JP6035972B2 - Method for forming cell aggregate and method for producing substrate for cell aggregate formation - Google Patents

Method for forming cell aggregate and method for producing substrate for cell aggregate formation Download PDF

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本発明は、細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材の製造方法及び細胞凝集体形成用基材に関する。   The present invention relates to a method for forming a cell aggregate, a method for producing a cell aggregate forming substrate, and a cell aggregate forming substrate.

事故や病気等で身体の組織や器官等を失った場合であっても、残存する細胞を用いて上記組織等を再生し、機能の回復を目指す再生医療の研究が盛んに行われている。再生医療としては、組織の最小単位を再生し、それを大量に移植することで機能を代替させるという考え方が主流である。これを実現する方法として、上記組織の最小単位としての細胞凝集体(スフェロイド)を形成する技術が挙げられる。   Even when a body tissue or organ is lost due to an accident or illness, research on regenerative medicine is being actively conducted to regenerate the tissue using the remaining cells and restore the function. In regenerative medicine, the mainstream is to replace the function by regenerating the smallest unit of tissue and transplanting it in large quantities. As a method for realizing this, there is a technique for forming a cell aggregate (spheroid) as a minimum unit of the tissue.

このような細胞凝集体の形成方法としては、生体適合性の高いポリイミドやその前駆体を主成分とする膜を用い、例えば、その表面にラビング処理を施して細胞凝集体を形成するラビング法が開示されている(膜(MEMBRANE),32(5),266−270(2007)参照)。このラビング法は、ナイロンやコットン等の布を用いてポリイミド等の膜表面をラビングすることにより微細な凹凸形状を形成するもので、このような表面では特定細胞と特異的な相互作用を持たないため、多層形成可能な細胞種であればどのような細胞にも適用できる利点がある。   As a method of forming such cell aggregates, there is a rubbing method that uses a film having a main component of biocompatible polyimide or a precursor thereof, for example, by rubbing the surface to form cell aggregates. (See Membrane, 32 (5), 266-270 (2007)). This rubbing method forms fine irregularities by rubbing the surface of a film such as polyimide using a cloth such as nylon or cotton, and such a surface has no specific interaction with specific cells. Therefore, there is an advantage that it can be applied to any cell as long as it is a cell type capable of forming multiple layers.

しかしながら、上述のようなラビング法では、ラビングにより発生した粉塵の膜表面への付着による細胞凝集体の品質への影響が懸念されるため、粉塵の発生を防止可能な膜形成工程を有する新たな細胞凝集体の形成方法が望まれている。   However, in the rubbing method as described above, since there is a concern about the influence on the quality of the cell aggregate due to the adhesion of the dust generated by rubbing to the film surface, a new film forming process that can prevent the generation of dust is provided. A method for forming cell aggregates is desired.

膜(MEMBRANE),32(5),266−270(2007)Membrane, 32 (5), 266-270 (2007)

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、ポリイミド等の膜表面への微細な凹凸の形成の際、粉塵の発生を防止可能な細胞凝集体の形成方法を提供することである。   The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to form a cell aggregate capable of preventing the generation of dust when forming fine irregularities on the surface of a film such as polyimide. Is to provide.

上記課題を解決するためになされた発明は、
(a1)ポリイミド又はその前駆体(以下、ポリイミドの前駆体を、単に「前駆体」ともいう)が主成分の膜(以下、「膜(α)」ともいう)に偏光紫外線を照射する工程、
(a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び
(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程
を有する細胞凝集体の形成方法である。
The invention made to solve the above problems is
(A1) a step of irradiating polarized ultraviolet rays to a film (hereinafter also referred to as “film (α)”) whose main component is polyimide or a precursor thereof (hereinafter, polyimide precursor is also simply referred to as “precursor”);
(A2) A method for forming a cell aggregate, comprising a step of seeding cells on the surface of the membrane irradiated with polarized ultraviolet light, and (a3) a step of forming a cell aggregate by culturing the seeded cells.

また、上記課題を解決するためになされた別の発明は、
(b1)ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜を形成する工程、及び
(b2)上記膜に偏光紫外線を照射する工程
を有する細胞凝集体形成用基材の製造方法である。
Moreover, another invention made in order to solve the said subject is:
(B1) A method for producing a cell aggregate-forming substrate, comprising a step of forming a film containing polyimide or a precursor thereof as a main component, and (b2) irradiating the film with polarized ultraviolet rays.

さらに、上記課題を解決するためになされた別の発明は、
基材と、この基材の表面に形成され、ポリイミド又はその前駆体を主成分とする膜とを備え、上記膜が偏光紫外線を照射されたものである細胞凝集体形成用基材である。
Furthermore, another invention made to solve the above problems is
It is a base material for cell aggregate formation provided with a base material and the film | membrane which is formed in the surface of this base material, and has a polyimide or its precursor as a main component, and the said film | membrane was irradiated with polarized ultraviolet rays.

なお、本発明において、主成分とは、含有する成分のうち、質量割合が最も多い成分を指す。上記主成分の質量割合としては、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましい。   In addition, in this invention, a main component refers to a component with the largest mass ratio among the components to contain. The mass ratio of the main component is preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more.

本発明は、ポリイミド等の膜表面への微細な凹凸形成の際、粉塵の発生を防止することができる。そのため、本発明の細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材の製造方法及び細胞凝集体形成用基材は、粉塵の発生を防止可能であるため、細胞凝集体の形成プロセスにおいて、形成される細胞凝集体の品質の向上、更には粉塵除去の不要化による生産性の向上に寄与することができる。   This invention can prevent generation | occurrence | production of dust in the case of fine uneven | corrugated formation to film surfaces, such as a polyimide. Therefore, since the method for forming a cell aggregate, the method for producing a substrate for forming a cell aggregate, and the substrate for forming a cell aggregate of the present invention can prevent the generation of dust, in the process of forming a cell aggregate, It can contribute to the improvement of the quality of the formed cell aggregate and the improvement of productivity by eliminating the need for dust removal.

本発明の細胞凝集体の形成方法において、膜(α)に偏光紫外線を照射する前の状態の一例を示す模式図である。In the formation method of the cell aggregate of this invention, it is a schematic diagram which shows an example before a film | membrane ((alpha)) irradiates polarized ultraviolet rays. 本発明の細胞凝集体の形成方法において、膜(α)に偏光紫外線を照射した後の状態の一例を示す模式図である。この図は、本発明の細胞凝集体形成用基材の一例を示す模式図でもある。In the formation method of the cell aggregate of this invention, it is a schematic diagram which shows an example of the state after irradiating a film | membrane ((alpha)) with polarized ultraviolet rays. This figure is also a schematic view showing an example of the cell aggregate-forming substrate of the present invention. 本発明の細胞凝集体の形成方法において、細胞を播種する際の状態の一例を示す模式図である。In the cell aggregate formation method of this invention, it is a schematic diagram which shows an example of the state at the time of seed | inoculating a cell. 本発明の細胞凝集体の形成方法において、細胞の培養により細胞凝集体を形成した後の状態の一例を示す模式図である。In the cell aggregate formation method of this invention, it is a schematic diagram which shows an example of the state after forming a cell aggregate by culture | cultivation of a cell. 図4の細胞凝集体を膜(α)から剥離した後の状態の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the state after peeling the cell aggregate of FIG. 4 from a film | membrane ((alpha)).

<細胞凝集体の形成方法>
本発明の細胞凝集体の形成方法は、
(a1)ポリイミド又はその前駆体(以下、ポリイミド又はその前駆体を「ポリイミド等」ともいう)が主成分の膜(α)に偏光紫外線を照射する工程(以下、「工程(a1)」ともいう)、
(a2)上記偏光紫外線が照射された膜(α)の表面に細胞を播種する工程(以下、「工程(a2)」ともいう)、及び
(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程(以下、「工程(a3)」ともいう)
を有する。
当該細胞凝集体の形成方法がポリイミド等が主成分の膜(α)に偏光紫外線を照射する工程を有するため、当該細胞凝集体の形成方法は、上記膜(α)表面への微細な凹凸形成の際、粉塵の発生を防止することができ、これにより形成される細胞凝集体の品質を高めることができる。なお、膜(α)表面の微細な凹凸形状は、ポリイミド等の重合体分子が偏光紫外線により局所的に切断又は異方的に異性化若しくは二量化されることで形成されるものと推察される。以下、各工程について、図1〜図5を参照しながら詳述する。
<Method of forming cell aggregate>
The method for forming a cell aggregate of the present invention comprises:
(A1) A step of irradiating polarized ultraviolet rays onto a film (α) whose main component is polyimide or a precursor thereof (hereinafter, polyimide or a precursor thereof is also referred to as “polyimide or the like”) (hereinafter also referred to as “step (a1)”). ),
(A2) a step of seeding cells on the surface of the membrane (α) irradiated with polarized ultraviolet light (hereinafter also referred to as “step (a2)”), and (a3) a cell aggregate by culturing the seeded cells. Forming step (hereinafter also referred to as “step (a3)”)
Have
Since the method for forming cell aggregates includes a step of irradiating polarized ultraviolet rays to a film (α) whose main component is polyimide or the like, the method for forming cell aggregates is to form fine irregularities on the surface of the film (α). In this case, generation of dust can be prevented, and the quality of the cell aggregate formed thereby can be improved. The fine uneven shape on the surface of the film (α) is presumed to be formed by polymer molecules such as polyimide being locally cut or anisotropically isomerized or dimerized by polarized ultraviolet rays. . Hereinafter, each step will be described in detail with reference to FIGS.

[工程(a1)]
本工程では、ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜(α)に偏光紫外線を照射する。
[Step (a1)]
In this step, the ultraviolet ray is irradiated to the film (α) whose main component is polyimide or its precursor.

上記ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜(α)としては、ポリイミド成分からなる膜、前駆体成分からなる膜、ポリイミドが主成分でありかつ前駆体成分を含有する膜、前駆体が主成分でありかつポリイミド成分を含有する膜、上記成分と共に、ポリイミド及び前駆体以外の成分を含有する膜が挙げられる。   The polyimide or its precursor as a main component film (α) includes a film made of a polyimide component, a film made of a precursor component, a film containing polyimide as a main component and containing a precursor component, and a precursor as a main component. And a film containing a polyimide component and a film containing components other than polyimide and a precursor together with the above components.

図1に示すように、上記膜(α)(図1において符号1で表される膜)は、通常、基板100上に形成されている。上記基板100としては、例えば、合成樹脂製、TCPS(Tissue culture polystyrene)製、ガラス製等の基板が挙げられる。上記膜(α)の形成方法としては、例えば、上記ポリイミド等の溶液を上記基板100上に塗布することで形成する方法等が挙げられる。上記塗布方法としては、例えば、スプレー法、オフセット印刷法、ロールコーター法、インクジェット印刷法、溶媒キャスト法、スピンコート法等が挙げられる。上記ポリイミド等の膜厚としては、特に限定されないが、膜(α)の形成容易性の観点から、10nm〜300nmが好ましい。   As shown in FIG. 1, the film (α) (film denoted by reference numeral 1 in FIG. 1) is usually formed on a substrate 100. Examples of the substrate 100 include substrates made of synthetic resin, TCPS (Tissue Culture Polystyrene), and glass. Examples of the method for forming the film (α) include a method of forming the film (α) by applying a solution such as polyimide on the substrate 100. Examples of the coating method include a spray method, an offset printing method, a roll coater method, an ink jet printing method, a solvent casting method, and a spin coating method. Although it does not specifically limit as film thickness, such as the said polyimide, From a viewpoint of the ease of formation of a film | membrane ((alpha)), 10 nm-300 nm are preferable.

上記偏光紫外線は、所定の波長の紫外線を偏光板を介することで得ることができ、得られた偏光紫外線を膜(α)表面に対して所定の方向から照射する。偏光紫外線の照射条件としては、光開裂反応が起こる限り特に限定されないが、上記波長としては、通常200nm以上300nm以下であり、220nm以上280nm以下が好ましく、254nmがより好ましい。照射量としては、通常2,000J/m以上であり、4,000J/m以上が好ましく、6,000J/m以上がより好ましく、8,000J/m以上がさらに好ましい。上記偏光紫外線を照射する方向としては、一定方向でもよく、複数の方向でもよく、膜(α)表面の領域毎に異なった方向であってもよい。 The polarized ultraviolet light can be obtained by passing ultraviolet light having a predetermined wavelength through a polarizing plate, and the obtained polarized ultraviolet light is applied to the film (α) surface from a predetermined direction. The irradiation conditions of polarized ultraviolet rays are not particularly limited as long as a photocleavage reaction occurs, but the wavelength is usually 200 nm or more and 300 nm or less, preferably 220 nm or more and 280 nm or less, and more preferably 254 nm. The irradiation dose is usually 2,000 J / m 2 or more, preferably 4,000J / m 2 or more, more preferably 6,000J / m 2 or more, more preferably 8,000J / m 2 or more. The direction of irradiating the polarized ultraviolet light may be a fixed direction, a plurality of directions, or different directions for each region of the film (α) surface.

上記偏光紫外線は、膜(α)表面の全体に亘って照射してもよく、フォトマスクを介して膜(α)表面の一部の領域にパターン状に照射してもよい。上記パターン状に照射する場合、所望の形状及びサイズを有する細胞凝集体を簡便かつ確実に形成することができる。これは、偏光紫外線の照射領域とそれ以外の領域とで膜(α)表面の形状が異なり、これにより播種された細胞と膜(α)との接着力に差異が生ずるためであると推察される。このパターン状の照射により、移植に際して生体に合致できる所望形状の細胞凝集体を精度良く得ることができる。   The polarized ultraviolet light may be irradiated over the entire surface of the film (α) or may be irradiated in a pattern on a part of the surface of the film (α) through a photomask. When the pattern is irradiated, cell aggregates having a desired shape and size can be easily and reliably formed. This is presumed to be because the shape of the surface of the membrane (α) is different between the irradiation region of polarized ultraviolet rays and the other region, and this causes a difference in the adhesion between the seeded cells and the membrane (α). The By this pattern of irradiation, a cell aggregate having a desired shape that can match the living body at the time of transplantation can be obtained with high accuracy.

上記偏光紫外線を照射した後の状態を図2に示す。この図2に示すように、偏光紫外線の照射により膜(α)の表面に微細な凹凸を形成することができる。   The state after irradiating the polarized ultraviolet light is shown in FIG. As shown in FIG. 2, fine irregularities can be formed on the surface of the film (α) by irradiation with polarized ultraviolet rays.

上記ポリイミドは、後述のようにポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環してイミド化することにより製造できる。上記ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有しているアミック酸構造の全てを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存している部分イミド化物であってもよい。   The polyimide can be produced by dehydrating and ring-closing and imidizing an amic acid structure possessed by a polyamic acid as described later. The polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and cyclizing all of the amic acid structure possessed by the polyamic acid that is the precursor, and only a part of the amic acid structure is dehydrated and cyclized, It may be a partially imidized product in which an imide ring structure coexists.

膜(α)の主成分がポリイミドである場合、このポリイミドのイミド化率は、40%以上が好ましく、50%以上がより好ましく、60%以上がさらに好ましい。   When the main component of the film (α) is polyimide, the imidization ratio of this polyimide is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and further preferably 60% or more.

上記ポリイミドの前駆体としては、ポリアミック酸が挙げられる。   Examples of the polyimide precursor include polyamic acid.

上記ポリイミド及びポリアミック酸としては、偏光紫外線により光開裂反応を生ずるもの、光配向性基を有するものが好ましく、偏光紫外線により光開裂反応を生ずるものがより好ましい。上記ポリイミド及びポリアミック酸が上記性質又は基を有することで、膜(α)表面において微細な凹凸を容易かつ確実に形成することができる。   As said polyimide and polyamic acid, what produces a photocleavage reaction by polarized ultraviolet rays and what has a photo-alignment group are preferable, and what produces a photocleavage reaction by polarized ultraviolet rays is more preferable. When the polyimide and polyamic acid have the above properties or groups, fine irregularities can be easily and reliably formed on the surface of the film (α).

上記偏光紫外線により光開裂反応を生ずるポリイミドとしては、下記式(1)で表される構造単位を有することが好ましい。上記ポリイミドが下記構造を有することで、光開裂反応によりポリマー主鎖又は側鎖が有する一部の構造が開裂し、膜(α)表面において分子レベルの微細な凹凸をより容易かつ確実に形成することができる。   The polyimide that undergoes a photocleavage reaction by the polarized ultraviolet light preferably has a structural unit represented by the following formula (1). When the polyimide has the following structure, a part of the structure of the polymer main chain or side chain is cleaved by the photocleavage reaction, and fine irregularities at the molecular level are more easily and reliably formed on the surface of the film (α). be able to.

Figure 0006035972
Figure 0006035972

上記式(1)中、Rは、下記式(i−1)〜(i−6)のいずれかで表される4価の有機基である。Rは、炭素数1〜20の2価の有機基である。 In the above formula (1), R 1 is a tetravalent organic group represented by any of the following formulas (i-1) to (i-6). R 2 is a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

Figure 0006035972
Figure 0006035972

上記式(i−1)、式(i−3)及び式(i−4)中、RA1、RA3及びRA4は、それぞれ独立して、炭素数1〜4の1価の有機基である。n1は、0〜4の整数である。n3は、0〜4の整数である。n4は、0〜8の整数である。RA1、RA3及びRA4がそれぞれ複数の場合、複数のRA1、RA3及びRA4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
上記式(i−2)中、RA21は、炭素数1〜4の1価の有機基である。n2は、0〜6の整数である。RA22は、単結合、メチレン基又は炭素数2〜4のアルキレン基である。n2が2以上の場合、複数のRA21は、同一でも異なっていてもよい。
上記式(i−5)中、RA5は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n5は、0〜9の整数である。n5が2以上の場合、複数のRA5は、同一でも異なっていてもよい。
上記式(i−6)中、RA61は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n61は、0〜5の整数である。RA62は、フッ素原子又は炭素数1〜4の1価の有機基である。n62は、0〜4の整数である。RA61及びRA62がそれぞれ複数の場合、複数のRA61及びRA62は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
式(i−1)〜(i−6)中、*は、炭素原子との結合部位を示す。
In formula (i-1), formula (i-3) and formula (i-4), R A1 , R A3 and R A4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. is there. n1 is an integer of 0-4. n3 is an integer of 0-4. n4 is an integer of 0-8. R A1, when R A3 and R A4 is plural respective plurality of R A1, R A3 and R A4 may each be the same or different.
In the formula (i-2), R A21 is a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n2 is an integer of 0-6. R A22 is a single bond, a methylene group or an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. When n2 is 2 or more, the plurality of R A21 may be the same or different.
In the above formula (i-5), R A5 is a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n5 is an integer of 0-9. When n5 is 2 or more, the plurality of R A5 may be the same or different.
In the above formula (i-6), R A61 is a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n61 is an integer of 0-5. R A62 is a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n62 is an integer of 0-4. If R A61 and R A62 is plural respective plurality of R A61 and R A62 may each be the same or different.
In formulas (i-1) to (i-6), * represents a bonding site with a carbon atom.

上記RA1、RA21、RA3、RA4及びRA62で表される炭素数1〜4の1価の有機基としては、例えば、炭素数1〜4の鎖状炭化水素基、炭素数3〜4の脂環式炭化水素基、これらの炭化水素基の炭素−炭素間に酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子を有する基を含む基等が挙げられる。 Examples of the monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms represented by R A1 , R A21 , R A3 , R A4 and R A62 include, for example, a chain hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms and 3 carbon atoms. -4 cycloaliphatic hydrocarbon groups, groups containing a group having a hetero atom such as an oxygen atom or a nitrogen atom between carbon-carbons of these hydrocarbon groups.

上記炭素数1〜4の鎖状炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。   Examples of the chain hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, and a t-butyl group. It is done.

上記炭素数3〜4の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基等が挙げられる。   Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 4 carbon atoms include a cyclopropyl group and a cyclobutyl group.

これらの炭化水素基の炭素−炭素間に酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子を有する基を含む基としては、上記炭化水素基の炭素−炭素間に、−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−NO−、−NH−等の少なくともひとつのヘテロ原子を有する結合基を含む基等が挙げられる。 Examples of the group containing a group having a hetero atom such as an oxygen atom or a nitrogen atom between carbon and carbon of these hydrocarbon groups include -O-, -CO-, and -COO between the carbon and carbon of the hydrocarbon group. And a group containing a linking group having at least one heteroatom such as —, —OCO—, —NO—, —NH 2 — and the like.

上記RA22で表される炭素数2〜4のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。 Examples of the alkylene group having 2 to 4 carbon atoms represented by R A22 include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.

上記RA5及びRA61で表される炭素数1若しくは2の1価の有機基としては、例えば、上記RA1等として例示した炭素数1〜4の1価の有機基のうち、炭素数1若しくは2のもの等が挙げられる。 Examples of the monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms represented by the above R A5 and R A61 include, among the monovalent organic groups having 1 to 4 carbon atoms exemplified as the above R A1 and the like, 1 carbon atom Or the thing of 2 etc. are mentioned.

これらの中で、上記Rとしては、上記式(i−1)、(i−2)で表される有機基が好ましく、式(i−1)で表される有機基がより好ましい。上記(i−1)及び(i−2)において、上記n1及びn2は、それぞれ0がさらに好ましい。 Of those, R 1, the formula (i-1), the organic group is preferably represented by (i-2), the organic group represented by the formula (i-1) is more preferable. In the above (i-1) and (i-2), n1 and n2 are more preferably 0.

上記Rで表される炭素数1〜20の2価の有機基としては、例えば、炭素数1〜20の脂肪族ジアミン化合物、炭素数1〜20の脂環式ジアミン化合物、炭素数1〜20の芳香族ジアミン化合物及び下記式(2)で表されるジアミノシロキサン化合物等のジアミン化合物に由来する2価の有機基等が挙げられる。 Examples of the divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 include an aliphatic diamine compound having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic diamine compound having 1 to 20 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms. 20 aromatic diamine compounds and divalent organic groups derived from diamine compounds such as diaminosiloxane compounds represented by the following formula (2).

Figure 0006035972
Figure 0006035972

上記式(2)中、mは、1〜10の整数である。   In said formula (2), m is an integer of 1-10.

上記炭素数1〜20の脂肪族ジアミン化合物としては、例えば、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diamine compound having 1 to 20 carbon atoms include tetramethylene diamine and hexamethylene diamine.

上記炭素数1〜20の脂環式ジアミン化合物としては、例えば、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン等が挙げられる。   Examples of the alicyclic diamine compound having 1 to 20 carbon atoms include bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane, and the like.

上記炭素数1〜20の芳香族ジアミン化合物としては、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,5−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエ−テル、2,2’−ジアミノジフェニルプロパン、ビス(3,5−ジエチル4−アミノフェニル)メタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノベンゾフェノン、ジアミノナフタレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、9,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。   Examples of the aromatic diamine compound having 1 to 20 carbon atoms include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,5-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 4,4′-diaminobiphenyl, 3, 3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, 2,2'-diaminodiphenylpropane, bis (3 5-diethyl 4-aminophenyl) methane, diaminodiphenylsulfone, diaminobenzophenone, diaminonaphthalene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) benzene, 9,10- Bis (4-aminophenyl) anthracene, 1,3-bis (4-amino Phenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) diphenylsulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoro Examples include propane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane.

これらの中で、上記Rで表される炭素数1〜20の2価の有機基としては、生体適合性の観点から、含フッ素ジアミン化合物由来の基が好ましく、含フッ素芳香族ジアミン化合物由来の基がより好ましく、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン由来の基がさらに好ましく、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン由来の基が特に好ましい。なお、上記ポリイミドは、上記ジアミン化合物由来の基を1種又は2種以上含んでいてもよい。 Among these, the divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 is preferably a group derived from a fluorinated diamine compound from the viewpoint of biocompatibility, and derived from a fluorinated aromatic diamine compound. And more preferably a group derived from 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, and 2,2 A group derived from -bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane is particularly preferred. In addition, the said polyimide may contain the 1 type (s) or 2 or more types of group derived from the said diamine compound.

上記偏光紫外線により光開裂反応を生ずるポリアミック酸としては、例えば、下記式(3)で表される構造単位を有するポリアミック酸等が挙げられる。   Examples of the polyamic acid that causes a photocleavage reaction by the polarized ultraviolet light include a polyamic acid having a structural unit represented by the following formula (3).

Figure 0006035972
Figure 0006035972

上記式(3)中、R及びRは、それぞれ上記式(1)と同義である。 In said formula (3), R < 1 > and R < 2 > are synonymous with said formula (1), respectively.

(ポリアミック酸の合成方法)
上記ポリアミック酸は、例えば、上記式(i−1)〜(i−6)で表される4価の有機基が有する脂環式構造を含むテトラカルボン酸二無水物(以下、「特定テトラカルボン酸二無水物」ともいう)とジアミン化合物とを反応させることで合成することができる。
(Method for synthesizing polyamic acid)
The polyamic acid is, for example, a tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as “specific tetracarboxylic acid”) containing an alicyclic structure of a tetravalent organic group represented by the above formulas (i-1) to (i-6). It can be synthesized by reacting a diamine compound with an acid dianhydride ”.

上記特定テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、
上記式(i−1)で表される有機基を与えるものとして、例えば、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等;
上記式(i−2)で表される有機基を与えるものとして、例えば、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物等;
上記式(i−3)で表される有機基を与えるものとして、例えば、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物等;
上記式(i−4)で表される有機基を与えるものとして、例えば、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等;
上記式(i−5)で表される有機基を与えるものとして、例えば、3,4−ジカルボキシ−1−シクロヘキシルコハク酸二無水物等;
上記式(i−6)で表される有機基を与えるものとして、例えば、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸等の脂環式テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これらの中で、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物及び2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物が好ましく、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物がより好ましい。なお、この特定テトラカルボン酸二無水物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
As the specific tetracarboxylic dianhydride, for example,
Examples of the organic group represented by the above formula (i-1) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride;
Examples of the organic group represented by the above formula (i-2) include 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride and the like;
Examples of the organic group represented by the above formula (i-3) include 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride;
Examples of the organic group represented by the above formula (i-4) include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride;
As what gives the organic group represented by the said Formula (i-5), for example, 3, 4- dicarboxy- 1-cyclohexyl succinic dianhydride etc .;
Examples of the organic group represented by the above formula (i-6) include alicyclic tetracarboxylic acids such as 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic acid And dianhydrides. Among these, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride are preferable, and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride is preferable. Anhydrides are more preferred. In addition, you may use this specific tetracarboxylic dianhydride individually or in combination of 2 or more types.

また、本発明の効果を損なわない範囲で、上記特定テトラカルボン酸二無水物以外の他のテトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。   Moreover, you may use together other tetracarboxylic dianhydrides other than the said specific tetracarboxylic dianhydride in the range which does not impair the effect of this invention.

上記他のテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、
脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物等;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、ピロメリット酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸、1,2,5,6−アントラセンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エ−テル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジフェニルシラン、2,3,4,5,−ピリジンテトラカルボン酸、2,6−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ピリジン等の二無水物等が挙げられる。;
なお、他のテトラカルボン酸二無水物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
As said other tetracarboxylic dianhydride, for example,
As the aliphatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and the like;
As aromatic tetracarboxylic dianhydrides, pyromellitic acid, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetra Carboxylic acid, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-anthracenetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3 ′ , 4-biphenyltetracarboxylic acid, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (3 -Dicarboxyphenyl) propane, bis (3,4-dicarboxyphenyl) dimethylsilane, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane, 2,3,4,5, -pyridinetetracarboxylic acid, 2,6 And dianhydrides such as bis (3,4-dicarboxyphenyl) pyridine. ;
In addition, you may use another tetracarboxylic dianhydride individually or in combination of 2 or more types.

上記ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン化合物、脂環式ジアミン化合物、芳香族ジアミン化合物及びジアミノシロキサン化合物等が挙げられる。   Examples of the diamine compound used for synthesizing the polyamic acid include an aliphatic diamine compound, an alicyclic diamine compound, an aromatic diamine compound, a diaminosiloxane compound, and the like.

上記脂肪族ジアミン化合物、脂環式ジアミン化合物及び芳香族ジアミン化合物としては、例えば、Rで表される2価の有機基を与えるジアミン化合物として例示したそれぞれの化合物と同様の化合物等が挙げられる。 Examples of the aliphatic diamine compound, alicyclic diamine compound, and aromatic diamine compound include compounds similar to the respective compounds exemplified as the diamine compound that gives the divalent organic group represented by R 2. .

ポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2当量〜2当量となる割合が好ましく、0.3当量〜1.2当量となる割合がより好ましい。   The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound used for the synthesis of the polyamic acid is such that the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride is 0.2 with respect to 1 equivalent of the amino group contained in the diamine compound. A ratio of equivalent to 2 equivalents is preferable, and a ratio of 0.3 equivalent to 1.2 equivalents is more preferable.

ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中において行われることが好ましい。反応温度としては、−20℃〜150℃が好ましく、0℃〜100℃がより好ましく、0℃〜50℃がさらに好ましい。反応時間としては、0.5時間〜24時間が好ましく、2時間〜15時間がより好ましく、5時間〜12時間がさらに好ましい。   The polyamic acid synthesis reaction is preferably performed in an organic solvent. The reaction temperature is preferably −20 ° C. to 150 ° C., more preferably 0 ° C. to 100 ° C., and further preferably 0 ° C. to 50 ° C. The reaction time is preferably 0.5 hours to 24 hours, more preferably 2 hours to 15 hours, and even more preferably 5 hours to 12 hours.

上記有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えば、
非プロトン系極性溶媒として、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等;
フェノール系溶媒として、m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノール等が挙げられる。
The organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the synthesized polyamic acid. For example,
As aprotic polar solvents, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylimidazolidinone, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethyl Urea, hexamethylphosphortriamide, etc .;
Examples of the phenol solvent include m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol and the like.

これらの中で、上記有機溶媒としては、非プロトン系極性溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)がより好ましい。   Among these, the organic solvent is preferably an aprotic polar solvent, and more preferably N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).

なお、上記有機溶媒は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリアミック酸を溶解しない溶媒又は溶解しにくい溶媒であっても、ポリアミック酸の均一な溶解性が失われない範囲で、この溶媒を上記有機溶媒に加えてもよい。   In addition, you may use the said organic solvent individually or in combination of 2 or more types. Moreover, even if it is a solvent which does not melt | dissolve a polyamic acid, or a solvent which is hard to melt | dissolve, this solvent may be added to the said organic solvent in the range by which the uniform solubility of a polyamic acid is not lost.

上記有機溶媒の使用量(a)としては、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の総量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して0.1質量%〜50質量%となる量が好ましく、5質量%〜30質量%となる量がより好ましい。   The amount of the organic solvent used (a) is such that the total amount (b) of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound is 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total amount (a + b) of the reaction solution. Is preferable, and the amount of 5% by mass to 30% by mass is more preferable.

以上のようにして得られたポリアミック酸溶液は、そのまま膜(α)の形成に用いてもよく、上記溶液に含まれるポリアミック酸を単離して膜(α)の形成に用いてもよく、単離したポリアミック酸をさらに精製して膜(α)の形成に用いてもよい。   The polyamic acid solution obtained as described above may be used as it is for forming the film (α), or may be used for forming the film (α) by isolating the polyamic acid contained in the solution. The released polyamic acid may be further purified and used to form the film (α).

ポリアミック酸の単離方法としては、例えば、上記反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得た後、この析出物を減圧下乾燥する方法、反応溶液中の有機溶媒をエバポレーターで減圧留去する方法等が挙げられる。また、ポリアミック酸の精製方法としては、例えば、単離したポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解し、次いで貧溶媒で析出させる方法、エバポレーターで減圧留去する工程を1回又は複数回行う方法等が挙げられる。   As a method for isolating the polyamic acid, for example, after pouring the reaction solution into a large amount of poor solvent to obtain a precipitate, the precipitate is dried under reduced pressure, and the organic solvent in the reaction solution is reduced with an evaporator. The method of distilling off is mentioned. Examples of the method for purifying the polyamic acid include a method in which the isolated polyamic acid is dissolved again in an organic solvent and then precipitated in a poor solvent, and a method in which the step of distilling under reduced pressure with an evaporator is performed once or a plurality of times. Can be mentioned.

なお、得られたポリアミック酸は、これを脱水閉環して後述のポリイミドの合成に用いることができる。この場合、上記ポリアミック酸の反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を上述のように単離して脱水閉環反応に供してもよく、単離したポリアミック酸を上述のように精製して脱水閉環反応に供してもよい。   In addition, the obtained polyamic acid can be used for the synthesis | combination of the below-mentioned polyimide by spin-drying | dehydrating and ring-closing this. In this case, the reaction solution of the polyamic acid may be subjected to a dehydration ring-closing reaction as it is, or the polyamic acid contained in the reaction solution may be isolated as described above and subjected to a dehydration ring-closing reaction. May be purified as described above and subjected to a dehydration cyclization reaction.

(ポリイミドの合成方法)
上記ポリイミドは、上述の如くして得られたポリアミック酸の有するアミック酸構造を脱水閉環して合成することができる。このとき、アミック酸構造の全部をイミド化して完全イミド化物としてもよく、アミック酸構造の一部をイミド化して部分イミド化物としてもよい。ポリアミック酸を脱水閉環する方法としては、例えば、(i)ポリアミック酸を加熱する方法、(ii)ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法等が挙げられる。
(Polyimide synthesis method)
The polyimide can be synthesized by dehydrating and ring-closing the amic acid structure of the polyamic acid obtained as described above. At this time, all of the amic acid structure may be imidized to be a completely imidized product, or a part of the amic acid structure may be imidized to be a partially imidized product. Examples of the method for dehydrating and cyclizing the polyamic acid include, for example, (i) a method of heating the polyamic acid, (ii) dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to this solution as necessary. And heating method.

上記(i)のポリアミック酸を加熱する方法において、反応温度は、150℃〜450℃が好ましく、170℃〜350℃がより好ましい。反応温度が150℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が450℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下する場合がある。反応時間は、30秒〜10時間が好ましく、5分〜5時間がより好ましい。   In the method of heating the polyamic acid (i) above, the reaction temperature is preferably 150 ° C to 450 ° C, more preferably 170 ° C to 350 ° C. When the reaction temperature is less than 150 ° C., the dehydration ring-closing reaction does not proceed sufficiently. The reaction time is preferably 30 seconds to 10 hours, and more preferably 5 minutes to 5 hours.

上記(ii)のポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量としては、ポリアミック酸構造単位の1モルに対して0.01モル〜20モルが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えば、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンを用いることができる。しかし、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量としては、使用する脱水剤1モルに対して0.01モル〜10モルが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、例えば、ポリアミック酸の合成に用いられる有機溶媒として例示したものと同様の有機溶媒等が挙げられる。脱水閉環反応の反応温度としては、0℃〜180℃が好ましく、10℃〜150℃がより好ましい。反応時間としては、0.5時間〜20時間が好ましく、1時間〜8時間がより好ましい。   In the method (ii) of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the polyamic acid solution, for example, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride is used as the dehydrating agent. it can. As a usage-amount of a dehydrating agent, 0.01-20 mol is preferable with respect to 1 mol of a polyamic acid structural unit. As the dehydration ring closure catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, triethylamine and the like can be used. However, it is not limited to these. The amount of the dehydration ring closure catalyst used is preferably 0.01 mol to 10 mol with respect to 1 mol of the dehydrating agent used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closing reaction include the same organic solvents as those exemplified as the organic solvent used in the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature for the dehydration ring closure reaction is preferably 0 ° C to 180 ° C, more preferably 10 ° C to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.5 hour to 20 hours, and more preferably 1 hour to 8 hours.

上記方法(i)において得られるポリイミドは、これをそのまま膜(α)の形成に用いてもよく、このポリイミドを精製して膜(α)の形成に用いてもよい。一方、上記方法(ii)においてはポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま膜(α)の形成に用いてもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いて膜(α)の形成に用いてもよく、ポリイミドを単離して膜(α)の形成に用いてもよく、単離したポリイミドを精製して膜(α)の形成に用いてもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除く方法としては、例えば、溶媒置換等の方法を適用することができる。ポリイミドの単離及び精製方法としては、例えば、ポリアミック酸の単離及び精製方法として例示したそれぞれの方法と同様の方法等が挙げられる。   The polyimide obtained in the above method (i) may be used as it is for the formation of the film (α), or the polyimide may be purified and used for the formation of the film (α). On the other hand, in the above method (ii), a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used as it is for the formation of the membrane (α), or may be used for the formation of the membrane (α) by removing the dehydrating agent and the dehydration ring-closing catalyst from the reaction solution. You may use for formation of ((alpha)), You may refine | purify the isolated polyimide and may use it for formation of a film | membrane ((alpha)). As a method for removing the dehydrating agent and the dehydrating ring closure catalyst from the reaction solution, for example, a method such as solvent substitution can be applied. Examples of the method for isolating and purifying polyimide include the same methods as those exemplified as the method for isolating and purifying polyamic acid.

上記光配向性基を有するポリイミド及びその前駆体としては、側鎖に光配向性基を有するポリイミド、側鎖に光配向性基を有するポリアミック酸が挙げられる。ここで、光配向性基とは、光照射により膜に異方性を付与することができる官能基である。この異方性は、光異性化反応又は光二量化反応により付与される。上記ポリイミド及びその前駆体が光配向性基を有することで、偏光紫外線が照射された膜(α)上において、播種された細胞の成長を促進することができる。これは、光配向性基を有する場合も、光開裂反応を生ずるポリイミド等と同様に、膜(α)表面に微細な凹凸が形成されるためであると推察される。   Examples of the polyimide having a photoalignable group and a precursor thereof include polyimide having a photoalignable group in a side chain, and polyamic acid having a photoalignable group in a side chain. Here, the photo-alignment group is a functional group that can impart anisotropy to the film by light irradiation. This anisotropy is imparted by a photoisomerization reaction or a photodimerization reaction. Since the polyimide and its precursor have a photo-alignment group, the growth of the seeded cells can be promoted on the film (α) irradiated with polarized ultraviolet rays. This is presumably because fine irregularities are formed on the surface of the film (α) as in the case of polyimide that causes a photocleavage reaction even when it has a photo-alignment group.

光配向性基としては、光配向性を示す種々の化合物由来の基を採用することができ、例えば、アゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含有するアゾベンゼン構造を含む基、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を含む基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含有するカルコン構造を含む基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含有するベンゾフェノン構造を含む基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含有するクマリン構造を含む基、ポリイミド又はその誘導体を基本骨格として含有するポリイミド構造を含む基等が挙げられる。これらの中で、優れた光配向性と上記基の導入容易性の観点から、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を含む基であることが好ましい。   As the photo-alignment group, groups derived from various compounds exhibiting photo-alignment can be employed. For example, a group having an azobenzene structure containing azobenzene or a derivative thereof as a basic skeleton, cinnamic acid or a derivative thereof is basically used. A group containing a cinnamic acid structure contained as a skeleton, a group containing a chalcone structure containing chalcone or a derivative thereof as a basic skeleton, a group containing a benzophenone structure containing benzophenone or a derivative thereof as a basic skeleton, a coumarin or a derivative thereof as a basic skeleton And a group containing a coumarin structure, a group containing a polyimide structure containing polyimide or a derivative thereof as a basic skeleton, and the like. Among these, a group including a cinnamic acid structure containing cinnamic acid or a derivative thereof as a basic skeleton is preferable from the viewpoint of excellent photoalignment and ease of introduction of the above group.

上記光配向性基を有するポリイミドにおけるポリイミドとしては、主鎖を構成する構造単位中にイミド構造を有する限り特に限定されない。また、上記光配向性基を有するポリアミック酸におけるポリアミック酸としては、主鎖を構成する構造単位中にアミック酸構造を有する限り特に限定されない。但し、このポリアミック酸は、上記イミド構造を含むものを除くものである。   The polyimide in the polyimide having the photoalignable group is not particularly limited as long as it has an imide structure in the structural unit constituting the main chain. In addition, the polyamic acid in the polyamic acid having the photoalignable group is not particularly limited as long as the structural unit constituting the main chain has an amic acid structure. However, this polyamic acid excludes those containing the imide structure.

上記光配向性基を有するポリアミック酸の合成方法としては、例えば、テトラカルボン酸二無水物とエポキシ基を有するジアミン化合物とを適当な溶媒中で重合させた後、得られた重合体に光配向性基を有するカルボン酸化合物を反応させる方法等が挙げられる。   As a method for synthesizing the polyamic acid having a photoalignable group, for example, tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound having an epoxy group are polymerized in an appropriate solvent, and then the resulting polymer is photoaligned. And a method of reacting a carboxylic acid compound having a functional group.

また、上記光配向性基を有するポリイミドの合成方法としては、例えば、上記光配向性基を有するポリアミック酸の合成方法において得られたポリアミック酸を、加熱等により脱水閉環する方法等が挙げられる。   Examples of the method for synthesizing the polyimide having the photoalignable group include a method of dehydrating and cyclizing the polyamic acid obtained in the method for synthesizing the polyamic acid having the photoalignable group by heating or the like.

上記ポリイミド等は、フッ素原子を含むことが好ましい。ポリイミド及びその前駆体がフッ素原子を含むことで、膜(α)は、優れた生体適合性を有し、播種された細胞からの細胞凝集体の形成を促進することができる。   The polyimide or the like preferably contains a fluorine atom. When the polyimide and its precursor contain fluorine atoms, the membrane (α) has excellent biocompatibility and can promote the formation of cell aggregates from the seeded cells.

[工程(a2)]
本工程では、図3に示すように、上記偏光紫外線が照射された膜(α)(図3において符号2で表される膜)の表面に細胞Cを播種する。播種可能な細胞としては、例えば、肝臓、腎臓など各種臓器の細胞、皮膚細胞等が挙げられるが、これらに限らず、細胞凝集体を形成可能な全ての細胞が挙げられる。播種する細胞Cとしては、治療の対象となる生物種と同一の生物種由来の細胞が好ましい。例えば、ヒトの治療に用いる場合はヒト由来の細胞が好ましく、同一のヒト由来の細胞がより好ましい。
[Step (a2)]
In this step, as shown in FIG. 3, cells C are seeded on the surface of the film (α) irradiated with the polarized ultraviolet light (the film represented by reference numeral 2 in FIG. 3). Examples of cells that can be seeded include cells of various organs such as liver and kidney, skin cells, and the like, but are not limited to these and include all cells that can form cell aggregates. The cell C to be seeded is preferably a cell derived from the same species as the species to be treated. For example, when used for human therapy, human-derived cells are preferred, and the same human-derived cells are more preferred.

播種する細胞Cは、予め各種の培養方法で予備培養し、細胞数を十分に増やしておくことが好ましい。予備培養法としては、例えば、単層培養、コートディッシュ培養、ゲル培養、懸濁培養等の公知の培養法が挙げられる。予備培養した細胞を培地から採取し、偏光紫外線が照射された膜(α)の表面に播種する。   It is preferable that the cells C to be seeded are preliminarily cultured in advance by various culture methods and the number of cells is sufficiently increased. Examples of the preculture method include known culture methods such as monolayer culture, coat dish culture, gel culture, and suspension culture. Pre-cultured cells are collected from the medium and seeded on the surface of the membrane (α) irradiated with polarized ultraviolet rays.

膜(α)の表面における播種する細胞Cの濃度としては、予備培養の有無にかかわらず、1×10〜1×10cells/mlが好ましく、1×10〜1×10cells/mlがより好ましい。 The concentration of the cells C to be seeded on the surface of the membrane (α) is preferably 1 × 10 4 to 1 × 10 7 cells / ml regardless of whether or not pre-culture is performed, and 1 × 10 5 to 1 × 10 6 cells / ml. More preferred is ml.

[工程(a3)]
本工程では、図4に示すように、上記播種された細胞Cの培養により細胞凝集体CMを形成する。細胞Cの培養は、通常、培地中で行われる。この培地は、播種する細胞Cの種類に応じて従来公知の培地を適宜選択することができる。上記培地としては、例えば、MEM培地、BME培地、DME培地、αMEM培地、IMEM培地、ES培地、DM−160培地、Fisher培地、F12培地、WE培地、RPMI培地、これらの混合培地等が挙げられる。また、血管形成性細胞の培地としては、上記培地にウシ胎児血清等の血清成分を添加したものを用いることもできる。培地の種類は、継代ごとに変えてもよく、同一の培地を用いてもよい。
[Step (a3)]
In this step, as shown in FIG. 4, cell aggregates CM are formed by culturing the seeded cells C. Cell C is usually cultured in a medium. As this medium, a conventionally known medium can be appropriately selected according to the type of cells C to be seeded. Examples of the medium include MEM medium, BME medium, DME medium, αMEM medium, IMEM medium, ES medium, DM-160 medium, Fisher medium, F12 medium, WE medium, RPMI medium, and mixed media thereof. . In addition, as a medium for angiogenic cells, a medium obtained by adding serum components such as fetal calf serum to the above medium can also be used. The type of the medium may be changed for each passage, or the same medium may be used.

培養温度としては、35℃〜38℃が好ましく、36℃〜37℃がより好ましい。培養時間としては、2日間〜7日間が好ましく、2日間〜4日間がより好ましい。形成される細胞凝集体の大きさとしては、細胞活動性の観点から、直径300μm以下が好ましく、直径100μm〜200μmがより好ましい。   As culture | cultivation temperature, 35 to 38 degreeC is preferable and 36 to 37 degreeC is more preferable. The culture time is preferably 2 days to 7 days, more preferably 2 days to 4 days. The size of the formed cell aggregate is preferably 300 μm or less, more preferably 100 μm to 200 μm, from the viewpoint of cell activity.

得られた細胞凝集体CMは、キレート(EDTA)処理又はピペッティング等により膜(α)から剥がすことができ(図5参照)、これを遠心分離して回収することができる。   The obtained cell aggregate CM can be peeled off from the membrane (α) by chelate (EDTA) treatment or pipetting (see FIG. 5), and can be collected by centrifugation.

<細胞凝集体形成用基材の製造方法>
本発明の細胞凝集体形成用基材の製造方法は、
(b1)ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜を形成する工程(以下、「工程(b1)」ともいう)、及び
(b2)上記膜に偏光紫外線を照射する工程(以下、「工程(b2)」ともいう)
を有する。
当該細胞凝集体用基材の製造方法は、ポリイミド等が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程を有しているため、従来のようなラビングによらず膜(α)表面への微細な凹凸形状を形成することができ、その結果、粉塵の発生を防止することができる。
<Method for producing substrate for cell aggregate formation>
The method for producing a cell aggregate-forming substrate of the present invention comprises:
(B1) a step of forming a film mainly composed of polyimide or a precursor thereof (hereinafter also referred to as “step (b1)”), and (b2) a step of irradiating the film with polarized ultraviolet rays (hereinafter referred to as “step (b2)”. ) ")
Have
Since the method for producing the cell aggregate base material has a step of irradiating polarized ultraviolet light onto a film containing polyimide or the like as a main component, it is finely applied to the surface of the film (α) irrespective of conventional rubbing. An uneven shape can be formed, and as a result, generation of dust can be prevented.

[工程(b1)]
本工程では、ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜(α)を形成する。この膜(α)は、通常、基板上に形成される。上記ポリイミド等及び基板としては、例えば、上述の<細胞凝集体の形成方法>におけるそれぞれの説明を適用することができる。
[Step (b1)]
In this step, a film (α) whose main component is polyimide or a precursor thereof is formed. This film (α) is usually formed on a substrate. As said polyimide etc. and a board | substrate, each description in the above-mentioned <the formation method of a cell aggregate> is applicable, for example.

上記膜(α)の形成方法としては、例えば、ポリイミド又はポリアミック酸が溶解した溶液を上記基板上に塗布することで形成する方法等が挙げられる。また、膜(α)の主成分がポリイミドである場合、基板上にポリアミック酸溶液を塗布した後、これを加熱することにより脱水閉環してポリイミドの膜(α)を形成する方法等も挙げられる。この場合の加熱条件としては、上述の(ポリイミドの合成方法)の項で説明したものと同様の条件を適用することができる。   Examples of the method for forming the film (α) include a method in which a solution in which polyimide or polyamic acid is dissolved is applied on the substrate. In addition, when the main component of the film (α) is polyimide, a method of forming a polyimide film (α) by applying a polyamic acid solution on a substrate and then heating and dehydrating and closing the film is also included. . As the heating conditions in this case, the same conditions as those described in the above section (Method of synthesizing polyimide) can be applied.

[工程(b2)]
本工程では、上記膜(α)に偏光紫外線を照射する。偏光紫外線及びその照射方法としては、細胞凝集体の形成方法における(a1)工程で説明したものと同様のものを適用することができる。
[Step (b2)]
In this step, the film (α) is irradiated with polarized ultraviolet rays. As the polarized ultraviolet light and its irradiation method, those described in the step (a1) in the method for forming a cell aggregate can be applied.

<細胞凝集体形成用基材>
図2に示すように、本発明の細胞凝集体形成用基材Aは、基板100と、この基板100の表面に形成され、ポリイミド又はその前駆体を主成分とする膜(α)(図2において符号2で表される膜)とを備え、上記膜(α)が偏光紫外線を照射されたものである。当該細胞凝集体形成用基材Aは、細胞凝集体の形成に用いられる。具体的には、当該細胞凝集体形成用基材Aの偏光紫外線が照射された膜(α)の表面に細胞を播種し、この細胞を培養することで細胞凝集体を形成することができる。
当該細胞凝集体形成用基材Aは、偏光紫外線が照射されたポリイミド等が主成分の膜(α)を備えているため、粉塵の付着が抑制された基材により、品質の高い細胞凝集体を形成することができる。
<Base material for cell aggregate formation>
As shown in FIG. 2, the base material A for forming cell aggregates of the present invention is formed on a substrate 100 and a film (α) formed on the surface of the substrate 100 and containing polyimide or a precursor thereof as a main component (FIG. 2). The film (α) is irradiated with polarized ultraviolet rays. The cell aggregate-forming substrate A is used for forming cell aggregates. Specifically, a cell aggregate can be formed by seeding cells on the surface of the membrane (α) irradiated with polarized ultraviolet rays of the cell aggregate-forming substrate A and culturing the cells.
Since the substrate A for forming cell aggregates includes a film (α) whose main component is polyimide or the like irradiated with polarized ultraviolet rays, high-quality cell aggregates are formed by the substrate in which the adhesion of dust is suppressed. Can be formed.

上記基板100、ポリイミド等及び当該細胞凝集体形成用基材Aの製造方法としては、上述の<細胞凝集体の形成方法>及び<細胞凝集体形成用基材の製造方法>の項におけるそれぞれの説明を適用することができる。   As a manufacturing method of the said board | substrate 100, a polyimide, etc. and the said base material A for cell aggregate formation, each in the above-mentioned <Method for forming cell aggregate> and <Method for manufacturing base material for cell aggregate formation> The explanation can be applied.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。各物性値の測定方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. The measuring method of each physical property value is shown below.

<ポリイミドの合成>
[合成例1]
特定テトラカルボン酸二無水物としての1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物19.2g(0.98モル)及びジアミン化合物としての2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン41.0g(0.1モル)を、NMP343.5g中に投入し、室温で10時間反応させてポリイミドの前駆体(ポリアミック酸)溶液を得た。
<Synthesis of polyimide>
[Synthesis Example 1]
19.2 g (0.98 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as a specific tetracarboxylic dianhydride and 2,2-bis (4-aminophenyl) hexa as a diamine compound 41.0 g (0.1 mol) of fluoropropane was put into 343.5 g of NMP and reacted at room temperature for 10 hours to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.

<ポリイミドの膜形成>
合成例1で合成したポリアミック酸の溶液をガラス基板上にスピンコートし、次いで、80℃のホットプレート上で1分間プレベークして溶媒を蒸発させた。その後、230℃のホットプレート上で10分間ポストベークして脱水閉環させ、膜厚100nmのポリイミドの膜(α)を形成した。
<Polyimide film formation>
The solution of polyamic acid synthesized in Synthesis Example 1 was spin-coated on a glass substrate, and then pre-baked on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent. Thereafter, post-baking was performed on a hot plate at 230 ° C. for 10 minutes to cause dehydration and ring closure, and a polyimide film (α) having a film thickness of 100 nm was formed.

<細胞凝集体形成用基材及び細胞凝集体の形成>
[実施例1]
上述のようにして作製したポリイミド膜の全面に、波長254nmの偏光紫外線を10,000J/m照射して細胞凝集体形成用基材を作製した後、この偏光紫外線を照射したポリイミド膜の表面に2.7×10cells/mlの濃度でラット皮膚由来繊維芽細胞(FR細胞)を播種し、培地を用いて上記細胞を37℃で4日間培養した。
<Formation of cell aggregate-forming substrate and cell aggregate>
[Example 1]
The surface of the polyimide film irradiated with the polarized ultraviolet light was prepared by irradiating the entire surface of the polyimide film prepared as described above with 10,000 J / m 2 of polarized ultraviolet light having a wavelength of 254 nm to produce a cell aggregate-forming substrate. Rat skin-derived fibroblasts (FR cells) were seeded at a concentration of 2.7 × 10 5 cells / ml, and the cells were cultured at 37 ° C. for 4 days using a medium.

[比較例1]
偏光紫外線を照射しないこと以外は、実施例1と同様に操作し、FR細胞を培養した。
[Comparative Example 1]
FR cells were cultured in the same manner as in Example 1 except that polarized ultraviolet rays were not irradiated.

上記培養の結果、実施例では播種したFR細胞が増殖して細胞凝集体を形成することができたのに対し、比較例では細胞の増殖が見られず細胞凝集体を形成することができなかった。なお、実施例において偏光紫外線照射後のポリイミド膜の表面に粉塵の付着は見られなかった。   As a result of the above culture, the seeded FR cells were able to proliferate and form cell aggregates in the examples, whereas in the comparative example, cell proliferation was not observed and cell aggregates could not be formed. It was. In the examples, no dust was observed on the surface of the polyimide film after irradiation with polarized ultraviolet rays.

本発明は、ポリイミド等の膜表面への微細な凹凸形成の際、粉塵の発生を防止することができる。そのため、本発明は、粉塵の発生を防止可能な細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材の製造方法及び細胞凝集体形成用基材を提供することができる。従って、当該細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材及びその製造方法は、形成される細胞凝集体の品質を向上、更には粉塵除去の不要化による生産性の向上が可能な細胞凝集体の形成プロセスに好適に適用することができる。   This invention can prevent generation | occurrence | production of dust in the case of fine uneven | corrugated formation to film surfaces, such as a polyimide. Therefore, this invention can provide the formation method of the cell aggregate which can prevent generation | occurrence | production of dust, the manufacturing method of the base material for cell aggregate formation, and the base material for cell aggregate formation. Therefore, the cell aggregate formation method, the cell aggregate formation base material, and the production method thereof can improve the quality of the formed cell aggregate, and further improve the productivity by eliminating the need for dust removal. The present invention can be suitably applied to the aggregate formation process.

A 細胞凝集体形成用基材
C 細胞
CM 細胞凝集体
1 偏光紫外線照射前の膜(α)
2 偏光紫外線照射後の膜(α)
100 基板
A A cell aggregate-forming substrate C Cell CM Cell aggregate 1 Film before irradiation with polarized ultraviolet light (α)
2 Film after irradiation with polarized UV light (α)
100 substrates

Claims (3)

(a1)ポリイミド又はその前駆体であるポリアミック酸が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程、
(a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び
(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程
を有し、
上記ポリイミド又はその前駆体であるポリアミック酸が、偏光紫外線により光開裂反応を生ずるもの、又は光配向性基を有するものであり、
上記偏光紫外線により光開裂反応を生ずるポリイミドが、下記式(1)で表される構造単位を有し、
上記光配向性基が桂皮酸構造を含む基である細胞凝集体の形成方法。
Figure 0006035972
(式(1)中、R は、下記式(i−1)〜(i−6)のいずれかで表される4価の有機基である。R は、炭素数1〜20の2価の有機基である。)
Figure 0006035972
(式(i−1)、式(i−3)及び式(i−4)中、R A1 、R A3 及びR A4 は、それぞれ独立して、炭素数1〜4の1価の有機基である。n1は、0〜4の整数である。n3は、0〜4の整数である。n4は、0〜8の整数である。R A1 、R A3 及びR A4 がそれぞれ複数の場合、複数のR A1 、R A3 及びR A4 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
式(i−2)中、R A21 は、炭素数1〜4の1価の有機基である。n2は、0〜6の整数である。R A22 は、単結合、メチレン基又は炭素数2〜4のアルキレン基である。n2が2以上の場合、複数のR A21 は、同一でも異なっていてもよい。
式(i−5)中、R A5 は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n5は、0〜9の整数である。n5が2以上の場合、複数のR A5 は、同一でも異なっていてもよい。
式(i−6)中、R A61 は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n61は、0〜5の整数である。R A62 は、フッ素原子又は炭素数1〜4の1価の有機基である。n62は、0〜4の整数である。R A61 及びR A62 がそれぞれ複数の場合、複数のR A61 及びR A62 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
式(i−1)〜(i−6)中、*は、炭素原子との結合部位を示す。)
(A1) A step of irradiating polarized ultraviolet rays to a film mainly composed of polyimide or a precursor thereof , polyamic acid ,
(A2) a step of seeding cells on the surface of the membrane irradiated with polarized ultraviolet light, and (a3) a step of forming a cell aggregate by culturing the seeded cells,
Polyamic acid is the polyimide or its precursor, which produces a light cleavage reaction by polarized UV, or all SANYO having photoalignable group,
The polyimide that causes a photocleavage reaction by the polarized ultraviolet light has a structural unit represented by the following formula (1),
Method of forming Ah Ru cell aggregates group the optical alignment group comprises cinnamic acid structure.
Figure 0006035972
(In the formula (1), R 1 is a tetravalent organic group represented by any of the following formulas (i-1) to (i-6). R 2 is 2 having 1 to 20 carbon atoms. Valent organic group.)
Figure 0006035972
(In Formula (i-1), Formula (i-3) and Formula (i-4), R A1 , R A3 and R A4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. N1 is an integer of 0 to 4. n3 is an integer of 0 to 4. n4 is an integer of 0 to 8. When R A1 , R A3, and R A4 are each plural, plural R A1 , R A3 and R A4 may be the same or different.
In formula (i-2), R A21 is a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n2 is an integer of 0-6. R A22 is a single bond, a methylene group or an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. When n2 is 2 or more, the plurality of R A21 may be the same or different.
In formula (i-5), R A5 represents a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n5 is an integer of 0-9. When n5 is 2 or more, the plurality of R A5 may be the same or different.
In formula (i-6), R A61 represents a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n61 is an integer of 0-5. R A62 is a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n62 is an integer of 0-4. If R A61 and R A62 is plural respective plurality of R A61 and R A62 may each be the same or different.
In formulas (i-1) to (i-6), * represents a bonding site with a carbon atom. )
上記ポリイミド又はその前駆体がフッ素原子を含む請求項1に記載の細胞凝集体の形成方法。 The method for forming a cell aggregate according to claim 1 , wherein the polyimide or a precursor thereof contains a fluorine atom. (b1)ポリイミド又はその前駆体であるポリアミック酸が主成分の膜を形成する工程、及び
(b2)上記膜に偏光紫外線を照射する工程
を有し、
上記ポリイミド又はその前駆体であるポリアミック酸が、偏光紫外線により光開裂反応を生ずるもの、又は光配向性基を有するものであり、
上記偏光紫外線により光開裂反応を生ずるポリイミドが、下記式(1)で表される構造単位を有し、
上記光配向性基が、桂皮酸構造を含む基である細胞凝集体形成用基材の製造方法。
Figure 0006035972
(式(1)中、R は、下記式(i−1)〜(i−6)のいずれかで表される4価の有機基である。R は、炭素数1〜20の2価の有機基である。)
Figure 0006035972
(式(i−1)、式(i−3)及び式(i−4)中、R A1 、R A3 及びR A4 は、それぞれ独立して、炭素数1〜4の1価の有機基である。n1は、0〜4の整数である。n3は、0〜4の整数である。n4は、0〜8の整数である。R A1 、R A3 及びR A4 がそれぞれ複数の場合、複数のR A1 、R A3 及びR A4 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
式(i−2)中、R A21 は、炭素数1〜4の1価の有機基である。n2は、0〜6の整数である。R A22 は、単結合、メチレン基又は炭素数2〜4のアルキレン基である。n2が2以上の場合、複数のR A21 は、同一でも異なっていてもよい。
式(i−5)中、R A5 は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n5は、0〜9の整数である。n5が2以上の場合、複数のR A5 は、同一でも異なっていてもよい。
式(i−6)中、R A61 は、フッ素原子又は炭素数1若しくは2の1価の有機基である。n61は、0〜5の整数である。R A62 は、フッ素原子又は炭素数1〜4の1価の有機基である。n62は、0〜4の整数である。R A61 及びR A62 がそれぞれ複数の場合、複数のR A61 及びR A62 は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
式(i−1)〜(i−6)中、*は、炭素原子との結合部位を示す。)
(B1) a step of forming a film mainly composed of polyimide or a precursor thereof polyamic acid , and (b2) a step of irradiating the film with polarized ultraviolet rays,
Polyamic acid is the polyimide or its precursor, which produces a light cleavage reaction by polarized UV, or all SANYO having photoalignable group,
The polyimide that causes a photocleavage reaction by the polarized ultraviolet light has a structural unit represented by the following formula (1),
The optical alignment group is, the production method of Ah Ru cell aggregate formation base materials by a group containing a cinnamic acid structure.
Figure 0006035972
(In the formula (1), R 1 is a tetravalent organic group represented by any of the following formulas (i-1) to (i-6). R 2 is 2 having 1 to 20 carbon atoms. Valent organic group.)
Figure 0006035972
(In Formula (i-1), Formula (i-3) and Formula (i-4), R A1 , R A3 and R A4 are each independently a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. N1 is an integer of 0 to 4. n3 is an integer of 0 to 4. n4 is an integer of 0 to 8. When R A1 , R A3, and R A4 are each plural, plural R A1 , R A3 and R A4 may be the same or different.
In formula (i-2), R A21 is a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n2 is an integer of 0-6. R A22 is a single bond, a methylene group or an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. When n2 is 2 or more, the plurality of R A21 may be the same or different.
In formula (i-5), R A5 represents a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n5 is an integer of 0-9. When n5 is 2 or more, the plurality of R A5 may be the same or different.
In formula (i-6), R A61 represents a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 or 2 carbon atoms. n61 is an integer of 0-5. R A62 is a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. n62 is an integer of 0-4. If R A61 and R A62 is plural respective plurality of R A61 and R A62 may each be the same or different.
In formulas (i-1) to (i-6), * represents a bonding site with a carbon atom. )
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