JP6011895B2 - Undercoat agent for substrate with copper thin film, substrate with copper thin film, method for producing substrate with copper thin film, and conductive film - Google Patents

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Description

本発明は、各種基材の表面に銅薄膜を形成するために用いるアンダーコート剤、該アンダーコート剤からなる層を有する銅薄膜付基材及びその製造方法、並びに該銅薄膜付基材を用いてなる導電性フィルムに関する。   The present invention uses an undercoat agent used for forming a copper thin film on the surface of various substrates, a substrate with a copper thin film having a layer made of the undercoat agent, a method for producing the same, and the substrate with a copper thin film It is related with the conductive film formed.

本明細書において「銅薄膜付基材」とは、プラスチック成形品やプラスチックフィルム、金属、ガラス、紙、ナノセルロース紙、木材等の各種基材の表面に銅薄膜が形成されてなる物品をいう。以下、ITO(酸化インジウム錫)からなる導電層を表面に有するフィルム(以下、ITOフィルムともいう。)の代替品として位置づけられる、銅蒸着膜からなる導電層を表面に有するフィルム(以下、銅蒸着プラスチックフィルムともいう。)を例に挙げ、背景技術について説明する。   In the present specification, the “substrate with a copper thin film” refers to an article in which a copper thin film is formed on the surface of various substrates such as plastic molded articles, plastic films, metals, glass, paper, nanocellulose paper, and wood. . Hereinafter, a film having a conductive layer made of a copper vapor deposition film on the surface (hereinafter referred to as copper vapor deposition) positioned as a substitute for a film having a conductive layer made of ITO (indium tin oxide) on the surface (hereinafter also referred to as ITO film). The background art will be described by taking as an example a plastic film.

ITOフィルムは、透明性と導電性に優れるため、スマートフォンやタブレットPC等のタッチパネル用の電極フィルムとして賞用されている。しかし、インジウムが高価なレアメタルであるためコストの面で問題があり、またITO層が一般に硬く脆いため曲げや変形に弱い等加工性の点で課題がある。   An ITO film is used as an electrode film for touch panels such as smartphones and tablet PCs because it is excellent in transparency and conductivity. However, since indium is an expensive rare metal, there is a problem in terms of cost, and since the ITO layer is generally hard and brittle, there are problems in terms of workability such as weakness to bending and deformation.

そこで斯界では、ITOに代えて、成膜性を有する有機導電性高分子(例えば、ポリチオフェンやポリアニリン、ポリピロール等)を導電材として用いる試みもなされている。しかし、有機導電性高分子一般に強く着色しているため、それらを導電層とする導電性フィルムないし電極フィルムは色調の点で問題が残る。この点、色調を改善するためには有機導電性高分子の使用量を減らせば良いが、導電性が損なわれる。   Therefore, in this field, an attempt has been made to use an organic conductive polymer having a film forming property (for example, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, etc.) as a conductive material instead of ITO. However, since organic conductive polymers are generally strongly colored, conductive films or electrode films using them as conductive layers still have problems in terms of color tone. In this respect, in order to improve the color tone, the amount of the organic conductive polymer used may be reduced, but the conductivity is impaired.

一方、斯界では、ITOフィルムに代えて銅蒸着プラスチックフィルムの検討がなされている。このものは、銅がITOよりも低抵抗率であることに起因し、ITOフィルムと遜色ない導電性を示し、また加工性も良好であり、何より安価である。そのため、銅蒸着プラスチックフィルムは各種電子機器の電極フィルムとして有用であり、例えばタッチパネルの更なる大画面化や、インタラクティヴ型のデジタル・サイネージとしての有効活用に寄与すると考えられている。   On the other hand, in this field, a copper-deposited plastic film has been studied in place of the ITO film. This is because copper has a lower resistivity than ITO, exhibits conductivity comparable to that of an ITO film, has good workability, and is cheaper than anything. Therefore, the copper-deposited plastic film is useful as an electrode film for various electronic devices, and is considered to contribute to, for example, further enlargement of the touch panel and effective use as an interactive digital signage.

銅蒸着プラスチックフィルムは、一般には、基材となるフィルム面にニッケルを真空蒸着させ、その上に更に銅を真空蒸着させることにより得られる。このニッケル蒸着層は、フィルムと銅蒸着層とをより強く密着させるためのアンカー層として機能する。そして、得られた銅蒸着プラスチックフィルムにレジストを塗布し、電極パターンを描写した後でエッチング液(アルカリ溶液及び/又は酸性溶液)に浸漬し、レジストを除去することによって、電極フィルムが得られる。   The copper-deposited plastic film is generally obtained by vacuum-depositing nickel on a film surface serving as a substrate and further vacuum-depositing copper thereon. This nickel vapor deposition layer functions as an anchor layer for making a film and a copper vapor deposition layer adhere more strongly. And a resist is apply | coated to the obtained copper vapor deposition plastic film, an electrode film is drawn, Then, it is immersed in etching liquid (an alkali solution and / or acidic solution), and an electrode film is obtained by removing a resist.

ところが、前記銅蒸着プラスチックフィルムには、ニッケルが耐アルカリ性及び耐酸性に乏しいことから、エッチング処理後に銅蒸着層が基材フィルムから剥離したり、脱落したりする問題があった。   However, since the copper vapor-deposited plastic film has poor alkali resistance and acid resistance, nickel has a problem that the copper vapor-deposited layer is peeled off from the substrate film or dropped after the etching treatment.

また、前記したように銅蒸着プラスチックフィルムはITOフィルムと比較して安価であるとはいえ、アンカー層をなすニッケルが銅よりも高価であるため、そのぶん割高である。そこで斯界では、有機高分子を主成分とするアンダーコート剤をアンカー層とする銅蒸着プラスチックフィルムも検討されている(特許文献1を参照)。   Further, as described above, although the copper vapor-deposited plastic film is cheaper than the ITO film, the nickel forming the anchor layer is more expensive than copper, and is therefore relatively expensive. Therefore, in this field, a copper-deposited plastic film using an undercoat agent mainly composed of an organic polymer as an anchor layer has also been studied (see Patent Document 1).

特開平5−28835号公報JP-A-5-28835

本発明は、基材と銅薄膜との初期密着性のみならず、該銅薄膜基材をアルカリ溶液及び酸性溶液で処理した後の基材と銅薄膜との密着性(耐アルカリ密着性、耐酸密着性)においても優れる、新規なアンダーコート剤を提供することを主たる課題とする。   In the present invention, not only the initial adhesion between the substrate and the copper thin film, but also the adhesion between the substrate and the copper thin film after the copper thin film substrate is treated with an alkali solution and an acidic solution (alkali resistance adhesion, acid resistance). The main problem is to provide a novel undercoat agent that is excellent in adhesion.

本発明者は鋭意検討を重ねた結果、所定の水酸基含有アクリルコポリマーを主剤とし、所定のポリイソシアネートを硬化剤とする組成物に、更に所定の活性エネルギー線硬化型化合物と反応性アルコキシシリル化合物を配合してなる、熱と活性エネルギー線の双方で硬化するアンダーコート剤によれば、前記課題を解決できることを見出した。   As a result of extensive studies, the present inventor has added a predetermined active energy ray-curable compound and a reactive alkoxysilyl compound to a composition having a predetermined hydroxyl group-containing acrylic copolymer as a main agent and a predetermined polyisocyanate as a curing agent. It has been found that the above problem can be solved by using an undercoat agent that is blended and cured with both heat and active energy rays.

即ち本発明は、水酸基、アルキルエステル基及びニトリル基並びに場合により一級アミド基を有するアクリルコポリマー(A)と、イソシアネート基を少なくとも3つ有するポリイソシアネート(B)と、炭素−炭素二重結合含有基を少なくとも3つ有する活性エネルギー線重合型化合物(C)と、一般式(1):X−Si(R(OR3−a(式(1)中、Xは、水酸基、イソシアネート基及び重合性炭素−炭素二重結合含有基からなる群より選ばれる少なくとも一種と反応する官能基を含む基を、Rは水素又は炭素数1〜8の炭化水素基を、Rは炭素数1〜8の炭化水素基を、aは0、1又は2を示す。)で表される反応性アルコキシシリル化合物(D)とを含有する、銅薄膜付基材用アンダーコート剤に関する。 That is, the present invention relates to an acrylic copolymer (A) having a hydroxyl group, an alkyl ester group and a nitrile group and optionally a primary amide group, a polyisocyanate (B) having at least three isocyanate groups, and a carbon-carbon double bond-containing group. Active energy ray polymerization type compound (C) having at least three, and general formula (1): X 1 -Si (R 1 ) a (OR 2 ) 3-a (in formula (1), X 1 is a hydroxyl group R 1 represents a group containing a functional group that reacts with at least one selected from the group consisting of an isocyanate group and a polymerizable carbon-carbon double bond-containing group, R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 Is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and a is a reactive alkoxysilyl compound (D) represented by 0, 1 or 2. about The

また、本発明は、当該アンダーコート剤からなる層を有する銅薄膜付基材及びその製造方法、並びに該銅薄膜付基材を用いてなる導電性フィルムに関する。   Moreover, this invention relates to the electroconductive film formed using the base material with a copper thin film which has the layer which consists of the said undercoat agent, its manufacturing method, and this base material with a copper thin film.

本発明のアンダーコート剤は、前記したように、熱と活性エネルギー線の双方で硬化するタイプの組成物であり、これによれば、プラスチック等の各種基材と銅薄膜との初期密着性のみならず、耐アルカリ密着性及び耐酸密着性が良好になる(以下、これらを単に密着性と総称することがある。)。また、当該アンダーコート剤には活性エネルギー線で硬化する成分を含めているため、アンダーコート皮膜に優れた硬度を付与することもできる。   As described above, the undercoat agent of the present invention is a composition of a type that is cured by both heat and active energy rays. According to this, only initial adhesion between various substrates such as plastic and a copper thin film is provided. In other words, the alkali-proof adhesiveness and the acid-resistant adhesiveness are improved (hereinafter, these may be simply referred to as adhesiveness). Moreover, since the undercoat agent contains a component that is cured by active energy rays, it is possible to impart excellent hardness to the undercoat film.

また、本発明のアンダーコート剤を用いて得られる銅薄膜付基材は、特に耐アルカリ密着性及び耐酸密着性が良好である。そのため、該銅薄膜付基材をエッチング液に浸漬しても銅薄膜が脱落し難い。また、当該銅薄膜付基材は、アンダーコート層に優れた硬度を付与できるため、当該基材の製造工程において、銅薄膜面の耐傷付性が良好となる他、該銅薄膜面がメッシュ形状の場合には、欠損が生じ難くなる。   Moreover, especially the base material with a copper thin film obtained using the undercoat agent of this invention has favorable alkali-proof adhesiveness and acid-resistant adhesiveness. Therefore, even if this base material with a copper thin film is immersed in an etching solution, the copper thin film hardly falls off. Moreover, since the base material with a copper thin film can impart excellent hardness to the undercoat layer, in the manufacturing process of the base material, the copper thin film surface has good scratch resistance, and the copper thin film surface has a mesh shape. In this case, defects are less likely to occur.

本発明の銅薄膜プラスチックフィルムは、各種用途に供し得るが、そのうち特に銅蒸着フィルムや、スパッタリング法により銅の極薄膜を形成してなるフィルムは、ITOフィルムを代替する電極フィルムとして好適である。また、該電極フィルムは、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ノートPC、オールインワンPC及びデジタル・サイネージ等に供し得る。   The copper thin film plastic film of the present invention can be used for various applications. Among them, a copper vapor-deposited film and a film formed by forming a copper ultra-thin film by a sputtering method are particularly suitable as an electrode film replacing the ITO film. Moreover, this electrode film can be used for a smart phone, a tablet terminal, a notebook PC, all-in-one PC, digital signage, etc., for example.

本発明の銅薄膜付基材用アンダーコート剤(以下、単にアンダーコート剤ともいう。)は、水酸基、アルキルエステル基及びニトリル基並びに場合により一級アミド基を有するアクリルコポリマー(A)(以下、(A)成分ともいう。)と、イソシアネート基を少なくとも3つ有するポリイソシアネート(B)(以下、(B)成分ともいう。)、炭素−炭素二重結合含有基を少なくとも3つ有する活性エネルギー線重合型化合物(C)(以下、(C)成分ともいう。)、及び所定の式で表される反応性アルコキシシリル化合物(D)(以下、(D)成分ともいう。)を含む非水系の組成物である。   The undercoat agent for a copper thin film-attached substrate of the present invention (hereinafter also simply referred to as an undercoat agent) is an acrylic copolymer (A) having a hydroxyl group, an alkyl ester group, a nitrile group, and optionally a primary amide group (hereinafter referred to as ( A) component)), polyisocyanate (B) having at least three isocyanate groups (hereinafter also referred to as component (B)), and active energy ray polymerization having at least three carbon-carbon double bond-containing groups. Type compound (C) (hereinafter also referred to as (C) component) and a non-aqueous composition containing a reactive alkoxysilyl compound (D) represented by a predetermined formula (hereinafter also referred to as (D) component) It is a thing.

(A)成分は、分子内に水酸基とニトリル基を極性基として有するため、前記密着性、特に前記耐酸密着性及び耐アルカリ密着性に寄与する。また、(A)成分に更に一級アミド基を導入した場合、前記耐酸密着性及び耐アルカリ密着性が一層向上する。   Since the component (A) has a hydroxyl group and a nitrile group as polar groups in the molecule, it contributes to the adhesion, particularly the acid resistance adhesion and alkali resistance resistance. In addition, when a primary amide group is further introduced into the component (A), the acid resistance and alkali resistance are further improved.

(A)成分としては、各種公知のものを特に限定なく使用できるが、例えば、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート(a1)(以下、(a1)成分ともいう。)、アルキル(メタ)アクリレート(a2)(水酸基を有するものを除く。)(以下、(a2)成分ともいう。)及び(メタ)アクリロニトリル(a3)(以下、(a3)成分ともいう。)並びに必要により(メタ)アクリルアミド(a4)を反応成分とするものが好ましい。   As the component (A), various known compounds can be used without particular limitation. For example, hydroxyalkyl (meth) acrylate (a1) (hereinafter also referred to as component (a1)), alkyl (meth) acrylate (a2) (Excluding those having a hydroxyl group) (hereinafter also referred to as component (a2)) and (meth) acrylonitrile (a3) (hereinafter also referred to as component (a3)) and (meth) acrylamide (a4) as required. What makes it a reaction component is preferable.

(a1)成分は、主剤である(A)成分に水酸基を導入し、これと専ら(B)成分とを反応させ、アンダーコート層内に架橋構造を導入するために使用する。架橋構造が導入された結果、該アンダーコート層は所期の密着性と硬度を奏するようになる。   The component (a1) is used for introducing a hydroxyl group into the main component (A) and reacting it exclusively with the component (B) to introduce a crosslinked structure into the undercoat layer. As a result of the introduction of the crosslinked structure, the undercoat layer exhibits the desired adhesion and hardness.

(a1)成分としては、分子内に(メタ)アクリロイル基とヒドロキシアルキルエステル基とを有する化合物であれば、各種公知のものを特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート及びヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   As the component (a1), various known compounds can be used without particular limitation as long as they have a (meth) acryloyl group and a hydroxyalkyl ester group in the molecule. Specifically, for example, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4- Hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, etc. are mentioned, These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(a2)成分としては、分子内に(メタ)アクリロイル基とアルキルエステル基(ヒドロキシアルキル基を除く。)を有する化合物であれば、各種公知のものを特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、イコシル(メタ)アクリレート、ドコシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンタニル(メタ)アクリレート及びイソボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも密着性の点より、アルキルエステル基の炭素数が1〜6程度のものが好ましい。   As the component (a2), various known compounds can be used without particular limitation as long as they have a (meth) acryloyl group and an alkyl ester group (excluding a hydroxyalkyl group) in the molecule. Specifically, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, octyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, icosyl (meth) acrylate, docosyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meth) acrylate, cyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.Among these, those having about 1 to 6 carbon atoms of the alkyl ester group are preferable from the viewpoint of adhesion.

(a3)成分としては、具体的には、例えばアクリロニトリル及び/又はメタクリロニトリルが挙げられる。   Specific examples of the component (a3) include acrylonitrile and / or methacrylonitrile.

(a4)成分としては、具体的には、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド及びN−メチロールメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of the component (a4) include acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, and N-methylol methacrylamide.

前記各成分の使用量は特に限定されないが、密着性等の観点より、通常は以下の範囲とするのがよい。   Although the usage-amount of each said component is not specifically limited, Usually, it is good to set it as the following ranges from viewpoints, such as adhesiveness.

<(a4)成分を使用しない場合>
(a1)成分:通常5〜35モル%程度、好ましくは8〜25モル%程度
(a2)成分:通常10〜95モル%程度、好ましくは30〜70モル%程度
(a3)成分:通常5〜80モル%程度、好ましくは15〜65モル%程度
<When (a4) component is not used>
Component (a1): Usually about 5 to 35 mol%, preferably about 8 to 25 mol% (a2) Component: Usually about 10 to 95 mol%, preferably about 30 to 70 mol% (a3) Component: Usually 5 to 5 mol% About 80 mol%, preferably about 15 to 65 mol%

<(a4)成分を使用する場合>
(a1)成分:通常5〜35モル%程度、好ましくは8〜25モル%程度
(a2)成分:通常10〜87モル%程度、好ましくは30〜70モル%程度
(a3)成分:通常5〜80モル%程度、好ましくは15〜65モル%程度
(a4)成分:通常3〜55モル%程度、好ましくは5〜40モル%程度
<When (a4) component is used>
Component (a1): Usually about 5 to 35 mol%, preferably about 8 to 25 mol% (a2) Component: Usually about 10 to 87 mol%, preferably about 30 to 70 mol% (a3) Component: Usually 5 to 5 mol% About 80 mol%, preferably about 15 to 65 mol% (a4) Component: Usually about 3 to 55 mol%, preferably about 5 to 40 mol%

なお、本発明においては、前記(a1)成分〜(a4)成分以外のビニルモノマーを(A)成分の反応成分に含めることができる。具体的には、例えば2,4,4−トリメチル−1−ペンテン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、ビニルシクロヘキサン及び2−メチルビニルシクロヘキサン等のαオレフィン類;(メタ)アリルアルコール、4−ペンテン−1−オール、1−メチル−3−ブテン−1−オール及び5−ヘキセン−1−オール等の不飽和アルコール類;スチレン、α−メチルスチレン及びt−ブチルスチレン等のスチレン類;(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル及び(メタ)アクリル酸4−メチルベンジル等のアリール(メタ)アクリレート類;ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート及びジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート類並びにそれらの塩類;ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド及びジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド並びにそれらの塩類;N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸並びにそれらの塩類等の連鎖移動性モノマー類;ビニルアミン、(メタ)アクリル酸アミノエチル、アリルメルカプタン及びグリシジル(メタ)アクリレート等の他の単官能モノマー類;メチレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メタ)アクリルアミド及びヘキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド等のビス(メタ)アクリルアミド類;エチレングリコールジ(メタ)アクリルエステル及びジエチレングリコールジ(メタ)アクリルエステル等のジ(メタ)アクリルエステル類;アジピン酸ジビニル、セバシン酸ジビニル等のジビニルエステル類;ジアリルジメチルアンモニウム、ジアリルフタレート、ジアリルクロレンデート及びジビニルベンゼン等の二官能性モノマー類;1,3,5トリアクリロイルヘキサヒドロ−S−トリアジン、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルアミン、トリアリルトリメリテート及びN,N−ジアリルアクリルアミド等の三官能性モノマー類;テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラアリルピロメリテート及びN,N,N’,N’−テトラアリル−1,4ジアミノブタン等の四官能性モノマー類等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの使用量も特に限定されないが、通常、前記(a1)成分〜(a4)成分に対して10モル%未満である。   In the present invention, vinyl monomers other than the components (a1) to (a4) can be included in the reaction component of the component (A). Specifically, α-olefins such as 2,4,4-trimethyl-1-pentene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 1-hexene, vinylcyclohexane and 2-methylvinylcyclohexane Unsaturated alcohols such as (meth) allyl alcohol, 4-penten-1-ol, 1-methyl-3-buten-1-ol and 5-hexen-1-ol; styrene, α-methylstyrene and t -Styrenes such as butylstyrene; aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and 4-methylbenzyl (meth) acrylate; dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (Meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate and diethylaminopro Dialkylaminoalkyl (meth) acrylates such as pill (meth) acrylate and salts thereof; dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, and diethylaminopropyl (meth) acrylamide Dialkylaminoalkyl (meth) acrylamides and salts thereof; N, N-dimethyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, isopropyl (meth) acrylamide, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid and Chain transfer monomers such as 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanecarboxylic acid and salts thereof; vinylamine, aminoethyl (meth) acrylate, allyl mercaptan and Other monofunctional monomers such as ricidyl (meth) acrylate; bis (meth) acrylamides such as methylene bis (meth) acrylamide, ethylene bis (meth) acrylamide and hexamethylene bis (meth) acrylamide; ethylene glycol di (meth) acryl Di (meth) acrylic esters such as esters and diethylene glycol di (meth) acrylic esters; divinyl esters such as divinyl adipate and divinyl sebacate; bifunctional such as diallyldimethylammonium, diallyl phthalate, diallyl chlorendate and divinylbenzene Monomers: 1,3,5 triacryloylhexahydro-S-triazine, triallyl isocyanurate, triallylamine, triallyl trimellitate and N, N-diallylacrylamido Trifunctional monomers such as tetramethylol methane tetraacrylate, tetraallyl pyromellitate and tetrafunctional monomers such as N, N, N ′, N′-tetraallyl-1,4diaminobutane, and the like, These can be used alone or in combination of two or more. Moreover, although the usage-amount of these is also not specifically limited, Usually, it is less than 10 mol% with respect to the said (a1) component-(a4) component.

(A)成分は、各種公知の方法で製造できる。具体的には、例えば、(a1)成分、(a2)成分及び(a3)成分、並びに必要に応じて(a4)成分及びその他のモノマーを、無溶剤下、或いは、後述する有機溶剤(G)の中で、通常はラジカル重合開始剤の存在下、80〜180℃程度において、1〜10時間程度共重合反応させることにより得ることができる。また、有機溶剤(G)の使用量は、通常、(A)成分を含む溶液の固形分重量が10〜50重量%程度となる範囲である。   The component (A) can be produced by various known methods. Specifically, for example, the (a1) component, the (a2) component and the (a3) component, and if necessary, the (a4) component and other monomers may be used in the absence of a solvent or an organic solvent (G) described later. In general, it can be obtained by carrying out a copolymerization reaction at about 80 to 180 ° C. for about 1 to 10 hours in the presence of a radical polymerization initiator. Moreover, the usage-amount of the organic solvent (G) is a range from which the solid content weight of the solution containing (A) component will be about 10 to 50 weight% normally.

ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2、2’−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル)及びジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、その使用量は通常、(A)成分を構成する反応成分の総重量に対して0.1〜2重量%程度となる範囲である。   Examples of the radical polymerization initiator include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, potassium persulfate, t-butyl peroxybenzoate, dicumyl peroxide, lauryl peroxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2, 2 ′. -Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, etc. are mentioned, These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Further, the amount used is usually in the range of about 0.1 to 2% by weight based on the total weight of the reaction components constituting the component (A).

(A)成分の物性は特に限定されないが、初期密着性、耐酸密着性及び耐アルカリ密着性、並びに塗膜硬度等の観点より、通常水酸基価が30〜150mgKOH/g程度であり、かつ、ガラス転移温度が0〜100℃程度であるのがよく、特に水酸基価が50〜100mgKOH/g程度であり、かつ、ガラス転移温度が10〜70℃程度であるのが好ましい。   Although the physical properties of the component (A) are not particularly limited, the hydroxyl value is usually about 30 to 150 mgKOH / g from the viewpoint of initial adhesion, acid resistance and alkali resistance, and coating film hardness, and glass. The transition temperature is preferably about 0 to 100 ° C., particularly preferably the hydroxyl value is about 50 to 100 mgKOH / g, and the glass transition temperature is about 10 to 70 ° C.

(B)成分は、主剤である(A)成分の硬化剤として機能する成分であり、分子内イソシアネート基を少なくとも3つ有するポリイソシアネートであれば、各種公知のものを特に制限なく使用できる。また、(B)成分は、後述の(C)成分及び(D)成分のうちイソシアネート反応性官能基(水酸基、アミノ基等)を有するものとも反応し、本発明に係るアンダーコート層に架橋構造を与える。   (B) A component is a component which functions as a hardening | curing agent of (A) component which is a main ingredient, and if it is polyisocyanate which has at least three intramolecular isocyanate groups, various well-known things can be especially used without a restriction | limiting. Moreover, (B) component reacts also with what has an isocyanate reactive functional group (a hydroxyl group, an amino group, etc.) among the below-mentioned (C) component and (D) component, and is a crosslinked structure in the undercoat layer which concerns on this invention. give.

(B)成分の具体例としては、ジイソシアネート化合物のビウレット体、ヌレート体及びアダクト体からなる群より選ばれる1種の誘導体(b1)(以下、(b1)成分ともいう。)、該(b1)成分とジオール化合物との反応物(b2)(以下、(b2)成分ともいう。)、トリイソシアネート化合物(b3)((b1)成分及び(b2)成分に該当するものを除く。)(以下、(b3)成分ともいう。)、並びにその他のポリイソシアネート化合物(以下、(b4)成分ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   As a specific example of the component (B), one kind of derivative (b1) selected from the group consisting of a biuret body, a nurate body and an adduct body of a diisocyanate compound (hereinafter also referred to as the component (b1)), the (b1) Reaction product of component and diol compound (b2) (hereinafter also referred to as component (b2)), triisocyanate compound (b3) (excluding those corresponding to components (b1) and (b2)) (hereinafter, (B3) component)), and at least one selected from the group consisting of other polyisocyanate compounds (hereinafter also referred to as component (b4)).

(b1)成分を構成するジイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート及びキシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、並びにジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート及び水添トリレンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the diisocyanate compound constituting the component (b1) include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, and dicyclohexylmethane. Examples thereof include alicyclic diisocyanates such as diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, and hydrogenated tolylene diisocyanate.

なお、前記ジイソシアネート化合物のビウレット体は、下記構造式によって表される。   In addition, the biuret body of the said diisocyanate compound is represented by the following structural formula.

Figure 0006011895
(式中、Rは前記ジイソシアネート化合物の残基を表す。)
Figure 0006011895
(Wherein R 3 represents a residue of the diisocyanate compound.)

また、前記ジイソシアネート化合物のヌレート体は、下記構造式によって表される。   Moreover, the nurate body of the said diisocyanate compound is represented by the following structural formula.

Figure 0006011895
(式中、Rは、前記ジイソシアネート化合物の残基を表す。)
Figure 0006011895
(In the formula, R 4 represents a residue of the diisocyanate compound.)

また、前記ジイソシアネート化合物のアダクト体は、下記構造式によって表される。   Moreover, the adduct body of the said diisocyanate compound is represented by the following structural formula.

Figure 0006011895
Figure 0006011895

(式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基又はOCN−R−HN−C(=O)−O−CH−で示される官能基を表し、Rは前記ジイソシアネート化合物の残基を表す。) (In the formula, R 5 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a functional group represented by OCN—R 6 —HN—C (═O) —O—CH 2 —, and R 6 represents the remaining diisocyanate compound). Represents a group.)

(b2)成分を構成するジオール化合物は、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、オクタンジオール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコール等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特に炭素数2〜20程度、好ましくは4〜8程度のものが好ましい。   The diol compound constituting the component (b2) is not particularly limited. For example, ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, neopentyl glycol, 1,6- Examples include hexanediol, octanediol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol, and these can be used alone or in combination of two or more. Of these, those having about 2 to 20 carbon atoms, preferably about 4 to 8 carbon atoms are preferred.

(b2)成分は、各種公知の方法で製造できる。具体的には、例えば、前記(b1)成分と前記ジオール化合物とを、前者のイソシアネート基(NCO’)と後者の水酸基(OH’)との当量比[NCO’/OH’]が通常5〜20程度、好ましくは10〜20程度となる範囲で、通常40〜80℃の下、1〜5時間程度、ウレタン化反応させることによって、得ることができる。また、得られる(b2)成分は、そのイソシアネート基当量が通常1〜10meq/g程度、好ましくは3〜6meq/g程度である。   The component (b2) can be produced by various known methods. Specifically, for example, when the component (b1) and the diol compound are used, the equivalent ratio [NCO ′ / OH ′] of the former isocyanate group (NCO ′) to the latter hydroxyl group (OH ′) is usually 5 to 5. It can be obtained by subjecting it to a urethanization reaction within a range of about 20 and preferably about 10 to 20, usually under 40 to 80 ° C. for about 1 to 5 hours. The component (b2) obtained has an isocyanate group equivalent of usually about 1 to 10 meq / g, preferably about 3 to 6 meq / g.

(b3)成分としては、例えば、トルエン−2,4,6−トリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニール)チオホスフェート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート及びビシクロヘプタントリイソシアネート等のトリイソシアネート、並びに6官能のポリイソシアネート(製品名「デュラネートMHG−80B」、旭化成ケミカルズ(株)製)等が挙げられる。   Examples of the component (b3) include toluene-2,4,6-triisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,3,6- Examples include triisocyanates such as hexamethylene triisocyanate and bicycloheptane triisocyanate, and hexafunctional polyisocyanates (product name “Duranate MHG-80B”, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation).

(B)成分としては、前記初期密着性、耐酸密着性及び耐アルカリ密着性のバランスの観点より、前記(b1)成分が、特に前記脂肪族ジイソシアネートを構成成分とする(b1)成分が好ましい。   As the component (B), the component (b1) is particularly preferably the component (b1) containing the aliphatic diisocyanate as a constituent from the viewpoint of the balance of the initial adhesion, acid resistance, and alkali resistance.

(A)成分と(B)成分の使用量比は特に限定されないが、密着性及び塗膜硬度等の観点より、(A)成分の水酸基と(B)成分のイソシアネート基とのモル比(NCO/OH)が通常0.2〜5程度、好ましくは1〜2となる範囲であるのがよい。   The amount ratio of the component (A) to the component (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of adhesion and coating film hardness, the molar ratio of the hydroxyl group of the component (A) and the isocyanate group of the component (B) (NCO / OH) is usually in the range of about 0.2-5, preferably 1-2.

(C)成分としては、分子内に炭素−炭素二重結合含有基を少なくとも3つ有する活性エネルギー線重合型化合物であれば、各種公知のものを特に制限なく使用することができる。また、当該含有基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、アクリロイル基及びメタクリロイル基等が挙げられる。   As the component (C), various known compounds can be used without particular limitation as long as they are active energy ray polymerization type compounds having at least three carbon-carbon double bond-containing groups in the molecule. Examples of the containing group include a vinyl group, a propenyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group.

(C)成分の好ましい具体種としては、分子内に3〜6個の(メタ)アクリロイル基及び少なくとも1個の水酸基を有する活性エネルギー線重合型化合物(C1)(以下、(C1)成分ともいう。)、分子内に3〜6個の(メタ)アクリロイル基を有しかつ水酸基を有さない活性エネルギー線重合型化合物(C2)(以下、(C2)成分ともいう。)、分子内に3〜6個のアリル基及び少なくとも1個の水酸基を有する活性エネルギー線重合型化合物(C3)(以下、(C3)成分ともいう。)、並びに分子内に3〜6個のアリル基を有しかつ水酸基を有さない活性エネルギー線重合型化合物(C4)(以下、(C4)成分ともいう。)からなる群より選ばれる少なくとも一種が挙げられる。これらの中でも水酸基を有するものは、当該水酸基が前記(B)成分、及び後述の(D)成分のうち水酸基と反応するものと化学結合し、本発明のアンダーコート層に架橋構造を形成する結果、その硬度が高まるため一層好ましい。   A preferred specific species of the component (C) is an active energy ray-polymerizable compound (C1) having 3 to 6 (meth) acryloyl groups and at least one hydroxyl group in the molecule (hereinafter also referred to as the component (C1). ), Active energy ray-polymerizable compound (C2) (hereinafter also referred to as (C2) component) having 3 to 6 (meth) acryloyl groups in the molecule and no hydroxyl group, 3 in the molecule Active energy ray polymerization type compound (C3) (hereinafter also referred to as (C3) component) having -6 allyl groups and at least one hydroxyl group, and 3-6 allyl groups in the molecule; Examples thereof include at least one selected from the group consisting of an active energy ray polymerizable compound (C4) having no hydroxyl group (hereinafter also referred to as (C4) component). Among these, those having a hydroxyl group are chemically bonded to those reacting with the hydroxyl group among the component (B) and the component (D) described later to form a crosslinked structure in the undercoat layer of the present invention. This is more preferable because of its increased hardness.

(C1)成分としては、例えば、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。   Examples of the component (C1) include trimethylolpropane di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol monohydroxytri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth). Examples include hydroxyl group-containing (meth) acrylate compounds such as acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, and dipentaerythritol tetra (meth) acrylate.

(C2)成分としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート及びグリセロールトリ(メタ)アクリレート等の水酸基不含有(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。   Examples of the component (C2) include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. And hydroxyl-free (meth) acrylate compounds such as ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate and glycerol tri (meth) acrylate.

(C3)成分としては例えばペンタエリスリトールモノヒドロキシトリアリルエーテルが、また(C4)成分としては例えばクエン酸トリアリル等のビニル化合物が挙げられる。   Examples of the component (C3) include pentaerythritol monohydroxytriallyl ether, and examples of the component (C4) include vinyl compounds such as triallyl citrate.

(C)成分の使用量は特に限定されないが、通常、(A)成分及び(B)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常10〜500重量部程度、好ましくは30〜300重量部程度(いずれも固形分換算)となる範囲である。   Although the usage-amount of (C) component is not specifically limited, Usually, when making (A) component and (B) component into 100 weight part (solid content conversion), about 10-500 weight part normally, Preferably it is 30- The range is about 300 parts by weight (all in terms of solid content).

なお、(C)成分とともに、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及びビスフェノールAのエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート類、ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート及びポリエステルポリ(メタ)アクリレート等のオリゴマー、並びに2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート及びイソボニル(メタ)アクリレート等のモノ(メタ)アクリレート類を併用できる。   In addition, together with the component (C), 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate and di (meth) acrylates such as ethylene oxide modified di (meth) acrylate of bisphenol A, oligomers such as polyurethane poly (meth) acrylate and polyester poly (meth) acrylate, and 2- Ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclo Nteniru (meth) acrylate and isobornyl (meth) mono (meth) acrylates such as acrylates can be used in combination.

(D)成分は、一般式(1):X−Si(R(OR3−a(式(1)中、Xは、水酸基、イソシアネート基及び重合性炭素−炭素二重結合含有基からなる群より選ばれる少なくとも一種と反応する官能基を含む基を、Rは水素又は炭素数1〜8の炭化水素基を、Rは炭素数1〜8の炭化水素基を、aは0、1又は2を示す。)で表される反応性アルコキシシリル化合物である。 Component (D), the general formula (1): X 1 -Si ( R 1) a in (OR 2) 3-a (formula (1), X 1 represents a hydroxyl group, an isocyanate group and a polymerizable carbon - carbon double A group containing a functional group that reacts with at least one selected from the group consisting of a heavy bond-containing group, R 1 is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Wherein a represents 0, 1 or 2.).

(D)成分を表す前記一般式(1)のXにおける官能基としては、例えば、イソシアネート基、チオール基、アミノ基、エポキシ基、酸無水物基、及びビニル基からなる群より選ばれる1種が挙げられる。 The functional group in X 1 of the general formula (1) representing the component (D) is, for example, 1 selected from the group consisting of an isocyanate group, a thiol group, an amino group, an epoxy group, an acid anhydride group, and a vinyl group. Species are mentioned.

における官能基がイソシアネート基の化合物としては、例えば、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランや、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン及び3−イソシアネートプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the compound in which the functional group in X 1 is an isocyanate group include 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, 3-isocyanatepropylmethyldimethoxysilane, and 3-isocyanatepropylmethyldiethoxysilane. Can be mentioned.

における官能基がチオール基の化合物としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランや、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン及び3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of compounds in which the functional group in X 1 is a thiol group include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane. Can be mentioned.

における官能基がアミノ基の化合物としては、例えば、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン及び3−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン等が挙げられる。 Examples of the compound in which the functional group in X 1 is an amino group include N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3 -Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltrialkoxysilane and the like.

における官能基がエポキシ基の化合物としては、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及び3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the compound in which the functional group in X 1 is an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Examples include 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane.

における官能基が酸無水物基の化合物としては、例えば、3−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物が挙げられる。 Examples of the compound whose functional group in X 1 is an acid anhydride group include 3-trimethoxysilylpropyl succinic anhydride.

における官能基がビニル基の化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン及び3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the compound in which the functional group in X 1 is a vinyl group include, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, styryltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3- (meth) acryloxypropyl. Examples include trimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane.

(D)成分の使用量は特に限定されないが、通常、(A)成分及び(B)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常5〜50重量部程度、好ましくは20〜40重量部程度となる範囲である。   Although the usage-amount of (D) component is not specifically limited, Usually, when making (A) component and (B) component into 100 weight part (solid content conversion), about 5-50 weight part normally, Preferably it is 20- The range is about 40 parts by weight.

本発明のアンダーコート剤には、必要に応じて各種公知の無機粒子(E)(以下、(E)成分ともいう。)を含めることができる。具体的には、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ、酸化亜鉛、酸化錫、ジルコニア、ITO(インジウム錫オキサイド)、ATO(アンチモン錫オキサイド)、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウム等の粒子が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも特にシリカ及び/又はアルミナが好ましい。また、(E)成分の表面は各種処理が施されていてもよい。また、(E)成分のメディアン径(d50)は特に限定されないが、通常、10nm〜5μm程度である。   The undercoat agent of the present invention may contain various known inorganic particles (E) (hereinafter also referred to as (E) component) as necessary. Specifically, for example, particles such as silica, titania, alumina, zinc oxide, tin oxide, zirconia, ITO (indium tin oxide), ATO (antimony tin oxide), aluminum hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium hydroxide are included. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, silica and / or alumina are particularly preferable. Further, the surface of the component (E) may be subjected to various treatments. The median diameter (d50) of the component (E) is not particularly limited, but is usually about 10 nm to 5 μm.

(E)成分の使用量は特に限定されないが、通常、(A)成分及び(B)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常1〜20重量部程度、好ましくは5〜10重量部程度となる範囲である。   Although the usage-amount of (E) component is not specifically limited, Usually, when the (A) component and (B) component are 100 weight part (solid content conversion), about 1-20 weight part normally, Preferably it is 5-5. The range is about 10 parts by weight.

本発明のアンダーコート剤には、更に光重合開始剤(F)(以下、(F)成分ともいう。)を含めることができる。   The undercoat agent of the present invention can further contain a photopolymerization initiator (F) (hereinafter also referred to as component (F)).

(F)成分の具体種としては、例えば、ベンゾフェノン、4’−(メチルチオ)−α−モルホリノ−α−メチルプロピオフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルーベンジル)−1−(4−モルホリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ−1−{4−〔4−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオニル)ベンジル〕フェニル}−2−メチルプロパン−1−オン、メチルベンゾイルホルメート、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−4−モルホリノブチロフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−1−フェニル−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(ヘキシル)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン及び2−エチル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1並びに特開2014−1390号公報に記載されている光重合開始剤等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、(F)成分としては、例えば、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア1000、イルガキュア149、イルガキュア261及びダロキュア1173等の市販品を使用できる。また、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせることができる。   Specific examples of the component (F) include, for example, benzophenone, 4 ′-(methylthio) -α-morpholino-α-methylpropiophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, 4-phenyl. Benzophenone, t-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1 -Methylvinyl) phenyl] propanone], benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2-methyl- [4- (methylthio) thiol Enyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4 4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl}- 2-methylpropan-1-one, methylbenzoylformate, Enylglyoxylic acid methyl ester, 4,4′-bis (diethylamino) -benzophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyrophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl-1 -Phenyl-2-morpholinopropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (hexyl) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and 2-ethyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butanone-1 and photopolymerization initiators described in JP 2014-1390 A, and the like can be used, and these can be used alone or in combination of two or more. it can. As the component (F), for example, commercially available products such as Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 500, Irgacure 1000, Irgacure 149, Irgacure 261 and Darocur 1173 can be used. Moreover, these can be used alone or in combination of two or more.

(F)成分の使用量は特に限定されないが、通常、(C)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常0.1〜10重量部程度、好ましくは1〜5重量部程度となる範囲である。   Although the usage-amount of (F) component is not specifically limited, Usually, when (C) component is 100 weight part (solid content conversion), about 0.1-10 weight part normally, Preferably it is 1-5 weight part It is a range which becomes a grade.

(F)成分の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4,4′−ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、2,4−ジエチルチオキサントン及び2,4−ジイソプロピルチオキサントン等を併用することができる。また、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせることができる。   As an auxiliary for component (F), triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoate Ethyl acetate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc. can do. Moreover, these can be used alone or in combination of two or more.

本発明のアンダーコート剤には、更に有機溶剤(G)(以下、(G)成分ともいう。)を含めることができる。具体的には、例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンの低級ケトン類、トルエン等の芳香族炭化水素類、エチルアルコール及びプロピルアルコール等のアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びエチルセロソルブアセテート等のエーテルエステル類、酢酸エチル、クロロホルム及びジメチルホルムアミドが挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The undercoat agent of the present invention may further contain an organic solvent (G) (hereinafter also referred to as the (G) component). Specifically, for example, lower ketones of methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as toluene, alcohols such as ethyl alcohol and propyl alcohol, ether esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and ethyl cellosolve acetate , Ethyl acetate, chloroform and dimethylformamide, and these can be used alone or in combination of two or more.

(G)成分の使用量は特に限定されないが、通常、本発明のアンダーコート剤の固形分濃度が通常1〜60重量%程度となる範囲である。   Although the usage-amount of (G) component is not specifically limited, Usually, it is the range from which the solid content concentration of the undercoat agent of this invention will be about 1 to 60 weight% normally.

本発明のアンダーコート剤には、更にウレタン化触媒を含めることができる。具体的には、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート及びオクチル酸ビスマス等の有機金属触媒や、ジアザビシクロオクタン、ジメチルシクロヘキシルアミン、テトラメチルプロピレンジアミン、エチルモルホリン、ジメチルエタノールアミン、トリエチルアミン及びトリエチレンジアミン等の有機アミン系触媒等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、該ウレタン化触媒の使用量は特に限定されないが、通常、(A)成分及び(B)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常0.01〜0.5重量部程度、好ましくは0.05〜0.2重量部程度となる範囲である。   The undercoat agent of the present invention can further contain a urethanization catalyst. Specifically, for example, organometallic catalysts such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate and bismuth octylate, diazabicyclooctane, dimethylcyclohexylamine, tetramethylpropylenediamine, ethylmorpholine, dimethylethanolamine, triethylamine and triethylenediamine And the like, and these can be used singly or in combination of two or more. In addition, although the usage-amount of this urethanization catalyst is not specifically limited, When (A) component and (B) component are 100 weight part (solid content conversion) normally, 0.01-0.5 weight part normally The range is preferably about 0.05 to 0.2 parts by weight.

また、本発明のアンダーコート剤には、必要に応じてポリチオール化合物を含めることができる。具体的には、例えば、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチリルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)及びジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトブチレート)等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。該ポリチオール化合物の使用量は特に限定されないが、通常、(A)成分及び(B)成分を100重量部(固形分換算)とした場合において、通常1〜20重量部程度、好ましくは5〜10重量部程度となる範囲である。   The undercoat agent of the present invention can contain a polythiol compound as necessary. Specifically, for example, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,4 -Bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), trimethylolethanetris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) and dipentaerythritol Hexakis (3-mercaptobutyrate) etc. are mentioned, These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Although the usage-amount of this polythiol compound is not specifically limited, Usually, when (A) component and (B) component are 100 weight part (solid content conversion), about 1-20 weight part normally, Preferably it is 5-10. It is the range which becomes about a weight part.

なお、ポリチオール化合物を使用する場合には、本発明のアンダーコート剤のポットライフを高めるため、各種公知のエン−チオール反応抑制剤を使用できる。具体的には、例えば、トリフェニルホスフィン及び亜リン酸トリフェニル等のリン系化合物、p−メトキシフェノ−ル、ハイドロキノン、ピロガロ−ル、ナフチルアミン、tert−ブチルカテコ−ル、塩化第一銅、2、6ージ−tert−ブチル−p−クレゾ−ル、2、2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノ−ル)、2、2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノ−ル)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩及びジフェニルニトロソアミン等のラジカル重合禁止剤、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジアミノメチル)フェノール及びジアザビシクロウンデセン等の3級アミン類、並びに2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−エチルへキシルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール及び1−シアノエチル−2‐メチルイミダゾール等のイミダゾール類等が挙げられ、これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   In addition, when using a polythiol compound, in order to improve the pot life of the undercoat agent of this invention, various well-known ene-thiol reaction inhibitors can be used. Specifically, for example, phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triphenyl phosphite, p-methoxyphenol, hydroquinone, pyrogallol, naphthylamine, tert-butylcatechol, cuprous chloride, 2, 6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) Radical), radical polymerization inhibitors such as N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt and diphenylnitrosamine, benzyldimethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol and diaza Tertiary amines such as bicycloundecene and 2-methylimidazole , Imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-ethylhexylimidazole, 2-undecylimidazole, and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, and the like. A combination of more than one species can be used.

本発明のアンダーコート剤には、その他、レベリング剤、酸化防止剤、重合禁止剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含めることができる。   In addition, the undercoat agent of the present invention may contain additives such as a leveling agent, an antioxidant, a polymerization inhibitor, and an ultraviolet absorber.

本発明の銅薄膜付基材は、各種基材の表面に、本発明のアンダーコート剤が硬化してなるアンダーコート層及び銅薄膜層がこの順で積層されてなる複合基材である。   The base material with a copper thin film of the present invention is a composite base material in which an undercoat layer formed by curing the undercoat agent of the present invention and a copper thin film layer are laminated in this order on the surfaces of various base materials.

前記基材としては、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン及びポリプロピレン等のプラスチック素材のみならず、金属、ガラス、紙、ナノセルロース紙及び木材等の非プラスチック素材挙げられる。また、これら基材の形状も特に限定されず、例えば球状、円柱状、直方体状、板状、フィルム状であってよく、また、それらの表面の一部には凹凸や曲面が存在していてもよい。本発明の銅薄膜付基材を導電性フィルムとして用いる場合には、基材は、耐熱性や光学特性等の点よりプラスチックフィルムが、特にポリエステルフィルムが好ましい。また、該基材フィルムの厚みも特に限定されないが、通常、50〜200μm程度である。   Examples of the substrate include not only plastic materials such as polyester, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, polycarbonate, polyethylene, and polypropylene, but also non-plastic materials such as metal, glass, paper, nanocellulose paper, and wood. Further, the shape of these base materials is not particularly limited, and may be, for example, a spherical shape, a cylindrical shape, a rectangular parallelepiped shape, a plate shape, or a film shape, and unevenness or a curved surface exists on a part of their surfaces. Also good. When the substrate with a copper thin film of the present invention is used as a conductive film, the substrate is preferably a plastic film, particularly a polyester film, from the viewpoints of heat resistance and optical properties. The thickness of the substrate film is not particularly limited, but is usually about 50 to 200 μm.

前記硬化アンダーコート層の厚みは特に限定されないが、通常0.1〜5μm程度である。   The thickness of the cured undercoat layer is not particularly limited, but is usually about 0.1 to 5 μm.

前記銅薄膜層としては、例えば、銅蒸着膜、銅スパッタ膜及び銅CVD膜が挙げられる。本発明の銅薄膜付フィルムを電極フィルムに供する場合には、該銅薄膜としては、特に銅蒸着膜又は銅スパッタ膜が好ましい。また、該銅薄膜層の厚みは特に限定されないが、通常、0.1〜2μm程度である。   Examples of the copper thin film layer include a copper vapor deposition film, a copper sputtered film, and a copper CVD film. When using the film with a copper thin film of the present invention as an electrode film, the copper thin film is particularly preferably a copper vapor-deposited film or a copper sputtered film. Moreover, although the thickness of this copper thin film layer is not specifically limited, Usually, it is about 0.1-2 micrometers.

本発明の銅薄膜付基材の製造方法は特に限定されない。例えば、(ア)基材の表面(基材が例えばフィルム状のものであれば片面又は両面)に本発明のアンダーコート剤を塗布し、(イ)該基材に熱を加えた後、(ウ)更に活性エネルギー線を照射することにより硬化アンダーコート層を形成し、(エ)当該硬化アンダーコート層上に銅薄膜層を形成する態様が挙げられる。   The manufacturing method of the base material with a copper thin film of this invention is not specifically limited. For example, (a) the undercoat agent of the present invention is applied to the surface of the base material (one side or both sides if the base material is a film, for example), and (a) C) A mode in which a cured undercoat layer is formed by further irradiating active energy rays, and (d) a copper thin film layer is formed on the cured undercoat layer.

工程(ア)に関し、前記基材の表面(基材が例えばフィルム状のものであれば片面又は両面)に本発明のアンダーコート剤を塗布する条件は特に限定されず、塗布手段としては、例えば、スプレー、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター及びドットコーター等が挙げられる。また、塗工量も特に限定されないが、通常、乾燥固形分として0.01〜10g/m程度である。 Regarding the step (a), the conditions for applying the undercoat agent of the present invention to the surface of the base material (one side or both sides if the base material is, for example, a film) are not particularly limited. , Spray, roll coater, reverse roll coater, gravure coater, knife coater, bar coater and dot coater. The coating amount is not particularly limited, but is usually about 0.01 to 10 g / m 2 as a dry solid content.

工程(イ)に関し、該基材に熱を加える際の条件も特に限定されないが、通常、温度80〜150℃程度で、時間が10秒〜2分程度である。この処理により、半硬化のアンダーコート層から、有機溶剤(G)が使用される場合にはこれが揮発し、同時に当該層中で、(A)成分及び(B)成分がウレタン化反応し、架橋構造を形成する。また、当該ウレタン化反応には、(C)成分並びに、(D)成分のうち例えば水酸基やアミノ基、チオール基、イソシアネート基等を有するものも関与する。   Although the conditions at the time of applying heat to this base material are not specifically limited regarding a process (a), Usually, it is about 80 second-about 150 degreeC, and time is about 10 second-about 2 minutes. By this treatment, when the organic solvent (G) is used from the semi-cured undercoat layer, this is volatilized, and at the same time, the component (A) and the component (B) undergo urethanation reaction in the layer, and are crosslinked. Form a structure. In addition, in the urethanization reaction, those having a hydroxyl group, an amino group, a thiol group, an isocyanate group or the like among the component (C) and the component (D) are also involved.

工程(ウ)に関し、半硬化のアンダーコート層に活性エネルギー線を照射する際の条件も特に限定されない。活性エネルギー線としては、例えば紫外線や電子線が挙げられる。紫外線の供給源としては例えば高圧水銀灯やメタルハライドランプ等が挙げられ、その照射エネルギーは通常100〜2,000mJ/cm程度である。電子線の供給方式としては例えばスキャン式電子線照射、カーテン式電子線照射法等が挙げられ、その照射エネルギーは通常10〜200kGy程度である。この処理により、加熱硬化したアンダーコート層中で(C)成分同士がラジカル重合反応し、架橋構造を形成する。該重合反応には、(D)成分のうち活性エネルギー線重合性官能基を有するものも関与する。 Regarding the step (c), the conditions for irradiating the semi-cured undercoat layer with active energy rays are not particularly limited. Examples of the active energy rays include ultraviolet rays and electron beams. Examples of the ultraviolet light source include a high-pressure mercury lamp and a metal halide lamp, and the irradiation energy is usually about 100 to 2,000 mJ / cm 2 . Examples of the electron beam supply method include scanning electron beam irradiation and curtain electron beam irradiation method, and the irradiation energy is usually about 10 to 200 kGy. By this treatment, the components (C) undergo a radical polymerization reaction in the heat-cured undercoat layer to form a crosslinked structure. Among the components (D), those having an active energy ray polymerizable functional group are also involved in the polymerization reaction.

工程(エ)に関し、該硬化アンダーコート層に銅薄膜層を形成する手段は特に限定されないが、所謂ドライコート法が好ましい。具体的には、例えば、真空蒸着法又はスパッタリング法等の物理的方法や、CVD等の化学的方法(化学的気相反応等)が挙げられる。   Regarding the step (d), means for forming a copper thin film layer on the cured undercoat layer is not particularly limited, but a so-called dry coating method is preferred. Specifically, for example, a physical method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, or a chemical method such as CVD (chemical vapor phase reaction or the like) can be used.

本発明の導電性フィルムは、本発明の銅薄膜付基材を用いてなるフィルムである。特に、該銅薄膜付基材のうち銅蒸着プラスチックフィルム又は銅スパッタフィルムより得られるフィルムはITOフィルムの代替品として有用である。   The conductive film of the present invention is a film formed using the substrate with a copper thin film of the present invention. In particular, a film obtained from a copper vapor-deposited plastic film or a copper sputtered film is useful as a substitute for an ITO film.

該導電性フィルムの製法は特に限定されないが、これを電極フィルムとして使用する場合には、前記銅蒸着プラスチックフィルム又は銅スパッタフィルムに各種レジストを塗布し、電極パターンを描写した後でエッチング液(アルカリ溶液)に浸漬し、レジストを除去する方法が挙げられる。電極パターンの形状は細線状、ドット状、メッシュ状及び面状等、如何なる形態であってよい。   The method for producing the conductive film is not particularly limited. However, when the conductive film is used as an electrode film, various resists are applied to the copper vapor-deposited plastic film or the copper sputtered film, and after describing the electrode pattern, an etching solution (alkaline And a method of removing the resist. The shape of the electrode pattern may be any form such as a fine line shape, a dot shape, a mesh shape, and a planar shape.

以下、実施例及び比較例を通じて本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらによって限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は重量基準を表す。また、水酸基価はJIS−0070に準拠して測定した値である。また、ガラス転移温度は、市販の測定器具(製品名「DSC8230B」、理学電機(株)製)を用いて測定した値である。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail through an Example and a comparative example, the scope of the present invention is not limited by these. In addition, "part" in an Example represents a weight reference | standard. The hydroxyl value is a value measured according to JIS-0070. The glass transition temperature is a value measured using a commercially available measuring instrument (product name “DSC8230B”, manufactured by Rigaku Corporation).

<(A)成分の製造>
製造例1
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた反応容器に、(a1)成分としてヒドロキシエチルアクリレート(HEA)40.8部(13.6モル%)、(a2)成分としてメチルメタアクリレート(MMA)72.0部(約27.7モル%)及びブチルアクリレート(BA)79.2部(約23.8モル%)、並びに(a3)成分としてアクリロニトリル(AN)48.0部(約34.9モル%)、並びに(G)成分として酢酸エチル445.7部を仕込み、反応系を70℃に設定した。次いで、2、2‘―アゾビス(2、4―ジメチルバレロニトリル)(ABN―V)1.2部を仕込み、70℃付近で6時間保温した。次いで、ABN―V 2.4部を仕込み、反応系を同温度付近において更に6時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が13℃及び水酸基価が80mgKOH/gのアクリルコポリマー(A−1)の溶液を得た。
<Manufacture of (A) component>
Production Example 1
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and nitrogen inlet tube, 40.8 parts (13.6 mol%) of hydroxyethyl acrylate (HEA) as component (a1), component (a2) Methyl methacrylate (MMA) 72.0 parts (about 27.7 mol%) and butyl acrylate (BA) 79.2 parts (about 23.8 mol%), and (a3) acrylonitrile (AN) 48. 0 part (about 34.9 mol%) and 445.7 parts of ethyl acetate as (G) component were charged, and the reaction system was set to 70 ° C. Next, 1.2 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (ABN-V) was charged, and the mixture was kept warm at around 70 ° C. for 6 hours. Next, 2.4 parts of ABN-V was charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A-1) having a glass transition temperature of 13 ° C. and a hydroxyl value of 80 mgKOH / g.

製造例2
製造例1と同様の反応容器に、(a1)成分としてHEA 51.0部(13.3モル%)、(a2)成分としてMMA 72.0部(約21.8モル%)及びBA 102.0部(約24.1モル%)、並びに(a3)成分としてAN60.0部(約34.3モル%)、並びに(a4)成分としてアクリルアミド(AM)15.0部(約6.4モル%)、並びに(G)成分として酢酸エチル557.1部を仕込み、反応系を70℃に設定した。次いで、ABN―V 1.5部を仕込み、70℃付近で6時間保温した。次いで、ABN―V 3.0部を仕込み、反応系を同温度付近において更に6時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が13℃及び水酸基価が80mgKOH/gのアクリルコポリマー(A−2)の溶液を得た。
Production Example 2
In a reaction vessel similar to Production Example 1, 51.0 parts (13.3 mol%) of HEA as the component (a1), 72.0 parts (about 21.8 mol%) of MMA as the component (a2) and 102. 0 part (about 24.1 mol%) and 60.0 parts (about 34.3 mol%) of AN as component (a3) and 15.0 parts of acrylamide (AM) as component (a4) (about 6.4 mol) %) As well as 557.1 parts of ethyl acetate as component (G), and the reaction system was set to 70 ° C. Next, 1.5 parts of ABN-V was charged, and kept at 70 ° C. for 6 hours. Then, 3.0 parts of ABN-V was charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A-2) having a glass transition temperature of 13 ° C. and a hydroxyl value of 80 mgKOH / g.

製造例3
製造例1と同様の反応容器に、(a1)成分としてヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA) 59.2部(12.5モル%)、(a2)成分としてMMA 196.8部(約54.2モル%)並びに(a3)成分としてAN64.0部(約33.3モル%)、並びに(G)成分として酢酸エチル564.3部を仕込み、反応系を70℃に設定した。次いで、ABN―V 3.2部を仕込み、70℃付近で6時間保温した。次いで、ABN―V 3.2部を仕込み、反応系を同温度付近において更に6時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が92℃及び水酸基価が80mgKOH/gのアクリルコポリマー(A−3)の溶液を得た。
Production Example 3
In a reaction vessel similar to Production Example 1, 59.2 parts (12.5 mol%) of hydroxyethyl methacrylate (HEMA) as component (a1) and 196.8 parts (about 54.2 mol%) of MMA as component (a2) ) And (a3) component as AN (64.0 parts) (about 33.3 mol%) and (G) component as ethyl acetate (564.3 parts) were charged and the reaction system was set at 70 ° C. Next, 3.2 parts of ABN-V was charged and kept warm at around 70 ° C. for 6 hours. Next, 3.2 parts of ABN-V was charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A-3) having a glass transition temperature of 92 ° C. and a hydroxyl value of 80 mgKOH / g.

製造例4
製造例1と同様の反応容器に、(a1)成分としてHEA 25.5部(6.8モル%)、(a2)成分としてMMA 99.0部(約30.5モル%)及びBA 115.5部(約27.8モル%)並びに(a3)成分としてAN60.0部(約34.9モル%)、並びに(G)成分として酢酸エチル557.1部を仕込み、反応系を70℃に設定した。次いで、ABN―V 1.5部を仕込み、70℃付近で6時間保温した。次いで、ABN―V 3.0部を仕込み、反応系を同温度付近において更に6時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が13℃及び水酸基価が40mgKOH/gのアクリルコポリマー(A−4)の溶液を得た。
Production Example 4
In a reaction vessel similar to Production Example 1, 25.5 parts (6.8 mol%) of HEA as the component (a1), 99.0 parts (about 30.5 mol%) of MMA as the component (a2), and 115. 5 parts (about 27.8 mol%), 60.0 parts of AN (about 34.9 mol%) as component (a3), and 557.1 parts of ethyl acetate as component (G) were charged, and the reaction system was heated to 70 ° C. Set. Next, 1.5 parts of ABN-V was charged, and kept at 70 ° C. for 6 hours. Then, 3.0 parts of ABN-V was charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A-4) having a glass transition temperature of 13 ° C. and a hydroxyl value of 40 mgKOH / g.

製造例5
製造例1と同様の反応容器に、(a1)成分としてHEA 76.5部(18.1モル%)、(a2)成分としてMMA 37.5部(約10.3モル%)及びBA 81.0部(約17.3モル%)並びに(a3)成分としてAN105.0部(約54.3モル%)、並びに(G)成分として酢酸エチル557.1部を仕込み、反応系を70℃に設定した。次いで、ABN―V 1.5部を仕込み、70℃付近で6時間保温した。次いで、ABN―V 3.0部を仕込み、反応系を同温度付近において更に6時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が13℃及び水酸基価が120mgKOH/gのアクリルコポリマー(A−5)の溶液を得た。
Production Example 5
In the same reaction vessel as in Production Example 1, 76.5 parts (18.1 mol%) of HEA as the component (a1), 37.5 parts (about 10.3 mol%) of MMA as the component (a2), and BA 81. 0 parts (about 17.3 mol%), 105.0 parts (about 54.3 mol%) of AN as component (a3), and 557.1 parts of ethyl acetate as component (G) were charged, and the reaction system was heated to 70 ° C. Set. Next, 1.5 parts of ABN-V was charged, and kept at 70 ° C. for 6 hours. Then, 3.0 parts of ABN-V was charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A-5) having a glass transition temperature of 13 ° C. and a hydroxyl value of 120 mgKOH / g.

比較製造例1
製造例1と同様の反応容器に、(a1)成分としてHEA 40.8部(15.1モル%)、(a2)成分としてMMA 192.0部(約82.5モル%)及びBA 7.2部(約2.4モル%)、並びに(G)成分としてメチルエチルケトン445.7部を仕込み、反応系を80℃に設定した。次いで、2,2’―アゾビスイソブチロニトリル(AIBN) 1.2部を仕込み、80℃付近で5時間保温した。次いで、AIBN 2.4部を仕込み、反応系を同温度付近において更に4時間保温した。その後反応系を室温まで冷却することにより、ガラス転移温度が70℃及び水酸基価が80mgKOH/gのアクリルコポリマー(A’)の溶液を得た。
Comparative production example 1
In a reaction vessel similar to Production Example 1, 40.8 parts (15.1 mol%) of HEA as the component (a1), 192.0 parts (about 82.5 mol%) of MMA as the component (a2), and BA 7. 2 parts (about 2.4 mol%) and 445.7 parts of methyl ethyl ketone as component (G) were charged, and the reaction system was set at 80 ° C. Next, 1.2 parts of 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) was charged, and kept at around 80 ° C. for 5 hours. Next, 2.4 parts of AIBN were charged, and the reaction system was further kept at the same temperature for 4 hours. Thereafter, the reaction system was cooled to room temperature to obtain a solution of an acrylic copolymer (A ′) having a glass transition temperature of 70 ° C. and a hydroxyl value of 80 mgKOH / g.

Figure 0006011895
Figure 0006011895

<アンダーコート剤の調製>
実施例1
(A−1)成分の溶液286.0部、(B)成分としてヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体(商品名「デュラネート24A−100」、旭化成ケミカルズ(株)製)25.7部、(C1)成分としてペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(商品名「ビスコート#300」、大阪有機化学工業(株)製)50.0部、(D)成分として3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン(商品名「KBE−9007」、信越シリコーン(株)製)40.0部、(E)成分としてアルミナ粒子分散体(商品名「NANOBYK3610」、ビックケミージャパン(株)製)5.0部、及び(F)成分として光重合開始剤(商品名「Irg907」、チバ・ジャパン(株)製)2.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
<Preparation of undercoat agent>
Example 1
(A-1) component solution 286.0 parts, (B) component as biuret of hexamethylene diisocyanate (trade name “Duranate 24A-100” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) 25.7 parts, component (C1) 50.0 parts of a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (trade name “Biscoat # 300”, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane (trade name) as component (D) "KBE-9007", manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 40.0 parts, (E) alumina particle dispersion (trade name "NANOBYK3610", manufactured by BYK Japan Japan Co., Ltd.) 5.0 parts, and (F ) Photopolymerization initiator (trade name “Irg907”, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) Parts and mixed well to prepare a undercoat agent.

実施例2
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 2
(A-1) component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Biscote # 300 100.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例3
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 150.0部、KBE−9007 40部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 7.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 3
(A-1) 286.0 parts of component solution, 25.7 parts of Duranate 24A-100, 150.0 parts of Biscote # 300, 40 parts of KBE-9007, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 7.5 parts of Irg907 The mixture was mixed to prepare an undercoat agent.

実施例4
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 150.0部、(D)成分として3―メルカプトプロピルトリメトキシシラン(商品名「KBM−803」、信越シリコーン(株)製) 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 7.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 4
(A-1) component solution 286.0 parts, duranate 24A-100 25.7 parts, biscoat # 300 150.0 parts, (D) component 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM-803”) 40.0 parts, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 7.5 parts of Irg907 were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例5
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 200部、KBM−803 40.0部、NANOBYK3610 5.0部及びIrg907 10.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 5
(A-1) 286.0 parts of component solution, 25.7 parts of Duranate 24A-100, 200 parts of Viscoat # 300, 40.0 parts of KBM-803, 5.0 parts of NANOBYK3610 and 10.0 parts of Irg907 are mixed well. And an undercoat agent was prepared.

実施例6
(A−2)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 6
(A-2) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Biscote # 300 100.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例7
(A−3)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 7
(A-3) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Biscote # 300 100.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例8
(A−4)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 8
(A-4) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Biscote # 300 100.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例9
(A−5)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 50.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 2.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 9
(A-5) component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Viscoat # 300 50.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 2.5 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例10
(A−1)成分の溶液286.0部、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(商品名「コロネートHX」、日本ポリウレタン工業(株)製) 28.4部、ビスコート#300 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 10
(A-1) component solution 286.0 parts, hexamethylene diisocyanate isocyanurate (trade name “Coronate HX”, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 28.4 parts, biscoat # 300 100.0 parts, KBE -9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts were mixed well, and the undercoat agent was prepared.

実施例11
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ジペンタエリスリトールポリアクリレート(商品名「NKエステルA−9550W」、新中村化学工業(株)製) 100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 11
(A-1) component solution 286.0 parts, duranate 24A-100 25.7 parts, dipentaerythritol polyacrylate (trade name “NK Ester A-9550W”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 100.0 Part, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例12
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、NKエステルA−9550W 50.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 2.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 12
(A-1) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, NK ester A-9550W 50.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907. 5 parts was mixed well and the undercoat agent was prepared.

実施例13
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、(C2)成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート(商品名「ビスコート#295」、大阪有機化学工業(株)製)100.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 13
(A-1) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, (C2) Trimethylolpropane triacrylate (trade name “Biscoat # 295”, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 100.0 parts, 40.0 parts of KBE-9007, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 5.0 parts of Irg907 were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例14
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#295 50.0部、KBE−9007 40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 2.5部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 14
(A-1) component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Viscoat # 295 50.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 2.5 parts Were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例15
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、(D)成分として3―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名「KBM−5103」、信越シリコーン製)40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 15
(A-1) component solution 286.0 parts, duranate 24A-100 25.7 parts, biscoat # 300 100.0 parts, (D) component 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM-5103”) “Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例16
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、(D)成分として3―メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名「サイラーエースS710」、チッソ(株)製)40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 16
(A-1) component solution 286.0 parts, duranate 24A-100 25.7 parts, biscoat # 300 100.0 parts, (D) as component 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name “Syllar Ace”) 40.0 parts of S710 "(manufactured by Chisso Corporation), 5.0 parts of NANOBYK3610, and 5.0 parts of Irg907 were mixed well to prepare an undercoat agent.

実施例17
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100 25.7部、ビスコート#300 100.0部、(D)成分として3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(商品名「サイラーエースS510」、チッソ(株)製)40.0部、NANOBYK3610 5.0部、及びIrg907 5.0部をよく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Example 17
(A-1) Component solution 286.0 parts, Duranate 24A-100 25.7 parts, Biscote # 300 100.0 parts, (D) Component 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “Syllar Ace” S510 ”(manufactured by Chisso Corporation), 40.0 parts, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 5.0 parts of Irg907 were mixed well to prepare an undercoat agent.

比較例1
(A’)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100を25.7部、ビスコート#300を100.0部、KBE−9007を40.0部、NANOBYK3610を5.0部、及びIrg907を5.0部、よく混合し、アンダーコート剤を調製した。
Comparative Example 1
(A ′) component solution 286.0 parts, duranate 24A-100 25.7 parts, biscoat # 300 100.0 parts, KBE-9007 40.0 parts, NANOBYK3610 5.0 parts, and Irg907 5.0 parts was mixed well to prepare an undercoat agent.

比較例2
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100を25.7部、ビスコート#300を150.0部、NANOBYK3610を5.0部、及びIrg907を7.5部、よく混合し、(D)成分を含まないアンダーコート剤を調製した。
Comparative Example 2
(A-1) 286.0 parts of component solution, 25.7 parts of Duranate 24A-100, 150.0 parts of Biscote # 300, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 7.5 parts of Irg907 are mixed well. The undercoat agent which does not contain (D) component was prepared.

比較例3
(A−1)成分の溶液286.0部、デュラネート24A−100を25.7部、ビスコート#300を200.0部、NANOBYK3610を5.0部、及びIrg907を10.0部、よく混合し、(D)成分を含まないアンダーコート剤を調製した。
Comparative Example 3
(A-1) 286.0 parts of component solution, 25.7 parts of Duranate 24A-100, 200.0 parts of Biscote # 300, 5.0 parts of NANOBYK3610, and 10.0 parts of Irg907 are mixed well. The undercoat agent which does not contain (D) component was prepared.

Figure 0006011895
Figure 0006011895

<銅蒸着プラスチックフィルムの作製>
実施例1のアンダーコート剤を市販のポリエステルフィルム(商品名「ルミラーU48」、東レ(株)製、100μm厚)に、乾燥膜厚が1.0μm程度となるようバーコーターで塗工し、120℃で1分間乾燥させた。次いで300mj/cmでUV硬化させることによって、硬化アンダーコート層を備える塗工フィルムを得た。他の実施例及び比較例のアンダーコート剤についても同様にして塗工フィルムを得た。
<Preparation of copper-deposited plastic film>
The undercoat agent of Example 1 was applied to a commercially available polyester film (trade name “Lumirror U48”, manufactured by Toray Industries, Inc., 100 μm thick) with a bar coater so that the dry film thickness was about 1.0 μm. Dry at 1 ° C. for 1 minute. Subsequently, the coating film provided with a hardening undercoat layer was obtained by making it UV-cure at 300 mj / cm < 2 >. The coating film was obtained similarly about the undercoat agent of another Example and a comparative example.

次いで当該塗工フィルムのアンダーコート面に、市販の蒸着装置(製品名「NS−1875−Z」、西山製作所(株)製)を使用し、銅を蒸着させることにより(厚み約100nm)、銅蒸着プラスチックフィルムを得た。他の実施例及び比較例のアンダーコート剤についても同様にして銅蒸着プラスチックフィルムを得た。   Subsequently, by using a commercially available vapor deposition apparatus (product name “NS-1875-Z”, manufactured by Nishiyama Seisakusho Co., Ltd.) on the undercoat surface of the coating film, copper is vapor-deposited (thickness: about 100 nm). A vapor-deposited plastic film was obtained. The copper-deposited plastic film was similarly obtained for the undercoat agents of other examples and comparative examples.

1.硬化アンダーコート層の硬度試験
実施例及び比較例の各塗工フィルムの硬化アンダーコート層の鉛筆硬度をJIS K 5600−5−4に準拠して評価した。結果を表1に示す。
1. Hardness test of cured undercoat layer The pencil hardness of the cured undercoat layer of each coated film of Examples and Comparative Examples was evaluated according to JIS K 5600-5-4. The results are shown in Table 1.

2.初期密着性
実施例及び比較例の各銅蒸着フィルムの銅蒸着膜について、JIS K 5600−5−6に準拠し、クロスカット試験を実施した。具体的には、当該銅蒸着面にカッターナイフで100個のマス目を入れ、粘着テープ(製品名「セロテープ(登録商標)」、ニチバン(株)製)を貼り付けた後、垂直方向に引き&#21085;がし、剥がれのないマス目の数をカウントした。他の実施例及び比較例に係る銅蒸着フィルムについても同様に初期密着性を評価した。結果を表1に示す。なお、剥がれのないマス目の数が100個であって、かついずれのマス目もその四辺が目視上完全に滑らかである場合には、密着性が最良と判断されるため、表1において、特別に“*”の記号を付した(以下、同様)。
2. The cross-cut test was implemented based on JISK5600-5-6 about the copper vapor deposition film of each copper vapor deposition film of an initial adhesion example and a comparative example. Specifically, 100 squares are put on the copper vapor-deposited surface with a cutter knife, and an adhesive tape (product name “Cello Tape (registered trademark)”, manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is applied, and then pulled vertically. &#21085; was counted and the number of squares without peeling was counted. Initial adhesion was similarly evaluated about the copper vapor deposition film concerning another example and a comparative example. The results are shown in Table 1. In addition, in Table 1, since the number of squares without peeling is 100, and the squares of all squares are completely smooth visually, the adhesion is determined to be the best. A special symbol “*” was added (hereinafter the same).

3.耐酸密着性
実施例及び比較例の銅蒸着フィルムを、40℃に加温した4%塩化水素水溶液に5分間浸漬した後、前記同様、銅蒸着膜の付着性を評価した。
3. Acid-resistant adhesion After immersing the copper vapor-deposited films of Examples and Comparative Examples in a 4% hydrogen chloride aqueous solution heated to 40 ° C. for 5 minutes, the adhesion of the copper vapor-deposited film was evaluated in the same manner as described above.

4.耐アルカリ密着性
実施例及び比較例の銅蒸着フィルムを、40℃に加温した4%水酸化ナトリウム水溶液に5分間浸漬した後、前記同様、銅蒸着膜の付着性を評価した。
4). Alkali resistance adhesion After immersing the copper vapor-deposited films of Examples and Comparative Examples in a 4% aqueous sodium hydroxide solution heated to 40 ° C. for 5 minutes, the adhesion of the copper vapor-deposited film was evaluated in the same manner as described above.

Figure 0006011895
Figure 0006011895






Claims (17)

水酸基、アルキルエステル基及びニトリル基並びに場合により一級アミド基を有するアクリルコポリマー(A)と、
イソシアネート基を少なくとも3つ有するポリイソシアネート(B)と、
炭素−炭素二重結合含有基を少なくとも3つ有する活性エネルギー線重合型化合物(C)と、
一般式(1):X−Si(R(OR3−a(式(1)中、Xは、水酸基、イソシアネート基及び重合性炭素−炭素二重結合含有基からなる群より選ばれる少なくとも一種と反応する官能基を含む基を、Rは水素又は炭素数1〜8の炭化水素基を、Rは炭素数1〜8の炭化水素基を、aは0、1又は2を示す。)で表される反応性アルコキシシリル化合物(D)と、
を含有する、銅薄膜付基材用アンダーコート剤。
An acrylic copolymer (A) having a hydroxyl group, an alkyl ester group and a nitrile group and optionally a primary amide group;
A polyisocyanate (B) having at least three isocyanate groups;
An active energy ray-polymerizable compound (C) having at least three carbon-carbon double bond-containing groups;
Formula (1): X 1 -Si ( R 1) a in (OR 2) 3-a (the formula (1), X 1 represents a hydroxyl group, an isocyanate group and a polymerizable carbon - consisting of carbon double bond-containing group A group containing a functional group that reacts with at least one selected from the group, R 1 is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a is 0, A reactive alkoxysilyl compound (D) represented by 1 or 2, and
An undercoat agent for a substrate with a copper thin film, comprising:
(A)成分が、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート(a1)、アルキル(メタ)アクリレート(a2)(水酸基を有するものを除く。)及び(メタ)アクリロニトリル(a3)並びに必要により(メタ)アクリルアミド(a4)を反応させたものである、請求項1のアンダーコート剤。 Component (A) is hydroxyalkyl (meth) acrylate (a1), alkyl (meth) acrylate (a2) (excluding those having a hydroxyl group) and (meth) acrylonitrile (a3), and (meth) acrylamide (a4 if necessary) ). The undercoat agent according to claim 1. (A)成分の水酸基価が30〜150mgKOH/gであり、かつ、ガラス転移温度が0〜100℃である、請求項1又は2のアンダーコート剤。 (A) The undercoat agent of Claim 1 or 2 whose hydroxyl value of a component is 30-150 mgKOH / g, and whose glass transition temperature is 0-100 degreeC. (B)成分が、ジイソシアネート化合物のアダクト体、イソシアヌレート体及びビウレット体からなる群より選ばれる1種の誘導体(b1)である、請求項1〜3のいずれかのアンダーコート剤。 The undercoat agent according to any one of claims 1 to 3, wherein the component (B) is one derivative (b1) selected from the group consisting of an adduct of a diisocyanate compound, an isocyanurate, and a biuret. (A)成分に含まれる水酸基と(B)成分に含まれるイソシアネート基の当量比〔NCO/OH〕が0.2〜5である、請求項1〜4のいずれかのアンダーコート剤。 The undercoat agent according to any one of claims 1 to 4, wherein an equivalent ratio [NCO / OH] of a hydroxyl group contained in the component (A) and an isocyanate group contained in the component (B) is 0.2 to 5. (C)成分が、分子内に3〜6個の(メタ)アクリロイル基及び少なくとも1個の水酸基を有する活性エネルギー線重合型化合物(C1)並びに/又は分子内に3〜6個の(メタ)アクリロイル基を有しかつ水酸基を有さない活性エネルギー線重合型化合物(C2)である、請求項1〜5のいずれかのアンダーコート剤。 Component (C) is an active energy ray polymerizable compound (C1) having 3 to 6 (meth) acryloyl groups and at least one hydroxyl group in the molecule and / or 3 to 6 (meth) in the molecule. The undercoat agent according to any one of claims 1 to 5, which is an active energy ray polymerization type compound (C2) having an acryloyl group and no hydroxyl group. (D)成分を表す前記一般式(1)のXにおける官能基が、イソシアネート基、チオール基、アミノ基、エポキシ基、酸無水物基、及びビニル基からなる群より選ばれる1種である、請求項1〜6のいずれかのアンダーコート剤。 The functional group in X 1 of the general formula (1) representing the component (D) is one selected from the group consisting of an isocyanate group, a thiol group, an amino group, an epoxy group, an acid anhydride group, and a vinyl group. The undercoat agent according to any one of claims 1 to 6. 更に無機粒子(E)を含有する、請求項1〜7のいずれかのアンダーコート剤。 Furthermore, the undercoat agent in any one of Claims 1-7 containing an inorganic particle (E). 更に光重合開始剤(F)を含有する、請求項1〜8のいずれかのアンダーコート剤。 Furthermore, the undercoat agent in any one of Claims 1-8 containing a photoinitiator (F). 更に有機溶剤(G)を含有する、請求項1〜9のいずれかアンダーコート剤。 Furthermore, the undercoat agent in any one of Claims 1-9 containing an organic solvent (G). 基材の表面に、請求項1〜10のいずれかのアンダーコート剤が硬化してなるアンダーコート層及び銅薄膜層がこの順で積層されてなる、銅薄膜付基材。 The base material with a copper thin film by which the undercoat layer and copper thin film layer which the undercoat agent in any one of Claims 1-10 hardens | cures on the surface of a base material are laminated | stacked in this order. 基材がプラスチックである請求項11の銅薄膜付基材。 The base material with a copper thin film according to claim 11, wherein the base material is plastic. プラスチックがプラスチックフィルムである請求項12の銅薄膜付基材。 The substrate with a copper thin film according to claim 12, wherein the plastic is a plastic film. プラスチックフィルムがポリエステルフィルムである請求項13の銅薄膜付基材。 The substrate with a copper thin film according to claim 13, wherein the plastic film is a polyester film. 基材の表面に、
請求項1〜10のいずれかのアンダーコート剤を塗布し、
該基材に熱を加えた後、更に活性エネルギー線を照射することにより硬化アンダーコート層を形成し、
当該硬化アンダーコート層上に銅薄膜層を形成することを特徴とする、
銅薄膜付基材の製造方法。
On the surface of the substrate
Apply the undercoat agent according to any one of claims 1 to 10,
After applying heat to the substrate, a cured undercoat layer is formed by further irradiating active energy rays,
A copper thin film layer is formed on the cured undercoat layer,
The manufacturing method of a base material with a copper thin film.
前記硬化アンダーコート層上に銅薄膜層を形成する方法が、真空蒸着法又はスパッタリング法である、請求項15の製造方法。 The manufacturing method of Claim 15 whose method of forming a copper thin film layer on the said hardening undercoat layer is a vacuum evaporation method or a sputtering method. 請求項11〜14のいずれかの銅薄膜付基材又は請求項15〜16のいずれかの製造方法で得られる銅薄膜付基材を用いてなる導電性フィルム。
The electroconductive film which uses the base material with a copper thin film in any one of Claims 11-14, or the base material with a copper thin film obtained with the manufacturing method in any one of Claims 15-16.
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