JP6051820B2 - Silver sulfide prevention material, method of forming silver sulfide prevention film, and method of manufacturing light emitting device - Google Patents

Silver sulfide prevention material, method of forming silver sulfide prevention film, and method of manufacturing light emitting device Download PDF

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Description

本発明は、銀硫化防止材に関し、より詳細には発光装置等に使用される銀めっきの硫化による変色を防止するための銀硫化防止材に関する。また本発明は、銀硫化防止材を用いた銀硫化防止膜の形成方法及び発光装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a silver sulfide prevention material, and more particularly to a silver sulfide prevention material for preventing discoloration due to sulfuration of silver plating used in a light emitting device or the like. The present invention also relates to a method for forming a silver sulfide prevention film using a silver sulfide prevention material and a method for manufacturing a light emitting device.

近年、蛍光灯又は白熱電球に替わる光源として発光ダイオード(LED)の需要が急速に増加している。発光ダイオード等の発光素子を備える発光装置は、照明機器、自動車用ライト等の用途に用いられている。このような発光装置では、銀めっきからなる光反射膜を設けることにより光の取り出し効率の向上が図られている。例えば、銅めっき基板等のリードフレームを備えるLEDパッケージでは、銅めっき層上に銀めっき層を設けることにより反射率を向上させている(例えば、下記特許文献1を参照)。   In recent years, the demand for light-emitting diodes (LEDs) as a light source that replaces fluorescent lamps and incandescent lamps is rapidly increasing. A light-emitting device including a light-emitting element such as a light-emitting diode is used in applications such as lighting equipment and automobile lights. In such a light-emitting device, light extraction efficiency is improved by providing a light reflection film made of silver plating. For example, in an LED package including a lead frame such as a copper plating substrate, the reflectance is improved by providing a silver plating layer on the copper plating layer (see, for example, Patent Document 1 below).

特開2009−239116号公報JP 2009-239116 A

LEDパッケージでは、通常、透明樹脂による封止によって発光素子及び光反射膜等が保護されている。しかし、発光装置が屋外で使用される場合、環境中の硫化水素、亜硫酸ガス等が樹脂を透過して銀めっきを硫化し、変色により銀めっきの光反射率が低下するという問題が生じる。最近ではLEDの高出力化に伴ってLEDの発熱量が増加し、銀めっきの硫化が温度の上昇によって更に早まる傾向にある。   In the LED package, the light emitting element, the light reflection film, and the like are usually protected by sealing with a transparent resin. However, when the light-emitting device is used outdoors, there is a problem that hydrogen sulfide, sulfurous acid gas, and the like in the environment permeate the resin and sulfidize the silver plating, and the light reflectance of the silver plating decreases due to discoloration. Recently, the amount of heat generated by the LED increases as the output of the LED increases, and the sulfidation of the silver plating tends to be further accelerated as the temperature increases.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止材、それを用いた銀硫化防止膜の形成方法及び耐硫化性に優れた発光装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a silver sulfide prevention material capable of sufficiently suppressing silver sulfidation, a method for forming a silver sulfide prevention film using the same, and a light emitting device excellent in sulfide resistance. It aims at providing the manufacturing method of.

上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意検討した結果、銀めっき層上に、2種類以上の粘土を含有する銀硫化防止材を塗布し、この塗膜を乾燥することにより、銀めっきの硫化を高度に抑制できる銀硫化防止膜を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors diligently studied. As a result, a silver sulfidation-preventing material containing two or more kinds of clay was applied on the silver plating layer, and this coating film was dried. The present inventors have found that a silver sulfide prevention film capable of highly suppressing plating sulfidation can be formed and completed the present invention.

すなわち、本発明は、2種類以上の粘土を含有する銀硫化防止材を提供する。   That is, the present invention provides a silver sulfide preventive material containing two or more types of clay.

本発明の銀硫化防止材によれば、銀を含有する金属層の表面に塗布し乾燥することにより、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止膜を形成することができる。   According to the silver sulfide preventive material of the present invention, a silver sulfide preventive film capable of sufficiently suppressing silver sulfide can be formed by applying to the surface of a metal layer containing silver and drying.

本発明の銀硫化防止材が上記の効果を奏する理由を本発明者らは以下のとおり考えている。銀硫化防止材が種類の異なる粘土を含むことにより、銀硫化防止材の塗布及び乾燥による膜形成において、粘土を1種類のみ含む場合に比べて隙間のより少ない積層構造が形成され、ガスバリア性が向上したと考えられる。   The present inventors consider the reason why the silver sulfide preventive material of the present invention exhibits the above effect as follows. When the silver sulfide preventive material contains different types of clay, a laminated structure with fewer gaps is formed in the film formation by applying and drying the silver sulfide preventive material than when only one kind of clay is included, and the gas barrier property is improved. It is thought that it improved.

本発明の銀硫化防止材は、アスペクト比が異なる粘土を2種類以上含有することが好ましい。この場合、アスペクト比の大きい粘土間をアスペクト比が小さい粘土が埋めることによりガスのパスを長くすることができる。   The silver sulfide preventive material of the present invention preferably contains two or more kinds of clays having different aspect ratios. In this case, the gas path can be lengthened by filling the clay having a large aspect ratio with clay having a small aspect ratio.

銀の硫化抑制、及び高温、高湿度の環境での銀の変色抑制の双方を高水準で両立させる観点から、銀硫化防止材は、アスペクト比が1〜80の粘土と、アスペクト比が81〜1000の粘土と、を含有することが好ましい。   From the viewpoint of achieving both high-level suppression of silver sulfidation and suppression of silver discoloration in a high-temperature, high-humidity environment, the silver sulfidation inhibitor is composed of clay having an aspect ratio of 1 to 80 and an aspect ratio of 81 to 81. It is preferable to contain 1000 clays.

本発明はまた、銀が含まれる金属層の表面に、上記本発明に係る銀硫化防止材を塗布して銀硫化防止材の塗膜を形成する塗布工程と、塗膜を乾燥する乾燥工程と、を備える銀硫化防止膜の形成方法を提供する。   The present invention also includes a coating step of coating the silver sulfide prevention material according to the present invention on the surface of the metal layer containing silver to form a coating film of the silver sulfide prevention material, and a drying step of drying the coating film. A method for forming a silver sulfide preventive film is provided.

本発明の銀硫化防止膜の形成方法によれば、本発明に係る銀硫化防止材を用いることにより、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止膜を形成することができる。   According to the method for forming a silver sulfide prevention film of the present invention, a silver sulfide prevention film capable of sufficiently suppressing silver sulfidation can be formed by using the silver sulfide prevention material according to the present invention.

上記金属層が銀めっき層であることが好ましい。この場合、硫化によって銀めっき層の光反射率が低下することを防止することができる。   The metal layer is preferably a silver plating layer. In this case, it can prevent that the light reflectance of a silver plating layer falls by sulfuration.

銀の硫化をより確実に防止する観点から、乾燥後の塗膜の厚さが0.005μm以上であることが好ましい。   From the viewpoint of more reliably preventing silver sulfidation, the thickness of the coated film after drying is preferably 0.005 μm or more.

本発明はまた、銀めっき層を有する基板と、基板上に搭載された発光素子と、を備える発光装置の製造方法であって、銀めっき層の表面に、上記本発明に係る銀硫化防止材を塗布して銀硫化防止材の塗膜を形成する塗布工程と、塗膜を乾燥する乾燥工程と、を備える発光装置の製造方法を提供する。   The present invention is also a method for manufacturing a light emitting device comprising a substrate having a silver plating layer and a light emitting element mounted on the substrate, wherein the silver sulfide prevention material according to the present invention is formed on the surface of the silver plating layer. The manufacturing method of a light-emitting device provided with the application | coating process which forms a coating film of silver sulfide prevention material by apply | coating and the drying process which dries a coating film is provided.

本発明の発光装置の製造方法によれば、銀めっき層の表面に銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止膜の形成することができ、これにより耐硫化性に優れた発光装置を製造することができる。   According to the method for manufacturing a light-emitting device of the present invention, a silver sulfide prevention film capable of sufficiently suppressing silver sulfidation can be formed on the surface of the silver plating layer, thereby producing a light-emitting device having excellent sulfidation resistance. Can be manufactured.

銀の硫化をより確実に防止する観点から、乾燥後の塗膜の厚さが0.005μm以上であることが好ましい。   From the viewpoint of more reliably preventing silver sulfidation, the thickness of the coated film after drying is preferably 0.005 μm or more.

本発明によれば、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止材、それを用いた銀硫化防止膜の形成方法及び耐硫化性に優れた発光装置の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the silver sulfide prevention material which can fully suppress silver sulfidation, the formation method of the silver sulfide prevention film using the same, and the manufacturing method of the light-emitting device excellent in sulfide resistance can be provided. .

発光装置の断面図である。It is sectional drawing of a light-emitting device. 図1に示す発光装置の平面図である。It is a top view of the light-emitting device shown in FIG. 第1の実施形態に係る発光装置の製造方法を示したフローチャートである。3 is a flowchart illustrating a method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment. 実施形態に係る銀硫化防止材の塗布工程後における発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device after the application | coating process of the silver sulfide prevention material which concerns on embodiment. 乾燥工程後における発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device after a drying process. 透明封止樹脂充填工程後における発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device after a transparent sealing resin filling process. 実施形態に係る銀硫化防止材から形成される銀硫化防止膜の構成を説明するための概念図である。It is a conceptual diagram for demonstrating the structure of the silver sulfide prevention film formed from the silver sulfide prevention material which concerns on embodiment. 第2の実施形態に係る発光装置の製造方法を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the manufacturing method of the light-emitting device which concerns on 2nd Embodiment. 図8の製造方法により製造した発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device manufactured with the manufacturing method of FIG. 第3の実施形態に係る発光装置の製造方法を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the manufacturing method of the light-emitting device which concerns on 3rd Embodiment. 図10の製造方法により製造した発光装置の断面図である。It is sectional drawing of the light-emitting device manufactured with the manufacturing method of FIG.

本実施形態に係る銀硫化防止材は2種類以上の粘土を含む。この銀硫化防止材には、粘土を分散させるための溶媒を含有させることができる。本実施形態の銀硫化防止材によれば、銀を含有する金属層の表面に塗布し乾燥することにより、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止膜を形成することができる。金属層としては、例えば、銀めっき層が挙げられる。   The silver sulfide prevention material according to this embodiment includes two or more types of clay. This silver sulfide preventive material can contain a solvent for dispersing clay. According to the silver sulfide preventive material of this embodiment, a silver sulfide preventive film that can sufficiently suppress silver sulfide can be formed by applying to the surface of a metal layer containing silver and drying. An example of the metal layer is a silver plating layer.

粘土としては、天然粘土及び合成粘土並びにこれらの変性物のうちの2種以上を組み合わせて用いることができる。   As clay, it can be used in combination of two or more of natural clay and synthetic clay and their modified products.

天然粘土としては、例えば、カオリン、タルク−パイロフィライト、スメクタイト、バーミキュライト、雲母(マイカ)、脆雲母、及び緑泥石が挙げられる。代表的な種としては、リザーダイト、アメサイト、クリソタイル、カオリナイト、ディッカイト、ハロイサイト、タルク、パイロフィライト、サポナイト、ヘクトライト、モンモリロナイト,バイデライト、3八面体型バーミキュライト、2八面体型バーミキュライト、金雲母、黒雲母、レピドライト、イライト、白雲母、パラゴナイト、クリントナイト、マーガライト、クリノクロア、シャモサイト、ニマイト、ドンバサイト、クッケアイト、スドーアイトが挙げられる。   Examples of the natural clay include kaolin, talc-pyrophyllite, smectite, vermiculite, mica (mica), brittle mica, and chlorite. Typical species include lizardite, amicite, chrysotile, kaolinite, dickite, halloysite, talc, pyrophyllite, saponite, hectorite, montmorillonite, beidellite, trioctahedral vermiculite, octahedral vermiculite, phlogopite. , Biotite, lepidrite, illite, muscovite, paragonite, clintonite, margarite, clinochlore, chamosite, nimite, dombasite, kukeite, sudite.

市販品としては、クニピア(クニミネ工業(株)製、商品名、クニピアF)、湿式粉砕雲母(ヤマグチマイカ製、Yシリーズ、SAシリーズ)が挙げられる。   Examples of commercially available products include Kunipia (Kunimine Kogyo Co., Ltd., trade name, Kunipia F), and wet pulverized mica (Yamaguchi Mica, Y series, SA series).

合成粘土としては、例えば、フッ素金雲母、カリウム四珪素雲母、ナトリウム四珪素雲母、Naテニオライト、Liテニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、及びスチーブンサイトが挙げられる。   Examples of the synthetic clay include fluorine phlogopite, potassium tetrasilicon mica, sodium tetrasilicon mica, Na teniolite, Li teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, and stevensite.

市販品としては、ミクロマイカ、ソマシフ(コープケミカル(株)製、商品名、MEB−3)、ルーセンタイト(コープケミカル(株)製、商品名、SWN)、膨潤性マイカゾル(トピー工業製、NTS−10、NTS−5)が挙げられる。   Commercially available products include Micromica, Somasifu (Coop Chemical Co., Ltd., trade name, MEB-3), Lucentite (Coop Chemical Co., Ltd., trade name, SWN), Swellable Micasol (Topy Industries, NTS) -10, NTS-5).

合成粘土の変性物としては、例えば、市販品として、ソマシフ(コープケミカル(株)製、商品名、MAE)、及びルーセンタイト(コープケミカル(株)製、商品名、SPN)が挙げられる。   As a modified product of synthetic clay, for example, Somasifu (manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., trade name, MAE) and Lucentite (manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., trade name, SPN) can be given as commercial products.

本実施形態の銀硫化防止材は、アスペクト比が異なる粘土を2種類以上含有することが好ましい。この場合、アスペクト比の大きい粘土間をアスペクト比が小さい粘土が埋めることによりガスのパスを長くすることができる。   The silver sulfide preventive material of this embodiment preferably contains two or more types of clay having different aspect ratios. In this case, the gas path can be lengthened by filling the clay having a large aspect ratio with clay having a small aspect ratio.

アスペクト比とは結晶の平均長辺長さ/平均厚みを意味する。   The aspect ratio means the average long side length / average thickness of the crystal.

銀の硫化抑制、及び高温、高湿度の環境での銀の変色抑制の双方を高水準で両立させる観点から、銀硫化防止材は、アスペクト比が1〜80の粘土と、アスペクト比が81〜1000の粘土と、を含有することが好ましい。   From the viewpoint of achieving both high-level suppression of silver sulfidation and suppression of silver discoloration in a high-temperature, high-humidity environment, the silver sulfidation inhibitor is composed of clay having an aspect ratio of 1 to 80 and an aspect ratio of 81 to 81. It is preferable to contain 1000 clays.

本実施形態の銀硫化防止材は、ガスバリア性を向上させる点で、例えばモンモリロナイト及びマイカなどのアスペクト比の大きい天然粘土と、例えばスチーブンサイト、サポナイト及びヘクトライトなどのアスペクト比の小さい天然若しくは合成粘土と、を含有することが好ましい。また、本実施形態の銀硫化防止材において、アスペクト比の大きい粘土とアスペクト比が小さい粘土との質量比は、1/99〜99/1であることが好ましく、10/90〜99/1であることがより好ましく、25/75〜99/1であることがさらにより好ましい。   In terms of improving gas barrier properties, the silver sulfide prevention material of the present embodiment is a natural clay having a large aspect ratio such as montmorillonite and mica, and a natural or synthetic clay having a small aspect ratio such as stevensite, saponite and hectorite. It is preferable to contain. In the silver sulfide preventive material of this embodiment, the mass ratio of the clay having a large aspect ratio and the clay having a small aspect ratio is preferably 1/99 to 99/1, and 10/90 to 99/1. More preferably, it is more preferably 25/75 to 99/1.

溶媒としては、例えば、水、水溶性液体等が挙げられる。   Examples of the solvent include water and water-soluble liquid.

水としては、例えば、超純水が使用される。超純水は、イオン性不純物が極微量含まれる水であって、電気抵抗率(比抵抗、MΩ・cm)(JIS K0552)を指標として、25℃における理論値が15MΩ・cm以上の水、好ましくは18MΩ・cm以上の水を用いることができる。   As water, for example, ultrapure water is used. Ultrapure water is water that contains a very small amount of ionic impurities, and has an electrical resistivity (specific resistance, MΩ · cm) (JIS K0552) as an index, and has a theoretical value of 15 MΩ · cm or more at 25 ° C., Preferably, water of 18 MΩ · cm or more can be used.

水溶性液体としては、例えば、アルコール等の極性溶媒が挙げられ、具体的には、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、ジエチルアミン、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、N−メチルピロリドン、炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、ホルムアミド、アリルアルコール、アクリル酸、酢酸、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、メタクリル酸、酪酸、トリメチルアミン、トリエチルアミン、アンモニア水、ジエチルスルファイト等の液体を採用することができる。水溶性液体とは、1気圧において、温度20℃で同容量の純水と穏やかにかき混ぜた場合、流動が収まった後も当該混合液が均一な外観を維持するものをいう。水溶性液体は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the water-soluble liquid include polar solvents such as alcohol, specifically, ethanol, methanol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, dioxane, acetone, acetonitrile, diethylamine, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, pyridine, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, N-methylpyrrolidone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, formamide, allyl alcohol, acrylic acid, acetic acid, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, methacryl Liquids such as acid, butyric acid, trimethylamine, triethylamine, aqueous ammonia, and diethyl sulfite can be employed. A water-soluble liquid refers to a liquid that maintains a uniform appearance even after the flow has subsided when gently mixed with pure water of the same volume at a temperature of 20 ° C. at 1 atm. A water-soluble liquid can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

本実施形態の銀硫化防止材は、銀の硫化を防止する観点から、乾燥後の膜厚が0.005μm以上となるように用いることが好ましい。例えば、銀めっき層の硫化を防止するには、膜厚が0.005μm以上の粘土膜が形成されるように銀硫化防止材を銀めっき層上に塗布、乾燥することが好ましい。   The silver sulfide preventive material of this embodiment is preferably used so that the film thickness after drying is 0.005 μm or more from the viewpoint of preventing silver sulfide. For example, in order to prevent sulfidation of the silver plating layer, it is preferable to apply and dry a silver sulfidation preventing material on the silver plating layer so that a clay film having a film thickness of 0.005 μm or more is formed.

本実施形態の銀硫化防止材には本発明の効果が損なわれない範囲で各種添加剤を加えることができる。添加剤としては、例えば、バインダー、界面活性剤等が挙げられる。   Various additives can be added to the silver sulfide preventing material of the present embodiment as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the additive include a binder and a surfactant.

本実施形態の銀硫化防止材の調製方法としては、例えば、水等の溶媒に、粘土及び必要に応じて上記添加剤を加えて分散し撹拌する方法が挙げられる。撹拌は、例えば、自転・公転ミキサー、攪拌子、超音波、振震器等を用いて行うことができる。   Examples of the method for preparing the silver sulfide preventive material of the present embodiment include a method in which clay and, if necessary, the above additives are added to a solvent such as water and dispersed and stirred. Stirring can be performed using, for example, a rotation / revolution mixer, a stirrer, ultrasonic waves, a shaker, or the like.

本実施形態の銀硫化防止材によれば、銀を含有する金属層の表面上に塗布し乾燥することにより、金属層の表面に銀硫化防止材に含有される粘土からなり、銀の硫化を十分抑制することができる銀硫化防止膜を形成することができる。   According to the silver sulfidation preventive material of this embodiment, it is made of clay contained in the silver sulfidation preventive material on the surface of the metal layer by applying and drying on the surface of the metal layer containing silver, and sulfiding silver. A silver sulfide prevention film that can be sufficiently suppressed can be formed.

次に、本実施形態の銀硫化防止材を用いた銀硫化防止膜の形成方法及び発光素子の製造方法の好適な実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、全図中、同一又は相当部分には同一符号を付すこととする。   Next, a preferred embodiment of a method for forming a silver sulfide prevention film using the silver sulfide prevention material of the present embodiment and a method for manufacturing a light emitting element will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals.

[第1の実施形態]
まず、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する前に、図1及び図2を参照して、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法により製造される発光装置の構成について説明する。
[First Embodiment]
First, before explaining the manufacturing method of the light emitting device according to the first embodiment, the configuration of the light emitting device manufactured by the manufacturing method of the light emitting device according to the first embodiment with reference to FIG. 1 and FIG. Will be described.

図1は、発光装置の断面図である。図2は、図1に示す発光装置の平面図である。図1及び図2に示すように、実施形態に係る発光装置1は、一般に「表面実装型」に分類されるものである。この発光装置1は、基板10と、発光素子として基板10の表面にボンディングされた青色LED30と、青色LED30を取り囲むように基板10の表面に設けられたリフレクタ20と、リフレクタ20に充填されて青色LED30を封止する透明封止樹脂40と、を備えている。なお、図2では、透明封止樹脂40の図示を省略している。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the light emitting device. FIG. 2 is a plan view of the light-emitting device shown in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the light emitting device 1 according to the embodiment is generally classified as a “surface mount type”. The light emitting device 1 includes a substrate 10, a blue LED 30 bonded to the surface of the substrate 10 as a light emitting element, a reflector 20 provided on the surface of the substrate 10 so as to surround the blue LED 30, and the reflector 20 filled with blue. And a transparent sealing resin 40 that seals the LED 30. In addition, illustration of the transparent sealing resin 40 is abbreviate | omitted in FIG.

基板10は、絶縁性の基体12の表面に銅めっき板14が配線されており、銅めっき板14の表面に銀めっき層16が形成されている。銀めっき層16は、基板10の表面に配置されて青色LED30と導通される電極となっている。なお、銀めっき層16は、銀を含むめっき層であれば如何なる組成であってもよい。例えば、銀のみをめっきすることにより銀めっき層16を形成してもよく、ニッケル及び銀をこの順でめっきすることにより銀めっき層16を形成してもよい。銅めっき板14及び銀めっき層16は、アノード側とカソード側とに絶縁されている。アノード側の銅めっき板14及び銀めっき層16とカソード側の銅めっき板14及び銀めっき層16との間の絶縁は、例えば、アノード側の銅めっき板14及び銀めっき層16とカソード側の銅めっき板14及び銀めっき層16とを離間させ、適宜、その間に樹脂及びセラミックなどの絶縁層を挿入することにより行うことができる。   In the substrate 10, a copper plating plate 14 is wired on the surface of an insulating base 12, and a silver plating layer 16 is formed on the surface of the copper plating plate 14. The silver plating layer 16 is an electrode that is disposed on the surface of the substrate 10 and is electrically connected to the blue LED 30. The silver plating layer 16 may have any composition as long as it is a plating layer containing silver. For example, the silver plating layer 16 may be formed by plating only silver, or the silver plating layer 16 may be formed by plating nickel and silver in this order. The copper plating plate 14 and the silver plating layer 16 are insulated on the anode side and the cathode side. The insulation between the copper plating plate 14 and the silver plating layer 16 on the anode side and the copper plating plate 14 and the silver plating layer 16 on the cathode side is, for example, the copper plating plate 14 and the silver plating layer 16 on the anode side and the cathode side. The copper plating plate 14 and the silver plating layer 16 can be separated from each other, and an insulating layer such as a resin and ceramic can be appropriately inserted between them.

青色LED30は、アノード側及びカソード側の何れか一方の銀めっき層16にダイボンドされており、ダイボンド材32を介して当該銀めっき層16と導通されている。また、青色LED30は、アノード側及びカソード側の何れか他方の銀めっき層16にワイヤボンドされており、ボンディングワイヤ34を介して当該銀めっき層16と導通されている。   The blue LED 30 is die-bonded to any one of the silver plating layer 16 on the anode side and the cathode side, and is electrically connected to the silver plating layer 16 through the die bonding material 32. The blue LED 30 is wire-bonded to the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side, and is electrically connected to the silver plating layer 16 via the bonding wire 34.

リフレクタ20は、青色LED30を封止するための透明封止樹脂40を充填させるとともに、青色LED30から発せられた光を発光装置1の表面側に反射させるものである。リフレクタ20は、青色LED30を取り囲むように基板10の表面から立設されている。すなわち、リフレクタ20には、青色LED30を取り囲むように基板10の表面10aから立ち上がって内側に青色LED30を収容する内側空間22を形成し、平面視(図2参照)において円形に形成された内周面20aと、内周面20aに隣接して内側空間22の外側に位置し、内周面20aの表側端縁から内側空間22の反対側に向けて広がる頂面20bと、頂面20bの外側端縁から基板10の表面10aに立ち下がり、平面視(図2参照)において矩形に形成された外周面20cと、を備えている。内周面20a及び外周面20cの形状は特に限定されるものではないが、発光装置1の照度向上の観点から、内周面20aは、基板10から離れるに従い拡径する円錐台形状(漏斗状)に形成することが好ましく、発光装置1の集積度向上の観点から、外周面20cは、基板10に対して垂直な四角形状に形成することが好ましい。なお、図面では、内周面20aの形成例として、基板10側に位置する下部分が基板10に対して垂直となっており、基板10の反対側に位置する上部分が基板10から離れるに従い拡径しているものを図示している。   The reflector 20 fills a transparent sealing resin 40 for sealing the blue LED 30 and reflects light emitted from the blue LED 30 to the surface side of the light emitting device 1. The reflector 20 is erected from the surface of the substrate 10 so as to surround the blue LED 30. That is, the reflector 20 is formed with an inner space 22 that rises from the surface 10a of the substrate 10 so as to surround the blue LED 30 and accommodates the blue LED 30 inside, and has an inner circumference formed in a circle in plan view (see FIG. 2). A surface 20a, a top surface 20b adjacent to the inner peripheral surface 20a and positioned outside the inner space 22 and extending from the front edge of the inner peripheral surface 20a toward the opposite side of the inner space 22, and the outer surface of the top surface 20b An outer peripheral surface 20c that falls from the edge to the surface 10a of the substrate 10 and is formed in a rectangular shape in plan view (see FIG. 2). The shapes of the inner peripheral surface 20a and the outer peripheral surface 20c are not particularly limited, but from the viewpoint of improving the illuminance of the light emitting device 1, the inner peripheral surface 20a has a truncated cone shape (funnel shape) whose diameter increases as the distance from the substrate 10 increases. The outer peripheral surface 20 c is preferably formed in a quadrangular shape perpendicular to the substrate 10 from the viewpoint of improving the degree of integration of the light emitting device 1. In the drawing, as an example of forming the inner peripheral surface 20a, the lower part located on the substrate 10 side is perpendicular to the substrate 10, and the upper part located on the opposite side of the substrate 10 is separated from the substrate 10. An enlarged diameter is shown.

リフレクタ20は、白色顔料が含有された熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなっている。熱硬化性樹脂組成物は、リフレクタ20の形成容易性の観点から、熱硬化前においては室温(25℃)で加圧成型可能なものが好ましい。   The reflector 20 is made of a cured product of a thermosetting resin composition containing a white pigment. From the viewpoint of ease of forming the reflector 20, the thermosetting resin composition is preferably one that can be pressure-molded at room temperature (25 ° C.) before thermosetting.

熱硬化性樹脂組成物に含まれる熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂等種々のものを用いることができる。特に、エポキシ樹脂は、種々の材料に対する接着性が優れるため好ましい。   As the thermosetting resin contained in the thermosetting resin composition, various resins such as an epoxy resin, a silicone resin, a urethane resin, and a cyanate resin can be used. In particular, an epoxy resin is preferable because of its excellent adhesion to various materials.

白色顔料としては、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン又は酸化ジルコニウムを使用することができる。これらの中でも光反射性の点から酸化チタンが好ましい。白色顔料として無機中空粒子を使用してもよい。無機中空粒子の具体例として、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス、シラス等が挙げられる。   As the white pigment, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, or zirconium oxide can be used. Among these, titanium oxide is preferable from the viewpoint of light reflectivity. Inorganic hollow particles may be used as the white pigment. Specific examples of the inorganic hollow particles include sodium silicate glass, aluminum silicate glass, borosilicate soda glass, and shirasu.

透明封止樹脂40は、リフレクタ20の内周面20aにより形成される内側空間22に充填されて、青色LED30を封止するものである。この透明封止樹脂40は、透光性を有する透明封止樹脂からなる。透明封止樹脂には、完全に透明な樹脂の他、半透明な樹脂も含まれる。透明封止樹脂としては、弾性率が室温(25℃)において1MPa以下のものが好ましい。特に、透明性の点からシリコーン樹脂又はアクリル樹脂を採用することが好ましい。透明封止樹脂は、光を拡散する無機充填材や青色LED30から発せられる青色光を励起源として白色光とする蛍光体42を更に含有してもよい。   The transparent sealing resin 40 fills the inner space 22 formed by the inner peripheral surface 20a of the reflector 20 and seals the blue LED 30. The transparent sealing resin 40 is made of a transparent sealing resin having translucency. The transparent sealing resin includes a translucent resin as well as a completely transparent resin. The transparent sealing resin preferably has an elastic modulus of 1 MPa or less at room temperature (25 ° C.). In particular, it is preferable to employ a silicone resin or an acrylic resin from the viewpoint of transparency. The transparent sealing resin may further contain an inorganic filler that diffuses light and a phosphor 42 that emits white light using blue light emitted from the blue LED 30 as an excitation source.

そして、本実施形態に係る発光装置1は、銀めっき層16が銀硫化防止膜50により被覆されており、透明封止樹脂40とリフレクタ20とが接合されている。   In the light emitting device 1 according to the present embodiment, the silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention film 50, and the transparent sealing resin 40 and the reflector 20 are joined.

銀硫化防止膜50は、銀めっき層16を被覆することにより銀めっき層16の硫化を抑制するものであり、上述した本実施形態の銀硫化防止材から形成されている。銀硫化防止材が粘土としてモンモリロナイトやスチーブンサイトのような層状化合物を含む場合には、図7に示すように、ガスのパスルートが長くガスバリア性に優れる膜が形成される。   The silver sulfidation preventing film 50 suppresses sulfidation of the silver plating layer 16 by covering the silver plating layer 16, and is formed of the silver sulfidation preventing material of the present embodiment described above. When the silver sulfide prevention material contains a layered compound such as montmorillonite or stevensite as clay, a film having a long gas path route and excellent gas barrier properties is formed as shown in FIG.

銀硫化防止膜50の膜厚は、0.005μm以上500μm以下であることが好ましく、0.01μm以上500μm以下であることが更に好ましく、0.05μm以上100μm以下であることが好ましく、0.05μm以上10μm以下、0.05μm以上1μm以下であることが更に好ましい。銀硫化防止膜50の膜厚を0.005μm以上500μm以下とすることで、銀めっき層14に対するガスバリア性と銀硫化防止膜50の透明性とを両立させることができる。この場合、銀硫化防止膜50の膜厚を0.01μm以上500μm以下、0.01μm以上100μm以下、0.01μm以上10μm以下、0.01μm以上1μm以下にすることで、この効果を更に向上させることができる。   The film thickness of the silver sulfide preventing film 50 is preferably 0.005 μm or more and 500 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 500 μm or less, and preferably 0.05 μm or more and 100 μm or less, 0.05 μm More preferably, it is 10 μm or less, 0.05 μm or more and 1 μm or less. By setting the film thickness of the silver sulfide prevention film 50 to 0.005 μm or more and 500 μm or less, it is possible to achieve both the gas barrier property with respect to the silver plating layer 14 and the transparency of the silver sulfide prevention film 50. In this case, this effect is further improved by setting the film thickness of the silver sulfide prevention film 50 to 0.01 μm to 500 μm, 0.01 μm to 100 μm, 0.01 μm to 10 μm, and 0.01 μm to 1 μm. be able to.

次に、第1の実施形態に係る発光装置1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the light emitting device 1 according to the first embodiment will be described.

図3は、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法を示したフローチャートである。図3に示すように、発光装置の製造方法では、まず、基板準備工程(ステップS101)として、表面に銅めっき板14が配線された絶縁性の基体12を準備し、銀めっき層形成工程(ステップS102)として、銅めっき板14の表面に銀めっき層16を形成する。   FIG. 3 is a flowchart illustrating the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment. As shown in FIG. 3, in the method for manufacturing a light emitting device, first, as a substrate preparation step (step S <b> 101), an insulating base 12 having a copper plated plate 14 wired on the surface is prepared, and a silver plating layer formation step ( As step S102), the silver plating layer 16 is formed on the surface of the copper plating plate.

次に、リフレクタ形成工程(ステップS103)として、基板10の表面にリフレクタ20を形成し、チップ搭載工程(ステップS104)として、基板10に青色LED30を搭載する。青色LED30の基板10への搭載は、リフレクタ20で囲まれた内側空間22において、アノード側及びカソード側の何れか一方の銀めっき層16に青色LED30をダイボンディングすることにより行う。これにより、青色LED30がダイボンド材32を介してアノード側及びカソード側の何れか一方の銀めっき層16と導通されるとともに、青色LED30がリフレクタ20に取り囲まれて内側空間22に収容された状態となる。   Next, the reflector 20 is formed on the surface of the substrate 10 as a reflector forming step (step S103), and the blue LED 30 is mounted on the substrate 10 as a chip mounting step (step S104). The blue LED 30 is mounted on the substrate 10 by die-bonding the blue LED 30 to the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side in the inner space 22 surrounded by the reflector 20. Thus, the blue LED 30 is electrically connected to the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side through the die bonding material 32, and the blue LED 30 is surrounded by the reflector 20 and accommodated in the inner space 22. Become.

次に、銀硫化防止材の塗布工程(ステップS105)として、銀めっき層16に本実施形態の銀硫化防止材を塗布して銀めっき層16を銀硫化防止材で覆う。   Next, as a silver sulfide prevention material application step (step S105), the silver sulfide prevention material of this embodiment is applied to the silver plating layer 16 to cover the silver plating layer 16 with the silver sulfide prevention material.

銀硫化防止材の塗布工程(ステップS105)における銀硫化防止材の塗布は、例えば、基板10の表面側から、銀硫化防止材を内側空間22に滴下又は散布することにより行う。このとき、少なくとも銀めっき層16の全てが銀硫化防止材Lで覆われるように、銀硫化防止材の滴下量又は散布量を調節する。この場合、例えば、図4の(a)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てが銀硫化防止材Lで覆われるように、銀硫化防止材Lを内側空間22に滴下又は散布してもよく、図4の(b)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てとリフレクタ20の内周面20aの一部とが銀硫化防止材Lで覆われるように、銀硫化防止材Lを内側空間22に滴下又は散布してもよい。   The application of the silver sulfide prevention material in the silver sulfide prevention material application step (step S105) is performed by, for example, dropping or spraying the silver sulfide prevention material into the inner space 22 from the surface side of the substrate 10. At this time, the dripping amount or the spraying amount of the silver sulfide prevention material is adjusted so that at least the entire silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention material L. In this case, for example, as shown in FIG. 4A, the silver sulfide prevention material L is dropped or dispersed in the inner space 22 so that the silver plating layer 16 and the blue LED 30 are all covered with the silver sulfide prevention material L. As shown in FIG. 4B, the silver plating layer 16 and the blue LED 30 and a part of the inner peripheral surface 20a of the reflector 20 are covered with the silver sulfide preventive material L so that the silver plating layer 16 and the blue LED 30 are covered. The sulfurization preventive material L may be dropped or dispersed in the inner space 22.

次に、乾燥工程(ステップS106)として、銀めっき層16に塗布した銀硫化防止材の塗膜を乾燥させて銀硫化防止膜50を形成する。   Next, as a drying process (step S106), the silver sulfide prevention film 50 is formed by drying the coating film of the silver sulfide prevention material applied to the silver plating layer 16.

乾燥工程は、溶媒が揮発する温度で行うことができ、例えば、溶媒して水を用いる場合、30℃以上80℃以下の温度範囲とすることが好ましく、30℃以上70℃以下の温度範囲とすることがより好ましく、30℃以上60℃以下の温度範囲とすることがさらにより好ましい。この温度域を保つ時間は、例えば、1分以上とすることができ、優れた成膜性を得る観点から、5分以上1日以下とすることが好ましく、工程短時間化の観点から、5分以上30分以下とすることがより好ましい。   The drying step can be performed at a temperature at which the solvent volatilizes. For example, when water is used as a solvent, the temperature is preferably 30 ° C. or higher and 80 ° C. or lower, and the temperature range is 30 ° C. or higher and 70 ° C. or lower. It is more preferable to set the temperature range to 30 ° C. or higher and 60 ° C. or lower. The time for maintaining this temperature range can be, for example, 1 minute or more, and is preferably 5 minutes or more and 1 day or less from the viewpoint of obtaining excellent film formability. More preferably, the time is from 30 minutes to 30 minutes.

溶媒が水とアルコールとを含む場合の乾燥工程は、例えば、30℃以上80℃以下の温度範囲とすることが好ましく、35℃以上80℃以下の温度範囲とすることがより好ましく、40℃以上80℃以下の温度範囲とすることがさらにより好ましい。この温度域を保つ時間は、例えば、1分以上とすることができ、優れた成膜性を得る観点から、5分以上30分以下とすることが好ましく、工程短時間化の観点から、5分以上15分以下とすることがより好ましい。   When the solvent contains water and alcohol, the drying step is preferably, for example, a temperature range of 30 ° C. or more and 80 ° C. or less, more preferably 35 ° C. or more and 80 ° C. or less, and 40 ° C. or more. Even more preferably, the temperature range is 80 ° C. or lower. The time for maintaining this temperature range can be, for example, 1 minute or longer, and is preferably 5 minutes or longer and 30 minutes or shorter from the viewpoint of obtaining excellent film formability. More preferably, the time is from 15 minutes to 15 minutes.

このようにして乾燥工程を行うことで、図4の(a)に示した粘土希釈液Lは、図5の(a)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てを被覆する銀硫化防止膜50となり、図4の(b)に示した粘土希釈液Lは、図5の(b)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てとリフレクタ20の内周面20aの一部とを被覆する銀硫化防止膜50となる。   By performing the drying process in this manner, the clay diluent L shown in FIG. 4A becomes a silver covering all of the silver plating layer 16 and the blue LED 30 as shown in FIG. 5A. The clay dilution liquid L shown in FIG. 4B becomes the sulfidation preventing film 50, and as shown in FIG. 5B, all of the silver plating layer 16 and the blue LED 30 and the inner peripheral surface 20a of the reflector 20 are formed. Thus, the silver sulfide prevention film 50 covering a part is formed.

本実施形態においては上記の乾燥工程の後に150℃、30分の条件で銀硫化防止膜50を十分に乾燥することが好ましい。これにより、粘土の層間を狭めることによる銀硫化防止性の更なる向上効果を得ることができる。   In the present embodiment, it is preferable to sufficiently dry the silver sulfide prevention film 50 under the conditions of 150 ° C. and 30 minutes after the drying step. Thereby, the further improvement effect of the silver sulfide prevention property by narrowing the interlayer of clay can be acquired.

図3に示すように、乾燥工程(ステップS106)が終了すると、次に、ワイヤボンディング工程(ステップS107)として、青色LED30とアノード側及びカソード側の何れか他方の銀めっき層16とをワイヤボンディングする。このとき、青色LED30及び銀めっき層16に被覆されている銀硫化防止膜50を突き破るようにワイヤの両端を青色LED30と銀めっき層16とにボンディングすることで、青色LED30と銀めっき層16とを導通させる。なお、銀硫化防止膜50の突き破りは、例えば、銀硫化防止膜50の層厚を調節することや、ワイヤボンディングを行うボンディングヘッドの荷重を調節することや、このボンディングヘッドを振動させることなどにより行うことができる。   As shown in FIG. 3, when the drying process (step S106) is completed, the blue LED 30 and the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side are then wire-bonded as a wire bonding process (step S107). To do. At this time, both ends of the wire are bonded to the blue LED 30 and the silver plating layer 16 so as to break through the silver sulfide prevention film 50 covered with the blue LED 30 and the silver plating layer 16. Is made conductive. The breakage of the silver sulfidation preventive film 50 may be caused by, for example, adjusting the layer thickness of the silver sulfidation preventive film 50, adjusting the load of the bonding head for wire bonding, or vibrating the bonding head. It can be carried out.

次に、透明封止樹脂充填工程(ステップS108)として、リフレクタ20の内周面20aにより形成される内側空間22に、蛍光体42が含有された透明封止樹脂40を充填する。これにより、青色LED30及び銀めっき層16が透明封止樹脂40(透明封止部)により封止される。   Next, as the transparent sealing resin filling step (step S108), the inner space 22 formed by the inner peripheral surface 20a of the reflector 20 is filled with the transparent sealing resin 40 containing the phosphor 42. Thereby, blue LED30 and the silver plating layer 16 are sealed with the transparent sealing resin 40 (transparent sealing part).

このようにして透明封止樹脂充填工程を行うことで、図5の(a)に示した発光装置1は、図6の(a)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てが銀硫化防止膜50で被覆された状態で、銀めっき層16及び青色LED30が透明封止樹脂40により封止された発光装置1となり、図5の(b)に示した発光装置1は、図6の(b)に示すように、銀めっき層16及び青色LED30の全てとリフレクタ20の内周面20aの一部とが銀硫化防止膜50で被覆された状態で、銀めっき層16及び青色LED30が透明封止樹脂40により封止された発光装置1となる。   By performing the transparent sealing resin filling process in this way, the light emitting device 1 shown in FIG. 5A has all of the silver plating layer 16 and the blue LED 30 as shown in FIG. The light-emitting device 1 in which the silver plating layer 16 and the blue LED 30 are sealed with the transparent sealing resin 40 in a state of being covered with the silver sulfide prevention film 50 is shown in FIG. 6 (b), the silver plating layer 16 and the blue LED 30 in a state where all of the silver plating layer 16 and the blue LED 30 and a part of the inner peripheral surface 20a of the reflector 20 are covered with the silver sulfide prevention film 50. The LED 30 is the light emitting device 1 sealed with the transparent sealing resin 40.

このように、第1の実施形態に係る発光装置1の製造方法によれば、本実施形態の銀硫化防止材で銀めっき層16を覆ったのち、銀硫化防止材の塗膜を乾燥させることで、銀硫化防止材に含まれる粘土が積層した銀硫化防止膜50が形成され、銀めっき層16が銀硫化防止膜50で被覆される。これにより、銀めっき層16を適切に被覆できる銀硫化防止膜50を形成することができる。   Thus, according to the manufacturing method of the light-emitting device 1 which concerns on 1st Embodiment, after covering the silver plating layer 16 with the silver sulfide prevention material of this embodiment, the coating film of a silver sulfide prevention material is dried. Thus, the silver sulfide prevention film 50 in which clay contained in the silver sulfide prevention material is laminated is formed, and the silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention film 50. Thereby, the silver sulfide prevention film 50 which can coat | cover the silver plating layer 16 appropriately can be formed.

発光装置1に設けられたリフレクタ20の内側空間22に本実施形態の銀硫化防止材を滴下又は散布することで、容易に銀めっき層を覆う銀硫化防止膜を形成することができる。   By dropping or dispersing the silver sulfide prevention material of the present embodiment into the inner space 22 of the reflector 20 provided in the light emitting device 1, a silver sulfide prevention film that covers the silver plating layer can be easily formed.

[第2の実施形態]
次に第2の実施形態について説明する。第2の実施形態に係る発光装置の製造方法は、基本的に第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と同様であるが、工程の順序のみ第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と相違する。このため、以下の説明では、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と相違する部分のみを説明し、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と同様の部分の説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described. The manufacturing method of the light emitting device according to the second embodiment is basically the same as the manufacturing method of the light emitting device according to the first embodiment, but the manufacturing of the light emitting device according to the first embodiment only in the order of the steps. It is different from the method. For this reason, in the following description, only a part different from the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment will be described, and description of the same part as the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment will be omitted. .

図8は、第2の実施形態における発光装置の製造方法を示したフローチャートである。図9は、図8の製造方法により製造した発光装置の断面図である。   FIG. 8 is a flowchart showing a method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment. FIG. 9 is a cross-sectional view of a light emitting device manufactured by the manufacturing method of FIG.

図8に示すように、第2の実施形態に係る発光装置1の製造方法は、まず、第1の実施形態と同様に、基板準備工程(ステップS201)、銀めっき層形成工程(ステップS202)及びリフレクタ形成工程(ステップS203)をこの順序で行う。なお、基板準備工程(ステップS201)、銀めっき層形成工程(ステップS202)及びリフレクタ形成工程(ステップS203)は、第1の実施形態の基板準備工程(ステップS101)、銀めっき層形成工程(ステップS102)及びリフレクタ形成工程(ステップS103)と同様である。   As shown in FIG. 8, in the method for manufacturing the light emitting device 1 according to the second embodiment, first, similarly to the first embodiment, a substrate preparation step (step S201) and a silver plating layer formation step (step S202). And a reflector formation process (step S203) is performed in this order. The substrate preparation step (step S201), the silver plating layer formation step (step S202), and the reflector formation step (step S203) are the substrate preparation step (step S101) and the silver plating layer formation step (steps) of the first embodiment. S102) and the reflector forming step (step S103).

次に、銀硫化防止材の塗布工程(ステップS204)として、銀めっき層16に本実施形態の銀硫化防止材を塗布して銀めっき層16を銀硫化防止材で覆う。   Next, as a silver sulfide prevention material application process (step S204), the silver sulfide prevention material of this embodiment is applied to the silver plating layer 16 to cover the silver plating layer 16 with the silver sulfide prevention material.

次に、乾燥工程(ステップS205)として、銀めっき層16に塗布した銀硫化防止材の塗膜を乾燥させて銀硫化防止膜50を形成する。なお、乾燥工程(ステップS205)は、第1の実施形態の乾燥工程(ステップS106)と同様に行うことができる。   Next, as a drying process (step S205), the silver sulfide prevention film 50 is formed by drying the coating film of the silver sulfide prevention material applied to the silver plating layer 16. The drying process (step S205) can be performed in the same manner as the drying process (step S106) of the first embodiment.

次に、チップ搭載工程(ステップS206)として、アノード側及びカソード側の何れか一方の銀めっき層16に青色LED30をダイボンディングする。このとき、第1の実施形態のワイヤボンディング工程(ステップS107)と同様に、銀めっき層16に被覆されている銀硫化防止膜50を突き破るように青色LED30を銀めっき層16にボンディングすることで、青色LED30と銀めっき層16とを導通させる。   Next, as a chip mounting step (step S206), the blue LED 30 is die-bonded to one of the silver plating layer 16 on the anode side and the cathode side. At this time, similarly to the wire bonding step (step S107) of the first embodiment, the blue LED 30 is bonded to the silver plating layer 16 so as to break through the silver sulfide prevention film 50 covered with the silver plating layer 16. The blue LED 30 and the silver plating layer 16 are electrically connected.

次に、ワイヤボンディング工程(ステップS207)として、青色LED30とアノード側及びカソード側の何れか他方の銀めっき層16とをワイヤボンディングする。このとき、銀めっき層16は銀硫化防止膜50で被覆されているため、第1の実施形態のワイヤボンディング工程(ステップS107)と同様に、銀めっき層16に被覆されている銀硫化防止膜50を突き破るようにワイヤの一端を銀めっき層16にボンディングする。一方、青色LED30は銀硫化防止膜50で被覆されていないため、ボンディングワイヤ34の他端は、通常通り青色LED30にボンディングすることができる。これにより、青色LED30と銀めっき層16とが導通される。   Next, as a wire bonding step (step S207), the blue LED 30 and the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side are wire bonded. At this time, since the silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention film 50, the silver sulfide prevention film covered with the silver plating layer 16 is the same as in the wire bonding step (step S107) of the first embodiment. One end of the wire is bonded to the silver plating layer 16 so as to break through 50. On the other hand, since the blue LED 30 is not covered with the silver sulfide prevention film 50, the other end of the bonding wire 34 can be bonded to the blue LED 30 as usual. Thereby, blue LED30 and the silver plating layer 16 are conduct | electrically_connected.

次に、ステップS208として透明封止樹脂充填工程を行う。   Next, a transparent sealing resin filling step is performed as step S208.

このように、第2の実施形態に係る発光装置の製造方法によれば、銀硫化防止材の塗布工程及び乾燥工程を経てからチップ搭載工程を行うことで、図9に示すように、青色LED30が銀硫化防止膜50で被覆されない発光装置1を製造することができる。これにより、ワイヤボンディング工程において、ボンディングワイヤ34の一端を青色LED30にボンディングする際に、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法のように、銀硫化防止膜50を突き破る必要がなくなる。   As described above, according to the method for manufacturing the light emitting device according to the second embodiment, the chip mounting process is performed after the silver sulfide prevention material coating process and the drying process, and as shown in FIG. The light emitting device 1 that is not covered with the silver sulfide prevention film 50 can be manufactured. Thereby, when bonding one end of the bonding wire 34 to the blue LED 30 in the wire bonding step, it is not necessary to break through the silver sulfide prevention film 50 as in the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment.

[第3の実施形態]
次に第3の実施形態について説明する。第3の実施形態に係る発光装置の製造方法は、基本的に第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と同様であるが、工程の順序のみ第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と相違する。このため、以下の説明では、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と相違する部分のみを説明し、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法と同様の部分の説明を省略する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described. The manufacturing method of the light emitting device according to the third embodiment is basically the same as the manufacturing method of the light emitting device according to the first embodiment, but only the order of the steps is the manufacturing of the light emitting device according to the first embodiment. It is different from the method. For this reason, in the following description, only a part different from the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment will be described, and description of the same part as the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment will be omitted. .

図10は、第3の実施形態における発光装置の製造方法を示したフローチャートである。図11は、図10の製造方法により製造した発光装置の断面図である。   FIG. 10 is a flowchart showing a method for manufacturing the light emitting device according to the third embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view of a light emitting device manufactured by the manufacturing method of FIG.

図10に示すように、第3の実施形態に係る発光装置1の製造方法は、まず、第1の実施形態と同様に、基板準備工程(ステップS301)及び銀めっき層形成工程(ステップS302)をこの順序で行う。なお、基板準備工程(ステップS301)及び銀めっき層形成工程(ステップS302)は、第1の実施形態の基板準備工程(ステップS101)及び銀めっき層形成工程(ステップS102)と同様である。   As shown in FIG. 10, in the manufacturing method of the light emitting device 1 according to the third embodiment, first, similarly to the first embodiment, a substrate preparation step (step S301) and a silver plating layer formation step (step S302). In this order. The substrate preparation step (step S301) and the silver plating layer formation step (step S302) are the same as the substrate preparation step (step S101) and the silver plating layer formation step (step S102) of the first embodiment.

次に、銀硫化防止材の塗布工程(ステップS303)として、銀めっき層16に本実施形態の銀硫化防止材を塗布して銀めっき層16を銀硫化防止材で覆う。このとき、作業性の観点から、銀硫化防止材を銀めっき層16が形成されている基板10の表面全体に塗布することが好ましいが、銀めっき層16のみを覆うように銀硫化防止材を塗布してもよい。   Next, as a silver sulfide prevention material application step (step S303), the silver sulfide prevention material of this embodiment is applied to the silver plating layer 16, and the silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention material. At this time, from the viewpoint of workability, it is preferable to apply the silver sulfide prevention material to the entire surface of the substrate 10 on which the silver plating layer 16 is formed, but the silver sulfide prevention material is covered so as to cover only the silver plating layer 16. It may be applied.

次に、乾燥工程(ステップS304)として、銀めっき層16に塗布した銀硫化防止材の塗膜を乾燥させて銀硫化防止膜50を形成する。なお、乾燥工程(ステップS304)は、第1の実施形態の乾燥工程(ステップS106)と同様に行うことができる。   Next, as a drying process (step S304), the silver sulfide prevention film 50 is formed by drying the coating film of the silver sulfide prevention material applied to the silver plating layer 16. The drying process (step S304) can be performed in the same manner as the drying process (step S106) of the first embodiment.

次に、リフレクタ形成工程(ステップS305)として、基板10の表面にリフレクタ20を形成する。このとき、銀硫化防止材の塗布工程(ステップS303)で基板10の表面全体に銀硫化防止材を塗布した場合は、基板10の表面を被覆している銀硫化防止膜50の表面にリフレクタ20を形成する。   Next, as a reflector forming step (step S305), the reflector 20 is formed on the surface of the substrate 10. At this time, when the silver sulfide prevention material is applied to the entire surface of the substrate 10 in the silver sulfide prevention material application step (step S303), the reflector 20 is applied to the surface of the silver sulfide prevention film 50 covering the surface of the substrate 10. Form.

次に、チップ搭載工程(ステップS306)として、アノード側及びカソード側の何れか一方の銀めっき層16に青色LED30をダイボンディングする。このとき、第1の実施形態のワイヤボンディング工程(ステップS107)と同様に、銀めっき層16に被覆されている銀硫化防止膜50を突き破るように青色LED30を銀めっき層16にボンディングすることで、青色LED30と銀めっき層16とを導通させる。   Next, as a chip mounting step (step S306), the blue LED 30 is die-bonded to one of the silver plating layer 16 on the anode side and the cathode side. At this time, similarly to the wire bonding step (step S107) of the first embodiment, the blue LED 30 is bonded to the silver plating layer 16 so as to break through the silver sulfide prevention film 50 covered with the silver plating layer 16. The blue LED 30 and the silver plating layer 16 are electrically connected.

次に、ワイヤボンディング工程(ステップS307)として、青色LED30とアノード側及びカソード側の何れか他方の銀めっき層16とをワイヤボンディングする。このとき、銀めっき層16は銀硫化防止膜50で被覆されているため、第1の実施形態のワイヤボンディング工程(ステップS107)と同様に、銀めっき層16に被覆されている銀硫化防止膜50を突き破るようにワイヤの一端を銀めっき層16にボンディングする。一方、青色LED30は銀硫化防止膜50で被覆されていないため、ボンディングワイヤ34の他端は、通常通り青色LED30にボンディングすることができる。これにより、青色LED30と銀めっき層16とが導通される。   Next, as a wire bonding step (step S307), the blue LED 30 and the silver plating layer 16 on either the anode side or the cathode side are wire bonded. At this time, since the silver plating layer 16 is covered with the silver sulfide prevention film 50, the silver sulfide prevention film covered with the silver plating layer 16 is the same as in the wire bonding step (step S107) of the first embodiment. One end of the wire is bonded to the silver plating layer 16 so as to break through 50. On the other hand, since the blue LED 30 is not covered with the silver sulfide prevention film 50, the other end of the bonding wire 34 can be bonded to the blue LED 30 as usual. Thereby, blue LED30 and the silver plating layer 16 are conduct | electrically_connected.

次に、ステップS308として透明封止樹脂充填工程を行う。   Next, a transparent sealing resin filling process is performed as step S308.

このように、第3の実施形態に係る発光装置の製造方法によれば、銀硫化防止材の塗布工程及び乾燥工程を経てからリフレクタ形成工程及びチップ搭載工程を行うことで、図11に示すように、青色LED30が銀硫化防止膜50で被覆されない発光装置1を製造することができる。これにより、ワイヤボンディング工程において、ボンディングワイヤ34の一端を青色LED30にボンディングする際に、第1の実施形態に係る発光装置の製造方法のように、銀硫化防止膜50を突き破る必要がなくなる。   Thus, according to the manufacturing method of the light emitting device according to the third embodiment, the reflector forming step and the chip mounting step are performed after the silver sulfide prevention material coating step and the drying step, as shown in FIG. Furthermore, the light emitting device 1 in which the blue LED 30 is not covered with the silver sulfide prevention film 50 can be manufactured. Thereby, when bonding one end of the bonding wire 34 to the blue LED 30 in the wire bonding step, it is not necessary to break through the silver sulfide prevention film 50 as in the method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment.

また、上記実施形態では、発光装置1にボンディングする発光ダイオードとして、青色の光を発生する青色LED30を採用するものとして説明したが、青色以外の光を発生する発光ダイオードを採用するものとしてもよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated as what employ | adopts blue LED30 which generate | occur | produces blue light as a light emitting diode bonded to the light-emitting device 1, you may employ | adopt the light emitting diode which generate | occur | produces light other than blue. .

また、上記実施形態の発光装置1は、青色LED30を取り囲むリフレクタ20を備えるものとして説明したが、このようなリフレクタ20を備えないものとしてもよい。   Moreover, although the light-emitting device 1 of the said embodiment was demonstrated as a thing provided with the reflector 20 surrounding the blue LED 30, it is good also as a thing not provided with such a reflector 20. FIG.

本実施形態の銀硫化防止材によれば、銀の硫化防止性に優れた銀硫化防止膜を形成できることから、蛍光体として従来から使用されている、YS:Eu(赤)、ZnS:Cu(緑)、ZnS:Ag(青)、特開平8−085787号公報に示される化合物等の硫黄含有化合物が用いられた発光装置であっても十分な硫化防止性を得ることができる。 According to the silver sulfide preventive material of the present embodiment, since a silver sulfide preventive film excellent in silver sulfide resistance can be formed, Y 2 O 2 S: Eu (red) conventionally used as a phosphor, Sufficient antisulfurization properties can be obtained even in a light emitting device using a sulfur-containing compound such as ZnS: Cu (green), ZnS: Ag (blue), or a compound disclosed in JP-A-8-085787. .

本実施形態の銀硫化防止材は、上述した発光装置以外に、例えば、銀を含有する反射防止膜を備えるプラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ等にも適用することができる。   The silver sulfide preventive material of the present embodiment can be applied to, for example, a plasma display, a liquid crystal display, and the like provided with an antireflection film containing silver in addition to the light emitting device described above.

以下、実施例及び比較例によって、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
容器内に、超純水58.81g、モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製、クニピアF、アスペクト比100〜150)の粉末0.18g、及びスチーブンサイト(クニミネ工業(株)、スメクトン、アスペクト比60〜80)の粉末0.02gを入れ、容器を手で振って撹拌した。この容器内にイソプロパノール39.2gを更に加えた後、自転・公転ミキサーを用いて2000rpmで20分混合し、次いで2200rpmで10分脱泡を行い、アスペクト比が異なる2種類の粘土の混合液(質量比9:1)を銀硫化防止材として得た。
Example 1
In the container, 58.81 g of ultrapure water, 0.18 g of powder of montmorillonite (Kunimine Industry Co., Ltd., Kunipia F, aspect ratio 100 to 150), and stevensite (Kunimine Industry Co., Ltd., Smecton, aspect ratio 60) ˜80) powder was added, and the container was shaken by hand and stirred. After further adding 39.2 g of isopropanol in this container, mixing was performed at 2000 rpm for 20 minutes using a rotation / revolution mixer, then defoaming was performed at 2200 rpm for 10 minutes, and a mixture of two types of clays having different aspect ratios ( A mass ratio of 9: 1) was obtained as a silver sulfide preventive material.

(実施例2)
容器内に、超純水58.81g、モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製、クニピアF、アスペクト比100〜150)の粉末0.10g、及びスチーブンサイト(クニミネ工業(株)、スメクトン、アスペクト比60〜80)の粉末0.10gを入れた以外は実施例1と同様にして、アスペクト比が異なる2種類の粘土の混合液(質量比5:5)を銀硫化防止材として得た。
(Example 2)
In the container, 58.81 g of ultrapure water, 0.10 g of montmorillonite (Kunimine Industry Co., Ltd., Kunipia F, aspect ratio 100-150), and stevensite (Kunimine Industry Co., Ltd., smecton, aspect ratio 60) A mixture of two types of clays having different aspect ratios (mass ratio 5: 5) was obtained as a silver sulfide preventive material in the same manner as in Example 1 except that 0.10 g of the powder (-80) was added.

(実施例3)
容器内に、超純水58.81g、モンモリロナイト(クニミネ工業(株)製、クニピアF、アスペクト比100〜150)の粉末0.02g、及びスチーブンサイト(クニミネ工業(株)、スメクトン、アスペクト比60〜80)の粉末0.18gを入れた以外は実施例1と同様にして、アスペクト比が異なる2種類の粘土の混合液(質量比1:9)を銀硫化防止材として得た。
Example 3
In the container, 58.81 g of ultrapure water, 0.02 g of montmorillonite (Kunimine Industries, Ltd., Kunipia F, aspect ratio 100 to 150), and stevensite (Kunimine Industries, Ltd., smecton, aspect ratio 60) A mixture of two types of clays having different aspect ratios (mass ratio 1: 9) was obtained as a silver sulfide preventive material in the same manner as in Example 1 except that 0.18 g of powder 80-80) was added.

(比較例1)
容器内に、超純水58.81g及びモンモリロナイト(クニミネ工業(株)製、クニピアF、アスペクト比100〜150)の粉末0.20gを入れ、容器を手で振って撹拌した。この容器内にイソプロパノール39.2gを更に加えた後、自転・公転ミキサーを用いて2000rpmで20分混合し、自転・公転ミキサーを用いて2000rpmで20分混合し、次いで2200rpmで10分脱泡を行い、アスペクト比の大きい粘土のみを含む銀硫化防止材を得た。
(Comparative Example 1)
In a container, 58.81 g of ultrapure water and 0.20 g of montmorillonite (Kunimine Industries, Ltd., Kunipia F, aspect ratio 100 to 150) powder were placed, and the container was shaken by hand to be stirred. After further adding 39.2 g of isopropanol in this container, mixing at 2000 rpm for 20 minutes using a rotation / revolution mixer, mixing at 2000 rpm for 20 minutes using a rotation / revolution mixer, then defoaming at 2200 rpm for 10 minutes. And an anti-silver sulfide material containing only clay with a large aspect ratio was obtained.

(比較例2)
容器内に、超純水58.81g及びスメクトン(クニミネ工業(株)製、SWN、アスペクト比50)の粉末0.20gを入れた以外は比較例1と同様にして、銀硫化防止材を得た。
(Comparative Example 2)
A silver sulfide preventive material was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that 58.81 g of ultrapure water and 0.20 g of smecton (Kunimine Industries, SWN, aspect ratio 50) were put in a container. It was.

[銀硫化防止性の評価]
銅板上に銀めっき層が設けられたLED用リードフレームである「TOP LED OP4」(エノモト(株)製)に、マイクロピペッターで銀硫化防止材を3μl、1回滴下した。恒温槽内に銀硫化防止材を滴下したリードフレームを入れ、50℃で10分乾燥した。乾燥後、恒温槽の温度を150℃に上げて30分間加熱し、試験サンプルを得た。
[Evaluation of silver sulfide prevention]
3 μl of silver sulfide preventive material was dropped once on “TOP LED OP4” (manufactured by Enomoto Co., Ltd.), which is an LED lead frame provided with a silver plating layer on a copper plate, using a micropipettor. A lead frame in which a silver sulfide prevention material was dropped was placed in a thermostatic bath and dried at 50 ° C. for 10 minutes. After drying, the temperature of the thermostatic bath was raised to 150 ° C. and heated for 30 minutes to obtain a test sample.

密閉可能なガラス瓶内に、硫黄粉末(0.5g)を入れたアルミ製カップを置き、このカップの上にステンレス製の金網を載せた。次に、試験サンプルを、金網の上に銀硫化防止材を滴下した側を上にしてサンプル同士が重ならないようにして置いた。ガラス瓶を密閉した後、100℃で2時間及び4時間それぞれ保存した。ガラス瓶から試験サンプルを取り出し、硫化防止性を光学顕微鏡で観察し、試験前後で銀めっき面の変色が全くない場合を「○」、硫化により銀めっき面が一部変色した場合を「△」、全部変色した場合を「×」とした。   An aluminum cup containing sulfur powder (0.5 g) was placed in a sealable glass bottle, and a stainless steel wire mesh was placed on the cup. Next, the test sample was placed on the wire mesh so that the side on which the silver sulfide prevention material was dropped was faced up so that the samples did not overlap each other. After sealing the glass bottle, it was stored at 100 ° C. for 2 hours and 4 hours, respectively. Take out the test sample from the glass bottle and observe the antisulfation property with an optical microscope. The case where all the colors changed was designated as “x”.

Figure 0006051820
Figure 0006051820

1…発光装置、10…基板、10a…基板の表面、12…基体、14…銅めっき板、16…銀めっき層、20…リフレクタ(光反射部)、20a…内周面、20b…頂面、20c…外周面、22…内側空間、30…青色LED(青色発光ダイオード)、32…ダイボンド材、34…ボンディングワイヤ、40…透明封止樹脂(透明封止部)、42…蛍光体、50…銀硫化防止膜、L…銀硫化防止材。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light-emitting device, 10 ... Board | substrate, 10a ... Surface of board | substrate, 12 ... Base | substrate, 14 ... Copper plating board, 16 ... Silver plating layer, 20 ... Reflector (light reflection part), 20a ... Inner peripheral surface, 20b ... Top surface 20c ... outer peripheral surface, 22 ... inner space, 30 ... blue LED (blue light emitting diode), 32 ... die bond material, 34 ... bonding wire, 40 ... transparent sealing resin (transparent sealing portion), 42 ... phosphor, 50 ... Silver sulfide prevention film, L ... Silver sulfide prevention material.

Claims (7)

アスペクト比が異なる粘土を2種類以上含有する、銀硫化防止材。 Silver sulfide preventive material containing two or more types of clay with different aspect ratios. アスペクト比が1〜80の粘土と、アスペクト比が81〜1000の粘土と、を含有する、請求項1に記載の銀硫化防止材。 And an aspect ratio of 1 to 80 clay, aspect ratio contains a clay 81-1000, silver sulfide prevention material according to claim 1. 銀が含まれる金属層の表面に、請求項1又は2に記載の銀硫化防止材を塗布して前記銀硫化防止材の塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、
を備える、銀硫化防止膜の形成方法。
An application step of applying the silver sulfide prevention material according to claim 1 or 2 to form a coating film of the silver sulfide prevention material on the surface of the metal layer containing silver;
A drying step of drying the coating film;
A method for forming a silver sulfide prevention film.
前記金属層が銀めっき層である、請求項に記載の銀硫化防止膜の形成方法。 The method for forming a silver sulfide prevention film according to claim 3 , wherein the metal layer is a silver plating layer. 乾燥後の前記塗膜の厚さが0.005μm以上である、請求項3又は4に記載の銀硫化防止膜の形成方法。 The method for forming a silver sulfide prevention film according to claim 3 or 4 , wherein the thickness of the coating film after drying is 0.005 µm or more. 銀めっき層を有する基板と、前記基板上に搭載された発光素子と、を備える、発光装置の製造方法であって、
前記銀めっき層の表面に、請求項1又は2に記載の銀硫化防止材を塗布して前記銀硫化防止材の塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、
を備える、発光装置の製造方法。
A method for manufacturing a light emitting device, comprising: a substrate having a silver plating layer; and a light emitting element mounted on the substrate,
On the surface of the silver plating layer, an application step of applying the silver sulfide prevention material according to claim 1 or 2 to form a coating film of the silver sulfide prevention material;
A drying step of drying the coating film;
A method for manufacturing a light emitting device.
乾燥後の前記塗膜の厚さが0.005μm以上である、請求項に記載の発光装置の製造方法。 The manufacturing method of the light-emitting device of Claim 6 whose thickness of the said coating film after drying is 0.005 micrometer or more.
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