JP6050717B2 - Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device - Google Patents

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    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors

Description

本発明は、半導体装置及び半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device.

従来、ケースの側面部及び接続子を介して基板に面実装して使用される半導体装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor device that is used by being surface-mounted on a substrate via a side surface portion of a case and a connector is known (for example, see Patent Document 1).

図9は、従来の半導体装置900を説明するために示す図である。図9(a)は従来の半導体装置900の側断面図であり、図9(b)は図9(a)の矢印A側から見た従来の半導体装置900の平面図である。なお、図9中、はんだの図示は省略している。   FIG. 9 is a diagram for explaining a conventional semiconductor device 900. FIG. 9A is a side sectional view of a conventional semiconductor device 900, and FIG. 9B is a plan view of the conventional semiconductor device 900 viewed from the arrow A side in FIG. 9A. In FIG. 9, illustration of solder is omitted.

従来の半導体装置900は、図9に示すように、開口部を有する枡状のケース910と、半導体チップ920と、接続子930と、ケース910内部に充填されている樹脂940とを備える。   As shown in FIG. 9, the conventional semiconductor device 900 includes a bowl-shaped case 910 having an opening, a semiconductor chip 920, a connector 930, and a resin 940 filled in the case 910.

ケース910は、底面部911、底面部911の外縁に立設された側面部912及び底面部911の内表面の中央に形成された凸形状のベース部913を有する導電性のケースである。ケース910の側面部912のうちの一部が、外部回路と接続するための第1外部端子部914を構成する。   The case 910 is a conductive case having a bottom surface portion 911, a side surface portion 912 erected on the outer edge of the bottom surface portion 911, and a convex base portion 913 formed at the center of the inner surface of the bottom surface portion 911. A part of the side surface portion 912 of the case 910 constitutes a first external terminal portion 914 for connection to an external circuit.

半導体チップ920は、一方面922がベース部913の上面とはんだ(図示せず。)を介して接合された状態でベース部913の上面に配設されている。   The semiconductor chip 920 is disposed on the upper surface of the base portion 913 with one surface 922 joined to the upper surface of the base portion 913 via solder (not shown).

接続子930は、一方の端部が半導体チップ920の他方面924とはんだを介して接合され、他方の端部がケース910の外部に導出された状態で、半導体チップ920の他方面924上に配設されている。   The connector 930 has one end joined to the other surface 924 of the semiconductor chip 920 via solder and the other end is led out of the case 910 on the other surface 924 of the semiconductor chip 920. It is arranged.

接続子930は、一方の端部側に位置し半導体チップ920の他方面とはんだを介して接合された半導体チップ接合部931と、他方の端部側に位置し外部回路と接続するための第2外部端子部932と、半導体チップ接合部931及び第2外部端子部932の間に挟まれた連結部933とを有する。半導体チップ接合部931と連結部933とは、半導体チップ接合部931の端部でケース910の開口部側に屈曲された構造となるように連結されている。   The connector 930 is located on one end side and is connected to the other surface of the semiconductor chip 920 via solder, and the connector 930 is located on the other end side and is connected to an external circuit. Two external terminal portions 932 and a connecting portion 933 sandwiched between the semiconductor chip bonding portion 931 and the second external terminal portion 932. The semiconductor chip bonding portion 931 and the connecting portion 933 are connected so as to have a structure bent toward the opening side of the case 910 at the end of the semiconductor chip bonding portion 931.

従来の半導体装置900においては、半導体チップ920の一方面922及び他方面924には、それぞれ電極(図示せず。)が形成されており、半導体チップ920の一方面922に形成された電極とベース部913とがはんだを介して電気的に接続されているとともに、半導体チップ920の他方面924に形成された電極と半導体チップ接合部931とがはんだを介して電気的に接続されている。   In the conventional semiconductor device 900, electrodes (not shown) are respectively formed on one surface 922 and the other surface 924 of the semiconductor chip 920, and the electrode and base formed on the one surface 922 of the semiconductor chip 920 are formed. The part 913 is electrically connected via solder, and the electrode formed on the other surface 924 of the semiconductor chip 920 and the semiconductor chip bonding part 931 are electrically connected via solder.

従来の半導体装置900においては、第1外部端子部914における外部回路との接続面915と第2外部端子部932における外部回路との接続面934とが同一平面上にある。   In the conventional semiconductor device 900, the connection surface 915 with the external circuit in the first external terminal portion 914 and the connection surface 934 with the external circuit in the second external terminal portion 932 are on the same plane.

従来の半導体装置900によれば、底面部911の内表面の中央に配設された凸形状のベース部913を有することから、半導体チップ920をベース部913の上面にはんだを介して接合する過程において、ベース部913の上面に配設したはんだを溶融する際、溶融したはんだが表面張力によりベース部913の上面に留まりやすくなる。このため、半導体チップ920の一方面とベース部913の上面とを接合するのに十分な量のはんだをベース部913の上面に留めることが可能となり、ベース部913と半導体チップ920とが強い接合強度で接合された半導体装置となる。   According to the conventional semiconductor device 900, since it has the convex base portion 913 disposed at the center of the inner surface of the bottom surface portion 911, the process of joining the semiconductor chip 920 to the upper surface of the base portion 913 via solder. When the solder disposed on the upper surface of the base portion 913 is melted, the melted solder tends to stay on the upper surface of the base portion 913 due to surface tension. Therefore, a sufficient amount of solder for joining one surface of the semiconductor chip 920 and the upper surface of the base portion 913 can be secured to the upper surface of the base portion 913, and the base portion 913 and the semiconductor chip 920 are strongly bonded. It becomes a semiconductor device bonded with strength.

また、従来の半導体装置900によれば、半導体チップ920の一方面に形成された電極とケース910のベース部913とがはんだを介して電気的に接続されることから、半導体チップ920の一方面に形成された電極とベース部913とが電気的に接続されることとなり、ケース910を外部端子として利用することが可能となる。   In addition, according to the conventional semiconductor device 900, since the electrode formed on one surface of the semiconductor chip 920 and the base portion 913 of the case 910 are electrically connected via solder, one surface of the semiconductor chip 920 is provided. The electrode formed on the base 913 and the base portion 913 are electrically connected, and the case 910 can be used as an external terminal.

また、従来の半導体装置900によれば、半導体チップ920がケース910のベース部913の上面に配設され、かつ、樹脂940がケース内部に充填されていることから、半導体チップ920から発生する熱をケース910及び樹脂940を介して外部に効果的に放熱することが可能となる。   Further, according to the conventional semiconductor device 900, since the semiconductor chip 920 is disposed on the upper surface of the base portion 913 of the case 910 and the resin 940 is filled in the case, heat generated from the semiconductor chip 920 is obtained. Can be effectively radiated to the outside through the case 910 and the resin 940.

また、従来の半導体装置900によれば、ケース910の側面部912のうちの一部が、外部回路と接続するための第1外部端子部914を構成することから、ケース910の内側に配設された半導体チップ920から発生する熱を、第1外部端子部914を介して外部回路へと効果的に放熱することが可能となる。   In addition, according to the conventional semiconductor device 900, a part of the side surface portion 912 of the case 910 constitutes the first external terminal portion 914 for connecting to an external circuit, and thus is disposed inside the case 910. The heat generated from the semiconductor chip 920 thus formed can be effectively radiated to the external circuit via the first external terminal portion 914.

さらにまた、従来の半導体装置900によれば、第1外部端子部914における外部回路との接続面915と第2外部端子部932における外部回路との接続面934とが同一平面上にあることから、平面状の基板に形成された外部回路に安定して取り付けることが可能となる。   Furthermore, according to the conventional semiconductor device 900, the connection surface 915 with the external circuit in the first external terminal portion 914 and the connection surface 934 with the external circuit in the second external terminal portion 932 are on the same plane. It becomes possible to stably attach to an external circuit formed on a planar substrate.

特開平11−8336号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-8336

しかしながら、従来の半導体装置900において、底面部911とベース部913とをはんだを介して接合するために底面部911の所定の領域に配設したはんだを溶融する際、溶融したはんだが当該領域以外の領域に流れ出るおそれがあり、流れ出るはんだに引きずられてベース部913が位置ずれするおそれがある。このため、半導体チップ920をベース部913に対して正確に位置決めして配設しても、ベース部913が底面部911の所定の領域から位置ずれするおそれがあるため、ケース910に対する半導体チップ920の位置を正確に位置決めすることが困難となるおそれがある。その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置とすることが困難となるおそれが生じるという問題がある。   However, in the conventional semiconductor device 900, when melting the solder disposed in a predetermined region of the bottom surface portion 911 in order to join the bottom surface portion 911 and the base portion 913 via the solder, the molten solder is not in the region. The base portion 913 may be displaced by being dragged by the flowing solder. For this reason, even if the semiconductor chip 920 is accurately positioned and disposed with respect to the base portion 913, the base portion 913 may be displaced from a predetermined region of the bottom surface portion 911. It may be difficult to accurately position the position. As a result, there is a problem that it may be difficult to obtain a highly reliable semiconductor device with high dimensional accuracy.

そこで、本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、ケースに対する半導体チップの位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置を提供することを目的とする。また、このような半導体装置を製造するための半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made to solve such a problem, and it is possible to accurately position the semiconductor chip with respect to the case. As a result, the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing method for manufacturing such a semiconductor device.

[1]本発明の半導体装置は、開口部を有する枡状のケースであって、底面部、前記底面部の外縁に立設された側面部及び前記底面部の内表面の中央に形成された凸形状のベース部を有する導電性のケースと、一方面が前記ベース部の上面とはんだを介して接合された状態で前記ベース部の上面に配設された半導体チップと、一方の端部が前記半導体チップの他方面とはんだを介して接合され他方の端部が前記ケースの外部に導出された状態で、前記半導体チップの他方面上に配設されている接続子と、表面が、前記ケースの端部と接触し、かつ、前記ケースの端部と面一となる又は前記底面部側に凹形状となるように前記ケース内部に充填されている樹脂とを備え、前記ケースの側面部のうちの一部が、外部回路と接続するための第1外部端子部を構成し、前記接続子は、一方の端部側に位置し前記半導体チップの他方面とはんだを介して接合された半導体チップ接合部と、他方の端部側に位置し外部回路と接続するための第2外部端子部と、前記半導体チップ接合部及び前記第2外部端子部の間に挟まれた連結部とを有し、前記半導体チップ接合部と前記連結部とは、前記半導体チップ接合部の端部で前記半導体チップとの接合面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されており、前記半導体チップの前記一方面及び他方面には、それぞれ電極が形成され、前記半導体チップの一方面に形成された電極と前記ベース部とがはんだを介して電気的に接続されているとともに、前記半導体チップの他方面に形成された電極と前記半導体チップ接合部とがはんだを介して電気的に接続されており、前記第1外部端子部における外部回路との接続面と前記第2外部端子部における外部回路との接続面とが同一平面上にあり、前記ベース部の上面の外形が、前記半導体チップの一方面の外形に対応した外形を有し、前記半導体チップ接合部の外形が、前記半導体チップの他方面の外形と対応した外形を有する半導体装置であって、前記底面部、前記側面部及び前記ベース部は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであることを特徴とする。 [1] The semiconductor device of the present invention is a bowl-shaped case having an opening, and is formed at the bottom surface, a side surface erected on the outer edge of the bottom surface, and the center of the inner surface of the bottom surface. A conductive case having a convex base portion, a semiconductor chip disposed on the upper surface of the base portion with one surface bonded to the upper surface of the base portion via solder, and one end portion In a state where the other end of the semiconductor chip is joined via solder and the other end is led out of the case, a connector disposed on the other surface of the semiconductor chip, and a surface, A side surface portion of the case, wherein the side surface portion of the case is provided with a resin that is in contact with the end portion of the case and that is flush with the end portion of the case or is concave on the bottom surface side. Part of the first external end for connecting to an external circuit The connector is located on one end side and is connected to the other surface of the semiconductor chip via solder, and is connected to an external circuit located on the other end side. A second external terminal portion and a connecting portion sandwiched between the semiconductor chip joint portion and the second external terminal portion, wherein the semiconductor chip joint portion and the connecting portion are the semiconductor chip It is connected so as to be bent to the opposite side of the bonding surface with the semiconductor chip at the end of the bonding portion, and electrodes are formed on the one surface and the other surface of the semiconductor chip, The electrode formed on one surface of the semiconductor chip and the base portion are electrically connected via solder, and the electrode formed on the other surface of the semiconductor chip and the semiconductor chip joint portion are soldered. Through electrically The connection surface of the first external terminal portion to the external circuit and the connection surface of the second external terminal portion to the external circuit are on the same plane, and the outer shape of the upper surface of the base portion is A semiconductor device having an outer shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip, wherein the outer shape of the semiconductor chip bonding portion has an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface of the semiconductor chip, the bottom surface portion, the side surface The portion and the base portion are integrally formed from the same metal member.

[2]本発明の半導体装置においては、前記底面部の外表面の中央に凹部が設けられ、前記凹部の底表面は、前記ベース部の上面と平行であることが好ましい。 [2] In the semiconductor device of the present invention, it is preferable that a recess is provided in the center of the outer surface of the bottom surface portion, and the bottom surface of the recess is parallel to the top surface of the base portion.

[3]本発明の半導体装置においては、前記ベース部の上面は、前記底面部の内表面と平行であることが好ましい。 [3] In the semiconductor device of the present invention, it is preferable that the upper surface of the base portion is parallel to the inner surface of the bottom surface portion.

[4]本発明の半導体装置においては、前記ベース部の上面は平面形状となっており、前記第1外部端子側における前記ベース部の端部の厚さは、前記第1外部端子側とは反対側における前記ベース部の端部の厚さよりも薄くなることが好ましい。 [4] In the semiconductor device of the present invention, the upper surface of the base portion has a planar shape, and the thickness of the end portion of the base portion on the first external terminal side is different from that on the first external terminal side. It is preferable that the thickness is smaller than the thickness of the end portion of the base portion on the opposite side.

[5]本発明の半導体装置の製造方法は、[1]〜[4]のいずれかの半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、底面部、側面部及び前記底面部の内表面の中央に形成され半導体チップの一方面の外形に対応した上面の外形を有する凸形状のベース部を有し、かつ、前記底面部、前記側面部及び前記ベース部が同一の金属部材から一体的に形成されたケースにおける前記ベース部と、前記半導体チップの一方面とを対向させるように前記ケース及び前記半導体チップを位置決めして配設する第1配設工程と、接続子の一方の端部側に位置し前記半導体チップの他方面の外形に対応した外形を有する半導体チップ接合部と、前記半導体チップの他方面とを対向させるように前記半導体チップ及び接続子を位置決めして配設する第2配設工程と、樹脂の表面が前記ケースの端部と接触し、かつ、樹脂の表面が前記ケースの端部と面一となる又は前記底面部側に凹形状となるように前記ケース内部に樹脂を充填する樹脂充填工程とを、前記第1配設工程、前記第2配設工程及び前記樹脂充填工程の順序、又は、前記第2配設工程、前記第1配設工程及び前記樹脂充填工程の順序で含み、前記第2配設工程においては、前記接続子の他方の端部が前記ケースの外部に導出された状態となるように前記接続子を配設し、前記接続子は、前記半導体チップ接合部と前記連結部とが、前記半導体チップ接合部の端部における前記半導体チップと接合するための面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されており、前記第1配設工程又は前記第2配設工程においては、前記ケースの前記側面部のうちの一部が構成する第1外部端子部における外部回路との接続面と、前記接続子の他方の端部側に位置し前記第2外部端子部における外部回路との接続面とが同一平面上となるように前記ケース、前記半導体チップ及び前記接続子を配設し、前記樹脂充填工程の前段に、前記ベース部と前記半導体チップの一方面に形成された電極とを電気的に接続するように、前記ベース部と前記半導体チップの一方面とをはんだを介して接合する第1接合工程と、前記半導体チップの他方面に形成された電極と前記半導体チップ接合部とを電気的に接続するように、前記半導体チップの他方面と前記接続子とをはんだを介して接合する第2接合工程とをさらに含むことを特徴とする。 [5] A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device according to any one of [1] to [4], and includes a bottom surface portion, a side surface portion, and an inner surface of the bottom surface portion. A convex base portion having an upper surface shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip, and the bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are integrally formed from the same metal member. A first disposing step of positioning and disposing the case and the semiconductor chip so that the base portion of the case formed on the case and one surface of the semiconductor chip face each other; and one end of the connector The semiconductor chip and the connector are positioned and arranged so that the semiconductor chip joint having a contour corresponding to the contour of the other surface of the semiconductor chip and the other surface of the semiconductor chip face each other. 2 arrangements And the resin inside the case so that the surface of the resin is in contact with the end of the case and the surface of the resin is flush with the end of the case or is concave on the bottom surface side. The resin filling step to be filled is the order of the first arranging step, the second arranging step, and the resin filling step, or the second arranging step, the first arranging step, and the resin filling step. In the second disposing step, the connector is disposed so that the other end of the connector is led out of the case, and the connector includes the semiconductor The chip bonding portion and the connecting portion are connected so as to have a structure bent to the opposite side of the surface for bonding to the semiconductor chip at the end of the semiconductor chip bonding portion, and the first arrangement In the installation step or the second arrangement step, the case A connection surface with the external circuit in the first external terminal portion formed by a part of the side surface portion, and a connection surface with the external circuit in the second external terminal portion located on the other end side of the connector The case, the semiconductor chip, and the connector are arranged so that they are on the same plane, and the base and the electrode formed on one surface of the semiconductor chip are electrically connected before the resin filling step. A first bonding step of bonding the base portion and one surface of the semiconductor chip via solder, and an electrode formed on the other surface of the semiconductor chip and the semiconductor chip bonding portion. The method further includes a second joining step of joining the other surface of the semiconductor chip and the connector via solder so as to be electrically connected.

[6]本発明の半導体装置の製造方法においては、前記第1接合工程と前記第2接合工程とを同時に実施することが好ましい。 [6] In the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, it is preferable that the first bonding step and the second bonding step are performed simultaneously.

本発明の半導体装置によれば、底面部、側面部及びベース部は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部とベース部とをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部が位置ずれするおそれもない。従って、ケースに対する半導体チップの位置を正確に位置決めすることが可能となり、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置となる。   According to the semiconductor device of the present invention, since the bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are integrally formed from the same metal member, it is necessary to join the bottom surface portion and the base portion via solder. In addition, there is no possibility that the base portion will be displaced by being dragged by the flowing solder. Therefore, it is possible to accurately position the semiconductor chip with respect to the case, and the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability.

また、本発明の半導体装置によれば、底面部、側面部及びベース部は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部とベース部とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部を位置決めする工程や底面部とベース部とをはんだを介して接合する工程等が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で製造可能な半導体装置となる。   Further, according to the semiconductor device of the present invention, the bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are integrally formed from the same metal member, and therefore, the bottom surface portion and the base portion are joined via solder. There is no need, and a step of positioning the base portion, a step of joining the bottom surface portion and the base portion via solder, and the like become unnecessary. For this reason, the semiconductor device can be manufactured with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、本発明の半導体装置によれば、底面部、側面部及びベース部は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、従来の半導体装置と比較して、ケースの内部抵抗を低くすることが可能となり、内部抵抗による損失を少なくすることができる。   In addition, according to the semiconductor device of the present invention, the bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are integrally formed from the same metal member. Therefore, compared to the conventional semiconductor device, the internal resistance of the case Can be reduced, and loss due to internal resistance can be reduced.

また、本発明の半導体装置によれば、表面がケースの端部と接触するようにケース内部に充填されている樹脂を備えるため、半導体チップ及び半導体チップ接合部が十分に保護された半導体装置となり、外部からの衝撃に強い半導体装置となる。   Further, according to the semiconductor device of the present invention, since the case is provided with the resin filled in the case so that the surface is in contact with the end portion of the case, the semiconductor device is a semiconductor device in which the semiconductor chip and the semiconductor chip bonding portion are sufficiently protected. The semiconductor device is resistant to external impact.

また、本発明の半導体装置によれば、ケースの端部と面一となる又は底面部側に凹形状となるようにケース内部に充填されている樹脂を備えることから、樹脂を充填する際に、ケースから樹脂があふれ出して側面部に構成された第1外部端子部に到達することや、樹脂が接続子の連結部を這い上がって第2外部端子部にまで達することを防ぐことが可能となる。このため、半導体装置を外部回路に実装する際、第1外部端子部や第2外部端子部に樹脂が付着していることに起因して外部回路との接続が不良となることを防ぐことが可能となる。   Further, according to the semiconductor device of the present invention, since the case is provided with the resin filled in the case so as to be flush with the end portion of the case or to have a concave shape on the bottom surface side, when filling the resin It is possible to prevent the resin from overflowing from the case and reaching the first external terminal portion formed on the side surface portion, or the resin creeping up the connecting portion of the connector and reaching the second external terminal portion. It becomes. For this reason, when mounting the semiconductor device on the external circuit, it is possible to prevent the connection with the external circuit from being poor due to the resin adhering to the first external terminal portion or the second external terminal portion. It becomes possible.

また、本発明の半導体装置によれば、ベース部の上面の外形が半導体チップの一方面の外形に対応した外形を有することから、ベース部と半導体チップとの接触面積を大きくすることが可能となる。その結果、半導体チップから発生する熱をケースに効率的に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device of the present invention, since the outer shape of the upper surface of the base portion has an outer shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip, it is possible to increase the contact area between the base portion and the semiconductor chip. Become. As a result, heat generated from the semiconductor chip can be efficiently radiated to the case.

さらにまた、本発明の半導体装置によれば、接続子の半導体チップ接合部の外形が、半導体チップの他方面の外形と対応した外形を有することから、半導体チップと接続子との接触面積を大きくすることが可能となる。その結果、半導体チップから発生する熱を接続子に効率的に放熱することが可能となる。   Furthermore, according to the semiconductor device of the present invention, since the outer shape of the semiconductor chip joint portion of the connector has an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface of the semiconductor chip, the contact area between the semiconductor chip and the connector is increased. It becomes possible to do. As a result, heat generated from the semiconductor chip can be efficiently radiated to the connector.

本発明の半導体装置の製造方法によれば、第1配設工程において、底面部、側面部及びベース部が同一の金属部材から一体的に形成されたものであるケースを用いるため、底面部とベース部とをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部が位置ずれするおそれもない。従って、ケースに対する半導体チップの位置を正確に位置決めすることが可能となり、信頼性が高い半導体装置を製造することが可能となる。   According to the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, in the first disposing step, the bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are formed from the same metal member. There is no need to join the base part via solder, and there is no possibility that the base part will be displaced by being dragged by the flowing solder. Therefore, it is possible to accurately position the semiconductor chip with respect to the case, and it is possible to manufacture a highly reliable semiconductor device.

また、本発明の半導体装置の製造方法によれば、第1配設工程において、底面部、側面部及びベース部が同一の金属部材から一体的に形成されたものであるケースを用いるため、底面部とベース部とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部を位置決めする工程や底面部とベース部とをはんだを介して接合する工程が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で半導体装置を製造することが可能となる。   Further, according to the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, in the first disposing step, the bottom surface, the side surface, and the base portion are formed from the same metal member, so that the bottom surface is used. There is no need to join the part and the base part via the solder, and the process of positioning the base part and the process of joining the bottom part and the base part via the solder become unnecessary. For this reason, it is possible to manufacture a semiconductor device with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、本発明の半導体装置の製造方法は、本発明の半導体装置を製造する製造方法であるため、上記した効果を有する半導体装置を製造することが可能となる。   Moreover, since the manufacturing method of the semiconductor device of this invention is a manufacturing method of manufacturing the semiconductor device of this invention, it becomes possible to manufacture the semiconductor device which has the above-mentioned effect.

実施形態1に係る半導体装置1を説明するために示す図である。1 is a diagram for explaining a semiconductor device 1 according to a first embodiment. 実施形態1に係る半導体装置の製造方法を説明するために示すフローチャートである。4 is a flowchart shown for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. 実施形態1に係る半導体装置の製造方法を説明するために示す図である。FIG. 6 is a view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. 実施形態2に係る半導体装置の製造方法を説明するために示すフローチャートである。5 is a flowchart for explaining a method for manufacturing a semiconductor device according to a second embodiment. 実施形態2に係る半導体装置の製造方法を説明するために示す図である。FIG. 6 is a view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment. 実施形態3に係る半導体装置3を説明するために示す図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a semiconductor device 3 according to a third embodiment. 実施形態4に係る半導体装置4を説明するために示す図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a semiconductor device 4 according to a fourth embodiment. 実施形態5に係る半導体装置5を説明するために示す図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a semiconductor device 5 according to a fifth embodiment. 従来の半導体装置900を説明するために示す図である。It is a figure shown in order to demonstrate the conventional semiconductor device 900.

以下、本発明の半導体装置及び半導体装置の製造方法について、図に示す実施形態に基づいて説明する。   Hereinafter, a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device of the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

[実施形態1]
1.実施形態1に係る半導体装置1の構成
まず、実施形態1に係る半導体装置1の構成を説明する。
図1は、実施形態1に係る半導体装置1を説明するために示す図である。図1(a)は半導体装置1の側断面図であり、図1(b)は図1中の矢印Aから見た半導体装置1の平面図である。なお、図1(a)において、はんだの図示は省略している。また、図1(b)において、樹脂40の図示は省略している。
[Embodiment 1]
1. Configuration of Semiconductor Device 1 According to Embodiment 1 First, the configuration of the semiconductor device 1 according to Embodiment 1 will be described.
FIG. 1 is a diagram for explaining the semiconductor device 1 according to the first embodiment. 1A is a side sectional view of the semiconductor device 1, and FIG. 1B is a plan view of the semiconductor device 1 as viewed from an arrow A in FIG. In FIG. 1A, illustration of solder is omitted. Further, in FIG. 1B, illustration of the resin 40 is omitted.

実施形態1に係る半導体装置1は、図1に示すように、ケース10と、半導体チップ20と、接続子30と、樹脂40とを備える。   As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 according to the first embodiment includes a case 10, a semiconductor chip 20, a connector 30, and a resin 40.

実施形態1に係る半導体装置1は、ケース10の側面部12のうちの一部によって構成された後述する第1外部端子部14及び後述する第2外部端子部32がそれぞれ外部回路(図示せず)と電気的に接続されるように面実装される。   In the semiconductor device 1 according to the first embodiment, a first external terminal portion 14 to be described later and a second external terminal portion 32 to be described later configured by a part of the side surface portion 12 of the case 10 are external circuits (not shown). And surface-mounted so as to be electrically connected.

ケース10は、開口部を有する枡状のケースであって、底面部11、底面部11の外縁に立設された側面部12及び底面部11の内表面の中央に形成された凸形状のベース部13を有する導電性のケースである。ケース10において、底面部11、側面部12及びベース部13の接合部分及び角は丸みを帯びている。ケースを構成する材料は、例えば、アルミニウムである。   The case 10 is a bowl-shaped case having an opening, and includes a bottom surface portion 11, a side surface portion 12 erected on the outer edge of the bottom surface portion 11, and a convex base formed at the center of the inner surface of the bottom surface portion 11. This is a conductive case having a portion 13. In the case 10, the joint portion and corners of the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are rounded. The material constituting the case is, for example, aluminum.

ケース10において、底面部11、側面部12及びベース部13は、同一の金属部材から一体的に形成されたものである。具体的には、1枚の厚い金属板を準備し、ベース部13となる領域及び側面部12となる領域を残してへこませること(打ち出し加工)により、ケース10を形成する。   In the case 10, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. Specifically, the case 10 is formed by preparing one thick metal plate and leaving the region to be the base portion 13 and the region to be the side surface portion 12 so as to be recessed (stamping).

底面部11の形状は正方形形状であり、角が丸みを帯びている。側面部12は、底面部11とは垂直な方向に屈曲された構造となるように連結されている。また、側面部12同士もそれぞれ垂直な方向に屈曲された構造となるように連結されている。底面部11の厚さ及び側面部12の厚さはそれぞれ、例えば、0.8mmである。   The shape of the bottom surface portion 11 is a square shape, and the corners are rounded. The side surface portion 12 is connected so as to be bent in a direction perpendicular to the bottom surface portion 11. Further, the side surface portions 12 are also connected so as to be bent in a perpendicular direction. The thickness of the bottom face part 11 and the thickness of the side face part 12 are each 0.8 mm, for example.

ベース部13の上面は、底面部11の内表面と平行となる。すなわち、ベース部13の形状は、底面部11の内表面から垂直に立設された直方体の形状をしている。   The upper surface of the base portion 13 is parallel to the inner surface of the bottom surface portion 11. That is, the shape of the base portion 13 is a rectangular parallelepiped shape that stands vertically from the inner surface of the bottom surface portion 11.

ベース部13の上面の外形は、後述する半導体チップ20の一方面の外形に対応した外形を有する。具体的には、ベース部13の上面の外形の形状は、後述する半導体チップ20の一方面の外形の形状と同じ形状であり、ベース部13の上面の外形の大きさは、半導体チップ20の一方面22の外形の大きさよりもやや大きくなっている。このため、半導体チップ20の外形とベース部13の外形との間にわずかな隙間が形成されている。   The outer shape of the upper surface of the base portion 13 has an outer shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip 20 described later. Specifically, the outer shape of the upper surface of the base portion 13 is the same as the outer shape of one surface of the semiconductor chip 20 described later, and the size of the outer shape of the upper surface of the base portion 13 is the same as that of the semiconductor chip 20. On the other hand, it is slightly larger than the size of the outer shape of the surface 22. For this reason, a slight gap is formed between the outer shape of the semiconductor chip 20 and the outer shape of the base portion 13.

ベース部13は、底面部11の中央に形成されている。ベース部13の外形の一辺の長さは、一方の側面部12の内側面から反対側の側面部12の内側面までの長さの3/5程度である。ベース部13の厚さは、例えば、0.8mmである。   The base portion 13 is formed at the center of the bottom surface portion 11. The length of one side of the outer shape of the base portion 13 is about 3/5 of the length from the inner surface of one side surface portion 12 to the inner surface of the opposite side surface portion 12. The thickness of the base part 13 is 0.8 mm, for example.

半導体チップ20は、一方面22がベース部13の上面とはんだを介して接合された状態でベース部13の上面に配設されている。半導体チップ20の一方面22及び他方面24には、それぞれ電極が形成されている。一方面22に形成された電極(図示せず。)とベース部13とは、はんだを介して電気的に接続されている。半導体チップ20の一方面22の外形及び他方面24の外形は、それぞれ正方形である。   The semiconductor chip 20 is disposed on the upper surface of the base portion 13 with one surface 22 joined to the upper surface of the base portion 13 via solder. Electrodes are respectively formed on one surface 22 and the other surface 24 of the semiconductor chip 20. An electrode (not shown) formed on the one surface 22 and the base portion 13 are electrically connected via solder. The outer shape of one surface 22 and the outer surface of the other surface 24 of the semiconductor chip 20 are each square.

接続子30は、一方の端部が半導体チップ20の他方面24とはんだを介して接合され、他方の端部がケース10の外部に導出された状態で、半導体チップ20の他方面24上に配設されている。   The connector 30 has one end joined to the other surface 24 of the semiconductor chip 20 via solder, and the other end is led out of the case 10 on the other surface 24 of the semiconductor chip 20. It is arranged.

接続子30は、一方の端部側に位置し半導体チップ20の他方面24とはんだを介して接合された半導体チップ接合部31と、他方の端部側に位置し外部回路と接続するための第2外部端子部32と、半導体チップ接合部31及び第2外部端子部32の間に挟まれた連結部33とを有する。   The connector 30 is located on one end side and is connected to the other surface 24 of the semiconductor chip 20 via solder, and the connector 30 is located on the other end side and is connected to an external circuit. It has the 2nd external terminal part 32 and the connection part 33 pinched | interposed between the semiconductor chip junction part 31 and the 2nd external terminal part 32. FIG.

半導体チップ接合部31は、平板形状を有し、半導体チップ接合部31の外形は、半導体チップ20の他方面24の外形と対応した外形を有する。具体的には、半導体チップ接合部31の外形の形状は、半導体チップ20の他方面の外形の形状(正方形)と同じ形状で、半導体チップ接合部31の外形の大きさは、半導体チップ20の他方面の外形の大きさよりもやや小さい。このため、半導体チップの外形と半導体チップ接合部31の外形との間にわずかな隙間が形成されている。   The semiconductor chip bonding portion 31 has a flat plate shape, and the outer shape of the semiconductor chip bonding portion 31 has an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface 24 of the semiconductor chip 20. Specifically, the outer shape of the semiconductor chip bonding portion 31 is the same as the outer shape (square) of the other surface of the semiconductor chip 20, and the outer size of the semiconductor chip bonding portion 31 is the same as that of the semiconductor chip 20. Slightly smaller than the size of the other side. For this reason, a slight gap is formed between the outer shape of the semiconductor chip and the outer shape of the semiconductor chip bonding portion 31.

半導体チップ20の他方面24に形成された電極(図示せず。)と半導体チップ接合部31とは、はんだを介して電気的に接続されている。   An electrode (not shown) formed on the other surface 24 of the semiconductor chip 20 and the semiconductor chip joint 31 are electrically connected via solder.

第2外部端子部32は、平板形状を有し、第2外部端子部32の外形は、長方形である。第2外部端子部32は、ケース10の側面部12とは離間した位置にあり、第1外部端子部14における外部回路との接続面15と第2外部端子部32における外部回路との接続面34とが同一平面上にある。   The second external terminal portion 32 has a flat plate shape, and the external shape of the second external terminal portion 32 is a rectangle. The second external terminal portion 32 is located away from the side surface portion 12 of the case 10, and the connection surface 15 of the first external terminal portion 14 to the external circuit and the connection surface of the second external terminal portion 32 to the external circuit. 34 is on the same plane.

連結部33は、半導体チップ接合部31と第2外部端子部32とを連結する板状部材である。接続子30において、半導体チップ接合部31と連結部33とは、半導体チップ接合部31の端部で半導体チップ20との接合面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されている。また、接続子30において、第2外部端子部32と連結部33とは、第2外部端子部32の端部でケース10の内側に屈曲された構造となるように連結されている。それ以外にも、連結部33は、半導体チップ接合部31から第2外部端子部32までの中途でほぼ垂直に屈曲された構造となっている。   The connecting portion 33 is a plate-like member that connects the semiconductor chip joining portion 31 and the second external terminal portion 32. In the connector 30, the semiconductor chip bonding portion 31 and the connecting portion 33 are connected so as to be bent at the end of the semiconductor chip bonding portion 31 on the side opposite to the bonding surface with the semiconductor chip 20. . Further, in the connector 30, the second external terminal portion 32 and the connecting portion 33 are connected so as to have a structure bent to the inside of the case 10 at the end portion of the second external terminal portion 32. In addition, the connecting portion 33 has a structure that is bent substantially vertically in the middle from the semiconductor chip joint portion 31 to the second external terminal portion 32.

樹脂40は、ポリイミド又はポリエーテルアミドからなり、半導体チップ20を外部からの衝撃から保護する。樹脂40は、表面がケース10の端部と接触し、かつ、表面が底面部11側に凹形状となるように、ケース10内部に充填されている。   The resin 40 is made of polyimide or polyether amide, and protects the semiconductor chip 20 from external impact. The resin 40 is filled in the case 10 so that the surface is in contact with the end portion of the case 10 and the surface is concave toward the bottom surface portion 11 side.

2.実施形態1に係る半導体装置の製造方法
次に、実施形態1に係る半導体装置の製造方法を説明する。
図2は、実施形態1に係る半導体装置の製造方法を説明するために示すフローチャートである。
図3は、実施形態1に係る半導体装置の製造方法を説明するために示す図である。図3(a)〜図3(f)は各工程図である。なお、図3においては、図1と異なり、底面部11が下になるように図示している。
2. Semiconductor Device Manufacturing Method According to Embodiment 1 Next, a semiconductor device manufacturing method according to Embodiment 1 will be described.
FIG. 2 is a flowchart for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment.
FIG. 3 is a view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment. FIG. 3A to FIG. 3F are process diagrams. In FIG. 3, unlike FIG. 1, the bottom surface portion 11 is illustrated below.

実施形態1に係る半導体装置の製造方法は、図2に示すように、「ケース準備工程S1」と、「半導体チップ配設工程(第1配設工程)S2」と、「接続子配設工程(第2配設工程)S3」と、「リフロー工程S4」と、「樹脂充填工程S5」とをこの順序で含む。   As shown in FIG. 2, the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment includes a “case preparation step S1”, a “semiconductor chip placement step (first placement step) S2”, and a “connector placement step”. (Second Arrangement Step) S3 ”,“ Reflow Step S4 ”, and“ Resin Filling Step S5 ”are included in this order.

(1)ケース準備工程S1
まず、図3(a)に示すように、開口部18を有する枡状のケース10を準備する。ケース10は、底面部11、側面部12及び底面部11の内表面の中央に形成され半導体チップ20の一方面22の外形に対応した上面の外形を有する凸形状のベース部13を有し、かつ、底面部11、側面部12及びベース部13が同一の金属部材から一体的に形成されている。ベース部13の上面は、平面状であり、底面部11の内表面と平行となる。なお、ケース10の側面部12のうちの一部が、外部回路と接続するための第1外部端子部14を構成する。
(1) Case preparation process S1
First, as shown in FIG. 3A, a bowl-shaped case 10 having an opening 18 is prepared. The case 10 includes a bottom surface portion 11, a side surface portion 12, and a convex base portion 13 that is formed at the center of the inner surface of the bottom surface portion 11 and has an upper surface outer shape corresponding to the outer shape of the one surface 22 of the semiconductor chip 20. And the bottom face part 11, the side part 12, and the base part 13 are integrally formed from the same metal member. The upper surface of the base portion 13 is planar and is parallel to the inner surface of the bottom surface portion 11. A part of the side surface portion 12 of the case 10 constitutes a first external terminal portion 14 for connection to an external circuit.

(2)半導体チップ配設工程(第1配設工程)S2
次に、ベース部13の上面にはんだを配設する。具体的には、まず、ベース部13の上面にフラックス(図示せず。)を塗布してベース部13表面の金属酸化物を除去する。このとき、ベース部13が凸形状をしており、かつ、ベース部13の上面が平面状であり底面部11の内表面と平行となることから、フラックスがベース部13の上面以外の領域に流れ出ることを防ぐことができる。
(2) Semiconductor chip placement step (first placement step) S2
Next, solder is disposed on the upper surface of the base portion 13. Specifically, first, flux (not shown) is applied to the upper surface of the base portion 13 to remove the metal oxide on the surface of the base portion 13. At this time, since the base portion 13 has a convex shape, and the upper surface of the base portion 13 is planar and parallel to the inner surface of the bottom surface portion 11, the flux is in a region other than the upper surface of the base portion 13. It can be prevented from flowing out.

次に、フラックスが塗布されたベース部13の上面に、図3(b)に示すように、ペースト状のはんだH1を搭載する。はんだH1は、厚さは0.05mm〜0.1mm程度である。次に、はんだH1上に再びフラックス(図示せず。)を塗布する。次に、位置決め治具(カーボン治具)Cを設置する。なお、位置決め治具(カーボン治具)Cを設置するタイミングは、半導体チップ20を配設する前であれば適宜のタイミングで実施することができる。   Next, as shown in FIG. 3B, paste-like solder H1 is mounted on the upper surface of the base portion 13 to which the flux has been applied. The solder H1 has a thickness of about 0.05 mm to 0.1 mm. Next, a flux (not shown) is applied again on the solder H1. Next, a positioning jig (carbon jig) C is installed. In addition, if the timing which installs the positioning jig (carbon jig | tool) C is before arrange | positioning the semiconductor chip 20, it can implement at an appropriate timing.

次に、図3(c)に示すように、ケース10におけるベース部13と、半導体チップ20の一方面22とを対向させるようにケース10及び半導体チップ20を位置決めして半導体チップ20を配設する。具体的には、半導体チップ20がベース部13の上面からはみ出さないようにベース部13の外形に合わせて位置決めしながら、位置決め治具(カーボン治具)Cを用いてベース部13の上面に半導体チップ20を配設する。   Next, as shown in FIG. 3C, the case 10 and the semiconductor chip 20 are positioned so that the base portion 13 of the case 10 and the one surface 22 of the semiconductor chip 20 face each other, and the semiconductor chip 20 is disposed. To do. Specifically, the semiconductor chip 20 is positioned on the upper surface of the base portion 13 using a positioning jig (carbon jig) C while positioning according to the outer shape of the base portion 13 so as not to protrude from the upper surface of the base portion 13. A semiconductor chip 20 is disposed.

(3)接続子配設工程(第2配設工程)S3
次に、半導体チップ20の他方面24上にはんだを配設する。具体的には、まず、半導体チップ20の他方面24上にフラックス(図示せず。)を塗布して他方面24の金属酸化物を除去する。次に、フラックスが塗布されたベース部13の上面に、図3(d)に示すように、ペースト状のはんだH2を搭載する。はんだH2は、厚さは0.05mm〜0.1mm程度である。次に、はんだH2上に再びフラックス(図示せず。)を塗布する。
(3) Connector placement step (second placement step) S3
Next, solder is disposed on the other surface 24 of the semiconductor chip 20. Specifically, first, flux (not shown) is applied on the other surface 24 of the semiconductor chip 20 to remove the metal oxide on the other surface 24. Next, as shown in FIG. 3D, paste-like solder H2 is mounted on the upper surface of the base portion 13 to which the flux has been applied. The solder H2 has a thickness of about 0.05 mm to 0.1 mm. Next, a flux (not shown) is applied again on the solder H2.

次に、図3(e)に示すように、半導体チップ20の他方面24と半導体チップ20の他方面24の外形に対応した外形を有する半導体チップ接合部31とを対向させるように、半導体チップ20及び接続子30を位置決めして接続子30を配設する。具体的には、接続子30の一方の端部に形成された半導体チップ接合部31が半導体チップ20の他方面24の上面からはみ出さないように、半導体チップ20の他方面24の外形に合わせて位置決めしながら、位置決め治具(カーボン治具)Cを用いて半導体チップ20の他方面24上に半導体チップ20を配設する。   Next, as shown in FIG. 3E, the semiconductor chip 20 is arranged so that the other surface 24 of the semiconductor chip 20 and the semiconductor chip bonding portion 31 having an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface 24 of the semiconductor chip 20 face each other. The connector 30 is disposed by positioning the connector 20 and the connector 30. Specifically, the semiconductor chip bonding portion 31 formed at one end of the connector 30 is adjusted to the outer shape of the other surface 24 of the semiconductor chip 20 so that it does not protrude from the upper surface of the other surface 24 of the semiconductor chip 20. The semiconductor chip 20 is disposed on the other surface 24 of the semiconductor chip 20 using a positioning jig (carbon jig) C.

このとき、他方の端部がケース10の外部に導出された状態で一方の端部が半導体チップ20の他方面とはんだH2を介して対向するように接続子30を配設する。また、ケース10の側面部12のうちの一部が構成する第1外部端子部14における外部回路との接続面15と、接続子30の第2外部端子部32における外部回路との接続面34とが同一平面上となるようにケース10、半導体チップ20及び接続子30を配設する。   At this time, the connector 30 is disposed so that the other end faces the other surface of the semiconductor chip 20 via the solder H2 in a state where the other end is led out of the case 10. Further, the connection surface 15 with the external circuit in the first external terminal portion 14 formed by a part of the side surface portion 12 of the case 10 and the connection surface 34 with the external circuit in the second external terminal portion 32 of the connector 30. The case 10, the semiconductor chip 20, and the connector 30 are arranged so that they are on the same plane.

このようにして、ケース10、半導体チップ20及び接続子30からなる構成体を形成する。   In this way, a structure including the case 10, the semiconductor chip 20, and the connector 30 is formed.

(4)リフロー工程S4
次に、第2配設工程S3で形成された構成体を位置決め治具(カーボン治具)Cから取出し、リフロー炉の中に入れてはんだを溶融させる。このことにより、半導体チップ20の一方面22に形成された電極とベース部13とを電気的に接続するようにベース部13の上面にはんだを介して半導体チップ20を接合する工程(第1接合工程)と、半導体チップ20の他方面24に形成された電極と半導体チップ接合部31とを電気的に接続するように半導体チップ20の他方面にはんだを介して接続子30を接合する工程(第2接合工程)とを同時に実施する。
(4) Reflow process S4
Next, the structure formed in the second disposing step S3 is taken out from the positioning jig (carbon jig) C and placed in a reflow furnace to melt the solder. As a result, the step of bonding the semiconductor chip 20 to the upper surface of the base portion 13 via the solder so as to electrically connect the electrode formed on the one surface 22 of the semiconductor chip 20 and the base portion 13 (first bonding) Step) and a step of bonding the connector 30 to the other surface of the semiconductor chip 20 via solder so as to electrically connect the electrode formed on the other surface 24 of the semiconductor chip 20 and the semiconductor chip bonding portion 31 (step). The second joining step) is performed at the same time.

リフロー工程S4において、リフロー炉内の炉内温度は、例えば350℃である。リフロー炉内に加熱した不活性ガス(Nガス)を導入してもよい。不活性ガスとしては、Nガス、Arガスなどを用いることができる。 In the reflow step S4, the furnace temperature in the reflow furnace is, for example, 350 ° C. A heated inert gas (N 2 gas) may be introduced into the reflow furnace. As the inert gas, N 2 gas, Ar gas, or the like can be used.

(5)樹脂充填工程S5
次に、図3(f)に示すように、リフロー炉から取り出した構成体に対して、樹脂40の表面がケース10の端部と接触し、かつ、樹脂40の表面がケース10の底面部11側に凹形状となるようにケース10内部に樹脂を充填する。
(5) Resin filling step S5
Next, as shown in FIG. 3 (f), the surface of the resin 40 is in contact with the end of the case 10 with respect to the structure taken out from the reflow furnace, and the surface of the resin 40 is the bottom surface of the case 10. The inside of the case 10 is filled with a resin so as to have a concave shape on the 11 side.

このようにして、半導体装置1を製造することができる。   In this way, the semiconductor device 1 can be manufactured.

3.実施形態1に係る半導体装置及び半導体装置の製造方法の効果 3. Effects of Semiconductor Device and Semiconductor Device Manufacturing Method According to Embodiment 1

実施形態1に係る半導体装置1によれば、底面部11、側面部12及びベース部13は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部13が位置ずれするおそれもない。従って、ケース10に対する半導体チップ20の位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置となる。   According to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. There is no need to join via solder, and there is no possibility that the base portion 13 will be displaced by being dragged by the flowing solder. Therefore, it is possible to accurately position the semiconductor chip 20 with respect to the case 10, and as a result, the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、底面部11、側面部12及びベース部13は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部13を位置決めする工程や底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する工程等が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で製造可能な半導体装置となる。   Further, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. And the step of positioning the base portion 13, the step of joining the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via the solder, and the like become unnecessary. For this reason, the semiconductor device can be manufactured with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、底面部11、側面部12及びベース部13は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、従来の半導体装置と比較して、ケース10の内部抵抗を低くすることが可能となり、内部抵抗による損失を少なくすることができる。   Further, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member, and therefore, compared with a conventional semiconductor device. Thus, the internal resistance of the case 10 can be lowered, and loss due to the internal resistance can be reduced.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、表面がケース10の端部と接触するようにケース10内部に充填されている樹脂40を備えるため、半導体チップ20及び半導体チップ接合部31が十分に保護された半導体装置となり、外部からの衝撃に強い半導体装置となる。   Further, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the semiconductor chip 20 and the semiconductor chip bonding portion 31 are provided with the resin 40 filled in the case 10 so that the surface contacts the end of the case 10. The semiconductor device is sufficiently protected, and the semiconductor device is resistant to external impact.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、ケース10の底面部11側に凹形状となるようにケース10内部に充填されている樹脂40を備えることから、樹脂40を充填する際に、ケース10から樹脂があふれ出して側面部12に構成された第1外部端子部14に到達することや、樹脂が連結部33を這い上がって第2外部端子部32にまで達することを防ぐことが可能となる。このため、半導体装置を外部回路に実装する際、第1外部端子部14や第2外部端子部32に樹脂が付着していることに起因して外部回路との接続が不良となることを防ぐことが可能となる。   In addition, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the resin 40 is filled in the case 10 so as to have a concave shape on the bottom surface portion 11 side of the case 10. The resin overflows from the case 10 and reaches the first external terminal portion 14 formed on the side surface portion 12, and prevents the resin from scooping up the connecting portion 33 and reaching the second external terminal portion 32. Is possible. For this reason, when the semiconductor device is mounted on the external circuit, the connection with the external circuit is prevented from being poor due to the resin adhering to the first external terminal portion 14 or the second external terminal portion 32. It becomes possible.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、ベース部13の上面の外形が、半導体チップ20の一方面の外形に対応した外形を有することから、ベース部13と半導体チップ20との接触面積を大きくすることが可能となる。その結果、半導体チップ20から発生する熱をケース10に効率的に放熱することが可能となる。   In addition, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, since the outer shape of the upper surface of the base portion 13 has an outer shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip 20, the contact between the base portion 13 and the semiconductor chip 20. The area can be increased. As a result, the heat generated from the semiconductor chip 20 can be efficiently radiated to the case 10.

さらにまた、実施形態1に係る半導体装置1によれば、接続子30の半導体チップ接合部31の外形が、半導体チップ20の他方面24の外形と対応した外形を有することから、半導体チップ20と接続子30との接触面積を大きくすることが可能となる。その結果、半導体チップ20から発生する熱を接続子30に効率的に放熱することが可能となる。   Furthermore, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, the outer shape of the semiconductor chip joint portion 31 of the connector 30 has an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface 24 of the semiconductor chip 20. The contact area with the connector 30 can be increased. As a result, the heat generated from the semiconductor chip 20 can be efficiently radiated to the connector 30.

また、実施形態1に係る半導体装置1によれば、ベース部13の上面は、底面部11の内表面と平行となることから、ベース部13の上面と半導体チップ20とをはんだを介して接合するためにベース部13の上面に配設したはんだを溶融する際、溶融したはんだがベース部13の上面に留まりやすくなる。このため、ケース10に対する半導体チップ20の位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置となる。   Further, according to the semiconductor device 1 according to the first embodiment, since the upper surface of the base portion 13 is parallel to the inner surface of the bottom surface portion 11, the upper surface of the base portion 13 and the semiconductor chip 20 are joined via solder. Therefore, when the solder disposed on the upper surface of the base portion 13 is melted, the melted solder tends to stay on the upper surface of the base portion 13. For this reason, it is possible to accurately position the semiconductor chip 20 with respect to the case 10, and as a result, the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability.

実施形態1に係る半導体装置の製造方法によれば、第1配設工程S2において、底面部11、側面部12及びベース部13が同一の金属部材から一体的に形成されたものであるケース10を用いるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部13を位置決めする工程や底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する工程が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で半導体装置を製造することが可能となる。   According to the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment, in the first arrangement step S2, the case 10 in which the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. Therefore, there is no need to join the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder, and there is no need for a step of positioning the base portion 13 or a step of joining the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder. Become. For this reason, it is possible to manufacture a semiconductor device with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、実施形態1に係る半導体装置の製造方法によれば、第1配設工程S2において、底面部11、側面部12及びベース部13が同一の金属部材から一体的に形成されたものであるケース10を用いるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部13を位置決めする工程や底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する工程が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で半導体装置を製造することが可能となる。   Moreover, according to the manufacturing method of the semiconductor device according to the first embodiment, in the first arrangement step S2, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. Since the case 10 is used, there is no need to join the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder, and there are a step of positioning the base portion 13 and a step of joining the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder. It becomes unnecessary. For this reason, it is possible to manufacture a semiconductor device with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、実施形態1に係る半導体装置の製造方法によれば、第1接合工程と第2接合工程とを同時に実施するため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で半導体装置を製造することが可能となる。   In addition, according to the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment, since the first bonding step and the second bonding step are performed simultaneously, the time, labor, and equipment are not required, and the semiconductor device is highly productive. Can be manufactured.

[実施形態2]
図4は、実施形態2に係る半導体装置の製造方法を説明するために示すフローチャートである。
図5は、実施形態2に係る半導体装置の製造方法を説明するために示す図である。図5(a)〜図5(f)は各工程図である。
[Embodiment 2]
FIG. 4 is a flowchart for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment.
FIG. 5 is a view for explaining the method for manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment. FIG. 5A to FIG. 5F are process diagrams.

実施形態2に係る半導体装置の製造方法は、基本的には実施形態1に係る半導体装置の製造方法と同様の工程を含むが、第1配設工程と第2配設工程との順序が逆である点が実施形態1に係る半導体装置の製造方法の場合とは異なる。すなわち、実施形態2に係る半導体装置の製造方法は、図4に示すように、「接続子設置工程S11」と、「半導体チップ配設工程(第2配設工程)S12」と、「ケース配設工程(第1配設工程)S13」と、「リフロー工程S14」と、「樹脂充填工程S15」とをこの順序で含む。   The manufacturing method of the semiconductor device according to the second embodiment basically includes the same steps as the manufacturing method of the semiconductor device according to the first embodiment, but the order of the first arrangement step and the second arrangement step is reversed. This is different from the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment. That is, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment, as shown in FIG. 4, “connector installation step S11”, “semiconductor chip arrangement step (second arrangement step) S12”, “case arrangement” The installation step (first arrangement step) S13 ", the" reflow step S14 ", and the" resin filling step S15 "are included in this order.

(a)接続子設置工程S11
まず、図5(a)に示すように、接続子30を他方端側(第2外部端子部32側)が下になり、半導体チップ接合部31の半導体チップ20との接合面が上になるように位置決め治具(カーボン治具)Cに設置する。このとき、半導体チップ接合部31が位置決め治具の台座部分B上に水平になるように設置する。
半導体チップ接合部31は、接続子30の一方の端部側に位置し半導体チップ20の他方面24の外形に対応した外形を有する。また、接続子30においては、半導体チップ接合部31と連結部33とが、半導体チップ接合部31の端部における半導体チップ20と接合するための面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されている。
(A) Connector installation process S11
First, as shown in FIG. 5A, the other end side (second external terminal portion 32 side) of the connector 30 is on the lower side, and the bonding surface of the semiconductor chip bonding portion 31 with the semiconductor chip 20 is on the upper side. It installs in the positioning jig (carbon jig) C as follows. At this time, the semiconductor chip bonding portion 31 is installed so as to be horizontal on the pedestal portion B of the positioning jig.
The semiconductor chip bonding portion 31 is located on one end side of the connector 30 and has an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface 24 of the semiconductor chip 20. In the connector 30, the semiconductor chip bonding portion 31 and the connecting portion 33 are bent to the opposite side of the surface for bonding to the semiconductor chip 20 at the end of the semiconductor chip bonding portion 31. It is connected to.

(b)半導体チップ配設工程(第2配設工程)S12
次に、半導体チップ接合部31の半導体チップ20との接合面にフラックス(図示せず。)を塗布した後、図5(b)に示すように、ペースト状のはんだH1を搭載する。はんだH1は、厚さは0.05mm〜0.1mm程度である。次に、はんだH1上に再びフラックス(図示せず。)を塗布する。
(B) Semiconductor chip placement step (second placement step) S12
Next, a flux (not shown) is applied to the bonding surface of the semiconductor chip bonding portion 31 with the semiconductor chip 20, and then paste solder H1 is mounted as shown in FIG. 5B. The solder H1 has a thickness of about 0.05 mm to 0.1 mm. Next, a flux (not shown) is applied again on the solder H1.

次に、図5(c)に示すように、半導体チップ接合部31と、半導体チップ20の他方面24とを対向させるように半導体チップ20及び接続子30を位置決めして、半導体チップ20を半導体チップ接合部31上に配設する。   Next, as shown in FIG. 5C, the semiconductor chip 20 and the connector 30 are positioned so that the semiconductor chip bonding portion 31 and the other surface 24 of the semiconductor chip 20 face each other, and the semiconductor chip 20 is made into a semiconductor. It is disposed on the chip joint 31.

(c)ケース配設工程(第1配設工程)S13
次に、半導体チップ20の一方面22にフラックス(図示せず。)を塗布した後、図5(d)に示すように、ペースト状のはんだH2を搭載する。はんだH2は、厚さは0.05mm〜0.1mm程度である。次に、はんだH2上に再びフラックス(図示せず。)を塗布する。
(C) Case disposing step (first disposing step) S13
Next, a flux (not shown) is applied to one surface 22 of the semiconductor chip 20, and then a paste-like solder H2 is mounted as shown in FIG. 5 (d). The solder H2 has a thickness of about 0.05 mm to 0.1 mm. Next, a flux (not shown) is applied again on the solder H2.

次に、図5(e)に示すように、ケース10におけるベース部13と半導体チップ20の一方面22とを対向させるようにケース10及び半導体チップ20を位置決めして、ケース10をかぶせるように配設する。このとき、接続子30の他方の端部がケース10の外部に導出された状態となる。また、ケース10の側面部12のうちの一部が構成する第1外部端子部14における外部回路との接続面15と、接続子30の他方の端部側に位置し第2外部端子部32における外部回路との接続面34とが同一平面上となるようにケース10、半導体チップ20及び接続子30を配設する。   Next, as shown in FIG. 5E, the case 10 and the semiconductor chip 20 are positioned so that the base portion 13 of the case 10 and the one surface 22 of the semiconductor chip 20 face each other, and the case 10 is covered. Arrange. At this time, the other end of the connector 30 is led out of the case 10. Further, the connection surface 15 of the first external terminal portion 14 formed by a part of the side surface portion 12 of the case 10 with the external circuit and the second external terminal portion 32 located on the other end side of the connector 30. The case 10, the semiconductor chip 20, and the connector 30 are arranged so that the connection surface 34 with the external circuit in FIG.

このようにして、ケース10、半導体チップ20及び接続子30からなる構成体を形成する。   In this way, a structure including the case 10, the semiconductor chip 20, and the connector 30 is formed.

次に、リフロー工程S14と樹脂充填工程S15(図5(f)参照。)とを実施する。リフロー工程S14は、実施形態1におけるリフロー工程S4と、樹脂充填工程S15は実施形態1における樹脂充填工程S5と同様の工程であるため、説明を省略する。   Next, a reflow process S14 and a resin filling process S15 (see FIG. 5F) are performed. Since the reflow step S14 is the same as the reflow step S4 in the first embodiment and the resin filling step S15 is the same as the resin filling step S5 in the first embodiment, description thereof is omitted.

このように、実施形態2に係る半導体装置の製造方法は、第1配設工程と第2配設工程との順序が逆である点が実施形態1に係る半導体装置の製造方法の場合とは異なるが、実施形態1に係る半導体装置の製造方法の場合と同様に、ケース配設工程(第1配設工程)S13において、底面部11、側面部12及びベース部13が同一の金属部材から一体的に形成されたケース10を用いるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部13が位置ずれするおそれもない。従って、ケース10に対する半導体チップ20の位置を正確に位置決めすることが可能となり、信頼性が高い半導体装置を製造することが可能となる。   Thus, the semiconductor device manufacturing method according to the second embodiment is different from the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment in that the order of the first arrangement step and the second arrangement step is reversed. Although different, as in the case of the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment, in the case disposing step (first disposing step) S13, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are made of the same metal member. Since the integrally formed case 10 is used, it is not necessary to join the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder, and there is no possibility that the base portion 13 is displaced by being dragged by the flowing solder. Therefore, the position of the semiconductor chip 20 with respect to the case 10 can be accurately positioned, and a highly reliable semiconductor device can be manufactured.

また、実施形態2に係る半導体装置の製造方法によれば、ケース配設工程(第1配設工程)S13において、底面部11、側面部12及びベース部13が同一の金属部材から一体的に形成されたケース10を用いるため、底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する必要がなく、ベース部13を位置決めする工程や底面部11とベース部13とをはんだを介して接合する工程が不要となる。このため、時間と手間と設備とがかかることがなく、高い生産性で半導体装置を製造することが可能となる。   Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment, in the case disposing step (first disposing step) S13, the bottom surface portion 11, the side surface portion 12, and the base portion 13 are integrally formed from the same metal member. Since the formed case 10 is used, there is no need to join the bottom surface portion 11 and the base portion 13 via solder, and the step of positioning the base portion 13 and the bottom surface portion 11 and the base portion 13 are joined via solder. The process to do becomes unnecessary. For this reason, it is possible to manufacture a semiconductor device with high productivity without taking time, labor and equipment.

また、実施形態2に係る半導体装置の製造方法によれば、ケース10をかぶせるように配設することから、底面部11がはんだの上になるように配設することとなり、リフロー工程S14において溶融したはんだが底面部11の内表面に流れ出ることを防ぐことが可能となる。このため、流れ出るはんだに引きずられてベース部13が位置ずれすることを防ぐことが可能となる   Further, according to the method for manufacturing a semiconductor device according to the second embodiment, since the case 10 is disposed so as to be covered, the bottom surface portion 11 is disposed on the solder, and is melted in the reflow step S14. It is possible to prevent the solder that has flowed out from flowing to the inner surface of the bottom surface portion 11. For this reason, it becomes possible to prevent the base part 13 from being displaced by being dragged by the flowing solder.

なお、実施形態2に係る半導体装置の製造方法は、第1配設工程と第2配設工程との順序が逆である点以外の点においては実施形態1に係る半導体装置の製造方法と同様の構成を有するため、実施形態1に係る半導体装置の製造方法が有する効果のうち該当する効果を有する。   The semiconductor device manufacturing method according to the second embodiment is the same as the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment except that the order of the first arrangement step and the second arrangement step is reversed. Therefore, the semiconductor device manufacturing method according to the first embodiment has a corresponding effect.

[実施形態3]
図6は、実施形態3に係る半導体装置3を説明するために示す図である。図6(a)は半導体装置3の側断面図であり、図6(b)は図6中の矢印Aから見た半導体装置3の平面図である。なお、図6(a)においてはんだの図示は省略している。また、図6(b)において樹脂40の図示は省略している。
[Embodiment 3]
FIG. 6 is a diagram for explaining the semiconductor device 3 according to the third embodiment. 6A is a side sectional view of the semiconductor device 3, and FIG. 6B is a plan view of the semiconductor device 3 as viewed from the arrow A in FIG. In addition, illustration of solder is abbreviate | omitted in Fig.6 (a). Moreover, illustration of the resin 40 is abbreviate | omitted in FIG.6 (b).

実施形態3に係る半導体装置3は、基本的には実施形態1に係る半導体装置1と同様の構成を有するが、ケースの底面部に凹部が設けられている点が実施形態1に係る半導体装置1の場合とは異なる。すなわち、実施形態3に係る半導体装置3においては、図6に示すように、底面部11aの外表面の中央に凹部16aが設けられている。   The semiconductor device 3 according to the third embodiment basically has the same configuration as the semiconductor device 1 according to the first embodiment, but the semiconductor device according to the first embodiment is that a recess is provided in the bottom surface portion of the case. This is different from the case of 1. That is, in the semiconductor device 3 according to the third embodiment, as shown in FIG. 6, the recess 16a is provided at the center of the outer surface of the bottom surface portion 11a.

凹部16aにおいては、凹部16aの底が平面となっており、凹部16aの底表面がベース部13aの上面と平行である。凹部16aの底表面の外形は、ベース部13aの上面と対応した外形を有している。具体的には、凹部16aの底表面の外形形状は、ベース部13aの上面の外形形状と同じ形状であり、凹部16aの外形の大きさは、ベース部13aの上面の外形の大きさよりもやや小さくなっている。凹部16aの底表面とベース部13aの上面との間の厚さは例えば、0.8mmである。   In the recess 16a, the bottom of the recess 16a is a flat surface, and the bottom surface of the recess 16a is parallel to the upper surface of the base portion 13a. The outer shape of the bottom surface of the recess 16a has an outer shape corresponding to the upper surface of the base portion 13a. Specifically, the outer shape of the bottom surface of the recess 16a is the same as the outer shape of the upper surface of the base portion 13a, and the outer shape of the recess 16a is slightly larger than the outer shape of the upper surface of the base portion 13a. It is getting smaller. The thickness between the bottom surface of the recess 16a and the top surface of the base portion 13a is, for example, 0.8 mm.

このように、実施形態3に係る半導体装置3は、ケースの底面部に凹部が設けられている点が実施形態1に係る半導体装置1の場合とは異なるが、実施形態1に係る半導体装置1の場合と同様に、底面部11a、側面部12a及びベース部13aは、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部11aとベース部13aとをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部13aが位置ずれするおそれもない。従って、ケース10aに対する半導体チップ20の位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置となる。   As described above, the semiconductor device 3 according to the third embodiment is different from the semiconductor device 1 according to the first embodiment in that the recess is provided in the bottom surface portion of the case, but the semiconductor device 1 according to the first embodiment. As in the case of FIG. 5, since the bottom surface portion 11a, the side surface portion 12a, and the base portion 13a are integrally formed from the same metal member, the bottom surface portion 11a and the base portion 13a are joined via solder. There is no need, and there is no possibility that the base portion 13a is displaced by being dragged by the flowing solder. Therefore, it is possible to accurately position the semiconductor chip 20 with respect to the case 10a. As a result, the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability.

また、実施形態3に係る半導体装置3によれば、底面部11aの外表面の中央に凹部16aが設けられていることから、ケース10aの外表面の面積が増加し、半導体チップ20から発生する熱をケース10aから外部へ効率的に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 3 according to the third embodiment, since the concave portion 16a is provided in the center of the outer surface of the bottom surface portion 11a, the area of the outer surface of the case 10a is increased and generated from the semiconductor chip 20. Heat can be efficiently radiated from the case 10a to the outside.

また、実施形態3に係る半導体装置3によれば、底面部11aの外表面の中央に凹部16aが設けていることから、熱を発生する半導体チップ20とケース10aの外までの距離が短くなり、このことからも半導体チップ20から発生する熱をケース10aから外部へ効率的に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 3 according to the third embodiment, since the recess 16a is provided at the center of the outer surface of the bottom surface portion 11a, the distance between the semiconductor chip 20 that generates heat and the outside of the case 10a is shortened. This also makes it possible to efficiently dissipate the heat generated from the semiconductor chip 20 from the case 10a to the outside.

また、実施形態3に係る半導体装置3によれば、凹部16aの底表面がベース部13aの上面と平行であることから、ベース部13aの上面に配設された半導体チップ20の一方面から凹部16aの底表面までの距離に差が生じにくく、局所的に熱が集中することを防ぐことができるため、半導体チップ20から発生する熱をより一層効率的に外部に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 3 according to the third embodiment, since the bottom surface of the recess 16a is parallel to the upper surface of the base portion 13a, the recess is formed from one surface of the semiconductor chip 20 disposed on the upper surface of the base portion 13a. Since it is difficult for the distance to the bottom surface of 16a to produce a difference and heat can be prevented from concentrating locally, the heat generated from the semiconductor chip 20 can be radiated to the outside more efficiently. .

なお、実施形態3に係る半導体装置3は、ケースの底面部に凹部が設けられている点以外の点においては実施形態1に係る半導体装置1と同様の構成を有するため、実施形態1に係る半導体装置1が有する効果のうち該当する効果を有する。   The semiconductor device 3 according to the third embodiment has the same configuration as that of the semiconductor device 1 according to the first embodiment except that a recess is provided in the bottom surface portion of the case. The semiconductor device 1 has a corresponding effect among the effects of the semiconductor device 1.

[実施形態4]
図7は、実施形態4に係る半導体装置4を説明するために示す図である。図7(a)は半導体装置4の側断面図であり、図7(b)は図7中の矢印Aから見た半導体装置4の平面図である。なお、図7(a)においてはんだの図示は省略している。また、図7(b)において樹脂40の図示は省略している。
[Embodiment 4]
FIG. 7 is a diagram for explaining the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment. FIG. 7A is a side sectional view of the semiconductor device 4, and FIG. 7B is a plan view of the semiconductor device 4 as viewed from the arrow A in FIG. In addition, illustration of solder is abbreviate | omitted in Fig.7 (a). Also, the resin 40 is not shown in FIG.

実施形態4に係る半導体装置4は、基本的には実施形態1に係る半導体装置1と同様の構成を有するが、ベース部の構成が実施形態1に係る半導体装置1の場合とは異なる。すなわち、実施形態4に係る半導体装置4において、ベース部13bは、図7に示すように、ベース部13bの上面が平面形状となっており、かつ、第1外部端子部14側におけるベース部13bの端部の厚さが第1外部端子部14側とは反対側におけるベース部13bの端部の厚さよりも薄い構成(つまり、ベース部13bの上面がケース10bの底面部11の内表面に対して斜めになっている構成)になっている。   The semiconductor device 4 according to the fourth embodiment basically has the same configuration as the semiconductor device 1 according to the first embodiment, but the configuration of the base portion is different from that of the semiconductor device 1 according to the first embodiment. That is, in the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment, as shown in FIG. 7, in the base portion 13b, the upper surface of the base portion 13b has a planar shape, and the base portion 13b on the first external terminal portion 14 side. The thickness of the end portion of the base portion 13b is thinner than the end portion of the base portion 13b on the side opposite to the first external terminal portion 14 side (that is, the upper surface of the base portion 13b is on the inner surface of the bottom surface portion 11 of the case 10b). The configuration is slanted.

接続子30bは、基本的には実施形態1における接続子30と同様の構成を有するが、接続子30bにおいては、半導体チップ接合部31bと連結部33bとが、底面部11bの内表面に対するベース部13bの上面の傾きに対応した角度で半導体チップ接合部31bの端部でケース10bの開口部側に屈曲された構造となるように連結されている。   The connector 30b basically has the same configuration as that of the connector 30 in the first embodiment, but in the connector 30b, the semiconductor chip bonding portion 31b and the connecting portion 33b are a base for the inner surface of the bottom surface portion 11b. The ends of the semiconductor chip bonding portion 31b are connected to be bent toward the opening of the case 10b at an angle corresponding to the inclination of the upper surface of the portion 13b.

このように、実施形態4に係る半導体装置4は、ベース部の構成が実施形態1に係る半導体装置1の場合とは異なるが、実施形態1に係る半導体装置1の場合と同様に、底面部11b、側面部12b及びベース部13bは、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部11bとベース部13bとをはんだを介して接合する必要がなく、溶融したはんだに引きずられてベース部13bが位置ずれするおそれもない。従って、ケース10bに対する半導体チップ20bの位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、信頼性が高い半導体装置となる。   As described above, the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment differs from the semiconductor device 1 according to the first embodiment in the configuration of the base portion, but the bottom surface portion as in the case of the semiconductor device 1 according to the first embodiment. 11b, the side surface portion 12b, and the base portion 13b are integrally formed from the same metal member, so there is no need to join the bottom surface portion 11b and the base portion 13b via solder, and the molten solder There is no possibility that the base portion 13b is displaced due to the drag. Accordingly, it is possible to accurately position the semiconductor chip 20b with respect to the case 10b, and as a result, a highly reliable semiconductor device is obtained.

また、実施形態4に係る半導体装置4によれば、ベース部13bは、ベース部13bの上面が平面形状となっており、かつ、第1外部端子部14b側のベース部13bの端部の厚さが第1外部端子部14b側とは反対側のベース部13bの端部の厚さよりも薄い構成になっていることから、ケース10bの重心の位置が、ベース部の厚さが一定の場合と比較してケース10bの開口部側の位置となる。このため、ケース10bの重量バランスが底面部11b側に傾くことを防止することが可能となり、接続子30bの第2外部端子部32bが外部回路から離れることを防ぐことが可能となる。その結果、半導体装置と外部回路とが接触不良となることを防ぐことが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment, the base portion 13b has a flat top surface of the base portion 13b and the thickness of the end portion of the base portion 13b on the first external terminal portion 14b side. Is less than the thickness of the end portion of the base portion 13b opposite to the first external terminal portion 14b side, so that the position of the center of gravity of the case 10b is constant when the thickness of the base portion is constant. Compared to the position of the opening of the case 10b. For this reason, it is possible to prevent the weight balance of the case 10b from being inclined toward the bottom surface portion 11b, and it is possible to prevent the second external terminal portion 32b of the connector 30b from being separated from the external circuit. As a result, it is possible to prevent contact failure between the semiconductor device and the external circuit.

なお、実施形態4に係る半導体装置4は、ケースの構成以外の点においては実施形態1に係る半導体装置1と同様の構成を有するため、実施形態1に係る半導体装置1が有する効果のうち該当する効果を有する。   The semiconductor device 4 according to the fourth embodiment has the same configuration as that of the semiconductor device 1 according to the first embodiment except for the configuration of the case. Has the effect of

[実施形態5]
図8は、実施形態5に係る半導体装置5を説明するために示す図である。図8(a)は半導体装置5の側断面図であり、図8(b)は図8中の矢印Aから見た半導体装置5の平面図である。なお、図8(a)においてはんだの図示は省略している。また、図8(b)において樹脂40の図示は省略している。
[Embodiment 5]
FIG. 8 is a diagram for explaining the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment. FIG. 8A is a side sectional view of the semiconductor device 5, and FIG. 8B is a plan view of the semiconductor device 5 as viewed from the arrow A in FIG. In addition, illustration of solder is abbreviate | omitted in Fig.8 (a). Also, the resin 40 is not shown in FIG.

実施形態5に係る半導体装置5は、基本的には実施形態4に係る半導体装置4と同様の構成を有するが、ケースの底面部に凹部が設けられている点が実施形態4に係る半導体装置4の場合とは異なる。すなわち、実施形態5に係る半導体装置5においては、図8に示すように、底面部11cの外表面の中央に凹部16cが設けられている。   The semiconductor device 5 according to the fifth embodiment basically has the same configuration as that of the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment, but the semiconductor device according to the fourth embodiment is that a recess is provided in the bottom surface portion of the case. This is different from the case of 4. That is, in the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment, as shown in FIG. 8, the recess 16c is provided at the center of the outer surface of the bottom surface portion 11c.

凹部16cにおいては、凹部16cの底が平面となっており、凹部16cの底表面がベース部13cの上面と平行である。凹部16cの底表面の外形は、ベース部13cの上面と対応した外形を有しており、凹部16cの底表面のサイズは、ベース部13cの上面よりも一回り小さいサイズで形成されている。凹部16cの底表面とベース部13cの上面との間の厚さは例えば、0.8mmである。   In the recess 16c, the bottom of the recess 16c is a flat surface, and the bottom surface of the recess 16c is parallel to the upper surface of the base portion 13c. The outer shape of the bottom surface of the recess 16c has an outer shape corresponding to the upper surface of the base portion 13c, and the size of the bottom surface of the recess 16c is slightly smaller than the upper surface of the base portion 13c. The thickness between the bottom surface of the recess 16c and the top surface of the base portion 13c is, for example, 0.8 mm.

このように、実施形態5に係る半導体装置5は、ケースの底面部に凹部が設けられている点が実施形態4に係る半導体装置4の場合とは異なるが、実施形態4に係る半導体装置4の場合と同様に、底面部11c、側面部12c及びベース部13cは、同一の金属部材から一体的に形成されたものであるため、底面部11cとベース部13cとをはんだを介して接合する必要がなく、流れ出るはんだに引きずられてベース部13cが位置ずれするおそれもない。従って、ケース10cに対する半導体チップ20の位置を正確に位置決めすることが可能となり、その結果、寸法精度が高く信頼性が高い半導体装置となる。   As described above, the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment differs from the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment in that a recess is provided in the bottom surface portion of the case, but the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment. Similarly to the case, the bottom surface portion 11c, the side surface portion 12c, and the base portion 13c are integrally formed from the same metal member, and therefore, the bottom surface portion 11c and the base portion 13c are joined via solder. There is no need, and there is no possibility that the base portion 13c is displaced by being dragged by the flowing solder. Accordingly, it is possible to accurately position the semiconductor chip 20 with respect to the case 10c, and as a result, the semiconductor device has high dimensional accuracy and high reliability.

また、実施形態5に係る半導体装置5によれば、底面部11cの外表面の中央に凹部16cが設けられていることから、ケース10cの外表面の面積が増加し、半導体チップ20から発生する熱をケース10cから外部へ効率的に放熱することが可能となる。   In addition, according to the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment, since the recess 16c is provided at the center of the outer surface of the bottom surface portion 11c, the area of the outer surface of the case 10c increases and is generated from the semiconductor chip 20. Heat can be efficiently radiated from the case 10c to the outside.

また、実施形態5に係る半導体装置5によれば、底面部11cの外表面の中央に凹部16cが設けていることから、熱を発生する半導体チップ20とケース10cの外までの距離が短くなり、このことからも半導体チップ20から発生する熱をケース10aから外部へ効率的に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment, since the recess 16c is provided at the center of the outer surface of the bottom surface portion 11c, the distance between the semiconductor chip 20 that generates heat and the outside of the case 10c is shortened. This also makes it possible to efficiently dissipate the heat generated from the semiconductor chip 20 from the case 10a to the outside.

また、実施形態5に係る半導体装置5によれば、凹部16cの底表面は、ベース部13cの上面と平行であることから、ベース部13cの上面に配設された半導体チップ20の一方面22から凹部16cの底表面までの距離に差が生じにくく、局所的に熱が集中することを防ぐことができるため、半導体チップ20から発生する熱を効率的に外部に放熱することが可能となる。   Further, according to the semiconductor device 5 according to the fifth embodiment, since the bottom surface of the recess 16c is parallel to the top surface of the base portion 13c, the one surface 22 of the semiconductor chip 20 disposed on the top surface of the base portion 13c. It is difficult to make a difference in the distance from the bottom surface of the recess 16c to the bottom surface of the recess 16c, and heat can be prevented from concentrating locally. Therefore, heat generated from the semiconductor chip 20 can be efficiently radiated to the outside. .

なお、実施形態5に係る半導体装置5は、ケースの底面部に凹部が設けられている点以外の点においては実施形態4に係る半導体装置4と同様の構成を有するため、実施形態4に係る半導体装置4が有する効果のうち該当する効果を有する。   The semiconductor device 5 according to the fifth embodiment has the same configuration as that of the semiconductor device 4 according to the fourth embodiment except that the recess is provided in the bottom surface portion of the case. The semiconductor device 4 has a corresponding effect among the effects of the semiconductor device 4.

以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。   As mentioned above, although this invention was demonstrated based on said embodiment, this invention is not limited to said embodiment. The present invention can be implemented in various modes without departing from the spirit thereof, and for example, the following modifications are possible.

(1)上記各実施形態においては、ケースが打ち出し加工によって形成されてなる場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ケースが絞り加工によって形成されてなる場合であっても本発明を適用可能である。 (1) In each of the embodiments described above, the present invention has been described by taking the case where the case is formed by punching as an example, but the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied even when the case is formed by drawing.

(2)上記各実施形態においては、第1接合工程と第2接合工程とを同時に実施する場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。第1接合工程と前記第2接合工程とを別々に実施する場合であっても本発明を適用可能である。 (2) In each of the above embodiments, the present invention has been described by way of an example in which the first bonding step and the second bonding step are performed simultaneously, but the present invention is not limited to this. The present invention is applicable even when the first joining step and the second joining step are performed separately.

(3)上記各実施形態においては、接続子の表面が底面部側に凹形状となるように樹脂がケース内部に充填されている場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、接続子の表面がケースの端部と面一となった状態で樹脂がケース内部に充填されている場合であっても本発明を適用可能である。 (3) In each of the above embodiments, the present invention has been described by taking as an example the case where resin is filled in the case so that the surface of the connector has a concave shape on the bottom surface side. It is not limited. For example, the present invention is applicable even when the case is filled with resin with the surface of the connector being flush with the end of the case.

(4)上記各実施形態においては、底面部の形状が正方形形状である場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。底面部の形状が、正方形形状以外の四角形形状、四角形以外の多角形形状その他の形状をしている場合であっても本発明を適用可能である。 (4) In each of the above embodiments, the present invention has been described by taking the case where the shape of the bottom surface portion is a square shape as an example, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied even when the shape of the bottom surface portion is a quadrilateral shape other than the square shape, a polygonal shape other than the square shape, or other shapes.

(5)上記各実施形態においては、底面部の形状が、角に丸みを帯びている場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。底面部の形状が、角に丸みを帯びていない場合であっても本発明を適用可能である。 (5) In each of the above embodiments, the present invention has been described by taking as an example the case where the shape of the bottom surface portion is rounded at the corners, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied even when the shape of the bottom surface portion is not rounded at the corners.

(6)上記各実施形態においては、リフロー工程において不活性ガスを導入した場合を例にとって本発明を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。リフロー工程において不活性ガスを導入しない場合であっても本発明を適用可能である。 (6) In each of the above-described embodiments, the present invention has been described taking the case where an inert gas is introduced in the reflow process as an example, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied even when an inert gas is not introduced in the reflow process.

1,2,3,4,900…半導体装置、10,10a,10b,10c,910…ケース、11,11a,11b,11c,911…底面部、12,12a,12b,12c,912…側面部、13,13a,13b,13c,913…ベース部、14,14a,14b,14c,914…第1外部端子部、15,15a,15b,15c,915…(第1外部端子部の)接続面、16,16c,916…凹部、18…開口部、20,920…半導体チップ、22,922…(半導体チップの)一方面、24,924…(半導体チップの)他方面、30,30b,30c,930…接続子、31,31b,31c,931…半導体チップ接合部、32,32b,32c,932…第2外部端子部、33,33b,33c,933…連結部、34,34b,34c,934…(第2外部端子部の)接続面、40,940…樹脂   1, 2, 3, 4, 900... Semiconductor device 10, 10a, 10b, 10c, 910... Case, 11, 11a, 11b, 11c, 911... Bottom portion, 12, 12a, 12b, 12c, 912. , 13, 13a, 13b, 13c, 913... Base portion, 14, 14a, 14b, 14c, 914... First external terminal portion, 15, 15a, 15b, 15c, 915... (On the first external terminal portion) connection surface 16, 16 c, 916... Recess, 18 .. opening, 20, 920... Semiconductor chip, 22 922... (On the semiconductor chip) one side, 24 924. , 930... Connector, 31, 31 b, 31 c, 931... Semiconductor chip junction, 32, 32 b, 32 c, 932... Second external terminal part, 33, 33 b, 33 c, 933. , 34b, 34c, 934 ... (second external terminal portions) connecting surface, 40,940 ... resin

Claims (5)

開口部を有する枡状のケースであって、底面部、前記底面部の外縁に立設された側面部及び前記底面部の内表面の中央に形成された凸形状のベース部を有する導電性のケースと、
一方面が前記ベース部の上面とはんだを介して接合された状態で前記ベース部の上面に配設された半導体チップと、
一方の端部が前記半導体チップの他方面とはんだを介して接合され他方の端部が前記ケースの外部に導出された状態で、前記半導体チップの他方面上に配設されている接続子と、
表面が、前記ケースの端部と接触し、かつ、前記ケースの端部と面一となる又は前記底面部側に凹形状となるように前記ケース内部に充填されている樹脂とを備え、
前記ケースの側面部のうちの一部が、外部回路と接続するための第1外部端子部を構成し、
前記接続子は、一方の端部側に位置し前記半導体チップの他方面とはんだを介して接合された半導体チップ接合部と、他方の端部側に位置し外部回路と接続するための第2外部端子部と、前記半導体チップ接合部及び前記第2外部端子部の間に挟まれた連結部とを有し、
前記半導体チップ接合部と前記連結部とは、前記半導体チップ接合部の端部で前記半導体チップとの接合面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されており、
前記半導体チップの前記一方面及び他方面には、それぞれ電極が形成され、前記半導体チップの一方面に形成された電極と前記ベース部とがはんだを介して電気的に接続されているとともに、前記半導体チップの他方面に形成された電極と前記半導体チップ接合部とがはんだを介して電気的に接続されており、
前記第1外部端子部における外部回路との接続面と前記第2外部端子部における外部回路との接続面とが同一平面上にあり、
前記ベース部の上面の外形が、前記半導体チップの一方面の外形に対応した外形を有し、
前記半導体チップ接合部の外形が、前記半導体チップの他方面の外形と対応した外形を有する半導体装置であって、
前記ベース部の上面は平面形状となっており、
前記第1外部端子部側における前記ベース部の端部の厚さは、前記第1外部端子部側とは反対側における前記ベース部の端部の厚さよりも薄くなっており、
前記底面部、前記側面部及び前記ベース部は、同一の金属部材から一体的に形成されたものであることを特徴とする半導体装置。
An eaves-like case having an opening, having a bottom surface, a side surface erected on the outer edge of the bottom surface, and a convex base formed at the center of the inner surface of the bottom surface Case and
A semiconductor chip disposed on the upper surface of the base portion in a state where one surface is bonded to the upper surface of the base portion via solder;
A connector disposed on the other surface of the semiconductor chip, with one end joined to the other surface of the semiconductor chip via solder and the other end led out of the case; ,
The surface is in contact with the end of the case, and the resin filled in the case so as to be flush with the end of the case or concave on the bottom surface side, and
A part of the side surface portion of the case constitutes a first external terminal portion for connection to an external circuit,
The connector is located on one end side and is joined to the other surface of the semiconductor chip via solder, and the second end is located on the other end side and is connected to an external circuit. An external terminal part, and a connecting part sandwiched between the semiconductor chip joint part and the second external terminal part,
The semiconductor chip bonding portion and the connecting portion are connected so as to be bent at the end of the semiconductor chip bonding portion on the side opposite to the bonding surface with the semiconductor chip,
Electrodes are respectively formed on the one surface and the other surface of the semiconductor chip, and the electrode formed on the one surface of the semiconductor chip and the base portion are electrically connected via solder, and The electrode formed on the other surface of the semiconductor chip and the semiconductor chip joint are electrically connected via solder,
The connection surface with the external circuit in the first external terminal portion and the connection surface with the external circuit in the second external terminal portion are on the same plane,
The outer shape of the upper surface of the base portion has an outer shape corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip,
A semiconductor device having an outer shape corresponding to an outer shape of the other surface of the semiconductor chip,
The upper surface of the base portion has a planar shape,
The thickness of the end portion of the base portion on the first external terminal portion side is thinner than the thickness of the end portion of the base portion on the side opposite to the first external terminal portion side,
The bottom surface portion, the side surface portion, and the base portion are integrally formed from the same metal member.
請求項1に記載の半導体装置において、
前記底面部の外表面の中央に凹部が設けられ、
前記凹部の底表面は、前記ベース部の上面と平行であることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A recess is provided in the center of the outer surface of the bottom surface,
The semiconductor device according to claim 1, wherein a bottom surface of the recess is parallel to an upper surface of the base portion.
請求項1又は2に記載の半導体装置において、
前記ベース部の上面は、前記底面部の内表面と平行であることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The semiconductor device according to claim 1, wherein an upper surface of the base portion is parallel to an inner surface of the bottom surface portion.
請求項1〜のいずれかに記載の半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、
底面部、側面部及び前記底面部の内表面の中央に形成され半導体チップの一方面の外形に対応した上面の外形を有する凸形状のベース部を有し、かつ、前記底面部、前記側面部及び前記ベース部が同一の金属部材から一体的に形成されたケースにおける前記ベース部と、前記半導体チップの一方面とを対向させるように前記ケース及び前記半導体チップを位置決めして配設する第1配設工程と、
接続子の一方の端部側に位置し前記半導体チップの他方面の外形に対応した外形を有する半導体チップ接合部と、前記半導体チップの他方面とを対向させるように前記半導体チップ及び接続子を位置決めして配設する第2配設工程と、
樹脂の表面が前記ケースの端部と接触し、かつ、樹脂の表面が前記ケースの端部と面一となる又は前記底面部側に凹形状となるように前記ケース内部に樹脂を充填する樹脂充填工程とを、前記第1配設工程、前記第2配設工程及び前記樹脂充填工程の順序、又は、前記第2配設工程、前記第1配設工程及び前記樹脂充填工程の順序で含み、
前記第2配設工程においては、前記接続子の他方の端部が前記ケースの外部に導出された状態となるように前記接続子を配設し、
前記接続子は、前記半導体チップ接合部と前記連結部とが、前記半導体チップ接合部の端部における前記半導体チップと接合するための面とは反対側に屈曲された構造となるように連結されており、
前記第1配設工程又は前記第2配設工程においては、前記ケースの前記側面部のうちの一部が構成する第1外部端子部における外部回路との接続面と、前記接続子の他方の端部側に位置し第2外部端子部における外部回路との接続面とが同一平面上となるように前記ケース、前記半導体チップ及び前記接続子を配設し、
前記第1配設工程において、前記ベース部の上面は平面形状となっており、前記第1外部端子部側における前記ベース部の端部の厚さは、前記第1外部端子部側とは反対側における前記ベース部の端部の厚さよりも薄くなっており、
前記樹脂充填工程の前段に、
前記ベース部と前記半導体チップの一方面に形成された電極とを電気的に接続するように、前記ベース部と前記半導体チップの一方面とをはんだを介して接合する第1接合工程と、
前記半導体チップの他方面に形成された電極と前記半導体チップ接合部とを電気的に接続するように、前記半導体チップの他方面と前記接続子とをはんだを介して接合する第2接合工程とをさらに含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
A method of manufacturing a semiconductor device for manufacturing a semiconductor device according to any one of claims 1 to 3
A bottom surface portion, a side surface portion, and a convex base portion formed at the center of the inner surface of the bottom surface portion and having a top surface corresponding to the outer shape of one surface of the semiconductor chip; and the bottom surface portion and the side surface portion And the case and the semiconductor chip are positioned and arranged so that the base part in the case in which the base part is integrally formed from the same metal member and one surface of the semiconductor chip face each other. An arrangement process;
The semiconductor chip and the connector are arranged so that a semiconductor chip bonding portion located on one end side of the connector and having an outer shape corresponding to the outer shape of the other surface of the semiconductor chip faces the other surface of the semiconductor chip. A second disposing step of positioning and disposing;
Resin that fills the inside of the case such that the surface of the resin is in contact with the end of the case and the surface of the resin is flush with the end of the case or is concave on the bottom side A filling step in the order of the first placement step, the second placement step, and the resin filling step, or the order of the second placement step, the first placement step, and the resin filling step. ,
In the second arrangement step, the connector is arranged so that the other end of the connector is led out of the case,
The connector is connected so that the semiconductor chip bonding portion and the connecting portion are bent to the side opposite to the surface for bonding to the semiconductor chip at the end of the semiconductor chip bonding portion. And
In the first disposing step or the second disposing step, a connection surface with an external circuit in the first external terminal portion formed by a part of the side surface portion of the case, and the other of the connectors The case, the semiconductor chip and the connector are arranged so that the connection surface with the external circuit in the second external terminal portion located on the end side is on the same plane,
In the first arrangement step, the upper surface of the base portion has a planar shape, and the thickness of the end portion of the base portion on the first external terminal portion side is opposite to that on the first external terminal portion side. It is thinner than the thickness of the end of the base part on the side,
Before the resin filling step,
A first joining step for joining the base portion and one surface of the semiconductor chip via solder so as to electrically connect the base portion and an electrode formed on one surface of the semiconductor chip;
A second bonding step of bonding the other surface of the semiconductor chip and the connector via solder so as to electrically connect the electrode formed on the other surface of the semiconductor chip and the semiconductor chip bonding portion; A method for manufacturing a semiconductor device, further comprising:
請求項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1接合工程と前記第2接合工程とを同時に実施することを特徴とする半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the semiconductor device according to claim 4 ,
A method of manufacturing a semiconductor device, wherein the first bonding step and the second bonding step are performed simultaneously.
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