JP6029499B2

JP6029499B2 - Manufacturing method of input device

Info

Publication number: JP6029499B2
Application number: JP2013051343A
Authority: JP
Inventors: 重喜西澤; 芳樹須藤; 若菜 ▲高▼吉; 奈津子岡▲崎▼; 平石　克文; 克文平石
Original assignee: Nippon Steel and Sumikin Chemical Co Ltd
Current assignee: Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Priority date: 2013-03-14
Filing date: 2013-03-14
Publication date: 2016-11-24
Anticipated expiration: 2033-03-14
Also published as: JP2014178805A

Description

本発明は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置上に配される静電容量結合方式の入力装置を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a capacitively coupled input device arranged on a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display.

近年、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置の入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、表示装置の表示面上に配置されることで、表示内容に対し極めて直接的な入力を可能にしている。このため、タッチパネルには表示装置の表示内容を画質低下なく透過させる必要があり、透明性が重要な要素となる。 In recent years, touch panels have been widely used as input means for display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices. The touch panel is arranged on the display surface of the display device, thereby enabling extremely direct input to display contents. For this reason, the touch panel needs to transmit the display content of the display device without deterioration in image quality, and transparency is an important factor.

タッチパネルの主な方式としては、光の変化を検出する方式と、電気的な特性の変化を検出する方式とに大別される。このうち、電気的な特性の変化を検出する方式として、抵抗膜方式と静電容量結合方式が知られており、更に、この静電容量結合方式には、表面型と投影型の２方式がある。なかでも、スマートフォン等で欠かせない機能となったマルチタッチ認識（多点認識）への対応に適している観点から、投影型が注目を浴びている。 The main methods of touch panels are roughly classified into a method for detecting a change in light and a method for detecting a change in electrical characteristics. Of these, the resistance film method and the capacitive coupling method are known as methods for detecting changes in electrical characteristics, and there are two types of capacitive coupling methods: surface type and projection type. is there. Among them, the projection type is attracting attention from the viewpoint of being suitable for multi-touch recognition (multi-point recognition), which has become an indispensable function for smartphones and the like.

この静電容量結合方式における投影型のタッチパネルは、例えば特許文献１に示されているように、互いに所定の形状のパターン電極が形成された２つのフィルム基材を用いて、接着層を介してこれらを貼り合せることで作製されている。 For example, as disclosed in Patent Document 1, a projection-type touch panel in this capacitive coupling method uses two film base materials on which pattern electrodes having a predetermined shape are formed, with an adhesive layer interposed therebetween. It is produced by bonding them together.

ところで、近年のタブレット型携帯端末等のように、入力装置としてタッチパネルを備えた表示装置では、薄型化の進展が著しく、タッチパネルについても薄型化と共に光学特性の向上が強く要望されている。しかしながら、上記特許文献１のように、２つのフィルム基材を貼り合せるとその分厚みが増してしまい、しかも取り扱い性（ハンドリング性）などを考慮すると、フィルム基材自体の厚みを薄くするには限度がある。加えて、フィルム基材の積層によって厚みが増すと、その分だけ表示装置からの映像光の透過率が低下してしまうことから、表示装置が表示する映像の画質を劣化させてしまうおそれがある。 By the way, in a display device provided with a touch panel as an input device such as a recent tablet-type portable terminal or the like, the progress of thinning is remarkable, and there is a strong demand for improving the optical characteristics as well as thinning the touch panel. However, as in the above-mentioned Patent Document 1, when two film base materials are bonded together, the thickness increases accordingly, and in consideration of handling properties (handling properties), etc., in order to reduce the thickness of the film base material itself There is a limit. In addition, if the thickness increases due to the lamination of the film base material, the transmittance of the image light from the display device is reduced by that amount, which may deteriorate the image quality of the image displayed by the display device. .

そこで、例えば特許文献２には、フィルム基材の両面に静電容量結合方式の電極を設けてタッチパネルを得る方法が提案されている。しかしながら、フィルム基材の両面に電極を形成する際のハンドリング性等を勘案すると、やはり、フィルム基材自体がある程度の厚みや強度を有していなければならない。 Therefore, for example, Patent Document 2 proposes a method of obtaining a touch panel by providing capacitive coupling type electrodes on both surfaces of a film substrate. However, considering the handling properties when forming electrodes on both surfaces of the film substrate, the film substrate itself must still have a certain thickness and strength.

また、特許文献３には、ガラス基板の一方面に絶縁層と入力位置検出用電極とを積層させた後、接着剤層を介してプラスチック製のカバー材を貼り合せて、次いで、フッ酸系エッチング液に浸漬してガラス基板を溶解して除去し、薄型・軽量化を図ったタッチパネルを製造する方法が記載されている。しかしながら、ガラス基板をエッチングで溶解して除去するには時間が掛かってしまうほか、エッチング液による電極や配線の溶解が懸念される。 In Patent Document 3, an insulating layer and an input position detecting electrode are laminated on one surface of a glass substrate, and then a plastic cover material is bonded through an adhesive layer. A method for manufacturing a touch panel that is thinned and reduced in weight by being immersed in an etching solution to dissolve and remove the glass substrate is described. However, it takes time to dissolve and remove the glass substrate by etching, and there is a concern about dissolution of the electrodes and wiring by the etching solution.

特開２００８−１５２６４０号公報JP 2008-152640 A 特開２０１０−２３８０５２号公報JP 2010-238052 A 特開２０１１−１９８２０７号公報JP 2011-198207 A

近年急速に普及・拡大しているスマートフォン等のような携帯端末では、入力装置としてのタッチパネルが欠かせないものとなっている。そして、これらの携帯端末の薄型化に伴い、タッチパネルも薄型化、光学特性の向上、及び低価格化が強く要望されている。ところが、従来の方法では、タッチパネルに使用されるフィルム基材の厚みを更に薄くしていくと、ハンドリング性が悪くなるばかりか、所定のパターン電極を正確に形成するのが困難になったり、場合によっては製造途中で皺や破け、伸びが発生するなど、生産上での支障をきたすおそれがある。これに対して、例えば特許文献３に記載されるような方法によって薄型・軽量化を図ろうとしても、手間や時間を要してしまい製造コストを抑えるのは難しい。 A touch panel as an input device is indispensable for a portable terminal such as a smartphone that has been rapidly spread and expanded in recent years. As these portable terminals become thinner, there is a strong demand for thinner touch panels, improved optical characteristics, and lower prices. However, in the conventional method, when the thickness of the film substrate used for the touch panel is further reduced, not only the handling property is deteriorated, but it is difficult to accurately form a predetermined pattern electrode. Depending on the situation, there is a risk that production may be hindered, such as wrinkling, tearing, and elongation during production. On the other hand, even if it is attempted to reduce the thickness and weight by the method described in Patent Document 3, for example, it takes time and effort, and it is difficult to reduce the manufacturing cost.

そこで、本発明者らは、静電容量結合方式の入力装置であるタッチパネルの薄型・軽量化について鋭意検討した結果、ポリイミド層同士での界面を利用して薄肉化が可能なポリイミド積層体を支持基板として用いることで、ハンドリング性の低下や生産上の問題等を全て解決しながら、簡便にかつ容易に薄型の入力装置を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。 Therefore, as a result of diligent research on thinning and lightening of a touch panel that is a capacitive coupling input device, the present inventors supported a polyimide laminate that can be thinned using an interface between polyimide layers. It was found that by using it as a substrate, a thin input device can be obtained easily and easily while solving all of the deterioration of handling properties and production problems, and the present invention has been completed.

したがって、本発明の目的は、薄型の入力装置を簡便にかつ効率良く製造することができる方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method capable of easily and efficiently manufacturing a thin input device.

すなわち、本発明は、支持基板の片側に入力位置検出用電極を備えた検出電極付き基板を用いて、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置上に配される静電容量結合方式の入力装置を製造する方法であって、前記支持基板が、入力位置検出用電極側に位置する第１のポリイミド層と、この第１のポリイミド層の背面側に位置する第２のポリイミド層とを有したポリイミド積層体からなり、これら第１及び第２のポリイミド層の界面での接着強度が１Ｎ／ｍ以上５００Ｎ／ｍ以下であり、ｉ）透明接着層を介して、表示装置上に検出電極付き基板の入力位置検出用電極側を接着させた後、又は、ii）検出電極付き基板の入力位置検出用電極側に透明保護板を貼り合せた上で、透明接着層を介して表示装置上に検出電極付き基板の支持基板側を接着させる前に、支持基板における第１のポリイミド層と第２のポリイミド層との界面を利用して、第２のポリイミド層を分離して取り除き、支持基板を薄肉化することを特徴とする入力装置の製造方法である。

That is, the present invention provides a capacitively coupled input device arranged on a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display using a substrate with a detection electrode having an input position detection electrode on one side of a support substrate. The support substrate has a first polyimide layer located on the input position detection electrode side and a second polyimide layer located on the back side of the first polyimide layer. It consists of a polyimide laminate, and the adhesive strength at the interface between these first and second polyimide layers is 1 N / m or more and 500 N / m or less, i) a substrate with a detection electrode on the display device via a transparent adhesive layer After the input position detection electrode side is bonded, or ii) a transparent protective plate is attached to the input position detection electrode side of the substrate with detection electrode, and then detected on the display device through the transparent adhesive layer. Of substrate with electrode Before bonding the holding substrate side, using the interface between the first polyimide layer and the second polyimide layer in the support substrate, the second polyimide layer is separated and removed, and the support substrate is thinned. It is the manufacturing method of the input device characterized.

本発明では、支持基板の片側に入力位置検出用電極を備えた検出電極付き基板を用いて入力装置を製造するにあたり、入力位置検出用電極側に位置する第１のポリイミド層と、この第１のポリイミド層の背面側に位置する第２のポリイミド層とを有したポリイミド積層体を支持基板として用いる。このポリイミド積層体からなる支持基板は、第１のポリイミド層と第２のポリイミド層との界面を利用して第２のポリイミド層を分離し、取り除くことが可能なものである。 In the present invention, in manufacturing an input device using a substrate with a detection electrode having an input position detection electrode on one side of a support substrate, the first polyimide layer positioned on the input position detection electrode side and the first polyimide layer A polyimide laminate having a second polyimide layer located on the back side of the polyimide layer is used as a support substrate. The support substrate made of this polyimide laminate is capable of separating and removing the second polyimide layer using the interface between the first polyimide layer and the second polyimide layer.

ここで、第１及び第２のポリイミド層の界面を利用して、第２のポリイミド層を分離して取り除くことができるようにするためには、これらのポリイミド境界面を剥離し易い状態にする必要がある。その手段として、好適には、第１又は第２のポリイミド層の少なくともいずれか一方に、特定の化学構造を有するポリイミドを使用するのがよい。 Here, in order to be able to separate and remove the second polyimide layer using the interface between the first and second polyimide layers, the polyimide interface is made easy to peel off. There is a need. As the means, it is preferable to use a polyimide having a specific chemical structure in at least one of the first and second polyimide layers.

一般に、ポリイミドは、原料である酸無水物とジアミンとを重合して得られ、下記一般式（１）で表すことができる。

式中、Ａｒ₁は酸無水物残基である４価の有機基を表し、Ａｒ₂はジアミン残基である２価の有機基であり、耐熱性の観点から、Ａｒ₁、Ａｒ₂の少なくとも一方は、芳香族残基であるのが望ましい。 Generally, a polyimide is obtained by polymerizing a raw acid anhydride and a diamine, and can be represented by the following general formula (1).

In the formula, Ar ₁ represents a tetravalent organic group which is an acid anhydride residue, Ar ₂ is a divalent organic group which is a diamine residue, and from the viewpoint of heat resistance, Ar ₁ and Ar ₂ are at least One is preferably an aromatic residue.

本発明における第１及び／又は第２のポリイミド層に好適に用いられるポリイミドとしては、そのひとつとして、例えば、下記繰り返し構造単位（ａ）を有するポリイミドが挙げられ、なかでも、第２のポリイミド層がこのような繰返し構造単位を有するものであるのがよい。

このような繰返し構造単位のうち、より好ましくは、下記繰り返し構造単位（ｂ）を有するポリイミドである。

As a polyimide suitably used for the 1st and / or 2nd polyimide layer in this invention, the polyimide which has the following repeating structural unit (a) is mentioned as the one, for example, Especially, the 2nd polyimide layer is mentioned. Preferably have such repeating structural units.

Of such repeating structural units, more preferred is a polyimide having the following repeating structural unit (b).

本発明において、第２のポリイミド層は最終的には分離され、残った第１のポリイミド層側が入力装置を構成する。つまり、第２のポリイミド層は、表示装置上に入力装置を積層する過程で取り除かれるが、それまでの間は第１のポリイミド層と一体となって厚みを確保し、ハンドリング性を担保したり、伸びや破けを防止するなどの補助材としての役割を担う。 In the present invention, the second polyimide layer is finally separated, and the remaining first polyimide layer side constitutes the input device. That is, the second polyimide layer is removed in the process of laminating the input device on the display device, but until then, the thickness is integrated with the first polyimide layer to ensure handling properties. It plays a role as an auxiliary material such as preventing elongation and tearing.

また、検出電極付き基板における入力位置検出用電極が、後述するように、例えばＩＴＯ（tin-doped indium oxide）等のような透明導電膜を支持基板の片側に成膜した後、弱酸等を用いて所定の電極形状にエッチングし、更にその抵抗率を下げる等の目的でアニール処理する場合、一般に２００℃〜３００℃程度の温度で熱処理されることから、第２のポリイミド層がこのアニール処理に耐え得るものであるのが好適である。そのため、第２のポリイミド層が、上記（ａ）や（ｂ）のような繰返し構造単位を有するポリイミドであれば、ガラス転移温度（Tg）が３００℃以上の耐熱性ポリイミド面を形成して、第１のポリイミド層との界面での分離を容易にすることができると共に、上記のようなアニール処理に対する耐熱性や寸法安定性を備えることができて好ましい。また、この第２のポリイミド層をキャスト法によって形成する場合には、第１及び第２のポリイミド層の界面を形成する第２のポリイミド層の表面はＲａが１００ｎｍ以下の表面粗さにすることができることから、第１及び第２のポリイミド層の界面での剥離性をより良好にすることができる。 In addition, as described later, the electrode for detecting the input position on the substrate with the detection electrode is formed with a transparent conductive film such as ITO (tin-doped indium oxide) on one side of the support substrate, and then a weak acid or the like is used. In the case of annealing for the purpose of etching into a predetermined electrode shape and further reducing the resistivity, generally, the second polyimide layer is subjected to this annealing treatment because it is heat-treated at a temperature of about 200 ° C. to 300 ° C. It is suitable that it can withstand. Therefore, if the second polyimide layer is a polyimide having a repeating structural unit such as (a) or (b) above, a heat-resistant polyimide surface having a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C. or higher is formed, It is preferable because separation at the interface with the first polyimide layer can be facilitated, and heat resistance and dimensional stability against the annealing treatment as described above can be provided. When the second polyimide layer is formed by a casting method, the surface of the second polyimide layer forming the interface between the first and second polyimide layers should have a surface roughness Ra of 100 nm or less. Therefore, the peelability at the interface between the first and second polyimide layers can be made better.

一方、最終的に入力装置を構成する部品となる第１のポリイミド層については、上記のようなアニール処理に耐え得る耐熱性と共に、高い透明性が求められる。そのため、第１のポリイミド層については、好ましくは、含フッ素ポリイミドを用いて形成するのがよい。ここで、含フッ素ポリイミドとは、ポリイミド構造中にフッ素原子を有するものを指し、ポリイミド原料である酸無水物、及びジアミンの少なくとも一方の成分において、フッ素含有基を有するものである。このような含フッ素ポリイミドとしては、例えば、上記一般式（１）で表されるもののうち、式中のＡｒ₁が４価の有機基であり、Ａｒ₂が下記一般式（２）又は（３）で表される２価の有機基で表されるものが挙げられる。

On the other hand, the first polyimide layer that finally becomes a component constituting the input device is required to have high transparency as well as heat resistance that can withstand the annealing treatment as described above. Therefore, the first polyimide layer is preferably formed using fluorine-containing polyimide. Here, the fluorine-containing polyimide means one having a fluorine atom in the polyimide structure, and has a fluorine-containing group in at least one component of an acid anhydride and a diamine which are polyimide raw materials. As such a fluorine-containing polyimide, for example, among those represented by the general formula (1), Ar _{1 in} the formula is a tetravalent organic group, and Ar ₂ is represented by the following general formula (2) or (3 ) Represented by a divalent organic group represented by:

上記一般式（２）又は一般式（３）におけるＲ₁〜Ｒ₈は、互いに独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５までのアルキル基若しくはアルコキシ基、又はフッ素置換炭化水素基であり、一般式（２）にあっては、Ｒ₁〜Ｒ₄のうち少なくとも一つはフッ素原子又はフッ素置換炭化水素基であり、また、一般式（３）にあっては、Ｒ₁〜Ｒ₈のうち少なくとも一つはフッ素原子又はフッ素置換炭化水素基である。このうち、Ｒ₁〜Ｒ₈の好適な具体的としては、−Ｈ、−ＣＨ₃、−ＯＣＨ₃、−Ｆ、−ＣＦ₃などが挙げられるが、式（２）又は式（３）において少なくとも一つの置換基が、−Ｆ又は−ＣＦ₃の何れかであるのが好ましい。 R _{1 to} R ₈ in the general formula (2) or the general formula (3) are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorine-substituted hydrocarbon group. In the general formula (2), at least one of R _{1 to} R ₄ is a fluorine atom or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in the general formula (3), R _{1 to} R _8. At least one of them is a fluorine atom or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Among these, preferred specific examples of R _{1 to} R ₈ include —H, —CH ₃ , —OCH ₃ , —F, —CF _{3, and the} like. At least in Formula (2) or Formula (3), One substituent is preferably either —F or —CF ₃ .

含フッ素ポリイミドを形成する際の一般式（１）中のＡｒ₁の具体例としては、例えば、以下のような４価の酸無水物残基が挙げられる。

Specific examples of Ar ₁ in the general formula (1) when forming the fluorine-containing polyimide include, for example, the following tetravalent acid anhydride residues.

加えて、含フッ素ポリイミドを形成する際、ポリイミドの透明性や第２のポリイミド層との剥離性をより向上させることなどを考慮すれば、一般式（１）におけるＡｒ₂を与える具体的なジアミン残基として、好ましくは、以下のものが挙げられる。すなわち、これらを用いることで、含フッ素ポリイミド以外の他の構造を有するポリイミドからなる第２のポリイミド層との界面においても良好な剥離性を示すことができ、好適には、第１のポリイミド層と第２のポリイミド層との界面における接着強度が１Ｎ／ｍ以上５００Ｎ／ｍ以下、より好適には５Ｎ／ｍ以上３００Ｎ／ｍ以下、更に好適には１０Ｎ／ｍ以上２００Ｎ／ｍ以下にすることができ、人の手で容易に剥離できる程度の分離性を備える。勿論、第２のポリイミド層についても、このような含フッ素ポリイミドを使用してもよく、その場合には、第１及び第２のポリイミド層の界面での剥離性はより一層向上する。

In addition, when forming fluorine-containing polyimide, a specific diamine that gives Ar ₂ in the general formula (1) in consideration of improving the transparency of the polyimide and the releasability from the second polyimide layer. Preferred examples of the residue include the following. That is, by using these, good peelability can be exhibited even at the interface with the second polyimide layer made of polyimide having a structure other than the fluorine-containing polyimide, and preferably the first polyimide layer. The adhesive strength at the interface between the second polyimide layer and the second polyimide layer is 1 N / m to 500 N / m, more preferably 5 N / m to 300 N / m, and even more preferably 10 N / m to 200 N / m. It is separable enough to be easily peeled off by human hands. Of course, such a fluorine-containing polyimide may be used for the second polyimide layer, and in that case, the peelability at the interface between the first and second polyimide layers is further improved.

このような含フッ素ポリイミドにおいて、次に挙げる一般式（４）又は（５）で表される構造単位のどちらか一方を８０モル％以上の割合で有する場合には、透明性と剥離性のほか、熱膨張性が低く寸法安定性に優れることからより好ましい。すなわち、下記一般式（４）又は（５）で表される構造単位を有するポリイミドであれば、熱膨張係数が２５ｐｐｍ／Ｋ以下、好適には１０ｐｐｍ／Ｋ以下のポリイミド層とすることができる。また、これらの構造単位を有するポリイミドは、３００℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を示し、かつ、４４０ｎｍから７８０ｎｍの波長領域での透過率が７０％以上、好適には８０％以上を示すことから、入力装置を形成する上でより有利である。

In such a fluorine-containing polyimide, when either one of the structural units represented by the following general formula (4) or (5) is contained in a proportion of 80 mol% or more, in addition to transparency and peelability Further, it is more preferable because of its low thermal expansion and excellent dimensional stability. That is, if it is a polyimide which has a structural unit represented by the following general formula (4) or (5), it can be set as a polyimide layer whose thermal expansion coefficient is 25 ppm / K or less, Preferably it is 10 ppm / K or less. In addition, the polyimide having these structural units exhibits a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C. or higher, and a transmittance in the wavelength region of 440 nm to 780 nm is 70% or higher, preferably 80% or higher. Therefore, it is more advantageous to form an input device.

ここで、ポリイミドを一般式（４）又は（５）の構造に係るポリイミドとした場合、そのポリイミド以外に最大２０モル％未満の割合で添加されてもよいその他のポリイミドについては、特に制限されるものではなく、一般的な酸無水物とジアミンを使用することができる。なかでも好ましく使用される酸無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2，2'−ビス（3,4−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物等が挙げられる。一方の、ジアミンとしては、4，4'−ジアミノジフェニルサルフォン、トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン、4，4'−ジアミノシクロヘキシルメタン、2，2'−ビス（4−アミノシクロヘキシル）−ヘキサフルオロプロパン、2，2'−ビス（トリフルオロメチル）−4，4'−ジアミノビシクロヘキサン等が挙げられる。 Here, when the polyimide is a polyimide according to the structure of the general formula (4) or (5), other polyimides that may be added at a ratio of less than 20 mol% at the maximum other than the polyimide are particularly limited. In general, general acid anhydrides and diamines can be used. Among these, acid anhydrides preferably used include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2,3 , 4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, and the like. On the other hand, diamines include 4,4'-diaminodiphenylsulfone, trans-1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-diaminocyclohexylmethane, 2,2'-bis (4-aminocyclohexyl) -hexafluoro. Examples include propane and 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobicyclohexane.

上記で説明したような各種ポリイミドは、ポリアミド酸をイミド化して得ることができる。ここで、ポリアミド酸の樹脂溶液は、原料であるジアミンと酸二無水物とを実質的に等モル使用し、有機溶媒中で反応させることによって得るのがよい。より具体的には、窒素気流下にＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの有機極性溶媒にジアミンを溶解させた後、テトラカルボン酸二無水物を加えて、室温で５時間程度反応させることにより得ることができる。塗工時の膜厚均一化と得られるポリイミドフィルムの機械強度の観点から、得られたポリアミド酸の重量平均分子量は１万から３０万が好ましい。なお、ポリイミド層の好ましい分子量範囲もポリアミド酸と同じ分子量範囲である。 Various polyimides as described above can be obtained by imidizing polyamic acid. Here, the polyamic acid resin solution is preferably obtained by using substantially equal moles of diamine and acid dianhydride as raw materials and reacting them in an organic solvent. More specifically, it is obtained by dissolving diamine in an organic polar solvent such as N, N-dimethylacetamide under a nitrogen stream, adding tetracarboxylic dianhydride, and reacting at room temperature for about 5 hours. Can do. The weight average molecular weight of the obtained polyamic acid is preferably 10,000 to 300,000 from the viewpoint of uniform film thickness during coating and mechanical strength of the resulting polyimide film. In addition, the preferable molecular weight range of a polyimide layer is also the same molecular weight range as a polyamic acid.

第１及び第２のポリイミド層を有したポリイミド積層体を得る手段については特に制限はないが、連続製造が可能であることから、予め第２のポリイミド層を形成する長尺状のポリイミドフィルムを用意しておき、これをロール・ツー・ロールプロセスで搬送しながら、第１のポリイミド層を形成するポリアミド酸の樹脂溶液を塗布するキャスト法を採用するのが好適である。第１のポリイミド層を形成するポリアミド酸の樹脂溶液を塗布した後には、第２のポリイミド層の長尺ポリイミドフィルムごと１５０〜１６０℃程度で加熱処理して樹脂溶液中に含まれる溶剤を除去し、更に高温で加熱処理してポリアミド酸をイミド化させる。イミド化に際して行う加熱処理は、例えば、１６０℃程度の温度から３５０℃程度の温度まで連続的又は段階的に昇温を行うようにすればよい。なお、予め第１のポリイミド層を形成する長尺状ポリイミドフィルムを用意し、第２のポリイミド層を形成するポリアミド酸の樹脂溶液を塗布するようにしてもよい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the means to obtain the polyimide laminated body which has the 1st and 2nd polyimide layer, Since continuous manufacture is possible, the elongate polyimide film which forms a 2nd polyimide layer previously is used. It is preferable to use a casting method in which a polyamic acid resin solution for forming the first polyimide layer is applied while being prepared and conveyed by a roll-to-roll process. After applying the polyamic acid resin solution that forms the first polyimide layer, the long polyimide film of the second polyimide layer is heat-treated at about 150 to 160 ° C. to remove the solvent contained in the resin solution. Further, the polyamic acid is imidized by heat treatment at a higher temperature. The heat treatment performed at the time of imidation may be performed continuously or stepwise from a temperature of about 160 ° C. to a temperature of about 350 ° C., for example. Alternatively, a long polyimide film for forming the first polyimide layer may be prepared in advance, and a polyamic acid resin solution for forming the second polyimide layer may be applied.

前述したように、第２のポリイミド層は入力装置を直接構成するものではないため、検出電極付き基板としてハンドリング性を向上させることなどを考慮しながら、その厚みを適宜設定することができる。一般に、フィルム基板としては１００μｍ程度の厚みがあれば、製造上で特に不都合になることはない。そのため、本発明においては、第１のポリイミド層と第２のポリイミド層とを有したポリイミド積層体としての合計の厚みが１００μｍ以上であれば、例えば、後述するように、第１のポリイミド層側の表面に透明導電膜を成膜し、エッチング処理やアニール処理等を行って、所定の電極形状を有した入力位置検出用電極を形成することができ、第２のポリイミド層の厚みとしては任意に設定することができる。また、第２のポリイミド層の背面側に更に銅箔やガラス等を備えたポリイミド積層体を使用するようにしてもよい。 As described above, since the second polyimide layer does not directly constitute the input device, the thickness of the second polyimide layer can be appropriately set in consideration of improving handling properties as a substrate with a detection electrode. In general, if the film substrate has a thickness of about 100 μm, there is no particular disadvantage in manufacturing. Therefore, in this invention, if the total thickness as a polyimide laminated body which has the 1st polyimide layer and the 2nd polyimide layer is 100 micrometers or more, for example, as mentioned later, the 1st polyimide layer side A transparent conductive film is formed on the surface of the substrate, and an input position detecting electrode having a predetermined electrode shape can be formed by performing an etching process, an annealing process, etc. The thickness of the second polyimide layer is arbitrary Can be set to Moreover, you may make it use the polyimide laminated body further provided with copper foil, glass, etc. on the back side of the 2nd polyimide layer.

一方、第１のポリイミド層については、第２のポリイミド層側が補助材の役割をするため、その厚みはより薄くすることができる。すなわち、第１のポリイミド層の厚みを１００μｍ未満にすることが可能であり、好適には５０μｍ以下、更に好適には３０μｍ以下まで薄くすることができる。なお、入力位置検出用電極の絶縁性を担保することなどを考慮すれば、第１のポリイミド層の厚みの下限は３μｍである。 On the other hand, about the 1st polyimide layer, since the 2nd polyimide layer side plays the role of an auxiliary material, the thickness can be made thinner. That is, the thickness of the first polyimide layer can be less than 100 μm, preferably 50 μm or less, and more preferably 30 μm or less. In consideration of ensuring the insulation of the input position detection electrode, the lower limit of the thickness of the first polyimide layer is 3 μm.

また、本発明の検出電極付き基板における入力位置検出用電極については、静電容量結合方式の入力装置を形成するものであればよく、公知のものを採用することができる。すなわち、一般には、ある方向に所定の間隔を有して複数の電極部が配列された第１電極と、それとは異なる方向に所定の間隔を有して複数の電極部が配列された第２電極とを有して、これらの電極に係る各電極部の配列方向が互いに交差するようにしながら連結されて、投影型静電容量結合方式のモザイク状のパターン電極が具備されるようにすればよい。 Further, the input position detection electrode in the substrate with detection electrodes of the present invention may be any one that forms a capacitive coupling type input device, and a known one can be adopted. That is, in general, a first electrode in which a plurality of electrode portions are arranged at a predetermined interval in a certain direction and a second electrode in which a plurality of electrode portions are arranged at a predetermined interval in a direction different from the first electrode. The electrodes are connected so that the arrangement directions of the electrode portions intersect with each other so as to intersect with each other so that a projected capacitive coupling type mosaic pattern electrode is provided. Good.

このような入力位置検出用電極を形成するにあたっては、所定の電極形状となるようにパターニングされた透明導電膜を用いるようにすればよい。すなわち、例えば、ＩＴＯ（tin-doped indium oxide）、ＳｎＯ、ＺｎＯ、ＩＺＯ等のような透明導電膜を第１のポリイミド層の表面に成膜した後、弱酸等を用いて所定の電極形状となるようにエッチングしてもよく、或いは、第１のポリイミド層の表面にレジストパターンを形成し、これをマスクとして上記のような透明導電膜を成膜するようにしてもよい。また、これらの透明導電膜は、電子ビーム蒸着法、スパッタ蒸着法、物理気相成長法、導電ペースト材を用いたスクリーン印刷法等により成膜することができる。ここで、一般的には、透明導電膜の厚みは１００ｎｍ程度以下であり、特に厚みが限定されることはないが、薄型の入力装置を形成することを考慮すれば、１０〜５０ｎｍ程度の膜厚で形成するのが望ましい。 In forming such an input position detecting electrode, a transparent conductive film patterned to have a predetermined electrode shape may be used. That is, for example, after forming a transparent conductive film such as ITO (tin-doped indium oxide), SnO, ZnO, or IZO on the surface of the first polyimide layer, a predetermined electrode shape is formed using weak acid or the like. Etching may be performed as described above, or a resist pattern may be formed on the surface of the first polyimide layer, and the transparent conductive film as described above may be formed using the resist pattern as a mask. Further, these transparent conductive films can be formed by an electron beam vapor deposition method, a sputter vapor deposition method, a physical vapor deposition method, a screen printing method using a conductive paste material, or the like. Here, in general, the thickness of the transparent conductive film is about 100 nm or less, and the thickness is not particularly limited. However, considering the formation of a thin input device, the film has a thickness of about 10 to 50 nm. It is desirable to form with thickness.

上記のようにして成膜した透明導電膜をエッチングしたり、マスクを介して透明導電膜を成膜するなどしてパターニングすることで、同一平面において、第１電極又は第２電極のいずれか一方は電極部同士が配線部によって連結した形状にすることができるが、残りの電極の電極部を電気的に接続するためには、例えば、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等のようなレジストからなる層間絶縁膜を成膜した上で、コンタクトホールを形成し、再度透明導電膜を成膜してパターニングするなどして、残りの電極の電極部を配線部によって連結させることができる。また、この配線部を形成した後には、必要に応じて、入力位置検出用電極の表面を覆うように、上記の樹脂等を用いて絶縁層を形成するようにしてもよい。 Either the first electrode or the second electrode is patterned on the same plane by etching the transparent conductive film formed as described above or patterning the transparent conductive film through a mask. The electrode parts can be connected to each other by the wiring part, but in order to electrically connect the electrode parts of the remaining electrodes, for example, acrylic resin, phenol resin, novolac resin, epoxy resin, polyimide resin After forming an interlayer insulating film made of a resist, etc., contact holes are formed, a transparent conductive film is formed again and patterned, and the electrode portions of the remaining electrodes are connected by wiring portions. be able to. In addition, after the wiring portion is formed, an insulating layer may be formed using the above resin or the like so as to cover the surface of the input position detection electrode, if necessary.

ここで、ＩＴＯ等のような透明導電膜では、成膜後はアモルファス状態であって抵抗値が結晶状態よりも高い。そのため、パターニングされた透明導電膜をアニール処理して結晶化させ、その抵抗を下げてパターン電極を形成するのがよい。このアニール処理の温度については、透明導電膜の種類によっても異なるため、適宜設定することができるが、例えばＩＴＯの場合は、一般に２００〜２５０℃程度で行うようにするのが望ましい。本発明においては、上述したような第１及び第２のポリイミド層を形成するポリイミドであれば、いずれもこれらのアニール処理の温度よりも高いガラス転移温度（Tg）を備えることから、アニール処理に対する十分な耐熱性を有している。 Here, a transparent conductive film such as ITO is in an amorphous state after film formation and has a higher resistance value than a crystalline state. Therefore, the patterned transparent conductive film is preferably annealed to be crystallized, and its resistance is lowered to form a patterned electrode. The temperature of the annealing treatment can be set as appropriate because it varies depending on the type of the transparent conductive film. For example, in the case of ITO, it is generally desirable to perform the annealing at about 200 to 250 ° C. In the present invention, any polyimide that forms the first and second polyimide layers as described above has a glass transition temperature (Tg) higher than the temperature of these annealing treatments. It has sufficient heat resistance.

アニール処理された検出電極付き基板は、透明接着層を介して、液晶ディスプレイ、有機ＥＬパネル、電子ペーパー、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）ディスプレイ等のような表示装置上に積層させて、入力装置を形成する。その際、本発明においては、ｉ）検出電極付き基板を表示装置の表示面側に積層した後、又は、ii）検出電極付き基板を表示装置の表示面側に積層する前に、支持基板における第１のポリイミド層と第２のポリイミド層との界面を利用して、第２のポリイミド層を分離して取り除き、支持基板を薄肉化する。すなわち、ｉ）透明接着層を介して、表示装置上に検出電極付き基板の入力位置検出用電極側を接着させた後、又は、ii）検出電極付き基板の入力位置検出用電極側に透明保護板を貼り合せた上で、透明接着層を介して表示装置上に検出電極付き基板の支持基板側を接着させる前に、第２のポリイミド層を分離して取り除く。 The annealed substrate with detection electrode is laminated on a display device such as a liquid crystal display, organic EL panel, electronic paper, MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) display, etc. via a transparent adhesive layer, and the input device is Form. In this case, in the present invention, after i) the substrate with the detection electrode is laminated on the display surface side of the display device, or ii) before the substrate with the detection electrode is laminated on the display surface side of the display device, Using the interface between the first polyimide layer and the second polyimide layer, the second polyimide layer is separated and removed to thin the support substrate. That is, after i) the input position detection electrode side of the substrate with the detection electrode is adhered on the display device through the transparent adhesive layer, or ii) transparent protection on the input position detection electrode side of the detection electrode substrate After the plates are bonded together, the second polyimide layer is separated and removed before adhering the support substrate side of the substrate with detection electrodes on the display device via the transparent adhesive layer.

ここで、ｉ）のように表示装置の表示面側に検出電極付き基板を積層した後であれば、第２のポリイミド層側を分離して取り除いても、表示装置側に残された入力位置検出用電極や第１のポリイミド層が皺になったり、破けたりするようなことはない。一方、ii）については、外部衝撃や各種損傷等から保護する目的で、入力装置の表面に強化ガラス、アクリル板等からなる透明保護板を設ける場合である。このような透明保護板に透明接着層を介して検出電極付き基板の入力位置検出用電極側を貼り合せた状態であれば、第２のポリイミド層側を分離して取り除いても、ｉ）と同様、透明保護板側に残された入力位置検出用電極や第１のポリイミド層が皺になったり、破けたりするようなことはなく、透明接着層を介して、表示装置上に検出電極付き基板の支持基板側を接着させることができる。 Here, if the substrate with the detection electrode is laminated on the display surface side of the display device as in i), the input position left on the display device side even if the second polyimide layer side is separated and removed. The detection electrode and the first polyimide layer do not become wrinkled or broken. On the other hand, ii) is a case where a transparent protective plate made of tempered glass, an acrylic plate or the like is provided on the surface of the input device for the purpose of protecting from external impacts or various damages. If the input position detection electrode side of the substrate with a detection electrode is bonded to such a transparent protective plate via a transparent adhesive layer, i) and the second polyimide layer side can be separated and removed. Similarly, the input position detection electrode and the first polyimide layer left on the transparent protective plate side are not wrinkled or broken, and the detection electrode is provided on the display device through the transparent adhesive layer. The support substrate side of the substrate can be adhered.

上記ｉ）、ii）で用いる透明接着層については特に制限はなく、例えばアクリル系やエポキシ系等の透明接着剤からなるものであってもよく、或いは、透明な接着シートを用いるようにしてもよい。より薄型の入力装置を得る観点からは、透明接着剤の厚みは薄い方が良いが、特に厚みが制限されることはなく、例えば、透明接着剤を用いて１０〜５０μｍ程度の厚さの透明接着層を形成するのが好ましい。また、透明保護板の厚みについて特に制限はないが、一般には１００μｍ〜１ｍｍ程度の厚さのものが使用される。なお、透明接着剤や透明接着シート等を用いて透明接着層を形成するのは、透明導電膜のアニール処理が施された後であるため、透明接着層に関して、アニール処理に対する耐熱性については特段考慮する必要はない。透明保護板についても同様である。 There is no restriction | limiting in particular about the transparent contact bonding layer used by said i), ii), For example, it may consist of transparent adhesives, such as an acryl type and an epoxy type, or you may use a transparent adhesive sheet. Good. From the viewpoint of obtaining a thinner input device, the thickness of the transparent adhesive is preferably thin, but the thickness is not particularly limited. For example, the transparent adhesive has a thickness of about 10 to 50 μm using a transparent adhesive. It is preferable to form an adhesive layer. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of a transparent protective board, Generally the thing of about 100 micrometers-about 1 mm is used. Note that the transparent adhesive layer is formed using a transparent adhesive, a transparent adhesive sheet, or the like after the transparent conductive film is annealed. There is no need to consider. The same applies to the transparent protective plate.

第２のポリイミド層を分離して取り除き、支持基板が薄肉化されて得られた本発明の入力装置では、第１のポリイミド層を上述したポリイミドにより形成することで、低熱膨張性でありながら、可視光領域における透過率が高くて透明性に優れる。また、耐熱性が高くて、寸法安定性にも優れ、しかも、表面平滑性に優れて、面内方向のリタデーションも小さくできることから、表示装置上に配される入力装置として好適である。 In the input device of the present invention obtained by separating and removing the second polyimide layer and thinning the support substrate, by forming the first polyimide layer with the above-described polyimide, while having low thermal expansion, High transmittance in the visible light region and excellent transparency. Further, since it has high heat resistance, excellent dimensional stability, excellent surface smoothness, and small retardation in the in-plane direction, it is suitable as an input device disposed on a display device.

本発明のように、第１及び第２のポリイミド層を有したポリイミド積層体を支持基板とした検出電極付き基板を用いて、検出電極付き基板を表示装置の表示面側に積層する前や後に第２のポリイミド層側を分離して取り除き、支持基板を薄肉化することで、ハンドリング性の低下や生産上の問題等を解決しながら、薄型の入力装置を効率良く製造することができる。 Before and after laminating a substrate with a detection electrode on the display surface side of a display device using a substrate with a detection electrode using a polyimide laminate having first and second polyimide layers as a support substrate as in the present invention. By separating and removing the second polyimide layer side and thinning the support substrate, it is possible to efficiently manufacture a thin input device while solving a decrease in handling properties, production problems, and the like.

図１は、第１及び第２のポリイミド層を有したポリイミド積層体の断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polyimide laminate having first and second polyimide layers. 図２は、投影型静電容量結合方式のタッチパネルにおけるパターン電極の様子を示す平面模式図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing the state of the pattern electrode in the projected capacitive coupling type touch panel. 図３は、一部を除いた第１電極及び第２電極が同一面内に形成された様子を示す平面模式図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a state in which the first electrode and the second electrode excluding a part are formed in the same plane. 図４は、図３におけるa-a'断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line aa ′ in FIG. 図５は、第１電極及び第２電極が形成された様子を示す平面模式図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing a state in which the first electrode and the second electrode are formed. 図６は、図５におけるb-b'断面図である。6 is a cross-sectional view taken along line bb ′ in FIG. 図７は、透明接着層を介して検出電極付き基板に透明保護板を貼り合せた様子を示す断面模式図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a transparent protective plate is bonded to a substrate with a detection electrode via a transparent adhesive layer. 図８は、図７に示した状態から第２のポリイミド層を分離して取り除く様子を示す断面模式図である。FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the second polyimide layer is separated and removed from the state shown in FIG.

以下、本発明について、図面を用いながら具体的に説明する。なお、本発明はこれらの内容に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to the drawings. The present invention is not limited to these contents.

図１には、ポリイミドフィルムからなる第２のポリイミド層２０の上にポリアミド酸の樹脂溶液を塗布してイミド化させた第１のポリイミド層１０を有するポリイミド積層体の断面図が示されている。第２のポリイミド層２０は、例えば厚さ１００μｍで形成され、第１のポリイミド層１０は、例えば厚さ２０μｍで形成される。そして、図２には、ポリイミド積層体上に入力位置検出用電極を備えた投影型静電容量結合方式のタッチパネル７０の平面図が示されている。 FIG. 1 shows a cross-sectional view of a polyimide laminate having a first polyimide layer 10 imidized by applying a polyamic acid resin solution onto a second polyimide layer 20 made of a polyimide film. . The second polyimide layer 20 is formed with a thickness of 100 μm, for example, and the first polyimide layer 10 is formed with a thickness of 20 μm, for example. FIG. 2 shows a plan view of a projected capacitive coupling type touch panel 70 having an input position detection electrode on a polyimide laminate.

図２では、入力位置検出用電極を形成するパターン電極の様子が示されており、一方向（ｘ方向）に所定の間隔を有して複数のひし形電極部が配列されて、それらを連結する配線部を有した第１電極５１と、他方向（ｙ方向）に所定の間隔を有して複数のひし形電極部が配列されて、それらを連結する配線部を有した第２電極５２とが備えられている。また、この入力位置検出用電極には、第１電極５１用の信号取り出し配線３１と、第２電極５２用の信号取り出し配線３２と、第１及び第２電極がそれぞれ外部と接続できるようにした端子４１、４２とが備えられている。なお、第１電極５１と第２電極５２との配線が交差する領域の第１電極側の配線部６１は、第１電極５１と第２電極５２との配線が交差する領域の第２電極側の配線部６２とは異なる層で形成されている。以下、ポリイミド積層体を支持基板として、このようなタッチパネルを形成する方法について説明する。 FIG. 2 shows the state of the pattern electrode that forms the input position detection electrode. A plurality of rhombus electrode portions are arranged with a predetermined interval in one direction (x direction) to connect them. A first electrode 51 having a wiring portion and a second electrode 52 having a wiring portion connecting a plurality of rhombus electrode portions with a predetermined interval in the other direction (y direction). Is provided. In addition, the input position detection electrode can be connected to the signal extraction wiring 31 for the first electrode 51, the signal extraction wiring 32 for the second electrode 52, and the first and second electrodes, respectively. Terminals 41 and 42 are provided. The wiring portion 61 on the first electrode side in the region where the wiring of the first electrode 51 and the second electrode 52 intersects is the second electrode side of the region where the wiring of the first electrode 51 and the second electrode 52 intersects. The wiring part 62 is formed in a different layer. Hereinafter, a method for forming such a touch panel using the polyimide laminate as a supporting substrate will be described.

先ず、ポリイミド積層体における第１のポリイミド層１０の表面には、ＩＴＯ等の透明導電膜が蒸着法等の手段によって成膜され、次いで、透明導電膜のパターニングを行う。この透明導電膜は、例えば厚さ５０ｎｍで成膜される。図３には、この透明導電膜のパターニングによって、例えば、第１電極５１と第２電極５２の配線とが交差する領域の第１電極側の配線部６１以外のパターンが上記透明導電膜を利用して同層に形成された様子が示されている。 First, a transparent conductive film such as ITO is formed on the surface of the first polyimide layer 10 in the polyimide laminate by means of vapor deposition or the like, and then the transparent conductive film is patterned. The transparent conductive film is formed with a thickness of 50 nm, for example. In FIG. 3, by patterning the transparent conductive film, for example, a pattern other than the wiring part 61 on the first electrode side in the region where the wiring of the first electrode 51 and the second electrode 52 intersects uses the transparent conductive film. Thus, it is shown that it is formed in the same layer.

透明導電膜のパターン形成にあたっては、例えば半導体の製造と同様にフォトリソグラフを用いて行うことができる。形成したい電極等のパターンのマスクを準備し、透明導電膜上に成膜されたレジストにパターンを転写した後、不要なレジストを除去してＩＴＯ等の透明導電膜をエッチングすることにより形成できる。ここでは、第１電極側の配線部６１は電気的に短絡しないように、第１の絶縁層（層間絶縁膜）８０を介した別の層を利用して、次の工程で形成される。図４には、図３におけるa-a'断面図が示されている。第１電極側の配線部６１以外は、図４に示す如く、第２電極側の配線部６２（図示外）を含めて同層の透明導電膜で形成される。 The patterning of the transparent conductive film can be performed using photolithography, for example, in the same manner as in the manufacture of semiconductors. It can be formed by preparing a mask of a pattern such as an electrode to be formed, transferring the pattern to a resist formed on the transparent conductive film, removing the unnecessary resist, and etching a transparent conductive film such as ITO. Here, the wiring part 61 on the first electrode side is formed in the following process using another layer with the first insulating layer (interlayer insulating film) 80 interposed therebetween so as not to be electrically short-circuited. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line aa ′ in FIG. Except for the wiring part 61 on the first electrode side, as shown in FIG. 4, the wiring part 62 (not shown) on the second electrode side is formed of the same transparent conductive film.

図５には、第１電極５１と第２電極５２の配線が交差する領域において、第１電極側の配線部６１を追加した状態の様子が示されている。また、図６には、図５におけるb-b'断面図が示されている。この第１電極側の配線部６１を形成するためには、先ず、上記でパターニングした透明導電膜の表面に対して、ポリイミド樹脂等のようなレジストからなる第１の絶縁層８０を成膜する。この第１の絶縁層８０は、例えば厚さ１μｍで成膜される。次いで、配線部６１を設ける位置に対応させて、このレジストからなる第１の絶縁層８０にコンタクトホール形状をマスク転写した後、エッチング等の手段でコンタクトホール９０を形成し、第１電極の電極部同士を配線部６１で接続できる状態にする。 FIG. 5 shows a state in which a wiring portion 61 on the first electrode side is added in a region where the wirings of the first electrode 51 and the second electrode 52 intersect. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line bb ′ in FIG. In order to form the wiring portion 61 on the first electrode side, first, the first insulating layer 80 made of a resist such as polyimide resin is formed on the surface of the transparent conductive film patterned as described above. . The first insulating layer 80 is formed with a thickness of 1 μm, for example. Next, the shape of the contact hole is mask-transferred to the first insulating layer 80 made of this resist in correspondence with the position where the wiring portion 61 is provided, and then the contact hole 90 is formed by means such as etching, so that the electrode of the first electrode The parts can be connected by the wiring part 61.

次に、第１の絶縁層８０にコンタクトホール９０が開いた状態において、配線部６１を形成するための透明導電膜を成膜する。この透明導電膜は、先の成膜で使用したものと同じものを用いることができ、例えば厚さ５０ｎｍで成膜される。次いで、配線部６１を形成するためのパターンに対応したマスクを用いて、レジストに配線部６１のパターンを転写し、配線部６１以外の透明導電膜を除去することで、第１電極のひし形電極部同士が電気的に接続されて、入力位置検出用電極のパターン形成が完了する。なお、パターン形成が完了した後、異物等によるショート、損傷等による断線からの保護等の目的から、上記と同様のレジスト材料等からなる第２の絶縁層８１を例えば厚さ２μｍで形成し、保護層として利用するようにしてもよい。但し、この第２の絶縁層８１は必ずしも必要ではないため、その形成を省略することもできる。 Next, in a state where the contact hole 90 is opened in the first insulating layer 80, a transparent conductive film for forming the wiring portion 61 is formed. As this transparent conductive film, the same one as used in the previous film formation can be used. For example, the transparent conductive film is formed with a thickness of 50 nm. Next, using the mask corresponding to the pattern for forming the wiring part 61, the pattern of the wiring part 61 is transferred to the resist, and the transparent conductive film other than the wiring part 61 is removed, so that the rhombus electrode of the first electrode The portions are electrically connected to complete the pattern formation of the input position detection electrode. After the pattern formation is completed, a second insulating layer 81 made of a resist material or the like similar to the above is formed with a thickness of 2 μm, for example, for the purpose of protection from a short circuit due to foreign matter, breakage due to damage, etc. You may make it utilize as a protective layer. However, since the second insulating layer 81 is not necessarily required, the formation thereof can be omitted.

上記のようなパターン形成にはＩＴＯ等の透明導電膜が利用されるが、例えばＩＴＯを蒸着法等で成膜した時点ではアモルファス状態であって、その抵抗値も高い。そのため、透明導電膜からパターン形成した後は、例えば２００℃〜２５０℃程度の温度でアニール処理を実施することで、ＩＴＯの結晶化が始まり抵抗値を下げることができる。本発明では、ポリイミド積層体がこのようなアニール温度に対して十分な耐熱性を有しているため、第１電極５１及び第２電極５２等のパターンを形成した後は、ポリイミド積層体ごとアニール処理することができ、これによって入力位置検出用電極を備えた検出電極付き基板１とすることができる。 For the pattern formation as described above, a transparent conductive film such as ITO is used. For example, when ITO is deposited by vapor deposition or the like, it is in an amorphous state and has a high resistance value. For this reason, after pattern formation from the transparent conductive film, annealing is performed at a temperature of about 200 ° C. to 250 ° C., for example, so that crystallization of ITO starts and the resistance value can be lowered. In the present invention, since the polyimide laminate has sufficient heat resistance against such an annealing temperature, after the pattern of the first electrode 51 and the second electrode 52 is formed, the entire polyimide laminate is annealed. Thus, the substrate 1 with a detection electrode provided with the input position detection electrode can be obtained.

上記で得られた検出電極付き基板１を用いて、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置上に配される入力装置を形成するにあたっては、先ず、図７に示したように、検出電極付き基板１の入力位置検出用電極側に透明接着層１００を介して透明保護板２００を貼り合せる。この透明保護板２００としては、例えば厚さ５００μｍの強化ガラス等を用いることができ、透明接着層１００には、アクリル系やエポキシ系等の透明接着剤を用いて、例えば厚さ５０μｍで設けることができる。 In forming an input device arranged on a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display using the substrate 1 with a detection electrode obtained above, first, as shown in FIG. A transparent protective plate 200 is bonded to the input position detection electrode side of the substrate 1 via the transparent adhesive layer 100. As the transparent protective plate 200, for example, tempered glass having a thickness of 500 μm can be used, and the transparent adhesive layer 100 is provided with a thickness of, for example, 50 μm using a transparent adhesive such as acrylic or epoxy. Can do.

図７には、検出電極付き基板１に透明接着層１００を介して透明保護板２００を貼り合わせた状態が示されている（図５におけるｂ-ｂ'断面を示したもの）。この時点では、検出電極付き基板１における支持基材２０は、第１のポリイミド層１０と第２のポリイミド２０とが一体化された状態のままであるが、上記と同様の透明接着層を介して図示外の表示装置上に検出電極付き基板の支持基板側を接着させる前に、図８に示したように、第１のポリイミド層１０と第２のポリイミド層２０との界面を利用して、第２のポリイミド層２０を分離して取り除き、支持基板を薄肉化すれば、薄型のタッチパネル（入力装置）を形成することができる。 FIG. 7 shows a state in which the transparent protective plate 200 is bonded to the detection electrode-equipped substrate 1 via the transparent adhesive layer 100 (showing the bb ′ cross section in FIG. 5). At this time, the support base material 20 in the substrate 1 with the detection electrode remains in a state where the first polyimide layer 10 and the second polyimide 20 are integrated, but through a transparent adhesive layer similar to the above. Before adhering the support substrate side of the detection electrode-attached substrate to a display device (not shown), the interface between the first polyimide layer 10 and the second polyimide layer 20 is utilized as shown in FIG. If the second polyimide layer 20 is separated and removed and the supporting substrate is thinned, a thin touch panel (input device) can be formed.

上記では検出電極付き基板１を最初に貼り合わせる対象物を透明保護板とする実施形態を示したが、検出電極付き基板１を最初に液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のような表示装置に貼り合せるようにしてもよい。すなわち、上記と同様の透明接着層を介して、図示外の表示装置上に検出電極付き基板１の入力位置検出用電極側（図６の場合では第２の絶縁層８１側）を接着させた後、第１のポリイミド層１０と第２のポリイミド層２０との界面を利用して、第２のポリイミド層２０を分離して取り除き、支持基板を薄肉化すれば、先の場合と同様に薄型のタッチパネルを形成することができる。先の実施形態を含めて、このように表示装置上に入力装置を積層する過程で支持基板の薄肉化をすることで、少なくとも検出電極付き基板１を製造する際にはハンドリング性が確保されると共に、皺や伸び、破けといった損傷からも保護して、薄型の入力装置を得ることができる。 In the above description, the embodiment in which the object to which the substrate 1 with the detection electrode 1 is first bonded is the transparent protective plate, but the substrate 1 with the detection electrode is first bonded to a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display. You may do it. That is, the input position detection electrode side (the second insulating layer 81 side in the case of FIG. 6) of the substrate with detection electrode 1 is adhered to a display device (not shown) through a transparent adhesive layer similar to the above. After that, if the interface between the first polyimide layer 10 and the second polyimide layer 20 is used to separate and remove the second polyimide layer 20 and the support substrate is thinned, the thickness is reduced as in the previous case. The touch panel can be formed. Including the previous embodiment, the support substrate is thinned in the process of laminating the input device on the display device as described above, so that at least the handling property is ensured when the substrate 1 with detection electrodes is manufactured. At the same time, a thin input device can be obtained by protecting against damage such as wrinkles, stretching, and tearing.

以下、評価試験例に基づいて、本発明についてより具体的に説明する。なお、下記内容は評価試験のためのものであり、本発明はこれらの内容に制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on evaluation test examples. The following contents are for evaluation tests, and the present invention is not limited to these contents.

先ず、下記においてポリイミドを合成する際の原料モノマーや溶媒の略語、及び、評価試験における各種物性の測定方法とその条件について以下に示す。 First, the abbreviations of raw material monomers and solvents used in the synthesis of polyimide and the measurement methods and conditions for various physical properties in evaluation tests are shown below.

〔略語について〕
・ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
・ＰＤＡ：１，４−フェニレンジアミン
・ＴＦＭＢ：２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル
・ＤＡＤＭＢ：４，４’−ジアミノ−２，２’−ジメチルビフェニル
・１，３−ＢＡＢ：１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン
・ＢＰＤＡ：３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
・６ＦＤＡ：２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物
・ＰＭＤＡ：ピロメリット酸二無水物 [About abbreviations]
DMAc: N, N-dimethylacetamide PDA: 1,4-phenylenediamine TFMB: 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl DADMB: 4,4′-diamino- 2,2′-dimethylbiphenyl, 1,3-BAB: 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, BPDA: 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 6FDA: 2 , 2'-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride-PMDA: pyromellitic dianhydride

〔表面粗さ（Ｒａ）〕
ブルカー社製の原子間力顕微鏡（AFM）「Multi Mode8」を用いて表面観察をタッピングモードで行った。１０μｍ角の視野観察を４回行い、それらの平均値を求めた。表面粗さ（Ra）は、算術平均粗さ（JIS B0601-1991）を表す。 [Surface roughness (Ra)]
Surface observation was performed in a tapping mode using an atomic force microscope (AFM) “Multi Mode 8” manufactured by Bruker. Observation of a 10 μm square field of view was performed four times, and the average value thereof was obtained. The surface roughness (Ra) represents the arithmetic average roughness (JIS B0601-1991).

〔剥離強度〕
東洋精機製作所社製ストログラフＲ−１を用いて、ポリイミド積層体を幅１０ｍｍの短冊状に切断したサンプルにおける第１のポリイミド層と第２のポリイミド層における界面について、Ｔ字剥離試験法によるピール強度を測定することにより評価した。 [Peel strength]
Peel by T-peeling test method for the interface between the first polyimide layer and the second polyimide layer in the sample obtained by cutting the polyimide laminate into a strip shape with a width of 10 mm using the Toro Seiki Seisakusho R-1 Evaluation was made by measuring the strength.

〔透過率（％）〕
第１のポリイミド層からなるポリイミドフィルム(５０mm×５０mm)について、Ｕ４０００形分光光度計を使って４４０ｎｍから７８０ｎｍにおける光透過率の平均値を求めた。 [Transmissivity (%)]
About the polyimide film (50 mm x 50 mm) which consists of a 1st polyimide layer, the average value of the light transmittance in 440 nm to 780 nm was calculated | required using the U4000 type spectrophotometer.

〔ガラス転移温度Ｔｇ〕
第１又は第２のポリイミド層からなるポリイミドフィルムのガラス転移温度を次のようにして測定した。粘弾性アナライザ（レオメトリックサイエンスエフィー株式会社製ＲＳＡ−II）を使って、１０ｍｍ幅のサンプルを用いて、１Ｈｚの振動を与えながら、室温から４００℃まで１０℃／分の速度で昇温した際の、損失正接（Ｔａｎδ）の極大から求めた。 [Glass transition temperature Tg]
The glass transition temperature of the polyimide film comprising the first or second polyimide layer was measured as follows. Using a viscoelasticity analyzer (RSA-II, manufactured by Rheometric Science Effy Co., Ltd.), using a sample with a width of 10 mm and applying a 1 Hz vibration while raising the temperature from room temperature to 400 ° C. at a rate of 10 ° C./min. Of the loss tangent (Tan δ).

〔熱膨張係数（CTE）〕
第１又は第２のポリイミド層からなるポリイミドフィルムを３ｍｍ×１５ｍｍのサイズに切り出し、熱機械分析(TMA)装置にて５．０gの荷重を加えながら一定の昇温速度（20℃／min）で３０℃から２６０℃の温度範囲で引張り試験を行い、温度に対するポリイミドフィルムの伸び量から熱膨張係数(×１０^-6／Ｋ)を測定した。 [Coefficient of thermal expansion (CTE)]
A polyimide film composed of the first or second polyimide layer is cut into a size of 3 mm × 15 mm, and a constant heating rate (20 ° C./min) is applied while applying a 5.0 g load with a thermomechanical analysis (TMA) apparatus. A tensile test was performed in a temperature range of 30 ° C. to 260 ° C., and a thermal expansion coefficient (× 10 ⁻⁶ / K) was measured from the amount of elongation of the polyimide film with respect to the temperature.

合成例１（ポリイミドＡ）
窒素気流下で、３００ｍｌのセパラブルフラスコの中で攪拌しながらＰＤＡ８．００ｇを溶剤ＤＭＡｃに溶解させた。次いで、この溶液ＢＰＤＡ２２．００ｇを加えた。その後、溶液を室温で５時間攪拌を続けて重合反応を行い、一昼夜保持した。粘稠なポリアミド酸溶液が得られ、高重合度のポリアミド酸Ａが生成されていることが確認された。 Synthesis Example 1 (Polyimide A)
Under a nitrogen stream, 8.00 g of PDA was dissolved in the solvent DMAc while stirring in a 300 ml separable flask. Then 22.00 g of this solution BPDA was added. Thereafter, the solution was stirred at room temperature for 5 hours to conduct a polymerization reaction, and kept for a whole day and night. A viscous polyamic acid solution was obtained, and it was confirmed that polyamic acid A having a high polymerization degree was produced.

合成例２（ポリイミドＢ）
窒素気流下で、３００ｍｌのセパラブルフラスコの中で攪拌しながらＴＦＭＢ１２．０８ｇを溶剤ＤＭＡｃに溶解させた。次いで、この溶液にＰＭＤＡ６．２０ｇと６ＦＤＡ４．２１ｇを加えた。その後、溶液を室温で５時間攪拌を続けて重合反応を行い、一昼夜保持した。粘稠なポリアミド酸溶液が得られ、高重合度のポリアミド酸Ｂが生成されていることが確認された。 Synthesis Example 2 (Polyimide B)
Under a nitrogen stream, 12.08 g of TFMB was dissolved in the solvent DMAc while stirring in a 300 ml separable flask. Next, 6.20 g of PMDA and 4.21 g of 6FDA were added to this solution. Thereafter, the solution was stirred at room temperature for 5 hours to conduct a polymerization reaction, and kept for a whole day and night. A viscous polyamic acid solution was obtained, and it was confirmed that polyamic acid B having a high polymerization degree was produced.

合成例３（ポリイミドＣ）
窒素気流下で、３００ｍｌのセパラブルフラスコの中で攪拌しながらＴＦＭＢ１３．３０ｇを溶剤ＤＭＡｃに溶解させた。次いで、この溶液にＰＭＤＡ９．２０ｇを加えた。その後、溶液を室温で５時間攪拌を続けて重合反応を行い、一昼夜保持した。粘稠なポリアミド酸溶液が得られ、高重合度のポリアミド酸Ｃが生成されていることが確認された。 Synthesis Example 3 (Polyimide C)
Under a nitrogen stream, 13.30 g of TFMB was dissolved in the solvent DMAc while stirring in a 300 ml separable flask. Next, 9.20 g of PMDA was added to this solution. Thereafter, the solution was stirred at room temperature for 5 hours to conduct a polymerization reaction, and kept for a whole day and night. A viscous polyamic acid solution was obtained, and it was confirmed that polyamic acid C having a high polymerization degree was produced.

［ポリイミド積層体Ｉの作製］
厚み１８μｍの電解銅箔上に、合成例１で得たポリアミド酸Ａの樹脂溶液を塗布した後、１３０℃で加熱乾燥し溶剤を除去した。次に、１６０℃から３６０℃まで約４℃／分の昇温速度で熱処理することでイミド化し、厚み２５μｍの第２のポリイミド層（表面粗さRa=1.3nm、Tg=355℃）を有する銅張積層板（熱膨張係数18×10^-6/K）を得た。 [Preparation of polyimide laminate I]
After applying the polyamic acid A resin solution obtained in Synthesis Example 1 onto an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm, the solvent was removed by heating and drying at 130 ° C. Next, it is imidized by heat treatment from 160 ° C. to 360 ° C. at a heating rate of about 4 ° C./min, and has a second polyimide layer (surface roughness Ra = 1.3 nm, Tg = 355 ° C.) having a thickness of 25 μm. A copper clad laminate (thermal expansion coefficient 18 × 10 ⁻⁶ / K) was obtained.

得られた銅張積層板の第２のポリイミド層上に、合成例２で得たポリアミド酸Ｂの樹脂溶液を硬化後の厚みが２５μｍとなるように均一に塗布した後、１３０℃で加熱乾燥し、樹脂溶液中の溶剤を除去した。次に、１６０℃から３６０℃まで約２０℃／分の昇温速度で熱処理することでポリアミド酸をイミド化させて第１のポリイミド層を形成し、第１及び第２のポリイミド層を有するポリイミド積層体Ｉを得た。得られたポリイミド積層体Ｉにおける第１及び第２のポリイミド層での界面における剥離強度、得られた透明ポリイミドフィルム（第１のポリイミド層）の透過率、及び熱膨張係数を測定した。結果を表１に示す。 On the 2nd polyimide layer of the obtained copper clad laminated board, after apply | coating the resin solution of the polyamic acid B obtained by the synthesis example 2 uniformly so that the thickness after hardening may be set to 25 micrometers, it heat-drys at 130 degreeC. The solvent in the resin solution was removed. Next, the first polyimide layer is formed by imidizing the polyamic acid by heat treatment from 160 ° C. to 360 ° C. at a heating rate of about 20 ° C./min, and the polyimide having the first and second polyimide layers A laminate I was obtained. The peel strength at the interface between the first and second polyimide layers in the obtained polyimide laminate I, the transmittance of the obtained transparent polyimide film (first polyimide layer), and the thermal expansion coefficient were measured. The results are shown in Table 1.

［ポリイミド積層体IIの作製］
第２のポリイミド層として厚さ１２５μｍのポリイミドフィルム（カプトンＨ、東レ・デュポン株式会社製：表面粗さRa=70nm、Tg=428℃、熱膨張係数28.5ppm/K）を使用し、この上に合成例２で得たポリアミド酸Ｂの樹脂溶液を硬化後の厚みが２５μｍとなるように均一に塗布し、その後、１３０℃で加熱乾燥することで樹脂溶液中の溶剤を除去した。次に、１６０℃から３６０℃まで約２０℃／分の昇温速度で熱処理しポリアミド酸をイミド化させて第１のポリイミド層を形成し、第１及び第２のポリイミド層を有するポリイミド積層体IIを得た。得られたポリイミド積層体IIにおける第１及び第２のポリイミド層での界面における剥離強度、得られた透明ポリイミドフィルム（第１のポリイミド層）の透過率、及び熱膨張係数を測定した。結果を表１に示す。 [Preparation of polyimide laminate II]
A 125 μm-thick polyimide film (Kapton H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd .: surface roughness Ra = 70 nm, Tg = 428 ° C., thermal expansion coefficient 28.5 ppm / K) is used as the second polyimide layer. The resin solution of polyamic acid B obtained in Synthesis Example 2 was uniformly applied so that the thickness after curing was 25 μm, and then heated and dried at 130 ° C. to remove the solvent in the resin solution. Next, heat treatment is performed at a temperature increase rate of about 20 ° C./min from 160 ° C. to 360 ° C. to imidize the polyamic acid to form a first polyimide layer, and a polyimide laminate having first and second polyimide layers I got II. The peel strength at the interface between the first and second polyimide layers in the obtained polyimide laminate II, the transmittance of the obtained transparent polyimide film (first polyimide layer), and the thermal expansion coefficient were measured. The results are shown in Table 1.

［ポリイミド積層体IIIの作製］
第２のポリイミド層として厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（ユーピレックスＳ、宇部興産株式会社製：表面粗さRa=15nm、Tg=359℃、熱膨張係数12.5ppm/K）を使用し、この上に合成例３で得たポリアミド酸Ｃの樹脂溶液を硬化後の厚みが２５μｍとなるように均一に塗布し、その後、１３０℃で加熱乾燥することで樹脂溶液中の溶剤を除去した。次に、１６０℃から３６０℃まで約２０℃／分の昇温速度で熱処理しポリアミド酸をイミド化させて第１のポリイミド層を形成し、第１及び第２のポリイミド層を有するポリイミド積層体IIIを得た。得られたポリイミド積層体IIIにおける第１及び第２のポリイミド層での界面における剥離強度、得られた透明ポリイミドフィルム（第１のポリイミド層）の透過率、及び熱膨張係数を測定した。結果を表１に示す。 [Preparation of Polyimide Laminate III]
A polyimide film having a thickness of 25 μm (Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd .: surface roughness Ra = 15 nm, Tg = 359 ° C., thermal expansion coefficient 12.5 ppm / K) is used as the second polyimide layer, and synthesized on this film. The resin solution of the polyamic acid C obtained in Example 3 was uniformly applied so that the thickness after curing was 25 μm, and then the solvent in the resin solution was removed by heating and drying at 130 ° C. Next, heat treatment is performed at a temperature increase rate of about 20 ° C./min from 160 ° C. to 360 ° C. to imidize the polyamic acid to form a first polyimide layer, and a polyimide laminate having first and second polyimide layers III was obtained. The peel strength at the interface between the first and second polyimide layers in the obtained polyimide laminate III, the transmittance of the obtained transparent polyimide film (first polyimide layer), and the thermal expansion coefficient were measured. The results are shown in Table 1.

［ポリイミド積層体Ｉ〜IIIの分離性の評価］
製造直後のポリイミド積層体Ｉ〜IIIにつき、第１及び第２のポリイミド層の界面を利用して、各ポリイミド層を人手により分離し、分離の容易性を確認したところ、いずれの積層体についても分離されるポリイミド層にダメージを与えることなく容易に分離することができ、良好な剥離性を示した。 [Evaluation of Separability of Polyimide Laminates I-III]
For the polyimide laminates I to III immediately after production, each polyimide layer was manually separated using the interface between the first and second polyimide layers, and the ease of separation was confirmed. It could be easily separated without damaging the separated polyimide layer and showed good peelability.

１検出電極付き基板
１０第１のポリイミド層
２０第２のポリイミド層
３１第１電極の配線
３２第２電極の配線
４１第１電極の外部との接続端子
４２第２電極の外部との接続端子
５１第１電極
５２第２電極
６１第１電極の配線部
６２第２電極の配線部
７０タッチパネル
８０第１の絶縁層（層間絶縁膜）
８１第２の絶縁層
９０コンタクトホール
１００透明接着層
２００透明保護板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate with a detection electrode 10 1st polyimide layer 20 2nd polyimide layer 31 Wiring of 1st electrode 32 Wiring of 2nd electrode 41 Connection terminal with the exterior of 1st electrode 42 Connection terminal with the exterior of 2nd electrode 51 First electrode 52 Second electrode 61 Wiring portion of first electrode 62 Wiring portion of second electrode 70 Touch panel 80 First insulating layer (interlayer insulating film)
81 Second insulating layer 90 Contact hole 100 Transparent adhesive layer 200 Transparent protective plate

Claims

This is a method for manufacturing a capacitively coupled input device arranged on a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display using a substrate with a detection electrode having an input position detection electrode on one side of the support substrate. And
The support substrate is made of a polyimide laminate having a first polyimide layer located on the input position detection electrode side and a second polyimide layer located on the back side of the first polyimide layer . The adhesive strength at the interface between the first and second polyimide layers is 1 N / m or more and 500 N / m or less,
i) Adhering the input position detection electrode side of the substrate with detection electrode on the display device via the transparent adhesive layer, or ii) A transparent protective plate on the input position detection electrode side of the substrate with detection electrode After bonding, before bonding the support substrate side of the substrate with the detection electrode on the display device through the transparent adhesive layer, the interface between the first polyimide layer and the second polyimide layer on the support substrate is used. Then, the second polyimide layer is separated and removed, and the support substrate is thinned.

The method for manufacturing an input device according to claim 1, wherein the input position detection electrode in the substrate with the detection electrode is obtained by annealing a transparent conductive film patterned on one side of the support substrate.

3. The method for manufacturing an input device according to claim 1, wherein the first polyimide layer is made of fluorine-containing polyimide and has a transmittance of 70% or more in a wavelength region of 440 nm to 780 nm.

The method for manufacturing an input device according to claim 3, wherein the first polyimide layer has a thermal expansion coefficient of 25 ppm / K or less.

The surface of the second polyimide layer forming the interface between the first and second polyimide layers has a surface roughness (Ra) of 100 nm or less and a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C. or more. The manufacturing method of the input device in any one of Claims 1-4 which has these.

The method for manufacturing an input device according to claim 5, wherein the second polyimide layer is made of polyimide having the following structural unit.