光透過部を有し、
前記透明基体は、前記開口部を覆うように前記反射板上に配置されることによって、前記反射板の前記開口部の周囲の領域に固定されており、
前記光透過部は、前記複数の発光素子と対向する領域に設けられており、
前記透明基体は端部を有するとともに、前記透明樹脂層及び前記反射板はそれぞれ前記透明基体の前記端部に対応する端部を有し、
前記透明基体の前記端部から前記透明樹脂層の前記端部までの距離をdとし、前記透明基体の前記端部から前記反射板の前記端部までの距離をAとした場合に、前記距離dと前記距離AとはA≧dの関係を有する、発光装置。
A plurality of light emitting elements;
A transparent substrate on which the plurality of light emitting elements are mounted;
A reflector to which the transparent substrate is fixed;
A transparent resin layer containing a phosphor and formed to cover the transparent substrate,
The reflection plate has a light transmission part constituted by an opening through which light emitted from the plurality of light emitting elements is transmitted;
The transparent substrate is fixed on a region around the opening of the reflector by being disposed on the reflector so as to cover the opening .
The light transmission part is provided in a region facing the plurality of light emitting elements,
The transparent substrate has an end, and the transparent resin layer and the reflecting plate each have an end corresponding to the end of the transparent substrate,
The distance when the distance from the end of the transparent substrate to the end of the transparent resin layer is d and the distance from the end of the transparent substrate to the end of the reflector is A. d and the distance A are light emitting devices having a relationship of A ≧ d .
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子が搭載される透明基体と、
前記透明基体が固定される反射板と、
蛍光体を含有し、前記透明基体を覆うように形成された透明樹脂層とを含み、
前記反射板は、前記複数の発光素子から出射された光が透過する、開口部によって構成される光透過部を有し、
前記透明基体は、前記開口部を覆うように前記反射板上に配置されることによって、前記反射板の前記開口部の周囲の領域に固定されており、
前記光透過部は、前記複数の発光素子と対向する領域に設けられており、
前記透明基体は、一方の主面と前記一方の主面の反対側の面である他方の主面とを含み、
前記透明基体の前記一方の主面に前記発光素子が搭載され、
前記透明基体の前記他方の主面に前記反射板が固定されている、発光装置。
A plurality of light emitting elements;
A transparent substrate on which the plurality of light emitting elements are mounted;
A reflector to which the transparent substrate is fixed;
A transparent resin layer containing a phosphor and formed to cover the transparent substrate,
The reflection plate has a light transmission part constituted by an opening through which light emitted from the plurality of light emitting elements is transmitted;
The transparent substrate is fixed on a region around the opening of the reflector by being disposed on the reflector so as to cover the opening.
The light transmission part is provided in a region facing the plurality of light emitting elements ,
The transparent substrate includes one main surface and the other main surface which is a surface opposite to the one main surface,
The light emitting element is mounted on the one main surface of the transparent substrate,
The light emitting device , wherein the reflector is fixed to the other main surface of the transparent substrate .
前記発光素子を前記透明基体上に固定する、蛍光体を含有しない接着層をさらに含み、
前記接着層は透光性を有している、請求項1又は請求項2に記載の発光装置。
Further comprising an adhesive layer not containing a phosphor, fixing the light emitting element on the transparent substrate,
The light emitting device according to claim 1, wherein the adhesive layer has translucency.
前記透明基体は端部を有するとともに、前記透明樹脂層は前記透明基体の前記端部に対応する端部を有し、
前記透明基体の前記端部から前記透明樹脂層の前記端部までの距離をdとし、前記透明基体における前記発光素子が搭載されている搭載面から当該透明樹脂層における前記搭載面と対向する外表面までの距離をtとした場合に、前記距離dと前記距離tとはd≧tの関係を有する、請求項2に記載の発光装置。
The transparent substrate has an end, and the transparent resin layer has an end corresponding to the end of the transparent substrate,
The distance from the end of the transparent substrate to the end of the transparent resin layer is d, and the outer surface of the transparent substrate facing the mounting surface from the mounting surface on which the light emitting element is mounted. The light emitting device according to claim 2 , wherein the distance d and the distance t have a relationship of d ≧ t, where t is the distance to the surface.
前記光透過部は端部を有し、
前記光透過部の前記端部から前記複数の発光素子のうち最も当該端部側の発光素子までの距離をCとした場合に、前記距離CはC>0である、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の発光装置。
The light transmitting portion has an end;
The distance C is C> 0, where C is a distance from the end of the light transmission part to the light emitting element closest to the end among the plurality of light emitting elements. 5. The light emitting device according to any one of 4.
前記反射板は金属材料からなる、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の発光装置。   The light-emitting device according to claim 1, wherein the reflecting plate is made of a metal material. 前記透明基体は200μm以上6000μm以下の厚みを有する、請求項1〜請求項6に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein the transparent substrate has a thickness of 200 μm or more and 6000 μm or less. 前記透明樹脂層は、前記一方の主面上に形成された第1の封止樹脂層と、前記他方の主面上に形成された第2の封止樹脂層とを含む、請求項2に記載の発光装置。 The transparent resin layer may include a first sealing resin layer formed on one major surface and a second sealing resin layer formed on the other on the main surface, to claim 2 The light-emitting device of description. 透明基体上に複数の発光素子を実装する工程と、
開口部からなる光透過部を有する反射板を形成する工程と、
前記反射板上に、前記透明基体を前記複数の発光素子が前記光透過部と対向するようにして固定する工程と、
前記透明基体を覆うように、蛍光体を含有した透明樹脂層を形成する工程とを含み、
前記固定する工程は、前記開口部を覆うように前記透明基体を前記反射板上に配置することによって、前記反射板の前記開口部の周囲の領域に前記透明基体を固定する工程を含み、
前記反射板を形成する工程は、前記光透過部を、前記複数の発光素子と対向する領域に設ける工程を含み、
前記透明基体を固定する工程は、前記透明基体の端部から当該端部に対応する前記透明樹脂層の端部までの距離をdとし、前記透明基体の前記端部から当該端部に対応する前記反射板の端部までの距離をAとした場合に、前記距離dと前記距離AとがA≧dの関係を有するように前記透明基体を配置して固定する工程を含む、発光装置の製造方法。
Mounting a plurality of light emitting elements on a transparent substrate;
Forming a reflector having a light transmission portion comprising an opening;
Fixing the transparent substrate on the reflector so that the plurality of light emitting elements face the light transmitting portion;
Forming a transparent resin layer containing a phosphor so as to cover the transparent substrate,
It said step of fixing, by arranging the transparent substrate so as to cover the opening on the reflector, viewed including the step of fixing the transparent substrate in the region of the periphery of the opening of the reflector,
The step of forming the reflection plate includes the step of providing the light transmission part in a region facing the plurality of light emitting elements,
The step of fixing the transparent substrate corresponds to a distance from the end of the transparent substrate to the end of the transparent resin layer corresponding to the end, and d from the end of the transparent substrate. And a step of arranging and fixing the transparent substrate so that the distance d and the distance A have a relationship of A ≧ d, where A is the distance to the end of the reflector. Production method.
透明基体上の一方の主面に複数の発光素子を実装する工程と、
開口部からなる光透過部を有する反射板を形成する工程と、
前記反射板上に、前記透明基体を前記複数の発光素子が前記光透過部と対向するようにして固定する工程と、
前記透明基体を覆うように、蛍光体を含有した透明樹脂層を形成する工程とを含み、
前記固定する工程は、前記透明基体における前記一方の主面の反対側の面である他方の主面を前記反射板に対向させ、前記開口部を覆うように前記透明基体を前記反射板上に配置することによって、前記反射板の前記開口部の周囲の領域に前記透明基体を固定する工程を含む、発光装置の製造方法。
Mounting a plurality of light emitting elements on one main surface on the transparent substrate;
Forming a reflector having a light transmission portion comprising an opening;
Fixing the transparent substrate on the reflector so that the plurality of light emitting elements face the light transmitting portion;
Forming a transparent resin layer containing a phosphor so as to cover the transparent substrate,
In the fixing step, the other main surface of the transparent substrate opposite to the one main surface is opposed to the reflector, and the transparent substrate is placed on the reflector so as to cover the opening. A method of manufacturing a light-emitting device, comprising a step of fixing the transparent substrate to a region around the opening of the reflecting plate by arranging.
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