JP6047673B2 - パラボラアンテナ - Google Patents

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Description

本発明はパラボラアンテナの焦点に配置されることが意図されるハイパー周波数ソース(源)に関する。
テレメトリー(遠隔測定法)において用いられるアンテナは、一般的には、パラボラ反射器と、パラボラ反射器の焦点に配置されるソース(源)とを含む。ソースは(例えば、衛星又は飛行車両のような)ターゲット(標的)に信号を送信し或いはターゲットによって送信される信号を受信するのに適する。反射器の機能は、ソースによって送信される信号をターゲットに向かって方向付けること、又はターゲットによって送信される信号をソースに集めることである。
信号が送信される或いは受信される周波数バンド(周波数帯)は、ターゲットの種類に依存する。各ソースは、一般的には、ターゲットの種類に対応する所与の周波数バンドにおいて送信するように構成される。
結果的に、異なる種類のターゲットとデータを交換し得るためには、アンテナのソースを分解して、新しいターゲットを所定の場所に据え付けることが必要である。これらの分解及び組立て作業は時間がかかり、ソースのアライメント及び反射器のアライメントにおいて誤りを引き起こすことがあり、それはアンテナの放射パターンを変更する。
第1の周波数バンドにおいて送信し得る第1のソースと、第2の周波数バンドにおいて送信し得る第2のソースと、主反射器と、二色表面を備える補助反射器とを含む、バイバンドアンテナ(bi-band antenna)もある。第1のソースは、主反射器の焦点に配置されるのに対し、第2のソースは、補助反射器の焦点に配置される。補助反射器は、第1の周波数バンドにおいて放射線を通し且つ第2の周波数バンドにおいて放射線を反射するように構成される二色表面を含む。第1の周波数バンドにおいてターゲットによって送信される信号は、補助反射器を通過することによって、主反射器によって第1のソースに向かって反射される。第2の周波数バンドにおいてターゲットによって送信される信号は、主反射器及び補助反射器によって連続的に第2のソースに向かって反射される。
しかしながら、そのようなバイバンドアンテナは高価である。なぜならば、とりわけ、それは二色表面を備える反射器の使用を必要とするからである。
文献US2011/029903は、3つの周波数バンドにおいて同時に受信し或いは送信するように構成されるマルチバンドソースも開示している。より正確には、ソースは、周波数バンドL(1GHz〜2GHz)、S(2GHz〜4GHz)及びC(4GHz〜8GHz)において送信し得る。ソースは、中央円筒導波管と、中央円筒導波管について延び且つ3つのそれぞれの同軸導波管を形成する3つの同軸導電性シリンダとを含む。中央導波管を取り囲む3つの導波管の各々は、2つの連続的なシリンダによって境界付けられる。
中央円筒導波管は、Cバンド内で合計チャネル放射(又はシグマチャネル)を生成するように構成される。中央導波管を取り囲む第1の円筒導波管は、Cバンド内でチャネル放射差(デルタ)を生成し或いはSバンド内で合計チャネル放射を選択的に生成するように構成される。第1の導波管を取り囲む第2の円筒導波管は、Sバンド内のチャネル放射差又はLバンド内の合計チャネル放射を選択的に生成するように構成される。最終的に、第2の導波管を取り囲む第3の円筒導波管は、Lバンド内のチャネル放射差を生成するように構成される。
導波管は複数の入力ポートを介して同軸転位(coaxial transition)によって供給される。それらの導波管のサイジング(sizing)は複雑であるので、そのような導波管を励起するのは特に困難である。反射損失を最小限化するために、文献US2011/0291903は、ソースが導波管の内側に配置される径方向隆起部を含むことをもたらし、各隆起部は入力ポートに並びにシリンダに連結される。
また、2つの周波数バンドにおいて放射を生成するために同じ導波管が用いられるので、この種類のソースは異なる周波数バンドを分離(decouple)しない。
本発明の目的は、設計が容易なパラボラアンテナのためのソースを提案することである。
この目的は、パラボラアンテナのためのソースであって、
− ソースの主送信/受信軸に位置付けられるシグマ放射要素と、シグマ放射要素がシグマチャネル放射を生成するよう、シグマ放射要素に供給するためのシグマ供給回路とを含む、シグマ放射アセンブリと、
− ソースの主送信/受信軸について配置される8つのデルタ放射要素と、デルタ放射要素がデルタチャネル放射を生成するよう、デルタ放射要素に供給するためのデルタ供給回路とを含む、デルタ放射アセンブリと、を含む、
ソースによって、本発明の範囲内で達成される。
そのようなソースにおいて、デルタチャネル放射は、シグマチャネルの放射とは無関係に生成される。
また、8つのデルタ放射要素の使用は、シグマチャネルとデルタチャネルとの間の分離(decoupling)を向上させる。
ソースは、以下の特徴を更に有し得る。
− シグマ放射要素は、ソースの主送信/受信軸に対して垂直な平面内に延びる。
− シグマ放射要素は、放射パッチと、結合スロットを有する接地平面とを含み、結合スロットは、ソースの主送信/受信軸についての90度の回転によって不変な設計に従って配置される。
− デルタ放射要素は、ソースの主送信/受信軸の上に中心化される円の上に配置される。
− デルタ放射要素は、2つの連続的なデルタ要素の間に45度の角度間隔で配置される。
− 各デルタ放射要素は、供給地点を介してデルタ供給回路に接続される放射パッチを含み、全てのパッチ及びそれらの供給地点は、ソースの主送信/受信軸についての45度の回転によって不変な設計に従って配置される。
− デルタ放射要素は、ソースの主送信/受信軸に対して垂直な同じ平面内に延びる。
− デルタ放射要素は、ソースの主送信/受信軸に対して径方向に偏波される(polarized)。
− 各デルタ放射要素は、四分の一波長放射パッチを含む。
− 各デルタ放射要素は、半波長放射パッチと、寄生パッチとを含む。
− デルタ放射要素は、それぞれ、ソースの主送信/受信軸と平行な平面内に延びる。
− デルタ放射要素は、ソースの主送信/受信軸に対して接線方向に偏波される。
− 各デルタ放射要素は、半波長ダイポールを含む。
− デルタ放射要素は、2つのグループの4つのデルタ放射要素を含み、各グループは、TE21モードにおいてデルタ供給回路によって供給され、1つのグループのデルタ放射要素は、他のグループのデルタ放射要素に対する90度の位相シフトで供給される。
− ソースは、各々が異なる周波数バンドにおいて動作する3つのシグマ放射アセンブリと、各々が周波数バンドのうちの1つにおいて動作する3つのデルタ放射アセンブリとを含み、3つのシグマ放射アセンブリのシグマ放射要素は、層をなして配置され、ソースの主送信/受信軸の上に中心化され、シグマ放射要素は、より低い周波数バンドにおいて動作するシグマ放射要素より上で、電磁波の伝搬の方向において積み重なねられる、より高い周波数バンドにおいて動作する。
より低い周波数バンドにおいて動作するシグマ放射要素は、より高い周波数バンドにおいて動作するシグマ放射要素の接地平面と組み合わせられる。
本発明は、焦点を有するパラボラ反射器、パラボラ反射器の焦点に配置される、前に定義したようなソースとを含む、アンテナにも関する。
他の目的、特徴及び利点は、例示として非限定的に与えられる添付の図面を参照して、以下の詳細な記述から明らかになるであろう。
本発明の実施態様に従ったソースを示す図である。 第1のシグマ放射アセンブリ及び第1のデルタ放射アセンブリを強調したソースを示す図である。 第2のシグマ放射アセンブリ及び第2のデルタ放射アセンブリを強調したソースを示す図である。 第3のシグマ放射アセンブリ及び第3のデルタ放射アセンブリを強調したソースを示す図である。 ソースを示す正面図である。 シグマ放射要素を示す概略図である。 第1のデルタ放射アセンブリのデルタ放射要素のパッチを示す概略図である。 第1のデルタ放射アセンブリの偏波図である。 第2のデルタ放射アセンブリのデルタ放射要素のパッチを示す概略図である。 第3のデルタ放射アセンブリのデルタ放射要素のパッチを示す概略図である。 第2又は第3のデルタ放射アセンブリの偏波図である。 ソースの主送信/受信軸を含む平面における断面図である。
図1乃至5を参照すると、パラボラアンテナのためのソースS(源)は、機械ベース3と、3つの周波数バンドC、S及びLのためのシグマパターンをそれぞれもたらす3つのシグマ放射アセンブリ1C、1S及び1Lと、3つの周波数バンドC、S及びLのためのデルタパターンをそれぞれもたらす3つのデルタ放射アセンブリ2C、2S及び2Lとを含む。放射アセンブリは、機械ベースに取り付けられる。
放射アセンブリ、以下を含む。
− 第1の周波数Lバンドのためのシグマ放射パターンを生成するのに適した第1のシグマ放射アセンブリ1L、
− 第1の周波数Lバンドのためのデルタ放射パターンを生成するのに適した第1のデルタ放射アセンブリ2L、
− 第2の周波数Sバンドのためのシグマ放射パターンを生成するのに適した第2のシグマ放射アセンブリ1S、
− 第2の周波数Sバンドのためのデルタ放射パターンを生成するのに適した第2のデルタ放射アセンブリ2S、
− 第3の周波数Cバンドのためのシグマ放射パターンを生成するのに適した第3のシグマ放射アセンブリ1C、及び
− 第3の周波数Cバンドのためのデルタ放射パターンを生成するのに適した第3のデルタ放射アセンブリ2C。
デルタ放射パターンは、アンテナの軸に対するターゲットの偏差(deviation)の単調信号関数を供給するのに対し、シグマ放射パターンは、その軸における最大信号をもたらす。これらのパターンは、しるしを伴う偏差測定値をもたらし、測定を正規化する。偏差測定関数は、シグマパターン上でデルタパターンの振幅及び位相の比率を形成することによって得られる。この偏差測定関数の勾配は、シグマパターンの中央部分においてほぼ一定である。既知であるように、全ての周波数バンドL、S及びCのためにその2つのシグマチャネル及びデルタチャネル上でアンテナによって同時に受信される2つの信号から、ターゲットの位置とアンテナの軸との間の角偏差を抽出することが可能である。
ソースSは、主送信/受信軸Aを有する。3つのシグマ放射アセンブリ1C、1S及び1Lの各々は、ソースSの主送信/受信軸Aに対して垂直な平面内に延びる。
3つのシグマ放射アセンブリ1C、1S及び1Lの各々は、ソースSの主送信/受信軸A上に位置付けられるシグマ放射要素11と、シグマチャネル放射を生成するようシグマ放射要素11に供給するシグマ供給回路12とを含む。
3つのシグマ放射アセンブリ1C、1S及び1Lは、図6に概ね示すシグマ放射アセンブリ1に適合する。
図6を参照すると、各シグマ放射要素11は、円形放射パッチ(又は舗装材料(paving))111と、結合スロット113を有する接地平面112とを含む。シグマ放射要素111は、3つの金属被覆層と、2つの基板とを含む。シグマ放射要素11及びシグマ供給回路12は、接地平面112によって分離され、接地平面では、結合電磁スロット113がエッチング処理されて、シグマ放射要素11への供給を保証する。
各シグマ放射要素11は、結合スロット113を用いて結合地点125のレベルでシグマ供給回路12と結合される。結合スロット113及び結合地点125は、ソースSの主送信/受信軸Aについての90度の回転によって不変な設計に従って配置される。この構成の対称性は、干渉偏波を最小限化する。
4つの結合スロット113は、十字形に配置される。換言すると、結合スロット113は、ソースの主送信/受信軸の上に中心化される2つの垂直軸に従って二つ一組で配置される。各シグマ供給回路12は、2つの誘電体層内の円形放射パッチ111の両側で、2つの層においてそれぞれ位置付けられる、2つの供給ポート127a及び127bを含む。これらの2つの供給ポート127a及び127bは同相にある。供給ポート127a及び127bの各々は、円形放射パッチ111の両側に位置付けられ、且つ4つの結合地点125a1、125a2、125b1及び125b2で放射パッチに結合される、2つの供給分枝128a1及び128a2並びに128b1及び128b2をそれぞれ供給する。供給ポート127a及び127bは、直線偏波モードをそれぞれ生成し、2つの供給分枝の直線偏波モードは、二つ一組で矩象(phase quadrature)において直交し、左右両方の方向において円偏波を生成するのを可能にする。
シグマチャネルの放射要素11の全ては2つの直交軸で対称性を有し、直線偏波及び直交偏波を有する供給ポート127a及び127bの間の並びにデルタチャンネル及びシグマチャネルの間の良好な分離(decoupling)を可能にする。
デルタ放射センブリ2S,2C,2Lの各々は、8つのデルタ放射要素、それぞれ21S,21C,21Lと、デルタ供給回路、それぞれ22S,22C,22Lとを含む。同じアセンブリのデルタ放射要素21S、21C又は21Lは、ソースSの主送信/受信軸Aの上に中心化される円の上に配置される。また、デルタ放射要素21S,21C,21Lは、2つの連続的なデルタ要素21S,21C,21Lの間に45度の角度間隔で配置される。
各デルタ放射要素21S,21C,21Lは、供給地点225S,225C,225Lを介して関連するデルタ供給回路22S,22C,22Lに接続される放射パッチ(舗装材料)211S,211C,211Lを含む。同じデルタ放射アセンブリ2S,2C,2Lの全てのパッチ211S,211C,211L及びそれらの供給地点225S,225C,225Lは、ソースSの主送信/受信軸Aについての45度の回転によって不変な設計に従って配置される。
第1のデルタ放射アセンブリ2Lのデルタ放射要素21Lは、ソースSの主送信/受信軸Aと平行であり且つソースSの主送信/受信軸Aのために有する回転柱(cylinder of revolution)に対して接線方向の平面内に延びる。
第1のデルタ放射アセンブリ2Lの8つのデルタ放射要素の各々は、長方形の形態の誘電体基板211Lを含むパッチ211Lと、典型的には銅で作製される金属導体層211Lとを含む。
図7を参照すると、金属導体2113Lは、ソースの軸の方向に延びる第1の区画21131Lと、ソースの軸に対して垂直な方向に延び且つデルタ放射要素21Lの平面内に含められる第2の区画21132Lとを有する。第2の部分は、波長Lの第1のバンドの平均波長λの半分と実質的に等しい長さを有する。第1のデルタ放射アセンブリ21Lのデルタ供給回路22Lは、8つのパッチ211Lの各々のために、パッチの中心に位置付けられる供給地点225Lのレベルでパッチ211Lを供給する供給線228Lを含む。電流がパッチの中心で最大であるよう、各供給線228Lに供給される電流は反対位相にある。第1のデルタ放射アセンブリ2Lのデルタ放射要素21Lの8つのパッチ211Lの各々は、ダイポールのように、半波長において共振する。図8を参照すると、第1のデルタ放射アセンブリ2Lのデルタ容赦要素21Lは、デルタ放射要素21Lを配置する円に対して接線方向に偏波される。
第2のデルタ放射アセンブリ2Cのデルタ放射要素21Cは、ソースSの主送信/受信軸Aに対して垂直な同じ平面内に延びる。
第2のデルタ放射アセンブリ2Sのデルタ放射要素21Sも、ソースSの主送信/受信軸Aに対して垂直な同じ平面内に延びる。
図9を参照すると、第3のデルタ放射センブリ2Cの8つのデルタ放射要素21Cは、それぞれ、接地平面211C、接地平面211Cと接触する第1の誘電体基板212Cと、第1の誘電体基板212C上に形成され且つ接地平面213Cに短絡して接続される銅製の台形四分の一波長パッチ211Cとを含む。四分の一波長の台形パッチ211Cは、供給地点225Cのレベルで同軸ケーブル216Cによって供給される。
図10を参照すると、第2のデルタ放射アセンブリ2Sの8つのデルタ放射要素21Sは、それぞれ、接地平面213Sと、接地平面と接触する第1の誘電体基板212Sと、第1の誘電体基板212C上に堆積される銅製の半波長の台形パッチ211Sと、第1の誘電体基板212Sと平行な平面内の第2の誘電体基板214Sと、第2の誘電体基板214S上に堆積される銅製の寄生パッチ215Sとを含む。半波長の台形パッチ211Sは、供給地点225Sのレベルで同軸ケーブル216Sによって供給される。寄生パッチ215Sは、導波器(director)の役割を演じ、半波長の台形パッチ211Sによって放射される場を修正する。
図11を参照すると、第2及び第3の放射アセンブリ2S及び2Cのデルタ放射要素21S及び21Cは、ソースSの主送信/受信軸Aに対して径方向に偏波される。
第1、第2及び第3のデルタ放射アセンブリのデルタ放射要素21S,21C,21Lは、2つのグループの4つのデルタ放射要素21S,21C,21Lを含み、各グループは、TE21モードにおいてデルタ供給回路22S,22C,22Lによって供給され、1つのグループのデルタ放射要素21S,21C,21Lは、他のグループのデルタ放射要素21S,21C,21Lに対して矩象において供給される。各デルタ放射アセンブリのデルタ放射要素21S,21C,21Lは、導波管内に存在するTEモードの電磁場と均等な電磁場のマップ(地図)を生成する。
同じデルタ放射アセンブリのデルタ放射要素は等振幅において供給されるので、8つのデルタ放射要素を位置付ける円の半径は、デルタ放射アセンブリの周波数バンドの最大周波数に対応する波長未満である。
中心対称性のシグマ放射要素と関連付けられるデルタ放射要素21S,21C,21Lの中心対称性は、シグマパターン及びデルタパターンを分離する。結果として得られる利点は、異なる周波数バンドL、S及びC内のシグマパターン及びデルタパターンの生成が独立して起こることである。また、それは異なる周波数バンドL,S内のシグマパターン及びデルタパターンが分離される結果になる。
重く高価な導波管で作製される用いることを回避することによって、減少された空間内で、放射線が摂動(perturbed)されないで、異なる周波数バンドにおいて異なって作動する放射要素を連動させて3つの異なる周波数バンドのためにシグマパターン及びデルタパターンを生成することが可能である。
第1、第2及び第3のシグマ放射アセンブリ1S,1C,1Lのシグマ放射要素1S,1C,1Lは、ソースSの主送信/受信軸A上に中心化されて層をなして配置され、各周波数バンド内の放射パッチは、上方ステージのシグマ放射要素1S,1C,1Lに対する接地平面として働き、シグマ放射要素1S,1C,1Lは、それらの動作周波数バンドに従って、即ち、最低周波数から最高周波数に向かって、電磁波の伝搬の方向において積み重ねられる。
図12を参照すると、放射アセンブリ1C,1S,1L及び2C,2S,2Lの異なる要素が、ソースSの軸A上に積み重ねられる。電磁波の伝搬の逆方向においてソースの軸を通じて進むとき、異なる要素は、ソースの頂部から底部に、以下の順序において位置付けられる。
− 第3のシグマ放射アセンブリの円形放射パッチ111C。
− 供給回路12Cのポートの分枝を配置する第3のシグマ放射アセンブリの接地平面112C。
− 第3のデルタ放射アセンブリ2Cの接地平面211C上に堆積される第3のデルタ放射アセンブリ2Cの四分の一波長の台形パッチ213C。
− 第3のデルタ放射アセンブリ2Cの四分の一波長の台形パッチ213Cの中心に位置付けられる第2のデルタ放射アセンブリ2Sの放射円形パッチ111S。
− 第2のシグマ放射アセンブリの接地平面112S。その面の各々には、供給回路12Sの部分の分枝が堆積される。
− 第1のシグマ放射センブリの円形放射パッチ111L。
− 第1のシグマ放射アセンブリの接地平面112Lのレベルに位置付けられる寄生パッチ215S。供給回路12L及び第1のシグマ放射アセンブリの接地平面112Lは、放射デルタ2Sの第2のアセンブリの半波長の台形パッチ21Sの中心に位置付けられる。
第1の放射アセンブリ2Lの放射要素は、第2の放射アセンブリについて位置付けられる。
ネットワークの最大半径を守る(respect)よう、異なる誘電体212C,214S,212S,12S,12C,12Lの一定の誘電体が選択される。
記載するソースは、マルチバンドアンテナのための移動ターゲットの追跡、性能係数G/T、良好な指向性性能、低い重量及び最小の嵩張りによって特徴付けられる。また、この種類のマルチバンドソースは、大きな直径よりもむしろ小さい直径の主焦点パラボラのために高度に適合される。ソースは、3つの周波数バンドL、S及びCにおいて同時に受信可能であり、依然として単パルス型の追跡を行う。
放射要素2C,2S,2Lを位置付ける円の直径を最小限化するという事実は、顕著な追跡勾配(tracking slope)をもたらすが、追跡勾配が大きければ大きいほど、追跡はより良好である。他方、記載するソースにおいて、追跡勾配又は偏差測定値は、全ての平面において均一であり、受信する信号の偏波に応じて劣化しない。
記載するソースは、周波数バンドL=[1.4; 1.55GHz]、S=[2.2; 2.4GHz]及びC=[5.0; 5.25GHz]における機能に特に良く適合される。記載するソースは、例えば、Sバンド内に既に存在する受信システムを維持し、将来のCバンドのためにこのシステムを予め備える。また、記載するソースを用いるならば、周波数バンド、ソース変更作業要求手段(source change operation requiring means)、操作時間及び調節を変更するためにソースを変更することは、もはや不要である。
電気通信の他の周波数バンド、テレメトリー、又は任意の他の受信周波数バンドを生成するためにも、本発明を実行し得る。
記載するマルチバンドソースは、主パラボラ反射器の焦点に配置される。記載するマルチバンドソースは、特に小さい直径のアンテナで、一般的にカセグレン取付けとして知られる、2つの反射器、主反射器及び副反射器を用いる据付けの使用を防止する。従って、二色副反射器の使用は必要とされず、これは別個のソース間の結合問題も防止する。
ソースは、3つの周波数バンドL、S及びCにおける移動ターゲットの単パルス追跡及び受信を同時に引き受け、軽量でコンパクトである。

Claims (16)

  1. パラボラアンテナのためのソースであって、
    当該ソースの主送信/受信軸に位置付けられるシグマ放射要素と、該シグマ放射要素に供給するためのシグマ供給回路とを含む、シグマチャネルを生成するように構成される、シグマ放射アセンブリと、
    当該ソースの前記主送信/受信軸について配置される8つのデルタ放射要素と、デルタ供給回路とを含む、デルタチャネルを生成するように構成される、デルタ放射アセンブリとを含む、
    ソース。
  2. 前記シグマ放射要素は、当該ソースの前記主送信/受信軸に対して垂直な平面内に延びる、請求項1に記載のソース。
  3. 前記シグマ放射要素は、放射パッチ(舗装部材又はプレート)と、結合スロットを有する接地平面とを含み、前記結合スロットは、当該ソースの前記主送信/受信軸についての90度の回転によって配置される、請求項1又は2に記載のソース。
  4. 前記デルタ放射要素は、当該ソースの前記主送信/受信軸の上に中心化される円の上に配置される、請求項1乃至3のうちの1項に記載のソース。
  5. 前記デルタ放射要素は、2つの連続的なデルタ要素の間に45度の角度間隔で配置される、請求項4に記載のソース。
  6. 各デルタ放射要素は、供給地点を介して前記デルタ供給回路に接続される放射パッチ(舗装部材又はプレート)を含み、全てのパッチ及びそれらの供給地点は、当該ソースの前記主送信/受信軸についての45度の回転によって配置される、請求項1乃至5のうちの1項に記載のソース。
  7. 前記デルタ放射要素は、当該ソースの前記主送信/受信軸に対して垂直な同じ平面内に延びる、請求項1乃至6のうちの1項に記載のソース。
  8. 前記デルタ放射要素は、当該ソースの前記主送信/受信軸に対して径方向に偏波される、請求項7に記載のソース。
  9. 各デルタ放射要素は、四分の一波長放射パッチを含む、請求項7又は8に記載のソース。
  10. 各デルタ放射要素は、半波長放射パッチと、寄生パッチとを含む、請求項7又は8に記載のソース。
  11. 前記デルタ放射要素は、それぞれ、当該ソースの前記主送信/受信軸と平行な平面内に延びる、請求項1乃至6のうちの1項に記載のソース。
  12. 前記デルタ放射要素は、当該ソースの前記主送信/受信軸に対して接線方向に偏波される、請求項11に記載のソース。
  13. 各デルタ放射要素は、半波長ダイポールを含む、請求項11又は12に記載のソース。
  14. 前記デルタ放射要素は、2つのグループの4つのデルタ放射要素を含み、各グループは、TE21モードにおいて前記デルタ供給回路によって供給され、1つのグループの前記デルタ放射要素は、他のグループの前記デルタ放射要素に対する90度の位相シフトで供給される、請求項1乃至13のうちの1項に記載のソース。
  15. 各々が異なる周波数バンドにおいて動作する3つのシグマ放射アセンブリと、各々が前記周波数バンドのうちの1つにおいて動作する3つのデルタ放射アセンブリとを含み、前記3つのシグマ放射アセンブリの前記シグマ放射要素は、層をなして配置され、当該ソースの前記主送信/受信軸の上に中心化され、前記シグマ放射要素は、より低い周波数バンドにおいて動作する前記シグマ放射要素より上で、電磁波の伝搬の方向において積み重ねられる、より高い周波数バンドにおいて動作する、請求項1乃至14のうちの1項に記載のソース。
  16. より低い周波数バンドにおいて動作する前記シグマ放射要素は、より高い周波数バンドにおいて動作する前記シグマ放射要素の接地平面と組み合わせられる、請求項3及び15に記載のソース。
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