JP6035096B2 - Laser processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、被加工物にレーザ光を照射して加工を行うレーザ加工装置に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus that performs processing by irradiating a workpiece with laser light.

レーザ加工装置としては、例えば特許文献1に示された装置が知られている。この種の加工装置では、波長が532nm程度のグリーンレーザ光がガラス基板等のワークに照射される。グリーンレーザ光は、一般的にはガラス基板を透過するが、レーザ光を集光し、その強度があるしきい値を越えると、ガラス基板はレーザ光を吸収することになる。このような状態では、レーザ光の集光部にプラズマが発生し、これによりガラス基板は蒸散する。以上のような原理を利用して、ガラス基板に孔を形成する等の加工が可能である。   As a laser processing apparatus, for example, an apparatus disclosed in Patent Document 1 is known. In this type of processing apparatus, a green laser beam having a wavelength of about 532 nm is irradiated onto a workpiece such as a glass substrate. The green laser light is generally transmitted through the glass substrate, but when the laser light is collected and the intensity exceeds a certain threshold value, the glass substrate absorbs the laser light. In such a state, plasma is generated in the condensing part of the laser beam, and thereby the glass substrate is evaporated. Processing such as forming a hole in the glass substrate can be performed using the principle described above.

また、特許文献2には、回折光学素子(DOE)を用いて複数の集光点をガラス基板上に形成し、この複数の集光点を回転しつつ加工ラインに沿って走査することによってガラス基板を加工することが示されている。   In Patent Document 2, a plurality of condensing points are formed on a glass substrate using a diffractive optical element (DOE), and the plurality of condensing points are scanned along a processing line while rotating. It is shown that the substrate is processed.

特許文献1に示されたような従来のレーザ加工装置では、レーザ光を偏向する手段、あるいはレーザ光を偏向及び分岐する手段を回転させている。このような構成では、偏向手段又は偏向・分岐手段は多くの制約を受けることになる。例えば、以上の各手段の回転バランスを良好にする必要があるし、偏向角が影響を受けないように入射ビームに対して傾かないようにする必要がある。さらに、各手段が複数の素子から構成される場合は、高速で回転させても各素子間の位置関係等が崩れないようにしなければならない。   In a conventional laser processing apparatus as disclosed in Patent Document 1, a means for deflecting laser light or a means for deflecting and branching laser light is rotated. In such a configuration, the deflection unit or the deflection / branching unit is subject to many restrictions. For example, it is necessary to make the rotational balance of each of the above means good, and it is necessary not to tilt the incident beam so that the deflection angle is not affected. Furthermore, when each means is composed of a plurality of elements, it must be ensured that the positional relationship between the elements does not collapse even if it is rotated at a high speed.

特許文献2に示されるようなDOEを用いた場合は、以上の問題を解消することができると考えられる。しかし、DOEを用いた場合、加工に寄与する±1次の回折光より高次の回折光が加工ラインの外側に照射される。この照射によってガラス基板がダメージを受けるという問題がある。   When DOE as shown in Patent Document 2 is used, it is considered that the above problems can be solved. However, when DOE is used, higher-order diffracted light than the first-order diffracted light that contributes to processing is irradiated to the outside of the processing line. There is a problem that the glass substrate is damaged by this irradiation.

そこで、特許文献3に示されるように、ワークの上方に遮光板を設け、高次の回折光を遮光するようにした技術が提案されている。   Therefore, as shown in Patent Document 3, a technique has been proposed in which a light-shielding plate is provided above the workpiece to shield higher-order diffracted light.

特開2007−118054号公報JP 2007-118054 A 特開2011−11917号公報JP 2011-11917 A 特開2008−188653号公報JP 2008-188653 A

特許文献3に示された装置では、回折格子とワークとの間に、ワークに近接して遮光板が配置されている。しかし、ワークに近接して遮光板を配置することは装置の構成上困難であり、ワークと遮光板との干渉を避けるために構成が複雑になる可能性がある。   In the apparatus disclosed in Patent Document 3, a light shielding plate is disposed between the diffraction grating and the work in proximity to the work. However, it is difficult to arrange the light shielding plate close to the work because of the configuration of the apparatus, and the structure may be complicated in order to avoid interference between the work and the light shielding plate.

本発明の課題は、レーザ光を分岐するためにDOEを用いた場合に、簡単な構成で高次の回折光を遮光できるようにすることにある。   An object of the present invention is to enable high-order diffracted light to be shielded with a simple configuration when a DOE is used to split a laser beam.

本発明の第1側面に係るレーザ加工装置は、被加工物にレーザ光を照射して加工を行う装置であって、被加工物が載置されるワークテーブルと、レーザ光を出力するレーザ光出力部と、レーザ光分岐手段と、ガルバノスキャナと、結像ユニットと、集光手段と、を備えている。レーザ光分岐手段は、回折光学素子を含み、レーザ光出力部からのレーザ光を複数のレーザ光に分岐する。ガルバノスキャナは入力されるレーザ光をワークテーブルに載置された被加工物上で走査する。結像ユニットは、レーザ光分岐手段とガルバノスキャナとの間に配置され、回折光学素子の所定以上の高次のレーザ光を遮光する遮光板を含み、回折光学素子の像をガルバノスキャナの位置に結像する。集光手段はガルバノスキャナからのレーザ光を被加工物上に集光する。   A laser processing apparatus according to a first aspect of the present invention is an apparatus that performs processing by irradiating a workpiece with laser light, a work table on which the workpiece is placed, and laser light that outputs laser light. An output unit, a laser beam branching unit, a galvano scanner, an imaging unit, and a focusing unit are provided. The laser beam branching unit includes a diffractive optical element, and branches the laser beam from the laser beam output unit into a plurality of laser beams. The galvano scanner scans an input laser beam on a workpiece placed on a work table. The imaging unit is disposed between the laser beam branching unit and the galvano scanner, and includes a light-shielding plate that blocks higher-order laser light than a predetermined level of the diffractive optical element. Form an image. The condensing means condenses the laser beam from the galvano scanner on the workpiece.

この装置では、レーザ光出力部から出力されたレーザ光は、レーザ光分岐手段の回折光学素子によって分岐される。この分岐されたレーザ光は、高次のレーザ光を含んでいるが、高次のレーザ光は遮光板によって遮光される。そして、遮光板を通過したレーザ光は、集光手段によって、被加工物の例えば表面に集光させられる。集光されたレーザ光は、ガルバノスキャナによって被加工物上で任意の軌跡に沿って走査される。   In this apparatus, the laser beam output from the laser beam output unit is branched by the diffractive optical element of the laser beam branching unit. The branched laser light includes high-order laser light, but the high-order laser light is shielded by the light shielding plate. Then, the laser light that has passed through the light shielding plate is condensed on, for example, the surface of the workpiece by the condensing means. The condensed laser light is scanned along an arbitrary locus on the workpiece by a galvano scanner.

ここでは、回折光学素子によって発生した高次のレーザ光は遮光板によって遮光される。そして、遮光板と被加工物との間には集光手段が設けられているので、遮光板の配置に関して自由度が増す。このため、遮光板と被加工物との干渉を容易に避けることができる。   Here, the high-order laser light generated by the diffractive optical element is shielded by the light shielding plate. And since the condensing means is provided between the light-shielding plate and the workpiece, the degree of freedom regarding the arrangement of the light-shielding plate is increased. For this reason, the interference between the light shielding plate and the workpiece can be easily avoided.

本発明の第2側面に係るレーザ加工装置は、第1側面の装置において、結像ユニットは、集光レンズと、リレーレンズと、をさらに有している。集光レンズは、回折光学素子と遮光板との間に配置され、回折光学素子からのレーザ光を遮光板の近傍に集光させる。リレーレンズは、回折光学素子とガルバノスキャナとの間に配置され、遮光板を通過したレーザ光を平行光にする。   The laser processing apparatus according to the second aspect of the present invention is the apparatus according to the first aspect, wherein the imaging unit further includes a condenser lens and a relay lens. The condenser lens is disposed between the diffractive optical element and the light shielding plate, and condenses the laser light from the diffractive optical element in the vicinity of the light shielding plate. The relay lens is disposed between the diffractive optical element and the galvano scanner, and converts the laser light that has passed through the light shielding plate into parallel light.

本発明の第3側面に係るレーザ加工装置は、第2側面の装置において、集光レンズの集光点とワークテーブルに載置された被加工物とは共役関係にある位置に配置されている。   The laser processing apparatus according to the third aspect of the present invention is arranged at a position where the condensing point of the condensing lens and the workpiece placed on the work table are in a conjugate relationship in the apparatus of the second aspect. .

ここでは、被加工物上において、回折光学素子の高次のレーザ光が照射されることはなく、高次のレーザ光による被加工物へのダメージを避けることができる。   Here, the workpiece is not irradiated with the higher-order laser light from the diffractive optical element, and damage to the workpiece due to the higher-order laser light can be avoided.

本発明の第4側面に係るレーザ加工装置は、第1から第3側面のいずれかの装置において、レーザ光分岐手段を入力するレーザ光の光軸の回りに回転させる回転手段をさらに備えている。   The laser processing apparatus according to the fourth aspect of the present invention further includes a rotating means for rotating the laser light branching means around the optical axis of the input laser light in any of the first to third aspect apparatuses. .

ここでは、分岐されたレーザ光を回転させるので、高速の加工が行える。   Here, since the branched laser beam is rotated, high-speed processing can be performed.

本発明の第5側面に係るレーザ加工装置は、第1から第4側面のいずれかの装置において、レーザ光分岐手段は、前記集光手段によって集光されるレーザ光が1つの円周上に位置するようにレーザ光を分岐する。   The laser processing apparatus according to the fifth aspect of the present invention is the laser processing apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the laser beam branching unit is configured such that the laser beam focused by the focusing unit is on one circumference. The laser beam is branched so as to be positioned.

本発明の第6側面に係るレーザ加工装置は、第1から第5側面のいずれかの装置において、集光手段は、ガルバノスキャナに対して光軸方向に移動自在なレンズである。   In the laser processing apparatus according to the sixth aspect of the present invention, in any of the first to fifth aspects, the condensing means is a lens that is movable in the optical axis direction with respect to the galvano scanner.

ここでは、集光手段をガルバノスキャナに対して相対的に移動し、被加工物内に結像される位置(集光点)の深さを制御することができる。   Here, it is possible to control the depth of the position (focusing point) formed in the workpiece by moving the condensing means relative to the galvano scanner.

本発明の第7側面に係るレーザ加工装置は、第1から第6側面のいずれかの装置において、遮光板は、回折光学素子からの1次光が通過し、2次以上の光が遮光される位置に配置されている。   The laser processing apparatus according to the seventh aspect of the present invention is the apparatus according to any one of the first to sixth aspects, wherein the first-order light from the diffractive optical element passes and the second-order or higher-order light is shielded by the light shielding plate. It is arranged at the position.

以上のような本発明では、レーザ光を分岐するために回折光学素子を用いた場合に、簡単な構成で高次の回折光を遮光することができる。   In the present invention as described above, when a diffractive optical element is used for branching laser light, high-order diffracted light can be shielded with a simple configuration.

本発明の一実施形態によるレーザ加工装置の外観斜視図。1 is an external perspective view of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. ワークテーブルの拡大斜視図。The expansion perspective view of a work table. レーザ照射ヘッドの構成を拡大して示す斜視図。The perspective view which expands and shows the structure of a laser irradiation head. DOEを含む中空モータと、その後段の光学系を示す模式図。The schematic diagram which shows the hollow motor containing DOE and the optical system of the latter stage. 結像ユニットの一例を示す図。The figure which shows an example of an imaging unit. 遮光板の位置を説明するための図。The figure for demonstrating the position of a light-shielding plate. 集光点を走査する動作を説明する模式図。The schematic diagram explaining the operation | movement which scans a condensing point. 集光点をZ軸方向に制御する作用を説明する模式図。The schematic diagram explaining the effect | action which controls a condensing point to a Z-axis direction. 結像(集光位置)の他の例を示す図。The figure which shows the other example of imaging (condensing position). 結像(集光位置)のさらに他の例を示す図。The figure which shows the further another example of image formation (condensing position).

[全体構成]
図1に本発明の一実施形態によるレーザ加工装置の全体構成を示す。このレーザ加工装置は、ワークとしての例えばガラス基板にレーザ光を照射して孔開け等の加工を行うための装置であり、ベッド1と、ワークとしてのガラス基板が載置されるワークテーブル2と、ガラス基板にレーザ光を照射するためのレーザ光照射ヘッド3と、を備えている。ここで、図1に示すように、ベッド1の上面に沿った平面において、互いに直交する軸をX軸、Y軸とし、これらの軸に直交する鉛直方向の軸をZ軸と定義する。また、X軸に沿った両方向(+方向及び−方向)をX軸方向、Y軸に沿った両方向をY軸方向、Z軸に沿った両方向をZ軸方向と定義する。
[overall structure]
FIG. 1 shows the overall configuration of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. This laser processing apparatus is an apparatus for irradiating a laser beam, for example, to a glass substrate as a workpiece to perform drilling or the like, and includes a bed 1 and a work table 2 on which a glass substrate as a workpiece is placed. And a laser beam irradiation head 3 for irradiating the glass substrate with the laser beam. Here, as shown in FIG. 1, in the plane along the upper surface of the bed 1, the axes orthogonal to each other are defined as the X axis and the Y axis, and the vertical axis orthogonal to these axes is defined as the Z axis. Further, both directions (+ direction and − direction) along the X axis are defined as the X axis direction, both directions along the Y axis are defined as the Y axis direction, and both directions along the Z axis are defined as the Z axis direction.

[ワークテーブル及びその移動機構]
<ワークテーブル2>
ワークテーブル2は、矩形状に形成されており、ワークテーブル2の下方には、ワークテーブル2をX軸方向及びY軸方向に移動させるためのテーブル移動機構5が設けられている。
[Work table and its moving mechanism]
<Worktable 2>
The work table 2 is formed in a rectangular shape, and a table moving mechanism 5 for moving the work table 2 in the X-axis direction and the Y-axis direction is provided below the work table 2.

ワークテーブル2は、図2に拡大して示すように、複数のブロック6を有している。この複数のブロック6は、図中、二点差線で示すガラス基板Gをワークテーブル2の表面から持ち上げて支持するための部材であり、ガラス基板Gの加工ラインL(破線で示す)を避けるために、ワークテーブル2の任意の位置に取り付けることが可能である。また、ワークテーブル2には複数の吸気口2aが格子状に形成されるとともに、各ブロック6には上下方向に貫通する吸気孔6aが形成されている。そして、ブロック6の吸気孔6aとワークテーブル2の吸気口2aとを接続することによって、ブロック6上に配置されるガラス基板Gを吸着固定することが可能である。なお、吸気のための機構は、周知の排気ポンプ等によって構成されており、詳細は省略する。   The work table 2 has a plurality of blocks 6 as shown in an enlarged view in FIG. The plurality of blocks 6 are members for lifting and supporting the glass substrate G indicated by the two-dot chain line in the drawing from the surface of the work table 2, in order to avoid a processing line L (shown by a broken line) of the glass substrate G. In addition, it can be attached to an arbitrary position of the work table 2. The work table 2 is formed with a plurality of air inlets 2a in a lattice shape, and each block 6 is formed with an air inlet hole 6a penetrating in the vertical direction. Then, by connecting the intake hole 6a of the block 6 and the intake port 2a of the work table 2, the glass substrate G disposed on the block 6 can be adsorbed and fixed. The intake mechanism is constituted by a well-known exhaust pump or the like and will not be described in detail.

<テーブル移動機構5>
テーブル移動機構5は、図1に示すように、それぞれ1対の第1及び第2ガイドレール8,9と、第1及び第2移動テーブル10,11と、を有している。第1ガイドレール8はベッド1の上面にY軸方向に延びて設けられている。第1移動テーブル10は、第1ガイドレール8の上部に設けられ、第1ガイドレール8に移動自在に係合する複数のガイド部10aを下面に有している。第2ガイドレール9は第1移動テーブル10の上面にX軸方向に延びて設けられている。第2移動テーブル11は、第2ガイドレール9の上部に設けられ、第2ガイドレール9に移動自在に係合する複数のガイド部11aを下面に有している。第2移動テーブル11の上部には、固定部材12を介してワークテーブル2が取り付けられている。
<Table moving mechanism 5>
As shown in FIG. 1, the table moving mechanism 5 has a pair of first and second guide rails 8 and 9, and first and second moving tables 10 and 11, respectively. The first guide rail 8 is provided on the upper surface of the bed 1 so as to extend in the Y-axis direction. The first moving table 10 is provided on the upper part of the first guide rail 8, and has a plurality of guide portions 10 a that are movably engaged with the first guide rail 8 on the lower surface. The second guide rail 9 is provided on the upper surface of the first moving table 10 so as to extend in the X-axis direction. The second moving table 11 is provided on the upper part of the second guide rail 9 and has a plurality of guide portions 11 a that are movably engaged with the second guide rail 9 on the lower surface. The work table 2 is attached to the upper part of the second moving table 11 via a fixing member 12.

以上のようなテーブル移動機構5によって、ワークテーブル2は、X軸方向及びY軸方向に移動自在である。なお、第1及び第2移動テーブル10,11は、詳細は省略するが、周知のモータ等の駆動手段によって駆動されるようになっている。   By the table moving mechanism 5 as described above, the work table 2 is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction. The first and second moving tables 10 and 11 are driven by a driving means such as a well-known motor, although details are omitted.

[レーザ光照射ヘッド3]
レーザ光照射ヘッド3は、図1及び図3に示すように、ベッド1の上面に配置された門型フレーム1aに装着されており、レーザ光出力部15と、光学系16と、内部に回折光学素子が組み込まれた中空モータ17と、結像ユニット18と、X方向ガルバノミラー19x及びY方向ガルバノミラー19yを有するガルバノスキャナ19と、集光レンズ(集光手段)20と、を有している。また、レーザ光照射ヘッド3をX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構21と、中空モータ17、結像ユニット18、ガルバノスキャナ19、及び集光レンズ20をZ軸方向に移動させるためのZ軸方向移動機構22と、が設けられている。
[Laser beam irradiation head 3]
As shown in FIGS. 1 and 3, the laser light irradiation head 3 is mounted on a portal frame 1 a disposed on the upper surface of the bed 1, and diffracts in the laser light output unit 15, the optical system 16, and the inside. A hollow motor 17 incorporating an optical element, an imaging unit 18, a galvano scanner 19 having an X-direction galvanometer mirror 19x and a Y-direction galvanometer mirror 19y, and a condensing lens (condensing means) 20 are provided. Yes. Further, to move the X-axis direction moving mechanism 21 for moving the laser light irradiation head 3 in the X-axis direction, the hollow motor 17, the imaging unit 18, the galvano scanner 19, and the condenser lens 20 in the Z-axis direction. Z-axis direction moving mechanism 22 is provided.

<レーザ光出力部15>
レーザ光出力部15は従来と同様のレーザ管により構成されている。このレーザ光出力部15によって、波長532nmのグリーンレーザ光がY軸に沿ってワークテーブル2とは逆側に出射される。
<Laser light output unit 15>
The laser beam output unit 15 is composed of a laser tube similar to the conventional one. The laser light output unit 15 emits green laser light having a wavelength of 532 nm to the opposite side of the work table 2 along the Y axis.

<光学系16>
光学系16は、レーザ光出力部15からのレーザ光を中空モータ17に組み込まれた回折光学素子(後述)に導くものである。この光学系16は、図3に拡大して示すように、第1〜第4ミラー25〜28と、レーザ出力を計測するパワーモニタ29と、ビームエキスパンダ30と、を有している。
<Optical system 16>
The optical system 16 guides the laser light from the laser light output unit 15 to a diffractive optical element (described later) incorporated in the hollow motor 17. The optical system 16 includes first to fourth mirrors 25 to 28, a power monitor 29 for measuring laser output, and a beam expander 30, as shown in an enlarged manner in FIG.

第1ミラー25は、レーザ光出力部15の出力側の近傍に配置されており、Y軸方向に出射されたレーザ光をX軸方向に反射する。第2ミラー26は、X軸方向において第1ミラー25と並べて配置されており、X軸方向に進行するレーザ光をY軸方向に反射して、ワークテーブル2側に導く。第3ミラー27は、中空モータ17の上方に配置されており、第2ミラー26によって反射されてきたレーザ光を下方(Z軸方向)に導く。第4ミラー28は中空モータ17の横方向に近接して配置されており、第3ミラー27によって反射されてきたレーザ光を中空モータ17に導く。ビームエキスパンダ30は第2ミラー26と第3ミラー27との間に配置され、第2ミラー26によって反射されてきたレーザ光を一定の倍率の平行光束に拡げるために設けられている。このビームエキスパンダ30によって、レーザ光をより小さなスポットに集光させることが可能となる。   The first mirror 25 is disposed in the vicinity of the output side of the laser beam output unit 15 and reflects the laser beam emitted in the Y axis direction in the X axis direction. The second mirror 26 is arranged side by side with the first mirror 25 in the X-axis direction, reflects the laser light traveling in the X-axis direction in the Y-axis direction, and guides it to the work table 2 side. The third mirror 27 is disposed above the hollow motor 17 and guides the laser light reflected by the second mirror 26 downward (Z-axis direction). The fourth mirror 28 is disposed close to the horizontal direction of the hollow motor 17 and guides the laser beam reflected by the third mirror 27 to the hollow motor 17. The beam expander 30 is disposed between the second mirror 26 and the third mirror 27, and is provided to spread the laser light reflected by the second mirror 26 into a parallel light beam having a constant magnification. This beam expander 30 makes it possible to focus laser light on a smaller spot.

<中空モータ17>
中空モータ17は、図4の模式図で示すように、中心にX軸方向に延びる回転軸を有し、この回転軸を含む中央部17aが中空になっている。そして、この中空部17aに回折光学素子(Diffractive Optical Element:以下、「DOE」と記す)34が固定されている。回折光学素子34は、入力されたレーザ光を複数の光束に分岐するものである。
<Hollow motor 17>
As shown in the schematic diagram of FIG. 4, the hollow motor 17 has a rotation shaft extending in the X-axis direction at the center, and a central portion 17a including the rotation shaft is hollow. A diffractive optical element (hereinafter referred to as “DOE”) 34 is fixed to the hollow portion 17a. The diffractive optical element 34 branches the inputted laser light into a plurality of light beams.

<第1結像ユニット18>
図5において、一点鎖線Sはガルバノスキャナ19が配置されている位置を示している。なお、この位置は、X方向ガルバノミラー19x及びY方向ガルバノミラー19yのうちの一方であってもよいし、両ガルバノスキャナ19x,19yの中間の位置であってもよい。また、1つのガルバノミラーによってX,Y方向の走査を可能にしたミラーであれば、その1つのガルバノミラーの位置である。
<First imaging unit 18>
In FIG. 5, an alternate long and short dash line S indicates a position where the galvano scanner 19 is disposed. This position may be one of the X-direction galvanometer mirror 19x and the Y-direction galvanometer mirror 19y, or may be an intermediate position between the galvanometer scanners 19x and 19y. In addition, if the mirror enables scanning in the X and Y directions by one galvanometer mirror, it is the position of the one galvanometer mirror.

結像ユニット18は、集光レンズ181と、遮光板182と、リレーレンズ183と、を有している。集光レンズ181は、DOE34からの分岐された複数のレーザ光を集光させるためのレンズである。遮光板182は、集光レンズ181とリレーレンズ183との間に配置されている。遮光板182の中央部には、所定の大きさの径の円形の開口182aが形成されている。リレーレンズ183は遮光板182とガルバノスキャナ19との間に配置されている。このリレーレンズ183によって、遮光板182を通過した複数のレーザ光が平行光になる。   The imaging unit 18 includes a condenser lens 181, a light shielding plate 182, and a relay lens 183. The condensing lens 181 is a lens for condensing a plurality of branched laser beams from the DOE 34. The light shielding plate 182 is disposed between the condenser lens 181 and the relay lens 183. A circular opening 182 a having a predetermined diameter is formed at the center of the light shielding plate 182. The relay lens 183 is disposed between the light shielding plate 182 and the galvano scanner 19. By the relay lens 183, the plurality of laser beams that have passed through the light shielding plate 182 become parallel light.

なお、DOE34、集光レンズ181及び遮光版182は、集光レンズ181がDOE34からのレーザ光を遮光板182の近傍に集光させるように配置されている。また、集光レンズ181、遮光板182、及びリレーレンズ183は、集光レンズ181によるレーザ光の集光位置が、リレーレンズ183の遮光板182側の焦点に一致するように配置されている。この条件を満たせば、集光レンズ181、遮光板182、及びリレーレンズ183の相対位置は特に限定されない。そして、以上の条件を満たすことによって、DOE34の像がガルバノスキャナ19の位置において結像される。すなわち、DOE34とガルバノスキャナ19とは共役な位置に配置されている。   The DOE 34, the condensing lens 181 and the light shielding plate 182 are arranged so that the condensing lens 181 condenses the laser light from the DOE 34 in the vicinity of the light shielding plate 182. Further, the condensing lens 181, the light shielding plate 182, and the relay lens 183 are arranged so that the condensing position of the laser light by the condensing lens 181 coincides with the focal point of the relay lens 183 on the light shielding plate 182 side. If this condition is satisfied, the relative positions of the condenser lens 181, the light shielding plate 182, and the relay lens 183 are not particularly limited. By satisfying the above conditions, the image of the DOE 34 is formed at the position of the galvano scanner 19. That is, the DOE 34 and the galvano scanner 19 are arranged at conjugate positions.

また、集光レンズ20の位置は、集光レンズ181の集光点とワークテーブル2上のガラス基板Gとが共役な位置関係になるように配置されている。   Further, the position of the condensing lens 20 is arranged so that the condensing point of the condensing lens 181 and the glass substrate G on the work table 2 are in a conjugate positional relationship.

<ガルバノスキャナ19>
ガルバノスキャナ19はX方向ガルバノミラー19x及びY方向ガルバノミラー19yによって構成されている。X方向ガルバノミラー19xは、レーザ光のガラス基板G上における集光点を、X軸方向に走査させるためのミラーである。また、Y方向ガルバノミラー19yは、レーザ光のガラス基板G上における集光点を、Y軸方向に走査させるためのミラーである。これらのミラー19x,19yを駆動することによって、集光点をガラス基板Gの表面に沿った平面内で任意の方向に走査することができる。
<Galbano scanner 19>
The galvano scanner 19 includes an X-direction galvanometer mirror 19x and a Y-direction galvanometer mirror 19y. The X-direction galvanometer mirror 19x is a mirror for scanning the condensing point of the laser light on the glass substrate G in the X-axis direction. The Y-direction galvanometer mirror 19y is a mirror for scanning the condensing point of the laser light on the glass substrate G in the Y-axis direction. By driving these mirrors 19x and 19y, the condensing point can be scanned in an arbitrary direction within a plane along the surface of the glass substrate G.

<遮光板182の位置>
図6に遮光板182を配置すべき位置について示している。なお、図6は図5の遮光板182の上半分のみを示したものである。また、破線2LuはDOE34の2次光の上側の光線、破線2Llは2次光の下側の光線、実線1Luは1次光の上側の光線、実線1Llは1次光の下側の光線である。
<Position of light shielding plate 182>
FIG. 6 shows a position where the light shielding plate 182 should be arranged. FIG. 6 shows only the upper half of the light shielding plate 182 of FIG. Also, the broken line 2Lu is the upper ray of the secondary light of the DOE 34, the broken line 2Ll is the lower ray of the secondary light, the solid line 1Lu is the upper ray of the primary light, and the solid line 1Ll is the lower ray of the primary light. is there.

図6(a)は、1次光の上側の光線1Luと2次光の下側の光線2Llとが交わる位置に遮光板182を配置した場合である。この位置より図の左側(集光レンズ181側)では、1次光と2次光とが重なる部分があるために、遮光板182を配置する位置としては適切ではない。   FIG. 6A shows a case where the light shielding plate 182 is disposed at a position where the upper light beam 1Lu of the primary light and the lower light beam 2Ll of the secondary light intersect. Since there is a portion where the primary light and the secondary light overlap on the left side of the figure (condensing lens 181 side) from this position, it is not appropriate as a position where the light shielding plate 182 is disposed.

図6(c)は、1次光の下側の光線1Llと2次光の上側の光線2Luとが交わる位置に遮光板182を配置した場合である。この位置より図の右側(リレーレンズ183側)では、1次光と2次光とが重なり、遮光板182を配置することはできない。   FIG. 6C shows a case where the light shielding plate 182 is disposed at a position where the lower light beam 1Ll of the primary light and the upper light beam 2Lu of the secondary light intersect. On the right side of the figure (relay lens 183 side) from this position, the primary light and the secondary light overlap, and the light shielding plate 182 cannot be disposed.

以上から、図6(a)〜図6(c)の範囲において、集光レンズ181の集光点の近傍の、ワークに照射しない所定以上の高次のレーザ光(本実施形態では2次光)とワークに照射する所定未満の低次の回折光(本実施形態では1次光)とが重ならない範囲が遮光板182を配置すべき領域である。   From the above, in the range of FIG. 6A to FIG. 6C, a predetermined or higher-order laser beam (secondary light in this embodiment) in the vicinity of the condensing point of the condensing lens 181 that does not irradiate the workpiece. ) And the lower-order diffracted light (primary light in the present embodiment) that irradiates the workpiece less than a predetermined range is a region where the light shielding plate 182 is to be disposed.

<レーザ光照射ヘッド3の支持及び搬送系>
レーザ光照射ヘッド3は、前述のように、ベッド1の門型フレーム1aに支持されている。より詳細には、図3に示すように、門型フレーム1aの上面にはX軸方向に延びる1対の第3ガイドレール36が設けられており、この1対の第3ガイドレール36及び図示しない駆動機構がX軸方向移動機構21を構成している。そして、1対の第3ガイドレール36には、支持部材37が移動自在に支持されている。支持部材37は、第3ガイドレール36に支持された横支持部材38と、横支持部材38のワークテーブル2側の一端から下方に延びる縦支持部材39と、を有している。縦支持部材39の側面には、Z軸方向に延びる1対の第4ガイドレール40が設けられており、この1対の第4ガイドレール40及び図示しない駆動機構がZ軸方向移動機構22を構成している。第4ガイドレール40には、Z軸方向に移動自在に第3移動テーブル41が支持されている。
<Support and transport system of laser light irradiation head 3>
The laser beam irradiation head 3 is supported by the portal frame 1a of the bed 1 as described above. More specifically, as shown in FIG. 3, a pair of third guide rails 36 extending in the X-axis direction are provided on the upper surface of the portal frame 1a. The drive mechanism that does not constitute the X-axis direction moving mechanism 21. A support member 37 is movably supported by the pair of third guide rails 36. The support member 37 includes a horizontal support member 38 supported by the third guide rail 36 and a vertical support member 39 extending downward from one end of the horizontal support member 38 on the work table 2 side. A pair of fourth guide rails 40 extending in the Z-axis direction are provided on the side surface of the vertical support member 39, and the pair of fourth guide rails 40 and a driving mechanism (not shown) drive the Z-axis direction moving mechanism 22. It is composed. A third moving table 41 is supported on the fourth guide rail 40 so as to be movable in the Z-axis direction.

そして、レーザ光出力部15、第1〜第3ミラー25〜27、パワーモニタ29、及びビームエキスパンダ30が、横支持部材38に支持されている。また、第4ミラー28、中空モータ17、X及びY方向ガルバノミラー19x,19y、及び集光レンズ20が、第3移動テーブル41に支持されている。   The laser beam output unit 15, the first to third mirrors 25 to 27, the power monitor 29, and the beam expander 30 are supported by the lateral support member 38. The fourth mirror 28, the hollow motor 17, the X and Y direction galvanometer mirrors 19 x and 19 y, and the condenser lens 20 are supported by the third moving table 41.

[動作]
次に、レーザによるガラス基板の加工動作について説明する。
[Operation]
Next, the processing operation of the glass substrate by the laser will be described.

まず、ワークテーブル2の表面に複数のブロック6を設置する。このとき、複数のブロック6は、図2に示すように、ガラス基板Gの加工ラインLを避けるように配置する。以上のようにして設置された複数のブロック6上に、加工すべきガラス基板Gを載置する。   First, a plurality of blocks 6 are installed on the surface of the work table 2. At this time, the plurality of blocks 6 are arranged so as to avoid the processing line L of the glass substrate G, as shown in FIG. The glass substrate G to be processed is placed on the plurality of blocks 6 installed as described above.

次に、X軸方向移動機構21によってレーザ光照射ヘッド3をX軸方向に移動し、またテーブル移動機構5によってワークテーブル2をY軸方向に移動し、レーザ光照射ヘッド3によるレーザ光の集光点が加工ラインLのスタート位置にくるように位置させる。   Next, the laser beam irradiation head 3 is moved in the X axis direction by the X axis direction moving mechanism 21, and the work table 2 is moved in the Y axis direction by the table moving mechanism 5. The light spot is positioned at the start position of the processing line L.

以上のようにしてレーザ光照射ヘッド3及びガラス基板Gを加工位置に移動させた後、レーザ光をガラス基板Gに照射して加工を行う。ここでは、レーザ光出力部15から出射されたレーザ光は、第1ミラー25によって反射されて第2ミラー26に導かれる。なお、第1ミラー25に入射したレーザ光はパワーモニタ29によってレーザ出力が計測される。第2ミラー26に入射したレーザ光はY軸方向に反射され、ビームエキスパンダ30によって光束が拡げられて第3ミラー27に導かれる。そして、第3ミラー27で反射され、さらに第4ミラー28で反射されたレーザ光は、中空モータ17の中心部に設けられたDOE34に入力される。   After the laser light irradiation head 3 and the glass substrate G are moved to the processing position as described above, the processing is performed by irradiating the glass substrate G with the laser light. Here, the laser beam emitted from the laser beam output unit 15 is reflected by the first mirror 25 and guided to the second mirror 26. The laser output of the laser light incident on the first mirror 25 is measured by the power monitor 29. The laser light incident on the second mirror 26 is reflected in the Y-axis direction, and the light beam is expanded by the beam expander 30 and guided to the third mirror 27. The laser beam reflected by the third mirror 27 and further reflected by the fourth mirror 28 is input to a DOE 34 provided at the center of the hollow motor 17.

DOE34と、結像ユニット18と、ガルバノスキャナ19と、集光レンズ20と、によって、ガラス基板Gに複数の集光点が形成される。この動作について以下に詳細に説明する。   A plurality of condensing points are formed on the glass substrate G by the DOE 34, the imaging unit 18, the galvano scanner 19, and the condensing lens 20. This operation will be described in detail below.

図7に、DOE34及び集光レンズ20による作用を模式的に示している。なお、ここでは、結像ユニット18及びガルバノスキャナ19については簡略化して示している。DOE34に入力されたレーザ光は、DOE34の仕様に応じて複数に分岐される。この例では、DOE34及び集光レンズ20によって、円周上に90°間隔で配置される4つの焦点(集光点)を形成する例を示している。そして、DOE34を中空モータ17によって回転することにより、4つの集光点のすべてを、それらの中心軸Cを中心に回転させることができる。   FIG. 7 schematically shows the action of the DOE 34 and the condenser lens 20. Here, the imaging unit 18 and the galvano scanner 19 are shown in a simplified manner. The laser light input to the DOE 34 is branched into a plurality according to the specifications of the DOE 34. In this example, the DOE 34 and the condensing lens 20 show an example in which four focal points (condensing points) arranged at 90 ° intervals on the circumference are formed. Then, by rotating the DOE 34 by the hollow motor 17, it is possible to rotate all four condensing points around their central axes C.

そして、ガルバノスキャナ19のガルバノミラー19x,19yを制御することによって、回転する4つの集光点のすべてを、加工ラインL(図2では矩形、図4では円形)に沿って走査させる。すなわち、4つの集光点はそれらの中心軸Cを中心に回転しながら加工ラインに沿って走査されることになる。   Then, by controlling the galvanometer mirrors 19x and 19y of the galvano scanner 19, all four rotating condensing points are scanned along the processing line L (rectangular in FIG. 2, circular in FIG. 4). That is, the four condensing points are scanned along the processing line while rotating around their central axis C.

このとき、結像ユニット18では、遮光板182が設けられているので、DOE34からのレーザ光のうちの2次光は、遮光板182によって遮光され、ガラス基板G上に照射されることはない。このため、2次光によるガラス基板Gへのダメージをなくすことができる。   At this time, since the image forming unit 18 is provided with the light shielding plate 182, the secondary light of the laser light from the DOE 34 is shielded by the light shielding plate 182 and is not irradiated onto the glass substrate G. . For this reason, the damage to the glass substrate G by secondary light can be eliminated.

ここで、レーザ光による1回の加工でガラスが除去される高さは数十μmである。したがって、ガラス基板Gに孔開け加工を行う場合、集光点を加工ラインに沿って一度だけ走査しても孔を形成すること、すなわち加工ラインの内側の部分を抜き落とすことは、一般的に困難である。   Here, the height at which the glass is removed by one processing with a laser beam is several tens of μm. Therefore, when a hole is formed in the glass substrate G, it is generally possible to form a hole even if the condensing point is scanned only once along the processing line, that is, to remove a portion inside the processing line. Have difficulty.

そこで通常は、まず、集光点(加工部位)がガラス基板Gの下面に形成されるように、集光レンズ20を制御する(図8(a)参照)。この状態でレーザ光の結像位置(集光点)を加工ラインに沿って1周した後、集光レンズ20を制御することにより、図8(b)に示すように、集光点を上昇させる。そして、同様に集光点を加工ラインに沿って1周した後、さらに集光点を上昇させる。以上の動作を繰り返し実行することにより、加工ラインの内側部分を抜き落として孔を形成することができる。   Therefore, normally, first, the condensing lens 20 is controlled so that the condensing point (processed part) is formed on the lower surface of the glass substrate G (see FIG. 8A). In this state, after the laser beam imaging position (condensing point) makes one round along the processing line, the condensing lens 20 is controlled to raise the condensing point as shown in FIG. Let Similarly, after the condensing point makes one turn along the processing line, the condensing point is further raised. By repeatedly executing the above operation, a hole can be formed by removing the inner portion of the processing line.

なお、加工ラインが広範囲にわたり、X方向ガルバノミラー19x及びY方向ガルバノミラー19yによる走査範囲を越える場合がある。このような場合は、前述のような加工を行った後に、テーブル移動機構5によってワークテーブル2をX軸方向及びY軸方向に移動させて、ガラス基板Gの位置を変更する。そして、前述と同様にして、両ガルバノミラー19x,19yによってレーザ光を走査して加工すればよい。   There are cases where the processing line is wide and exceeds the scanning range of the X-direction galvanometer mirror 19x and the Y-direction galvanometer mirror 19y. In such a case, after processing as described above, the work table 2 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by the table moving mechanism 5 to change the position of the glass substrate G. Then, in the same manner as described above, the laser light may be scanned and processed by both galvanometer mirrors 19x and 19y.

[特徴]
以上のような本実施形態では、遮光板182をワークとしてのガラス基板Gから離れた位置に配置することができ、遮光板182とワークとの干渉を避けることができる。したがって、レーザ光を分岐するためにDOEを用いた場合に、容易に2次光を遮光することができ、高次光によってワークがダメージを受けるのを防止することができる。
[Feature]
In the present embodiment as described above, the light shielding plate 182 can be disposed at a position away from the glass substrate G as a workpiece, and interference between the light shielding plate 182 and the workpiece can be avoided. Therefore, when the DOE is used for branching the laser light, the secondary light can be easily shielded, and the work can be prevented from being damaged by the high-order light.

[他の実施形態]
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形又は修正が可能である。
[Other Embodiments]
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes or modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

(a)前記実施形態では、図7に示すように、円周上に4つの集光点を形成したが、集光点の個数、配置はこれに限定されない。例えば、図9に示すように、レーザ光を4本に分岐し、これらの集光点が直線状に並ぶようにしてもよい。この場合は、加工幅内において均一にレーザ光が照射されることになる。   (A) In the said embodiment, as shown in FIG. 7, four condensing points were formed on the circumference, However, The number and arrangement | positioning of a condensing point are not limited to this. For example, as shown in FIG. 9, the laser beam may be branched into four and these condensing points may be arranged in a straight line. In this case, the laser beam is irradiated uniformly within the processing width.

また、図10に示すように、複数の集光点が放射状に配置されるように形成しても良い。具体的には、図10の例では、円周上に等角度間隔で4つの集光点が形成されるとともに、これらの集光点を含めてX軸方向及びY軸方向に、それぞれ直線状に等間隔で4つの集光点が並ぶように形成されている。   Moreover, as shown in FIG. 10, you may form so that several condensing points may be arrange | positioned radially. Specifically, in the example of FIG. 10, four condensing points are formed at equal angular intervals on the circumference, and each of these condensing points is linear in the X axis direction and the Y axis direction. Are formed so that four condensing points are arranged at regular intervals.

(b)前記実施形態では、被加工物としてガラス基板を用いたが、被加工物は、レーザ光で加工可能な部材であればよく、ガラス基板に限定されない。   (B) In the said embodiment, although the glass substrate was used as a to-be-processed object, the to-be-processed object should just be a member which can be processed with a laser beam, and is not limited to a glass substrate.

2 ワークテーブル
3 レーザ光照射ヘッド
5 テーブル移動機構
15 レーザ光出力部
17 中空モータ
18 結像ユニット
19 ガルバノスキャナ
19x X方向ガルバノミラー
19y Y方向ガルバノミラー
20 集光レンズ
34 回折光学素子(DOE)
181 集光レンズ
182 遮光板
183 リレーレンズ
2 Work table 3 Laser irradiation head 5 Table moving mechanism 15 Laser light output unit 17 Hollow motor 18 Imaging unit 19 Galvano scanner 19x X direction galvano mirror 19y Y direction galvano mirror 20 Condensing lens 34 Diffractive optical element (DOE)
181 Condensing lens 182 Shading plate 183 Relay lens

Claims (7)

被加工物にレーザ光を照射して加工を行う加工装置であって、
被加工物が載置されるワークテーブルと、
レーザ光を出力するレーザ光出力部と、
回折光学素子を含み、前記レーザ光出力部からのレーザ光を複数のレーザ光に分岐するレーザ光分岐手段と、
入力されるレーザ光を前記ワークテーブルに載置された被加工物上で走査するためのガルバノスキャナと、
前記レーザ光分岐手段と前記ガルバノスキャナとの間に配置され、前記回折光学素子の所定以上の高次のレーザ光を遮光する遮光板を含み、前記回折光学素子の像を前記ガルバノスキャナの位置に結像するための結像ユニットと、
前記ガルバノスキャナからのレーザ光を前記被加工物上に集光するための集光手段と、
を備えたレーザ加工装置。
A processing apparatus that performs processing by irradiating a workpiece with laser light,
A work table on which a workpiece is placed;
A laser beam output unit for outputting a laser beam;
A laser beam branching unit that includes a diffractive optical element and branches the laser beam from the laser beam output unit into a plurality of laser beams;
A galvano scanner for scanning an input laser beam on a workpiece placed on the work table;
A light-shielding plate disposed between the laser beam branching unit and the galvano scanner, which shields a higher-order laser beam than the predetermined level of the diffractive optical element, and places an image of the diffractive optical element at the position of the galvano scanner An imaging unit for imaging;
Condensing means for condensing the laser light from the galvano scanner on the workpiece;
A laser processing apparatus comprising:
前記結像ユニットは、
前記回折光学素子と前記遮光板との間に配置され、前記回折光学素子からのレーザ光を前記遮光板の近傍に集光させるための集光レンズと、
前記遮光板と前記ガルバノスキャナとの間に配置され、前記遮光板を通過したレーザ光を平行光にするリレーレンズと、
をさらに有する、
請求項1に記載のレーザ加工装置。
The imaging unit is
Wherein arranged between the diffractive optical element and the light-shielding plate, a condenser lens for condensing the laser light of the diffractive optical element or found in the vicinity of the light shielding plate,
A relay lens that is arranged between the light shielding plate and the galvano scanner and makes the laser light that has passed through the light shielding plate parallel light;
Further having
The laser processing apparatus according to claim 1 .
前記集光レンズの集光点と前記ワークテーブルに載置された被加工物とは共役関係にある位置に配置されている、請求項2に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 2, wherein a condensing point of the condensing lens and a workpiece placed on the work table are arranged at a conjugate position. 前記レーザ光分岐手段は、前記回折光学素子に入力するレーザ光の光軸の回りに回転させる回転手段をさらに有する、請求項1から3のいずれかに記載のレーザ加工装置。   4. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser beam branching unit further includes a rotating unit configured to rotate around an optical axis of a laser beam input to the diffractive optical element. 5. 前記レーザ光分岐手段は、前記集光手段によって集光されるレーザ光が1つの円周上に位置するようにレーザ光を分岐する、請求項1から4のいずれかに記載のレーザ加工装置。   5. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser beam branching unit branches the laser beam so that the laser beam focused by the focusing unit is located on one circumference. 6. 前記集光手段は、前記ガルバノスキャナに対して光軸方向に移動自在なレンズである、
請求項1から5のいずれかに記載のレーザ加工装置。
The condensing means is a lens that is movable in the optical axis direction with respect to the galvano scanner.
The laser processing apparatus according to claim 1.
前記遮光板は、前記回折光学素子からの1次光が通過し、2次以上の光が遮光される位置に配置されている、請求項1から6のいずれかに記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the light shielding plate is disposed at a position where the primary light from the diffractive optical element passes and light of the second or higher order is shielded.
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